KR20160072025A - 백색 상 변화 잉크 조성물 - Google Patents

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KR20160072025A
KR20160072025A KR1020150171638A KR20150171638A KR20160072025A KR 20160072025 A KR20160072025 A KR 20160072025A KR 1020150171638 A KR1020150171638 A KR 1020150171638A KR 20150171638 A KR20150171638 A KR 20150171638A KR 20160072025 A KR20160072025 A KR 20160072025A
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Abstract

백색 상 변화 잉크 조성물은 상 변화 잉크 전색제; 및 표면을 가지는 백색 착색제와 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함한다. 잉크젯 프린터 스틱 또는 펠렛은 고분자 분산제로 처리된 백색 착색제를 함유한 백색 상 변화 잉크 조성물을 포함한다.

Description

백색 상 변화 잉크 조성물{WHITE PHASE CHANGE INK COMPOSITION}
본원에 백색 상 변화 잉크 조성물이 개시되고 잉크 전색제; 및 고분자 분산제로 처리된 백색 착색제를 포함한다.
백색 상 변화 잉크 조성물은 다양한 산업 분야에서 사용될 수 있다. 이러한 분야 중 하나는 포장용 판지 상에 바코드를 인쇄하는 것이다.
그러나, 상업적으로 입수 가능한 만족할 만한 상 변화 백색 잉크 조성물이 알려져 있지 않다. 만족스러운 백색 상 변화 잉크 조성물과 관련된 문제는 프린터에서 용융 상태로 있는 동안 불량한 안정성을 포함한다. 따라서, 백색 상 변화 잉크 조성물, 특히 포장용 판지에 바코드 인쇄와 같은 분야에서 사용에 적합한 양호한 안정성을 가지는 잉크에 대한 필요성이 존재한다.
상 변화 잉크 전색제; 및 표면을 가지는 백색 착색제, 및 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함하는 백색 상 변화 잉크 조성물이 기술된다.
또한 백색 상 변화 잉크 조성물을 포함하는 잉크젯 프린터 스틱 또는 펠렛이 기재되고, 백색 상 변화 잉크 조성물은 상 변화 잉크 전색제; 및 표면을 가지는 백색 착색제, 및 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함한다.
도 1은 본 발명의 백색 상 변화 잉크 조성물에 대한 120 ℃에서 점도 (y-축, 센티포와즈) 대 120 ℃에서의 가열 (cooking) 시간 (x-축, 시간)을 보이는 그래프이다.
도 2는 본 발명의 백색 상 변화 잉크 조성물 (x-축)에 대한 나노미터 단위의 Z-평균 입자 크기 (y-축)를 보이는 그래프이다.
도 3은 본 발명의 백색 상 변화 잉크 조성물 (x-축)에 대한 다분산 지수 (y-축)를 보이는 그래프이다.
도 4는 미-인쇄 용지 및 본 발명의 백색 상 변화 잉크로 인쇄된 용지에 대한 반사율 (y-축) 대 파장 (나노미터)을 보이는 그래프이다.
도 5는 청색 용지 상에 본 발명의 백색 상 변화 잉크 조성물의 중실 영역 (solid field)에 대한 반사율 (y-축) 대 파장 (x-축, 나노미터)을 보이는 그래프이다.
도 6은 포도색 용지 상에 본 발명의 백색 상 변화 잉크 조성물의 중실 영역에 대한 반사율 (y-축) 대 파장 (x-축, 나노미터)을 보이는 그래프이다.
특히 다양한 산업 분야에서 적합한 백색 상 변화 잉크 조성물이 제공된다. 실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크 조성물은 특히 실시태양들에서 기재가 포장용 판지인 백색 인쇄물의 중실 영역 인쇄에 적합하다. 실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크 조성물은 특히 안경렌즈 인쇄에 적합하다.
본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 표면을 가지는 백색 착색제, 및 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함한다. 실시태양들에서, 백색 착색제는 표면이 있는 안료이고, 고분자 분산제는 백색 안료의 표면에 화학적으로 결합된다. 실시태양들에서, 백색 착색제는 TiO2 를 포함하고 여기에 분산제가 화학적으로 결합된다. 착색제, 실시태양들에서 TiO2 입자, 및 분산제 간의 공유 결합으로 용융 상태에서 상 변화 잉크 전색제 또는 베이스에서 착색제, 실시태양들에서, TiO2 안정성이 크게 높아진다.
실시태양들에서, 본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 안료 기반의 잉크이다. 그러나, 본 실시태양들의 잉크는 안료 기반의 잉크 조성물 제조에서 전형적으로 요구되는 혼합 및 분쇄 공정에서 필요한 시간 및 에너지를 소모하지 않고 통상 염료 기반의 잉크에서 사용되는 간단한, 전통적인 잉크 제조 및 혼합 방법으로 제조될 수 있다. 실시태양들에서, 본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 양호한 성능 특성을 보인다.
백색 상 변화 잉크 조성물은 상 변화 잉크 전색제 또는 베이스를 포함한다. 본원의 실시태양들에서 임의의 적합한 또는 바람직한 상 변화 잉크 전색제가 선택될 수 있다. 실시태양들에서, 상 변화 잉크 전색제는 왁스, 레진, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군의 멤버를 포함한다. 실시태양들에서, 상 변화 잉크 전색제는 탄화수소, 아미드, 우레탄, 에스테르, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군의 멤버를 포함한다.
실시태양들에서, 상 변화 잉크 전색제는 왁스를 포함한다. 임의의 적합한 또는 바람직한 왁스가 선택될 수 있다. 실시태양들에서, 상 변화 잉크 전색제는 탄화수소 왁스, 아미드 왁스, 아미드 레진, 우레탄 왁스, 우레탄 레진, 에스테르 왁스, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군에서 선택된다. 탄화수소 왁스는 분지 탄화수소 왁스, 직쇄 탄화수소 왁스, 및 이들의 혼합물 및 조합물을 포함한 임의의 적합한 또는 바람직한 탄화수소 왁스에서 선택될 수 있다.
소정의 실시태양들에서, 상 변화 잉크 전색제는 직쇄 탄화수소 왁스, 분지 탄화수소 왁스, 또는 직쇄 탄화수소 왁스 및 분지 탄화수소 왁스의 조합물을 포함한다. 직쇄 탄화수소 왁스는 전통적인 상 변화 잉크에 사용되었다. 전통적인 상 변화 잉크는 분지 탄화수소 왁스를 포함하지 않는다. 분지 탄화수소 왁스는 연성이므로, 전착 성능, 경성, 및 기타 기계적 요건과 관련하여 회피되었다. 본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 실시태양들에서 직쇄 및 분지 탄화수소 왁스 모두의 조합을 포함한다. 옵셋 또는 간접 인쇄 처리와 달리, 본원에서는 전착 처리가 필요하지 않고 본 발명의 잉크를 렌즈에 직접 인쇄하는 직접 인쇄 처리가 제공된다. 따라서, 상대적으로 연성인, 분지 탄화수소 왁스가 사용되어 인쇄 이미지의 양호한 부착성 및 개선된 내스크래치성을 제공한다.
