KR20170043920A - Photosensitive resin composition, photosensitive resin film using the same and color filter - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film produced using the same, and a color filter comprising the photosensitive resin film, wherein the photosensitive resin composition comprises: (A) a binder resin; (B) a pigment including a cation and an anion; (C) a photopolymerizable compound; (D) a photopolymerization initiator; and (E) a solvent, wherein the pigment is included in 15-40 wt% with respect to the total weight of the photosensitive resin composition, and the cation is represented by chemical formula 1. In the chemical formula 1, each of the substituents is as defined in the specification.

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN FILM USING THE SAME AND COLOR FILTER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film, and a color filter using the same. BACKGROUND ART [0002]

본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film using the same, and a color filter.

안료분산액의 안정한 분산상태 및 미세화를 용이하게 하기 위해, 합성을 통해 얻어진 안료를 솔트밀링 등의 공정을 통해, 일정한 크기의 입자 상태를 가지는 안료를 만들기 위해 여러 연구가 진행되고 있다. 또한, 안료의 경우, 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재하고, 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하기 때문에, 안료를 단독으로 사용하지 않고, 안료와 염료를 혼합한 하이브리드 형태의 착색제를 이용하여, 휘도, 명암비 등을 물성을 개선하고자 하는 연구도 진행되고 있다. In order to facilitate the stable dispersion and fineness of the pigment dispersion, various studies have been conducted to make pigments having a particle size of a certain size through a process such as salt milling of the pigment obtained through synthesis. Further, in the case of a pigment, there is a limit of brightness and contrast ratio resulting from particle size, and in the case of a color imaging device for an image sensor, a smaller dispersion particle size is required for forming a fine pattern. Therefore, Studies have been made to improve physical properties such as brightness and contrast ratio by using a hybrid type colorant in which a pigment and a dye are mixed.

그러나 현재까지, 종래 착색제 등과 비교하여, 내열성, 휘도 등의 물성 개선의 효과가 큰 착색제는 보고되고 있지 않다.However, up to now, no coloring agent has been reported which has a greater effect of improving physical properties such as heat resistance and brightness as compared with conventional coloring agents and the like.

따라서, 감광성 수지 조성물의 제조에 사용되는 착색제, 특히 염료로 적합한 화합물에 대한 연구가 필요한 실정이다.Therefore, it is necessary to study a coloring agent used in the production of a photosensitive resin composition, particularly a compound suitable as a dye.

일 구현예는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a photosensitive resin composition.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin film produced using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter comprising the photosensitive resin film.

일 구현예는 (A) 바인더 수지; (B) 양이온 및 음이온으로 구성되는 염료; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 염료는 감광성 수지 조성물 총량에 대해 15 중량% 내지 40 중량%로 포함되고, 상기 양이온은 하기 화학식 1로 표시되는 감광성 수지 조성물을 제공한다.One embodiment includes (A) a binder resin; (B) a dye consisting of a cation and an anion; (C) a photopolymerizable compound; (D) a photopolymerization initiator and (E) a solvent, wherein the dye is contained in an amount of 15% by weight to 40% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition, and the cation is represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1 내지 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,

R7은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 7 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

X는 -O-, -S- 또는 -NR8-(R8은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이다.X is -O-, -S- or -NR 8 - (R 8 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group).

상기 X는 -O- 또는 -S- 일 수 있다.X may be -O- or -S-.

상기 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기일 수 있다.Each of R 1 to R 4 independently represents a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

상기 양이온은 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.The cation may be represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R9 및 R10은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 9 and R 10 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

R13은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 13 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

R14 내지 R17은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 14 to R 17 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

n1 내지 n4는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 0 ≤ n1+n2 ≤ 5 이고, 0 ≤ n3+n4 ≤ 5 이고,n1 to n4 each independently represent an integer of 0 to 5, 0? n1 + n2? 5, 0? n3 + n4? 5,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

상기 양이온은 하기 화학식 3 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.The cation may be represented by any one selected from the group consisting of the following Chemical Formulas (3) to (7).

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

R18, R19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 , R 19 and R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 4에서,In Formula 4,

R18 내지 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 to R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 5에서,In Formula 5,

R18 및 R19는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 and R 19 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R27은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 27 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 화학식 6에서,In Formula 6,

R18 및 R19는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 and R 19 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R27 및 R28은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 27 and R 28 are each independently a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 7](7)

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 화학식 7에서,In Formula 7,

R18, R19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 , R 19 and R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R28은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 28 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

상기 양이온은 하기 화학식 5-3, 화학식 5-4, 화학식 5-5, 화학식 5-6, 화학식 7-6, 화학식 7-8, 화학식 7-10, 화학식 7-12, 화학식 7-14 및 화학식 7-17로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.The cations are represented by the following formulas (5-3), (5-4), (5-5), (5-6), (7-6), (7-8), (7-10), (7-12) 7-17. ≪ / RTI >

[화학식 5-3][Formula 5-3]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 5-4][Formula 5-4]

Figure pat00009
Figure pat00009

[화학식 5-5][Formula 5-5]

Figure pat00010
Figure pat00010

[화학식 5-6][Formula 5-6]

Figure pat00011
Figure pat00011

[화학식 7-6][Formula 7-6]

Figure pat00012
Figure pat00012

[화학식 7-8][Formula 7-8]

Figure pat00013
Figure pat00013

[화학식 7-10][Formula 7-10]

Figure pat00014
Figure pat00014

[화학식 7-12][Formula 7-12]

Figure pat00015
Figure pat00015

[화학식 7-14][Chemical Formula 7-14]

Figure pat00016
Figure pat00016

[화학식 7-17][Formula 7-17]

Figure pat00017
Figure pat00017

상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.The anion may be represented by any one selected from the group consisting of the following chemical formulas (A) to (F).

[화학식 A](A)

Figure pat00018
Figure pat00018

[화학식 B][Chemical Formula B]

Figure pat00019
Figure pat00019

[화학식 C]≪ RTI ID = 0.0 &

PW12O40 3 - PW 12 O 40 3 -

[화학식 D][Chemical Formula D]

SiW12O40 4 - SiW 12 O 40 4 -

[화학식 E](E)

CF3SO3 - CF 3 SO 3 -

[화학식 F][Chemical Formula F]

ClO4 - ClO 4 -

상기 염료는 청색 염료일 수 있다.The dye may be a blue dye.

상기 염료는 600 nm 내지 700 nm의 파장범위에서 최대 흡광도(λmax)를 가질 수 있다.The dye may have a maximum absorbance (? Max ) in the wavelength range of 600 nm to 700 nm.

상기 염료는 400 nm 내지 500 nm의 파장범위에서 최대 투과도(Tmax)를 가질 수 있다.The dye may have a maximum transmittance (T max ) in the wavelength range of 400 nm to 500 nm.

상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further comprise a pigment.

상기 바인더 수지는 5,000 g/mol 내지 15,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다.The binder resin may have a weight average molecular weight of 5,000 g / mol to 15,000 g / mol.

상기 바인더 수지는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g의 산가를 가질 수 있다.The binder resin may have an acid value of 80 mgKOH / g to 130 mgKOH / g.

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin, a cadmium binder resin, or a combination thereof.

상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%; 상기 (B) 염료 10 중량% 내지 40 중량%; 상기 (C) 광중합성 화합물 1 중량% 내지 15 중량%; 상기 (D) 광중합 개시제 0.01 중량% 내지 10 중량% 및 상기 (E) 용매 잔부량을 포함할 수 있다.Wherein the photosensitive resin composition comprises 1 to 30% by weight of the binder resin (A) relative to the total amount of the photosensitive resin composition; 10% to 40% by weight of the dye (B); 1 to 15% by weight of the (C) photopolymerizable compound; 0.01 to 10% by weight of the photopolymerization initiator (D) and the remaining amount of the solvent (E).

