KR20160071582A - Cleaning composition for removing silicon based scale - Google Patents
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Abstract
Description
실리콘계 스케일을 제거하는 세정액 조성물에 관한 것이다.
Based scale.
산세 공정의 설비, 분리막을 이용하여 수중의 이온을 제거하는 설비 및 스팀을 생산하는 보일러 설비 등은 공정에 사용되는 용액과 접촉하여 설비의 각종 부위에 다양한 석출물을 생성하기 쉽다. 상기 석출물을 스케일이라고 하는데, 스케일의 종류는 칼슘, 마그네슘과 같은 경도 성분에 의한 경도 성분 스케일, 철, 구리, 아연 등의 금속 이온 성분에 의한 금속 성분 스케일 및 실리콘 산화물에 의한 실리콘계 스케일 등이 있다. 특히, 경도 성분 스케일이나 금속 성분 스케일은 실리콘계 스케일과 함께 발생하는 경우가 많다.
Facilities for the pickling process, equipment for removing ions in the water using a separation membrane, and boiler equipment for producing steam are likely to generate various precipitates in various parts of the facility by contacting the solution used in the process. The precipitate is referred to as a scale. The scale includes hardness component scales based on hardness components such as calcium and magnesium, metal component scales based on metal ion components such as iron, copper and zinc, and silicon scales based on silicon oxide. In particular, hardness component scales and metal component scales often occur together with silicon scales.
상기 스케일을 저감하기 위하여 용액 내에 스케일 발생 물질이 유입되지 않도록 사전에 제거하거나, 분산제 등의 약품을 사용하여 스케일 발생을 억제하는 기술이 있다. 그러나, 이미 생성된 스케일은 물리화학적 방법을 동원하지 않으면 제거하기 어렵다. 더욱이, 상기 스케일을 제거하지 않으면 공정의 효율이 급격히 감소하며, 이로 인해, 설비 교체로 인한 비용이 발생할 수 있어 스케일의 제거 기술이 매우 중요하다.
In order to reduce the scale, there is a technique for eliminating the scale generation substance in advance to prevent the scale generation substance from flowing into the solution, or suppressing the scale generation by using a medicine such as a dispersant. However, the scales already generated are difficult to remove unless physicochemical methods are used. In addition, if the scale is not removed, the efficiency of the process is drastically reduced, which may result in cost due to facility replacement, and the scale removal technique is very important.
통상적으로, 스케일은 강산의 산용액을 이용하여 세정하여 제거하는 경우가 대부분이나, 실리콘계 스케일의 경우에는 실리콘 산화물(SiO2)이 산성조건에서 형성되므로 알칼리용액를 이용하여 세정하여야 하며, 특히, 강알칼리수를 이용하여 고온에서 장시간 세척해야 한다. 이러한 경우 고온에서 장시간 작업에 따른 어려움이 많으며, 세척수의 처리 비용이 고가이다. 또한, 타 성분 스케일과 공존시에는 산 세척과 알칼리 세척을 함께 수행해야 하는 번거로움까지 존재한다.
Usually, the scale is often cleaned and removed by using an acid solution of strong acid. In the case of a silicon scale, silicon oxide (SiO 2 ) is formed under acidic conditions, so it must be cleaned with an alkaline solution. In particular, For a long time at a high temperature. In such a case, there is a great deal of difficulty in long-time operation at a high temperature, and the treatment cost of the washing water is high. In addition, when coexisting with other component scales, it is necessary to carry out acid washing and alkali washing together.
불산(HF)을 이용하면 산성 조건에서 실리콘계 스케일을 제거할 수 있으나, 상기 불산은 대부분의 금속 물질이나 합성수지 물질까지도 부식 내지 변형시키는 특성이 있어 세정용으로는 적합하지 못하다.
The hydrofluoric acid (HF) can remove the silicon scale under acidic conditions, but the hydrofluoric acid is not suitable for cleaning since it has the property of corroding or deforming most metallic materials and synthetic resin materials.
