KR20160133424A - Consumable welding wire, preferably mig/mag, and relating manufacturing process - Google Patents
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Abstract
용접봉(130)은, 종방향 축선(X-X)을 따라 연장되고 제1 기초 재료로 제조되는 실모양의 요소; 적어도 하나의 전도성 필라멘트(3); 적어도 하나의 스패터 억제 요소를 포함한다. 실모양의 요소는 나선형 경로와 함께 종방향 축선을 따라 연장되는 채널(4)을 포함한다. 전도성 요소(3)는 상기 채널(4)의 내측에 배치되고, 스패터 억제 요소는 상기 채널(4)의 내측에 배치된다. The electrode rod 130 includes a thread-like element extending along the longitudinal axis X-X and made of a first base material; At least one conductive filament (3); At least one sputter suppression element. The thread-like element comprises a channel (4) extending along the longitudinal axis with a helical path. The conductive element 3 is disposed inside the channel 4 and the sputter suppression element is disposed inside the channel 4. [
Description
본 발명은 용접봉 분야에 관한 것으로서, 특히 본 발명은 소모성 용접봉, 바람직하게는 MIG/MAG 용접, 및 각각의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to the field of welding electrodes, in particular, the present invention relates to consumable electrodes, preferably MIG / MAG welding, and each manufacturing method.
공지된 바와 같이, 가스 금속 아크 용접(GMAW; gas metal arc welding)[경우에 따라, 불활성 가스의 경우에는 그 서브타입인 MIG(Metal-arc Inert Gas)에 의해, 그리고 활성 가스의 경우에는 MAG(Metal-arc Active Gas)에 의해 정의됨]은 연속적이고 소모성인 전극(보통, “용접봉”이라고 명명됨)과, 차폐 가스가 용접건을 통해 공급되는 반자동 프로세스 또는 자동 프로세스이다.As is well known, gas metal arc welding (GMAW) (sometimes referred to as MAG (Metal-arc Inert Gas) in its subtype in the case of inert gas and MAG Metal-arc active gas) is a semi-automatic or automatic process in which a continuous and consumable electrode (commonly referred to as a "welding electrode") and a shielding gas are supplied through a welding gun.
도 1 및 도 2에는, GMAW 용접을 위한 장치(10)가 종래 기술에 따라 일례로 도시되어 있다.In Figures 1 and 2, an
장치(10)는 전력 공급원(2), 봉 급송 유닛(4), 차폐 가스를 공급하는 시스템(6), 및 전력과 차폐 가스를 공급하고 용접 대상 공작물(20)에 용접봉을 급송하는 토치 케이블(8)을 포함한다. 통상적으로, 토치 케이블(8)은 보통 적어도 3 미터의 길이를 갖는 가요성 외장부(sheath)로서 형성되고, 토치 케이블은 또한 비교적 좁고 만곡된 형태를 취할 수 있도록 가능한 만큼 가요성을 갖는다. 일반적으로, 용접봉이 토치 케이블(8) 둘레에서 꼬이는 것을 방지하기 위해, 용접봉은 나선형으로 타이트하게 권취되는 금속 와이어로 제조된 가요성 외장부의 내측에서 진행하게 되는데, 가요성 외장부의 내경은 용접봉의 외경보다 약간 크다.The
토치 케이블(8)은 그 단부에 용접 토치(34)를 갖는다. 도 2에 도시된 바와 같이, 용접 토치(34)는 가스 노즐(35)과 접촉 팁(contact tip; 36)을 포함하고, 접촉 팁을 통해 전극이 공작물에 이웃하게 안내된다. The torch cable 8 has a
토치 케이블(8)은, 차폐 가스를 용접 토치(34)에 공급하기 위한 덕트(37), 전력 공급 케이블(33) 및 소모성 용접봉(32)을 그 내측에 포함한다. The torch cable 8 includes therein a
차폐 가스(38)는 덕트(37)를 통해 가스 노즐(35)과 접촉 팁(36) 사이에 둘러싸인 공간으로 공급된다. The
본 출원인은, 토치 케이블의 길이와 가요성으로 인해, 토치 케이블을 통해 급송 릴로부터 용접 토치(34)로 소모성 용접봉을 이동시키기 위해서는 비교적 높은 강도가 항상 요구된다는 것을 인지하게 되었다.Applicants have come to appreciate that relatively high strength is always required to move the consumable electrode from the feed reel to the
본 출원인은 또한, 용접봉의 표면 상에 존재하는 드로잉 및/또는 구리 코팅 프로세스의 잔류물 또는 소우프(soap)로 인해, 용접 프로세스 중에 분출 또는 스패터(spatter)가 발생한다는 것을 인지하게 되었다. 이러한 분출물은 접촉 팁 및 가스 노즐에 고착되는 금속 재료 및 비금속 재료의 파티클(particle)이 되고, 용접 대상 공작물에 고착되는 용융 금속의 점적(drop)이 되며, 그 결과 후속하는 세척 프로세스가 요구되고 각자 낮은 품질 레벨의 용접 라인이 초래된다. Applicants have also recognized that spills or spatter occur during the welding process due to drawing and / or residues of the copper coating process or soap present on the surface of the electrode. These jets become particles of metallic and non-metallic materials that are adhered to the contact tip and the gas nozzle, and become a drop of molten metal adhering to the workpiece to be welded, resulting in a subsequent cleaning process being required, Resulting in welding lines of low quality level.
따라서, 본 출원인은 용접 중에 금속 재료의 분출물 및/또는 튀겨나오는 점적의 생성을 최소화하거나 어떻든간에 눈에 띄게 감소시킬 수 있는, 특히 MIG/MAG 용접을 위한, 새로운 용접봉을 제공할 필요성을 발견하였다.The Applicant has thus found a need to provide a new electrode for MIG / MAG welding, in particular, which can minimize the creation of jetties and / or splashes of metal material during welding, or which can be significantly reduced in any way.