상기 감광성 수지 조성물은 에폭시 화합물, 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include additives such as an epoxy compound, malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator or a combination thereof.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin film produced using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter comprising the photosensitive resin film.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other aspects of the present invention are included in the following detailed description.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 착색력 등이 뛰어난 염료를 특정 함량 범위로 포함하여, 휘도, 내열성, 내화학성 및 내광성이 우수한 컬러필터의 제조가 가능하다. The photosensitive resin composition according to one embodiment can contain a dye having excellent coloring power within a specific content range, and can manufacture a color filter excellent in luminance, heat resistance, chemical resistance, and light resistance.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, it should be understood that the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Means that at least one hydrogen atom of the functional group of the present invention is substituted with a halogen atom (F, Br, Cl or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group NH 2, NH (R 200), or N (R 201) (R 202), wherein R 200, R 201 and R 202 are the same or different, each independently being a C1 to C10 alkyl groups), amidino group, A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted alicyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted aryl group, A substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and a substituted or unsubstituted heterocyclic group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, "alkyl group" means C1 to C20 alkyl group, specifically C1 to C15 alkyl group, "cycloalkyl group" means C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 Refers to a C1 to C20 alkoxy group, specifically, a C1 to C18 alkoxy group, and an "aryl group" means a C6 to C20 aryl group, specifically, a C6 to C20 aryl group, Refers to a C 2 to C 20 alkenyl group, specifically, a C 2 to C 18 alkenyl group, and the "alkylene group" refers to a C 1 to C 20 alkylene group, specifically, a C1 Refers to a C6 to C20 arylene group, and specifically refers to a C6 to C16 arylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.(Meth) acrylate "refers to both" acrylic acid "and" methacrylic acid " It means both are possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.As used herein, unless otherwise defined, "combination" means mixing or copolymerization. "Copolymerization" means block copolymerization or random copolymerization, and "copolymer" means block copolymer or random copolymer.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in this specification, when no chemical bond is drawn at the position where the chemical bond should be drawn, it means that the hydrogen atom is bonded at the above position.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.Unless otherwise defined herein, "*" means the same or different atom or moiety connected to a formula.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 바인더 수지; (B) 양이온 및 음이온으로 구성되는 염료; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 염료는 감광성 수지 조성물 총량에 대해 15 중량% 내지 40 중량%로 포함되고, 상기 양이온은 하기 화학식 1로 표시된다. The photosensitive resin composition according to one embodiment comprises (A) a binder resin; (B) a dye consisting of a cation and an anion; (C) a photopolymerizable compound; (D) a photopolymerization initiator and (E) a solvent, wherein the dye is contained in an amount of 15% by weight to 40% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition, and the cation is represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00020
Figure pat00020

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1 내지 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,

R7은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 7 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

X는 -O-, -S- 또는 -NR8-(R8은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이다.X is -O-, -S- or -NR 8 - (R 8 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group).

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 양이온 및 음이온으로 구성되는 염료를 감광성 수지 조성물 총량에 대해 15 중량% 내지 40 중량%로 포함하는데, 상기 염료가 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 기존 착색제로 사용되는 화합물, 예컨대 트리아릴메탄 화합물을 대비, 우수한 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지며, 착색력 및 내열성이 우수하고, 사이클로헥사논, PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도도 우수해지게 된다. 특히, 상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 중심 탄소에 세 개의 고리가 연결되는데, 상기 세 개의 고리 중 하나의 고리가 시아노기를 포함하는 방향족 헤테로 고리를 가지므로, 상기 화학식 1로 표시되는 양이온 및 음이온으로 구성되는 염료를 상기 함량 범위로 포함하는 감광성 수지 조성물은 휘도, 내열성, 내화학성 및 내광성이 우수한 컬러필터를 제공할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment contains 15 to 40% by weight of a dye composed of a cation and an anion represented by the formula (1) based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the dye is included in the content range , A compound used as an existing colorant such as a triarylmethane compound, has excellent spectroscopic characteristics and a high molar extinction coefficient, is excellent in coloring power and heat resistance, and has excellent solubility in organic solvents such as cyclohexanone and PGMEA do. In particular, the cation represented by the formula (1) has three rings connected to the central carbon. Since one of the three rings has an aromatic heterocyclic ring containing a cyano group, the cation and anion Can provide a color filter excellent in luminance, heat resistance, chemical resistance, and light resistance.

이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Each component will be described in detail below.

(B) 염료(B) Dye

전술한 대로, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 양이온 및 음이온으로 구성되는 염료를 포함하며, 상기 양이온은 상기 화학식 1로 표시된다.As described above, the photosensitive resin composition according to one embodiment includes a dye composed of a cation and an anion, and the cation is represented by the above formula (1).

예컨대, 상기 X는 -O- 또는 -S- 일 수 있다.For example, X may be -O- or -S-.

예컨대, 상기 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기일 수 있다. For example, each of R 1 to R 4 may independently be a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

최근 고휘도를 가지면서, 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 컬러필터를 제조하기 위해서, 안료보다 내구성이 우수한 염료를 합성하고, 상기 염료를 포함하는 조성물을 이용하여, 컬러필터의 고휘도와 함께 내열성, 내광성 및 내화학성을 달성하는 연구가 활발하게 진행되고 있다. 특히, 상기 염료 중에서도 청색 염료로 알려진 트리아릴메탄 화합물을 이용한 연구가 많이 진행되고 있다. 상기 트리아릴메탄 염료는 420 nm 내지 450 nm의 파장범위에서 높은 휘도를 가지는 장점이 있으나, PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도가 좋지 않으며 내열성, 내광성, 내화학성 또한 좋지 않은 단점을 가진다. 약한 내열성 등을 극복하기 위해 트리아릴메탄 염료에 나프탈렌술폰산, 나프틸아민술폰산 등의 음이온을 이용하려는 시도가 있었으나, 내열성 등이 크게 개선되지는 않았다.In recent years, in order to produce a color filter excellent in heat resistance, light resistance, and chemical resistance while having a high luminance, a dye having excellent durability is prepared, and a composition containing the dye is used to produce a color filter having high brightness, heat resistance, And chemical resistance are being actively studied. Particularly, studies using triarylmethane compounds known as blue dyes among the above dyes have been carried out. The triarylmethane dye has an advantage that it has a high luminance in a wavelength range of 420 nm to 450 nm, but has a disadvantage in that it has poor solubility in an organic solvent such as PGMEA and has poor heat resistance, light resistance and chemical resistance. In order to overcome weak heat resistance, attempts have been made to use anions such as naphthalenesulfonic acid and naphthylamine sulfonic acid in triarylmethane dyes, but heat resistance and the like have not been greatly improved.

일 구현예에 따른 조성물에 포함되는 염료는 상기 화학식 1로 표시되는 양이온을 포함하여, 기존 착색제로 사용되는 염료 화합물, 예컨대 트리아릴메탄 화합물 대비, 우수한 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지며, 착색력, 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 사이클로헥사논, PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도도 우수하다. 특히, 일 구현예에 따른 조성물에 포함되는 염료는 중심 탄소에 세 개의 고리가 연결되는데, 상기 세 개의 고리 중 하나의 고리가 시아노기를 포함하는 방향족 헤테로 고리를 가지므로, 일 구현예에 따른 조성물은 고휘도와 함께 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 컬러필터를 제공할 수 있다.The dyes contained in the composition according to one embodiment have excellent spectroscopic characteristics and a high molar extinction coefficient as compared with dye compounds such as triarylmethane compounds used as conventional colorants, including cations represented by the formula (1) Heat resistance, light resistance, chemical resistance, and solubility in organic solvents such as cyclohexanone and PGMEA. In particular, the dye contained in the composition according to one embodiment has three rings linked to the central carbon, wherein one ring of the three rings has an aromatic heterocycle comprising a cyano group, Can provide a color filter excellent in heat resistance, light resistance, and chemical resistance together with high brightness.