본 발명은 단일 세정액으로 실리콘계 스케일과 함께 경도 성분 스케일 및 금속 성분 스케일 등을 동시에 제거하여, 별도의 알칼리 세정 공정을 거치지 않아 공정이 간단하고, 세정효과도 우수한 실리콘계 스케일 제거용 산성 및 중성 세정액 조성물을 제공하고자 한다.
The present invention relates to an acidic and neutral cleaning liquid composition for removing a silicon based scale, which is simple in process and excellent in cleaning effect because a hardness component scale, a metal component scale and the like are simultaneously removed with a single cleaning liquid, .
본 발명의 일 실시예에 따르면, 불화규소화합물 및 중불화암모늄(NH4F.HF)에서 선택된 하나 이상을 포함하는 수용액이며, pH가 3.5 내지 6.5인 실리콘계 스케일 제거용 산성 세정액 조성물을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided an acidic cleaning liquid composition for scaling down a silicon-based scale having an aqueous solution containing at least one selected from a silicon fluoride compound and ammonium nitrate (NH4F.HF) and having a pH of 3.5 to 6.5.
상기 불화규소화합물은 불화규소나트륨(Na2SiF6), 불화규소칼륨(K2SiF6) 또는 이들의 혼합물일 수 있다.The silicon fluoride compound may be sodium fluoride (Na 2 SiF 6 ), silicon fluoride (K 2 SiF 6 ), or a mixture thereof.
상기 불화규소화합물은 1 내지 20 중량%의 함량을 가질 수 있다.The silicon fluoride compound may have an amount of 1 to 20% by weight.
상기 중불화암모늄(NH4F.HF)은 0.1 내지 5 중량%의 함량을 가질 수 있다.The ammonium fluoride (NH 4 F.HF) may have an amount of 0.1 to 5 wt%.
상기 pH는 황산, 염산, 질산 및 인산에서 선택된 하나 이상의 pH 조절제로 조절될 수 있다.
The pH can be adjusted with one or more pH adjusters selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and phosphoric acid.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 불화규소화합물 및 중불화암모늄에서 선택된 하나 이상을 포함하는 수용액이며, pH가 6.5 내지 8.5인 실리콘계 스케일 제거용 중성 세정액 조성물을 제공한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a neutral detergent composition for scaling down a silicon-based scale having an aqueous solution containing at least one selected from a silicon fluoride compound and ammonium nitrate and having a pH of 6.5 to 8.5.
상기 불화규소화합물은 불화규소나트륨, 불화규소칼륨 또는 이들의 혼합물일 수 있다.The silicon fluoride compound may be sodium fluoride, silicon fluoride, or a mixture thereof.
상기 불화규소화합물은 0.1 내지 5 중량%의 함량을 가질 수 있다.The silicon fluoride compound may have an amount of 0.1 to 5% by weight.
상기 중불화암모늄은 1 내지 20 중량%의 함량을 가질 수 있다.The amount of the ammonium boronized ammonium may be 1 to 20% by weight.
상기 pH는 황산, 염산, 질산, 인산, 수산화나트륨, 수산화칼슘, 소석회, 탄산칼슘 및 탄산수소나트륨에서 선택된 하나 이상의 pH 조절제로 조절될 수 있다.The pH may be adjusted with one or more pH regulators selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, sodium hydroxide, calcium hydroxide, calcium hydroxide, calcium carbonate and sodium bicarbonate.
상기 세정액 조성물은 완충액을 더 포함할 수 있다.The cleaning liquid composition may further comprise a buffer solution.
상기 완충액은 나트륨계 인산염 완충액 및 칼륨염계 인산염 완충액에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
The buffer may be at least one selected from sodium phosphate buffer and potassium phosphate buffer.
본 발명의 실리콘계 스케일 제거용 산성 및 중성 세정액 조성물은 단일 세정액으로 실리콘계 스케일과 함께 경도 성분 스케일 및 금속 성분 스케일 등을 동시에 제거하여, 별도의 알칼리 세정 공정을 거치지 않아 공정이 간단하고, 세정효과도 우수하다.
The acidic and neutral cleaning liquid compositions for removing scale scale of silicon according to the present invention can remove a hardness component scale, a metal component scale and the like together with a silicon scale with a single cleaning solution, so that the process is simple and the cleaning effect is excellent Do.
