KR20160053276A - Optical sheet and optical display apparatus comprising the same - Google Patents

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KR20160053276A
KR20160053276A KR1020140150790A KR20140150790A KR20160053276A KR 20160053276 A KR20160053276 A KR 20160053276A KR 1020140150790 A KR1020140150790 A KR 1020140150790A KR 20140150790 A KR20140150790 A KR 20140150790A KR 20160053276 A KR20160053276 A KR 20160053276A
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optical
pattern layer
optical pattern
optical sheet
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KR1020140150790A
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최진우
김진우
박철진
장승현
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삼성에스디아이 주식회사
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Abstract

The present invention relates to an optical sheet and an optical display device including the same. The optical sheet comprises: a base film; and an optical pattern layer formed on one surface of the base film. Therefore, the optical sheet can increase brightness with a high refraction rate when a liquid crystal display device is used.

Description

광학시트 및 이를 포함하는 광학표시장치 {OPTICAL SHEET AND OPTICAL DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an optical sheet and an optical display device including the optical sheet.

본 발명은 광학시트 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an optical sheet and an optical display device including the optical sheet.

액정표시장치는 기재필름 및 기재필름 상에 형성된 광학패턴을 포함하는 광학시트를 포함한다. 광학시트 하부에는 도광판이 배치되거나 또는 광학시트와 도광판 사이에 또 다른 광학시트가 배치될 수 있다. 광학시트는 도광판으로부터 입사되는 광을 굴절시켜 출사시키는데, 액정표시장치의 휘도를 높이기 위해서는 광학시트의 굴절률을 높여야 한다. 그러나, 종래 고굴절률 모노머를 사용할 경우 광학시트의 굴절률을 높이는 데에는 한계가 있었다. 또한, 광학시트의 굴절률을 높이는 경우에도 광학시트에 황변 현상이 발생하고, 부착성 등이 좋지 않았다.A liquid crystal display device includes a base film and an optical sheet including an optical pattern formed on the base film. A light guide plate may be disposed under the optical sheet, or another optical sheet may be disposed between the optical sheet and the light guide plate. The optical sheet refracts light emitted from the light guide plate and emits the light. In order to increase the brightness of the liquid crystal display device, the refractive index of the optical sheet must be increased. However, there has been a limit in increasing the refractive index of the optical sheet when the high refractive index monomer is used. Further, even when the refractive index of the optical sheet is increased, yellowing occurs in the optical sheet, and adhesion and the like are not good.

또한, 광학시트 상부에는 보호시트 또는 또 다른 광학시트가 더 형성될 수 있다. 광학시트의 광학패턴층과 보호시트 등의 접촉으로 광학패턴이 영향을 받을 수 있어, 액정표시장치의 휘도를 낮출 수 있으므로, 굴절률 이외에 내스크래치성 등을 개선할 필요가 있다. Further, a protective sheet or another optical sheet may be further formed on the optical sheet. The optical pattern can be influenced by the contact of the optical pattern layer of the optical sheet with the protective sheet or the like and the brightness of the liquid crystal display device can be lowered so that it is necessary to improve the scratch resistance in addition to the refractive index.

본 발명의 배경기술은 한국공개특허 제2013-0074115호 등에 개시되어 있다.
The background art of the present invention is disclosed in Korean Patent Publication No. 2013-0074115.

본 발명의 목적은 굴절률이 높아 액정표시장치에 사용시 휘도를 높일 수 있는 광학시트 및 이를 포함하는 광학표시장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an optical sheet having a high refractive index and capable of increasing brightness when used in a liquid crystal display, and an optical display device including the same.

본 발명의 다른 목적은 복원력, 내스크래치성 및 내충격성이 우수한 광학시트 및 이를 포함하는 광학표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an optical sheet excellent in restitution force, scratch resistance and impact resistance, and an optical display device including the optical sheet.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.
The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

본 발명의 하나의 관점은 광학시트에 관한 것이다.One aspect of the present invention relates to an optical sheet.

하나의 구체예에 따르면, 상기 광학시트는 기재필름 및 상기 기재필름 일면에 형성된 광학패턴층을 포함하고, 상기 광학패턴층은 하기의 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물로부터 유래된 단위를 포함하고, 상기 광학패턴층은 하기 i) 내지 iv)의 [측정조건]에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우, 상기 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 30 mN이 되었을 때 상기 인덴터가 상기 광학패턴층에 들어가는 깊이인 hmax가 3 ㎛ 내지 15 ㎛이다:According to one embodiment, the optical sheet includes a base film and an optical pattern layer formed on one surface of the base film, wherein the optical pattern layer includes a unit derived from a (meth) acrylic compound represented by the following formula Wherein the optical pattern layer is formed by pressing the optical pattern layer with an indenter under the conditions [i] to iii) below, and when the pressing force of the optical pattern layer with the indenter is 30 mN, Hmax, which is the depth at which the light enters the optical pattern layer, is 3 [mu] m to 15 [mu] m:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로

Figure pat00002
이고, 여기서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-O-* 또는 *-S-*이고, Q는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Y는 수소 또는 메틸기이고, n은 1 내지 50의 정수이고, *는 결합부위를 나타낸다)(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Figure pat00002
, Wherein X 1 and X 2 are each independently * -O- * or * -S- *, Q is alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Y is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 50 And * represents a binding site)

[측정조건][Measuring conditions]

i) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 최초 힘: 0 mNi) Initial force at which the indenter presses the optical pattern layer: 0 mN

ii) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 힘의 초당 증가율: 0.6 mN/sii) the rate of increase per second of the force the indenter presses the optical pattern layer: 0.6 mN / s

iii) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 방향: 광학패턴층에 대해 수직 방향iii) Direction in which the indenter presses the optical pattern layer: direction perpendicular to the optical pattern layer

iv) 인덴터는 단면이 직경 50㎛의 원형인 바(bar)를 사용함.iv) The indenter uses a bar having a circular cross section having a diameter of 50 μm.

다른 구체예에 따르면, 상기 광학패턴층은 하기 식 1의 △h가 1.3 ㎛ 이하가 될 수 있다.According to another embodiment, the optical pattern layer may have a Δh of 1.3 μm or less in the following formula (1).

<식 1><Formula 1>

△h = h2 - h1H = h2 - h1

(상기 식 1에서, h1은 상기 i) 내지 iv)의 조건에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우 상기 hmax에 도달하기 전 상기 인덴터가 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 상기 인덴터가 상기 광학패턴층에 들어간 깊이, h2는 상기 i) 내지 iv)의 조건에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우 상기 hmax에 도달한 후 상기 인덴터가 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 인덴터가 광학패턴층에 들어간 깊이이다).(Where h1 is the pressing force of the optical pattern layer with the indenter under the conditions of i) to iv), when the pressing force of the indenter on the optical pattern layer before reaching hmax is 5 mN, When the optical pattern layer is pressed by the indenter under the conditions of i) to iv), the pressing force of the indenter on the optical pattern layer after reaching the hmax is 5 mN The depth at which the indenter enters the optical pattern layer).

또 다른 구체예에 따르면, 상기 광학패턴층은 화학식1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 25 중량% 내지 75 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성되고, △h가 0 ㎛ 내지 0.9 ㎛가 될 수 있다.According to another embodiment, the optical pattern layer is formed of a composition for forming an optical pattern containing 25% by weight to 75% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the general formula (1), and Δh is 0 μm to 0.9 μm .

또 다른 구체예에 따르면, 상기 광학패턴층은 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 5 중량% 내지 40 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성되고, △h가 0.5 ㎛ 내지 1.3 ㎛가 될 수 있다.According to another embodiment, the optical pattern layer is formed of a composition for forming an optical pattern containing 5% by weight to 40% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the general formula (1), and Δh is from 0.5 μm to 1.3 μm .

또 다른 구체예에 따르면, 상기 광학패턴층은 굴절률이 1.50 내지 1.70이 될 수 있다.According to another embodiment, the refractive index of the optical pattern layer may be 1.50 to 1.70.

또 다른 구체예에 따르면, 상기 광학패턴층은 상기 광학패턴층 위에 에이지 폴(AG Pol)과 0 ~ 100 g 사이의 무게를 가지는 분동을 순차적으로 올린 상태에서, 에이지 폴(AG Pol)을 3회 왕복시킨 후 상기 광학패턴층이 손상되기 시작하는 최초의 분동의 무게가 15 g 이상이 될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the optical pattern layer is formed on the optical pattern layer in such a manner that an ag pole (AG Pol) and a weight having a weight between 0 and 100 g are sequentially placed on the optical pattern layer, The weight of the first weight at which the optical pattern layer begins to be damaged after the reciprocating motion can be 15 g or more.

또 다른 구체예에 따르면, 상기 광학패턴층은 Q가 에틸렌기일 수 있다.According to another embodiment, the optical pattern layer may be an ethylene group.

또 다른 구체예에 따르면, 상기 광학시트는 상기 기재필름의 다른 일면에 코팅층이 더 형성될 수 있다.According to another embodiment, the optical sheet may further include a coating layer on the other surface of the base film.

본 발명의 다른 관점은 복합 광학시트에 관한 것이다.Another aspect of the invention relates to a composite optical sheet.

하나의 구체예에 따르면, 상기 복합광학시트는 제1광학시트 및 상기 제1광학시트 상부에 형성되는 제2광학시트를 포함하고, 상기 제1광학시트 및 제2광학시트 중 하나 이상은 상기 광학시트를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the composite optical sheet includes a first optical sheet and a second optical sheet formed on the first optical sheet, and at least one of the first optical sheet and the second optical sheet includes the optical Sheet.

다른 구체예에 따르면, 상기 제1광학시트는 하기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 5 중량% 내지 40 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함하고, △h가 0.5 ㎛ 내지 1.3 ㎛가 될 수 있다:According to another embodiment, the first optical sheet includes an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern containing 5% by weight to 40% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the following general formula (1) Lt; / RTI &gt; to &lt; RTI ID = 0.0 &gt;

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00003
Figure pat00003

(상기의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로

Figure pat00004
이고, 여기서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-O-* 또는 *-S-*이고, Q는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Y는 수소 또는 메틸기이고, n은 1 내지 50의 정수이고, *는 결합부위를 나타낸다).(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Figure pat00004
, Wherein X 1 and X 2 are each independently * -O- * or * -S- *, Q is alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Y is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 50 , And * indicates a binding site).

또 다른 구체예에 따르면, 상기 제1광학시트는 굴절률이 1.62 이상인 모노머 35 중량% 내지 60 중량%, 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물 5 중량% 내지 40 중량% 및 비인계 모노머 20 중량% 내지 50 중량%를 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함할 수 있다.According to another embodiment, the first optical sheet may comprise 35 wt% to 60 wt% of a monomer having a refractive index of 1.62 or more, 5 wt% to 40 wt% of a (meth) acrylic compound represented by the formula (1) % To 50% by weight of an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern.

또 다른 구체예에 따르면, 상기 제2광학시트는 하기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 25 중량% 내지 75 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함하고, △h가 0 ㎛ 내지 0.9 ㎛가 될 수 있다:According to another embodiment, the second optical sheet includes an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern containing 25 wt% to 75 wt% of a (meth) acrylic compound represented by the following general formula (1) Can be from 0 [mu] m to 0.9 [mu] m:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00005
Figure pat00005

(상기의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로

Figure pat00006
이고, 여기서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-O-* 또는 *-S-*이고, Q는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Y는 수소 또는 메틸기이고, n은 1 내지 50의 정수이고, *는 결합부위를 나타낸다).(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Figure pat00006
, Wherein X 1 and X 2 are each independently * -O- * or * -S- *, Q is alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Y is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 50 , And * indicates a binding site).

