KR20160052545A - Cured-film-forming composition, alignment material, and phase difference material - Google Patents
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Abstract
[과제] 우수한 수직배향성을 구비하고, 수지필름 상에서도 고감도로 중합성 액정을 수직으로 배향시킬 수 있는 배향재와, 이러한 배향재를 이용하는 위상차재를 제공하기 위한 경화막 형성 조성물을 제공한다.
[해결수단] (A)에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시기에 대하여, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기를 반응시킨 폴리머, 그리고 (B)가교제 및 (C)산촉매로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물, 해당 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재, 해당 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 위상차재.[PROBLEMS] To provide a curing film-forming composition for providing an alignment material having excellent vertical alignment property and vertically aligning a polymerizable liquid crystal with high sensitivity on a resin film and a phase difference material using such alignment material.
(A) a polymer obtained by reacting a carboxyl group of a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group with an epoxy group of a polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal, (B) a crosslinking agent, and , An alignment material characterized by being obtained by using the composition, and a retardation film obtained by using the composition.
Description
본 발명은 액정분자를 수직으로 배향시키는 수직배향재에 적합한 경화막 형성 조성물에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 액정표시장치(liquid crystal display; LCD), 구체적으로는 양의 유전이방성을 갖는 액정(△ε>0)이 충전된 IPS액정표시장치(In-plane Switching LCD; 면내 배향 스위칭 LCD)의 시야각특성을 개선하기 위하여 사용되는, +C플레이트(포지티브 C플레이트)를 작성하기에 유용한 경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재에 관한 것이다.The present invention relates to a cured film forming composition suitable for a vertical alignment material for vertically orienting liquid crystal molecules. More particularly, the present invention relates to a liquid crystal display (LCD), and more particularly to an IPS liquid crystal display (In-plane Switching LCD) having a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy (??> 0) (Positive C plate), which is used for improving the viewing angle characteristics of a liquid crystal display device (liquid crystal display device), an alignment material and a phase difference material.
IPS-LCD는, 액정분자의 수직방향의 기울기가 발생하지 않으므로, 시야각에 의한 휘도변화/색변화가 적은 것이 특징인데, 콘트라스트비와 휘도, 응답속도를 높이기 어려운 점을 약점으로 들 수 있다. 예를 들어 특허문헌 1에 개시되는 바와 같이, 제안 초기의 IPS-LCD에서는, 시야각의 보상필름이 사용되고 있지 않으며, 이러한 시야각의 보상필름을 사용하지 않은 IPS-LCD에서는, 경사각의 암상태에 있어서의 상대적으로 큰 광누설로 인해, 낮은 콘트라스트비의 값을 나타낸다는 단점이 있다.
The IPS-LCD is characterized by a small change in brightness / color due to a viewing angle since no vertical gradient of liquid crystal molecules occurs. It is a weak point that it is difficult to increase the contrast ratio, brightness, and response speed. For example, as disclosed in Patent Document 1, in the IPS-LCD at the initial stage of the proposal, a compensation film for viewing angle is not used, and in an IPS-LCD not using a compensation film for such a viewing angle, But exhibits a low contrast ratio value due to a relatively large light leakage.
특허문헌 2에는, +C플레이트와 +A플레이트(포지티브 A플레이트)를 사용한 IPS-LCD 보상필름이 개시되어 있다. 본 문헌에는, 여기에 기재된 액정표시소자에 대하여, 이하의 구성이 나타나 있다.Patent Document 2 discloses an IPS-LCD compensation film using a + C plate and a + A plate (positive A plate). In this document, the following constitutions are shown for the liquid crystal display element described here.
1) 액정층면에 평행한 전장을 인가할 수 있는 전극에 의해 공급되는 양 기판 사이에 수평배향을 갖는 액정층이 끼워져 있다.1) A liquid crystal layer having a horizontal orientation is sandwiched between both substrates supplied by an electrode capable of applying an electric field parallel to the liquid crystal layer plane.
2) 1매 이상의 +A플레이트와 +C플레이트가 양 편광판에 끼워져 있다.2) More than one + A plate and + C plate are inserted in both polarizer plates.
3) +A플레이트의 주광축은, 액정층의 주광축에 수직이다.3) The main optical axis of the + A plate is perpendicular to the main optical axis of the liquid crystal layer.
4) 액정층의 위상차값RLC, +C플레이트의 위상차값R+C, +A플레이트의 위상차값R+A는, 다음식을 만족하도록 결정된다.4) The retardation value R of the liquid crystal layer LC, the retardation value of the + C plate R + C, + A plate retardation value of R + is A, and is determined so as to satisfy the food.
RLC:R+C:R+A≒1:0.5:0.25 RLC : R + C : R + A ? 1: 0.5: 0.25
5) +A플레이트와 +C플레이트의 위상차값에 대하여 편광판의 보호필름의 두께방향의 위상차값의 관계는 나타나 있지 않다(TAC, COP, PNB).
5) The relationship of the retardation value in the thickness direction of the protective film of the polarizing plate against the retardation value of the + A plate and the + C plate is not shown (TAC, COP, PNB).
또한, 경사각에서의 암상태의 광누설을 최소화함으로써 정면 및 경사각에서의 높은 콘트라스트 특성, 낮은 색변이(Color Shift)를 갖는 IPS-LCD를 제공하는 것을 목적로 한, +A플레이트와 +C플레이트를 갖는 IPS-LCD가 개시되어 있다(특허문헌 3).Further, by minimizing the light leakage in the dark state at the inclination angle, the + A plate and the + C plate, which are intended to provide an IPS-LCD having high contrast characteristics at the front and the inclined angle and low color shift (Patent Document 3).
종래 제안되어 있는 바와 같이, +C플레이트는 편광판의 시야각이 큰 부분에서의 광누설을 보상할 수 있으므로, IPS-LCD의 광학보상필름으로서 매우 유용하다. 그러나, 종래 일반적으로 알려져 있는 연신처리에 의한 방법에서는, 수직배향(포지티브 C플레이트)성을 발현시키기 어렵다.As previously proposed, the + C plate can compensate for light leakage in a portion where the viewing angle of the polarizing plate is large, and thus is very useful as an optical compensation film for an IPS-LCD. However, it is difficult to develop a vertical orientation (positive C plate) property by a conventionally known stretching process.
또한, 종래 제안되어 있는 폴리이미드를 이용한 수직배향막은, 막 작성에 있어서 N-메틸-2-피롤리돈 등의 폴리이미드의 용제를 사용할 필요가 있다. 그러므로 유리기재에서는 문제되지 않지만, 기재가 필름인 경우, 배향막 형성시에 기재에 데미지를 준다는 문제가 있다. 게다가, 폴리이미드를 이용한 수직배향막에서는, 고온에서의 소성이 필요해지고, 필름기재가 고온에 견딜 수 없다는 문제가 있다.In addition, in the conventionally proposed vertical alignment film using polyimide, it is necessary to use a polyimide solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone in film formation. Therefore, there is no problem with the glass substrate, but when the substrate is a film, there is a problem of damaging the substrate at the time of forming the alignment film. In addition, in a vertical alignment film using polyimide, firing at a high temperature is required, and there is a problem that the film substrate can not withstand high temperatures.
나아가, 장쇄 알킬을 갖는 실란커플링제 등으로 기재를 직접 처리함으로써, 수직배향막을 형성하는 방법도 제안되어 있는데, 기재 표면에 하이드록시기가 존재하지 않는 경우에는 처리가 어려워, 기재가 제한된다는 문제가 있다(특허문헌 4).
Further, a method of forming a vertical alignment film by directly treating a substrate with a silane coupling agent having a long-chain alkyl has been proposed. However, when a hydroxy group is not present on the substrate surface, the process is difficult and there is a problem that the substrate is limited (Patent Document 4).
본 발명은, 이상의 지견이나 검토결과에 기초하여 이루어진 것으로, 그 해결하고자 하는 과제는, 우수한 수직배향성을 가짐과 함께, 광학보상필름에 요구되는 투명성이나 용제내성을 구비하고, 수지필름 상에서도 저온 단시간의 소성조건으로 안정되게 중합성 액정을 수직으로 배향시킬 수 있는 배향재를 제공하기 위한 경화막 형성 조성물을 제공하는 것이다.
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above findings and the results of the study. It is an object of the present invention to provide an optical compensation film which has excellent vertical alignment property, transparency and solvent resistance required for an optical compensation film, And to provide an alignment material capable of vertically aligning a polymerizable liquid crystal stably in a sintering condition.
그리고, 본 발명의 다른 목적은, 상기 경화막 형성 조성물로부터 얻어지며, 우수한 수직배향성을 구비하고, 수지필름 상에서도 저온 단시간의 소성조건으로 안정되게 중합성 액정을 수직으로 배향시킬 수 있는 배향재와 그 배향재를 이용하여 형성된 +C플레이트에 유용한 위상차재를 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide an alignment material which is obtained from the above-mentioned cured film-forming composition and has an excellent vertical alignment property and which can stably orient the polymerizable liquid crystal on a resin film in a low-temperature short- And to provide a retardation material useful for a + C plate formed by using an alignment material.
본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위하여, 예의 검토를 거듭한 결과, 측쇄에 장쇄 알킬기를 갖는 아크릴 공중합체를 베이스로 하는 경화막 형성재료를 선택함으로써, 기재의 종류에 관계없이 우수한 수직배향성을 갖는 경화막을 형성할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.
As a result of intensive investigations, the present inventors have found that by selecting a cured film forming material based on an acrylic copolymer having a long chain alkyl group in its side chain, it is possible to obtain a cured And thus the present invention has been accomplished.
즉, 본 발명은 제1 관점으로서,That is, the present invention provides, as a first aspect,
(A)에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시기에 대하여, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기를 반응시킨 폴리머, 그리고(A) a polymer obtained by reacting a carboxyl group of a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group with an epoxy group of a polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal, and
(B)가교제 및 (C)산촉매로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물(B) a crosslinking agent and (C) an acid catalyst.
을 함유하는 경화막 형성 조성물로서,Forming composition,
상기 수직배향성기는 하기 식(1)로 표시되는 기인 것을 특징으로 하는, 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.Wherein the vertically oriented group is a group represented by the following formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
(식[1] 중,(In the formula [1]
Y1은 단결합을 나타내고,Y 1 represents a single bond,
Y2는 단결합 또는 탄소원자수 1~15의 알킬렌기를 나타내거나, 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기를 나타내고, 상기 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있고,Y 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, or represents a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring and a heterocycle, and any hydrogen atom on the cyclic group may have 1 to 3 carbon atoms An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluoro-containing alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms,
Y3은 단결합 또는 탄소원자수 1~15의 알킬렌기를 나타내고,Y 3 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms,
Y4는 단결합을 나타내거나, 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기, 또는 탄소원자수 17~30으로서 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기를 나타내고, 상기 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있고,Y 4 represents a single bond or a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring or a heterocycle, or a divalent organic group having a steroid skeleton having 17 to 30 carbon atoms, and any hydrogen on the cyclic group An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorinated alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms or a fluorine atom,
Y5는 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기를 나타내고, 이들 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있고,Y 5 represents a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring or a heterocycle, and any hydrogen atom on the cyclic group may be substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, A fluorine-containing alkyl group of 1 to 3 carbon atoms, a fluorine-containing alkoxyl group of 1 to 3 carbon atoms, or a fluorine-
n은 0~4의 정수를 나타내고, n이 2 이상인 경우, Y5끼리는 동일할 수도 상이할 수도 있고,n represents an integer of 0 to 4, and when n is 2 or more, Y 5 s may be the same or different,
Y6은 수소원자, 탄소원자수 1~18알킬기, 탄소원자수 1~18의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~18의 알콕실기 또는 탄소원자수 1~18의 불소함유알콕실기를 나타내고,Y 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a fluorinated alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms,
Y2 및 Y3으로서의 알킬렌기, 그리고, 환상기 상의 치환기 또는 Y6으로서의 알킬기, 불소함유알킬기, 알콕실기 및 불소함유알콕시기는, 직쇄상, 분지상, 또는 환상 중 어느 하나 또는 이들의 조합일 수도 있고,The alkylene group as Y 2 and Y 3 and the substituent on the cyclic group or the alkyl group, fluorine-containing alkyl group, alkoxyl group and fluorine-containing alkoxy group as Y 6 may be any one of linear, branched or cyclic, or a combination thereof However,
또한 Y2 및 Y3으로서의 알킬렌기, 그리고, Y6으로서의 알킬기, 불소함유알킬기, 알콕실기 및 불소함유알콕시기는, 결합기끼리 서로 이웃하지 않는 한 1 내지 3의 결합기로 중단되어 있을 수도 있고,The alkylene group as Y 2 and Y 3 and the alkyl group, fluorine-containing alkyl group, alkoxyl group and fluorine-containing alkoxy group as Y 6 may be interrupted by 1 to 3 bonding groups unless the bonding groups are adjacent to each other,
또한 Y2, Y4 또는 Y5가 2가의 환상기를 나타내거나, Y4가 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기를 나타내거나, Y2 또는 Y3이 알킬렌기를 나타내거나, 혹은 Y6이 알킬기 또는 불소함유알킬기를 나타낼 때, 이 2가의 환상기, 이 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기, 이 알킬렌기, 이 알킬기 및 이 불소함유알킬기는, 이것들에 인접하는 기와 결합기를 통해 결합하고 있을 수도 있고,In addition, Y 2, Y 4 or Y 5 is shown a divalent cyclic or, Y 4 is shown a divalent organic group having a steroid skeleton or, Y 2 or Y 3 is or represents an alkylene group, or Y 6 is an alkyl group or fluorine Containing alkyl group, the divalent organic group having a steroid skeleton, the alkylene group, the alkyl group and the fluorine-containing alkyl group may be bonded to a group adjacent thereto via a bonding group,
그리고 상기 결합기는, -O-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO-O-, -O-CO-NH-로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 나타내고,And the coupler is selected from the group consisting of -O-, -CH 2 O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO- , ≪ / RTI >
단, Y2 내지 Y6이 각각 나타내는 바의 탄소원자수 1~15의 알킬렌기, 벤젠환, 시클로헥산환, 복소환, 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기, 탄소원자수 1~18의 알킬기, 탄소원자수 1~18의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~18의 알콕실기 및 탄소원자수 1~18의 불소함유알콕실기의 탄소원자수의 합계는 6~30이다).Stage, Y 2 to Y 6 are each carbon atoms of the indicating bar 1 to 15 alkyl group, a benzene ring, a cyclohexane ring, a heterocyclic ring, a divalent having a steroid skeleton organic group, carbon atom number of 1 to 18 alkyl group, a carbon atom number of The total number of carbon atoms of the fluorine-containing alkyl group of 1 to 18, the alkoxyl group of 1 to 18 carbon atoms, and the fluoro-containing alkoxyl group of 1 to 18 carbon atoms is 6 to 30).
