KR20160113431A - Apparatus and Method for cleaning, System and method for processing an contaminated organic materials using the same - Google Patents

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박용석
이종관
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주식회사 디엠에스
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Abstract

The present invention relates to a cleaning apparatus, a cleaning method and a system and a method for processing an organic material using the same, reducing a processing time required for a cleaning process for cleaning a cleaning target object and allowing bulk processing of the cleaning target object with low costs. The present invention provides the cleaning apparatus, which comprises at least one filter member, a cleaning tank, a filter holder, a solvent supply unit, a solvent reception tank, a heating unit and a cooling unit, the cleaning method using the same and the system and the method for processing an organic material. The filter member allows a cleaning target object having foreign substance remaining on the surface thereof to be received therein. The cleaning tank allows the filter member to be detachably coupled thereto. The filter holder is arranged on the cleaning tank to hold the filter member. The solvent supply unit passes through the filter member to supply solvent for removing the foreign substance from the cleaning target object to an interior space of the filter member through interaction with the foreign substance. The solvent reception tank allows a mixture discharged from the cleaning tank to be introduced, the mixture including the solvent passing through the filter member and the foreign substance separated from the cleaning target object. The heating unit heats the mixture received in the solvent reception tank or initial solvent to evaporate only a pure solvent element. The cooling unit cools and condenses the evaporated solvent to supply the evaporated solvent in a liquid state to the filter member.

Description

세정장치 및 세정방법, 이를 이용한 유기재료 처리시스템 및 유기재료 처리방법{Apparatus and Method for cleaning, System and method for processing an contaminated organic materials using the same}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a cleaning apparatus and a cleaning method, an organic material processing system using the same, and an organic material processing method using the same.

본 발명은 세정장치 및 세정방법, 이를 이용한 유기재료 처리시스템 및 유기재료 처리방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 세정대상물, 일례로 유기재료를 세정하는 세정공정 또는 유기재료 처리공정에 소요되는 공정시간을 줄일 수 있고, 상기 세정대상물을 저비용으로 대량처리할 수 있는 세정장치 및 세정방법, 이를 이용한 유기재료 처리시스템 및 유기재료 처리방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning apparatus and a cleaning method, an organic material processing system using the same, and a method of treating an organic material. More particularly, the present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned, To a cleaning apparatus and a cleaning method capable of mass-processing the object to be cleaned at low cost, an organic material processing system using the same, and an organic material processing method.

세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질을 제거하는 방법으로는 도구를 이용하여 이물질을 제거하는 물리적인 세정방법과, 화학약품을 사용하여 이물질을 제거하는 화학적 세정방법과, 상기 물리적인 세정방법과 화학적 세정방법을 함께 사용하는 세정방법 등이 있다.Examples of the method for removing foreign matters remaining on the surface of the object to be cleaned include a physical cleaning method for removing foreign substances using a tool, a chemical cleaning method for removing foreign substances using a chemical agent, And a cleaning method using a method together.

세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질은 상기 세정대상물의 물리적 또는 화학적 특성에 영향을 미치게 되므로 제거해주어야 할 필요가 있다.The foreign matter remaining on the surface of the object to be cleaned influences the physical or chemical characteristics of the object to be cleaned and needs to be removed.

일례로, 유기 전계 발광(EL; Electroluminescence) 소자, 유기 반도체 소자, 유기 광전 변환 소자, 유기 센서 소자 등 전자 소자에 사용되는 유기재료의 표면에 이물질이 존재하게 되면 상기 전자소자의 성능이 현격하게 떨어지기 때문에 상기 유기재료의 증착 전에 상기 이물질들이 반드시 제거되어야 한다.For example, when a foreign material is present on the surface of an organic material used for an electronic device such as an organic electroluminescence (EL) device, an organic semiconductor device, an organic photoelectric conversion device, or an organic sensor device, The foreign substances must be removed prior to the deposition of the organic material.

한국 공개특허공보 제10-2010-0132430호(발명의 명칭: 유기물 세정방법 및 세정시스템, 공개일: 2010년 12월 17일)Korean Patent Laid-Open No. 10-2010-0132430 (title of the invention: organic material cleaning method and cleaning system, published on December 17, 2010)

본 발명의 해결하고자 하는 과제는 세정대상물을 처리하는데 소요되는 공정시간을 줄일 수 있으면서도 공정효율을 높일 수 있는 세정장치 및 세정방법, 이를 이용한 유기재료 처리시스템 및 유기재료 처리방법을 제공하는 것이다.The object of the present invention is to provide a cleaning device and a cleaning method capable of reducing the process time required for processing a cleaning object and improving process efficiency, an organic material processing system using the same, and an organic material processing method.

본 발명의 해결하고자 하는 다른 과제는 세정대상물을 저비용으로 대량처리할 수 있는 세정장치 및 세정방법, 이를 이용한 유기재료 처리시스템 및 유기재료 처리방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a cleaning device and a cleaning method capable of mass-processing a cleaning object at a low cost, an organic material processing system using the same, and an organic material processing method.

상술한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 표면에 이물질이 잔존하는 세정대상물이 수용되는 하나 이상의 필터부재; 상기 필터부재가 착탈가능하게 결합되는 세정조; 상기 세정조에 배치되어 상기 필터부재를 잡아주기 위한 필터홀더; 상기 필터부재를 관통하면서 상기 이물질과의 상호작용을 통하여 상기 세정대상물로부터 상기 이물질을 제거하기 위한 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 공급하는 솔벤트 공급유닛; 상기 필터부재를 관통한 솔벤트와 상기 세정대상물로부터 분리된 이물질을 포함하는 혼합물이 상기 세정조로부터 배출되어 유입되는 솔벤트 수용조; 상기 솔벤트 수용조에 수용된 상기 혼합물 또는 초기 솔벤트를 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시키는 가열유닛; 그리고, 기화된 솔벤트를 액체상태로 상기 필터부재에 공급하기 위하여 상기 기화된 솔벤트를 냉각하여 응축시키는 냉각유닛을 포함하며, 상기 솔벤트 공급유닛은 상기 솔벤트 수용조에서 기화된 솔벤트가 이동하는 유로를 형성하는 솔벤트 공급유로와, 상기 솔벤트 공급유로상에서 상기 냉각유닛에 의하여 응축된 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 공급하기 위한 솔벤트 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a washing machine comprising: at least one filter member in which an object to be cleaned, A cleaning bath in which the filter member is detachably coupled; A filter holder disposed in the cleaning tank to hold the filter member; A solvent supply unit for supplying a solvent to the internal space of the filter member through the filter member to remove the foreign matter from the object to be cleaned through interaction with the foreign matter; A solvent containing tank through which a mixture containing a solvent passing through the filter member and a foreign substance separated from the object to be cleaned is discharged from the cleaning tank and flows therein; A heating unit for heating the mixture or the initial solvent contained in the solvent receiving vessel to vaporize pure solvent components only; And a cooling unit for cooling and condensing the vaporized solvent to supply the vaporized solvent to the filter member in a liquid state, wherein the solvent supply unit forms a flow path through which solvent vapor flows in the solvent receiving tank And a solvent distributor for supplying a solvent condensed by the cooling unit onto the solvent supply channel to the inner space of the filter member.

상기 솔벤트 분배부는 상기 필터부재와 대응되는 제1 분배홀이 형성된 제1 분배플레이트와, 상기 제1 분배플레이트의 상부에 배치되며 상기 제1 분배홀보다 많은 개수의 제2 분배홀이 형성된 제2 분배플레이트를 포함할 수 있다.Wherein the solvent distribution unit includes a first distribution plate having a first distribution hole corresponding to the filter member and a second distribution plate disposed above the first distribution plate and having a larger number of second distribution holes than the first distribution hole, Plate.

상기 냉각유닛은 적어도 일부분이 상기 솔벤트 공급유로를 관통하면서 상기 솔벤트 공급유로의 내부공간에 배치되며, 상기 기화된 솔벤트와 열교환되는 열매체가 흐르는 냉각파이프를 포함할 수 있다.The cooling unit may include a cooling pipe through which at least a portion of the cooling unit passes through the solvent supply passage and is disposed in an inner space of the solvent supply passage and through which a heating medium that is heat-exchanged with the vaporized solvent flows.

상기 솔벤트 공급유로에는 상기 열매체와의 열교환을 통하여 응축된 솔벤트가 배출되는 솔벤트 공급부가 형성되어 있으며, 상기 솔벤트 공급부는 상기 솔벤트 분배부의 상부에 위치할 수 있다.The solvent supply passage is provided with a solvent supply portion for discharging the condensed solvent through heat exchange with the heating medium, and the solvent supply portion may be located above the solvent supply portion.

상기 세정장치는 상기 세정조와 상기 솔벤트 수용조를 연결하되, 상기 세정조의 내부에서 상기 혼합물이 일정높이 이상인 경우에 상기 세정조 내부의 혼합물을 상기 솔벤트 수용조로 회수하기 위한 사이펀 유로를 더 포함할 수 있다.The cleaning apparatus may further include a siphon channel for connecting the cleaning tank and the solvent tank to the cleaning tank and returning the mixture in the cleaning tank to the solvent tank when the mixture is within a predetermined height .

또한, 상기 세정장치는 상기 냉각유닛에 의하여 응축되지 않은 솔벤트를 제거하기 위하여 상기 냉각유닛에 의하여 솔벤트가 응축된 이후의 나머지 유체로부터 솔벤트를 추가적으로 제거하기 위한 콜드 트랩을 더 포함할 수 있다.The cleaning apparatus may further comprise a cold trap for additionally removing solvent from the remaining fluid after the solvent has been condensed by the cooling unit to remove the non-condensed solvent by the cooling unit.

또한, 상기 세정장치는 상기 세정대상물로부터 상기 이물질이 분리되는 과정을 촉진시키기 위하여 상기 세정조 내부의 유체를 교반하는 교반기, 상기 세정조 내부의 유체를 가열하는 가열기, 그리고 상기 세정조 내부의 유체를 가진하기 위한 초음파를 발생시키는 초음파 발생기 중 하나 이상을 포함하는 분리촉진유닛을 더 포함할 수 있다.The cleaning device may further include an agitator for agitating the fluid in the cleaning bath to accelerate the process of separating the foreign matter from the object to be cleaned, a heater for heating the fluid inside the cleaning bath, And an ultrasonic generator for generating an ultrasonic wave for excitation.

상기 솔벤트 수용조, 상기 세정조 및 상기 솔벤트 공급유로는 하나의 챔버에서 구현되되, 상기 솔벤트 수용조는 상기 챔버의 하부영역에 배치되고, 상기 세정조는 상기 솔벤트 수용조와 구획되면서 상기 챔버의 상부영역에 배치될 수 있다.Wherein the solvent receiving vessel, the washing tub, and the solvent supplying channel are formed in one chamber, the solvent receiving vessel is disposed in a lower region of the chamber, and the washing vessel is partitioned by the solvent receiving vessel and disposed in an upper region of the chamber .

