KR20170052029A - Semiconductor memory device and operating method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 전자 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 반도체 메모리 장치 및 그것의 동작 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
반도체 메모리 장치(semiconductor memory device)는 실리콘(Si, silicon), 게르마늄(Ge, Germanium), 비화 갈륨(GaAs, gallium arsenide), 인화인듐(InP, indium phospide) 등과 같은 반도체를 이용하여 구현되는 기억장치이다. 반도체 메모리 장치는 크게 휘발성 메모리 장치(Volatile memory device)와 불휘발성 메모리(Nonvolatile memory device)로 구분된다.A semiconductor memory device is a memory device implemented using semiconductors such as silicon (Si), germanium (Ge), gallium arsenide (GaAs), indium phosphide (InP) to be. Semiconductor memory devices are classified into a volatile memory device and a nonvolatile memory device.
휘발성 메모리 장치는 전원 공급이 차단되면 저장하고 있던 데이터가 소멸되는 메모리 장치이다. 휘발성 메모리 장치에는 SRAM (Static RAM), DRAM (Dynamic RAM), SDRAM (Synchronous DRAM) 등이 있다. 불휘발성 메모리 장치는 전원 공급이 차단되어도 저장하고 있던 데이터를 유지하는 메모리 장치이다. 불휘발성 메모리 장치에는 ROM (Read Only Memory), PROM (Programmable ROM), EPROM (Electrically Programmable ROM), EEPROM (Electrically Erasable and Programmable ROM), 플래시 메모리, PRAM (Phase-change RAM), MRAM (Magnetic RAM), RRAM (Resistive RAM), FRAM (Ferroelectric RAM) 등이 있다. 플래시 메모리는 크게 노어 타입과 낸드 타입으로 구분된다.The volatile memory device is a memory device in which data stored in the volatile memory device is lost when power supply is interrupted. Volatile memory devices include static RAM (SRAM), dynamic RAM (DRAM), and synchronous DRAM (SDRAM). A nonvolatile memory device is a memory device that retains data that has been stored even when power is turned off. A nonvolatile memory device includes a ROM (Read Only Memory), a PROM (Programmable ROM), an EPROM (Electrically Programmable ROM), an EEPROM (Electrically Erasable and Programmable ROM), a flash memory, a PRAM , RRAM (Resistive RAM), and FRAM (Ferroelectric RAM). Flash memory is divided into NOR type and NOR type.
본 발명의 실시 예는 향상된 신뢰성을 갖는 반도체 메모리 장치 및 그것의 동작 방법을 제공하기 위한 것이다.An embodiment of the present invention is to provide a semiconductor memory device with improved reliability and a method of operation thereof.
본 발명의 실시 예로서, 선택된 워드 라인에 연결된 복수의 메모리 셀들을 프로그램 하기 위한 반도체 메모리 장치의 동작방법은, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태에 대한 검증을 수행하는 단계, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 동안, 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하는 단계 및 상기 검증에 성공하면, 상기 비선택된 워드 라인들에 인가되는 제1 패스 전압을 상기 제1 패스 전압 보다 높은 레벨을 갖는 제2 패스 전압으로 변경하는 단계를 포함한다.As an embodiment of the present invention, an operation method of a semiconductor memory device for programming a plurality of memory cells connected to a selected word line includes the steps of: verifying the program state of the plurality of memory cells by applying a verify voltage to the selected word line Applying a first pass voltage to unselected word lines while a verify voltage is applied to the selected word line, and if the verify is successful, applying a first pass voltage applied to the unselected word lines To a second pass voltage having a level higher than the first pass voltage.
실시 예로서, 메모리 셀의 문턱전압을 기초로 구분되는 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 어느 한 프로그램 상태를 갖도록 프로그램 되는 복수의 메모리 셀들을 포함하는 반도체 메모리 장치의 동작방법은, 상기 복수의 메모리 셀들이 연결된 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 단계 및 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태를 검증 하는 단계를 포함하되, 상기 검증 하는 단계는, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하는 동안 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하고, 상기 제1 프로그램 상태에 대한 검증이 성공하면, 상기 비선택된 워드 라인들에 인가하는 제1 패스 전압을 제2 패스 전압으로 변경한다.As an embodiment, a method of operating a semiconductor memory device including a plurality of memory cells programmed to have any one of first through N-th program states classified based on a threshold voltage of a memory cell, Applying a program voltage to a selected word line to which cells are connected and verifying a program state of the plurality of memory cells by applying a verify voltage to the selected word line, The first pass voltage is applied to the non-selected word lines while the verify voltage is applied to the non-selected word lines, and when the verification of the first program state is successful, Voltage.
실시 예로서, 본 발명의 반도체 메모리 장치는, 복수의 워드 라인들에 연결된 복수의 메모리 셀들 및 상기 복수의 워드 라인들 중 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태에 대한 검증을 수행하고, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 동안, 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하고, 상기 복수의 메모리 셀들의 문턱전압을 기초로 구분되는 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제1 프로그램 상태에 대한 검증이 성공하면, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 동안, 상기 비선택된 워드 라인들에 제2 패스 전압을 인가하는 주변회로를 포함한다.As an embodiment, a semiconductor memory device of the present invention includes a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines and a plurality of memory cells connected to a plurality of word lines by applying a verify voltage to a selected one of the plurality of word lines, And applying a first pass voltage to unselected word lines while a verify voltage is applied to the selected word line and applying a first pass voltage to unselected word lines while applying a verify voltage to the selected word line, And a peripheral circuit that applies a second pass voltage to the unselected word lines while the verify voltage is applied to the selected word line if the verify of the first of the states is successful.
실시 예로서, 본 발명의 반도체 메모리 장치는, 복수의 워드 라인들에 연결된 복수의 메모리 셀들 및 복수의 워드 라인들 중 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하고, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태를 검증 하는 주변회로를 포함하되, 상기 주변 회로는, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하는 동안 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하고, 상기 메모리 셀들의 문턱전압을 기초로 구분되는 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제1 프로그램 상태에 대한 검증이 성공하면, 상기 비선택된 워드 라인들에 인가하는 제1 패스 전압을 제2 패스 전압으로 변경한다.As an embodiment, the semiconductor memory device of the present invention is a semiconductor memory device which applies a program voltage to a selected one of a plurality of memory cells and a plurality of word lines coupled to a plurality of word lines, applies a verify voltage to the selected word line And a peripheral circuit for verifying a program state of the plurality of memory cells, wherein the peripheral circuit applies a first pass voltage to unselected word lines while applying a verify voltage to the selected word line, The first pass voltage applied to the unselected word lines is changed to the second pass voltage when the verification of the first one of the first through the N-th program states classified based on the threshold voltages of the non-selected word lines is successful.
본 발명의 실시 예에 따르면, 향상된 신뢰성을 갖는 반도체 메모리 장치 및 그것의 동작방법이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, a semiconductor memory device and an operation method thereof having improved reliability are provided.
도 1은 메모리 시스템의 구성을 나타낸 블록도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 장치를 보여주는 블록도이다.
도 3은 도 1의 메모리 셀 어레이 구조를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 1의 메모리 셀 어레이의 다른 실시 예를 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 장치의 동작 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 장치의 동작을 설명하기 위한 순서도이다.
도 7은 도 2의 반도체 메모리 장치를 포함하는 메모리 시스템을 보여주는 블록도이다.
도 8은 도 7의 메모리 시스템의 응용 예를 보여주는 블록도이다.
도 9는 도 8를 참조하여 설명된 메모리 시스템을 포함하는 컴퓨팅 시스템을 보여주는 블록도이다.1 is a block diagram showing a configuration of a memory system.
2 is a block diagram illustrating a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing the memory cell array structure of FIG.
4 shows another embodiment of the memory cell array of FIG.
5 is a diagram for explaining a method of operating a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
6 is a flowchart for explaining the operation of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a block diagram showing a memory system including the semiconductor memory device of FIG. 2. FIG.
8 is a block diagram illustrating an application example of the memory system of FIG.
FIG. 9 is a block diagram illustrating a computing system including the memory system described with reference to FIG. 8. FIG.
본 명세서 또는 출원에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서 또는 출원에 설명된 실시 예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 된다.Specific structural and functional descriptions of embodiments according to the concepts of the present invention disclosed in this specification or application are merely illustrative for the purpose of illustrating embodiments in accordance with the concepts of the present invention, The examples may be embodied in various forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein or in the application.
본 발명의 개념에 따른 실시 예는 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서 또는 출원에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예를 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Embodiments in accordance with the concepts of the present invention can make various changes and have various forms, so that specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in this specification or application. It is to be understood, however, that it is not intended to limit the embodiments according to the concepts of the present invention to the particular forms of disclosure, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.
제1 및/또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.The terms first and / or second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms are intended to distinguish one element from another, for example, without departing from the scope of the invention in accordance with the concepts of the present invention, the first element may be termed the second element, The second component may also be referred to as a first component.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between. Other expressions that describe the relationship between components, such as "between" and "between" or "neighboring to" and "directly adjacent to" should be interpreted as well.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 서술된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having", etc., are used to specify that there are described features, numbers, steps, operations, elements, parts or combinations thereof, and that one or more other features, , Steps, operations, components, parts, or combinations thereof, as a matter of principle.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as ideal or overly formal in the sense of the art unless explicitly defined herein Do not.
실시 예를 설명함에 있어서 본 발명이 속하는 기술 분야에 익히 알려져 있고 본 발명과 직접적으로 관련이 없는 기술 내용에 대해서는 설명을 생략한다. 이는 불필요한 설명을 생략함으로써 본 발명의 요지를 흐리지 않고 더욱 명확히 전달하기 위함이다.In the following description of the embodiments of the present invention, descriptions of techniques which are well known in the technical field of the present invention and are not directly related to the present invention will be omitted. This is for the sake of clarity of the present invention without omitting the unnecessary explanation.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 메모리 시스템의 구성을 나타낸 블록도이다.1 is a block diagram showing a configuration of a memory system.