또 다른 구체예에 따르면, 상기 제1광학시트는 굴절률이 1.62 이상인 모노머 15 중량% 내지 40 중량%, 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물 25 중량% 내지 75 중량% 및 비인계 모노머 5 중량% 내지 40 중량%를 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함할 수 있다.According to another embodiment, the first optical sheet comprises 15 to 40% by weight of a monomer having a refractive index of 1.62 or more, 25 to 75% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the formula (1) % To 40% by weight of an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern.

본 발명의 또 다른 관점은 광학표시장치에 관한 것이다.Another aspect of the present invention relates to an optical display device.

하나의 구체예에 따르면, 상기 광학표시장치는 상기 광학시트 또는 상기 복합 광학시트를 포함할 수 있다.
According to one embodiment, the optical display device may include the optical sheet or the composite optical sheet.

본 발명은 굴절률이 높아 액정표시장치의 휘도를 높일 수 있고, 복원력, 내스크래치성 및 내충격성이 우수한 광학시트 및 이를 포함하는 광학표시장치를 제공하는 효과를 갖는다.
The present invention has the effect of providing an optical sheet having a high refractive index and capable of raising the brightness of a liquid crystal display device and having excellent restoring force, scratch resistance and impact resistance, and an optical display device including the optical sheet.

도 1은 한 구체예에 따른 광학시트의 사시도이다.
도 2는 도1에서 X-Y선을 따라 절단한 단면도이다.
도 3은 다른 구체예에 따른 광학시트의 사시도이다.
도 4는 한 구체예의 복합광학시트의 사시도이다.
도 5는 한 구체예에 따른 광학표시장치의 사시도이다.
도 6은 hmax 및 △h의 개념도 이다.
1 is a perspective view of an optical sheet according to one embodiment.
Fig. 2 is a cross-sectional view taken along line XY in Fig. 1. Fig.
3 is a perspective view of an optical sheet according to another embodiment.
4 is a perspective view of a composite optical sheet according to one embodiment.
5 is a perspective view of an optical display device according to one embodiment.
6 is a conceptual diagram of hmax and? H.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 실시예들을 보다 상세하게 설명한다. 그러나, 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 구성요소를 지칭한다.Embodiments of the present application will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the techniques disclosed in this application are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. It should be understood, however, that the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the width, thickness, and the like of the components are enlarged in order to clearly illustrate the components of each device. Like numbers refer to like elements throughout the several views.

본 명세서에서 “상부”와 “하부”는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 “상부”가 “하부”로 “하부”가 “상부”로 변경될 수 있고, “위(on)” 또는 “상(on)”으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, “직접 위(directly on)” 또는 “바로 위”로 지칭되는 것은 중간체 등의 다른 구조를 개재하지 않은 것을 나타낸다.The terms "upper" and "lower" in this specification are defined with reference to the drawings, wherein "upper" may be changed to "lower", "lower" What is referred to as &quot; on &quot; may include not only superposition, but also intervening other structures in the middle. On the other hand, what is referred to as &quot; directly on &quot; or &quot; directly above &quot;

본 명세서에서 “(메트)아크릴”은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.As used herein, &quot; (meth) acrylic &quot; means acrylic and / or methacrylic.

이하, 본 발명의 구체예에 따른 광학시트를 도 1을 참고하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 구체예에 따른 광학시트의 사시도이고, 도 2는 도 1에서 X-Y선을 따라 절단한 단면도이다.Hereinafter, an optical sheet according to an embodiment of the present invention will be described with reference to Fig. FIG. 1 is a perspective view of an optical sheet according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line X-Y in FIG.

도 1을 참조하면, 본 발명의 구체예에 따른 광학시트(100)는 기재필름(110) 및 상기 기재필름(110) 일면에 형성된 광학패턴층(120)을 포함하고, 상기 광학패턴층(120)은 하기의 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 포함하고, 상기 광학패턴층(120)은 hmax(maximum indentation depth)가 3 ㎛ 내지 15 ㎛이다:1, an optical sheet 100 according to an embodiment of the present invention includes a base film 110 and an optical pattern layer 120 formed on one surface of the base film 110. The optical pattern layer 120 (Meth) acrylic compound represented by the following formula (1), and the optical pattern layer (120) has a maximum indentation depth (hmax) of 3 탆 to 15 탆:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00007
Figure pat00007

(상기의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로

Figure pat00008
이고, 여기서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-O-* 또는 *-S-*이고, Q는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Y는 수소 또는 메틸기이고, n은 1 내지 50의 정수이고, *는 결합부위를 나타낸다)(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Figure pat00008
, Wherein X 1 and X 2 are each independently * -O- * or * -S- *, Q is alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Y is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 50 And * represents a binding site)

광학시트(100)는 액정표시장치에서 도광판 또는 다른 광학시트의 상부에 배치되고, 도광판 또는 다른 광학시트로부터 입사되는 광을 굴절시켜 출사시킨다. 본 발명 일 실시예의 광학시트(100)의 광학패턴층(120)은 상기의 화학식1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 포함하고, 광학패턴층(120)의 hmax가 3㎛ 이상이 됨으로써, 입사되는 광을 고휘도로 출사시킬 수 있고, 내스크래치성을 높일 수 있다. 구체적으로, 광학패턴층(120)의 hmax는 3 내지 15㎛, 구체적으로 3 ㎛ 내지 10 ㎛, 더욱 구체적으로 3 ㎛ 내지 8 ㎛가 될 수 있다. 상기의 범위에서 내스크래치성이 우수하여 입사되는 광을 고휘도로 출사시킬 수 있다.The optical sheet 100 is disposed on a light guide plate or other optical sheet in a liquid crystal display device, and refracts and emits light incident from a light guide plate or another optical sheet. The optical pattern layer 120 of the optical sheet 100 of the embodiment of the present invention includes the (meth) acrylic compound represented by the above formula (1) and the hmax of the optical pattern layer 120 is 3 탆 or more, Can be emitted at a high luminance, and scratch resistance can be enhanced. Specifically, the hmax of the optical pattern layer 120 may be 3 to 15 占 퐉, specifically 3 占 퐉 to 10 占 퐉, more specifically 3 占 퐉 to 8 占 퐉. The scratch resistance is excellent in the above-mentioned range, and the incident light can be emitted with high luminance.

도 6은 hmax 및 △h의 개념도 이다. 상기 도 6을 참조하면, “hmax”는 도 1의 광학시트(100)의 광학패턴층(120)의 임의의 부위에 대하여 마이크로 인덴테이션(micro indentation)에 의해 인덴터(indentor)로 광학패턴(120)을 눌렀을 때, 하기 i) 내지 iv)의 측정조건에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우, 상기 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 30mN이 되었을 때 상기 인덴터가 상기 광학패턴층에 들어가는 깊이가 될 수 있다:6 is a conceptual diagram of hmax and? H. 6, "hmax" refers to an optical pattern of an optical pattern 100 of an optical sheet 100 of FIG. 1 by an indentor by micro indentation on an arbitrary portion of the optical pattern layer 120 When the optical pattern layer is pressed with an indenter under the measurement conditions of i) to iv), when the pressing force of the optical pattern layer with the indenter becomes 30 mN, It can be the depth into the layer:

[측정조건][Measuring conditions]

i) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 최초 힘:0mNi) Initial force at which the indenter presses the optical pattern layer: 0 mN

ii) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 힘의 초당 증가율:0.6mN/sii) the rate of increase per second of the force the indenter presses the optical pattern layer: 0.6 mN / s

iii) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 방향: 광학패턴층에 대해 수직방향iii) Direction in which the indenter presses the optical pattern layer: direction perpendicular to the optical pattern layer

iv) 인덴터는 단면이 직경 50㎛의 원형인 바(bar)를 사용함.iv) The indenter uses a bar having a circular cross section having a diameter of 50 μm.

예를 들면, ‘hmax’는 광학패턴층이 형성된 광학시트를 가로 x 세로(5cm x 5cm)로 절단하여 시편을 준비하고, 시편 중 광학패턴층을 마이크로 인덴테이션 장치의 인덴터 쪽으로 배치하고, 0mN부터 0.6mN/s의 증가율로 누르는 힘을 증가시켜 50초 동안 인덴터로 광학패턴층을 광학패턴에 대해 수직 방향(중력 방향)으로 누르고, 5초 동안 멈춘 후, 다시 0.6mN/s의 감소율로 누르는 힘을 감소시켜 인덴터를 떼었을 때, 누르는 힘이 30mN일 때(즉, 50초 누르는 때)의 인덴터가 광학패턴층으로 들어간 깊이를 의미한다. 인덴터는 단면이 직경 50㎛인 원형인 바를 사용할 수 있다.For example, 'hmax' is obtained by preparing a specimen by cutting an optical sheet having an optical pattern layer in a width-by-height (5 cm x 5 cm) length, placing the optical pattern layer of the specimen on the indenter side of the micro- , The optical pattern layer was pressed in the vertical direction (gravity direction) with respect to the optical pattern with the indenter for 50 seconds, stopped for 5 seconds, and then again at a reduction rate of 0.6 mN / s Means the depth at which the indenter enters the optical pattern layer when the pressing force is 30 mN (i.e., when the pressing force is 50 seconds) when the indenter is released by reducing the pressing force. The indenter may be a circular bar having a cross-section of 50 mu m in diameter.

상기 광학패턴층(120)은 하기 식 1의 △h가 1.3 ㎛ 이하, 예를 들면 0 ㎛ 내지 1.3 ㎛, 구체적으로 0 ㎛ 내지 0.9 ㎛, 더욱 구체적으로 0 ㎛ 내지 0.7 ㎛가 될 수 있고, 상기의 범위에서 외부 충격을 흡수하여 광학시트를 손상시키지 않으며, 0 ㎛에 가까울수록 복원력이 좋기 때문에 광학시트의 내스크래치성을 높일 수 있다:The optical pattern layer 120 may have a Δh of 1.3 μm or less, for example, 0 μm to 1.3 μm, specifically 0 μm to 0.9 μm, more specifically 0 μm to 0.7 μm, in the following formula (1) The optical sheet is not damaged by absorbing an external impact in the range of from 0 to 50 탆, and the scratch resistance of the optical sheet can be increased because the closer to 0 탆 the better the restoring force is:

<식 1><Formula 1>

△h = h2 - h1H = h2 - h1

(상기 식 1에서, h1은 상기 i) 내지 iv)의 조건에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우 상기 hmax에 도달하기 전 상기 인덴터가 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 상기 인덴터가 상기 광학패턴층에 들어간 깊이(단위: ㎛), h2는 상기 i) 내지 iv)의 조건에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우 상기 hmax에 도달한 후 상기 인덴터가 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 인덴터가 광학패턴층에 들어간 깊이(단위: ㎛)이다).(Where h1 is the pressing force of the optical pattern layer with the indenter under the conditions of i) to iv), when the pressing force of the indenter on the optical pattern layer before reaching hmax is 5 mN, (Unit: 占 퐉) of the dentor into the optical pattern layer, and h2 is the refractive index of the optical pattern layer after reaching hmax when pressing the optical pattern layer with the indenter under the conditions of i) to iv) (Unit: 占 퐉) in which the indenter enters the optical pattern layer when the pressing force is 5 mN.

