KR20160061153A - Display device using semiconductor light emitting device - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a display device. The display device comprises: a wiring board including a plurality of electrode lines; a conductive bonding layer connected with the wiring board; a plurality of semiconductor light-emitting devices electrically connected with the electrode lines, and coupled to the conductive bonding layer; a red luminescent material disposed along one of the electrode lines, and converting light emitted from the semiconductor light emitting devices arranged along the one line to red; and a green luminescent material disposed along another one of the electrode lines, and converting light emitted from the semiconductor light emitting devices arranged along the another one line to green. Luminescent areas included in the red and green luminescent materials are separately disposed with a separation unit interposed therebetween.

Description

반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치{DISPLAY DEVICE USING SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE}Technical Field [0001] The present invention relates to a display device using a semiconductor light-

본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로 특히, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device using a semiconductor light emitting device.

최근에는 디스플레이 기술분야에서 박형, 플렉서블 등의 우수한 특성을 가지는 디스플레이 장치가 개발되고 있다. 이에 반해, 현재 상용화된 주요 디스플레이는 LCD(Liguid Crystal Display)와 AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes)로 대표되고 있다. In recent years, display devices having excellent characteristics such as a thin shape and a flexible shape in the field of display technology have been developed. On the other hand, major displays that are commercialized today are represented by LCD (Liguid Crystal Display) and AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting Diodes).

한편, 이러한 디스플레이 장치는, 주변 밝기에 따라 시인성이 달라지며, 야외용 디스플레이 장치는, 통상적으로 실내용 디스플레이 장치보다 높은 휘도를 요구한다. On the other hand, in such a display device, the visibility is changed according to the surrounding brightness, and the outdoor display device usually requires higher luminance than the indoor display device.

본 발명의 일 목적은 주변 밝기의 변화에 대응하여 시인성을 확보할 수 있는 디스플레이 장치를 제공하기 것이다.An object of the present invention is to provide a display device capable of ensuring visibility in response to a change in ambient brightness.

본 발명의 다른 일 목적은 야간, 실내, 실외 등 다양한 주변광 환경에서 디스플레이 장치의 시인성을 개선하기 위해 디스플레이 장치의 밝기를 변화시키는 구동회로 및 그 방법을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a driving circuit for changing the brightness of a display device and a method thereof for improving the visibility of the display device in various ambient light environments such as night, indoor, and outdoor.

본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 데이터 전극 라인, 상기 데이터 전극 라인과 전기적으로 연결되며, 상기 데이터 전극 라인을 통해 공급되는 전류를 공급받는 반도체 발광소자, 상기 데이터 전극 라인 및 상기 반도체 발광소자와 전기적으로 연결되며, 상기 데이터 전극 라인을 통해 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 조절하는 커런트 미러부 및 주변 조도에 근거하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양이 달라지도록 상기 커런트 미러부를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.A display device according to the present invention includes a data electrode line, a semiconductor light emitting element electrically connected to the data electrode line, and supplied with a current supplied through the data electrode line, a semiconductor light emitting element electrically connected to the data electrode line, And the current mirror unit is controlled so that an amount of a current supplied to the semiconductor light emitting device is changed based on a current mirror unit and an ambient illuminance that adjust the amount of current supplied to the semiconductor light emitting device through the data electrode line, And a control unit for controlling the display unit.

실시 예에 있어서, 상기 제어부는, 상기 주변 조도에 근거하여, 상기 커런트 미러부를 제1 동작 모드 및 제2 동작 모드 중 어느 하나의 동작 모드로 구동 시키고, 상기 제1 동작 모드에서 상기 반도체 발광소자에 공급되는 전류의 양은, 상기 제2 동작 모드에서 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양보다 큰 것을 특징으로 한다.In one embodiment of the present invention, the control unit drives the current mirror unit in one of the first operation mode and the second operation mode based on the ambient illuminance, And the amount of the supplied current is larger than the amount of the current supplied to the semiconductor light emitting element in the second operation mode.

실시 예에 있어서, 상기 제1 동작 모드에 대응되는 주변 조도는, 상기 제2 동작 모드에 대응되는 주변 조도 보다 큰 것을 특징으로 한다.In an embodiment, the ambient illuminance corresponding to the first operation mode is larger than the ambient illuminance corresponding to the second operation mode.

실시 예에 있어서, 상기 제어부는, PWM(Pulse Width Modulation) 방식으로 상기 데이터 전극 라인에 공급되는 전류를 제어하고, 상기 제1 동작 모드와 상기 제2 동작 모드에서의 펄스 전압은 서로 다른 것을 특징으로 한다.In an embodiment, the control unit controls a current supplied to the data electrode line by a PWM (Pulse Width Modulation) method, and the pulse voltage in the first operation mode and the pulse voltage in the second operation mode are different from each other do.

실시 예에 있어서, 상기 제1 동작 모드에서의 펄스 전압은, 상기 제2 동작 모드에서의 펄스 전압보다 큰 것을 특징으로 한다.In an embodiment, the pulse voltage in the first operation mode is larger than the pulse voltage in the second operation mode.

실시 예에 있어서, 상기 제1 동작 모드에서 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양은, 상기 제2 동작 모드에서 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양보다 많고, 상기 제1 동작 모드에의 펄스 전압은 상기 제2 동작 모드에서의 펄스 전압보다 큰 것을 특징으로 한다.In an embodiment, the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the first operation mode is larger than the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the second operation mode, and the pulse voltage Is larger than the pulse voltage in the second operation mode.

실시 예에 있어서, 주변 조도를 센싱하기 위한 조도 센서부를 더 포함하고, 상기 제어부는, 상기 조도 센서부를 통한 센싱 결과를 이용하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 제어하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor light emitting device may further include an illuminance sensor unit for sensing the ambient illuminance, and the control unit controls the amount of current supplied to the semiconductor light emitting unit using the sensing result of the illuminance sensor unit .

실시 예에 있어서, 상기 제어부는, 상기 센싱 결과, 주변 조도가 기 설정된 기준보다 큰 경우, 상기 커런트 미러부를 제어하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 증가시키고, 상기 센싱 결과, 주변 조도가 기 설정된 기준보다 작은 경우, 상기 커런트 미러부를 제어하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 감소시키는 것을 특징으로 한다.In one embodiment of the present invention, the control unit controls the current mirror unit to increase the amount of current supplied to the semiconductor light emitting device when the sensing result and the ambient illuminance are greater than a preset reference, The amount of current supplied to the semiconductor light emitting device is reduced by controlling the current mirror unit.

본 발명에 따른 데이터 전극 라인과의 전기적 연결을 통해 전류를 공급받는 반도체 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치는, 주변 조도를 센싱하는 단계, 및 상기 센싱된 주변 조도가 기준 조도 보다 큰 경우, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양이 증가하도록 상기 데이터 전극 라인 및 상기 반도체 발광소자와 전기적으로 연결되는 커런트 미러부를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.A display device including a semiconductor light emitting device that receives an electric current through an electrical connection with a data electrode line according to the present invention includes a step of sensing an ambient illuminance, and a step of, when the sensed ambient illuminance is greater than a reference illuminance, And controlling the current mirror unit electrically connected to the data electrode line and the semiconductor light emitting device so that the amount of current supplied to the device increases.

실시 예에 있어서, 상기 데이터 전극 라인에 공급되는 전류는, PWM(Pulse Width Modulation) 방식으로 제어되고, 상기 센싱된 주변 조도가 기준 조도 보다 큰 경우, 펄스 전압이 증가하는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the current supplied to the data electrode line is controlled by a PWM (Pulse Width Modulation) method, and the pulse voltage increases when the sensed ambient illuminance is greater than the reference illuminance.

본 발명에 따르면, 주변 조도의 변화에 따라 디스플레이 장치에 공급되는 전류의 양을 변화시킴으로써, 디스플레이 장치의 시인성을 확보할 수 있다. 이를 통해, 야간, 실내, 실외 등 다양한 주변광 환경에 구애받지 않는 디스플레이 장치를 제공하는 것이 가능하다.According to the present invention, visibility of the display device can be ensured by changing the amount of current supplied to the display device in accordance with the change in ambient illuminance. Accordingly, it is possible to provide a display device regardless of various ambient light environments such as night, indoor, and outdoor.

도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.
도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 취한 단면도들이다.
도 4는 도 3a의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.
도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.
도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.
도 7은 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 8은 도 7의 라인 C-C를 따라 취한 단면도이다.
도 9는 도 8의 수직형 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이다.
도 10은 본 발명에 따른 디스플레이 장치에 전류를 공급하는 방법을 설명하기 위한 블록도이다.
도 11은 본 발명에 따른 디스플레이 장치에 전류를 공급하는 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 12는 도 10 및 도 11에서 살펴본 전류 공급 방법을 설명하기 위한 개념도이다.
도 13은 전류 공급 양이 서로 다른 복수의 모드를 설명하기 위한 개념도이다.
1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
Fig. 2 is a partially enlarged view of part A of Fig. 1, and Figs. 3a and 3b are cross-sectional views taken along line BB and CC of Fig.
4 is a conceptual diagram showing a flip chip type semiconductor light emitting device of FIG. 3A.
FIGS. 5A to 5C are conceptual diagrams showing various forms of implementing a color in relation to a flip chip type semiconductor light emitting device.
6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
8 is a cross-sectional view taken along the line CC of Fig.
9 is a conceptual diagram showing a vertical semiconductor light emitting device of FIG.
10 is a block diagram illustrating a method of supplying current to a display device according to the present invention.
11 is a flowchart for explaining a method of supplying current to a display device according to the present invention.
FIG. 12 is a conceptual diagram for explaining the current supplying method shown in FIGS. 10 and 11. FIG.
13 is a conceptual diagram for explaining a plurality of modes in which the amounts of current supply are different from each other.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 됨을 유의해야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals are used to designate identical or similar elements, and redundant description thereof will be omitted. The suffix "module" and " part "for the components used in the following description are given or mixed in consideration of ease of specification, and do not have their own meaning or role. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of related arts will be omitted when it is determined that the gist of the embodiments disclosed herein may be blurred. In addition, it should be noted that the attached drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and should not be construed as limiting the technical idea disclosed in the present specification by the attached drawings.

또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 "상(on)"에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 중간 요소가 존재할 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.It is also to be understood that when an element such as a layer, region or substrate is referred to as being present on another element "on," it is understood that it may be directly on the other element or there may be an intermediate element in between There will be.

본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치에는 휴대폰, 스마트 폰(smart phone), 노트북 컴퓨터(laptop computer), 디지털방송용 단말기, PDA(personal digital assistants), PMP(portable multimedia player), 네비게이션, 슬레이트 피씨(Slate PC), Tablet PC, Ultra Book, 디지털 TV, 데스크탑 컴퓨터 등이 포함될 수 있다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시 예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품형태이라도, 디스플레이가 가능한 장치에는 적용될 수도 있음을 본 기술분야의 당업자라면 쉽게 알 수 있을 것이다.The display device described in this specification includes a mobile phone, a smart phone, a laptop computer, a digital broadcasting terminal, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP), a navigation device, a slate PC, , A Tablet PC, an Ultra Book, a digital TV, a desktop computer, and the like. However, it will be readily apparent to those skilled in the art that the configuration according to the embodiments described herein may be applied to a device capable of being displayed, even in the form of a new product to be developed in the future.

도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.