제2 관점으로서, 상기 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머가, 주쇄에 환구조를 갖는 수평균분자량 300 내지 20,000의 폴리머인, 제1 관점에 기재된 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.As a second aspect, the present invention relates to a cured film forming composition according to the first aspect, wherein the polymer having at least one epoxy group in the side chain or the terminal is a polymer having a ring structure in the main chain and a number average molecular weight of 300 to 20,000.
제3 관점으로서, 상기 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머가, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지 및 폴리올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 1종의 폴리머인, 제1 관점 또는 제2 관점에 기재된 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.As a third aspect, it is preferable that the polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal is selected from the group consisting of bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy Resin and a 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of a polyol. The cured film-forming composition according to the first aspect or the second aspect will be.
제4 관점으로서, (B)성분의 가교제가 메틸올기 또는 알콕시메틸기를 갖는 가교제인, 제1 관점 내지 제3 관점 중 어느 하나에 기재된 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.As a fourth aspect, the present invention relates to a cured film forming composition according to any one of the first to third aspects, wherein the crosslinking agent of the component (B) is a crosslinking agent having a methylol group or an alkoxymethyl group.
제5 관점으로서, (A)성분 100질량부에 기초하여, 1질량부~100질량부의 (B)성분을 함유하는 제1 관점 내지 제4 관점 중 어느 하나에 기재된 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.The fifth aspect relates to the cured film forming composition according to any one of the first to fourth aspects, which contains 1 to 100 parts by mass of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A).
제6 관점으로서, (A)성분 100질량부에 기초하여, 0.01질량부~20질량부의 (C)성분을 함유하는 제1 관점 내지 제5 관점 중 어느 하나에 기재된 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.As a sixth aspect, the present invention relates to a cured film forming composition according to any one of the first to fifth aspects, which contains (C) component in an amount of 0.01 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).
제7 관점으로서, 제1 관점 내지 제6 관점 중 어느 하나에 기재된 경화막 형성 조성물을 경화시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재에 관한 것이다.As a seventh aspect, the present invention relates to an alignment material characterized by being obtained by curing the cured film-forming composition according to any one of the first to sixth aspects.
제8 관점으로서, 제1 관점 내지 제6 관점 중 어느 하나에 기재된 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 위상차재에 관한 것이다.As an eighth aspect, the present invention relates to a retardation film which is formed by using a cured film obtained from the cured film-forming composition according to any one of the first to sixth aspects.
본 발명의 제1의 태양에 따르면, 우수한 수직배향성을 구비하고, 수지필름 상에서도 저온 단시간의 소성조건으로 안정되게 중합성 액정을 수직배향시킬 수 있는 배향재를 제공하기 위하여 유용한 경화막 형성 조성물을 제공할 수 있다.
According to the first aspect of the present invention, there is provided a cured film-forming composition useful for providing an alignment material having an excellent vertical alignment property and capable of vertically aligning a polymerizable liquid crystal on a resin film stably in a low-temperature short- can do.
본 발명의 제2의 태양에 따르면, 우수한 수직배향성을 구비하고, 저온 단시간의 소성조건으로 안정되게 중합성 액정을 수직배향시킬 수 있는 배향재를 제공할 수 있다.
According to the second aspect of the present invention, it is possible to provide an alignment material having an excellent vertical alignment property and capable of vertically aligning the polymerizable liquid crystal stably in a low-temperature short-time firing condition.
본 발명의 제3의 태양에 따르면, 수지필름 상에서도 높은 효율로 형성할 수 있고, 고투명이고 높은 용제내성을 갖는 위상차재를 제공할 수 있다.
According to the third aspect of the present invention, it is possible to provide a phase difference material which can be formed with high efficiency even on a resin film, is highly transparent, and has high solvent resistance.
<경화막 형성 조성물>≪ Cured film forming composition >
본 발명의 경화막 형성 조성물은, (A)성분인 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시기에 대하여, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기를 반응시킨 폴리머와, (B)성분인 가교제 및 (C)성분인 산촉매로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 함유한다. 본 발명의 경화막 형성 조성물은, 상기 (A)성분, (B)성분, (C)성분에 더하여, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다.The cured film forming composition of the present invention comprises a polymer obtained by reacting a carboxyl group of a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group with an epoxy group of a polymer having at least one epoxy group as a component (A) at a side chain or at a terminal thereof, A crosslinking agent and an acid catalyst as a component (C). The cured film forming composition of the present invention may contain other additives in addition to the above components (A), (B) and (C), so long as the effect of the present invention is not impaired.
이하, 각 성분의 상세를 설명한다.
Hereinafter, the details of each component will be described.
<(A)성분>≪ Component (A) >
본 발명의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (A)성분은, 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시기에 대하여, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기를 반응시킨 폴리머이다. 한편, 이하 명세서에 있어서, (A)성분의 폴리머를 “수직배향 폴리머”라고도 칭한다.
The component (A) contained in the cured film-forming composition of the present invention is a polymer obtained by reacting a carboxyl group of a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group with an epoxy group of a polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal. In the following description, the polymer of component (A) is also referred to as a " vertically oriented polymer ".
에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머는, 에폭시기를 갖는 부가중합성 모노머를 이용한 부가중합에 의해 제조할 수 있다. 혹은, 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머는, 하이드록시산기를 갖는 고분자 화합물과 에피클로르하이드린, 글리시딜토실레이트 등의 에폭시기를 갖는 화합물의 반응에 의해 제조할 수 있다.The polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal may be produced by addition polymerization using an addition polymerizable monomer having an epoxy group. Alternatively, a polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal may be prepared by reacting a polymer having a hydroxy group with a compound having an epoxy group such as epichlorohydrin or glycidyl tosylate.
에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 구체예로서, 예를 들어, 폴리글리시딜메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트공중합체, 폴리(3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트), 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트공중합체. 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지, 트리메틸올프로판의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물 등을 들 수 있다.As specific examples of the polymer having at least one epoxy group in the side chain or the terminal, there may be mentioned polyglycidyl methacrylate, glycidyl methacrylate copolymer, poly (3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate ), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer. Bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, 1,2-epoxy-4- ) Cyclohexane adducts and the like.
이들 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머 중에서도, 주쇄에 환구조를 갖는 폴리머가 바람직하고, 구체적으로는, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지, 폴리올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물 등이 액정의 도포성이 향상되는 점에서 바람직하다.Among these polymers having at least one epoxy group in the side chain or terminal, polymers having a ring structure in the main chain are preferable. Specific examples thereof include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, phenol novolak type epoxy resins, Epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of a polyol and the like are preferable because the coating ability of the liquid crystal is improved.
이들 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 분자량으로는 폴리스티렌 환산 수평균분자량(이하, 수평균분자량이라 칭한다.)이 300 내지 20,000인 것이 바람직하다. 바람직하게는 400 내지 10,000, 보다 바람직하게는, 500 내지 8,000인 것이다.
The number average molecular weight (hereinafter referred to as number average molecular weight) in terms of polystyrene is preferably from 300 to 20,000 as the molecular weight of the polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal. Preferably 400 to 10,000, and more preferably 500 to 8,000.
상기 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머는 시판품을 호적하게 사용할 수 있으며, 구체예로는, 비스페놀A형 에폭시 수지로는, jER 1001, jER 1002, jER 1003, jER 1004, jER 1055, jER 1007, jER 1009, jER 1010, jER 834, jER 828(이상, Mitsubishi Chemical Corporation제) 등을, 비스페놀F형 에폭시 수지로는, jER 806, jER 807(이상, Mitsubishi Chemical Corporation제) 등을, 페놀노볼락형 에폭시 수지로는, jER 152, jER 154(이상, Mitsubishi Chemical Corporation제), EPPN 201, EPPN 202(이상, Nippon Kayaku Co., Ltd.제) 등을, 크레졸노볼락형 에폭시 수지로는, ECN-1299(Asahi Kasei Corporation제), EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027(이상, Nippon Kayaku Co., Ltd.제), jER 80S75(Mitsubishi Chemical Corporation제) 등을, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지로는, jER 157S70(Mitsubishi Chemical Corporation제) 등을, 폴리올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물로는 EHPE-3150(Daicel Corporation제) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the polymers having at least one epoxy group in the side chain or terminal are commercially available products such as jER 1001, jER 1002, jER 1003, jER 1004, jER 1055, jER 1007, jER 1009, jER 1010, jER 834, jER 828 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and the like can be used as the bisphenol F type epoxy resin, jER 806, jER 807 Examples of the volatile epoxy resin include jER 152, jER 154 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPPN 201 and EPPN 202 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and cresol novolak type epoxy resins, EOCN-1025, EOCN-1027 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), jER 80S75 (manufactured by Asahi Kasei Corporation), EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN- (Manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as the bisphenol A novolak type epoxy resin, 1,2-epoxy-4- (2-oxyl Nyl) cyclohexane adduct include EHPE-3150 (manufactured by Daicel Corporation) and the like.
본 명세서에 있어서, 수직배향성기란, 예를 들어 탄소원자수가 6~20 정도인 탄화수소기를 포함하는 기를 나타내고, 구체적으로는 후술하는 식[1]로 표시되는 기를 말한다.In the present specification, the vertically aligning group represents a group containing a hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, for example, and specifically refers to a group represented by the formula [1] described later.
따라서, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물로서, 예를 들어 카르복실기와 탄소원자수 6~20 정도의 탄화수소기를 갖는 화합물을 들 수 있다.Accordingly, as the compound having a carboxyl group and a vertically oriented group, for example, a compound having a carboxyl group and a hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms can be given.
탄소원자수 6~20의 탄화수소기로는, 직쇄상, 분지상 또는 환상의 탄소원자수 6~20의 알킬기 또는 방향족기를 포함하는 탄소원자수 6~20의 탄화수소기를 들 수 있다.
Examples of the hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include straight chain, branched or cyclic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms or aromatic groups having 6 to 20 carbon atoms.
수직배향성기는, 보다 구체적으로는, 하기 식[1]로 표시되는 기이다.More specifically, the vertically aligning group is a group represented by the following formula [1].
[화학식 2](2)
식[1] 중, Y1은 단결합을 나타낸다.