도 6을 참조하면, “△h”는 도 1의 광학시트(100)의 광학패턴층(120)의 임의의 부위에 대하여, 광학패턴층이 형성된 광학시트를 가로 x 세로(5cm x 5cm)로 절단하여 시편을 준비하고, 시편 중 광학패턴층을 마이크로 인덴테이션 장치의 인덴터 쪽으로 배치하고, 0mN부터 0.6mN/s의 증가율로 누르는 힘을 증가시켜 50초 동안 인덴터로 광학패턴층을 광학패턴층에 대해 수직 방향(중력 방향)으로 누르고, 5초 동안 멈춘 후, 다시 0.6mN/s의 감소율로 누르는 힘을 감소시켜 인덴터를 떼었을 때, 인덴터가 광학패턴층에 들어가는 깊이(h)는 누르는 힘을 증가할수록 증가하다가 hmax에 도달한 후 감소하게 되는데, h1은 hmax에 도달하기 전 누르는 힘이 5mN일 때 인덴터가 광학패턴층에 들어간 깊이, h2는 hmax에 도달한 후 누르는 힘이 5mN일 때 인덴터가 광학패턴층에 들어간 깊이를 의미하고, h2 - h1을 △h로 정의한다.Referring to Fig. 6, &quot; DELTA h &quot; indicates an optical sheet having an optical pattern layer formed on an arbitrary portion of the optical pattern layer 120 of the optical sheet 100 of Fig. 1 in a transversal x vertical (5 cm x 5 cm) The optical pattern layer in the specimen was placed on the indenter side of the micro-indentation device. The pressing force was increased from 0 mN to 0.6 mN / s to increase the optical pattern layer with an indenter for 50 seconds. (H) when the indenter enters the optical pattern layer when the indenter is released by depressing it in the direction perpendicular to the layer (gravity direction), stopping for 5 seconds, and then decreasing the pressing force again at a rate of 0.6 mN / H1 is the depth at which the indenter enters the optical pattern layer when the pressing force before reaching hmax is 5mN and h2 is the pressing force after reaching hmax when hmax reaches hmax. The depth at which the indenter enters the optical pattern layer at 5 mN , And h2 - h1 is defined as h.

구체적으로, 광학시트(100)는 필요한 용도에 따라 광학패턴층(120)의 화학식 1의 (메트)아크릴계 화합물의 함량 또는 △h 를 달리할 수 있다.Specifically, the content of the (meth) acrylic compound in the optical pattern layer 120 of the optical pattern layer 120 or? H may be different depending on the required application.

하나의 구체예에서, 상기 광학패턴층(120)은 화학식1의 (메트)아크릴계 화합물을 5 중량% 내지 40 중량%, 구체적으로는 10 중량% 내지 30 중량%, 더욱 구체적으로는 15 중량% 내지 25 중량% 포함할 수 있고, △h가 0.5 ㎛ 내지 1.3 ㎛, 구체적으로는 0.5 ㎛ 내지 1.2 ㎛, 더욱 구체적으로는 0.5 ㎛ 내지 1.0 ㎛가 될 수 있다. 상기의 범위에서 광학시트(100)의 굴절률이 높아 광학표시장치의 휘도를 높일 수 있다.In one embodiment, the optical pattern layer 120 comprises 5% to 40% by weight, specifically 10% to 30% by weight, more specifically 15% by weight to 5% by weight, of the (meth) 25% by weight, and Δh may be 0.5 μm to 1.3 μm, specifically 0.5 μm to 1.2 μm, more specifically 0.5 μm to 1.0 μm. The refractive index of the optical sheet 100 is high in the above-mentioned range, and the brightness of the optical display device can be increased.

다른 구체예에서, 상기 광학패턴층(120)은 화학식1의 (메트)아크릴계 화합물을 25 중량% 내지 75 중량%, 구체적으로는 35 중량% 내지 65 중량%, 더욱 구체적으로는 40 중량% 내지 60 중량% 포함할 수 있고, △h가 0 ㎛ 내지 0.9 ㎛, 구체적으로는 0 ㎛ 내지 0.7 ㎛, 더욱 구체적으로는 0 ㎛ 내지 0.5 ㎛가 될 수 있다. 상기의 범위에서 광학시트(100)의 최소 일면에 형성되는 보호시트 또는 또 다른 광학시트와의 접촉에도 광학패턴층(120)이 영향을 받지 않아, 액정표시장치의 고휘도를 유지할 수 있다.In another embodiment, the optical pattern layer 120 comprises 25% to 75%, specifically 35% to 65%, more specifically 40% to 60% by weight of the (meth) acrylic compound of Formula 1 Wt%, and Δh may be 0 μm to 0.9 μm, specifically 0 μm to 0.7 μm, more specifically 0 μm to 0.5 μm. The optical pattern layer 120 is not affected by contact with the protective sheet or another optical sheet formed on at least one surface of the optical sheet 100 in the above-mentioned range, and thus the high brightness of the liquid crystal display device can be maintained.

구체적으로 상기 광학패턴층(120)에 포함되는 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 조성물은 Q가 에틸렌기가 될 수 있다. Q가 에틸렌기인 경우에, 트리아진 코어에 결합된 에틸렌 옥사이드의 유동성에 의하여, 복원력 및 내충격성을 증가시킬 수 있는 장점이 있다.Specifically, Q may be an ethylene group in the (meth) acrylic-based composition represented by Formula 1 contained in the optical pattern layer 120. When Q is an ethylene group, there is an advantage that the resilience and impact resistance can be increased by the fluidity of the ethylene oxide bonded to the triazine core.

구체예에서 상기 광학시트(100)는 상기의 R1, R2 및 R3의 X1이 *-S-* 또는 *-O-*이며, 바람직하게는 *-S-*일 수 있다. X1이 *-S-*인 경우 트리아진에 황(S)이 인접하여 분극률이 높아져, 상기 (메트)아크릴계 화합물의 굴절률을 높일 수 있는 장점이 있다.In an embodiment, the optical sheet 100 may have X 1 of R 1 , R 2 and R 3 as * -S- * or * -O- *, preferably * -S- *. When X 1 is * -S- *, triazine is adjacent to sulfur (S) to increase the polarizability, which is advantageous in that the refractive index of the (meth) acrylic compound can be increased.

다른 구체예에서, 상기의 R1, R2 및 R3의 n은 1 내지 50의 정수, 바람직하게는 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 1 내지 10의 정수일 수 있다. 상기의 범위에서, 상기 (메트)아크릴계 화합물을 포함하는 광학패턴형성용 조성물의 점도와 복원력 및 내충격성의 균형을 이룰 수 있다.In other embodiments, n of R 1 , R 2 and R 3 above may be an integer from 1 to 50, preferably an integer from 1 to 20, preferably an integer from 1 to 10. Within the above range, the viscosity, restoring force and impact resistance of the composition for forming an optical pattern containing the (meth) acrylic compound can be balanced.

광학시트(100)는 상부면인 광출사면과 하부면인 광입사면을 가져 하부면으로부터 입사된 광을 상부면으로 출사시키는 것으로, 기재필름(110) 및 기재필름(110) 상에 형성된 광학패턴층(120)을 포함할 수 있다.The optical sheet 100 has a light exit surface as a top surface and a light incident surface as a bottom surface so that light incident from the bottom surface is emitted to the top surface, A pattern layer 120 may be included.

기재필름(110)은 광입사면을 포함하고 광학패턴층(120)을 지지하는 것으로, 두께는 제한되지 않지만 10㎛ 내지 300㎛ 구체적으로 50㎛ 내지 125㎛가 될 수 있고, 상기 범위에서 광학시트에 사용될 수 있다.The base film 110 includes a light incident surface and supports the optical pattern layer 120. The thickness of the base film 110 is not limited, but may be 10 to 300 탆, specifically 50 to 125 탆, Lt; / RTI &gt;

기재필름(110)은 굴절률이 1.5 내지 1.7이 될 수 있고, 상기 범위에서 광학시트에 사용될 수 있고, 광학시트의 굴절률 1.59 이상을 확보하여, 고휘도로 광을 출사시키는 효과가 있을 수 있다.The base film 110 can have a refractive index of 1.5 to 1.7, and can be used in the optical sheet in the above range, securing a refractive index of 1.59 or more of the optical sheet, and emitting light with high brightness.

기재필름(110)은 광학패턴층(120)과 동일 또는 이종의 물질로 형성될 수 있는데, 예를 들면 열가소성 수지 또는 이를 포함하는 조성물로 형성된 투명 필름일 수 있다. 구체적으로 열가소성 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지 등을 포함하는 폴리에스테르계 수지, 폴리아세탈 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 스티렌계 수지, 비닐계 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등을 포함하는 폴리올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 수지, 폴리(메트)아크릴레이트계 수지, 폴리아릴술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리페닐렌술피드계 수지, 불소계 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The base film 110 may be formed of the same or different material as the optical pattern layer 120, and may be a transparent film formed of, for example, a thermoplastic resin or a composition containing the thermoplastic resin. Specifically, the thermoplastic resin may be a polyester resin including a polyethylene terephthalate resin and a polyethylene naphthalate resin, a polyacetal resin, a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a styrene resin, a vinyl resin, a polyphenylene ether Butadiene-styrene copolymer resin, poly (meth) acrylate resin, polyaryl sulfone resin, polyether sulfone resin, polyether sulfone resin, polyether sulfone resin, polyether sulfone resin, , A polyphenylene sulfide-based resin, and a fluorine-based resin.

광학패턴층(120)은 광출사면을 포함하고 기재필름(110)으로부터 입사된 광을 굴절시켜 출사시키는 것으로, 광학패턴층(120)은 하나 이상의 광학패턴이 기재필름 상에 형성된 것으로, 도 1은 단면이 삼각형이 프리즘인 경우를 예시하나, 광학패턴은 이에 제한되는 것은 아니고, 단면이 다각형(변의 수가 4 내지 10인 다각형)인 프리즘, 마이크로렌즈 패턴, 렌티큘러 렌즈 패턴, 엠보 패턴 또는 이들의 조합을 모두 포함할 수 있다.The optical pattern layer 120 includes a light exit surface and refracts light emitted from the base film 110. The optical pattern layer 120 has one or more optical patterns formed on the base film, But the optical pattern is not limited to this. The optical pattern may be a prism having a polygonal cross section (a polygon having a number of sides of 4 to 10), a micro lens pattern, a lenticular lens pattern, an emboss pattern, or a combination thereof May be included.

도 2를 참조하면, 광학패턴층(120) 즉 광학패턴의 높이는 각 패턴마다 동일하거나 다를 수 있는데, 구체적으로 높이(H)는 10㎛ 내지 40㎛, 예를 들면 10㎛ 내지 30㎛가 될 수 있고, 상기 범위에서 모아레가 없고 집광 효과가 있을 수 있다. 광학패턴(110)의 피치(P)는 각 패턴마다 동일하거나 다를 수 있는데, 구체적으로 피치는 10㎛ 내지 60㎛, 예를 들면 20㎛ 내지 60㎛가 될 수 있고, 상기 범위에서 모아레가 없고 집광 효과가 있을 수 있다. 광학패턴의 꼭지각(α)은 80° 내지 100°가 될 수 있고, 상기 범위에서 휘도 향상 효과가 있을 수 있다.Referring to FIG. 2, the height of the optical pattern layer 120, that is, the optical pattern may be the same or different for each pattern. Specifically, the height H may be 10 μm to 40 μm, for example, 10 μm to 30 μm And there is no moire in the above range, and a condensing effect can be obtained. The pitch P of the optical patterns 110 may be the same or different for each pattern. Specifically, the pitch may be 10 탆 to 60 탆, for example, 20 탆 to 60 탆. In this range, It can be effective. The apex angle alpha of the optical pattern can be 80 DEG to 100 DEG, and the brightness enhancement effect can be obtained in the above range.

본 발명의 한 구체예에 따르면, 본 발명의 광학시트(100)는 광학패턴층(120)의 굴절률이 1.50 내지 1.70, 예를 들어 1.52 내지 1.67 일 수 있다. 상기의 범위에서 입사되는 광을 고휘도로 출사 시킬 수 있는 장점이 있다.According to one embodiment of the present invention, the optical sheet 100 of the present invention may have a refractive index of the optical pattern layer 120 of 1.50 to 1.70, for example, 1.52 to 1.67. There is an advantage that light incident at the above-mentioned range can be emitted with high luminance.