도시에 의하면, 디스플레이 장치(100)의 제어부에서 처리되는 정보는 플렉서블 디스플레이(flexible display)를 이용하여 표시될 수 있다. According to the illustrated example, the information processed in the control unit of the display device 100 may be displayed using a flexible display.

플렉서블 디스플레이는 외력에 의하여 휘어질 수 있는, 구부러질 수 있는, 비틀어질 수 있는, 접힐 수 있는, 말려질 수 있는 디스플레이를 포함한다. 예를 들어, 플렉서블 디스플레이는 기존의 평판 디스플레이의 디스플레이 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나, 구부리거나, 접을 수 있거나 말 수 있는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 디스플레이가 될 수 있다.The flexible display includes a display that can be bent, twistable, collapsible, and curlable, which can be bent by an external force. For example, a flexible display can be a display made on a thin, flexible substrate that can be bent, bent, folded or rolled like paper while maintaining the display characteristics of conventional flat panel displays.

상기 플렉서블 디스플레이가 휘어지지 않는 상태(예를 들어, 무한대의 곡률반경을 가지는 상태, 이하 제1상태라 한다)에서는 상기 플렉서블 디스플레이의 디스플레이 영역이 평면이 된다. 상기 제1상태에서 외력에 의하여 휘어진 상태(예를 들어, 유한의 곡률반경을 가지는 상태, 이하, 제2상태라 한다)에서는 상기 디스플레이 영역이 곡면이 될 수 있다. 도시와 같이, 상기 제2상태에서 표시되는 정보는 곡면상에 출력되는 시각 정보가 될 수 있다. 이러한 시각 정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(sub-pixel)의 발광이 독자적으로 제어됨에 의하여 구현된다. 상기 단위 화소는 R,G, B의 조합에 의해 형성되는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다.In a state where the flexible display is not bent (for example, a state having an infinite radius of curvature, hereinafter referred to as a first state), the display area of the flexible display is flat. In the first state, the display area may be a curved surface in a state of being bent by an external force (for example, a state having a finite radius of curvature, hereinafter referred to as a second state). As shown in the figure, the information displayed in the second state may be time information output on the curved surface. Such visual information is realized by independently controlling the emission of a sub-pixel arranged in a matrix form. The unit pixel means a minimum unit for implementing one color formed by a combination of R, G, and B.

상기 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 반도체 발광 소자에 의하여 구현될 수 있다. 본 발명에서는 전류를 빛으로 변환시키는 반도체 발광 소자의 일 종류로서 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)를 예시한다. 상기 발광 다이오드는 작은 크기로 형성되며, 이를 통하여 상기 제2상태에서도 단위 화소의 역할을 할 수 있게 된다.The unit pixel of the flexible display may be implemented by a semiconductor light emitting device. In the present invention, a light emitting diode (LED) is exemplified as one type of semiconductor light emitting device for converting a current into light. The light emitting diode is formed in a small size, so that it can serve as a unit pixel even in the second state.

이하, 상기 발광 다이오드를 이용하여 구현된 플렉서블 디스플레이에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, a flexible display implemented using the light emitting diode will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도이고, 도 3은 도 2의 라인 B-B를 따라 취한 단면도이며, 도 4는 도 3의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이고, 도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.3 is a cross-sectional view taken along line BB in Fig. 2, Fig. 4 is a conceptual view showing a flip chip type semiconductor light emitting device in Fig. 3, and Figs. 5A to 5C Are conceptual diagrams showing various forms of implementing a color in relation to a flip chip type semiconductor light emitting device.

도 2, 도 3a 및 도 3b의 도시에 의하면, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)로서 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)를 예시한다. 다만, 이하 설명되는 예시는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식의 반도체 발광 소자에도 적용 가능하다.Referring to FIGS. 2, 3A and 3B, a display device 100 using a passive matrix (PM) semiconductor light emitting device as a display device 100 using a semiconductor light emitting device is illustrated. However, the example described below is also applicable to an active matrix (AM) semiconductor light emitting device.

상기 디스플레이 장치(100)는 기판(110), 제1전극(120), 전도성 접착층(130), 제2전극(140) 및 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함한다.The display device 100 includes a substrate 110, a first electrode 120, a conductive adhesive layer 130, a second electrode 140, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150.

기판(110)은 플렉서블 기판일 수 있다. 예를 들어, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 기판(110)은 유리나 폴리이미드(PI, Polyimide)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면, 예를 들어 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate) 등 어느 것이라도 사용될 수 있다. 또한, 상기 기판(110)은 투명한 재질 또는 불투명한 재질 어느 것이나 될 수 있다.The substrate 110 may be a flexible substrate. For example, to implement a flexible display device, the substrate 110 may comprise glass or polyimide (PI). In addition, any insulating material such as PEN (polyethylene naphthalate) and PET (polyethylene terephthalate) may be used as long as it is insulating and flexible. In addition, the substrate 110 may be either a transparent material or an opaque material.

상기 기판(110)은 제1전극(120)이 배치되는 배선기판이 될 수 있으며, 따라서 상기 제1전극(120)은 기판(110) 상에 위치할 수 있다.The substrate 110 may be a wiring substrate on which the first electrode 120 is disposed, so that the first electrode 120 may be positioned on the substrate 110.

도시에 의하면, 절연층(160)은 제1전극(120)이 위치한 기판(110) 상에 배치될 수 있으며, 상기 절연층(160)에는 보조전극(170)이 위치할 수 있다. 이 경우에, 상기 기판(110)에 절연층(160)이 적층된 상태가 하나의 배선기판이 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연층(160)은 폴리이미드(PI, Polyimide), PET, PEN 등과 같이 절연성이 있고, 유연성 있는 재질로, 상기 기판(110)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수 있다.The insulating layer 160 may be disposed on the substrate 110 on which the first electrode 120 is located and the auxiliary electrode 170 may be disposed on the insulating layer 160. In this case, a state in which the insulating layer 160 is laminated on the substrate 110 may be one wiring substrate. More specifically, the insulating layer 160 is formed of a flexible material such as polyimide (PI), polyimide (PET), or PEN, and is integrally formed with the substrate 110 to form a single substrate.

보조전극(170)은 제1전극(120)과 반도체 발광 소자(150)를 전기적으로 연결하는 전극으로서, 절연층(160) 상에 위치하고, 제1전극(120)의 위치에 대응하여 배치된다. 예를 들어, 보조전극(170)은 닷(dot) 형태이며, 절연층(160)을 관통하는 전극홀(171)에 의하여 제1전극(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 전극홀(171)은 비아 홀에 도전물질이 채워짐에 의하여 형성될 수 있다.The auxiliary electrode 170 is an electrode that electrically connects the first electrode 120 and the semiconductor light emitting device 150 and is disposed on the insulating layer 160 and corresponds to the position of the first electrode 120. For example, the auxiliary electrode 170 may be in the form of a dot and may be electrically connected to the first electrode 120 by an electrode hole 171 passing through the insulating layer 160. The electrode hole 171 may be formed by filling a via hole with a conductive material.

본 도면들을 참조하면, 절연층(160)의 일면에는 전도성 접착층(130)이 형성되나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 절연층(160)과 전도성 접착층(130)의 사이에 특정 기능을 수행하는 레이어가 형성되거나, 절연층(160)이 없이 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조도 가능하다. 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조에서는 전도성 접착층(130)이 절연층의 역할을 할 수 있다.Referring to these drawings, the conductive adhesive layer 130 is formed on one surface of the insulating layer 160, but the present invention is not limited thereto. For example, a layer having a specific function may be formed between the insulating layer 160 and the conductive adhesive layer 130, or a structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate 110 without the insulating layer 160 It is also possible. In the structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate 110, the conductive adhesive layer 130 may serve as an insulating layer.

상기 전도성 접착층(130)은 접착성과 전도성을 가지는 층이 될 수 있으며, 이를 위하여 상기 전도성 접착층(130)에서는 전도성을 가지는 물질과 접착성을 가지는 물질이 혼합될 수 있다. 또한 전도성 접착층(130)은 연성을 가지며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 플렉서블 기능을 가능하게 한다.The conductive adhesive layer 130 may be a layer having adhesiveness and conductivity. To this end, the conductive adhesive layer 130 may be mixed with a substance having conductivity and a substance having adhesiveness. Also, the conductive adhesive layer 130 has ductility, thereby enabling the flexible function in the display device.

이러한 예로서, 전도성 접착층(130)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 상기 전도성 접착층(130)은 두께를 관통하는 Z 방향으로는 전기적 상호 연결을 허용하나, 수평적인 X-Y 방향으로는 전기절연성을 가지는 레이어로서 구성될 수 있다. 따라서 상기 전도성 접착층(130)은 Z축 전도층으로 명명될 수 있다(다만, 이하 '전도성 접착층'이라 한다).As an example, the conductive adhesive layer 130 may be an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, a solution containing conductive particles, or the like. The conductive adhesive layer 130 may be formed as a layer having electrical insulation in the horizontal X-Y direction while permitting electrical interconnection in the Z direction passing through the thickness. Accordingly, the conductive adhesive layer 130 may be referred to as a Z-axis conductive layer (hereinafter, referred to as a conductive adhesive layer).

상기 이방성 전도성 필름은 이방성 전도매질(anisotropic conductive medium)이 절연성 베이스부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정 부분만 이방성 전도매질에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이하, 상기 이방성 전도성 필름에는 열 및 압력이 가해지는 것으로 설명하나, 상기 이방성 전도성 필름이 부분적으로 전도성을 가지기 위하여 다른 방법도 가능하다. 이러한 방법은, 예를 들어 상기 열 및 압력 중 어느 하나만이 가해지거나 UV 경화 등이 될 수 있다.The anisotropic conductive film is a film in which an anisotropic conductive medium is mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, only a specific part of the anisotropic conductive film has conductivity due to the anisotropic conductive medium. Hereinafter, the anisotropic conductive film is described as being subjected to heat and pressure, but other methods may be used to partially conduct the anisotropic conductive film. In this method, for example, either the heat or the pressure may be applied, or UV curing may be performed.

또한, 상기 이방성 전도매질은 예를 들어, 도전볼이나 전도성 입자가 될 수 있다. 도시에 의하면, 본 예시에서 상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정부분만 도전볼에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이방성 전도성 필름은 전도성 물질의 코어가 폴리머 재질의 절연막에 의하여 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있으며, 이 경우에 열 및 압력이 가해진 부분이 절연막이 파괴되면서 코어에 의하여 도전성을 가지게 된다. 이때, 코어의 형태는 변형되어 필름의 두께방향으로 서로 접촉하는 층을 이룰 수 있다. 보다 구체적인 예로서, 열 및 압력은 이방성 전도성 필름에 전체적으로 가해지며, 이방성 전도성 필름에 의하여 접착되는 상대물의 높이차에 의하여 Z축 방향의 전기적 연결이 부분적으로 형성된다.In addition, the anisotropic conduction medium can be, for example, a conductive ball or a conductive particle. According to the example, in the present example, the anisotropic conductive film is a film in which conductive balls are mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, only specific portions are conductive by the conductive balls. The anisotropic conductive film may be a state in which a plurality of particles coated with an insulating film made of a polymer material are contained in the core of the conductive material. In this case, the insulating film is broken by heat and pressure, . At this time, the shape of the core may be deformed to form a layer in contact with each other in the thickness direction of the film. As a more specific example, heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film as a whole, and the electrical connection in the Z-axis direction is partially formed by the height difference of the mating member adhered by the anisotropic conductive film.

