KR20160117063A - Optical sheet comprising cadmium free quantum dots - Google Patents

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KR20160117063A
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Abstract

The present invention relates to an optical sheet comprising non-cadmium quantum dots. According to various embodiments of the present invention, the optical sheet can exhibit excellent color purity and efficiency when applied to a display by producing the optical sheet comprising the quantum dots not using cadmium to be environmentally friendly while replacing an optical sheet including conventional cadmium-based quantum dots.

Description

비카드뮴계 양자점을 포함하는 광학 시트{Optical sheet comprising cadmium free quantum dots}An optical sheet comprising cadmium free quantum dots,

본 발명은 비카드뮴계 양자점을 포함하는 광학 시트에 관한 것이다.The present invention relates to an optical sheet comprising a non-cadmium-based quantum dot.

양자점(quantum dot)은 수 나노 크기의 결정 구조를 가진 반도체 물질로서, 그 크기에 따라 파장이 다른 특성을 지니고 있어, 양자점을 형광물질 또는 발광물질로 사용함에 따라, 디스플레이의 특성을 향상시키거나 디스플레이 자체로 활용할 수 있음이 알려져 있고, 특히 양자점은 백라이트 유닛(BLU)에 들어가는 고분자 광학 필름 내에 소량으로 결합하여 구성되고 있다.The quantum dot is a semiconductor material having a crystal structure of several nanometers in size and has different wavelengths depending on its size. As the quantum dot is used as a fluorescent material or a light emitting material, It is known that the quantum dots can be utilized by themselves. In particular, the quantum dots are formed by bonding in a small amount into a polymer optical film entering a backlight unit (BLU).

현재 가장 성능과 신뢰성이 좋은 양자점은 카드뮴 기반의 양자점으로, 현재 시장에 나온 양저짐 시트로는 3M사와 나노시스가 공동개발한 제품(Amazon Kindle Fire HDX 7", 8.9" 탑재)이 유일했으나, 카드뮴을 포함하고 있는 문제점이 있다.At present, the most reliable and high-performance quantum dots are cadmium-based quantum dots. Currently, the only commercially available jumjim sheet is Amazon Kindle Fire HDX 7 ", 8.9", which was developed jointly by 3M and NanoSys. There is an issue involving.

카드뮴을 유해물질로 지정한 유럽에서는 2016년까지 카드뮴 디스플레이에 대한 사용을 1 제곱미터 디스플레이 면적당 10 g 이하까지는 유예해 준 상태이지만, 지속적으로 유예를 중단하라는 요구가 유럽 각국에서 나오고 있는 상황이다.In Europe where cadmium has been identified as a hazardous substance, the use of cadmium displays by 2016 has been deferred to less than 10 g per square meter of display area, but there is a growing demand from European countries to continue the suspension.

미국 화학업체 다우 케미칼은 비카드뮴계 양자점 개발, 제조 업체인 나노코로부터 카드뮴 없는 양자점의 제조, 판매에 대한 글로벌 독접권을 확보하고 있고, 3M 사도 카드뮴 함량이 100 ppm 이하인 양자점 제품을 개발 중에 있다.US chemical company Dow Chemical has secured a global patent right for the manufacture and sale of cadmium-free quantum dots from Nanoko, a non-cadmium-based quantum dot developer and manufacturer. 3M is also developing quantum dot products with cadmium content of 100 ppm or less.

그러나 여전히 카드뮴 계열의 양자점보다는 비카드뮴계 양자점의 발광 효율이 떨어지므로 발광 효율이 우수한 카드뮴이 없는 친환경 양자점 개발이 요구되고 있다.However, since the emission efficiency of non-cadmium-based quantum dots is lower than that of cadmium-based quantum dots, development of environmentally friendly quantum dots without cadmium having excellent luminous efficiency is required.

Jaehoon Lim et. al., ACS Nano, 2013, 7(10), 9019-9026. Jaehoon Lim et. al., ACS Nano, 2013, 7 (10), 9019-9026.

본 발명은 양자점을 포함하는 광학 시트에 있어서, 환경적으로 유해한 카드뮴계 양자점을 사용하던 종래의 기술과는 달리, 비카드뮴계 양자점을 사용함으로써, 환경오염 위험이 없으며, 나아가 양자점이 분산된 고분자 레진층을 패턴화함으로써 양자점 사용양을 줄이더라도 높은 색순도와 색재현율을 얻을 수 있는 광학 시트를 제공하고자 하였다.Unlike the prior art in which cadmium-based quantum dots are environmentally harmful in the optical sheet containing quantum dots, the present invention uses a non-cadmium-based quantum dots to eliminate the risk of environmental pollution, The present invention provides an optical sheet capable of achieving high color purity and color reproducibility even if the amount of quantum dots used is reduced by patterning the layer.

본 발명의 일실시예에서 고분자 수지에 복수의 비카드뮴계 양자점이 분산되며, 일면 또는 양면이 패턴화된 고분자 레진층; 상기 고분자 레진층의 일면에 형성된 제1 배리어 필름; 및 상기 고분자 레진층의 또 다른 일면에 형성된 제2 배리어 필름;을 포함하는 광학 시트를 제공한다.In one embodiment of the present invention, a polymer resin layer in which a plurality of non-cadmium-based quantum dots are dispersed in a polymer resin and patterned on one side or both sides; A first barrier film formed on one side of the polymer resin layer; And a second barrier film formed on another side of the polymer resin layer.

본 발명의 광학 시트는, 종래 카드뮴 기반의 양자점을 포함하는 광학 시트를 대신할 수 있으면서 친환경적이다.The optical sheet of the present invention can replace an optical sheet including cadmium-based quantum dots in the past and is environmentally friendly.

한편, 본 발명의 광학 시트는, 양자점이 분산되 고분자 레진층이 패턴화됨으로써, 적은 양의 양자점으로도 우수한 색순도와 색재현율을 나타낼 수 있다. On the other hand, in the optical sheet of the present invention, the quantum dots are dispersed and the polymer resin layer is patterned, whereby excellent color purity and color reproducibility can be exhibited even with a small quantum dot.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따라 비카드뮴계 양자점이 분산된 고분자 레진층이 프리즘 패턴화된 광학 시트를 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따라 비카드뮴계 양자점이 분산된 고분자 레진층에 렌즈 패턴화된 광학 시트를 나타낸 것이다.
FIG. 1 shows an optical sheet in which a polymer resin layer in which non-cadmium-based quantum dots are dispersed is prism-patterned according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 illustrates a lens patterned optical sheet in a polymer resin layer in which non-cadmium-based quantum dots are dispersed according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 구체적으로 살펴본다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 일실시예에 따른 광학 시트는 고분자 수지에 복수의 비카드뮴계 양자점이 분산되며, 일면 또는 양면이 패턴화된 고분자 레진층; 상기 고분자 레진층의 일면에 형성된 제1 배리어 필름; 및 상기 고분자 레진층의 또 다른 일면에 형성된 제2 배리어 필름;을 포함한다.
The optical sheet according to an embodiment of the present invention includes a polymer resin layer in which a plurality of non-cadmium-based quantum dots are dispersed in a polymer resin and patterned on one side or both sides; A first barrier film formed on one side of the polymer resin layer; And a second barrier film formed on the other surface of the polymer resin layer.