또한, 상기 솔벤트 공급유로의 적어도 일부분은 상기 솔벤트 수용조의 상부영역, 상기 세정조의 외측면 및 상기 챔버의 내측면 사이의 공간에 의하여 형성될 수 있다.In addition, at least a portion of the solvent supply passage may be formed by a space between an upper region of the solvent receiving tank, an outer surface of the cleaning tank, and an inner surface of the chamber.

상기 세정장치는 상기 솔벤트 수용조로 회수된 혼합물이 배출되는 배출유로상에 설치되어 상기 혼합물에 포함된 미세한 세정대상물을 회수하는 회수필터를 더 포함할 수 있다.The cleaning device may further include a recovery filter installed on a discharge flow path through which the mixture recovered in the solvent-containing bath is discharged, and recovering a fine cleaning object contained in the mixture.

상기 이물질은 이온성 액체이고, 상기 세정대상물은 유기재료이며, 상기 솔벤트는 상기 이온성 액체 및 상기 유기재료의 종류에 따라 선택될 수 있다.The foreign matter is an ionic liquid, the object to be cleaned is an organic material, and the solvent can be selected according to the kind of the ionic liquid and the organic material.

본 발명의 다른 실시 형태에 의하면, 본 발명은 이온성 액체와 저순도의 유기재료가 혼합되는 혼합조; 상기 이온성 액체의 온도조건과 압력조건 중 하나 이상을 포함하는 공정조건을 조절하여 상기 이온성 액체 내에서 상기 저순도의 유기재료를 고순도로 정제하기 위한 공정조건 제어부; 정제된 유기재료를 상기 이온성 액체와 일차적으로 분리하는 필터링유닛; 그리고, 상기 정제된 유기재료의 표면에 묻어 있는 이온성 액체를 제거하기 위한 세정장치를 포함하는 유기재료 처리시스템을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a mixing tank in which an ionic liquid and an organic material of low purity are mixed; A process condition control unit for purifying the low purity organic material in the ionic liquid with high purity by adjusting process conditions including at least one of a temperature condition and a pressure condition of the ionic liquid; A filtering unit for primarily separating the purified organic material from the ionic liquid; The present invention also provides an organic material processing system including a cleaning device for removing an ionic liquid on the surface of the purified organic material.

본 발명의 또 다른 실시 형태에 의하면, 본 발명은 세정대상물이 수용된 하나 이상의 필터부재를 세정조에 설치된 필터홀더에 로딩하는 단계; 상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 초기 솔벤트를 솔벤트 수용조에 공급하는 단계; 상기 솔벤트 수용조에 수용된 초기 솔벤트를 일정온도로 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시키는 단계; 기화된 솔벤트가 이동되는 솔벤트 공급유로상에 설치된 냉각유닛을 사용하여 상기 기화된 솔벤트를 응축시키는 응축단계; 응축된 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 공급하는 솔벤트 공급단계; 상기 응축된 솔벤트가 상기 이물질과의 상호작용을 통하여 상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 상기 이물질을 제거하는 공정 수행단계; 그리고, 상기 필터부재를 관통한 솔벤트와 상기 세정대상물로부터 분리된 이물질을 포함하는 혼합물을 상기 세정조로부터 상기 솔벤트 수용조로 회수하는 솔벤트 회수단계를 포함하며, 상기 솔벤트 공급단계는 상기 응축된 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 분배하는 솔벤트 분배단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of cleaning a filter, comprising: loading at least one filter member containing a cleaning object into a filter holder installed in a cleaning tank; Supplying an initial solvent for removing foreign matters remaining on the surface of the object to be cleaned into a solvent receiving vessel; Heating the initial solvent contained in the solvent tank to a predetermined temperature to vaporize pure solvent components; A condensing step of condensing the vaporized solvent using a cooling unit installed on a solvent supply flow path where the vaporized solvent is moved; A solvent supplying step of supplying the condensed solvent to the inner space of the filter member; A step of removing the foreign matter remaining on the surface of the object to be cleaned through the interaction of the condensed solvent with the foreign matter; And a solvent recovery step of recovering a mixture containing the solvent passing through the filter member and the foreign material separated from the cleaning object from the cleaning tank to the solvent receiving tank, And a solvent dispensing step of distributing the solvent to the inner space of the filter element.

상기 세정방법은 상기 솔벤트 수용조로 회수된 상기 혼합물을 다시 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시켜 분리하는 솔벤트 분리단계와, 상기 솔벤트 분리단계에서 분리된 솔벤트를 응축하여 상기 필터부재의 내부공간으로 재공급하는 솔벤트 순환단계를 더 포함할 수 있다.The cleaning method may further include a solvent separation step of heating the mixture recovered in the solvent-containing tank again to vaporize only the pure solvent components, and then separating the solvent in the solvent separation step to re- Solvent circulation step.

또한, 상기 세정방법은 상기 솔벤트 수용조로 회수된 상기 혼합물을 상기 솔벤트 수용조에 연결된 배출유로를 통하여 외부로 배출하는 배출단계와, 상기 배출유로상에 설치된 회수필터를 사용하여 상기 혼합물에 포함된 미세한 세정대상물을 회수하는 세정대상물 회수단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the cleaning method may further include: a discharging step of discharging the mixture recovered in the solvent-containing tank to the outside through a discharge channel connected to the solvent-containing tank; and a fine washing And a step of collecting the object to be cleaned.

또한, 상기 세정방법은 상기 세정대상물로부터 상기 이물질이 분리되는 과정을 촉진시키기 위하여 상기 세정조 내부의 유체를 교반하는 교반공정, 상기 세정조 내부의 유체를 가열하는 가열공정, 그리고 상기 세정조 내부의 유체를 가진하기 위한 초음파를 발생시키는 초음파 가진공정 중 하나 이상의 공정을 수행하는 분리촉진단계를 더 포함할 수 있다.The cleaning method may further include a stirring step of stirring the fluid in the cleaning tank, a heating step of heating the fluid inside the cleaning tank, and a heating step of heating the fluid inside the cleaning tank, in order to accelerate the process of separating the foreign matter from the object to be cleaned. And a separation accelerating step of performing at least one of the ultrasonic wave energizing processes for generating ultrasonic waves for holding the fluid.

또한, 상기 세정방법은 세정된 세정대상물을 얻기 위하여 상기 세정조로부터 상기 필터부재를 반출하는 필터부재 반출단계를 더 포함하며, 상기 이물질은 이온성 액체이고, 상기 세정대상물은 유기재료이며, 상기 솔벤트는 상기 이온성 액체 및 상기 유기재료의 종류에 따라 선택될 수 있다.The cleaning method further includes a filter member removal step of removing the filter member from the cleaning tank to obtain a cleaned object to be cleaned, wherein the foreign matter is an ionic liquid, the object to be cleaned is an organic material, May be selected depending on the kind of the ionic liquid and the organic material.

본 발명의 또 다른 실시 형태에 의하면, 본 발명은 이온성 액체와 저순도의 유기재료를 혼합하는 혼합단계; 상기 이온성 액체의 온도조건과 압력조건 중 하나 이상을 포함하는 공정조건을 조절하여 상기 이온성 액체 내에서 상기 저순도의 유기재료를 고순도로 정제하는 정제단계; 상기 정제단계에서 정제된 유기재료를 상기 이온성 액체와 일차적으로 분리하는 필터링단계; 그리고, 상기 정제된 유기재료의 표면에 묻어 있는 이온성 액체를 제거하기 위한 상술한 세정방법에 따라 이온성 액체를 제거하는 이온성 액체 제거단계를 포함하는 유기재료 처리방법을 제공한다.According to yet another embodiment of the present invention, the present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a mixing step of mixing an ionic liquid and a low purity organic material; Purifying the low purity organic material in high purity in the ionic liquid by adjusting process conditions including at least one of a temperature condition and a pressure condition of the ionic liquid; A filtering step of primarily separating the purified organic material from the ionic liquid in the purification step; And an ionic liquid removing step of removing the ionic liquid according to the above-described cleaning method for removing the ionic liquid on the surface of the purified organic material.

본 발명에 따른 세정장치 및 세정방법, 이를 이용한 유기재료 처리시스템 및 유기재료 처리방법의 효과를 설명하면 다음과 같다.The cleaning apparatus and cleaning method according to the present invention, the organic material processing system using the same, and the organic material processing method will be described as follows.

첫째, 세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질과 상호작용하는 솔벤트를 공급하되, 솔벤트 수용조에 수용된 솔벤트를 기화시킨 후 응축하여 고온의 순수한 액체상태의 솔벤트만을 상기 세정대상물의 표면에 공급함으로써 상기 이물질의 제거효율을 높일 수 있는 이점이 있다.First, the solvent that interacts with the foreign matter remaining on the surface of the object to be cleaned is supplied, and the solvent contained in the solvent receiving vessel is vaporized and then condensed to supply only the high temperature pure liquid solvent to the surface of the object to be cleaned, There is an advantage that the efficiency can be increased.

둘째, 세정대상물이 수용된 하나 이상의 필터부재를 세정조에 설치하고, 순수한 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 공급하되, 솔벤트 분배부를 사용하여 상기 필터부재들의 내부공간으로 상기 솔벤트를 균일하게 공급함으로써 상기 세정대상물을 저비용으로 대량처리할 수 있는 이점이 있다.Secondly, at least one filter member containing the object to be cleaned is installed in the cleaning tank, pure solvent is supplied to the inner space of the filter member, and the solvent is uniformly supplied to the inner space of the filter members by using the solvent distributor, There is an advantage that the object can be mass-processed at a low cost.

셋째, 세정대상물로부터 이물질이 분리되는 과정을 촉진시키기 위한 분리촉진유닛을 설치함으로써 상기 세정대상물을 처리하는데 소요되는 시간을 줄일 수 있는 이점이 있다.Third, there is an advantage that the time required for processing the object to be cleaned can be reduced by providing a separation promoting unit for promoting the process of separating the foreign object from the object to be cleaned.

넷째, 솔벤트 수용조, 세정조 및 솔벤트 공급유로를 하나의 챔버에서 구현함으로써 세정장치의 구조가 간단하며, 외부의 에너지를 투입하기가 용이한 이점이 있다.Fourth, the structure of the cleaning apparatus is simple and the energy of external energy can be easily inputted by implementing the solvent receiving tank, washing tank and solvent supply channel in one chamber.

도 1은 본 발명에 따른 세정장치의 일 실시 예를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 세정장치에 구비된 솔벤트 분배부, 필터부재 및 필터홀더의 요부를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 유기물 처리시스템의 일 실시 예를 나타낸 블럭도이다.
도 4는 본 발명에 따른 세정방법과 일반적인 세정방법에 따라 정제된 유기재료를 세정한 한 후의 유기재료의 표면에 잔존하는 양이온의 양을 비교하기 위한 그래프이다.
도 5는 본 발명에 따른 세정방법과 일반적인 세정방법에 따라 정제된 유기재료를 세정한 한 후의 유기재료의 표면에 잔존하는 음이온의 양을 비교하기 위한 그래프이다.1 is a view showing an embodiment of a cleaning apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a view showing essential parts of a solvent distributor, a filter member, and a filter holder included in the cleaning apparatus of FIG. 1;
3 is a block diagram illustrating an embodiment of an organic material processing system according to the present invention.
4 is a graph for comparing the amount of cations remaining on the surface of the organic material after cleaning the purified organic material according to the cleaning method according to the present invention and the general cleaning method.
5 is a graph for comparing the amount of anions remaining on the surface of the organic material after cleaning the purified organic material according to the cleaning method and the general cleaning method according to the present invention.

