KR20160088361A - Steel sheet for container and manufacturing method therefor - Google Patents

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다케시 스즈키
유스케 나카가와
야스히데 오시마
미키토 스토
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제이에프이 스틸 가부시키가이샤
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Abstract

외관이 우수한 용기용 강판을 제공한다. 상기 용기용 강판은, 강판 표면의 적어도 일부를 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층이 덮는 도금 강판과, 상기 도금 강판의 상기 도금층측의 표면 상에 배치된 피막을 갖는 용기용 강판으로서, 상기 도금층과 상기 피막 사이에 주석 산화물을 함유하는 주석 산화막을 갖고, 상기 주석 산화물의 환원에 필요로 하는 전기량이 2.0 ∼ 5.0 mC/㎠ 이고, 상기 피막이 Ti 를 함유하고, 상기 도금 강판의 편면당 Ti 환산의 부착량이 2.5 ∼ 30.0 mg/㎡ 인 용기용 강판이다.A steel sheet for a container excellent in appearance is provided. Wherein said steel sheet for a vessel comprises a coated steel sheet at least partially covering the surface of the steel sheet with a plating layer containing at least one layer selected from the Sn layer, the Fe-Sn-Ni alloy layer and the Fe-Sn alloy layer, Wherein a tin oxide film containing tin oxide is interposed between the plating layer and the coating film and the amount of electricity required for reduction of the tin oxide is 2.0 to 5.0 mC / Wherein the coating contains Ti and the coating amount of the coated steel sheet in terms of Ti per one side is 2.5 to 30.0 mg / m 2.

Description

용기용 강판 및 그 제조 방법{STEEL SHEET FOR CONTAINER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a steel sheet for a container,

본 발명은 용기용 강판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a steel sheet for a container and a manufacturing method thereof.

캔 등의 용기에 사용되는 강판 (용기용 강판) 으로서, 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 「금속판 표면에 무기 성분을 주체로 하는 표면 처리층 … 이 형성되어 있는 … 금속판으로서, 상기 무기 표면 처리층이, … 인산 이온을 함유하지 않고, F 와 수산기를 함유하는 Ti 혹은 Ti 및 Zr 의 산화물로 이루어지고, … Ti 의 중량 막두께가 5 ∼ 300 mg/㎡ 인 것을 특징으로 하는 캔 또는 캔 뚜껑용 수지 피복 표면 처리 금속판」이 기재되어 있다 ([청구항 1]).As a steel sheet (steel sheet for containers) to be used in containers such as cans, for example, Patent Document 1 discloses that " With the formed ... As the metal plate, the inorganic surface treatment layer is formed by: Ti or Ti and Zr oxides containing phosphoric acid ions and containing F and hydroxyl groups, Coated metal plate for a can or a lid, wherein the weight-average thickness of the Ti is 5 to 300 mg / m < 2 >.

일본 특허제4487651호Japanese Patent No. 4487651

본 발명자들은, 특허문헌 1 에 기재된 용기용 강판을 검토한 바, 도료에 대한 밀착성 (이하, 간단히 「밀착성」이라고도 한다) 등에 대해서는 비교적 양호하다는 것을 알았다.The inventors of the present invention have studied the steel sheet for a container described in Patent Document 1 and found that it is relatively good for adhesion to a coating material (hereinafter simply referred to as " adhesion property ").

그래서, 이들 용기용 강판에 대해서 더욱 검토하였다. 구체적으로는, Ti 를 함유하는 피막 (표면 처리층) 이 배치된 강판 (금속판) 으로서, Sn 층이나 Fe-Sn 합금층 등의 Sn 을 함유하는 도금층으로 표면이 덮인 도금 강판을 사용한 경우에 대해서 검토하였다.Therefore, these steel sheets for containers were further examined. Specifically, a case where a coated steel sheet whose surface is covered with a plating layer containing Sn such as a Sn layer or an Fe-Sn alloy layer is used as a steel sheet (metal sheet) on which a coating film (surface treatment layer) containing Ti is disposed Respectively.

그 결과, 피막 중의 Ti 량이 지나치게 많을 경우 (예를 들어, 피막의 도금 강판의 편면당 Ti 환산의 부착량이 5 mg/㎡ 이상인 경우) 에는, 피막이 차계(茶系) 색을 나타내거나, 나아가, 대기 하에서의 보관 중에 색조 변화를 일으켜, 보다 짙은 색의 차계 색을 나타내거나 하는 것이 분명해졌다. 이와 같은 색조의 변화 (차계 (茶系) 의 정색 (呈色)) 는 용기용 강판의 외관을 열화시켜 상품 가치를 현저하게 손상시킨다.As a result, in the case where the amount of Ti in the coating film is excessively large (for example, when the amount of adhesion of the coated steel sheet in terms of Ti per one surface of the coated steel sheet is 5 mg / m 2 or more), the coating film may exhibit a tea- It is evident that a change in color tone is caused to occur during storage under a dark condition, thereby displaying a darker color of darker color. Such a change in color tone (color of the tea system) deteriorates the appearance of the steel sheet for the container and significantly impairs the value of the product.

본 발명은 이상의 점을 감안하여 이루어진 것으로서, 외관이 우수한 용기용 강판을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a steel sheet for containers having excellent appearance.

본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 검토한 결과, Sn 층 등의 도금층과 Ti 를 함유하는 피막 사이에, 특정 주석 산화막을 형성함으로써, 피막의 착색이나 시간 경과적인 착색 농화를 억제할 수 있는 것을 알아내고, 본 발명을 완성시켰다.The present inventors have made intensive investigations in order to achieve the above object. As a result, it has been found that by forming a specific tin oxide film between a plating layer such as an Sn layer and a Ti-containing coating film, it is possible to suppress the coloring of the coating film and the coloring- And completed the present invention.

즉, 본 발명은 이하의 [1] ∼ [7] 을 제공한다.That is, the present invention provides the following [1] to [7].

[1] 강판 표면의 적어도 일부를 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층이 덮는 도금 강판과, 상기 도금 강판의 상기 도금층측의 표면 상에 배치된 피막을 갖는 용기용 강판으로서, 상기 도금층과 상기 피막 사이에 주석 산화물을 함유하는 주석 산화막을 갖고, 상기 주석 산화물의 환원에 필요로 하는 전기량이 2.0 ∼ 5.0 mC/㎠ 이고, 상기 피막이 Ti 를 함유하고, 상기 도금 강판의 편면당 Ti 환산의 부착량이 2.5 ∼ 30.0 mg/㎡ 인 용기용 강판.[1] A coated steel sheet, comprising a plated steel sheet covered at least a part of the surface of a steel sheet with a plated layer containing at least one layer selected from among an Sn layer, an Fe-Sn-Ni alloy layer and an Fe-Sn alloy layer, Wherein a tin oxide film containing tin oxide is interposed between the plating layer and the coating film, the amount of electricity required for reduction of the tin oxide is 2.0 to 5.0 mC / cm < 2 >, and the coating film contains Ti , And the amount of coating of the coated steel sheet in terms of Ti per one side is 2.5 to 30.0 mg / m 2.

[2] 상기 피막이 Ni 를 함유하고, 상기 도금 강판의 편면당 Ni 환산의 부착량이 0.1 ∼ 20.0 mg/㎡ 인, 상기 [1] 에 기재된 용기용 강판.[2] The steel sheet for a container according to the above [1], wherein the coating contains Ni and the adhesion amount of the coated steel sheet in terms of Ni per one side is 0.1 to 20.0 mg / m 2.

[3] 상기 피막의 표면으로부터의 깊이 방향의 원자 농도 분포에 있어서, 0 가(價) Sn 의 원자 농도가 상기 도금층의 0 가 Sn 의 원자 농도의 25 % 와 동등해지는 깊이 L (단위 : ㎚) 과, 상기 피막의 표면에서 깊이 L 까지의 0 가 Sn 의 평균 원자 농도 A (단위 : 원자%) 의 곱 X 가, 하기 식 (1) 을 만족하는, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 용기용 강판.[3] In the atomic concentration distribution in the depth direction from the surface of the coating film, a depth L (unit: nm) in which the atomic concentration of zero valence Sn becomes equal to 25% of the atomic concentration of Sn in the plating layer, Described in [1] or [2], wherein the product X of the average atomic concentration A (unit: atomic%) of zero-valued Sn from the surface of the film to the depth L satisfies the following formula (1) Steel plate for use.

0 ≤ X (= L × A) ≤ 60 … (1) 0? X (= L x A)? 60 ... (One)

[4] 상기 [1] 에 기재된 용기용 강판을 얻는, 용기용 강판의 제조 방법으로서, 강판 표면의 적어도 일부를 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층이 덮는 도금 강판을, 산화제 혹은 탄산염을 함유하는 전처리액에 침지하거나, 또는, 상기 전처리액 중에서 양극 전해 처리함으로써, 당해 도금 강판의 도금층측의 표면 상에, 상기 주석 산화막을 형성하는 전처리 공정과, Ti 성분을 함유하는 처리액 중에서, 상기 주석 산화막을 형성한 상기 도금 강판에 음극 전해 처리를 실시하여, 상기 주석 산화막의 표면 상에 상기 피막을 형성하는 피막 형성 공정을 구비하는 용기용 강판의 제조 방법.[4] A method for producing a steel sheet for a container according to [1] above, wherein at least a part of the surface of the steel sheet is coated with at least one layer selected from an Sn layer, an Fe-Sn-Ni alloy layer and an Fe- Is formed on the surface of the plated steel sheet on the side of the plated layer by dipping the plated steel sheet covered with the plated layer containing the plated steel sheet with the precoating solution containing the oxidizing agent or carbonate or by performing the anodic electrolytic treatment in the pretreatment liquid A pretreatment step and a film forming step of forming a film on the surface of the tin oxide film by subjecting the plated steel sheet on which the tin oxide film is formed to cathodic electrolytic treatment in a treatment liquid containing a Ti component A method of manufacturing a steel sheet.

[5] 상기 [2] 에 기재된 용기용 강판을 얻는, 용기용 강판의 제조 방법으로서, 강판 표면의 적어도 일부를 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층이 덮는 도금 강판을, 산화제 혹은 탄산염을 함유하는 전처리액에 침지하거나, 또는, 상기 전처리액 중에서 양극 전해 처리함으로써, 당해 도금 강판의 도금층측의 표면 상에, 상기 주석 산화막을 형성하는 전처리 공정과, Ti 성분 및 Ni 성분을 함유하는 처리액 중에서, 상기 주석 산화막을 형성한 상기 도금 강판에 음극 전해 처리를 실시하여, 상기 주석 산화막의 표면 상에 상기 피막을 형성하는 피막 형성 공정을 구비하는 용기용 강판의 제조 방법.[5] A method for producing a steel sheet for a container according to [2] above, wherein at least a part of the surface of the steel sheet is coated with at least one layer selected from an Sn layer, an Fe-Sn-Ni alloy layer and an Fe- Is formed on the surface of the plated steel sheet on the side of the plated layer by dipping the plated steel sheet covered with the plated layer containing the plated steel sheet with the precoating solution containing the oxidizing agent or carbonate or by performing the anodic electrolytic treatment in the pretreatment liquid A pretreatment step and a film forming step for forming a film on the surface of the tin oxide film by subjecting the plated steel sheet on which the tin oxide film is formed to cathodic electrolytic treatment in a treatment liquid containing a Ti component and a Ni component Wherein said method comprises the steps of:

[6] 상기 산화제가, 과염소산염류, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 과산화물, 그리고, 과산화수소 또는 그 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이고, 상기 탄산염이, 알칼리 금속의 탄산염류인, 상기 [4] 또는 [5] 에 기재된 용기용 강판의 제조 방법.[6] The process according to [4] or [5], wherein the oxidizing agent is at least one member selected from the group consisting of perchlorates, an alkali metal or an alkaline earth metal peroxide, hydrogen peroxide or a derivative thereof, and the carbonate is an alkali metal carbonate. [5] The method for producing a steel sheet for a container according to [5].