상기 고분자 레진층은 고분자 수지를 매트릭스로 하여, 상기 매트릭스 내에 복수의 비카드뮴계 양자점이 분산되어 형성된 것으로서, 1층 이상의 층구조를 가지는 것일 수 있다.The polymer resin layer may be formed by dispersing a plurality of non-cadmium-based quantum dots in the matrix using a polymer resin as a matrix, and may have a layer structure of one or more layers.

본 발명의 일실시예에서, 상기 매트릭스로 사용되는 고분자 수지는 낮은 산소 및 수분 투과성을 가지는 것이 바람직하며, 또한 높은 광 안정성 및 화학적 안정성을 가지는 것이 바람직하다. In one embodiment of the present invention, the polymer resin used as the matrix preferably has low oxygen and moisture permeability, and also preferably has high light stability and chemical stability.

본 발명의 일실시예에서, 상기 고분자 수지는 예를 들어, 에폭시, 에폭시 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리에틸렌, 폴리스타이렌, 에틸렌-스타이렌 공중합체, 비스페놀 A및 비스페놀 A유도체가 포함된 아크릴레이트, 플루오렌 유도체가 포함된 아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 폴리페닐알킬실록산, 폴리디페닐실록산, 폴리디알킬실록산, 실세스퀴옥산, 플루오르화 실리콘, 비닐 및 수소화물 치환 실리콘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지가 포함될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the polymeric resin may be selected from the group consisting of epoxy, epoxy acrylate, lauryl acrylate, norbornene, polyethylene, polystyrene, ethylene-styrene copolymers, bisphenol A and bisphenol A derivatives Acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, acrylonitrile, At least one kind of polymer resin selected from the group consisting of

한편, 상기 사용되는 고분자 수지는 WVTR=10-2g/m2/day 이하의 수분 투과성 및 OTR=10-2cc/m2/day이하의 산소 투과성을 가지는 것일 수 있다. On the other hand, the polymer resin used may have water permeability of WVTR = 10 -2 g / m 2 / day or less and oxygen permeability of OTR = 10 -2 cc / m 2 / day or less.

한편, 상기 WVTR(Water Vapor Transmission Rate)은 어떤 물질을 통해서 수분이 투과하는 정도를 나타내는 것으로서, 하루에 1m2 면적을 통하여 얼마만큼의 수분이 기재를 통과하는지를 나타낸 수치이며, 측정 조건은 장비 및 측정 방법에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 대표적인 장비인 MOCON Aquatron 기준으로 38도 100% 조건에서 측정한 것일 수 있다.The water vapor transmission rate (WVTR) represents the degree of water permeation through a certain material, and indicates how much moisture passes through the substrate through an area of 1 m 2 per day. The measurement conditions include equipment and measurement It depends on the method. For example, MOCON Aquatron, a typical instrument, can be measured at 38 degrees and 100 percent.

한편, 상기 OTR(Oxygen Transmission Rate)은 어떤 물질이 산소를 얼마나 투과시키는지를 나타내는 것으로서, 하루에 1m2 면적을 통하여 얼마만큼의 산소가 기재를 통과하는지를 나타낸 수치이며, 측정 규격은 ASTM D-3985로 규정되어 있다. 예를 들어, 대표적인 장비인 MOCON Ox-Tran 기준으로 측정할 수 있다.
Meanwhile, the OTR (Oxygen Transmission Rate) indicates how much oxygen permeates through a substance, and indicates how much oxygen passes through the substrate through an area of 1 m 2 per day. The measurement standard is ASTM D-3985 . For example, it can be measured by MOCON Ox-Tran, a representative equipment.

한편, 상기 양자점은 실질적으로 단결정질인 나노구조들을 지칭하는 것으로서, 상기 양자점은 광원으로부터 방출된 1차 광을 흡수한 다음, 2차 광을 방출할 수 있으며, 상기 양자점의 크기에 따라 파장이 다른 광을 방출할 수 있다. 한편, 상기 양자점의 전형적인 크기는 1 내지 10 nm일 수 있는데, 상기 양자점의 크기가 4 내지 5nm 인 경우 광원으로부터 1차 광을 흡수한 후 적색을 가지는 2차 광을 방출할 수 있고, 2 내지 3nm 인 경우 광원으로부터 1차 광을 흡수한 후 녹색을 가지는 2차 광을 방출할 수 있다. The quantum dots refer to substantially monocrystalline nanostructures. The quantum dots may emit secondary light after absorbing primary light emitted from the light source, and may emit secondary light according to the size of the quantum dots. Light can be emitted. The quantum dot may have a typical size of 1 to 10 nm. When the quantum dot has a size of 4 to 5 nm, it may emit secondary light having a red color after absorbing the primary light from the light source. It is possible to emit secondary light having green after absorbing the primary light from the light source.

한편, 상기 양자점은 고분자 매트릭스 내에 균일하게 분산될 수 있으며, 상기 고분자 레진층이 다층 구조인 경우, 층층마다 다른 크기의 양자점이 배치될 수도 있으며, 단일 층 내에 서로 다른 크기의 양자점이 혼재되어 분산된 형태를 가질 수도 있다. On the other hand, the quantum dots can be uniformly dispersed in the polymer matrix. When the polymer resin layer has a multi-layer structure, quantum dots having different sizes may be arranged for each layer layer, and quantum dots having different sizes may be mixed and dispersed Shape.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 양자점은 비카드뮴계 양자점이며, 본 발명에 사용하기 위한 양자점들은 임의의 적합한 무기 재료를 포함할 수 있다. Meanwhile, the quantum dot according to an embodiment of the present invention is a non-cadmium quantum dot, and the quantum dots for use in the present invention may include any suitable inorganic material.

본 발명의 일실시예에서, 상기 비카드뮴계 양자점은 II-VI 족, III-V족, IV-VI 족 및 IV 족 반도체로 이루어지는 군에서 선택되는 무기 재료를 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the non-cadmium-based quantum dot may comprise an inorganic material selected from the group consisting of Group II-VI, Group III-V, Group IV-VI and Group IV semiconductors.

본 발명의 일실시예에서, 상기 비카드뮴계 양자점은 Si, Ge, Sn, Se, Te, B, C, P, BN, BP, BAs, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, InSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, BeS, BeSe, BeTe, MgS, MgSe, GeS, GeSe, GeTe, SnS, SnSe, SnTe, PbO, PbS, PbSe, PbTe, CuF, CuCl, CuBr, CuI, Si3N4, Ge3N4 및 이들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 무기 재료를 포함할 수 있다.
In one embodiment of the present invention, the non-cadmium-based quantum dots include Si, Ge, Sn, Se, Te, B, C, P, BN, BP, BAs, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, BeS, BeSe, BeTe, MgS, MgSe, ZnSe, ZnSe, ZnSe, ZnSe, ZnSe, ZnSe, InP, InAs, InSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GeS, GeSe, GeTe, SnS, SnSe, SnTe, PbO, PbS, PbSe, PbTe, CuF, CuCl, CuBr, CuI, Si 3 N 4, Ge 3 N 4 and one or more kinds selected from the group consisting of a combination of And may include an inorganic material.