또 다른 구체예에 따르면, 본 발명의 광학시트(100)는 상기 광학패턴층(120) 위에 에이지 폴(AG Pol)과 0 ~ 100 g 사이의 무게를 가지는 분동을 순차적으로 올린 상태에서, 에이지 폴(AG Pol)을 3회 왕복시킨 후 상기 광학패턴층(120)이 손상되기 시작하는 최초의 분동의 무게(내스크래치성)가 15 g 이상, 바람직하게는 20 g 이상이 될 수 있다. 상기의 범위에서 광학시트(100) 상부에 보호시트 또는 또 다른 광학시트가 더 형성되더라도 광학패턴층(120)과 보호시트 등의 접촉으로 광학패턴이 영향을 받아, 액정표시장치의 휘도를 낮추게 되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.According to another embodiment, in the optical sheet 100 of the present invention, the AGP and the weight having a weight between 0 and 100 g are sequentially placed on the optical pattern layer 120, (Scratch resistance) of the initial weight at which the optical pattern layer 120 starts to be damaged after the round trip (AG Pol) is reciprocated three times may be 15 g or more, preferably 20 g or more. Even if a protective sheet or another optical sheet is further formed on the optical sheet 100 in the above range, the optical pattern is influenced by the contact of the optical pattern layer 120 with the protective sheet or the like, and the brightness of the liquid crystal display device is lowered There is an advantage that it can be prevented.

이하, 본 발명 다른 실시예의 도 3을 참고하여 설명한다. 도 3은 본 발명 다른 실시예의 광학시트의 사시도이다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to FIG. 3 of another embodiment. 3 is a perspective view of an optical sheet of another embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명 다른 실시예의 광학시트(200)는 기재필름(110), 기재필름(110) 상부에 형성된 광학패턴층(120) 및 기재필름(110) 하부에 형성된 코팅층(130)을 포함하고, 광학패턴층(120)은 굴절률이 1.50 이상이고, 광학패턴층(120)은 hmax가 3 ㎛ 이상, 예를 들어 3 ㎛ 내지 15 ㎛가 될 수 있다. 그 결과, 광학시트의 굴절률을 높여 휘도를 높일 수 있고 내스크래치성이 개선될 수 있다. 또한, 코팅층(130)이 더 형성됨으로써 광학시트의 확산 효과를 더 높일 수 있고, 광학패턴으로 인한 모아레 발생을 방지하는 효과가 있을 수 있다. 코팅층이 더 형성된 것을 제외하고는 본 발명 일 실시예의 광학시트와 실질적으로 동일하므로, 이하에서는 코팅층에 대해서만 설명한다.3, an optical sheet 200 according to another embodiment of the present invention includes a base film 110, an optical pattern layer 120 formed on the base film 110, and a coating layer 130 formed below the base film 110. [ And the optical pattern layer 120 may have a refractive index of 1.50 or more and the optical pattern layer 120 may have a hmax of 3 占 퐉 or more, for example, 3 占 퐉 to 15 占 퐉. As a result, the refractive index of the optical sheet can be increased to increase the brightness and the scratch resistance can be improved. Further, since the coating layer 130 is further formed, the diffusing effect of the optical sheet can be further enhanced, and moir 辿 caused by the optical pattern can be prevented. Except that a coating layer is further formed, and therefore only the coating layer will be described in the following.

코팅층(130)은 자외선 경화성 수지로 형성될 수 있고, 두께는 1㎛ 내지 10㎛가 될 수 있고, 상기 범위에서 광학시트에 사용될 수 있다.The coating layer 130 may be formed of an ultraviolet ray curable resin, and may have a thickness of 1 탆 to 10 탆, and may be used in the optical sheet in the above range.

코팅층(130)은 확산 코팅층으로서 확산 기능을 위한 패턴 예를 들면 요철 패턴이 형성될 수 있다. 요철 패턴은 샌드 블라스트법, 열 프레스법, 투명 수지의 주형 캐스트법, 기재필름 이면에 미립자를 분산시키는 방법으로 형성될 수 있다. 일 예로서 1㎛ ~ 200㎛ 직경의 비드로 인각롤의 표면을 타격하여 요철을 형성하는 샌드 블라스팅(sand blasting) 공법에 의하여 제조된 인각롤의 요철 패턴을 기재필름의 다른 일면에 전사시키는 방법으로 형성될 수 있다. 구체적으로, 요철 패턴이 형성된 인각롤과 기재필름 사이에 자외선 경화성 수지를 주입하여 인각롤이 자외선 경화성 수지와 접촉되면서 기재필름 상을 통과하도록 한다. 이때, UV를 경화성 수지에 조사함으로써 경화시켜 기재필름 상에 광확산층을 형성할 수 있다.The coating layer 130 may be a diffusion coating layer, and a pattern for diffusing function, for example, an irregular pattern may be formed. The concavo-convex pattern can be formed by a sand blast method, a hot press method, a casting method of a transparent resin, or a method of dispersing fine particles on the back surface of a substrate film. As an example, a method of transferring the concavo-convex pattern of the pull-up roll produced by the sand blasting method in which irregularities are formed by hitting the surface of the pull-up roll with a bead having a diameter of 1 탆 to 200 탆 is transferred to the other surface of the base film . Specifically, an ultraviolet curable resin is injected between a pull roll formed with a concavo-convex pattern and a base film so that the pull roll is allowed to pass over the base film while being in contact with the ultraviolet curable resin. At this time, it is possible to form the light-diffusing layer on the base film by curing the UV by irradiating the curable resin.

본 발명의 복합 광학시트는 본 발명 실시예의 광학시트를 포함할 수 있다. 도 4를 참조하여 본 발명 일 실시예의 복합 광학시트를 설명한다.The composite optical sheet of the present invention may include the optical sheet of the embodiment of the present invention. A composite optical sheet according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 4를 참조하면, 본 발명 실시예의 복합 광학시트(300)는 제1기재필름(305), 및 제1기재필름(305) 상부에 형성된 제1광학패턴층(310)을 포함하는 제1광학시트(320), 및 제1광학시트(320) 상부에 형성되고 제2기재필름(335) 및 제2기재필름(335) 상부에 형성된 제2광학패턴층(330)을 포함하는 제2광학시트(340)를 포함하고, 제1광학시트(320) 또는 제2광학시트(340)는 본 발명 실시예의 광학시트를 포함할 수 있다. 4, the composite optical sheet 300 of the embodiment of the present invention includes a first optical film 310 including a first base film 305 and a first optical pattern layer 310 formed on the first base film 305, And a second optical pattern layer 330 formed on the first optical sheet 320 and formed on the second base film 335 and the second base film 335, (340), and the first optical sheet (320) or the second optical sheet (340) may include the optical sheet of the embodiment of the present invention.

구체적으로, 제1광학시트(320) 또는 제2광학시트(240)는 필요한 용도에 따라 광학패턴층(310, 330)의 화학식 1의 (메트)아크릴계 화합물의 함량 또는 복원력을 달리할 수 있다. Specifically, the first optical sheet 320 or the second optical sheet 240 may have different contents or restitution powers of the (meth) acrylic compound of Formula 1 of the optical pattern layers 310 and 330 depending on the required application.

예를 들어, 제1광학시트(320)의 경우에는 그 필요한 용도에 따라, 상기 화학식1의 (메트)아크릴계 화합물을 5 중량% 내지 40 중량%, 구체적으로는 10 중량% 내지 30 중량%, 더욱 구체적으로는 15 중량% 내지 25 중량% 포함할 수 있고, △h가 0.5 ㎛ 내지 1.3 ㎛, 구체적으로는 0.5 ㎛ 내지 1.2 ㎛, 더욱 구체적으로는 0.5 ㎛ 내지 1.0 ㎛가 될 수 있다. 상기의 범위에서 제1광학시트(320)의 굴절률이 높아 광학표시장치의 휘도를 높일 수 있다.For example, in the case of the first optical sheet 320, the amount of the (meth) acrylic compound of Formula 1 may be 5 wt% to 40 wt%, specifically 10 wt% to 30 wt% Specifically, it may contain 15 wt% to 25 wt%, and Δh may be 0.5 μm to 1.3 μm, specifically 0.5 μm to 1.2 μm, more specifically 0.5 μm to 1.0 μm. The refractive index of the first optical sheet 320 is high in the above-mentioned range, and the brightness of the optical display device can be increased.

구체예에서 상기 제1광학시트는 굴절률이 1.62 이상인 모노머 35 중량% 내지 60 중량%, 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물 5 중량% 내지 40 중량% 및 비인계 모노머 20 중량% 내지 50 중량%를 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함할 수 있다. 상기의 범위에서, 내스크래치성과 복원력의 발란스가 우수하다.In an embodiment, the first optical sheet comprises 35 to 60% by weight of a monomer having a refractive index of 1.62 or more, 5 to 40% by weight of a (meth) acrylic compound represented by Formula 1, and 20 to 50% % Of an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern. Within the above range, the balance of scratch resistance and restoring force is excellent.

상기 굴절률이 1.62 이상인 모노머는 상기 화학식 1의 화합물과 함께 광학패턴 형성용 조성물로 사용될 수 있고 굴절률이 1.62 이상이면 제한 없이 사용 가능하나, 반드시 이에 제한 되는 것은 아니다.The monomer having a refractive index of 1.62 or more can be used as a composition for forming an optical pattern together with the compound of Formula 1 and can be used without limitation as long as the refractive index is 1.62 or more.

구체적으로 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 사용할 수 있다:Specifically, a compound represented by the following formula (3) can be used:

[화학식 3](3)

Figure pat00009
Figure pat00009

(상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 10의 알킬렌기, 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴렌기 또는 아릴알킬렌기이고, Ar1은 탄소수 6 내지 10의 아릴기이고, X1 및 X2는 각각 독립적으로 -O- 또는 -S-이고, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 수소 원자, -OH, -SH, -NH2, 또는

Figure pat00010
(여기서, 상기 R3는 수소 원자 또는 메틸기이고, X3는 -O- 또는 -N(R)-(R: 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기)이며, *는 결합 부위를 나타냄)이고, Y1 및 Y2 중 적어도 하나는
Figure pat00011
이며, n1 및 n2의 평균값은 각각 독립적으로 1 내지 4이다).R 1 and R 2 are each independently an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylarylene group or an arylalkylene group having 7 to 20 carbon atoms, Ar 1 is a group having 6 to 10 carbon atoms X 1 and X 2 are each independently -O- or -S-, Y 1 and Y 2 are each independently a hydrogen atom, -OH, -SH, -NH 2 or
Figure pat00010
(Wherein R 3 is a hydrogen atom or a methyl group, X 3 is -O- or -N (R) - (R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), and * At least one of Y 1 and Y 2 is
Figure pat00011
And the average values of n 1 and n 2 are independently 1 to 4).

바람직하게는, Y1 또는 Y2

Figure pat00012
이고, X3는 -O- 또는 -N(R)-(R: 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기)일 경우, UV 경화 후 광학패턴과 기재필름과의 부착력이 우수하여 기재필름으로부터 광학패턴이 잘 떨어지지 아니한다.Preferably, Y &lt; 1 &gt; or Y &lt; 2 &gt;
Figure pat00012
, And X 3 is -O- or -N (R) - (R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), the adhesion between the optical pattern and the base film after UV curing is excellent, This does not fall well.

굴절률이 1.62 이상인 모노머는 예를 들어, 화학식 3-1 및 화학식 3-2 중 하나 이상을 포함할 수 있다:Monomers having a refractive index of 1.62 or more may include, for example, one or more of the following formulas (3-1) and (3-2):

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure pat00013
.
Figure pat00013
.

