KR20160089735A - Colored photosensitive resin composition - Google Patents

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KR20160089735A
KR20160089735A KR1020150009321A KR20150009321A KR20160089735A KR 20160089735 A KR20160089735 A KR 20160089735A KR 1020150009321 A KR1020150009321 A KR 1020150009321A KR 20150009321 A KR20150009321 A KR 20150009321A KR 20160089735 A KR20160089735 A KR 20160089735A
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photosensitive resin
compound
colored photosensitive
pigment
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신규철
김상국
박정효
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

Provided is a colored photosensitive resin composition comprising: a colorant (A); an alkali soluble resin (B); a photo-polymerizable compound (C); a photo-polymerization initiator (D); and a solvent (E), wherein the alkali soluble resin (B) contains a first resin including chemical formula 1 and chemical formula 2 and a second resin having an acid value of 170-300 mg KOH/g; the photo-polymerizable compound (C) includes an isocyanate compound having a structure of chemical formula 3; and the angle of the taper of a pixel coating of a color filter manufactured using the colored photosensitive resin is implemented within 40 degrees.

Description

착색 감광성 수지 조성물{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION [0002]

본 발명은, 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조되는 컬러 필터 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter manufactured using the same, and a liquid crystal display including the same.

착색 감광성 수지 조성물은 컬러필터 제조용 감광재, 오버코트 감광재, 컬럼 스페이서 등 다양한 용도로 사용되고 있다. 이는 통상 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물, 광중합 개시제, 용매 등을 포함한다. 이와 같은 감광성 수지 조성물은 기판상에 도포되어 도막을 형성하고, 이 도막의 특정 부분에 포토마스크 등을 이용하여 방사선 조사에 의한 노광을 실시한 후, 비노광부를 현상 처리에 의해 제거하여 패턴을 형성하는 방식으로 사용된다.The colored photosensitive resin composition is used for various purposes such as a photosensitive material for forming a color filter, an overcoat photosensitive material, and a column spacer. This usually includes an alkali-soluble resin, a polymerizable compound having an ethylenic unsaturated bond, a photopolymerization initiator, a solvent and the like. Such a photosensitive resin composition is coated on a substrate to form a coating film, and after a specific portion of the coating film is exposed to radiation by using a photomask or the like, the unexposed portion is removed by developing treatment to form a pattern .

상기와 같은 착색 감광성 수지 조성물의 사용 공정에서 공정의 단위 시간당 수율 향상을 위하여 노광 시간과 현상 시간을 줄이고 있어, 감광성 수지 조성물 자체의 감광도와 현상성의 향상이 요구되고 있다. 또한 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 컬러 필터를 제조하는 공정 중 발생하는 블랙 매트릭스(Black Matrix, BM) 위 컬러 패턴의 뿔단차의 해결 및 현상공정 중 물얼룩에 의한 Tact time 지연에 따른 생산성의 저하 등의 문제가 일반적으로 알려져 있다.In order to improve the yield per unit time of the process in the process of using the colored photosensitive resin composition, the exposure time and the development time are reduced, and it is required to improve the photosensitivity and developability of the photosensitive resin composition itself. In addition, solving the step of the horn of a black matrix (BM) color pattern generated in a process of manufacturing a color filter using a colored photosensitive resin composition, and a decrease in productivity due to a tact time delay due to water stain during a developing process Is generally known.

이와 관련하여, 대한민국 등록특허 제1391224호에는 알칼리 가용성 수지로 특정 화합물을 사용하여 탄성회복율을 개선한스페이서 형성용 감광성 수지조성물이 개시되어 있으나, 이러한 화합물 첨가에 따른 컬러 패턴의 뿔단차의 해결이나 현상공정 중 물얼룩 개선 등에 대한 효과는 언급되어 있지 않다.In this regard, Korean Patent Registration No. 1391224 discloses a photosensitive resin composition for forming a spacer in which a specific compound is used as an alkali-soluble resin to improve the elastic recovery rate. However, The effect on the improvement of the water stain during the process is not mentioned.

대한민국 등록특허 제1391224호Korean Patent No. 1391224

본 발명은 컬러 필터 제조 공정 중 발생하는 블랙 매트릭스(Black Matrix, BM) 위 컬러 패턴의 뿔단차의 해결 및 현상공정 중 물얼룩에 의한 Tact time 지연에 따른 생산성의 저하 문제를 해결할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention relates to a color photographic photosensitive resin composition capable of solving a step of a horn of a black matrix (BM) color pattern generated during a color filter manufacturing process and a problem of lowering of productivity due to a delay of a tact time due to water spots during a development process And to provide a composition.

본 발명은 상기의 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러 필터를 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a color filter made of the above-mentioned colored photosensitive resin composition.

또한, 본 발명은 상기 본 발명의 컬러필터를 구비한 액정표시장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.It is still another object of the present invention to provide a liquid crystal display device having the color filter of the present invention.

본 발명은, 착색제(A), 알칼리 가용성 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)로 구성된 착색 감광성 수지 조성물로, The present invention relates to a colored photosensitive resin composition comprising a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D) and a solvent (E)

상기 알칼리 가용성 수지(B)는, 하기 화학식 1 및 화학식 2를 포함하는 제1수지 및 산가가 170 내지 300mgKOH/g인 제2수지를 포함하며, The alkali-soluble resin (B) comprises a first resin comprising the following Chemical Formulas 1 and 2 and a second resin having an acid value of 170 to 300 mg KOH / g,

상기 광중합성 화합물(C)은 하기 화학식 3의 구조를 갖는 이소시아네이트 화합물을 포함하며, The photopolymerizable compound (C) comprises an isocyanate compound having a structure represented by the following formula (3)

상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터의 화소 도막의 테이퍼(Taper)의 각도를 40도 이내로 구현 하도록 하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. Wherein the taper angle of the pixel coating film of the color filter manufactured using the colored photosensitive resin composition is within 40 degrees.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(화학식 1에서, R1은 수소, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬 또는 시클로알킬이고; R2는 단일결합, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬렌 또는 시클로알킬렌이고; 상기 R1 및 R2는 서로 독립적으로 히드록시기로 치환될 수 있다.)Wherein R 1 is hydrogen or alkyl or cycloalkyl having 1-20 carbon atoms with or without a heteroatom, R 2 is a single bond or an alkylene of 1-20 carbon atoms with or without a heteroatom or bicyclo alkylene; R 1 and R 2 may be substituted with a hydroxy group independently from each other).

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

(화학식 2에서, R3은 수소, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬 또는 시클로알킬이고; R4는 단일결합, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬렌 또는 시클로알킬렌이고; 상기 R3 및 R4는 서로 독립적으로 히드록시기로 치환될 수 있다.)Wherein R 3 is hydrogen or alkyl or cycloalkyl having 1 to 20 carbon atoms with or without a hetero atom, R 4 is a single bond or an alkylene of 1-20 carbon atoms with or without a heteroatom Or R < 3 > and R < 4 > may be independently substituted with a hydroxyl group.

[화학식3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

(화학식 3에서, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 에틸렌성 이중결합을 포함하는 치환기 또는 수산기를 포함하는 치환기이다.)(In the general formula (3), R 5 , R 6 and R 7 are each independently a substituent group containing an ethylenic double bond or a substituent group containing a hydroxyl group.)

본 발명은 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러 필터를 제공한다. The present invention provides a color filter manufactured using the colored photosensitive resin composition.

본 발명은 컬러 필터를 포함하는 액정표시장치를 제공한다. The present invention provides a liquid crystal display device including a color filter.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 컬러 필터의 화소 도막의 테이퍼(Taper) 각도를 조절하여, 컬러 필터 층의 단차를 줄여 액정의 배향성을 향상시켜 화질을 향상시키고 제품의 신뢰성을 향상시키는 효과를 갖는다.The colored photosensitive resin composition of the present invention has the effect of improving the image quality and improving the reliability of the product by adjusting the taper angle of the pixel coating film of the color filter to reduce the step of the color filter layer to improve the orientation of the liquid crystal.

본 발명은, 착색제(A), 알칼리 가용성 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)로 구성된 착색 감광성 수지 조성물로, The present invention relates to a colored photosensitive resin composition comprising a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D) and a solvent (E)

상기 알칼리 가용성 수지(B)는, 하기 화학식 1 및 화학식 2를 포함하는 제1수지 및 산가가 170 내지 300mgKOH/g인 제2수지를 포함하며, The alkali-soluble resin (B) comprises a first resin comprising the following Chemical Formulas 1 and 2 and a second resin having an acid value of 170 to 300 mg KOH / g,

상기 광중합성 화합물(C)은 하기 화학식 3의 구조를 갖는 이소시아네이트 화합물을 포함하며, The photopolymerizable compound (C) comprises an isocyanate compound having a structure represented by the following formula (3)

상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터의 화소 도막의 테이퍼(Taper)의 각도를 40도 이내로 구현 하도록 하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물에 대한 것이다. 본 발명은 알칼리 가용성 수지(B) 및 광중합성 화합물(C)에 화학식 1 내지 3의 화합물을 포함함으로 화소 도막의 테이퍼(Taper)의 각도를 40도이내로 구현 하도록하는 효과를 갖는다. Wherein the taper angle of the pixel coating film of the color filter manufactured using the colored photosensitive resin composition is within 40 degrees. The present invention has the effect of realizing the taper angle of the pixel coating film within 40 degrees by including the compounds of the formulas (1) to (3) in the alkali-soluble resin (B) and the photopolymerizable compound (C).

이하, 본 발명의 내용을 각 구성별로 상세히 설명한다. Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail for each constitution.

착색제(A) The colorant (A)

본 발명에 있어서, 착색제는 색조가 한정되어 있지 않으며, 컬러필터의 용도에 따라 색조를 선택할 수 있다.In the present invention, the color tone of the colorant is not limited, and the color tone can be selected according to the use of the color filter.

착색제는 안료, 염료 또는 천연 색소 중 어느 하나 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 상기 안료로는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트(pigment)로 분류되어 있는 화합물인 유기 안료, 또는 금속 산화물, 금속 착염, 황산바륨의 무기염인 무기 안료를 사용할 수 있으며, 내열성 및 발색성이 우수하다는 점에서 유기 안료를 사용하는 것이 바람직하다.The colorant may be selected from pigments, dyes, natural pigments, or a combination of two or more pigments. Examples of the pigments include organic pigments, which are classified as pigments in the color index (The Society of Dyers and Colourists) , Or an inorganic pigment which is a metal oxide, a metal complex salt or an inorganic salt of barium sulfate, and it is preferable to use an organic pigment in view of excellent heat resistance and color development.

