KR20170031329A - Supporting Apparatus for Laminator and Laminator - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an apparatus for supporting a laminator, comprising a curved support surface on which an object to be treated is placed, and a heating unit for heating the object to be treated placed on the support surface, and to a laminator. The apparatus for supporting a laminator can increase uniformity with respect to heat transferred to the object to be treated.

Description

라미네이터용 지지장치 및 라미네이터{Supporting Apparatus for Laminator and Laminator}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a supporting apparatus and a laminator for a laminator,

본 발명은 피처리체를 합착하는데 이용되는 라미네이터용 지지장치 및 라미네이터에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminator supporting device and a laminator used for attaching an object to be processed.

라미네이터(Laminator)는 디스플레이장치, 태양전지 등과 같은 전자제품을 제조하는 과정에서 피처리체를 합착(Lamination)하는데 이용되는 설비이다. 예컨대, 피처리체는 복수개의 기판이 적층된 것일 수 있다. 이 경우, 상기 라미네이터는 복수개의 기판을 합착하는 합착공정을 수행할 수 있다.A laminator is a facility used to laminate an object to be processed in the process of manufacturing an electronic product such as a display device or a solar cell. For example, the object to be processed may be a laminate of a plurality of substrates. In this case, the laminator may perform a laminating process for laminating a plurality of substrates.

도 1은 종래 기술에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a supporting device for a laminator according to the prior art.

도 1을 참고하면, 종래 기술에 따른 라미네이터용 지지장치(100)는 상기 피처리체(10)를 가열하기 위한 가열부(110)를 포함한다. 상기 가열부(110)는 상기 피처리체(10)를 지지한 상태에서 상기 피처리체(10)를 가열한다. 이에 따라, 종래 기술에 따른 라미네이터용 지지장치(100)는 상기 피처리체(10)를 합착하는 합착공정을 수행할 수 있다.Referring to FIG. 1, a supporting apparatus 100 for a laminator according to the related art includes a heating unit 110 for heating the object to be processed 10. The heating unit 110 heats the object to be processed 10 while holding the object 10 to be processed. Accordingly, the supporting device 100 for a laminator according to the related art can perform a cohesive process of attaching the object to be processed 10.

상기 가열부(110)는 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 지지면(111)이 평면(平面)을 이루도록 형성된다. 이에 따라, 상기 피처리체(10)가 복수개의 곡면 기판이 적층된 것이면, 상기 피처리체(10)는 외측 부분이 상기 지지면(111)으로부터 이격되고 중앙 부분이 상기 지지면(111)에 접촉된 상태로 상기 지지면(111)에 지지되게 된다. 따라서, 상기 가열부(110)는 상기 피처리체(10)의 외측 부분에 비해 중앙 부분에 더 많은 열을 전달되게 되므로, 상기 피처리체(10)를 전체적으로 균일하게 가열할 수 없다. 이에 따라, 종래 기술에 따른 라미네이터용 지지장치(100)는 상기 피처리체(10)에 대해 왜곡 발생, 기포 발생, 크랙 발생 등과 같은 불량을 유발함에 따라 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 저하시키는 문제가 있다.The heating unit 110 is formed such that the supporting surface 111 for supporting the object to be processed 10 is flat. Accordingly, if the object to be processed 10 is a laminate of a plurality of curved substrates, the object to be processed 10 has an outer portion separated from the supporting surface 111 and a central portion contacting the supporting surface 111 And is supported on the support surface 111 in a state of being in a state of being supported. Therefore, since the heating unit 110 transmits more heat to the center portion than the outer portion of the object to be processed 10, the object to be processed 10 can not be uniformly heated as a whole. Accordingly, since the conventional laminator supporting apparatus 100 causes defects such as occurrence of distortion, bubbles, cracks, and the like with respect to the object 10 to be processed, the quality of the quality of the object 10 .

또한, 상기 피처리체(10)는 전자제품의 종류, 성능 등과 같은 사양에 따라 다양한 크기로 제조된다. 이에 따라, 종래 기술에 따른 라미네이터용 지지장치(100)는 상기 피처리체(10)가 더 큰 크기로 제조된 것으로 변경된 경우, 변경된 피처리체(10)의 크기에 맞게 상기 가열부(110)가 새롭게 제작되어야 하므로, 공정 비용을 상승시키는 문제가 있다.In addition, the object to be processed 10 is manufactured in various sizes according to specifications such as kinds, performances and the like of electronic products. Accordingly, in the conventional laminator supporting apparatus 100, when the object to be processed 10 is changed to a larger size, the heating unit 110 is newly provided in accordance with the size of the changed object 10 There is a problem of raising the process cost.

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 피처리체에 전달되는 열에 대한 균일성을 향상시킬 수 있는 라미네이터용 지지장치 및 라미네이터를 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a laminator holding device and a laminator which can improve the uniformity of heat transmitted to an object to be processed.

본 발명은 피처리체의 크기 변경에 따른 대응력을 향상시킬 수 있는 라미네이터용 지지장치 및 라미네이터를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a laminator holding device and a laminator which can improve a responsiveness according to a size change of an object to be processed.

본 발명은 상기와 같은 과제를 해결하기 위해서, 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다.In order to solve the above problems, the present invention can include the following configuration.

본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치는 곡면을 이루는 피처리체를 지지하기 위해 곡면을 이루며 형성된 지지면을 포함하고, 상기 피처리체에 대한 합착공정을 수행하기 위해 상기 피처리체를 가열하는 가열부; 및 상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 가열부에 결합되는 확장부를 포함할 수 있다. 상기 가열부는 상기 피처리체를 지지하기 위한 제1지지부재, 및 제1축방향을 따라 상기 제1지지부재로부터 이격되게 배치되는 제2지지부재를 포함할 수 있다. 상기 확장부는 상기 제1축방향을 기준으로 상기 지지면의 크기를 확장시키기 위해 상기 제1지지부재와 상기 제2지지부재의 사이에 배치되는 제1확장부재를 포함할 수 있다.A supporting apparatus for a laminator according to the present invention includes a heating unit including a curved supporting surface for supporting a curved object to be processed, and heating the object to be processed to perform a laminating process on the object to be processed; And an extension portion coupled to the heating portion to adjust the size of the support surface. The heating section may include a first support member for supporting the object to be processed, and a second support member spaced apart from the first support member along the first axis direction. The extension portion may include a first extension member disposed between the first support member and the second support member to expand the size of the support surface with respect to the first axis direction.

본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치는 곡면을 이루는 피처리체를 지지하기 위해 곡면을 이루며 형성된 지지면을 포함하고, 상기 피처리체에 대한 합착공정을 수행하기 위해 상기 피처리체를 가열하는 가열부; 및 상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 가열부에 결합되는 확장부를 포함할 수 있다. 상기 가열부는 상기 피처리체를 지지하기 위한 N개(N은 1보다 큰 정수)의 지지부재를 포함할 수 있다. 상기 확장부는 상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 지지부재들 사이에 배치되는 M개(M은 0보다 큰 정수)의 확장부재를 포함할 수 있다.A supporting apparatus for a laminator according to the present invention includes a heating unit including a curved supporting surface for supporting a curved object to be processed, and heating the object to be processed to perform a laminating process on the object to be processed; And an extension portion coupled to the heating portion to adjust the size of the support surface. The heating section may include N (N is an integer greater than 1) supporting members for supporting the object to be processed. The extension may include M (M is an integer greater than 0) extension members disposed between the support members to adjust the size of the support surface.

본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치는 곡면을 이루는 피처리체에 대한 합착공정을 수행하기 위해 상기 피처리체를 가열하는 N개(N은 1보다 큰 정수)의 지지부재; 상기 지지부재들 사이에 배치되는 M개(M은 0보다 큰 정수)의 확장부재; 및 상기 N개의 지지부재 및 상기 M개의 확장부재 상에 위치하여 상기 지지부재들로부터 제공되는 열을 상기 피처리체에 전달하는 전달부를 포함할 수 있다. 상기 전달부는 상기 피처리체에 접촉되는 전달면을 포함할 수 있다. 상기 전달면은 상기 피처리체가 이루는 곡면에 대응되는 곡면을 이루도록 형성될 수 있다.A supporting device for a laminator according to the present invention comprises: N supporting members (N is an integer greater than 1) for heating the object to be processed to perform a laminating process on a curved object to be processed; M extension members (M is an integer larger than 0) disposed between the support members; And a transfer unit located on the N support members and the M extension members to transfer heat provided from the support members to the object to be processed. The transfer portion may include a transfer surface contacting the object to be processed. The transfer surface may be formed to have a curved surface corresponding to a curved surface formed by the object to be processed.

본 발명에 따른 라미네이터는 피처리체를 합착하는 라미네이터로서, 상기 피처리체가 놓여지는 곡면 형상의 지지면; 및 상기 지지면을 포함하며, 상기 지지면에 놓여진 피처리체를 직접 또는 간접으로 가열하기 위한 가열부를 포함할 수 있다.A laminator according to the present invention is a laminator for attaching an object to be processed, the laminator comprising: a curved support surface on which the object to be processed is placed; And a heating unit including the supporting surface and directly or indirectly heating the object placed on the supporting surface.

본 발명에 따르면, 다음과 같은 효과를 도모할 수 있다.According to the present invention, the following effects can be achieved.

본 발명은 피처리체에 전달되는 열에 대한 균일성을 향상시킬 수 있도록 구현됨으로써, 피처리체에 발생하는 온도 편차에 기인한 왜곡 발생, 기포 발생, 크랙 발생 등과 같은 불량을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 합착공정이 완료된 피처리체에 대한 품질을 향상시킬 수 있다.The present invention is embodied so as to improve the uniformity of heat transmitted to an object to be processed, so that it is possible to reduce defects such as generation of distortion, generation of bubbles and cracks due to a temperature deviation occurring in the object to be processed, The quality of the processed object can be improved.

본 발명은 전자제품의 종류, 성능 등과 같은 사양에 따라 피처리체의 크기가 변경되는 경우, 피처리체의 크기 변경에 따른 대응력을 향상시킬 수 있고, 합착공정에 대한 공정 비용을 절감하는데 기여할 수 있다.When the size of an object to be processed is changed according to a specification such as the type and performance of an electronic product, it is possible to improve the responsiveness according to the size change of the object to be processed, and to contribute to the reduction of the process cost for the adhesion process.

도 1은 종래 기술에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 단면도
도 2는 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 사시도
도 3은 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치를 도 2의 I-I 선을 기준으로 나타낸 개략적인 단면도
도 4 및 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도
도 6 및 도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치를 도 2의 I-I 선을 기준으로 나타낸 개략적인 단면도
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도
도 9은 본 발명의 제3실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도
도 10은 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도
도 11은 본 발명에 따른 라미네이터의 개략적인 단면도
1 is a schematic cross-sectional view of a support device for a laminator according to the prior art
2 is a schematic perspective view of a laminator support apparatus according to the present invention.
3 is a schematic sectional view of the supporting device for a laminator according to the present invention,
4 and 5 are schematic plan views of a laminator supporting apparatus according to a first embodiment of the present invention
6 and 7 are schematic cross-sectional views of the supporting device for a laminator according to the first embodiment of the present invention,
8 is a schematic plan view of a supporting device for a laminator according to a second embodiment of the present invention
9 is a schematic plan view of a supporting device for a laminator according to a third embodiment of the present invention
10 is a schematic plan view of a laminator support apparatus according to a modified embodiment of the present invention
11 is a schematic cross-sectional view of a laminator according to the present invention

이하에서는 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of a support device for a laminator according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치를 도 2의 I-I 선을 기준으로 나타낸 개략적인 단면도이다.FIG. 2 is a schematic perspective view of a supporting device for a laminator according to the present invention, and FIG. 3 is a schematic sectional view showing a supporting device for a laminator according to the present invention, with reference to line I-I in FIG.