[화학식 3-2][Formula 3-2]

Figure pat00014
Figure pat00014

상기 비인계 모노머는 상기 화학식 1의 화합물과 함께 광학패턴 형성용 조성물로 사용될 수 있다. 구체적으로, 비-인계 모노머는 탄소수 6 내지 10의 아릴렌기, 탄소수 6 내지 10의 아릴기, 탄소수 7 내지 10의 아릴알킬렌기, 탄소수 7 내지 10의 아릴알킬기 중 하나 이상을 포함함으로써, 굴절률을 높여 화학식 1의 모노머와의 굴절률 차이를 더 낮춤으로써 광학패턴 형성용 조성물의 상용성, 광학패턴의 투명성을 높일 수 있다.The non-phosphorous monomer may be used as a composition for forming an optical pattern together with the compound of Formula (1). Specifically, the non-phosphorus monomer includes at least one of an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an arylalkylene group having 7 to 10 carbon atoms, and an arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms, By further lowering the refractive index difference with the monomer of the formula (1), compatibility of the composition for forming an optical pattern and transparency of the optical pattern can be improved.

예를 들면, 비-인계 모노머는 [4-(페닐티오)페닐]메틸 (메트)아크릴계 에스테르 등을 포함하는 [4-(페닐티오)페닐]알킬에스테르, 2-프로펜산 티오비스(1,4-페닐렌메틸렌)에스테르 등을 포함하는 티오비스(1,4-페닐렌알킬렌)에스테르 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않고, 이들은 합성하거나, 상업적으로 판매되는 상품으로 사용할 수 있다.For example, non-phosphorus monomers include [4- (phenylthio) phenyl] alkyl esters, including [4- (phenylthio) phenyl] methyl (meth) (1,4-phenylene alkylene) esters, and the like, but they are not limited thereto. They may be synthesized or used as commercially available products .

또 다른 예로, 제2광학시트(320)의 경우에는 그 필요한 용도에 따라, 상기 화학식1의 (메트)아크릴계 화합물을 25 중량% 내지 75 중량%, 구체적으로는 35 중량% 내지 65 중량%, 더욱 구체적으로는 40 중량% 내지 60 중량% 포함할 수 있고, △h가 0 ㎛ 내지 0.9 ㎛, 구체적으로는 0 ㎛ 내지 0.7 ㎛, 더욱 구체적으로는 0 ㎛ 내지 0.5 ㎛가 될 수 있다. 상기의 범위에서 제2광학시트(340)의 최소 일면에 형성되는 보호시트 또는 또 다른 광학시트와의 접촉에도 광학패턴층(330)이 영향을 받지 않아, 액정표시장치의 고휘도를 유지할 수 있다.,As another example, the second optical sheet 320 may contain 25 wt% to 75 wt%, specifically 35 wt% to 65 wt% of the (meth) acrylic compound of Formula 1, Specifically, it may contain 40 wt% to 60 wt%, and Δh may be 0 μm to 0.9 μm, specifically 0 μm to 0.7 μm, more specifically 0 μm to 0.5 μm. The optical pattern layer 330 is not affected by contact with the protective sheet or another optical sheet formed on at least one surface of the second optical sheet 340 in the above-described range, and high brightness of the liquid crystal display device can be maintained. ,

구체예에서, 상기 제1광학시트는 굴절률이 1.62 이상인 모노머 15 중량% 내지 40 중량%, 하기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물 25 중량% 내지 75 중량% 및 비인계 모노머 5 중량% 내지 40 중량%를 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함할 수 있다.In an embodiment, the first optical sheet comprises 15 wt% to 40 wt% of a monomer having a refractive index of 1.62 or more, 25 wt% to 75 wt% of a (meth) acrylic compound represented by the following formula (1) By weight based on the total weight of the composition.

상기 굴절률이 1.62 이상인 모노머와 비인계 모노머는 상술된 바와 같다.The monomers having a refractive index of 1.62 or more and non-phosphorus monomers are as described above.

제1광학시트(320)는 도광판(도 4에서 도시되지 않음)으로부터 입사된 광을 제2광학시트(340)로 출사시키는 것으로, 도 4는 제1광학패턴층(310)이 삼각형이 프리즘인 층인 경우를 예시하나, 제1광학패턴층은 이에 제한되는 것은 아니고, 단면이 다각형(변의 수가 4 내지 10인 다각형)인 프리즘, 마이크로렌즈 패턴, 렌티큘러 렌즈 패턴, 엠보 패턴 또는 이들의 조합을 모두 포함할 수 있다.4, the first optical sheet 320 emits the light incident from the light guide plate (not shown in FIG. 4) to the second optical sheet 340, and FIG. 4 shows that the first optical pattern layer 310 is a triangular prism Layer. However, the first optical pattern layer is not limited to this, and may include a prism, a microlens pattern, a lenticular lens pattern, an emboss pattern, or a combination thereof, the cross section of which is a polygon (polygon having 4 to 10 sides) can do.

도 4를 참조하면, 제1광학시트(320)의 제1광학패턴층(310)의 길이 방향을 y1, 피치 방향을 x1이라고 하고, 제2광학시트(340)의 제2광학패턴층(330)의 길이 방향을 x2, 피치 방향으로 y2라고 할 때, y1과 x2가 이루는 각은 약 85 내지 약 95°가 될 수 있고, 예를 들면 약 90°가 될 수 있다.4, the longitudinal direction of the first optical pattern layer 310 of the first optical sheet 320 is y1, the pitch direction thereof is x1, and the second optical pattern layer 330 of the second optical sheet 340 X2 in the longitudinal direction and y2 in the pitch direction, the angle formed by y1 and x2 may be about 85 to about 95 and may be about 90, for example.

제1광학시트(320)와 제2광학시트(340)는 서로 접착되지 않고 분리 가능한 상태에 있다.The first optical sheet 320 and the second optical sheet 340 are in a detachable state without being adhered to each other.

제2광학시트(340)는 제1광학패턴층(310)에 형성되어 있다.The second optical sheet 340 is formed on the first optical pattern layer 310.

제1광학시트(320)는 굴절률이 약 1.62 내지 약 1.70이 될 수 있고, 상기 범위에서 광을 고휘도로 출사시킬 수 있다.The refractive index of the first optical sheet 320 can be about 1.62 to about 1.70, and light can be emitted at a high luminance in the above range.

제1기재필름(305)는 제2기재필름(335)와 동일 또는 이종의 수지로 형성될 수 있다. The first base film (305) may be formed of the same or different resin as the second base film (335).

제1광학패턴층(310)는 통상의 자외선 경화성 수지로 형성되거나, 상기 화학식 1의 모노머를 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성되어 제1광학시트의 굴절률을 높임으로써 광을 고휘도로 출사시킬 수 있다.The first optical pattern layer 310 may be formed of a conventional ultraviolet ray curable resin or may be formed of a composition for forming an optical pattern including the monomer of Formula 1 to increase the refractive index of the first optical sheet to emit light with high brightness have.

본 발명의 광학표시장치는 본 발명 실시예의 광학시트 또는 복합광학시트를 포함할 수 있고, 예를 들면 액정표시장치가 될 수 있다. 도 5를 참조하여 본 발명 일 실시예의 액정표시장치를 설명한다. 도 5는 본 발명 일 실시예의 액정표시장치의 사시도이다.The optical display device of the present invention may include an optical sheet or a composite optical sheet of the embodiment of the present invention, and may be, for example, a liquid crystal display device. A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 5 is a perspective view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명 일 실시예의 액정표시장치(400)는 광원(410), 광원(410)으로부터 발광되는 빛을 안내하는 도광판(420), 도광판(420)의 하부에 배치되는 반사시트(450), 도광판(420)의 상부에 배치되는 확산시트(430) 및 확산시트(430)의 상부에 배치되는 복합광학시트(440)를 포함하고, 복합광학시트(440)는 본 발명 실시예들의 복합광학시트를 포함할 수 있다.5, a liquid crystal display 400 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a light source 410, a light guide plate 420 for guiding light emitted from the light source 410, a reflective sheet 420 disposed below the light guide plate 420, A diffusion sheet 430 disposed on the top of the light guide plate 420 and a composite optical sheet 440 disposed on the top of the diffusion sheet 430. The composite optical sheet 440 includes the diffuser sheet 450, Of the composite optical sheet.

백라이트 유닛의 광원(410) 외부에는 광원 커버(410a)가 배치될 수 있다. 또한, 여기에서는 비록 도시되지 않았지만, 액정표시장치 (400)상에 액정표시패널과 반사방지층이 차례로 적층되어 액정표시장치를 구성하게 된다.A light source cover 410a may be disposed outside the light source 410 of the backlight unit. Here, although not shown, a liquid crystal display panel and an antireflection layer are sequentially stacked on the liquid crystal display device 400 to constitute a liquid crystal display device.

광원(410)은 광을 발생시키는 것으로, 선광원 램프 또는 면광원 램프, CCFL 또는 LED 등 다양한 광원들이 사용될 수 있다.The light source 410 generates light, and various light sources such as a linear light source lamp, a planar light source lamp, a CCFL, or an LED may be used.

도광판(420)은 광원(410)에서 발생된 광을 확산시트(430)로 가이드하는 것으로서, 직하형 광원을 채택하는 경우에는 생략될 수 있다.The light guide plate 420 guides the light generated by the light source 410 to the diffusion sheet 430, and may be omitted when a direct-type light source is employed.

반사시트(450)는 광원(410)에서 발생된 광을 반사시켜 확산시트(430)의 방향으로 공급하는 역할을 수행한다.The reflective sheet 450 reflects light generated from the light source 410 and supplies the light to the diffusion sheet 430.

확산시트(430)는 도광판(420)을 통해 입사되는 광을 확산 및 산란시켜 복합광학시트(540)으로 공급하는 역할을 수행한다.The diffusion sheet 430 diffuses and scatters the light incident through the light guide plate 420 and supplies the light to the composite optical sheet 540.

복합광학시트(440)는 확산시트(430)를 통해 입사되는 광을 굴절시켜 액정표시패널(미도시)의 평면에 집광시키는 역할을 수행한다. 복합광학시트(440)는 높은 집광효율, 넓은 시야각, 모아레 현상 방지, 다른 필름과의 광학적 결합(wet out) 방지 등 다양한 설계 목표에 따라 집광부의 형태 및 집광부 경사면의 각도 등 다양한 설계치의 변형 및 조합들이 가능하며, 상업적으로 적용되고 있다.
The composite optical sheet 440 functions to refract light incident through the diffusion sheet 430 and condense the light onto a plane of a liquid crystal display panel (not shown). The composite optical sheet 440 may be formed of various shapes such as a shape of a light collecting portion and an angle of an inclined surface of a light collecting portion according to various design goals such as high condensing efficiency, wide viewing angle, prevention of moire phenomenon, And combinations thereof, are commercially available.

이하, 본 발명의 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.
Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to embodiments of the present invention. However, the following examples are provided to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example

제조예 1Production Example 1

1L 둥근바닥 플라스크에 트리에틸아민(triethylamine) 114mL(0.81mol), 시아누릭 클로라이드(cyanuric chloride) 50g(0.271mol)과 테트라하이드로퓨란(THF) 500 mL를 넣어준 후 교반 시켰다. 이후에 2-머캡토에탄올(2-mercaptoethanol) 63.5g(0.81mol)이 용해된 100 mL의 테트라하이드로퓨란(THF)를 드롭방식(dropwise)으로 20분간 한 방울씩 떨어뜨렸다. 이후 3시간 실온에서 반응시켰다. 반응 완료 후 생성되는 흰색 염(salt)은 감압 필터 제거 하였다. 얻어진 고체 생성물은 컬럼 크로마토그래피(short column chromatography, elution: hexane/ethyl acetate=5:1) 정제하여 엷은 노란색을 띄는 투명한 액상의 중간체를 수득하였다. (55.3g, 수율 66%)114 mL (0.81 mol) of triethylamine, 50 g (0.271 mol) of cyanuric chloride and 500 mL of tetrahydrofuran (THF) were added to a 1 L round bottom flask and stirred. Then, 100 mL of tetrahydrofuran (THF) in which 63.5 g (0.81 mol) of 2-mercaptoethanol was dissolved was dropped dropwise for 20 minutes in a dropwise manner. Thereafter, the reaction was allowed to proceed at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the white salt produced was removed from the vacuum filter. The obtained solid product was purified by column chromatography (elution: hexane / ethyl acetate = 5: 1) to give a pale yellow transparent liquid intermediate. (55.3 g, yield 66%).