유기 안료의 구체적인 예로는, C.I. 피그먼트 옐로우 1, C.I. 피그먼트 옐로우 3, C.I. 피그먼트 옐로우 12, C.I. 피그먼트 옐로우 13, C.I. 피그먼트 옐로우 14, C.I. 피그먼트 옐로우 15, C.I. 피그먼트 옐로우 16, C.I. 피그먼트 옐로우 17, C.I. 피그먼트 옐로우 20, C.I. 피그먼트 옐로우 24, C.I. 피그먼트 옐로우 31, C.I. 피그먼트 옐로우 53, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 86, C.I. 피그먼트 옐로우 93, C.I. 피그먼트 옐로우 94, C.I. 피그먼트 옐로우 109, C.I. 피그먼트 옐로우 110, C.I. 피그먼트 옐로우 117, C.I. 피그먼트옐로우 125, C.I. 피그먼트 옐로우 128, C.I. 피그먼트 옐로우 137, C.I. 피그먼트 옐로우138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 147, C.I. 피그먼트 옐로우 148, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 153, C.I. 피그먼트 옐로우154, C.I. 피그먼트 옐로우 166, C.I. 피그먼트 옐로우 173, C.I. 피그먼트 옐로우 194, C.I. 피그먼트옐로우 214 등의 황색 안료; C.I. 피그먼트 오렌지 13, C.I. 피그먼트 오렌지 31, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 오렌지 40, C.I. 피그먼트 오렌지 42, C.I. 피그먼트 오렌지 43, C.I. 피그먼트 오렌지 51, C.I. 피그먼트 오렌지 55, C.I. 피그먼트 오렌지 59, C.I. 피그먼트 오렌지 61, C.I. 피그먼트 오렌지 64, C.I. 피그먼트 오렌지 65, C.I. 피그먼트 오렌지 71, C.I. 피그먼트 오렌지 73 등의 오렌지색 안료; C.I. 피그먼트 레드 9, C.I. 피그먼트 레드 97, C.I. 피그먼트 레드 105, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 176, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 192, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 215, C.I. 피그먼트 레드 216, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 265 등의 적색 안료; C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 60 등의 청색 안료; C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38 등의 바이올렛색 안료; C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58 등의 녹색 안료; C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25 등의 브라운색 안료; 또는 C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있다. 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트옐로우 150, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 바이올렛23, C.I. 피그먼트 블루 15:6 및 C.I. 피그먼트 그린 36로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이다.Specific examples of the organic pigments include C.I. Pigment Yellow 1, C.I. Pigment Yellow 3, C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow 13, C.I. Pigment Yellow 14, C.I. Pigment Yellow 15, C.I. Pigment Yellow 16, C.I. Pigment Yellow 17, C.I. Pigment Yellow 20, C.I. Pigment Yellow 24, C.I. Pigment Yellow 31, C.I. Pigment Yellow 53, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 86, C.I. Pigment Yellow 93, C.I. Pigment Yellow 94, C.I. Pigment Yellow 109, C.I. Pigment Yellow 110, C.I. Pigment Yellow 117, C.I. Pigment Yellow 125, C.I. Pigment Yellow 128, C.I. Pigment Yellow 137, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 147, C.I. Pigment Yellow 148, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 153, C.I. Pigment Yellow 154, C.I. Pigment Yellow 166, C.I. Pigment Yellow 173, C.I. Pigment Yellow 194, C.I. Yellow pigments such as Pigment Yellow 214; C.I. Pigment Orange 13, C.I. Pigment Orange 31, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Orange 40, C.I. Pigment Orange 42, C.I. Pigment Orange 43, C.I. Pigment Orange 51, C.I. Pigment Orange 55, C.I. Pigment Orange 59, C.I. Pigment Orange 61, C.I. Pigment Orange 64, C.I. Pigment Orange 65, C.I. Pigment Orange 71, C.I. Orange pigments such as Pigment Orange 73; C.I. Pigment Red 9, C.I. Pigment Red 97, C.I. Pigment Red 105, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment Red 144, C.I. Pigment Red 149, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 168, C.I. Pigment Red 176, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 180, C.I. Pigment Red 192, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 215, C.I. Pigment Red 216, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 264, C.I. Red pigments such as Pigment Red 265; C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Blue pigments such as Pigment Blue 60; C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Violet 29, C.I. Pigment Violet 32, C.I. Pigment Violet 36, C.I. Violet pigments such as Pigment Violet 38; C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Green pigments such as Pigment Green 58; C.I. Pigment Brown 23, C.I. Brown pigments such as Pigment Brown 25; Or C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment Black 7 and the like. Preferably, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Blue 15: 6 and C.I. Pigment Green 36. The term " pigment green 36 "

상기 유기 안료 및 무기 안료는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 구체적인 예로, 적색 화소를 형성하기 위해서는 C.I. 피그먼트 레드 254 및 C.I. 피그먼트 옐로우 139의 조합, 녹색 화소를 형성하기 위해서는 C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 옐로우 150 또는 C.I. 피그먼트 옐로우 138의 조합, 청색 화소를 형성하기 위해서는 C.I. 피그먼트 블루 15:6을 포함하는 것이 바람직하다.The organic pigment and the inorganic pigment may be used alone or in combination of two or more. As a specific example, in order to form red pixels, C.I. Pigment Red 254 and C.I. Pigment Yellow 139, and C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Yellow 150 or C.I. A combination of Pigment Yellow 138 and C.I. Pigment Blue 15: 6.

착색제는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중의 총 질량(100 질량%)에 대하여 1 내지 60 질량%, 바람직하게는 10 내지 50 질량%로 포함될 수 있다. 상기와 같은 함량으로 포함되는 경우에는 박막을 형성하여도 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사가 발생하기 어려운 경향이 있으므로 바람직하다. The colorant may be contained in an amount of 1 to 60 mass%, preferably 10 to 50 mass%, based on the total mass (100 mass%) of the colored photosensitive resin composition of the present invention. When such a content is included, the color density of the pixel is sufficient even if a thin film is formed, and the residue of the non-curing portion is not deteriorated during development, so that residue tends to be hardly generated.

착색제로서 안료를 사용하는 경우에는, 그 입경이 균일한 것을 사용하는 것이 바람직하다. 안료의 입경을 균일하게 하는 방법으로서는, 계면 활성제를 안료 분산제로서 함유시켜 분산 처리를 행하는 방법 등을 들 수 있으며, 이 방법에 따르면 안료가 용액 중에 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다. When a pigment is used as the colorant, it is preferable to use a pigment having a uniform particle size. As a method of making the particle diameter of the pigment uniform, a method of dispersing the pigment by adding a surfactant as a pigment dispersant can be mentioned. According to this method, a pigment dispersion in which the pigment is uniformly dispersed in a solution can be obtained.

상기 안료 분산제로서는, 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성계 등의 계면 활성제 등을 들 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Examples of the pigment dispersant include surfactants such as cationic, anionic, nonionic, and amphoteric surfactants. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

상기 안료 분산제는 착색제 1질량부에 대하여 통상 1질량부 이하로 사용되며, 바람직하게는 0.05 내지 0.5질량부로 사용되는 것이다. 상기와 같은 함량으로 사용되는 경우에는 균일한 평균 입경의 안료를 얻을 수 있는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The pigment dispersant is used in an amount of usually 1 part by mass or less, preferably 0.05 to 0.5 parts by mass, per 1 part by mass of the colorant. When used in the above-mentioned amounts, it is preferable because a pigment having a uniform average particle diameter tends to be obtained.

알칼리 가용성 수지(B)The alkali-soluble resin (B)

알칼리 가용성 수지는 광이나 열에 대한 반응성 및 알칼리 용해성을 가지며, 본 발명의 조성물 내의 각 성분들에 대한 분산매로서 작용한다.The alkali-soluble resin has reactivity to light or heat and alkali solubility and functions as a dispersion medium for each component in the composition of the present invention.

본 발명의 알칼리 가용성 수지는 (A-1)에폭시기를 포함하는 제1 수지 및 (A-2)상기 에폭시기와 반응할 수 있는 산 작용기(acid group)를 함유하며 산가가 170 내지 300mgKOH/g인 제2 수지를 포함한다.The alkali-soluble resin of the present invention is a resin having an acid value of 170 to 300 mgKOH / g and (A-1) a first resin containing an epoxy group and (A-2) an acid group capable of reacting with the epoxy group, 2 resin.

(A-1) 제1 수지(A-1) First resin

제1 수지는 에폭시기를 포함하는 수지로서, 알칼리 가용성을 갖는 수지이다. 이러한 수지로서 당분야에 알려진 수지라면 특별한 제한이 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, (A-1-1)불포화 결합과 카르복시기를 갖는 화합물 및 (A-1-2)하기 화학식1 내지 화학식 2 중 적어도 1종인 화합물을 포함하여 공중합된 수지일 수 있다. The first resin is a resin containing an epoxy group and is an alkali-soluble resin. As such a resin, any resin known in the art can be used without any particular limitation. For example, it may be a resin copolymerized with (A-1-1) a compound having an unsaturated bond and a carboxyl group and (A-1-2) a compound containing at least one of the following general formulas (1) to (2)

[화학식 1] [Chemical Formula 1]

Figure pat00004
Figure pat00004

화학식 1에서, R1은 수소, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬 또는 시클로알킬이고; R2는 단일결합, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬렌 또는 시클로알킬렌이고; 상기 R1 및 R2는 서로 독립적으로 히드록시기로 치환될 수 있다. In Formula 1, R 1 is hydrogen or alkyl or cycloalkyl having 1-20 carbon atoms, with or without a heteroatom; R 2 is a single bond, or an alkylene or cycloalkylene having 1-20 carbon atoms, with or without a heteroatom; The R 1 and R 2 may be independently substituted with a hydroxy group.

[화학식 2](2)

Figure pat00005
Figure pat00005

화학식 2에서, R3은 수소, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬 또는 시클로알킬이고; R4는 단일결합, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬렌 또는 시클로알킬렌이고; 상기 R3 및 R4는 서로 독립적으로 히드록시기로 치환될 수 있다.In Formula 2, R 3 is hydrogen or alkyl or cycloalkyl having 1-20 carbon atoms, with or without a heteroatom; R 4 is a single bond or an alkylene or cycloalkylene having 1-20 carbon atoms, with or without a heteroatom; R 3 and R 4 may be independently substituted with a hydroxy group.

(A-1-1) 불포화 결합과 카르복시기를 갖는 화합물(A-1-1) A compound having an unsaturated bond and a carboxyl group

불포화 결합과 카르복시기를 갖는 화합물로는 중합이 가능한 불포화 이중 결결합을 갖는 카르복시산 화합물이라면 제한되지 않으며, 구체적인 일례로 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산 또는 불포화 트리카르복실산과 같이 분자 중에 2개 이상의 카르복시기를 갖는 다가 카르복실산 등을 들 수 있다. The compound having an unsaturated bond and a carboxyl group is not particularly limited as long as it is a carboxylic acid compound having an unsaturated double bond capable of being polymerized. Specific examples thereof include unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids or unsaturated tricarboxylic acids, And polyvalent carboxylic acids having at least two carboxyl groups.

상기 불포화 모노카르복실산은 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid.

상기 불포화 다가 카르복실산은 예를 들어 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등을 들 수 있다. Examples of the unsaturated polycarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, and the like.