또한, 본 출원인은 용접 중에 금속 재료의 분출물 및/또는 튀겨나오는 점적의 생성을 눈에 띄게 감소시킬 수 있는, 바람직하게는 MIG/MAG 용접을 위한, 용접봉, 특히 소모성 용접봉을 제조하는 각각의 프로세스를 제공할 필요성을 발견하였다.The Applicant has also found that it is possible to provide a process for the production of a welding rod, in particular a consumable welding rod, preferably for MIG / MAG welding, which can significantly reduce the generation of jetting and / And the need to provide them.
본 출원인은 또한 본 발명에 따른 방법을 실시하기 위한 기계를 제공할 필요성을 발견하였다. Applicants have also found a need to provide a machine for practicing the method according to the invention.
따라서, 제1 양태에서, 본 발명은 용접봉에 관한 것으로서, 상기 용접봉은,Thus, in a first aspect, the present invention relates to a welding rod,
- 종방향 축선을 따라 연장되고 제1 기초 재료로 제조되는 실모양(filiform)의 요소; A filiform element extending along the longitudinal axis and made of a first base material;
- 적어도 하나의 전도성 필라멘트;At least one conductive filament;
- 적어도 하나의 스패터 억제 요소- at least one sputter suppressing element
를 포함하고, Lt; / RTI >
상기 실모양의 요소는 상기 종방향 축선에 대해 평행한 방향으로 연장되는 채널을 포함하며, The thread-like element comprising a channel extending in a direction parallel to the longitudinal axis,
적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트는 상기 종방향 채널의 내측에 배치되고,Wherein at least one of said conductive filaments is disposed inside said longitudinal channel,
적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소는 상기 채널의 내측에 배치된다.At least one of the sputter suppression elements is disposed inside the channel.
본 발명의 범위 내에서,Within the scope of the present invention,
- "와이어 봉"은, 5 mm보다 큰 직경을 갖고 일반적으로 원형의 단면을 갖는 반완성된 강철 등의 금속 재료의 봉을 의미하고;"Wire rod" means a rod of metallic material, such as semi-finished steel, having a diameter greater than 5 mm and having a generally circular cross-section;
- "분무"는 점적 및/또는 미소 부분에서 액체의 감소(reduction)를 의미하며;"Spraying" means a reduction of the liquid in the drop and / or the microparticle;
"알루미늄으로 제조되는" 또는 "구리로 제조되는"이라는 표현에서, 알루미늄, 또는 각각의 구리, 금속 재료는, 불순물은 말할 것도 없고 5 중량%보다 낮은 백분율로 존재하는 합금 요소를 의미한다.In the expression "made of aluminum" or "made of copper ", aluminum or each copper or metal material means an alloy element present in a percentage lower than 5% by weight, not to mention impurities.
상기 양태에서, 본 발명은 이하에 설명되는 특징들 중 적어도 하나를 가질 수 있다.In this aspect, the invention may have at least one of the features described below.
유리하게는, 용접봉은 MIG 용접 또는 MAG 용접 또는 SAW 용접을 위한 용접봉이다.Advantageously, the welding rod is a welding rod for MIG welding or MAG welding or SAW welding.
편의에 따라, 전도성 필라멘트는 금속이다.Conveniently, the conductive filament is a metal.
바람직하게는, 제1 기초 재료는, GMAW 용접, GTAW 용접, 및 SAW 용접에 일반적으로 사용되는 바와 같이, 저탄소강, 저합금강, 스테인리스강으로부터 선택된다.Preferably, the first base material is selected from low carbon steels, low alloy steels, stainless steels, as commonly used for GMAW welding, GTAW welding, and SAW welding.
철계 기초 재료를 갖는 피스(piece)가 용접되는 용례의 경우에, 본 발명에 따른 제1 기초 재료는, GMAW 용접, GTAW 용접, 및 SAW 용접에 일반적으로 사용되는 바와 같이, 저탄소강, 저합금강, 스테인리스강으로부터 선택된다.In the case of an application where a piece with an iron-based base material is to be welded, the first base material according to the present invention may be a low-carbon steel, a low alloy steel, a low alloy steel, Stainless steel.
편의에 따라, 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트는 알루미늄으로 제조된다.Conveniently, the at least one conductive filament is made of aluminum.
대안으로, 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트는 구리로 제조된다.Alternatively, at least one of the conductive filaments is made of copper.
또한 대안으로, 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트는 구리-알루미늄 합금으로 제조된다. 바람직하게는 상기 구리-알루미늄 합금은 AWS A5.7에 따른 ER CuAl-A1, 및 EN14640에 따른 S Cu6100이다.Also alternatively, at least one of the conductive filaments is made of a copper-aluminum alloy. Preferably, the copper-aluminum alloy is ER CuAl-Al according to AWS A5.7, and S Cu6100 according to EN14640.
AWS A5.7은 용접 재료에 관한 미국 규정이고[AWS는 American Welding Society의 약어임], 또한 EN14640은 각각의 유럽 규정이다.AWS A5.7 is the US code for welding materials [AWS is an abbreviation for the American Welding Society], and EN14640 is the respective European code.
바람직하게는, 전도성 필라멘트는 0.20 mm 내지 0.35 mm 범위에서 구성되는 직경을 갖는다.Preferably, the conductive filament has a diameter comprised in the range of 0.20 mm to 0.35 mm.
편의에 따라, 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소는 알칼리 금속, 몰리브덴, 텅스텐 및 그래파이트로부터 선택되고, 그 원소 형태 및 그 염과 복합 분자의 형태가 모두 포함된다. Conveniently, the at least one sputter inhibiting element is selected from alkali metals, molybdenum, tungsten and graphite, including both its elemental form and its salt and complex molecule forms.
바람직하게는, 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트는 알루미늄으로 제조되고, 스패터 억제 재료는 칼륨, 리튬, 세슘, 그래파이트, 몰리브덴 및 텅스텐으로부터 선택되며, 그 원소 형태 및 그 염과 복합 분자의 형태가 모두 포함된다.Preferably, the at least one conductive filament is made of aluminum and the spatters suppressing material is selected from potassium, lithium, cesium, graphite, molybdenum and tungsten, and both the elemental form and its salt and complex molecule form do.