1L 둥근바닥 플라스크에 상기에서 제조한 중간체 1,3,5-트리머캡토에탄올 트리아진(1,3,5-trimercaptoethanol triazine) 15.5g(0.05mol), 트리에틸아민(triethylamine) 21mL(0.15mol)을 400mL 테트라하이드로퓨란(THF)과 같이 0℃에서 30분 교반 시켰다. 50mL 테트라하이드로퓨란(THF)에 녹여 놓은 아크로일클로라이드(acroylchloride) 13.6g(0.15mol)을 10분 간격으로 드롭방식(dropwise)으로 한 방울씩 떨어뜨렸다. 전체 반응물은 0℃에서 1시간 가량 교반 시킨후, 생성된 염(salt)을 감압 필터 제거하였다. 얻어진 액상의 생성물은 물로 여러번 씻어주어 염(salt)을 제거하고 정제 없이 엷은 노란색의 액상형 (메트)아크릴계 화합물(표 1의 제조예 1)을 얻어냈다. (21.2g, 수율 90%, 굴절률(RI): 1.57, 점도 270cps~470cps)
15.5 g (0.05 mol) of the above-prepared intermediate 1,3,5-trimercaptoethanol triazine and 21 mL (0.15 mol) of triethylamine were added to a 1 L round bottom flask, The mixture was stirred at 0 DEG C for 30 minutes with 400 mL of tetrahydrofuran (THF). 13.6 g (0.15 mol) of acroylchloride dissolved in 50 mL of tetrahydrofuran (THF) was dropped dropwise at intervals of 10 minutes. The whole reaction mixture was stirred at 0 DEG C for about 1 hour, and the resulting salt was vacuum filtered. The resulting liquid product was washed several times with water to remove salt, and a pale yellow liquid (meth) acrylic compound (Preparation Example 1 of Table 1) was obtained without purification. (21.2 g, yield 90%, refractive index (RI): 1.57, viscosity 270 cps to 470 cps)

제조예 2Production Example 2

1L 둥근바닥 플라스크에 트리에틸아민(triethylamine) 114mL(0.81mol), 시아누릭 클로라이드(cyanuric chloride) 50g(0.271mol)과 테트라하이드로퓨란(THF) 500 mL를 넣어준 후 교반 시켰다. 이후에 2-머캡토에탄올(2-mercaptoethanol) 63.5g(0.81mol)이 용해된 100 mL의 테트라하이드로퓨란(THF)를 드롭방식(dropwise)으로 20분간 한 방울씩 떨어뜨렸다. 이후 3시간 실온에서 반응시켰다. 반응 완료 후 생성되는 염(salt)은 감압 제거 시켰다. 얻어진 고체 생성물은 단주 크로마토그래피(short column chromatography, elution: hexane/ethyl acetate=5:1) 정제하여 엷은 노란색을 띄는 제1 중간체를 수득하였다. (55.3g, 수율 66%)114 mL (0.81 mol) of triethylamine, 50 g (0.271 mol) of cyanuric chloride and 500 mL of tetrahydrofuran (THF) were added to a 1 L round bottom flask and stirred. Then, 100 mL of tetrahydrofuran (THF) in which 63.5 g (0.81 mol) of 2-mercaptoethanol was dissolved was dropped dropwise for 20 minutes in a dropwise manner. Thereafter, the reaction was allowed to proceed at room temperature for 3 hours. After the completion of the reaction, the resulting salt was removed under reduced pressure. The obtained solid product was purified by short column chromatography (elution: hexane / ethyl acetate = 5: 1) to give a pale yellow primary intermediate. (55.3 g, yield 66%).

이 후 500mL 둥근바닥 플라스크에 132mL (0.15mol)의 ethylene oxide solution (50g/L in methylenechloride solution, Sigma Aldrich)을 첨가시킨 이 후에 질소 가스를 환류시키면서 교반하였다. 이후 AlCl3 2g (0.015mol, 10 mol%)을 첨가하여 추가적으로 1시간 교반 시켰다. 상기 제조된 중간체 1,3,5-트리머캡토에탄올 트리아진(1,3,5-trimercaptoethanol triazine) 15.5g (0.05mol)을 dichloromethane 200mL에 녹여진 용액을 0℃에서 dropwise 시키면서 추가적으로 4시간 교반 시켰다. 얻어진 액상의 생성물은 물로 여러 번 씻어주어 미반응 ethyleneoxide 및 산 촉매를 제거한 이후에 methylene chloride를 감압 제거 하여 투명의 액상형 목적 화합물(제2 중간체)을 얻어냈다. (18g, 수율 82%) Then, 132 mL (0.15 mol) of ethylene oxide solution (50 g / L in methylenechloride solution, Sigma Aldrich) was added to the 500 mL round bottom flask, and then nitrogen gas was refluxed while stirring. Then, 2 g (0.015 mol, 10 mol%) of AlCl 3 was added and the mixture was further stirred for 1 hour. 15.5 g (0.05 mol) of the prepared 1,3,5-trimercaptoethanol triazine was dissolved in 200 mL of dichloromethane, and the solution was further stirred for 4 hours while dropwise at 0 ° C. The obtained liquid product was washed several times with water to remove unreacted ethyleneoxide and acid catalyst, and then methylene chloride was removed under reduced pressure to obtain a transparent liquid type target compound (second intermediate). (18 g, 82% yield)

1L 둥근바닥 플라스크에 상기에서 제조한 제2 중간체 15.5g(0.05mol), 트리에틸아민(triethylamine) 21mL(0.15mol)을 400mL 테트라하이드로퓨란(THF)과 같이 0℃에서 30분 교반 시켰다. 50mL 테트라하이드로퓨란(THF)에 녹여 놓은 아크로일클로라이드(acroylchloride) 13.6g(0.15mol)를 10분 간격으로 드롭방식(dropwise)으로 한 방울씩 떨어뜨렸다. 전체 반응물은 0℃에서 1시간 가량 교반 시킨후, 생성된 염(salt)을 필터 제거시켰다. 얻어진 액상의 생성물은 물로 여러번 씻어주어 염(salt)을 제거하고 정제 없이 엷은 노란색의 액상형 n=2인 (메트)아크릴계 화합물(표 1의 제조예 2)을 얻어냈다. (20 g, 수율 85%, 굴절률(RI): 1.55, 점도 430cps)
15.5 g (0.05 mol) of the second intermediate prepared above and 21 mL (0.15 mol) of triethylamine were stirred in a 1 L round bottom flask at 0 占 폚 for 30 minutes with 400 mL of tetrahydrofuran (THF). 13.6 g (0.15 mol) of acroylchloride dissolved in 50 mL of tetrahydrofuran (THF) was dropped dropwise at intervals of 10 minutes. The whole reaction mixture was stirred at 0 ° C for about 1 hour, and the resulting salt was filtered off. The resulting liquid product was washed several times with water to remove salt, and pale yellow liquid (n = 2) (meth) acrylic compound (Preparation Example 2 of Table 1) was obtained without purification. (20 g, yield 85%, refractive index (RI): 1.55, viscosity 430 cps)

제조예 3 내지 6Production Examples 3 to 6

하기 표 1 및 표 2의 구조를 가지는 (메트)아크릴계 화합물을 제조하기 위하여 제조예 2에서 2-머캡토에탄올(2-mercaptoethanol) 대신에 에테인-1,2-디싸이올 또는 에테인-1,2-디올을 적용하거나, 싸이이레인(thiirane) 또는 옥시레인(oxirane)으로 트리아진의 관능기를 성장시켜, n을 조절하는 것 외에는 제조예 2와 동일하게 (메트)아크릴계 화합물을 합성하였으며, 하기 합성물의 존재를 확인 하였다. In order to prepare the (meth) acrylic compounds having the structures shown in Tables 1 and 2 below, the same procedure as in Production Example 2 was repeated except that 2-mercaptoethanol was replaced by ethane-1,2-dithiol or ethane- (Meth) acrylate compound was synthesized in the same manner as in Preparation Example 2 except that diol was applied or thiazine or oxirane was used to grow the functional group of triazine to adjust n, .

n 값의 조절은 cyanuric chloride의 몰비 대비하여 ethylene oxide solution의 양을 n배로 하여 조절할 수 있다. 예를 들어 n 값은 상기 제조예 2에서 ethylene oxide solution (50g/L in methylenechloride solution, Sigma Aldrich)을 66 mL (0.15mol) × n 의 양으로 적용함으로써, n 값을 조절할 수 있다.
The control of n value can be controlled by multiplying the amount of ethylene oxide solution by n times the molar ratio of cyanuric chloride. For example, the n value can be adjusted by applying an ethylene oxide solution (50 g / L in methylenechloride solution, Sigma Aldrich) in the amount of 66 mL (0.15 mol) x n in Production Example 2.

제조예 7Production Example 7

하기 표 2의 구조를 가지는 아크릴계 화합물을 제조하기 위하여 제조예 2에서 2-머캡토에탄올(2-mercaptoethanol) 대신에 에테인-1,2-디싸이올 적용하고, ethylene oxide solution 대신에 싸이이레인(thiirane)으로 트리아진의 관능기를 성장시켜, n을 조절하는 것 외에는 실시예 2와 동일하게 아크릴계 화합물을 합성하였으며, 하기 합성물의 존재를 확인 하였다.
To prepare an acrylic compound having the structure shown in the following Table 2, ethane-1,2-dithiol was used instead of 2-mercaptoethanol in Production Example 2, and thiirane ) To synthesize an acrylic compound in the same manner as in Example 2 except that the functional group of triazine was grown to control n, and the presence of the following compound was confirmed.

제조예 8Production Example 8

하기 표 2의 구조를 가지는 아크릴계 화합물을 제조하기 위하여 제조예 2에서 2-머캡토에탄올(2-mercaptoethanol) 대신에 에테인-1,2-디올을 적용하는 것을 제외하고 실시예 2와 동일하게 아크릴계 화합물을 합성하였으며, 하기 합성물의 존재를 확인 하였다.
Except that an ethane-1,2-diol was used instead of 2-mercaptoethanol in Production Example 2 to prepare an acrylic compound having the structure shown in Table 2 below, an acrylic compound And the presence of the following compounds was confirmed.

제조예 9Production Example 9

500mL 둥근바닥 플라스크에 트리에틸아민(triethylamine) 42.2mL (0.3mol), 싸이오 시아누릭 액시드 (thiocyanuric acid) 17.7g (0.1mol)과 테트라하이드로퓨란(THF) 250 mL를 넣어준 후 교반 시켰다. 이후에 준비 되어진 메타크릴로일 클로라이드 (methacryloyl chloride) 34.5g (0.33mol)이 용해된 50 mL의 테트라하이드로퓨란(THF)를 드롭방식(dropwise)으로 10분간 한 방울씩 떨어뜨렸다. 이후 2시간 실온에서 반응시켰다. 반응 완료 후 생성되는 흰색 염(salt)은 감압 필터 제거 하였다. 얻어진 고체 생성물은 물(1L x 2)로 여러 번 씻어주어 생성된 염을 추가 제거한 후 추가 정제 없이 엷은 노란색을 띄는 투명한 고상의 목적 화합물(표 2의 제조예 9)을 수득하였다. (35 g, 수율 92%)
42.2 mL (0.3 mol) of triethylamine, 17.7 g (0.1 mol) of thiocyanuric acid and 250 mL of tetrahydrofuran (THF) were added to a 500 mL round bottom flask and stirred. Then 50 mL of tetrahydrofuran (THF), in which 34.5 g (0.33 mol) of methacryloyl chloride had been dissolved, was dropped dropwise for 10 minutes in a dropwise manner. The reaction was then allowed to proceed at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the white salt produced was removed from the vacuum filter. The resulting solid product was washed several times with water (1 L x 2) to remove the resulting salt. The desired compound (Preparation Example 9 of Table 2) in pale yellowish transparent, solid form was obtained without further purification. (35 g, 92% yield)

하기 실시예 및 비교예에 사용된 화합물은 하기와 같다.The compounds used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

(A) 굴절률이 1.62 이상인 모노머: 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 사용하였다.(A) a monomer having a refractive index of 1.62 or more: a compound represented by the following formula (2) was used.