이하, 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시 예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시 예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above-mentioned problems to be solved can be specifically realized will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the embodiments, the same names and the same symbols are used for the same configurations, and additional description therefor will be omitted below.

도 1 및 도 2를 참조하여, 본 발명에 따른 세정장치의 일 실시 예를 설명하면 다음과 같다.1 and 2, an embodiment of a cleaning apparatus according to the present invention will be described below.

본 실시 예에 따른 세정장치는 필터부재(150), 세정조(110), 필터홀더(190), 솔벤트 수용조(121), 솔벤트 공급유닛, 가열유닛(123), 냉각유닛, 콜드 트랩(165), 사이펀 유로(181), 분리촉진유닛(170) 및 회수필터(187)를 포함한다.The cleaning apparatus according to the present embodiment includes a filter member 150, a cleaning tank 110, a filter holder 190, a solvent receiving tank 121, a solvent supply unit, a heating unit 123, a cooling unit, a cold trap 165 A siphon channel 181, a separation promotion unit 170, and a recovery filter 187.

상기 필터부재(150)는 상기 세정조(110)에 착탈가능하게 결합되며, 상기 필터부재(150)의 내부공간에는 세정대상물이 수용된다.The filter member 150 is detachably coupled to the washing tub 110, and an object to be cleaned is accommodated in an inner space of the filter member 150.

상기 필터부재(150)는 원통여과지 형태로 상기 필터홀더(190)에 의하여 고정되면서 상기 세정조(110)의 내부공간에 위치하게 된다. 즉, 상기 필터홀더(190)는 상기 세정조(110)의 내측에 배치되어 상기 필터부재(150)를 잡아주게 된다.The filter member 150 is fixed to the filter holder 190 in the form of a cylindrical filter paper, and is located in the inner space of the washing tub 110. That is, the filter holder 190 is disposed inside the washing tub 110 to hold the filter member 150.

상기 필터부재(150)는 하나 이상으로 구비되며, 상기 세정대상물의 용량에 따라 설치되는 개수가 가변적이다. 물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 필터부재(150)는 일정한 메쉬를 갖는 다양한 형상의 필터로 구현될 수 있을 것이다. The number of the filter members 150 is variable depending on the capacity of the object to be cleaned. Of course, the present invention is not limited to this, and the filter member 150 may be realized by various shapes of filters having a certain mesh.

한편, 본 실시 예에서 상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질은 이온성 액체이며, 상기 세정대상물은 유기재료이다. 보다 구체적으로, 상기 세정대상물은 이온성 액체와의 접촉을 통하여 정제된 유기재료이다.On the other hand, in this embodiment, the foreign matter remaining on the surface of the object to be cleaned is an ionic liquid, and the object to be cleaned is an organic material. More specifically, the object to be cleaned is an organic material purified through contact with an ionic liquid.

물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 이물질은 이온성 액체 이외의 물질이 사용될 수 있고, 상기 세정대상물은 유기재료 이외의 재료가 사용될 수도 있을 것이다.Of course, the present invention is not limited to this, and a material other than the ionic liquid may be used as the foreign matter, and a material other than the organic material may be used as the object to be cleaned.

상기 솔벤트 공급유닛은 상기 이물질을 제거하기 위한 솔벤트를 상기 필터부재(150)의 내부공간으로 공급하게 된다.The solvent supply unit supplies solvent for removing the foreign matter to the inner space of the filter member 150.

상기 솔벤트는 상기 이물질과의 상호작용을 통하여 상기 세정대상물로부터 상기 이물질을 제거하게 된다. 상기 솔벤트로는 메탄올(MeOH) 또는 이소프로필 알콜(IPA: Isopropyl Alchohol) 등이 사용될 수 있다. 여기서, 상기 솔벤트는 상기 이물질의 종류 및 상기 세정대상물의 종류에 따라 다양하게 선택될 수 있다.The solvent removes the foreign matter from the object to be cleaned through interaction with the foreign matter. As the solvent, methanol (MeOH) or isopropyl alcohol (IPA) may be used. Here, the solvent may be variously selected depending on the kind of the foreign matter and the type of the object to be cleaned.

상기 솔벤트 공급유닛은 상기 솔벤트 수용조(121)에서 기화된 솔벤트가 이동하는 유로를 형성하는 솔벤트 공급유로(130)와, 상기 솔벤트 공급유로(130)상에서 상기 냉각유닛에 의하여 응축된 솔벤트를 상기 필터부재(150)의 내부공간으로 공급하기 위한 솔벤트 분배부(140)를 포함한다.The solvent supply unit includes a solvent supply channel 130 for forming a channel through which the solvent evaporated in the solvent containing chamber 121 flows and a solvent condensed by the cooling unit on the solvent supply channel 130, And a solvent distributor 140 for supplying the solvent to the inner space of the member 150.

상기 솔벤트 공급유로(130)에는 상기 냉각유닛의 열매체와의 열교환을 통하여 응축된 솔벤트가 배출되는 솔벤트 공급부(131)가 형성되어 있으며, 상기 솔벤트 공급부(131)는 상기 솔벤트 분배부(140)의 상부에 위치하게 된다. 또한, 상기 솔벤트 분배부(140)는 상기 필터부재(150)의 상부에 위치하게 된다.The solvent supply passage 131 is formed in the solvent supply passage 130 to discharge the condensed solvent through heat exchange with the heating medium of the cooling unit. . In addition, the solvent distributor 140 is positioned above the filter member 150.

상기 솔벤트 공급부(131)는 상기 솔벤트 공급유로(130) 중 상기 세정조(110)의 상부에 위치하는 솔벤트 공급유로 상부영역에 형성된다. 상기 솔벤트 공급유로 상부영역에는 상기 냉각유닛의 냉각파이프(161)가 관통되어 있다The solvent supply unit 131 is formed in an upper portion of the solvent supply passage 130 located above the cleaning tank 110 in the solvent supply passage 130. A cooling pipe (161) of the cooling unit penetrates the upper region of the solvent supply passage

따라서, 상기 가열유닛(123)에 의하여 기화된 솔벤트는 상기 솔벤트 공급유로(130)를 따라 이동된 후, 상기 솔벤트 공급유로 상부영역에서 상기 냉각유닛에 의하여 냉각되면서 응축되어 상기 솔벤트 공급부(131)를 통하여 상기 솔벤트 분배부(140)로 유입된다.Accordingly, the solvent vaporized by the heating unit 123 is moved along the solvent supply channel 130, and is condensed while being cooled by the cooling unit in the region above the solvent supply channel, so that the solvent supply unit 131 And flows into the solvent distributor 140 through the first and second outlet ports.

상기 솔벤트 분배부(140)는 상기 필터부재(150)와 대응되는 제1 분배홀(141a)이 형성된 제1 분배플레이트(141)와, 상기 제1 분배플레이트(141)의 상부에 배치되며 상기 제1 분배홀(141a)보다 많은 개수의 제2 분배홀(143a)이 형성된 제2 분배플레이트(143)를 포함한다.The solvent distribution unit 140 includes a first distribution plate 141 formed with a first distribution hole 141a corresponding to the filter member 150 and a second distribution plate 141 disposed above the first distribution plate 141, And a second distribution plate 143 having a larger number of second distribution holes 143a than the one distribution hole 141a.

상기 제1 분배홀(141a)과 상기 제2 분배홀(143a)은 하부방향으로 갈수록 홀의 직경이 작아지는 역 원뿔형상을 가질 수 있다. 상기 솔벤트가 상기 제1 분배홀(141a) 및 상기 제2 분배홀(143a)을 경유하면서 상기 필터부재(150)의 내부공간으로 균일하게 유입된다.The first distribution hole 141a and the second distribution hole 143a may have an inverted conical shape in which the diameter of the hole decreases in a downward direction. The solvent is uniformly introduced into the inner space of the filter member 150 via the first distribution hole 141a and the second distribution hole 143a.

또한, 상기 솔벤트 분배부(140)는 상기 제1 분배플레이트(141)와 상기 제2 분배플레이트가 일정간격을 가지면서 배치되도록 하면서 상기 제1 분배플레이트(141)와 상기 제2 분배플레이트(143)를 지지하는 지지프레임(145)을 더 포함한다.The solvent distribution unit 140 may be disposed between the first distribution plate 141 and the second distribution plate 143 so that the first distribution plate 141 and the second distribution plate are spaced apart from each other, (Not shown).

상기 제1 분배플레이트(141)와 상기 제2 분배플레이트(143)는 상기 지지프레임(145)에 얹혀지는 상태에서 상기 지지프레임(145)에 결합된다. The first distribution plate 141 and the second distribution plate 143 are coupled to the support frame 145 while being placed on the support frame 145.

물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 지지프레임(145)과 상기 제1 분배플레이트(141)는 일체로 제작될 수 있을 것이다. 물론, 상기 솔벤트 분배부(140)는 다단으로 적층된 형태로 사용될 수도 있을 것이다.Of course, the present invention is not limited to this, and the support frame 145 and the first distribution plate 141 may be integrally manufactured. Of course, the solvent distributor 140 may be used in a stacked manner.

상기 솔벤트 공급유로(130)에서 배출되는 응축된 솔벤트가 상기 제2 분배플레이트(143)로 유입되면, 상기 응축된 솔벤트는 상기 제2 분배홀(143a)을 통하여 상기 제1 분배플레이트(141)로 유입되고, 상기 제1 분배플레이트(141)로 유입된 응축된 솔벤트는 상기 제1 분배홀(141a)을 통하여 상기 필터부재(150)의 내부공간으로 유입된다.When the condensed solvent discharged from the solvent supply passage 130 flows into the second distribution plate 143, the condensed solvent flows into the first distribution plate 141 through the second distribution hole 143a And the condensed solvent flowing into the first distribution plate 141 flows into the inner space of the filter member 150 through the first distribution hole 141a.

상기 필터홀더(190)는 상기 세정조(110)에 결합되면서 상기 세정조(110)의 내측공간에 배치되는 홀더본체(191)와, 상기 홀더본체(191)에 결합되며 상기 필터부재(150)를 잡아주는 홀더브라켓(193)을 포함한다.The filter holder 190 includes a holder body 191 coupled to the washing tub 110 and disposed in an inner space of the washing tub 110 and a filter body 150 coupled to the holder body 191, And a holder bracket 193 for holding the holder 193.

상기 홀더본체(191)는 상기 세정조(110)의 내부공간의 단면형상과 대응되는 고리형상을 가지며, 상기 홀더브라켓(193)은 상기 홀더본체(191)의 외측면에 일정간격을 가지면서 대칭적으로 배치될 수 있다.The holder main body 191 has an annular shape corresponding to the sectional shape of the internal space of the washing tub 110. The holder bracket 193 has a predetermined distance from the outer surface of the holder main body 191, As shown in FIG.