[7] 상기 도금층 중에 있어서의 상기 강판 편면당 Sn 부착량이 0.1 ∼ 15.0 g/㎡ 인, 상기 [4] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 용기용 강판의 제조 방법.[7] The method for producing a steel sheet for a container according to any one of [4] to [6], wherein the amount of Sn per one surface of the steel sheet in the plating layer is 0.1 to 15.0 g / m 2.

본 발명에 의하면, 외관이 우수한 용기용 강판을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a steel sheet for a container excellent in appearance.

도 1 은 피막의 표면으로부터의 깊이 방향의 원자 농도 분포의 예를 나타내는 그래프이다.
도 2 는 X 와 L 치의 관계의 일례를 나타내는 그래프이다.
1 is a graph showing an example of the atom concentration distribution in the depth direction from the surface of the coating.
2 is a graph showing an example of the relationship between X and L values.

[용기용 강판][Steel for Container]

본 발명의 용기용 강판은, Sn 층이나 Fe-Sn 합금층 등의 Sn 을 함유하는 도금층 (이하, 「주석 도금층」이라고도 한다) 을 갖는 도금 강판과, 도금 강판의 주석 도금층측의 표면 상에 배치된 Ti 를 함유하는 피막을 갖고, 추가로, 주석 도금층과 피막 사이에 특정량의 주석 산화막을 갖는다. 이로써, 피막이 갖는 양호한 밀착성 등의 특성을 유지하면서, 피막의 착색이나 시간 경과적인 착색 농화를 억제할 수 있어 용기용 강판의 외관이 우수하다.The steel sheet for a container of the present invention is characterized by comprising a plated steel sheet having a plated layer (hereinafter referred to as a " tin plated layer ") containing Sn such as a Sn layer or an Fe-Sn alloy layer and a plated steel plate disposed on the surface of the plated steel sheet on the tin plated layer side And further has a specific amount of a tin oxide film between the tin plating layer and the coating film. As a result, coloring of the coating film and coloring of the coating film over time can be suppressed while retaining the characteristics such as good adhesiveness of the coating film, and the appearance of the steel sheet for containers is excellent.

이 메커니즘 (이유) 은 분명하지 않지만, 아래와 같이 추측된다. 즉, 주석 산화막을 형성함으로써, 주석 도금층으로부터 피막 중으로의 불순물 (주로 Sn) 도프가 억제된다. 그 결과, 피막의 주성분인 산화티탄의 밴드 갭의 축소가 억제되어 가시광 흡수가 저하된다. 이로써, 차계 색의 정색이 개선된다. 마찬가지로, 대기 방치시의 시간 경과적인 착색 농화도 개선된다.This mechanism (reason) is not clear, but it is assumed as follows. That is, by forming the tin oxide film, the doping (mainly Sn) from the tin plating layer into the film is suppressed. As a result, reduction of the band gap of titanium oxide, which is the main component of the coating film, is suppressed, and the visible light absorption is reduced. As a result, the color of the color of the primary color is improved. Likewise, the coloring concentration over time in the atmosphere is also improved.

또한, 상기 메커니즘은 모두 추측이고, 상기 메커니즘 이외여도 본 발명의 범위 내로 한다.In addition, all of the above mechanisms are inferred, and other than the above mechanisms are also within the scope of the present invention.

이하에, 도금 강판, 피막 및 주석 산화막의 구체적인 양태에 대해서 상세히 서술한다. 먼저, 도금 강판의 양태에 대해서 상세히 서술한다.Hereinafter, specific aspects of the coated steel sheet, the coating film and the tin oxide film will be described in detail. First, aspects of the coated steel sheet will be described in detail.

[도금 강판][Plated steel plate]

도금 강판은, 강판과 강판 표면의 적어도 일부를 덮는 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층을 갖는다. The plated steel sheet has a plating layer including at least one layer selected from a Sn layer, an Fe-Sn-Ni alloy layer and an Fe-Sn alloy layer covering at least a part of the surface of the steel sheet and the steel sheet.

소재의 강판으로는, 일반적인 캔용의 강판을 사용할 수 있다. 도금층은 연속층이어도 되고, 불연속의 도상 (島狀) 이어도 된다. 또, 도금층은 강판의 적어도 편면에 형성되어 있으면 되고, 양면에 형성되어 있어도 된다. 도금층의 형성은 함유되는 금속 원소에 따른 공지된 방법으로 행할 수 있다.As a steel sheet of a material, a steel sheet for general can is used. The plating layer may be a continuous layer or a discontinuous island. The plating layer may be formed on at least one surface of the steel sheet, or may be formed on both surfaces. The formation of the plating layer can be carried out by a known method depending on the contained metal element.

이하에, 강판 및 도금층의 적합 양태에 대해서 상세히 서술한다.Hereinafter, the preferred embodiments of the steel sheet and the plating layer will be described in detail.

<강판><Steel plate>

강판의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니다. 통상적으로, 용기 재료로서 사용되는 강판 (예를 들어, 저탄소 강판, 극저 탄소 강판) 을 사용할 수 있다. 이 강판의 제조 방법, 재질 등도 특별히 한정되는 것은 아니다. 통상적인 강편 제조 공정으로부터 열간 압연, 산세, 냉간 압연, 어닐링, 조질 압연 등의 공정을 거쳐 제조된다.The kind of the steel sheet is not particularly limited. Usually, a steel sheet (for example, a low carbon steel sheet, a very low carbon steel sheet) used as a container material can be used. The manufacturing method and material of the steel sheet are not particularly limited either. And is manufactured by a process such as hot rolling, pickling, cold rolling, annealing, temper rolling, and the like from a typical steel making process.

강판은, 필요에 따라서, 그 표면에 니켈 함유층 (Ni 함유층) 을 형성한 것을 사용하고, 이 Ni 함유층 상에 주석 도금층을 형성해도 된다. Ni 함유층을 갖는 강판을 사용하여 주석 도금함으로써, 도상 Sn 을 함유하는 주석 도금층을 형성할 수 있다. 그 결과, 용접성이 향상된다.The steel sheet may be prepared by forming a nickel-containing layer (Ni-containing layer) on its surface, if necessary, and forming a tin plating layer on the Ni-containing layer. A tin plating layer containing Sn can be formed by tin plating using a steel sheet having a Ni-containing layer. As a result, the weldability is improved.

Ni 함유층으로는 니켈이 함유되어 있으면 된다. 예를 들어, Ni 도금층 (Ni층), Ni-Fe 합금층 등을 들 수 있다.The Ni-containing layer may contain nickel. For example, a Ni plating layer (Ni layer), a Ni-Fe alloy layer, and the like.

강판에 Ni 함유층을 부여하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 공지된 전기 도금 등의 방법을 들 수 있다. 또, Ni 함유층으로서 Ni-Fe 합금층을 부여하는 경우, 전기 도금 등에 의해서 강판 표면 상에 Ni 부여 후, 어닐링함으로써, 강 중에 Ni 를 확산시켜 Ni-Fe 합금층을 형성할 수 있다.The method of applying the Ni-containing layer to the steel sheet is not particularly limited. For example, a known method such as electroplating may be used. When a Ni-Fe alloy layer is provided as the Ni-containing layer, the Ni-Fe alloy layer can be formed by diffusing Ni in the steel by applying Ni to the surface of the steel sheet by electroplating or the like and then annealing.

Ni 함유층 중의 Ni 부착량은 특별히 한정되지 않고, 편면당 Ni 환산량으로서 50 ∼ 2000 mg/㎡ 가 바람직하다. 상기 범위 내이면 비용 면에서도 유리해진다.The amount of Ni deposited in the Ni-containing layer is not particularly limited, and is preferably 50 to 2000 mg / m 2 in terms of Ni amount per one side. Within the above range, it is advantageous in terms of cost.

또한, Ni 부착량은 형광 X 선에 의해서 표면 분석하여 측정할 수 있다. 이 경우, Ni 부착량이 이미 알려진 Ni 부착 샘플을 사용하여, Ni 부착량에 관한 검량선을 미리 특정해 두고, 동 검량선을 사용하여 상대적으로 Ni 부착량을 특정한다. 단, 후술하는 피막이 Ni 를 함유하는 경우에는, 상기의 형광 X 선에 의한 표면 분석에 의해서 Ni 함유층 중의 Ni 부착량만을 측정하는 것은 곤란하다. 그 경우에는, Ni 함유층 중의 Ni 부착량은, 형광 X 선에 의해서 구한 Ni 부착량에서 후술하는 피막 중에 함유되는 Ni 부착량을 빼어 구할 수 있다.The Ni deposition amount can be measured by surface analysis by fluorescent X-ray. In this case, a calibration curve relating to the amount of Ni adhered is specified in advance by using a Ni-attached sample already known to have a Ni deposition amount, and the Ni deposition amount is specified relatively using the calibration curve. However, when the coating film described later contains Ni, it is difficult to measure only the amount of Ni in the Ni-containing layer by the surface analysis by the fluorescent X-ray. In this case, the Ni deposition amount in the Ni-containing layer can be obtained by subtracting the Ni deposition amount contained in the coating film described later from the Ni deposition amount obtained by fluorescent X-ray.

<도금층 (주석 도금층) >&Lt; Plating layer (tin plating layer) >

도금 강판은 강판 표면 상에 Sn 을 함유하는 도금층 (주석 도금층) 을 갖는다. 이 주석 도금층은 강판의 적어도 편면에 형성되어 있으면 되고, 양면에 형성되어 있어도 된다.The plated steel sheet has a plating layer (tin plating layer) containing Sn on the surface of the steel sheet. The tin plating layer may be formed on at least one surface of the steel sheet, or may be formed on both surfaces.