상기 다가 카르복실산은 산 무수물일 수도 있으며, 상기 불포화 다가 카르복실산 무수물은 예를 들어 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. The polyvalent carboxylic acid may be an acid anhydride, and examples of the unsaturated polycarboxylic acid anhydride include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, and the like.

또한, 상기 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다.The unsaturated polycarboxylic acid may also be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, for example, mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxy Ethyl), phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and the like.

상기 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the dicarboxylic polymer of both ends thereof, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, and the like. have.

또한 상기 불포화 다가 카르복실산은 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복실기를 함유하는 불포화 아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면, α-(히드록시메틸)아크릴산 등을 들 수 있다The unsaturated polycarboxylic acid may be an unsaturated acrylate containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule, and for example,? - (hydroxymethyl) acrylic acid and the like

이들 중, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 공중합 반응성 높은 점에서 바람직하게 사용된다. Of these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferably used because of high copolymerization reactivity.

본 발명에 따른 불포화 결합과 카르복시기를 갖는 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The compounds having an unsaturated bond and a carboxyl group according to the present invention may be used alone or in combination of two or more.

(A-1-2) 화학식 1 내지 화학식 2 중 적어도 1종인 화합물(A-1-2) A compound represented by the following formula (1) to (2)

본 발명에 따른 화학식 1 내지 화학식 2 중 적어도 1종인 화합물은 중합 가능한 불포화 결합과 가교 밀도를 증가시키는 에폭시기를 함유하고 있는 화합물이다.The compound having at least one of the general formulas (1) to (2) according to the present invention is a compound containing an unsaturated bond capable of polymerization and an epoxy group for increasing the crosslinking density.

상기 화학식 1 및 화학식 2에서, R1 및 R3 의 보다 구체적인 예를 들면, 서로 독립적으로 수소; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등의 알킬기; 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기, 1-히드록시-n-프로필기, 2-히드록시-n-프로필기, 3-히드록시-n-프로필기, 1-히드록시-이소프로필기, 2-히드록시-이소프로필기, 1-히드록시-n-부틸기, 2-히드록시-n-부틸기, 3-히드록시-n-부틸기, 4-히드록시-n-부틸기 등의 히드록시기 함유 알킬기일 수 있다. 그 중에서도 R1은 서로 독립적으로, 수소, 메틸기, 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기 또는 2-히드록시에틸기인 것이 바람직하며, 특히 수소 또는 메틸기인 것이 더욱 바람직하다. In the above formulas (1) and (2), more specific examples of R 1 and R 3 include, independently of each other, hydrogen; An alkyl group such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group; Hydroxy-n-propyl group, 3-hydroxy-n-propyl group, 1-hydroxy-1-hydroxypropyl group, N-butyl group, 3-hydroxy-n-butyl group, 4-hydroxy-n-butyl group, 2-hydroxy- -Butyl group and the like. Among them, R 1 is preferably independently of each other hydrogen, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group or a 2-hydroxyethyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

상기 화학식 1 및 화학식 2에서, R2 및 R4의 보다 구체적인 예를 들면, 서로 독립적으로 단일결합; 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기 등의 알킬렌기; 옥시메틸렌기, 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기, 티오메틸렌기, 티오에틸렌기, 티오프로필렌기, 아미노메틸렌기, 아미노에틸렌기, 아미노프로필렌기 등의 헤테로 원자 함유 알킬렌기일 수 있다. 그 중에서도, R2는 단일결합, 메틸렌기, 에틸렌기, 옥시메틸렌기 또는 옥시에틸렌기인 것이 바람직하고, 특히 단일결합 또는 옥시에틸렌기인 것이 더욱 바람직하다. 본 발명에 있어서, R2가 단일결합인 경우는 트리시클로데칸일기의 8 위치 또는 9 위치의 탄소와 아크릴레이트기의 산소가 직접 연결되는 경우를 의미한다.In the formulas (1) and (2), more specific examples of R 2 and R 4 include a single bond independently from each other; Alkylene groups such as a methylene group, an ethylene group and a propylene group; Containing alkylene groups such as a methylene group, an oxyethylene group, an oxyethylene group, an oxyethylene group, an oxypropylene group, a thiomethylene group, a thioethylene group, a thiopropylene group, an aminomethylene group, an aminoethylene group and an aminopropylene group. Among them, R 2 is preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, an oxymethylene group or an oxyethylene group, more preferably a single bond or an oxyethylene group. In the present invention, when R 2 is a single bond, it means that the carbon at the 8- or 9-position of the tricyclodecanyl group and the oxygen of the acrylate group are directly connected.

화학식 1로 표시되는 화합물의 보다 구체적인 예시는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-15를 들 수 있다.More specific examples of the compound represented by the formula (1) include the following formulas (1-1) to (1-15).

Figure pat00006
Figure pat00006

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 보다 구체적인 예시는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-15를 들 수 있다.More specific examples of the compound represented by the formula (2) include the following formulas (2-1) to (2-15).

Figure pat00008
Figure pat00008

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물로 예시된 화합물들은 각각 단 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The compounds represented by the formulas (1) and (2) may be used singly or in combination of two or more.

또한, 제1 수지(A)에서 상기 (A-1-1) 및 (A-1-2)의 공중합체에는 상기 (A-1-1) 및 (A-1-2) 이외에 상기 (A-1-1) 및 (A-1-2)와 중합 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물이 함께 공중합될 수 있다. The copolymer (A-1-1) and (A-1-2) in the first resin (A) 1-1) and (A-1-2) and a compound having a polymerizable unsaturated bond can be copolymerized together.

상기 (A-1-1) 및 (A-1-2)와 중합 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물은 구체적인 예로서 2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 벤조산비닐 등의 카르복실산비닐에스테르류; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화에테르류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류; 말레이미드, 벤질말레이미드, N-페닐말레이미드. N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화이미드류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 및 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound having an unsaturated bond polymerizable with the above (A-1-1) and (A-1-2) are 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2- , 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3 Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate and 3-dimethylaminopropyl methacrylate; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile,? -Chloroacrylonitrile, and vinylidene cyanide; Unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide,? -Chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide and N-2-hydroxyethyl methacrylamide; Maleimide, benzyl maleimide, N-phenyl maleimide. Unsaturated imides such as N-cyclohexylmaleimide; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; And a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of the polymer molecular chain of polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, And the like.

본 발명에 따른 알칼리 가용성 수지 중 제1 수지(A)가 상기 (A-1-1) 및 (A-1-2)를 공중합하여 얻어지는 공중합체(A-1-1 및 A-1-2 이외의 단량체가 더 포함되어 공중합되는 경우에도 본 발명에 포함됨)인 경우, 상기 공중합체에서 (A-1-1) 및 (A-1-2) 각각으로부터 유도되는 구성단위의 비율은 상기의 공중합체를 구성하는 구성 단위의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.When the first resin (A) in the alkali-soluble resin according to the present invention is a copolymer (A-1-1 and A-1-2) obtained by copolymerizing the above (A-1-1) (A-1-1) and (A-1-2) in the copolymer, the ratio of the constituent units derived from each of (A-1-1) and Is preferably in the following range in terms of the mole fraction relative to the total number of moles of the constituent units constituting the copolymer.

(A-1-1) 로부터 유도되는 구성 단위: 5 내지 75 몰%,(A-1-1): 5 to 75 mol%,

(A-1-2) 로부터 유도되는 구성 단위: 25 내지 95몰%. (A-1-2): 25 to 95 mol%.

특히, 상기 구성 단위의 비율이 이하의 범위이면, 보다 바람직하다.Particularly, it is more preferable that the ratio of the constituent units is in the following range.

(A-1-1) 로부터 유도되는 구성 단위: 10 내지 70 몰%(A-1-1): 10 to 70 mol%

(A-1-2) 로부터 유도되는 구성 단위: 30 내지 90 몰%(A-1-2): 30 to 90 mol%

상기 구성 단위의 비율이 상기 범위에 있으면, 현상공정 중 발생할 수 있는 물얼룩에 우수한 표면경화를 가지는 패턴의 형성이 가능하며, Hard Baking 중 도막의 Reflow특성도 우수하여, 패턴의 Taper 각도를 낮춘 도막의 형성이 가능해 진다.When the ratio of the above structural units is in the above range, it is possible to form a pattern having excellent surface hardening in water stains that may occur during the development process, and to improve the reflow property of the coating film during hard baking, Can be formed.

제1 수지(A)는, 예를 들어 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오쯔 타카유키 저 발행소 (주) 화학동인 제 1 판 제 1 쇄 1972 년 3 월 1 일 발행) 에 기재된 방법을 참고로 하여 제조할 수 있다.The first resin (A) can be prepared by using, for example, the method described in "Experimental Method of Polymer Synthesis" (published by Otsu Takayuki Co., Ltd., 1st Edition, First Edition, March 1, 1972) Can be manufactured.

구체적으로는, 공중합체를 구성하는 단위 (A-1-1) 및 (A-1-2)의 소정량, 중합 개시제 및 용매를 반응 용기 중에 넣어 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 산소 부존재 하에서, 교반, 가열, 보온함으로써 중합체가 얻어진다. 또, 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 또는 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법으로 고체(분체) 로서 추출한 것을 사용해도 된다.Specifically, a predetermined amount of the units (A-1-1) and (A-1-2) constituting the copolymer, a polymerization initiator and a solvent are placed in a reaction vessel and oxygen is replaced by nitrogen, The polymer is obtained by stirring, heating and warming. As the obtained copolymer, the solution after the reaction may be used as it is, a concentrated or diluted solution may be used, or a solid (powder) extracted by a method such as re-precipitation may be used.

제1 수지는 산가가 20 내지 200(KOH㎎/g)의 범위인 것이 바람직하다. 산가가 상기 범위에 있으면, 현상액에 대한 현상성이 우수하며, 감도 및 밀착성이 우수하여 패턴의 단락이 없는 우수한 도막을 형성할 수 있다. The acid value of the first resin is preferably in the range of 20 to 200 (KOH mg / g). When the acid value is in the above range, excellent developability for a developing solution, excellent sensitivity and adhesiveness, and an excellent coating film without a short circuit of the pattern can be formed.

제1 수지의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 3,000 내지 100,000일 수 있고, 바람직하게는 5,000 내지 50,000일 수 있다. 제1 수지의 중량 평균 분자량이 상기 범위에 있으면 현상시에 막 감소가 방지되어 패턴 부분의 누락성이 양호해지므로 바람직하다.The weight average molecular weight of the first resin in terms of polystyrene may be from 3,000 to 100,000, and preferably from 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the first resin is within the above range, it is preferable to prevent the decrease in film thickness during development and improve the missability of the pattern portion.

제1 수지의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 상기 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]가 상기 범위내에 포함되어 있으면 현상성이 우수해지기 때문에 바람직하다.The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the first resin is preferably 1.5 to 6.0, more preferably 1.8 to 4.0. When the molecular weight distribution (weight-average molecular weight (Mw) / number-average molecular weight (Mn)) is within the above range, the developability is preferable.