메모리 시스템(50)은 반도체 메모리 장치(100) 및 컨트롤러(200)를 포함한다.The
반도체 메모리 장치(100)는 낸드 플래시 메모리(NAND flash memory), 수직형 낸드 플래시 메모리(Vertical NAND), 노아 플래시 메모리(NOR flash memory), 저항성 램(resistive random access memory: RRAM), 상변화 메모리(phase-change memory: PRAM), 자기저항 메모리(magnetoresistive random access memory: MRAM), 강유전체 메모리(ferroelectric random access memory: FRAM), 스핀주입 자화반전 메모리(spin transfer torque random access memory: STT-RAM) 등이 될 수 있다. 또한, 본 발명의 반도체 메모리 장치(100)는 3차원 어레이 구조(three-dimensional array structure)로 구현될 수 있다. 본 발명은 전하 저장층이 전도성 부유 게이트(floating gate; FG)로 구성된 플래시 메모리 장치는 물론, 전하 저장층이 절연막으로 구성된 차지 트랩형 플래시(charge trap flash; CTF)에도 적용될 수 있다. The
반도체 메모리 장치(100)는 메모리 셀 어레이(110) 및 메모리 셀 어레이(110)를 구동하기 위한 주변 회로(120)를 포함한다. 메모리 셀 어레이(110)는 복수의 불휘발성 메모리 셀들을 포함한다.The
메모리 셀 어레이(110)는 복수의 메모리 블록들을 포함하고, 복수의 메모리 블록들은 그 용도에 따라 시스템 블록 및 사용자 블록 등으로 구분하여 사용될 수 있다.The
주변 회로(120)는 컨트롤러(200)의 제어에 응답하여 동작한다. 주변 회로(120)는 컨트롤러(200)의 제어에 응답하여, 메모리 셀 어레이(110)에 데이터를 프로그램 할 수 있다. 주변 회로(120)는 메모리 셀 어레이(110)로부터 데이터를 읽고 메모리 셀 어레이(110)의 데이터를 소거하도록 동작할 수 있다.The peripheral circuit (120) operates in response to the control of the controller (200). The
다양한 실시 예에서, 반도체 메모리 장치(100)의 읽기 동작 및 프로그램 동작은 페이지 단위로 수행될 수 있다. 반도체 메모리 장치(100)의 소거 동작은 메모리 블록 단위로 수행될 수 있다.In various embodiments, the read operation and the program operation of
프로그램 동작 시, 주변 회로(120)는 컨트롤러(200)로부터 프로그램 동작을 나타내는 커맨드, 물리 블록 어드레스(PBA)(physical address, PA) 및 쓰기 데이터를 수신할 수 있다. 주변회로(120)는 물리 블록 어드레스(PBA)에 의해 하나의 메모리 블록과 해당 메모리 블록에 포함된 하나의 페이지가 선택되면, 선택된 페이지에 쓰기 데이터를 프로그램 할 수 있다.In the program operation, the
읽기 동작 시, 주변 회로(120)는 컨트롤러(200)로부터 읽기 동작을 나타내는 커맨드(이하, 읽기 커맨드), 물리 블록 어드레스(PBA)를 수신할 수 있다. 주변 회로(120)는 물리 블록 어드레스(PBA)에 의해 선택된 하나의 메모리 블록과 그것에 포함된 하나의 페이지로부터 데이터를 읽고, 읽어진 데이터(이하, 페이지 데이터)를 컨트롤러(200)로 출력할 수 있다.In a read operation, the
소거 동작 시에, 주변 회로(120)는 컨트롤러(200)로부터 소거 동작을 나타내는 커맨드 및 물리 블록 어드레스(PBA)를 수신할 수 있다. 물리 블록 어드레스(PBA)는 하나의 메모리 블록을 특정할 것이다. 주변 회로(120)는 물리 블록 어드레스(PBA)에 대응하는 메모리 블록의 데이터를 소거할 것이다.In the erase operation, the
컨트롤러(200)는 반도체 메모리 장치(100)의 전반적인 동작을 제어한다. 컨트롤러(200)는 외부 호스트로부터의 요청에 응답하여 반도체 메모리 장치(100)를 액세스할 수 있다. 컨트롤러(200)는 외부 호스트로부터의 요청에 응답하여 반도체 메모리 장치(100)를 커맨드한다. The
실시 예로서, 컨트롤러(200)는 프로그램 동작, 읽기 동작 또는 소거 동작 등을 수행하도록 반도체 메모리 장치(100)를 제어할 것이다. 프로그램 동작 시, 컨트롤러(200)는 프로그램 커맨드, 어드레스 및 데이터를 채널을 통해 반도체 메모리 장치(100)에 제공할 것이다. 읽기 동작 시, 컨트롤러(200)는 읽기 커맨드 및 어드레스를 채널을 통해 반도체 메모리 장치(100)에 제공할 것이다. 소거 동작 시, 컨트롤러(200)는 소거 커맨드 및 어드레스를 채널을 통해 반도체 메모리 장치(100)에 제공할 것이다.As an embodiment, the
호스트 인터페이스는 외부 호스트 및 컨트롤러(200) 사이의 데이터 교환을 수행하기 위한 프로토콜을 포함할 것이다. 실시 예로서, 컨트롤러(200)는 USB (Universal Serial Bus) 프로토콜, MMC (multimedia card) 프로토콜, PCI (peripheral component interconnection) 프로토콜, PCI-E (PCI-express) 프로토콜, ATA (Advanced Technology Attachment) 프로토콜, Serial-ATA 프로토콜, Parallel-ATA 프로토콜, SCSI (small computer small interface) 프로토콜, ESDI (enhanced small disk interface) 프로토콜, 그리고 IDE (Integrated Drive Electronics) 프로토콜, 사유(private) 프로토콜 등과 같은 다양한 인터페이스 프로토콜들 중 적어도 하나를 통해 외부 호스트와 통신하도록 구성된다.The host interface will include a protocol for performing data exchange between the external host and the
컨트롤러(200)는 램(210), 메모리 제어부(220) 및 에러 정정 회로(230)을 포함할 수 있다.The
램(random access memory; RAM)(210)은 메모리 제어부(220)의 제어에 따라 동작하며, 워크 메모리(work memory), 버퍼 메모리(buffer memory), 캐시 메모리(cache memory) 등으로 사용될 수 있다. 램(210)이 워크 메모리로 사용되는 경우에, 메모리 제어부(220)에 의해서 처리되는 데이터가 임시 저장될 수 있다. 램(210)이 버퍼 메모리로 사용되는 경우에는, 호스트(미도시)에서 반도체 메모리 장치(100)로 또는 반도체 메모리 장치(100)에서 호스트(미도시)로 전송될 데이터를 버퍼링 하는데 사용될 수 있다. A random access memory (RAM) 210 operates under the control of the
메모리 제어부(220)는 반도체 메모리 장치(100)의 읽기 동작, 프로그램 동작, 소거 동작, 그리고 배경(background) 동작을 제어하도록 구성된다. 메모리 제어부(220)는 반도체 메모리 장치(100)를 제어하기 위한 펌웨어(firmware)를 구동하도록 구성된다. The
메모리 제어부(220)는 플래시 변환 계층(FTL)을 통해 호스트가 제공한 논리 블록 어드레스(logical block address, LBA)를 물리 블록 어드레스(physical block address, PBA)로 변환할 수 있다. 구체적으로, 플래시 변환 계층(FTL)은 맵핑 테이블을 이용하여 논리 블록 어드레스(LBA)를 입력 받아, 물리 블록 어드레스(PBA)로 변환시킬 수 있다. 물리 블록 어드레스는 메모리 셀 어레이(110)의 특정 워드라인을 지칭하는 페이지 넘버일 수 있다. 플래시 변환 계층의 주소 맵핑 방법에는 맵핑 단위에 따라 여러 가지가 있다. 대표적인 어드레스 맵핑 방법에는 페이지 맵핑 방법(Page mapping method), 블록 맵핑 방법(Block mapping method), 그리고 혼합 맵핑 방법(Hybrid mapping method)이 있다.The
에러 정정 코드 회로(230)는 프로그램 할 데이터에 대한 에러 정정 코드(Error Correction Code; ECC)인 패리티를 생성한다. 또한 읽기 동작시, 에러 정정 코드 회로(230)는 독출한 페이지 데이터에 대해 패리티를 이용하여 오류를 정정할 수 있다. 에러 정정 코드 회로(230)는 LDPC(low density parity check) code, BCH (Bose, Chaudhri, Hocquenghem) Code, turbo code, 리드-솔로몬 코드(Reed-Solomon code), convolution code, RSC(recursive systematic code), TCM(trellis-coded modulation), BCM(Block coded modulation), 해밍 코드(hamming code) 등의 코디드 모듈레이션(coded modulation)을 사용하여 에러를 정정할 수 있다.The error
읽기 동작 시, 에러 정정 코드 회로(230)는 독출된 페이지 데이터의 오류를 정정할 수 있다. 독출된 페이지 데이터에 정정 가능한 비트 수를 초과하는 에러 비트들이 포함된 경우 디코드는 실패할 수 있다. 페이지 데이터에 정정 가능한 비트 수보다 같거나 작은 에러 비트들이 포함된 경우 디코드는 성공할 수 있다.In a read operation, the error
디코드의 성공은 해당 읽기 커맨드가 패스(pass)되었음을 나타낸다. 디코드의 실패는 해당 읽기 커맨드가 실패(fail)하였음을 나타낸다. 디코드가 성공될 때 컨트롤러(200)는 에러가 정정된 페이지 데이터를 호스트로 출력한다.The success of the decode indicates that the read command has been passed. Failure of decode indicates that the read command failed. When the decode is successful, the
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 장치를 보여주는 블록도이다.2 is a block diagram illustrating a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 반도체 메모리 장치(100)는 메모리 셀 어레이(110) 및 주변 회로(120, peripheral circuit)를 포함한다.Referring to FIG. 2, a
메모리 셀 어레이(110)는 복수의 메모리 블록들(BLK1~BLKz)을 포함한다. 복수의 메모리 블록들(BLK1~BLKz)은 행 라인들(RL)을 통해 어드레스 디코더(121)에 연결되고, 비트 라인들(BL1~BLm)을 통해 읽기 및 쓰기 회로(123)에 연결된다. 복수의 메모리 블록들(BLK1~BLKz) 각각은 복수의 메모리 셀들을 포함한다. 실시 예로서, 복수의 메모리 셀들은 불휘발성(nonvolatile) 메모리 셀들이다. The
메모리 셀 어레이(110)에 포함된 복수의 메모리 셀들은 그 용도에 따라 복수의 블록들로 구분되어 사용될 수 있다. 여기서 복수의 블록들은 메인 블록(main block)과 기타 블록(extra block)으로 구분될 수 있고, 기타 블록에는 메모리 셀들의 동작에 관한 다양한 설정정보들이 저장되어 있을 수 있다.The plurality of memory cells included in the
제 1 내지 제 z 메모리 블록들(BLK1~BLKz)은 제 1 내지 제 m 비트 라인들(BL1~BLm)에 공통 연결된다. 제 1 내지 제 z 메모리 블록들(BLK1~BLKz)은 복수의 셀 스트링들을 포함한다. 복수의 셀 스트링들은 각각 제 1 내지 제 m 비트 라인들(BL1~BLm)에 연결된다.The first to z-th memory blocks BLK1 to BLKz are commonly connected to the first to m-th bit lines BL1 to BLm. The first to z-th memory blocks BLK1 to BLKz include a plurality of cell strings. The plurality of cell strings are connected to the first to m-th bit lines BL1 to BLm, respectively.