예컨대, 상기 양이온은 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.For example, the cation may be represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure pat00021
Figure pat00021

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R9 및 R10은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 9 and R 10 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

R13은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 13 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

R14 내지 R17은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 14 to R 17 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

n1 내지 n4는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 0 ≤ n1+n2 ≤ 5 이고, 0 ≤ n3+n4 ≤ 5 이고,n1 to n4 each independently represent an integer of 0 to 5, 0? n1 + n2? 5, 0? n3 + n4? 5,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

예컨대, 상기 n1 내지 n4는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수일 수 있다.For example, n1 to n4 may each independently be an integer of 0 or 1.

예컨대, 상기 할로겐 원자는 F, Cl, Br 또는 I 일 수 있다.For example, the halogen atom may be F, Cl, Br or I.

예컨대, 상기 양이온은 하기 화학식 3 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.For example, the cation may be represented by any one selected from the group consisting of the following Chemical Formulas (3) to (7).

[화학식 3](3)

Figure pat00022
Figure pat00022

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

R18, R19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 , R 19 and R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00023
Figure pat00023

상기 화학식 4에서,In Formula 4,

R18 내지 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 to R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00024
Figure pat00024

상기 화학식 5에서,In Formula 5,

R18 및 R19는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 and R 19 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R27은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 27 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00025
Figure pat00025

상기 화학식 6에서,In Formula 6,

R18 및 R19는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 and R 19 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R27 및 R28은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 27 and R 28 are each independently a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

[화학식 7](7)

Figure pat00026
Figure pat00026

상기 화학식 7에서,In Formula 7,

R18, R19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 , R 19 and R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R22는 할로겐 원자이고,R 22 is a halogen atom,

R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R28은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 28 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

m은 0 내지 2의 정수이고,m is an integer of 0 to 2,

n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,

X는 -O- 또는 -S- 이다.X is -O- or -S-.

예컨대, 상기 양이온은 하기 화학식 3-1, 화학식 3-2, 화학식 4-1 내지 화학식 4-3, 화학식 5-1 내지 화학식 5-8, 화학식 6-1 내지 화학식 6-19 및 화학식 7-1 내지 화학식 7-17로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the cation may be represented by the following formulas (3-1), (3-2), (4-1) to (4-3), (5-1) to (5-8), (6-1) To (7-17), but the present invention is not limited thereto.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure pat00027
Figure pat00027

[화학식 3-2][Formula 3-2]

Figure pat00028
Figure pat00028

[화학식 4-1][Formula 4-1]

Figure pat00029
Figure pat00029

[화학식 4-2][Formula 4-2]

Figure pat00030
Figure pat00030

[화학식 4-3][Formula 4-3]

Figure pat00031
Figure pat00031

[화학식 5-1][Formula 5-1]

Figure pat00032
Figure pat00032

[화학식 5-2][Formula 5-2]

Figure pat00033
Figure pat00033

[화학식 5-3][Formula 5-3]

Figure pat00034
Figure pat00034

[화학식 5-4][Formula 5-4]

Figure pat00035
Figure pat00035

[화학식 5-5][Formula 5-5]

Figure pat00036
Figure pat00036

[화학식 5-6][Formula 5-6]

Figure pat00037
Figure pat00037

[화학식 5-7][Formula 5-7]

Figure pat00038
Figure pat00038

[화학식 5-8][Formula 5-8]

Figure pat00039
Figure pat00039

[화학식 6-1][Formula 6-1]

Figure pat00040
Figure pat00040

[화학식 6-2][Formula 6-2]

Figure pat00041
Figure pat00041

[화학식 6-3][Formula 6-3]

Figure pat00042
Figure pat00042

[화학식 6-4][Formula 6-4]

Figure pat00043
Figure pat00043

[화학식 6-5][Formula 6-5]

Figure pat00044
Figure pat00044

[화학식 6-6][Formula 6-6]

Figure pat00045
Figure pat00045

[화학식 6-7][Formula 6-7]

Figure pat00046
Figure pat00046

[화학식 6-8][Formula 6-8]

Figure pat00047
Figure pat00047

[화학식 6-9][Formula 6-9]

Figure pat00048
Figure pat00048

[화학식 6-10][Chemical Formula 6-10]

Figure pat00049
Figure pat00049

[화학식 6-11][Chemical Formula 6-11]

Figure pat00050
Figure pat00050

[화학식 6-12][Chemical Formula 6-12]

Figure pat00051
Figure pat00051

[화학식 6-13][Formula 6-13]

Figure pat00052
Figure pat00052

[화학식 6-14][Chemical Formula 6-14]

Figure pat00053
Figure pat00053

[화학식 6-15][Chemical Formula 6-15]

Figure pat00054
Figure pat00054

[화학식 6-16][Chemical Formula 6-16]

Figure pat00055
Figure pat00055

[화학식 6-17][Chemical Formula 6-17]

Figure pat00056
Figure pat00056

[화학식 6-18][Chemical Formula 6-18]

Figure pat00057
Figure pat00057

[화학식 6-19][Chemical Formula 6-19]

Figure pat00058
Figure pat00058

[화학식 7-1][Formula 7-1]

Figure pat00059
Figure pat00059

[화학식 7-2][Formula 7-2]

Figure pat00060
Figure pat00060

[화학식 7-3][Formula 7-3]

Figure pat00061
Figure pat00061

[화학식 7-4][Chemical Formula 7-4]

Figure pat00062
Figure pat00062

[화학식 7-5][Formula 7-5]

Figure pat00063
Figure pat00063

[화학식 7-6][Formula 7-6]

Figure pat00064
Figure pat00064

[화학식 7-7][Formula 7-7]

Figure pat00065
Figure pat00065

[화학식 7-8][Formula 7-8]

Figure pat00066
Figure pat00066

[화학식 7-9][Formula 7-9]

Figure pat00067
Figure pat00067

[화학식 7-10][Formula 7-10]

Figure pat00068
Figure pat00068

[화학식 7-11][Formula 7-11]

Figure pat00069
Figure pat00069

[화학식 7-12][Formula 7-12]

Figure pat00070
Figure pat00070

[화학식 7-13][Formula 7-13]

Figure pat00071
Figure pat00071

[화학식 7-14][Chemical Formula 7-14]

Figure pat00072
Figure pat00072

[화학식 7-15][Chemical Formula 7-15]

Figure pat00073
Figure pat00073

[화학식 7-16][Chemical Formula 7-16]

Figure pat00074
Figure pat00074

[화학식 7-17][Formula 7-17]

Figure pat00075
Figure pat00075

일 구현예에 따른 화합물은 음이온을 포함하며, 상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The compound according to an embodiment includes an anion, and the anion may be represented by any one selected from the group consisting of the following formulas (A) to (F), but is not limited thereto.