다른 예로서, 이방성 전도성 필름은 절연 코어에 전도성 물질이 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있다. 이 경우에는 열 및 압력이 가해진 부분이 전도성 물질이 변형되어(눌러 붙어서) 필름의 두께방향으로 전도성을 가지게 된다. 또 다른 예로서, 전도성 물질이 Z축 방향으로 절연성 베이스 부재를 관통하여 필름의 두께방향으로 전도성을 가지는 형태도 가능하다. 이 경우에, 전도성 물질은 뽀족한 단부를 가질 수 있다.As another example, the anisotropic conductive film may be in a state in which a plurality of particles coated with a conductive material are contained in the insulating core. In this case, the conductive material is deformed (pressed) to the portion where the heat and the pressure are applied, so that the conductive material becomes conductive in the thickness direction of the film. As another example, it is possible that the conductive material penetrates the insulating base member in the Z-axis direction and has conductivity in the thickness direction of the film. In this case, the conductive material may have a pointed end.

도시에 의하면, 상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재의 일면에 삽입된 형태로 구성되는 고정배열 이방성 전도성 필름(fixed array ACF)가 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연성 베이스부재는 접착성을 가지는 물질로 형성되며, 도전볼은 상기 절연성 베이스부재의 바닥부분에 집중적으로 배치되며, 상기 베이스부재에서 열 및 압력이 가해지면 상기 도전볼과 함께 변형됨에 따라 수직방향으로 전도성을 가지게 된다.According to the present invention, the anisotropic conductive film may be a fixed array anisotropic conductive film (ACF) in which conductive balls are inserted into one surface of an insulating base member. More specifically, the insulating base member is formed of a material having adhesiveness, and the conductive ball is concentrated on the bottom portion of the insulating base member, and is deformed together with the conductive ball when heat and pressure are applied to the base member So that they have conductivity in the vertical direction.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 이방성 전도성 필름은 절연성 베이스부재에 도전볼이 랜덤하게 혼입된 형태나, 복수의 층으로 구성되며 어느 한 층에 도전볼이 배치되는 형태(double-ACF) 등이 모두 가능하다.However, the present invention is not limited thereto. The anisotropic conductive film may be formed by randomly mixing conductive balls into an insulating base member or by forming a plurality of layers in which a conductive ball is placed in a double- ACF) are all available.

이방성 전도 페이스트는 페이스트와 도전볼의 결합형태로서, 절연성 및 접착성의 베이스 물질에 도전볼이 혼합된 페이스트가 될 수 있다. 또한, 전도성 입자를 함유한 솔루션은 전도성 particle 혹은 nano 입자를 함유한 형태의 솔루션이 될 수 있다.The anisotropic conductive paste is a combination of a paste and a conductive ball, and may be a paste in which a conductive ball is mixed with an insulating and adhesive base material. In addition, solutions containing conductive particles can be solutions in the form of conductive particles or nanoparticles.

다시 도면을 참조하면, 제2전극(140)은 보조전극(170)과 이격하여 절연층(160)에 위치한다. 즉, 상기 전도성 접착층(130)은 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치하는 절연층(160) 상에 배치된다.Referring again to FIG. 5, the second electrode 140 is located in the insulating layer 160, away from the auxiliary electrode 170. That is, the conductive adhesive layer 130 is disposed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are disposed.

절연층(160)에 보조전극(170)과 제2전극(140)이 위치된 상태에서 전도성 접착층(130)을 형성한 후에, 반도체 발광 소자(150)를 열 및 압력을 가하여 플립 칩 형태로 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(150)는 제1전극(120) 및 제2전극(140)과 전기적으로 연결된다. After the conductive adhesive layer 130 is formed in a state where the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are positioned in the insulating layer 160, the semiconductor light emitting device 150 is connected to the semiconductor light emitting device 150 in a flip chip form The semiconductor light emitting device 150 is electrically connected to the first electrode 120 and the second electrode 140.

도 4를 참조하면, 상기 반도체 발광 소자는 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 될 수 있다.Referring to FIG. 4, the semiconductor light emitting device may be a flip chip type light emitting device.

예를 들어, 상기 반도체 발광 소자는 p형 전극(156), p형 전극(156)이 형성되는 p형 반도체층(155), p형 반도체층(155) 상에 형성된 활성층(154), 활성층(154) 상에 형성된 n형 반도체층(153) 및 n형 반도체층(153) 상에서 p형 전극(156)과 수평방향으로 이격 배치되는 n형 전극(152)을 포함한다. 이 경우, p형 전극(156)은 보조전극(170)과 전도성 접착층(130)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, n형 전극(152)은 제2전극(140)과 전기적으로 연결될 수 있다. For example, the semiconductor light emitting device includes a p-type semiconductor layer 155 in which a p-type electrode 156, a p-type electrode 156 are formed, an active layer 154 formed on the p-type semiconductor layer 155, And an n-type electrode 152 disposed on the n-type semiconductor layer 153 and the p-type electrode 156 on the n-type semiconductor layer 153 and 154 in the horizontal direction. In this case, the p-type electrode 156 may be electrically connected to the auxiliary electrode 170 by the conductive adhesive layer 130, and the n-type electrode 152 may be electrically connected to the second electrode 140.

다시 도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 보조전극(170)은 일방향으로 길게 형성되어, 하나의 보조전극이 복수의 반도체 발광 소자(150)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 보조전극을 중심으로 좌우의 반도체 발광 소자들의 p형 전극들이 하나의 보조전극에 전기적으로 연결될 수 있다.Referring again to FIGS. 2, 3A and 3B, the auxiliary electrode 170 is elongated in one direction, and one auxiliary electrode may be electrically connected to the plurality of semiconductor light emitting devices 150. For example, the p-type electrodes of the right and left semiconductor light emitting elements may be electrically connected to one auxiliary electrode around the auxiliary electrode.

보다 구체적으로, 열 및 압력에 의하여 전도성 접착층(130)의 내부로 반도체 발광 소자(150)가 압입되며, 이를 통하여 반도체 발광 소자(150)의 p형 전극(156)과 보조전극(170) 사이의 부분과, 반도체 발광 소자(150)의 n형 전극(152)과 제2전극(140) 사이의 부분에서만 전도성을 가지게 되고, 나머지 부분에서는 반도체 발광 소자의 압입이 없어 전도성을 가지지 않게 된다. 이와 같이, 전도성 접착층(130)은 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 사이 및 반도체 발광 소자(150)와 제2전극(140) 사이를 상호 결합시켜줄 뿐만 아니라 전기적 연결까지 형성시킨다.More specifically, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the conductive adhesive layer 130 by heat and pressure, and the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the conductive adhesive layer 130 through the p- And only the portion between the n-type electrode 152 and the second electrode 140 of the semiconductor light emitting device 150 has conductivity and the semiconductor light emitting device does not have a conductive property because the semiconductor light emitting device is not press- The conductive adhesive layer 130 not only couples the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the semiconductor light emitting device 150 and the second electrode 140 but also forms an electrical connection.

또한, 복수의 반도체 발광 소자(150)는 발광 소자 어레이(array)를 구성하며, 발광 소자 어레이에는 형광체층(180)이 형성된다. In addition, the plurality of semiconductor light emitting devices 150 constitute a light emitting element array, and the phosphor layer 180 is formed in the light emitting element array.

발광 소자 어레이는 자체 휘도값이 상이한 복수의 반도체 발광 소자들을 포함할 수 있다. 각각의 반도체 발광 소자(150)는 조합(또는 그룹화)되어 단위 화소를 구성하며, 제1전극(120)에 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 제1전극(120)은 복수 개일 수 있고, 반도체 발광 소자들은 예컨대 수 열로 배치되며, 각 열의 반도체 발광 소자들은 상기 복수 개의 제1전극 중 어느 하나에 전기적으로 연결될 수 있다.The light emitting element array may include a plurality of semiconductor light emitting elements having different brightness values. Each of the semiconductor light emitting devices 150 is combined (or grouped) to form a unit pixel, and is electrically connected to the first electrode 120. For example, the first electrodes 120 may be a plurality of semiconductor light emitting devices, and the semiconductor light emitting devices may be electrically connected to any one of the plurality of first electrodes.

또한, 반도체 발광 소자들이 플립 칩 형태로 접속되므로, 투명 유전체 기판에 성장시킨 반도체 발광 소자들을 이용할 수 있다. 또한, 상기 반도체 발광 소자들은 예컨대 질화물 반도체 발광 소자일 수 있다. 반도체 발광 소자(150)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다.Also, since the semiconductor light emitting devices are connected in a flip chip form, the semiconductor light emitting devices grown on the transparent dielectric substrate can be used. The semiconductor light emitting devices may be, for example, a nitride semiconductor light emitting device. Since the semiconductor light emitting device 150 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size.

도시에 의하면, 반도체 발광 소자(150)의 사이에 격벽(190)이 형성될 수 있다. 이 경우, 격벽(190)은 반도체 발광 소자들을 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 전도성 접착층(130)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(150)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다. According to the structure, the barrier ribs 190 may be formed between the semiconductor light emitting devices 150. In this case, the barrier ribs 190 may separate the semiconductor light emitting devices from each other, and may be integrally formed with the conductive adhesive layer 130. For example, by inserting the semiconductor light emitting device 150 into the anisotropic conductive film, the base member of the anisotropic conductive film can form the partition.

또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(190)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.Also, if the base member of the anisotropic conductive film is black, the barrier 190 may have a reflection characteristic and a contrast may be increased without a separate black insulator.

다른 예로서, 상기 격벽(190)으로 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 이 경우에, 상기 격벽(190)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다. 화이트 절연체의 격벽을 이용할 경우 반사성을 높이는 효과가 있을 수 있고, 블랙 절연체의 격벽을 이용할 경우, 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)를 증가시킬 수 있다.As another example, the barrier ribs 190 may be provided separately from the reflective barrier ribs. In this case, the barrier rib 190 may include a black or white insulation depending on the purpose of the display device. When a barrier of a white insulator is used, an effect of enhancing reflectivity may be obtained. When a barrier of a black insulator is used, a contrast characteristic may be increased while having a reflection characteristic.

형광체층(180)은 반도체 발광 소자(150)의 외면에 위치할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자이고, 형광체층(180)은 상기 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키는 기능을 수행한다. 상기 형광체층(180)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(181) 또는 녹색 형광체(182)가 될 수 있다. The phosphor layer 180 may be located on the outer surface of the semiconductor light emitting device 150. For example, the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and the phosphor layer 180 converts the blue (B) light into the color of a unit pixel. The phosphor layer 180 may be a red phosphor 181 or a green phosphor 182 constituting an individual pixel.

즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자(151) 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(181)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자(151) 상에 청색 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(182)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자(151)만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다. 보다 구체적으로, 제1전극(120)의 각 라인을 따라 하나의 색상의 형광체가 적층될 수 있다. 따라서, 제1전극(120)에서 하나의 라인은 하나의 색상을 제어하는 전극이 될 수 있다. 즉, 제2전극(140)을 따라서, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)이 차례로 배치될 수 있으며, 이를 통하여 단위 화소가 구현될 수 있다.That is, a red phosphor 181 capable of converting blue light into red (R) light can be laminated on the blue semiconductor light emitting element 151 at a position forming a red unit pixel, A green phosphor 182 capable of converting blue light into green (G) light may be laminated on the blue semiconductor light emitting element 151. [ In addition, only the blue semiconductor light emitting element 151 can be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) can form one pixel. More specifically, phosphors of one color may be stacked along each line of the first electrode 120. Accordingly, one line in the first electrode 120 may be an electrode for controlling one color. In other words, red (R), green (G), and blue (B) may be arranged in order along the second electrode 140, thereby realizing a unit pixel.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 형광체 대신에 반도체 발광 소자(150)와 퀀텀닷(QD)이 조합되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)을 발광하는 단위 화소를 구현할 수 있다.However, the present invention is not limited thereto. Instead, the semiconductor light emitting device 150 and the quantum dot QD may be combined to form a unit pixel emitting red (R), green (G), and blue (B) Can be implemented.

또한, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체층들의 사이에는 블랙 매트릭스(191)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(191)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다. In addition, a black matrix 191 may be disposed between each of the phosphor layers to improve contrast. That is, the black matrix 191 can improve the contrast of light and dark.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. However, the present invention is not limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied.

도 5a를 참조하면, 각각의 반도체 발광 소자(150)는 질화 갈륨(GaN)을 주로 하여, 인듐(In) 및/또는 알루미늄(Al)이 함께 첨가되어 청색을 비롯한 다양한 빛을 발광하는 고출력의 발광 소자로 구현될 수 있다.5A, each of the semiconductor light emitting devices 150 includes gallium nitride (GaN), indium (In) and / or aluminum (Al) are added together to form a high output light Device.

이 경우, 반도체 발광 소자(150)는 각각 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자일 수 있다. 예컨대, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자(R, G, B)가 교대로 배치되고, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자에 의하여 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue)의 단위 화소들이 하나의 화소(pixel)를 이루며, 이를 통하여 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다.In this case, the semiconductor light emitting device 150 may be a red, green, and blue semiconductor light emitting device to form a unit pixel (sub-pixel), respectively. For example, red, green, and blue semiconductor light emitting elements R, G, and B are alternately arranged, and red, green, and blue unit pixels Form a single pixel, through which a full color display can be implemented.

도 5b를 참조하면, 반도체 발광 소자는 황색 형광체층이 개별 소자마다 구비된 백색 발광 소자(W)를 구비할 수 있다. 이 경우에는, 단위 화소를 이루기 위하여, 백색 발광 소자(W) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(183), 및 청색 형광체층(183)이 구비될 수 있다. 또한, 이러한 백색 발광 소자(W) 상에 적색, 녹색, 및 청색이 반복되는 컬러 필터를 이용하여 단위 화소를 이룰 수 있다.Referring to FIG. 5B, the semiconductor light emitting device may include a white light emitting device W having a yellow phosphor layer for each individual device. In this case, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 183, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the white light emitting element W to form a unit pixel. Further, a unit pixel can be formed by using a color filter in which red, green, and blue are repeated on the white light emitting element W.

도 5c를 참조하면, 자외선 발광 소자(UV) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(182), 및 청색 형광체층(183)이 구비되는 구조도 가능하다. 이와 같이, 반도체 발광 소자는 가시광선뿐만 아니라 자외선(UV)까지 전영역에 사용가능하며, 자외선(UV)이 상부 형광체의 여기원(excitation source)으로 사용가능한 반도체 발광 소자의 형태로 확장될 수 있다.Referring to FIG. 5C, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the ultraviolet light emitting element UV. As described above, the semiconductor light emitting device can be used not only for visible light but also for ultraviolet (UV), and can be extended to a form of a semiconductor light emitting device in which ultraviolet (UV) can be used as an excitation source of the upper phosphor .

본 예시를 다시 살펴보면, 반도체 발광 소자(150)는 전도성 접착층(130) 상에 위치되어, 디스플레이 장치에서 단위 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(150)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 화소를 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광 소자(150)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20X80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.The semiconductor light emitting device 150 is disposed on the conductive adhesive layer 130 and constitutes a unit pixel in the display device. Since the semiconductor light emitting device 150 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 150 may be 80 mu m or less on one side and may be a rectangular or square device. In the case of a rectangle, the size may be 20 X 80 μm or less.

또한, 한 변의 길이가 10㎛인 정사각형의 반도체 발광 소자(150)를 단위 화소로 이용하여도 디스플레이 장치를 이루기 위한 충분한 밝기가 나타난다. 따라서, 단위 화소의 크기가 한 변이 600㎛, 나머지 한변이 300㎛인 직사각형 화소인 경우를 예로 들면, 반도체 발광 소자의 거리가 상대적으로 충분히 크게 된다. 따라서, 이러한 경우, HD화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있게 된다.Also, even if a square semiconductor light emitting device 150 having a length of 10 m on one side is used as a unit pixel, sufficient brightness for forming a display device appears. Accordingly, when the unit pixel is a rectangular pixel having a side of 600 mu m and the other side of 300 mu m as an example, the distance of the semiconductor light emitting element becomes relatively large. Accordingly, in such a case, it becomes possible to implement a flexible display device having HD picture quality.

상기에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는 새로운 형태의 제조방법에 의하여 제조될 수 있다. 이하, 도 6을 참조하여 상기 제조방법에 대하여 설명한다.The display device using the semiconductor light emitting device described above can be manufactured by a novel manufacturing method. Hereinafter, the manufacturing method will be described with reference to FIG.

도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.

본 도면을 참조하면, 먼저, 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치된 절연층(160) 상에 전도성 접착층(130)을 형성한다. 제1기판(110)에 절연층(160)이 적층되어 하나의 기판(또는 배선기판)을 형성하며, 상기 배선기판에는 제1전극(120), 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 배치된다. 이 경우에, 제1전극(120)과 제2전극(140)은 상호 직교 방향으로 배치될 수 있다. 또한, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 제1기판(110) 및 절연층(160)은 각각 유리 또는 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. The conductive adhesive layer 130 is formed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are disposed. A first electrode 120, an auxiliary electrode 170, and a second electrode 140 are formed on the wiring substrate, and the insulating layer 160 is formed on the first substrate 110 to form a single substrate (or a wiring substrate) . In this case, the first electrode 120 and the second electrode 140 may be arranged in mutually orthogonal directions. In addition, the first substrate 110 and the insulating layer 160 may include glass or polyimide (PI), respectively, in order to implement a flexible display device.

상기 전도성 접착층(130)은 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 의하여 구현될 수 있으며, 이를 위하여 절연층(160)이 위치된 기판에 이방성 전도성 필름이 도포될 수 있다.The conductive adhesive layer 130 may be formed, for example, by an anisotropic conductive film, and an anisotropic conductive film may be applied to the substrate on which the insulating layer 160 is disposed.

다음에, 보조전극(170) 및 제2전극(140)들의 위치에 대응하고, 개별 화소를 구성하는 복수의 반도체 발광 소자(150)가 위치된 제2기판(112)을 상기 반도체 발광 소자(150)가 보조전극(170) 및 제2전극(140)와 대향하도록 배치한다.A second substrate 112 corresponding to the positions of the auxiliary electrode 170 and the second electrodes 140 and having a plurality of semiconductor light emitting elements 150 constituting individual pixels is disposed on the semiconductor light emitting element 150 Are arranged so as to face the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140.

이 경우에, 제2기판(112)은 반도체 발광 소자(150)를 성장시키는 성장 기판으로서, 사파이어(spire) 기판 또는 실리콘(silicon) 기판이 될 수 있다.In this case, the second substrate 112 is a growth substrate for growing the semiconductor light emitting device 150, and may be a spire substrate or a silicon substrate.

상기 반도체 발광 소자는 웨이퍼(wafer) 단위로 형성될 때, 디스플레이 장치를 이룰 수 있는 간격 및 크기를 가지도록 함으로써, 디스플레이 장치에 효과적으로 이용될 수 있다.When the semiconductor light emitting device is formed in units of wafers, the semiconductor light emitting device can be effectively used in a display device by having an interval and a size at which a display device can be formed.

그 다음에, 배선기판과 제2기판(112)을 열압착한다. 예를 들어, 배선기판과 제2기판(112)은 ACF press head 를 적용하여 열압착될 수 있다. 상기 열압착에 의하여 배선기판과 제2기판(112)은 본딩(bonding)된다. 열압착에 의하여 전도성을 갖는 이방성 전도성 필름의 특성에 의해 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 및 제2전극(140)의 사이의 부분만 전도성을 가지게 되며, 이를 통하여 전극들과 반도체 발광소자(150)는 전기적으로 연결될 수 있다. 이 때에, 반도체 발광 소자(150)가 상기 이방성 전도성 필름의 내부로 삽입되며, 이를 통하여 반도체 발광 소자(150) 사이에 격벽이 형성될 수 있다.Then, the wiring substrate and the second substrate 112 are thermally bonded. For example, the wiring board and the second substrate 112 may be thermocompression-bonded using an ACF press head. The wiring substrate and the second substrate 112 are bonded by the thermocompression bonding. Only the portion between the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 has conductivity due to the characteristics of the anisotropic conductive film having conductivity by thermocompression, The device 150 may be electrically connected. At this time, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the anisotropic conductive film, and partition walls may be formed between the semiconductor light emitting devices 150.

그 다음에, 상기 제2기판(112)을 제거한다. 예를 들어, 제2기판(112)은 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-off, LLO) 또는 화학적 리프트 오프법(Chemical Lift-off, CLO)을 이용하여 제거할 수 있다.Then, the second substrate 112 is removed. For example, the second substrate 112 may be removed using a laser lift-off method (LLO) or a chemical lift-off method (CLO).

마지막으로, 상기 제2기판(112)을 제거하여 반도체 발광 소자들(150)을 외부로 노출시킨다. 필요에 따라, 반도체 발광 소자(150)가 결합된 배선기판 상을 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 코팅하여 투명 절연층(미도시)을 형성할 수 있다. Finally, the second substrate 112 is removed to expose the semiconductor light emitting devices 150 to the outside. If necessary, a transparent insulating layer (not shown) may be formed by coating a wiring substrate on which the semiconductor light emitting device 150 is coupled with silicon oxide (SiOx) or the like.

또한, 상기 반도체 발광 소자(150)의 일면에 형광체층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 적색 형광체 또는 녹색 형광체가 상기 청색 반도체 발광 소자의 일면에 레이어를 형성할 수 있다.Further, the method may further include forming a phosphor layer on one surface of the semiconductor light emitting device 150. For example, the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and a red phosphor or a green phosphor for converting the blue (B) A layer can be formed on one surface of the device.

이상에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법이나 구조는 여러가지 형태로 변형될 수 있다. 그 예로서, 상기에서 설명된 디스플레이 장치에는 수직형 반도체 발광 소자도 적용될 수 있다. 이하, 도 5 및 도 6을 참조하여 수직형 구조에 대하여 설명한다.The manufacturing method and structure of the display device using the semiconductor light emitting device described above can be modified into various forms. For example, a vertical semiconductor light emitting device may be applied to the display device described above. Hereinafter, the vertical structure will be described with reference to Figs. 5 and 6. Fig.

또한, 이하 설명되는 변형예 또는 실시예에서는 앞선 예와 동일 또는 유사한 구성에 대해서는 동일, 유사한 참조번호가 부여되고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음된다. In the modifications or embodiments described below, the same or similar reference numerals are given to the same or similar components as those of the previous example, and the description is replaced with the first explanation.