도 1은 실리콘계 스케일이 형성된 샘플 측면의 사진이다.
도 2는 실리콘계 스케일이 형성된 샘플 일면의 사진이다.
도 3은 샘플에 생성된 스케일을 제거하기 위한 장치의 사진이다.
도 4는 샘플에 생성된 스케일을 제거하기 위한 장치의 개념도이다.
도 5는 샘플에 생성된 스케일을 세정한 후 실시예, 비교예 1 및 2의 세정액 사진이다.
도 6은 실시예의 세정액으로 세정한 샘플의 사진이다.
도 7은 비교예 2의 세정액으로 세정한 샘플의 사진이다.1 is a photograph of a sample side on which a silicon-based scale is formed.
2 is a photograph of one surface of the sample on which the silicon scale is formed.
3 is a photograph of an apparatus for removing scale generated in a sample.
4 is a conceptual diagram of an apparatus for removing a scale generated in a sample.
5 is a photograph of the cleaning liquid of Examples, Comparative Examples 1 and 2 after cleaning the scales produced in the sample.
6 is a photograph of a sample washed with the cleaning liquid of the example.
7 is a photograph of a sample washed with the cleaning liquid of Comparative Example 2. Fig.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시 형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below.
본 발명에서는 불소화합물로 이루어진 세정액 조성물을 제공하여 실리콘계 스케일을 제거하고자 한다. 상기 불소화합물은 불소 이온(F-)을 포함하고 있으며, 상기 불소 이온은 실리콘계 스케일을 용해하는데 용이하다. 하지만, 상기 불소 이온이 불산의 형태로 존재하는 경우, 대부분의 금속 물질이나 합성수지 물질까지도 부식 내지 변형시키는 특성이 있으므로, 불산의 형태로 유리되는 양이 거의 없는 불소화합물로 이루어진 세정액 조성물이 필요하다.
In the present invention, a cleaning liquid composition composed of a fluorine compound is provided to remove a silicon scale. The fluorine compound includes fluorine ion (F - ), and the fluorine ion is easy to dissolve the silicon scale. However, when the fluorine ion is present in the form of hydrofluoric acid, since most metallic materials and synthetic resin materials are also corroded or deformed, a cleaning liquid composition composed of a fluorine compound substantially free from hydrofluoric acid is required.
이에 따라, 불산으로 유리되는 양이 거의 없는 불소화합물인 불화규소나트륨, 불화규소칼륨 및 중불화암모늄에서 선택된 하나 이상을 포함하는 세정액을 사용하여 실리콘계 스케일을 제거하는 것이 바람직하다.
Accordingly, it is preferable to remove the silicon-based scale using a cleaning liquid containing at least one selected from the group consisting of sodium fluoride, silicon fluoride, potassium fluoride, and ammonium fluoride, which are almost free from fluoric acid.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 불화규소화합물 및 중불화암모늄에서 선택된 하나 이상을 포함하는 수용액이며, 상기 불화규소 화합물은 불화규소나트륨, 불화규소칼륨 또는 이들의 혼합물인 실리콘 스케일 제거용 중성 세정액 조성물을 제공할 수 있다.
According to an embodiment of the present invention, there is provided an aqueous solution containing at least one selected from a silicon fluoride compound and ammonium fluoride, wherein the silicon fluoride compound is sodium silicate fluoride, potassium silicon fluoride or a mixture thereof, Can be provided.
상기 불화규소나트륨, 불화규소칼륨 및 중불화암모늄은 실리콘계 스케일을 제거하는 불소를 포함하는 화합물이며, 불산의 형태로 유리되는 양이 거의 없으므로 산성 또는 중성의 조건에서 설비에 생성된 스케일을 제거할 수 있다. 상기 스케일은 실리콘계 스케일 외에도, 경도 성분 스케일 및 금속 성분 스케일을 포함할 수 있다.
The sodium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride and ammonium fluoride are fluorine-containing compounds that remove the silicon scale and since there is little liberation in the form of hydrofluoric acid, the scales generated in the facility can be removed under acidic or neutral conditions have. In addition to the silicon-based scale, the scale may include a hardness component scale and a metal component scale.