대안으로, 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트는 구리로 제조되고, 스패터 억제 재료는 칼륨, 세슘, 그래파이트, 몰리브덴 및 텅스텐 중 하나 이상의 용액을 포함한다.Alternatively, the at least one conductive filament is made of copper and the sputter inhibiting material comprises at least one of a solution of potassium, cesium, graphite, molybdenum and tungsten.
또한, 대안으로, 전도성 필라멘트는 구리-알루미늄 합금으로 제조되고, 스패터 억제 재료는 칼륨, 리튬, 세슘, 그래파이트, 몰리브덴 및 텅스텐으로부터 선택되며, 그 원소 형태 및 그 염과 복합 분자의 형태가 모두 포함된다.Alternatively, the conductive filament is made of a copper-aluminum alloy and the spatters suppressing material is selected from potassium, lithium, cesium, graphite, molybdenum and tungsten, and both its elemental form and its salt and complex molecule form do.
편의에 따라, 상기 채널은 종방향 축선(X-X) 둘레에 나선형 연장부를 갖는다.Conveniently, the channel has a helical extension about the longitudinal axis X-X.
유리하게는, 상기 채널은 실모양의 요소의 매 4 미터마다 적어도 1회의 완전한 회전을 이루도록 되어 있는 나선형 형상을 갖는다.Advantageously, the channel has a helical shape which is adapted to make at least one complete revolution every 4 meters of the thread-like element.
다른 양태에 따르면, 본 발명은 전술한 바와 같은 용접봉을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은,According to another aspect, the present invention relates to a method of manufacturing an electrode as described above,
- 제1 기초 재료로 제조되는 와이어 봉에 채널을 형성하는 단계;- forming a channel in a wire rod made of a first base material;
- 예정된 양의 스패터 억제 요소를 퇴적시키는 단계;Depositing a predetermined amount of sputter inhibiting element;
- 상기 채널 내에 적어도 하나의 전도성 필라멘트를 퇴적시키는 단계; Depositing at least one conductive filament in the channel;
- 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트와 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소를 상기 채널의 내측에 적어도 부분적으로 고정시키도록 와이어 봉을 워핑(warping)하는 단계- warping the wire rod to at least partially anchor at least one of the conductive filament and the at least one sputter suppression element inside the channel
를 포함한다..
바람직하게는, 와이어 봉을 워핑하는 상기 단계는 압연 단계를 포함한다.Preferably, the step of warping the wire rod comprises a rolling step.
편의에 따라, 용접봉이 와이어 봉의 시작 직경보다 작은 미리 정해진 직경을 갖도록, 워핑 단계 후에 드로잉 단계 또는 제2 압연 단계가 존재한다.Conveniently, there is a drawing step or a second rolling step after the warping step so that the electrode has a predetermined diameter smaller than the starting diameter of the wire rod.
유리하게는, 예정된 양의 스패터 억제 재료를 퇴적시키는 단계는 상기 스패터 억제 재료를 상기 종방향 채널을 포함하는 와이어 봉의 종방향 부분 상에 분무하거나 적하시키는 단계를 포함한다.Advantageously, depositing a predetermined amount of sputter inhibiting material comprises spraying or dripping said sputter inhibiting material onto a longitudinal portion of the wire rod comprising said longitudinal channel.
바람직하게는, 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소는 용액 중에 용해되는 바와 같이 채널 내에 퇴적된다. Preferably, at least one of the sputter inhibiting elements is deposited in the channel as dissolved in the solution.
편의에 따라, 적어도 하나의 전도성 필라멘트를 퇴적시키는 단계는, 바람직하게는 알루미늄 및/또는 구리 및/또는 구리-알루미늄 합금으로 제조되는 실질적으로 연속적인 전도성 필라멘트를 퇴적시키는 단계를 포함하고, 구리-알루미늄 합금은 바람직하게는 AWS A5.7에 따른 ER CuAl-A1 및 EN14640에 따른 S Cu6100이다.Conveniently, depositing the at least one conductive filament comprises depositing a substantially continuous conductive filament, preferably made of aluminum and / or copper and / or copper-aluminum alloy, wherein the copper-aluminum The alloys are preferably ER CuAl-Al according to AWS A5.7 and S Cu6100 according to EN14640.
바람직하게는, 전도성 필라멘트가 나선형 경로를 따라 배치되도록 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트와 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소를 채널 내에 적어도 부분적으로 고정시키기 위하여, 와이어 봉을 변형시키는 단계 후에, 상기 와이어 봉에 비틀림을 가하는 단계가 존재한다.Preferably, after the step of deforming the wire rod so as to at least partly fix at least one of the conductive filament and the at least one sputter inhibiting element in the channel so that the conductive filament is disposed along the spiral path, There is a step to apply twisting.
본 발명의 추가 특징 및 이점은, 한정하는 것은 아니지만, 본 발명에 따른 신규한 용접봉 및 그 제조 방법의 몇몇 바람직한 실시예의 상세한 설명으로부터 보다 명백해질 것이다.
그러한 설명은, 제한이 아닌 예시의 목적으로만 제공되는 첨부 도면을 참조하여 이하에서 설명될 것이다.
도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 GMAW 용접 장치의 개략도이고;
도 3은 본 발명에 따라 용접 중에 금속 재료의 분출물 및/또는 튀겨나오는 점적의 생성을 눈에 띄게 감소시킬 수 있는, 바람직하게는 MIG/MAG 용접을 위한 용접봉, 특히 소모성 용접봉을 제조하는 방법을 실시하는 기계의 측면 개략도이며;
도 4a 내지 도 4i는 본 발명에 따라 용접 중에 금속 재료의 분출물 및/또는 튀겨나오는 점적의 생성을 눈에 띄게 감소시킬 수 있는, 바람직하게는 MIG/MAG 용접을 위한 용접봉, 특히 소모성 용접봉을 제조하는 방법의 몇몇 단계들의 개략도이고;
도 5a 내지 도 5d는 제조 방법의 다양한 단계 중에 용접봉의 단면의 개략도이다. Additional features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description of a few preferred embodiments of a novel electrode and a method of manufacturing the same, without limitation.