한편, 상기 고분자 레진층의 두께는 10 내지 100um일 수 있다. 상기 고분자 레진층의 두께가 10um 미만인 경우 일정 수준의 색변환 물성을 만족시키기 위하여 양자점이 두꺼운 레진층 대비 더 높은 밀도로 존재 하여야 하며 이러한 경우 양자점들 간의 간격이 매우 좁아져 발광시 발생하는 열에 의한 양자점들의 degradation이 가속화되어 나타나는 효율 저하 또는 1차 광원으로부터 빛을 흡수하여 2차로 발광되는 빛을 옆에 있던 다른 양자점들이 지속적으로 흡수하여 발생할 수 있는 효율 저하가 예상되며, 100um 초과인 경우 고밀도 양자점에 의해 발생하는 효율 저하는 발생하지 않을 수 있거나 그 정도가 낮아지겠으나, 제품화시 코팅 공정에서의 두께 균일도 저하 문제 및 제품 권취 시 발생 할 수 있는 curl 문제, 롤당 권취량 저하, 대구경 코어 적용 등의 최종 제품의 불량 발생이나 생산 비용 증대 등의 경제성이 문제 될 수 있다. Meanwhile, the thickness of the polymer resin layer may be 10 to 100 mu m. When the thickness of the polymer resin layer is less than 10 탆, the quantum dots must exist at a higher density than the thick resin layer in order to satisfy a certain level of color conversion property. In this case, the interval between the quantum dots is very narrow, The degradation of efficiency caused by accelerating the degradation of the first light source or absorbing light from the first light source is expected to result in a decrease in efficiency that can be caused by the continuous absorption of the second quantum dots by the adjacent quantum dots. However, there is a problem in that the uniformity of the thickness in the coating process during production is lowered, the curl problem that may occur when winding the product, the lowering of the winding per roll, and the application of a large diameter core And the economical efficiency such as the increase of the production cost Can.

더 상세하게는 고분자 레진층의 두께가 100um 초과시, 100um 이하의 얇은 기재를 적용하게 될 경우, 경화시 발생하는 열에 의한 주름에 취약하게 되어 후막의 기재가 필요로 하게 되며, 이러한 경우 최종 제품의 두께가 약 400um 에 육박하게 되므로 앞서 언급한 권취시 문제 발생을 야기시키거나 실제로 BLU에 적용시 전체 기구의 두께를 증가시키는 단점을 발생시킬 수 있다.
More specifically, when the thickness of the polymer resin layer is more than 100 μm, when a thin substrate having a thickness of 100 μm or less is applied, it becomes vulnerable to wrinkles due to heat generated during curing, thus requiring a thick film substrate. In this case, Is about 400um, which may cause a problem in the above-mentioned winding or actually increase the thickness of the whole mechanism when applied to the BLU.

한편, 상기 고분자 레진층의 일면 또는 양면에는 패턴화가 이루어질 수 있다. 상기 패턴화는 도광판으로부터 방출되는 1차 광을 효율적으로 확산시킴으로써, 1차 광이 고분자 레진층에 분산된 양자점과 쉽게 만나 2차 광을 방출하기 용이하게 하기 위한 것이며, 상기와 같은 패턴화를 통하여 사용되는 양자점의 양을 현저히 줄일 수 있어 경제성을 확보할 수 있다. 이러한 패턴을 통과시 일부의 빛들은 반사를 통하여 재활용되어 양자점과 만나는 횟수 및 확률을 증대시켜주는 역할을 하여 양자점의 양을 줄여서 경제성을 확보할 수 있다.On one side or both sides of the polymer resin layer, patterning may be performed. The patterning is for efficiently diffusing the primary light emitted from the light guide plate so that the primary light easily comes into contact with the quantum dot dispersed in the polymer resin layer to facilitate the secondary light emission. The amount of quantum dots to be used can be remarkably reduced, and economical efficiency can be secured. When passing through this pattern, some of the light is recycled through reflection, thereby increasing the number and probability of meeting with the quantum dots, thereby reducing the amount of quantum dots and securing economical efficiency.

본 발명의 일실시예에서, 상기 고분자 레진층은 프리즘 패턴화된 것일 수 있다. 상기 프리즘 패턴화 시, 프리즘 패턴의 피치는 20 내지 70㎛이고, 꼭지각도는 95 내지 120°이며, 패턴의 단면은 삼각형일 수 있다. 양자점이 분산된 고분자 레진층 하부에 상기와 같이 프리즘 패턴화 됨으로써, 상기에서 언급한 양자점 효율을 증대시킬 수 있다. In one embodiment of the present invention, the polymeric resin layer may be a prism patterned. In the prism patterning, the prism pattern has a pitch of 20 to 70 mu m, a vertex angle of 95 to 120 DEG, and a cross-section of the pattern may be triangular. The quantum dot efficiency described above can be increased by forming the prism pattern below the polymer resin layer in which the quantum dots are dispersed.

한편, 본 발명의 또 다른 일실시예에서, 상기 고분자 레진층은 렌즈 패턴화된 것일 수 있다. 상기 렌즈 패턴화 시, 렌즈 패턴의 피치는 20 내지 70㎛이고, 피치 대 높이의 비율은 4 : 1 내지 10 : 1이며, 패턴의 단면은 반원형일 수 있다. 양자점이 분산된 고분자 레진층 하부에 상기와 같이 렌즈 패턴화 됨으로써, 상기에서 언급한 양자점 효율을 증대시킬 수 있다. Meanwhile, in another embodiment of the present invention, the polymer resin layer may be lens patterned. In the lens patterning, the pitch of the lens pattern is 20 to 70 mu m, the pitch to height ratio is 4: 1 to 10: 1, and the cross-section of the pattern may be semicircular. As described above, the quantum dot efficiency can be increased by forming the lens pattern below the polymer resin layer in which the quantum dots are dispersed.

상기와 같이 패턴화된 고분자 레진층의 굴절률은 1.49 내지 1.65범위가 되도록하는 경우 효율적일 수 있다. 패턴층의 굴절률이 1.49보다 낮은 경우는 1차 광원에서의 빛을 확산시키는 것은 유리하나 임계각이 줄어들어 전반사로 인한 빛의 재활용은 현저히 떨어지게된다. 반대로 굴절률이 1.65보다 높은 경우는, 임계각의 증가로 인한 전반사되는 빛이 많아져 빛의 재활용 특성은 현저히 좋아지게 되나, 너무 높은 굴절률로 인해 확산보다는 집광현상 비율 또한 많아지게 되므로 적합하지 않을 수 있다.
The refractive index of the patterned polymer resin layer may be effective when the refractive index is in the range of 1.49 to 1.65. When the refractive index of the pattern layer is lower than 1.49, it is advantageous to diffuse the light in the primary light source, but the critical angle is reduced and the recycling of light due to the total reflection is significantly reduced. Conversely, when the refractive index is higher than 1.65, the total reflection light due to the increase in the critical angle increases and the recycling characteristics of the light remarkably improve. However, since the refractive index is too high,

한편, 본 발명의 또 다른 일실시예에서 고분자 레진층은 하부에 단면이 다각형인 프리즘 패턴화될 수도 있고, 단면이 타원형인 렌즈 패턴화될 수도 있다. 이때, 상기 단면의 디멘션은 앞서 설명한 바와 동일할 수 있고, 굴절률 또한 동일할 수 있다. Meanwhile, in another embodiment of the present invention, the polymer resin layer may be a prism pattern having a polygonal cross section or a lens pattern having an elliptical cross section. At this time, the dimension of the cross section may be the same as described above, and the refractive index may be the same.