본 발명은 산성의 조건에서 스케일을 제거하는 세정액 조성물을 제조할 수 있으며, 이때 pH는 3.5 내지 6.5인 것이 바람직하다. 상기 pH 범위가 3.5 미만이면 불소 이온이 불산으로 전환되어 금속 물질 및 합성수지 물질 등을 포함하는 소재의 부식과 변형을 초래하므로 설비를 보호하는 기능을 수행하기 어려우며, pH 범위가 6.5 초과하면 실리콘계 스케일에 포함된 실리콘 성분을 용해할 수 있으나 경도성분 스케일이나 금속 성분 스케일은 용해가 불가하다.
The present invention can produce a cleaning liquid composition that removes scale under acidic conditions, wherein the pH is preferably 3.5 to 6.5. If the pH range is less than 3.5, the fluorine ions are converted into hydrofluoric acid, which causes corrosion and deformation of the material including the metal material and the synthetic resin material. Therefore, it is difficult to protect the facility. When the pH range exceeds 6.5, It is possible to dissolve the contained silicon components, but not the hardness component scale or the metal component scale.
상기 세정액의 pH를 조절하기 위한 pH 조절제는 세정액의 pH 범위를 3.5 내지 6.5로 조절할 수 있는 것이라면 사용가능하나, 예를 들면, 황산, 염산, 질산 및 인산에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
The pH adjusting agent for adjusting the pH of the washing liquid may be any one which can adjust the pH range of the washing liquid to 3.5 to 6.5, but may be at least one selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and phosphoric acid.
상기 산성 세정액 조성물에 포함되는 불화규소화합물은, 전체 조성물 함량에 대하여, 1 내지 20 중량%의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 불화규소화합물의 함량이 1 중량% 미만이면 실리콘계 스케일 물질의 용해력이 거의 없어지며, 20 중량% 초과하면 불화규소화합물의 해리에 의한 불산 성분의 발생으로 재질을 급격히 부식시킬 우려가 있다.
The silicon fluoride compound contained in the acidic cleaning liquid composition is preferably contained in an amount of 1 to 20% by weight based on the total composition. If the content of the silicon fluoride compound is less than 1% by weight, the solubility of the silicon-based scale material is substantially lost. If the content is more than 20% by weight, the hydrofluoric acid component may be generated by dissociation of the silicon fluoride compound, thereby rapidly corroding the material.
한편, 상기 중불화암모늄은, 전체 조성물 함량에 대하여, 0.1 내지 5 중량%의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 중불화암모늄의 함량이 0.1 중량% 미만이면 중불화암모늄이 불화규소화합물로 변경되면서 용해된 실리콘 스케일을 안정화 시키는 기능이 약화되며, 5 중량% 초과하면 중불화암모늄에 포함된 불산이 해리하여 재질을 급격히 부식시킬 우려가 있다.
On the other hand, it is preferable that the ammonium bromide is contained in an amount of 0.1 to 5% by weight based on the total composition. If the amount of the ammonium boronated ammonium is less than 0.1 wt%, the function of stabilizing the dissolved silicon scale is weakened while the ammonium fluoride is changed to the silicon fluoride compound. When the amount exceeds 5 wt%, the hydrofluoric acid contained in the ammonium fluoride dissociates There is a risk of abrupt corrosion.
상술한 산성 세정액 조성물은 내산성 재질로 이루어진 공정에서 안전하게 사용할 수 있으나, 내산성 재질이 아닌 소재로 이루어진 설비에서는 사용할 수 없으므로 중성 세정액 조성물이 필요하다. 따라서, 상기 중성 세정액 조성물은 내산성 소재로 이루어진 설비 또는 내산 처리를 하지 않은 설비에서 사용하여 실리콘계 스케일을 제거할 수 있다.