도 7은 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이고, 도 8은 도 7의 라인 C-C를 따라 취한 단면도이며, 도 9은 도 8의 수직형 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이다.8 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 7, and FIG. 9 is a conceptual view illustrating a vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8. FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention, to be.

본 도면들을 참조하면, 디스플레이 장치는 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 수직형 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치가 될 수 있다.Referring to these drawings, the display device may be a display device using a passive matrix (PM) vertical semiconductor light emitting device.

상기 디스플레이 장치는 기판(210), 제1전극(220), 전도성 접착층(230), 제2전극(240) 및 복수의 반도체 발광 소자(250)를 포함한다.The display device includes a substrate 210, a first electrode 220, a conductive adhesive layer 230, a second electrode 240, and a plurality of semiconductor light emitting devices 250.

기판(210)은 제1전극(220)이 배치되는 배선기판으로서, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면 어느 것이라도 사용 가능할 것이다.The substrate 210 is a wiring substrate on which the first electrode 220 is disposed. The substrate 210 may include polyimide (PI) to implement a flexible display device. In addition, any insulating and flexible material may be used.

제1전극(220)은 기판(210) 상에 위치하며, 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있다. 상기 제1전극(220)은 데이터 전극의 역할을 하도록 이루어질 수 있다.The first electrode 220 is disposed on the substrate 210 and may be formed as a long bar electrode in one direction. The first electrode 220 may serve as a data electrode.

전도성 접착층(230)은 제1전극(220)이 위치하는 기판(210)상에 형성된다. 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치와 같이, 전도성 접착층(230)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 다만, 본 실시예에서도 이방성 전도성 필름에 의하여 전도성 접착층(230)이 구현되는 경우를 예시한다.A conductive adhesive layer 230 is formed on the substrate 210 on which the first electrode 220 is located. The conductive adhesive layer 230 may be formed of an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, a solution containing a conductive particle, or the like, as in a display device using a flip chip type light emitting device. ) And the like. However, the present embodiment also exemplifies the case where the conductive adhesive layer 230 is realized by the anisotropic conductive film.

기판(210) 상에 제1전극(220)이 위치하는 상태에서 이방성 전도성 필름을 위치시킨 후에, 반도체 발광 소자(250)를 열 및 압력을 가하여 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(250)가 제1전극(220)과 전기적으로 연결된다. 이 때, 상기 반도체 발광 소자(250)는 제1전극(220) 상에 위치되도록 배치되는 것이 바람직하다.If the semiconductor light emitting device 250 is connected to the semiconductor light emitting device 250 by applying heat and pressure after the anisotropic conductive film is positioned in a state where the first electrode 220 is positioned on the substrate 210, And is electrically connected to the electrode 220. In this case, the semiconductor light emitting device 250 may be disposed on the first electrode 220.

상기 전기적 연결은 전술한 바와 같이, 이방성 전도성 필름에서 열 및 압력이 가해지면 부분적으로 두께방향으로 전도성을 가지기 때문에 생성된다. 따라서, 이방성 전도성 필름에서는 두께방향으로 전도성을 가지는 부분(231)과 전도성을 가지지 않는 부분(232)으로 구획된다.As described above, the electrical connection is generated because heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film to partially conduct in the thickness direction. Therefore, in the anisotropic conductive film, it is divided into a portion 231 having conductivity in the thickness direction and a portion 232 having no conductivity.

또한, 이방성 전도성 필름은 접착 성분을 함유하기 때문에, 전도성 접착층(230)은 반도체 발광 소자(250)와 제1전극(220) 사이에서 전기적 연결뿐만 아니라 기계적 결합까지 구현한다.In addition, since the anisotropic conductive film contains an adhesive component, the conductive adhesive layer 230 realizes electrical connection as well as mechanical bonding between the semiconductor light emitting element 250 and the first electrode 220.

이와 같이, 반도체 발광 소자(250)는 전도성 접착층(230) 상에 위치되며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 개별 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(250)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광 소자(250)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20X80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.Thus, the semiconductor light emitting device 250 is positioned on the conductive adhesive layer 230, thereby forming individual pixels in the display device. Since the semiconductor light emitting device 250 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 250 may be 80 μm or less on one side and may be a rectangular or square device. In the case of a rectangle, the size may be 20 X 80 μm or less.

상기 반도체 발광 소자(250)는 수직형 구조가 될 수 있다.The semiconductor light emitting device 250 may have a vertical structure.

수직형 반도체 발광 소자들의 사이에는, 제1전극(220)의 길이 방향과 교차하는 방향으로 배치되고, 수직형 반도체 발광 소자(250)와 전기적으로 연결된 복수의 제2전극(240)이 위치한다.A plurality of second electrodes 240 electrically connected to the vertical semiconductor light emitting device 250 are disposed between the vertical semiconductor light emitting devices in a direction crossing the longitudinal direction of the first electrode 220.

도 9를 참조하면, 이러한 수직형 반도체 발광 소자는 p형 전극(256), p형 전극(256) 상에 형성된 p형 반도체층(255), p형 반도체층(255) 상에 형성된 활성층(254), 활성층(254)상에 형성된 n형 반도체층(253) 및 n형 반도체층(253) 상에 형성된 n형 전극(252)을 포함한다. 이 경우, 하부에 위치한 p형 전극(256)은 제1전극(220)과 전도성 접착층(230)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, 상부에 위치한 n형 전극(252)은 후술하는 제2전극(240)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 수직형 반도체 발광 소자(250)는 전극을 상/하로 배치할 수 있으므로, 칩 사이즈를 줄일 수 있다는 큰 강점을 가지고 있다.9, the vertical type semiconductor light emitting device includes a p-type electrode 256, a p-type semiconductor layer 255 formed on the p-type electrode 256, an active layer 254 formed on the p-type semiconductor layer 255 An n-type semiconductor layer 253 formed on the active layer 254 and an n-type electrode 252 formed on the n-type semiconductor layer 253. In this case, the p-type electrode 256 located at the bottom may be electrically connected to the first electrode 220 by the conductive adhesive layer 230, and the n-type electrode 252 located at the top may be electrically connected to the second electrode 240 As shown in FIG. Since the vertical semiconductor light emitting device 250 can arrange the electrodes up and down, it has a great advantage that the chip size can be reduced.

다시 도 8을 참조하면, 상기 반도체 발광 소자(250)의 일면에는 형광체층(280)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(250)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자(251)이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 형광체층(280)이 구비될 수 있다. 이 경우에, 형광체층(280)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(281) 및 녹색 형광체(282) 일 수 있다.Referring to FIG. 8 again, a phosphor layer 280 may be formed on one side of the semiconductor light emitting device 250. For example, the semiconductor light emitting device 250 is a blue semiconductor light emitting device 251 that emits blue (B) light, and a phosphor layer 280 for converting the blue (B) . In this case, the phosphor layer 280 may be a red phosphor 281 and a green phosphor 282 constituting individual pixels.

즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자(251) 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(281)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자(251) 상에 청색 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(282)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자(251)만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다.That is, a red phosphor 281 capable of converting blue light into red (R) light can be laminated on the blue semiconductor light emitting element 251 at a position forming a red unit pixel, A green phosphor 282 capable of converting blue light into green (G) light may be laminated on the blue semiconductor light emitting element 251. In addition, only the blue semiconductor light emitting element 251 can be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) can form one pixel.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치에서 전술한 바와 같이, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. However, the present invention is not limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied to a display device to which a flip chip type light emitting device is applied, as described above.

다시 본 실시예를 살펴보면, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치하고, 반도체 발광 소자들(250)과 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 반도체 발광 소자들(250)은 복수의 열로 배치되고, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250)의 열들 사이에 위치할 수 있다. The second electrode 240 is located between the semiconductor light emitting devices 250 and electrically connected to the semiconductor light emitting devices 250. For example, the semiconductor light emitting devices 250 may be disposed in a plurality of rows, and the second electrode 240 may be disposed between the columns of the semiconductor light emitting devices 250.

개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250) 사이의 거리가 충분히 크기 때문에 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치될 수 있다. The second electrode 240 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250 because the distance between the semiconductor light emitting devices 250 forming the individual pixels is sufficiently large.

제2전극(240)은 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있으며, 제1전극과 상호 수직한 방향으로 배치될 수 있다.The second electrode 240 may be formed as a long bar-shaped electrode in one direction and may be disposed in a direction perpendicular to the first electrode.

또한, 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)는 제2전극(240)에서 돌출된 연결 전극에 의해 전기적으로 연결될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 연결 전극이 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 될 수 있다. 예를 들어, n형 전극은 오믹(ohmic) 접촉을 위한 오믹 전극으로 형성되며, 상기 제2전극은 인쇄 또는 증착에 의하여 오믹 전극의 적어도 일부를 덮게 된다. 이를 통하여 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 전기적으로 연결될 수 있다.The second electrode 240 and the semiconductor light emitting device 250 may be electrically connected by a connection electrode protruding from the second electrode 240. More specifically, the connection electrode may be an n-type electrode of the semiconductor light emitting device 250. For example, the n-type electrode is formed as an ohmic electrode for ohmic contact, and the second electrode covers at least a part of the ohmic electrode by printing or vapor deposition. Accordingly, the second electrode 240 and the n-type electrode of the semiconductor light emitting device 250 can be electrically connected.

도시에 의하면, 상기 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 상에 위치될 수 있다. 경우에 따라, 반도체 발광 소자(250)가 형성된 기판(210) 상에 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 포함하는 투명 절연층(미도시)이 형성될 수 있다. 투명 절연층이 형성된 후에 제2전극(240)을 위치시킬 경우, 상기 제2전극(240)은 투명 절연층 상에 위치하게 된다. 또한, 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 또는 투명 절연층에 이격되어 형성될 수도 있다.According to the example, the second electrode 240 may be disposed on the conductive adhesive layer 230. A transparent insulating layer (not shown) containing silicon oxide (SiOx) or the like may be formed on the substrate 210 on which the semiconductor light emitting device 250 is formed. When the second electrode 240 is positioned after the transparent insulating layer is formed, the second electrode 240 is positioned on the transparent insulating layer. In addition, the second electrode 240 may be formed spaced apart from the conductive adhesive layer 230 or the transparent insulating layer.

만약 반도체 발광 소자(250) 상에 제2전극(240)을 위치시키기 위하여는 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 전극을 사용한다면, ITO 물질은 n형 반도체층과는 접착성이 좋지 않은 문제가 있다. 따라서, 본 발명은 반도체 발광 소자(250) 사이에 제2전극(240)을 위치시킴으로써, ITO와 같은 투명 전극을 사용하지 않아도 되는 이점이 있다. 따라서, 투명한 재료 선택에 구속되지 않고, n형 반도체층과 접착성이 좋은 전도성 물질을 수평 전극으로 사용하여 광추출 효율을 향상시킬 수 있다.If a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) is used for positioning the second electrode 240 on the semiconductor light emitting device 250, the problem that the ITO material has poor adhesion with the n-type semiconductor layer have. Accordingly, the present invention has an advantage in that the second electrode 240 is positioned between the semiconductor light emitting devices 250, so that a transparent electrode such as ITO is not used. Therefore, the light extraction efficiency can be improved by using a conductive material having good adhesiveness with the n-type semiconductor layer as a horizontal electrode without being bound by transparent material selection.