상기 패턴화를 거친 고분자 레진층은 패턴의 형상 및 고분자 레진층 두께에 따라 약간의 차이는 있지만 양자점 사용량을 2 내지 30% 줄일 수 있고, 패턴이 적용되지 않은 광학 시트 대비 약 10%이상 향상된 휘도를 확보할 수 있다.
Although the patterned polymer resin layer is slightly different depending on the pattern shape and the polymer resin layer thickness, the quantum dot usage can be reduced by 2 to 30%, and the brightness improved by about 10% or more compared to the optical sheet to which no pattern is applied .

한편, 상기 고분자 레진층은 상기 레진층의 일면 및 또 다른 일면에 제1 배리어 필름 및 제2 배리어 필름을 각각 포함할 수 있다. 한편, 본 발명에서 제1 및 제2 배리어 필름은 상호 구별을 위하여 임의로 순서를 매긴 것으로 이해하여야 한다.Meanwhile, the polymer resin layer may include a first barrier film and a second barrier film on one surface and the other surface of the resin layer, respectively. It is to be understood that the first and second barrier films in the present invention are arbitrarily ordered in order to distinguish them from each other.

상기 배리어 필름은 고분자 레진층 내의 양자점이 수분 또는 산소의 침투로 인하여 수명이 감소하는 것을 막아주는 역할을 수행하는 것으로서, 본 발명의 일실시예에서, 상기 배리어 필름은 기재, 상기 기재 상에 형성된 유기 배리어층 및 상기 유기 배리어층 상에 형성된 무기 배리어층을 포함하는 것일 수 있다. The barrier film serves to prevent the lifetime of the quantum dots in the polymer resin layer from being reduced due to penetration of moisture or oxygen. In one embodiment of the present invention, the barrier film includes a substrate, an organic A barrier layer and an inorganic barrier layer formed on the organic barrier layer.

상기 기재는 PET, COP, COC, PC, PMMA, TAC, 폴리이미드, 폴리에틸렌나프탈렌 등의 필름이 적용될 수 있으며, 기재 두께는 25um, 38um, 50um, 75um, 100um, 125um, 188um, 250um 등이 대표적이나 이에 한정하는 것은 아니다.The substrate may be a film of PET, COP, COC, PC, PMMA, TAC, polyimide, polyethylene naphthalene, etc. The substrate thickness is 25um, 38um, 50um, 75um, 100um, 125um, 188um, But is not limited thereto.

한편, 본 발명의 또 다른 일실시예에서, 상기 배리어 필름은 기재 상에 형성된 유기 배리어층 및 상기 유기 배리어층 상에 형성된 무기 배리어층을 포함하는 것일 수도 있다. Meanwhile, in another embodiment of the present invention, the barrier film may include an organic barrier layer formed on a substrate and an inorganic barrier layer formed on the organic barrier layer.

본 발명의 일실시예에서, 상기 유기 배리어층의 두께는 300 내지 1000 nm일 수 있다. 상기 유기 배리어층은 기재의 거칠은 조도를 평탄화 시켜주는 역할 및 배리어 성을 가지는 재료를 적용하여 수분 및 산소 투과도 저하를 도울 수 있다. 상기 유기 배리어층의 두께가 300 ㎚미만인 경우 기재 표면에 존재하는 이물, 핀홀 등을 평탄화 하는 효과가 떨어지게 되어 문제점이 있을 수 있고, 상기 유기 배리어층이 1000 ㎚ 초과인 경우 두께 균일도 및 crack 발생 가능성으로 수분이나 산소 투과 저하의 문제점이 있을 수 있다. In one embodiment of the present invention, the thickness of the organic barrier layer may be 300 to 1000 nm. The organic barrier layer can help to lower moisture and oxygen permeability by applying a material having a roughness and a barrier property to flatten the roughness of the substrate. If the thickness of the organic barrier layer is less than 300 nm, there is a problem in that the effect of flattening foreign matters, pinholes, and the like existing on the surface of the substrate is deteriorated, and if the organic barrier layer is more than 1000 nm, There may be a problem of degradation of water or oxygen permeation.

한편, 본 발명의 일 실시예에서, 상기 유기 배리어층은 알콕시 실란들, 폴리디메틸실록산, 비닐메톡시실록산, 폴리페닐메틸실세스퀸옥산, 폴리페닐알킬실록산, 폴리디알킬실록산, 실세스퀴옥산들, 플루오르화 실리콘들 및 수소화물 치환 실리콘로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 물질 또는, 상기 선택되는 물질에 우레탄 아크릴레이트 , 에폭시 아크릴레이트스타이렌, 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리에틸렌 및 스타이렌-부틸-스타이렌 폴리머로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 물질이 혼합된 혼합물을 포함할 수 있다.
Meanwhile, in an embodiment of the present invention, the organic barrier layer may be formed of at least one selected from the group consisting of alkoxysilanes, polydimethylsiloxane, vinylmethoxysiloxane, polyphenylmethylsilsequinquinoxane, polyphenylalkylsiloxane, polydialkylsiloxane, silsesquioxane Fluorinated silicones, and hydride substituted silicon, or one or more materials selected from the group consisting of urethane acrylate, epoxy acrylate styrene, acrylate, norbornene, polyethylene and styrene-butyl -Styrene polymer, and a mixture of at least one substance selected from the group consisting of styrene-styrene polymers.

한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 무기 배리어층의 두께는 20 내지 200 nm일 수 있다. 상기 무기 배리어층의 두께가 20 ㎚미만인 경우 산소나 수분 차폐성이 저하되며, 초박막으로 인해 두께 균일도 저하 및 양산 공정성에 문제점이 있을 수 있고, 상기 무기 배리어층이 200 ㎚ 초과인 경우 광투과율 감소 및 색상, 가격이 증가되는 문제점이 있을 수 있다. 한편, 상기 양자점의 전형적인 크기는 1 내지 10 nm일 수 있는데, 상기 양자점의 크기가 4 내지 5nm 인 경우 광원으로부터 1차 광을 흡수한 후 적색을 가지는 2차 광을 방출할 수 있고, 2 내지 3nm 인 경우 광원으로부터 1차 광을 흡수한 후 녹색을 가지는 2차 광을 방출할 수 있다. Meanwhile, in one embodiment of the present invention, the thickness of the inorganic barrier layer may be 20 to 200 nm. If the thickness of the inorganic barrier layer is less than 20 nm, oxygen and water shielding properties may be deteriorated. In addition, thickness uniformity may be deteriorated due to an ultra-thin film, , The price may increase. The quantum dot may have a typical size of 1 to 10 nm. When the quantum dot has a size of 4 to 5 nm, it may emit secondary light having a red color after absorbing the primary light from the light source. It is possible to emit secondary light having green after absorbing the primary light from the light source.