Such descriptions are set forth below with reference to the accompanying drawings, which are provided for purposes of illustration only and not for limitation.
Figures 1 and 2 are schematic diagrams of a prior art GMAW welding apparatus;
Fig. 3 shows a method of manufacturing a welding rod, preferably a consumable welding rod, preferably for MIG / MAG welding, which can significantly reduce the generation of spots and / or splashes of metallic material during welding in accordance with the present invention. ≪ / RTI >
Figs. 4A-4I illustrate an embodiment of a method for manufacturing a welding electrode, particularly a consumable electrode, for MIG / MAG welding, which is capable of significantly reducing the generation of spots and / A schematic of several steps of the method;
Figures 5A-5D are schematic views of cross sections of the electrode during various stages of the manufacturing process.
도 1 및 도 2에는, GMAW 용접을 위한 장치(10)가 본 발명에 따른 용접봉의 용례 유형을 예시하기 위해 일례로서 도시되어 있다.1 and 2, an
장치(10)는 전력 공급원(2), 봉 급송 유닛(4), 차폐 가스를 공급하는 시스템(6), 및 전력과 차폐 가스를 공급하고 용접 대상 공작물(20)에 용접봉을 급송하는 토치 케이블(8)을 포함한다. 통상적으로, 토치 케이블(8)은 보통 적어도 3 미터의 길이를 갖는 가요성 외장부로서 형성되고, 토치 케이블은 또한 비교적 좁고 만곡된 형태를 취할 수 있도록 가능한 만큼 가요성을 갖는다. 일반적으로, 용접봉이 토치 케이블(8) 둘레에서 꼬이는 것을 방지하기 위해, 용접봉은 나선형으로 타이트하게 권취되는 금속 와이어로 제조된 가요성 외장부의 내측에서 진행하게 되는데, 가요성 외장부의 내경은 용접봉의 외경보다 약간 크다.The
토치 케이블(8)은 그 단부에 용접 토치(34)를 갖는다. 도 2에 도시된 바와 같이, 용접 토치(34)는 가스 노즐(35) 및 접촉 팁(36)을 포함하고, 접촉 팁을 통해 전극이 공작물에 이웃하게 안내된다. The torch cable 8 has a
토치 케이블(8)은, 차폐 가스를 용접 토치(34)에 공급하기 위한 덕트(37), 전력 공급 케이블(33) 및 소모성 용접봉(32)을 그 내측에 포함한다. The torch cable 8 includes therein a
차폐 가스(38)는 덕트(37)를 통해 가스 노즐(35)과 접촉 팁(36) 사이에 둘러싸인 공간으로 공급된다. The shielding
도 4a 내지 도 4i에서, 소모성 용접봉, 바람직하게는 MIG/MAG 용접을 위한 용접봉을 제조하는 방법의 단계들이 도시되어 있는데, 상기 방법은 종래 기술에서 사용되는 소모성 용접봉의 전술한 문제들을 해결할 수 있다.In Figures 4A-4I, steps of a method for manufacturing a consumable electrode, preferably a welding electrode for MIG / MAG welding, are shown, which can solve the above-mentioned problems of the consumable electrode used in the prior art.
초기에, 완성품의 상세내역(예컨대, AWS A5.18 규정에 관하여 ER70S-2, ER70S-6)을 나타내는 와이어 봉(12)이 마련된다.Initially, a
이어서, 와이어 봉(12)은, 도 4a에 도시된 바와 같이, 산세 라인(line pickling) 또는 배치(batch)에 의해, 또는 기계적 스케일링(mechanical scaling)에 의해 세척되어 표면 산화물이 제거될 수 있다.The
이에 따라, 와이어 봉(12)은 형상과 크기가 일정한 기초 봉(13)을 획득하기 위해 압연 또는 드로잉에 의해 크기 설정된다.Accordingly, the
그 시점에서, 도 4c에 도시된 바와 같이, 획득한 기초 봉(13)의 표면은 드로잉 화합물의 잔류물을 제거하거나 그 형상 및/또는 다공성을 변화시키도록 의도된 준비 단계를 거칠 수 있다.At that point, as shown in Fig. 4C, the surface of the obtained
도 4d에서, 기초 봉(13)의 표면 상에 종방향 리세스(4)가, 예컨대 성형 롤 또는 성형 다이판에 의해 형성된다.4 (d), a
필요하다면, 가능한 추가 세척 후에, 기초 봉은 도 4e에 도시된 바와 같이 예정된 양의 하나 이상의 스패터 억제 요소를 퇴적시키면서 진행한다.If necessary, after possible further cleaning, the foundation rods progress while depositing a predetermined amount of one or more sputter suppression elements, as shown in Figure 4e.
바람직하게는, 스패터 억제 요소는, 하나 이상의 스패터 억제 요소 상에 미세 점적을 퇴적시키는 분무 노즐 또는 적하 장치 아래에서 기초 봉의 종방향을 따라 기초 봉(13)을 진행시킴으로써 퇴적된다.Preferably, the sputter suppression element is deposited by advancing the
스패터 억제 요소는 알칼리 금속, 몰리브덴, 텅스텐 및 그래파이트로부터 선택되고 그 원소 형태 및 그 염과 복합 분자의 형태로 제공될 수 있다. 스패터 억제 요소는 용액 내에서 용해되는 바와 같은 채널 내에 및/또는 억제 요소를 포함하는 유체 기반 혼합물 내에 퇴적된다.The sputter inhibiting element may be selected from alkali metals, molybdenum, tungsten, and graphite and may be provided in the form of its elemental forms and complex molecules with its salts. The sputter inhibiting element is deposited in a channel as dissolved in the solution and / or in a fluid-based mixture comprising the inhibiting element.
이들 억제 요소는 종방향 채널(4)의 내표면에 도포될 수 있다. 이들 재료의 공칭 비율이 완성품에서, 즉 용접봉(130)에서 확인될 것이다.These suppression elements can be applied to the inner surface of the
전술한 비율은 완성품에 있는 원소를 가리키고, 제조 프로세스 중에 채널 내에 퇴적되는 용액 중의 염을 가리키지는 않는다.The foregoing ratios refer to elements in the finished product and do not indicate salts in the solution deposited in the channel during the manufacturing process.