도시에 의하면, 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 위치할 수 있다. 즉, 개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250)를 격리시키기 위하여 수직형 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 배치될 수 있다. 이 경우, 격벽(290)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 상기 전도성 접착층(230)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(250)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다. According to the structure, the barrier ribs 290 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250. That is, the barrier ribs 290 may be disposed between the vertical semiconductor light emitting devices 250 to isolate the semiconductor light emitting devices 250 forming the individual pixels. In this case, the barrier ribs 290 may separate the individual unit pixels from each other, and may be formed integrally with the conductive adhesive layer 230. For example, by inserting the semiconductor light emitting device 250 into the anisotropic conductive film, the base member of the anisotropic conductive film can form the partition.

또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(290)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.Also, if the base member of the anisotropic conductive film is black, the barrier ribs 290 may have a reflection characteristic and a contrast may be increased without a separate black insulator.

다른 예로서, 상기 격벽(190)으로서, 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 격벽(290)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다.As another example, as the partition 190, a reflective barrier may be separately provided. The barrier ribs 290 may include black or white insulators depending on the purpose of the display device.

만일 제2전극(240)이 반도체 발광 소자(250) 사이의 전도성 접착층(230) 상에 바로 위치된 경우, 격벽(290)은 수직형 반도체 발광 소자(250) 및 제2전극(240)의 사이사이에 위치될 수 있다. 따라서, 반도체 발광 소자(250)를 이용하여 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있고, 반도체 발광 소자(250)의 거리가 상대적으로 충분히 크게 되어 제2전극(240)을 반도체 발광 소자(250) 사이에 위치시킬 수 있고, HD 화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있는 효과가 있게 된다.If the second electrode 240 is directly disposed on the conductive adhesive layer 230 between the semiconductor light emitting devices 250, the barrier ribs 290 may be formed between the vertical semiconductor light emitting device 250 and the second electrode 240 As shown in FIG. Therefore, individual unit pixels can be formed with a small size by using the semiconductor light emitting device 250, and the distance between the semiconductor light emitting device 250 can be relatively large enough so that the second electrode 240 can be electrically connected to the semiconductor light emitting device 250 ), And it is possible to realize a flexible display device having HD picture quality.

또한, 도시에 의하면, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체 사이에는 블랙 매트릭스(291)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(291)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다. In addition, according to the present invention, a black matrix 291 may be disposed between the respective phosphors to improve the contrast. That is, this black matrix 291 can improve the contrast of light and dark.

이하, 주변 밝기의 변화에 대응하여 시인성을 확보할 수 있는 디스플레이 장치를 제공하는 방법에 대하여 첨부된 도면과 함께 보다 구체적으로 살펴본다. 도 10은 본 발명에 따른 디스플레이 장치에 전류를 공급하는 방법을 설명하기 위한 블록도이고, 도 11은 본 발명에 따른 디스플레이 장치에 전류를 공급하는 방법을 설명하기 위한 흐름도이며, 도 12는 도 10 및 도 11에서 살펴본 전류 공급 방법을 설명하기 위한 개념도이다. 그리고, 도 13은 전류 공급 양이 서로 다른 복수의 모드를 설명하기 위한 개념도이다.Hereinafter, a method of providing a display device capable of ensuring visibility in response to a change in ambient brightness will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 10 is a block diagram for explaining a method of supplying current to a display device according to the present invention, FIG. 11 is a flowchart for explaining a method of supplying current to a display device according to the present invention, And FIG. 11 is a conceptual diagram for explaining the current supply method. 13 is a conceptual diagram for explaining a plurality of modes in which the amounts of current supply are different from each other.

먼저, 도 10에 도시된 것과 같이, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 제어부(1010), 상기 제어부(1010)의 제어하에 반도체 발광 소자(1051)로 공급되는 전류의 양을 조절하는 커런트 미러부(1015)를 포함할 수 있습니다. 10, a display device according to the present invention includes a control unit 1010, a current mirror unit (not shown) for controlling the amount of current supplied to the semiconductor light emitting device 1051 under the control of the control unit 1010, 1015).

한편, 앞서 살펴본 것과 같이, 반도체 발광 소자(1051)는 제1 전극부(1020) 및 제2 전극부(1030)와 연결됨으로써, 반도체 발광 소자(1051)가 구동되도록 하는 동작 전류 또는 동작 전원을 공급받을 수 있습니다. 여기에서, 상기 제1 전극부(1020) 및 제2 전극부(1030)이 복수의 반도체 발광 소자(1051)와 전기적으로 연결된다. 제1 전극부(1020)는, 데이터 전극의 역할을 하도록 이루어지고, 제2 전극부(1030)는 스캔 전극의 역할을 하도록 이루어질 수 있다.As described above, the semiconductor light emitting device 1051 is connected to the first electrode unit 1020 and the second electrode unit 1030, thereby supplying an operation current or operation power for driving the semiconductor light emitting device 1051 You can receive. Here, the first electrode unit 1020 and the second electrode unit 1030 are electrically connected to the plurality of semiconductor light emitting devices 1051. The first electrode unit 1020 may serve as a data electrode and the second electrode unit 1030 may serve as a scan electrode.

데이터 전극의 역할을 수행하는 제1 전극부(1020)는, 복수의 데이터 전극 라인으로 구성될 수 있다. 반도체 발광 소자(1051)는 상기 제1 전극부(1020)에 해당하는 데이터 전극 라인을 통해 전류를 공급받음으로써 동작할 수 있다.The first electrode unit 1020 serving as a data electrode may be composed of a plurality of data electrode lines. The semiconductor light emitting device 1051 may operate by receiving a current through a data electrode line corresponding to the first electrode unit 1020.

이때, 제어부(1010)는, 데이터 전극 라인을 통해 공급되는 전류의 양을, 주변 조도에 근거하여 조절할 수 있다. 반도체 발광 소자(1051)에 공급되는 전류의 양이 큰 경우의 반도체 발광 소자(1051)의 밝기는, 반도체 발광 소자(1051)에 공급되는 전류의 양이 적은 경우의 반도체 발광 소자(1051)의 밝기보다 밝다. At this time, the controller 1010 can adjust the amount of the current supplied through the data electrode line based on the ambient illuminance. The brightness of the semiconductor light emitting element 1051 in the case where the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 is large is determined by the brightness of the semiconductor light emitting element 1051 when the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 is small It is brighter.

즉, 반도체 발광 소자(1051)에 공급되는 전류의 양이 큰 경우의 반도체 발광 소자(1051)의 휘도는, 반도체 발광 소자(1051)에 공급되는 전류의 양이 적은 경우의 반도체 발광 소자(1051)의 휘도보다 크다.That is, the brightness of the semiconductor light emitting element 1051 when the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 is large is larger than the brightness of the semiconductor light emitting element 1051 when the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 is small. Lt; / RTI >

예를 들어, 햇빛 등으로 인하여 밝은 환경에서, 즉, 디스플레이 장치의 주변조도가 큰 경우, 디스플레이 장치의 시인성이 확보되려면, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양이 많아야한다. 그리고, 어두운 환경에서, 즉, 디스플레이 장치의 주변조도가 작은 경우에는, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양은, 밝은 환경에서의 전류의 양보다 상대적으로 적어도 된다.For example, in a bright environment due to sunlight or the like, that is, when the peripheral illuminance of the display device is large, the amount of current flowing through the semiconductor light emitting element 1051 must be large in order to ensure visibility of the display device. In a dark environment, that is, when the peripheral illuminance of the display device is small, the amount of current flowing through the semiconductor light emitting element 1051 is relatively smaller than the amount of current in a bright environment.

이에, 본 발명에서는, 주변 조도에 따라, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양을 조절함으로써, 주변 환경에 따른 조도에 즉각적으로 대응할 수 있는 제어방법을 제안할 수 있다.Thus, in the present invention, it is possible to propose a control method capable of immediately responding to the illuminance according to the surrounding environment by adjusting the amount of current flowing through the semiconductor light emitting element 1051 according to the ambient illuminance.

도 11과 함께, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양을 조절하는 제어방법에 대하여 살펴보면, 먼저, 디스플레이 장치의 주변 조도를 센싱하는 단계가 진행된다(S1110).Referring to FIG. 11, a control method for controlling the amount of current flowing through the semiconductor light emitting device 1051 will be described. First, a step of sensing the ambient illuminance of the display device is performed (S 1110).

본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 주변 조도를 센싱하기 위한 조도 센서부를 더 포함할 수 있다. 주변 조도의 센싱은, 실시간으로 이루어질 수 있고, 기 설정된 시간 간격으로 이루어질 수 있다.The display device according to the present invention may further include an illuminance sensor unit for sensing the ambient illuminance. The sensing of the ambient illuminance can be performed in real time, and can be performed at predetermined time intervals.

한편, 주변 조도가 센싱되면, 센싱된 주변 조도와 기준 조도를 비교하는 단계가 진행된다(S1120). 그리고, 비교결과에 따라 반도체 발광 소자(1051)에 공급되는 전류의 양을 제어하는 단계가 진행된다(S1130). On the other hand, when the ambient illuminance is sensed, a step of comparing the sensed ambient illuminance and the reference illuminance is performed (S1120). Then, the step of controlling the amount of the current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 proceeds according to the comparison result (S1130).

여기에서, 기준 조도는, 제품 출고시부터 미리 설정되어 존재할 수 있고, 그렇지 않으면, 사용자의 선택에 근거하여 설정될 수 있다.Here, the reference illuminance may be set in advance from the time of product release, or may be set based on the user's selection.

본 발명에 따른, 디스플레이 장치에는, 주변 조도가 기준 조도에 해당하는 경우, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양이 어느 정도인지 미리 설정되어 있을 수 있다. 따라서, 제어부(1010)는 i)주변 조도가 기준 조도와 대응되거나, ii)주변 조도와 기준 조도의 차이가 기 설정된 범위 이내인 경우, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양을, 상기 기준 조도에 따른 전류의 양으로 제어할 수 있다. In the display device according to the present invention, when the ambient illuminance corresponds to the reference illuminance, the amount of current flowing through the semiconductor light emitting element 1051 may be set in advance. Therefore, the controller 1010 can control the amount of current flowing through the semiconductor light emitting element 1051 to be greater than or equal to the reference value, if i) the ambient illuminance corresponds to the reference illuminance, or ii) when the difference between the ambient illuminance and the reference illuminance is within a predetermined range, It is possible to control the amount of current according to the illuminance.

그리고, 제어부(1010)는, 센싱된 주변조도와 기준 조도와의 차이, 상기 기 설정된 범위를 벗어난 경우, 상기 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양을, 상기 기준 조도에 따른 전류의 양보다 많게 또는 적게 제어할 수 있다.If the difference between the sensed ambient illuminance and the reference illuminance or the predetermined range is exceeded, the control unit 1010 controls the amount of current flowing in the semiconductor light emitting element 1051 to be larger than the amount of current according to the reference illuminance You can control more or less.

한편, 발명에 따른 디스플레이 장치는, 주변 조도에 따라 시인성 모드(또는, 제1 동작 모드) 또는 일반 모드(또는, 제2 동작 모드) 중 어느 하나의 모드로 구동될 수 있다.Meanwhile, the display device according to the present invention may be driven in either the visible mode (or the first operation mode) or the normal mode (or the second operation mode) according to the ambient illuminance.