구체적으로, 상기 홀더브라켓(193)은 상기 필터부재(150)를 고정하기 위한 홀더암(193b)과, 상기 홀더본체(191)와의 결합을 위한 브라켓 결합부(193a)를 포함한다.More specifically, the holder bracket 193 includes a holder arm 193b for fixing the filter member 150 and a bracket coupling portion 193a for coupling the holder body 191 with each other.

상기 홀더암(193b)은 상기 브라켓 결합부(193a)에 대하여 벤딩된 형태를 가지며, 상기 브라켓 결합부(193a)에 대하여 탄성복원력을 가지게 된다. 따라서, 상기 필터부재(150)는 상기 홀더암(193b)의 탄성복원력에 의하여 고정된다.The holder arm 193b has a bent shape with respect to the bracket coupling portion 193a and has an elastic restoring force with respect to the bracket coupling portion 193a. Accordingly, the filter member 150 is fixed by the elastic restoring force of the holder arm 193b.

물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 필터홀더(190)는 상기 홀더본체가 사용되지 않고, 상기 홀더브라켓(193)이 상기 세정조(110)의 내측면에 직접 결합되는 형태를 가질 수도 있을 것이다.The filter holder 190 may have a configuration in which the holder body is not used and the holder bracket 193 is directly coupled to the inner surface of the washing tub 110 will be.

결과적으로, 하나의 세정조(110)에 다수 개의 필터부재를 상기 필터홀더(190)를 이용하여 고정함으로써 사용이 간편하게 된다.As a result, it is easy to use by fixing a plurality of filter members to one cleaning tank 110 using the filter holder 190.

또한, 상기 솔벤트 분배부(140)를 사용하여 상기 필터부재(150)들의 내부공간으로 상기 솔벤트를 균일하게 공급함으로써 상기 세정대상물을 저비용으로 대량처리할 수 있게 된다. 이로 인하여 상기 세정대상물을 세정하는데 소요되는 시간을 줄일 수 있게 된다.In addition, by uniformly supplying the solvent to the inner space of the filter members 150 using the solvent distributor 140, the object to be cleaned can be mass-processed at a low cost. Accordingly, it is possible to reduce the time required for cleaning the object to be cleaned.

상기 솔벤트 수용조(121)는 상기 필터부재(150)를 관통한 솔벤트와 상기 세정대상물로부터 분리된 이물질을 포함하는 혼합물이 상기 세정조(110)로부터 배출되어 유입된다.The solvent containing tank 121 is discharged from the washing tub 110 through a mixture containing solvent penetrated through the filter member 150 and foreign matter separated from the washing subject.

상기 가열유닛(123)은 상기 솔벤트 수용조(121)에 수용된 상기 혼합물 또는 초기 솔벤트를 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시키게 된다.The heating unit 123 heats the mixture or the initial solvent contained in the solvent receiving tank 121 to vaporize pure solvent components.

구체적으로, 상기 가열유닛(123)은 세정대상물의 세정을 시작하기 위하여 초기 솔벤트가 상기 솔벤트 수용조(121)에 수용되는 경우에 상기 초기 솔벤트를 일정온도로 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시킨다.Specifically, the heating unit 123 heats the initial solvent to a predetermined temperature to vaporize pure solvent components when the initial solvent is accommodated in the solvent containing chamber 121 to start the cleaning of the object to be cleaned.

뿐만 아니라, 상기 가열유닛(123)은 공정이 진행되면서 상기 세정조(110)의 혼합물이 상기 솔벤트 수용조(121)로 회수되었을 때 상기 혼합물을 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시키기도 한다. In addition, the heating unit 123 may heat the mixture to vaporize pure solvent components when the mixture of the cleaning tank 110 is recovered into the solvent receiving tank 121 as the process proceeds.

본 실시 예에서 상기 가열유닛(123)는 상기 솔벤트 수용조(121)를 감싸면서 배치된다. 물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 가열유닛(123)는 상기 솔벤트 수용조(121)의 내부공간에 배치되어 상기 혼합물을 직접 가열할 수도 있을 것이다.In the present embodiment, the heating unit 123 is disposed while surrounding the solvent receiving tank 121. Of course, the present invention is not limited to this, and the heating unit 123 may be disposed in the inner space of the solvent receiving tank 121 to directly heat the mixture.

상기 냉각유닛은 상기 기화된 솔벤트를 액체상태로 상기 필터부재(150)에 공급하기 위하여 상기 솔벤트 공급유로(130)상에 설치되어 상기 기화된 솔벤트를 액체상태로 응축시키게 된다.The cooling unit is installed on the solvent supply passage 130 to condense the vaporized solvent into a liquid state to supply the vaporized solvent to the filter member 150 in a liquid state.

구체적으로, 상기 냉각유닛은 적어도 일부분이 상기 솔벤트 공급유로(130)를 관통하면서 상기 솔벤트 공급유로(130)의 내부공간에 배치되며, 상기 기화된 솔벤트와 열교환되는 열매체가 흐르는 냉각파이프(161)를 포함한다.Specifically, the cooling unit includes a cooling pipe 161 through which the heating medium, which is heat-exchanged with the vaporized solvent, flows through at least a portion of the cooling unit, which passes through the solvent supply passage 130 and is disposed in the inner space of the solvent supply passage 130 .

또한, 상기 냉각유닛은 상기 냉각파이프(161)의 열매체를 이동시키기 위한 펌프(미도시)와, 상기 열매체를 공급하기 위한 열매체 공급조(미도시)와, 상기 솔벤트와 열교환된 이후의 열매체가 저장되는 열매체 수용조(미도시)를 포함할 수 있다. The cooling unit includes a pump (not shown) for moving the heating medium of the cooling pipe 161, a heating medium supplying tank (not shown) for supplying the heating medium, and a heating medium after heat- (Not shown) which is provided with a heating medium.

물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 열매체 공급조와 상기 열매체 수용조는 하나의 열매체 저장탱크로 구현되며, 상기 열매체 저장탱크에는 상기 열매체의 온도를 조절하기 위한 온도조절수단이 구비될 수 있을 것이다.Of course, the present invention is not limited to this, and the heating medium supply tank and the heating medium accommodating tank may be realized as one heating medium storing tank, and the heating medium storing tank may be provided with temperature controlling means for controlling the temperature of the heating medium.

본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 냉각파이프(161)를 흐르는 동안 상기 기화된 솔벤트와 열교환하면서 가열된 열매체는 상기 세정조(110) 내부에 위치하게 되는 혼합물을 가열하는데 사용될 수도 있다. The heating medium heated while exchanging with the vaporized solvent while flowing through the cooling pipe 161 may be used to heat the mixture to be placed inside the cleaning bath 110. [

예를 들면, 상기 냉각파이프(161)의 출력단에서 연장되는 연장파이프는 상기 세정조(110)의 내부에 위치하는 혼합물을 경유한 후 상기 세정조(110)의 외부로 연장되도록 구현될 수 있을 것이다.For example, the extension pipe extending from the output end of the cooling pipe 161 may be extended to the outside of the washing tub 110 after passing through the mixture located inside the washing tub 110 .

한편, 본 실시 예에 따른 세정장치에 구비된 상기 솔벤트 수용조(121), 상기 세정조(110), 상기 솔벤트 공급유로(130)는 하나의 챔버에서 구조적 연관성을 가지면서 함께 구현된다. Meanwhile, the solvent receiving vessel 121, the washing tub 110, and the solvent supplying channel 130 provided in the washing apparatus according to the present embodiment are structured together in one chamber and are implemented together.

구체적으로, 상기 솔벤트 수용조(121)는 상기 챔버의 하부영역에 배치되고, 상기 세정조(110)는 상기 솔벤트 수용조(121)와 구획되면서 상기 챔버의 상부영역에 배치될 수 있다.Specifically, the solvent receiving tank 121 may be disposed in a lower region of the chamber, and the washing tub 110 may be disposed in an upper region of the chamber while being partitioned by the solvent receiving tank 121.

또한, 상기 솔벤트 공급유로(130)의 적어도 일부분은 상기 솔벤트 수용조(121)의 상부영역, 상기 세정조(110)의 외측면 및 상기 챔버의 내측면 사이의 공간에 의하여 형성될 수 있다.At least a portion of the solvent supply passage 130 may be formed by a space between an upper region of the solvent receiving tank 121, an outer surface of the cleaning tank 110, and an inner surface of the chamber.

결과적으로, 상기 솔벤트 수용조(121), 상기 세정조(110) 및 상기 솔벤트 공급유로(130)를 하나의 챔버에서 구현함으로써 세정장치의 구조가 간단하며, 외부의 에너지를 투입하기가 용이한 장점을 가진다.As a result, the structure of the cleaning device is simple and the external energy can be easily input, because the solvent receiving container 121, the cleaning tub 110, and the solvent supply channel 130 are formed in one chamber. .

본 발명은 상술한 실시 예에 한정되지 않고, 상기 세정조(110), 상기 솔벤트 수용조(121) 및 상기 냉각유닛은 연결유로를 통하여 연결되되 독립적인 챔버에서 각각 설치될 수도 있을 것이다.The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the cleaning tank 110, the solvent receiving tank 121, and the cooling unit may be connected to each other through independent connection chambers.

한편, 상기 콜드 트랩(cold trap)(165)은 상기 냉각유닛에 의하여 응축되지 않은 솔벤트를 제거하기 위하여 상기 냉각유닛에 의하여 솔벤트가 응축된 이후의 나머지 유체로부터 솔벤트를 추가적으로 제거하게 된다.On the other hand, the cold trap 165 additionally removes solvent from the remaining fluid after the solvent has been condensed by the cooling unit to remove the solvent that has not been condensed by the cooling unit.

본 실시 예에 따른 도면에서 개시되지는 않았지만, 상기 콜드 트랩(165)은 복수개가 설치될 수 있으며, 상기 콜드 트랩(165)에서 응축된 신선한 솔벤트는 상기 솔벤트 분배부(140)로 공급되어 최종적으로 상기 필터부재(150)의 내부공간으로 재유입될 수 있다.Although not shown in the drawings according to the present embodiment, a plurality of the cold traps 165 may be installed, and the fresh solvent condensed in the cold trap 165 may be supplied to the solvent distributor 140, Can be re-introduced into the inner space of the filter member (150).

상기 사이펀 유로(181)는 상기 세정조(110)와 상기 솔벤트 수용조(121)를 연결하되, 상기 세정조(110)의 내부에서 상기 혼합물이 일정높이 이상인 경우에 상기 세정조(110) 내부의 혼합물을 상기 솔벤트 수용조(121)로 회수하게 된다.The siphon channel 181 connects the washing tub 110 and the solvent receiving tub 121 so that the inside of the washing tub 110 is filled with the siphon flow channel 181, And the mixture is recovered in the solvent receiving tank 121.