[화학식 A](A)

Figure pat00076
Figure pat00076

[화학식 B][Chemical Formula B]

Figure pat00077
Figure pat00077

[화학식 C]≪ RTI ID = 0.0 &

PW12O40 3 - PW 12 O 40 3 -

[화학식 D][Chemical Formula D]

SiW12O40 4 - SiW 12 O 40 4 -

[화학식 E](E)

CF3SO3 - CF 3 SO 3 -

[화학식 F][Chemical Formula F]

ClO4 - ClO 4 -

일 구현예에 따른 조성물에 포함되는 염료는 상기 화학식 1로 표시되는 양이온을 포함함으로써, 적은 양으로도 보다 선명한 색의 발현이 가능하여, 착색제로 사용 시 휘도나 명암비 등의 색특성이 우수한 디스플레이 소자의 제조가 가능하다. 예컨대, 상기 염료는 청색 염료, 예컨대 600 nm 내지 700 nm의 파장범위, 예컨대 630 nm 내지 670 nm의 파장범위, 예컨대 640 nm 내지 650 nm의 파장범위에서 최대 흡광도(λmax)를 가지는 염료일 수 있다. 예컨대, 상기 염료는 400 nm 내지 500 nm의 파장범위, 예컨대 420 nm 내지 450 nm의 파장범위, 예컨대 430 nm 내지 440 nm의 파장범위에서 최대 투과도(Tmax)를 가지는 염료일 수 있다. The dyes contained in the composition according to one embodiment include the cations represented by the formula (1), so that a clearer color can be expressed even in a small amount, and when the colorant is used as a colorant, . ≪ / RTI > For example, the dye may be a dye having a maximum absorbance (? Max ) in a blue dye, for example in the wavelength range of 600 nm to 700 nm, for example in the wavelength range of 630 nm to 670 nm, for example in the wavelength range of 640 nm to 650 nm . For example, the dye may be a dye having a maximum transmittance (T max ) in a wavelength range of 400 nm to 500 nm, for example, a wavelength range of 420 nm to 450 nm, for example, a wavelength range of 430 nm to 440 nm.

일반적으로, 염료는 컬러필터 내에 사용되는 구성성분 중 가장 고가의 구성성분이다. 그러므로, 원하는 효과, 예컨대 고휘도나 고명암비 등을 달성하기 위해서는 고가의 염료를 더 많이 사용해야 하기 때문에 생산 단가가 상승할 수 밖에 없었다. 그러나, 일 구현예에 따른 조성물에 포함되는 염료를 컬러필터 내 염료로 사용하는 경우, 적은 양으로도 고휘도, 고명암비 등의 우수한 색특성을 달성할 수 있어 생산 단가의 절감이 가능하다.In general, dyes are the most expensive component of the components used in color filters. Therefore, in order to achieve a desired effect, for example, a high luminance and a high contrast ratio, it is necessary to use more expensive dye, so that the production cost has to be increased. However, when the dye contained in the composition according to one embodiment is used as a dye in a color filter, it is possible to achieve excellent color characteristics such as high luminance and high contrast ratio in a small amount, thereby reducing the production cost.

상기 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 10 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 15 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위로 일 구현예에 따른 화합물이 포함될 경우 색재현율 및 휘도가 우수해질 뿐만 아니라, 내열성, 내광성 및 내화학성도 동시에 우수해진다. The dye may be contained in an amount of 10% by weight to 40% by weight, for example, 15% by weight to 30% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the compound according to one embodiment is included in the above range, not only color reproducibility and brightness are improved, but also heat resistance, light resistance and chemical resistance are simultaneously excellent .

(B') 안료(B ') pigment

예컨대, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수도 있다.For example, the photosensitive resin composition according to one embodiment may further include a pigment.

상기 안료는 청색 안료, 황색 안료, 녹색 안료, 적색 안료, 바이올렛 안료 또는 이들의 조합 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대 상기 안료는 안료분산액의 형태로 상기 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.The pigments may include, but are not limited to, blue pigments, yellow pigments, green pigments, red pigments, violet pigments, or combinations thereof. For example, the pigment may be included in the photosensitive resin composition in the form of a pigment dispersion.

상기 안료분산액은 고형분의 안료, 용제 및 상기 용제 내에 상기 안료를 균일하게 분산시키기 위한 분산제를 포함할 수 있다.The pigment dispersion may include a solid pigment, a solvent, and a dispersant for uniformly dispersing the pigment in the solvent.

상기 고형분의 안료는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 15 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.The solid pigment may be present in the pigment dispersion in an amount ranging from 1% to 20%, such as 8% to 20%, such as 15% to 20%, such as 8% to 15% 20% by weight, such as 10% by weight to 15% by weight.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산 염, 알킬아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the dispersing agent, a nonionic dispersing agent, an anionic dispersing agent, a cationic dispersing agent and the like can be used. Specific examples of the dispersing agent include polyalkylene glycols and esters thereof, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid Salts, alkylamide alkylene oxide adducts, and alkylamines. These may be used singly or in combination of two or more.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.DISPERBYK-161, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-160 and DISPERBYK-160 of BYK Co., -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 and the like; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400 and EFKA-450 of EFKA Chemical Co., Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 from Zeneka; Or Ajinomoto's PB711 and PB821.

상기 분산제는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 적절한 점도를 유지할 수 있어 감광성 수지 조성물의 분산성이 우수하며, 이로 인해 제품 적용 시 광학적, 물리적 및 화학적 품질을 유지할 수 있다.The dispersing agent may be contained in an amount of 1 to 20% by weight based on the total amount of the pigment dispersion. When the dispersing agent is contained within the above range, the dispersibility of the photosensitive resin composition can be maintained because an appropriate viscosity can be maintained, so that optical, physical and chemical quality can be maintained when the product is applied.

상기 안료분산액을 형성하는 용제로는 에틸렌글리콜 아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르 등을 사용할 수 있다. As the solvent for forming the pigment dispersion, ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, propylene glycol methyl ether and the like can be used.

상기 안료분산액은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 5 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 25 중량%로 포함될 수 있다.  상기 안료분산액이 상기 범위 내로 포함될 경우, 공정마진 확보에 유리하고, 색재현율 및 명암비가 우수해진다.The pigment dispersion may be contained in an amount of 5% by weight to 30% by weight, for example, 10% by weight to 25% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the pigment dispersion is contained within the above range, it is advantageous in securing a process margin and excellent color reproduction ratio and contrast ratio.

(A) 바인더 수지(A) Binder resin

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합일 수 있다.The binder resin may be an acrylic binder resin, a carcass binder resin, or a combination thereof.

상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.  The acrylic binder resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the first ethylenically unsaturated monomer, and may be a resin containing at least one acrylic repeating unit.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5% by weight to 50% by weight, for example, 10% by weight to 40% by weight based on the total amount of the acrylic binder resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, or vinylbenzyl methyl ether; (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth) acrylate; A vinyl cyanide compound such as (meth) acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide; These may be used singly or in combination of two or more.

상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 폴리벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic binder resin include polybenzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate (Meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, but are not limited thereto, and they may be used alone or in combination of two or more. Two or more kinds may be used in combination.

상기 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 10,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조 시 기판과의 밀착성이 우수하다.  The weight average molecular weight of the binder resin may be from 5,000 g / mol to 150,000 g / mol, such as from 5,000 g / mol to 50,000 g / mol, such as from 10,000 g / mol to 30,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the binder resin is within the above range, the photosensitive resin composition is excellent in physical and chemical properties, has an appropriate viscosity, and is excellent in adhesion with a substrate in the production of a color filter.

상기 바인더 수지의 산가는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g, 예컨대 90 mgKOH/g 내지 120 mgKOH/g 일 수 있다.  바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the binder resin may be 80 mgKOH / g to 130 mgKOH / g, such as 90 mgKOH / g to 120 mgKOH / g. When the acid value of the binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 25 중량%로 포함될 수 있다.  바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조 시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.The binder resin may be contained in an amount of 1 wt% to 30 wt%, for example, 10 wt% to 25 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is contained within the above range, the color filter is excellent in developing property and the crosslinking property is improved, whereby excellent surface smoothness can be obtained.