The above-mentioned acidic cleaning liquid composition can be safely used in a process made of an acid-resistant material, but a neutral cleaning liquid composition is required because it can not be used in a facility made of a material other than an acid-resistant material. Accordingly, the neutral cleaning liquid composition can be used in a facility made of an acid resistant material or in an equipment not subjected to an acid treatment to remove the silicon scale.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 불화규소화합물 및 중불화암모늄에서 선택된 하나 이상을 포함하는 수용액이며, pH가 6.5 내지 8.5인 실리콘 스케일 제거용 중성 세정액 조성물을 제공할 수 있다.
According to another embodiment of the present invention, it is possible to provide an aqueous solution containing at least one selected from a silicon fluoride compound and ammonium fluoride, and having a pH of 6.5 to 8.5.
중성 세정액 조성물의 pH는 6.5 내지 8.5인 것이 바람직하며, 상기 pH가 6.5 미만이면 내산성 재질이 아닌 소재로 이루어진 설비에서 사용할 수 없으며, 8.5 초과하면 알칼리 조건이 되어 알칼리 세정과 유사하며, 고온에서 장시간 세척해야 하므로 비경제적이다. pH를 조절하기 위한 pH 조절제는 중성 세정액 조성물의 pH가 6.5 내지 8.5가 되도록 조절되는 것이면 제한이 없으나, 예를 들면, 황산, 염산, 질산, 인산, 수산화나트륨, 수산화칼슘, 소석회, 탄산칼슘 및 탄산수소나트륨에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
The pH of the neutral cleaning liquid composition is preferably 6.5 to 8.5, and if the pH is less than 6.5, it can not be used in a facility made of materials other than acidic materials. If the pH is more than 8.5, it is alkaline and similar to alkali cleaning. It is uneconomical. The pH adjusting agent for adjusting the pH is not particularly limited as long as the pH of the neutral detergent composition is adjusted to be 6.5 to 8.5. Examples of the pH adjusting agent include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, sodium hydroxide, calcium hydroxide, Sodium. ≪ / RTI >
상기 중성 세정액 조성물에 포함된 불화규소화합물은 불화규소나트륨, 불화규소칼륨 또는 이들의 혼합물일 수 있으며, 상기 불화규소화합물은, 전체 중성 세정액 조성물에 대하여, 0.1 내지 5 중량%의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 불화규소화합물의 함량이 0.1 중량% 미만이면 실리콘계 스케일의 용해력이 거의 없어지며, 5 중량% 초과하면 불화규소화합물의 용해도가 낮아져 불화규소화합물 자체가 슬러지화 될 수 있고, 오히려 스케일 성분을 증가시킬 우려가 있다.
The silicon fluoride compound contained in the neutral cleaning liquid composition may be sodium fluoride, potassium fluoride, or a mixture thereof. The silicon fluoride compound may be contained in an amount of 0.1 to 5% by weight based on the total neutral cleaning liquid composition desirable. If the content of the silicon fluoride compound is less than 0.1% by weight, the solubility of the silicon-based scale hardly disappears. If the content exceeds 5% by weight, the solubility of the silicon fluoride compound is lowered and the silicon fluoride compound itself can be sludged, There is a concern.
또한, 상기 중성 세정액 조성물에 포함된 중불화암모늄은, 전체 중성 세정액 조성물에 대하여, 1 내지 20 중량%의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 중불화암모늄의 함량이 1 중량% 미만이면 중불화암모늄이 불화규소화합물로 변경되면서 용해된 실리콘 스케일을 안정화시키는 기능이 약화되며, 20 중량% 초과하면 중불화암모늄에 포함된 불산이 해리하여 재질을 급격히 부식시킬 우려가 있다.
In addition, it is preferable that the neutralized ammonium contained in the neutral detergent composition is contained in an amount of 1 to 20% by weight based on the total neutral detergent composition. If the amount of the ammonium fluoride is less than 1% by weight, the function of stabilizing the dissolved silicon scale is weakened while the ammonium fluoride is changed to the silicon fluoride compound. When the amount exceeds 20% by weight, the hydrofluoric acid contained in the ammonium fluoride dissociates There is a risk of abrupt corrosion.
