KR20160077351A - Gas dispensing device for radial reactor - Google Patents

Gas dispensing device for radial reactor Download PDF

Info

Publication number
KR20160077351A
KR20160077351A KR1020140186321A KR20140186321A KR20160077351A KR 20160077351 A KR20160077351 A KR 20160077351A KR 1020140186321 A KR1020140186321 A KR 1020140186321A KR 20140186321 A KR20140186321 A KR 20140186321A KR 20160077351 A KR20160077351 A KR 20160077351A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
reactor
radial
gas dispersion
radial reactor
Prior art date
Application number
KR1020140186321A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101672600B1 (en
Inventor
조부영
김원일
우재영
염희철
Original Assignee
주식회사 효성
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 효성 filed Critical 주식회사 효성
Priority to KR1020140186321A priority Critical patent/KR101672600B1/en
Publication of KR20160077351A publication Critical patent/KR20160077351A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101672600B1 publication Critical patent/KR101672600B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1818Feeding of the fluidising gas
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1881Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles with particles moving downwards while fluidised
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/245Spouted-bed technique
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/44Fluidisation grids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

The present invention relates to a gas dispersion device for a radiation reactor in which one or more long gas dispersion pipes are adjacent to each other and repeatedly arranged to be a circle along a circumference in a single column. In detail, the present invention relates to the gas dispersion device for a radiation reactor comprising: one or more perforated dispersing plate in which a gas formed in one or more sides is dispersed and discharged by the gas dispersion pipes; a damping portion formed to allow a cross-sectional area of the gas dispersion pipe to be gradually reduced with respect to a portion in which a gas flows out; and an expanded and curved portion expanded to an outside formed outside the gas dispersion pipe. According to the present invention, a gas can be efficiently dispersed in an axial direction and in a longitudinal direction of a reactor, and a catalyst insoluble space inside a reaction zone of a reactor is minimized to reduce a basic unit of a process.

Description

방사 반응기용 가스분산장치{GAS DISPENSING DEVICE FOR RADIAL REACTOR}GAS DISPENSING DEVICE FOR RADIAL REACTOR [0002]

본 발명은 방사 반응기용 가스분산장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 방사 반응기 내에서 반경 방향은 물론 축 방향으로 가스를 균일하게 분산시킬 수 있고, 가스분산관들 사이의 불용공간(dead volume)을 최소화하여 유체 정체 시간 단축에 의한 공정 원단위를 절감할 수 있는 방사 반응기용 가스분산장치에 관한 것이다.
[0001] The present invention relates to a gas distributor for a radial reactor, more particularly, to a gas distributing device for a radial reactor which can uniformly distribute gas in a radial direction as well as an axial direction, And to reduce the process unit cost by shortening the fluid stagnation time.

매우 다양한 공정이 유체와 고체간의 접촉을 제공하는 방사 반응기(radial reactor)를 사용한다. 고체는 통상 유체와 반응을 일으켜 생성물을 형성하는 촉매를 포함한다. 상기 공정은 탄화수소 전환, 가스 처리 및 분리용 흡착을 포함하는 광범위한 범위의 공정들을 포함한다. A wide variety of processes use radial reactors to provide fluid-to-solid contact. Solids usually include a catalyst that reacts with a fluid to form a product. The process includes a wide range of processes including hydrocarbon conversion, gas treatment and adsorption for separation.

방사 반응기는 반응기가 환상 구조를 갖고 환상 분배 및 회수 장치를 포함한다. 분배 및 수집 디바이스는 스크린을 포함한다. 스크린은 촉매상 (catalyst bed)을 적소에 유지하고 반응기 베드를 통한 방사류를 용이하게 하도록 반응기 표면에 걸친 압력의 분배를 보조하기 위한 것이다. 스크린은 와이어나 다른 재료의 망 또는 펀칭된 플레이트일 수 있다. 이동상의 경우, 스크린 또는 망은 고체 촉매 입자의 손실을 방지하는 한편, 유체가 이동상을 통해 흐르게 하는 배리어를 제공한다. The radial reactor includes a cyclic distribution and recovery apparatus in which the reactor has an annular structure. The dispensing and collecting device comprises a screen. The screen is intended to assist in the distribution of pressure across the reactor surface to maintain the catalyst bed in place and facilitate the radial flow through the reactor bed. The screen may be a mesh or punched plate of wire or other material. In the case of a mobile phase, the screen or net provides a barrier that allows fluid to flow through the mobile phase while preventing loss of solid catalyst particles.

방사 반응기의 종래 기술 구성에서, 반응기의 외벽과 외부 스크린 사이에 포함되는 환상 반응 구역에서의 공급물의 분산은 많은 문제를 겪고 있다. 촉매는 다양한 가열/냉각 작업 상태 동안 그리고 장치의 긴급한 정지 동안 상기 환상 반응 구역에 가둬져야만 한다. 환상 반응 구역 내에 보유된 촉매에 공급 가스가 충분히 공급되지 않을 경우에 일부 영역의 촉매의 비활성화가 촉진되고 반응 생성물의 선택도가 저하되는 문제가 있다. In the prior art configuration of a radial reactor, the dispersion of the feed in the annular reaction zone contained between the outer wall of the reactor and the outer screen suffers from many problems. The catalyst must be trapped in the annular reaction zone during various heating / cooling operation conditions and during an emergency stop of the apparatus. There is a problem that when the feed gas is not sufficiently supplied to the catalyst held in the annular reaction zone, the deactivation of the catalyst in the partial region is promoted and the selectivity of the reaction product is lowered.