In the formula [1], Y 1 represents a single bond.
식[1] 중, Y2는 단결합 또는 탄소원자수 1~15의 알킬렌기를 나타낸다.In the formula [1], Y 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms.
또한 Y2로서, 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기를 들 수 있고, 이들 환상기 상의 임의의 수소원자는, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있다.And Y 2 represents a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring and a heterocycle, and any hydrogen atom on the cyclic group may be substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms A fluorine-containing alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine-containing alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a fluorine atom.
상기 복소환으로는 피롤환, 이미다졸환, 옥사졸환, 티아졸환, 피라졸환, 피리딘환, 피리미딘환, 퀴놀린환, 피라졸린환, 이소퀴놀린환, 카바졸환, 퓨린환, 티아디아졸환, 피리다진환, 피라졸린환, 트리아진환, 피라졸리딘환, 트리아졸환, 피라진환, 벤즈이미다졸환, 신놀린환, 페난트롤린환, 인돌환, 퀴녹살린환, 벤조티아졸환, 페노티아진환, 옥사디아졸환, 아크리딘환 등을 들 수 있고, 보다 바람직한 것은, 피롤환, 이미다졸환, 피라졸환, 피리딘환, 피리미딘환, 피라졸린환, 카바졸환, 피리다진환, 피라졸린환, 트리아진환, 피라졸리딘환, 트리아졸환, 피라진환, 벤즈이미다졸환이다.Examples of the heterocycle include pyrrole, imidazole, oxazole, thiazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, quinoline, pyrazoline, isoquinoline, carbazole, purine, thiadiazole, Benzothiazole ring, phenothiazine ring, oxadiazole ring, phenothiazine ring, benzothiazole ring, benzothiazole ring, benzothiazole ring, benzothiazole ring, benzothiazole ring, benzothiazole ring, Pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyrazoline ring, carbazole ring, pyridazine ring, pyrazoline ring, triazine ring, pyrazoline ring, pyrazoline ring, Pyrazolidine ring, triazole ring, pyrazine ring, and benzimidazole ring.
상기 치환기로서 언급한 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 시클로프로필기를 들 수 있고, 상기 알콕실기로는, 상기 알킬기의 구체예로서 언급한 기에 산소원자-O-가 결합된 기를 들 수 있다. 또한 상기 불소함유알킬기, 불소함유알콕실기로는, 상기 알킬기 및 알콕실기 중 임의의 수소원자가 불소원자로 치환된 기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group referred to as the substituent include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a cyclopropyl group. As the alkoxyl group, an oxygen atom- Bonded groups. Examples of the fluorine-containing alkyl group and the fluorine-containing alkoxyl group include groups in which any hydrogen atom of the alkyl group or alkoxyl group is substituted with a fluorine atom.
이들 중에서도, 합성이 용이하다는 점에서, Y2는 벤젠환 또는 시클로헥산환인 것이 바람직하다.
Of these, Y 2 is preferably a benzene ring or cyclohexane ring in view of ease of synthesis.
상기 식[1] 중, Y3은 단결합 또는 탄소원자수 1~15의 알킬렌기를 나타낸다.
In the formula [1], Y 3 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms.
상기 식[1] 중, Y4는 단결합을 나타내거나, 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기를 나타내고, 이들 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있다.Y 4 in the formula [1] represents a single bond or a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring and a heterocycle, and any hydrogen atom on the cyclic group may be an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms , An alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorinated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorinated alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a fluorine atom.
상기 복소환 그리고 치환기로서 언급한 알킬기 등은, 상기 서술한 Y2에서 언급한 것으로 할 수 있다.The above-mentioned heterocyclic ring and the alkyl group referred to as a substituent may be the same as those mentioned in the above-mentioned Y 2 .
나아가, Y4로서, 탄소원자수 17~30으로서 스테로이드 골격을 갖는 유기기로부터 선택되는 2가의 유기기일 수도 있다. 그 바람직한 예는, 콜레스테릴, 앤드로스테릴(アンドロステリル), β-콜레스테릴, 에피앤드로스테릴(エピアンドロステリル), 에리고스테릴, 에스트릴, 11α-하이드록시메틸스테릴, 11α-프로게스테릴, 라노스테릴, 멜라트라닐(メラトラニル), 메틸테스트로스테릴, 노레티스테릴, 프레그네노닐, β-시토스테릴, 스티그마스테릴, 테스토스테릴, 및 아세트산콜레스테롤에스테르 등으로부터 선택되는 구조로부터 수소원자를 2개 제거한 구조를 갖는 2가의 기이다. 보다 구체적으로는, 예를 들어 하기와 같다.Further, Y 4 may be a divalent organic group selected from organic groups having a steroid skeleton having 17 to 30 carbon atoms. Preferred examples thereof include cholesteryl, endostearyl (aminostearyl), β-cholestearyl, epiedostosteryl (ependodostearyl), erythrostearyl, estril, 11α-hydroxymethylstearyl , 11? -Progesteryl, laanostearyl, melatranyl (melratranyl), methyltestosteryl, norestestyl, frenenonyl,? -Cyostosteryl, stigmasteryl, testosteryl, and acetic acid A cholesterol ester, and the like. More specifically, for example, the following.
[화학식 3](3)
(식 중, *은 결합위치를 나타낸다.)(Wherein * represents a bonding position).
이들 중에서도, 합성이 용이하다는 점에서, Y4는 벤젠환, 시클로헥산환 또는 탄소원자수 17~30으로서 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기인 것이 바람직하다.
Of these, Y 4 is preferably a benzene ring, a cyclohexane ring, or a divalent organic group having a steroid skeleton having 17 to 30 carbon atoms in that it is easy to synthesize.
식[1] 중, Y5는 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기를 나타내고, 이들 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있다. 상기 복소환 그리고 치환기로서 언급한 알킬기 등은, 상기 서술한 Y4에서 언급한 것으로 할 수 있다.In formula [1], Y 5 represents a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring or a heterocycle, and any hydrogen atom on these cyclic groups may be replaced by an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms An alkoxyl group, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluoro-containing alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a fluorine atom. The above-mentioned heterocyclic ring and the alkyl group referred to as a substituent may be the same as those mentioned in Y 4 described above.
이들 중에서도, Y5는 벤젠환 또는 시클로헥산환인 것이 바람직하다.Among them, Y 5 is preferably a benzene ring or cyclohexane ring.
또한 식[1] 중, n은 0~4의 정수를 나타내고, n이 2 이상인 경우, Y5끼리는 동일한 기일 수도 상이한 기일 수도 있다. 이 중에서도, 원료의 입수성이나 합성이 용이하다는 점에서, n은 0~3이 바람직하다. 보다 바람직한 것은, 0~2이다.
In the formula [1], n represents an integer of 0 to 4, and when n is 2 or more, the groups Y 5 may be the same group or different groups. Of these, n is preferably 0 to 3 in view of availability of raw materials and ease of synthesis. More preferred is 0 to 2.
식[1] 중, Y6은 수소원자, 탄소원자수 1~18의 알킬기, 탄소원자수 1~18의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~18의 알콕실기 또는 탄소원자수 1~18의 불소함유알콕실기를 나타낸다.In the formula [1], Y 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a fluorine-containing alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms .
이 중에서도, Y6은 탄소원자수 1~18의 알킬기, 탄소원자수 1~10의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~18의 알콕실기 또는 탄소원자수 1~10의 불소함유알콕실기인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, Y6은 탄소원자수 1~12의 알킬기 또는 탄소원자수 1~12의 알콕실기이다. 특히 바람직하게는, Y6은 탄소원자수 1~9의 알킬기 또는 탄소원자수 1~9의 알콕실기이다.Among them, Y 6 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a fluorine-containing alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms. More preferably, Y < 6 > is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms. And particularly preferably, Y 6 is an alkoxyl group of 1-9 carbon atoms or alkyl of 1-9 carbon atoms.
한편, Y4가 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기인 경우에는, Y6은 수소원자가 바람직하다.
On the other hand, when Y 4 is a divalent organic group having a steroid skeleton, Y 6 is preferably a hydrogen atom.
상기 식[1] 중의 정의에 있어서 언급한 알킬렌기, 알킬기, 불소함유알킬기, 알콕실기 또는 불소함유알콕시기는, 직쇄상, 분지상, 또는 환상 중 어느 하나 또는 이들의 조합일 수도 있다.The alkylene group, alkyl group, fluorine-containing alkyl group, alkoxyl group or fluorine-containing alkoxy group mentioned in the above-mentioned formula [1] may be any one of linear, branched or cyclic, or a combination thereof.
예를 들어 상기 알킬기는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 1-메틸-n-부틸기, 2-메틸-n-부틸기, 3-메틸-n-부틸기, 1,1-디메틸-n-프로필기, 1,2-디메틸-n-프로필기, 2,2-디메틸-n-프로필기, 1-에틸-n-프로필기, n-헥실기, 1-메틸-n-펜틸기, 2-메틸-n-펜틸기, 3-메틸-n-펜틸기, 4-메틸-n-펜틸기, 1,1-디메틸-n-부틸기, 1,2-디메틸-n-부틸기, 1,3-디메틸-n-부틸기, 2,2-디메틸-n-부틸기, 2,3-디메틸-n-부틸기, 3,3-디메틸-n-부틸기, 1-에틸-n-부틸기, 2-에틸-n-부틸기, 1,1,2-트리메틸-n-프로필기, 1,2,2-트리메틸-n-프로필기, 1-에틸-1-메틸-n-프로필기, 1-에틸-2-메틸-n-프로필기, n-헵틸기, 1-메틸-n-헥실기, 2-메틸-n-헥실기, 3-메틸-n-헥실기, 1,1-디메틸-n-펜틸기, 1,2-디메틸-n-펜틸기, 1,3-디메틸-n-펜틸기, 2,2-디메틸-n-펜틸기, 2,3-디메틸-n-펜틸기, 3,3-디메틸-n-펜틸기, 1-에틸-n-펜틸기, 2-에틸-n-펜틸기, 3-에틸-n-펜틸기, 1-메틸-1-에틸-n-부틸기, 1-메틸-2-에틸-n-부틸기, 1-에틸-2-메틸-n-부틸기, 2-메틸-2-에틸-n-부틸기, 2-에틸-3-메틸-n-부틸기, n-옥틸기, 1-메틸-n-헵틸기, 2-메틸-n-헵틸기, 3-메틸-n-헵틸기, 1,1-디메틸-n-헥실기, 1,2-디메틸-n-헥실기, 1,3-디메틸-n-헥실기, 2,2-디메틸-n-헥실기, 2,3-디메틸-n-헥실기, 3,3-디메틸-n-헥실기, 1-에틸-n-헥실기, 2-에틸-n-헥실기, 3-에틸-n-헥실기, 1-메틸-1-에틸-n-펜틸기, 1-메틸-2-에틸-n-펜틸기, 1-메틸-3-에틸-n-펜틸기, 2-메틸-2-에틸-n-펜틸기, 2-메틸-3-에틸-n-펜틸기, 3-메틸-3-에틸-n-펜틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기 등을 들 수 있다.For example, the alkyl group may be, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- Propyl group, a 1,2-dimethyl-n-propyl group, a 2,2-dimethyl-n-butyl group, N-pentyl group, 3-methyl-n-pentyl group, 4-methyl-n-pentyl group, Butyl group, a 1,2-dimethyl-n-butyl group, a 1,3-dimethyl-n-butyl group, a 2,2-dimethyl- Butyl group, a 2-ethyl-n-butyl group, a 1,1,2-trimethyl-n-butyl group, n-propyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl group, n-heptyl group, 1 Methyl-n-hexyl group, 1,1-dimethyl-n-pentyl group, 1,2-dimethyl-n-pentyl group, Dimethyl-n-pentyl group, 2,2-dimethyl-n-pentyl group, 2,3- N-pentyl group, 3-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl-1-pentyl group, Butyl group, 2-methyl-2-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-n- Methyl-n-heptyl group, 3-methyl-n-heptyl group, 1,1-dimethyl-n- Hexyl group, 2,3-dimethyl-n-hexyl group, 3,3-dimethyl-n-hexyl group, Ethyl-n-hexyl group, 1-methyl-1-ethyl-n-pentyl group, 1- Ethyl-n-pentyl group, 2-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, An n-decyl group, an n-dodecyl group, an n-tridecyl group, an n-tetradecyl group, an n-pentadecyl group, And the like.