도 2 및 도 3을 참고하면, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 피처리체(10, 도 3에 도시됨)에 대한 합착공정을 수행하는 라미네이터(미도시)에 설치되는 것이다. 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 라미네이터에서 상기 피처리체(10)가 합착되도록 상기 피처리체(10)를 가열하는 기능을 담당한다. 상기 피처리체(10)는 디스플레이장치, 태양전지 등과 같은 전자제품을 제조하기 위한 것이다. 예컨대, 상기 피처리체(10)는 복수개의 기판이 적층된 것일 수 있다. 이 경우, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 복수개의 기판이 합착되도록 상기 피처리체(10)를 가열한다. 예컨대, 상기 피처리체(10)는 기판, 필름 등이 적층된 것일 수도 있다. 이 경우, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 기판, 필름 등이 합착되도록 상기 피처리체(10)를 가열한다.2 and 3, a supporting device 1 for a laminator according to the present invention is installed in a laminator (not shown) for performing a laminating process on an object to be processed 10 (shown in Fig. 3). The supporting device 1 for a laminator according to the present invention has a function of heating the object to be processed 10 so that the object to be processed 10 is adhered to the laminator. The object to be processed 10 is for manufacturing an electronic product such as a display device, a solar cell or the like. For example, the object to be processed 10 may be a stack of a plurality of substrates. In this case, the supporting apparatus 1 for a laminator according to the present invention heats the object to be processed 10 so that a plurality of substrates are adhered to each other. For example, the object to be processed 10 may be a substrate, a film, or the like. In this case, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention heats the object to be processed 10 so that a substrate, a film,

본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)를 가열하기 위한 가열부(2), 및 상기 가열부(2)에 결합되는 확장부(3)를 포함한다. 상기 가열부(2)는 상기 피처리체(10)를 지지하기 위해 곡면을 이루며 형성된 지지면(2a, 도 2에 도시됨), 및 복수개의 지지부재(20)를 포함한다. 상기 확장부(3)는 상기 가열부(2)에 결합되는 확장부재(30)를 포함한다. 상기 확장부재(30)는 상기 지지부재(20)들 사이에 배치된다. 이에 따라, 상기 확장부(3)는 상기 가열부(2)의 크기를 확장시킴으로써, 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다.The supporting device 1 for a laminator according to the present invention includes a heating part 2 for heating the object to be processed 10 and an extension part 3 coupled to the heating part 2. [ The heating section 2 includes a support surface 2a (shown in Fig. 2) formed in a curved shape to support the object to be processed 10, and a plurality of support members 20. The expansion part (3) includes an expansion member (30) coupled to the heating part (2). The extension member (30) is disposed between the support members (20). Accordingly, the enlarged portion 3 can expand the size of the supporting surface 2a by enlarging the size of the heating portion 2.

따라서, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 다음과 같은 작용 효과를 도모할 수 있다.Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention can achieve the following operational effects.

첫째, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 지지면(2a)이 곡면을 이루며 형성되므로, 종래 기술과 같이 상기 지지면(2a)이 평면을 이루며 형성된 것과 대비할 때 곡면을 이루는 피처리체(10)가 부분적으로 상기 지지면(2a)으로부터 이격되는 거리를 감소시킬 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)에 전달되는 열에 대한 균일성을 향상시킴으로써, 상기 피처리체(10)에 발생하는 온도 편차에 기인한 왜곡 발생, 기포 발생, 크랙 발생 등과 같은 불량을 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 향상시킬 수 있다.First, since the support surface 2a of the laminator supporting device 1 according to the present invention is formed to have a curved surface, when the support surface 2a is formed as a flat surface as in the prior art, It is possible to reduce the distance by which the support member 10 is partially separated from the support surface 2a. Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention improves the uniformity of the heat transmitted to the subject 10, thereby generating distortion and bubbles due to a temperature variation occurring in the subject 10 , Cracks and the like can be reduced. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention can improve the quality of the object to be processed 10 after the laminating process is completed.

둘째, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 확장부재(30)를 통해 상기 가열부(2)의 크기를 조절할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 전자제품의 종류, 성능 등과 같은 사양에 따라 피처리체(10)의 크기가 변경되는 경우, 변경된 피처리체(10)의 크기에 대응되도록 상기 지지면(2a)의 크기를 조절할 수 있도록 구현된다. 따라서, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)의 크기 변경에 따른 대응력을 향상시킬 수 있고, 상기 합착공정에 대한 공정 비용을 절감하는데 기여할 수 있다.Secondly, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention can adjust the size of the heating part 2 through the expansion member 30. The supporting device 1 for a laminator according to the present invention is characterized in that when the size of the subject 10 is changed according to specifications such as the type and performance of the electronic product, So that the size of the support surface 2a can be adjusted. Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention can improve the responsiveness to the change of the size of the object to be processed 10, and can contribute to a reduction in the process cost for the laminating process.

이하에서는 상기 가열부(2) 및 상기 확장부(3)에 관해 첨부된 도면을 참조하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the heating section 2 and the extension section 3 will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 및 도 3을 참고하면, 상기 가열부(2)는 상기 피처리체(10)를 가열하기 위한 것이다. 상기 가열부(2)는 전기 등을 이용하여 발열하는 핫 플레이트(Hot plate)로 구현될 수 있다. 상기 가열부(2)는 내부에서 유동하는 가열유체를 이용하여 상기 피처리체(10)를 가열할 수도 있다. 상기 가열부(2)는 열 전도도가 높은 금속 재질로 형성될 수 있다. 상기 가열부(2)는 전체적으로 직방체 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 피처리체(10)를 가열할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.Referring to FIGS. 2 and 3, the heating unit 2 is for heating the object to be processed 10. The heating unit 2 may be implemented as a hot plate that generates heat by using electricity or the like. The heating unit 2 may heat the object to be processed 10 using a heating fluid flowing therein. The heating unit 2 may be formed of a metal having a high thermal conductivity. The heating unit 2 may be formed in a rectangular parallelepiped shape. However, the heating unit 2 is not limited thereto. The heating unit 2 may be formed in any other shape as long as it can heat the object to be processed 10.

상기 가열부(2)는 상기 지지면(2a)을 포함할 수 있다. 상기 지지면(2a)은 상기 가열부(2)의 상면을 이룰 수 있다. 상기 지지면(2a)은 상기 피처리체(10)를 지지할 수 있다. 이 경우, 상기 지지면(2a)은 곡면을 이루는 피처리체(10)를 지지하기 위해 곡면을 이루며 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 가열부(2)는 상기 지지면(2a)이 평면을 이루며 형성된 것과 대비할 때, 곡면을 이루는 피처리체(10)가 부분적으로 상기 지지면(2a)으로부터 이격되는 거리를 감소시킬 수 있다. 따라서, 상기 가열부(2)는 상기 피처리체(10)에 발생하는 온도 편차를 감소시킴으로써, 상기 피처리체(10)에 발생하는 온도 편차에 기인한 왜곡 발생, 기포 발생, 크랙 발생 등과 같은 불량을 감소시킬 수 있다.The heating unit 2 may include the support surface 2a. The support surface 2a may form the upper surface of the heating unit 2. [ The supporting surface 2a can support the object to be processed 10. In this case, the support surface 2a may be formed as a curved surface to support the object to be processed 10 having a curved surface. Accordingly, the heating unit 2 can reduce the distance that the curved surface treatment body 10 is partly separated from the support surface 2a when the support surface 2a is formed in a planar manner have. Therefore, the heating unit 2 can reduce defects such as generation of distortion, bubbles, cracks, and the like due to a temperature deviation occurring in the object to be processed 10 by reducing the temperature deviation generated in the object to be processed 10 .

상기 지지면(2a)은 상기 피처리체(10)가 곡면을 이루도록 휘어진 방향과 동일한 방향으로 휘어진 곡면을 이루도록 형성될 수 있다. 상기 가열부(2)가 가열 가능한 피처리체(10) 중에서 상기 지지면(2a)과 동일한 곡률로 휘어진 피처리체(10)는, 전면(全面)이 상기 지지면(2a)에 접촉되도록 상기 지지면(2a)이 지지될 수 있다. 상기 가열부(2)가 가열 가능한 피처리체(10) 중에서 상기 지지면(2a)과 상이한 곡률로 휘어진 피처리체(10)는, 부분적으로 상기 지지면(2a)으로부터 이격되도록 상기 지지면(2a)에 지지될 수 있다. 이 경우에도, 상기 피처리체(10)는 곡면을 이루며 형성된 지지면(2a)에 지지되므로, 평면을 이루며 형성된 지지면(2a)에 지지된 것과 대비할 때 상기 지지면(2a)으로부터 부분적으로 이격되는 거리가 감소된다. 상기 지지면(2a)은 상기 가열부(2)의 상면이 오목하게 구현되도록 곡면을 이루며 형성될 수 있다.The support surface 2a may be formed to be curved in the same direction as the direction in which the object 10 is curved so as to form a curved surface. The workpiece 10 curved at the same curvature as that of the support surface 2a among the heaters 2 to which the heating section 2 can be heated is heated to a temperature higher than the temperature of the support surface 2a, (2a) can be supported. The subject to be treated 10 curved at a curvature different from that of the supporting surface 2a among the heated objects 10 to which the heating unit 2 can be heated is partially supported by the supporting surface 2a so as to be spaced apart from the supporting surface 2a, As shown in FIG. In this case as well, the object to be treated 10 is supported on the curved supporting surface 2a, so that it is partially separated from the supporting surface 2a as compared with the supporting surface 2a formed in a planar manner The distance is reduced. The support surface 2a may be curved so that the upper surface of the heating unit 2 is recessed.

상기 가열부(2)는 N개(N은 1보다 큰 정수)의 지지부재(20)를 포함할 수 있다. 상기 지지부재(20)들은 상기 확장부재(30)를 통해 서로 연결될 수 있다. 상기 지지부재(20)들은 상기 확장부재(30)를 사이에 두고 서로 이격되게 배치될 수 있다.The heating section 2 may include N (N is an integer greater than 1) supporting members 20. The support members 20 may be connected to each other through the extension member 30. The support members 20 may be spaced apart from each other with the extension member 30 interposed therebetween.

도 2 및 도 3을 참고하면, 상기 확장부(3)는 상기 가열부(2)에 결합된다. 상기 확장부(3)는 열 전도도가 높은 금속 재질로 형성될 수 있다. 상기 확장부(3) 및 상기 가열부(2)는 동일한 재질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 확장부(3) 및 상기 가열부(2) 간에 온도 편차를 줄임으로써, 상기 피처리체(10)에 전달되는 열에 대한 균일성을 향상시킬 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 3, the extension 3 is coupled to the heating unit 2. As shown in FIG. The extension 3 may be formed of a metal having a high thermal conductivity. The extension portion 3 and the heating portion 2 may be formed of the same material. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention improves the uniformity of heat transmitted to the object to be processed 10 by reducing the temperature deviation between the expansion part 3 and the heating part 2 .