한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 무기 배리어층은 Si, Al, In, Sn, Zn, Zr, Ti, Cu, Ce, Yt, La , Ba, Mg, F2, Sb , Sr및 Ta 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 금속을 함유하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물, 또는 산화질화탄화물을 포함할 수 있다.
On the other hand, in one embodiment of the present invention, the inorganic barrier layer is a Si, Al, In, Sn, Zn, Zr, Ti, Cu, Ce, Yt, La, Ba, Mg, F 2, Sb, Sr, and Ta An oxide, a nitride, a carbide, an oxide nitride, an oxide carbide, a nitride carbide, or an oxynitride carbide containing at least one metal selected from the group consisting of oxides, nitrides,

한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 무기 배리어층 상에는 오버코트 층을 포함할 수 있다.Meanwhile, in an embodiment of the present invention, an overcoat layer may be formed on the inorganic barrier layer.

상기 오버코트 층은 양자점과의 부착력 증진을 위한 것이며, 부가적으로 무기층 표면에 존재하는 defect를 막아주어 수분 및 산소 투과를 막아주는 역할을 할 수 있다. 본 발명의 일실시예에서, 상기 오버코트 층의 두께는 30 내지 300㎚일 수 있다. 상기 오버코트 층의 두께가 30㎚ 미만인 경우 고분자 레진층과의 접착력 저하가 발생하여 부적합하며, 300㎚ 초과의 두께에서는 상온 및 신뢰성 조건에서 합착 발생으로 인한 제품 불량이 발생하게 되어 부적합하다.The overcoat layer is for enhancing the adhesion to the quantum dots and additionally serves to prevent defects present on the surface of the inorganic layer to prevent moisture and oxygen permeation. In one embodiment of the present invention, the thickness of the overcoat layer may be from 30 to 300 nm. If the thickness of the overcoat layer is less than 30 nm, the adhesion of the polymeric resin layer to the polymeric resin layer is reduced, which is unsuitable. If the overcoat layer has a thickness exceeding 300 nm, the product is defective due to adhesion at room temperature and reliability.

한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 오버코트 층은 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 우레탄/에폭시아크릴레이트, 에스테르아크릴레이트, 규소함유 아크릴레이트, 펜타아리트리톨 트리아크릴레이트, 폴리올 변성 우레탄 아크릴레이트, 이소시아네이트 실란 변성 아크릴레이트 및 하이드록시알킬아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.
Meanwhile, in an embodiment of the present invention, the overcoat layer may be formed of a urethane acrylate, an epoxy acrylate, a urethane / epoxy acrylate, an ester acrylate, a silicon containing acrylate, a pentaerythritol triacrylate, a polyol modified urethane acrylate , Isocyanate silane modified acrylate, and hydroxyalkyl acrylate, or a mixture thereof.

이하에서 실시예 등을 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 하며, 다만 이하에 실시예 등에 의해 본 발명의 범위와 내용이 축소되거나 제한되어 해석될 수 없다. 또한, 이하의 실시예를 포함한 본 발명의 개시 내용에 기초한다면, 구체적으로 실험 결과가 제시되지 않은 본 발명을 통상의 기술자가 용이하게 실시할 수 있음은 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연하다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and the like, but the scope and content of the present invention can not be construed to be limited or limited by the following Examples. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the following claims. It is natural that it belongs to the claims.

실시예Example

실시예 1Example 1

패턴 성형이 되어있지 않은 제1 배리어 필름과 배리어 필름 한쪽면에 피치 20um, 단면이 삼각형이며 꼭지각도가 95도, 굴절률이 1.49로 프리즘 패턴이 성형되어 있는 제2 배리어 필름을 라미네이터 롤 사이에 위치시키고, 제1 배리어 필름과 제2 배리어 필름 사이에 양자점이 분산되어 있는 레진을 두께 60um 되도록 라미네이터 롤의 gap을 조정하여 도포하면서 라미네이터롤 사이를 통과시킨다. 이때 속도는 약 2.0mpm 으로 유지시켰다. 이후 라미네이터롤을 빠져나온 배리어 필름 사이에 도포된 양자점이 분산된 고분자 레진층을 UV경화시켜 광학 시트 제작을 완성하였다. 이때의 노광량은 약 400mJ/cm2정도이다. UV경화시 사용한 UV램플 타입은 Fusion사의 무전극 타입 D-bulb를 사용하였으며, 배리어 필름은 두께 125um, WVTR=10-2g/m2/day수준의 제품을 사용하였다.
A first barrier film and a barrier film having no pattern formation were placed between the laminator rolls and a second barrier film having a pitch of 20 탆 and a prismatic pattern having a triangular cross section and a vertex angle of 95 degrees and a refractive index of 1.49 was formed on one side of the barrier film , And the resin having the quantum dots dispersed between the first barrier film and the second barrier film is applied between the laminator rolls while adjusting the gap of the laminator roll so as to have a thickness of 60 탆. At this time, the speed was maintained at about 2.0 mpm. Thereafter, the polymer resin layer in which the quantum dots applied between the barrier films exiting the laminator roll was dispersed was UV-cured to complete the production of the optical sheet. At this time, the exposure amount is about 400 mJ / cm 2 . The UV-cured UV-Ramp type was Fusion's non-electrode type D-bulb. The barrier film was 125 μm thick and WVTR = 10 -2 g / m 2 / day.

실시예 2Example 2

실시예 1과 동일하게 제작하고 꼭지각도만 110도로 적용하였다.
And the vertex angle was 110 degrees.

실시예 3Example 3

실시예 1과 동일하게 제작하고 꼭지각도만 120도로 적용하였다.
The same procedure as in Example 1 was carried out and the vertex angle was 120 degrees.

실시예 4Example 4

실시예 1과 동일하게 제작하고 피치를 50um 각도는 95도로 적용하였다.
The same procedure as in Example 1 was carried out and the pitch was applied at a 50-degree angle of 95 degrees.

실시예 5Example 5

실시예 4와 동일하게 제작하고 각도는 110도로 적용하였다.
And the angle was set at 110 degrees.

실시예 6Example 6

실시예 4와 동일하게 제작하고 각도는 120도로 적용하였다.
And the angle was 120 degrees.

실시예 7Example 7

실시예 1과 동일하게 제작하고 피치는 70um 각도는 95도로 적용하였다.
The same procedure as in Example 1 was carried out and the pitch was applied at a 70-degree angle of 95 degrees.

실시예 8Example 8

실시예 7과 동일하게 제작하고 각도는 110도로 적용하였다.
And the angle was changed to 110 degrees.

실시예 9Example 9

실시예 7과 동일하게 제작하고 각도는 120도로 적용하였다.
And the angle was 120 degrees.

