KR20160056314A - Vertical type heat treatment apparatus - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an apparatus for uniformly heating multiple stacked substrates. The apparatus comprises: a chamber which has a process chamber housing in which supply and discharge of gas is performed; a boat in which multiple substrates are stacked to be separated up and down in the process chamber housing; a lifting member which lifts and lowers the boat; an opening and closing member which opens and closes the lower portion of the process chamber housing thereby; a rotation shaft which rotates the boat by penetrating the lower portion thereof; an outer heater which is provided on the outside of the process chamber housing; and a lower heater which is provided at the circumference of the rotation shaft positioned between the lower portion of the boat and the opening and closing member. Accordingly, it is possible to uniformly heat the substrate by compensating the temperature of the lower area of the board by the lower heater while minimizing the volume of the chamber.

Description

종형 열처리 장치{VERTICAL TYPE HEAT TREATMENT APPARATUS}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a vertical type heat treatment apparatus,

본 발명은 복수의 적층된 기판을 열처리하기 위한 장치로서, 보다 상세하게는 기판을 균일하게 가열하기 위한 가열 수단을 구비한 종형 열처리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for heat treating a plurality of stacked substrates, and more particularly to a vertical type heat treatment apparatus having heating means for uniformly heating a substrate.

일반적으로 종형 열처리 장치는 진공 챔버 외부에 설치한 히터를 이용해 챔버 내부로 복사열을 전달하여 챔버 내부의 보트에 적재된 다수개의 기판을 가열하는 장치이다.In general, a vertical type heat treatment apparatus is a device for heating a plurality of substrates mounted on a boat inside a chamber by transferring radiant heat to a chamber using a heater provided outside the vacuum chamber.

종형 열처리 장치는 기판이 적재되는 상, 하부 영역이 중간 영역에 비하여 온도가 상대적으로 낮기 때문에 기판을 균일하게 가열시키기 위한 여러가지 온도 보상 수단이 요구되고, 대량 생산을 위해 장치가 대형화될 수록 그 요구는 더욱 커지고 있다.In the vertical type heat treatment apparatus, various temperature compensation means are required to uniformly heat the substrate because the upper and lower regions on which the substrate is loaded are relatively lower in temperature than the middle region, and the demand for the larger size of the apparatus for mass production And more.

기판을 균일하게 가열시키기 위한 종래의 방법으로서 1)챔버 외곽의 히터를 기판이 적재된 영역보다 상, 하부로 연장하여 설치하는 방법, 2)보트의 하부에 더미 기판을 적재하는 방법, 3)한국 공개특허 10-2011-0059540과 같이, 보트 하부에 종형의 보온통을 설치하는 방법, 4)한국 공개특허 10-2008-0045739와 같이, 보트 하부에 복수의 차단판을 설치하는 방법, 5)한국 공개특허 10-2005-0088989와 같이, 히터를 높이에 따라 여러 영역으로 나누어 온도를 제어하는 방법 등이 알려져 있다.Conventional methods for uniformly heating the substrate include: 1) a method of extending the heater outside the chamber to the upper and lower regions, 2) a method of loading the dummy substrate on the lower portion of the boat, and 3) 4) a method of installing a plurality of shut-off plates under the boat as disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2008-0045739, and 5) a method of installing a plurality of shut- And a method of controlling the temperature by dividing the heater into various regions according to the height as disclosed in Patent Document 10-2005-0088989.

그러나 종래의 1) 내지 3) 방법의 경우 기판 처리량에 비하여 챔버의 용량이 커질 수밖에 없어 가열 및 냉각 시간이 많이 소요되는 문제점이 있었고, 4)의 방법의 경우 온도를 제어하는 것이 용이하지 않을 뿐만 아니라 보트 하부에 적재된 기판은 다른 기판과 온도를 균일하게 유지할 수 없다는 문제점이 있었다.However, in the case of the conventional methods 1) to 3), there is a problem that the capacity of the chamber is larger than the throughput of the substrate, which requires much heating and cooling time. In the case of the method 4) There is a problem that the substrate mounted under the boat can not maintain the temperature uniformly with the other substrate.