상기 확장부(3)는 상기 가열부(2)에 결합됨으로써, 상기 지지면(2a)의 크기를 조절할 수 있다. 상기 지지면(2a)은 상기 확장부(3) 및 상기 가열부(2)가 결합됨에 따라 구현되는 상면에 해당할 수 있다. 상기 지지면(2a)은 상기 확장부(3) 및 상기 가열부(2)가 결합됨에 따라 구현되는 상면의 일부에 해당할 수도 있다. 상기 확장부(3)는 전체적으로 직방체 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 지지면(2a)의 크기를 조절하기 위해 상기 가열부(2)에 결합될 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.The enlarged portion 3 may be connected to the heating portion 2 to adjust the size of the support surface 2a. The support surface 2a may correspond to an upper surface realized by coupling of the extension part 3 and the heating part 2. The supporting surface 2a may correspond to a part of the upper surface realized by coupling of the expansion part 3 and the heating part 2. [ The extension part 3 may be formed in a rectangular parallelepiped shape, but it is not limited thereto. The extension part 3 may be formed in a different shape as long as it can be coupled to the heating part 2 to adjust the size of the support surface 2a. It is possible.

상기 확장부(3)는 M개(M은 0보다 큰 정수)의 확장부재(30)를 포함할 수 있다. 상기 확장부재(30)는 상기 지지부재(20)들 사이에 배치됨으로써, 상기 지지면(2a)을 확장시킬 수 있다. 상기 지지면(2a)은, 상기 지지부재(20)들 및 상기 확장부재(30)가 결합됨에 따라 구현되는 상면의 일부 또는 전부에 해당할 수 있다. 상기 확장부재(30), 및 상기 지지부재(20)들은 볼팅, 용접, 점착 등 다양한 방법을 이용하여 서로 결합될 수 있다.The extension 3 may include M (M is an integer greater than 0) extension members 30. The extension member 30 may be disposed between the support members 20 to expand the support surface 2a. The support surface 2a may correspond to part or all of the upper surface realized by the support members 20 and the extension member 30 being coupled. The extension member 30 and the support members 20 may be coupled to each other by various methods such as bolting, welding, and adhesion.

상기 확장부(3)가 상기 확장부재(30)를 복수개 포함하는 경우, 상기 확장부재(30)들은 상기 지지부재(20)들 사이에 배치된다. 이에 따라, 상기 지지면(2a)의 크기는, 상기 확장부재(30)들의 개수에 따라 변경될 수 있다. 상기 확장부재(30)들의 개수가 증가할수록, 상기 지지면(2a)의 크기는 증가한다. 상기 확장부재(30)들의 개수가 감소할수록, 상기 지지면(2a)의 크기는 감소한다. 이에 따라, 상기 확장부(3)는 상기 피처리체(10)의 크기에 대응되도록 상기 지지면(2a)의 크기를 조절할 수 있다.When the extension portion 3 includes a plurality of the extension members 30, the extension members 30 are disposed between the support members 20. Accordingly, the size of the support surface 2a can be changed according to the number of the extension members 30. As the number of the extension members 30 increases, the size of the support surface 2a increases. As the number of the extension members 30 decreases, the size of the support surface 2a decreases. Accordingly, the extension portion 3 can adjust the size of the support surface 2a so as to correspond to the size of the object to be processed 10.

여기서, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 지지부재(20) 및 상기 확장부재(30) 각각의 개수 및 배치 형태에 따라 다양한 실시예를 포함할 수 있다. 이하에서는 이러한 실시예들에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Here, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention may include various embodiments according to the number and arrangement of the supporting member 20 and the extending member 30, respectively. Hereinafter, these embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

<제1실시예>&Lt; Embodiment 1 >

도 4 및 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도이고, 도 6 및 도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치를 도 2의 I-I 선을 기준으로 나타낸 개략적인 단면도이다.FIGS. 4 and 5 are schematic plan views of a laminator supporting apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIGS. 6 and 7 are sectional views of the supporting apparatus for a laminator according to the first embodiment of the present invention, As a reference.

도 2 내지 도 5를 참고하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에 있어서, 상기 가열부(2)는 제1지지부재(21, 도 4에 도시됨) 및 제2지지부재(22, 도 4에 도시됨)를 포함할 수 있다.2 to 5, in the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention, the heating part 2 includes a first supporting member 21 (shown in Fig. 4) 2 support member 22 (shown in Figure 4).

상기 제1지지부재(21)는 제1축방향(X축 방향)을 따라 상기 제2지지부재(22)로부터 이격되게 배치될 수 있다. 상기 피처리체(10, 도 3에 도시됨)이 직사각형 형태의 곡면으로 형성된 경우, 상기 제1축방향(X축 방향)은 도 4에 도시된 바와 같이 장변(長邊)에 대해 평행한 방향일 수 있다. 상기 피처리체(10)가 직사각형 형태의 곡면으로 형성된 경우, 상기 제1축방향(X축 방향)은 도 5에 도시된 바와 같이 단변(短邊)에 대해 평행한 방향일 수도 있다.The first support member 21 may be spaced apart from the second support member 22 along the first axis direction (X-axis direction). When the object to be processed 10 (shown in Fig. 3) is formed into a curved surface of a rectangular shape, the first axis direction (X axis direction) is a direction parallel to the long side . When the object to be processed 10 is formed into a curved surface of a rectangular shape, the first axis direction (X axis direction) may be a direction parallel to the short side as shown in FIG.

상기 제1지지부재(21)는 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 제1지지면(211, 도 4에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제1지지면(211)은 상기 제1지지부재(21)의 상면에 해당할 수 있다. 상기 제1지지면(211)은 상기 지지면(2a, 도 2에 도시됨)의 일부에 해당한다. 상기 제1지지면(211)은 곡면을 이루도록 형성된다.The first support member 21 may include a first support surface 211 (shown in Fig. 4) for supporting the object to be treated 10. The first support surface 211 may correspond to the upper surface of the first support member 21. The first support surface 211 corresponds to a part of the support surface 2a (shown in Fig. 2). The first support surface 211 is formed to have a curved surface.

상기 제2지지부재(22)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 상기 제1지지부재(21)로부터 이격되게 배치될 수 있다. 상기 제2지지부재(22)는 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 제2지지면(221, 도 4에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제2지지면(221)은 상기 제2지지부재(22)의 상면에 해당할 수 있다. 상기 제2지지면(221)은 상기 지지면(2a)의 일부에 해당한다. 상기 제2지지면(221)은 곡면을 이루도록 형성된다. 상기 제2지지부재(22) 및 상기 제1지지부재(21)는 서로 탈부착 가능하게 결합될 수 있다. 상기 제2지지부재(22)는 상기 제1지지부재(21)와 결합되어 곡면 형상의 지지면(2a)의 일부 또는 전부를 구성할 수 있다. 상기 제2지지부재(22) 및 상기 제1지지부재(21)의 사이에는 상기 확장부(3)가 탈부착 가능하게 결합될 수 있다. 상기 확장부(3)는 상기 제2지지부재(22) 및 상기 제1지지부재(21)와 결합되어서 곡면 형상의 지지면(2a)의 일부 또는 전부를 구성할 수 있다.The second support member 22 may be spaced apart from the first support member 21 along the first axis direction (X-axis direction). The second support member 22 may include a second support surface 221 (shown in Fig. 4) for supporting the object to be treated 10. The second support surface 221 may correspond to the upper surface of the second support member 22. The second support surface 221 corresponds to a part of the support surface 2a. The second support surface 221 is formed to have a curved surface. The second support member 22 and the first support member 21 may be detachably coupled to each other. The second support member 22 may be combined with the first support member 21 to form part or all of the curved support surface 2a. The extension portion 3 may be detachably coupled between the second support member 22 and the first support member 21. The extension 3 may be combined with the second support member 22 and the first support member 21 to form part or all of the curved support surface 2a.

상기 제2지지부재(22)는 상기 제2지지면(221)과 상기 제1지지면(211)이 직접 연결되면 하나의 곡면을 이루도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제2지지부재(22) 및 상기 제1지지부재(21)가 상기 확장부재(30, 도 2에 도시됨) 없이 직접 연결되도록 결합된 경우, 상기 제2지지면(221)과 상기 제1지지면(211)을 통해 하나의 곡면을 이루는 지지면(2a)으로 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제2지지부재(22) 및 상기 제1지지부재(21) 사이에 상기 확장부재(30)가 배치되면, 상기 제2지지면(221) 및 상기 제1지지면(211)이 상기 확장부재(30)를 기준으로 서로 대칭되는 형태로 배치될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)가 상기 지지면(2a)에 지지되면, 곡면을 이루는 피처리체(10)가 상기 제2지지면(221) 및 상기 제1지지면(211) 각각으로부터 부분적으로 이격되는 거리 간의 편차를 감소시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 곡면을 이루는 피처리체(10)에 전달되는 열에 대한 균일성을 더 향상시킬 수 있다. 상기 제2지지면(221) 및 상기 제1지지면(211)은 서로 대칭되는 형태의 곡면을 이루도록 형성될 수 있다.The second support member 22 may be formed to have a curved surface when the second support surface 221 and the first support surface 211 are directly connected to each other. The second supporting member 22 and the first supporting member 21 are connected to the extension member 30 (shown in FIG. 2) in the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention, The second support surface 221 and the first support surface 211 may be formed as a support surface 2a having a curved surface. Accordingly, in the laminator supporting apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, when the extension member 30 is disposed between the second support member 22 and the first support member 21, 2 supporting surface 221 and the first supporting surface 211 may be arranged symmetrically with respect to the extending member 30. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention is configured such that, when the object to be processed 10 is supported on the supporting surface 2a, It is possible to reduce the deviation between the distance partially separated from each of the surface 221 and the first support surface 211. [ Accordingly, the supporting apparatus 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention can further improve the uniformity of heat transmitted to the object to be processed 10 having a curved surface. The second support surface 221 and the first support surface 211 may be formed to be symmetrical to each other.

상기 제2지지부재(22) 및 상기 제1지지부재(21)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 서로 동일한 길이(22L, 21L)를 갖도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제2지지부재(22) 및 상기 제1지지부재(21) 사이에 상기 확장부재(30)가 배치되면, 상기 지지면(2a)이 상기 확장부재(30)를 기준으로 양측 방향으로 동일한 길이를 갖도록 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 확장부재(30)의 개수를 변경하여 상기 지지면(2a)의 크기를 조절하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다.The second support member 22 and the first support member 21 may be formed to have the same length 22L and 21L with respect to the first axis direction (X axis direction). The supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention is characterized in that when the extending member 30 is disposed between the second supporting member 22 and the first supporting member 21, The support surface 2a may be formed to have the same length in both lateral directions with respect to the extending member 30. [ Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention can improve the ease of operation for adjusting the size of the supporting surface 2a by changing the number of the extending members 30 .

도 2 내지 도 7을 참고하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에 있어서, 상기 확장부(3)는 제1확장부재(31, 도 4에 도시됨)를 포함할 수 있다.2 to 7, in the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention, the extending portion 3 includes a first extending member 31 (shown in FIG. 4) can do.