복수의 셀 스트링들은 각각은 드레인 선택 트랜지스터, 직렬 연결된 복수의 메모리 셀들 및 소스 선택 트랜지스터를 포함할 수 있다. 드레인 선택 트랜지스터는 드레인 선택 라인에 연결된다. 복수의 메모리 셀들은 복수의 워드 라인들에 연결된다. 소스 선택 트랜지스터는 소스 선택 라인에 연결된다. 드레인 선택 트랜지스터의 드레인 측은 해당 비트 라인에 연결된다. 복수의 셀 스트링들의 드레인 선택 트랜지스터들은 각각 제 1 내지 제 m 비트 라인들(BL1~BLm)에 연결된다. 소스 선택 트랜지스터의 소스 측은 공통 소스 라인에 연결된다. 실시 예로서, 공통 소스 라인은 제 1 내지 제 z 메모리 블록들(BLK1~BLKz)에 공통 연결될 수 있다.Each of the plurality of cell strings may include a drain select transistor, a plurality of memory cells connected in series, and a source select transistor. The drain select transistor is connected to the drain select line. A plurality of memory cells are connected to a plurality of word lines. The source select transistor is connected to the source select line. And the drain side of the drain select transistor is connected to the corresponding bit line. The drain select transistors of the plurality of cell strings are connected to the first to m-th bit lines BL1 to BLm, respectively. The source side of the source select transistor is connected to a common source line. In an embodiment, the common source lines may be connected in common to the first to z-th memory blocks BLK1 to BLKz.
드레인 선택 라인, 복수의 워드 라인들, 및 소스 선택 라인은 행 라인들(RL)에 포함된다. 드레인 선택 라인, 복수의 워드 라인들, 및 소스 선택 라인은 어드레스 디코더(121)에 의해 제어된다. 공통 소스 라인은 제어 로직(125)에 의해 제어된다. 제 1 내지 제 m 비트 라인들(BL1~BLm)은 읽기 및 쓰기 회로(123)에 의해 제어된다.The drain select line, the plurality of word lines, and the source select line are included in the row lines RL. The drain select line, the plurality of word lines, and the source select line are controlled by the
주변 회로(120)는 어드레스 디코더(121), 전압 발생기(122), 읽기 및 쓰기 회로(123), 데이터 입출력 회로(124) 그리고 제어 로직(125)을 포함한다. 어드레스 디코더(121)는 행 라인들(RL)을 통해 메모리 셀 어레이(110)에 연결된다. 어드레스 디코더(121)는 제어 로직(125)의 제어에 응답하여 동작하도록 구성된다. 어드레스 디코더(121)는 제어 로직(125)을 통해 어드레스(ADDR)를 수신한다. The
실시 예로서, 반도체 메모리 장치(100)의 프로그램 동작 및 읽기 동작은 페이지 단위로 수행된다. 프로그램 시에, 어드레스(ADDR)는 블록 어드레스 및 행 어드레스를 포함할 것이다.As an embodiment, the program operation and the read operation of the
어드레스 디코더(121)는 수신된 어드레스(ADDR) 중 블록 어드레스를 디코딩하도록 구성된다. 어드레스 디코더(121)는 디코딩된 블록 어드레스에 따라 메모리 블록들(BLK1~BLKz) 중 하나의 메모리 블록을 선택한다.The
어드레스 디코더(121)는 수신된 어드레스(ADDR) 중 행 어드레스를 디코딩하도록 구성된다. 어드레스 디코더(121)는 디코딩된 행 어드레스에 따라 전압 발생기(122)로부터 제공받은 전압들을 행 라인들(RL)에 인가하여 선택된 메모리 블록의 하나의 워드 라인을 선택한다. The
프로그램 동작 시에, 어드레스 디코더(121)는 선택된 워드 라인에 프로그램 펄스를 인가하고 비선택된 워드 라인들에 프로그램 펄스보다 낮은 패스 펄스를 인가할 것이다. 프로그램 검증 동작 시에, 어드레스 디코더(121)는 선택된 워드 라인에 검증전압을 인가하고 비선택된 워드 라인들에 검증전압보다 높은 검증 패스 전압을 인가할 것이다.In program operation, the
본 발명의 실시 예에서, 반도체 메모리 장치는 프로그램의 검증 상태에 따라 검증 패스 전압의 레벨을 변경하도록 동작할 수 있다. 이에 대해서는 후술하는 도 5 및 6에 대한 설명에서 보다 상세하게 설명한다.In an embodiment of the present invention, the semiconductor memory device may be operable to change the level of the verify pass voltage according to the verify state of the program. This will be described in more detail in the description of FIGS. 5 and 6 to be described later.
실시 예로서, 반도체 메모리 장치(100)의 소거 동작은 메모리 블록 단위로 수행된다. 소거 동작 시에 어드레스(ADDR)는 블록 어드레스를 포함한다. 어드레스 디코더(121)은 블록 어드레스를 디코딩하고, 디코딩된 블록 어드레스에 따라 하나의 메모리 블록을 선택한다.As an embodiment, the erase operation of
실시 예로서, 어드레스 디코더(121)은 블록 디코더, 워드라인 디코더 및 어드레스 버퍼 등을 포함할 수 있다.As an example, the
전압 발생기(122)는 반도체 메모리 장치(100)에 공급되는 외부 전원 전압을 이용하여 복수의 전압들을 발생하도록 구성된다. 전압 발생기(122)는 제어 로직(125)의 제어에 응답하여 동작한다.The
실시 예로서, 전압 발생기(122)는 외부 전원 전압을 레귤레이팅하여 내부 전원 전압을 생성할 수 있다. 전압 발생기(122)에서 생성된 내부 전원 전압은 반도체 메모리 장치(100)의 동작 전압으로서 사용된다.In an embodiment, the
실시 예로서, 전압 발생기(122)는 외부 전원 전압 또는 내부 전원 전압을 이용하여 복수의 전압들을 생성할 수 있다. 예를 들면, 전압 발생기(122)는 내부 전원 전압을 수신하는 복수의 펌핑 커패시터들을 포함하고, 제어 로직(125)의 제어에 응답하여 복수의 펌핑 커패시터들을 선택적으로 활성화하여 복수의 전압들을 생성할 것이다. 생성된 복수의 전압들은 어드레스 디코더(121)에 의해 선택된 워드 라인들에 인가된다.In an embodiment, the
프로그램 동작 시에, 전압 발생기(122)는 고전압의 프로그램 펄스 및 프로그램 펄스보다 낮은 패스 펄스를 생성할 것이다. 프로그램 검증 동작 시에, 전압 발생기(130)는 검증 전압 및 검증 전압보다 높은 검증 패스 전압을 생성할 것이다.During program operation, the
읽기 및 쓰기 회로(123)는 제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)을 포함한다. 제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)은 각각 제 1 내지 제 m 비트 라인들(BL1~BLm)을 통해 메모리 셀 어레이(110)에 연결된다. 제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)은 제어 로직(125)의 제어에 응답하여 동작한다. The read and write
제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)은 데이터 입출력 회로(124)와 데이터를 통신한다. 프로그램 시에, 제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)은 데이터 입출력 회로(124) 및 데이터 라인들(DL)을 통해 저장될 데이터(DATA)를 수신한다. The first to m < th > page buffers PB1 to PBm communicate data with the data input /
프로그램 동작 시, 제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)은 선택된 워드 라인에 프로그램 펄스가 인가될 때, 저장될 데이터(DATA)를 데이터 입출력 회로(124)를 통해 수신한 데이터(DATA)를 비트 라인들(BL1~BLm)을 통해 선택된 메모리 셀들에 전달할 것이다. 전달된 데이터(DATA)에 따라 선택된 페이지의 메모리 셀들은 프로그램 된다. 프로그램 허용 전압(예를 들면, 접지 전압)이 인가되는 비트 라인과 연결된 메모리 셀은 상승된 문턱 전압을 가질 것이다. 프로그램 금지 전압(예를 들면, 전원 전압)이 인가되는 비트 라인과 연결된 메모리 셀의 문턱 전압은 유지될 것이다. 프로그램 검증 동작 시에, 제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)은 선택된 메모리 셀들로부터 비트 라인들(BL1~BLm)을 통해 페이지 데이터를 읽는다.The first to m-th page buffers PB1 to PBm transmit data (DATA) to be stored to the data (DATA) received through the data input /
읽기 동작 시, 읽기 및 쓰기 회로(123)는 선택된 페이지의 메모리 셀들로부터 비트 라인들(BL)을 통해 데이터(DATA)를 읽고, 읽어진 데이터(DATA)를 입출력 회로(124)로 출력한다. 소거 동작 시에, 읽기 및 쓰기 회로(123)는 비트 라인들(BL)을 플로팅(floating) 시킬 수 있다. In a read operation, the read and write
실시 예로서, 읽기 및 쓰기 회로(123)는 열 선택 회로를 포함할 수 있다.As an example, the read and write
데이터 입출력 회로(124)는 데이터 라인들(DL)을 통해 제 1 내지 제 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)에 연결된다. 데이터 입출력 회로(124)는 제어 로직(125)의 제어에 응답하여 동작한다. 프로그램 시에, 데이터 입출력 회로(124)는 외부 컨트롤러(미도시)로부터 저장될 데이터(DATA)를 수신한다.The data input /
제어 로직(125)은 어드레스 디코더(121), 전압 발생기(122), 읽기 및 쓰기 회로(123) 및 데이터 입출력 회로(124)에 연결된다. 제어 로직(125)은 반도체 메모리 장치(100)의 전반적인 동작을 제어할 수 있다. 제어 로직(125)은 외부 컨트롤러로부터 커맨드(CMD) 및 어드레스(ADDR)를 수신한다. 제어 로직(125)은 커맨드(CMD)에 응답하여 어드레스 디코더(121), 전압 발생기(122), 읽기 및 쓰기 회로(123) 및 데이터 입출력 회로(124)를 제어하도록 구성된다. 제어 로직(125)은 어드레스(ADDR)를 어드레스 디코더(121)에 전달한다.The
본 발명의 실시 예에 따르면, 주변 회로(120)는 프로그램을 지시하는 커맨드(CMD, 이하 프로그램 커맨드)가 수신될 때, 선택된 메모리 셀들에 대해 적어도 한번의 프로그램 동작을 수행할 수 있다. 프로그램 동작시 선택된 워드라인에 프로그램 전압(펄스)이 인가될 수 있다. 프로그램 전압이 인가되면, 제어 로직(125)은 적어도 한번 이상의 검증 동작을 수행하고, 그 수행 결과에 따라 컨트롤러로 상태 페일 신호를 출력하거나, 상태 패스 신호를 출력할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the
검증 동작 시 선택된 메모리 셀들로부터 읽어진 페이지 데이터는 제 1 내지 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)에 임시 저장될 것이다. 제 1 내지 m 페이지 버퍼들(PB1~PBm)은 제어 로직(125)의 제어에 응답하여, 검증 결과를 제어 로직(125)으로 전달할 수 있다.The page data read from the selected memory cells during the verify operation will be temporarily stored in the first to m page buffers PB1 to PBm. The first through m page buffers PB1 through PBm may communicate control results to the
본 발명에 따른 반도체 메모리 장치(100)는 선택된 워드 라인에 연결된 복수의 메모리 셀들을 프로그램 한다. 복수의 메모리 셀들은 각각 제1 내지 제N 프로그램 상태(PV1 내지 PVN)들 중 어느 하나의 프로그램 상태로 프로그램 될 수 있다. 프로그램 동작 시 사용되는 프로그램 전압 및 검증 전압 자체는 본 발명의 특징이 아니므로, 여기서는 자세한 설명을 생략한다. 반도체 메모리 장치(100)는 선택된 워드 라인에 프로그램 전압 및 프로그램 검증 전압을 인가 할 수 있다. 이때, 비 선택된 검증 라인에는 각각 프로그램 패스 전압과 리드 패스 전압이 인가될 수 있다.The