상기 알킬렌기로는, 상기 알킬기로부터 임의의 수소원자를 1개 제거한 2가의 기를 들 수 있다.Examples of the alkylene group include a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from the alkyl group.
상기 알콕실기로는, 상기 알킬기의 구체예로서 언급한 기에 산소원자-O-가 결합한 기를 들 수 있다.Examples of the alkoxyl group include groups in which an oxygen atom -O- is bonded to a group mentioned as a specific example of the alkyl group.
또한 상기 불소함유알킬기, 불소함유알콕실기로는, 상기 알킬기 및 알콕실기 중 임의의 수소원자가 불소원자로 치환된 기를 들 수 있다.
Examples of the fluorine-containing alkyl group and the fluorine-containing alkoxyl group include groups in which any hydrogen atom of the alkyl group or alkoxyl group is substituted with a fluorine atom.
상기 Y2 및 Y3으로서의 알킬렌기, 그리고, 환상기 상의 치환기 또는 Y6으로서의 알킬기, 불소함유알킬기, 알콕실기 및 불소함유알콕시기는, 직쇄상, 분지상, 또는 환상 중 어느 하나 또는 이들의 조합일 수도 있다.The alkylene group as Y 2 and Y 3 and the substituent on the cyclic group or the alkyl group as Y 6 , the fluorine-containing alkyl group, the alkoxyl group and the fluorine-containing alkoxy group may be any one of linear, branched or cyclic, It is possible.
또한, Y2 및 Y3으로서의 알킬렌기, 그리고, Y6으로서의 알킬기, 불소함유알킬기, 알콕실기 및 불소함유알콕시기는, 결합기끼리 서로 이웃하지 않는 한 1 내지 3의 결합기로 중단되어 있을 수도 있다.The alkylene group as Y 2 and Y 3 and the alkyl group, fluorine-containing alkyl group, alkoxyl group and fluorine-containing alkoxy group as Y 6 may be interrupted by 1 to 3 bonding groups unless the bonding groups are adjacent to each other.
나아가, Y2, Y4 또는 Y5가 2가의 환상기를 나타내거나, Y4가 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기를 나타내거나, Y2 또는 Y3이 알킬렌기를 나타내거나, 혹은 Y6이 알킬기 또는 불소함유알킬기를 나타낼 때, 이 2가의 환상기, 이 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기, 이 -CH2-CH(OH)-CH2-, 이 알킬렌기, 이 알킬기 및 이 불소함유알킬기는, 이것들에 인접하는 기와 결합기를 통해 결합해 있을 수도 있다.Further, Y 2 , Y 4 or Y 5 represents a divalent cyclic group, Y 4 represents a divalent organic group having a steroid skeleton, Y 2 or Y 3 represents an alkylene group, or Y 6 represents an alkyl group or The divalent organic group having a bivalent cyclic group, the steroid skeleton, the -CH 2 -CH (OH) -CH 2 -, the alkylene group, the alkyl group and the fluorine-containing alkyl group, They may be connected to adjacent groups and couplers.
또한 상기 결합기는, -O-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO-O-, -O-CO-NH- 및 -NH-CO-NH-로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 나타낸다.The coupler may be selected from the group consisting of -O-, -CH 2 O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO- And -NH-CO-NH-.
한편, Y2 내지 Y6이 각각 나타내는 바의 탄소원자수 1~15의 알킬렌기, 벤젠환, 시클로헥산환, 복소환, 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기, 탄소원자수 1~18의 알킬기, 탄소원자수 1~18의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~18의 알콕실기 및 탄소원자수 1~18의 불소함유알콕실기의 탄소원자수의 합계는 6~30이고, 예를 들어 6~20이다.On the other hand, Y 2 to Y 6 are each carbon atoms of the indicating bar 1 to 15 alkyl group, a benzene ring, a cyclohexane ring, a heterocyclic ring, a divalent having a steroid skeleton organic group, carbon atom number of 1 to 18 alkyl group, a carbon atom number of The total number of carbon atoms of the fluorine-containing alkyl group of 1 to 18, the alkoxyl group of 1 to 18 carbon atoms and the fluoro-containing alkoxyl group of 1 to 18 carbon atoms is 6 to 30, for example, 6 to 20.
이들 중, 수직배향성과 중합성 액정의 도포성을 고려할 때, 수직배향성기는, 탄소원자수 7~18, 특히 8~15의 알킬기를 포함하는 기인 것이 바람직하다.
Of these, the vertical aligning group is preferably a group containing an alkyl group having 7 to 18 carbon atoms, particularly 8 to 15 carbon atoms, in consideration of the vertical alignment property and the applicability of the polymerizable liquid crystal.
바람직하게는, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물이란, 카르복실기가 상기 수직배향성기에 결합된 화합물이다.
Preferably, the compound having a carboxyl group and a vertically aligning group is a compound in which a carboxyl group is bonded to the vertically aligning group.
본 발명에 있어서의 (A)성분의 수직배향 폴리머는, 상기 서술한 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시기에 대하여, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기를 반응시킨 폴리머이다. 해당 에폭시기와 카르복실기가 반응함으로써, -CH2-CH(OH)-CH2-라는 결합이 발생하게 된다.
The vertically oriented polymer of component (A) in the present invention is a polymer obtained by reacting a carboxyl group of a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group with an epoxy group of a polymer having at least one epoxy group at the side chain or at the terminal. The epoxy group and the carboxyl group react with each other to generate -CH 2 -CH (OH) -CH 2 - bond.
상기 수직배향 폴리머를 얻기 위한, 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머와, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 사용량은, 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시 1당량에 대하여, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기가 5~60당량이 되도록 사용하는 것이 바람직하다.The amount of the polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal and the compound having a carboxyl group and the vertically orienting group for obtaining the vertically aligned polymer is preferably such that the amount of the carboxyl group and the compound having a vertically- It is preferable to use the compound having a carboxyl group and a vertically aligning group so that the carboxyl group of the compound has 5 to 60 equivalents.
에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시 1당량에 대하여, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기가 5당량 미만인 경우, 얻어진 수직배향 폴리머에 있어서 원하는 수직배향성이 충분히 얻어지지 않는 경우가 있다. 또한 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기가 60당량을 초과하면, 이 수직배향 폴리머를 이용하여 경화막(배향재)을 형성하고, 그 위에 중합성 액정용액 등을 도포하고자 할 때에 액정의 도포성이 저하될(액정의 튕김이 발생할) 우려가 있다.When the carboxyl group of the compound having a carboxyl group and the vertically orienting group is less than 5 equivalents based on one equivalent of the epoxy having an epoxy group at one or more side chains or terminals, the desired vertical alignment property may not be sufficiently obtained in the obtained vertical alignment polymer . When the carboxyl group of the compound having a carboxyl group and the vertically aligning group is more than 60 equivalents, when a cured film (alignment material) is formed using this vertically aligned polymer and a polymerizable liquid crystal solution or the like is to be coated thereon, There is a fear that the liquid crystal molecules will be lowered (skipping of the liquid crystal).
또한, 수직배향성기를 함유하지 않고, 카르복실기를 갖는 화합물을, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물을 반응시킨 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의, 에폭시 잔기에 반응시킬 수도 있다. 이 경우, 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머의 에폭시 1당량에 대한 카르복실기의 양은, 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물의 카르복실기와, 수직배향성기를 함유하지 않고 카르복실기를 갖는 화합물의 카르복실기의 합계량으로, 5~60당량으로 하는 것이 바람직하다.
The epoxy moiety of the polymer having at least one epoxy group at the side chain or at the terminal thereof may be reacted with a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group without containing a vertically aligning group. In this case, the amount of the carboxyl group relative to 1 equivalent of the epoxy of the polymer having at least one epoxy group at the side chain or terminal is preferably the sum of the carboxyl group of the compound having a carboxyl group and the vertically orienting group and the carboxyl group of the compound having no carboxyl group , Preferably 5 to 60 equivalents.
본 발명에 이용하는 수직배향 폴리머를 얻는 순서는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머와 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물과, 경우에 따라 수직배향성기를 함유하지 않고 카르복실기를 갖는 화합물을, 반응촉매 등을 공존시킨 용제 중에 있어서, 50 내지 150℃의 온도하에서 반응시킴으로써 얻어진다. 이때, 이용되는 용제는, 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머와 카르복실기 및 수직배향성기를 갖는 화합물, 및 중합개시제 등을 용해하는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, 후술하는 <용제>에 언급하는 것을 호적하게 사용할 수 있다. 반응촉매로는, 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄브로마이드, 벤질트리프로필암모늄클로라이드, 벤질트리프로필암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄클로라이드, 테트라프로필암모늄브로마이드 등의 4급암모늄염; 테트라페닐포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 벤질트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드 등의 4급포스포늄염 등을 들 수 있다.The order of obtaining the vertically oriented polymer to be used in the present invention is not particularly limited. For example, a compound having at least one epoxy group at the side chain or at the terminal, a compound having a carboxyl group and a vertically aligning group, Is obtained by reacting a compound having a carboxyl group in a solvent in which a reaction catalyst and the like are coexisted at a temperature of 50 to 150 캜. Here, the solvent to be used is not particularly limited as long as it dissolves a polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal, a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group, and a polymerization initiator. As specific examples thereof, mention may be made of the " solvent " which will be described later. Examples of the reaction catalyst include benzyl trimethyl ammonium chloride, benzyl trimethyl ammonium bromide, benzyl triethyl ammonium chloride, benzyl triethyl ammonium bromide, benzyltripropyl ammonium chloride, benzyltripropyl ammonium bromide, tetramethyl ammonium chloride, Quaternary ammonium salts such as propyl ammonium chloride and tetrapropyl ammonium bromide; Quaternary phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium chloride and ethyltriphenylphosphonium bromide, and the like can be given .
상기 방법에 의해 얻어지는 수직배향 폴리머는, 통상, 용제에 용해한 용액의 상태이다. 후술하는 바와 같이, 얻어진 수직배향 폴리머의 용액을 그대로 (A)성분(의 용액)으로서 사용할 수 있다.
The vertically oriented polymer obtained by the above method is usually in the form of a solution dissolved in a solvent. As described later, the resulting solution of the vertically oriented polymer can be used as it is as the component (A) solution.
또한, 상기 방법으로 얻어진 수직배향 폴리머의 용액을, 교반하의 디에틸에테르나 물 등에 투입하여 재침전시키고, 생성된 침전물을 여과·세정한 후에, 상압 또는 감압하에서, 상온건조 또는 가열건조하고, 수직배향 폴리머의 분체로 할 수 있다. 상기 조작에 의해, 수직배향 폴리머와 공존하는 반응촉매 및 미반응의 화합물을 제거할 수 있고, 그 결과, 정제된 수직배향 폴리머의 분체가 얻어진다. 한번의 조작으로 충분히 정제되지 않는 경우에는, 얻어진 분체를 용제에 재용해시켜, 상기 조작을 반복 행하면 된다.Further, the solution of the vertically oriented polymer obtained by the above method is put into diethyl ether or water under stirring to reprecipitate, and the resulting precipitate is filtered and washed. Thereafter, the solution is dried at room temperature or under reduced pressure, or heated and dried, It may be a powder of oriented polymer. By this operation, the reaction catalyst coexisting with the vertically oriented polymer and the unreacted compound can be removed, and as a result, the purified vertically oriented polymer powder can be obtained. When the powder can not be sufficiently purified by one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.
본 발명에 있어서는, 수직배향 폴리머는 분체형태로, 혹은 정제된 분말을 후술하는 용제에 재용해한 용액형태로 이용할 수도 있다.
In the present invention, the vertically oriented polymer may be used in powder form or in the form of a solution in which the purified powder is redissolved in a solvent to be described later.
또한, 본 발명에 있어서는, (A)성분의 수직배향 폴리머는, 복수종의 수직배향 폴리머의 혼합물일 수도 있다.
Further, in the present invention, the vertically oriented polymer of component (A) may be a mixture of plural kinds of vertically oriented polymers.
<(B)성분>≪ Component (B) >
본 발명의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (B)성분은, 가교제이다.The component (B) in the cured film-forming composition of the present invention is a crosslinking agent.
(B)성분인 가교제는, 상기 (A)성분의 열가교 가능한 관능기와 가교를 형성하는 기, 예를 들어 메틸올기 또는 알콕시메틸기를 갖는 가교제인 것이 바람직하다.The crosslinking agent as the component (B) is preferably a crosslinking agent having a group capable of forming a crosslinking with the heat-crosslinkable functional group of the component (A), for example, a methylol group or an alkoxymethyl group.