상기 제1확장부재(31)는 상기 제1지지부재(21) 및 상기 제2지지부재(22)의 사이에 배치됨으로써, 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이 상기 제1축방향(X축 방향)이 장변에 대해 평행한 방향인 경우, 상기 제1확장부재(31)는 상기 지지면(2a)의 장변 길이가 증가하도록 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다. 도 5에 도시된 바와 같이 상기 제1축방향(X축 방향)이 단변에 대해 평행한 방향인 경우, 상기 제1확장부재(31)는 상기 지지면(2a)의 단변 길이가 증가하도록 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다. 상기 제1확장부재(31)는 상기 제1축방향(X축 방향)에 비해 제2축방향(Y축 방향)으로 더 긴 길이를 갖는 직방체 형태로 형성될 수 있다. 상기 제2축방향(Y축 방향) 및 상기 제1축방향(X축 방향)은 서로 수직한 축방향이다.The first extending member 31 is disposed between the first supporting member 21 and the second supporting member 22 so that the supporting surface 2a Can be enlarged. 4, when the first axial direction (X-axis direction) is parallel to the long side, the first extending member 31 is supported by the support The size of the surface 2a can be enlarged. 5, when the first axial direction (X-axis direction) is parallel to the short side, the first extending member 31 is moved in the X-axis direction so that the short side length of the supporting surface 2a increases, The size of the surface 2a can be enlarged. The first expansion member 31 may be formed in a rectangular parallelepiped shape having a longer length in the second axial direction (Y-axis direction) than the first axial direction (X-axis direction). The second axial direction (Y-axis direction) and the first axial direction (X-axis direction) are axial directions perpendicular to each other.

상기 제1확장부재(31)는 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 제1확장면(311, 도 4에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제1확장면(311)은 상기 제1확장부재(31)의 상면에 해당할 수 있다. 상기 제1확장면(311)은 상기 지지면(2a, 도 2에 도시됨)의 일부에 해당한다.The first expanding member 31 may include a first enlarging surface 311 (shown in FIG. 4) for supporting the object 10 to be processed. The first extending surface 311 may correspond to the upper surface of the first extending member 31. The first expansion surface 311 corresponds to a part of the support surface 2a (shown in FIG. 2).

상기 제1확장면(311)은 평면(平面)을 이루도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 확장부(3)가 상기 제1확장부재(31)를 복수개 포함하는 경우, 도 7에 도시된 바와 같이 상기 제1확장부재(31)들이 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되더라도 상기 제1확장면(311)들이 서로 연결된 부분에서 단차가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 복수개의 제1확장부재(31)들을 통해 상기 제1축방향(X축 방향)으로 상기 지지면(2a)의 크기를 더 다양하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 지지면(2a)에서 상기 제1확장면(311)들에 의해 구현되는 부분에 단차가 발생하는 것을 방지함으로써 상기 피처리체(10)를 더 안정적으로 지지할 수 있도록 구현된다. 또한, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제1확장면(311)들이 서로 연결된 부분에서 단차가 발생함에 따라 피처리체(10)가 손상 내지 파손되는 것을 방지할 수 있으므로, 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 향상시킬 수 있다. 도 7에는 2개의 제1확장부재(31)들이 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되는 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않으며 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 3개 이상의 제1확장부재(31)들이 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합될 수도 있다.The first extending surface 311 may be formed to be planar. 7, the first extending members 31 are moved in the first axial direction (the X-axis direction) as shown in FIG. 7, It is possible to prevent a step from being generated at the portions where the first expansion surfaces 311 are connected to each other. Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention can adjust the size of the supporting surface 2a in the first axial direction (X-axis direction) through the plurality of first extending members 31 It is possible to more stably support the object to be processed 10 by preventing a step from being generated in a portion realized by the first extending surfaces 311 on the supporting surface 2a . In addition, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention can prevent the object 10 from being damaged or damaged as a step is generated at a portion where the first expansion surfaces 311 are connected to each other It is possible to improve the quality of the object to be processed 10 in which the laminating process is completed. In FIG. 7, the two first expansion members 31 are shown coupled to each other along the first axis direction (X-axis direction). However, the present invention is not limited thereto. For example, The supporting device 1 may be connected so that three or more first extending members 31 are connected to each other along the first axial direction (X-axis direction).

상기 확장부재(31)는 상기 제1지지부재(21)를 향하는 방향 쪽에 위치하는 제1연결면(312, 도 6에 도시됨), 및 상기 제2지지부재(22)를 향하는 방향 쪽에 위치하는 제2연결면(313, 도 6에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제1연결면(312) 및 상기 제2연결면(313)은, 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 상기 확장부재(31)의 양 측면에 해당할 수 있다.The extension member 31 has a first connection surface 312 (shown in FIG. 6) positioned on the direction toward the first support member 21 and a second connection surface 312 And a second connection surface 313 (shown in FIG. 6). The first connection surface 312 and the second connection surface 313 may correspond to both sides of the expansion member 31 with respect to the first axis direction (X axis direction).

상기 제1연결면(312)은 상기 제1지지부재(21)의 제1분할면(212, 도 6에 도시됨)과 동일한 높이로 형성될 수 있다. 상기 제1분할면(212)은 상기 제1지지부재(21)에서 상기 제2지지부재(22)를 향하는 방향 쪽에 위치한 제1지지부재(21)의면(面)이다. 이에 따라, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제1확장부재(31)가 상기 제1지지부재(21) 및 상기 제2지지부재(22)의 사이에 배치되면, 상기 제1확장면(311) 및 상기 제1지지면(211)이 연결된 부분에서 단차가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)를 더 안정적으로 지지할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 피처리체(10)가 단차에 의해 손상 내지 파손되는 것을 방지함으로써 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 향상시킬 수 있다.The first connection surface 312 may be formed at the same height as the first division surface 212 of the first support member 21 (shown in FIG. 6). The first dividing surface 212 is a surface of the first supporting member 21 located on the side of the first supporting member 21 toward the second supporting member 22. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention is characterized in that the first extending member 31 is disposed between the first supporting member 21 and the second supporting member 22 It is possible to prevent a step from occurring at a portion where the first extending surface 311 and the first supporting surface 211 are connected. Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention not only can more stably support the subject 10, but also allows the subject 10 to be damaged or broken by a step It is possible to improve the quality of the object to be processed 10 in which the laminating process is completed.

상기 제2연결면(313)은 상기 제2지지부재(22)의 제2분할면(222, 도 6에 도시됨)과 동일한 형성될 수 있다. 상기 제2분할면(222)은 상기 제2지지부재(22)에서 상기 제1지지부재(21)를 향하는 방향 쪽에 위치한 제2지지부재(22)의 면이다. 이에 따라, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제1확장부재(31)가 상기 제1지지부재(21) 및 상기 제2지지부재(22)의 사이에 배치되면, 상기 제1확장면(311) 및 상기 제2지지면(221)이 연결된 부분에서 단차가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)를 더 안정적으로 지지할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 피처리체(10)가 단차에 의해 손상 내지 파손되는 것을 방지함으로써 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 향상시킬 수 있다.The second connection surface 313 may be formed in the same manner as the second division surface 222 of the second support member 22 (shown in FIG. 6). The second division surface 222 is a surface of the second support member 22 located on the side of the second support member 22 in the direction toward the first support member 21. [ Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention is characterized in that the first extending member 31 is disposed between the first supporting member 21 and the second supporting member 22 It is possible to prevent a step from occurring at a portion where the first expansion surface 311 and the second support surface 221 are connected. Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention not only can more stably support the subject 10, but also allows the subject 10 to be damaged or broken by a step It is possible to improve the quality of the object to be processed 10 in which the laminating process is completed.

상기 제2연결면(313) 및 상기 제1연결면(312)은 서로 동일한 높이로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 확장부(3)가 상기 제1확장부재(31)를 복수개 포함하는 경우, 도 7에 도시된 바와 같이 상기 제1확장부재(31)들이 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되더라도 상기 제1확장면(311)들이 서로 연결된 부분에서 단차가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제1축방향(X축 방향)으로 상기 지지면(2a)의 크기를 더 다양하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 피처리체(10)를 더 안정적으로 지지할 수 있고, 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 향상시킬 수 있다.The second connection surface 313 and the first connection surface 312 may have the same height. 7, the first extending members 31 are moved in the first axial direction (the X-axis direction) as shown in FIG. 7, It is possible to prevent a step from being generated at the portions where the first expansion surfaces 311 are connected to each other. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment of the present invention not only can adjust the size of the supporting surface 2a in the first axial direction (X-axis direction) It is possible to more reliably support the body 10 and to improve the quality of the object to be treated 10 in which the adhesion process is completed.

<제2실시예>&Lt; Embodiment 2 >

도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도이다.8 is a schematic plan view of a supporting device for a laminator according to a second embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 8을 참고하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에 있어서, 상기 가열부(2, 도 4에 도시됨)는 상기 제1지지부재(21, 도 8에 도시됨) 및 상기 제2지지부재(22, 도 8에 도시됨)에 추가로 제3지지부재(23, 도 8에 도시됨) 및 제4지지부재(24, 도 8에 도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 제1지지부재(21) 및 상기 제2지지부재(22)는 상술한 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 바와 대략 일치하므로, 구체적인 설명은 생략한다.2 to 8, in the supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention, the heating part 2 (shown in Fig. 4) 8) and a fourth support member 24 (shown in Fig. 8) in addition to the second support member 22 (shown in Fig. 8) . &Lt; / RTI &gt; The first supporting member 21 and the second supporting member 22 substantially coincide with those described in the supporting device 1 for a laminator according to the first embodiment described above, and a detailed description thereof will be omitted.

상기 제3지지부재(23)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 따라 상기 제1지지부재(21)로부터 이격되게 배치된다. 상기 제3지지부재(23)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 상기 제4지지부재(24)로부터 이격되게 배치될 수 있다. 상기 피처리체(10, 도 3에 도시됨)이 직사각형 형태의 곡면으로 형성된 경우, 상기 제1축방향(X축 방향)은 장변 또는 단변에 대해 평행한 방향일 수 있다. 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)를 설명함에 있어서 상기 제1축방향(X축 방향)이 상기 피처리체(10)의 장변에 대해 평행한 방향인 경우를 기준으로 하여 설명하지만, 이로부터 본 발명이 속하는 분야의 당업자라면 상기 제1축방향(X축 방향)이 상기 피처리체(10)의 단면에 대해 평행한 경우를 용이하게 이해할 수 있음이 자명하다.The third support member 23 is disposed so as to be spaced apart from the first support member 21 along the second axial direction (Y-axis direction). The third support member 23 may be spaced apart from the fourth support member 24 along the first axis direction (X-axis direction). When the object to be processed 10 (shown in Fig. 3) is formed into a curved surface of a rectangular shape, the first axis direction (X axis direction) may be a direction parallel to the long side or short side. In describing the laminator supporting device 1 according to the second embodiment of the present invention, it is assumed that the first axial direction (X-axis direction) is a direction parallel to the long side of the subject 10 However, it is apparent to those skilled in the art that the first axial direction (X-axis direction) is parallel to the cross section of the object 10 to be processed.