(C) (C) 광중합성Photopolymerization 화합물 compound

상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound may be a monofunctional or polyfunctional ester of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.

광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.By having the ethylenically unsaturated double bond, the photopolymerizable compound can form a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern formation step.

광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol monomethacrylate (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, novolac epoxy (meth) acrylate and the like.

광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다.  상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101?, 동 M-111?, 동 M-114? 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S?, 동 TC-120S? 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158?, V-2311? 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210?, 동 M-240?, 동 M-6200? 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA?, 동 HX-220?, 동 R-604? 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260?, V-312?, V-335 HP? 등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309?, 동 M-400?, 동 M-405?, 동 M-450?, 동 M-710?, 동 M-8030?, 동 M-8060? 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA?, 동 DPCA-20?, 동-30?, 동-60?, 동-120? 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295?, 동-300?, 동-360?, 동-GPT?, 동-3PA?, 동-400? 등을 들 수 있다.  상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of photopolymerizable compounds are as follows. The (meth) acrylic acid is one example of a polyfunctional ester, doah Gosei Kagaku Kogyo's (primary)社Aronix M-101? , Dong M-111 ? , M-114 ? Etc; KAYARAD TC-110S from Nihon Kayaku Co., Ltd. ? , The TC-120S ? Etc; V-158 of Osaka Yuzagaku Kogyo Co., Ltd. ? , V-2311 ? And the like. The (meth) transfer function of an example esters of acrylic acid are, doah Gosei Kagaku Kogyo's Aronix M-210 (Note) 社? , M-240 ? , M-6200 ? Etc; KAYARAD HDDA of Nihon Kayaku Co., Ltd. ? , Dong HX-220 ? , R-604 ? Etc; V-260 of Osaka Yuzagaku Kogyo Co., Ltd. ? , V-312 ? , V-335 HP ? And the like. The (meth) three examples of the polyfunctional ester of acrylic acid, doah Gosei are Aronix M-309 of Kagaku Kogyo (Note) 社? , M-400 ? , Dong M-405 ? , Dong M-450 ? , M-710 ? , M-8030 ? , M-8060 ? Etc; KAYARAD TMPTA of Nihon Kayaku Co., Ltd. ? , DPCA-20 ? , -30 ? , Dong-60 ? , -120 ? Etc; V-295 from Osaka Yukigaya Kogyo Co., Ltd. ? , -300 ? , -360 ? , Dong-GPT ? , Dong-3PA ? , -400 ? And the like. These products may be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable compound may be treated with an acid anhydride so as to give better developing properties.

상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.  광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.The photopolymerizable compound may be contained in an amount of 1 wt% to 15 wt%, for example, 5 wt% to 10 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is contained within the above-mentioned range, the pattern forming process sufficiently cures upon exposure to light, which is excellent in reliability and developability in an alkaline developer.

(D) (D) 광중합Light curing 개시제Initiator

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is an initiator generally used in a photosensitive resin composition, for example, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, a oxime compound, Can be used.

상기 아세토페논계의 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropanone, p-butyldichloroacetophenone, 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, '-Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2- Chlorothioxanthone and the like.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -Dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) , 2-biphenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, bis (trichloromethyl) -6-styryl- (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho-1-yl) -4,6-bis Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -s-triazine, and the like.

상기 옥심계 화합물의 예로는, O-아실옥심계 화합물, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime compounds include O-acyloxime compounds, 2- (o-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- ) -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, O-ethoxycarbonyl- Etc. may be used. Specific examples of the O-acyloxime-based compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin- (4-phenylsulfanylphenyl) -butane-1,2-dione 2-oxime-O-benzoate, 1- -Oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1-one oxime-O-acetate and 1- (4-phenylsulfanylphenyl) Acetate and the like.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, or a nonimidazole compound in addition to the above compounds.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used in combination with a photosensitizer that generates a chemical reaction by absorbing light to be in an excited state and transferring its energy.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate and the like .

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.05 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다.  광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be contained in an amount of 0.01 wt% to 10 wt%, for example, 0.05 wt% to 5 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, the photopolymerization initiator is sufficiently cured upon exposure in the pattern formation step to obtain excellent reliability, and the pattern is excellent in heat resistance, light resistance, chemical resistance, resolution and adhesion, It is possible to prevent the transmittance from being lowered.

(E) 용매(E) Solvent

상기 용매는 상기 염료, 상기 안료, 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 화합물 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may be a material that has compatibility with the dye, the pigment, the binder resin, the photopolymerizable compound, and the photopolymerization initiator but does not react.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisobutyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methylethylcarbitol, diethylcarbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl- ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Oxyacetic acid alkyl esters such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate and butyl oxyacetate; Alkoxyacetic acid alkyl esters such as methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, and ethyl ethoxyacetate; 3-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate; 2-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate and propyl 2-oxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-methylpropionic acid esters such as methyl 2-oxy-2-methylpropionate and ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy- Monooximonocarboxylic acid alkyl esters of 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyls such as ethyl methyl propionate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl hydroxyacetate and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; Ketone acid esters such as ethyl pyruvate, and the like, and also include N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, And high boiling solvents such as ethyl acetate, diethyl oxalate, diethyl maleate,? -Butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다.Among them, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and the like are preferably used in consideration of compatibility and reactivity; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate can be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 90 중량%, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 30 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다.  용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조 시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in an amount of 30% by weight to 90% by weight, such as 30% by weight to 80% by weight, such as 30% by weight to 70% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is contained within the above range, the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, and thus the processability in the production of the color filter is excellent.

(F) 기타 첨가제(F) Other additives

한편, 상기 감광성 수지 조성물은 에폭시 화합물, 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the photosensitive resin composition may further include additives such as an epoxy compound, malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, .

구체적으로, 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. Specifically, the photosensitive resin composition may further include an epoxy compound to improve adhesion with the substrate.

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include a phenol novolak epoxy compound, a tetramethylbiphenyl epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof.

상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다.  에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The epoxy compound may be contained in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, for example, 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the epoxy compound is contained within the above range, the adhesiveness and storage stability are excellent.

또한, 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란계 커플링제를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a silane-based coupling agent having reactive substituents such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, and an epoxy group in order to improve adhesion with a substrate.

상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane-based coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanate propyltriethoxysilane,? -Glycine (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. These may be used singly or in combination of two or more.

상기 실란계 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다.  실란 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is contained within the above range, the adhesion and storage stability are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. The above-mentioned photosensitive resin composition may further contain a surfactant for improving coatability and preventing defect formation if necessary.

상기 계면활성제의 예로는, BM Chemie社의 BM-1000?, BM-1100? 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D?, 동 F 172?, 동 F 173?, 동 F 183? 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135?, 동 FC-170C?, 동 FC-430?, 동 FC-431? 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112?, 동 S-113?, 동 S-131?, 동 S-141?, 동 S-145? 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA?, 동-190?, 동-193?, SZ-6032?, SF-8428? 등의 명칭으로 시판된고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.Examples of the surfactant include BM-1000 ? , BM-1100 ? Etc; Dai Nippon Ink Kagaku Kogyo Co., Ltd. Mecha Pack F 142D ? F 172 ? F 173 ? F 183 ? Etc; Prorad FC-135 from Sumitomo Sri M Co., Ltd. ? , FC-170C ? , FC-430 ? , FC-431 ? Etc; Saffron S-112 from Asahi Glass Co., Ltd. ? , S-113 ? , S-131 ? , S-141 ? , S-145 ? Etc; SH-28PA of Toray Silicone Co., Ltd. ? , -190 ? , -193 ? , SZ-6032 ? , SF-8428 ? And the like can be used as the fluorine-based surfactant.