주석 도금층 중에 있어서의 강판 편면당 Sn 부착량은, 용기용 강판의 외관이 보다 우수하고, 내식성도 우수하다는 이유에서, 0.1 ∼ 15.0 g/㎡ 가 바람직하고, 0.2 ∼ 15.0 g/㎡ 가 보다 바람직하며, 가공성이 우수한 점에서 1.0 ∼ 15.0 g/㎡ 가 더욱 바람직하다.The amount of Sn per one surface of the steel sheet in the tin plating layer is preferably from 0.1 to 15.0 g / m 2, more preferably from 0.2 to 15.0 g / m 2, because the appearance of the steel sheet for a container is better and the corrosion resistance is also excellent. And more preferably 1.0 to 15.0 g / m &lt; 2 &gt; from the viewpoint of excellent workability.

또한, Sn 부착량은 형광 X 선에 의해서 표면 분석하여 측정할 수 있다. 형광 X 선의 경우, Sn 부착량이 이미 알려진 Sn 부착 샘플을 사용하여, Sn 부착량에 관한 검량선을 미리 특정해 두고, 동 검량선을 사용하여 상대적으로 Sn 부착량을 특정한다.The Sn deposition amount can be measured by surface analysis by fluorescent X-ray. In the case of fluorescent X-rays, a sample with Sn already known is used, and a calibration curve relating to the Sn deposition amount is specified in advance, and the Sn deposition amount is specified relatively using the calibration curve.

주석 도금층은, 강판 표면 상의 적어도 일부를 덮는 층으로서, 연속층이어도 되고, 불연속의 도상이어도 된다.The tin plating layer is a layer which covers at least part of the surface of the steel sheet, and may be a continuous layer or a discontinuous layer.

주석 도금층으로는, 주석을 도금하여 얻어지는 주석 단체의 도금층인 Sn 층으로 이루어지는 주석 도금층 외에, 주석 도금 후 통전 가열 등에 의해서 주석을 가열 용융시켜 얻어지는, Sn 층의 최하층 (Sn 층/강판 계면) 에 Fe-Sn 합금층이 일부 형성된 주석 도금층, 또는, Sn 층의 전체 Sn 이 합금화되어 Fe-Sn 합금층을 형성한 주석 도금층도 포함한다.As the tin plating layer, a tin plating layer composed of a Sn layer, which is a plating layer of tin alone, obtained by plating tin, and a tin plating layer made of Fe (Sn layer / steel sheet interface) -Sn alloy layer, or a tin-plated layer in which the entire Sn of the Sn layer is alloyed to form an Fe-Sn alloy layer.

또, 주석 도금층으로는, Ni 함유층을 표면에 갖는 강판에 대해서 주석 도금을 행하고, 추가로 통전 가열 등에 의해서 주석을 가열 용융시켜 얻어지는, Sn 층의 최하층 (Sn 층/강판 계면) 에 Fe-Sn-Ni 합금층, Fe-Sn 합금층 등이 일부 형성된 주석 도금층, 또는, Sn 층의 전체 Sn 이 합금화되어 Fe-Sn-Ni 합금층, Fe-Sn 합금층을 형성한 주석 도금층도 포함한다.As the tin plating layer, a tin plating is performed on a steel sheet having a Ni-containing layer on its surface, and a tin-plated layer is formed on the lowest layer (Sn layer / steel sheet interface) of the Sn layer obtained by heating and tinning tin by, Ni alloy layer, a Fe-Sn alloy layer, or the like, or a tin plating layer in which the entire Sn of the Sn layer is alloyed to form an Fe-Sn-Ni alloy layer and an Fe-Sn alloy layer.

주석 도금층의 제조 방법으로는, 주지의 방법 (예를 들어, 전기 도금법이나 용융한 Sn 에 침지하여 도금하는 방법) 을 들 수 있다.As a method for producing the tin plating layer, a well-known method (for example, an electroplating method or a method of dipping in molten Sn and plating) can be mentioned.

예를 들어, 페놀술폰산주석 도금욕, 메탄술폰산주석 도금욕, 또는 할로겐계 주석 도금욕을 사용하고, 편면당 부착량이 소정량이 되도록 강판 표면에 Sn 을 전기 도금한다. 그 후, Sn 의 융점 (231.9 ℃) 이상의 온도에서 가열 용융 처리를 행하여, 주석 단체의 도금층 (Sn 층) 의 최하층 또는 Sn 층의 전체 Sn 을 합금화하고, Fe-Sn 합금층을 형성한 주석 도금층을 제조할 수 있다. 가열 용융 처리를 생략했을 경우, 주석 단체의 도금층 (Sn 층) 을 제조할 수 있다.For example, tin phenol sulfonate plating bath, tin methane sulfonate plating bath, or halogen tin plating bath is used, and Sn is electroplated on the surface of the steel sheet so that the adhesion amount per one surface becomes a predetermined amount. Thereafter, a heating and melting treatment was performed at a temperature higher than the melting point (231.9 占 폚) of Sn to alloy the entire Sn of the plated layer (Sn layer) of the tin base or the entire Sn layer to form a tin plating layer having the Fe- Can be manufactured. When the heating and melting treatment is omitted, a plating layer (Sn layer) of tin alone can be produced.

또, 강판이 그 표면 상에 Ni 함유층을 갖는 경우, Ni 함유층 상에 주석 도금을 행하여 주석 단체의 도금층 (Sn 층) 을 형성시키고, 가열 용융 처리를 행하면, Sn 층의 최하층 (Sn 층/강판 계면) 또는 Sn 층의 전체 Sn 이 합금화되어 Fe-Sn-Ni 합금층, Fe-Sn 합금층 등이 형성된다.When the steel sheet has a Ni-containing layer on the surface thereof, tin plating is performed on the Ni-containing layer to form a plating layer (Sn layer) of tin alone and heat melting treatment is performed to form a lowermost layer (Sn layer / Or the entire Sn of the Sn layer is alloyed to form an Fe-Sn-Ni alloy layer, an Fe-Sn alloy layer, or the like.

[피막][film]

다음으로, 피막에 대해서 설명한다. 피막은, 개략적으로는, 그 성분으로서 Ti (티타늄 원소) 를 함유하는 피막으로서, 후술하는 처리액을 사용하여 형성된다.Next, the coating film will be described. The film is schematically formed as a film containing Ti (titanium element) as a component thereof, using a treatment liquid to be described later.

피막은, 도금 강판의 편면당 Ti 환산의 부착량 (이하, 「Ti 부착량」이라고도 한다) 이 2.5 ∼ 30.0 mg/㎡ 이다. Ti 부착량이 이 범위 내이면 밀착성이 우수하다. Ti 부착량은 밀착성이 보다 우수하다는 이유에서, 3.0 ∼ 20.0 mg/㎡ 가 바람직하다.The coating amount is 2.5 to 30.0 mg / m &lt; 2 &gt; in terms of Ti on one side of the coated steel sheet (hereinafter also referred to as &quot; Ti adhesion amount &quot;). When the Ti adhesion amount is within this range, the adhesion is excellent. The amount of Ti adhered is preferably 3.0 to 20.0 mg / m &lt; 2 &gt; because the adhesion is more excellent.

또, 피막은 밀착성이 보다 우수하다는 이유에서, 추가로, Ni (니켈 원소) 를 함유하는 것이 바람직하다. 이 경우, 도금 강판의 편면당 Ni 환산의 부착량 (이하, 「Ni 부착량」이라고도 한다) 은 0.1 ∼ 20.0 mg/㎡ 가 바람직하고, 0.4 ∼ 15.0 mg/㎡ 가 보다 바람직하며, 0.4 ∼ 6.0 mg/㎡ 가 더욱 바람직하다.Further, the coating film preferably further contains Ni (nickel element) because it is more excellent in adhesion. In this case, the amount of deposition (hereinafter also referred to as &quot; Ni deposition amount &quot;) in terms of Ni per one side of the coated steel sheet is preferably from 0.1 to 20.0 mg / m 2, more preferably from 0.4 to 15.0 mg / m 2, Is more preferable.

피막 중의 Ti, Ni 등은, 각각, 각종 티탄 화합물, 니켈 화합물로서 함유되고, 이들 화합물의 종류나 양태는 특별히 한정되지 않는다.Ti, Ni and the like in the film are contained as various titanium compounds and nickel compounds, respectively, and the kind and the manner of these compounds are not particularly limited.

또한, Ti 부착량 및 Ni 부착량은, 형광 X 선에 의한 표면 분석에 의해서 측정한다.The Ti adhesion amount and the Ni adhesion amount are measured by surface analysis by fluorescent X-ray.

형광 X 선 분석은, 예를 들어 하기 조건에 의해서 실시된다.Fluorescence X-ray analysis is carried out, for example, by the following conditions.

· 장치 : 리가쿠사 제조 형광 X 선 분석 장치 System3270Apparatus: Fluorescence X-ray analyzer System3270 manufactured by Rigaku Corporation

· 측정 직경 : 30 ㎜ Measuring diameter: 30 mm

· 측정 분위기 : 진공Measuring Atmosphere: Vacuum

· 스펙트럼 : Ti-Kα, Ni-KαSpectrum: Ti-Kα, Ni-Kα

· 슬릿 : COARSE· Slit: COARSE

· 분광 결정 : TAP· Spectroscopic determination: TAP

상기 조건에 의해서 측정한 피막의 형광 X 선 분석의 Ti-Kα, Ni-Kα 의 피크 카운트수를 사용한다.The peak counts of Ti-K? And Ni-K? In the fluorescent X-ray analysis of the film measured by the above conditions are used.

단, 도금층이 Ni 를 함유하는 경우 (도금층이 Ni 를 함유하지 않고, 단순히 Ni 함유층을 갖는 강판을 사용한 경우도 포함한다. 이하 동일) 에는, 상기한 형광 X 선에 의한 표면 분석에 의해서 피막 중에 함유되는 Ni 부착량만을 측정하는 것은 곤란하다.However, in the case where the plated layer contains Ni (including the case where the plated layer contains no Ni and a case where a steel sheet having a Ni-containing layer is simply used), the surface analysis by the fluorescent X- It is difficult to measure only the amount of Ni deposited.

그 경우에는, 주사형 전자 현미경 (Scanning Electron Microscope : SEM) 이나 투과형 전자 현미경 (Transmission Electron Microscope : TEM) 에 의한 단면 (斷面) 관찰과 글로 방전 발광 분석을 병용함으로써, 피막 중에 함유되는 Ni 부착량과 도금층 중에 함유되는 Ni 량을 구별할 수 있다.In this case, by using a cross-sectional observation by a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM) and a glow discharge emission analysis in combination, The amount of Ni contained in the plating layer can be distinguished.

구체적으로는, 피막 및 도금층의 단면을 수속 이온 빔 (Focused Ion Beam : FIB) 가공에 의해서 노출시키고, SEM 또는 TEM 에 의한 단면 관찰로부터 피막의 두께를 산출한다. 이어서, 글로 방전 발광 분석에 의한 스퍼터링 깊이와 스퍼터링 시간의 관계를 구한다. 그 후, 피막 두께에 상당하는 스퍼터링 시간까지의 글로 방전 발광 분석의 Ni 원소에 의한 발광 카운트 적산치를 구한다. 이 Ni 원소에 의한 발광 카운트 적산치로부터, 미리 구해둔 검량선을 사용하여 Ni 부착량을 구할 수 있다.More specifically, the coating and the end face of the plating layer are exposed by a focused ion beam (FIB) process, and the thickness of the coating is calculated from the cross-section observation by SEM or TEM. Next, the relationship between the sputtering depth and the sputtering time by the glow discharge spectroscopy analysis is obtained. Thereafter, the light emission count integration value by the Ni element in the glow discharge emission analysis up to the sputtering time corresponding to the film thickness is obtained. From the integrated value of light emission count by the Ni element, Ni deposition amount can be obtained by using a previously obtained calibration curve.