또한 환상 반응 구역 내의 촉매 입자에 반응 가스가 균일하게 제공되지 않고, 불용 공간(dead volume)이 생길 경우에, 유체의 정체 시간이 연장되어 공정 원단위가 증가되는 문제가 있다.
In addition, when the reaction gas is not uniformly supplied to the catalyst particles in the annular reaction zone and a dead volume is generated, there is a problem that the stagnation time of the fluid is prolonged and the process unit intensity is increased.

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제를 해소하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 방사 반응기의 반응 효율을 향상시킬 수 있는 가스분산장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a gas dispersion apparatus capable of improving the reaction efficiency of a spinning reactor.

본 발명의 다른 목적은 가스분산관들의 불용공간(dead volume)을 최소화하여 유체 정체 시간 단축에 의한 공정 원단위를 절감할 수 있는 가스분산장치를 제공하는 것이다. It is another object of the present invention to provide a gas dispersion device capable of minimizing the dead volume of the gas dispersion pipes and reducing the process unit cost by shortening the fluid stagnation time.

본 발명의 또 다른 목적은 방사 반응기에 공급되는 가스를 보다 효율적으로 분산시켜 반응 구역 내의 촉매 용적의 더 양호한 사용에 의해 생산 수율 및 효율성을 향상시킨 방사 반응기를 제공하는 것이다.
It is another object of the present invention to provide a spinning reactor in which the gas supplied to the spinning reactor is more efficiently dispersed to improve production yield and efficiency by better use of the catalyst volume in the reaction zone.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은 According to one aspect of the present invention for achieving the above object,

하나 이상의 긴 가스분산관들이 인접하여 단일의 열로 원주를 따라 원형으로 반복 배열되는 방사 반응기용 가스분산장치에 있어서, 1. A gas distributor for a radial reactor in which one or more long gas distribution tubes are arranged in a circular fashion along a circumference with a single row adjacent to each other,

상기 가스분산관들은 The gas distribution tubes

하나 이상의 면(side)에 형성된 가스를 분산해서 배출하는 하나 이상의 다공분산판; At least one multicomponent plate for dispersing and discharging gas formed on one or more sides;

가스가 유출되는 부분에 있어서 상기 가스분산관의 단면적이 점차 감소되도록 구성된 감폭부; 및 And a cross-sectional area of the gas distribution pipe gradually decreases in a portion where the gas flows out; And

상기 가수분산관의 외부에 형성된 외측으로 확장되는 확장곡면부를 포함하는 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치에 관한 것이다.And an expanded curved surface portion extending outwardly formed on the outer side of the hydrodispersion tube.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은 According to another aspect of the present invention for achieving the above object,

방사 반응기 장치에 있어서, 반응기 내부를 형성하는 반응기 하우징, 상기 반응기 내부로 유체 스트림을 공급하기 위한 반응기 유입구, 반응기 중심을 방사상으로 둘러싸고 있으며, 촉매 입자의 촉매상을 유지하면서 유체의 유동은 허용토록 적당한 메쉬 크기의 다공성 물질로 된 동심원상의 내외부 스크린에 의하여 한정되는 환상 반응 구역, 상기 반응기 내부로부터 상기 촉매상을 통하여 방사상으로 상기 유체 스트림을 유동시켜 발생되는 생성물을 회수하기 위한 반응기 유출구를 포함하는 방사 반응기에 있어서, A radial reactor apparatus comprising: a reactor housing defining an interior of a reactor, a reactor inlet for supplying a fluid stream into the reactor, and a reactor core radially surrounding the reactor core, A radial reactor comprising a cyclic reaction zone defined by concentric inner and outer screens of mesh size porous material, a reactor outlet for withdrawing products generated by flowing the fluid stream radially through the catalyst bed from within the reactor In this case,

상기 내외부 스크린 가운데 하나 이상에 인접하여 본 발명의 가스분산장치가 설치된 것을 특징으로 하는 방사 반응기에 관한 것이다.
And a gas dispersing apparatus of the present invention is installed adjacent to at least one of the inner and outer screens.