상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다.  계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 part by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is contained within the above range, uniformity of coating is ensured, no staining occurs, and wetting of the glass substrate is excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.The photosensitive resin composition may contain a certain amount of other additives such as an antioxidant and a stabilizer within a range that does not impair the physical properties.

다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.According to another embodiment, there is provided a photosensitive resin film produced using the photosensitive resin composition according to one embodiment.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다. According to another embodiment, there is provided a color filter comprising the photosensitive resin film.

상기 컬러필터 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.The pattern forming process in the color filter is as follows.

상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판 상에 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건조하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다. Applying the photosensitive resin composition on a support substrate by spin coating, slit coating, inkjet printing or the like; Drying the applied photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition film; Exposing the photosensitive resin composition film; Developing the exposed photosensitive resin composition film with an aqueous alkali solution to produce a photosensitive resin film; And a step of heat-treating the photosensitive resin film. The process conditions and the like are well known in the art, and therefore, detailed description thereof will be omitted herein.

(( 실시예Example ))

(염료의 합성)(Synthesis of Dye)

합성예Synthetic example 1: 화학식 7-17-1로 표시되는 염료의 합성 1: Synthesis of dye represented by Formula 7-17-1

질소 분위기 하에서 둥근바닥 플라스크에 하기 화학식 1-2로 표시되는 화합물(1.03g, 2.1mmol) 및 하기 화학식 2-2로 표시되는 화합물(0.71g, 2.1mmol)을 넣은 후 toluene 5g과 POCl3(1.29g, 8.4mmol)을 더 첨가하고, 온도를 서서히 110℃로 올리며 5시간 동안 교반하였다. 반응이 종결되면 실온으로 온도를 낮춘 뒤 methyl ethyl ketone(MEK)로 추출하고 10% NaCl, 물 그리고 10% HCl로 각각 세정하였다. 유기층을 제거하고 건조시킨 뒤 Lithium bis(trifuloromethane)sulfon imide(1.2g, 4.2mmol)을 첨가하고 여기에 DMSO 10g을 넣고 30분간 실온에서 교반시켰다(anion exchange process). 상기 교반시킨 반응물을 물에 dropping 시켜 침전을 형성시키고, 이를 필터를 통해 분리하였다. 필터를 통해 분리해 낸 고체 화합물을 acetonitrile 40g에 녹인 후, 여기에 활성탄 3g을 넣어 30분간 교반시켰다. 필터를 통해 활성탄을 제거하고 여액은 증류를 통해 제거한 후 건조시켜 하기 화학식 7-17-1로 표시되는 화합물(1.90g, 83%)을 얻었다.After loading the compound (0.71g, 2.1mmol) represented by the following the round bottom flask under a nitrogen atmosphere, a compound (1.03g, 2.1mmol) and represented by the formula 1-2 Formula 2-2 5g toluene and POCl 3 (1.29 g, 8.4 mmol) was further added, and the temperature was gradually raised to 110 DEG C and stirred for 5 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to room temperature, extracted with methyl ethyl ketone (MEK), and washed with 10% NaCl, water and 10% HCl. After removal of the organic layer and drying, Lithium bis (trifluormethane) sulfonimide (1.2 g, 4.2 mmol) was added thereto, and 10 g of DMSO was added thereto and stirred at room temperature for 30 minutes (anion exchange process). The stirred reaction product was dropped into water to form a precipitate, which was separated through a filter. The solid compound separated through the filter was dissolved in 40 g of acetonitrile, and 3 g of activated carbon was added thereto, followed by stirring for 30 minutes. The activated carbon was removed through a filter, and the filtrate was removed by distillation and dried to obtain a compound represented by the following formula (7-17-1) (1.90 g, 83%).

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00078
Figure pat00078

[화학식 2-2][Formula 2-2]

Figure pat00079
Figure pat00079

[화학식 7-17-1][Formula 7-17-1]

Figure pat00080
Figure pat00080

1H NMR (solvent: CDCl3) 7.51-7.38(m, 12H), 7.20-7.03(m, 12H), 6.42(d, 4H), 4.52-4.45(m, 2H), 4.08(q, 2H), 1.38(t, 3H), 1.17(d, 12H) 1 H NMR (solvent: CDCl 3 ) 7.51-7.38 (m, 12H), 7.20-7.03 (m, 12H), 6.42 (d, 4H), 4.52-4.45 (m, 2H), 4.08 (q, 2H), 1.38 (t, 3 H), 1.17 (d, 12 H)

합성예Synthetic example 2: 화학식 7-14-1로 표시되는 염료의 합성 2: Synthesis of the dye represented by the formula 7-14-1

출발물질로 상기 화학식 1-2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 2-2로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2-1로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고 상기 합성예 1과 동일하게 진행하여, 하기 화학식 7-14-1로 표시되는 염료를 합성하였다.Except that the compound represented by Formula 1-1 and the compound represented by Formula 2-1 were used in place of the compound represented by Formula 1-2 and the compound represented by Formula 2-2 as starting materials, 1, a dye represented by the following formula (7-14-1) was synthesized.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00081
Figure pat00081

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure pat00082
Figure pat00082

[화학식 7-14-1][Formula 7-14-1]

Figure pat00083
Figure pat00083

1H NMR (solvent: CDCl3) 7.57-7.51(m, 3H), 7.45-7.26(m, 8H), 7.10-7.05(m, 9H), 6.50(bs, 4H), 4.13(q, 2H), 3.75(q, 4H), 1.41(t, 3H), 1.24(t, 6H) 1 H NMR (solvent: CDCl 3 ) 7.57-7.51 (m, 3H), 7.45-7.26 (m, 8H), 7.10-7.05 (m, 9H), 6.50 (bs, 4H), 4.13 (q, 2H), 3.75 (q, 4H), 1.41 (t, 3H), 1.24 (t, 6H)

(감광성 수지 조성물 제조)(Preparation of photosensitive resin composition)

실시예Example 1 One

하기 표 1에 기재된 조성으로, 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1 내지 비교예 4에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 바인더 수지 및 광중합성 단량체를 첨가하고, 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 염료를 첨가(경우에 따라서는 안료분산액을 첨가)한 후, 1시간 동안 상온에서 교반하고, 기타 첨가제(계면활성제)를 첨가하고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다. The photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 were prepared with the compositions shown in Table 1 below. Specifically, a photopolymerization initiator was dissolved in a solvent, followed by stirring at room temperature for 2 hours. To this, a binder resin and a photopolymerizable monomer were added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The dye was added thereto (in some cases, the pigment dispersion was added), stirred at room temperature for 1 hour, and other additives (surfactant) were added and stirred at room temperature for 1 hour. The solution was filtered three times to remove impurities to prepare a photosensitive resin composition.