본 발명에서 반도체 메모리 장치(100)는 검증 동작의 결과에 따라 리드 패스 전압의 레벨을 결정할 수 있다.In the present invention, the
도 3은 도 2의 메모리 셀 어레이(110) 구조를 나타낸 도면이다.3 is a view showing a structure of the
도 3을 참조하면, 메모리 셀 어레이(110)는 복수의 메모리 블록들(BLK1~BLKz)을 포함한다. 도 3에서, 인식의 편의를 위해 제 1 메모리 블록(BLK1)의 내부 구성이 도시되고, 나머지 메모리 블록들(BLK2~BLKz)의 내부 구성은 생략되어 있다. 제 2 내지 제 z 메모리 블록들(BLK2~BLKz)도 제 1 메모리 블록(BLK1)과 마찬가지로 구성됨이 이해될 것이다.Referring to FIG. 3, the
도 3을 참조하면 제 1 메모리 블록(BLK1)은 복수의 셀 스트링들(CS11~CS1m, CS21~CS2m)을 포함한다. 실시 예로서, 복수의 셀 스트링들(CS11~CS1m, CS21~CS2m) 각각은 'U'자형으로 형성될 수 있다. 제 1 메모리 블록(BLK1) 내에서, 행 방향(즉 +X 방향)으로 m개의 셀 스트링들이 배열된다. 도 3에서, 열 방향(즉 +Y 방향)으로 2개의 셀 스트링들이 배열되는 것으로 도시되었다. 하지만 이는 설명의 편의를 위한 것으로서 열 방향으로 3개 이상의 셀 스트링들이 배열될 수 있음이 이해될 것이다.Referring to FIG. 3, the first memory block BLK1 includes a plurality of cell strings CS11 to CS1m and CS21 to CS2m. As an example, each of the plurality of cell strings CS11 to CS1m and CS21 to CS2m may be formed in a U shape. In the first memory block BLK1, m cell strings are arranged in the row direction (i.e., the + X direction). In Figure 3, two cell strings are shown arranged in the column direction (i.e., the + Y direction). However, it will be understood that three or more cell strings may be arranged in the column direction for convenience of explanation.
복수의 셀 스트링들(CS11~CS1m, CS21~CS2m) 각각은 적어도 하나의 소스 선택 트랜지스터(SST), 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn), 파이프 트랜지스터(PT), 그리고 적어도 하나의 드레인 선택 트랜지스터(DST)을 포함한다.Each of the plurality of cell strings CS11 to CS1m and CS21 to CS2m includes at least one source select transistor SST, first to nth memory cells MC1 to MCn, a pipe transistor PT, And a selection transistor DST.
선택 트랜지스터들(SST, DST) 및 메모리 셀들(MC1~MCn) 각각은 유사한 구조를 가질 수 있다. 실시 예로서, 선택 트랜지스터들(SST, DST) 및 메모리 셀들(MC1~MCn) 각각은 채널층, 터널링 절연막, 전하 저장막 및 블로킹 절연막을 포함할 수 있다. 실시 예로서, 채널층을 제공하기 위한 필라(pillar)가 각 셀 스트링(each cell string)에 제공될 수 있다. 실시 예로서, 채널층, 터널링 절연막, 전하 저장막 및 블로킹 절연막 중 적어도 하나를 제공하기 위한 필라가 각 셀 스트링에 제공될 수 있다.Each of the select transistors SST and DST and each of the memory cells MC1 to MCn may have a similar structure. In an embodiment, each of the select transistors SST and DST and the memory cells MC1 to MCn may include a channel layer, a tunneling insulating film, a charge storage film, and a blocking insulating film. As an example, a pillar for providing a channel layer may be provided in each cell string. As an embodiment, a pillar for providing at least one of a channel layer, a tunneling insulating film, a charge storage film, and a blocking insulating film may be provided in each cell string.
각 셀 스트링의 소스 선택 트랜지스터(SST)는 공통 소스 라인(CSL)과 메모리 셀들(MC1~MCp) 사이에 연결된다.The source selection transistor SST of each cell string is connected between the common source line CSL and the memory cells MC1 to MCp.
실시 예로서, 동일한 행에 배열된 셀 스트링들의 소스 선택 트랜지스터들은 행 방향으로 신장되는 소스 선택 라인에 연결되고, 상이한 행에 배열된 셀 스트링들의 소스 선택 트랜지스터들은 상이한 소스 선택 라인들에 연결된다. 도 3에서, 제 1 행의 셀 스트링들(CS11~CS1m)의 소스 선택 트랜지스터들은 제 1 소스 선택 라인(SSL1)에 연결되어 있다. 제 2 행의 셀 스트링들(CS21~CS2m)의 소스 선택 트랜지스터들은 제 2 소스 선택 라인(SSL2)에 연결되어 있다.As an embodiment, the source select transistors of the cell strings arranged in the same row are connected to a source select line extending in the row direction, and the source select transistors of the cell strings arranged in different rows are connected to different source select lines. In Fig. 3, the source select transistors of the cell strings CS11 to CS1m in the first row are connected to the first source select line SSL1. The source select transistors of the cell strings CS21 to CS2m of the second row are connected to the second source select line SSL2.
다른 실시 예로서, 셀 스트링들(CS11~CS1m, CS21~CS2m)의 소스 선택 트랜지스터들은 하나의 소스 선택 라인에 공통 연결될 수 있다.In another embodiment, the source select transistors of the cell strings CS11 to CS1m, CS21 to CS2m may be connected in common to one source select line.
각 셀 스트링의 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn)은 소스 선택 트랜지스터(SST)와 드레인 선택 트랜지스터(DST) 사이에 연결된다.The first to nth memory cells MC1 to MCn of each cell string are connected between the source select transistor SST and the drain select transistor DST.
제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn)은 제 1 내지 제 p 메모리 셀들(MC1~MCp)과 제 p+1 내지 제 n 메모리 셀들(MCp+1~MCn)로 구분될 수 있다. 제 1 내지 제 p 메모리 셀들(MC1~MCp)은 +Z 방향과 역방향으로 순차적으로 배열되며, 소스 선택 트랜지스터(SST)와 파이프 트랜지스터(PT) 사이에서 직렬 연결된다. 제 p+1 내지 제 n 메모리 셀들(MCp+1~MCn)은 +Z 방향으로 순차적으로 배열되며, 파이프 트랜지스터(PT)와 드레인 선택 트랜지스터(DST) 사이에서 직렬 연결된다. 제 1 내지 제 p 메모리 셀들(MC1~MCp)과 제 p+1 내지 제 n 메모리 셀들(MCp+1~MCn)은 파이프 트랜지스터(PT)를 통해 연결된다. 각 셀 스트링의 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn)의 게이트들은 각각 제 1 내지 제 n 워드 라인들(WL1~WLn)에 연결된다.The first to nth memory cells MC1 to MCn may be divided into first to pth memory cells MC1 to MCp and p + 1 to nth memory cells MCp + 1 to MCn. The first to pth memory cells MC1 to MCp are sequentially arranged in the direction opposite to the + Z direction, and are connected in series between the source selection transistor SST and the pipe transistor PT. The p + 1 th to nth memory cells MCp + 1 to MCn are sequentially arranged in the + Z direction, and are serially connected between the pipe transistor PT and the drain selection transistor DST. The first to pth memory cells MC1 to MCp and the p + 1 to nth memory cells MCp + 1 to MCn are connected through a pipe transistor PT. The gates of the first to n < th > memory cells MC1 to MCn of each cell string are connected to the first to nth word lines WL1 to WLn, respectively.
실시 예로서, 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn) 중 적어도 하나는 더미 메모리 셀로서 이용될 수 있다. 더미 메모리 셀이 제공되는 경우, 해당 셀 스트링의 전압 또는 전류는 안정적으로 제어될 수 있다. 이에 따라, 메모리 블록(BLK1)에 저장된 데이터의 신뢰성은 향상된다.As an embodiment, at least one of the first to n < th > memory cells MC1 to MCn may be used as a dummy memory cell. When a dummy memory cell is provided, the voltage or current of the cell string can be stably controlled. Thus, the reliability of the data stored in the memory block BLK1 is improved.
각 셀 스트링의 파이프 트랜지스터(PT)의 게이트는 파이프 라인(PL)에 연결된다.The gates of the pipe transistors PT of each cell string are connected to the pipeline PL.
각 셀 스트링의 드레인 선택 트랜지스터(DST)은 해당 비트 라인과 메모리 셀들(MCp+1~MCn) 사이에 연결된다. 행 방향으로 배열되는 셀 스트링들은 행 방향으로 신장되는 드레인 선택 라인에 연결된다. 제 1 행의 셀 스트링들(CS11~CS1m)의 드레인 선택 트랜지스터들은 제 1 드레인 선택 라인(DSL1)에 연결된다. 제 2 행의 셀 스트링들(CS21~CS2m)의 드레인 선택 트랜지스터들은 제 2 드레인 선택 라인(DSL2)에 연결된다.The drain select transistor DST of each cell string is connected between the corresponding bit line and the memory cells MCp + 1 to MCn. The cell strings arranged in the row direction are connected to a drain select line extending in the row direction. The drain select transistors of the cell strings CS11 to CS1m in the first row are connected to the first drain select line DSL1. The drain select transistors of the cell strings CS21 to CS2m in the second row are connected to the second drain select line DSL2.