상기 제3지지부재(23)는 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 제3지지면(231, 도 8에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제3지지면(231)은 상기 제3지지부재(23)의 상면에 해당할 수 있다. 상기 제3지지면(231)은 상기 지지면(2a, 도 2에 도시됨)의 일부에 해당한다. 상기 제3지지면(231)은 곡면을 이루도록 형성된다. 상기 제3지지면(231)은 상기 제1지지면(211)과 동일한 곡률을 갖는 곡면으로 형성될 수 있다.The third support member 23 may include a third support surface 231 (shown in Fig. 8) for supporting the object to be treated 10. The third support surface 231 may correspond to the upper surface of the third support member 23. The third support surface 231 corresponds to a part of the support surface 2a (shown in Fig. 2). The third support surface 231 is formed to have a curved surface. The third support surface 231 may be a curved surface having the same curvature as the first support surface 211.

상기 제3지지부재(23) 및 상기 제1지지부재(21)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 서로 동일한 길이를 갖도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제3지지부재(23) 및 상기 제1지지부재(21) 사이에 상기 확장부재(30, 도 2에 도시됨)가 배치되면, 상기 제2축방향(Y축 방향)을 따라 상기 지지면(2a)이 상기 확장부재(30)를 기준으로 양측 방향으로 동일한 길이를 갖도록 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 확장부재(30)의 개수를 변경하여 상기 제2축방향(Y축 방향)으로 상기 지지면(2a)의 크기를 조절하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다.The third support member 23 and the first support member 21 may be formed to have the same length with respect to the second axis direction (Y axis direction). The supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention has the extension member 30 (shown in Fig. 2) between the third supporting member 23 and the first supporting member 21, The supporting surface 2a may be formed to have the same length in both the lateral directions with respect to the extending member 30 along the second axial direction (Y-axis direction). Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention changes the number of the extending members 30 so that the size of the supporting surface 2a in the second axial direction (Y-axis direction) The ease of adjustment can be improved.

상기 제4지지부재(24)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 따라 상기 제2지지부재(22)로부터 이격되게 배치될 수 있다. 상기 제4지지부재(24)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 상기 제3지지부재(23)로부터 이격되게 배치될 수 있다. 상기 제4지지부재(24)는 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 제4지지면(241, 도 4에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제4지지면(241)은 상기 제4지지부재(24)의 상면에 해당할 수 있다. 상기 제4지지면(241)은 상기 지지면(2a)의 일부에 해당한다. 상기 제4지지면(241)은 곡면을 이루도록 형성된다. 상기 제4지지면(241)은 상기 제2지지면(221)과 동일한 곡률을 갖는 곡면으로 형성될 수 있다. 상기 제4지지면(241), 상기 제3지지면(231), 상기 제2지지면(221), 및 상기 제1지지면(211)은 서로 직접 연결되면 하나의 곡면을 이루도록 형성될 수 있다.The fourth support member 24 may be spaced apart from the second support member 22 along the second axial direction (Y-axis direction). The fourth support member 24 may be spaced apart from the third support member 23 along the first axis direction (X-axis direction). The fourth supporting member 24 may include a fourth supporting surface 241 (shown in Fig. 4) for supporting the object to be treated 10. The fourth support surface 241 may correspond to the upper surface of the fourth support member 24. The fourth support surface 241 corresponds to a part of the support surface 2a. The fourth support surface 241 is formed to have a curved surface. The fourth support surface 241 may be formed as a curved surface having the same curvature as the second support surface 221. The fourth support surface 241, the third support surface 231, the second support surface 221, and the first support surface 211 may be formed to be one curved surface when they are directly connected to each other .

상기 제4지지부재(24) 및 상기 제3지지부재(23)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 서로 동일한 길이를 갖도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제4지지부재(24) 및 상기 제3지지부재(23) 사이에 상기 확장부재(30)가 배치되면, 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 상기 지지면(2a)이 상기 확장부재(30)를 기준으로 양측 방향으로 동일한 길이를 갖도록 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 확장부재(30)의 개수를 변경하여 상기 지지면(2a)의 크기를 조절하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다.The fourth support member 24 and the third support member 23 may be formed to have the same length with respect to the first axis direction (X axis direction). Accordingly, when the extension member 30 is disposed between the fourth support member 24 and the third support member 23, the support device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention is configured such that, The support surface 2a may be formed to have the same length in both lateral directions with respect to the extending member 30 along the first axial direction (X-axis direction). Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention can improve the ease of operation for adjusting the size of the supporting surface 2a by changing the number of the extending members 30 .

상기 제4지지부재(24) 및 상기 제2지지부재(22)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 서로 동일한 길이를 갖도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제4지지부재(24) 및 상기 제2지지부재(22) 사이에 상기 확장부재(30)가 배치되면, 상기 제2축방향(Y축 방향)을 따라 상기 지지면(2a)이 상기 확장부재(30)를 기준으로 양측 방향으로 동일한 길이를 갖도록 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 확장부재(30)의 개수를 변경하여 상기 제2축방향(Y축 방향)으로 상기 지지면(2a)의 크기를 조절하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다. 상기 제4지지부재(24) 및 상기 제3지지부재(23)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 서로 동일한 길이를 갖도록 형성될 수 있다.The fourth support member 24 and the second support member 22 may be formed to have the same length with respect to the second axis direction (Y axis direction). The supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention is characterized in that when the extension member 30 is disposed between the fourth support member 24 and the second support member 22, The support surface 2a may be formed to have the same length in both lateral directions with respect to the extending member 30 along the second axial direction (Y-axis direction). Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention changes the number of the extending members 30 so that the size of the supporting surface 2a in the second axial direction (Y-axis direction) The ease of adjustment can be improved. The fourth support member 24 and the third support member 23 may be formed to have the same length with respect to the second axis direction (Y axis direction).

본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에 있어서, 상기 확장부(3, 도 4에 도시됨)는 상기 제1확장부재(31, 도 8에 도시됨)에 추가로 제2확장부재(32, 도 8에 도시됨)를 포함할 수 있다.In the supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention, the extension 3 (shown in Fig. 4) is additionally provided in the first expansion member 31 (shown in Fig. 8) 2 expansion member 32 (shown in FIG. 8).

상기 확장부(3)는 상기 제2확장부재(32)를 복수개 포함할 수 있다. 상기 제2확장부재들(32, 32')(도 8에 도시됨)은 상기 제1지지부재(21)와 상기 제3지지부재(23)의 사이, 및 상기 제2지지부재(22)와 상기 제4지지부재(24)의 사이에 배치됨으로써, 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다. 이 경우, 상기 제1확장부재(31)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제1축방향(X축 방향) 및 상기 제2축방향(Y축 방향) 모두에 대해 상기 지지면(2a)의 크기를 조절할 수 있도록 구현됨으로써, 상기 피처리체(10)의 크기 변경에 따른 대응력을 더 향상시킬 수 있고, 상기 합착공정에 대한 공정 비용을 절감하는 것에 대한 기여도를 증대시킬 수 있다.The extension portion 3 may include a plurality of the second expansion members 32. 8) is provided between the first support member 21 and the third support member 23 and between the second support member 22 and the third support member 23. The second extension members 32 and 32 ' And the fourth supporting member 24, the size of the supporting surface 2a can be extended with respect to the second axial direction (Y-axis direction). In this case, the first expansion member 31 can expand the size of the support surface 2a with respect to the first axial direction (X-axis direction). Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention is arranged so as to be movable in the first axial direction (X-axis direction) and the second axial direction (Y-axis direction) By adjusting the size, it is possible to further improve the responsiveness to the change in size of the object to be processed 10, and to increase the contribution to the reduction of the process cost for the adhesion process.

상기 제2확장부재들(32, 32')은 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 서로 이격되게 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 제2확장부재들(32, 32') 중에서 어느 하나의 제2확장부재(32)는 상기 제1지지부재(21)와 상기 제3지지부재(23)의 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2확장부재들(32, 32') 중에서 다른 하나의 제2확장부재(32')는 상기 제2지지부재(22)와 상기 제4지지부재(24)의 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2확장부재들(32, 32')은 각각 상기 제2축방향(Y축 방향)에 비해 상기 제1축방향(X축 방향)으로 더 긴 길이를 갖도록 형성될 수 있다.The second extending members 32 and 32 'may be spaced apart from each other with reference to the first axial direction (X-axis direction). In this case, any one second extending member 32 of the second extending members 32, 32 'may be disposed between the first supporting member 21 and the third supporting member 23 have. The other second expansion member 32 'of the second expansion members 32 and 32' may be disposed between the second support member 22 and the fourth support member 24. The second extending members 32 and 32 'may be formed to have a longer length in the first axis direction (X axis direction) than the second axis direction (Y axis direction).

상기 제2확장부재들(32, 32')은 각각 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 제2확장면들(321, 321')(도 8에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제2확장면들(321, 321')은 각각 상기 제2확장부재들(32, 32')의 상면에 해당할 수 있다. 상기 제2확장면들(321, 321')은 상기 지지면(2a, 도 2에 도시됨)의 일부에 해당한다. 상기 제1지지부재(21) 및 상기 제3지지부재(23)의 사이에 배치되는 제2확장부재(32)는, 상기 제1지지면(211) 및 상기 제3지지면(231)과 동일한 곡률을 갖는 곡면으로 형성된 제1확장면(321)을 포함할 수 있다. 상기 제2지지부재(22) 및 상기 제4지지부재(24)의 사이에 배치되는 제2확장부재(32')는, 상기 제2지지면(221) 및 상기 제4지지면(241)과 동일한 곡률을 갖는 곡면으로 형성된 제1확장면(321')을 포함할 수 있다.The second expansion members 32 and 32 'may each include second expansion surfaces 321 and 321' (shown in FIG. 8) for supporting the object 10 to be treated. The second expansion surfaces 321 and 321 'may correspond to the upper surfaces of the second expansion members 32 and 32', respectively. The second extension surfaces 321 and 321 'correspond to a part of the support surface 2a (shown in FIG. 2). The second extending member 32 disposed between the first supporting member 21 and the third supporting member 23 is identical to the first supporting surface 211 and the third supporting surface 231 And a first expanded surface 321 formed of a curved surface having a curvature. The second extension member 32 'disposed between the second support member 22 and the fourth support member 24 is connected to the second support surface 221 and the fourth support surface 241, And a first extended surface 321 'formed of a curved surface having the same curvature.

도시되지 않았지만, 상기 확장부(3)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되는 복수개의 제2확장부재(32)를 포함할 수도 있다. 이에 따라, 본 발명의 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제2축방향(Y축 방향)으로 상기 지지면(2a)의 크기를 더 다양하게 조절할 수 있다.Although not shown, the extension 3 may include a plurality of second extending members 32 connected to each other along the second axial direction (Y-axis direction). Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the second embodiment of the present invention can further adjust the size of the supporting surface 2a in the second axial direction (Y-axis direction).

여기서, 상기 제1확장부재(31)는 상술한 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 바와 대략 일치하므로, 이하에서는 차이점이 있는 부분 위주로 설명한다.Here, the first expansion member 31 substantially coincides with that described in the above-described support device 1 for a laminator according to the first embodiment.