(단위: 중량%)(Unit: wt%) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 (A) 바인더 수지(A) Binder resin 1010 1010 1010 1010 1010 1010 1010 (C) 광중합성 화합물(C) Photopolymerizable compound 6.56.5 6.56.5 6.56.5 6.56.5 6.56.5 6.56.5 6.56.5 (D) 광중합 개시제(D) a photopolymerization initiator 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.40.4 (B) 착색제(B) Colorant 염료 (B-1)The dye (B-1) 3333 -- 2020 -- -- 55 4545 염료 (B-2)The dye (B-2) -- 3333 -- -- -- -- -- 염료 (B-3)The dye (B-3) -- -- -- 3333 -- -- -- 안료 (B'-1)The pigment (B'-1) -- -- -- -- 3333 -- -- (E) 용매(E) Solvent 49.849.8 49.849.8 62.862.8 49.849.8 49.849.8 72.872.8 37.837.8 (F) 기타 첨가제(F) Other additives 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 TotalTotal 100.0100.0 100.0100.0 100.0100.0 100.0100.0 100.0100.0 100.0100.0 100.0100.0

(A) 바인더 수지(A) Binder resin

아크릴계 바인더 수지 (메타크릴산/벤질메타크릴레이트 = 15/85 (w/w), 중량평균 분자량 = 22,000g/mol, 산가 = 100 mgKOH/g)  (Methacrylic acid / benzyl methacrylate = 15/85 (w / w), weight average molecular weight = 22,000 g / mol, acid value = 100 mgKOH / g)

(B) 염료(B) Dye

(B-1) 화학식 7-17-1로 표시되는 염료 (B-1) a dye represented by the formula (7-17-1)

(B-2) 화학식 7-14-1로 표시되는 염료 (B-2) a dye represented by the formula (7-14-1)

(B-3) 하기 화학식 18로 표시되는 염료 (Win-chemical社, Brilliant Blue FG) (B-3) a dye (Win-chemical, Brilliant Blue FG) represented by the following formula (18)

[화학식 18] [Chemical Formula 18]

Figure pat00084
Figure pat00084

(B') 안료(B ') pigment

(B'-1) B 15:6 안료분산액 (Sanyo社) (B'-1) B 15: 6 Pigment dispersion (Sanyo)

(C) (C) 광중합성Photopolymerization 화합물 compound

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA) Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA)

(D) (D) 광중합Light curing 개시제Initiator

옥심계 개시제 (BASF社, OXE-01) Oxime initiator (BASF, OXE-01)

(E) 용매(E) Solvent

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 (PGMEA) Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

(F) 기타 첨가제(F) Other additives

불소계 계면활성제 (DIC社, F-554(10% 희석액 사용)) Fluorine-based surfactant (DIC, F-554 (using 10% diluent))

(평가)(evaluation)

평가 1: 휘도 및 내열성 평가Evaluation 1: Evaluation of luminance and heat resistance

코팅 기기(Mikasa社, Opticoat MS-A150)를 사용하여 상기 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1 내지 비교예 4에서 얻어진 감광성 수지 조성물마다 일정 두께를 나타낼 수 있는 rpm으로 코팅을 진행한 후, 90℃ 열판(hot-plate)에서 사전 굽기(PSB 전)를 진행하였다. 이후, 노광기(Ushio社, HB-50110AA)에서 50mJ/cm2 의 노광 조건으로 전면노광을 진행하고, 오븐 조건으로 230℃에서 30분간 굽기(PSB 후)를 진행하여, 박막 시편 제작을 완료하였다. 오븐굽기 전후로 MCPD 3000 장비를 이용하여 색좌표 및 휘도(Y)를 측정하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었고, 상기 색좌표 값의 PSB 전후 변경값을 기준으로 del(E*) 값을 계산하여 내열성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.Coating was carried out at rpm which can exhibit a certain thickness for each of the photosensitive resin compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 by using a coating machine (Mikasa, Opticoat MS-A150) Pre-baking (before PSB) was performed on a hot-plate at 90 ° C. Thereafter, the entire surface of the substrate was exposed using an exposure machine (Ushio, HB-50110AA) under an exposure condition of 50 mJ / cm 2 , and baked at 230 ° C for 30 minutes (after PSB) under oven conditions. The color coordinates and the luminance (Y) were measured using an MCPD 3000 apparatus before and after the oven baking, and the results are shown in Table 2. The del (E *) values were calculated based on the change values before and after the PSB of the chromaticity coordinates, The results are shown in Table 3 below.

평가 2: Evaluation 2: 내광성Light resistance 및 내화학성 평가 And chemical resistance evaluation

내광 특성 측정을 위하여, 상기 평가 1의 박막 시편을 xenon lamp (0.68W 세기)로 60℃에서 2시간 노광을 진행한 후, MCPD 3000 장비를 이용하여 색좌표를 측정하고, 상기 색좌표 값의 PSB 전후 변경값을 기준으로 del(E*) 값으로 환산하여 내광성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.For the measurement of the resistance to light, the thin film specimen of Evaluation 1 was exposed for 2 hours at 60 DEG C with a xenon lamp (0.68 W intensity), and the color coordinates were measured using an MCPD 3000 apparatus. (E *) values were evaluated based on the values, and the results are shown in Table 3 below.

평가 3: 내화학성 평가Evaluation 3: Chemical resistance evaluation

내화학 특성 측정을 위하여, 상기 평가 1의 박막 시편을, 상온에서 N-메틸피롤리돈(NMP)에 10분 동안 침지시킨 후 꺼내고 건조시켰다. 이 후, MCPD 3000 장비를 이용하여 색좌표를 측정하고, 상기 색좌표 값의 PSB 전후 변경값을 기준으로 del(E*) 값으로 환산하여 내화학성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.For measurement of the chemical resistance, the thin film specimen of Evaluation 1 was immersed in N-methylpyrrolidone (NMP) at room temperature for 10 minutes, and then taken out and dried. Thereafter, color coordinates were measured using an MCPD 3000 instrument, and the chemical resistance was evaluated by converting the color coordinate values into del (E *) values based on the change values before and after the PSB. The results are shown in Table 3 below.

StepStep YY 실시예 1Example 1 PSB 전PSB I 12.1212.12 PSB 후After PSB 12.0712.07 실시예 2Example 2 PSB 전PSB I 12.2512.25 PSB 후After PSB 12.1812.18 실시예 3Example 3 PSB 전PSB I 12.1112.11 PSB 후After PSB 12.0212.02 비교예 1Comparative Example 1 PSB 전PSB I 10.8510.85 PSB 후After PSB 10.3610.36 비교예 2Comparative Example 2 PSB 전PSB I 11.3111.31 PSB 후After PSB 10.2210.22 비교예 3Comparative Example 3 PSB 전PSB I 11.7411.74 PSB 후After PSB 11.2011.20 비교예 4Comparative Example 4 PSB 전PSB I 10.2310.23 PSB 후After PSB 9.989.98

내열성Heat resistance 내광성Light resistance 내화학성Chemical resistance 실시예 1Example 1 1.721.72 1.871.87 2.732.73 실시예 2Example 2 1.311.31 1.71.7 2.872.87 실시예 3Example 3 1.451.45 1.831.83 2.782.78 비교예 1Comparative Example 1 2.352.35 0.670.67 2.892.89 비교예 2Comparative Example 2 4.014.01 11.3711.37 20.6820.68 비교예 3Comparative Example 3 1.761.76 1.901.90 2.942.94 비교예 4Comparative Example 4 1.991.99 1.921.92 2.982.98

상기 표 2 및 표 3을 통하여, 상기 실시예 1 내지 실시예 3에 따른 감광성 수지 조성물은 비교예 1 내지 비교예 4에 따른 감광성 수지 조성물보다 휘도, 내열성 및 내화학성이 우수하면서, 동시에 우수한 내광 특성까지 가짐을 확인할 수 있다. Through the Tables 2 and 3, the photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 3 were superior in brightness, heat resistance, and chemical resistance to the photosensitive resin compositions according to Comparative Examples 1 to 4, As shown in Fig.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the following claims. As will be understood by those skilled in the art. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (18)

(A) 바인더 수지;
(B) 양이온 및 음이온으로 구성되는 염료;
(C) 광중합성 화합물;
(D) 광중합 개시제 및
(E) 용매를 포함하고,
상기 염료는 감광성 수지 조성물 총량에 대해 10 중량% 내지 40 중량%로 포함되고,
상기 양이온은 하기 화학식 1로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00085