또한 종래에 보트 하부의 온도 보상을 위하여 보트 하부 플레이트에 열선과 같은 히터를 구비하는 장치도 제시된 바 있었다. 그러나 회전하는 보트에 설치한 히터에 전원을 공급하는 수단이 제시되지 않았고, 히터가 설치된 하부 플레이트와 가장 인접한 위치에 적재된 기판은 오히려 과열의 문제가 있을 수 있고, 가장 인접한 기판 바로 상단에 적재된 기판으로 열이 제대로 공급되지 않는다는 문제점이 있었다.Also, a device has been proposed in which a heater such as a hot wire is provided on a boat lower plate for temperature compensation of a lower portion of the boat. However, there is no means for supplying power to the heater installed in the rotating boat, and the substrate mounted at the position closest to the lower plate provided with the heater may have a problem of overheating rather than being heated There is a problem that heat is not properly supplied to the substrate.

본 발명은 상술한 배경 기술상의 문제점을 해결하기 위하여, 보트 하부 영역의 온도 보상하여 보트 하부에 적재된 기판까지 균일하게 가열시키는 히터를 구비한 종형 열처리 장치를 제공함에 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a vertical type heat treatment apparatus having a heater for uniformly heating a substrate mounted on a lower portion of a boat by compensating the temperature of the lower region of the boat.

또한 본 발명은 챔버 내부에서 히터가 차지하는 면적을 최소화할 수 있도록 설계한 종형 열처리 장치를 제공함에 그 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a vertical type heat treatment apparatus designed to minimize an area occupied by a heater in a chamber.

상술한 배경 기술 상의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 종형 열처리 장치는, 내부에서 가스의 공급과 배출이 이루어지는 공정 챔버 하우징을 구비하는 챔버;상기 공정 챔버 하우징 내부에 복수의 기판이 상하로 이격 적층되는 보트; 상기 보트를 승하강시키는 승강부재; 상기 승강부재에 의해 상기 공정 챔버 하우징 하부를 개폐시키는 개폐부재; 상기 개폐부재 하부를 관통하여 상기 보트를 회전시키는 회전축; 상기 공정 챔버 하우징 외곽에 구비된 외곽 히터; 상기 보트 하부와 상기 개폐부재 사이에 위치한 회전축 둘레에 구비되며, 상기 회전축이 하부 중앙으로 삽입되도록 중공을 갖는 디스크 형상으로 이루어진 1 이상의 하부 히터; 상기 하부 히터 외곽에 이격 구비되어 외곽 방향으로의 열전달을 차단하는 외곽 간격부재; 상기 외곽 간격부재의 하단에 결합되며, 상기 하부 히터 하부에 이격 구비되어 하부 방향으로의 열전달을 차단하는 하부 간격부재; 및 상기 하부 히터의 하부로부터 그 내곽과 외곽 중 적어도 어느 하나로 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급 수단; 을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a vertical type thermal processing apparatus including a chamber having a process chamber housing for supplying and discharging a gas therein, a plurality of substrates stacked vertically in the process chamber housing, boat; An elevating member for moving the boat up and down; An opening / closing member for opening / closing the lower portion of the process chamber housing by the elevating member; A rotating shaft passing through the lower portion of the opening and closing member to rotate the boat; An outer heater provided outside the process chamber housing; At least one lower heater disposed around a rotating shaft located between the lower portion of the boat and the opening and closing member and having a hollow shape to allow the rotating shaft to be inserted into the lower center; An outer spacing member spaced apart from the outer periphery of the lower heater to block heat transfer to the outer periphery; A lower space member coupled to a lower end of the outer space member and spaced apart from the lower heater to block heat transfer in a downward direction; And inert gas supply means for supplying an inert gas from a lower portion of the lower heater to at least one of the inner and outer peripheries thereof; .