(A-2) 제2 수지(A-2) The second resin

제2 수지는 제1 수지의 에폭시기를 개환할 수 있는 산 작용기(acid group)을 함유하는 화합물을 포함하여 중합된 수지이며, 산가는 170 내지 300mgKOH/g인 고(高)산가를 갖는 수지이다. 상기 화합물은 함유하고 있는 산 작용기가 전술한 제1 수지의 에폭시기를 개환하여 가교 밀도를 높임으로서 밀착성이 우수해지고, 산가가 상기 범위에 있으면, 현상액에 현상성이 우수한 패턴이 형성이 되며, 감도가 우수하여 패턴의 단락이 발생하지 않는 도막 형성을 가능하게 된다.The second resin is a resin polymerized including a compound containing an acid group capable of opening an epoxy group of the first resin, and the acid value is a resin having a high acid value of 170 to 300 mg KOH / g. When the acid value of the compound is in the above range, a pattern having excellent developability is formed, and the sensitivity is lower than that of the developer It is possible to form a coating film which does not cause short-circuiting of the pattern.

제2 수지의 보다 구체적인 예를 들면, 하기와 같은 (A-2-1), (A-2-2) 및(A-2-3) 화합물을 포함하여 중합된 수지일 수 있다:More specific examples of the second resin may be a polymerized resin including (A-2-1), (A-2-2) and (A-2-3)

(A-2-1): 1분자 중에 트리시클로데칸 골격 및 디시클로펜타디엔 골격으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 골격을 포함하며 불포화 결합을 갖는 화합물;(A-2-1): a compound having at least one skeleton selected from the group consisting of a tricyclodecane skeleton and a dicyclopentadiene skeleton in one molecule and having an unsaturated bond;

(A-2-2): 방향족 비닐기를 포함하는 화합물;(A-2-2): a compound containing an aromatic vinyl group;

(A-2-3): 제1 수지의 에폭시기를 개환할 수 있는 산 작용기를 포함하는 화합물.(A-2-3): A compound containing an acid functional group capable of ring-opening an epoxy group of the first resin.

1분자 중에 트리시클로데칸 골격 및 디시클로펜타디엔 골격으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 골격을 포함하는 불포화 결합을 갖는 화합물(A-2-1)은, 예를 들면, 1분자 중에 불포화 결합과 트리시클로테칸 골격 및(또는) 디시클로펜타디엔골격을 갖는 화합물로서는, 구체적으로 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸모노(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 여기서, (메타)아크릴레이트란 아크릴레이트 및(또는) 메타크릴레이트를 의미한다.The compound (A-2-1) having an unsaturated bond containing at least one skeleton selected from the group consisting of a tricyclodecane skeleton and a dicyclopentadiene skeleton in one molecule is, for example, an unsaturated bond- Specific examples of the compound having a tricyclotetalkane skeleton and / or a dicyclopentadiene skeleton include dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth) Dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, and the like. Here, (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate.

또한, 방향족 비닐기를 포함하는 화합물(A-2-2)로서는, 스티렌, 알파-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물을 예로 들 수 있다.Examples of the aromatic vinyl group-containing compound (A-2-2) include aromatic vinyl compounds such as styrene, alpha-methyl styrene and vinyl toluene.

또한, 제1 수지의 에폭시기를 개환할 수 있는 산 작용기를 포함하는 화합물(A-2-3)로서는, 불포화 결합과 카르복시기를 갖는 화합물로는 중합이 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 카르복시산 화합물이라면 제한되지 않으며, 구체적인 일례로 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산 또는 불포화 트리카르복실산과 같이 분자 중에 2개 이상의 카르복시기를 갖는 다가 카르복실산 등을 들 수 있다. The compound (A-2-3) containing an acid functional group capable of ring-opening the epoxy group of the first resin is not limited as long as it is a carboxylic acid compound having an unsaturated double bond capable of polymerization as a compound having an unsaturated bond and a carboxyl group And specific examples thereof include polyvalent carboxylic acids having two or more carboxyl groups in the molecule such as unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids or unsaturated tricarboxylic acids.

상기 불포화 모노카르복실산은 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid.

상기 불포화 다가 카르복실산은 예를 들어 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등을 들 수 있다. Examples of the unsaturated polycarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, and the like.

상기 다가 카르복실산은 산 무수물일 수도 있으며, 상기 불포화 다가 카르복실산 무수물은 예를 들어 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. The polyvalent carboxylic acid may be an acid anhydride, and examples of the unsaturated polycarboxylic acid anhydride include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, and the like.

또한, 상기 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다.The unsaturated polycarboxylic acid may also be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, for example, mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxy Ethyl), phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and the like.

상기 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the dicarboxylic polymer of both ends thereof, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, and the like. have.

또한 상기 불포화 다가 카르복실산은 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복실기를 함유하는 불포화 아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면, α-(히드록시메틸)아크릴산 등을 들 수 있다The unsaturated polycarboxylic acid may be an unsaturated acrylate containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule, and for example,? - (hydroxymethyl) acrylic acid and the like

이들 중, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 공중합 반응성 높은 점에서 바람직하게 사용된다. Of these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferably used because of high copolymerization reactivity.

본 발명에 따른 불포화 결합과 카르복시기를 갖는 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The compounds having an unsaturated bond and a carboxyl group according to the present invention may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 따른 제2 수지는 상기의 (A-2-1) 내지 (A-2-3) 이외의 단량체가 더 포함되어 공중합되는 수지일 수 있다. (A-2-1) 내지 (A-2-3)과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물은, 구체적으로 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르;The second resin according to the present invention may be a resin in which a monomer other than the above-mentioned (A-2-1) to (A-2-3) is further copolymerized. (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amino (meth) acrylate and the like can be given as specific examples of the compound having an unsaturated bond capable of copolymerizing with Unsubstituted or substituted alkyl esters of unsaturated carboxylic acids such as ethyl (meth) acrylate;

시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트,시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물;(Meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (Meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, isobornyl An unsaturated carboxylic acid ester compound containing an alicyclic substituent group such as a phenanthryl (meth) acrylate, adamanthyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate or pinenyl (meth) acrylate;

올리고에틸렌클리콜모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노 포화 카르복실산 에스테르 화합물; Mono-saturated carboxylic acid ester compounds of glycols such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate;

벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산에스테르 화합물;Unsaturated carboxylic acid ester compounds containing a substituent having an aromatic ring such as benzyl (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate and the like;

아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르;Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate;

(메트)아크릴로니트릴, 알파-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; 및 N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.(Meth) acrylonitrile, and alpha-chloroacrylonitrile; And maleimide compounds such as N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서 사용되는 (A-2-1) 내지 (A-2-3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기의 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 하기의 범위에 있는 것이 바람직하다.The proportion of the constituent component derived from each of (A-2-1) to (A-2-3) used in the present invention is in the following range in mole fraction with respect to the total number of moles of constituent components constituting the copolymer .

(A-2-1)으로부터 유도되는 구성 단위: 10 내지 80몰%이며,(A-2-1): 10 to 80 mol%

(A-2-2)로부터 유도되는 구성 단위: 10 내지 80몰%이며,(A-2-2): 10 to 80 mol%

(A-2-3)로부터 유도되는 구성 단위는 10 내지 80몰%(A-2-3) is from 10 to 80 mol%

특히, 상기 구성 단위의 비율이 이하의 범위이면, 보다 바람직하다.Particularly, it is more preferable that the ratio of the constituent units is in the following range.

(A-2-1)으로부터 유도되는 구성 단위는 20 내지 40몰%,, The constitutional unit derived from the compound (A-2-1) is from 20 to 40 mol%

(A-2-2)로부터 유도되는 구성 단위는 20 내지 50몰%,(A-2-2) is from 20 to 50% by mole,

(A-2-3)로부터 유도되는 구성 단위는 10 내지 60몰%.(A-2-3) is 10 to 60 mol%.

상기의 구성 비율이 상기 범위에 있으면 Hard Baking 공정중 도막의 Reflow특성을 향상시켜 Taper의 각도를 낮추는데 용이한 감광성 수지 조성물의 제조가 가능해진다.When the composition ratio is in the above range, it is possible to improve the reflow property of the coating film during the hard baking process, thereby making it possible to manufacture a photosensitive resin composition that is easy to lower the angle of the taper.

본 발명의 일 실시형태로서, 상기의 공중합체는 하기와 같은 방법으로 제조할 수 있다.As one embodiment of the present invention, the above copolymer can be produced by the following method.

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 (A-2-1) 내지 (A-2-3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.5 내지 20 배량의 용제를 함께 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 치환한다. 그 후, 용제를 40 내지 140℃로 승온시킨 후, (A-2-2) 및 (A-2-3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0 내지 20 배량의 용제, 및 아조비스이소부티로니트릴이나 터트부티르퍼록시 2-에틸헥실카보네이트 등의 중합 개시제를 (A-2-1), (A-2-2) 및 (A-2-3)의 합계 몰수에 대하여 0.1 내지 10몰% 첨가한 용액(실온 또는 가열하에 교반 용해)을 적하 로트로부터 0.1 내지 8시간에 걸쳐 상기의 플라스크에 적하하고, 40 내지 140℃에서 1내지 10시간 더 교반하여 공중합체를 얻을 수 있다.A solvent in an amount of 0.5 to 20 times by mass based on the total amount of (A-2-1) to (A-2-3) was introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen- And the atmosphere in the flask is replaced with nitrogen in air. Thereafter, the temperature of the solvent is raised to 40 to 140 DEG C, and then a solvent of 0 to 20 times by mass based on the total amount of (A-2-2) and (A-2-3) and a solvent of azobisisobutyronitrile (A-2-1), (A-2-2) and (A-2-3) in an amount of 0.1 to 10 mol% relative to the total molar amount of A solution (stirring at room temperature or under heating) is added dropwise to the flask over a period of 0.1 to 8 hours and stirred at 40 to 140 ° C for 1 to 10 hours to obtain a copolymer.

또한, 상기의 공정에서 중합 개시제의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있고, (A-2-1), (A-2-2) 및 (A-2-3)의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있다. 또한, 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 알파-메틸스티렌 다이머나 머캅토 화합물을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. 알파-메틸스티렌 다이머나 머캅토 화합물의 사용량은 (A-2-1), (A-2-2) 및 (A-2-3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.005 내지 5%이다. 또한, 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다.A part or all of the polymerization initiator may be added to the flask in the above step, or a part or all of (A-2-1), (A-2-2) and (A- 2-3) It is possible. Also, alpha-methylstyrene dimers or mercapto compounds may be used as chain transfer agents to control molecular weight or molecular weight distribution. The amount of the alpha-methylstyrene dimer or mercapto compound to be used is 0.005 to 5% by mass based on the total amount of (A-2-1), (A-2-2) and (A-2-3). In addition, the above-mentioned polymerization conditions may be appropriately adjusted depending on the production equipment or the amount of heat generated by polymerization, and the method of addition and the reaction temperature.