임의의 적합한 또는 바람직한 직쇄 탄화수소 왁스가 본원의 백색 상 변화 잉크 조성물에 선택될 수 있다. 실시태양들에서, 직쇄 탄화수소 왁스는 탄화수소계 왁스, 예컨대 Baker Petrolite에서 입수되고 다음 일반식을 가지는 폴리에틸렌의 동종중합체이다:
Figure pat00001
식 중 x는 약 1 내지 약 200의 정수, 예컨대 약 5 내지 약 150 또는 약 12 내지 약 105이다. 본 물질의 융점은 약 60℃ 내지 약 150℃, 예컨대 약 70℃ 내지 약 140℃ 또는 약 80℃ 내지 약 130℃ 및 분자량 (Mn)은 약 100 내지 약 5,000, 예컨대 약 200 내지 약 4,000 또는 약 400 내지 약 3,000이다. 예시적 왁스는 하나의 실시태양에서 약 110 ℃에서 미증류 POLY왁스® 400 점도보다 약 10% 내지 약 100% 더 높은 점도를 가지는 PW400 (Mn 약 400), 증류 PW400, 하나의 실시태양에서 약 110 ℃에서 미증류 POLY왁스® 500 점도보다 약 10% 내지 약 100% 더 높은 점도를 가지는 POLY왁스 500 (Mn 약 500), 증류 POLY왁스® 500, 하나의 실시태양에서 약 110 ℃에서 미증류 POLY왁스® 655 점도보다 약 10% 내지 약 100% 더 높은 점도를 가지는 POLY왁스 655 (Mn 약 655), 증류 POLY왁스® 655, 및 또 다른 실시태양에서 약 110 ℃에서 미증류 POLY왁스® 655 점도보다 약 10% 내지 약 50% 더 높은 점도를 가지는 POLY왁스 850 (Mn 약 850), POLY왁스 1000 (Mn 약 1,000), 및 기타 등을 포함한다.
특정 실시태양들에서, 직쇄 탄화수소 왁스는 직쇄 폴리에틸렌 왁스를 포함한다.
실시태양들에서, 분지 탄화수소 왁스는 분지 폴리에틸렌 왁스, 분지 폴리메틸렌 왁스, 또는 이들의 조합을 포함한다. 예를들면, 적합한 분지 탄화수소 왁스는 상표 Microsere®, 예컨대 Microsere® 5714로 입수되는 The International Group, Inc. (IGI)에서 상업적으로 입수되는 분지 미정질 왁스를 포함한다.
실시태양들에서, 분지 탄화수소 왁스는 분지 폴리에틸렌 왁스, 분지 폴리메틸렌 왁스, 또는 이들의 혼합물 또는 조합물을 포함한다.
탄화수소 왁스는 백색 상 변화 잉크 조성물에 임의의 적합한 또는 바람직한 함량으로 존재한다. 실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크 조성물은 직쇄 탄화수소 왁스를 백색 상 변화 잉크 조성물의 총 중량 기준으로 약 15 내지 약 75 중량%, 또는 약 20 내지 약 60 중량%, 또는 약 25 내지 약 50 중량% 포함한다.
실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크 조성물은 분지 탄화수소 왁스를 백색 상 변화 잉크 조성물의 총 중량 기준으로 약 15 내지 약 60 중량%, 또는 약 20 내지 약 55 중량%, 또는 약 25 내지 약 50 중량% 포함한다.
실시태양들에서, 탄화수소 왁스, 분지 탄화수소 단독, 또는 직쇄 탄화수소 단독, 또는 왁스 직쇄 및 분지 탄화수소 왁스 모두의 조합, 및 임의의 추가적인 선택적 기타 왁스를 포함하여 백색 상 변화 잉크에 존재하는 모든 탄화수소 왁스 함량은 상 변화 잉크 조성물의 총 중량 기준으로 약 15 내지 약 75 중량%, 또는 약 20 내지 약 70 중량%, 또는 약 25 내지 약 60 중량%이다.
본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 아미드를 더욱 포함한다. 실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크 조성물은 모노아미드, 트리아미드, 테트라-아미드, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군에서 선택되는 아미드를 포함한다. 실시태양들에서, 아미드는 분지 트리아미드를 포함한다.
실시태양들에서, 상 변화 잉크 전색제는 왁스, 실시태양들에서, 탄화수소 왁스, 및 아미드의 조합물을 포함한다. 소정의 실시태양들에서, 본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 분지 및 직쇄 탄화수소 왁스 및 적어도 하나의 아미드의 조합물을 포함한다. 추가 실시태양들에서, 본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 분지 및 직쇄 탄화수소 왁스 및 다량의 아미드의 조합을 포함하고, 실시태양들에서 다량의 아미드란 상 변화 잉크 조성물에서 백색 상 변화 잉크 조성물의 총 중량 기준으로 약 25 중량% 이상의 아미드를 의미한다. 실시태양들에서, 아미드는 상 변화 잉크 조성물에서 백색 상 변화 잉크 조성물의 총 중량 기준으로 약 25 중량% 이상 내지 약 75 중량%, 또는 약 26 내지 약 65, 또는 약 27 내지 약 55 중량%로 존재한다.
실시태양들에서 본원의 백색 상 변화 잉크 조성물은 직쇄 탄화수소 왁스 및 분지 탄화수소 왁스의 조합; 모노아미드, 트리아미드, 및 테트라-아미드로 이루어진 군에서 적어도 2개의 멤버의 조합을 포함하는 아미드; 로진 에스테르; 및 착색제를 포함한다. 아미드가 모노아미드, 트리아미드, 및 테트라-아미드로 이루어진 군에서 적어도 2개의 멤버의 조합물을 포함하는 소정의 실시태양들에서, 상 변화 잉크 조성물에 존재하는 아미드 총 함량은 백색 상 변화 잉크 조성물의 총 중량 기준으로 약 25 중량% 이상의 총 아미드, 또는 약 25 중량% 이상 내지 약 75 중량%, 또는 약 25 내지 약 75 중량%, 또는 약 26 내지 약 65, 또는 약 27 내지 약 55 중량% 총 아미드를 포함한다.
임의의 적합한 또는 바람직한 아미드가 선택될 수 있다. 실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크 조성물은 지방산 아미드를 포함한다. 지방산 아미드는 임의의 적합한 또는 바람직한 지방산 아미드일 수 있다. 실시태양들에서, 본원의 지방산 아미드는 모노아미드, 테트라-아미드, 이들의 혼합물, 및 기타 등, 예를들면 미국특허번호 6,858,070에 기재된 것을 포함한다.
실시태양들에서, 아미드는 모노아미드, 트리아미드, 테트라-아미드, 또는 이들의 혼합물을 포함한다. 실시태양들에서, 아미드는 모노아미드, 트리아미드, 및 테트라-아미드의 조합물을 포함한다. 적합한 모노아미드의 융점은 적어도 약 50℃, 예를들면 약 50℃ 내지 약 150℃이지만, 이들 범위 외일 수 있다. 적합한 모노아미드의 특정 실시예는, 예를들면, 1차 모노아미드 및 2차 모노아미드를 포함한다. 스테아르아미드, 예컨대 KEMAMIDE® S, Chemtura Corporation 에서 입수 및 CRODAMIDE® S, Croda 에서 입수, 베헨아미드/아라키드아미드, 예컨대 KEMAMIDE® B, Chemtura Corporation 에서 입수 및 CRODAMIDE® BR, Croda 에서 입수, 올레아미드, 예컨대 KEMAMIDE® U, Chemtura Corporation 에서 입수 및 CRODAMIDE® OR, Croda 에서 입수, 공업용 올레아미드, 예컨대 KEMAMIDE® O, Chemtura Corporation 에서 입수, CRODAMIDE® O, Croda 에서 입수, 및 UNISLIP® 1753, Uniqema 에서 입수, 및 에루크아미드 예컨대 KEMAMIDE® E, Chemtura Corporation 에서 입수 및 Croda 에서 입수되는 CRODAMIDE® ER이 일부 적합한 1차 아미드의 실시예들이다. 베헤닐 베헨아미드, 예컨대 KEMAMIDE® EX666, Chemtura Corporation 에서 입수, 스테아릴 스테아르아미드, 예컨대 KEMAMIDE® S-180 및 KEMAMIDE® EX-672, Chemtura Corporation 에서 입수, 스테아릴 에루크아미드, 예컨대 KEMAMIDE® E-180, Chemtura Corporation 에서 입수 및 CRODAMIDE® 212, Croda 에서 입수, 에루실 에루크아미드, 예컨대 KEMAMIDE® E-221, Chemtura Corporation 에서 입수, 올레일 팔리트아미드, 예컨대 KEMAMIDE® P-181, Chemtura Corporation 에서 입수 및 CRODAMIDE® 203, Croda 에서 입수, 및 에루실 스테아르아미드, 예컨대 Chemtura Corporation 에서 입수되는 KEMAMIDE® S-221은 일부 적합한 2차 아미드의 실시예들이다. 추가 적합한 아미드 물질은 KEMAMIDE® W40 (N,N'-에틸렌비스스테아르아미드), KEMAMIDE® P181 (올레일 팔리트아미드), KEMAMID®E W45 (N,N'-에틸렌비스스테아르아미드), 및 KEMAMIDE® W20 (N,N'-에틸렌비스올레아미드)를 포함한다.