보다 구체적으로, 제어부(1010)는, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 크면서, 센싱된 주변 조도와 기준 조도와의 차이가, 기 설정된 범위 이상(또는, 기 설정된 범위 보다 큰경우)인 경우, 디스플레이 장치를, 시인성 모드에서 구동시킬 수 있다. 시인성 모드는, 주변광 환경이 밝은 환경으로서, 디스플레이 장치의 시인성이 확보되기 위해서는, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양이, 일반모드 보다 상대적으로 큰 모드를 의미할 수 있다.More specifically, when the sensed ambient illuminance is greater than the reference illuminance and the difference between the sensed ambient illuminance and the reference illuminance is greater than a predetermined range (or greater than a predetermined range) The display device can be driven in the visibility mode. The visibility mode may mean a mode in which the amount of current flowing in the semiconductor light emitting element 1051 is relatively larger than the normal mode in order to ensure the visibility of the display device in a bright ambient environment.

즉, 시인성 모드(또는 제1 동작 모드)에서 상기 반도체 발광소자(1051)에 공급되는 전류의 양은, 일반 모드(또는 제2 동작 모드)에서 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양보다 크다.That is, the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 in the visibility mode (or the first operation mode) is larger than the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the normal mode (or the second operation mode).

한편, 제어부(1010)는, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 작은 경우, 디스플레이 장치를, 일반 모드에서 구동시킬 수 있다. On the other hand, when the sensed ambient illuminance is smaller than the reference illuminance, the control unit 1010 can drive the display device in the normal mode.

제어부(1010)는, 디스플레이 장치가 시인성 모드에서 구동되고 있는 상태에서, 주변 조도를 센싱한 결과, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 작은 경우, 디스플레이 장치의 구동 모드를 변경할 수 있다. 이때, 디스플레이 장치의 구동 모드는, 시인성 모드에서, 일반 모드로 전환될 수 있다.The controller 1010 can change the driving mode of the display device when the sensed ambient illuminance is smaller than the reference illuminance as a result of sensing the ambient illuminance while the display device is being driven in the visibility mode. At this time, the driving mode of the display device can be switched from the visibility mode to the normal mode.

나아가, 제어부(1010)는, 디스플레이 장치가 일반 모드에서 구동되고 있는 상태에서, 주변 조도를 센싱한 결과, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 큰 경우, 디스플레이 장치의 구동 모드를 변경할 수 있다. 이때, 디스플레이 장치의 구동 모드는, 일반 모드에서, 시인성 모드로 전환될 수 있다.Further, when the sensed ambient illuminance is greater than the reference illuminance as a result of sensing the ambient illuminance while the display apparatus is being driven in the normal mode, the control unit 1010 can change the drive mode of the display apparatus. At this time, the drive mode of the display device can be switched to the visibility mode in the normal mode.

나아가, 제어부(1010)는, 디스플레이 장치가 일반 모드에서 구동되고 있는 상태에서, 주변 조도를 센싱한 결과, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 작은 경우에는, 디스플레이 장치의 구동 모드를 일반모드로 계속하여 유지시킬 수 있다.Further, if the sensed ambient illuminance is smaller than the reference illuminance as a result of sensing the ambient illuminance while the display device is being driven in the normal mode, the control unit 1010 continues the drive mode of the display apparatus to the normal mode Can be maintained.

나아가, 제어부(1010)는, 디스플레이 장치가 시인성 모드에서 구동되고 있는 상태에서, 주변 조도를 센싱한 결과, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 큰 경우에는, 디스플레이 장치의 구동 모드를 시인성 모드로 계속하여 유지시킬 수 있다.Further, when the sensed ambient illuminance is greater than the reference illuminance as a result of sensing the ambient illuminance while the display device is being driven in the visibility mode, the control unit 1010 continues the drive mode of the display device in the visibility mode Can be maintained.

이하에서는, 시인성 모드와, 일반 모드에서 반도체 발광 소자에 제공되는 전류의 양을 제어하기 위한 방법에 대하여 보다 구체적으로 살펴본다.Hereinafter, a method for controlling the amount of current provided to the semiconductor light emitting element in the visible mode and the normal mode will be described in more detail.

도 12를 살펴보면, 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제어부(1010)는, 전압 가변 레귤레이터(regulator) 및 펄스 생성기(pulse generator)를 더 포함하여 구성될 수 있다. 12, the control unit 1010 of the display apparatus according to the present invention may further include a voltage regulator and a pulse generator.

커런트 미러부(1015)는, Q1, Q2, Q3 스위치, Rset, Rbr 저항을 포함할 수 있다. 도시된 것과 같이, Q1, Q2 스위치는, 데이터 전극 라인에 흐르는 전류(If)를 일정하게 제어하기 위한 정전류 회로에 해당하며, Q3 스위치는, 시인성 모드와 일반모드에서, 공급되는 전류(Iref)를 변경하기 위한 스위치에 해당한다.The current mirror portion 1015 may include Q1, Q2, Q3 switches, Rset, and Rbr resistors. As shown in the figure, the switches Q1 and Q2 correspond to a constant current circuit for constantly controlling the current If flowing in the data electrode line, and the switch Q3 switches the current Iref supplied in the visibility mode and the normal mode It corresponds to the switch to change.

Rset 저항은, Iref 전류를 설정하기 위한 저항이고, Rbr 저항은 시인성 모드시 전류의 양을 증가시키기 위한 저항이다. The Rset resistance is a resistance for setting the Iref current, and the Rbr resistance is a resistance for increasing the amount of current in the visibility mode.

제어부(1010)는, 커런트 미러부(1015)에 포함된 시인성 모드와, 일반 모드에서 반도체 발광 소자에 흐르는 전류의 양을 다르게 제어하기 위하여, Iref 전류를 변경할 수 있다. 이러한 Iref 전류의 변경은, 제어부(1010)의 제어하에 Q3 스위치, Rset, Rbr 저항, 즉, 커런트 미러부(1015)가 제어됨으로써, 이루어 질 수 있다.The control section 1010 can change the Iref current to control the amount of current flowing through the semiconductor light emitting element in the visibility mode included in the current mirror section 1015 and the normal mode differently. This change in the Iref current can be achieved by controlling the Q3 switch, Rset, and Rbr resistance, that is, the current mirror section 1015 under the control of the control section 1010. [

한편, Q4 스위치는, 반도체 발광 소자(1051)에 전류가 흐르도록 제2 전극부(1030, 또는, 스캔 전극, 스캔 전극 라인)와 반도체 발광 소자(1051)를 전기적으로 연결시키기 위한 스위치에 해당한다.The switch Q4 corresponds to a switch for electrically connecting the second electrode unit 1030 (or the scan electrode and the scan electrode line) to the semiconductor light emitting device 1051 so that current flows through the semiconductor light emitting device 1051 .

이와 같이, 제어부(1010)는, 커런트 미러부(1015)를 제어함으로써, 데이터 전극 라인에 흐르는 전류 If의 양을 증가시키거나 감소시킬 수 있다.As described above, the control unit 1010 can increase or decrease the amount of the current If flowing through the data electrode lines by controlling the current mirror unit 1015.

한편, 시인성 모드에서는, 일반 모드에서보다 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양이 많기 때문에, 전류의 크기만 변경시킬 경우, 스캔 전극(또는 제2 전극)에 의한 구동 전압 상승으로 소비 전력이 급격하게 증가할 수 있다. On the other hand, in the visibility mode, since the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element is larger than that in the normal mode, when the magnitude of the current is changed, the power consumption by the scan electrode (or the second electrode) .

이에 본원발명에서는, 반도체 발광 소자의 구동을 위한 PWM(Pulse Width Modulation) 제어에서의 펄스 전압을 증가시킴으로써, 일반 모드에서보다 시인성 모드에서 구동 전압(VDD)을 높임으로써, 시인성 모드에서 요구되는 전류의 양은 줄이면서 반도체 발광 소자(1051)의 휘도를 높일 수 있다.Therefore, in the present invention, by increasing the pulse voltage in the PWM (Pulse Width Modulation) control for driving the semiconductor light emitting element, the driving voltage (VDD) is increased in the visible mode than in the normal mode, The luminance of the semiconductor light emitting element 1051 can be increased while the amount thereof is reduced.

즉, 제어부(1010)는, 시인성 모드에서 요구되는 반도체 발광 소자(1051)의 밝기를 확보하기 위하여, 전류의 양만 증가시키는 것이 아니라, 일반 모드에서의 구동 전압(VDD)보다 큰 구동 전압으로 구동 전압을 가변시킴으로써, 전류의 양은 감소시키되, 반도체 발광 소자(1051)의 밝기는 확보할 수 있다.That is, in order to secure the brightness of the semiconductor light emitting device 1051 required in the visibility mode, the control unit 1010 does not increase the amount of current but increases the driving voltage So that the brightness of the semiconductor light emitting element 1051 can be ensured while the amount of current is reduced.

이와 같이, 시인성 모드에서 공급되는 전류의 양이 감소하는 경우, 스캔 전극에서 소비되는 소비전력을 저감시킬 수 있다. 즉, 제어부(1010)는 일반 모드에서, 시인성 모드로 변환시 PWM 제어방식에 따른, 구동 전압(VDD)를 변경함으로써, 소비 전력을 저감할 수 있다.In this way, when the amount of current supplied in the visibility mode is reduced, the power consumption consumed by the scan electrode can be reduced. In other words, the control unit 1010 can reduce the power consumption by changing the driving voltage VDD according to the PWM control method when converting to the visibility mode in the normal mode.

한편, 제어부(1010)는 PWM 제어시의 구동 전압 VDD를 일반 모드와 시인성 모드에서의 PWM 제어방식에 따른 구동 전압(VDD)을 서로 다르게 조정할 수 있다. 구동 전압의 변경은, 앞서 살펴본 전압 가변 레귤레이터를 통해 이루어질 수 있다.On the other hand, the controller 1010 can adjust the driving voltage VDD during the PWM control to be different from the driving voltage VDD according to the PWM control method in the normal mode and the visibility mode. The driving voltage can be changed through the above-described voltage variable regulator.

보다 구체적으로 제어부(1010)는, 주변 조도를 센싱한 결과, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 작은 경우, 디스플레이 장치를 일반 모드에서 구동시킨다. 일반 모드에서의 구동 전압은, VDD1이고, 데이터 전극 라인에 흐르는 전류는, If1일 수 있다.More specifically, the control unit 1010 drives the display device in the normal mode when the sensed ambient illuminance is smaller than the reference illuminance as a result of sensing the ambient illuminance. The driving voltage in the normal mode is VDD1, and the current flowing in the data electrode line may be If1.

그리고, 제어부(1010)는 주변 조도를 센싱한 결과, 센싱된 주변 조도가 기준 조도보다 큰 경우, 디스플레이 장치를 시인 모드에서 구동시킨다. 시인성 모드에서의 구동 전압은, VDD2이고, 데이터 전극 라인에 흐르는 전류는, If2일 수 있다.If the sensed ambient illuminance is greater than the reference illuminance as a result of sensing the ambient illuminance, the control unit 1010 drives the display apparatus in the view mode. The driving voltage in the visibility mode is VDD2, and the current flowing in the data electrode line may be If2.