본 발명의 제2 수지(A-2)는 제한되지 않으나, (A-2-1), (A-2-2) 및 (A-2-3)을 공중합하여 얻어지는 공중합체에, 1 분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(A-2-4a) 또는 불포화 결합과 수산기를 갖는 화합물(A-2-4b)를 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지인 것이 보다 바람직하다. 상기의 공중합체에 상기 (A-2-4)를 부가함으로써 제2 수지에 광/열경화성을 부여할 수 있다.(A-2-1), (A-2-2) and (A-2-3) are copolymerized with the second resin (A-2) Containing resin obtained by further reacting a compound (A-2-4a) having an unsaturated bond and an epoxy group or a compound (A-2-4b) having an unsaturated bond and a hydroxyl group. By adding the above-mentioned (A-2-4) to the copolymer, it is possible to impart optical / thermosetting property to the second resin.

본 발명의 상기 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(A-2-4a)에 대한 구체적인 예로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the compound (A-2-4a) having an unsaturated bond and an epoxy group in the molecule of the present invention include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, methylglycidyl (meth) acrylate, and the like. Of these, glycidyl (meth) acrylate is preferably used. These may be used alone or in combination of two or more.

또한 상기 1분자 중에 불포화 결합과 수산기를 갖는 화합물(A-2-4b)에 대한 구체적인 예로서는, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트, 글리세린(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 적용 가능한 화합물에는 제한없이 모두 본 발명에 포함된다.Specific examples of the compound (A-2-4b) having an unsaturated bond and a hydroxyl group in the molecule include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, glycerin , And applicable compounds are all included in the present invention without limitation.

또한, 상기 제2 수지(A-2) 내의 (A-2-4)로부터 유도되는 구성 단위의 비율은 상기 결합제 수지(A-2) 내의 (A-2-3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 5 내지 80몰%인 것이 바람직하며, 10 내지 70몰%가 보다 바람직하다.The ratio of the constituent unit derived from (A-2-4) in the second resin (A-2) is preferably the molar number of the constituent component derived from (A-2-3) in the binder resin Is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 10 to 70 mol%.

(A-2-4)의 조성비가 상기 범위 내에 있으면 충분한 광경화성이나 열경화성이 얻어져 표면경화 및 Reflow 특성이 우수하기 때문에 바람직하다.When the composition ratio of (A-2-4) is within the above range, it is preferable since sufficient photocurability and thermosetting property can be obtained and surface hardening and reflow characteristics are excellent.

본 발명의 실시형태에 있어서, 제2 수지(A-2)는 상기의 공중합체와 (A-2-4)를, 예를 들면 하기와 같은 방법으로 반응시킴으로써 제조할 수 있다.In the embodiment of the present invention, the second resin (A-2) can be produced by reacting the above copolymer with (A-2-4), for example, by the following method.

플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, 상기 공중합체에서 (A-2-3)로부터 유도되는 구성 단위에 대하여 몰 분율로 5 내지 80몰%의 (A-2-4), 카르복실기와 에폭시기의 반응 촉매로서, 예를 들면 트리스디메틸아미노메틸페놀을 (A-2-1), (A-2-2) 및 (A-2-3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.01 내지 5% 및 중합금지제로서, 예를 들면 히드로퀴논을 (A-2-1), (A-2-2) 및 (A-2-3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.001 내지 5%를 플라스크내에 넣고 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 반응시킴으로써, 상기의 공중합체와 (A-2-4)를 반응시킬 수 있다. 또한, 중합 조건과 마찬가지로 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할수도 있다.(A-2-4) in an amount of 5 to 80 mol% relative to the constitutional unit derived from (A-2-3) in the copolymer, and the content of a carboxyl group and an epoxy group As the reaction catalyst, for example, trisdimethylaminomethylphenol is added in an amount of 0.01 to 5% on the basis of the total amount of (A-2-1), (A-2-2) and (A- For example, hydroquinone is added to the flask in an amount of 0.001 to 5% by mass based on the total amount of (A-2-1), (A-2-2) and (A-2-3) For 1 to 10 hours to react the above copolymer with (A-2-4). In addition, as in the case of the polymerization conditions, the charging method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the production facility or the amount of heat generated by polymerization.

제2 수지의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 3,000 내지 100,000일 수있고, 바람직하게는 5,000 내지 50,000일 수 있다. 제2 수지(A-2)의 중량 평균 분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있으면 현상시에 막 감소가 생기기 어렵고, 현상시에 비화소부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.The weight average molecular weight of the second resin in terms of polystyrene may be from 3,000 to 100,000, and preferably from 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the second resin (A-2) is in the range of 3,000 to 100,000, film reduction is not easily caused at the time of development, and the non-pixel portion tends to be satisfactorily missed at the time of development.

제2 수지의 분자량 분포 [중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0 인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량분포 [중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the second resin is preferably 1.5 to 6.0, more preferably 1.8 to 4.0. When the molecular weight distribution (weight-average molecular weight (Mw) / number-average molecular weight (Mn)) is 1.5 to 6.0, development is preferable.

본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지는 상기 제1 수지와 제2 수지를 적절하게 혼합하여 사용할 수 있는데, 구체적인 예를 들면, 제1 수지:제2 수지 = 1:0.5~1:2의 혼합중량비로 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the alkali-soluble resin may be used by appropriately mixing the first resin and the second resin. For example, the first resin and the second resin may be mixed at a mixing weight ratio of 1: 0.5 to 1: 2 Can be mixed and used.

알칼리 가용성 수지의 감광성 수지 조성물 총량에 대하여, 5 내지 15 질량%, 바람직하게는 6 내지 12 중량%의 범위이다. 알칼 알칼리 가용성 수지의 함량이 상기의 범위이면 도막의 표면경화도를 강화시켜 물얼룩에 우수하기 때문에 바람직하다.Is in the range of 5 to 15% by mass, preferably 6 to 12% by mass based on the total amount of the photosensitive resin composition of the alkali-soluble resin. When the content of the alkali-alkali-soluble resin is within the above-mentioned range, the surface hardening degree of the coating film is enhanced, which is preferable because it is excellent in water stain.

광중합성 화합물(C)The photopolymerizable compound (C)

본 발명에 있어서, 광중합성 화합물은 하기 광중합 개시제(D)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로 화학식 3의 이소시아네이트 화합물을 포함한다. In the present invention, the photopolymerizable compound is a compound capable of polymerizing under the action of the photopolymerization initiator (D) described below and includes an isocyanate compound represented by the general formula (3).

상기 화학식 3의 구체적인 예는 하기에 예시되어지나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the formula (3) are illustrated below but are not limited thereto.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00010
Figure pat00010

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00011
Figure pat00011

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00012
Figure pat00012

상기 화학식 6에서 m, n, l 각각 독립적이고 정수이다.M, n and l are independent and integers, respectively.

화학식 3의 이소시아네이트 화합물과 더불어 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 2관능 이상의 다관능 단량체를 사용할 수 있다. A monofunctional monomer, a bifunctional monomer or a polyfunctional monomer may be used in addition to the isocyanate compound of the formula (3), and preferably a bifunctional or higher polyfunctional monomer may be used.

상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 및 N-비닐피롤리돈 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and N- But are not limited thereto.

상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 및 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) , Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A and 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, but are not limited thereto.

상기 다관능 단량체의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the polyfunctional monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol Acrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like, but are not limited thereto.

상기 광중합성 화합물은 감광성 수지 조성물의 총 중량에 대하여 2 내지 5 질량%포함되는 것이 바람직하고, 3 내지 5 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위로 포함되는 경우에는 Hard Baking 중 도막의 Reflow 특성이 우수하여, Taper의 각도를 조절할 수 있다.The photopolymerizable compound is preferably contained in an amount of 2 to 5 mass%, more preferably 3 to 5 mass%, based on the total weight of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is included in the above range, the reflow property of the coating film during hard baking is excellent and the angle of the taper can be controlled.

광중합 개시제(D)Photopolymerization initiator (D)

상기 광중합 개시제(D)는 하기 화학식 7의 구조를 갖는 광중합 개시제를 포함한다.The photopolymerization initiator (D) includes a photopolymerization initiator having a structure represented by the following general formula (7).

[화학식 7](7)

Figure pat00013
Figure pat00013

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pat00014
Figure pat00014

상기 화학식 7에서 R8은 상기 화학식 8로 표현되며, 상기 화학식 8에서 R11는 C1~C4의 알킬, R12는 C3~C8의 환의 구조이며, 상기 화학식 7에서 R9는 C1~C8의 알킬, 치환 또는 비치환된 페닐, 치환 또는 비치환된 벤질기이며, R10은 치환 또는 비치환된 디페닐설파이드기이다.In the formula (7), R8 is represented by the formula (8), R11 is C1-C4 alkyl, and R12 is a C3-C8 ring structure. In the formula (7), R9 is C1- A substituted or unsubstituted benzyl group, and R < 10 > is a substituted or unsubstituted diphenylsulfide group.

특히, 상기 화학식 7의 구조를 갖는 화합물은 하기 화학식 7-1의 화합물일 수 있다. In particular, the compound having the structure of Formula 7 may be a compound of Formula 7-1.

[화학식 7-1][Formula 7-1]

Figure pat00015
Figure pat00015

본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위 내에서, 상기 이외의 광중합 개시제(d2)를 추가로 병용할 수도 있다. 대표적으로는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 및 티오크산톤계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator (d2) other than those described above may be further used in combination within the range not impairing the effects of the present invention. Typically, it is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, a nonimidazole-based compound, and a thioxanthone-based compound.

아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는, 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있으며, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온이 보다 바람직하다. 아세토페논계 화합물은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있으며, 다른 광중합 개시제와 조합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan- Phenylpropane-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) Oligomers of 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan- Methylthiophenyl) propan-1-one are more preferable. The acetophenone-based compounds may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with other photopolymerization initiators.

벤조인계 화합물의 구체적인 예로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.

벤조페논계 화합물의 구체적인 예로는, 벤조페논, ο-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.Specific examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'- Butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

티옥산톤계 화합물의 구체적인 예로는, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.Specific examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1- Propanedioxanthone, and the like.

트리아진계 화합물의 구체적인 예로는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.Specific examples of triazine compounds include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 - (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4- methoxystyryl) Bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- (Trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2- (trifluoromethyl) Methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4- dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5- Triazine, and the like.

옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(4-메틸술파닐-페닐)-부탄-1,2-부탄-2-옥심-O-아세테이트, 1-(4-메틸술파닐-페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트, 히드록시이미노-(4-메틸술파닐-페닐)-초산에틸에스테르-O-아세테이트, 히드록시이미노-(4-메틸술파닐-페닐)-초산에틸에스테르-O-벤조에이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the oxime compounds include 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (4-methylsulfanyl-phenyl) -butan-1-one oxime-O-acetate, hydroxyimino- -Acetic acid ethyl ester-O-acetate, and hydroxyimino- (4-methylsulfanyl-phenyl) -acetic acid ethyl ester-O-benzoate.