본 발명의 장치에 의하면 가스분산관 구조물의 상/하간 형태를 변화시켜서 이를 통하여 반응기 내부 상/하간 유동 속도 편차를 최소화할 수 있다. 또한 기존의 가스분산 장치들은 반응기 유입구 가스를 반응기 상단에서 방사 방향으로만 균일 분산하는 역할을 하는 구조인데 반하여, 본 발명의 가스분산 장치는 방사 방향은 물론 반응기의 장축 방향으로도 균일하게 가스를 분산시켜, 촉매상을 더 충분하게 사용하게 하여 반응의 수율과 생산성을 향상시킬 수 있다. According to the apparatus of the present invention, it is possible to change the top / bottom shape of the gas distribution tube structure, thereby minimizing the deviation of the upstream / downstream flow velocity inside the reactor. In addition, the conventional gas distributing apparatuses are structured to uniformly distribute the reactor inlet gas only in the radial direction at the upper end of the reactor, while the gas distributing apparatus of the present invention distributes the gas uniformly in the radial direction as well as in the longitudinal direction of the reactor , So that the catalyst phase can be used more sufficiently to improve the yield and productivity of the reaction.

또한 본 발명의 가스분산장치는 가스분산관들 사이의 불용공간(dead volume)을 최소화하여 유체 정체 시간 단축에 의해 공정 원단위를 절감할 수 있다. In addition, the gas distributing apparatus of the present invention minimizes the dead volume between the gas distribution tubes and can reduce the process unit cost by shortening the fluid congestion time.

더욱이, 본 발명의 가스분산 장치는 반응기 유입구 또는 유출구를 모두 사용하여 가스 분산을 용이하게 하기 위한 구조여서 다양한 반응기 구조에 가스 분산을 위한 장치로 폭 넓게 사용할 수 있다.
Furthermore, the gas distributing apparatus of the present invention can be widely used as an apparatus for gas dispersion in various reactor structures, since it is a structure for facilitating gas dispersion by using both the reactor inlet or the outlet.

도 1 은 본 발명의 일 실시예에 의한 가스 분산 장치의 평면개략도이다.
도 2(a)-(f)는 본 발명의 다양한 실시예의 가스 분산 장치의 측단면 개략도이다.
도 3(a)-(d)는 다공분산판이 없는 실시예의 가스 분산 장치의 측단면 개략도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예의 방사 반응기의 개략단면도이다.
1 is a schematic plan view of a gas distribution device according to an embodiment of the present invention.
Figures 2 (a) - (f) are side cross-sectional schematic views of gas distribution apparatuses of various embodiments of the present invention.
Figures 3 (a) - (d) are side cross-sectional schematic views of a gas distributor of an embodiment without a polycondensate plate.
4 is a schematic cross-sectional view of a spinning reactor of another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 목적과 이점들은 이후의 설명에서 명확하게 될 것이다. 따라서, 본 발명은 다음의 설명이나 도면에서 예시된 바와 같은 여러 구성요소, 그리고 이들의 관계를 포함하는 장치로 구성되나, 이로써 본 발명이 제한되는 것은 아니다. Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description. Accordingly, the present invention is intended to be limited only by the following description and drawings, but is not limited thereto.

도 1 은 본 발명의 일 실시예에 의한 가스 분산 장치의 평면개략도이고, 도 2(a)-(f)는 본 발명의 다양한 실시예의 가스 분산 장치의 측단면 개략도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic plan view of a gas distributor according to an embodiment of the invention, and FIGS. 2 (a) - (f) are schematic side cross-sectional views of gas distributors of various embodiments of the invention.

본 발명의 가스분산장치(100)는 하나 이상의 긴 가스분산관들(110)이 인접하여 단일의 열로 원주를 따라 원형으로 반복 배열되는 방사 반응기용 가스분산장치로서, The gas distributing apparatus (100) of the present invention is a gas distributing apparatus for a radial reactor in which one or more long gas distributing pipes (110) are arranged in a circular shape along a circumference in a single row adjacent to each other,

상기 가스분산관들(110)은 하나 이상의 면(side)에 형성된 가스를 분산해서 배출하는 하나 이상의 다공분산판(120); 가스가 유출되는 부분에 있어서 상기 가스분산관의 단면적이 점차 감소되도록 구성된 감폭부(140); 및 상기 가수분산관의 외부에 형성된 외측으로 확장되는 확장곡면부(150)를 포함한다. 이러한 확장곡면부(150)는 가스분산관 하단부까지 이어져서 전체적으로 외측으로 확장되는 곡면부(150')를 형성한다. The gas distribution tubes (110) include at least one multicomponent plate (120) for dispersing and discharging gas formed on one or more sides. (140) configured to gradually decrease the cross-sectional area of the gas distribution pipe at a portion where the gas flows out; And an expanded curved surface portion 150 extending outwardly and formed outside the hydrodispersion tube. The enlarged curved surface portion 150 forms a curved surface portion 150 'extending to the lower end of the gas dispersion pipe and extending outward as a whole.

이러한 가스분산장치(100)는 촉매상의 최선의 사용을 얻기 위해 최적화된다. This gas distributor 100 is optimized to obtain the best use of the catalyst.