실시예 10Example 10

패턴 성형이 되어있지 않은 제1 배리어 필름과 배리어 필름 한쪽면에 피치 20um, 높이가 5um, 굴절률이 1.49로 렌즈 패턴이 성형되어 있는 제2 배리어 필름을 라미네이터 롤 사이에 위치시키고, 제1 배리어 필름과 제2 배리어 필름 사이에 양자점이 분산되어 있는 레진을 두께 60um 되도록 라미네이터 롤의 gap을 조정하여 도포하면서 라미네이터롤 사이를 통과시킨다. 이때 속도는 약 2.0mpm 으로 유지시킴. 이후 라미네이터롤을 빠져나온 배리어 필름 사이에 도포된 양자점이 분산된 고분자 레진층을 UV경화시켜 광학 시트 제작을 완성하였다. 이때의 노광량은 약 400mJ/cm2정도이다. UV경화시 사용한 UV램플 타입은 Fusion사의 무전극 타입 D-bulb를 사용하였으며, 배리어필름은 두께 125um, WVTR=10-2g/m2/day수준의 제품을 사용하였다.
A first barrier film not patterned and a second barrier film having a lens pattern formed with a pitch of 20 um, a height of 5 um, and a refractive index of 1.49 on one side of the barrier film were placed between the laminator rolls, The resin having the quantum dots dispersed between the second barrier films is applied between the laminator rolls while adjusting the gap of the laminator roll so that the thickness is 60 탆. At this time, the speed is kept at about 2.0mpm. Thereafter, the polymer resin layer in which the quantum dots applied between the barrier films exiting the laminator roll was dispersed was UV-cured to complete the production of the optical sheet. At this time, the exposure amount is about 400 mJ / cm 2 . The UV-cured UV-Ramp type was Fusion's non-electrode type D-bulb. The barrier film was 125 μm thick and WVTR = 10 -2 g / m 2 / day.

실시예 11Example 11

실시예 10과 동일하게 제작하고 높이는 4um로 적용하였다.
Was prepared in the same manner as in Example 10 and applied at a height of 4 탆.

실시예 12Example 12

실시예 10과 동일하게 제작하고 높이는 2um로 적용하였다.
Was prepared in the same manner as in Example 10 and applied at a height of 2 mu m.

실시예 13Example 13

실시예 10과 동일하게 제작하고 피치는 50um, 높이는 12.5um로 적용하였다.
A pitch of 50 μm and a height of 12.5 μm were applied in the same manner as in Example 10.

실시예 14Example 14

실시예 13과 동일하게 제작하고 높이는 10um로 적용하였다.
Was prepared in the same manner as in Example 13, and a height of 10 탆 was applied.

실시예 15Example 15

실시예 13과 동일하게 제작하고 높이는 5um로 적용하였다.
Was prepared in the same manner as in Example 13 and applied at a height of 5 mu m.

실시예 16Example 16

실시예 10과 동일하게 제작하고 피치는 70um, 높이는 17.5um로 적용하였다.
A pitch of 70 μm and a height of 17.5 μm were applied in the same manner as in Example 10.

실시예 17Example 17

실시예 16과 동일하게 제작하고 높이는 14um로 적용하였다.
Was prepared in the same manner as in Example 16, and a height of 14 mu m was applied.

실시예 18Example 18

실시예 16과 동일하게 제작하고 높이는 17um로 적용하였다.
The structure was fabricated in the same manner as in Example 16, and the height was adjusted to 17 mu m.

실시예 19Example 19

패턴 성형이 되어있지 않은 제1 배리어 필름과 배리어 필름 한쪽면에 피치 50um, 단면이 삼각형이며 꼭지각도가 95도, 굴절률이 1.49로 프리즘 패턴이 성형되어 있는 제2 배리어 필름을 라미네이터 롤 사이에 위치시키고, 제1 배리어 필름과 제2 배리어 필름 사이에 양자점이 분산되어 있는 레진을 두께 60um 되도록 라미네이터 롤의 gap을 조정하여 도포하면서 라미네이터롤 사이를 통과시킨다. 이때 속도는 약 2.0mpm 으로 유지시켰다. 이후 라미네이터롤을 빠져나온 배리어 필름 사이에 도포된 양자점이 분산된 고분자 레진층을 UV경화시켜 광학 시트 제작을 완성하였다. 이때의 노광량은 약 400mJ/cm2정도이다. UV경화시 사용한 UV램프 타입은 Fusion사의 무전극 타입 D-bulb를 사용하였으며, 배리어 필름은 두께 125um, WVTR=10-2g/m2/day수준의 제품을 사용하였다.
A second barrier film having a 50 μm pitch, a triangular cross section, a vertex angle of 95 ° and a refractive index of 1.49 and a prism pattern formed on one side of the first barrier film and the barrier film not patterned was placed between the laminator rolls , And the resin having the quantum dots dispersed between the first barrier film and the second barrier film is applied between the laminator rolls while adjusting the gap of the laminator roll so as to have a thickness of 60 탆. At this time, the speed was maintained at about 2.0 mpm. Thereafter, the polymer resin layer in which the quantum dots applied between the barrier films exiting the laminator roll was dispersed was UV-cured to complete the production of the optical sheet. At this time, the exposure amount is about 400 mJ / cm 2 . The UV lamp used for UV curing was a Fusion D-bulb, and the barrier film was 125 μm thick and WVTR = 10 -2 g / m 2 / day.

실시예 20Example 20

실시예 19와 동일하게 제작하고 패턴층 굴절률을 1.53으로 적용하였다.
And the refractive index of the pattern layer was 1.53.

실시예 21Example 21

실시예 19와 동일하게 제작하고 패턴층 굴절률을 1.57로 적용하였다.
And the refractive index of the pattern layer was 1.57.

실시예 22Example 22

실시예 19와 동일하게 제작하고 패턴층 굴절률을 1.62로 적용하였다.
And the refractive index of the pattern layer was 1.62.

비교예 1Comparative Example 1

제1 배리어 필름과 제2 배리어 필름을 라미네이터롤 사이에 위치시키고, 제1 배리어 필름과 제2 배리어 필름 사이에 양자점이 분산되어 있는 레진을 두께 60um 되도록 라미네이터 롤의 gap을 조정하여 도포하면서 라미네이터롤 사이를 통과시킨다. 이때 속도는 약 2.0mpm 으로 유지시킴. 이후 라미네이터롤을 빠져나온 배리어필름 사이에 도포된 양자점이 분산된 고분자 레진층을 UV경화시켜 광학 시트 제작을 완성하였다. 이때의 노광량은 약 400mJ/cm2정도이다. UV경화시 사용한 UV램플 타입은 Fusion사의 무전극 타입 D-bulb를 사용하였으며, 배리어 필름은 두께 125um, WVTR=10-2g/m2/day수준의 제품을 사용하였다.
While the first barrier film and the second barrier film were placed between the laminator rolls and the gap of the laminator roll was adjusted so that the resin having the quantum dots dispersed between the first barrier film and the second barrier film had a thickness of 60 um, . At this time, the speed is kept at about 2.0mpm. Thereafter, the polymer resin layer in which the quantum dots applied between the barrier films exiting the laminator roll was dispersed was UV-cured to complete the production of the optical sheet. At this time, the exposure amount is about 400 mJ / cm 2 . The UV-cured UV-Ramp type was Fusion's non-electrode type D-bulb. The barrier film was 125 μm thick and WVTR = 10 -2 g / m 2 / day.