한편, 본 발명의 중성 세정액 조성물은 완충액을 더 포함할 수 있다. 상기 완충액은 중성의 조성물에 산 또는 알칼리를 소량으로 첨가하여도 pH가 변하지 않도록 하는 것이라면 제한 없이 사용할 수 있으나, 예를 들어, 나트륨계 인산염 완충액 및 칼륨염계 인산염 완충액에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
Meanwhile, the neutral cleaning liquid composition of the present invention may further comprise a buffer solution. The buffer solution may be used without limitation as long as pH is not changed even if a small amount of acid or alkali is added to the neutral composition. For example, the buffer solution may be at least one selected from sodium phosphate buffer and potassium phosphate buffer solution.
이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시에 불과하며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of specific examples. The following examples are provided to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.
[실시예][Example]
불화규소나트륨 10 중량%, 중불화 암모늄 2 중량% 및 물 88 중량%를 혼합하여 세정액 조성물을 제조하고, 황산을 이용하여 상기 조성물의 pH가 4.0이 되도록 조절하여 산성 세정액 조성물을 제조했다. 이로 인해 제조된 조성물을 산성 세정액으로 하여, 제철공정의 염산 산세공정에서 실리콘계 스케일이 형성된 엘보우 부분의 배관(이하, '샘플'이라고 합니다. 도 1 및 2)을 세정하였다. 상기 샘플(1)의 양쪽 끝에 호스(2)를 연결하여 도 3의 장치에서 세정액의 세정력을 시험했다. 도 4는 샘플에 생성된 스케일을 제거하기 위한 시험 장치의 개념도로서, 상기 시험 장치는 호스(2), 세정액 용기(3), 순환 펌프(4) 및 조작 판넬(5)을 포함하고 있으며, 상기 세정액 용기는 4L의 세정액을 저장할 수 있고, 설비 내부의 온도를 조절하는 기능이 있다.
A cleaning liquid composition was prepared by mixing 10% by weight of sodium fluoride, 2% by weight of ammonium bromide and 88% by weight of water, and adjusting the pH of the composition to 4.0 using sulfuric acid to prepare an acidic cleaning composition. The thus prepared composition was used as an acidic cleaning liquid, and piping (hereinafter referred to as "sample") (FIG. 1 and FIG. 2) of an elbow portion in which a silicon scale was formed in a hydrochloric acid pickling process of a steel making process was cleaned. A hose (2) was connected to both ends of the sample (1) to test the washing power of the washing liquid in the apparatus of FIG. 4 is a conceptual diagram of a test apparatus for removing scale generated in a sample. The test apparatus includes a
[비교예 1][Comparative Example 1]
세정액으로 증류수를 이용하며, 이를 세정액 용기(3)에 공급하였다. 도 3의 장치를 이용하여 증류수 세정액의 세정력을 시험했다.
Distilled water was used as a cleaning liquid, which was supplied to the cleaning
[비교예 2][Comparative Example 2]
세정액으로 NaOH 10% 용액을 이용하며, 이를 세정액 용기(3)에 공급하였다. 도 3의 장치를 이용하여 NaOH 10% 용액의 세정력을 시험했다.
A 10% NaOH solution was used as a cleaning liquid, which was supplied to the cleaning
실시예, 비교예 1 및 2의 세정액을 이용한 세정력 시험은, 도 3의 설비 내부 온도를 50℃로 유지하고 10분 동안 세정을 실시하였다. 도 5는 샘플에 생성된 스케일을 세정한 후 실시예, 비교예 1 및 2의 세정액 사진으로, 실시예 및 비교예 2의 세정액에서 색도가 강하게 나타나 세정이 많이 이루어짐을 보여준다. 또한, 도 6은 실시예의 세정액으로 세정한 샘플의 사진이며, 도 7은 비교예 2의 세정액을으로 세정한 샘플의 사진으로, 이를 통해, 실시예의 세정액을 이용한 세정이 비교예 2의 세정액에 비하여 우수하는 것을 확인했다. 상기 도 5, 6 및 7에 나타난 바에 따르면, 실시예의 세정액을 이용한 경우에 비교예 1 및 2의 세정액에 비해 세정력이 우수하다.