다른 양태에서, 예컨대 칼륨(K)을 참조하면, 칼륨이 완성품에 원소로서 존재한다는 것이 고려되고, 예컨대 제조 프로세스 중에 채널 내에 퇴적될 수 있는 칼륨 테트라보레이트(potassium tetraborate)가 물에서 용해된다는 것은 고려되지 않는다.In another embodiment, for example referring to potassium (K), it is contemplated that potassium is present as an element in the finished product, and it is not contemplated that potassium tetraborate, for example, which may be deposited in the channel during the manufacturing process, dissolves in water Do not.
대안으로, 스패터 억제 요소는 전도성 필라멘트(3)의 성분들 중 하나로서 마련될 수 있다.Alternatively, the spatula suppression element can be provided as one of the components of the
이 시점에서, 기초 봉은 적어도 하나의 전도성 필라멘트(3)를 종방향 채널(4) 내에 삽입하면서 진행한다.At this point, the base rod proceeds while inserting at least one
이러한 삽입은 도 4f에 도시된 바와 같이 전도성 필라멘트(3)를 전체 종방향 채널(4)을 따라 연속적으로 퇴적시킴으로써 이루어진다. This insertion is accomplished by continuously depositing the
종방향 채널(4) 내로 전도성 필라멘트(3)를 삽입하는 것은, 전도성 필라멘트(3)가 종방향 채널(4)의 리세스 내측에 완벽하게 수용되도록 하는 방식으로 이루어진다.Insertion of the
일 실시예에서, 전도성 필라멘트(3)는 알루미늄으로 제조되고, 바람직하게는 AWS 규정에 따라 특정한 용례가 요구될 수 있을 때에, 그 퇴적 전에 기초 봉(13)에 관하여 0.05 내지 0.10%의 중량%의 알루미늄에 대응하여, 0.20-0.35 mm, 더 바람직하게는 0.25 mm 내지 0.30 mm의 범위로 구성되는, 예컨대 0.28 mm인 직경을 갖는다.In one embodiment, the
대안으로, 필라멘트(3)는 원소 구리로 제조될 수 있다. 다른 대안으로, 필라멘트(3)는 은, 몰리브덴, 텅스텐, 및 그라핀 또는 그래파이트 중 하나 이상으로 제조되거나 이들 중 하나 이상을 함유할 수 있다.Alternatively, the
도면에 도시된 실시예에서, 전도성 필라멘트(3)는 원형 단면을 갖고 있지만, 본 발명의 보호 범위로부터 벗어남이 없이, 전도성 필라멘트가 다른 형태, 예컨대 플랫형(스트립), 직사각형, 삼각형 및 유사 형태로 제공될 수 있다는 것을 인지할 것이다.In the embodiment shown in the figures, the
이 시점에서, 도 4g에 도시된 바와 같이, 기초 봉(13)은, 전도성 필라멘트(3)가 적어도 부분적으로 고정될 수 있도록 그리고 상기 하나 이상의 스패터 억제 요소가 종방향 채널(4) 내에 고정될 수 있도록 하는 방식으로 변형된다. At this point, as shown in Fig. 4G, the
이러한 목적을 위해, 예컨대 기초 봉(13)은 2개의 압연 밀 사이에서, 또는 대안으로 2개 이상의 다이판 사이에서 진행할 수 있다. For this purpose, for example, the
이어서, 도면에 축선 X-X 자체에 의해 나타내는 종방향 축선에 관하여 리세스(4)가 나선형 경로를 따라 배치되도록 하기 위해 기초 봉(13)에 비틀림이 가해진다. 용접봉(13)에 가해지는 비틀림은, 리세스(4)와 전도성 필라멘트(3)가 용접봉의 길이의 매 5 미터마다 용접봉 자체의 종방향 축선(X-X) 둘레에서 적어도 1회의 완전한 회전을 이루도록 되어 있다. 이 방식에서, 용접 중에, 금속 필라멘트(3)로부터 그리고 스패터 억제 요소로부터 해방되는 이온들이 발생되어 용접 토치에 존재하는 접촉 팁의 전체 내표면 상에 퇴적된다. Then, the
마지막으로, 기초 봉(13)은 도 4i에 도시된 바와 같이 원하는 최종 단면 크기에 도달할 때까지 드로잉 또는 압연될 수 있다.Finally, the
도 5a 내지 도 5d에서, 제조 방법의 다양한 단계들 동안의, 기초 봉과 필라멘트(3)의 단면이 도시되어 있다.5A-5D, cross-sections of the base rods and
구체적으로, 도 5a에는, 확인될 수 있는 바와 같이, 종방향 채널이 비어 있는 것으로 보이는 포위된 부분에서 종방향 채널(4)을 구현하는 단계 직후의 봉의 단면도가 도시되어 있다.Specifically, FIG. 5A shows a cross-sectional view of the rod immediately after the step of implementing the
도 5b에서, 채널(4)이 그 내측에 전도성 필라멘트(3)를 갖고 있는 확대된 포위 부분에 나타낸 바와 같이, 전도성 필라멘트(3)의 퇴적 단계 후의 봉(13)이 도시되어 있다.In Fig. 5b, the
이 단계에서, 채널(4)은 전도성 필라멘트(3)의 단면보다 큰 단면을 갖고, 종방향 채널(4)의 측벽은 전도성 필라멘트(3)로부터 분리되어 있다.In this step, the
채널에 관한 도 5c에서, 바람직하게는 금속 전도성 필라멘트(3) 아래에 분무되는 스패터 억제 요소의 퇴적 후의 기초 봉(13)이 도시되어 있다.In Fig. 5c with respect to the channel, the
다른 양태에서, 스패터 억제 요소는, 전도성 필라멘트(3)가 삽입되고 스패터 억제 요소가 채널(4)의 벽과 전도성 필라멘트(3) 사이의 계면에, 바람직하게는 채널(4)의 하부 벽과 전도성 필라멘트(3)의 표면의 하부 사이의 하부 계면에 있게 되기 전에, 예컨대 용액 내에 퇴적된다.In another aspect, the spatula suppression element is configured such that the
도 5c에서, 기초 봉(13)은 또한, 전도성 필라멘트(3) 및 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소가 채널(4) 내에 적어도 부분적으로 고정될 수 있도록 하기 위해 와이어 봉(12)을 워핑(warping)하는 추가 단계를 거치게 된다. 5c the
마지막으로, 도 5d에서, 기초 봉(13)은 원하는 크기를 취한 완성된 용접봉(130)이 된 상태로 도시되어 있다. Finally, in Fig. 5D, the