이들 기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, 알콕시메틸화글리콜우릴, 알콕시메틸화벤조구아나민 및 알콕시메틸화멜라민 등의 메틸올 화합물을 들 수 있다.
Examples of the compound having these groups include methylol compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine and alkoxymethylated melamine.
알콕시메틸화글리콜우릴의 구체예로는, 예를 들어, 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(부톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(하이드록시메틸)글리콜우릴, 1,3-비스(하이드록시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(부톡시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(메톡시메틸)요소, 1,3-비스(하이드록시메틸)-4,5-디하이드록시-2-이미다졸리논, 및 1,3-비스(메톡시메틸)-4,5-디메톡시-2-이미다졸리논 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Nihon Cytec Industries Inc.(구 Mitsui Cytec Ltd.)제 글리콜우릴 화합물(상품명: CYMEL(サイメル)(등록상표) 1170, POWDERLINK(パウダ―リンク)(등록상표) 1174) 등의 화합물, 메틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 65), 부틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), DIC Corporation(구 Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)제 요소/포름알데히드계 수지(고축합형, 상품명: BECKMINE(ベッカミン)(등록상표) J-300S, BECKMINE P-955, BECKMINE N) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the alkoxymethylated glycoluril include, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycoluril, 1,3,4-tetrakis (hydroxymethyl) glycoluril, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) (Methoxymethyl) urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis ) -4,5-dimethoxy-2-imidazolidinone. As a commercial product, a compound such as a glycoluril compound (trade name: CYMEL (registered trademark) 1170, POWDERLINK (registered trademark) 1174) manufactured by Nihon Cytec Industries Inc. (formerly Mitsui Cytec Ltd.) (Trade name: UFR (registered trademark) 65), butylated urea resin (trade name: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), DIC Corporation (formerly Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) BECKMINE (registered trademark) J-300S, BECKMINE P-955, BECKMINE N), and the like can be given as examples of the urea / formaldehyde resin.
알콕시메틸화벤조구아나민의 구체예로는 테트라메톡시메틸벤조구아나민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Nihon Cytec Industries Inc.(구 Mitsui Cytec Ltd.)제(상품명: CYMEL(등록상표) 1123), SANWA Chemical Co., Ltd.제(상품명: NIKALAC(ニカラック)(등록상표) BX-4000, NIKALAC BX-37, NIKALAC BL-60, NIKALAC BX-55H) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the alkoxymethylated benzoguanamine include tetramethoxymethylbenzoguanamine and the like. (Trade name: CYMEL (registered trademark) 1123) manufactured by Nihon Cytec Industries Inc. (formerly Mitsui Cytec Ltd.), NIKALAC (registered trademark) BX-4000 manufactured by SANWA Chemical Co., NIKALAC BX-37, NIKALAC BL-60, and NIKALAC BX-55H).
알콕시메틸화멜라민의 구체예로는, 예를 들어, 헥사메톡시메틸멜라민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Nihon Cytec Industries Inc.(구 Mitsui Cytec Ltd.)제 메톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: CYMEL(등록상표) 300, CYMEL 301, CYMEL 303, CYMEL 350), 부톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: MYCOAT(マイコ―ト)(등록상표) 506, MYCOAT 508), SANWA Chemical Co., Ltd.제 메톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MW-30, NIKALAC MW-22, NIKALAC MW-11, NIKALAC MS-001, NIKALAC MX-002, NIKALAC MX-730, NIKALAC MX-750, NIKALAC MX-035), 부톡시메틸타입 멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MX-45, NIKALAC MX-410, NIKALAC MX-302) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the alkoxymethylated melamine include, for example, hexamethoxymethylmelamine and the like. As commercial products, methoxymethyl type melamine compounds (trade names: CYMEL (registered trademark) 300, CYMEL 301, CYMEL 303, CYMEL 350) manufactured by Nihon Cytec Industries Inc. (formerly Mitsui Cytec Ltd.), butoxymethyl type melamine compounds NIKALAC MW-30, NIKALAC MW-22, NIKALAC MW (trade name) manufactured by SANWA Chemical Co., Ltd.) (Trade name: NIKALAC (registered trademark) MX-45, manufactured by NIKALAC MX-035), NIKALAC MX-001, NIKALAC MX-002, NIKALAC MX-730, NIKALAC MX- 410, NIKALAC MX-302).
또한, 이러한 아미노기의 수소원자가 메틸올기 또는 알콕시메틸기로 치환된 멜라민 화합물, 요소 화합물, 글리콜우릴 화합물 및 벤조구아나민 화합물을 축합시켜 얻어지는 화합물일 수도 있다. 예를 들어, 미국특허 제6323310호에 기재되어 있는 멜라민 화합물 및 벤조구아나민 화합물로 제조되는 고분자량의 화합물을 들 수 있다. 상기 멜라민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 303 등을 들 수 있고, 상기 벤조구아나민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 1123(이상, Nihon Cytec Industries Inc.(구 Mitsui Cytec Ltd.)제) 등을 들 수 있다.
A compound obtained by condensing a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group. For example, a high molecular weight compound prepared from a melamine compound and a benzoguanamine compound described in U.S. Patent 6,323,310 can be mentioned. CYMEL (registered trademark) 303 (manufactured by Nihon Cytec Industries, Inc. (hereinafter referred to as " CYMEL ") is commercially available as a commercially available product of the benzoguanamine compound, Mitsui Cytec Ltd.) and the like.
나아가, (B)성분의 가교제로서, N-하이드록시메틸아크릴아미드, N-메톡시메틸메타크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, N-부톡시메틸메타크릴아미드 등의 하이드록시메틸기(즉 메틸올기) 또는 알콕시메틸기로 치환된 아크릴아미드화합물 또는 메타크릴아미드화합물을 사용하여 제조되는 폴리머도 이용할 수 있다.
Furthermore, as a crosslinking agent for the component (B), there may be mentioned a hydroxymethyl group such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide and N-butoxymethylmethacrylamide A methylol group) or an acrylamide compound substituted with an alkoxymethyl group or a polymer prepared by using a methacrylamide compound.
이러한 폴리머로는, 예를 들어, 폴리(N-부톡시메틸아크릴아미드), N-부톡시메틸아크릴아미드와 스티렌의 공중합체, N-하이드록시메틸메타크릴아미드와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, N-에톡시메틸메타크릴아미드와 벤질메타크릴레이트의 공중합체, 및 N-부톡시메틸아크릴아미드와 벤질메타크릴레이트와 2-하이드록시프로필메타크릴레이트의 공중합체 등을 들 수 있다. 이러한 폴리머의 중량평균분자량(폴리스티렌 환산값)은, 1,000~500,000이고, 바람직하게는, 2,000~200,000이고, 보다 바람직하게는 3,000~150,000이고, 더욱 바람직하게는 3,000~50,000이다.
Such polymers include, for example, poly (N-butoxymethylacrylamide), copolymers of N-butoxymethylacrylamide and styrene, copolymers of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, A copolymer of N-ethoxymethylmethacrylamide and benzylmethacrylate, and a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and benzylmethacrylate and 2-hydroxypropylmethacrylate. The weight average molecular weight (polystyrene conversion value) of such a polymer is 1,000 to 500,000, preferably 2,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and still more preferably 3,000 to 50,000.
이들 가교제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.
본 발명의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (B)성분의 가교제의 함유량은, (A)성분인 화합물 100질량부에 기초하여 1질량부~100질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5질량부~80질량부이다. 가교제의 함유량이 과소한 경우에는, 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막의 용제내성이 저하되고, 수직배향성이 저하된다. 한편, 함유량이 과대한 경우에는 수직배향성 및 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the crosslinking agent in the component (B) in the cured film-forming composition of the present invention is preferably 1 part by mass to 100 parts by mass, more preferably 5 parts by mass (parts by mass) based on 100 parts by mass of the compound (A) To 80 parts by mass. When the content of the crosslinking agent is too low, the solvent resistance of the cured film obtained from the cured film forming composition is lowered and the vertical orientation property is lowered. On the other hand, if the content is excessive, the vertical alignment property and storage stability may be deteriorated.
<(C)성분>≪ Component (C) >
본 발명의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (C)성분은 산촉매이다.Component (C) in the cured film-forming composition of the present invention is an acid catalyst.
(C)성분인 산촉매로는, 예를 들어, 산 또는 열산발생제를 호적하게 사용할 수 있다. 이 (C)성분은, 본 발명의 경화막 형성 조성물의 열경화반응을 촉진시키는데 있어서 유효하다.As the acid catalyst as the component (C), for example, an acid or a thermal acid generator may be used suitably. The component (C) is effective in promoting the thermosetting reaction of the cured film-forming composition of the present invention.
(C)성분은, 구체적으로는, 상기 산으로서 설폰산기 함유 화합물, 염산 또는 그 염을 들 수 있다. 그리고 상기 열산발생제로는, 가열처리시에 열분해되어 산을 발생하는 화합물, 즉 온도 80℃ 내지 250℃에서 열분해되어 산을 발생하는 화합물이라면, 특별히 한정되는 것은 아니다.
Specific examples of the component (C) include a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof as the acid. The thermal acid generator is not particularly limited as long as it is a compound which is pyrolyzed at the time of heat treatment to generate an acid, that is, a compound which is thermally decomposed at a temperature of 80 to 250 ° C to generate an acid.
상기 산의 구체예로는, 예를 들어, 염산 또는 그 염; 메탄설폰산, 에탄설폰산, 프로판설폰산, 부탄설폰산, 펜탄설폰산, 옥탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 캠퍼설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, p-페놀설폰산, 2-나프탈렌설폰산, 메시틸렌설폰산, p-자일렌-2-설폰산, m-자일렌-2-설폰산, 4-에틸벤젠설폰산, 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥탄설폰산, 퍼플루오로(2-에톡시에탄)설폰산, 펜타플루오로에탄설폰산, 노나플루오로부탄-1-설폰산, 도데실벤젠설폰산 등의 설폰산기 함유 화합물 또는 그 수화물이나 염 등을 들 수 있다.
Specific examples of the acid include, for example, hydrochloric acid or a salt thereof; Methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p- , 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoro Sulfonic acid group-containing compounds such as perfluoro (2-ethoxy) sulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutane-1-sulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid, or hydrates or salts thereof And the like.
또한 열에 의해 산을 발생하는 화합물로는, 예를 들어, 비스(토실옥시)에탄, 비스(토실옥시)프로판, 비스(토실옥시)부탄, p-니트로벤질토실레이트, o-니트로벤질토실레이트, 1,2,3-페닐렌트리스(메틸설포네이트), p-톨루엔설폰산피리디늄염, p-톨루엔설폰산모르포늄염, p-톨루엔설폰산에틸에스테르, p-톨루엔설폰산프로필에스테르, p-톨루엔설폰산부틸에스테르, p-톨루엔설폰산이소부틸에스테르, p-톨루엔설폰산메틸에스테르, p-톨루엔설폰산페네틸에스테르, 시아노메틸p-톨루엔설포네이트, 2,2,2-트리플루오로에틸p-톨루엔설포네이트, 2-하이드록시부틸p-톨루엔설포네이트, N-에틸-p-톨루엔설폰아미드, 나아가 하기 식으로 표시되는 화합물:
Examples of the compound capable of generating an acid upon exposure to heat include esters such as bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p- P-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, P-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenetyl ester, cyanomethyl p-toluenesulfonate, 2,2,2-trifluoroethyl p -Toluenesulfonate, 2-hydroxybutyl p-toluenesulfonate, N-ethyl-p-toluenesulfonamide, and further compounds represented by the formula:
[화학식 4][Chemical Formula 4]
[화학식 5][Chemical Formula 5]
[화학식 6][Chemical Formula 6]
[화학식 7](7)
[화학식 8][Chemical Formula 8]
[화학식 9][Chemical Formula 9]
등을 들 수 있다.
And the like.
본 발명의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (C)성분의 함유량은, (A)성분의 화합물 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01질량부~20질량부, 보다 바람직하게는 0.1질량부~15질량부, 더욱 바람직하게는 0.5질량부~10질량부이다. (C)성분의 함유량을 0.01질량부 이상으로 함으로써, 충분한 열경화성 및 용제내성을 부여할 수 있다. 그러나, 20질량부보다 많은 경우, 조성물의 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the component (C) in the cured film-forming composition of the invention is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 15 parts by mass, per 100 parts by mass of the compound (A) Mass part, and more preferably 0.5 mass part to 10 mass parts. When the content of the component (C) is 0.01 part by mass or more, sufficient thermosetting property and solvent resistance can be imparted. However, when it is more than 20 parts by mass, the storage stability of the composition may be deteriorated.