열 방향으로 배열되는 셀 스트링들은 열 방향으로 신장되는 비트 라인에 연결된다. 도 4에서, 제 1 열의 셀 스트링들(CS11, CS21)은 제 1 비트 라인(BL1)에 연결되어 있다. 제 m 열의 셀 스트링들(CS1m, CS2m)은 제 m 비트 라인(BLm)에 연결되어 있다.The cell strings arranged in the column direction are connected to bit lines extending in the column direction. In FIG. 4, the cell strings CS11 and CS21 in the first column are connected to the first bit line BL1. The cell strings CS1m and CS2m in the m-th column are connected to the m-th bit line BLm.
행 방향으로 배열되는 셀 스트링들 내에서 동일한 워드 라인에 연결되는 메모리 셀들은 하나의 페이지를 구성한다. 예를 들면, 제 1 행의 셀 스트링들(CS11~CS1m) 중 제 1 워드 라인(WL1)과 연결된 메모리 셀들은 하나의 페이지를 구성한다. 제 2 행의 셀 스트링들(CS21~CS2m) 중 제 1 워드 라인(WL1)과 연결된 메모리 셀들은 다른 하나의 페이지를 구성한다. 드레인 선택 라인들(DSL1, DSL2) 중 어느 하나가 선택됨으로써 하나의 행 방향으로 배열되는 셀 스트링들이 선택될 것이다. 워드 라인들(WL1~WLn) 중 어느 하나가 선택됨으로써 선택된 셀 스트링들 중 하나의 페이지가 선택될 것이다.Memory cells connected to the same word line within the cell strings arranged in the row direction constitute one page. For example, the memory cells connected to the first word line WL1 of the cell strings CS11 to CS1m in the first row constitute one page. The memory cells connected to the first word line WL1 of the cell strings CS21 to CS2m of the second row constitute another page. The cell strings to be arranged in one row direction will be selected by selecting any one of the drain select lines DSL1 and DSL2. One of the selected cell strings will be selected by selecting any one of the word lines WL1 to WLn.
도 4는 도 2의 메모리 셀 어레이(110)의 다른 실시 예를 보여주는 도면이다.4 is a view showing another embodiment of the
도 4를 참조하면, 메모리 셀 어레이(110)는 복수의 메모리 블록들(BLK1'~BLKz')을 포함한다. 도 4에서, 인식의 편의를 위해 제 1 메모리 블록(BLK1')의 내부 구성이 도시되고, 나머지 메모리 블록들(BLK2'~BLKz')의 내부 구성은 생략되어 있다. 제 2 내지 제 z 메모리 블록들(BLK2'~BLKz')도 제 1 메모리 블록(BLK1')과 마찬가지로 구성됨이 이해될 것이다.Referring to FIG. 4, the
제 1 메모리 블록(BLK1')은 복수의 셀 스트링들(CS11'~CS1m', CS21'~CS2m')을 포함한다. 복수의 셀 스트링들(CS11'~CS1m', CS21'~CS2m') 각각은 +Z 방향을 따라 신장된다. 제 1 메모리 블록(BLK1') 내에서, +X 방향으로 m개의 셀 스트링들이 배열된다. 도 4에서, +Y 방향으로 2개의 셀 스트링들이 배열되는 것으로 도시되었다. 하지만 이는 설명의 편의를 위한 것으로서 열 방향으로 3개 이상의 셀 스트링들이 배열될 수 있음이 이해될 것이다.The first memory block BLK1 'includes a plurality of cell strings CS11' to CS1m ', CS21' to CS2m '. Each of the plurality of cell strings CS11 'to CS1m', CS21 'to CS2m' extend along the + Z direction. Within the first memory block BLK1 ', m cell strings in the + X direction are arranged. In Figure 4, two cell strings are shown arranged in the + Y direction. However, it will be understood that three or more cell strings may be arranged in the column direction for convenience of explanation.
복수의 셀 스트링들(CS11'~CS1m', CS21'~CS2m') 각각은, 적어도 하나의 소스 선택 트랜지스터(SST), 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn), 그리고 적어도 하나의 드레인 선택 트랜지스터(DST)를 포함한다.Each of the plurality of cell strings CS11 'to CS1m' and CS21 'to CS2m' includes at least one source selection transistor SST, first to nth memory cells MC1 to MCn, and at least one drain selection And a transistor DST.
각 셀 스트링의 소스 선택 트랜지스터(SST)은 공통 소스 라인(CSL)과 메모리 셀들(MC1~MCn) 사이에 연결된다. 동일한 행에 배열된 셀 스트링들의 소스 선택 트랜지스터들은 동일한 소스 선택 라인에 연결된다. 제 1 행에 배열된 셀 스트링들(CS11'~CS1m')의 소스 선택 트랜지스터들은 제 1 소스 선택 라인(SSL1)에 연결된다. 제 2 행에 배열된 셀 스트링들(CS21'~CS2m')의 소스 선택 트랜지스터들은 제 2 소스 선택 라인(SSL2)에 연결된다. 다른 실시 예로서, 셀 스트링들(CS11'~CS1m', CS21'~CS2m')의 소스 선택 트랜지스터들은 하나의 소스 선택 라인에 공통 연결될 수 있다.The source select transistor SST of each cell string is connected between the common source line CSL and the memory cells MC1 to MCn. The source select transistors of the cell strings arranged in the same row are connected to the same source select line. The source select transistors of the cell strings CS11 'to CS1m' arranged in the first row are connected to the first source select line SSL1. The source select transistors of the cell strings CS21 'to CS2m' arranged in the second row are connected to the second source select line SSL2. As another embodiment, the source select transistors of the cell strings CS11 'to CS1m', CS21 'to CS2m' may be connected in common to one source select line.
각 셀 스트링의 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn)은 소스 선택 트랜지스터(SST)과 드레인 선택 트랜지스터(DST) 사이에서 직렬 연결된다. 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn)의 게이트들은 각각 제 1 내지 제 n 워드 라인들(WL1~WLn)에 연결된다.The first to nth memory cells MC1 to MCn of each cell string are connected in series between the source select transistor SST and the drain select transistor DST. The gates of the first to nth memory cells MC1 to MCn are connected to the first to the nth word lines WL1 to WLn, respectively.
실시 예로서, 제 1 내지 제 n 메모리 셀들(MC1~MCn) 중 적어도 하나는 더미 메모리 셀로서 이용될 수 있다. 더미 메모리 셀이 제공되는 경우, 해당 셀 스트링의 전압 또는 전류는 안정적으로 제어될 수 있다. 이에 따라 메모리 블록(BLK1')에 저장된 데이터의 신뢰성은 향상된다.As an embodiment, at least one of the first to n < th > memory cells MC1 to MCn may be used as a dummy memory cell. When a dummy memory cell is provided, the voltage or current of the cell string can be stably controlled. Accordingly, the reliability of the data stored in the memory block BLK1 'is improved.
각 셀 스트링의 드레인 선택 트랜지스터(DST)는 해당 비트 라인과 메모리 셀들(MC1~MCn) 사이에 연결된다. 행 방향으로 배열되는 셀 스트링들의 드레인 선택 트랜지스터들은 행 방향으로 신장되는 드레인 선택 라인에 연결된다. 제 1 행의 셀 스트링들(CS11'~CS1m')의 드레인 선택 트랜지스터들은 제 1 드레인 선택 라인(DSL1)에 연결된다. 제 2 행의 셀 스트링들(CS21'~CS2m')의 드레인 선택 트랜지스터들은 제 2 드레인 선택 라인(DSL2)에 연결된다.The drain select transistor DST of each cell string is connected between the corresponding bit line and the memory cells MC1 to MCn. The drain select transistors of the cell strings arranged in the row direction are connected to a drain select line extending in the row direction. The drain select transistors of the cell strings CS11 'to CS1m' of the first row are connected to the first drain select line DSL1. The drain select transistors of the cell strings CS21 'to CS2m' of the second row are connected to the second drain select line DSL2.
결과적으로, 각 셀 스트링에 파이프 트랜지스터(PT)가 제외된 것을 제외하면 도 4의 메모리 블록(BLK1')은 도 3의 메모리 블록(BLK1)과 유사한 등가 회로를 갖는다.As a result, the memory block BLK1 'of FIG. 4 has an equivalent circuit similar to the memory block BLK1 of FIG. 3, except that the pipe transistor PT is excluded in each cell string.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 장치의 동작 방법을 설명하기 위한 도면이다.5 is a diagram for explaining a method of operating a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
프로그램 동작시, 반도체 메모리 장치는 선택된 워드 라인에는 프로그램 전압과 검증 전압을 반복적으로 인가한다. 이때, 반도체 메모리 장치는 비선택된 워드 라인에 연결된 메모리 셀들이 프로그램 되는 것을 방지 하기 위해서, 패스 전압들을 인가할 수 있다. 반도체 메모리 장치가 인가하는 패스 전압들은 프로그램 패스 전압과 리드 패스 전압으로 나눌 수 있다. 프로그램 패스 전압은 선택된 워드 라인에 프로그램 전압이 인가되는 경우에 비선택된 워드 라인들에 인가되는 전압이다. 리드 패스 전압은 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 경우, 비선택된 워드 라인들에 인가되는 전압이다.During a program operation, the semiconductor memory device repeatedly applies a program voltage and a verify voltage to a selected word line. At this time, the semiconductor memory device can apply the pass voltages to prevent the memory cells connected to the unselected word lines from being programmed. The pass voltages applied by the semiconductor memory device can be divided into a program pass voltage and a read pass voltage. The program pass voltage is the voltage applied to unselected word lines when a program voltage is applied to the selected word line. The read pass voltage is a voltage applied to unselected word lines when a verify voltage is applied to the selected word line.
반도체 메모리 장치의 프로그램 동작은 프로그램 전압 펄스가 인가되는 동작과, 프로그램 상태를 검증하는 검증 동작으로 수행될 수 있다. 프로그램 동작이 수행되는 동안, 비선택된 워드 라인에는 프로그램 패스 전압과, 리드 패스 전압이 인가된다. 따라서, 비선택된 워드 라인에 연결된 복수의 메모리 셀들은 프로그램 동작이 수행되는 동안 패스 전압들을 지속적으로 인가 받는다. 이로 인해, 메모리 셀들의 문턱 전압이 변화하는 패스 디스터브(pass disturb)가 발생할 수 있다.The program operation of the semiconductor memory device can be performed with an operation in which the program voltage pulse is applied and a verify operation in which the program state is verified. During the program operation, the program pass voltage and the read pass voltage are applied to the unselected word lines. Accordingly, the plurality of memory cells connected to the unselected word lines are continuously supplied with the pass voltages during the program operation. This may cause a pass disturb where the threshold voltage of the memory cells changes.