여기서, 검량선은 이하의 방법으로 작성한다. Here, the calibration curve is prepared by the following method.

먼저, Ni 를 함유하지 않는 도금층 상에 Ni 를 함유하는 피막을 갖고, Ni 부착량이 상이한 복수의 샘플에 대해서 글로 방전 발광 분석하고, Ni 원소에 의한 발광 카운트가 검출되지 않게 되는 스퍼터링 시간까지의 카운트 적산치를 구한다. 이어서 이들 샘플의 Ni 부착량을 형광 X 선에 의한 표면 분석에 의해서 구한다. 이와 같이 하여, 글로 방전 발광 분석에 의한 Ni 카운트 적산치와 Ni 부착량의 검량선을 작성한다.First, a plurality of samples having Ni-containing coatings on a Ni-free plating layer and having different Ni deposition amounts were subjected to glow discharge emission analysis, and counting up to the sputtering time until the light emission count by the Ni element was not detected Find the value. Then, the Ni deposition amount of these samples is determined by surface analysis by fluorescent X-ray. In this manner, a calibration curve of the Ni count integrated value and the Ni deposition amount by the glow discharge luminescence analysis is prepared.

피막의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 10 ∼ 120 ㎚ 가 바람직하고, 20 ∼ 60 ㎚ 가 보다 바람직하다. 피막의 두께는 피막의 단면을 수속 이온 빔 (FIB) 가공에 의해서 노출시키고, 투과형 전자 현미경 (TEM) 관찰에 의한 단면 프로파일로부터 측정할 수 있다.The thickness of the coating film is not particularly limited, but is preferably from 10 to 120 nm, more preferably from 20 to 60 nm. The thickness of the coating can be measured from the cross-sectional profile of the coating by exposing it to ion beam (FIB) processing and observing it through a transmission electron microscope (TEM).

또, 본 발명의 용기용 강판은, 피막의 표면으로부터의 깊이 방향의 원자 농도 분포에 있어서, 0 가 Sn 의 원자 농도가 도금층의 0 가 Sn 의 원자 농도의 25 % 와 동일해지는 깊이 L (단위 : ㎚) 과, 피막의 표면에서 깊이 L 까지의 0 가 Sn 의 평균 원자 농도 A (단위 : 원자%) 의 곱 X 가, 하기 식 (1) 을 만족함으로써 외관이 보다 우수하다.In the steel sheet for a container of the present invention, the atomic concentration of Sn in the plating layer is set to a depth L (unit: m &lt; 2 &gt;) at which the atomic concentration of Sn becomes equal to 25% of the atomic concentration of Sn in the atomic concentration distribution in the depth direction from the surface of the coating. And the product X of the average atomic concentration A (unit: atom%) of zero-valued Sn from the surface of the coating film to the depth L satisfies the following formula (1).

0 ≤ X (= L × A) ≤ 60 … (1) 0? X (= L x A)? 60 ... (One)

본 발명에 있어서, 원자 농도 분포는, 피막의 표면으로부터, 아르곤 스퍼터링한 후에 X 선 광 전자 분광법 (X-ray Photoelectron Spectroscopy : XPS) 측정을 행하는 것을 반복하여 측정된 것으로 한다. 또한, 피막의 표면이란 피막의 도금 강판측과는 반대측의 표면을 말한다.In the present invention, the atomic concentration distribution is measured by repeating X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) measurement after argon sputtering from the surface of the coating. The term &quot; surface of the coating film &quot; refers to the surface of the coating film opposite to the side of the coated steel plate.

도 1 은, 피막의 표면으로부터의 깊이 방향의 원자 농도 분포의 예를 나타내는 그래프로서, 가로축은 피막의 표면으로부터의 거리인 깊이 (단위 : ㎚) 를 나타내고, 세로축은 원자 농도 (단위 : 원자%) 를 나타낸다.1 is a graph showing an example of the atom concentration distribution in the depth direction from the surface of the coating film, wherein the abscissa indicates the depth (unit: nm), which is the distance from the surface of the film, .

도 1 에 나타나는 원자 농도 분포에 있어서, 0 가 Sn 의 원자 농도가, 도금층 (주석 도금층) 의 0 가 Sn 의 원자 농도 (벌크 농도) 의 25 % 와 동일해지는 깊이 (피막의 표면으로부터의 거리) 를 L (단위 : ㎚) 로 하고, 피막의 표면에서 깊이 L 까지의 0 가 Sn 의 평균 원자 농도 (단위 : 원자%) 를 A 로 했을 경우, 양자의 곱 X (= L × A) 이, 상기 서술한 식 (1) 을 만족하는 것이 바람직하다.(Depth from the surface of the coating film) at which the atomic concentration of 0 Sn becomes equal to 25% of the atomic concentration (bulk concentration) of Sn in the plating layer (tin plating layer) (Unit: atomic%) of Sn at 0 to the depth L from the surface of the coating film is denoted by A, the product X (= L x A) It is preferable to satisfy the formula (1).

여기서, 벌크 농도의 25 % 와 동일해지는 깊이 L (단위 : ㎚) 를 채용한 이유는, 피막의 표면으로부터 깊게 스퍼터할수록 도금층 (주석 도금층) 으로부터의 정보가 혼재하고, 반대로, 피막 표면의 극히 근방에서는 피막의 깊이 방향의 정보가 잘 반영되지 않기 때문이다.Here, the reason why the depth L (unit: nm) which is equal to 25% of the bulk concentration is adopted is that the information from the plating layer (tin plating layer) coexists as the surface of the coating is deeply sputtered. On the contrary, This is because information in the depth direction of the film is not well reflected.

이와 같은 깊이 L 에, 깊이 L 까지의 0 가 Sn 의 평균 원자 농도 A 를 곱하여 얻어지는 X 는, 도금층 (주석 도금층) 보다 확실하게 상층측에 존재하고, 또한, 피막 중에 존재하는 0 가 Sn 의 함유량을 나타내는 지표가 된다.X obtained by multiplying the depth L by 0 to the depth L by the average atomic concentration A of Sn is more reliably located on the upper layer side than the plating layer (tin plating layer), and the content of 0-Sn .

본 발명자들은, 용기용 강판의 시험재를 제작하고, 제작된 시험재에 대해서, X (= L × A) 를 구하고, 이어서, 명도를 나타내는 L 치를 니혼 전색 공업사 제조 SQ-2000 을 사용하여 측정하고, 그래프에 플롯하였다.The inventors of the present invention fabricated a test material for a steel sheet for a container and found X (= L x A) for the prepared test material, and then measured the L value indicating brightness by using SQ-2000 manufactured by Nihon Furun Kogyo Co., , And plotted on a graph.

도 2 는, X 와 L 치의 관계의 일례를 나타내는 그래프로서, 가로축은 X 를 나타내고, 세로축은 L 치를 나타낸다. 도 2 의 그래프로부터, X 와 L 치는 양호한 상관 관계를 나타내고, X 의 값이 커질수록, L 치는 감소하는 것을 알 수 있다.2 is a graph showing an example of the relationship between X and L values, in which the horizontal axis indicates X and the vertical axis indicates L value. From the graph of FIG. 2, it can be seen that the X and L values show a good correlation, and as the value of X becomes larger, the L value decreases.

여기서, L 치가 클수록 피막의 착색이 억제되어 있다 (외관이 양호하다) 고 평가할 수 있는 것이고, 예를 들어 L 치는 70 이상인 것이 바람직하다. 이 때문에, X 는 60 이하가 바람직하고, 38 이하가 보다 바람직하다.Here, the larger the L value, the lower the coloring of the coating (the better the appearance is). For example, the L value is preferably 70 or more. Therefore, X is preferably 60 or less, more preferably 38 or less.

또한, X 가 0 인 경우에는, 피막 중에 0 가 Sn 이 함유되지 않은 것을 나타내고, 상기 서술한 추정 메커니즘에 의하면, 피막의 착색이 억제되어 외관이 양호한 상태가 된다. 따라서, X 의 하한치는 이론상으로는 0 이 된다. 특히, 아르곤 스퍼터링에 의해서 표면으로부터 순차적으로 파들어가는 XPS 측정에서는, 측정을 진행하는 동안, 다소나마 벌크의 0 가 Sn 의 영향이 나타나게 된다. 이 때문에, X 가 0 을 나타내는 경우는 실제로는 없고, 5 미만이 되는 경우는 없다. 따라서, X 는 5 이상이 바람직하고, 10 이상이 보다 바람직하다.When X is 0, 0 indicates that Sn is not contained in the coating film. According to the estimation mechanism described above, the coloration of the coating is suppressed and the appearance becomes good. Therefore, the lower limit of X is theoretically zero. Particularly, in the XPS measurement in which argon sputtering is sequentially performed from the surface, the influence of zero Sn and the bulk of the bulk appears during the measurement. Therefore, when X represents 0, there is actually no case, and there is no case where X becomes less than 5. Therefore, X is preferably 5 or more, and more preferably 10 or more.

상기 서술한 바와 같이, X 를 구할 때의 원자 농도 분포는, 피막의 표면으로부터, 아르곤 스퍼터링한 후에 XPS 측정을 행하는 것을 반복하여 측정된다.As described above, the atomic concentration distribution when X is obtained is measured by repeatedly performing XPS measurement after argon sputtering from the surface of the coating.

XPS 측정에 사용하는 XPS 장치는, ULVAC-PHI 사 제조의 QuanteraSXM 을 사용하고, 분석 조건은 X 선원 모노크로 Al-Kα, 전압 15 ㎸, 출력 25 W, 측정 영역 100 ㎛φ 로 하고, 대전 중화는 전자선과 Ar 이온 조사의 동시 조사로 하고, 스퍼터 조건은 Ar 이온에 의해서 스퍼터레이트 1 ㎚/분 (SiO2 스퍼터레이트 환산) 으로 한다.QuanteraSXM manufactured by ULVAC-PHI Co., Ltd. was used as the XPS apparatus and the analysis conditions were X-ray source monoclonal Al-K ?, voltage of 15 kV, output of 25 W, measurement area of 100 占 퐉, The irradiation with the electron beam and the Ar ion irradiation is performed simultaneously, and the sputtering condition is set to a sputter rate of 1 nm / min (in terms of SiO 2 sputter rate) by Ar ions.