실시태양들에서, 아미드는 분지 트리아미드를 포함한다. 분지 트리아미드는, 예를들면, 미국특허 6,860,930에 개시된다. "분지 트리아미드"란 트리아미드 구조에 있어서 각각의 아미드기가 다른 아미드들의 것이 아닌 분지에 있는 원자 또는 원자 그룹에 결합되고, 각각의 아미드기가 다른 분지에 있는 것을 의미한다. "각각의 아미드기가 다른 분지에 있는 "이란 트리아미드가 선형이 아닌 것을 의미하고; "선형"이란 모든 3 아미드기들의 동일 분자 사슬 또는 분지에 있는 분자, 예컨대 다음 식의 선형 트리아미드를 의미한다:
Figure pat00002
,
Figure pat00003
,
Figure pat00004
,
Figure pat00005
,
Figure pat00006
,
기타 등. 본 발명의 목적상, 선형 트리아미드는 통상 다른 라인으로 그릴지라도3개의 아미드기를 통과하도록 라인이 그려지는 것을 포함한다. 예를들면, 다음 식의 화합물은,
Figure pat00007
또한 다음과 같이 그려지므로 본 발명의 목적상 선형 화합물로 고려되고:
Figure pat00008
,
따라서 본원의 개시 잉크 목적상 분지 트리아미드로 고려되지 않는다. 본원 개시 잉크 목적상, "분지 트리아민", "분지 삼산", "분지 모노아미노 이산", 및 "분지 디아미노 일산"은 유사한 정의를 가지고 3개의 관능기 각각은 다른 두 종과는 다른 분지에 그려진다.
적합한 분지 트리아미드의 실시예들은 (제한되지는 않지만) 분지 트리아민에서 생성되는 것을 포함하고, 상기 분지 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00009
식 중 R1 은 (i) 약 3 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬렌기 (선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 비환형, 치환, 및 미치환 알킬렌기를 포함하고, 헤테로 원자, 예컨대 산소, 질소, 황, 규소, 인, 붕소, 및 기타 등이 알킬렌기에 존재 또는 부재), (ii) 약 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴렌기 (미치환 및 치환 아릴렌기를 포함하고, 상기와 같이 헤테로 원자는, 선택적으로 아릴렌기에 존재), (iii) 약 7 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴알킬렌기 (미치환 및 치환 아릴알킬렌기를 포함하고, 아릴알킬렌기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 아릴알킬렌기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에 선택적으로 존재), 예컨대 벤질렌 또는 기타 등, 또는 (iv) 약 7 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬아릴렌기 (미치환 및 치환 알킬아릴렌기를 포함하고, 알킬아릴렌기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 알킬아릴렌기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에 선택적으로 존재, 예컨대 톨릴렌 또는 기타 등이고, Ra, Rb, 및 Rc 각각은, 서로 독립적으로, (i) 수소 원자, (ii) 1 개의 탄소원자 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬기 (선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 비환형, 치환, 및 미치환 알킬기를 포함하고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 알킬기에 선택적으로 존재), (iii) 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴기 (미치환 및 치환 아릴기를 포함하고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 아릴기에 선택적으로 존재), (iv) 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴알킬기 (미치환 및 치환 아릴알킬기를 포함하고, 아릴알킬기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 아릴알킬기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에 선택적으로 존재), 예컨대 벤질 또는 기타 등, 또는 (v) 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬아릴기 (미치환 및 치환 알킬아릴기를 포함하고, 알킬아릴기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 알킬아릴기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에 선택적으로 존재), 예컨대 톨릴 또는 기타 등이고, Rd, Re, 및 Rf 각각은, 서로 독립적으로, (i) 1 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬기 (선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 비환형, 치환, 및 미치환 알킬기를 포함하고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 알킬기에 선택적으로 존재), (ii) 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴기 (미치환 및 치환 아릴기를 포함하고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 아릴기에 선택적으로 존재), (iii) 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴알킬기 (미치환 및 치환 아릴알킬기를 포함하고, 아릴알킬기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 아릴알킬기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에 선택적으로 존재), 예컨대 벤질 또는 기타 등, 또는 (iv) 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬아릴기 (미치환 및 치환 알킬아릴기를 포함하고, 알킬아릴기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는, 상기된 바와 같이 알킬아릴기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에 선택적으로 존재), 예컨대 톨릴 또는 기타 등이고, 분지 삼산에서 생성되는 것을 포함하고, 상기 분지 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00010
식 중 R2 는 (i) 상기 R1에 대하여 기술된 알킬렌기이고, Rg, Rj, 및 Rp 각각은, 서로 독립적으로, (i) 수소 원자, (ii) 1 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬기 (선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 비환형, 치환, 및 미치환 알킬기를 포함하고, 헤테로 원자는 알킬기에서 선택적으로 존재), (iii) 10 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴기 (미치환 및 치환 아릴기를 포함하고, 헤테로 원자는 아릴기에서 선택적으로 존재), (iv) 7 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴알킬기 (미치환 및 치환 아릴알킬기를 포함하고, 아릴알킬기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는 아릴알킬기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에서 선택적으로 존재), 예컨대 벤질 또는 기타 등, 또는 (v) 7 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬아릴기 (미치환 및 치환 알킬아릴기를 포함하고, 알킬아릴기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는 알킬아릴기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에서 선택적으로 존재), 예컨대 톨릴 또는 기타 등이고, Rh, Rk, 및 Rq 각각은, 서로 독립적으로, (i) 수소 원자, (ii) 1 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬기 (선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 비환형, 치환, 및 미치환 알킬기를 포함하고, 헤테로 원자는 알킬기에서 선택적으로 존재), (iii) 6 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴기 (미치환 및 치환 아릴기를 포함하고, 헤테로 원자는 아릴기에서 선택적으로 존재), (iv) 7 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 아릴알킬기 (미치환 및 치환 아릴알킬기를 포함하고, 아릴알킬기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는 아릴알킬기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에서 선택적으로 존재), 예컨대 벤질 또는 기타 등, 또는 (v) 7 내지 약 200 개의 탄소원자를 가지는 알킬아릴기 (미치환 및 치환 알킬아릴기를 포함하고, 알킬아릴기의 알킬부는 선형, 분지, 포화, 불포화, 환형, 및/또는 비환형이고, 헤테로 원자는 알킬아릴기의 알킬부 및 아릴부 중 하나 또는 모두에서 선택적으로 존재), 예컨대 톨릴 또는 기타 등이고, 분지 디아미노 일산 화합물에서 생성되는 것을 포함하고, 상기 분지 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00011
식 중 R1, Ra, Rb, Rd, Re, Rg, 및 Rh 는 상기와 같이 정의되고, 분지 모노아미노 이산 화합물에서 생성되는 것을 포함하고, 상기 분지 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00012
식 중 R2, Ra, Rd, Rg, Rh, Rj, 및 Rk 는 상기와 같이 정의되고, 및 기타 등, 치환된 알킬, 알킬렌, 아릴, 아릴렌, 아릴알킬, 아릴알킬렌, 알킬아릴, 및 알킬아릴렌기의 치환체는 (제한되지는 않지만) 히드록시기, 할로겐 원자, 이민기, 암모늄기, 시아노기, 피리딘기, 피리디늄기, 에테르기, 알데히드기, 케톤기, 에스테르기, 카르보닐기, 티오카르보닐기, 황산염기, 술폰산염기, 술폰산기, 황화물기, 술폭시드기, 포스핀기, 포스포늄기, 인산염기, 니트릴기, 메르캅토기, 니트로기, 니트로소기, 술폰기, 아지드기, 아조기, 시아나토기, 카르복실레이트기, 이들의 혼합물, 및 기타 등이고, 2 이상의 치환체는 함께 결합되어 고리를 형성할 수 있다.