도 3에서, 일례로, 본 발명에 따른 용접봉(130)을 제조하는 방법의 일부를 수행하기 위한 기계(10)의 일부가 도시되어 있다.In Figure 3, by way of example, a portion of a
이 기계(10)에서, 용접봉(130)으로 되는 와이어 봉(12)이 화살표(F)의 방향으로 전방을 향해 이동한다.In the
도 3에 도시되지 않은 표면 산화물의 제1 제거 작업, 와이어 봉(12)의 크기 설정 작업, 및 표면 준비 후에, 기초 봉(13)이 제1 성형 롤(26)과 제2 성형 롤(27) 사이에 삽입된다.The
성형 롤들 중 적어도 하나는, 기초 봉(13)의 외표면 상에서, 길이 방향으로 그리고 축선(X-X)에 의해 도면에 나타낸 봉(13)의 종축과 평행하게 연장되는 채널(4)을 생성하게 하는 표면 형상을 갖는다.At least one of the shaping rolls is formed on the outer surface of the
도 3에 도시된 실시예에서, 제1 성형 롤(26) 및 제2 성형 롤(27)은 봉(13)이 이들 성형 롤 사이를 통과하게 하도록 서로 대향되고 떨어져 있다.In the embodiment shown in Fig. 3, the first forming
또한, 도 3에 도시된 실시예를 참조하면, 제1 성형 롤(26)은 그 외표면으로부터 반경 방향으로 연장되는 원주 방향 프로미넌스(30; prominence)를 포함한다. Also, with reference to the embodiment shown in FIG. 3, the first forming
프로미넌스(30)는 기초 봉(13)의 표면에 강제적으로 압박됨으로써, 종방향으로 연장되는 채널(4)을 형성한다. 채널(4)은 도 5a에서 실질적으로 둥근 U자 형상의 단면을 갖는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 채널(4)은 본 발명의 보호 범위로부터 벗어남이 없이, 예컨대 직사각형, V자형, 또는 유사 형태 등의 다양한 단면을 가질 수 있다.The
더욱이, 종방향 채널(4)의 크기는 채널 내에 퇴적되는 재료의 크기 및 특정한 형상에 따라 선택될 수 있고, 금속 필라멘트의 적어도 일부가 결과적인 용접봉의 표면을 향해 노출되는 것을 보장하도록 선택될 수 있다. 채널(4)의 형상 및 크기는 채널(4)을 형성하는 데에 사용되는 원주 방향 프로미넌스(30)를 선택함으로써 제어될 수 있다.Moreover, the size of the
성형 롤(26, 27)의 하류측에서, 또한 도 3의 실시예를 참조하면, 기초 봉(13)은 채널(4) 내에 및/또는 금속 필라멘트 상에 예정된 양의 하나 이상의 스패터 억제 요소를 퇴적하도록 되어 있는 분무 노즐 또는 적하 장치(31) 아래로 진행한다.On the downstream side of the forming rolls 26, 27 and also referring to the embodiment of figure 3, the
노즐(31)의 하류측에서, 기계(10)는 전도성 필라멘트(3)를 채널(4) 내에 퇴적시키는 장치(32)를 제공한다. On the downstream side of the
스풀(33)이 장치(32)로서 마련될 수 있고, 기초 봉(13)이 스풀(33) 아래를 진행함에 따라, 스풀(33)로부터 연속적으로 인출되는 전도성 필라멘트(3)가 종방향 채널(4) 내에 퇴적될 수 있다.A
여전히 도 3을 참조하면, 장치(32)의 하류측에서, 기초 봉(13)은 한 쌍의 다이판(35, 36)을 통해 진행하게 된다.Still referring to Fig. 3, on the downstream side of the
다이판(35, 36)은, 종방향 채널(4)의 벽이 내측을 향하게 강제함으로써 금속봉(13)을 압착하도록 성형 및 배치되어, 전도성 필라멘트(3)는 스패터 억제 요소와 함께 금속봉(13) 내측에서 부분적으로 또는 전체적으로 둘러싸인다. 이 단계에서의 단면은 도 5c에 도시되어 있다. The
금속봉 그리고 특히 종방향 채널(4)의 내벽이 금속 필라멘트와 인터페이스를 형성하게 되어, 전도성 필라멘트(3)가 용접봉(13)과 부착된다. 전도성 필라멘트(3)는, 용접봉(13)에서 그 안정된 위치 설정을 보장하도록 되어 있는 다양한 방법에 의해 용접봉(13)과 결합될 수 있다.The metal rods and in particular the inner walls of the
전도성 필라멘트(3)를 종방향 채널(4) 내에 퇴적시키는 장치(32)의 하류측에서, 기초 봉(13)은, 비틀림을 용접봉(13)에 대해, 그리고 이에 따라 종방향 축선(X-X) 둘레의 금속 필라멘트(3)에 대해 가할 수 있는 장치(37)에 의해 처리되어, 종방향 채널(4) 및 이에 따라 전도성 필라멘트(3)가 나선형 경로를 취하게 된다.On the downstream side of the
용접봉(13)에 가해지는 비틀림은, 리세스(4)와 전도성 필라멘트(3)가 용접봉의 길이의 매 5 미터마다, 바람직하게는 용접봉의 길이의 매 4 미터마다 용접봉 자체의 종방향 축선(X-X) 둘레에서 적어도 1회의 완전한 회전을 이루도록 되어 있다.The twisting applied to the
비틀림 단계의 종료점에서, 용접봉(13)은 봉의 직경을 원하는 최종 크기와 외부 프로파일로 감축시키는 감축 장치(44) 내에 놓일 수 있다. 이 단계에서의 단면은 도 5d에 도시되어 있다.At the end of the twisting step, the
이 지점에서, 용접봉(13)은, 원하는 치수로 절단되어 포장될 수 있거나 또는 추가 처리 단계에 대해 준비된다.At this point, the
전술한 프로세스 및 기계는, 용접 중에 최소량의 스패터를 발생시키는 용접봉(130), 특히 개선된 MIG/MAG 용접봉을 구현하게 한다.The above-described processes and machines enable the implementation of a
용접봉(130)은 종방향 축선(X-X)을 따라 연장되는 실모양(filiform)의 요소처럼 보이고, 제1 기초 재료로 제조되며, 대체로 완성품의 일반적인 상세내역(예컨대, ER70S-2, ER70S-3, ER70S-6)을 나타낸다. 용접봉(130)은 적어도 하나의 전도성 필라멘트(3)와 적어도 하나의 스패터 억제 요소를 포함한다.The