방사 반응기에서 촉매상은 내부 및 외부 스크린에 의해서 한정된다. 내부 및 외부 스크린은 외부 스크린 측의 환상 촉매상 안으로의 공급물의 통과 그리고 내부 스크린 측의 중앙 수집기 안으로의 생성물의 통과를 가능하게 하도록 다공성이다. 기체 공급물은 반응기의 정상부를 통하여 들어가고 반응기의 외벽과 외부 스크린 사이에 위치되는 분산 구역에서 분산되고, 그 후 실질적으로 방사상의 방식으로 환상 촉매상을 가로지른다. 촉매상을 가로지른 후에, 반응 생성물은 촉매를 유지하는 내부 스크린을 통하여 수직 원통형 수집기에 수집된다. In the spinning reactor, the catalyst phase is defined by the inner and outer screens. The inner and outer screens are porous to allow passage of the feed into the annular catalyst bed on the outer screen side and passage of the product into the central collector on the inner screen side. The gaseous feed enters the top of the reactor and is dispersed in a dispersion zone located between the outer wall of the reactor and the outer screen, and then traverses the annular catalyst bed in a substantially radial manner. After crossing the catalyst bed, the reaction product is collected in a vertical cylindrical collector through an inner screen holding the catalyst.

본 발명의 가스분산 장치(100)는 반응기의 외벽과 외부 스크린 사이의 분산 구역에 설치될 수 있다. 가스분산관들(110)이 원형으로 단일의 열로 촉매상 둘레에 원형으로 배열되고, 각 가스분산관(110)의 정면(120)은 가스를 분산 분배하기 위한 다수의 통기공들(125)이 형성된 다공분산판(120)으로 구성된다. 이러한 통기공들의 직경은 0.3 ~ 6 cm 정도이다. The gas distributing apparatus 100 of the present invention can be installed in a dispersion zone between the outer wall of the reactor and the outer screen. The gas distribution tubes 110 are circularly arranged in a single row around the catalyst bed and the front surface 120 of each gas distribution tube 110 has a plurality of vent holes 125 for distributing gas And a multi-covariance plate 120 formed thereon. The diameter of these vent holes is about 0.3 to 6 cm.

본 발명에서 가스분산관(110)은 상기 다공분산판과 대향하는 면의 가스 유출구 부분에 형성된 방사 반응기의 반응 구역으로 경사진 경사면(140)을 구비하여, 상기 가스분산관(110)의 단면적이 가스가 유출되는 부분에서 점차 감소되는 감폭부로 구성된다. 상기 경사면(140)의 경사각은 약 2°~ 30°이다. In the present invention, the gas dispersion pipe (110) has a sloped surface (140) inclined to the reaction zone of the radiation reactor formed on the gas outlet portion of the surface facing the polycross spiral plate, and the sectional area of the gas dispersion pipe And a decreasing width portion which gradually decreases in a portion where the gas flows out. The inclination angle of the inclined surface 140 is about 2 to 30 degrees.

상기 경사면(140)은 가스분산관(110)의 상부 또는 하부에 위치될 수 있는데, 가스가 하부로 배출되는 경우에는 경사면(140)이 도 2(a)에 도시된 바와 같이 가스분산관(110)의 하부에 형성되고, 가스가 상부로 배출되는 경우에는, 도 2(b)에 도시된 바와 같이, 상기 경사면(141)이 상부에 형성될 수 있다. The inclined surface 140 may be positioned at an upper portion or a lower portion of the gas distribution pipe 110. When the gas is discharged downwardly, And when the gas is discharged upward, the inclined surface 141 may be formed on the upper portion as shown in FIG. 2 (b).

상기 다공분산판(120)은 방사 반응기의 반응 구역으로 가스를 분배하기 위한 것으로, 스크린과 접하는 면에 주로 형성되지만, 실시예에 따라서는 도 2(c) 및 2(d)에 도시된 바와 같이, 가스가 분배되는 정면(120)과 양 측면(130)에 형성될 수 있다. 즉, 정면(120)에 통기공들(125)이 형성되고, 측면에도 통기공들(135)이 형성될 수 있다. 이와 같이 양 측면(130)이 다공분산판으로 구성되는 경우에는 이웃하는 가스분산관들(110)의 측면의 통기공들(135)끼리 서로 유체 연통되도록 구성된다. The polycondensation plate 120 is mainly for distributing the gas to the reaction zone of the spinning reactor and is formed on the surface in contact with the screen. However, as shown in FIGS. 2 (c) and 2 (d) , And may be formed on the front surface 120 and both side surfaces 130 where the gas is distributed. That is, the ventilation holes 125 may be formed in the front surface 120 and the ventilation holes 135 may be formed in the side surfaces. In the case where the both side surfaces 130 are formed of a polycondensation plate, the ventilation holes 135 on the side surfaces of the adjacent gas distribution tubes 110 are configured to be in fluid communication with each other.