도시와 같이, 일반 모드에서의 구동 전압인 VDD1은, 시인성 모드에서의 구동 전압인 VDD2보다 작다. 즉, 제어부(1010)는 전압 가변 레귤레이터를 통해, 일반 모드와 시인성 모드에서의 펄스 전압을 다르게 제어함으로써, 디스플레이 장치에서 소비되는 소비전력을 절감시킬 수 있다.As shown in the figure, the driving voltage VDD1 in the normal mode is smaller than the driving voltage VDD2 in the visibility mode. That is, the controller 1010 can control the pulse voltage in the normal mode and the visibility mode differently through the voltage variable regulator, thereby reducing power consumption in the display device.

나아가, 일반 모드에서 데이터 전극 라인으로 흐르는 전류 If1의 양은, 시인성 모드에서의 구동 전류는 If2보다 적다. 즉, 제어부(1010)는, 커런트 미러부(1015)를 제어함으로써, 일반 모드와 시인성 모드에서의 공급 전류를 다르게 제어함으로써, 디스플레이 장치의 휘도를 제어할 수 있다.Further, the amount of the current If1 flowing to the data electrode line in the normal mode is smaller than the drive current If2 in the visibility mode. In other words, the control unit 1010 can control the luminance of the display device by controlling the supply current in the normal mode and the visibility mode differently by controlling the current mirror unit 1015. [

이상에서 살펴본 것과 같이, 본 발명에 따른 제어부(1010)는 센싱된 주변 조도에 근거하여, 커런트 미러부(1015)를 시인성 모드(또는 제1 동작 모드) 및 일반 모드(또는 제2 동작 모드) 중 어느 하나의 동작 모드로 구동시킨다. 시인성 모드에서 상기 반도체 발광소자(1051)에 공급되는 전류의 양은, 일반 모드에서 상기 반도체 발광 소자(1051)에 공급되는 전류의 양보다 크다.As described above, according to the present invention, the controller 1010 controls the current mirror unit 1015 in the visibility mode (or the first operation mode) and the normal mode (or the second operation mode) based on the sensed ambient illuminance It is driven in any one of the operation modes. The amount of current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 in the visible mode is larger than the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element 1051 in the normal mode.

나아가, 위에서 살펴본 것과 가팅, 제어부(1010)는, 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양만을 제어하는 것 뿐만 아니라, 전압 가변 레귤 레이터를 이용하여, 펄스 전압에 해당하는 구동 전압을 변경함으로써, 디스플레이 장치의 밝기는 확보하면서, 소비 전력을 저감시킬 수 있다.Further, the gating and control unit 1010 controls not only the amount of current flowing in the semiconductor light emitting device 1051 but also the driving voltage corresponding to the pulse voltage by using a voltage variable regulator, The power consumption can be reduced while securing the brightness of the display device.

이상에서 살펴본 것과 같이, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 시인성 모드와 일반모드에서, 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 제어함으로써, 시인성 모드에서, 디스플레이 장치의 시인성을 확보할 수 있다. 이를 통해, 야간, 실내, 실외 등 다양한 주변광 환경에 구애받지 않는 디스플레이 장치를 제공하는 것이 가능하다.As described above, the display device according to the present invention can ensure the visibility of the display device in the visible mode by controlling the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the visible mode and the normal mode. Accordingly, it is possible to provide a display device regardless of various ambient light environments such as night, indoor, and outdoor.

나아가, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 시인성 모드에서의 구동 전압 증가시킴으로써, 디스플레이 장치에서의 소비전력을 저감할 수 있다.Furthermore, the display device according to the present invention can reduce the power consumption in the display device by increasing the driving voltage in the visibility mode.

한편, 이와 다르게, 제어부(1010)는, 센싱된 주변 조도를, 현재 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양에 대응되는 조도와 비교할 수 있다. 이 경우, 센싱된 주변 조도가, 현재 반도체 발광 소자에 흐르는 전류의 양에 대응되는 조도보다 큰 경우, 제어부(1010)는 반도체 발광 소자(1051)에, 현재 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류보다 큰 전류가 흐를 수 있도록, 커런트 미러부(1015)를 제어할 수 있다. 이와 반대로, 센싱된 주변 조도가, 현재 반도체 발광 소자에 흐르는 전류의 양에 대응되는 조도보다 작은 경우, 제어부(1010)는 반도체 발광 소자(1051)에, 현재 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류보다 적은 전류가 흐를 수 있도록, 커런트 미러부(1015)를 제어할 수 있다. 한편, 커런트 미러부(1051)를 제어하는 방법 및 이에 대한 구체적인 개념들은, 위에서 살펴본 설명과 동일하므로, 이에 대한 구체적인 설명은 앞선 설명으로 갈음한다.Alternatively, the control unit 1010 can compare the sensed ambient illuminance with the illuminance corresponding to the amount of the current flowing through the semiconductor light emitting element 1051. In this case, when the sensed ambient illuminance is greater than the illuminance corresponding to the amount of current flowing through the semiconductor light emitting element 1051, the controller 1010 controls the semiconductor light emitting element 1051 so that the current flowing through the semiconductor light emitting element 1051 The current mirror portion 1015 can be controlled so that a large current can flow. On the contrary, when the sensed ambient illuminance is smaller than the illuminance corresponding to the amount of the current flowing through the semiconductor light emitting element, the control unit 1010 controls the semiconductor light emitting element 1051 so that the current flowing through the semiconductor light emitting element 1051 It is possible to control the current mirror portion 1015 so that a small current can flow. The method of controlling the current mirror unit 1051 and specific concepts therefor are the same as those described above, and a detailed description thereof will be omitted.

한편, 이와 같이, 센싱된 주변 조도를, 현재 반도체 발광 소자(1051)에 흐르는 전류의 양에 대응되는 조도와 비교하여, 반도체 발광 소자(1051)의 밝기를 제어하는 경우에도, 위에서 살펴본 것과 같이, 펄스 전압을 가변시키기 위한 제어가 동일하게 적용될 수 있다. 이에 대한 구체적인 설명은, 앞서 살펴본 설명으로 갈음한다.On the other hand, in the case where the brightness of the semiconductor light emitting device 1051 is controlled by comparing the sensed ambient illuminance with the illuminance corresponding to the amount of current flowing in the current semiconductor light emitting device 1051, The control for varying the pulse voltage can be applied equally. A detailed explanation is given in the above explanation.

Claims (10)

데이터 전극 라인;
상기 데이터 전극 라인과 전기적으로 연결되며, 상기 데이터 전극 라인을 통해 공급되는 전류를 공급받는 반도체 발광소자;
상기 데이터 전극 라인 및 상기 반도체 발광소자와 전기적으로 연결되며, 상기 데이터 전극 라인을 통해 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 조절하는 커런트 미러부; 및
주변 조도에 근거하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양이 달라지도록 상기 커런트 미러부를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
A data electrode line;
A semiconductor light emitting element electrically connected to the data electrode line and supplied with a current supplied through the data electrode line;
A current mirror part electrically connected to the data electrode line and the semiconductor light emitting element and controlling an amount of current supplied to the semiconductor light emitting element through the data electrode line; And
And a control unit controlling the current mirror unit so that an amount of a current supplied to the semiconductor light emitting device is changed based on ambient illuminance.
제1항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 주변 조도에 근거하여, 상기 커런트 미러부를 제1 동작 모드 및 제2 동작 모드 중 어느 하나의 동작 모드로 구동 시키고,
상기 제1 동작 모드에서 상기 반도체 발광소자에 공급되는 전류의 양은, 상기 제2 동작 모드에서 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양보다 큰 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
Wherein,
Driving the current mirror section in one of the first operation mode and the second operation mode based on the ambient illuminance,
Wherein the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the first operation mode is larger than the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the second operation mode.
제2항에 있어서,
상기 제1 동작 모드에 대응되는 주변 조도는, 상기 제2 동작 모드에 대응되는 주변 조도 보다 큰 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the ambient illuminance corresponding to the first operation mode is larger than the ambient illuminance corresponding to the second operation mode.
제2항에 있어서,
상기 제어부는, PWM(Pulse Width Modulation) 방식으로 상기 데이터 전극 라인에 공급되는 전류를 제어하고,
상기 제1 동작 모드와 상기 제2 동작 모드에서의 펄스 전압은 서로 다른 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
3. The method of claim 2,
The control unit controls a current supplied to the data electrode line by a PWM (Pulse Width Modulation) method,
Wherein the pulse voltage in the first operation mode and the pulse voltage in the second operation mode are different from each other.
제4항에 있어서,
상기 제1 동작 모드에서의 펄스 전압은, 상기 제2 동작 모드에서의 펄스 전압보다 큰 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the pulse voltage in the first operation mode is larger than the pulse voltage in the second operation mode.
제4항에 있어서,
상기 제1 동작 모드에서 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양은, 상기 제2 동작 모드에서 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양보다 많고,
상기 제1 동작 모드에의 펄스 전압은 상기 제2 동작 모드에서의 펄스 전압보다 큰 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
5. The method of claim 4,
The amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the first operation mode is larger than the amount of current supplied to the semiconductor light emitting element in the second operation mode,
Wherein the pulse voltage to the first operation mode is larger than the pulse voltage in the second operation mode.
제1항에 있어서,
주변 조도를 센싱하기 위한 조도 센서부를 더 포함하고,
상기 제어부는,
상기 조도 센서부를 통한 센싱 결과를 이용하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 제어하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising an illuminance sensor unit for sensing ambient illuminance,
Wherein,
And controls the amount of current supplied to the semiconductor light emitting device by using the sensing result through the illuminance sensor unit.
제7항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 센싱 결과, 주변 조도가 기 설정된 기준보다 큰 경우, 상기 커런트 미러부를 제어하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 증가시키고,
상기 센싱 결과, 주변 조도가 기 설정된 기준보다 작은 경우, 상기 커런트 미러부를 제어하여, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양을 감소시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein,
And controlling the current mirror unit to increase the amount of current supplied to the semiconductor light emitting device when the ambient illuminance is greater than a predetermined reference as a result of the sensing,
Wherein the control unit controls the current mirror unit to reduce an amount of current supplied to the semiconductor light emitting device when the ambient illuminance is smaller than a predetermined reference as a result of the sensing.
데이터 전극 라인과의 전기적 연결을 통해 전류를 공급받는 반도체 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치에 있어서,
주변 조도를 센싱하는 단계; 및
상기 센싱된 주변 조도가 기준 조도 보다 큰 경우, 상기 반도체 발광 소자에 공급되는 전류의 양이 증가하도록 상기 데이터 전극 라인 및 상기 반도체 발광소자와 전기적으로 연결되는 커런트 미러부를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제어방법.
And a semiconductor light emitting element that receives a current through an electrical connection with a data electrode line,
Sensing ambient illuminance; And
And controlling the current mirror part electrically connected to the data electrode line and the semiconductor light emitting device so that the amount of current supplied to the semiconductor light emitting device increases when the sensed ambient illuminance is larger than the reference illuminance Of the display device.
제9항에 있어서,
상기 데이터 전극 라인에 공급되는 전류는, PWM(Pulse Width Modulation) 방식으로 제어되고,
상기 센싱된 주변 조도가 기준 조도 보다 큰 경우, 펄스 전압이 증가하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제어방법.
10. The method of claim 9,
The current supplied to the data electrode line is controlled by a PWM (Pulse Width Modulation) method,
Wherein when the sensed ambient illuminance is greater than the reference illuminance, the pulse voltage increases.
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