XPS 측정시에는, C1s 스펙트럼의 C-C 결합 유래 피크가 284.8 eV 가 되도록 각 원소 스펙트럼을 대전 보정 (시프트 보정) 하고, 원자 농도는 네로 스캔에 있어서의 각 원소 피크의 면적 강도와 각 원소의 상대 감도 계수를 사용하여 산출한다.At the time of XPS measurement, each element spectrum was subjected to charge correction (shift correction) so that the CC-derived peak of the C1s spectrum was 284.8 eV. The atomic concentration was calculated from the area intensity of each element peak in neroscan and the relative sensitivity coefficient .

또한, 0 가 Sn 의 원자 농도는, PHI 의 핸드북 및 NIST 의 데이터베이스를 참조하여, 실측 검출 경향으로부터, Sn3d5/2 스펙트럼에 있어서의 0 가 Sn 유래 피크 및 Sn 산화물 유래 피크의 검출 에너지치의 대표치를, 각각, 484.8 eV 및 486.8 eV 로서 피크 분리하여 산출되는 값을 사용한다.The atomic concentration of 0 Sn is determined by referring to the PHI handbook and the database of NIST, and a representative value of the detected energy value of the 0-valent Sn-derived peak and the Sn-oxide derived peak in the Sn3d 5/2 spectrum , 484.8 eV and 486.8 eV, respectively, are used.

[주석 산화막][Tin oxide film]

본 발명의 용기용 강판은, 상기 서술한 도금층과 피막 사이에, 주석 산화물을 함유하는 주석 산화막을 갖는다. 그리고, 이 주석 산화막의 주석 산화물의 환원에 필요로 하는 전기량 (이하, 「환원 전기량」이라고도 한다) 이 2.0 ∼ 5.0 mC/㎠ 이다.The steel sheet for a container of the present invention has a tin oxide film containing tin oxide between the above-described plating layer and the coating film. The amount of electricity required for the reduction of the tin oxide in the tin oxide film (hereinafter referred to as the &quot; reduced electricity amount &quot;) is 2.0 to 5.0 mC / cm 2.

본 발명의 용기용 강판에 있어서는, 이와 같은 주석 산화막을 가짐으로써, 상기 서술한 피막의 착색이나 시간 경과적인 착색 농화를 억제할 수 있어 외관이 우수하다.In the steel sheet for a container of the present invention, by having such a tin oxide film, it is possible to inhibit coloring of the film and coloring of the film over time, and thus the appearance is excellent.

한편, 환원 전기량이 2.0 mC/㎠ 미만이면, 주석 도금층으로부터 피막 중으로의 Sn 도프를 억제하는 효과가 불충분해져, 외관이 열등하다. 또, 환원 전기량이 5.0 mC/㎠ 를 초과하면, 주석 도금층으로부터 피막 중으로의 Sn 도프는 억제할 수 있지만, 주석 산화막 자체의 정색에 의해서, 역시 외관이 열등하다.On the other hand, if the reduced amount of electricity is less than 2.0 mC / cm 2, the effect of suppressing Sn doping from the tin plating layer into the film becomes insufficient and the appearance is inferior. If the reduction amount exceeds 5.0 mC / cm &lt; 2 &gt;, Sn doping from the tin plating layer into the film can be suppressed, but the appearance is also inferior due to the color of the tin oxide film itself.

주석 산화막의 환원 전기량은, 피막의 착색이나 시간 경과적인 착색 농화를 보다 억제할 수 있어, 용기용 강판의 외관이 보다 우수하다는 이유에서, 3.0 ∼ 5.0 mC/㎠ 가 바람직하고, 3.6 ∼ 5.0 mC/㎠ 가 보다 바람직하다.The reduction amount of the tin oxide film is preferably from 3.0 to 5.0 mC / cm 2, more preferably from 3.6 to 5.0 mC / cm 2, because the reduction of the tin oxide film can further suppress the coloring of the coating film and the coloring concentration over time, Lt; 2 &gt; is more preferable.

또, 주석 산화막의 환원 전기량이 5.0 mC/㎠ 이하이면, 주석 산화막 내에서의 응집 파괴에 의한 밀착성의 저하가 잘 발생되지 않기 때문에 바람직하다.When the reduction amount of the tin oxide film is 5.0 mC / cm &lt; 2 &gt; or less, deterioration of adhesion due to cohesive failure in the tin oxide film is not easily caused, which is preferable.

주석 산화물의 환원에 필요로 하는 전기량은, 질소 가스의 버블링 등의 수단에 의해서 용존 산소를 제거한 0.001 mol/ℓ 의 브롬화수소산 수용액 중에서 0.05 mA/㎠ 의 정전류로 본 발명의 용기용 강판을 음극 전해하고, 주석 산화물을 환원 제거하는 시간과 전류의 곱으로부터 구할 수 있다.The amount of electricity required for the reduction of the tin oxide was obtained by subjecting the steel sheet for a vessel of the present invention to cathodic electrolysis at a constant current of 0.05 mA / cm &lt; 2 &gt; in an aqueous solution of 0.001 mol / l of hydrobromic acid in which dissolved oxygen was removed by means of bubbling, And can be obtained from the product of the time and the current for reducing and removing the tin oxide.

또한, 피막이 Ni 를 함유하는 경우에는, 상기 서술한 정전류법에서는 수소 발생 전류가 공존하여, 주석 산화물의 환원 전류를 직접 측정할 수 없다. 이 때문에, 침지 전위로부터 -0.7 V (vs. Ag/AgCl) 의 전위까지 전위를 소인 (掃引) 하는 과정에서 얻어지는 1 회째의 환원 전류 곡선과, 그 후, 동일하게 침지 전위로부터 -0.7 V (vs. Ag/AgCl) 의 전위까지 전위를 소인하는 2 회째의 환원 전류 곡선의 차분에 상당하는 전기량으로부터 구할 수 있다.When the film contains Ni, the hydrogen generating current coexists in the above-described constant current method, and the reduction current of the tin oxide can not be directly measured. Therefore, the first reduction current curve obtained by sweeping the potential from the immersion potential to a potential of -0.7 V (vs. Ag / AgCl), and then from the immersion potential to -0.7 V (vs Ag / AgCl), the electric current corresponding to the difference of the second reduction current curve that swells the potential.

[용기용 강판의 제조 방법][Production method of steel sheet for container]

상기 서술한 본 발명의 용기용 강판을 제조하는 방법으로는, 예를 들어 후술하는 전처리 공정 및 피막 형성 공정을 이 순서로 구비하는 방법 (이하, 편의상 「본 발명의 제조 방법」이라고도 한다) 을 바람직하게 들 수 있다. 이하, 이와 같은 본 발명의 제조 방법에 대해서 설명한다.As a method for producing the above-described steel sheet for a container of the present invention, for example, a method comprising a pretreatment step and a film formation step which will be described later (hereinafter referred to as a "production method of the present invention" . Hereinafter, such a manufacturing method of the present invention will be described.

[전처리 공정][Pretreatment process]

본 발명의 제조 방법은, 후술하는 피막 형성 공정 전에 전처리 공정을 구비한다. 전처리 공정은, 산화제 혹은 탄산염을 함유하는 전처리액에, 도금 강판을 침지하거나, 또는, 상기 전처리액 중에서 양극 전해 처리함으로써, 당해 도금 강판의 도금층측의 표면 상에 상기 서술한 주석 산화막을 형성하는 공정이다.The production method of the present invention includes a pretreatment step before a film formation step to be described later. The pretreatment step is a step of immersing a plated steel sheet in a pretreatment liquid containing an oxidizing agent or a carbonate or performing an anodic electrolytic treatment in the pretreatment liquid to form the tin oxide film on the surface of the plated steel sheet on the plated layer side to be.

도금 강판을 상기 전처리액에 침지하거나, 또는, 상기 전처리액 중에서 양극 전해 처리함으로써, 도금 강판이 갖는 Sn 을 함유하는 도금층의 일부가, 전처리액 중의 산화제 혹은 탄산염에 의해서 산화되어, 주석 산화물을 함유하는 주석 산화막이 형성된다.A part of the plating layer containing Sn contained in the plated steel sheet is oxidized by the oxidizing agent or the carbonate in the pretreatment liquid by immersing the plated steel sheet in the pretreatment liquid or by anodic electrolytic treatment in the pretreatment liquid, Tin oxide film is formed.

전처리액에 함유되는 산화제 또는 탄산염은 특별히 한정되지 않는다.The oxidizing agent or carbonate contained in the pretreatment liquid is not particularly limited.

산화제로는, 종래 공지된 산화제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 이산화염소 ; 과염소산, 과요오드산 등의 과할로겐산 ; 과염소산나트륨, 과염소산칼륨, 과염소산암모늄 등의 과염소산염류 ; 아염소산나트륨, 아염소산칼륨 등의 아염소산염류 ; 하이포아염소산나트륨, 하이포아염소산칼슘 등의 하이포아염소산염류 ; 브롬산나트륨, 브롬산칼륨 등의 브롬산염류 ; 요오드산나트륨, 요오드산칼륨 등의 요오드산염류 ; 과요오드산나트륨, 과요오드산칼륨 등의 과요오드산염류 ; 과산화나트륨, 과산화칼륨, 과산화마그네슘, 과산화칼슘, 과산화바륨 등의 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 과산화물 ; 과산화수소, 과탄산나트륨 등의 과산화수소 또는 그 유도체 ; 등을 들 수 있다.As the oxidizing agent, conventionally known oxidizing agents may be used. For example, chlorine dioxide; Perhalogen acids such as perchloric acid and periodic acid; Perchloric acid salts such as sodium perchlorate, potassium perchlorate and ammonium perchlorate; Chlorites such as sodium chlorite and potassium chlorite; Hypochlorites such as sodium hypochlorite and calcium hypochlorite; Bromates such as sodium bromate and potassium bromate; Iodic acid salts such as sodium iodate and potassium iodate; Periodic acid salts such as sodium iodate and potassium periodate; Peroxides of alkali metals or alkaline earth metals such as sodium peroxide, potassium peroxide, magnesium peroxide, calcium peroxide and barium peroxide; Hydrogen peroxide such as hydrogen peroxide, sodium percarbonate or derivatives thereof; And the like.

또, 탄산염으로는, 종래 공지된 수용성의 탄산염을 사용할 수 있다. 예를 들어, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 알칼리 금속의 탄산염류를 들 수 있다.As the carbonate, conventionally known water-soluble carbonates can be used. For example, carbonates of alkali metals such as sodium carbonate and potassium carbonate.

이 중, 주석 산화막을 강판 상에 연속적이며 또한 치밀하게 형성할 수 있다는 이유에서, 산화제로는 과염소산염류, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 과산화물, 과산화수소 또는 그 유도체가 바람직하고, 탄산염으로는 탄산나트륨이 바람직하다.Of these, as the oxidizing agent, a peroxide of perchlorate, an alkali metal or an alkaline earth metal, hydrogen peroxide or a derivative thereof is preferable, and sodium carbonate is preferable as the carbonate because the tin oxide film can be formed continuously and densely on the steel sheet .