증감제로의 구체적인 예로는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2-비스(o-클로르로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the sensitizer include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- Benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compounds, and the like can be given. have.

산 발생제의 구체적인 예로는, 4-히드록시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-히드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐메틸 벤질설포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄 p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다. 상기 화합물 중에는, 예를들어 트리아진계 화합물과 같이 활성 라디칼과 산을 동시에 발생시키는 화합물도 있다.Specific examples of the acid generator include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate , 4-acetoxyphenylmethylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl iodonium p-toluenesulfonate, di Onium salts such as phenyl iodonium hexafluoroantimonate, and nitrobenzyl tosylates, benzoin tosylates and the like. Among the above compounds, for example, there are compounds which simultaneously generate an active radical and an acid such as a triazine-based compound.

광중합 개시제는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 총 질량을 기준으로 0.1 내지 10 질량%, 바람직하게는 1 내지 5질량%로 포함될 수 있다. 상기와 같은 함량으로 포함되는 경우에는 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노출시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. The photopolymerization initiator may be contained in an amount of 0.1 to 10% by mass, preferably 1 to 5% by mass, based on the total mass of the colored photosensitive resin composition of the present invention. When such a content is included, the colored photosensitive resin composition is highly sensitized and the exposure time is shortened, which is preferable because productivity can be improved and high resolution can be maintained.

본 발명에서는 광중합 개시제와 함께 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다. 광중합 개시 보조제는 광중합 개시제와 조합하여 사용되며, 광중합 개시제에 의해 중합이 개시된 광중합성 화합물의 중합을 촉진시키기 위해 사용된다. 광중합 개시 보조제로는, 아민계 화합물, 알콕시안트라센계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등을 들 수 있다.In the present invention, a photopolymerization initiator may be further added together with a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is used in combination with a photopolymerization initiator and is used to promote polymerization of the photopolymerizable compound initiated by the photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include amine compounds, alkoxyanthracene compounds, thioxanthone compounds, and the like.

아민계 화합물의 구체적인 예로는, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있으며, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다.Specific examples of the amine compound include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, (Dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, Bis (ethylmethylamino) benzophenone, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are preferable.

알콕시안트라센계 화합물의 구체적인 예로는, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.Specific examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, .

티옥산톤계 화합물로의 구체적인 예로는, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.Specific examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1- -Propoxyloxanthone, and the like.

상기 광중합 개시 보조제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 시판되는 제품인 EAB-F(호도가야가가쿠고교가부시키가이샤 제조) 등을 사용할 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more. A commercially available product, EAB-F (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) may be used.

바람직한 광중합 개시제와 광중합 개시 보조제의 조합의 구체적인 예로는, 디에톡시아세토페논과 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논; 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온과 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논; 2-히드록시-2-메틸-페닐프로판-1-온과 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논; 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온과 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논; 1-히드록시시클로헥실페닐케톤과 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논; 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머와 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논; 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온과 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논의 조합 등을 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온과 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논의 조합을 들 수 있다.Specific examples of the combination of the preferred photopolymerization initiator and the photopolymerization initiator are diethoxyacetophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; Oligomers of 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; A combination of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, Methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

상기 광중합 개시제와 광중합 개시 보조제가 함께 사용되는 경우에는 광중합 개시 보조제의 함량은 광중합 개시제 1몰에 대하여 10몰 이하인 것이 바람직하며, 0.01 내지 5몰인 것이 보다 바람직하다. 광중합 개시 보조제가 상기와 같은 함량으로 사용되는 경우에는 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.When the photopolymerization initiator and the photopolymerization initiator are used together, the content of the photopolymerization initiator is preferably 10 mol or less, more preferably 0.01 to 5 mol based on 1 mol of the photopolymerization initiator. When the photopolymerization initiator is used in the same amount as described above, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition is higher and the productivity of the color filter formed using the composition tends to be improved.

용제(E)Solvent (E)

본 발명에 있어서, 용제는 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 분산 또는 용해시키는데 효과적인 것이면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에스테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 또는 아미드류 등이 바람직하다.In the present invention, the solvent is not particularly limited as long as it is effective in dispersing or dissolving the other components contained in the colored photosensitive resin composition. The solvent may be selected from esters, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, Drew and the like are preferable.

에테르류의 구체적인 예로는, 테트라히드로퓨란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 에틸카비톨아세테이트, 부틸카비톨아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 아니솔, 페네톨 또는 메틸아니솔 등을 들 수 있다.Specific examples of the ethers include tetrahydrofuran, tetrahydropyrane, 1,4-dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol mono Methyl ethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene Propyleneglycol monomethyl ether acetate, propyleneglycol monopropyl ether acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propyleneglycol methyl ether acetate, methoxy Butylacetate And the like can be given site, methoxy pentyl acetate, anisole, phenetole or methyl anisole.

방향족 탄화수소류의 구체적인 예로는, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 메시틸렌 등을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, and mesitylene.

케톤류의 구체적인 예로는, 아세톤, 2-부탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, 4-헵탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 시클로펜탄온 또는 시클로헥산온 등을 들 수 있다.Specific examples of the ketone include acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone or cyclohexanone.

알콜류의 구체적인 예로는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜 또는 글리세린 등을 들 수 있다.Specific examples of the alcohols include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, and glycerin.

에스테르류의 구체적인 예로는, 아세트산에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산아밀, 아세트산이소아밀, 아세트산이소부틸, 프로피온산부틸, 부티르산이소프로필, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 알킬에스테르류, 락트산메틸, 락트산에틸, 옥시아세트산메틸, 옥시아세트산에틸, 옥시아세트산부틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산메틸, 2-옥소부탄산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트 또는 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.Specific examples of the esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, Methyl methoxyacetate, methyl methoxyacetate, methyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, 3- Ethyl propionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, Methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, 2- Methyl propionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy- But are not limited to, methyl ethyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, And lactones.

아미드류의 구체적인 예로는, N,N-디메틸포름아미드 또는 N,N-디메틸아세트아미드 등을 들 수 있다.Specific examples of amides include N, N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide.

기타 용제로는, N-메틸피롤리돈 또는 디메틸설폭시드 등을 들 수 있다.Examples of other solvents include N-methylpyrrolidone and dimethylsulfoxide.

바람직하게는, 3-에톡시프로피온산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 또는 프로필렌글리콜메틸에테르 등을 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용하는 것이다. Preferably, ethyl 3-ethoxypropionate, propylene glycol monomethyl ether acetate or propylene glycol methyl ether are used alone or in combination of two or more.

용제는 상기 용제를 포함하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 총 함량(100질량%)에 대하여 60 내지 90질량%, 바람직하게는 1 내지 60 질량%로 포함될 수 있다. 상기와 같은 함량으로 포함되는 경우에는 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(또는 “다이 코터”라고도 함), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The solvent may be contained in an amount of 60 to 90 mass%, preferably 1 to 60 mass%, based on the total amount (100 mass%) of the colored photosensitive resin composition of the present invention containing the above-mentioned solvent. When it is contained in the above-mentioned amounts, when it is coated with a coating device such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (or a "die coater") or an inkjet, desirable.

첨가제(F)Additive (F)

상기 첨가제(F)는 필요에 따라 선택적으로 첨가될 수 있는 것으로서, 예를 들면 다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 들 수 있다. The additive (F) may be optionally added, for example, other polymer compounds, a curing agent, a surfactant, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an antiflocculant.

상기 다른 고분자 화합물의 구체적인 예로는 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of the other polymer compound include a curable resin such as epoxy resin and maleimide resin, a thermoplastic resin such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, polyurethane and the like .

상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제의 구체적인 예로는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. The curing agent is used for deep curing and for increasing mechanical strength. Specific examples of the curing agent include an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, and an oxetane compound.

상기 경화제에서 에폭시 화합물의 구체적인 예로는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the epoxy compound in the curing agent include bisphenol A epoxy resin, hydrogenated bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, hydrogenated bisphenol F epoxy resin, novolak epoxy resin, other aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin Alicyclic or aromatic epoxy compounds, butadiene (co) polymeric epoxides and isoprene (co) polymers other than the brominated derivatives, epoxy resins and brominated derivatives of these epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidyl amine resins, (Co) polymer epoxides, glycidyl (meth) acrylate (co) polymers, and triglycidyl isocyanurate.

상기 경화제에서 옥세탄 화합물의 구체적인 예로는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다. Specific examples of the oxetane compound in the curing agent include carbonates bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, cyclohexanedicarboxylic acid bisoxetane, and the like.

상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물은 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등이 있다. 상기 다가 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제의 구체적인 예로는, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 경화제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The curing agent may be used together with a curing agent in combination with a curing auxiliary compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound. The curing assistant compound includes, for example, polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic anhydrides, and acid generators. The polyvalent carboxylic acid anhydrides may be those commercially available as an epoxy resin curing agent. Specific examples of the above-mentioned epoxy resin curing agent include epoxy resin curing agents such as epoxy resins, epoxy resins, epoxy resins, epoxy resins, epoxy resins, epoxy resins, Manufactured by Japan Ehwa Co., Ltd.). The curing agents exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물의 피막 형성성을 보다 향상시키기 위해 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제 등이 바람직하게 사용될 수 있다.The surfactant may be used to further improve film-forming properties of the photosensitive resin composition, and a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant may be preferably used.

상기 실리콘계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 등이 있고 GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등이 있다. 상기 불소계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등이 있다. 상기 예시된 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Examples of the silicone surfactant include DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA and SH8400 from Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. and TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446 and TSF-4460 , And TSF-4452. Examples of the fluorine-based surfactant include Megapis F-470, F-471, F-475, F-482 and F-489 commercially available from Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated. The above-exemplified surfactants may be used alone or in combination of two or more.

상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로서는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 밀착 촉진제는 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 중량 분율로 통상 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 2중량% 포함될 수 있다. Specific examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- ( 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3- 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like. The adhesion promoters exemplified above may be used alone or in combination of two or more. The adhesion promoter may be contained in an amount of usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 2% by weight based on the solid content of the colored photosensitive resin composition.

상기 산화 방지제의 구체적인 예로는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol.

상기 자외선 흡수제의 구체적인 예로는 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole and alkoxybenzophenone.

상기 응집 방지제의 구체적인 예로는 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.Specific examples of the anti-aggregation agent include sodium polyacrylate and the like.

이하에서, 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 본 발명의 예시하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 표시되었고, 더욱이 특허청구범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 포함한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. However, the embodiments of the present invention described below are for illustrating the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The scope of the invention is indicated by the appended claims, and includes all changes within the meaning and range of equivalency of the claims.

이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.In the following Examples and Comparative Examples, "%" and "part" representing the content are on a mass basis unless otherwise specified.