실모양의 요소는, 종방향을 따라 연장되는 채널(4)을 포함하고, 바람직하게는 채널(4)은 나선형 경로를 따르도록 배치된다. 바람직하게는, 상기 나선형 경로는 봉 자체의 길이의 매 5 미터마다, 바람직하게는 매 4 미터마다 봉의 종방향 축선(X-X) 둘레에서 적어도 1회의 회전을 완성한다.The thread-like element comprises a channel (4) extending along the longitudinal direction, and preferably the channel (4) is arranged to follow a spiral path. Preferably, the helical path completes at least one revolution about the longitudinal axis X-X of the rod every 5 meters of the length of the rod itself, preferably every 4 meters.
전도성 필라멘트(3)는 바람직하게는 나선형 채널(4)의 내측에 배치되고, 바람직하게는 전도성 필라멘트의 일부가 종방향 채널의 외측으로 노출되도록 구성될 수 있다. The
스패터 억제 요소는 바람직하게는 전도성 필라멘트 아래에서 채널(4)의 내측에 위치 설정된다. The sputter suppression element is preferably positioned inside the
바람직하게는, 제1 기초 재료는, GMAW 용접, GTAW 용접, 및 SAW 용접에 일반적으로 사용되는 바와 같이, 저탄소강, 저합금강, 스테인리스강, 및 알루미늄으로부터 선택된다.Preferably, the first base material is selected from low carbon steels, low alloy steels, stainless steels, and aluminum, as is commonly used in GMAW welding, GTAW welding, and SAW welding.
바람직하게는, 철계 기초 재료를 갖는 피스(piece)가 용접되는 용례의 경우에, 본 발명에 따른 제1 기초 재료는 GMAW 용접, GTAW 용접, 및 SAW 용접에 일반적으로 사용되는 바와 같이, 저탄소강, 저합금강, 스테인리스강으로부터 선택된다.Preferably, in the case of an application where a piece with an iron-based base material is welded, the first base material according to the invention may be a low carbon steel, such as those commonly used in GMAW welding, GTAW welding, and SAW welding, Low alloy steel, stainless steel.
제1 실시예에 따르면, 필라멘트(3)는 알루미늄으로 제조되는 전도성 필라멘트이다.According to the first embodiment, the
대안으로, 필라멘트는 구리로 제조되는 전도성 필라멘트이다. 대안으로, 필라멘트는 구리-알루미늄 합금에 의해 구성되는 전도성 필라멘트이다. Alternatively, the filament is a conductive filament made of copper. Alternatively, the filament is a conductive filament comprised of a copper-aluminum alloy.
편의에 따라, 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소는 알칼리 금속, 몰리브덴, 텅스텐 및 그래파이트로부터 선택되고, 그 원소 형태 및 그 염과 복합 분자의 형태가 모두 포함된다.Conveniently, the at least one sputter inhibiting element is selected from alkali metals, molybdenum, tungsten and graphite, including both its elemental form and its salt and complex molecule forms.
제한이 아닌 예시적인 제1 실시예에서, 필라멘트(3)는 구리로 제조되고, 예컨대 AWS 규정에 따라 특정한 용례에 의해 요청될 수 있는 바와 같이, 와이어 봉(12)에 관하여 0.23%의 원하는 중량%의 구리에 대응하여, 약 0.25 mm의 직경을 갖는다. 칼륨 테트라보레이트 테트라하이드레이트(potassium tetraborate tetrahydrate) 형태의 스패터 억제 요소는, 50 내지 200 ppm 사이에서 구성되는 양으로 구리 필라멘트(3) 아래에서 종방향 리세스(4) 내에 둘러싸인다. 이 구성은 우수한 아크 안정성에 추가하여 최소 레벨의 스패터를 보장한다. In an exemplary first non-limiting embodiment, the
다른 실시에에서, 필라멘트(3)는 알루미늄으로 제조되고, 필라멘트(3)는 AWS 규정에 따라 특정한 용례에 의해 요청될 수 있는 바와 같이, 와이어 봉(12)에 관하여 0.06%의 중량%의 알루미늄에 대응하여 0.28 mm의 직경을 갖는다. 건조된 리튬 테트라보레이트(lithium tetraborate) 형태의 스패터 억제 요소가 10 내지 30 ppm 사이에서 구성되는 양으로 알루미늄 필라멘트 아래에서 둘러싸인다. 이 구성은, 우수한 용접성 및 최소 레벨의 스패터에 추가하여, 최소의 또는 제로(0)의 슬래그와 실리케이트 아일(silicate isle)을 갖는 매우 균일한 용접 라인을 얻는 것을 가능하게 한다.In another embodiment, the
본 발명의 다른 실시예에서, 필라멘트(3)는 구리로 제조되고, 필라멘트(3)는 0.25 mm의 직경을 갖는다. 세슘 카보네이트의 형태이고 1:1의 비율로 칼륨 카보네이트가 첨가된 스패터 억제 요소가 구리 필라멘트 아래에서 둘러싸이고, 세슘은 50 내지 300 ppm 범위의 양으로 존재한다. 이 구성은, 불활성 아르곤 혼합물을 이용한 용접 중에 우수한 용접성과 매우 낮은 레벨의 스패터에 추가하여, 실제 용접에서 요망되는 범위 내의 전류 레벨에서의 정극성(straight polarity)을 나타내면서, 스패터가 없는 안정적인 아크를 나타내면서, 그리고 가스 중단 없이 순수 이산화탄소 분위기에서 분무 용접이 가능하게 한다.In another embodiment of the present invention, the
또 다른 실시예에서, 적어도 하나의 상기 필라멘트는 구리로 제조되고, 스패터 억제 요소는 세슘과 칼륨의 혼합물을 포함한다.In yet another embodiment, at least one of the filaments is made of copper and the sputter suppression element comprises a mixture of cesium and potassium.