하나의 특정 실시태양에서, 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00013
R1 + Ra +Rb + Rc +Rd + Re + Rf 의 탄소원자 총 개수는 7 내지 약 500이다. 또 다른 특정 실시태양에서, 각각의 Ra, Rd, Rb, Re, Rc, 및 Rf는 서로 독립적으로, 약 50 개 이하의 탄소원자, 또 다른 특정 실시태양에서 약 48 개 이하의 탄소원자를 가지지만, 이들 범위를 벗어날 수 있다.
하나의 특정 실시태양에서, 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00014
R2 + Rg +Rh + Rj +Rk + Rp + Rq 의 탄소원자 총 개수는 약 7 내지 약 500이다. 또 다른 특정 실시태양에서, 각각의 Rg, Rh, Rj, Rk, Rp, 및 Rq는, 서로 독립적으로, 약 50 개 이하의 탄소원자, 및 또 다른 특정 실시태양에서 약 48 개 이하의 탄소원자를 가지지만, 이들 범위를 벗어날 수 있다.
하나의 특정 실시태양에서, 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00015
R1 + Ra +Rb + Rd +Re + Rg + Rh 의 탄소원자 총 개수는 약 7 내지 약 500이다. 또 다른 특정 실시태양에서, 각각의 Ra, Rd, Rb, Re, Rg, 및 Rh는, 서로 독립적으로, 약 50 개 이하의 탄소원자, 및 또 다른 특정 실시태양에서 약 48 개 이하의 탄소원자를 가지지만, 이들 범위를 벗어날 수 있다.
하나의 특정 실시태양에서, 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00016
R2 + Ra +Rd + Rg +Rh + Rj + Rk 의 탄소원자 총 개수는 약 7 내지 약 500이다. 또 다른 특정 실시태양에서, 각각의 Ra, Rd, Rg, Rh, Rj, 및 까는, 서로 독립적으로, 약 50 개 이하의 탄소원자, 및 또 다른 특정 실시태양에서 약 48 개 이하의 탄소원자를 가지지만, 이들 범위를 벗어날 수 있다.
제1 식에서 모든 아미드기가 R1 또는 R2 기에서 동일 원자에 결합될 필요는 없고, 하나의 특정 실시태양에서, 각각의 아미드기는 R1 또는 R2 기에서 다른 원자에 결합된다.
하나의 특정 실시태양에서, 분지 트리아미드는 다음 식을 가지고:
Figure pat00017
식 중 x는, y, 및 z 각각은, 독립적으로 프로필렌옥시 반복 단위의 수를 나타내고 x+y+z는 약 5 내지 약 6이고, p, q, 및 r 각각은, 서로 독립적으로, 반복 (CH2) 단위 수를 나타내는 정수이고 약 15 내지 약 60이다. 트리아미드 조성물은 각각의 분자가 동일한 p, q, 및 r를 가지는 균일 조성물보다는 때로 혼합물로 획득되고, 여기에서 p, q, 및 r 각각은 조성물에서 피크 평균 사슬 길이이고, 혼합물에서, 일부 개별 사슬은 소정 값보다 길거나 짧을 수 있다는 것을 이해하여야 한다.
트리아미드 왁스는 다음과 같이 미국특허 6,860,930의 실시예 II에 기재된 바와 같이 제조될 수 있다. Trubore 교반기, N2 입구, 응축기가 구비된 Dean-Stark 트랩 및 N2 출구 및 열전대-온도 제어기가 장착된, 1000 밀리리터 4-구 환저 플라스크에 350.62 그램 (0.3675 몰)의 UNICID® 550 (Baker-Petrolite Corp., Cincinnati, Ohio에서 입수된 일산, 식 CH3(CH2)nCOOH, n은 평균 약 37이고 약 34 내지 약 40 범위) 및 0.79 그램의 NAUGARD® 524 (Uniroyal Chemical Company, Inc., Middlebury, Conn에서 입수된 항산화제)를 첨가하였다. 혼합물을 115 ℃로 사용하여 용융시키고 대기압에서 N2 분위기에서 교반하였다. 51.33 그램 (0.1167 몰)의 JEFFAMINE® T-403 (Huntsman Corporation, Houston, Texas에서 입수된 트리아민 혼합물, 화학식
Figure pat00018
식 중 x, y, 및 z 각각은 프로필렌옥시 반복 단위 수를 나타내는 정수이고, x, y, 및 z 각각은 0일 수 있고 x+y+z의 합은 약 5 내지 약 6이다)을 반응 혼합물에 첨가하고, 반응 온도를 점차 0.5 시간에 걸쳐 200 ℃로 올리고 이 온도에서 다시 3 시간 유지하였다. N2 를 서서히 주입하여 일부 물을 이동시키고 혼합물 온도가 약 180 ℃에 도달할 때 트랩으로 응축하였다. 트랩 및 응축기를 떼어내고 진공 (약 25 mm Hg)을 약 0.5 시간 인가한 후 해제하였다. 액체 생성물을 약 150 ℃로 냉각시키고 알루미늄에 부어 고화하였다. 획득된 생성물은 다음 식을 가진다고 판단된다:
Figure pat00019
식 중 n, x, y, 및 z은 상기와 같이 정의된다.
특정 실시태양에서, 선택된 아미드는 트리아미드이다. 트리아미드는 동일 분자량의 테트라-아미드 대비 낮은 점도 특성을 제공한다.
백색 상 변화 잉크 조성물은 로진 에스테르를 더욱 포함한다. 로진 에스테르는 임의의 적합한 또는 바람직한 로진 에스테르 및 이들의 혼합물일 수 있다. 실시태양들에서, 로진 에스테르는 글리세릴 아비에테이트를 포함한다. 적합한 로진 에스테르 레진의 특정 실시예는 상업적으로 Arakawa에서 입수되는 PINECRYSTAL® KE-100, 글리세롤 아비에테이트, 및 기타 등을 포함한다.
로진 에스테르 레진은 잉크 조성물에서 임의의 바람직한 또는 유효 함량으로 존재한다. 실시태양들에서, 로진 에스테르는 백색 상 변화 잉크 조성물에서 잉크 조성물 총 중량 기준으로 약 0.5 중량% 내지 약 20 중량%, 또는 약 2 중량% 내지 약 15 중량%, 또는 약 3 중량% 내지 약 10 중량%로 존재한다.
백색 상 변화 잉크 조성물은 고분자 분산제 처리된 백색 착색제를 제공하기 위하여 고분자 분산제로 처리되는 백색 착색제를 포함한다. 처리되는 백색 착색제는 분산제, 실시태양들에서 고분자 분산제로 처리되고, 안료 표면 및 분산제 간의 화학적 결합이 형성된다. 실시태양들에서, 백색 착색제는 TiO2 착색제이고 분산제로 처리되어 TiO2 착색제 표면 및 분산제 사이에 화학 결합이 형성된다.
따라서, 상 변화 잉크 조성물은 표면에 고분자 분산제가 배치되는 백색 착색제를 포함한다.