In the cleaning power test using the cleaning liquids of Examples and Comparative Examples 1 and 2, the internal temperature of the apparatus shown in Fig. 3 was maintained at 50 占 폚 and cleaned for 10 minutes. FIG. 5 shows photographs of the cleaning liquids of Examples and Comparative Examples 1 and 2 after washing the scales generated in the sample. In the cleaning liquids of Examples and Comparative Example 2, the chromaticity was strong, indicating that much cleaning occurred. 7 is a photograph of a sample washed with the cleaning liquid of Comparative Example 2, showing that the cleaning using the cleaning liquid of the Example is superior to the cleaning liquid of Comparative Example 2, I confirmed that it is excellent. As shown in FIGS. 5, 6 and 7, when the cleaning liquid of the embodiment is used, the cleaning ability is superior to that of the cleaning liquids of Comparative Examples 1 and 2.
하기 표 1은 세정액의 세정력 시험이 끝난 후 세정액에 녹아나온 성분을 분석하여 각 성분의 함량을 나타낸 표에 해당한다.
Table 1 below is a table showing the content of each component after analyzing the components dissolved in the cleaning liquid after the washing power of the cleaning liquid is tested.
(단위: mg/L)division
(Unit: mg / L)
* Tr(Trace): ICP 분석 결과 금속 함량이 0.0001 mg/L 이하.
* Tr (Trace): ICP analysis shows that the metal content is less than 0.0001 mg / L.
표 1에 기재된 바에 따르면, 실시예의 세정액이 비교예 2의 세정액에 비하여 실리콘 성분이 200배 이상으로 더 많이 용해되어 나오는 것을 확인했으며, 그 외 금속 스케일 성분인 Fe, Al, Cr 등의 성분과 경도스케일 성분인 Ca, Mg 등의 성분이 훨씬 많이 용해되므로 실시예의 세정액이 세정 효과가 탁월하다는 것을 확인했다.
As shown in Table 1, it was confirmed that the cleaning solution of the Example dissolves more than 200 times of the silicon component in comparison with the cleaning solution of Comparative Example 2, and the components of Fe, Al, Cr, Components such as Ca and Mg, which are scale components, are much dissolved, and thus it was confirmed that the cleaning solution of the examples is excellent in cleaning effect.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be obvious to those of ordinary skill in the art.
1: 샘플
2: 호스
3: 세정액 용기
4: 순환 펌프
5: 조작 판넬1: sample
2: Hose
3: Cleaning liquid container
4: circulation pump
5: Operation panel
Claims (12)
(NH 4 F.HF), and having a pH of 3.5 to 6.5. The acidic cleaning liquid composition for removing silicon-based scale according to claim 1,
The acidic cleaning composition for removing scale scale according to claim 1, wherein the silicon fluoride compound is sodium fluoride (Na 2 SiF 6 ), silicon fluoride (K 2 SiF 6 ), or a mixture thereof.
The silicon-based scale removal acidic cleaning liquid composition according to claim 1, wherein the silicon fluoride compound has a content of 1 to 20% by weight.
The cleaning composition according to claim 1, wherein the ammonium nitrate (NH 4 F.HF) has a content of 0.1 to 5 wt%.
2. The acidic cleaning composition of claim 1, wherein the pH is controlled by one or more pH adjusters selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and phosphoric acid.
(NH 4 F. HF), and having a pH of 6.5 to 8.5.
The silicone cleaning composition according to claim 6, wherein the silicon fluoride compound is sodium fluoride (Na 2 SiF 6 ), silicon fluoride (K 2 SiF 6 ), or a mixture thereof.
The silicone cleaning composition according to claim 6, wherein the silicon fluoride compound has a content of 0.1 to 5% by weight.
The cleaning composition according to claim 6, wherein the ammonium nitrate (NH 4 F. HF) has a content of 1 to 20 wt%.
7. The neutral cleaning liquid composition of claim 6, wherein the pH is controlled by at least one pH regulator selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, sodium hydroxide, calcium hydroxide, calcium hydroxide, calcium carbonate and sodium hydrogencarbonate.
The silicone cleaning composition according to claim 6, wherein the cleaning liquid composition further comprises a buffer solution.
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