바람직하게, 상기 챔버는, 상기 공정 챔버 하우징을 내부에 수납하는 상부 챔버 하우징; 및 상기 상부 챔버 하우징 하부에 결합되고, 진공 상태의 로드락 챔버와 연결되어 승하강하는 보트 각 단에 기판을 인입 또는 인출시키는 기판 출입구를 구비하는 하부 챔버 하우징; 을 포함한다.Preferably, the chamber comprises: an upper chamber housing housing the processing chamber housing therein; A lower chamber housing coupled to a lower portion of the upper chamber housing and connected to a load lock chamber in a vacuum state, and having a substrate entrance port for loading or unloading the substrate to and from each end of the boat; .

바람직하게, 상기 하부 히터는, 열공급량의 개별 제어가 가능한 복수의 히팅 영역으로 분할된다. 이때, 상기 히팅 영역은 내경부와 외경부로 분할된다.Preferably, the lower heater is divided into a plurality of heating regions capable of individually controlling a heat supply amount. At this time, the heating region is divided into an inner diameter portion and an outer diameter portion.

바람직하게, 상기 하부 히터는, 상기 회전축의 반경 방향으로 분할된 복수개로 이루어진다. 이때, 상기 분할된 복수개는 상호 이격되어 설치된다.Preferably, the lower heater is divided into a plurality of segments divided in the radial direction of the rotary shaft. At this time, the plurality of divided parts are spaced apart from each other.

바람직하게, 상기 하부 히터에 전원을 공급하는 전원 공급 라인이 상기 승강부재 내부를 통해 하부로 인출된다.Preferably, a power supply line for supplying power to the lower heater is drawn down through the inside of the elevating member.

바람직하게, 상기 불활성 가스 공급 수단은, 상기 하부 히터 내곽면과 상기 회전축 사이 및 상기 하부 히터 외곽면과 상기 외곽 간격부재 사이로 불활성 가스를 공급한다.Preferably, the inert gas supply means supplies an inert gas between the inner surface of the lower heater and the rotating shaft, and between the outer surface of the lower heater and the outer gap member.

본 발명의 종형 열처리 장치에 의하면, 챔버 외곽에 설치한 외곽 히터와 보트 하부의 회전축 둘레에 설치한 하부 히터에 의해 챔버의 용적을 최소화 하면서도 보트 하부 영역의 온도를 보상하여 기판을 균일하게 가열할 수 있다.According to the vertical type heat treatment apparatus of the present invention, the outer heater provided outside the chamber and the lower heater provided around the rotational axis of the lower portion of the boat minimize the volume of the chamber, have.

또한 본 발명은 하부 히터를 둘러싸는 외곽 간격부재와 하부 간격부재에 의하여 복사열을 상부로 유도하여 기판을 균일하게 가열할 뿐만 아니라, 개폐부재 하부의 열 손실을 차단할 수 있다.Further, according to the present invention, radiant heat is guided to the upper part by the outer spacing member and the lower spacing member surrounding the lower heater to uniformly heat the substrate, and to prevent heat loss under the opening and closing member.

또한 본 발명은 불활성 가스 공급 라인을 하부 히터 하부에 배치하여 하부 히터 설치에 따른 파티클 발생을 방지할 수 있다.Further, according to the present invention, an inert gas supply line may be disposed below the lower heater to prevent particles from being generated due to the installation of the lower heater.