구체적으로, 상기 세정조(110)의 혼합물의 수위가 상기 사이펀 유로(181)의 상부영역의 높이까지 채워지게 되면 사이펀 원리에 따라 상기 세정조(110)의 혼합물은 상기 솔벤트 수용조(121)로 대부분 이동하게 된다. When the mixture level of the washing tub 110 is filled up to the height of the upper area of the siphon passage 181, the mixture of the washing tub 110 is supplied to the solvent receiving tank 121 Most of them move.

예를 들면, 상기 세정조(110)에 연결된 상기 사이펀 유로(181)의 하단부보다 상부에 위치하는 상기 세정조(110)의 혼합물은 모두 상기 솔벤트 수용조(121)로 이동된다.For example, all the mixture of the washing tub 110 located above the lower end of the siphon channel 181 connected to the washing tub 110 is moved to the solvent receiving tub 121.

결과적으로, 상기 사이펀 유로(181)를 이용하면, 상기 세정조(110)를 기울이거나 상기 세정조(110)의 바닥면에 별도의 개폐밸브를 설치하지 않더라도 상기 사이펀 유로(181)를 통하여 상기 세정조(110)의 혼합물을 상기 솔벤트 수용조(121)로 이동시킬 수 있게 된다.As a result, the siphon channel 181 can be used to guide the washing water through the siphon channel 181 without inclining the washing tub 110 or providing a separate on-off valve on the bottom surface of the washing tub 110. [ It is possible to move the mixture of the preparation tank 110 to the solvent receiving tank 121.

상기 사이펀 유로(181)와 상기 솔벤트 수용조(121)가 연결되는 연결배관상에는 새로운 솔벤트를 상기 솔벤트 수용조(121)로 공급하기 위한 솔벤트 충진용 밸브(183)가 설치되어 있다.A solvent filling valve 183 for supplying a new solvent to the solvent receiving tank 121 is provided on the connection pipe to which the siphon channel 181 and the solvent receiving tank 121 are connected.

상기 분리촉진유닛(170)은 상기 세정대상물로부터 상기 이물질이 분리되는 과정을 촉진시키게 된다.The separation promoting unit 170 promotes the process of separating the foreign matter from the object to be cleaned.

구체적으로, 상기 분리촉진유닛(170)은 상기 세정조(110) 내부의 유체를 교반하는 교반기(175), 상기 세정조(110) 내부의 유체를 가열하는 가열기(171), 그리고 상기 세정조(110) 내부의 유체를 가진하기 위한 초음파를 발생시키는 초음파 발생기(173) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.More specifically, the separation promoting unit 170 includes an agitator 175 for agitating the fluid in the cleaning tank 110, a heater 171 for heating the fluid in the cleaning tank 110, And an ultrasonic generator 173 for generating an ultrasonic wave for holding the fluid inside the ultrasonic transducer 110.

상기 교반기(175)는 상기 세정조(110)의 내부영역 중 하부영역에 배치되어 상기 세정조 내부의 유체를 교반시키게 된다. The agitator 175 is disposed in a lower region of the inner region of the cleaning tank 110 to agitate the fluid in the cleaning tank.

또한, 상기 가열기(171)는 상기 세정조(110)의 바닥면 외측에 배치되어 상기 세정조를 가열함으로써 상기 세정조(110) 내부의 유체를 가열하게 된다.The heater 171 is disposed outside the bottom surface of the washing tub 110 to heat the inside of the washing tub 110 by heating the washing tub.

또한, 상기 초음파 발생기(173)는 상기 세정조의 외측면, 예를 들면 상기 세정조의 바닥면에 배치되어 상기 세정조(110)를 가진함으로써 상기 세정조(110) 내부의 유체를 가진하게 된다.The ultrasonic wave generator 173 is disposed on the outer surface of the cleaning tank, for example, on the bottom surface of the cleaning tank, so that the ultrasonic wave generator 173 vibrates the inside of the cleaning tank 110 by vibrating the cleaning tank 110.

결과적으로, 상기 분리촉진유닛을 상기 세정조(110)에 설치함으로써 상기 세정대상물을 처리하는데 소요되는 시간을 줄일 수 있게 된다.As a result, it is possible to reduce the time required for processing the object to be cleaned by installing the separation promoting unit in the washing tub 110.

상기 회수필터(187)는 상기 솔벤트 수용조(121)로 회수된 혼합물이 배출되는 배출유로(186)상에 설치되어 상기 혼합물에 포함된 미세한 세정대상물을 회수하게 된다. 또한, 상기 배출유로(186) 상에는 상기 혼합물의 배출을 위한 배출밸브(185)가 설치되어 있다.The recovery filter 187 is installed on the discharge passage 186 through which the mixture recovered in the solvent storage tank 121 is discharged to recover the fine cleaning object contained in the mixture. Further, a discharge valve 185 for discharging the mixture is provided on the discharge passage 186.

도 1 및 도 2를 참조하여, 본 발명에 따른 세정장치의 세정방법을 설명하면 다음과 같다. The cleaning method of the cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.

먼저, 세정대상물이 수용된 하나 이상의 필터부재(150)를 세정조(110)에 설치된 필터홀더(190)에 로딩하는 단계가 수행된다.First, a step of loading one or more filter members 150 accommodating the object to be cleaned into a filter holder 190 installed in the cleaning bath 110 is performed.

다음으로, 상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 초기 솔벤트를 솔벤트 수용조(121)에 공급하는 단계가 수행된다.Next, a step of supplying an initial solvent for removing the foreign substances remaining on the surface of the object to be cleaned to the solvent receiving chamber 121 is performed.

여기서, 상기 이물질은 이온성 액체이고, 상기 세정대상물은 유기재료이며, 상기 솔벤트는 상기 이온성 액체 및 상기 유기재료의 종류에 따라 선택될 수 있다.Here, the foreign matter is an ionic liquid, the object to be cleaned is an organic material, and the solvent can be selected according to the kind of the ionic liquid and the organic material.

다음으로, 상기 솔벤트 수용조(121)에 수용된 초기 솔벤트를 일정온도로 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시키는 단계가 수행된다.Next, the initial solvent contained in the solvent receiving tank 121 is heated to a predetermined temperature to vaporize only pure solvent components.

다음으로, 기화된 솔벤트가 이동되는 솔벤트 공급유로(130)상에 설치된 냉각유닛을 사용하여 상기 기화된 솔벤트를 응축시키는 응축단계가 수행된다.Next, a condensation step is performed in which the vaporized solvent is condensed using a cooling unit installed on a solvent supply passage 130 on which the vaporized solvent is moved.

다음으로, 응축된 솔벤트를 상기 필터부재(150)의 내부공간으로 공급하는 솔벤트 공급단계가 수행된다.Next, a solvent supplying step of supplying the condensed solvent to the inner space of the filter member 150 is performed.

여기서, 상기 솔벤트 공급단계는 상기 응축된 솔벤트를 하나 이상의 필터부재(150)의 내부공간으로 분배하는 솔벤트 분배단계를 포함한다.Here, the solvent supplying step includes a solvent dispensing step of distributing the condensed solvent to the inner space of the at least one filter member (150).

다음으로, 상기 응축된 솔벤트가 상기 이물질과의 상호작용을 통하여 상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 상기 이물질을 제거하는 공정 수행단계가 수행된다.Next, a step of performing the process of removing the foreign matter remaining on the surface of the object to be cleaned through the interaction of the condensed solvent with the foreign object is performed.

상기 공정 수행단계가 진행되는 동안 상기 세정대상물로부터 상기 이물질이 분리되는 과정을 촉진시키기 위하여 상기 세정조(110) 내부의 유체를 교반하는 교반공정, 상기 세정조(110) 내부의 유체를 가열하는 가열공정, 그리고 상기 세정조(110) 내부의 유체를 가진하기 위한 초음파를 발생시키는 초음파 가진공정 중 하나 이상의 공정을 수행하는 분리촉진단계가 수행될 수 있다.A stirring step of stirring the fluid inside the cleaning tank 110 to promote a process of separating the foreign matter from the object to be cleaned during the process step, a heating step of heating the fluid in the cleaning tank 110, And an ultrasonic wave generating process for generating an ultrasonic wave for holding the fluid inside the cleaning bath 110, may be performed.

다음으로, 상기 필터부재(150)를 관통한 솔벤트와 상기 세정대상물로부터 분리된 이물질을 포함하는 혼합물을 상기 세정조로부터 상기 솔벤트 수용조로 회수하는 솔벤트 회수단계가 수행된다.Next, a solvent recovery step of recovering a mixture containing the solvent passing through the filter member 150 and the foreign matter separated from the cleaning object from the cleaning tank to the solvent receiving tank is performed.

상기 솔벤트 수용조(121)에 회수된 혼합물은 상기 솔벤트 수용조(121)의 외부로 배출될 수 있다.The mixture recovered in the solvent receiving tank 121 may be discharged to the outside of the solvent receiving tank 121.

본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 솔벤트 수용조(121)로 회수된 상기 혼합물을 다시 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시켜 분리하는 솔벤트 분리단계를 더 포함한다.The present invention is not limited to this, and further includes a solvent separating step of heating the mixture recovered in the solvent receiving tank 121 to vaporize only pure solvent components.

상기 솔벤트 분리단계에서 분리된 솔벤트는 상기 응축단계에서 다시 응축되어 상기 필터부재(150)의 내부공간으로 재공급된다.The solvent separated in the solvent separating step is condensed again in the condensing step and re-supplied to the inner space of the filter member 150.

상기 공정들의 반복을 통하여 상기 세정대상물에 대한 세정이 완료되면, 상기 솔벤트 수용조(121)로 회수된 상기 혼합물이 상기 솔벤트 수용조(121)에 연결된 배출유로(186)를 통하여 외부로 배출하는 배출단계가 수행된다.When the cleaning of the object to be cleaned is completed through the repetition of the processes, the mixture recovered in the solvent containing chamber 121 is discharged to the outside through the discharge channel 186 connected to the solvent containing chamber 121 Step is performed.

상기 배출단계가 수행되는 동안에 상기 배출유로(186)상에 설치된 회수필터(187)를 사용하여 상기 혼합물에 포함된 미세한 세정대상물을 회수하는 세정대상물 회수단계가 수행될 수 있다.A cleaning object recovery step of recovering a fine cleaning object contained in the mixture may be performed using a recovery filter 187 installed on the discharge flow path 186 while the discharging step is performed.

또한, 상기 세정대상물에 대한 세정이 완료되면 세정된 세정대상물을 얻기 위하여 상기 세정조(110)로부터 상기 필터부재(150)를 반출하는 필터부재 반출단계가 수행된다.In addition, when the cleaning of the object to be cleaned is completed, a filter member removing step for removing the filter member 150 from the cleaning tank 110 is performed in order to obtain a cleaned object to be cleaned.