[화학식 2](2)

Figure pat00015
Figure pat00015

(B) (메트)아크릴계 화합물(B) (meth) acrylic compound

- 실시예 1 내지 8: 제조예 1 내지 8의 (메트)아크릴계 화합물을 각각 사용하였다.Examples 1 to 8: The (meth) acrylic compounds of Production Examples 1 to 8 were respectively used.

- 실시예 9 내지 16: 제조예 1 내지 8의 (메트)아크릴계 화합물을 실시예 1 내지 8과 함량만 달리하여 사용하였다.Examples 9 to 16: The (meth) acrylic compounds of Preparation Examples 1 to 8 were used in amounts different from those of Examples 1 to 8 only.

- 비교예 1 및 3: 하기의 화학식으로 표시되는 TMPTA (Trimethylolpropane triacrylate, Miramer M300, 미원 스페셜 케미칼社)를 사용하였다.- Comparative Examples 1 and 3: TMPTA (Trimethylolpropane triacrylate, Miramer M300, Miwon Special Chemical Co.) represented by the following formula was used.

Figure pat00016
Figure pat00016

비교예 2 및 4: 제조예 9의 (메트)아크릴계 화합물을 사용하였다.Comparative Examples 2 and 4: The (meth) acrylic compound of Production Example 9 was used.

(C) 비인계 모노머: 대림화학에서 제조된 HRI-84(굴절률: 1.602)를 사용하였다.
(C) Non-phosphorus monomer: HRI-84 (refractive index: 1.602) manufactured by Daerim Chemical Co., Ltd. was used.

Figure pat00017
Figure pat00017

Figure pat00018
Figure pat00018

실시예 1Example 1

하기 화학식 2의 모노머 25 중량부, 상기 제조예 1의 화합물 45 중량부, 비인계 모노머 24 중량부(대림화학에서 제조된 HRI-84, 굴절률: 1.602), 가교제 3 중량부(미원스페셜 케미칼에서 제조된 PN662NT, 굴절률: 1.503), 개시제 3 중량부(BASF에서 제조된 TPO, 굴절률: 1.6)를 혼합하고 교반하여 광학패턴 형성용 조성물을 제조하였다. 투명한 기재필름용 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름(제조사: MITSUBISHI, 상품명, T910E, 두께: 75 ㎛)의 일면에 광학패턴 형성용 조성물을 코팅하고, 높이가 12 ㎛로 동일하고 피치가 24 ㎛이고 꼭지각이 90°인 삼각형의 패턴이 인각된 패턴롤을 이용하여 코팅물에 패턴을 인가하고, 350mJ/cm2조건에서 경화시켜 광학시트를 제조하였다.25 parts by weight of a monomer represented by the following formula 2, 45 parts by weight of the compound of Preparation Example 1, 24 parts by weight of a non-phosphorous monomer (HRI-84 manufactured by Daelim Chemical Co., refractive index: 1.602), 3 parts by weight of a crosslinking agent (PN662NT, refractive index: 1.503) and 3 parts by weight of initiator (TPO produced by BASF, refractive index: 1.6) were mixed and stirred to prepare a composition for forming an optical pattern. A composition for forming an optical pattern was coated on one surface of a PET (polyethylene terephthalate) film (manufacturer: MITSUBISHI, trade name, T910E, thickness: 75 μm) for a transparent base film, and the height was 12 μm, the pitch was 24 μm, An optical sheet was prepared by applying a pattern to a coating using a pattern roll having a triangular pattern knitted at 90 ° and curing at 350 mJ / cm 2 .

[화학식 2](2)

Figure pat00019

Figure pat00019

실시예 2 내지 8Examples 2 to 8

제조예 1의 화합물 대신, 각각 제조예 2 내지 8에서 제조된 (메트)아크릴계 화합물을 적용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 수행하여 광학시트를 제조하였다.
An optical sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the (meth) acrylic compound prepared in Production Examples 2 to 8 was used instead of the compound of Production Example 1.

실시예 9Example 9

하기 화학식 2의 모노머 42 중량부, 상기 제조예 1의 화합물 12 중량부, 비인계 모노머 40 중량부(대림화학에서 제조된 HRI-84, 굴절률: 1.602), 가교제 3 중량부(미원스페셜 케미칼에서 제조된 PN662NT, 굴절률: 1.503), 개시제 3 중량부(BASF에서 제조된 TPO, 굴절률: 1.6)를 혼합하고 교반하여 광학패턴 형성용 조성물을 제조하였다. 투명한 기재필름용 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름(제조사: MITSUBISHI, 상품명, T910E, 두께: 75 ㎛)의 일면에 광학패턴 형성용 조성물을 코팅하고, 높이가 12 ㎛로 동일하고 피치가 24 ㎛이고 꼭지각이 90°인 삼각형의 패턴이 인각된 패턴롤을 이용하여 코팅물에 패턴을 인가하고, 350mJ/cm2조건에서 경화시켜 광학시트를 제조하였다.42 parts by weight of the monomer of the following formula 2, 12 parts by weight of the compound of the preparation example 1, 40 parts by weight of the non-phosphorus monomer (HRI-84 manufactured by Daerim Chemical Co., refractive index: 1.602), 3 parts by weight of a crosslinking agent (PN662NT, refractive index: 1.503) and 3 parts by weight of initiator (TPO produced by BASF, refractive index: 1.6) were mixed and stirred to prepare a composition for forming an optical pattern. A composition for forming an optical pattern was coated on one surface of a PET (polyethylene terephthalate) film (manufacturer: MITSUBISHI, trade name, T910E, thickness: 75 μm) for a transparent base film, and the height was 12 μm, the pitch was 24 μm, An optical sheet was prepared by applying a pattern to a coating using a pattern roll having a triangular pattern knitted at 90 ° and curing at 350 mJ / cm 2 .

[화학식 2](2)

Figure pat00020

Figure pat00020

실시예 10 내지 16Examples 10 to 16

제조예 1의 화합물 대신, 각각 제조예 2 내지 8에서 제조된 (메트)아크릴계 화합물을 적용한 것을 제외하고는 상기 실시예 9와 동일한 방법을 수행하여 광학시트를 제조하였다.
An optical sheet was prepared in the same manner as in Example 9 except that the (meth) acrylic compound prepared in Production Examples 2 to 8 was used instead of the compound of Production Example 1, respectively.

비교예 1 내지 2Comparative Examples 1 to 2

제조예 1의 화합물 대신 비교예 1에서는 TMPTA를 적용하고, 비교예 2는 제조예 9의 화합물을 적용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 수행하여 광학시트를 제조하였다.
An optical sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that TMPTA was used in Comparative Example 1 instead of the compound of Preparation Example 1, and the compound of Preparation Example 9 was used in Comparative Example 2.

비교예 3 내지 4Comparative Examples 3 to 4

제조예 1의 화합물 대신 비교예 3에서는 TMPTA를 적용하고, 비교예 4는 제조예 9의 화합물을 적용한 것을 제외하고는 상기 실시예 9와 동일한 방법을 수행하여 광학시트를 제조하였다.
An optical sheet was prepared in the same manner as in Example 9 except that TMPTA was used in Comparative Example 3 instead of the compound of Preparation Example 1, and the compound of Preparation Example 9 was used in Comparative Example 4.

제조된 광학시트에 대해 하기 방법으로 물성을 평가하여 하기 표 3에 나타내었다.The properties of the prepared optical sheets were evaluated by the following methods, and the results are shown in Table 3 below.

Hmax(㎛)Hmax (占 퐉) △h(㎛)? H (占 퐉) 굴절률Refractive index 내스크래치성(g)Scratch resistance (g) 실시예1Example 1 4.14.1 0.890.89 1.611.61 1010 실시예2Example 2 4.54.5 0.870.87 1.611.61 1010 실시예3Example 3 6.26.2 0.660.66 1.611.61 1010 실시예4Example 4 8.58.5 0.520.52 1.601.60 2020 실시예5Example 5 11.511.5 0.310.31 1.601.60 2020 실시예6Example 6 13.813.8 0.190.19 1.591.59 2020 실시예7Example 7 6.16.1 0.660.66 1.611.61 1010 실시예8Example 8 6.26.2 0.650.65 1.611.61 1010 실시예9Example 9 5.15.1 1.261.26 1.631.63 55 실시예10Example 10 5.25.2 1.251.25 1.631.63 55 실시예11Example 11 5.95.9 0.980.98 1.631.63 55 실시예12Example 12 7.17.1 0.820.82 1.631.63 77 실시예13Example 13 9.89.8 0.730.73 1.621.62 77 실시예14Example 14 11.911.9 0.590.59 1.621.62 77 실시예15Example 15 5.95.9 0.980.98 1.631.63 55 실시예16Example 16 6.06.0 0.970.97 1.621.62 55 비교예1Comparative Example 1 4.54.5 55 1.441.44 22 비교예2Comparative Example 2 3.83.8 44 1.491.49 1One 비교예3Comparative Example 3 44 77 1.491.49 22 비교예4Comparative Example 4 22 55 1.541.54 1One

물성 평가 방법Property evaluation method

(1) hmax와 △h: hmax와 △h는 마이크로 인덴테이션 측정 장치 FISHER SCOPE(HM2000XYp)를 사용하여 측정하였다. 인덴터는 단면이 직경 50㎛인 원형인 바이다. 광학패턴층이 형성된 광학시트를 가로 x 세로(5cm x 5cm)로 절단하여 시편을 준비하고, 시편 중 광학패턴층을 마이크로 인덴테이션 장치의 인덴터 쪽으로 배치하고, 광학패턴층을 0mN부터 시작하여 0.6mN/s의 증가율로 누르는 힘을 증가시켜 50초 동안 인덴터로 광학패턴층을 중력 방향인 수직 방향으로 누르고, 인덴터를 5초 동안 멈춘 후, 다시 0.6mN/s의 증가율로 누르는 힘을 감소시켜 인덴터를 떼었을 때, 누르는 힘을 y축, 광학패턴층에 인덴터가 들어가는 깊이를 x축으로 하여 그래프를 그린다. 누르는 힘이 30mN일 때(50초 눌렀을 때) 광학패턴층에 인덴터가 들어가는 깊이가 hmax이다. hmax에 도달하기 전 인덴터가 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 인덴터가 광학패턴층에 들어간 깊이를 h1, hmax에 도달한 후 인덴터가 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 인덴터가 광학패턴층에 들어간 깊이를 h2라고 할 때, h2 - h1이 △h이다.(1) hmax and? H: hmax and? H were measured using a microindentation measuring device FISHER SCOPE (HM2000XYp). The indenter is circular in cross section with a diameter of 50 mu m. The optical sheet on which the optical pattern layer was formed was cut to a width of 5 cm x 5 cm to prepare a specimen. The optical pattern layer of the specimen was placed on the indenter side of the micro-indentation device. Increasing the pressing force at an increasing rate of mN / s, pushing the optical pattern layer vertically in the gravity direction with the indenter for 50 seconds, stopping the indenter for 5 seconds, then decreasing the pressing force at 0.6 mN / s again When the indenter is released, a graph is drawn with the pressing force on the y-axis and the depth of the indenter in the optical pattern layer as the x-axis. The depth at which the indenter enters the optical pattern layer is hmax when the pressing force is 30 mN (when it is pressed for 50 seconds). hmax of the optical pattern layer is 5 mN when the indenter has reached the depth h1 and hmax when the indenter enters the optical pattern layer, Is the depth at which the optical pattern layer enters the optical pattern layer is h2, h2-h1 is DELTA h.