실시태양들에서, 백색 착색제는 고분자 분산제로 처리된 백색 착색제 및 하나 이상의 왁스를 포함하는 잉크 조성물에 분산액 형태로 제공된다. 실시태양들에서, 백색 착색제는 표면을 가지는 백색 착색제 및 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함하는 왁스 분산액 형태로 제공된다. 분산액은 왁스 분산액의 총 중량 기준으로 (즉, 처리된 착색제 및 모든 왁스 및 기타 선택적 분산 성분들의 총 중량%) 중량%로 약 20 내지 약 80 %의 고분자 분산제로 처리된 백색 착색제 및 약 20 내지 약 80 %의 총 왁스를 포함한다.
상 변화 잉크 조성물은 백색 착색제를 포함한다. 분산제로 처리되기 전 백색 착색제의 입자 크기는 임의의 적합한 또는 바람직한 입자 크기이다. 임의의 적합한 또는 바람직한 백색 착색제가 본원의 실시태양들에서 선택된다. 실시태양들에서, 백색 착색제의 부피 평균 입자 크기는 약 20 나노미터 내지 약 600 나노미터, 또는 약 20 나노미터 내지 약 500 나노미터, 또는 약 30 나노미터 내지 약 600 나노미터, 또는 약 50 나노미터 내지 약 500 나노미터, 또는 약 70 나노미터 내지 약 400 나노미터이다.
분산제로 처리된 후의 백색 착색제 입자 크기는 임의의 적합한 또는 바람직한 입자 크기이다. 실시태양들에서, 처리 후, 고분자 분산제 처리된 백색 착색제의 입자 크기는 약 30 나노미터 내지 약 600 나노미터, 또는 약 30 나노미터 내지 약 550 나노미터, 또는 약 50 나노미터 내지 약 500 나노미터, 또는 약 70 나노미터 내지 약 400 나노미터이다.
실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크는 프린트 헤드를 재순환시킬 필요 없이 상 변화 잉크젯 프린트 헤드를 이용하여 토출될 수 있고, 용융 상태에서 더욱 큰 입자로 안료 응집에 대한 저항성을 가지고, 충분히 불투명하여 잉크로 형성된 인쇄 이미지는 적합한 콘트라스트를 가진다.
본원의 실시태양들에서, 백색 착색제는 이산화티탄, 산화아연, 황화아연, 탄산칼슘, 점토, 리토폰 (황산바륨 및 황화아연의 혼합물), 또는 이들 혼합물 또는 조합물에서 선택되는 백색 안료이다. 특정 실시태양에서, 백색 착색제는 이산화티탄 안료이다. 더욱 특정한 실시태양에서, 백색 착색제는 루틸이라고 알려진 TiO2 형태이다. 상업 등급의 TiO2 는 광학 특성 예컨대 착색력 및 밑색 개선 및 분산 안정성 촉진을 위한 추가 첨가제와 함께 설계된다. 안료 특성들은 크기, 실리카 및 또는 알루미나, 및 선택적 유기 재료로의 코팅 정도를 포함한다. 적합한 산화티탄 안료의 예시로는 Sigma-Aldrich®에서 입수되는 TiO2, DuPont Titanium Technologies, Wilmington, DE에서 입수되는 Ti-Pure® R-108, Ti-Pure® R-104, Ti-Pure® R-103, Ti-Pure® R-102, Ti-Pure® R-700, Ti-Pure® R-706, Ti-Pure® R-760, Ti-Pure® R-900, Ti-Pure® R-960, Ti-Pure® R-3910, Kronos Inc., Cranbury, NJ에서 입수되는 2020®, 2063®, 2090®, 2310®, 2450®, 및 Millennium Inorganic Chemicals, Hunt Valley, MD에서 입수되는 Tiona® 595, Tiona® 568, Tiona® RCL-6, Tiona® RCL-9, 및 Tiona® 696에서 선택되는 안료를 포함한다.
상 변화 잉크 및 백색 착색제의 특성은, 임의의 적합한 기술 및 장치에 의해 특정된다. 입자 크기 측정은Malvern Instruments Ltd. Worce, UK의 Zetasizer Nano Series HT로 가능하다. 부피 평균 입자 직경 또한 측정 장치 예컨대 Beckman Coulter Multisizer 3로 제조업체 설명에 따라 작동하여 측정된다.
백색 착색제는 상 변화 잉크에 임의의 바람직한 또는 유효 함량으로 존재하고, 실시태양들에서 백색 착색제는 잉크 총 중량 기준으로 약 1 내지 약 50 중량%, 또는 잉크 총 중량 기준으로 약 10 내지 약 20 중량%로 존재한다. 하나의 실시태양에서, 백색 착색제는 잉크에 잉크 총 중량 기준으로 약 1 내지 약 50 중량%, 또는 잉크 총 중량 기준으로 약 20 내지 약 40 중량%, 또는 잉크 총 중량 기준으로 약 10 내지 약 20 중량%, 또는 잉크 총 중량 기준으로 약 12 내지 약 17 중량%, 또는 잉크 총 중량 기준으로 약 10 중량% 존재하는 이산화티탄 안료이다.
잉크는 첨가제와 연관된 공지 기능성의 이점을 취하기 위하여 종래 첨가제를 또한 포함한다. 이러한 첨가제는, 예를들면, 적어도 하나의 항산화제, 소포제, 평활성 및 표면조정제, 청징제, 점도 개질제, 접착제, 가소제 및 기타 등을 포함한다. 실시태양들에서, 상 변화 잉크 조성물은 가소제, 안정화제, 항산화제, 소포제, 평활성 및 표면조정제, 청징제, 점도 개질제, 접착제, 분산제 및 이들 혼합물 및 조합물로 이루어진 군에서 선택되는 멤버를 포함한다.
잉크는 선택적으로 항산화제를 포함하여 이미지가 산화되지 않도록 방지하고 또한 잉크 저장소에 가열 용융물로 존재할 때 잉크 성분이 산화되지 않도록 방지한다. 적합한 항산화제의 실시예들로는 N,N′-헥사메틸렌 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시 히드로신남아미드) (IRGANOX® 1098, BASF 에서 입수); 2,2-비스(4-(2-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시히드로신나모일록시)) 에톡시페닐)프로판 (TOPANOL-205, Vertellus 에서 입수); 트리스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸 벤질)이소시아누레이트 (Aldrich); 2,2′-에틸리덴 비스(4,6-디-tert-부틸페닐)플루오로 포스포나이트 (ETHANOX® 398, Albermarle Corporation 에서 입수); 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4′-비페닐 디포스포나이트 (Aldrich); 펜타에리트리톨 테트라스테아레이트 (TCI America); 트리부틸암모늄 차아인산염 (Aldrich); 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시페놀 (Aldrich); 2,4-디-tert-부틸-6-(4-메톡시벤질)페놀 (Aldrich); 4-브로모-2,6-디메틸페놀 (Aldrich); 4-브로모-3,5-디디메틸페놀 (Aldrich); 4-브로모-2-니트로페놀 (Aldrich); 4-(디에틸 아미노메틸)-2,5-디메틸페놀 (Aldrich); 3-디메틸아미노페놀 (Aldrich); 2-아미노-4-tert-아밀페놀 (Aldrich); 2,6-비스(히드록시메틸)-p-크레졸 (Aldrich); 2,2′-메틸렌디페놀 (Aldrich); 5-(디에틸아미노)-2-니트로소페놀 (Aldrich); 2,6-디클로로-4-플루오로페놀 (Aldrich); 2,6-디브로모 플루오로 페놀 (Aldrich); α-트리플루오로-o-크레졸 (Aldrich); 2-브로모-4-플루오로페놀 (Aldrich); 4-플루오로페놀 (Aldrich); 4-클로로페닐-2-클로로-1,1,2-트리-플루오로에틸 술폰 (Aldrich); 3,4-디플루오로 페닐아세트산 (Adrich); 3-플루오로페닐아세트산 (Aldrich); 3,5-디플루오로 페닐아세트산 (Aldrich); 2-플루오로페닐아세트산 (Aldrich); 2,5-비스 (트리플루오로메틸) 벤조산 (Aldrich); 에틸-2-(4-(4-(트리플루오로메틸)페녹시)페녹시)프로피오네이트 (Aldrich); 테트라키스 (2,4-디-tert-부틸 페닐)-4,4′-비페닐 디포스포나이트 (Aldrich); 4-tert-아밀 페놀 (Aldrich); 3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-히드록시 페네틸알코올 (Aldrich); NAUGARD® 76, NAUGARD® 445, NAUGARD® 512, 및 NAUGARD® 524 (Chemtura Corporation 제조); 및 기타 등, 및 이들의 혼합물을 포함한다. 항산화제가, 잉크에 존재할 때 임의의 바람직한 또는 유효 함량, 예컨대 잉크의 약 0.25 중량% 내지 약 10 중량% 또는 잉크의 약 1 중량% 내지 약 5 중량%로 존재한다.