<용제><Solvent>
본 발명의 경화막 형성 조성물은, 주로 용제에 용해된 용액상태로 이용된다. 이때 사용하는 용제는, (A)성분, (B)성분 및/또는 (C)성분, 그리고 필요에 따라 첨가할 수 있는 후술하는 기타 첨가제를 용해할 수 있으면 되고, 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되지 않는다.
The cured film-forming composition of the present invention is mainly used in a solution state dissolved in a solvent. The solvent to be used herein may be any solvent as long as it can dissolve the component (A), the component (B) and / or the component (C), and other additives described below that can be added if necessary. It does not.
용제의 구체예로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, 2-메틸-1-부탄올, n-펜탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 톨루엔, 자일렌, 메틸에틸케톤, 이소부틸메틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-부타논, 3-메틸-2-펜타논, 2-펜타논, 2-헵타논, γ-부티로락톤, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에틸, 2-하이드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 유산에틸, 유산부틸, 시클로펜틸메틸에테르, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 및 N-메틸-2-피롤리돈 등을 들 수 있다.
Specific examples of the solvent include, for example, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, 2- Propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, But are not limited to, glycol monoethyl ether, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, isobutyl methyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, Butanol, 2-pentanone, 2-heptanone,? -Butyrolactone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate , Ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, There may be mentioned ethyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, cyclopentyl methyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, .
본 발명의 경화막 형성 조성물을 이용하고, 수지필름 상에 경화막을 형성하여 배향재를 제조하는 경우에는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 2-메틸-1-부탄올, 2-헵타논, 이소부틸메틸케톤, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등이, 수지필름이 내성을 나타내는 용제라는 점에서 바람직하다.
When a cured film-forming composition of the present invention is used and a cured film is formed on a resin film to produce an alignment material, a solvent such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, -Heptanone, isobutyl methyl ketone, diethylene glycol, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are preferable in that the resin film is a solvent showing resistance.
이들 용제는, 1종 단독으로 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다.
These solvents may be used singly or in combination of two or more.
<기타 첨가제><Other additives>
추가로, 본 발명의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 필요에 따라, 밀착향상제, 실란커플링제, 계면활성제, 레올로지조정제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 산화방지제 등을 함유할 수 있다.
The cured film-forming composition of the present invention may further contain additives such as adhesion improvers, silane coupling agents, surfactants, rheology modifiers, pigments, dyes, storage stabilizers, antifoaming agents, oxidizing agents And the like.
<경화막 형성 조성물의 조제>≪ Preparation of cured film forming composition >
본 발명의 경화막 형성 조성물은, (A)성분의 수직배향 폴리머와, (B)성분의 가교제 및/또는 (C)성분의 산촉매를 함유하고, 필요에 따라 추가로 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한 기타 첨가제를 함유할 수 있는 조성물이다. 그리고 통상은, 이들이 용제에 용해된 용액의 형태로서 이용된다.
The cured film-forming composition of the present invention contains the vertically oriented polymer of component (A), the crosslinking agent of component (B) and / or the acid catalyst of component (C) and further impairs the effect of the present invention Or other additives unless otherwise specified. Normally, they are used in the form of a solution dissolved in a solvent.
본 발명의 경화막 형성 조성물의 바람직한 예는, 이하와 같다.Preferred examples of the cured film forming composition of the present invention are as follows.
[1]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 1질량부~100질량부의 (B)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.[1] A cured film-forming composition containing 1 part by mass to 100 parts by mass of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A).
[2]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 1질량부~100질량부의 (B)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.[2]: A cured film-forming composition containing 1 part by mass to 100 parts by mass of the component (B) and a solvent, based on 100 parts by mass of the component (A).
[3]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 0.01질량부~20질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.[3] A cured film-forming composition containing a solvent and a component (C) in an amount of 0.01 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).
[4]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 1질량부~100질량부의 (B)성분, 0.01질량부~20질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
[4] A cured film-forming composition comprising a component (B), from 0.01 to 20 parts by mass of a component (C), and a solvent in an amount of 1 part by mass to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).
본 발명의 경화막 형성 조성물을 용액으로 이용하는 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상세히 설명한다.The mixing ratio, preparation method and the like when the cured film forming composition of the present invention is used as a solution will be described in detail below.
본 발명의 경화막 형성 조성물에 있어서의 고형분의 비율은, 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한, 특별히 한정되는 것은 아니나, 1질량%~60질량%이고, 바람직하게는 2질량%~50질량%이고, 보다 바람직하게는 2질량%~20질량%이다. 여기서, 고형분이란, 경화막 형성 조성물의 전체성분에서 용제를 제외한 것을 말한다.
The proportion of the solid content in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in a solvent, but it is preferably 1% by mass to 60% by mass, and more preferably 2% Mass%, and more preferably 2 mass% to 20 mass%. Here, the solid content refers to the solvent excluding the entire components of the cured film forming composition.
본 발명의 경화막 형성 조성물의 조제방법은, 특별히 한정되지 않는다. 조제법으로는, 예를 들어, 용제에 용해한 (A)성분의 용액에 (B)성분 및/또는 (C)성분 등을 소정의 비율로 혼합하여, 균일한 용액으로 하는 방법, 혹은, 이 조제법의 적당한 단계에 있어서, 필요에 따라 기타 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.
The method for preparing the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited. Examples of the preparation method include a method in which a solution of the component (A) dissolved in a solvent is mixed with the component (B) and / or the component (C) at a predetermined ratio to prepare a homogeneous solution, In the appropriate step, other additives may be further added and mixed as required.
본 발명의 경화막 형성 조성물의 조제에 있어서는, 용제 중의 반응에 의해 얻어지는 수직배향 폴리머의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 예를 들어, (A)성분의 용액에 상기와 동일하게 (B)성분 및/또는 (C)성분 등을 넣어 균일한 용액으로 한다. 이때, 농도조정을 목적으로 추가로 용제를 추가 투입할 수도 있다. 이때, (A)성분의 생성과정에서 이용되는 용제와, 경화막 형성 조성물의 농도조정에 이용되는 용제와는 동일할 수도 있고, 또한 상이할 수도 있다.
In the preparation of the cured film-forming composition of the present invention, the solution of the vertically oriented polymer obtained by the reaction in a solvent can be used as it is. In this case, for example, the component (B) and / or the component (C) are added to the solution of the component (A) in the same manner as described above to obtain a homogeneous solution. At this time, additional solvent may be added for the purpose of concentration adjustment. At this time, the solvent used in the production of the component (A) may be the same as or different from the solvent used for adjusting the concentration of the cured film forming composition.
또한, 조제된 경화막 형성 조성물의 용액은, 구멍직경이 0.2㎛ 정도인 필터 등을 이용하여 여과한 후, 사용하는 것이 바람직하다.
It is preferable that the prepared solution of the cured film-forming composition is filtered after using a filter having a pore diameter of about 0.2 mu m or the like.
<경화막, 배향재 및 위상차재><Cured film, alignment material and retardation material>
본 발명의 경화막 형성 조성물의 용액을 기판(예를 들어, 실리콘/이산화실리콘 피복기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속, 예를 들어, 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리기판, 석영기판, ITO기판 등)이나 필름기판(예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름, 시클로올레핀폴리머(COP) 필름, 시클로올레핀코폴리머(COC) 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 아크릴 필름, 폴리에틸렌 필름 등의 수지 필름) 등의 위에, 바코트, 회전도포, 흘림도포, 롤도포, 슬릿도포, 슬릿에 이은 회전도포, 잉크젯도포, 인쇄 등에 의해 도포하여 도막을 형성하고, 그 후, 핫플레이트 또는 오븐 등에서 가열건조함으로써, 경화막을 형성할 수 있다. 이 경화막은 그대로 배향재로서 적용할 수도 있다.
The solution of the cured film-forming composition of the present invention may be applied to a substrate (e.g., a substrate coated with a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, , An ITO substrate, etc.) or a film substrate (for example, a triacetyl cellulose (TAC) film, a cycloolefin polymer (COP) film, a cycloolefin copolymer (COC) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, A spin coating, a slit coating, a slit coating, a spin coating, an ink jet coating, a printing, or the like, to form a coating film on a hot plate or a resin film By heating and drying in an oven or the like, a cured film can be formed. This cured film can be applied as an alignment material as it is.
가열건조의 조건으로는, 경화막(배향재)의 성분이, 그 위에 도포되는 중합성 액정용액에 용출되지 않을 정도로, 가교제에 의한 가교반응이 진행되면 되는데, 예를 들어, 온도 60℃~200℃, 시간 0.4분간~60분간의 범위 내에서 적당히 선택된 가열온도 및 가열시간이 채용된다. 가열온도 및 가열시간은, 바람직하게는 70℃~160℃, 0.5분간~10분간이다.
As the conditions of the heating and drying, a crosslinking reaction by the crosslinking agent proceeds so that the component of the cured film (alignment material) does not elute into the polymerizable liquid crystal solution applied thereon. For example, Lt; 0 > C, and a heating time and a heating time appropriately selected within a range of from 0.4 minute to 60 minutes. The heating temperature and heating time are preferably 70 ° C to 160 ° C for 0.5 minute to 10 minutes.
본 발명의 경화성 조성물을 이용하여 형성되는 경화막(배향재)의 막두께는, 예를 들어, 0.05μm~5μm이고, 사용하는 기판의 단차나 광학적, 전기적 성질을 고려하여 적당히 선택할 수 있다.
The film thickness of the cured film (alignment material) formed using the curable composition of the present invention is, for example, 0.05 to 5 占 퐉 and can be appropriately selected in consideration of the step difference of the substrate to be used and the optical and electrical properties.
본 발명의 경화막조성물로 형성된 배향재는 내용제성 및 내열성을 가지므로, 이 배향재 상에, 수직배향성을 갖는 중합성 액정용액 등의 위상차재료를 도포하고, 배향재 상에서 배향시킬 수 있다. 그리고, 배향상태가 된 위상차재료를 300~400nm의 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 광학이방성을 갖는 층으로서 위상차재를 형성할 수 있다. 그리고, 배향재를 형성하는 기판이 필름인 경우에는, 위상차필름으로서 유용해진다.
Since the alignment material formed from the cured film composition of the present invention has solvent resistance and heat resistance, a phase difference material such as a polymerizable liquid crystal solution having vertical orientation can be coated on the alignment material and aligned on the alignment material. The phase difference material can be formed as a layer having optically anisotropic properties by irradiating ultraviolet rays of 300 to 400 nm and curing the phase difference material in the aligned state. When the substrate on which the alignment material is formed is a film, it is useful as a retardation film.
또한, 상기와 같이 하여 형성된, 본 발명의 배향재를 갖는 2매의 기판을 이용하고, 스페이서를 통해 양 기판 상의 배향재가 서로 대향하도록 맞붙인 후, 이들 기판 사이에 액정을 주입하여, 액정이 배향된 액정표시소자로 할 수도 있다.Further, two substrates having the alignment material of the present invention formed as described above are used, and the alignment materials on the two substrates face each other through the spacer, liquid crystal is injected between these substrates, May be used as the liquid crystal display element.
이와 같이 본 발명의 경화막 형성 조성물은, 각종 위상차재(위상차필름)나 액정표시소자 등의 제조에 호적하게 이용할 수 있다.
Thus, the cured film-forming composition of the present invention can be suitably used for the production of various retardation films (phase difference films) and liquid crystal display devices.
실시예Example
이하, 예를 들어, 본 발명을 더욱 상세하게 설명하나, 본 발명은 이들 실시예로 한정되지 않는다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of example, but the present invention is not limited to these examples.
[실시예에서 이용하는 약기호][Abbreviation used in the examples]
이하의 실시예에서 이용하는 약기호의 의미는, 다음과 같다.
The meanings of the weak symbols used in the following examples are as follows.