또, 전처리액 중의 산화제 또는 탄산염의 함유량은, 주석 산화막을 강판 상에 연속적이며 또한 치밀하게 형성할 수 있다는 이유에서 5 ∼ 30 g/ℓ 가 바람직하고, 10 ∼ 20 g/ℓ 가 보다 바람직하다.The content of the oxidizing agent or carbonate in the pretreatment liquid is preferably 5 to 30 g / l, more preferably 10 to 20 g / l, because the tin oxide film can be formed continuously and densely on the steel sheet.

전처리 공정에 있어서, 처리를 실시할 때의 전처리액의 액온은, 형성되는 주석 산화막량이 적량이 되어, 피막의 색조 변화를 보다 억제할 수 있다는 이유에서 20 ∼ 80 ℃ 가 바람직하고, 40 ∼ 60 ℃ 가 보다 바람직하다.In the pretreatment step, the liquid temperature of the pretreatment liquid at the time of the treatment is preferably from 20 to 80 DEG C, more preferably from 40 to 60 DEG C, because the amount of tin oxide to be formed becomes appropriate and the change in color tone of the coating can be further suppressed. Is more preferable.

또, 전처리액 중으로의 침지 시간은, 액온과 동일한 이유에서, 0.1 ∼ 5 초가 바람직하고, 0.2 ∼ 2 초가 보다 바람직하다.The immersing time in the pretreatment liquid is preferably 0.1 to 5 seconds, more preferably 0.2 to 2 seconds, for the same reason as the liquid temperature.

또한, 전처리액으로의 침지 후에 있어서는, 필요에 따라서 수세 처리를 실시해도 된다.Further, after immersion in the pretreatment liquid, washing treatment may be carried out if necessary.

또, 전처리액 중에서의 전해 조건은, 액온과 동일한 이유에서, 강판측이 양극이 되도록 전해하고, 전해 전류 밀도는 1.0 ∼ 10.0 A/dm2 가 바람직하고, 3.0 ∼ 6.0 A/dm2 가 보다 바람직하다. 통전 시간은 0.1 ∼ 5 초가 바람직하고, 0.2 ∼ 2 초가 보다 바람직하다.The electrolysis conditions in the pretreatment solution are electrolytic current density of 1.0 to 10.0 A / dm 2 , preferably 3.0 to 6.0 A / dm 2 , more preferably 3.0 to 6.0 A / dm 2 , Do. The electrification time is preferably 0.1 to 5 seconds, more preferably 0.2 to 2 seconds.

전처리액 중에서의 전해 처리 후에 있어서는, 필요에 따라서 수세 처리를 실시해도 된다.After the electrolytic treatment in the pretreatment liquid, the water treatment may be carried out if necessary.

[피막 형성 공정][Film forming process]

피막 형성 공정은, 전처리 공정에서 형성된 주석 산화막의 표면 상에, 상기 서술한 피막을 형성하는 공정으로서, 후술하는 처리액 중에서 주석 산화막을 형성한 도금 강판에 음극 전해 처리를 실시하는 공정이다. 이하에, 사용되는 처리액이나 음극 전해 처리의 조건 등에 대해서 상세히 서술한다.The film forming step is a step of forming the above-described film on the surface of the tin oxide film formed in the pre-processing step, and performing the negative electrode electrolytic treatment on the plated steel sheet having the tin oxide film formed thereon in the treatment liquid described later. Hereinafter, the conditions of the treatment liquid and the cathode electrolytic treatment to be used will be described in detail.

피막 형성 공정에서 사용되는 처리액은, 상기 피막에 Ti (티타늄 원소) 를 공급하기 위한 Ti 성분 (Ti 화합물) 을 함유한다. 이 Ti 성분으로는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 티탄알콕시드, 옥살산티타닐암모늄, 옥살산티타닐칼륨 2 수화물, 황산티탄, 티탄락테이트, 티탄불화수소산 (H2TiF6) 및/또는 그 염 등을 들 수 있다. 또한, 티탄불화수소산의 염으로는, 예를 들어 육불화티탄산칼륨 (K2TiF6), 육불화티탄산나트륨 (Na2TiF6), 육불화티탄산암모늄 ((NH4)2TiF6) 등을 들 수 있다.The treatment liquid used in the film formation step contains a Ti component (Ti compound) for supplying Ti (titanium element) to the coating film. The Ti component is not particularly limited. For example, titanium alkoxide, titanyl ammonium oxalate, titanium titanyl potassium dihydrate, titanium sulfate, titanium lactate, titanium hydrofluoric acid (H 2 TiF 6 ) and / or salt thereof can be given. Examples of the salt of titanium hydrofluoric acid include potassium hexafluoro titanate (K 2 TiF 6 ), sodium hexafluorosilicate (Na 2 TiF 6 ), ammonium hexafluoro titanate ((NH 4 ) 2 TiF 6 ) .

이 중, 처리액의 안정성, 입수의 용이성 등의 관점에서, 티탄불화수소산 및/또는 그 염이 바람직하다.Of these, titanium hydrofluoric acid and / or a salt thereof are preferable from the viewpoints of stability of the treatment liquid, ease of acquisition, and the like.

처리액 중의 Ti 성분의 함유량은, 티탄불화수소산 및/또는 그 염을 사용하는 경우, 육불화티탄산이온 (TiF6 2-) 으로 환산된 양이 3.0 ∼ 15.0 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 5.0 ∼ 10.0 g/ℓ 가 보다 바람직하다.When the titanium hydrofluoric acid and / or a salt thereof is used, the amount of the Ti component in the treatment liquid is preferably 3.0 to 15.0 g / l, more preferably 5.0 to 15.0 g / l in terms of hexafluoro titanate ion (TiF 6 2- ) 10.0 g / l is more preferable.

또, 상기 피막이 Ni (니켈 원소) 를 함유하는 경우에는, 피막 형성 공정에서 사용되는 처리액은, 상기 피막에 Ni (니켈 원소) 를 공급하기 위한 Ni 성분 (Ni 화합물) 을 함유한다. 이 Ni 성분으로는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 황산니켈 (NiSO4), 황산니켈 6 수화물, 염화니켈 (NiCl2), 염화니켈 6 수화물 등을 들 수 있다.When the coating contains Ni (nickel element), the treatment liquid used in the coating step contains a Ni component (Ni compound) for supplying Ni (nickel element) to the coating. The Ni component is not particularly limited. For example, nickel sulfate (NiSO 4 ), nickel sulfate hexahydrate, nickel chloride (NiCl 2 ), and nickel chloride hexahydrate.

처리액 중의 Ni 성분의 함유량은, Ni 이온 (Ni2+) 으로 환산된 양이 0.1 ∼ 3.0 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 0.3 ∼ 1.0 g/ℓ 가 보다 바람직하다.The content of the Ni component in the treatment liquid is preferably 0.1 to 3.0 g / l, more preferably 0.3 to 1.0 g / l, in terms of Ni ion (Ni 2+ ).

또한, 처리액 중의 용매로는 통상적으로 물이 사용되지만, 유기 용매를 병용해도 된다.As the solvent in the treatment liquid, water is usually used, but organic solvents may be used in combination.

처리액의 pH 는 특별히 한정되지 않지만, pH 2.0 ∼ 5.0 이 바람직하다. 이 범위 내이면, 처리 시간을 짧게 할 수 있으며, 또한, 처리액의 안정성이 우수하다. pH 의 조정에는 공지된 산 성분 (예를 들어, 인산, 황산) · 알칼리 성분 (예를 들어, 수산화나트륨, 암모니아수) 을 사용할 수 있다.The pH of the treatment liquid is not particularly limited, but is preferably 2.0 to 5.0. Within this range, the treatment time can be shortened and the stability of the treatment liquid is excellent. For adjusting the pH, known acid components (for example, phosphoric acid, sulfuric acid) and alkali components (for example, sodium hydroxide and ammonia water) can be used.

또, 처리액에는, 필요에 따라서, 라우릴황산나트륨, 아세틸렌글리콜 등의 계면 활성제가 함유되어 있어도 된다. 또, 부착 거동의 시간 경과적인 안정성의 관점에서, 처리액에는 피로인산염 등의 축합 인산염이 함유되어 있어도 된다.The treatment liquid may contain a surfactant such as sodium lauryl sulfate or acetylene glycol if necessary. From the viewpoint of stability over time of the adhesion behavior, the treatment liquid may contain a condensed phosphate such as pyrophosphate.

또한, 본 발명의 처리액은 전도 보조제를 함유하고 있어도 된다. 이로써, 본 발명의 용기용 강판의 고속 조업성이 우수하다. 전도 보조제로는, 예를 들어 황산칼륨, 황산나트륨, 황산마그네슘, 황산칼슘 등의 황산염 ; 질산칼륨, 질산나트륨, 질산마그네슘, 질산칼슘 등의 질산염 ; 염화칼륨, 염화나트륨, 염화마그네슘, 염화칼슘 등의 염화물염 ; 등을 들 수 있다.In addition, the treatment liquid of the present invention may contain a conductive auxiliary agent. Thus, the steel sheet for a container of the present invention is excellent in high-speed operation. Examples of the conductive auxiliary agent include sulfates such as potassium sulfate, sodium sulfate, magnesium sulfate, and calcium sulfate; Nitrates such as potassium nitrate, sodium nitrate, magnesium nitrate, and calcium nitrate; Chloride salts such as potassium chloride, sodium chloride, magnesium chloride, and calcium chloride; And the like.

본 발명의 처리액에 있어서의 전도 보조제의 함유량은 0.01 ∼ 1 mol/ℓ 가 바람직하고, 0.02 ∼ 0.5 mol/ℓ 가 보다 바람직하다.The content of the conductive auxiliary agent in the treatment liquid of the present invention is preferably 0.01 to 1 mol / l, more preferably 0.02 to 0.5 mol / l.

피막 형성 공정에 있어서 처리를 실시할 때의 처리액의 액온은 20 ∼ 80 ℃ 가 바람직하다. 이 범위이면, 형성되는 피막 중의 Ti 등이 적량이 되어, 밀착성이 우수하다.The liquid temperature of the treatment liquid at the time of performing the treatment in the film formation step is preferably 20 to 80 캜. Within this range, the amount of Ti or the like in the formed film becomes appropriate, and the adhesion is excellent.

피막 형성 공정에 있어서, 음극 전해 처리를 실시할 때의 전해 전류 밀도는, 형성되는 피막 중의 Ti 등이 적량이 되어, 밀착성이 우수하다는 이유에서, 1.0 ∼ 20.0 A/dm2 가 바람직하다.In the film forming step, the electrolytic current density at the time of performing the negative electrode electrolytic treatment is preferably 1.0 to 20.0 A / dm 2 because the amount of Ti or the like in the formed film becomes appropriate and the adhesion is excellent.

이 때, 음극 전해 처리의 통전 시간은, 전해 전류 밀도와 동일한 이유에서, 0.1 ∼ 5 초가 바람직하고, 0.3 ∼ 2 초가 보다 바람직하다. 또한, 음극 전해 처리시의 전기량 밀도는, 전류 밀도와 통전 시간의 곱이고, 적절히 설정된다.At this time, the energization time of the negative electrode electrolytic treatment is preferably 0.1 to 5 seconds, more preferably 0.3 to 2 seconds, for the same reason as the electrolytic current density. The electric-charge density in the cathode electrolytic treatment is a product of the current density and the energization time, and is appropriately set.