<합성예 1: 알칼리 가용성 수지 중 제1 수지(A-1)의 합성>&Lt; Synthesis Example 1: Synthesis of first resin (A-1) in alkali-soluble resin >

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트(화학식 1)와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트(화학식 2)의 혼합물(50:50 몰비) 40중량부, 메틸메타크릴레이트 50중량부, 아크릴산 40중량부, 비닐톨루엔 70중량부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40중량부를 투입후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6중량부, PGMEA 24중량부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395중량부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간동안 동안 진행하고 1 시한 후에 110℃ 승온하여 5 시간동안 유지하고, 고형분 산가가 75㎎KOH/g인 수지(A-1-1)를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 17,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는2.3이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and a monomer dropping funnel was charged with 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl (meth) 40 parts by weight of a mixture (50:50 molar ratio) of 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl (meth) acrylate (Formula 2), 50 parts by weight of methyl methacrylate, 40 parts by weight of acrylic acid, , 4 parts by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were charged and stirred to prepare n-dodecanethiol 6 And 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred and mixed. Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. (A-1-1) having a solid acid value of 75 mgKOH / g was obtained by maintaining the temperature at 110 占 폚 and elevating the temperature by 110 占 폚 for 2 hours while keeping the temperature at 90 占 폚. The weight average molecular weight measured by GPC in terms of polystyrene was 17,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

<합성예 2: 알칼리 가용성 수지 중 제2수지(A-2-a)의 합성>&Lt; Synthesis Example 2: Synthesis of second resin (A-2-a) in alkali-soluble resin >

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 182g을 도입하여, 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후, 100℃로 승온 후 (A-2-1)트리시클로데칸 골격의 모노메타크릴레이트(히따찌 가세이㈜ 제조 FA-513M) 66.0g(0.3몰), (A-2-2)알파-메틸스티렌 35.0g(0.30몰), (A-2-3)아크릴산 28.8g(0.40몰) 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 136g을 포함하는 혼합물에 아조비스이소부티로니트릴 3.6g을 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 100℃에서 5시간 더 교반을 계속하였다. 이어서, 플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 하고,(A-2-4)글리시딜메타크릴레이트 42.0g(0.28몰), 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.9g 및 히드로퀴논 0.145g을 플라스크내에 투입하여 110℃에서 6시간 반응을 계속하고,고형분 산가가 170.7㎎KOH/g인 수지(A-2-a)를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 22.180이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen introducing tube, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, (A-2-2) alpha-methylstyrene (35.0 g, 0.30 mol), and (A-2) a monocyclohexyl methacrylate (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., -3) A solution containing 3.6 g of azobisisobutyronitrile added to a mixture containing 28.8 g (0.40 mol) of acrylic acid and 136 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was added dropwise from the dropping funnel over 2 hours to the flask, Stirring was continued for another 5 hours. Then, 42.0 g (0.28 mol) of glycidyl methacrylate, 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol and 0.145 g of hydroquinone (A-2-4) were charged into the flask in an atmosphere of nitrogen in the flask, The reaction was continued for 6 hours to obtain a resin (A-2-a) having a solid acid value of 170.7 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 22.180 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

실시예와 비교예: 착색 감광성 수지 조성물 제조Examples and Comparative Examples: Preparation of colored photosensitive resin composition

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

<안료분산조성물 M의 제조><Production of Pigment Dispersion Composition M>

안료로서 C.I. 피그먼트 레드254(A-1) 13.0질량부, 안료 분산제로서 DISPERBYK-2001 (BYK사 제조) 6.0질량부, 용매로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 81질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합/분산하여 안료분산액 M을 제조하였다. 이하의 실시예 및 비교예에서 함량을 나타내는 “%” 및 “부”는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.C.I. , 6.0 parts by mass of DISPERBYK-2001 (BYK) as a pigment dispersant, and 81 parts by mass of propylene glycol methyl ether acetate as a solvent were mixed / dispersed for 12 hours by a bead mill to prepare a pigment Dispersion M was prepared. In the following Examples and Comparative Examples, &quot;% &quot; and &quot; part &quot; representing the content are on a mass basis unless otherwise specified.

<착색 감광성 수지 조성물 제조>&Lt; Preparation of colored photosensitive resin composition &

(A) 안료분산조성물 M 40.38부, (A) Pigment Dispersion Composition M 40.38 parts,

(B) 상기 합성예 1에 따라 합성된 제 1수지와 합성예 2 따라 합성된 제 2수지를 포함하는 알칼리 가용성 수지(산가는 200, 중량평균분자량은 23,000)(B-1) 14.23부, (B) 14.23 parts of an alkali-soluble resin (acid value: 200, weight average molecular weight: 23,000) comprising the first resin synthesized according to Synthesis Example 1 and the second resin synthesized according to Synthesis Example 2 (B-1)

(C)광중합성 화합물로 NK사의 A-9200YN (C-1; 화학식 4 또는 화학식 5의 구조를 갖는 화합물) 2.03부,(C) 2.03 parts of A-9200YN (C-1: a compound having the structure of Chemical Formula 4 or 5) of NK Corporation as a photopolymerizable compound,

(D)광중합 개시제로 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(D-1) 0.27부, (D) 0.27 parts of 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1-one (D-1)

(D)광중합 개시제로 하기 화학식 7-1의 TR-PBG-305 (TRONLY사 제조)(D-3) 0.27부(D) 0.27 parts of TR-PBG-305 (TRONLY) (D-3) shown below as a photopolymerization initiator

(E)프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) 42.80부, (E) 42.80 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E-1)

첨가제로 폴리에테르 개질된 실리콘 오일 SH8400(토레이실리콘㈜ 제조)(F-1) 0.02부, 0.02 part of a polyether-modified silicone oil SH8400 (Toray Silicone Co., Ltd.) (F-1) as an additive,

혼합하고 분산시켜 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. Mixed and dispersed to prepare a colored photosensitive resin composition.

[화학식 7-1][Formula 7-1]

Figure pat00016
Figure pat00016

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

상기 실시예 1에서 알칼리 가용성 수지 10.17부, 광중합성화합물로 A-9200YN(C-1) 3.39부와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) 45.51부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that 10.17 parts of the alkali-soluble resin in Example 1, 3.39 parts of A-9200YN (C-1) as a photopolymerizable compound and 45.51 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E-1) .

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

상기 실시예 1에서 알칼리 가용성 수지 6.1부, 광중합성화합물로 A-9200YN(C-1) 4.74부와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) 48.22부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that 6.1 parts of alkali-soluble resin in Example 1, 4.74 parts of A-9200YN (C-1) as a photopolymerizable compound and 48.22 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E-1) .

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

상기 실시예 1에서 알칼리 가용성 수지 16.26부, 광중합성화합물로 A-9200YN(C-1) 1.35부와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) 41.45부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that 16.26 parts of the alkali-soluble resin in Example 1, 1.35 parts of A-9200YN (C-1) as a photopolymerizable compound and 41.45 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E-1) Thereby preparing a colored photosensitive resin composition.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

상기 실시예 1에서 알칼리 가용성 수지 4.07부, 광중합성화합물로 A-9200YN(C-1) 5.42부와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) 49.57부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that 4.07 parts of the alkali-soluble resin in Example 1, 5.42 parts of A-9200YN (C-1) as a photopolymerizable compound and 49.57 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E-1) Thereby preparing a colored photosensitive resin composition.

..

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

상기 실시예 1에서 알칼리 가용성 수지 12.2부, 광중합성화합물로 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 2.71부와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) 44.15부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Except that 12.2 parts of the alkali-soluble resin in Example 1, 2.71 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as the photopolymerizable compound and 44.15 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E-1) were used. To prepare a colored photosensitive resin composition.

<비교예 4>&Lt; Comparative Example 4 &

상기 실시예 1에서 알칼리 가용성 수지 12.2부, 광중합성화합물로 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 2.71부와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-1) 44.15부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Except that 12.2 parts of the alkali-soluble resin in Example 1, 2.71 parts of pentaerythritol triacrylate as the photopolymerizable compound, and 44.15 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (E-1) were used in the same manner as in Example 1 Thereby preparing a colored photosensitive resin composition.

<비교예 5>&Lt; Comparative Example 5 &

상기 실시예 1에서 (B)알칼리 가용성 수지(산가는 140, 중량평균분자량은 23,000)인 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A colored photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that (B) an alkali-soluble resin ( acid value: 140 , weight average molecular weight: 23,000) was used in Example 1.

<비교예 6>&Lt; Comparative Example 6 >

상기 실시예 1에서 (B)알칼리 가용성 수지(산가는 340, 중량평균분자량은 23,000)인 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A colored photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that (B) an alkali-soluble resin ( acid value: 340, weight average molecular weight: 23,000) was used in Example 1.

제조예: 컬러필터의 제조Manufacturing Example: Fabrication of Color Filter

상기 실시예와 비교예의 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판((코닝사 제조, E2K) 또는 BM(Black Matrix) 유리 기판 상부에 스핀 코탕법으로 도포한 후, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분 동안 유지하여 컬러층 박막을 형성시켰다. 이어서, 상기 컬러층 박막 상부에 투과율 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1 내지 50㎛의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 100㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때, 자외선 광원은 g, h, i선을 모두 함유하는 1㎾의 고압 수은등을 사용하여 50mJ/㎠의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 자외선이 조사된 컬러층 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 침지시켜 현상하였다. 현상된 컬러층 박막이 형성되어 있는 유리 기판을 증류수를 사용하여 세척한 후, 질소 가스 분위기 하에서 건조하고, 200℃의 가열 오븐에서 1시간 동안 가열하여 열경화함으로써 컬러필터를 제조하였다. 제조된 컬러필터의 컬러층의 두께는 1.8㎛였다.The colored photosensitive resin compositions of the above Examples and Comparative Examples were coated on a glass substrate (E2K manufactured by Corning) or BM (Black Matrix) glass substrate by a spin coating method, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 캜 for 3 minutes Then, a test photomask having a pattern for changing the transmittance in the range of 1 to 100% in a stepwise manner and a line / space pattern of 1 to 50 탆 was placed on the color layer thin film, The ultraviolet light source was irradiated at a light intensity of 50 mJ / cm 2 using a 1 kW high pressure mercury lamp containing g, h and i lines, and a special optical filter The color layer thin film irradiated with ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution developing solution of pH 10.5 for 2 minutes to develop the glass substrate on which the developed color layer thin film was formed Washed with distilled water, dried in a nitrogen gas atmosphere, and heated in a heating oven at 200 DEG C for 1 hour to thermally cure the color filter. The thickness of the color layer of the color filter thus produced was 1.8 mu m.

상기 컬러필터의 Taper 각도(°), 물얼룩, 표면 조도, 잔사 및 선뜯김을 하기와 같이 측정 및 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The taper angle (°) of the color filter, water stain, surface roughness, residue and tearing were measured and evaluated as follows, and the results are shown in Table 1 below.