본 발명의 가스분산장치에서 상기 경사면은, 도 2(c)에 도시된 바와 같이, 완만한 경사 곡면(142)으로 형성될 수도 있다. 또한 상기 경사면(140)은, 도 2(f)에 도시된 바와 같이, 경사각이 상이한 여러 개의 경사면으로 구성될 수 있다. 이 경우에 상기 경사면의 상이한 경사각은 가스 배출구로 갈수록 경사각이 증가하도록 구성될 수 있다. 예를 들어 경사면 144의 경사각은 2도 내지 30도이고, 경사면 145의 경사각은 5도 내지 45도일 수 있다. In the gas distributing apparatus of the present invention, the inclined surface may be formed with a gently inclined curved surface 142 as shown in Fig. 2 (c). 2 (f), the inclined surface 140 may be formed of a plurality of inclined surfaces having different inclination angles. In this case, the different inclination angle of the inclined surface may be configured to increase the inclination angle toward the gas outlet. For example, the inclination angle of the inclined plane 144 may be 2 to 30 degrees, and the inclination angle of the inclined plane 145 may be 5 to 45 degrees.

상기 확장곡면부(150)는 각각의 가스분산관들 사이의 불용공간(dead volume)을 최소화하여 환상 반응 구역 내에서의 촉매 입자들의 정체 시간을 단축시키고, 이에 따라서 공정 원단위를 절감할 수 있게 한다. 상기 확장곡면부(150)는 가스분산관(110)의 하단부까지 연장되고, 곡면의 형상은 특별히 제한되지 않고, 타원형, 로브형 등의 임의의 형상을 가질 수 있다. The enlarged curved portion 150 minimizes the dead volume between the respective gas dispersion pipes, thereby shortening the stagnation time of the catalyst particles in the annular reaction zone, thereby reducing the process unit load . The expanded curved surface portion 150 extends to the lower end of the gas dispersion tube 110. The shape of the curved surface is not particularly limited and may have any shape such as elliptical or lobed.

본 발명의 가스분산 장치는 반응기 유입구 또는 유출구를 모두 사용하여 가스 분산을 용이하게 하기 위한 구조이다. 상기 다공분산판은 내면을 형성하며, 상기 경사면이 있는 대향면은 외면을 형성하도록 구성되거나, 상기 다공분산판은 외면을 형성하며, 상기 경사면이 있는 대향면은 내면을 형성하도록 구성될 수 있다. 본 발명의 다른 양상의 가스분산장치는 다공분산판(120)을 포함하지 않을 수 있다. 방사 반응기의 스크린과 당접되는 경우에는 외부 스크린이 다공분산판(120)의 기능을 수행하게 되기 때문에, 도 3(a) 내지 (d)에 도시된 바와 같이 다공분산판이 생략될 수 있다. 이러한 실시예의 가스분산장치의 경우에도 경사면의 위치는 상부 또는 하부에 형성될 수 있고(도 3(a)-(b)), 도 3(c)에 도시된 바와 같이, 경사면(142)이 곡면으로 형성되거나 다단의 경사면(144, 145)으로 구성될 수 있다. The gas distributing apparatus of the present invention is a structure for facilitating gas dispersion by using both the reactor inlet and the outlet. The polycultainer plate forms an inner surface, the opposed surface having the inclined surface forms an outer surface, or the polycultainer plate forms an outer surface, and the opposed surface having the inclined surface may be configured to form an inner surface. The gas dispersing apparatus of another aspect of the present invention may not include the polycondensation plate 120. In case of contacting with the screen of the spinning reactor, the outer screen performs the function of the covariance plate 120, so that the covariance plate can be omitted as shown in Figs. 3 (a) to 3 (d). 3 (a) - (b)). As shown in Fig. 3 (c), the inclined surface 142 is formed in a curved surface Or may be composed of a plurality of inclined surfaces 144, 145.

본 발명의 다른 양상은 이상에서 설명한 가스분산장치를 포함하는 방사 반응기에 관한 것이다.Another aspect of the present invention relates to a spinning reactor comprising the gas dispersing apparatus described above.

도 4 본 발명의 일 실시예의 탈수소화 반응기가 개략적으로 도시되어 있다. 도 4 참조하면, 본 발명의 일 실시예의 탈수소화 반응기는 반응기 내부로 유체 반응물을 공급하기 위한 반응기 유입구(21), 및 상기 반응기 내부로부터 생성물을 배출하는 반응기 유출구를 포함하는 긴 하우징(20); 상기 하우징 내부에 수용되고, 촉매 입자의 촉매 베드를 유지하여 환상 반응 구역(25)을 한정하는 다공체로 구성된 내부 스크린(23) 및 외부 스크린(24); 상기 내부 스크린(23)과 이격되어 상기 하우징(20)의 내부 중앙에 배치되는, 천공된 표면에서 유체를 촉매 베드로 균일하게 분배하는 가스 분산 장치(100) 를 포함한다. Figure 4 is a schematic representation of a dehydrogenation reactor of an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the dehydrogenation reactor of one embodiment of the present invention includes a long housing 20 including a reactor inlet 21 for supplying a fluid reactant into the reactor, and a reactor outlet for discharging product from the reactor interior. An inner screen (23) and an outer screen (24) comprised of a porous body received within the housing and holding a catalyst bed of catalyst particles to define a annular reaction zone (25); And a gas distributor (100) that is spaced apart from the inner screen (23) and disposed in the interior center of the housing (20) to uniformly distribute the fluid from the perforated surface to the catalyst bed.