또한, 피막 표면의 불순물을 제거하는 관점에서, 음극 전해 처리 후, 얻어진 강판의 수세 처리를 행하는 것이 바람직하다.Further, from the viewpoint of removing the impurities on the surface of the coating film, it is preferable to perform the water washing treatment of the obtained steel sheet after the negative electrode electrolytic treatment.

수세 처리의 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 연속 라인에서 제조하는 경우, 피막 처리 탱크 뒤에 수세 탱크를 형성하여, 피막 처리 후에 연속적으로 물에 침지하는 방법 등을 들 수 있다. 수세 처리에 사용하는 물의 온도는 40 ∼ 90 ℃ 가 바람직하다.The method of the water washing treatment is not particularly limited. For example, in the case of manufacturing in a continuous line, a method of forming a flush tank after the film-forming tank and immersing it in water successively after the film-treatment is mentioned. The temperature of the water used for the water washing treatment is preferably 40 to 90 占 폚.

수세 시간은, 수세 처리에 의한 효과가 보다 우수하다는 이유에서, 0.5 초 초과가 바람직하고, 1.0 ∼ 5.0 초가 바람직하다.The water-washing time is preferably more than 0.5 seconds, and is preferably 1.0 to 5.0 seconds because the water-washing effect is more excellent.

수세 처리 대신에, 또는, 수세 처리 후에 건조시켜도 된다. 건조시의 온도 및 방식은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 통상적인 드라이기나 전기로 건조 방식을 적용할 수 있다. 건조 처리시의 온도로는 100 ℃ 이하가 바람직하다. 상기 범위 내이면, 피막의 산화를 억제할 수 있어, 피막 조성의 안정성이 유지된다. 또한, 하한은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 실온 정도이다.It may be dried instead of the water washing treatment or after the water washing treatment. The temperature and method of drying are not particularly limited, and for example, a conventional dryer or an electric furnace drying method can be applied. The temperature for the drying treatment is preferably 100 占 폚 or lower. Within this range, oxidation of the coating can be suppressed, and the stability of the coating composition can be maintained. The lower limit is not particularly limited, but is usually about room temperature.

본 발명의 제조 방법에 의해서 얻어지는 본 발명의 용기용 강판은, DI 캔, 식료캔, 음료캔 등 여러 가지 용기의 제조에 사용된다.The steel sheet for a container of the present invention obtained by the production method of the present invention is used for the production of various containers such as DI can, food can, and beverage can.

실시예 Example

이하에 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples. However, the present invention is not limited thereto.

<도금 강판의 제조>&Lt; Production of coated steel sheet >

이하의 2 가지의 방법 [(K-1) 및 (K-2)] 에 의해서, 도금 강판을 제조하였다.A coated steel sheet was produced by the following two methods [(K-1) and (K-2)].

(K-1) (K-1)

판두께 0.22 ㎜ 의 강판 (T4 원판) 에 대해서 전해 탈지와 산세를 행하고, 그 후, 제 3 표에 나타내는 편면당 Sn 부착량의 주석 도금을 실시하였다. 계속하여, Sn 의 융점 이상의 온도에서 가열 용융 처리를 실시하고, Fe-Sn 합금층과 그 상층에 Sn 층을 형성하여 도금 강판을 제조하였다. 이와 같이 하여, 하층측으로부터 차례로, Fe-Sn 합금층/Sn 층으로 이루어지는 도금층이 양면에 형성되었다.A steel sheet (T4 original plate) having a plate thickness of 0.22 mm was subjected to electrolytic degreasing and pickling, and then tin plating of Sn adhesion amount per side shown in Table 3 was performed. Subsequently, a heating and melting treatment was performed at a temperature not lower than the melting point of Sn to form a Fe-Sn alloy layer and an Sn layer thereon to prepare a plated steel sheet. In this manner, a plating layer composed of an Fe-Sn alloy layer / a Sn layer was formed on both surfaces in order from the lower layer side.

(K-2) (K-2)

판두께 0.22 ㎜ 의 강판 (T4 원판) 을 전해 탈지하고, 와트욕을 사용하여 제 3 표에 나타내는 편면당 Ni 부착량으로 니켈 도금층을 형성 후, 10 vol.% H2 + 90 vol.% N2 분위기 중에서 700 ℃ 에서 어닐링하여 니켈 도금을 확산 침투시킴으로써, Ni-Fe 합금층 (Ni 함유층) (제 3 표에 Ni 부착량을 나타낸다) 을 양면에 형성하였다.After the nickel plated layer formed by the degreasing electrolyte to the steel sheet (T4 original plate) having a thickness of 0.22 ㎜ and A Watt bath was used as the Ni coating weight per one side as shown in the third table, 10 vol.% H 2 + 90 vol.% N 2 atmosphere Ni-Fe alloy layer (Ni-containing layer) (Ni deposition amount is shown in Table 3) was formed on both sides by annealing at 700 占 폚 in a nitrogen atmosphere to diffuse and penetrate the nickel plating.

계속하여, 상기 표층에 Ni 함유층을 갖는 강판을 주석 도금욕을 사용하여, 제 3 표에 나타내는 편면당 Sn 부착량의 주석 도금을 실시하였다. 그 후, Sn 의 융점 이상의 온도에서 가열 용융 처리를 실시하고, Fe-Sn-Ni 합금층과 그 상층에 불연속의 Sn 층을 형성하여 도금 강판을 제조하였다. 이와 같이 하여, 하층측으로부터 순서대로, Ni-Fe 합금층/Fe-Sn-Ni 합금층/Sn 층으로 이루어지는 도금층이 양면에 형성되었다.Subsequently, the steel sheet having the Ni-containing layer in the surface layer was tin-plated with a Sn adhering amount per side shown in Table 3 by using a tin plating bath. Thereafter, heating and melting treatment was performed at a temperature not lower than the melting point of Sn to form a Fe-Sn-Ni alloy layer and a discontinuous Sn layer thereon to produce a coated steel sheet. Thus, a plating layer composed of a Ni-Fe alloy layer / an Fe-Sn-Ni alloy layer / a Sn layer was formed on both sides in this order from the lower layer side.

<전처리 공정 (주석 산화막의 형성)>&Lt; Pretreatment process (formation of tin oxide film) >

제조된 도금 강판을 수세한 후, 제 1 표 (그 1) 에 나타내는 조성의 전처리액 (용매 : 물) 중에, 제 2 표에 나타내는 처리 온도 (액온), 그리고, 침지 시간 혹은 양극 전해 조건에 의해서 양면에 주석 산화막을 형성하였다. 또한, 전처리 공정에 의해서 주석 산화막을 형성하지 않은 경우에는 제 2 표에 「-」을 기재하였다.After the prepared coated steel sheet was washed with water, the treatment temperature (liquid temperature) shown in Table 2 and the immersion time or the anodic electrolytic conditions were set in the pretreatment liquid (solvent: water) of the composition shown in Table 1 Tin oxide films were formed on both sides. In the case where the tin oxide film is not formed by the pretreatment step, "-" is described in the second table.

<피막 형성 공정><Coating Formation Step>

이어서, 전처리 공정을 거친 도금 강판을 수세하고, 제 1 표 (그 2) 에 나타내는 조성 및 pH 의 처리액 (용매 : 물) 을 사용하여, 제 2 표에 나타내는 처리 온도 (액온) 및 전해 조건 (전류 밀도, 통전 시간, 전기량 밀도) 에서 음극 전해 처리를 실시하였다. 그 후, 수세 처리하고, 블로어를 사용하여 실온에서 건조시키고, 피막을 양면에 형성하였다.Subsequently, the plated steel sheet subjected to the pretreatment step was washed with water, and the treatment temperature (liquid temperature) and the electrolytic condition (shown in Table 2) were measured using the treatment liquid (solvent: water) Current density, energization time, electric quantity density). Thereafter, it was washed with water and dried at room temperature using a blower to form a coating on both sides.

그 후, 제작된 용기용 강판의 시험재에 대해서, 이하의 방법으로 외관 및 밀착성을 평가하였다. 각 성분량 및 평가 결과를 제 3 표에 모아서 나타낸다.Thereafter, the test materials of the prepared steel sheets for containers were evaluated for appearance and adhesion by the following methods. The contents of each component and evaluation results are collectively shown in Table 3.

주석 산화막의 환원 전기량, 그리고, 피막의 Ti 부착량 및 Ni 부착량은, 상기 서술한 방법에 의해서 측정 내지 계산하였다.The amount of reduction of the tin oxide film, the amount of Ti deposited on the film, and the amount of deposited Ni were measured or calculated by the above-described method.

<외관><Appearance>

《초기 색조》"Early Hue"

제작된 직후 (제작 후 60 분 이내) 의 용기용 강판에 대하여, 피막의 차계 색의 정색에 대해서 평가하였다. 구체적으로는, L 치를, 니혼 전색 공업사 제조 SQ-2000 을 사용하여 측정하고, 하기 기준으로 평가하였다. ◎ 또는 ○ 이면, 피막의 착색이 억제되어, 외관이 우수한 것으로 평가할 수 있다.The steel plate for the container immediately after the preparation (within 60 minutes after the production) was evaluated for the color of the color of the tea color of the coating. Specifically, the L value was measured using SQ-2000 manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd. and evaluated according to the following criteria. If? Or?, The coloring of the coating film is inhibited, and the appearance can be evaluated to be excellent.

◎ : L 치 75 이상?: L value 75 or more

○ : L 치 70 이상 75 미만○: L value 70 or more and less than 75

△ : L 치 60 이상 70 미만?: L value 60 or more and less than 70

× : L 치 60 미만×: L value less than 60

《내변색성》"My discoloration"

상기와 같이 하여 색조를 평가한 용기용 강판에 대하여, 50 ℃, 상대 습도 98 % 의 항온 항습조 내에 72 시간 방치한 후, 초기 색조와 동일하게 하여 L 치를 측정하고, 하기 기준으로 평가하였다. ◎ 또는 ○ 이면, 시간 경과적인 착색 농화가 억제되어, 외관이 우수한 것으로 평가할 수 있다.The steel plate for evaluation of color tone as described above was allowed to stand in a constant temperature and humidity bath at 50 DEG C and a relative humidity of 98% for 72 hours and then the L value was measured in the same manner as the initial color tone and evaluated by the following criteria. If? Or?, It is possible to evaluate that the coloring concentration over time is suppressed and the appearance is excellent.