선택된 워드 라인에 연결된 메모리 셀들은 증가형 스텝 펄스 프로그램(Incremental Step Pulse Programming; ISSP) 방식에 의해 프로그램 될 수 있다. ISPP 방식은 반복되는 프로그램 루프마다 일정한 스탭 전압만큼 증가된 펄스를 인가하는 것이다. 선택된 워드 라인에 연결된 메모리 셀들은 각각 제1 프로그램 상태(PV1) 내지 제N 프로그램 상태(PVN)를 목표 프로그램 상태로 가질 수 있다. The memory cells connected to the selected word line may be programmed by the Incremental Step Pulse Programming (ISSP) scheme. The ISPP scheme applies a pulse incremented by a constant step voltage to each repeated program loop. The memory cells connected to the selected word line may have the first program state PV1 to the Nth program state PVN in the target program state, respectively.
프로그램 동작이 수행되는 동안, 반도체 메모리 장치는 선택된 워드 라인에 인가하는 프로그램 전압의 레벨을 점차로 증가시키면서 각각의 프로그램 상태들에 대한 검증을 수행한다.While the program operation is being performed, the semiconductor memory device performs verification of each program state, gradually increasing the level of the program voltage applied to the selected word line.
본 발명에서는 제1 프로그램 상태(PV1)의 검증 단계에서의 패스 전압에 의한 스트레스를 최소화 하기 위하여 제1 프로그램 상태(PV1)의 검증이 성공할 때까지 상대적으로 낮은 전압 레벨을 갖는 패스 전압을 인가하여 검증 동작을 수행하고, 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증에 성공하면 패스 전압의 레벨을 다시 원상 복귀 시켜 패스 디스터브를 최소화 하는 방법을 제안한다.In the present invention, a pass voltage having a relatively low voltage level is applied until the verification of the first program state PV1 is succeeded in order to minimize the stress due to the pass voltage in the verification step of the first program state PV1 And if the verification of the first program state PV1 is successful, the level of the pass voltage is restored to the original state to minimize pass disturbance.
도 5는 선택된 워드 라인(selected)과 비선택된 워드 라인들(unselected)에 인가되는 전압 펄스의 파형을 나타낸다.5 shows waveforms of voltage pulses applied to a selected word line (selected) and unselected word lines (unselected).
도 5를 참조하면, 프로그램 동작은 복수의 프로그램 루프(프로그램 루프1 내지 프로그램 루프(N))들을 통해 수행될 수 있다. 하나의 프로그램 루프에서 반도체 메모리 장치는 선택된 워드 라인(selected)에 프로그램 전압 펄스(Vpgm1~Vpgm(n))를 인가한 뒤, 제1 내지 제N 프로그램 상태에 대한 각각의 검증 전압들(Vvfy1~Vvfyn)을 인가한다. 동시에 반도체 메모리 장치는 비선택된 워드 라인들(unselected)에 프로그램 패스 전압(Vpp)와 리드 패스 전압을 인가 한다.Referring to FIG. 5, the program operation may be performed through a plurality of program loops (
도 5에서는 제N-1 프로그램 루프(프로그램 루프(N-1))에서 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증이 성공 된 것으로 가정하여 설명한다. 반도체 메모리 장치는, 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증이 성공할 때까지 즉, 프로그램 루프1 내지 프로그램 루프(N-1)동안 제1 패스 전압(VRP1)을 비선택된 워드 라인들에 인가할 수 있다.5, it is assumed that the verification of the first program state PV1 in the (N-1) -th program loop (program loop N-1) is successful. The semiconductor memory device can apply the first pass voltage VRP1 to the unselected word lines during the
구체적으로, 반도체 메모리 장치의 주변회로는 선택된 워드 라인에 프로그램 검증 전압(Vvfy1~Vvfy(n))을 인가하는 동안, 비선택된 워드 라인들에는 제1 패스 전압(VRP1)을 인가한다. Specifically, the peripheral circuit of the semiconductor memory device applies the first pass voltage (VRP1) to the unselected word lines while applying the program verify voltages (Vvfy1 to Vvfy (n)) to the selected word line.
프로그램 루프(N-1)에서 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증이 성공하면, 반도체 메모리 장치는 이후 진행되는 프로그램 루프에서 비선택된 워드 라인에 인가되는 리드 패스 전압을 제2 패스 전압(VRP2)로 변경한다. 제2 패스 전압(VRP2)은 제1 패스 전압(VRP1)보다 높은 전압 레벨을 갖는다. 다양한 실시 예에서 제2 패스 전압(VRP2)은 제1 패스 전압(VRP1)보다 기준 전압(Vref)만큼 높은 전압 레벨을 갖는다. 제1 패스 전압(VRP1)은 가장 높은 프로그램 상태의 문턱 전압보다 높고, 제2 패스 전압(VRP2) 보다는 낮은 전압 레벨을 가지며, 기준 전압(Vref)은 제2 패스 전압(VRP2)와 제1 패스 전압(VRP1)의 차이만큼의 전압 레벨 값을 가진다.If verification of the first program state PV1 is successful in the program loop N-1, the semiconductor memory device supplies the second pass voltage VRP2, which is the read pass voltage applied to the unselected word line in the subsequent program loop, . The second pass voltage VRP2 has a voltage level higher than the first pass voltage VRP1. In various embodiments, the second pass voltage VRP2 has a voltage level that is higher than the first pass voltage VRP1 by the reference voltage Vref. The first pass voltage VRP1 is higher than the threshold voltage of the highest programmed state and is lower than the second pass voltage VRP2 and the reference voltage Vref is higher than the second pass voltage VRP2 and the first pass voltage VRP2, (VRP1).
구체적으로 반도체 메모리 장치의 주변회로는 선택된 워드 라인에 프로그램 검증 전압(Vvfy1~Vvfy(n))을 인가하는 동안, 비선택된 워드 라인들에는 제2 패스 전압(VRP2)을 인가한다.Specifically, the peripheral circuit of the semiconductor memory device applies the second pass voltage VRP2 to the unselected word lines while applying the program verify voltages Vvfy1 to Vvfy (n) to the selected word line.
이처럼 제2 패스 전압(VRP2)보다 상대적으로 낮은 전압 레벨을 갖는 제1 패스 전압(VRP1)을 사용하는 경우, 셀 전류가 낮아지므로 메모리 셀들의 문턱 전압들은 상대적으로 높게 읽힐 수 있다. 그러나 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증 동작 성공 후, 패스 전압의 레벨을 제2 패스 전압으로 증가시키면, 셀 전류가 높아져서 높게 읽혔던 메모리 셀들의 문턱 전압이 정상적으로 낮게 읽힐 수 있다. 따라서, 패스 디스터브를 줄이면서도, 문턱 전압 분포의 변화 없이 프로그램 동작이 수행될 수 있다.When the first pass voltage VRP1 having a voltage level relatively lower than the second pass voltage VRP2 is used, the threshold voltage of the memory cells can be relatively higher because the cell current is lowered. However, if the level of the pass voltage is increased to the second pass voltage after a successful verification operation for the first program state PV1, the threshold voltage of the memory cells which have been read high can be normally read low. Therefore, the program operation can be performed without reducing the threshold voltage distribution while reducing the pass disturbance.
실시 예에서, 제2 패스 전압(VRP2)와 메모리 셀의 문턱 전압이 일정한 상관 관계에 있는 경우(correlation), 이후의 제1 프로그램 상태에 대한 검증 동작이 생략될 수 있다.In an embodiment, when the second pass voltage VRP2 and the threshold voltage of the memory cell are in a constant correlation, the verification operation for the subsequent first program state may be omitted.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 메모리 장치의 동작을 설명하기 위한 순서도이다.6 is a flowchart for explaining the operation of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention.
601 단계에서, 반도체 메모리 장치는 비선택된 워드 라인들에 인가하는 리드 패스 전압을 제1 패스 전압으로 설정한다. 구체적으로 반도체 메모리 장치의 주변회로는 선택된 워드 라인에는 검증 전압들을 인가하고, 비선택된 워드 라인들에 리드 패스 전압을 인가한다. 여기서 인가되는 리드 패스 전압은 제1 패스 전압일 수 있다.In
603 단계에서, 반도체 메모리 장치는 프로그램 동작을 수행한다. 프로그램 동작은 복수의 프로그램 루프들을 통해 수행될 수 있다. 프로그램 루프는 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하고, 메모리 셀들의 프로그램 상태를 검증하는 동작을 포함한다. 프로그램 상태를 검증하는 동작은 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하고, 선택된 페이지로부터 페이지 데이터를 읽고, 읽어진 데이터에 대해서 프로그램 완료 여부를 판단 하는 것이다. 프로그램 동작은 제1 프로그램 상태(PV1) 내지 제N 프로그램 상태(PVN)의 검증이 모두 성공할 때까지 반복된다. 603 단계에서 프로그램 동작을 수행하다가, 605 단계에서 반도체 메모리 장치는 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증이 성공하였는지를 판단한다. 반도체 메모리 장치는 매 프로그램 루프가 반복되는 동안 각 프로그램 루프의 검증 동작에서 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증이 성공하는 지 여부를 판단할 수 있다.In
605 단계에서 판단한 결과, 제1 프로그램 상태(PV1)에 대한 검증이 성공하면, 반도체 메모리 장치는 비선택된 워드 라인들에 인가하는 리드 패스 전압을 제2 패스 전압으로 설정한다. 반도체 메모리 장치는 이후의 프로그램 루프들에서 선택된 워드 라인에 검증 전압들을 인가하는 동안 비선택된 워드 라인들에 제2 패스 전압을 인가한다.As a result of the determination in
도 7은 도 2의 반도체 메모리 장치를 포함하는 메모리 시스템을 보여주는 블록도이다.FIG. 7 is a block diagram showing a memory system including the semiconductor memory device of FIG. 2. FIG.