본 발명의 방사 반응기는 내부 및 외부 스크린에 의해서 한정되는 환상 반응 구역(25)에 촉매 입자를 포함하고, 환상 반응 구역(25)은 느린 중력의 유동 하에 촉매입자로 채워져 있다. 내부 및 외부 스크린(23, 24)은 원통형이고 동심원상인 벽 부분은 유동저항이나 큰 압력 강하 없이 유체 스트림이 통과할 수 있을 정도로 크나 이에 수용된 촉매 입자는 통과하지 않고 수용된 상태에 놓일 수 있을 정도로 작은 메쉬크기를 갖는 스크린 또는 다공체로 구성된다. The radial reactor of the present invention comprises catalyst particles in an annular reaction zone (25) defined by inner and outer screens, and the annular reaction zone (25) is filled with catalyst particles under slow gravity flow. The inner and outer screens 23 and 24 are cylindrically and concentrically shaped so that the walls of the wall are large enough to allow the fluid stream to pass without flow resistance or large pressure drop so that the accommodated catalyst particles do not pass through, Size or a porous body.

상기 가스분산관(110)은 유체의 유동을 위해 다수의 통기공이 형성된 다공판 구조를 포함한다. 가스분산관(110)은 상술한 바와 같이 하단부는 반응기 하부로 갈수록 단면 직경이 감소하는 끝이 감폭부(140)로 구성된다. 가스분산관(110)은 환상 반응 구역(25)의 천공된 표면에 전체에 걸쳐 상하로 균일한 방식으로의 유체 분배를 제공하게 된다. 가스분산관(110)은 확장곡면부(150)에 의해서 반응물의 고온 체류 시간을 감소시킴으로써 공급물의 비선택적 열 분해를 감소시켜 선택도를 향상시킬 수 있고, 유체 정체 시간을 단축시켜 공정 원단위를 절가시킬 수 있다. The gas distribution pipe 110 includes a perforated plate structure having a plurality of ventilation holes for fluid flow. As described above, the gas dispersion pipe 110 is composed of the narrow width portion 140 having a lower end reduced in cross-sectional diameter toward the lower portion of the reactor. The gas distribution tube 110 provides a fluid distribution in a top-to-bottom uniform manner throughout the perforated surface of the annular reaction zone 25. [ The gas dispersion tube 110 reduces the non-selective thermal decomposition of the feed by reducing the high-temperature residence time of the reactants by the enlarged curved surface portion 150, thereby improving the selectivity and shortening the fluid stagnation time, .

촉매 입자들은 반응기의 상부 부분 안으로 개방되는 다수의 유입관을 사용하여 반응 구역의 상부 부분 안으로 유입되고, 촉매는 반응 구역의 하부 부분에 위치되는 다수의 회수관을 통하여 배출된다. 기체 공급물은 가스분산관(110)에 분산되어 환상 반응 구역(25) 내의 촉매상으로 유입된다. 촉매 입자들은 일반적으로는 이동상으로서 환상 반응 구역(25)에서, 약 시간 당 0.5~2 미터의 비교적 느린 속도로 중력의 방식으로 이동한다. 촉매 입자들은 따라서 공급물 가스분산관(100) 주위를 이동할 수 있다. 반응 생성물은 따라서 배출관에 연결되는 반응로 중심(50)을 통하여 반응기로부터 배출된다.The catalyst particles are introduced into the upper portion of the reaction zone using a plurality of inlet tubes opening into the upper portion of the reactor and the catalyst is exhausted through a plurality of return tubes located in the lower portion of the reaction zone. The gas feed is dispersed in the gas dispersion tube (110) and flows into the catalyst bed in the annular reaction zone (25). The catalyst particles generally migrate in the annular reaction zone 25 as a mobile phase in a gravitational manner at a relatively slow rate of about 0.5 to 2 meters per hour. The catalyst particles can thus travel around the feed gas distribution tube 100. The reaction product is thus discharged from the reactor via a reaction furnace center 50 which is connected to a discharge line.

비록 도 1은 반응물 유체 스트림이 반응기의 상측으로부터 공급되고 생성물이 반응기의 하측으로부터 회수되는 것으로 도시되어 있으나, 이러한 배열은 이와 같은 반경류 장치의 작동에 영향을 주지 않고 역으로 배열될 수 있음을 이해할 것이다. 이와 같이, 반응물 유체 스트림을 반응기의 하측으로부터 공급하고 반응기의 상측으로부터 생성물을 회수하는 것도 본 발명의 범위 내에 속하는 것이다.Although Figure 1 shows a reactant fluid stream being fed from above the reactor and the product being withdrawn from the bottom of the reactor, it is understood that this arrangement can be reversed without affecting the operation of such radial flow devices will be. Thus, it is within the scope of the present invention to supply the reactant fluid stream from the lower side of the reactor and to recover the product from the upper side of the reactor.