<Taper 각도 평가><Taper angle evaluation>

상기 실험예와 같이 착색층을 형성한후, SEM을 이용하여 도막의 단면부의 패턴 기울기를 측정하였다After the colored layer was formed as in the above Experimental Example, the slope of the pattern of the cross section of the coating film was measured using an SEM

- O : Taper 각도가 40도 미만- O: Taper angle less than 40 degrees

- X : Taper 각도가 40도 이상- X: Taper angle is more than 40 degrees

< 물얼룩 ><Water stain>

상기 실험예와 같이 착색층을 형성한 후, 초심도 3D 형상 측정 현미경(VK-9500, Keyence사)으로 도막의 표면형상을 확인 하여, 이상 유무를 하기 평가기준에 따라 평가하였다.After the formation of the coloring layer as in the above Experimental Example, the surface shape of the coating film was confirmed with an ultrafine 3D shape measuring microscope (VK-9500, Keyence), and the abnormality was evaluated according to the following evaluation criteria.

즉, 표면의 이물 및 이상이 없는 것이 가장 이상적이다.That is, it is most ideal that there is no foreign matter or abnormality on the surface.

- O : 도막의 물얼룩 흔적 없음.- O: No trace of water spots on the film.

- X : 도막의 물얼룩 흔적 있음.- X: In the water stain marks of the coating.

<표면 조도><Surface roughness>

상기 실험예와 같이 착색층을 형성한후, AFM을 이용하여 도막의 표면 거칠기를 측정하였다. After the colored layer was formed as in the above Experimental Example, the surface roughness of the coating film was measured using AFM.

- O : 표면 거칠기 3.0 이하- O: Surface roughness less than 3.0

- X : 표면 거칠기 3.0 이상- X: surface roughness of 3.0 or more

< 잔사 ><Residue>

상기 실험예와 같이 착색층을 형성한 후, 초심도 3D 형상 측정 현미경(VK-9500, Keyence사)으로 도막의 표면형상을 확인 하여, 이상 유무를 하기 평가기준에 따라 평가하였다.After the formation of the coloring layer as in the above Experimental Example, the surface shape of the coating film was confirmed with an ultrafine 3D shape measuring microscope (VK-9500, Keyence), and the abnormality was evaluated according to the following evaluation criteria.

즉, 도막의 잔사가 없는 것이 가장 이상적이다.That is, it is most ideal that there is no residue of the coating film.

- O : 도막의 잔사 미발생- O: No residue of coating

- X : 도막의 잔사 발생.- X: Residue of paint film.

< 선뜯김 ><Cutting the line>

상기 실험예와 같이 착색층을 형성한 후, 초심도 3D 형상 측정 현미경(VK-9500, Keyence사)으로 도막의 표면형상을 확인 하여, 이상 유무를 하기 평가기준에 따라 평가하였다.After the formation of the coloring layer as in the above Experimental Example, the surface shape of the coating film was confirmed with an ultrafine 3D shape measuring microscope (VK-9500, Keyence), and the abnormality was evaluated according to the following evaluation criteria.

즉, 도막의 뜯김이 없는 것이 가장 이상적이다.That is, it is most ideal that there is no peeling of the film.

- O : 도막의 뜯김 미발생- O: No cracking of the film

- X : 도막의 뜯김 발생.- X: Creation of coating film.

실시예Example 비교예Comparative Example 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예
2
Comparative Example
2
비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 비교예 6Comparative Example 6
Taper 각도(˚)Taper angle (˚) 3535 2525 3232 4545 5050 7474 5656 3838 2626 물얼룩Water stain OO OO OO XX OO OO XX XX XX 표면 조도Surface roughness 2.32.3 1.81.8 2.42.4 3.83.8 2.12.1 2.82.8 3.73.7 3.73.7 3.93.9 잔사Residue OO OO OO XX OO OO XX XX OO 선뜯김Chop OO OO OO OO OO OO XX OO XX

상기 실험결과에 따르면, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터의 경우, Taper 각도(°), 물얼룩, 표면 조도, 잔사 및 선뜯김 모두 우수한 특성을 나타내었다. According to the experimental results, the color filter manufactured using the colored photosensitive resin composition of the present invention exhibited excellent properties in terms of taper angle (°), water stain, surface roughness, residue and tearing.

반면, 본원 발명의 범위에 해당하지 않는 비교예 1 내지 6은 상기 Taper 각도 (°), 물얼룩, 표면 조도, 잔사 및 선뜯김 중 하나 이상의 특성이 좋지 않아, 실제 산업현장에 적용하기 어려운 조성이다. 예를 들어, Taper 각도가 40도 이상이 되었을 경우 PI(폴리이미드)공정에 있어서, 액정의 배향성을 저해하게 되어 화질에 영향을 주게 되며, 표면 조도가 높게 되면 도막에서의 빛이 산란이 되게 되고, 이것은 얼룩으로 인지될 가능성이 있다. On the other hand, Comparative Examples 1 to 6, which do not fall within the scope of the present invention, are poor in at least one of the taper angle (°), water stain, surface roughness, residue and tearing, . For example, when the taper angle is more than 40 degrees, the orientation of the liquid crystal is deteriorated in the PI (polyimide) process, and the image quality is affected. When the surface roughness is high, , Which is likely to be recognized as a stain.

특히, 비교예 5 및 6의 실험결과를 통해, 본 발명의 알칼리 가용성 수지의 산가가 170mgKOH/g이하가 되는 경우 도막 화소부의 미현상에 의한 잔사가 발생하여 휘도 및 콘트라스트에 영향을 미치게 되며, 산가가 300mgKOH/g이상인 경우에는 현상액에 의한 도막의 침식이 심해져서 도막 화소부가 망실되어, 패턴형성이 불가하게 되어 바람직하지 않음을 실험적으로 확인하였다.Particularly, when the acid value of the alkali-soluble resin of the present invention is 170 mgKOH / g or less, the residue due to the unexplored phenomenon of the pixel portion of the coating film is generated and the brightness and contrast are affected by the test results of Comparative Examples 5 and 6, Is 300 mgKOH / g or more, erosion of the coating film due to the developing solution becomes severe, and thus the film portion of the coating film is lost and pattern formation becomes impossible, which is experimentally confirmed.

Claims (8)

착색제(A), 알칼리 가용성 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)로 구성된 착색 감광성 수지 조성물로,
상기 알칼리 가용성 수지(B)는, 하기 화학식 1 및 화학식 2를 포함하는 제1수지 및 산가가 170 내지 300mgKOH/g인 제2수지를 포함하며,
상기 광중합성 화합물(C)은 하기 화학식 3의 구조를 갖는 이소시아네이트 화합물을 포함하며,
상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터의 화소 도막의 테이퍼(Taper)의 각도를 40도 이내로 구현 하도록 하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
[화학식 1]
Figure pat00017

(화학식 1에서, R1은 수소, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬 또는 시클로알킬이고; R2는 단일결합, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬렌 또는 시클로알킬렌이고; 상기 R1 및 R2는 서로 독립적으로 히드록시기로 치환될 수 있다.)

[화학식 2]
Figure pat00018

(화학식 2에서, R3은 수소, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬 또는 시클로알킬이고; R4는 단일결합, 또는 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 탄소수 1-20의 알킬렌 또는 시클로알킬렌이고; 상기 R3 및 R4는 서로 독립적으로 히드록시기로 치환될 수 있다.)

[화학식3]
Figure pat00019

(화학식 3에서, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 에틸렌성 이중결합을 포함하는 치환기 또는 수산기를 포함하는 치환기이다.)

A colored photosensitive resin composition comprising a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D) and a solvent (E)
The alkali-soluble resin (B) comprises a first resin comprising the following Chemical Formulas 1 and 2 and a second resin having an acid value of 170 to 300 mg KOH / g,
The photopolymerizable compound (C) comprises an isocyanate compound having a structure represented by the following formula (3)
Wherein the taper angle of the pixel coating film of the color filter manufactured using the colored photosensitive resin composition is within 40 degrees.
[Chemical Formula 1]
Figure pat00017

Wherein R 1 is hydrogen or alkyl or cycloalkyl having 1-20 carbon atoms with or without a heteroatom, R 2 is a single bond or an alkylene of 1-20 carbon atoms with or without a heteroatom or bicyclo alkylene; R 1 and R 2 may be substituted with a hydroxy group independently from each other).

(2)
Figure pat00018

Wherein R 3 is hydrogen or alkyl or cycloalkyl having 1 to 20 carbon atoms with or without a hetero atom, R 4 is a single bond or an alkylene of 1-20 carbon atoms with or without a heteroatom Or R &lt; 3 &gt; and R &lt; 4 &gt; may be independently substituted with a hydroxyl group.

(3)
Figure pat00019

(In the general formula (3), R 5 , R 6 and R 7 are each independently a substituent group containing an ethylenic double bond or a substituent group containing a hydroxyl group.)

청구항 1에 있어서, 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-15 중 어느 하나인, 착색 감광성 수지 조성물.
1로 표시되는 화합물의 보다 구체적인 예시는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-15를 들 수 있다.
Figure pat00020

Figure pat00021


The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the compound represented by the formula (1) is any one of the following formulas (1-1) to (1-15).
More specific examples of the compound represented by the formula (1) include the following formulas (1-1) to (1-15).
Figure pat00020

Figure pat00021


청구항 1에 있어서, 화학식 2로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-15 중 어느 하나인, 착색 감광성 수지 조성물.
Figure pat00022

Figure pat00023

The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (2) is any one of the following general formulas (2-1) to (2-15).
Figure pat00022

Figure pat00023

청구항 1에 있어서, 화학식 3으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 4 내지 화학식 6 중 어느 하나인, 착색 감광성 수지 조성물.
[화학식 4]
Figure pat00024

[화학식 5]
Figure pat00025


[화학식 6]
Figure pat00026


The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (3) is any one of the following general formulas (4) to (6).
[Chemical Formula 4]
Figure pat00024

[Chemical Formula 5]
Figure pat00025


[Chemical Formula 6]
Figure pat00026


청구항 1에 있어서, 착색 감광성 수지 조성물 총 질량을 기준으로,
착색제(A) 1 내지 60 질량%;
알칼리 가용성 수지(B) 5 내지 15 질량%;
광중합성 화합물(C) 2 내지 5 질량%;
광중합 개시제(D) 0.1 내지 10 질량%; 및
용제(E) 1 내지 60 질량%를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물.

The coloring photosensitive resin composition according to claim 1, wherein, based on the total mass of the colored photosensitive resin composition,
1 to 60% by mass of the colorant (A);
5 to 15% by mass of the alkali-soluble resin (B);
2 to 5 mass% of photopolymerizable compound (C);
0.1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator (D); And
And 1 to 60% by mass of a solvent (E).

청구항 1에 있어서,
다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 및 응집 방지제에서 선택되는 하나 이상의 첨가제를 더 포함하는 착색 감광성 수지 조성물.

The method according to claim 1,
And at least one additive selected from other polymer compounds, curing agents, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers and antiflocculating agents.

청구항 1 내지 5 중 어느 한 항의 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러 필터.

A color filter produced by using the colored photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 5.

청구항 7의 컬러 필터를 포함하는 액정표시장치.


A liquid crystal display device comprising the color filter of claim 7.


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