도 7을 참조하면, 메모리 시스템(1000)은 반도체 메모리 장치(1300) 및 컨트롤러(1200)를 포함한다.7,
반도체 메모리 장치(1300)는 도 1를 참조하여 설명된 반도체 메모리 장치(100)와 마찬가지로 구성되고, 동작할 수 있다. 이하, 중복되는 설명은 생략된다.The
컨트롤러(1200)는 호스트(Host) 및 반도체 메모리 장치(1300)에 연결된다. 호스트(Host)로부터의 요청에 응답하여, 컨트롤러(1200)는 반도체 메모리 장치(1300)를 액세스하도록 구성된다. 예를 들면, 컨트롤러(1200)는 반도체 메모리 장치(1300)의 리드, 프로그램, 소거, 그리고 배경(background) 동작을 제어하도록 구성된다. 컨트롤러(1200)는 반도체 메모리 장치(1300) 및 호스트(Host) 사이에 인터페이스를 제공하도록 구성된다. 컨트롤러(1200)는 반도체 메모리 장치(1300)을 제어하기 위한 펌웨어(firmware)를 구동하도록 구성된다.The
컨트롤러(1200)는 램(1210, Random Access Memory), 프로세싱 유닛(1220, processing unit), 호스트 인터페이스(1230, host interface), 메모리 인터페이스(1240, memory interface) 및 에러 정정 블록(1250)을 포함한다.The
램(1210)은 프로세싱 유닛(1220)의 동작 메모리, 반도체 메모리 장치(1300) 및 호스트(Host) 사이의 캐시 메모리, 그리고 반도체 메모리 장치(1300) 및 호스트(Host) 사이의 버퍼 메모리 중 적어도 하나로서 이용된다.The
프로세싱 유닛(1220)은 컨트롤러(1200)의 제반 동작을 제어한다.The
프로세싱 유닛(1220)은 호스트(Host)로부터 수신된 데이터를 랜더마이즈하도록 구성된다. 예를 들면, 프로세싱 유닛(1220)은 랜더마이징 시드(seed)를 이용하여 호스트(Host)로부터 수신된 데이터를 랜더마이즈할 것이다. 랜더마이즈된 데이터는 저장될 데이터(DATA, 도 1 참조)로서 반도체 메모리 장치(1300)에 제공되어 메모리 셀 어레이(110, 도 1 참조)에 프로그램된다.The
프로세싱 유닛(1220)은 리드 동작 시 반도체 메모리 장치(1300)로부터 수신된 데이터를 디랜더마이즈하도록 구성된다. 예를 들면, 프로세싱 유닛(1220)은 디랜더마이징 시드를 이용하여 반도체 메모리 장치(1300)로부터 수신된 데이터를 디랜더마이즈할 것이다. 디랜더마이즈된 데이터는 호스트(Host)로 출력될 것이다.The
실시 예로서, 프로세싱 유닛(1220)은 소프트웨어(software) 또는 펌웨어(firmware)를 구동함으로써 랜더마이즈 및 디랜더마이즈를 수행할 수 있다.As an example, the
호스트 인터페이스(1230)는 호스트(Host) 및 컨트롤러(1200) 사이의 데이터 교환을 수행하기 위한 프로토콜을 포함한다. 예시적인 실시 예로서, 컨트롤러(1200)는 USB (Universal Serial Bus) 프로토콜, MMC (multimedia card) 프로토콜, PCI (peripheral component interconnection) 프로토콜, PCI-E (PCI-express) 프로토콜, ATA (Advanced Technology Attachment) 프로토콜, Serial-ATA 프로토콜, Parallel-ATA 프로토콜, SCSI (small computer small interface) 프로토콜, ESDI (enhanced small disk interface) 프로토콜, 그리고 IDE (Integrated Drive Electronics) 프로토콜, 사유(private) 프로토콜 등과 같은 다양한 인터페이스 프로토콜들 중 적어도 하나를 통해 호스트(Host)와 통신하도록 구성된다.The
메모리 인터페이스(1240)는 반도체 메모리 장치(1300)과 인터페이싱한다. 예를 들면, 메모리 인터페이스는 낸드 인터페이스 또는 노어 인터페이스를 포함한다.The
에러 정정 블록(1250)은 에러 정정 코드(ECC, Error Correcting Code)를 이용하여 반도체 메모리 장치(1300)로부터 수신된 데이터의 에러를 검출하고, 정정하도록 구성된다.The
컨트롤러(1200) 및 반도체 메모리 장치(1300)은 하나의 반도체 장치로 집적될 수 있다. 예시적인 실시 예로서, 컨트롤러(1200) 및 반도체 메모리 장치(1300)은 하나의 반도체 장치로 집적되어, 메모리 카드를 구성할 수 있다. 예를 들면, 컨트롤러(1200) 및 반도체 메모리 장치(1300)은 하나의 반도체 장치로 집적되어 PC 카드(PCMCIA, personal computer memory card international association), 컴팩트 플래시 카드(CF), 스마트 미디어 카드(SM, SMC), 메모리 스틱, 멀티미디어 카드(MMC, RS-MMC, MMCmicro), SD 카드(SD, miniSD, microSD, SDHC), 유니버설 플래시 기억장치(UFS) 등과 같은 메모리 카드를 구성할 것이다.The
컨트롤러(1200) 및 반도체 메모리 장치(1300)은 하나의 반도체 장치로 집적되어 반도체 드라이브(SSD, Solid State Drive)를 구성할 수 있다. 반도체 드라이브(SSD)는 반도체 메모리에 데이터를 저장하도록 구성되는 저장 장치를 포함한다. 메모리 시스템(1000)이 반도체 드라이브(SSD)로 이용되는 경우, 메모리 시스템(1000)에 연결된 호스트(Host)의 동작 속도는 획기적으로 개선된다.The
다른 예로서, 메모리 시스템(1000)은 컴퓨터, UMPC (Ultra Mobile PC), 워크스테이션, 넷북(net-book), PDA (Personal Digital Assistants), 포터블(portable) 컴퓨터, 웹 타블렛(web tablet), 무선 전화기(wireless phone), 모바일 폰(mobile phone), 스마트폰(smart phone), e-북(e-book), PMP(portable multimedia player), 휴대용 게임기, 네비게이션(navigation) 장치, 블랙박스(black box), 디지털 카메라(digital camera), 3차원 수상기(3-dimensional television), 디지털 음성 녹음기(digital audio recorder), 디지털 음성 재생기(digital audio player), 디지털 영상 녹화기(digital picture recorder), 디지털 영상 재생기(digital picture player), 디지털 동영상 녹화기(digital video recorder), 디지털 동영상 재생기(digital video player), 정보를 무선 환경에서 송수신할 수 있는 장치, 홈 네트워크를 구성하는 다양한 전자 장치들 중 하나, 컴퓨터 네트워크를 구성하는 다양한 전자 장치들 중 하나, 텔레매틱스 네트워크를 구성하는 다양한 전자 장치들 중 하나, RFID 장치, 또는 컴퓨팅 시스템을 구성하는 다양한 구성 요소들 중 하나 등과 같은 전자 장치의 다양한 구성 요소들 중 하나로 제공된다.As another example, the
예시적인 실시 예로서, 반도체 메모리 장치(1300) 또는 메모리 시스템(1000)은 다양한 형태들의 패키지로 실장될 수 있다. 예를 들면, 반도체 메모리 장치(1300) 또는 메모리 시스템(1000)은 PoP(Package on Package), Ball grid arrays(BGAs), Chip scale packages(CSPs), Plastic Leaded Chip Carrier(PLCC), Plastic Dual In Line Package(PDIP), Die in Waffle Pack, Die in Wafer Form, Chip On Board(COB), Ceramic Dual In Line Package(CERDIP), Plastic Metric Quad Flat Pack(MQFP), Thin Quad Flatpack(TQFP), Small Outline integrated circuit (SOIC), Shrink Small Outline Package(SSOP), Thin Small Outline Package(TSOP), Thin Quad Flatpack(TQFP), System In Package(SIP), Multi-Chip Package(MCP), Wafer-level Fabricated Package(WFP), Wafer-Level Processed Stack Package(WSP) 등과 같은 방식으로 패키지화되어 실장될 수 있다.As an exemplary embodiment,
도 8은 도 7의 메모리 시스템(1000)의 응용 예(2000)를 보여주는 블록도이다.8 is a block diagram illustrating an
도 8을 참조하면, 메모리 시스템(2000)은 반도체 메모리 장치(2100) 및 컨트롤러(2200)를 포함한다. 반도체 메모리 장치(2100)는 복수의 반도체 메모리 칩들을 포함한다. 복수의 반도체 메모리 칩들은 복수의 그룹들로 분할된다.8, the
도 8에서, 복수의 그룹들은 각각 제 1 내지 제 k 채널들(CH1~CHk)을 통해 컨트롤러(2200)와 통신하는 것으로 도시되어 있다. 각 반도체 메모리 칩은 도 1을 참조하여 설명된 반도체 메모리 장치(100) 중 하나와 마찬가지로 구성되고, 동작할 것이다.In Fig. 8, the plurality of groups are shown as communicating with the
각 그룹은 하나의 공통 채널을 통해 컨트롤러(2200)와 통신하도록 구성된다. 컨트롤러(2200)는 도 7을 참조하여 설명된 컨트롤러(1200)와 마찬가지로 구성되고, 복수의 채널들(CH1~CHk)을 통해 반도체 메모리 장치(2100)의 복수의 메모리 칩들을 제어하도록 구성된다.Each group is configured to communicate with the
도 8에서, 하나의 채널에 복수의 반도체 메모리 칩들이 연결되는 것으로 설명되었다. 그러나, 하나의 채널에 하나의 반도체 메모리 칩이 연결되도록 메모리 시스템(2000)이 변형될 수 있음이 이해될 것이다.In FIG. 8, it has been described that a plurality of semiconductor memory chips are connected to one channel. However, it will be appreciated that the
도 9는 도 8을 참조하여 설명된 메모리 시스템(2000)을 포함하는 컴퓨팅 시스템(3000)을 보여주는 블록도이다.FIG. 9 is a block diagram illustrating a
도 9를 참조하면, 컴퓨팅 시스템(3000)은 중앙 처리 장치(3100), 램(3200, RAM, Random Access Memory), 사용자 인터페이스(3300), 전원(3400), 시스템 버스(3500), 그리고 메모리 시스템(2000)을 포함한다.9, a
메모리 시스템(2000)은 시스템 버스(3500)를 통해, 중앙처리장치(3100), 램(3200), 사용자 인터페이스(3300), 그리고 전원(3400)에 전기적으로 연결된다. 사용자 인터페이스(3300)를 통해 제공되거나, 중앙 처리 장치(3100)에 의해서 처리된 데이터는 메모리 시스템(2000)에 저장된다.The
도 9에서, 반도체 메모리 장치(2100)는 컨트롤러(2200)를 통해 시스템 버스(3500)에 연결되는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 반도체 메모리 장치(2100)는 시스템 버스(3500)에 직접 연결되도록 구성될 수 있다. 이때, 컨트롤러(2200)의 기능은 중앙 처리 장치(3100) 및 램(3200)에 의해 수행될 것이다.In FIG. 9, the
도 9에서, 도 8을 참조하여 설명된 메모리 시스템(2000)이 제공되는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 메모리 시스템(2000)은 도 8을 참조하여 설명된 메모리 시스템(1000)으로 대체될 수 있다. 실시 예로서, 컴퓨팅 시스템(3000)은 도 6 및 도 7을 참조하여 설명된 메모리 시스템들(1000, 2000)을 모두 포함하도록 구성될 수 있다.In FIG. 9, it is shown that the
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시 예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. This is possible.