비교예 2Comparative Example 2

비교예 1과 동일하게 제작하고 레진층 두께를 25um로 제작하였다.
And the resin layer thickness was made to be 25 탆.

비교예 3Comparative Example 3

비교예 1과 동일하게 제작하고 레진층 두께를 50um로 제작하였다.
And the resin layer thickness was made to be 50 탆.

비교예 4Comparative Example 4

비교예 1과 동일하게 제작하고 레진층 두께를 72um로 제작하였다.
And the resin layer thickness was made to be 72 mu m.

비교예 5Comparative Example 5

비교예 1과 동일하게 제작하고 레진층 두께를 100um로 제작하였다.
And the resin layer thickness was made 100 μm.

[휘도 측정 방법][Method for Measuring Luminance]

- 측정기기 : Topcon사 SR-3AR 장비- Measuring equipment: Topcon SR-3AR equipment

- BLU : 446nm 의 Blue 광이 방출되는 엣지형 (1H)- BLU: edge type (1H) emitting blue light of 446 nm;

- 시트 구조 : 광학 시트 단품 도광판 상부에 위치- Sheet structure: Optical sheet Single item Located on top of LGP

- 시트 크기 : 15cm × 15cm
- Sheet size: 15cm × 15cm

실험예 1Experimental Example 1

패턴 형상에 따른 휘도 물성 비교Comparison of luminance property according to pattern shape 패턴 형상Pattern shape 피치 (um)Pitch (um) 각도 (°) 또는 높이 (um)Angle (°) or height (um) 레진층 두께 (um)Resin Layer Thickness (um) 휘도 (%)Brightness (%) 비교예1Comparative Example 1 -- -- -- 6060 100100 실시예1Example 1 프리즘prism 2020 9595 6060 109.5109.5 실시예2Example 2 110110 6060 112112 실시예3Example 3 120120 6060 115115 실시예4Example 4 5050 9595 6060 112112 실시예5Example 5 110110 6060 116116 실시예6Example 6 120120 6060 117117 실시예7Example 7 7070 9595 6060 115115 실시예8Example 8 110110 6060 117.5117.5 실시예9Example 9 120120 6060 118118 실시예10Example 10 렌즈lens 2020 55 6060 115115 실시예11Example 11 44 6060 112112 실시예12Example 12 22 6060 110110 실시예13Example 13 5050 12.512.5 6060 117.5117.5 실시예14Example 14 1010 6060 115115 실시예15Example 15 55 6060 111.5111.5 실시예16Example 16 7070 17.517.5 6060 117117 실시예17Example 17 1414 6060 114114 실시예18Example 18 77 6060 112112

양자점이 분산된 고분자 레진층 두께에 따른 휘도 물성 비교Comparison of luminance properties according to thickness of polymer resin layer dispersed with quantum dots   레진층 두께 (um)Resin Layer Thickness (um) 휘도 (%)Brightness (%) 비교예1Comparative Example 1 6060 100100 비교예2Comparative Example 2 2525 6666 비교예3Comparative Example 3 5050 8686 비교예4Comparative Example 4 7272 116116 비교예5Comparative Example 5 100100 135135

상기 표 1 내지 2를 참조하면, 동일한 레진층 두께를 가지는 광학 시트임에도 불구하고 본 발명과 같이 고분자 레진층의 일면에 패턴 성형된 실시예 1 내지 18의 광학 시트가 비교예에 따른 광학 시트에 비하여 현저히 향상된 휘도 물성을 가지는 것을 확인할 수 있었다.
Referring to Tables 1 and 2, although the optical sheets of Examples 1 to 18 pattern-formed on one side of the polymer resin layer as in the present invention, in comparison with the optical sheets having the same resin layer thickness, It can be confirmed that it has remarkably improved luminance physical properties.

양자점이 분산된 고분자 레진층 굴절률에 따른 휘도 물성 비교Comparison of luminance properties according to refractive index of polymer resin layer dispersed with quantum dots   레진층 두께 (um)Resin Layer Thickness (um) 패턴화된 고분자 레진층의 굴절률The refractive index of the patterned polymeric resin layer 피치(um)Pitch (um) 각도(°)Angle (°) 휘도 (%)Brightness (%) 비교예1Comparative Example 1 6060 -- -- -- 100100 실시예19Example 19 6060 1.491.49 5050 9595 112112 실시예20Example 20 6060 1.531.53 115115 실시예21Example 21 6060 1.571.57 118118 실시예22Example 22 6060 1.621.62 121121

한편, 표 3을 참조하면, 본 발명에 개시된 범위의 굴절률을 가지는 패턴화된 고분자 레진층을 포함하는 광학 시트(실시예 19 내지 22)는, 비교예에 따른 광학 시트 대비 향상된 휘도 특성을 가지는 것을 확인할 수 있었다. On the other hand, referring to Table 3, optical sheets (Examples 19 to 22) including a patterned polymer resin layer having a refractive index in the range disclosed in the present invention have improved brightness characteristics I could confirm.

Claims (19)