상 변화 잉크 조성물은 임의의 바람직한 또는 적합한 방법으로 제조될 수 있다. 예를들면, 잉크 성분들이 함께 혼합되고, 범위를 벗어날 수 도 있지만 적어도 약 100 ℃ 내지 약 140 ℃ 이하로 가열되고, 균질 잉크 조성물이 획득될 때가지 교반하고, 이어 잉크를 주변 온도 (전형적으로 약 20 내지 약 25 ℃)로 냉각한다. 본 개시의 잉크는 주변 온도에서 판매된다. 특정 실시태양에서, 성형 공정 과정에서, 용융 잉크는 주형에 부어진 후 냉각 및 고화되어 잉크 스틱을 형성한다.
실시태양들에서, 착색제, 실시태양들에서, 백색 안료는, 왁스에 이미 착색제 분산액으로 분산되므로, 이들을 분산시킬 목적으로 착색제 또는 안료를 분쇄할 필요가 없으므로; 본 실시태양들은 염료 잉크에 사용되는 전통적인 잉크 혼합 방식을 적용할 수 있다. 즉, 혼합을 위해 단순히 교반하면서 분산액을 용융 베이스에 첨가.
실시태양들에서, 본원의 잉크젯 프린터 스틱 또는 펠렛은 상 변화 잉크 조성물, 백색 상 변화 잉크 조성물을 포함하고, 백색 상 변화 잉크 조성물은 잉크 전색제; 및 고분자 분산제로 처리된 백색 착색제를 포함한다.
본원에 개시된 잉크는 직접 인쇄 잉크젯 처리 및 간접 (옵셋) 인쇄 잉크젯 분야 장치에 적용된다. 또 다른 실시태양은 본원에 개시된 잉크를 잉크젯 인쇄 장치에 통합, 잉크 용융, 및 용융 잉크 액적을 이미지 방식으로 기록 기재에 분사하는 것을 포함하는 방법에 관한 것이다. 직접 인쇄 방법은, 예를들면, 미국특허 5,195,430에도 기재된다. 본원에 개시된 바에 의해 제조되는 잉크는 간접 (옵셋) 인쇄 잉크젯 분야 장치에 적용된다. 또 다른 실시태양은 본원에 개시된 바에 의해 제조되는 잉크를 잉크젯 인쇄 장치에 통합하는 단계, 잉크 용융 단계, 용융 잉크 액적을 이미지 방식으로 중간 전달 부재에 분사하는 단계, 및 잉크를 이미지 방식으로 중간 전달 부재에서 최종 기록 기재로 전달하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 특정 실시태양에서, 중간 전달 부재는 최종 기록 시트 이상으로 및 인쇄 장치의 용융 잉크 이하로 가열된다. 옵셋 또는 간접 인쇄 방법은, 예를들면, 미국특허 5,389,958에서도 기재된다. 하나의 특정 실시태양에서, 인쇄 장치는 압전 인쇄 방법을 적용하고 잉크 액적은 압전 진동 요소의 발진으로 이미지 방식으로 분사된다.
실시태양들에서, 본원의 방법은 본원에 기재된 상 변화 잉크 조성물을 잉크젯 인쇄 장치에 통합하는 단계; 잉크 조성물을 용융시키는 단계; 및 용융 잉크 액적을 이미지 방식으로 기재에 분사하는 단계를 포함한다.
잉크 분사 온도는 임의의 적합한 또는 바람직한 분사 온도이고, 실시태양들에서, 분사 온도는 약 50 ℃ 내지 약 150 ℃ 또는 약 50 ℃ 내지 약 140 ℃ 또는 더욱 전형적으로 약 100 ℃ 내지 약 140 ℃이다. 잉크 조성물의 용융 점도는 일반적으로 분사 온도 (하나의 실시태양에서 약 50℃ 이상, 또 다른 실시태양에서 약 60℃ 이상, 또 다른 실시태양에서 약 70℃ 이상, 및 하나의 실시태양에서 약 150℃ 이하, 및 또 다른 실시태양에서 약 145℃ 이하지만, 분사 온도는 상기 범위 외일 수 있다)에서 하나의 실시태양에서 약 30 센티포와즈 이하, 또 다른 실시태양에서 약 20 센티포와즈 이하, 또 다른 실시태양에서 약 15 센티포와즈 이하, 및 하나의 실시태양에서 약 2 센티포와즈 이상, 또 다른 실시태양에서 약 5 센티포와즈 이상, 및 또 다른 실시태양에서 약 7 센티포와즈 이상이고, 또 다른 실시태양에서, 약 40℃ 이하에서 약 105 센티포와즈 이상, 또 다른 실시태양에서, 약 70 ℃ 이상에서 약 15 센티포와즈 이하지만, 용융 점도는 상기 범위 외일 수 있다. 실시태양들에서, 백색 상 변화 잉크 조성물의 점도는 약 120 ℃에서 약 9 내지 약 11 센티포와즈이다.
하나의 특정 실시태양에서, 잉크는 낮은 온도, 특히 약 150℃ 이하, 하나의 실시태양에서 약 40℃ 내지 약 150℃, 또 다른 실시태양에서 약 50℃ 내지 약 145℃, 및 또 다른 실시태양에서 약 60℃ 내지 약 90℃에서 분사되지만, 분사 온도는 이들 범위 외에 있을 수 있다.
보통 용지 예컨대 XEROX® 4024 용지, XEROX® Image Series 용지, Courtland 4024 DP 용지, 괘선 노트 용지, 결합지, 실리카 코팅지 예컨대 Sharp Company 실리카 코팅지, JuJo 용지, HAMMERMILL LASERPRINT® 용지, 및 기타 등, 투명 재료, 직물, 섬유제품, 플라스틱, 고분자 필름, 무기 기재 예컨대 금속 및 목재 및 기타 등을 포함한 임의의 적합한 기재 또는 기록 시트가 사용될 수 있다. 특정 실시태양들에서, 기재는 어두운 기재 예컨대 갈색, 블랙, 및 기타 등, 예컨대 갈색 또는 블랙 Kraft 용지를 포함한다. 다른 실시태양들에서, 기재는 판지 또는 두꺼운 용지 기재를 포함한다. 실시태양들에서, 기재는 어두운 기재, 블랙 기재, 갈색 기재, 판지 기재, Kraft 용지 기재, 및 두꺼운 용지 기재로 이루어진 군에서 선택된다.
특정 실시태양에서들, 본원의 잉크 조성물은 유색 용지, 판지, 포장용 판지, 및 기타 등에 분사된다. 다른 특정 실시태양에서, 본원의 잉크 조성물은 안경렌즈에 분사된다. 안경렌즈는 친수성 코팅물 또는 소수성 코팅물로 도포될 수 있다. 예를들면, 본원의 잉크 조성물은 예컨대 상업적으로 Essilor International SA (France)에서 입수되는 렌즈에 이미지 인쇄에 적합하다. 렌즈는 유리 또는 유기 안경렌즈일 수 있다. 렌즈는 고분자 조성물 렌즈 예컨대 사출 성형 폴리카르보네이트 또는 열경화성 주조 CR-39®일 수 있다. 렌즈는, 예를들면 비-반사 또는 기타 코팅물로 도포될 수 있다.