그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined by the equivalents of the claims, as well as the claims.
상술한 실시 예들에서, 모든 단계는 선택적으로 수행의 대상이 되거나 생략의 대상이 될 수 있다. 또한 각 실시 예에서 단계들은 반드시 순서대로 일어날 필요는 없으며, 뒤바뀔 수 있다. 한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 명세서의 실시 예들은 본 명세서의 기술 내용을 쉽게 설명하고 본 명세서의 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것일 뿐이며, 본 명세서의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 즉 본 명세서의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은 본 명세서가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.In the embodiments described above, all of the steps may optionally be performed or omitted. Also, the steps in each embodiment need not occur in order, but may be reversed. It should be understood, however, that the embodiments herein disclosed and illustrated herein are illustrative of specific examples and are not intended to limit the scope of the present disclosure. That is, it will be apparent to those skilled in the art that other modifications based on the technical idea of the present invention are feasible.
한편, 본 명세서와 도면에는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 개시하였으며, 비록 특정 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명의 기술 내용을 쉽게 설명하고 발명의 이해를 돕기 위한 일반적인 의미에서 사용된 것이지, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예 외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, And is not intended to limit the scope of the invention. It is to be understood by those skilled in the art that other modifications based on the technical idea of the present invention are possible in addition to the embodiments disclosed herein.
100: 반도체 메모리 장치
110: 메모리 셀 어레이
120: 주변 회로
121: 어드레스 디코더
122: 전압 발생기
123: 읽기 및 쓰기 회로
124: 데이터 입출력 회로
125: 제어 로직100: semiconductor memory device
110: memory cell array
120: peripheral circuit
121:
122: voltage generator
123: Read and Write Circuit
124: Data input / output circuit
125: control logic
Claims (21)
상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태에 대한 검증을 수행하는 단계;
상기 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 동안, 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하는 단계; 및
상기 검증에 성공하면, 상기 비선택된 워드 라인들에 인가되는 제1 패스 전압을 상기 제1 패스 전압 보다 높은 레벨을 갖는 제2 패스 전압으로 변경하는 단계; 를 포함하는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.A method of operating a semiconductor memory device for programming a plurality of memory cells connected to a selected word line,
Applying a verify voltage to the selected word line to verify a program state of the plurality of memory cells;
Applying a first pass voltage to unselected word lines while a verify voltage is applied to the selected word line; And
Changing the first pass voltage applied to the unselected word lines to a second pass voltage having a level higher than the first pass voltage when the verification is successful; Wherein the semiconductor memory device is a semiconductor memory device.
상기 복수의 메모리 셀들의 순차적으로 높은 문턱 전압 분포를 갖는 목표 프로그램 상태인 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제1 프로그램 상태에 대한 검증이 성공하면, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 동안, 상기 비선택된 워드 라인들에 제2 패스 전압을 인가하는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.2. The method of claim 1, wherein the step of changing to the second pass voltage comprises:
Wherein when the verification of the first one of the first to Nth program states that is a target program state having a sequentially higher threshold voltage distribution of the plurality of memory cells is successful, And applying a second pass voltage to the unselected word lines.
상기 제N 프로그램 상태의 문턱 전압 보다 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.3. The method of claim 2,
And a voltage level higher than a threshold voltage of the N-th programmed state.
상기 제1 패스 전압 보다 기준 전압만큼 더 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.The method of claim 1,
And a voltage level higher than the first pass voltage by a reference voltage.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱 전압을 기초로 결정되는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.5. The method of claim 4,
Wherein the threshold voltage of the plurality of memory cells is determined based on a threshold voltage of the plurality of memory cells.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱전압들이 상기 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 상기 목표 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하는 경우 검증이 성공한 것으로 판단하고, 상기 제n 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하지 않는 경우 검증이 실패한 것으로 판단하는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.3. The method of claim 2, wherein performing the verification comprises:
Determines that the verify is successful if the threshold voltages of the plurality of memory cells exceed the threshold voltage of the target program state among the first to Nth program states and if the threshold voltage of the nth program state is not exceeded And determines that the verification has failed.
상기 복수의 메모리 셀들이 연결된 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 단계; 및
상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태를 검증 하는 단계를 포함하되,
상기 검증 하는 단계는,
상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하는 동안 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하고,
상기 제1 프로그램 상태에 대한 검증이 성공하면, 상기 비선택된 워드 라인들에 인가하는 제1 패스 전압을 제2 패스 전압으로 변경하는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.1. A method of operating a semiconductor memory device comprising a plurality of memory cells programmed to have any one of a first to an Nth program state, the first to Nth program states being based on a threshold voltage of a memory cell,
Applying a program voltage to a selected word line to which the plurality of memory cells are connected; And
And verifying the program state of the plurality of memory cells by applying a verify voltage to the selected word line,
Wherein the verifying step comprises:
Applying a first pass voltage to unselected word lines while applying a verify voltage to the selected word line,
And changing a first pass voltage applied to the unselected word lines to a second pass voltage when the verification of the first program state is successful.
순차적으로 높은 문턱 전압 분포를 갖고,
상기 제1 패스 전압은,
상기 제N 프로그램 상태의 문턱 전압 보다 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.8. The method of claim 7, wherein the first through N < th >
Sequentially have a high threshold voltage distribution,
The first pass voltage may be a voltage,
And a voltage level higher than a threshold voltage of the N-th programmed state.
상기 제1 패스 전압 보다 기준 전압만큼 더 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.8. The method of claim 7,
And a voltage level higher than the first pass voltage by a reference voltage.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱 전압을 기초로 결정되는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.10. The method of claim 9,
Wherein the threshold voltage of the plurality of memory cells is determined based on a threshold voltage of the plurality of memory cells.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱전압들이 상기 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제n 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하는 경우 검증이 성공한 것으로 판단하고, 상기 제n 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하지 않는 경우 검증이 실패한 것으로 판단하는 반도체 메모리 장치의 동작 방법.8. The method of claim 7, wherein performing the verification comprises:
Judges that the threshold voltage of the plurality of memory cells exceeds the threshold voltage of the nth program state among the first to Nth program states, And determines that the verification has failed.
상기 복수의 워드 라인들 중 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태에 대한 검증을 수행하고, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 동안, 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하고, 상기 복수의 메모리 셀들의 문턱전압을 기초로 구분되는 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제1 프로그램 상태에 대한 검증이 성공하면, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압이 인가되는 동안, 상기 비선택된 워드 라인들에 제2 패스 전압을 인가하는 주변회로를 포함하는 반도체 메모리 장치.A plurality of memory cells coupled to a plurality of word lines; And
A verify voltage is applied to a selected one of the plurality of word lines to verify a program state of the plurality of memory cells and a verify voltage is applied to unselected word lines while a verify voltage is applied to the selected word line When a verify operation of the first one of the first to N-th program states, which are distinguished based on the threshold voltages of the plurality of memory cells, is successful, a verify voltage is applied to the selected word line And a peripheral circuit for applying a second pass voltage to the unselected word lines.
순차적으로 높은 문턱 전압 분포를 갖고,
상기 제1 패스 전압은,
상기 제N 프로그램 상태의 문턱 전압 보다 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치.13. The method of claim 12, wherein the first through the N-
Sequentially have a high threshold voltage distribution,
The first pass voltage may be a voltage,
And a voltage level higher than a threshold voltage of the N-th programmed state.
상기 제1 패스 전압 보다 기준 전압만큼 더 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치.13. The method of claim 12,
And has a voltage level higher than the first pass voltage by a reference voltage.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱 전압을 기초로 결정되는 반도체 메모리 장치.15. The method of claim 14,
Wherein the threshold voltage is determined based on a threshold voltage of the plurality of memory cells.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱전압들이 상기 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제n 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하는 경우 검증이 성공한 것으로 판단하고, 상기 제n 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하지 않는 경우 검증이 실패한 것으로 판단하는 반도체 메모리 장치. 13. The semiconductor memory device according to claim 12,
Judges that the threshold voltage of the plurality of memory cells exceeds the threshold voltage of the n < th > program state among the first to N < th > program states, And judges that the verification has failed.
복수의 워드 라인들 중 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하고, 상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하여 상기 복수의 메모리 셀들의 프로그램 상태를 검증 하는 주변회로를 포함하되,
상기 주변 회로는,
상기 선택된 워드 라인에 검증 전압을 인가하는 동안 비선택된 워드 라인들에 제1 패스 전압을 인가하고, 상기 메모리 셀들의 문턱전압을 기초로 구분되는 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제1 프로그램 상태에 대한 검증이 성공하면, 상기 비선택된 워드 라인들에 인가하는 제1 패스 전압을 제2 패스 전압으로 변경하는 반도체 메모리 장치. A plurality of memory cells coupled to a plurality of word lines; And
And a peripheral circuit that applies a program voltage to a selected one of the plurality of word lines and verifies a program state of the plurality of memory cells by applying a verify voltage to the selected word line,
Wherein the peripheral circuit comprises:
And applies a first pass voltage to unselected word lines while applying a verify voltage to the selected word line and applies a first pass voltage to the first program state among the first to Nth program states The first pass voltage applied to the unselected word lines is changed to the second pass voltage.
순차적으로 높은 문턱 전압 분포를 갖고,
상기 제1 패스 전압은,
상기 제N 프로그램 상태의 문턱 전압 보다 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치.18. The method of claim 17, wherein the first through N < th >
Sequentially have a high threshold voltage distribution,
The first pass voltage may be a voltage,
And a voltage level higher than a threshold voltage of the N-th programmed state.
상기 제1 패스 전압 보다 기준 전압만큼 더 높은 전압 레벨을 갖는 반도체 메모리 장치.18. The method of claim 17,
And has a voltage level higher than the first pass voltage by a reference voltage.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱 전압을 기초로 결정되는 반도체 메모리 장치.20. The method of claim 19,
Wherein the threshold voltage is determined based on a threshold voltage of the plurality of memory cells.
상기 복수의 메모리 셀들의 문턱전압들이 상기 제1 내지 제N 프로그램 상태들 중 제n 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하는 경우 검증이 성공한 것으로 판단하고, 상기 제n 프로그램 상태의 문턱 전압을 초과하지 않는 경우 검증이 실패한 것으로 판단하는 반도체 메모리 장치.20. The method of claim 19,
Judges that the threshold voltage of the plurality of memory cells exceeds the threshold voltage of the n < th > program state among the first to N < th > program states, And judges that the verification has failed.
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