<(A)성분의 수직배향 폴리머 및 (B)성분의 가교제(폴리머) 원료><Cross-linking agent (polymer) raw material of the vertically oriented polymer of component (A) and component (B)
jER-1001: Mitsubishi Chemical Corporation제 비스페놀A형 에폭시 수지 분자량 900jER-1001: bisphenol A type epoxy resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation molecular weight 900
jER-1055: Mitsubishi Chemical Corporation제 비스페놀A형 에폭시 수지 분자량 1,600jER-1055: Bisphenol A type epoxy resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation Molecular weight 1,600
jER-157S70: Mitsubishi Chemical Corporation제 에폭시화비스페놀A노볼락 수지jER-157S70: epoxidized bisphenol A novolak resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
ECN-1299: Asahi Kasei Corporation제 크레졸노볼락 수지ECN-1299: Asahi Kasei Corporation Cresol novolac resin
EHPE-3150: Daicel Corporation제 트리메틸올프로판의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물EHPE-3150: 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of trimethylolpropane manufactured by Daicel Corporation
LAUA: 라우르산LAUA: Lauric acid
5CCA: 4’-펜틸-(1,1’-비시클로헥산)-4-카르본산5CCA: 4'-Pentyl- (1,1'-bicyclohexane) -4-carboxylic acid
BMAA: N-부톡시메틸아크릴아미드BMAA: N-butoxymethyl acrylamide
BTEAC: 벤질트리에틸암모늄클로라이드BTEAC: Benzyltriethylammonium chloride
AIBN: α,α’-아조비스이소부티로니트릴
AIBN: α, α'-azobisisobutyronitrile
<(B)성분: 가교제>≪ Component (B): Crosslinking agent >
CYM303: 헥사메톡시메틸멜라민
CYM303: hexamethoxymethyl melamine
<(C)성분: 산촉매>≪ Component (C): acid catalyst >
PTSA: p-톨루엔설폰산·일수화물
PTSA: p-toluenesulfonic acid monohydrate
<용제><Solvent>
PM: 프로필렌글리콜모노메틸에테르PM: Propylene glycol monomethyl ether
MIBK: 이소부틸메틸케톤
MIBK: isobutyl methyl ketone
이하의 합성예에 따라 얻어진 아크릴 공중합체의 수평균분자량 및 중량평균분자량은, JASCO Corporation제 GPC장치(Shodex(등록상표) 컬럼 KF803L 및 KF804L)를 이용하고, 용출용매 테트라하이드로퓨란을 유량 1mL/분으로 컬럼 중에(컬럼온도 40℃) 흘려 용리시킨다는 조건으로 측정하였다. 한편, 하기의 수평균분자량(이하, Mn이라 함) 및 중량평균분자량(이하, Mw라 함)은, 폴리스티렌 환산값으로 나타내었다.
The number-average molecular weight and the weight-average molecular weight of the acrylic copolymer obtained according to the following Synthesis Examples were measured using a GPC apparatus (Shodex (registered trademark) columns KF803L and KF804L) manufactured by JASCO Corporation and eluting solvent tetrahydrofuran at a flow rate of 1 mL / min (Column temperature: 40 占 폚) and eluted. On the other hand, the following number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) are expressed as polystyrene conversion values.
<합성예 1>≪ Synthesis Example 1 &
jER-1001 50.0g, LAUA 6.25g, BTEAC 0.14g을 PM 131.58g에 용해하고, 110℃에서 16시간 반응시킴으로써 수직배향 폴리머(고형분농도 30질량%)(P1)를 얻었다. 얻어진 수직배향 폴리머의 에폭시가를 측정하여, LAUA가 모두 반응한 만큼 에폭시기가 소실된 것을 확인하였다.50.0 g of jER-1001, 6.25 g of LAUA and 0.14 g of BTEAC were dissolved in 131.58 g of PM and reacted at 110 DEG C for 16 hours to obtain a vertically oriented polymer (solid content concentration 30 mass%) (P1). The epoxy value of the obtained vertically oriented polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group disappeared as the LAUA all reacted.
<합성예 2>≪ Synthesis Example 2 &
jER-1055 50.0g, LAUA 3.54g, BTEAC 0.079g을 PM 125.0g에 용해하고, 110℃에서 16시간 반응시킴으로써 수직배향 폴리머(고형분농도 30질량%)(P2)를 얻었다. 얻어진 수직배향 폴리머의 에폭시가를 측정하여, LAUA가 모두 반응한 만큼 에폭시기가 소실된 것을 확인하였다.50.0 g of jER-1055, 3.54 g of LAUA and 0.079 g of BTEAC were dissolved in 125.0 g of PM and reacted at 110 占 폚 for 16 hours to obtain a vertically oriented polymer (solid content concentration 30 mass%) (P2). The epoxy value of the obtained vertically oriented polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group disappeared as the LAUA all reacted.
<합성예 3>≪ Synthesis Example 3 &
jER-157S70 50.0g, LAUA 14.3g, BTEAC 0.33g을 PM 150.8g에 용해하고, 110℃에서 16시간 반응시킴으로써 수직배향 폴리머(고형분농도 30질량%)(P3)를 얻었다. 얻어진 수직배향 폴리머의 에폭시가를 측정하여, LAUA가 모두 반응한 만큼 에폭시기가 소실된 것을 확인하였다.50.0 g of jER-157S70, 14.3 g of LAUA and 0.33 g of BTEAC were dissolved in 150.8 g of PM and reacted at 110 DEG C for 16 hours to obtain a vertically oriented polymer (solid concentration 30% by mass) (P3). The epoxy value of the obtained vertically oriented polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group disappeared as the LAUA all reacted.
<합성예 4>≪ Synthesis Example 4 &
ECN-1299 50.0g, LAUA 14.0g, BTEAC 0.32g을 PM 150.2g에 용해하고, 110℃에서 16시간 반응시킴으로써 수직배향 폴리머(고형분농도 30질량%)(P4)를 얻었다. 얻어진 수직배향 폴리머의 에폭시가를 측정하여, LAUA가 모두 반응한 만큼 에폭시기가 소실된 것을 확인하였다.50.0 g of ECN-1299, 14.0 g of LAUA and 0.32 g of BTEAC were dissolved in 150.2 g of PM and reacted at 110 占 폚 for 16 hours to obtain a vertically oriented polymer (solid concentration 30% by mass) (P4). The epoxy value of the obtained vertically oriented polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group disappeared as the LAUA all reacted.
<합성예 5>≪ Synthesis Example 5 &
EHPE-3150 50.0g, LAUA 5.59g, BTEAC 0.036g을 PM 129.8g에 용해하고, 110℃에서 16시간 반응시킴으로써 수직배향 폴리머(고형분농도 30질량%)(P5)를 얻었다. 얻어진 수직배향 폴리머의 에폭시가를 측정하여, LAUA가 모두 반응한 만큼 에폭시기가 소실된 것을 확인하였다.
50.0 g of EHPE-3150, 5.59 g of LAUA and 0.036 g of BTEAC were dissolved in 129.8 g of PM and reacted at 110 占 폚 for 16 hours to obtain a vertically oriented polymer (solid content concentration 30 mass%) (P5). The epoxy value of the obtained vertically oriented polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group disappeared as the LAUA all reacted.
<합성예 6>≪ Synthesis Example 6 &
BMAA 25.0g, 중합촉매로서 AIBN 1.04g을 PM 48.4g에 용해하고, 85℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체용액(고형분농도 35질량%)(P6)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 4,800, Mw는 3,100이었다.25.0 g of BMAA and 1.04 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 48.4 g of PM and reacted at 85 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solid content concentration: 35 mass%) (P6). The obtained acrylic copolymer had Mn of 4,800 and Mw of 3,100.
<합성예 7>≪ Synthesis Example 7 &
EHPE-3150 50.0g, 5CCA 24.4g, BTEAC 0.49g을 PM 174.7g에 용해하고, 110℃에서 16시간 반응시킴으로써 수직배향 폴리머(고형분농도 30질량%)(P7)를 얻었다. 얻어진 수직배향 폴리머의 에폭시가를 측정하여, 5CCA가 모두 반응한 만큼 에폭시기가 소실된 것을 확인하였다.
50.0 g of EHPE-3150, 24.4 g of 5CCA and 0.49 g of BTEAC were dissolved in 174.7 g of PM and reacted at 110 DEG C for 16 hours to obtain a vertically oriented polymer (solid concentration 30% by mass) (P7). The epoxy value of the obtained vertically oriented polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group disappeared as the 5CCA all reacted.
<실시예 1~7, 비교예 1,2>≪ Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 and 2 >
표 1에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 7, 그리고 비교예 1 및 2의 각 경화막 형성 조성물을 조제하고, 각각에 대하여 수직배향성의 평가를 행하였다.
Each of the cured film forming compositions of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 was prepared with the composition shown in Table 1, and the vertical alignability was evaluated for each of them.
[표 1][Table 1]
[수직배향성의 평가][Evaluation of vertical orientation]
실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물을, 무알칼리유리 상에 스핀코터를 이용하여 2000회전 30초로 도포하였다. 동일하게 실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물을, PET필름 상에 바코터를 이용하여 Wet막두께 4㎛로 도포하였다. 그 후, 각각 온도 100℃에서 60초간, 열순환식 오븐 중에서 가열건조를 행하여, 유리 상 및 PET필름 상에 각각 경화막을 형성하였다.Each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples was coated on alkali-free glass at 2000 rotations for 30 seconds using a spin coater. Similarly, each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples was applied on a PET film with a wet film thickness of 4 占 퐉 using a bar coater. Thereafter, they were heated and dried in a thermo-circulating oven at a temperature of 100 DEG C for 60 seconds to form a cured film on the glass and PET film, respectively.
이 경화막 상에, Merck KGaA제의 수직배향용 중합성 액정용액 RMS03-015를, 바코터를 이용하여 Wet막두께 6㎛로 도포하고, 실온 23℃에서 60초간 방치하였다. 이 기판 상의 도막을 300mJ/㎠로 노광하여, 위상차재를 제작하였다. 한편, 유리 상 및 PET필름 상에 상기 중합성 액정용액을 직접도포(경화막 형성 조성물에 의한 경화막 형성없음)하고, 동일한 순서로 제작한 위상차재를 비교예 3으로 하였다.On this cured film, a polymerizable liquid crystal solution for homeotropic alignment RMS03-015 made by Merck KGaA was applied by a bar coater to a wet film thickness of 6 占 퐉 and left at a room temperature of 23 占 폚 for 60 seconds. The coating film on the substrate was exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation film. On the other hand, the polymerizable liquid crystal solution was directly applied onto the glass and PET film (no cured film was formed by the cured film-forming composition), and the retardation produced in the same procedure was set as Comparative Example 3. [
제작한 이들 위상차재를, Otsuka Electronics Co., Ltd.제 위상차 측정장치RETS100을 이용하여 면내위상차의 입사각도 의존성을 측정하였다. 입사각도 0도에서의 면내위상차값이 0, 입사각도±50도에서의 면내위상차가 38±5nm인 범위에 있는 것을 수직배향하고 있다고 판단하였다.The produced retardation material was measured for the incident angle dependency of the in-plane retardation using RETS100, a phase difference measuring apparatus manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. The in-plane retardation value at 0 degree and the in-plane retardation at the incident angle of +/- 50 degrees in the range of 38 +/- 5 nm were determined to be vertically aligned.
얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
The obtained results are shown in Table 2.
[액정도포성의 평가][Evaluation of Liquid Crystalline Coating]
실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물을, PET필름 상에 바코터를 이용하여 Wet막두께 4㎛로 도포하였다. 그 후, 온도 100℃에서 60초간, 열순환식 오븐 중에서 가열건조를 행하여, PET필름 상에 경화막을 형성하였다.Each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples was applied to a PET film with a wet film thickness of 4 占 퐉 using a bar coater. Thereafter, heating and drying were carried out in a thermocycling oven at a temperature of 100 DEG C for 60 seconds to form a cured film on the PET film.
이 경화막 상에, Merck KGaA제의 수직배향용 중합성 액정용액 RMS03-015를, 바코터를 이용하여 Wet막두께 6㎛로 도포하고, 실온 23℃에서 60초간 방치하였다. 이 기판 상의 도막을 300mJ/㎠로 노광하여, 위상차재를 제작하였다. 한편, PET필름 상에 상기 중합성 액정용액을 직접도포(경화막 형성 조성물에 의한 경화막 형성없음)하고, 동일한 순서로 제작한 위상차재를 비교예 3으로 하였다.On this cured film, a polymerizable liquid crystal solution for homeotropic alignment RMS03-015 made by Merck KGaA was applied by a bar coater to a wet film thickness of 6 占 퐉 and left at a room temperature of 23 占 폚 for 60 seconds. The coating film on the substrate was exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation film. On the other hand, the polymerizable liquid crystal solution was applied directly onto the PET film (no cured film was formed by the cured film forming composition), and the retardation film produced in the same procedure was regarded as Comparative Example 3.