이상의 본 발명에 있어서, 통상의 기술자라면 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 상기 언급된 장치로부터 다른 변경이나 수정이 이루어질 수 있음을 이해할 것이며, 이상으로 설명한 내용들은 본 발명의 설명을 위한 것으로 어떠한 제한을 두고자 하는 것이 아님을 이해할 것이다. It will be appreciated by those of ordinary skill in the art that other changes or modifications may be made to the above-described apparatus without departing from the scope of the present invention, and that the foregoing description is intended to illustrate, I do not want to leave it.

100: 가스분산장치 110: 가스분산관
120: 다공분산판 130 : 측면
125, 135: 통기공
140, 141, 142, 143, 144, 145: 경사면
150, 150': 확장곡면부
100: gas distributor 110: gas distributor
120: multicomponent plate 130: side
125, 135:
140, 141, 142, 143, 144, 145:
150, 150 ': extended curved surface portion

Claims (12)

하나 이상의 긴 가스분산관들이 인접하여 단일의 열로 원주를 따라 원형으로 반복 배열되는 방사 반응기용 가스분산장치에 있어서, 상기 가스분산관들은
하나 이상의 면(side)에 형성된 가스를 분산해서 배출하는 하나 이상의 다공분산판;
가스가 유출되는 부분에 있어서 상기 가스분산관의 단면적이 점차 감소되도록 구성된 감폭부; 및
상기 가수분산관의 외부에 형성된 외측으로 확장되는 확장곡면부를 포함하는 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
A gas distributor for a radial reactor in which one or more long gas distribution tubes are arranged adjacent to one another in a circular pattern along a circumference in a single row,
At least one multicomponent plate for dispersing and discharging gas formed on one or more sides;
And a cross-sectional area of the gas distribution pipe gradually decreases in a portion where the gas flows out; And
And an expanding curved surface portion extending outwardly formed on an outer side of the hydrodistribution tube.
제1항에 있어서, 상기 감폭부는 가스분산관의 상부에 형성된 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
The gas dispersion apparatus for a radial reactor according to claim 1, wherein the narrowing portion is formed on an upper portion of the gas distribution tube.
제1항에 있어서, 상기 감폭부는 상기 가스분산관의 하부에 형성된 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
The gas distributor for a radial reactor as claimed in claim 1, wherein the narrowing portion is formed in a lower portion of the gas distribution pipe.
제1항에 있어서, 상기 다공분산판이 정면과 양 측면에 형성된 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
The gas dispersion apparatus for a radial reactor according to claim 1, wherein the polycondensation plate is formed on the front surface and both sides.
제1항에 있어서, 상기 감폭부의 경사면은 완만한 경사 곡면으로 형성된 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
The gas distributor for a radial reactor according to claim 1, wherein the inclined surface of the narrowed portion is formed in a gently sloping curved surface.
제1항에 있어서, 상기 감폭부의 경사면은 경사각이 상이한 다단의 경사면으로 구성되는 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
The gas distributor for a radial reactor according to claim 1, wherein the inclined surface of the narrowed portion is composed of a multistage inclined surface having different inclination angles.
제6항에 있어서, 상기 상이한 경사각은 가스 배출구로 갈수록 경사각이 증가하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
7. The gas dispersion apparatus for a radial reactor according to claim 6, wherein the different inclination angle is configured to increase the inclination angle toward the gas outlet.
제1항에 있어서, 상기 다공분산판은 내면을 형성하며, 상기 감폭부의 경사면이 있는 대향면은 외면을 형성하는 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
The gas dispersion apparatus for a radial reactor according to claim 1, wherein the polycultural plate forms an inner surface, and the facing surface having the inclined surface of the width portion forms an outer surface.
제1항에 있어서, 상기 다공분산판은 외면을 형성하며, 상기 감폭부의 경사면이 있는 대향면은 내면을 형성하는 것을 특징으로 하는 방사 반응기용 가스분산장치.
The gas dispersion apparatus for a radial reactor according to claim 1, wherein the polycondensation plate forms an outer surface, and the facing surface having the inclined surface of the width portion forms an inner surface.
방사 반응기 장치에 있어서, 반응기 내부를 형성하는 반응기 하우징, 상기 반응기 내부로 유체 스트림을 공급하기 위한 반응기 유입구, 반응기 중심을 방사상으로 둘러싸고 있으며, 촉매 입자의 촉매상을 유지하면서 유체의 유동은 허용토록 적당한 메쉬 크기의 다공성 물질로 된 동심원상의 내외부 스크린에 의하여 한정되는 환상 반응 구역, 상기 반응기 내부로부터 상기 촉매상을 통하여 방사상으로 상기 유체 스트림을 유동시켜 발생되는 생성물을 회수하기 위한 반응기 유출구를 포함하는 방사 반응기에 있어서,
상기 내외부 스크린 가운데 하나 이상에 인접하여 상기 제1항 내지 제9항 중 하나의 가스분산장치가 설치된 것을 특징으로 하는 방사 반응기.
A radial reactor apparatus comprising: a reactor housing defining an interior of a reactor, a reactor inlet for supplying a fluid stream into the reactor, and a reactor core radially surrounding the reactor core, A radial reactor comprising a cyclic reaction zone defined by concentric inner and outer screens of mesh size porous material, a reactor outlet for withdrawing products generated by flowing the fluid stream radially through the catalyst bed from within the reactor In this case,
Characterized in that one of the first to the ninth gas distributing apparatus is installed adjacent to at least one of the inner and outer screens.
제10항에 있어서, 상기 가스분산장치가 촉매상 내벽 또는 상기 촉매상 외벽 또는 이들 모두에 근접하여 원형으로 배열되는 것을 특징으로 하는 방사 반응기.
11. The spinning reactor as claimed in claim 10, wherein the gas distributing device is circularly arranged in close proximity to the catalyst bed inner wall or the catalyst outer wall or both.
제10항에 있어서, 상기 촉매상의 스크린과 상기 가스분산장치가 당접하는 경우에 상기 다공분산판이 생략되는 것을 특징으로 하는 방사 반응기. 11. The spinning reactor as claimed in claim 10, wherein the polycondensation plate is omitted when the gas-dispersing device and the screen on the catalyst come into contact with each other.
KR1020140186321A 2014-12-22 2014-12-22 Gas dispensing device for radial reactor KR101672600B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140186321A KR101672600B1 (en) 2014-12-22 2014-12-22 Gas dispensing device for radial reactor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140186321A KR101672600B1 (en) 2014-12-22 2014-12-22 Gas dispensing device for radial reactor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160077351A true KR20160077351A (en) 2016-07-04
KR101672600B1 KR101672600B1 (en) 2016-11-04