도 1은 본 발명의 일시예에 의한 열처리 장치의 단면 구성도.
도 2는 도 1의 'A' 부분 확대도.
도 3은 본 발명을 구성하는 하부 히터가 설치된 열처리 장치를 나타낸 사시도.
도 4 내지 6은 본 발명의 여러 실시예에 따른 하부 히터의 저면 사시도.
도 7은 본 발명을 구성하는 불활성 가스 공급 수단의 사시도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view of a heat treatment apparatus according to a temporal example of the present invention; FIG.
2 is an enlarged view of a portion 'A' in FIG. 1;
3 is a perspective view showing a heat treatment apparatus provided with a lower heater constituting the present invention.
4 to 6 are bottom perspective views of a bottom heater according to various embodiments of the present invention.
7 is a perspective view of inert gas supply means constituting the present invention;

이하에서는 본 발명의 실시예를 도면을 참고하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본 발명의 종형 열처리 장치는, 도 1에 도시한 바와 같이, 크게 챔버(10), 보트(20), 가스 공급 수단(30), 가스 배출 수단(40), 승강부재(50), 개폐부재(60), 회전축(70), 외곽 히터(80) 및 하부 히터(90)로 이루어진다. 이하에서는 각 구성요소 별로 구체적으로 설명한다.1, a vertical heat treatment apparatus according to the present invention includes a chamber 10, a boat 20, a gas supply means 30, a gas discharge means 40, an elevation member 50, 60, a rotary shaft 70, an outer heater 80, and a lower heater 90. Hereinafter, each component will be described in detail.

먼저, 챔버(10)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상부 챔버 하우징(11)과 그 하부에 결합된 하부 챔버 하우징(12) 및 상부 챔버 하우징(11) 내부에 수납된 공정 챔버 하우징(13)으로 이루어진다. 그리고 도 3과 같이, 하부 챔버 하우징(12) 일측으로 진공 로드락 챔버(미도시)와 결합되는 기판 출입구(14)가 설치된다. 이에 의해 진공 상태에서 기판을 적재함은 물론 적재 후 바로 기판 처리가 가능하다.First, the chamber 10 includes an upper chamber housing 11, a lower chamber housing 12 coupled to the lower chamber housing 11, and a process chamber housing 13 housed within the upper chamber housing 11, Lt; / RTI > As shown in FIG. 3, a substrate inlet 14 is provided at one side of the lower chamber housing 12 to be coupled to a vacuum load lock chamber (not shown). As a result, not only the substrate can be loaded in a vacuum, but also the substrate can be processed immediately after loading.

보트(20)는 공정 챔버 하우징(13) 내부에 복수의 기판이 상하로 이격 적층되도록 기판의 단부를 지지하도록 구성된다.The boat 20 is configured to support the end of the substrate such that a plurality of substrates are stacked up and down within the process chamber housing 13. [

가스 공급 수단(30)과 가스 배출 수단(40)은 공정 챔버 하우징(13) 내부에 기립된 형태로 설치되어 공정 가스나 퍼지 가스를 공급 및 배출한다.The gas supply means 30 and the gas discharge means 40 are installed in a standing manner inside the process chamber housing 13 to supply and discharge the process gas and the purge gas.

승강부재(50)는 보트(20)를 하부 챔버 하우징(12)과 공정 챔버 하우징(13) 사이에서 승하강시킨다. 이러한 동작에 의해 보트(20)가 최하단에 위치했을 때, 하부 챔버 하우징(12)에 측방에 설치된 기판 출입구(14)를 통해 보트(20) 최상단의 위치에 기판 수납을 시작하고, 승강부재(50)가 단계적으로 상승하면서 기판을 차례로 수납한다.The lifting member 50 moves the boat 20 up and down between the lower chamber housing 12 and the process chamber housing 13. When the boat 20 is positioned at the lowermost position by this operation, the substrate is stored at the uppermost position of the boat 20 through the substrate entry / exit port 14 provided at the side of the lower chamber housing 12, ) Gradually rise, and the substrates are sequentially housed.