(2) 굴절률: 굴절계(모델명: DTM-N, 일본 ATAGO ABBE CO. LTD)를 사용하여 실시예 및 비교예에서 제조된 광학시트의 굴절률을 측정하였다. 측정을 위한 광원은 589.3nm의 D광선 나트륨램프를 이용하였다.(2) Refractive index: Using the refractometer (model name: DTM-N, Japan ATAGO ABBE CO. LTD.), The refractive indexes of the optical sheets prepared in Examples and Comparative Examples were measured. The light source for the measurement was a 589.3 nm D-light sodium lamp.

(3) 내스크래치성: 광학시트의 광학패턴층에, 40˝TV용 AG Pol(AG층: TOPPAM 사 그레이드 VH44, 헤이즈 20%)의 AG 층에 맞닿게 올려 놓고, 0 ~ 100 g 사이의 분동을 올린 상태에서 5 cm 간격으로 40˝TV용 AG Pol을 3회 왕복시킨 후 광학패턴층이 손상되기 시작하는 최초의 분동의 무게를 측정한다. 분동의 무게가 클수록 내스크래치성이 높음을 의미한다.
(3) Scratch resistance: The optical pattern layer of the optical sheet was placed so as to face the AG layer of AG Pol (AG layer: TOPPAM Grade VH44, haze 20%) for 40 "TV, , Lift the AG Pol for 40 "TV 3 times at 5 cm intervals, and measure the weight of the first weight at which the optical pattern layer begins to be damaged. The larger the weight of the weight, the higher the scratch resistance.

상기 표 3에 나타난 바와 같이, 본 발명의 범위에 해당되는 실시예 1 내지 실시예 16은 복원력이 우수하고, 높은 굴절률에 의해 휘도가 우수할 뿐 아니라, 내스크래치성도 우수한 것을 알 수 있다.As shown in Table 3, it can be seen that Examples 1 to 16, which fall within the scope of the present invention, exhibit excellent restitution, high brightness due to a high refractive index, and excellent scratch resistance.

반면에 본 발명의 범위에 해당되지 않는 비교예 1 내지 비교예 4의 경우에는 복원력이 낮고 또한 내스크래치성이 저하된 것을 알 수 있다.
On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 to 4 which do not fall within the scope of the present invention, the restitution force is low and the scratch resistance is degraded.

Claims (14)

기재필름 및 상기 기재필름 일면에 형성된 광학패턴층을 포함하고,
상기 광학패턴층은 하기의 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물로부터 유래된 단위를 포함하고,
상기 광학패턴층은 하기 i) 내지 iv)의 [측정조건]에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우, 상기 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 30 mN이 되었을 때 상기 인덴터가 상기 광학패턴층에 들어가는 깊이인 hmax가 3 ㎛ 내지 15 ㎛인 광학시트:
[화학식 1]
Figure pat00021

(상기의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로
Figure pat00022
이고, 여기서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-O-* 또는 *-S-*이고, Q는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Y는 수소 또는 메틸기이고, n은 1 내지 50의 정수이고, *는 결합부위를 나타낸다)
[측정조건]
i) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 최초 힘: 0 mN
ii) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 힘의 초당 증가율: 0.6 mN/s
iii) 인덴터가 광학패턴층을 누르는 방향: 광학패턴층에 대해 수직 방향
iv) 인덴터는 단면이 직경 50㎛의 원형인 바(bar)를 사용함.
A base film and an optical pattern layer formed on one surface of the base film,
Wherein the optical pattern layer comprises a unit derived from a (meth) acrylic compound represented by the following formula (1)
Wherein the optical pattern layer is formed by pressing the optical pattern layer with an indenter in [Measuring Conditions] of i) to iv), and when the pressing force of the optical pattern layer with the indenter is 30 mN, An optical sheet having a depth hmax of 3 占 퐉 to 15 占 퐉, the depth of which enters the optical pattern layer:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00021

(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Figure pat00022
, Wherein X 1 and X 2 are each independently * -O- * or * -S- *, Q is alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Y is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 50 And * represents a binding site)
[Measuring conditions]
i) Initial force at which the indenter presses the optical pattern layer: 0 mN
ii) the rate of increase per second of the force the indenter presses the optical pattern layer: 0.6 mN / s
iii) Direction in which the indenter presses the optical pattern layer: direction perpendicular to the optical pattern layer
iv) The indenter uses a bar having a circular cross section having a diameter of 50 μm.
제1항에 있어서, 상기 광학패턴층은 하기 식 1의 △h가 1.3 ㎛ 이하인 광학시트:
<식 1>
△h = h2 - h1
(상기 식 1에서, h1은 상기 i) 내지 iv)의 조건에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우 상기 hmax에 도달하기 전 상기 인덴터가 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 상기 인덴터가 상기 광학패턴층에 들어간 깊이, h2는 상기 i) 내지 iv)의 조건에서 인덴터로 상기 광학패턴층을 누르는 경우 상기 hmax에 도달한 후 상기 인덴터가 상기 광학패턴층을 누르는 힘이 5mN일 때 인덴터가 광학패턴층에 들어간 깊이이다).
2. The optical sheet according to claim 1, wherein the optical pattern layer has an optical thickness DELTA h of 1.3 [
<Formula 1>
H = h2 - h1
(Where h1 is the pressing force of the optical pattern layer with the indenter under the conditions of i) to iv), when the pressing force of the indenter on the optical pattern layer before reaching hmax is 5 mN, When the optical pattern layer is pressed by the indenter under the conditions of i) to iv), the pressing force of the indenter on the optical pattern layer after reaching the hmax is 5 mN The depth at which the indenter enters the optical pattern layer).
제2항에 있어서, 상기 광학패턴층은 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 25 중량% 내지 75 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성되고, △h가 0 ㎛ 내지 0.9 ㎛인 광학시트.
The optical element according to claim 2, wherein the optical pattern layer is formed of a composition for forming an optical pattern containing 25% by weight to 75% by weight of a (meth) acrylic compound represented by Formula 1, Optical sheet.
제2항에 있어서, 상기 광학패턴층은 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 5 중량% 내지 40 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성되고, △h가 0.5 ㎛ 내지 1.3 ㎛인 광학시트.
The optical element according to claim 2, wherein the optical pattern layer is formed of a composition for forming an optical pattern containing 5 to 40% by weight of a (meth) acrylic compound represented by Formula 1, Optical sheet.
제1항에 있어서, 상기 광학패턴층은 굴절률이 1.50 내지 1.70인 것을 특징으로 하는 광학시트.
The optical sheet according to claim 1, wherein the optical pattern layer has a refractive index of 1.50 to 1.70.
제1항에 있어서, 상기 광학패턴층 위에 에이지 폴(AG Pol)과 0 ~ 100 g 사이의 무게를 가지는 분동을 순차적으로 올린 상태에서, 에이지 폴(AG Pol)을 3회 왕복시킨 후 상기 광학패턴층이 손상되기 시작하는 최초의 분동의 무게가 15 g 이상인 것을 특징으로 하는 광학시트.
2. The optical element according to claim 1, wherein AGP Pol and AG Pol are sequentially reciprocated three times on the optical pattern layer in the state where the weight is between 0 and 100 g, Wherein the weight of the initial weight at which the layer starts to be damaged is 15 g or more.
제1항에 있어서, 상기 광학패턴층은 Q가 에틸렌기인 광학시트.
The optical sheet according to claim 1, wherein the optical pattern layer is an ethylene group.
제1항에 있어서, 상기 광학시트는 상기 기재필름의 다른 일면에 코팅층이 더 형성된 광학시트.
The optical sheet according to claim 1, wherein the optical sheet further comprises a coating layer on the other surface of the base film.
제1광학시트, 및
상기 제1광학시트 상부에 형성되는 제2광학시트를 포함하고,
상기 제1광학시트 및 제2광학시트 중 하나 이상은 제1항의 광학시트를 포함하는 복합 광학시트.
The first optical sheet, and
And a second optical sheet formed on the first optical sheet,
Wherein at least one of the first optical sheet and the second optical sheet comprises the optical sheet of claim 1.
제9항에 있어서, 상기 제1광학시트는 하기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 5 중량% 내지 40 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함하고, △h가 0.5 ㎛ 내지 1.3 ㎛인 복합광학시트:
[화학식 1]
Figure pat00023

(상기의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로
Figure pat00024
이고, 여기서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-O-* 또는 *-S-*이고, Q는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Y는 수소 또는 메틸기이고, n은 1 내지 50의 정수이고, *는 결합부위를 나타낸다).
The optical sheet according to claim 9, wherein the first optical sheet comprises an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern containing 5 to 40% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the following general formula (1) 0.5 to 1.3 [micro] m composite optical sheet:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00023

(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Figure pat00024
, Wherein X 1 and X 2 are each independently * -O- * or * -S- *, Q is alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Y is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 50 , And * indicates a binding site).
제10항에 있어서, 상기 제1광학시트는 굴절률이 1.62 이상인 모노머 35 중량% 내지 60 중량%, 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물 5 중량% 내지 40 중량% 및 비인계 모노머 20 중량% 내지 50 중량%를 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함하는 복합광학시트.
The optical sheet according to claim 10, wherein the first optical sheet comprises 35 to 60% by weight of a monomer having a refractive index of 1.62 or more, 5 to 40% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the formula (1) To 50% by weight of an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern.
제9항에 있어서, 상기 제2광학시트는 하기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 25 중량% 내지 75 중량% 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함하고, △h가 0 ㎛ 내지 0.9 ㎛인 복합광학시트:
[화학식 1]
Figure pat00025

(상기의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로
Figure pat00026
이고, 여기서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 *-O-* 또는 *-S-*이고, Q는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Y는 수소 또는 메틸기이고, n은 1 내지 50의 정수이고, *는 결합부위를 나타낸다).
The optical sheet according to claim 9, wherein the second optical sheet comprises an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern containing 25% by weight to 75% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the following formula Composite optical sheet having 0 占 퐉 to 0.9 占 퐉:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00025

(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Figure pat00026
, Wherein X 1 and X 2 are each independently * -O- * or * -S- *, Q is alkylene having 1 to 10 carbon atoms, Y is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 1 to 50 , And * indicates a binding site).
제12항에 있어서, 상기 제1광학시트는 굴절률이 1.62 이상인 모노머 15 중량% 내지 40 중량%, 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물 25 중량% 내지 75 중량% 및 비인계 모노머 5 중량% 내지 40 중량%를 포함하는 광학패턴 형성용 조성물로 형성된 광학패턴층을 포함하는 복합광학시트.
The optical sheet according to claim 12, wherein the first optical sheet comprises 15 to 40% by weight of a monomer having a refractive index of 1.62 or more, 25 to 75% by weight of a (meth) acrylic compound represented by the formula (1) To 40% by weight of an optical pattern layer formed of a composition for forming an optical pattern.
제1항의 광학시트 또는 제9항의 복합 광학시트를 포함하는 광학표시장치.

An optical display device comprising the optical sheet of claim 1 or the composite optical sheet of claim 9.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2019151549A1 (en) * 2018-02-01 2019-08-08 에스엠에스주식회사 High refractive index acrylic monomer and photocurable composition using same

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