결과적으로, 세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질과 상호작용하는 솔벤트를 공급하되, 솔벤트 수용조에 수용된 솔벤트를 기화시킨 후 응축하여 고온의 순수한 액체상태의 솔벤트만을 상기 세정대상물의 표면에 공급함으로써 상기 이물질의 제거효율을 높일 수 있게 된다.As a result, the solvent that interacts with the foreign matter remaining on the surface of the object to be cleaned is supplied, and the solvent contained in the solvent receiving vessel is vaporized and then condensed to supply only the high temperature pure liquid state solvent to the surface of the object to be cleaned, The removal efficiency can be increased.

도 3을 참조하여, 본 발명에 따른 유기재료 처리시스템에 대한 일 실시 예를 설명하면 다음과 같다. Referring to FIG. 3, an embodiment of the organic material processing system according to the present invention will be described as follows.

상기 유기재료 처리시스템은 유기재료 공급조(10), 이온성 액체 공급조(20), 혼합조(30), 공정조건 제어부(40), 필터링유닛(50), 세정장치(100) 및 건조유닛(60)을 포함한다.The organic material processing system includes an organic material supply tank 10, an ionic liquid supply tank 20, a mixing tank 30, a process condition control unit 40, a filtering unit 50, a cleaning unit 100, (60).

상기 혼합조(30)에는 상기 유기재료 공급조(10)에서 공급되는 저순도의 유기재료와, 상기 이온성 액체 공급조(20)에서 공급되는 이온성 액체가 서로 혼합된다.The low-purity organic material supplied from the organic material supply tank (10) and the ionic liquid supplied from the ionic liquid supply tank (20) are mixed with each other in the mixing tank (30).

상기 공정조건 제어부(40)는 상기 이온성 액체의 온도조건과 압력조건 중 하나 이상을 포함하는 공정조건을 조절하여 상기 이온성 액체 내에서 상기 저순도의 유기재료가 고순도로 정제되도록 한다.The process condition control unit (40) adjusts process conditions including at least one of a temperature condition and a pressure condition of the ionic liquid so that the low purity organic material in the ionic liquid is purified to high purity.

상기 저순도의 유기재료가 고순도로 정제되는 과정은 상기 혼합조(30)에서 수행될 수도 있으며, 상기 혼합조(30)와는 독립적으로 구비되는 공정수행조(미도시)에서 수행될 수도 있다.The process of purifying the low purity organic material with high purity may be performed in the mixing tank 30 or may be performed in a process tank (not shown) independent of the mixing tank 30.

상기 공정조건하에서 상기 저순도의 유기재료가 이온성 액체의 내에서 고순도로 정제되는 과정은 본 발명의 출원인이 2014년 3월 28일자로 출원한 출원번호 10-2014-0036662(발명의 명칭:이온성 액체를 이용한 유기재료 정제방법 및 장치)에 상세하게 기재되어 있다. 즉, 본 발명은 출원번호 10-2014-0036662에 기재되어 있는 내용을 그대로 포함하고 있다.The process of purifying the organic material of low purity in the ionic liquid in high purity under the above process conditions is described in Application No. 10-2014-0036662 filed on March 28, 2014 A method and an apparatus for purifying an organic material using a gaseous liquid). That is, the present invention includes the content described in Application No. 10-2014-0036662 as it is.

구체적으로, 정제하고자 하는 유기재료를 이온성 액체에 혼합하고, 상기 이온성 액체에 혼합된 유기재료를 상기 이온성 액체 내에서 결정화시키고, 상기 결정화된 유기재료를 상기 이온성 액체로부터 분리하는 과정을 통하여 이온성 액체에 혼합되기 전보다 고순도로 정제된 유기재료를 얻게 된다.Specifically, a process of mixing an organic material to be purified with an ionic liquid, crystallizing an organic material mixed with the ionic liquid in the ionic liquid, and separating the crystallized organic material from the ionic liquid An organic material purified to a high purity before mixing with the ionic liquid is obtained.

상기 유기재료의 정제방법 및 정제장치는 종래의 유기재료 정제방법, 예를 들면 승화정제법이 가지고 있는 문제점을 해결할 수 있는 새로운 정제방법 및 정제장치에 관한 것으로서, 1회의 공정만으로도 99% 이상의 고순도 전도성 유기재료를 정제할 수 있으며, 장비를 대형화하지 않고도 상대적으로 짧은 시간에 많은 양의 전도성 유기재료를 정제할 수 있는 장점을 가진다.The organic material refining method and refining apparatus are related to a new refining method and a refining apparatus capable of solving the problems of conventional organic material refining methods such as a sublimation refining method. The organic material can be purified, and it is possible to purify a large amount of the conductive organic material in a relatively short time without enlarging the equipment.

뿐만 아니라, 상기 유기재료의 정제과정은 상기 저순도 유기재료가 상기 이온성 액체의 내에서 용해되거나 용융된 이후에 결정화되는 모든 과정을 포함한다. In addition, the purification process of the organic material includes all the processes in which the low-purity organic material is crystallized after being dissolved or melted in the ionic liquid.

일례로, 상기 유기재료의 정제과정은 제1 공정조건하에서 상기 이온성 액체 내의 저순도 유기재료를 용해 또는 용융시키는 제1 단계와, 제2 공정조건하에서 유기재료를 결정화시키는 제2 단계를 포함할 수 있다.In one example, the purification process of the organic material includes a first step of dissolving or melting the low purity organic material in the ionic liquid under the first process condition, and a second step of crystallizing the organic material under the second process condition .

상기 제1 공정조건이란 상기 이온성 액체에 대한 제1 온도, 제1 압력 및 제1 분위기 조건 등의 공정조건을 의미하고, 상기 제2 공정조건이란 상기 이온성 액체에 대한 제2 온도, 제2 압력 및 제2 분위기 조건 등의 공정조건을 의미한다. The first process condition means a process condition such as a first temperature, a first pressure, and a first atmospheric condition for the ionic liquid, and the second process condition is a second temperature for the ionic liquid, Pressure and a second atmospheric condition.

여기서, 상기 제2 단계에서 결정화되는 유기재료의 고순도화를 위하여 상기 제2 온도는 상기 제1 온도보다 높게 설정될 수 있다.Here, the second temperature may be set to be higher than the first temperature for high purity of the organic material crystallized in the second step.

상기 필터링유닛(50)은 정제된 유기재료를 상기 이온성 액체와 일차적으로 분리하게 된다.The filtering unit 50 primarily separates the purified organic material from the ionic liquid.

상기 세정장치(100)는 상기 정제된 유기재료의 표면에 묻어 있는 이온성 액체를 제거하게 된다. 상기 세정장치는 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 바 있으므로 상기 세정장치의 세부구성들에 대한 상세한 설명은 생략한다.The cleaning apparatus 100 removes the ionic liquid on the surface of the purified organic material. Since the cleaning apparatus has been described with reference to FIGS. 1 and 2, detailed description of the detailed structure of the cleaning apparatus will be omitted.

상기 건조유닛(60)은 상기 세정장치(100)에 의하여 세정된 유기재료를 건조하게 된다. The drying unit 60 dries the organic material cleaned by the cleaning device 100.

상술한 유기재료 처리시스템을 통하여 유기재료가 처리되는 과정을 설명하면 다음과 같다. A process of treating the organic material through the above-described organic material processing system will be described below.

먼저, 이온성 액체와 저순도의 유기재료가 혼합되는 혼합단계가 수행된다. First, a mixing step in which an ionic liquid and a low-purity organic material are mixed is performed.

다음으로, 상기 이온성 액체의 온도조건과 압력조건 중 하나 이상을 포함하는 공정조건을 조절하여 상기 이온성 액체 내에서 상기 저순도의 유기재료를 고순도로 정제하는 정제단계가 수행된다.Next, a purification step of purifying the low purity organic material in the ionic liquid at high purity is performed by adjusting process conditions including at least one of the temperature condition and the pressure condition of the ionic liquid.

다음으로, 상기 정제단계에서 정제된 유기재료를 상기 이온성 액체와 일차적으로 분리하는 필터링단계가 수행된다. 상기 필터링단계에서는 상기 이온성 액체와 상기 정제된 유기재료의 혼합물을 가압하기 위한 불활성 가스를 주입할 수 있다.Next, a filtering step is performed in which the organic material purified in the purification step is firstly separated from the ionic liquid. In the filtering step, an inert gas may be injected to pressurize the mixture of the ionic liquid and the purified organic material.

다음으로, 상기 정제된 유기재료의 표면에 묻어 있는 이온성 액체를 제거하기 위하여 도 1 및 도 2의 세정장치에 의한 세정방법에 따라 이온성 액체를 제거하는 이온성 액체 제거단계가 수행된다.Next, in order to remove the ionic liquid on the surface of the purified organic material, an ionic liquid removing step for removing the ionic liquid is performed according to the cleaning method using the cleaning apparatus of FIGS. 1 and 2.

다음으로, 상기 세정장치에 의하여 세정된 유기재료가 건조유닛에 의하여 건조되는 건조단계가 수행된다.Next, a drying step is performed in which the organic material cleaned by the cleaning device is dried by a drying unit.

도 4는 본 발명에 따른 세정방법과 일반적인 세정방법에 의하여 처리된 유기재료들의 표면에 잔존하는 양이온의 양을 비교하기 위한 그래프이고, 도 5는 본 발명에 따른 세정방법과 일반적인 세정방법에 의하여 처리된 유기재료들의 표면에 잔존하는 음이온의 양을 비교하기 위한 그래프이다.FIG. 4 is a graph for comparing the amount of cations remaining on the surface of the organic materials treated by the cleaning method according to the present invention and the general cleaning method. FIG. 5 is a graph for comparing And comparing the amount of anions remaining on the surface of the organic materials.

유기재료의 표면에 잔존하는 이온성 액체의 양을 측정하기 위하여 비행시간형 2차 이온질량분석법(ToF-SIMS: Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectroscopy)을 이용하였다.Time-of-flight secondary ion mass spectroscopy (ToF-SIMS) was used to measure the amount of ionic liquid remaining on the surface of the organic material.

또한, 유기재료의 정제과정에서 사용된 이온성 액체는 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트리플로로메틸술포닐이마이드 [l-ethyl-3-methylimidazolium] [bis(trifluoromethylsulfonyl) imide](이하 '[Emim][TFSI]'로 약칭함)이다.The ionic liquid used in the purification of the organic material is 1-ethyl-3-methylimidazolium [bis (trifluoromethylsulfonyl) imide] (hereinafter referred to as " '[Emim] [TFSI]').

여기서, 이온성 액체인 [Emim][TFSI]의 양이온인[Emim]의 분자량은 111 u(Unified atomic mass unit)의 값을 가지고, 음이온인 [TFSI]의 분자량은 279.9 u의 값을 가진다.Here, the molecular weight of [Emim], which is a cation of [Emim] [TFSI], which is an ionic liquid, has a value of 111 u (Unified atomic mass unit) and the molecular weight of [TFSI] which is an anion has a value of 279.9 u.

도 4 및 도 5에서 비교예 1은 이온성 액체와 접촉되지 않은 상태의 초기 저순도의 유기재료, 예를 들어 방착판에서 수집한 유기재료에 대하여 비행시간형 2차 이온질량분석법(ToF-SIMS)을 수행한 결과이다.4 and FIG. 5, Comparative Example 1 is a time-of-flight secondary ion mass spectrometry (ToF-SIMS) method for an initial low purity organic material not in contact with an ionic liquid, for example, ).