개폐부재(60)는 승강부재(50)의 상단에 설치되어 승강부재(50)의 상승 동작을 통해 보트(20)를 공정 챔버 하우징(13) 내부에 완전히 수납시킨 상태에서 공정 챔버 하우징(13) 하단과 밀착되어 공정 챔버 하우징(13) 내부를 하부 챔버 하우징(12)과 격리시킨다. 또한 개폐부재(60)는 승강부재(50) 상단을 격리시키기 위한 내부 커버(61)를 포함한다. 이때 개폐부재(60)는 하부 챔버 하우징(12)을 밀폐시킬 수 있으며, 필요에 따라 부분적으로 밀폐하거나 격리하는 것도 가능하다.The opening and closing member 60 is provided at the upper end of the elevating member 50 and is moved upwardly in the process chamber housing 13 in a state in which the boat 20 is completely housed in the process chamber housing 13 through the ascending operation of the elevating member 50. [ So that the inside of the process chamber housing 13 is isolated from the lower chamber housing 12. The opening and closing member 60 also includes an inner cover 61 for isolating the upper end of the lifting member 50. [ At this time, the opening and closing member 60 may seal the lower chamber housing 12, and may be partially closed or isolated as necessary.

회전축(70)은 승강부재(50) 내부에 설치되고, 상단이 개폐부재(60) 하부 중앙을 관통하여 보트(20) 하부의 회전 플레이트(21)에 결합되어 보트(20)를 회전시킴으로써 기판에 대한 균일한 열처리 또는 증착을 도모하게 된다.The rotary shaft 70 is installed in the elevating member 50 and the upper end passes through the lower center of the opening and closing member 60 and is coupled to the rotary plate 21 under the boat 20 to rotate the boat 20, So that uniform heat treatment or deposition can be achieved.

가열 수단으로서의 외곽 히터(80)는, 공정 챔버 하우징(13) 외곽의 상부 챔버 하우징(11) 내주면에 나선형의 열선이 배치되어 열선으로부터 발생된 복사에너지가 석영으로 된 공정 챔버 하우징(13)을 투과하여 보트(20)에 적재된 기판으로 전달된다. 이때, 복사에너지의 일부는 개폐부재(60)를 통해 외부로 방출되어 보트(20) 하부 영역에 적재된 기판은 상대적으로 상부 영역에 적재된 기판에 비하여 온도가 낮게 된다.The outer heater 80 serving as the heating means is arranged such that helical heat rays are arranged on the inner peripheral surface of the upper chamber housing 11 outside the process chamber housing 13 so that the radiant energy generated from the heat rays is transmitted through the process chamber housing 13 made of quartz And transferred to the board mounted on the boat 20. At this time, a part of the radiant energy is emitted to the outside through the opening and closing member 60, so that the temperature of the substrate mounted on the lower region of the boat 20 is lower than that of the substrate mounted on the upper region.

하부 히터(90)는 이러한 문제를 해결하기 위하여 보트(20) 하부와 개폐부재(60) 사이에 위치한 회전축(70) 둘레에 설치된다. 이러한 하부 히터(90)는 쿼츠 또는 금속 히터 등을 사용할 수 있다. 구체적으로 도 4와 같이, 중앙에 회전축 삽입구(92)가 형성된 원형 디스크 형상으로 이루어지며, 하부면에 전력 공급 라인(91)이 연결되고 승강부재(50) 내부로 인출되어 챔버(10) 외부에 설치된 전원(미도시)과 연결된다.The lower heater 90 is installed around the rotating shaft 70 located between the lower portion of the boat 20 and the opening and closing member 60 to solve this problem. The lower heater 90 may be a quartz or metal heater. Specifically, as shown in FIG. 4, a power supply line 91 is connected to a lower surface of a circular disk having a rotation axis inserting port 92 formed at the center thereof and is drawn out into the elevating member 50, And connected to the installed power source (not shown).