이 위상차재를 육안으로 관찰하여, 액정의 튕김에 의한 핀홀이 발생하지 않은 것을 액정도포성이 양호하다고 판단하였다.This retardation material was visually observed, and it was judged that the liquid crystal fogging was good when pinholes were not generated due to the liquid crystal bouncing.
얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
The obtained results are shown in Table 2.
[표 2][Table 2]
표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 7의 경화막 형성 조성물로부터 얻은 경화막을 배향재로서 이용한 위상차재는, 사용한 기재에 관계없이, 모두 양호한 수직배향성을 나타내었으며, 액정의 도포성 또한 양호하였다.
As shown in Table 2, all of the retardation materials using the cured film obtained from the cured film-forming composition of Examples 1 to 7 as an alignment material exhibited good vertical alignability regardless of the substrate used, and the liquid crystal application properties were also good.
한편, 가교제(B) 및 산촉매(C)를 모두 포함하고 있지 않은 비교예 1의 경화막 형성 조성물로부터 얻은 경화막을 배향제로서 이용한 위상차재, 그리고, 수직배향성기를 포함하지 않은 성분(A)을 사용한 비교예 2의 경화막 형성 조성물로부터 얻은 경화막을 배향재로서 이용한 위상차재는, 수직배향성이 얻어지지 않았다.On the other hand, a retardation film using a cured film obtained from the cured film-forming composition of Comparative Example 1 which did not contain both the crosslinking agent (B) and the acid catalyst (C) as an aligning agent, The phase difference material using the cured film obtained from the cured film-forming composition of Comparative Example 2 as an alignment material did not have vertical alignment property.
또한, 경화막을 형성하지 않고 얻은 비교예 3의 위상차재는, 유리 상에서는 수직배향성을 나타내었지만 PET 상에서는 수직배향성을 나타내지 않았다.
In addition, the retardation of Comparative Example 3 obtained without forming a cured film showed vertical alignment in the glass phase, but no vertical orientation in the PET.
산업상 이용가능성Industrial availability
본 발명에 따른 경화막 형성 조성물은, 액정표시소자의 액정배향막이나, 액정표시소자에 내부나 외부에 마련되는 광학이방성 필름을 형성하기 위한 배향재를 형성하는 재료로서 매우 유용하며, 특히, IPS-LCD의 광학보상필름용 재료로서 호적하다.The cured film forming composition according to the present invention is very useful as a material for forming an alignment material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element or an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element, As a material for an optical compensation film of an LCD.
Claims (8)
(B)가교제 및 (C)산촉매로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물
을 함유하는 경화막 형성 조성물로서,
상기 수직배향성기는 하기 식(1)로 표시되는 기인 것을 특징으로 하는, 경화막 형성 조성물.
[화학식 1]
(식[1] 중,
Y1은 단결합을 나타내고,
Y2는 단결합 또는 탄소원자수 1~15의 알킬렌기를 나타내거나, 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기를 나타내고, 상기 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있고,
Y3은 단결합 또는 탄소원자수 1~15의 알킬렌기를 나타내고,
Y4는 단결합을 나타내거나, 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기, 또는 탄소원자수 17~30으로서 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기를 나타내고, 상기 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있고,
Y5는 벤젠환, 시클로헥산환 또는 복소환으로부터 선택되는 2가의 환상기를 나타내고, 이들 환상기 상의 임의의 수소원자가, 탄소원자수 1~3의 알킬기, 탄소원자수 1~3의 알콕실기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~3의 불소함유알콕실기 또는 불소원자로 치환되어 있을 수도 있고,
n은 0~4의 정수를 나타내고, n이 2 이상인 경우, Y5끼리는 동일할 수도 상이할 수도 있고,
Y6은 수소원자, 탄소원자수 1~18알킬기, 탄소원자수 1~18의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~18의 알콕실기 또는 탄소원자수 1~18의 불소함유알콕실기를 나타내고,
Y2 및 Y3으로서의 알킬렌기, 그리고, 환상기 상의 치환기 또는 Y6으로서의 알킬기, 불소함유알킬기, 알콕실기 및 불소함유알콕시기는, 직쇄상, 분지상, 또는 환상 중 어느 하나 또는 이들의 조합일 수도 있고,
또한 Y2 및 Y3으로서의 알킬렌기, 그리고, Y6으로서의 알킬기, 불소함유알킬기, 알콕실기 및 불소함유알콕시기는, 결합기끼리 서로 이웃하지 않는 한 1 내지 3의 결합기로 중단되어 있을 수도 있고,
또한 Y2, Y4 또는 Y5가 2가의 환상기를 나타내거나, Y4가 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기를 나타내거나, Y2 또는 Y3이 알킬렌기를 나타내거나, 혹은 Y6이 알킬기 또는 불소함유알킬기를 나타낼 때, 이 2가의 환상기, 이 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기, 이 알킬렌기, 이 알킬기 및 이 불소함유알킬기는, 이것들에 인접하는 기와 결합기를 통해 결합하고 있을 수도 있고,
그리고 상기 결합기는, -O-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO-O-, -O-CO-NH- 및 -NH-CO-NH-로 이루어진 군으로부터 선택되는 기를 나타내고,
단, Y2 내지 Y6이 각각 나타내는 바의 탄소원자수 1~15의 알킬렌기, 벤젠환, 시클로헥산환, 복소환, 스테로이드 골격을 갖는 2가의 유기기, 탄소원자수 1~18의 알킬기, 탄소원자수 1~18의 불소함유알킬기, 탄소원자수 1~18의 알콕실기 및 탄소원자수 1~18의 불소함유알콕실기의 탄소원자수의 합계는 6~30이다).
(A) a polymer obtained by reacting a carboxyl group of a compound having a carboxyl group and a vertically orienting group with an epoxy group of a polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal, and
(B) a crosslinking agent and (C) an acid catalyst.
Forming composition,
Wherein the vertically oriented group is a group represented by the following formula (1).
[Chemical Formula 1]
(In the formula [1]
Y 1 represents a single bond,
Y 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, or represents a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring and a heterocycle, and any hydrogen atom on the cyclic group may have 1 to 3 carbon atoms An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluoro-containing alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms,
Y 3 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms,
Y 4 represents a single bond or a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring or a heterocycle, or a divalent organic group having a steroid skeleton having 17 to 30 carbon atoms, and any hydrogen on the cyclic group An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorinated alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms or a fluorine atom,
Y 5 represents a divalent cyclic group selected from a benzene ring, a cyclohexane ring or a heterocycle, and any hydrogen atom on the cyclic group may be substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, A fluorine-containing alkyl group of 1 to 3 carbon atoms, a fluorine-containing alkoxyl group of 1 to 3 carbon atoms, or a fluorine-
n represents an integer of 0 to 4, and when n is 2 or more, Y 5 s may be the same or different,
Y 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a fluorinated alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms,
The alkylene group as Y 2 and Y 3 and the substituent on the cyclic group or the alkyl group as Y 6 , the fluorine-containing alkyl group, the alkoxyl group and the fluorine-containing alkoxy group may be any of linear, branched or cyclic, However,
The alkylene group as Y 2 and Y 3 and the alkyl group, fluorine-containing alkyl group, alkoxyl group and fluorine-containing alkoxy group as Y 6 may be interrupted by 1 to 3 bonding groups unless the bonding groups are adjacent to each other,
In addition, Y 2, Y 4 or Y 5 is shown a divalent cyclic or, Y 4 is shown a divalent organic group having a steroid skeleton or, Y 2 or Y 3 is or represents an alkylene group, or Y 6 is an alkyl group or fluorine Containing alkyl group, the divalent organic group having a steroid skeleton, the alkylene group, the alkyl group and the fluorine-containing alkyl group may be bonded to a group adjacent thereto via a bonding group,
And the coupler is selected from the group consisting of -O-, -CH 2 O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO- And -NH-CO-NH-,
Stage, Y 2 to Y 6 are each carbon atoms of the indicating bar 1 to 15 alkyl group, a benzene ring, a cyclohexane ring, a heterocyclic ring, a divalent having a steroid skeleton organic group, carbon atom number of 1 to 18 alkyl group, a carbon atom number of The total number of carbon atoms of the fluorine-containing alkyl group of 1 to 18, the alkoxyl group of 1 to 18 carbon atoms, and the fluoro-containing alkoxyl group of 1 to 18 carbon atoms is 6 to 30).
상기 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머가, 주쇄에 환구조를 갖는 수평균분자량 300 내지 20,000의 폴리머인, 경화막 형성 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer having at least one epoxy group in the side chain or the terminal is a polymer having a ring structure in the main chain and a number average molecular weight of 300 to 20,000.
상기 에폭시기를 측쇄 또는 말단에 1개 이상 갖는 폴리머가, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지 및 폴리올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 1종의 폴리머인, 경화막 형성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the polymer having at least one epoxy group in the side chain or terminal is selected from the group consisting of a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, a phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a bisphenol A novolak type epoxy resin, , And 2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct.
(B)성분의 가교제가 메틸올기 또는 알콕시메틸기를 갖는 가교제인, 경화막 형성 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the crosslinking agent of the component (B) is a crosslinking agent having a methylol group or an alkoxymethyl group.
(A)성분 100질량부에 기초하여, 1질량부~100질량부의 (B)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
(B) is contained in an amount of 1 part by mass to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).
(A)성분 100질량부에 기초하여, 0.01질량부~20질량부의 (C)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
(C) component in an amount of 0.01 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).
An alignment material obtained by curing the cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 6.
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018155581A1 (en) * | 2017-02-22 | 2018-08-30 | 日産化学株式会社 | Cured film-forming composition, alignment material, and phase difference material |
WO2024070691A1 (en) * | 2022-09-28 | 2024-04-04 | 富士フイルム株式会社 | Laminate, image display device, optical device, and head-mounted display |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02256023A (en) | 1988-11-04 | 1990-10-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Liquid crystal display device |
JPH11133408A (en) | 1997-10-24 | 1999-05-21 | Nec Corp | Horizontal electric field type liquid crystal display device |
JP2001281669A (en) | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Liquid crystal alignment layer, its manufacturing method and liquid crystal display device and its manufacturing method |
JP2002333717A (en) * | 2001-05-07 | 2002-11-22 | Nissan Chem Ind Ltd | Antireflection film forming composition for lithography |
JP2009122715A (en) | 2003-10-22 | 2009-06-04 | Lg Chem Ltd | Ips liquid crystal display comprising compensation film for angular field of view using positive a-plate and positve c-plate |
JP2012037868A (en) * | 2010-07-15 | 2012-02-23 | Jsr Corp | Liquid crystal aligning agent for retardation film, liquid crystal alignment layer for retardation film, retardation film and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5693691A (en) * | 1995-08-21 | 1997-12-02 | Brewer Science, Inc. | Thermosetting anti-reflective coatings compositions |
JP4458306B2 (en) * | 2007-08-21 | 2010-04-28 | Jsr株式会社 | Liquid crystal aligning agent, method for producing liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element |
JP5233526B2 (en) * | 2008-09-05 | 2013-07-10 | 東レ株式会社 | Photosensitive composition, cured film formed therefrom, and device having cured film |
JP5454772B2 (en) * | 2008-11-17 | 2014-03-26 | Jsr株式会社 | Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, method for forming the same, and liquid crystal display element |
CN103068928B (en) * | 2010-08-11 | 2015-11-25 | 日产化学工业株式会社 | Resin combination, liquid crystal aligning material and phase differential material |
CN107463066B (en) * | 2011-10-11 | 2020-10-30 | 日产化学工业株式会社 | Cured film-forming composition, alignment material, and phase difference material |
-
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- 2014-08-29 TW TW103129881A patent/TWI653285B/en active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02256023A (en) | 1988-11-04 | 1990-10-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Liquid crystal display device |
JPH11133408A (en) | 1997-10-24 | 1999-05-21 | Nec Corp | Horizontal electric field type liquid crystal display device |
JP2001281669A (en) | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Liquid crystal alignment layer, its manufacturing method and liquid crystal display device and its manufacturing method |
JP2002333717A (en) * | 2001-05-07 | 2002-11-22 | Nissan Chem Ind Ltd | Antireflection film forming composition for lithography |
JP2009122715A (en) | 2003-10-22 | 2009-06-04 | Lg Chem Ltd | Ips liquid crystal display comprising compensation film for angular field of view using positive a-plate and positve c-plate |
JP2012037868A (en) * | 2010-07-15 | 2012-02-23 | Jsr Corp | Liquid crystal aligning agent for retardation film, liquid crystal alignment layer for retardation film, retardation film and method for manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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