또한, 비교예 2는 상기 저순도의 유기재료를 이온성 액체인 [Emim][TFSI]에 넣고 170℃, 10시간 동안 열처리를 하여 정제한 후 상기 유기재료를 이소프로필 알콜(IPA)에 담근 상태로 세정하고, 세정된 유기재료에 대하여 건조공정을 거친 유기재료에 대하여 비행시간형 2차 이온질량분석법(ToF-SIMS)을 수행한 결과이다.In Comparative Example 2, the low-purity organic material was placed in an ionic liquid [Emim] [TFSI] and subjected to heat treatment at 170 ° C. for 10 hours to purify the organic material. Then, the organic material was immersed in isopropyl alcohol (IPA) (ToF-SIMS) was performed on the organic material that had been cleaned and dried on the cleaned organic material.

또한, 실시예는 상기 저순도의 유기재료를 이온성 액체인 [Emim][TFSI]에 넣고 170℃, 10시간 동안 열처리를 하여 정제한 후 본 발명에 따른 세정장치에 의하여 세정한 후 세정된 유기재료에 대하여 건조공정을 거친 유기재료에 대하여 비행시간형 2차 이온질량분석법(ToF-SIMS)을 수행한 결과이다.In this embodiment, the low-purity organic material is placed in an ionic liquid [Emim] [TFSI], and the resultant is subjected to heat treatment at 170 ° C for 10 hours to be purified. Then, the organic material is cleaned by the cleaning apparatus according to the present invention, (ToF-SIMS) was performed on the organic materials that had been subjected to the drying process for the material.

측정결과, 비교예 1의 경우에는 [Emim]의 양이온 분자량인 111 u에서 강도(intensity)가 27이 측정되었고, [TFSI]의 음이온 분자량인 279.9 u에서 강도가 19가 측정되었다.As a result of measurement, in Comparative Example 1, an intensity of 27 was measured at 111 u of the cationic molecular weight of [Emim], and an intensity of 19 at an anionic molecular weight of 279.9 u of [TFSI] was measured.

또한, 비교예 2의 경우에는 [Emim]의 양이온 분자량인 111 u에서 강도(intensity)가 2595가 측정되었고, [TFSI]의 음이온 분자량인 279.9 u에서 강도가 2453이 측정되었다.In the case of Comparative Example 2, an intensity of 2595 was measured at 111 u of cation molecular weight of [Emim], and an intensity of 2453 was measured at 279.9 u of anionic molecular weight of [TFSI].

또한, 실시예의 경우에는 [Emim]의 양이온 분자량인 111 u에서 강도(intensity)가 29가 측정되었고, [TFSI]의 음이온 분자량인 279.9 u에서 강도가 17이 측정되었다.Further, in the case of the examples, the intensity of 29 was measured at 111 u of the cationic molecular weight of [Emim], and the intensity of 17 was measured at 279.9 u of the anion molecular weight of [TFSI].

결과적으로, 실시예의 경우는 이온성 액체와의 접촉을 통하여 정제되었음에도 불구하고 양이온과 음이온 모두 비교예 1, 즉 이온성 액체와 접촉되지 않은 것과 비슷하게 검출되었다. 따라서, 본 발명에 따른 세정장치에 의하여 세정된 유기재료의 표면에는 이온성 액체가 실질적으로 존재하지 않은 것으로 확인되었다.As a result, in the case of the examples, both the positive and negative ions were detected comparatively to Comparative Example 1, that is, not in contact with the ionic liquid, despite being purified through contact with the ionic liquid. Therefore, it has been confirmed that the surface of the organic material cleaned by the cleaning apparatus according to the present invention does not substantially contain an ionic liquid.

반면, 비교예 2의 경우는 이온성 액체와의 접촉을 통하여 정제된 유기재료가 일반적인 세정방법에 따라 세정되었음에도 불구하고 여전히 정제된 유기재료의 표면에 일정 정도의 이온성 액체가 남아있게 된다.On the other hand, in the case of Comparative Example 2, although the organic material purified through contact with the ionic liquid was cleaned according to the general cleaning method, a certain amount of ionic liquid remains on the surface of the purified organic material.

본 발명은 상술한 실시 예에 한정되지 않고, 상기 유기재료 처리시스템에 구비된 세정장치는 정제된 유기재료를 일차적으로 세정하는 제1 세정유닛과, 상기 제1 세정유닛에 의하여 세정된 유기재료를 이차적으로 세정하는 제2 세정유닛을 포함할 수 있다.The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the cleaning apparatus provided in the organic material processing system may include a first cleaning unit for primarily cleaning the purified organic material, and a cleaning unit for cleaning the organic material cleaned by the first cleaning unit And a second cleaning unit that performs secondary cleaning.

상기 제1 세정유닛은 상기 정제된 유기재료를 세정액, 예를 들면 액체상태의 메탄올(MeOH) 또는 이소프로필 알콜(IPA: Isopropyl Alchohol)에 담근 상태로 상기 정제된 유기재료의 표면에 묻어 있는 이온성 액체를 제거하게 된다.The first cleaning unit removes the purified organic material from the surface of the purified organic material by immersing the purified organic material in a cleaning liquid such as methanol (MeOH) or isopropyl alcohol (IPA) Liquid is removed.

한편, 상기 제2 세정유닛은 상술한 도 1 및 도 2의 세정장치와 실질적으로 동일한 구성을 가진다. 즉, 상기 제2 세정유닛은 상기 제1 세정유닛에 의하여 세정된 유기재료에 기체상태에서 응축된 높은 온도의 신선한 솔벤트를 반복적으로 순환 공급하면서 정제된 유기재료의 표면에 잔존하는 이온성 액체를 제거하게 된다.On the other hand, the second cleaning unit has substantially the same structure as the cleaning apparatus of Figs. 1 and 2 described above. That is, the second cleaning unit repeatedly circulates and supplies the high-temperature fresh solvent condensed in the gaseous state to the organic material cleaned by the first cleaning unit while removing the ionic liquid remaining on the surface of the purified organic material .

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 상술한 특정한 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형의 실시가 가능하고 이러한 변형은 본 발명의 범위에 속한다.As described above, the present invention is not limited to the above-described specific preferred embodiments, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the scope of the present invention as claimed in the claims. And such variations are within the scope of the present invention.

10: 유기재료 공급조 20: 이온성 액체 공급조
30: 혼합조 40: 공정조건 제어부
50: 필터링유닛 60: 건조유닛
100: 세정장치 110: 세정조
121: 솔벤트 수용조 123: 가열유닛
130: 솔벤트 공급유로 140: 솔벤트 분배부
141: 제1 분배플레이트 143: 제2 분배플레이트
150: 필터부재 161: 냉각파이프
165: 콜드 트랩 170: 분리촉진유닛
171: 가열기 173: 초음파 발생기
175: 교반기 181: 사이펀 유로
187: 회수필터 190: 필터홀더
191: 홀더본체 193: 홀더브라켓10: organic material supply tank 20: ionic liquid supply tank
30: mixing tank 40: process condition control section
50: filtering unit 60: drying unit
100: Cleaning device 110: Cleaning tank
121: Solvent receiving tank 123: Heating unit
130: Solvent supply passage 140: Solvent distributor
141: first distribution plate 143: second distribution plate
150: filter member 161: cooling pipe
165: Cold trap 170: Separation promoting unit
171: heater 173: ultrasonic generator
175: stirrer 181: siphon channel
187: Collection filter 190: Filter holder
191: holder body 193: holder bracket

Claims (17)