하기 실시예들은 본 개시의 다양한 측면들을 더욱 규정하기 위한 것이다. 이러한 실시예들은 단지 예시적인 것이고 본 개시의 범위를 제한할 의도는 아니다. 또한, 부 및 %는 달리 표기되지 않는 한 중량기준이다.
표 1에 제시된 성분들을 가지는 TiO2 농축물을 Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co. Ltd. (DNS), Japan에서 입수하였다. TiO2 농축물을 제품 번호 S5, R6, R7, S7, S8, S9, S10, 및 S11을 DNS에서 입수하였다. TiO2 입자 표면을 분산제로 처리하여 분산제가 화학 결합된TiO2 입자가 제공된다. 이어 처리된 TiO2 입자를 두 왁스 중 하나에 분산시켜 표 1에 제시된 바와 같이 TiO2 농축물을 얻었다.
TiO2 농축물
DNS 제품 번호
비고 TiO2 중량% 분산제 % 왁스
KEM아미드® S-180
왁스
IGI
R3910F
S5 (WX-Ti-01) TiO2 180-200 나노미터 (nm) 66.7 10 23.3
R6 (WX-001-6-1)2 TiO2
180-200nm
66.7 10 23.3
R7 (WX-001-7-1) TiO2
180-200nm
72.0 10 18
S7 고 MW1 분산제 66.7 10 23.3
S8 고 MW1 분산제 66.7 10 23.3
S9 더 많은 분산제 66.7 >10 나머지
S10 160nm TiO2 66.7 10 23.3
S11 80nm TiO2 66.7 10 23.3
표 2 및 3에 제시된 성분들을 가지는 잉크 실시예 1 내지 10을 염료 기반의 잉크 제조 방법과 유사한 혼합 및 여과 방법으로 표 2 및 3에 제시된 함량의 성분들을 조합하여 제조하였다. 농축물을 용융 잉크 베이스에 첨가하고 120 ℃에서 1 내지 2 시간 교반하여 실시예 1 내지 10의 잉크를 제조하였다. 이어 잉크를 120 ℃의 오븐에서 Whatman #3 필터의 Mott 필터로 여과하였다.
잉크 실시예 1 2 3 4 5
중량 (그램) 중량 (그램) 중량 (그램) 중량 (그램) 중량 (그램)
IGI 왁스 53.17 53.81 56.03 52.50 55.00
트리아미드 왁스 14.29 14.46 12.17 12.17 12.00
Pinecrystal™ KE-100 14.29 14.46 12.17 12.17 12.00
Kemamide® S-180 3.54
TiO2 농축물
S5 18.26 21.00
R6 17.28
R7 19.64 19.64
총계 100 100 100 100 100
잉크 실시예 6 7 8 9 10
중량 (그램) 중량 (그램) 중량 (그램) 중량 (그램) 중량 (그램)
IGI 왁스 55.00 55.00 55.00 55.00 55.00
트리아미드 왁스 12.00 12.00 12.00 12.00 12.00
Pinecrystal™ KE-100 12.00 12.00 12.00 12.00 12.00
Kemamide® S-180 3.54
TiO2 농축물
S7 21.00
S8 21.00
S9 21.00
S10 21.00
S11 21.00
총계 100 100 100 103.54 100
IGI 왁스 R3910F, 탄소원자 중간 개수: 48; 피크 융점 (DSC): 89 ℃; The International Group, Inc. (IGI)에서 상업적으로 입수.
미국특허 6,860,930의 실시예 II에 기재된 바에 따라 트리아미드 왁스는 다음과 같이 제조된다. Trubore 교반기, N2 입구, 응축기가 구비된 Dean-Stark 트랩 및 N2 출구 및 열전대-온도 제어기가 장착된, 1000 밀리리터 4-구 환저 플라스크에 350.62 그램 (0.3675 몰)의 UNICID® 550 (Baker-Petrolite Corp., Cincinnati, Ohio에서 입수된 일산, 식 CH3(CH2)nCOOH, n은 평균 약 37이고 약 34 내지 약 40 범위) 및 0.79 그램의 NAUGARD® 524 (Uniroyal Chemical Company, Inc., Middlebury, Conn에서 입수된 항산화제)를 첨가하였다. 혼합물을 115 ℃로 사용하여 용융시키고 대기압에서 N2 분위기에서 교반하였다. 51.33 그램 (0.1167 몰)의 JEFFAMINE® T-403 (Huntsman Corporation, Houston, Texas에서 입수된 트리아민 혼합물, 화학식
Figure pat00020
식 중 x, y, 및 z 각각은 프로필렌옥시 반복 단위 수를 나타내는 정수이고, x, y, 및 z 각각은 0일 수 있고 x+y+z의 합은 약 5 내지 약 6이다)을 반응 혼합물에 첨가하고, 반응 온도를 점차 0.5 시간에 걸쳐 200 ℃로 올리고 이 온도에서 다시 3 시간 유지하였다. N2 를 서서히 주입하여 일부 물을 이동시키고 혼합물 온도가 약 180 ℃에 도달할 때 트랩으로 응축하였다. 트랩 및 응축기를 떼어내고 진공 (약 25 mm Hg)을 약 0.5 시간 인가한 후 해제하였다. 액체 생성물을 약 150 ℃로 냉각시키고 알루미늄에 부어 고화하였다. 획득된 생성물은 다음 식을 가진다고 판단된다:
Figure pat00021
식 중 n, x, y, 및 z은 본 실시예에서 상기와 같이 정의된다.
Pinecrystal™ KE-100 상업적으로 Arakawa Chemical Industries, Ltd. 에서 입수되는 글리세롤 테트라히드로아비에트산 에스테르이다.
Kemamide ® S-180은 Chemtura Corporation 에서 입수되는 스테아릴 스테아르아미드이다.
실시예 1 내지 10의 잉크들은 표 4 및 5에 제시된 바와 같이 특정되었다. 모든 잉크는 주파수 함수로서 점도를 측정할 때 염료 기반의 잉크와 같이 뉴턴 거동을 보였다. TA Instruments의 Ares G2 점도계로 50 밀리미터 콘, 0.053 갭을 이용하여 점도 데이터를 110℃ 또는 120℃에서 측정하였다. 스위프 레이트를 1000 내지 4 S-1로 설정하였다. 여과된 잉크의 TiO2 함량은 대부분의 잉크에서 원래 담지된 것과 거의 같았다.
잉크 실시예 1 2 3 4 5
여과잉크의110 ℃에서의 점도 (센티포와즈) 15.08 13.32 12.28 12.1
여과잉크의120 ℃에서의 점도 (센티포와즈) 11.93 10.66 9.93 9.47
Ares에 의한 점도 주파수 스위프 뉴턴 뉴턴 뉴턴 뉴턴 뉴턴
DSC
발생 MP ℃
66.1 66.9 67.4 67.26
DSC
피크 MP ℃
80.1 81.3 81.7 80.82
DSC
종료 MP ℃
89.75
DSC
피크 FP ℃
73.39
TiO2 중량% (Cal. 담지) 12.2 11.5 14.1 14.1 14.0
TiO2 중량% (TGA로 측정) 13.8 13.9 13.8
잉크 실시예 6 7 8 9 10
여과잉크의110 ℃에서의 점도 (센티포와즈)
여과잉크의120 ℃에서의 점도 (센티포와즈) 9.80 10.32 9.87 9.81 10.24
Ares에 의한 점도 주파수 스위프 뉴턴 뉴턴 뉴턴 뉴턴 뉴턴
DSC
발생 MP ℃
67.1 63.13 67.1 63.04 67.01
DSC
피크 MP ℃
80.25 81.53 80.81 81.67 80.73
DSC
종료 MP ℃
89.18 89.11 89.33
DSC
피크 FP ℃
74.78 74.1 74.76 74.77 74.68
TiO2 중량% (Cal. 담지) 14.0 14.0 14.0 14.0 14.0
TiO2 중량% (TGA로 측정) 13.3 12.9 13.8
실시예 5-10의 잉크를 유리병에서 120 ℃로 가열한 후 시간 경과에 따른 점도를 측정하였다. 도 1은 110 ℃에서 점도, 센티포와즈, y-축, 대 120 ℃에서 가열 시간 (시간), x-축을 보인다. 도 1 결과는 이들 잉크 점도의 양호한 열적 안정성을 의미한다.