상기 제1확장부재(31)는 상기 제2확장부재들(32, 32') 사이에 위치하도록 배치될 수 있다. 상기 제2확장부재들(32, 32')은 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 각각 상기 제1확장부재(31)의 서로 다른 측면에 결합될 수 있다. 상기 제1확장부재(31)는 일측이 상기 제1지지부재(21)와 상기 제2지지부재(22)의 사이에 위치하고, 타측이 상기 제3지지부재(23)와 상기 제4지지부재(24)의 사이에 위치하도록 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 제1확장부재(31)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 상기 제1지지부재(21)의 길이, 상기 제2확장부재(32)의 길이, 및 상기 제3지지부재(23)의 길이를 모두 합한 길이와 대략 일치하는 길이를 갖도록 형성될 수 있다.The first expansion member 31 may be disposed between the second expansion members 32 and 32 '. The second extending members 32 and 32 'may be coupled to different sides of the first extending member 31 with respect to the first axial direction (X-axis direction). One end of the first extension member 31 is located between the first support member 21 and the second support member 22 and the other end is located between the third support member 23 and the fourth support member 24, respectively. In this case, the first extending member 31 is configured to have the length of the first supporting member 21, the length of the second extending member 32, 3 supporting members 23 may be formed to have a length substantially equal to the sum of the lengths.

<제3실시예>&Lt; Third Embodiment >

도 9은 본 발명의 제3실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도이다.9 is a schematic plan view of a supporting device for a laminator according to a third embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 9를 참고하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에 있어서, 상기 가열부(2, 도 4에 도시됨)는 상기 제1지지부재(21, 도 9에 도시됨), 상기 제2지지부재(22, 도 9에 도시됨), 상기 제3지지부재(23, 도 9에 도시됨), 및 제4지지부재(24, 도 9에 도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 제1지지부재(21), 상기 제2지지부재(22), 상기 제3지지부재(23), 및 상기 제4지지부재(24)는 상술한 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 바와 대략 일치하므로, 구체적인 설명은 생략한다.2 to 9, in the supporting device 1 for a laminator according to the third embodiment of the present invention, the heating part 2 (shown in Fig. 4) 9), the second support member 22 (shown in Fig. 9), the third support member 23 (shown in Fig. 9), and the fourth support member 24 (shown in Fig. 9) . &Lt; / RTI &gt; The first supporting member 21, the second supporting member 22, the third supporting member 23 and the fourth supporting member 24 are connected to the supporting device for a laminator according to the second embodiment 1), and thus a detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 제3실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에 있어서, 상기 확장부(3, 도 4에 도시됨)는 상기 제1확장부재(31, 도 9에 도시됨), 상기 제2확장부재(32, 도 9에 도시됨)에 추가로 제3확장부재(33, 도 9에 도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 제1확장부재(31) 및 상기 제2확장부재(32)는 상술한 제2실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 바와 대략 일치하므로, 이하에서는 차이점이 있는 부분 위주로 설명한다.In the supporting device 1 for a laminator according to the third embodiment of the present invention, the extension part 3 (shown in Fig. 4) comprises the first expansion member 31 (shown in Fig. 9) May additionally include a third expansion member 33 (shown in Fig. 9) in addition to the expansion member 32 (shown in Fig. 9). The first expansion member 31 and the second expansion member 32 substantially coincide with those described in the above-described support device 1 for a laminator according to the second embodiment, and therefore, differences will be mainly described below.

상기 확장부(3)는 상기 제1확장부재(31)를 복수개 포함할 수 있다. 상기 제1확장부재들(31, 31')(도 9에 도시됨)은 각각 상기 제1지지부재(21)와 상기 제2지지부재(22)의 사이, 및 상기 제3지지부재(23)와 상기 제4지지부재(24)의 사이에 배치됨으로써, 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다. 이 경우, 상기 제2확장부재들(32, 32')(도 9에 도시됨)은 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 상기 지지면(2a)의 크기를 확장시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 제3실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 제1축방향(X축 방향) 및 상기 제2축방향(Y축 방향) 모두에 대해 상기 지지면(2a)의 크기를 조절할 수 있도록 구현됨으로써, 상기 피처리체(10)의 크기 변경에 따른 대응력을 더 향상시킬 수 있고, 상기 합착공정에 대한 공정 비용을 절감하는 것에 대한 기여도를 증대시킬 수 있다.The extension portion 3 may include a plurality of the first extension members 31. 9) is provided between the first support member 21 and the second support member 22 and between the third support member 23 and the second support member 22, And the fourth support member 24, the size of the support surface 2a can be extended with respect to the first axis direction (X-axis direction). In this case, the second expansion members 32 and 32 '(shown in FIG. 9) can expand the size of the support surface 2a with respect to the second axial direction (Y-axis direction). Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the third embodiment of the present invention is characterized in that the laminator supporting device 1 according to the third embodiment of the present invention is arranged so that the supporting surface 2a is inclined with respect to both the first axis direction (X axis direction) and the second axis direction By adjusting the size, it is possible to further improve the responsiveness to the change in size of the object to be processed 10, and to increase the contribution to the reduction of the process cost for the adhesion process.

상기 제1확장부재들(31, 31')은 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 서로 이격되게 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 제1확장부재들(31, 31') 중에서 어느 하나의 제1확장부재(31)는 상기 제1지지부재(21)와 상기 제2지지부재(22)의 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1확장부재들(31, 31') 중에서 다른 하나의 제1확장부재(31')는 상기 제3지지부재(23)와 상기 제4지지부재(24)의 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1확장부재들(31, 31')은 각각 상기 제1축방향(X축 방향)에 비해 상기 제2축방향(Y축 방향)으로 더 긴 길이를 갖도록 형성될 수 있다.The first expansion members 31 and 31 'may be spaced apart from each other with reference to the second axial direction (Y-axis direction). In this case, any one of the first extending members 31 and 31 'may be disposed between the first supporting member 21 and the second supporting member 22 have. The other first expansion member 31 'of the first expansion members 31 and 31' may be disposed between the third support member 23 and the fourth support member 24. The first expansion members 31 and 31 'may have a longer length in the second axis direction (Y axis direction) than the first axis direction (X axis direction).

상기 제1확장부재들(31, 31')은 각각 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 제1확장면들(311, 311')(도 9에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 제1확장면들(311, 311')은 각각 상기 제1확장부재들(31, 31')의 상면에 해당할 수 있다. 상기 제1확장면들(311, 311')은 상기 지지면(2a, 도 2에 도시됨)의 일부에 해당한다. 상기 제1확장면들(311, 311')은 각각 상술한 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 제1확장면(311)과 대략 일치하므로, 구체적인 설명은 생략한다.The first expansion members 31 and 31 'may each include first expansion surfaces 311 and 311' (shown in FIG. 9) for supporting the object 10 to be treated. The first expansion surfaces 311 and 311 'may correspond to the upper surfaces of the first expansion members 31 and 31', respectively. The first extension surfaces 311 and 311 'correspond to a part of the support surface 2a (shown in FIG. 2). The first expansion surfaces 311 and 311 'substantially coincide with the first expansion surface 311 described in the above-described first embodiment of the laminator supporting apparatus 1, and a detailed description thereof will be omitted.

상기 제3확장부재(33)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 상기 제2확장부재들(32, 32') 사이에 위치하도록 배치될 수 있다. 상기 제2확장부재들(32, 32')은 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 각각 상기 제3확장부재(33)의 서로 다른 측면에 결합될 수 있다. 상기 제3확장부재(33)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 상기 제2확장부재들(32, 32') 각각과 동일한 길이를 갖도록 형성될 수 있다. 상기 제3확장부재(33)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 상기 제1확장부재들(31, 31') 사이에 위치하도록 배치될 수 있다. 상기 제1확장부재들(31, 31')은 상기 제2축방향(Y축 방향)을 기준으로 각각 상기 제3확장부재(33)의 서로 다른 측면에 결합될 수 있다. 상기 제3확장부재(33)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 기준으로 상기 제1확장부재들(31, 31') 각각과 동일한 길이를 갖도록 형성될 수 있다.The third extending member 33 may be disposed between the second extending members 32 and 32 'with respect to the first axial direction (X-axis direction). The second extending members 32 and 32 'may be coupled to different sides of the third extending member 33 with respect to the first axial direction (X-axis direction). The third extending member 33 may be formed to have the same length as each of the second extending members 32 and 32 'with respect to the second axial direction (Y-axis direction). The third extending member 33 may be disposed between the first extending members 31 and 31 'with respect to the second axial direction (Y-axis direction). The first expansion members 31 and 31 'may be coupled to different sides of the third expansion member 33 with respect to the second axis direction (Y axis direction). The third extending member 33 may be formed to have the same length as each of the first extending members 31 and 31 'with respect to the first axial direction (X-axis direction).

도시되지 않았지만, 상기 확장부(3)는 상기 제3확장부재(33)를 복수개 포함할 수도 있다. 상기 확장부(3)가 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되는 복수개의 제1확장부재(31)를 포함하는 경우, 상기 확장부(3)는 상기 제1축방향(X축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되는 복수개의 제3확장부재(33)를 포함할 수 있다. 상기 확장부(3)가 상기 제2축방향(Y축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되는 복수개의 제2확장부재(32)를 포함하는 경우, 상기 확장부(3)는 상기 제2축방향(Y축 방향)을 따라 서로 연결되게 결합되는 복수개의 제3확장부재(33)를 포함할 수 있다.Although not shown, the extension 3 may include a plurality of the third extension members 33. [ When the extension portion 3 includes a plurality of first extension members 31 connected to each other along the first axial direction (X-axis direction), the extension portion 3 is extended in the first axial direction And a plurality of third extending members 33 coupled to each other along the X-axis direction. In the case where the extension portion 3 includes a plurality of second extension members 32 connected to each other so as to be connected to each other along the second axis direction (Y axis direction) And a plurality of third extending members 33 coupled to each other along the Y-axis direction.

도 10은 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치의 개략적인 평면도이다.10 is a schematic plan view of a supporting device for a laminator according to a modified embodiment of the present invention.

도 10을 참고하면, 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 전달부(4)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 10, a supporting device 1 for a laminator according to a modified embodiment of the present invention may include a transfer part 4. [

상기 전달부(4)는 상기 N개의 지지부재(20) 및 상기 M개의 확장부재(30) 상에 위치한다. 즉, 상기 전달부(4)는 상기 피처리체(10) 및 상기 지지면(2a) 사이에 위치한다. 이에 따라, 상기 전달부(4)는 상기 피처리체(10)를 지지할 수 있다. 상기 N개의 지지부재(20) 및 상기 M개의 확장부재(30)는 상기 전달부(4)를 지지함으로써, 상기 전달부(4)를 통해 상기 피처리체(10)를 지지할 수 있다.The transfer unit 4 is positioned on the N support members 20 and the M extension members 30. [ That is, the transfer unit 4 is positioned between the object to be processed 10 and the support surface 2a. Accordingly, the transfer unit 4 can support the object to be processed 10. The N support members 20 and the M expansion members 30 can support the object to be processed 10 through the transfer unit 4 by supporting the transfer unit 4.

상기 전달부(4)는 열 전도도가 높은 금속 재질로 형성될 수 있다. 상기 전달부(4), 상기 지지부재(20) 및 상기 확장부재(30)는 동일한 재질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 전달부(4)에 부분적으로 발생하는 온도 편차를 줄임으로써, 상기 피처리체(10)에 전달되는 열에 대한 균일성을 향상시킬 수 있다.The transfer part 4 may be formed of a metal having a high thermal conductivity. The transmission unit 4, the support member 20, and the extension member 30 may be formed of the same material. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to the present invention can improve the uniformity of the heat transmitted to the subject 10 by reducing the temperature deviation which is partially generated in the transmitting portion 4 .