표면에 이물질이 잔존하는 세정대상물이 수용되는 하나 이상의 필터부재;
상기 필터부재가 착탈가능하게 결합되는 세정조;
상기 세정조에 배치되어 상기 필터부재를 잡아주기 위한 필터홀더;
상기 필터부재를 관통하면서 상기 이물질과의 상호작용을 통하여 상기 세정대상물로부터 상기 이물질을 제거하기 위한 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 공급하는 솔벤트 공급유닛;
상기 필터부재를 관통한 솔벤트와 상기 세정대상물로부터 분리된 이물질을 포함하는 혼합물이 상기 세정조로부터 배출되어 유입되는 솔벤트 수용조;
상기 솔벤트 수용조에 수용된 상기 혼합물 또는 초기 솔벤트를 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시키는 가열유닛; 그리고,
기화된 솔벤트를 액체상태로 상기 필터부재에 공급하기 위하여 상기 기화된 솔벤트를 냉각하여 응축시키는 냉각유닛을 포함하며,
상기 솔벤트 공급유닛은 상기 솔벤트 수용조에서 기화된 솔벤트가 이동하는 유로를 형성하는 솔벤트 공급유로와, 상기 솔벤트 공급유로상에서 상기 냉각유닛에 의하여 응축된 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 공급하기 위한 솔벤트 분배부를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치.At least one filter member in which a cleaning object in which foreign matter remains on its surface is accommodated;
A cleaning bath in which the filter member is detachably coupled;
A filter holder disposed in the cleaning tank to hold the filter member;
A solvent supply unit for supplying a solvent to the internal space of the filter member through the filter member to remove the foreign matter from the object to be cleaned through interaction with the foreign matter;
A solvent containing tank through which a mixture containing a solvent passing through the filter member and a foreign substance separated from the object to be cleaned is discharged from the cleaning tank and flows therein;
A heating unit for heating the mixture or the initial solvent contained in the solvent receiving vessel to vaporize pure solvent components only; And,
And a cooling unit for cooling and condensing the vaporized solvent to supply the vaporized solvent to the filter member in a liquid state,
Wherein the solvent supply unit includes a solvent supply flow path for forming a flow path through which the solvent vapor flows in the solvent supply tank and a solvent supply unit for supplying the solvent condensed by the cooling unit on the solvent supply flow path to the internal space of the filter member, And a dispensing portion. 제1항에 있어서,
상기 솔벤트 분배부는 상기 필터부재와 대응되는 제1 분배홀이 형성된 제1 분배플레이트와, 상기 제1 분배플레이트의 상부에 배치되며 상기 제1 분배홀보다 많은 개수의 제2 분배홀이 형성된 제2 분배플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치.The method according to claim 1,
Wherein the solvent distribution unit includes a first distribution plate having a first distribution hole corresponding to the filter member and a second distribution plate disposed above the first distribution plate and having a larger number of second distribution holes than the first distribution hole, And a plate. 제1항에 있어서,
상기 냉각유닛은 적어도 일부분이 상기 솔벤트 공급유로를 관통하면서 상기 솔벤트 공급유로의 내부공간에 배치되며, 상기 기화된 솔벤트와 열교환되는 열매체가 흐르는 냉각파이프를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치.The method according to claim 1,
Wherein the cooling unit includes a cooling pipe through which at least a portion of the cooling unit passes through the solvent supply passage and is disposed in an inner space of the solvent supply passage and through which a heating medium that is heat-exchanged with the vaporized solvent flows. 제3항에 있어서,
상기 솔벤트 공급유로에는 상기 열매체와의 열교환을 통하여 응축된 솔벤트가 배출되는 솔벤트 공급부가 형성되어 있으며, 상기 솔벤트 공급부는 상기 솔벤트 분배부의 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 세정장치.The method of claim 3,
Wherein the solvent supply passage is provided with a solvent supply portion for discharging the condensed solvent through heat exchange with the heating medium, and the solvent supply portion is located above the solvent distribution portion. 제1항에 있어서,
상기 세정조와 상기 솔벤트 수용조를 연결하되, 상기 세정조의 내부에서 상기 혼합물이 일정높이 이상인 경우에 상기 세정조 내부의 혼합물을 상기 솔벤트 수용조로 회수하기 위한 사이펀 유로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치.The method according to claim 1,
Further comprising a siphon passage for connecting the cleaning tank and the solvent receiving tank to collect the mixture in the cleaning tank into the solvent receiving tank when the mixture is within a predetermined height or higher in the cleaning tank. . 제1항에 있어서,
상기 냉각유닛에 의하여 응축되지 않은 솔벤트를 제거하기 위하여 상기 냉각유닛에 의하여 솔벤트가 응축된 이후의 나머지 유체로부터 솔벤트를 추가적으로 제거하기 위한 콜드 트랩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치The method according to claim 1,
Further comprising a cold trap for additionally removing solvent from remaining fluids after the solvent has been condensed by said cooling unit to remove non-condensed solvent by said cooling unit. ≪ RTI ID = 0.0 > 제1항에 있어서,
상기 세정대상물로부터 상기 이물질이 분리되는 과정을 촉진시키기 위하여 상기 세정조 내부의 유체를 교반하는 교반기, 상기 세정조 내부의 유체를 가열하는 가열기, 그리고 상기 세정조 내부의 유체를 가진하기 위한 초음파를 발생시키는 초음파 발생기 중 하나 이상을 포함하는 분리촉진유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치.The method according to claim 1,
An agitator for agitating the fluid inside the cleaning tank, a heater for heating the fluid inside the cleaning tank, and an ultrasonic generator for generating the ultrasonic wave for generating the fluid inside the cleaning tank, in order to accelerate the process of separating the foreign matter from the object to be cleaned. Further comprising a separation facilitating unit including at least one of an ultrasonic generator for generating ultrasonic waves. 제1항에 있어서,
상기 솔벤트 수용조, 상기 세정조 및 상기 솔벤트 공급유로는 하나의 챔버에서 구현되되, 상기 솔벤트 수용조는 상기 챔버의 하부영역에 배치되고, 상기 세정조는 상기 솔벤트 수용조와 구획되면서 상기 챔버의 상부영역에 배치되며,
상기 솔벤트 공급유로의 적어도 일부분은 상기 솔벤트 수용조의 상부영역, 상기 세정조의 외측면 및 상기 챔버의 내측면 사이의 공간에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 세정장치.The method according to claim 1,
Wherein the solvent receiving vessel, the washing tub, and the solvent supplying channel are formed in one chamber, the solvent receiving vessel is disposed in a lower region of the chamber, and the washing vessel is partitioned by the solvent receiving vessel and disposed in an upper region of the chamber And,
Wherein at least a portion of the solvent supply passage is formed by a space between an upper area of the solvent receiving tank, an outer surface of the cleaning tank, and an inner surface of the chamber. 제1항에 있어서,
상기 솔벤트 수용조로 회수된 혼합물이 배출되는 배출유로상에 설치되어 상기 혼합물에 포함된 미세한 세정대상물을 회수하는 회수필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치. The method according to claim 1,
Further comprising a recovery filter installed on the discharge flow path through which the mixture recovered in the solvent-containing tank is discharged, and recovering the fine cleaning object contained in the mixture. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이물질은 이온성 액체이고, 상기 세정대상물은 유기재료이며, 상기 솔벤트는 상기 이온성 액체 및 상기 유기재료의 종류에 따라 선택되는 것을 특징으로 하는 세정장치.10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Wherein the foreign matter is an ionic liquid, the object to be cleaned is an organic material, and the solvent is selected according to the kind of the ionic liquid and the organic material. 이온성 액체와 저순도의 유기재료가 혼합되는 혼합조;
상기 이온성 액체의 온도조건과 압력조건 중 하나 이상을 포함하는 공정조건을 조절하여 상기 이온성 액체 내에서 상기 저순도의 유기재료를 고순도로 정제하기 위한 공정조건 제어부;
정제된 유기재료를 상기 이온성 액체와 일차적으로 분리하는 필터링유닛; 그리고,
상기 정제된 유기재료의 표면에 묻어 있는 이온성 액체를 제거하기 위한 상기 제10항에 따른 세정장치를 포함하는 유기재료 처리시스템.A mixing tank in which an ionic liquid and a low-purity organic material are mixed;
A process condition control unit for purifying the low purity organic material in the ionic liquid with high purity by adjusting process conditions including at least one of a temperature condition and a pressure condition of the ionic liquid;
A filtering unit for primarily separating the purified organic material from the ionic liquid; And,
And a cleaning apparatus according to claim 10 for removing ionic liquids on the surface of the purified organic material. 세정대상물이 수용된 하나 이상의 필터부재를 세정조에 설치된 필터홀더에 로딩하는 단계;
상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 초기 솔벤트를 솔벤트 수용조에 공급하는 단계;
상기 솔벤트 수용조에 수용된 초기 솔벤트를 일정온도로 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시키는 단계;
기화된 솔벤트가 이동되는 솔벤트 공급유로상에 설치된 냉각유닛을 사용하여 상기 기화된 솔벤트를 응축시키는 응축단계;
응축된 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 공급하는 솔벤트 공급단계;
상기 응축된 솔벤트가 상기 이물질과의 상호작용을 통하여 상기 세정대상물의 표면에 잔존하는 상기 이물질을 제거하는 공정 수행단계; 그리고,
상기 필터부재를 관통한 솔벤트와 상기 세정대상물로부터 분리된 이물질을 포함하는 혼합물을 상기 세정조로부터 상기 솔벤트 수용조로 회수하는 솔벤트 회수단계를 포함하며,
상기 솔벤트 공급단계는 상기 응축된 솔벤트를 상기 필터부재의 내부공간으로 분배하는 솔벤트 분배단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정방법.Loading at least one filter member accommodating the object to be cleaned into a filter holder installed in the cleaning tank;
Supplying an initial solvent for removing foreign matters remaining on the surface of the object to be cleaned into a solvent receiving vessel;
Heating the initial solvent contained in the solvent tank to a predetermined temperature to vaporize pure solvent components;
A condensing step of condensing the vaporized solvent using a cooling unit installed on a solvent supply flow path where the vaporized solvent is moved;
A solvent supplying step of supplying the condensed solvent to the inner space of the filter member;
A step of removing the foreign matter remaining on the surface of the object to be cleaned through the interaction of the condensed solvent with the foreign matter; And,
And a solvent recovery step of recovering a mixture containing the solvent passing through the filter member and the foreign matter separated from the cleaning object from the cleaning tank to the solvent receiving tank,
Wherein the solvent supply step includes a solvent distribution step of distributing the condensed solvent to the internal space of the filter member. 제12항에 있어서,
상기 솔벤트 수용조로 회수된 상기 혼합물을 다시 가열하여 순수한 솔벤트 성분만을 기화시켜 분리하는 솔벤트 분리단계와, 상기 솔벤트 분리단계에서 분리된 솔벤트를 응축하여 상기 필터부재의 내부공간으로 재공급하는 솔벤트 순환단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정방법.13. The method of claim 12,
A solvent separation step of heating the mixture recovered in the solvent-containing tank again to vaporize only pure solvent components; and a solvent circulation step of condensing the solvent separated in the solvent separation step and supplying the solvent to the inner space of the filter member Further comprising the steps of: 제12항에 있어서,
상기 솔벤트 수용조로 회수된 상기 혼합물을 상기 솔벤트 수용조에 연결된 배출유로를 통하여 외부로 배출하는 배출단계와, 상기 배출유로상에 설치된 회수필터를 사용하여 상기 혼합물에 포함된 미세한 세정대상물을 회수하는 세정대상물 회수단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정방법.13. The method of claim 12,
A discharging step of discharging the mixture recovered in the solvent-containing tank to the outside through a discharge channel connected to the solvent-receiving vessel; and a recovery step of recovering a fine object to be cleaned contained in the mixture using a recovery filter Further comprising a recovery step. 제12항에 있어서,
상기 세정대상물로부터 상기 이물질이 분리되는 과정을 촉진시키기 위하여 상기 세정조 내부의 유체를 교반하는 교반공정, 상기 세정조 내부의 유체를 가열하는 가열공정, 그리고 상기 세정조 내부의 유체를 가진하기 위한 초음파를 발생시키는 초음파 가진공정 중 하나 이상의 공정을 수행하는 분리촉진단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정방법.13. The method of claim 12,
An agitating step of agitating the fluid in the cleaning tank, a heating step of heating the fluid in the cleaning tank, and a cleaning step of cleaning the interior of the cleaning tank with ultrasonic waves Further comprising a separation promotion step of performing at least one of an ultrasonic wave excitation process for generating ultrasonic waves to generate ultrasonic waves. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
세정된 세정대상물을 얻기 위하여 상기 세정조로부터 상기 필터부재를 반출하는 필터부재 반출단계를 더 포함하며,
상기 이물질은 이온성 액체이고, 상기 세정대상물은 유기재료이며, 상기 솔벤트는 상기 이온성 액체 및 상기 유기재료의 종류에 따라 선택되는 것을 특징으로 하는 세정방법.16. The method according to any one of claims 12 to 15,
Further comprising a filter member removing step of removing the filter member from the cleaning tank to obtain a cleaned object to be cleaned,
Wherein the foreign matter is an ionic liquid, the object to be cleaned is an organic material, and the solvent is selected according to the kind of the ionic liquid and the organic material. 이온성 액체와 저순도의 유기재료를 혼합하는 혼합단계;
상기 이온성 액체의 온도조건과 압력조건 중 하나 이상을 포함하는 공정조건을 조절하여 상기 이온성 액체 내에서 상기 저순도의 유기재료를 고순도로 정제하는 정제단계;
상기 정제단계에서 정제된 유기재료를 상기 이온성 액체와 일차적으로 분리하는 필터링단계; 그리고,
상기 정제된 유기재료의 표면에 묻어 있는 이온성 액체를 제거하기 위하여 상기 제16항에 따른 세정방법에 따라 이온성 액체를 제거하는 이온성 액체 제거단계를 포함하는 유기재료 처리방법.A mixing step of mixing an ionic liquid and a low purity organic material;
Purifying the low purity organic material in high purity in the ionic liquid by adjusting process conditions including at least one of a temperature condition and a pressure condition of the ionic liquid;
A filtering step of primarily separating the purified organic material from the ionic liquid in the purification step; And,
And an ionic liquid removing step for removing the ionic liquid according to the cleaning method according to the above 16 to remove the ionic liquid buried on the surface of the purified organic material.
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