이에 의해 상대적으로 저온인 보트(20) 하부 영역의 온도를 보상함으로써 기판의 균일한 열처리가 가능하고, 외곽 히터(80)의 발열량을 기존에 비하여 감소시킴으로써 공정을 위해 승온시키기 위한 시간과, 공정 완료 후 냉각에 필요한 시간을 단축시켜 전체 공정 시간을 단축시킬 수 있다.Accordingly, it is possible to uniformly heat the substrate by compensating the temperature of the lower region of the boat 20 at a relatively low temperature, to reduce the heating value of the outer heater 80 compared to the conventional method, The time required for post-cooling can be shortened and the entire process time can be shortened.

특히, 하부 히터(90)는 보트(20)와 개폐부재(60) 사이의 좁은 공간에 설치가 가능하여 기판 처리 매수 대비 챔버(10)의 크기를 작게 하여 처리량을 향상시키게 된다.In particular, the lower heater 90 can be installed in a narrow space between the boat 20 and the opening and closing member 60, thereby reducing the size of the chamber 10 compared to the number of substrates processed, thereby improving the throughput.

본 발명의 다른 실시예에 의한 하부 히터(90a)는 도 5와 같이, 회전축(70)의 반경 방향으로 열공급량의 개별 제어가 가능하도록, 내경부와 외경부로 분할한 복수의 히팅 영역으로 구성할 수도 있다. 이를 통해 하부 히터(90) 중앙부와 외곽부의 발열량을 제어하여 전체 챔버(10) 내의 온도 분포를 균일하게 유지할 수 있다. 이때 각각의 히팅 영역 하부에는 각각 전력 공급 라인(91a, 91a')이 설치된다.The lower heater 90a according to another embodiment of the present invention may be constituted by a plurality of heating regions divided into an inner diameter portion and an outer diameter portion so that the heat supply amount can be individually controlled in the radial direction of the rotary shaft 70 It is possible. Accordingly, the amount of heat generated in the central portion and the outer portion of the lower heater 90 can be controlled to uniformly maintain the temperature distribution in the entire chamber 10. At this time, power supply lines 91a and 91a 'are provided under the respective heating areas, respectively.

본 발명의 또 다른 실시예에 의한 하부 히터(90b)는 도 6과 같이, 회전축의 반경 방향으로 2개로 분할하거나, 그 이상으로 분할한 복수개로 구성할 수 있다. 이와 같이 분할된 복수개의 히터는 상호 이격함으로써 열팽창에 의한 히터 손상을 방지할 수 있다. 이때 각각의 히터 하부에는 전력 공급 라인(91b, 91b')이 설치된다.As shown in Fig. 6, the lower heater 90b according to another embodiment of the present invention may be divided into two in the radial direction of the rotary shaft, or a plurality of lower heaters 90b. The plurality of heaters divided in this way are spaced apart from each other to prevent heater damage due to thermal expansion. At this time, power supply lines 91b and 91b 'are provided under the respective heaters.

상술한 하부 히터(90)에 의한 복사에너지의 열전달 효율을 높이거나, 하부 히터(90) 외곽 방향으로의 열전달을 차단하여 장비를 보호하는 외곽 간격부재(110)를 구비할 수 있다. 이때 외곽 간격부재(110)와 하부 히터(90)는 열팽창을 고려하여 유격을 두는 것이 바람직하다.The outer spacing member 110 may be provided to increase the heat transfer efficiency of the radiant energy by the lower heater 90 or prevent the heat transfer to the outside of the lower heater 90 to protect the equipment. At this time, it is preferable that the outer spacing member 110 and the lower heater 90 have clearances in consideration of thermal expansion.

또한 하부 히터(90) 하부 방향으로 열전달을 차단하는 하부 간격부재(120)를 더 부가할 수 있으며, 그 외곽부는 외곽 간격부재(110)의 하단과 결합된다. 이에 의해 개폐부재(60)를 통해 손실되는 열에너지의 양을 감소시킬 수 있다.Further, a lower space member 120 for blocking heat transfer in a lower direction of the lower heater 90 may be further added, and the outer periphery thereof may be coupled with the lower end of the outer space member 110. The amount of heat energy lost through the opening and closing member 60 can be reduced.