상기 전달부(4)는 상기 피처리체(10)에 접촉되는 전달면(41)을 포함한다. 상기 전달면(41)은 상기 피처리체(10)가 이루는 곡면에 대응되는 곡면을 이루도록 형성된다. 즉, 상기 전달면(41) 및 상기 피처리체(10)는 동일한 곡률을 갖도록 형성된다. 이에 따라, 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 전달면(41) 및 상기 피처리체(10)가 부분적으로 서로 이격된 부분 없이 밀착되도록 구현됨으로써, 상기 피처리체(10)에 전달되는 열에 대한 균일성을 더 향상시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)에 발생하는 온도 편차에 기인한 왜곡 발생, 기포 발생, 크랙 발생 등과 같은 불량을 더 감소시킬 수 있고, 이로 인해 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 더 향상시킬 수 있다. The transfer unit 4 includes a transfer surface 41 that contacts the workpiece 10. The transfer surface 41 is formed to have a curved surface corresponding to the curved surface formed by the object to be processed 10. That is, the transfer surface 41 and the object to be processed 10 are formed to have the same curvature. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to a modified embodiment of the present invention is realized such that the transfer surface 41 and the subject to be processed 10 are partially brought into close contact with each other without being separated from each other, 10 can be further improved. Therefore, the support device 1 for a laminator according to the modified embodiment of the present invention can further reduce defects such as occurrence of distortion, bubble generation, cracking and the like due to a temperature variation occurring in the object to be processed 10 , Thereby further improving the quality of the object to be processed 10 in which the laminating process is completed.

상기 전달부(4)는 상기 지지면(2a)에 접촉되는 결합면(42)을 포함할 수 있다. 상기 결합면(42)은 상기 지지면(2a)에 대응되는 형태로 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 결합면(42) 및 상기 지지면(2a)이 부분적으로 서로 이격된 부분 없이 밀착되도록 구현됨으로써, 상기 전달부(4)가 전체적으로 균일한 온도로 가열되도록 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 피처리체(10)에 전달되는 열에 대한 균일성을 더 향상시킬 수 있다.The transfer unit 4 may include a coupling surface 42 that contacts the support surface 2a. The coupling surface 42 may be formed to correspond to the support surface 2a. Accordingly, the supporting device 1 for a laminator according to a modified embodiment of the present invention is configured such that the engaging surface 42 and the supporting surface 2a are in close contact with each other without being partially separated from each other, 4 may be heated to a uniform temperature as a whole. Therefore, the supporting device 1 for a laminator according to the modified embodiment of the present invention can further improve the uniformity of the heat transmitted to the object to be processed 10.

도 10에는 상기 가열부(2) 및 상기 확장부(3)가 각각 제1실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 실시예로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않으며 본 발명의 변형된 실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)는 상기 가열부(2) 및 상기 확장부(3)가 각각 제2실시예 또는 제3실시예에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 실시예로 구현될 수도 있다.10, the heating unit 2 and the extension 3 are shown in the embodiment of the laminator supporting device 1 according to the first embodiment, but the present invention is not limited thereto, The supporting device 1 for a laminator according to the example is constructed such that the heating part 2 and the extension part 3 are implemented by the embodiment described in the laminator supporting device 1 according to the second or third embodiment, .

이하에서는 본 발명에 따른 라미네이터의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of a laminator according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 11은 본 발명에 따른 라미네이터의 개략적인 단면도이다.11 is a schematic cross-sectional view of a laminator according to the present invention.

도 2 내지 도 11을 참고하면, 본 발명에 따른 라미네이터(300, 도 11에 도시됨)는 상기 피처리체(10)를 합착하는 합착공정을 수행하는 것이다.Referring to FIGS. 2 to 11, the laminator 300 (shown in FIG. 11) according to the present invention performs a laminating process for laminating the object 10 to be processed.

본 발명에 따른 라미네이터(300)는 상기 피처리체(10)가 놓여지는 곡면 형상의 지지면(2a), 및 상기 지지면(2a)에 놓여진 피처리체(10)를 직접 또는 간접으로 가열하기 위한 가열부(2)를 포함한다.The laminator 300 according to the present invention includes a curved support surface 2a on which the object 10 to be processed is placed and a heating surface for directly or indirectly heating the object to be processed 10 placed on the supporting surface 2a (2).

이에 따라, 본 발명에 따른 라미네이터(300)는 곡면 형상의 지지면(2a)을 포함하도록 구현되므로, 종래 기술과 같이 상기 지지면(2a)이 평면을 이루며 형성된 것과 대비할 때 곡면을 이루는 피처리체(10)가 부분적으로 상기 지지면(2a)으로부터 이격되는 거리를 감소시킬 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 라미네이터(300)는 상기 피처리체(10)에 전달되는 열에 대한 균일성을 향상시킴으로써, 상기 피처리체(10)에 발생하는 온도 편차에 기인한 왜곡 발생, 기포 발생, 크랙 발생 등과 같은 불량을 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 라미네이터(300)는 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)에 대한 품질을 향상시킬 수 있다.Accordingly, since the laminator 300 according to the present invention is embodied to include the curved support surface 2a, as compared with the case where the support surface 2a is formed in a plane as in the prior art, 10 may be partially distanced from the support surface 2a. Accordingly, the laminator 300 according to the present invention improves the uniformity of the heat transmitted to the subject 10, thereby generating distortion, bubbles, and cracks due to a temperature variation occurring in the subject 10 And the like can be reduced. Accordingly, the laminator 300 according to the present invention can improve the quality of the object to be processed 10 after the laminating process is completed.

상기 지지면(2a)은 상기 피처리체(10)를 지지하기 위한 것이다. 상기 지지면(2a)은 상술한 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 바와 같으므로, 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.The supporting surface 2a is for supporting the object 10 to be processed. The supporting surface 2a is the same as that described in the above-described supporting device 1 for a laminator according to the present invention, and a detailed description thereof will be omitted.

상기 가열부(2)는 상기 피처리체(10)를 가열하기 위한 것이다. 상기 가열부(2)는 상기 지지면(2a)을 포함한다. 상기 가열부(2)는 상기 지지면(2a)에 놓여진 피처리체(10)를 직접 또는 간접으로 가열할 수 있다. 예컨대, 상기 가열부(2)는 핫 플레이트로 구현되어서 상기 피처리체(10)를 직접 가열할 수 있다. 예컨대, 상기 가열부(2)는 상기 전달부(4, 도 10에 도시됨)를 통해 상기 피처리체(10)를 간접 가열할 수도 있다. 상기 가열부(2)는 상술한 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 바와 같으므로, 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.The heating unit 2 is for heating the object to be processed 10. The heating section 2 includes the support surface 2a. The heating unit 2 can directly or indirectly heat the subject 10 placed on the support surface 2a. For example, the heating unit 2 may be implemented as a hot plate to directly heat the object to be processed 10. For example, the heating section 2 may indirectly heat the object to be processed 10 through the transfer section 4 (shown in FIG. 10). Since the heating unit 2 is the same as that of the supporting apparatus 1 for a laminator according to the present invention, a detailed description thereof will be omitted.

본 발명에 따른 라미네이터(300)는 상기 확장부(3)를 포함할 수 있다. 상기 확장부(3)는 상기 가열부(2)에 탈부착 가능하게 결합될 수 있다. 상기 확장부(3)는 상기 가열부(2)가 갖는 제1지지부재(21) 및 상기 제2지지부재(22)의 사이에 탈부착 가능하게 결합될 수 있다. 상기 확장부(3)는 상술한 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)에서 설명한 바와 같으므로, 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.The laminator 300 according to the present invention may include the extension 3. The extension part 3 may be detachably coupled to the heating part 2. The extension 3 may be detachably coupled between the first support member 21 and the second support member 22 of the heating unit 2. [ Since the extension part 3 is the same as that of the supporting device 1 for a laminator according to the present invention, a detailed description thereof will be omitted.

도 11을 참고하면, 본 발명에 따른 라미네이터(300)는 제1챔버(310), 제2챔버(320), 및 가압부(330)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 11, the laminator 300 according to the present invention may include a first chamber 310, a second chamber 320, and a pressing portion 330.

상기 제1챔버(310) 및 상기 제2챔버(320)의 내부에서는 상기 합착공정이 수행된다. 상기 제1챔버(310)는 상기 제2챔버(320)의 상측에 위치할 수 있다. 상기 제2챔버(320)에는 상술한 본 발명에 따른 라미네이터용 지지장치(1)가 설치될 수 있다. 이 경우, 상기 가열부(2)는 상기 지지면(2a)이 상기 제2챔버(320)의 내부에 위치하도록 상기 제2챔버(320)에 설치될 수 있다. 상기 제1챔버(310) 및 상기 제2챔버(320) 중에서 적어도 하나는 이동 가능하게 결합될 수 있다. 예컨대, 상기 제1챔버(310)가 이동 가능하게 결합되는 경우, 상기 제1챔버(310)는 상기 제2챔버(320)로부터 이격되도록 이동할 수 있다. 이 상태에서 상기 피처리체(10)를 상기 지지면(2a)에 놓는 로딩공정, 및 상기 합착공정이 완료된 피처리체(10)를 상기 지지면(2a)으로부터 이격시키는 언로딩공정이 수행될 수 있다. 이 경우, 상기 제1챔버(310)가 상기 제2챔버(320)에 접하도록 이동한 상태에서, 상기 합착공정이 수행될 수 있다. 상기 제2챔버(320)에는 배출부(340)가 설치될 수 있다. 상기 배출부(340)는 상기 제2챔버(320) 및 상기 제1챔버(310)의 내부로부터 가스를 배출시킴으로써, 상기 제2챔버(320) 및 상기 제1챔버(310)의 내부를 진공상태로 전환시킬 수 있다.The laminating process is performed inside the first chamber 310 and the second chamber 320. The first chamber 310 may be located above the second chamber 320. The second chamber 320 may be provided with the supporting device 1 for a laminator according to the present invention. In this case, the heating unit 2 may be installed in the second chamber 320 such that the supporting surface 2a is positioned inside the second chamber 320. At least one of the first chamber 310 and the second chamber 320 may be movably coupled. For example, when the first chamber 310 is movably coupled, the first chamber 310 may move away from the second chamber 320. A loading step of placing the subject 10 on the supporting surface 2a in this state and an unloading process of separating the subject 10 from the supporting surface 2a after the adhesion process has been completed can be performed . In this case, the adhesion process may be performed in a state where the first chamber 310 is moved to be in contact with the second chamber 320. A discharge unit 340 may be installed in the second chamber 320. The discharge unit 340 discharges gas from the second chamber 320 and the first chamber 310 to discharge the inside of the second chamber 320 and the first chamber 310 to a vacuum state . &Lt; / RTI &gt;

상기 가압부(330)는 상기 피처리체(10)를 가압하기 위한 것이다. 상기 가압부(330)는 상기 제1챔버(310)에 설치될 수 있다. 상기 가압부(330)는 상기 가열부(2)의 상측에 위치할 수 있다. 상기 피처리체(10)는 상기 가열부(2)에 의해 가열되고, 상기 가압부(330)에 의해 가압됨으로써, 합착될 수 있다. 예컨대, 상기 가압부(330)는 실리콘 고무 등과 같은 탄성을 갖는 재질로 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 제1챔버(310)에는 공급부(350)가 설치될 수 있다. 상기 공급부(350)는 상기 제1챔버(310) 및 상기 가압부(330) 사이로 가스를 공급함으로써, 상기 가압부(330)를 팽창시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 가압부(330)는 상기 피처리체(10)를 가압할 수 있다.The pressing portion 330 is for pressing the object 10 to be processed. The pressing portion 330 may be installed in the first chamber 310. The pressing portion 330 may be located on the upper side of the heating portion 2. The object to be processed 10 is heated by the heating unit 2 and pressed by the pressing unit 330 so that it can be attached. For example, the pressing portion 330 may be formed of an elastic material such as silicone rubber. In this case, a supply unit 350 may be installed in the first chamber 310. The supply unit 350 may expand the pressurizing unit 330 by supplying gas between the first chamber 310 and the pressurizing unit 330. Accordingly, the pressing portion 330 can press the object 10 to be processed.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.