상기 화학식 1에서,
R1 내지 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,
R7은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
X는 -O-, -S- 또는 -NR8-(R8은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이다.
(A) a binder resin;
(B) a dye consisting of a cation and an anion;
(C) a photopolymerizable compound;
(D) a photopolymerization initiator and
(E) a solvent,
The dye is contained in an amount of 10 to 40% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition,
Wherein the cation is represented by the following formula (1): < EMI ID =
[Chemical Formula 1]
Figure pat00085

In Formula 1,
R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,
R 7 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
X is -O-, -S- or -NR 8 - (R 8 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group).
제1항에 있어서,
상기 X는 -O- 또는 -S-인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein X is -O- or -S-.
제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein each of R 1 to R 4 is independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.
제1항에 있어서,
상기 양이온은 하기 화학식 2로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 2]
Figure pat00086

상기 화학식 2에서,
R9 및 R10은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
R13은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
R14 내지 R17은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
n1 내지 n4는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 0 ≤ n1+n2 ≤ 5 이고, 0 ≤ n3+n4 ≤ 5 이고,
X는 -O- 또는 -S- 이다.
The method according to claim 1,
Wherein the cation is represented by the following formula (2): < EMI ID =
(2)
Figure pat00086

In Formula 2,
R 9 and R 10 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
R 13 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
R 14 to R 17 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
n1 to n4 each independently represent an integer of 0 to 5, 0? n1 + n2? 5, 0? n3 + n4? 5,
X is -O- or -S-.
제1항에 있어서,
상기 양이온은 하기 화학식 3 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 3]
Figure pat00087

(상기 화학식 3에서,
R18, R19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R22는 할로겐 원자이고,
R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
m은 0 내지 2의 정수이고,
n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
X는 -O- 또는 -S- 이다)
[화학식 4]
Figure pat00088

(상기 화학식 4에서,
R18 내지 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R22는 할로겐 원자이고,
R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
m은 0 내지 2의 정수이고,
n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
X는 -O- 또는 -S- 이다)
[화학식 5]
Figure pat00089

(상기 화학식 5에서,
R18 및 R19는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R22는 할로겐 원자이고,
R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R27은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
m은 0 내지 2의 정수이고,
n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
X는 -O- 또는 -S- 이다)
[화학식 6]
Figure pat00090

(상기 화학식 6에서,
R18 및 R19는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R22는 할로겐 원자이고,
R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R27 및 R28은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
m은 0 내지 2의 정수이고,
n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
X는 -O- 또는 -S- 이다)
[화학식 7]
Figure pat00091

(상기 화학식 7에서,
R18, R19 및 R21은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R22는 할로겐 원자이고,
R23 내지 R26은 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R28은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
m은 0 내지 2의 정수이고,
n5 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고,
X는 -O- 또는 -S- 이다)
The method according to claim 1,
Wherein the cation is represented by any one of the following formulas (3) to (7).
(3)
Figure pat00087

(3)
R 18 , R 19 and R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 22 is a halogen atom,
R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
m is an integer of 0 to 2,
n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,
X is -O- or -S-)
[Chemical Formula 4]
Figure pat00088

(In the formula 4,
R 18 to R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 22 is a halogen atom,
R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
m is an integer of 0 to 2,
n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,
X is -O- or -S-)
[Chemical Formula 5]
Figure pat00089

(In the above formula (5)
R 18 and R 19 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 22 is a halogen atom,
R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R 27 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
m is an integer of 0 to 2,
n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,
X is -O- or -S-)
[Chemical Formula 6]
Figure pat00090

(6)
R 18 and R 19 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 22 is a halogen atom,
R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R 27 and R 28 are each independently a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
m is an integer of 0 to 2,
n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,
X is -O- or -S-)
(7)
Figure pat00091

(In the above formula (7)
R 18 , R 19 and R 21 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 22 is a halogen atom,
R 23 to R 26 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R 28 is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
m is an integer of 0 to 2,
n5 to n8 each independently represent an integer of 0 or 1,
X is -O- or -S-)
제1항에 있어서,
상기 양이온은 하기 화학식 5-3, 화학식 5-4, 화학식 5-5, 화학식 5-6, 화학식 7-6, 화학식 7-8, 화학식 7-10, 화학식 7-12, 화학식 7-14 및 화학식 7-17로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 5-3]
Figure pat00092

[화학식 5-4]
Figure pat00093

[화학식 5-5]
Figure pat00094

[화학식 5-6]
Figure pat00095

[화학식 7-6]
Figure pat00096

[화학식 7-8]
Figure pat00097

[화학식 7-10]
Figure pat00098

[화학식 7-12]
Figure pat00099

[화학식 7-14]
Figure pat00100

[화학식 7-17]
Figure pat00101

The method according to claim 1,
The cations are represented by the following formulas (5-3), (5-4), (5-5), (5-6), (7-6), (7-8), (7-10), (7-12) 7-17. ≪ / RTI >
[Formula 5-3]
Figure pat00092

[Formula 5-4]
Figure pat00093

[Formula 5-5]
Figure pat00094

[Formula 5-6]
Figure pat00095

[Formula 7-6]
Figure pat00096

[Formula 7-8]
Figure pat00097

[Formula 7-10]
Figure pat00098

[Formula 7-12]
Figure pat00099

[Chemical Formula 7-14]
Figure pat00100

[Formula 7-17]
Figure pat00101

제1항에 있어서,
상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 A]
Figure pat00102

[화학식 B]
Figure pat00103

[화학식 C]
PW12O40 3 -
[화학식 D]
SiW12O40 4 -
[화학식 E]
CF3SO3 -
[화학식 F]
ClO4 -
The method according to claim 1,
Wherein the anion is represented by any one of the following formulas (A) to (F).
(A)
Figure pat00102

[Chemical Formula B]
Figure pat00103

≪ RTI ID = 0.0 &
PW 12 O 40 3 -
[Chemical Formula D]
SiW 12 O 40 4 -
(E)
CF 3 SO 3 -
[Chemical Formula F]
ClO 4 -
제1항에 있어서,
상기 염료는 청색 염료인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the dye is a blue dye.
제1항에 있어서,
상기 염료는 600 nm 내지 700 nm의 파장범위에서 최대 흡광도(λmax)를 가지는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the dye has a maximum absorbance (? Max ) in a wavelength range of 600 nm to 700 nm.
제1항에 있어서,
상기 염료는 화합물은 400 nm 내지 500 nm의 파장범위에서 최대 투과도(Tmax)를 가지는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the dye has a maximum transmittance (T max ) in a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the photosensitive resin composition further comprises a pigment.
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 5,000 g/mol 내지 15,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The binder resin has a weight average molecular weight of 5,000 g / mol to 15,000 g / mol.
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g의 산가를 가지는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the binder resin has an acid value of 80 mgKOH / g to 130 mgKOH / g.
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the binder resin comprises an acrylic binder resin, a carcass binder resin or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해
상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%;
상기 (B) 염료 10 중량% 내지 40 중량%;
상기 (C) 광중합성 화합물 1 중량% 내지 15 중량%;
상기 (D) 광중합 개시제 0.01 중량% 내지 10 중량% 및
상기 (E) 용매 잔부량
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The above-mentioned photosensitive resin composition is preferably used in an amount of
1 to 30% by weight of the binder resin (A);
10% to 40% by weight of the dye (B);
1 to 15% by weight of the (C) photopolymerizable compound;
0.01 to 10% by weight of the photopolymerization initiator (D)
The amount of the solvent (E)
.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 에폭시 화합물, 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the photosensitive resin composition further comprises an additive of an epoxy compound, malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator or a combination thereof.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막.
A photosensitive resin film produced by using the photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 16.
제17항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.A color filter comprising the photosensitive resin film of claim 17.
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