한편, 외곽 및 하부 간격부재(110, 120)는 열손실 방지 이외에, 불활성 가스의 공급 통로로서의 기능을 수행할 수 있다. 구체적으로, 하부 히터(90), 외곽 간격부재(110) 및 하부 간격부재(120) 사이에 형성된 공간의 벽면에 파티클의 부착되는 것을 방지하기 위하여 중공의 개폐부재(60) 내곽에 도 7과 같이, 내측 방향으로 가스 분사구(102)가 형성된 환형 노즐로 이루어진 불활성 가스 공급 수단(100)를 구비할 수 있다. On the other hand, the outer and lower gap members 110 and 120 can function as a supply passage for the inert gas in addition to the heat loss prevention. 7, in order to prevent the particles from adhering to the wall surface of the space formed between the lower heater 90, the outer space member 110 and the lower space member 120, And an inert gas supply means 100 composed of an annular nozzle having a gas injection hole 102 formed in the inner side thereof.

이러한 불활성 가스 공급 수단(100)은 질소 또는 아르곤과 같은 불활성 가스를 공급하는 가스 공급 라인(101)이 하부로 연장되어 설치된다. 이에 의해 불활성 가스가 하부 히터(90) 내곽면과 회전축(70) 사이 및 하부 히터(90) 외곽면과 외곽 간격부재(110) 사이를 통과하게 되어 파티클 발생을 방지하게 된다. 그러나, 불활성 가스의 공급량이 많으면 하부 히터(90)의 냉각을 초래할 수 있으므로 가스 공급량의 조절이 필요하다.The inert gas supply means 100 includes a gas supply line 101 extending downward to supply an inert gas such as nitrogen or argon. The inert gas is passed between the inner surface of the lower heater 90 and the rotary shaft 70 and between the outer surface of the lower heater 90 and the outer spacing member 110 to prevent the generation of particles. However, if the supply amount of the inert gas is large, the lower heater 90 may be cooled, so that it is necessary to adjust the gas supply amount.

이상에서는 본 발명의 실시예를 도면을 참고하여 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 실시예에 한정되는 것은 아니고 특허청구범위에 기재된 기술적 사상을 중심으로 판단되어야 하며, 이를 기초로 한 다양한 변형물이나 균등물 역시 본 발명의 권리범위에 속함은 자명하다 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the scope of the present invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments and that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention. It is to be understood that equivalents also fall within the scope of the invention.

10 : 챔버 11 : 상부 챔버 하우징
12 : 하부 챔버 하우징 13 : 공정 챔버 하우징
20 : 보트 30 : 가스 공급 수단
40 : 가스 배출 수단 50 : 승강부재
60 : 개폐부재 70 : 회전축
80 : 외곽 히터 90 : 하부 히터
100 : 불활성 가스 공급 수단 110 : 외곽 간격부재
120 : 하부 간격부재10: chamber 11: upper chamber housing
12: Lower chamber housing 13: Process chamber housing
20: boat 30: gas supply means
40: gas discharge means 50:
60: opening and closing member 70:
80: Outside heater 90: Lower heater
100: inert gas supply means 110: outer gap member
120: Lower space member

Claims (8)