Family

ID=56500811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140186321A KR101672600B1 (en) 2014-12-22 2014-12-22 Gas dispensing device for radial reactor

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101672600B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114558521A (en) * 2022-03-10 2022-05-31 无锡碳谷科技有限公司 Layered material distribution moving bed reaction device and use method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008073743A1 (en) * 2006-12-15 2008-06-19 Uop Llc Angle rod screen design
KR20090101185A (en) * 2006-12-19 2009-09-24 바스프 에스이 Reactor for carrying out a continuous oxide hydrogenation, and method
KR20140013986A (en) * 2012-07-25 2014-02-05 악상스 Continuous catalyst regeneration reactor with a chamber for mixing gas and distributing gas in the oxychlorination zone

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008073743A1 (en) * 2006-12-15 2008-06-19 Uop Llc Angle rod screen design
KR20090101185A (en) * 2006-12-19 2009-09-24 바스프 에스이 Reactor for carrying out a continuous oxide hydrogenation, and method
KR20140013986A (en) * 2012-07-25 2014-02-05 악상스 Continuous catalyst regeneration reactor with a chamber for mixing gas and distributing gas in the oxychlorination zone

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114558521A (en) * 2022-03-10 2022-05-31 无锡碳谷科技有限公司 Layered material distribution moving bed reaction device and use method
CN114558521B (en) * 2022-03-10 2023-01-10 无锡碳谷科技有限公司 Layered material distribution moving bed reaction device and use method

Also Published As

Publication number Publication date
KR101672600B1 (en) 2016-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI652111B (en) Multi-tube radial bed reactor
KR101794495B1 (en) Device for distributing feed and recovering effluents in a radial bed catalytic reactor
US9636654B2 (en) Modifying flow of a reactor inlet distributor
JP6173744B2 (en) Catalytic reactor with quenching device with tangential injection of quenching liquid
JP2019051504A (en) Fixed bed or movable bed reactor including improved inside structure and having radius flow of process flow to be improved
CN105582857B (en) A kind of gas-liquid-solid phase reaction device and its application method
KR101941727B1 (en) Gas dispensing device for radial reactor
US10384181B2 (en) Tapered conduits for reactors
KR101672600B1 (en) Gas dispensing device for radial reactor
JP7158412B2 (en) Novel apparatus for dispensing multiphase mixtures in chambers containing flowing media
CN105935576B (en) Collector assembly for gaseous fluids for radial reactors
US8506796B2 (en) Fluid distribution in radial flow reactors including moving bed reactors
KR101672601B1 (en) Dehydogenation reactor
KR101670144B1 (en) Gas dispensing device for dehydogenation reactor
US20110123412A1 (en) Centerpipe Design for Radial Flow Reactor
US3533754A (en) Radial flow catalytic reactor for mixed phase contacting
KR101651755B1 (en) Dehydogenation reactor
KR101652597B1 (en) Catalyst screen with reinforced plates
KR101651748B1 (en) Dehydogenation reactor
KR101605974B1 (en) Dehydogenation reactor
CN107224939B (en) Axial reactor
KR101921430B1 (en) Dehydogenation reactor
KR101846099B1 (en) Dehydrogenation reactor
KR20150080869A (en) Fluid distributor and multi trickle-bed catalytic reactors with the same
WO2017105284A1 (en) System for dehydrogenating с3-с5 paraffin hydrocarbons

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190916

Year of fee payment: 4