고분자 수지에 복수의 비카드뮴계 양자점이 분산되며, 일면 또는 양면이 패턴화된 고분자 레진층;
상기 고분자 레진층의 일면에 형성된 제1 배리어 필름; 및
상기 고분자 레진층의 또 다른 일면에 형성된 제2 배리어 필름;을 포함하는 광학 시트.
A polymer resin layer in which a plurality of non-cadmium-based quantum dots are dispersed in a polymer resin and patterned on one side or both sides;
A first barrier film formed on one side of the polymer resin layer; And
And a second barrier film formed on another side of the polymeric resin layer.
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 수지는 에폭시, 에폭시 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리에틸렌, 폴리스타이렌, 에틸렌-스타이렌 공중합체, 비스페놀 A및 비스페놀 A유도체가 포함된 아크릴레이트, 플루오렌 유도체가 포함된 아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 폴리페닐알킬실록산, 폴리디페닐실록산, 폴리디알킬실록산, 실세스퀴옥산, 플루오르화 실리콘, 비닐 및 수소화물 치환 실리콘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지인 광학 시트.
The method according to claim 1,
The polymer resin may be at least one selected from the group consisting of epoxy, epoxy acrylate, lauryl acrylate, norbornene, polyethylene, polystyrene, ethylene-styrene copolymers, acrylates containing bisphenol A and bisphenol A derivatives, acrylates containing fluorene derivatives, Wherein the at least one polymer resin is at least one polymer resin selected from the group consisting of isobornyl acrylate, polyphenylalkylsiloxane, polydiphenylsiloxane, polydialkylsiloxane, silsesquioxane, silicone fluoride, vinyl and hydride substituted silicone.
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 수지는 WVTR=10-2g/m2/day 이하의 수분 투과성 및
OTR=10-2cc/m2/day 이하의 산소 투과성을 가지는 광학 시트.
The method according to claim 1,
The polymer resin has moisture permeability of WVTR = 10 -2 g / m 2 / day or less, and
An optical sheet having an oxygen permeability of OTR = 10 -2 cc / m 2 / day or less.
제 1 항에 있어서,
상기 비카드뮴계 양자점은 II-VI 족, III-V족, IV-VI 족 및 IV 족 반도체로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 무기재료인 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the non-cadmium-based quantum dots are at least one inorganic material selected from the group consisting of Group II-VI, Group III-V, Group IV-VI, and Group IV semiconductors.
제 1 항에 있어서,
상기 비카드뮴계 양자점은 Si, Ge, Sn, Se, Te, B, C, P, BN, BP, BAs, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, InSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, BeS, BeSe, BeTe, MgS, MgSe, GeS, GeSe, GeTe, SnS, SnSe, SnTe, PbO, PbS, PbSe, PbTe, CuF, CuCl, CuBr, CuI, Si3N4, Ge3N4 및 이들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 무기재료인 광학 시트.
The method according to claim 1,
The non-cadmium-based quantum dots include Si, Ge, Sn, Se, Te, B, C, P, BN, BP, BAs, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, BeS, BeSe, BeTe, MgS, MgSe, GeS, GeSe, GeTe, SnS, InSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, ZnO, ZnS, SnSe, SnTe, PbO, PbS, PbSe, PbTe, CuF, CuCl, CuBr, CuI, Si 3 N 4, Ge 3 N 4 , and the optical sheet of inorganic material at least one selected from the group consisting of a combination thereof.
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 레진층의 두께는 10 내지 100 um인 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the polymeric resin layer has a thickness of 10 to 100 m.
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 레진층의 하부면은 프리즘 패턴화된 것인 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the lower surface of the polymer resin layer is prismatic.
제 7 항에 있어서,
상기 프리즘 패턴의 피치는 20 내지 70μm이고, 꼭지각도는 95 내지 120°이며, 상기 패턴의 단면은 삼각형인 광학 시트.
8. The method of claim 7,
Wherein the pitch of the prism pattern is 20 to 70 占 퐉, the apex angle is 95 to 120 占 and the cross-section of the pattern is triangular.
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 레진층의 하부면은 렌즈 패턴화된 것인 광학 시트.
The method according to claim 1,
And the lower surface of the polymer resin layer is lens-patterned.
제 9 항에 있어서,
상기 렌즈 패턴의 피치는 20 내지 70㎛이고, 피치 대 높이의 비율은 4 : 1 내지 10 : 1이며, 상기 패턴의 단면은 반원형인 광학 시트.
10. The method of claim 9,
Wherein the pitch of the lens pattern is 20 to 70 mu m, the pitch to height ratio is 4: 1 to 10: 1, and the cross section of the pattern is a semicircular shape.
제 1 항에 있어서,
상기 패턴화된 고분자 레진층의 굴절률은 1.49 내지 1.65인 광학 시트.
The method according to claim 1,
And the refractive index of the patterned polymeric resin layer is 1.49 to 1.65.
제 1 항에 있어서,
상기 배리어 필름은 기재, 상기 기재 상에 형성된 유기 배리어층, 상기 유기 배리어층 상에 형성된 무기 배리어층 및 상기 무기 배리어층 상에 형성된 오버코트 층을 포함하는 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the barrier film comprises a substrate, an organic barrier layer formed on the substrate, an inorganic barrier layer formed on the organic barrier layer, and an overcoat layer formed on the inorganic barrier layer.
제 12 항에 있어서,
상기 기재는 PET, COP, COC, PC, PMMA, TAC, 폴리이미드 또는 폴리에틸렌나프탈렌 필름인 광학 시트.
13. The method of claim 12,
Wherein the substrate is PET, COP, COC, PC, PMMA, TAC, polyimide or polyethylene naphthalene film.
제 12 항에 있어서,
상기 유기 배리어층의 두께는 300 내지 1000 nm인 광학 시트.
13. The method of claim 12,
Wherein the organic barrier layer has a thickness of 300 to 1000 nm.
제 12 항에 있어서,
상기 유기 배리어층은 알콕시 실란들, 폴리디메틸실록산, 비닐메톡시실록산, 폴리페닐메틸실세스퀸옥산, 폴리페닐알킬실록산, 폴리디알킬실록산, 실세스퀴옥산들, 플루오르화 실리콘들 및 수소화물 치환 실리콘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 물질 또는,
상기 선택되는 물질에 우레탄 아크릴레이트 , 에폭시 아크릴레이트스타이렌, 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리에틸렌 및 스타이렌-부틸-스타이렌 폴리머로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 물질이 혼합된 혼합물을 포함하는 광학 시트.
13. The method of claim 12,
Wherein the organic barrier layer is selected from the group consisting of alkoxysilanes, polydimethylsiloxane, vinylmethoxysiloxane, polyphenylmethylsilsequinquinoxane, polyphenylalkylsiloxane, polydialkylsiloxane, silsesquioxanes, fluorinated silicones, and hydride substitution Silicon, or one or more materials selected from the group consisting of silicon,
The optical sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the material to be selected is a mixture of a mixture of urethane acrylate, epoxy acrylate styrene, acrylate, norbornene, polyethylene and styrene- .
제 12 항에 있어서,
상기 무기 배리어층의 두께는 20 내지 200 nm인 광학 시트.
13. The method of claim 12,
Wherein the inorganic barrier layer has a thickness of 20 to 200 nm.
제 12 항에 있어서,
상기 무기 배리어층은 Si, Al, In, Sn, Zn, Zr, Ti, Cu, Ce, Yt, La , Ba, Mg, F2, Sb , Sr 및 Ta 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 금속을 함유하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물, 또는 산화질화탄화물을 포함하는 광학 시트.
13. The method of claim 12,
The inorganic barrier layer is at least one metal selected from the group consisting of Si, Al, In, Sn, Zn, Zr, Ti, Cu, Ce, Yt, La, Ba, Mg, F 2, Sb, Sr , and Ta Wherein the optical sheet contains an oxide, a nitride, a carbide, an oxynitride, an oxide carbide, a nitride carbide, or a oxynitride carbide.
제 12 항에 있어서,
상기 오버코트 층의 두께는 30 내지 300 nm인 광학 시트.
13. The method of claim 12,
Wherein the thickness of the overcoat layer is 30 to 300 nm.
제 12 항에 있어서,
상기 오버코트 층은 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 우레탄/에폭시아크릴레이트, 에스테르아크릴레이트, 규소함유 아크릴레이트, 펜타아리트리톨 트리아크릴레이트, 폴리올 변성 우레탄 아크릴레이트, 이소시아네이트 실란 변성 아크릴레이트 및 하이드록시알킬아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광학 시트.
13. The method of claim 12,
Wherein the overcoat layer is selected from the group consisting of urethane acrylate, epoxy acrylate, urethane / epoxy acrylate, ester acrylate, silicon containing acrylate, pentaerythritol triacrylate, polyol modified urethane acrylate, isocyanate silane modified acrylate and hydroxyalkyl Acrylate, or a mixture thereof.
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