그렇게 제조된 용접봉은, 아르곤 분위기에서 역극성(reverse polarity)을 갖고 안정적인 아크를 가지며 스패터가 없도록 얻어진 것과 비슷한 방식으로 정극성을 나타내면서 순수 이산화탄소 분위기에서 분무 용접이 가능하게 한다.The electrode thus produced has a reverse polarity in an argon atmosphere and has a stable arc and allows spray welding in a pure carbon dioxide atmosphere in a manner similar to that obtained so that there is no spatter.
또 다른 실시예에서, 전도성 필라멘트(3)는 구리-알루미늄 합금으로 제조되고, 필라멘트(3)는 0.20 mm의 직경을 갖는다. 칼륨, 리튬, 세슘, 그래파이트, 몰리브덴 및 텅스텐으로부터의 적어도 하나의 원소를 포함하는 혼합물의 형태인 스패터 억제 요소는 50 내지 300 ppm 사이에서 구성되는 양으로 구리와 알루미늄 필라멘트 아래에서 둘러싸인다. 이 구성은, 최소 레벨의 스패터를 보장하는 것에 추가하여, 최소의 또는 제로(0)의 슬래그와 실리케이트 아일(silicate isle)을 갖는 매우 균일한 용접 라인을 얻는 것을 가능하게 한다. In another embodiment, the
몇몇 실시예를 참조하여 본 발명이 설명되었다. 본 명세서에서 상세하게 제시한 실시예에 대해서, 아래의 청구범위에 의해 한정되는 본 발명의 보호 범위를 유지하면서 다양한 변형이 이루어질 수 있다. The invention has been described with reference to several embodiments. Various modifications may be made to the embodiments presented in detail herein without departing from the scope of protection of the invention as defined by the following claims.
Claims (19)
- 종방향 축선(X-X)을 따라 연장되고 제1 기초 재료로 제조되는 실모양(filiform)의 요소;
- 적어도 하나의 전도성 필라멘트(3);
- 적어도 하나의 스패터 억제 요소
를 포함하고,
상기 실모양의 요소는 종방향을 따라 연장되는 채널(4)을 포함하며,
적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트(3)는 상기 채널(4)의 내측에 배치되고,
적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소는 상기 채널(4)의 내측에 배치되는 것인 용접봉. As the electrode 130,
A filiform element extending along the longitudinal axis XX and made of a first base material;
At least one conductive filament (3);
- at least one sputter suppressing element
Lt; / RTI >
The thread-like element comprises a channel (4) extending along the longitudinal direction,
At least one conductive filament (3) is disposed inside the channel (4)
Wherein at least one of said sputter suppression elements is disposed inside said channel (4).
- 적어도 하나의 전도성 필라멘트(3);
- 적어도 하나의 스패터 억제 요소
를 포함하는 용접봉을 제조하는 방법으로서,
- 상기 실모양의 요소는 상기 종방향 축선(X-X)에 대해 평행한 방향을 따라 연장되는 채널을 포함하고,
- 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트(3)는 상기 채널(4)의 내측에 배치되며,
- 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소는 상기 채널(4)의 내측에 배치되고,
상기 방법은,
- 제1 기초 재료로 제조되는 와이어 봉(12)에 채널을 형성하는 단계;
- 예정된 양의 적어도 하나의 스패터 억제 요소를 퇴적시키는 단계;
- 상기 채널(4) 내에 적어도 하나의 전도성 필라멘트(3)를 퇴적시키는 단계;
- 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트(3)와 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소를 상기 채널(4)의 내측에 적어도 부분적으로 고정시키도록 와이어 봉(12)을 워핑(warping)하는 단계
를 포함하는 용접봉의 제조 방법.A thread-like element extending along the longitudinal axis XX and made of a first base material;
At least one conductive filament (3);
- at least one sputter suppressing element
A method of manufacturing a welding electrode comprising:
Said thread-like element comprising a channel extending in a direction parallel to said longitudinal axis (XX)
- at least one conductive filament (3) is arranged inside the channel (4)
- at least one said sputter suppressing element is arranged inside said channel (4)
The method comprises:
- forming a channel in a wire rod (12) made of a first base material;
Depositing a predetermined amount of at least one sputter inhibiting element;
Depositing at least one conductive filament (3) in said channel (4);
- warping the wire rod (12) so as to at least partly fix at least one said conductive filament (3) and at least one said sputter suppression element inside said channel (4)
Wherein the electrode is formed of a metal.
상기 전도성 필라멘트(3)가 나선형 경로를 따라 배치되도록 적어도 하나의 상기 전도성 필라멘트(3)와 적어도 하나의 상기 스패터 억제 요소를 채널(4) 내에 적어도 부분적으로 고정시키기 위하여, 상기 와이어 봉(12)을 변형시키는 단계 후에, 상기 와이어 봉(12)에 비틀림을 가하는 단계
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 용접봉의 제조 방법.16. The method of claim 15,
In order to at least partly fix at least one said conductive filament (3) and at least one said sputter inhibiting element in a channel (4) so that said conductive filament (3) is arranged along a spiral path, , A step of applying a twist to the wire rod (12)
Further comprising the steps of:
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