1 : 라미네이터용 지지장치 2 : 가열부
3 : 확장부 4 : 전달부
10 : 피처리체 21 : 제1지지부재
22 : 제2지지부재 23 : 제3지지부재
24 : 제4지지부재 31 : 제1확장부재
32 : 제2확장부재 33 : 제3확장부재
41 : 전달면 42 : 결합면
300 : 라미네이터
1: Support device for laminator 2: Heating part
3: extension part 4:
10: object to be processed 21: first supporting member
22: second support member 23: third support member
24: fourth support member 31: first expansion member
32: second extending member 33: third extending member
41: transmitting surface 42: coupling surface
300: Laminator

Claims (15)

피처리체를 합착하는 라미네이터로서,
상기 피처리체가 놓여지는 곡면 형상의 지지면; 및
상기 지지면을 포함하며, 상기 지지면에 놓여진 피처리체를 직접 또는 간접으로 가열하기 위한 가열부를 포함하는 라미네이터.
A laminator for adhering an object to be processed,
A curved support surface on which the object to be processed is placed; And
And a heating section including the supporting surface, for directly or indirectly heating the object placed on the supporting surface.
제1항에 있어서, 상기 가열부는
제1지지부재; 및
상기 제1지지부재와 탈부착 가능하게 결합되고, 상기 제1지지부재와 결합되어 상기 곡면 형상의 지지면의 일부 또는 전부를 구성하는 제2지지부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 라미네이터.
The apparatus according to claim 1, wherein the heating unit
A first support member; And
And a second support member detachably coupled to the first support member and coupled with the first support member to constitute part or all of the curved support surface.
제2항에 있어서,
상기 제1지지부재와 상기 제2지지부재 사이에 탈부착 가능하게 결합되고, 상기 제1지지부재와 상기 제2지지부재와 결합되어 상기 곡면 형상의 지지면의 일부 또는 전부를 구성하는 확장부를 포함하는 것을 특징으로 하는 라미네이터.
3. The method of claim 2,
And an extension portion that is detachably coupled between the first support member and the second support member and that is joined to the first and second support members to form part or all of the curved support surface The laminator comprising:
곡면을 이루는 피처리체를 지지하기 위해 곡면을 이루며 형성된 지지면을 포함하고, 상기 피처리체에 대한 합착공정을 수행하기 위해 상기 피처리체를 가열하는 가열부; 및
상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 가열부에 결합되는 확장부를 포함하고,
상기 가열부는 상기 피처리체를 지지하기 위한 제1지지부재, 및 제1축방향을 따라 상기 제1지지부재로부터 이격되게 배치되는 제2지지부재를 포함하며,
상기 확장부는 상기 제1축방향을 기준으로 상기 지지면의 크기를 확장시키기 위해 상기 제1지지부재와 상기 제2지지부재의 사이에 배치되는 제1확장부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
A heating unit including a curved support surface for supporting a curved object to be processed, the heating unit heating the object to perform a coalescing process on the object to be processed; And
And an extension portion coupled to the heating portion to adjust the size of the support surface,
The heating section includes a first support member for supporting the object to be processed and a second support member spaced apart from the first support member along the first axis direction,
Wherein the extension portion includes a first extension member disposed between the first support member and the second support member to extend the size of the support surface with respect to the first axis direction. Device.
제4항에 있어서,
상기 제1지지부재는 상기 피처리체를 지지하기 위한 제1지지면을 포함하고,
상기 제2지지부재는 상기 피처리체를 지지하기 위한 제2지지면을 포함하되, 상기 제2지지면과 상기 제1지지면이 직접 연결되면 하나의 곡면을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the first support member includes a first support surface for supporting the object to be processed,
Wherein the second support member includes a second support surface for supporting the object to be processed, and the second support surface is formed to have a curved surface when the second support surface and the first support surface are directly connected to each other, .
제4항에 있어서,
상기 제1지지부재 및 상기 제2지지부재는 상기 제1축방향을 기준으로 서로 동일한 길이를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the first support member and the second support member are formed to have the same length with respect to the first axis direction.
제4항에 있어서,
상기 확장부는 상기 제1확장부재를 복수개 포함하고,
상기 제1확장부재들은 상기 제1축방향을 기준으로 상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 제1축방향을 따라 서로 연결되게 결합되는 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the extending portion includes a plurality of the first extending members,
Wherein the first expanding members are coupled to each other along the first axis direction to adjust the size of the support surface with respect to the first axis direction.
제4항 또는 제7항에 있어서,
상기 제1확장부재는 상기 피처리체를 지지하기 위한 제1확장면을 포함하고,
상기 제1확장면은 평면(平面)을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
8. The method according to claim 4 or 7,
Wherein the first expansion member includes a first expansion surface for supporting the object to be processed,
Wherein the first expanding surface is formed to be flat (plane).
제4항에 있어서,
상기 제1지지부재는 상기 제2지지부재를 향하는 방향 쪽에 위치하는 제1분할 면을 포함하고,
상기 제2지지부재는 상기 제1지지부재를 향하는 방향 쪽에 위치하는 제2분할면을 포함하며,
상기 제1확장부재는 상기 제1지지부재를 향하는 방향 쪽에 위치하는 제1연결면 및 상기 제2지지부재를 향하는 방향 쪽에 위치하는 제2연결면을 포함하되, 상기 제1연결면이 상기 제1분할면과 동일한 높이를 갖고 상기 제2연결면이 상기 제2분할면과 동일한 높이를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the first supporting member includes a first dividing surface located in a direction toward the second supporting member,
The second supporting member includes a second dividing surface positioned in a direction toward the first supporting member,
Wherein the first extending member includes a first connecting surface located toward the first supporting member and a second connecting surface located toward the second supporting member, And the second connecting surface is formed to have the same height as the second dividing surface.
제4항에 있어서,
상기 가열부는 상기 제1축방향에 대해 수직한 제2축방향을 따라 상기 제1지지부재로부터 이격되게 배치되는 제3지지부재, 및 상기 제2축방향을 따라 상기 제2지지부재로부터 이격되게 배치되는 제4지지부재를 포함하고;
상기 확장부는 상기 제2축방향을 기준으로 상기 지지면의 크기를 확장시키기 위한 복수개의 제2확장부재를 포함하며;
상기 제2확장부재들은 상기 제1지지부재와 상기 제3지지부재의 사이, 및 상기 제2지지부재와 상기 제4지지부재의 사이에 위치되도록 상기 제1축방향으로 서로 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
5. The method of claim 4,
The heating section includes a third support member disposed to be spaced apart from the first support member along a second axial direction perpendicular to the first axial direction and a third support member disposed apart from the second support member along the second axial direction And a fourth supporting member which is a second supporting member;
Wherein the extending portion includes a plurality of second extending members for extending the size of the supporting surface with respect to the second axial direction;
And the second extending members are spaced apart from each other in the first axial direction so as to be positioned between the first supporting member and the third supporting member and between the second supporting member and the fourth supporting member To the laminator.
제10항에 있어서,
상기 제1확장부재는 상기 제2확장부재들 사이에 위치하도록 배치되되, 일측이 상기 제1지지부재와 상기 제2지지부재의 사이에 위치하고 타측이 상기 제3지지부재와 상기 제4지지부재의 사이에 위치하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the first extending member is disposed to be positioned between the second extending members, and one side of the first extending member is located between the first supporting member and the second supporting member, and the other side of the third extending member is located between the third supporting member and the fourth supporting member And wherein the laminator is disposed so as to be positioned between the laminator.
제10항에 있어서,
상기 제2확장부재들은 상기 제2축방향을 기준으로 상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 제2축방향을 따라 서로 연결되게 결합되는 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the second extending members are coupled to each other along the second axis direction to adjust the size of the supporting surface with respect to the second axis direction.
제10항에 있어서,
상기 확장부는 상기 제1축방향을 기준으로 상기 제2확장부재들의 사이에 위치하도록 배치되는 제3확장부재를 포함하고,
상기 제1확장부재는 상기 제1지지부재와 상기 제2지지부재의 사이 및 상기 제3지지부재와 상기 제4지지부재의 사이에 위치되도록 상기 제2축방향으로 서로 이격되게 복수개가 배치되며,
상기 제3확장부재는 상기 제2축방향을 기준으로 상기 제1확장부재들 사이에 위치하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the extension portion includes a third expansion member disposed to be positioned between the second expansion members with respect to the first axis direction,
The first extending member is disposed so as to be spaced apart from each other in the second axial direction so as to be positioned between the first supporting member and the second supporting member and between the third supporting member and the fourth supporting member,
And the third extending member is disposed to be positioned between the first extending members with respect to the second axis direction.
곡면을 이루는 피처리체를 지지하기 위해 곡면을 이루며 형성된 지지면을 포함하고, 상기 피처리체에 대한 합착공정을 수행하기 위해 상기 피처리체를 가열하는 가열부; 및
상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 가열부에 결합되는 확장부를 포함하고,
상기 가열부는 상기 피처리체를 지지하기 위한 N개(N은 1보다 큰 정수)의 지지부재를 포함하며,
상기 확장부는 상기 지지면의 크기를 조절하기 위해 상기 지지부재들 사이에 배치되는 M개(M은 0보다 큰 정수)의 확장부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
A heating unit including a curved support surface for supporting a curved object to be processed, the heating unit heating the object to perform a coalescing process on the object to be processed; And
And an extension portion coupled to the heating portion to adjust the size of the support surface,
The heating section includes N (N is an integer greater than 1) supporting members for supporting the object to be processed,
Wherein the extension comprises M (M is an integer greater than 0) expansion members disposed between the support members to adjust the size of the support surface.
곡면을 이루는 피처리체에 대한 합착공정을 수행하기 위해 상기 피처리체를 가열하는 N개(N은 1보다 큰 정수)의 지지부재;
상기 지지부재들 사이에 배치되는 M개(M은 0보다 큰 정수)의 확장부재; 및
상기 N개의 지지부재 및 상기 M개의 확장부재 상에 위치하여 상기 지지부재들로부터 제공되는 열을 상기 피처리체에 전달하는 전달부를 포함하고,
상기 전달부는 상기 피처리체에 접촉되는 전달면을 포함하며,
상기 전달면은 상기 피처리체가 이루는 곡면에 대응되는 곡면을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 라미네이터용 지지장치.
N (N is an integer greater than 1) supporting members for heating the object to perform a lapping process for a curved object to be processed;
M extension members (M is an integer larger than 0) disposed between the support members; And
And a transfer unit which is positioned on the N support members and the M extension members and transfers heat provided from the support members to the object to be processed,
Wherein the transfer portion includes a transfer surface that contacts the object to be processed,
Wherein the transfer surface is formed to be a curved surface corresponding to a curved surface formed by the object to be processed.
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