내부에서 가스의 공급과 배출이 이루어지는 공정 챔버 하우징을 구비하는 챔버;
상기 공정 챔버 하우징 내부에 복수의 기판이 상하로 이격 적층되는 보트;
상기 보트를 승하강시키는 승강부재;
상기 승강부재에 의해 상기 공정 챔버 하우징 하부를 개폐시키는 개폐부재;
상기 개폐부재 하부를 관통하여 상기 보트를 회전시키는 회전축;
상기 공정 챔버 하우징 외곽에 구비된 외곽 히터;
상기 보트 하부와 상기 개폐부재 사이에 위치한 회전축 둘레에 구비되며, 상기 회전축이 하부 중앙으로 삽입되도록 중공을 갖는 디스크 형상으로 이루어진 1 이상의 하부 히터;
상기 하부 히터 외곽에 이격 구비되어 외곽 방향으로의 열전달을 차단하는 외곽 간격부재;
상기 외곽 간격부재의 하단에 결합되며, 상기 하부 히터 하부에 이격 구비되어 하부 방향으로의 열전달을 차단하는 하부 간격부재; 및
상기 하부 히터의 하부로부터 그 내곽과 외곽 중 적어도 어느 하나로 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급 수단;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.A chamber having a process chamber housing in which gas is supplied and discharged;
A boat in which a plurality of substrates are vertically stacked in the process chamber housing;
An elevating member for moving the boat up and down;
An opening / closing member for opening / closing the lower portion of the process chamber housing by the elevating member;
A rotating shaft passing through the lower portion of the opening and closing member to rotate the boat;
An outer heater provided outside the process chamber housing;
At least one lower heater disposed around a rotating shaft located between the lower portion of the boat and the opening and closing member and having a hollow shape to allow the rotating shaft to be inserted into the lower center;
An outer spacing member spaced apart from the outer periphery of the lower heater to block heat transfer to the outer periphery;
A lower space member coupled to a lower end of the outer space member and spaced apart from the lower heater to block heat transfer in a downward direction; And
Inert gas supply means for supplying an inert gas from a lower portion of the lower heater to at least one of an inner periphery and an outer periphery thereof;
And a second heat-treating unit for heat-treating the second heat-treating unit. 청구항 1에 있어서,
상기 챔버는,
상기 공정 챔버 하우징을 내부에 수납하는 상부 챔버 하우징; 및
상기 상부 챔버 하우징 하부에 결합되고, 진공 상태의 로드락 챔버와 연결되어 승하강하는 보트 각 단에 기판을 인입 또는 인출시키는 기판 출입구를 구비하는 하부 챔버 하우징;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.The method according to claim 1,
The chamber may comprise:
An upper chamber housing housing the process chamber housing therein; And
A lower chamber housing coupled to a lower portion of the upper chamber housing and connected to a load lock chamber in a vacuum state and having a substrate entrance port for loading or unloading the substrate to and from each end of the boat;
And a second heat-treating unit for heat-treating the second heat-treating unit. 청구항 1에 있어서,
상기 하부 히터는, 열공급량의 개별 제어가 가능한 복수의 히팅 영역으로 분할된 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the lower heater is divided into a plurality of heating regions capable of individually controlling a heat supply amount. 청구항 3에 있어서,
상기 히팅 영역은 내경부와 외경부로 분할된 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.The method of claim 3,
Wherein the heating region is divided into an inner diameter portion and an outer diameter portion. 청구항 1에 있어서,
상기 하부 히터는,
상기 회전축의 반경 방향으로 분할된 복수개로 이루어지는 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.The method according to claim 1,
The lower heater includes:
Wherein the plurality of heaters are divided in the radial direction of the rotary shaft. 청구항 5에 있어서,
상기 분할된 복수개는 상호 이격되어 설치된 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.The method of claim 5,
Wherein the plurality of divided heaters are spaced apart from each other. 청구항 1에 있어서,
상기 하부 히터에 전원을 공급하는 전원 공급 라인이 상기 승강부재 내부를 통해 하부로 인출되는 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.The method according to claim 1,
And a power supply line for supplying power to the lower heater is drawn down through the inside of the elevating member. 청구항 1에 있어서,
상기 불활성 가스 공급 수단은, 상기 하부 히터 내곽면과 상기 회전축 사이 및 상기 하부 히터 외곽면과 상기 외곽 간격부재 사이로 불활성 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 종형 열처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the inert gas supply means supplies an inert gas between the inner surface of the lower heater and the rotating shaft, and between the outer surface of the lower heater and the outer gap member.
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