임의의 적합한 동적 광산란 장치, 예컨대 Malvern Zetasizer를 이용하여 입자의 입자 크기를 측정한다. 예로써, 시간 경과에 따른 Z-평균 입자 크기를 점검하여 상승 온도, 예컨대 약 120 oC에서의 안료 입자 안정성을 평가한다.
잉크 내부에서 TiO2 입자 분산액 안정성을 평가하기 위하여, 신품 잉크, 가열 잉크, 및 6회 냉동-해동된 잉크에 대하여 TiO2입자 크기 및 분산도를 Malvern Zetasizer 입자 크기 분석기로 측정하였다. 도 2는 신품 여과된 잉크, 120 ℃에서 2일 가열된 잉크, 및 6회 냉동-해동된 잉크에 대하여 잉크 실시예 5-10 (x-축)의 입자 크기 (y-축, Z-평균, 나노미터)를 보인다. 도 3은 신품 여과된 잉크, 120 ℃에서 2일 가열된 잉크, 및 6회 냉동-해동된 잉크에 대하여 잉크 실시예 5-10 (x-축)의 다분산 지수 (y-축)를 보인다. 도 2 및 3 결과는 가열 또는 냉동-해동 후 입자 크기 또는 다분산 지수의 변화가 거의 또는 전혀 없다는 것을 보이고, 이는 본 잉크의 양호한 분산 안정성 및 입자 응집이 없는 안정성을 의미한다.
실시예 4 및 5의 잉크를 Xerox® Phaser® 8860 프린터에 투입하여 분사 및 인쇄 평가를 수행하였다. 중실 영역의 전체 페이지 인쇄물은 누락 또는 약한 젯 없이 성공적으로 인쇄되었다. 프린터 내에서 밤새 미-대기 (no-standby) 가열 후에도, 재-인쇄된 중실 영역 페이지는 거의 또는 전혀 누락 젯이 없었다. 프린터 내에서48 시간 미 대기 가열 후, 중실 영역 인쇄물에서 약한 및/또는 누락 젯이 관찰될 수 있다. 그러나, 잉크를 퍼징하면 이러한 약한/누락 젯이 회복되고 약한/누락 젯 없는 양호한 중실 영역 인쇄물이 생성된다.
색 측정은, 예를들면, 통상 CIELAB로 언급되고, L*, a* 및 b* 는 3차원 공간을 형성하고 L* 은 명도, a* 는 대략 적색, b* 는 대략 황색을 특정하는 변경된 대향 색 좌표인CIE (Commission International de I'Eclairage) 사양으로 특정된다. 실시예 4 잉크에 대한 색 측정을 2 도 시야 각도에서 광원 D50으로 GretagMacbeth Spectrolino 색채계로 수행하였다.
바코드 적용을 위하여, 백색 잉크는 블랙 및 백색 영역 간의 콘트라스트가 바코드 판독기에 의해 읽히도록 판지 대부분의 황색 또는 갈색을 덮고 소정의 반사율을 가지는 백색을 보이기 위한 높은 은폐력이 필요하다. 본 실시태양들의 잉크를 Xerox® Phaser® 8860을 이용하여 유색 용지에 인쇄한 후 중실 영역 인쇄물의 색채 및 반사율을 측정하였다. 표 6은 포도색 용지에서 백색 잉크 실시예 4의 색도 분석을 제공하고 L 값들은 증가되었고 백색 잉크의 은폐력을 보인다.
포도색 용지에서 잉크 실시예 4의 중실 영역 인쇄물 색채
L* a* B*
단지 (only) 포도색 용지 54.284 29.207 -57.523
백색 인쇄물
(해상도 525x450)
78.166 4.972 -20.536
백색 인쇄물 (해상도 525x600) 81.248 3.104 -16.672
백색 인쇄물 (해상도 600x600) 82.107 2.703 -15.58
도 4는 MOHAWK BriteHue® Ultra 포도색 용지 만, 및 Mohawk BriteHue® Ultra 포도색 용지에 인쇄된 실시예 4 잉크의 525 x 450 해상도에서 백색 인쇄물, 525 x 600 해상도에서 백색 인쇄물, 및 600 x 600 해상도에서 백색 인쇄물의 반사율 (y-축) 대 파장 (나노미터)을 보인다. 도 4는 470 나노미터 내지 670 나노미터 범위에서 반사율 개선을 보인다.
도 5 및 6은 잉크 실시예 5, 6, 8, 및 10의 청색 용지 및 포도색 용지에 인쇄된 해상도 525 X 450에서 중실 영역 인쇄물의 반사율 (y-축) 대 파장 (x-축, 나노미터)을 도시한 것이고 반사율 개선을 보인다.
본 발명의 잉크 실시예를 평가하기 위하여 투명하고 어두운 안경렌즈에 인쇄하였다. 인쇄된 잉크는 투명하고 어두운 렌즈 모두에 특히 양호한 콘트라스트를 보였다.

Claims (10)

  1. 백색 상 변화 잉크 조성물로서,
    상 변화 잉크 전색제; 및
    표면을 가지는 백색 착색제와 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함하는, 백색 상 변화 잉크 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 상 변화 잉크 전색제는 왁스, 레진, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군의 멤버를 포함하는, 백색 상 변화 잉크 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 상 변화 잉크 전색제는 탄화수소, 아미드, 우레탄, 에스테르, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군에서 선택되는 멤버를 포함하는, 백색 상 변화 잉크 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 상 변화 잉크 전색제는 직쇄 탄화수소 왁스, 분지 탄화수소 왁스, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군에서 선택되는 왁스를 포함하는, 백색 상 변화 잉크 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 백색 착색제는 표면을 가지는 안료이고 상기 고분자 분산제는 안료의 표면에 결합되는, 백색 상 변화 잉크 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 백색 착색제는 표면을 가지는 백색 착색제, 및 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함하는 왁스 분산액 형태로 제공되는, 백색 상 변화 잉크 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 백색 착색제는 이산화티탄 안료, 루틸, 산화아연 안료, 황화아연 안료, 탄산칼슘 안료, 점토, 리토폰, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군에서 선택되는, 백색 상 변화 잉크 조성물.
  8. 백색 상 변화 잉크 조성물을 포함하는 잉크젯 프린터 스틱 또는 펠렛으로서, 상기 백색 상 변화 잉크 조성물은,
    상 변화 잉크 전색제; 및
    표면을 가지는 백색 착색제와 백색 착색제 표면에 화학적으로 결합하는 고분자 분산제를 포함하는, 잉크젯 프린터 스틱 또는 펠렛.
  9. 제8항에 있어서, 상기 백색 착색제는 이산화티탄 안료, 루틸, 산화아연 안료, 황화아연 안료, 탄산칼슘 안료, 점토, 리토폰, 및 이들의 혼합물 및 조합물로 이루어진 군에서 선택되는, 잉크젯 프린터 스틱 또는 펠렛.
  10. 제8항에 있어서, 상기 백색 착색제는 표면을 가지는 안료이고 상기 고분자 분산제는 안료 표면에 결합되는, 잉크젯 프린터 스틱 또는 펠렛.
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