◎ : 초기 (제작 후 60 분 이내) 부터의 L 치 저하가 3 미만&Amp; cir &amp;: L value deterioration from initial (within 60 minutes after production) is less than 3

○ : 초기 (제작 후 60 분 이내) 부터의 L 치 저하가 3 이상 7 미만?: The L value deterioration from the initial stage (within 60 minutes after production) was 3 or more and less than 7

△ : 초기 (제작 후 60 분 이내) 부터의 L 치 저하가 7 이상 12 미만DELTA: L value deterioration from the initial stage (within 60 minutes after production) was 7 or more and less than 12

× : 초기 (제작 후 60 분 이내) 부터의 L 치 저하가 12 이상X: The L value deterioration from the initial stage (within 60 minutes after production) was 12 or more

<밀착성>&Lt; Adhesion >

제작된 용기용 강판 (폭 100 ㎜ × 길이 150 ㎜) 의 표면에, 에폭시페놀계 도료를 도포하고, 210 ℃ 에서 10 분간의 베이킹을 실시하여, 부착량이 50 mg/dm2 인 도장을 실시하였다. 이어서, 상기 도장을 실시하고, 동일한 조건에서 제작된 2 장의 용기용 강판을, 나일론 접착 필름을 사이에 끼워 도장면이 마주 보도록 적층한 후, 압력 2.94 × 105 ㎩, 온도 190 ℃, 압착 시간 30 초의 압착 조건 하에서 첩합 (貼合) 하였다. 그 후, 이것을 5 ㎜ 폭의 시험편으로 분할하였다. 분할된 시험편의 2 장의 용기용 강판을 인장 시험기로 박리하고, 박리시의 인장 강도를 측정하였다. 각 시험재에 있어서, 2 개의 시험편의 평균치를 하기 기준으로 평가하였다. 실용상, 결과가 ○ 또는 △ 이면, 밀착성이 우수한 것으로 평가할 수 있다.The surface of the prepared steel plate for containers (100 mm wide × 150 mm long) was coated with an epoxy phenolic coating material and baked at 210 ° C for 10 minutes to give a coating amount of 50 mg / dm 2 . Then, the coating was applied, and the two sheets of steel sheets for a container prepared under the same conditions were laminated so that the nylon adhesive film was sandwiched therebetween so as to face the coated surface. Thereafter, the pressure was 2.94x10 5 Pa, the temperature was 190 ° C, Under the condition of pressing for 1 sec. Thereafter, this was divided into test pieces having a width of 5 mm. Two sheets of steel sheets for containers of the divided test pieces were peeled off with a tensile tester and the tensile strength at the time of peeling was measured. In each test piece, the average value of the two test pieces was evaluated by the following criteria. Practically, when the result is? Or?, It can be evaluated that the adhesion is excellent.

○ : 2.0 ㎏f 이상?: 2.0 kgf or more

△ : 1.0 ㎏f 이상 2.0 ㎏f 미만?: 1.0 kgf or more and less than 2.0 kgf

× : 1.0 ㎏f 미만X: less than 1.0 kgf

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
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Figure pct00003
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Figure pct00004
Figure pct00004

Figure pct00005
Figure pct00005

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 제 1 표 ∼ 제 3 표에 나타내는 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 발명예 1 ∼ 51 의 용기용 강판은, 모두 외관이 우수한 것이 확인되었다.As is clear from the results shown in Tables 1 to 3, it was confirmed that the steel sheets for containers of Inventive Examples 1 to 51 were all excellent in appearance.

그 중에서도, X 의 값이 38 이하인 본 발명예는, X 의 값이 39 이상 60 이하인 본 발명예와 비교하여 외관이 보다 양호하였다.Among them, in the case of the present invention in which the value of X is 38 or less, the appearance is better in comparison with the case of the present invention in which the value of X is 39 or more and 60 or less.

이에 비하여, 주석 산화막의 환원 전기량이 2.0 mC/㎠ 미만 또는 5.0 mC/㎠ 초과인 비교예 1 ∼ 4 의 용기용 강판은, 모두 외관이 열등한 것이 확인되었다.On the other hand, it was confirmed that the steel sheets for containers of Comparative Examples 1 to 4, in which the reduced amount of tin oxide film was less than 2.0 mC / cm 2 or 5.0 mC / cm 2, were all inferior in appearance.

또한, 주석 산화막의 환원 전기량이 5.0 mC/㎠ 초과인 비교예 2 ∼ 4 의 용기용 강판은, 주석 산화막에 의해서, 주석 도금층으로부터 피막 중으로의 Sn 도프는 억제되어 (이 때문에, X 의 값이 비교적 작다) 있으나, 주석 산화막 자체의 정색 때문에, L 치가 저하되어, 외관이 열등한 것으로 생각할 수 있다.Further, in the case of the steel sheet for containers of Comparative Examples 2 to 4, in which the reduction amount of the tin oxide film is more than 5.0 mC / cm 2, Sn doping from the tin plating layer to the coating film is suppressed by the tin oxide film But the L value is lowered due to the coloration of the tin oxide film itself, and it can be considered that the appearance is inferior.

Claims (7)

강판 표면의 적어도 일부를 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층이 덮는 도금 강판과, 상기 도금 강판의 상기 도금층측의 표면 상에 배치된 피막을 갖는 용기용 강판으로서,
상기 도금층과 상기 피막 사이에 주석 산화물을 함유하는 주석 산화막을 갖고, 상기 주석 산화물의 환원에 필요로 하는 전기량이 2.0 ∼ 5.0 mC/㎠ 이고,
상기 피막이 Ti 를 함유하고, 상기 도금 강판의 편면당 Ti 환산의 부착량이 2.5 ∼ 30.0 mg/㎡ 인 용기용 강판.
A plating steel sheet at least a part of the surface of the steel sheet is covered with a plating layer containing at least one layer selected from the Sn layer, the Fe-Sn-Ni alloy layer and the Fe-Sn alloy layer; A steel sheet for a container having a coating film,
And a tin oxide film containing tin oxide between the plating layer and the coating film, wherein an electric quantity required for reduction of the tin oxide is 2.0 to 5.0 mC /
Wherein the coating contains Ti and the coated amount of the coated steel sheet in terms of Ti per one side is 2.5 to 30.0 mg / m 2.
제 1 항에 있어서,
상기 피막이 Ni 를 함유하고, 상기 도금 강판의 편면당 Ni 환산의 부착량이 0.1 ∼ 20.0 mg/㎡ 인 용기용 강판.
The method according to claim 1,
Wherein the coating contains Ni and the adhesion amount of the coated steel sheet in terms of Ni per one side is 0.1 to 20.0 mg / m 2.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 피막의 표면으로부터의 깊이 방향의 원자 농도 분포에 있어서, 0 가 Sn 의 원자 농도가 상기 도금층의 0 가 Sn 의 원자 농도의 25 % 와 동일해지는 깊이 L (단위 : ㎚) 과, 상기 피막의 표면에서 깊이 L 까지의 0 가 Sn 의 평균 원자 농도 A (단위 : 원자%) 의 곱 X 가, 하기 식 (1) 을 만족하는 용기용 강판.
0 ≤ X (= L × A) ≤ 60 … (1)
3. The method according to claim 1 or 2,
A depth L (unit: nm) in which the atomic concentration of Sn is equal to 25% of the atomic concentration of Sn in the plating layer in the atomic concentration distribution in the depth direction from the surface of the coating, (Unit: atom%) of 0 to Sn and a depth L of Sn satisfy the following formula (1).
0? X (= L x A)? 60 ... (One)
제 1 항에 기재된 용기용 강판을 얻는, 용기용 강판의 제조 방법으로서,
강판 표면의 적어도 일부를 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층이 덮는 도금 강판을, 산화제 혹은 탄산염을 함유하는 전처리액에 침지하거나, 또는, 상기 전처리액 중에서 양극 전해 처리함으로써, 당해 도금 강판의 도금층측의 표면 상에, 상기 주석 산화막을 형성하는 전처리 공정과,
Ti 성분을 함유하는 처리액 중에서, 상기 주석 산화막을 형성한 상기 도금 강판에 음극 전해 처리를 행하여, 상기 주석 산화막의 표면 상에 상기 피막을 형성하는 피막 형성 공정을 구비하는 용기용 강판의 제조 방법.
A method for producing a steel sheet for a container according to claim 1,
At least part of the surface of the steel sheet is covered with a plating layer containing at least one layer selected from the Sn layer, the Fe-Sn-Ni alloy layer and the Fe-Sn alloy layer is immersed in a pretreatment solution containing an oxidizing agent or a carbonate, A pretreatment step of forming the tin oxide film on the surface of the plated steel sheet on the plating layer side by anodic electrolytic treatment in the pretreatment liquid,
And a film forming step of performing a negative electrode electrolytic treatment on the plated steel sheet on which the tin oxide film is formed in a treatment liquid containing a Ti component to form the film on the surface of the tin oxide film.
제 2 항에 기재된 용기용 강판을 얻는, 용기용 강판의 제조 방법으로서,
강판 표면의 적어도 일부를 Sn 층, Fe-Sn-Ni 합금층 및 Fe-Sn 합금층 중에서 선택된 적어도 1 층을 포함하는 도금층이 덮는 도금 강판을, 산화제 혹은 탄산염을 함유하는 전처리액에 침지하거나, 또는, 상기 전처리액 중에서 양극 전해 처리함으로써, 당해 도금 강판의 도금층측의 표면 상에, 상기 주석 산화막을 형성하는 전처리 공정과,
Ti 성분 및 Ni 성분을 함유하는 처리액 중에서, 상기 주석 산화막을 형성한 상기 도금 강판에 음극 전해 처리를 행하여, 상기 주석 산화막의 표면 상에 상기 피막을 형성하는 피막 형성 공정을 구비하는 용기용 강판의 제조 방법.
A method for producing a steel sheet for a container according to claim 2,
At least part of the surface of the steel sheet is covered with a plating layer containing at least one layer selected from the Sn layer, the Fe-Sn-Ni alloy layer and the Fe-Sn alloy layer is immersed in a pretreatment solution containing an oxidizing agent or a carbonate, A pretreatment step of forming the tin oxide film on the surface of the plated steel sheet on the plating layer side by anodic electrolytic treatment in the pretreatment liquid,
A step of forming a film on the surface of the tin oxide film by subjecting the plated steel sheet on which the tin oxide film is formed to cathodic electrolytic treatment in a treatment liquid containing a Ti component and a Ni component, Gt;
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 산화제가, 과염소산염류, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 과산화물, 그리고, 과산화수소 또는 그 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이고,
상기 탄산염이 알칼리 금속의 탄산염류인, 용기용 강판의 제조 방법.
The method according to claim 4 or 5,
Wherein the oxidizing agent is at least one member selected from the group consisting of perchlorates, peroxides of an alkali metal or an alkaline earth metal, hydrogen peroxide or a derivative thereof,
Wherein the carbonate is a carbonate of an alkali metal.
제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도금층 중에 있어서의 상기 강판 편면당 Sn 부착량이 0.1 ∼ 15.0 g/㎡ 인, 용기용 강판의 제조 방법.
7. The method according to any one of claims 4 to 6,
Wherein the amount of Sn per one side of the steel sheet in the plating layer is 0.1 to 15.0 g / m &lt; 2 &gt;.
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