KR20160052262A - 가변 조리개 - Google Patents

가변 조리개 Download PDF

Info

Publication number
KR20160052262A
KR20160052262A KR1020140152361A KR20140152361A KR20160052262A KR 20160052262 A KR20160052262 A KR 20160052262A KR 1020140152361 A KR1020140152361 A KR 1020140152361A KR 20140152361 A KR20140152361 A KR 20140152361A KR 20160052262 A KR20160052262 A KR 20160052262A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnetic fluid
opaque magnetic
layer
space
opaque
Prior art date
Application number
KR1020140152361A
Other languages
English (en)
Inventor
정상국
서희원
홍성진
Original Assignee
명지대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 명지대학교 산학협력단 filed Critical 명지대학교 산학협력단
Priority to KR1020140152361A priority Critical patent/KR20160052262A/ko
Publication of KR20160052262A publication Critical patent/KR20160052262A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B7/00—Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
    • G03B7/08—Control effected solely on the basis of the response, to the intensity of the light received by the camera, of a built-in light-sensitive device
    • G03B7/081—Analogue circuits
    • G03B7/085—Analogue circuits for control of aperture
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
    • G03B9/02—Diaphragms
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
    • G03B9/02—Diaphragms
    • G03B9/06—Two or more co-operating pivoted blades, e.g. iris type
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
    • G03B9/02—Diaphragms
    • G03B9/07—Diaphragms with means for presetting the diaphragm
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B2207/00—Control of exposure by setting shutters, diaphragms, or filters separately or conjointly
    • G03B2207/005—Control of exposure by setting shutters, diaphragms, or filters separately or conjointly involving control of motion blur

Abstract

가변 조리개가 제공된다. 본 발명에 일 실시예에 따른 가변 조리개(variable aperture)는 불투명 자성 유체(ferrofluid), 상기 불투명 자성 유체가 이동하는 공간을 형성하는 소자 레이어(substrate layer) 및 상기 소자 레이어의 외측에 위치하며, 전류가 인가되면 상기 인가된 전류의 세기에 대응하는 전자기력을 발생시키는 전자기 코일(electromagnetic coil)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

가변 조리개{VARIABLE APERTURE}
본 발명은 가변 조리개에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 전기장으로 구동되는 가변 유체 조리개에 관한 것이다.
최근 스마트 폰 및 패드와 같은 휴대용 기기(mobile device)에 장착되는 카메라의 성능을 향상시키기 위해 새로운 광학 장치의 개발이 중요해지고 있다.
특히, 광학에서 조리개는 빛의 양을 조절하여 물체의 초점이 선명하게 포착되는 영역(depth of field)을 설정하는 중요한 역할을 한다.
이러한 조리개를 구현하는 방식으로는 막의 수축(membrane tension)을 이용한 방식, 유전체의 힘(dielectric force)을 이용한 방식 그리고 전기 습윤(electrowetting)을 이용한 방식이 있다.
그러나, 막의 수축을 이용한 조리개의 경우, 공기 압력에 의해 받는 스트레스로 인해 막(membrane)의 수명이 짧은 문제점이 있다.
또한, 유전체의 힘(dielectric force)을 이용한 조리개의 경우, 각 단계별로 유체가 유입되기까지 걸리는 시간이 길어 구동 속도가 매우 느리다는 문제점이 있다.
또한, 전기 습윤(lectrowetting)을 이용한 조리개의 경우, 물과 전극 사이에 전압을 인가해주면서 조리개 구경의 경계선이 흐려지는 문제점이 있다.
본 발명은 전술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로 전기장으로 구동되는 가변 유체 조리개를 제공하고자 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 조리개(variable aperture)는 불투명 자성 유체(ferrofluid), 상기 불투명 자성 유체가 이동하는 공간을 형성하는 소자 레이어(substrate layer) 및 상기 소자 레이어의 외측에 위치하며, 전류가 인가되면 상기 인가된 전류의 세기에 대응하는 전자기력을 발생시키는 전자기 코일(electromagnetic coil)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 다른 실시예에 따른 가변 조리개(variable aperture)는 불투명 자성 유체(ferrofluid), 상기 불투명 자성 유체가 이동하는 공간을 형성하는 소자 레이어(substrate layer), 상기 공간의 일측에 형성된 유전체 레이어(dielectric layer) 및 상기 유전체 레이어에 형성되며, 전류가 인가되면 상기 인가된 전류의 세기에 대응하는 전자기력을 발생시키는 전극 코일(electrode coil)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 간단한 공정 및 제작으로 가변 조리개를 구현할 수 있다.
또한, 종래의 조리개에 비하여 제작 및 구동이 단순하다.
또한, 소형 광학 장치에 필요한 초소형 조리개 제작이 가능하므로 다양한 단말, 장치에 적용할 수 있다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 조리개의 개념을 설명하기 위한 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 조리개를 도시한 도면이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가변 조리개를 도시한 도면이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다.
그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다.
또한 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 유체 조리개의 개념을 설명하기 위한 도면이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가변 유체 조리개(100)는 불투명 자성 유체(ferrofluid)(110), 소자 레이어(substrate layer)(120), 소수성 레이어(hydrophobic layer) 또는 친수성 레이어(hydrophilicity layer)(130) 및 전자기 코일(electromagnetic coil)(140)을 포함할 수 있다.
전자기 코일(140)에 전류가 인가되면, 소자 레이어(120)에 의해 형성된 공간(120a)에 수용된 불투명 자성 유체(110)는 도 1에 도시된 바와 같이, 전류의 세기에 비례하는 전자기력에 의해 전자기 코일(140)의 중심부, 즉, 공간(120a)의 중심부로 이동하게 된다.
여기서 불투명 자성 유체(110)는 수용성 기반이거나 지용성 기반일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가변 유체 조리개(100)는 이러한 원리를 이용하여 조리개의 역할을 하는 불투명 자성 유체(110)의 개폐 크기를 제어할 수 있으며, 종래의 막의 수축(membrane tension)을 이용한 조리개, 유전체의 힘(dielectric force)을 이용한 조리개 그리고 전기 습윤(electrowetting)을 이용한 조리개에 비해 구동이 단순하고, 간단한 공정 및 제작으로 조리개를 구현할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 가변 유체 조리개는 정전류 방식(도 2a 및 도 2b)과 패턴된 전극을 이용한 방식(도 3a 및 도 3b)이 있으며, 각 방식의 조리개에 대해서는 이하 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
참고로, 패턴된 전극을 이용한 방식(도 3a 및 도 3b)에서 ‘패턴된 전극’은 도 1의 전자기 코일(140)이 생략된 상태에서 소자 레이어(120) 상에 형성될 수 있다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 유체 조리개를 도시한 도면이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 유체 조리개의 상면도이고, 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 유체 조리개의 단면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가변 유체 조리개(100)는 정전류 방식으로서 불투명 자성 유체(ferrofluid)(110), 소자 레이어(substrate layer)(120), 소수성 레이어(hydrophobic layer) 또는 친수성 레이어(hydrophilicity layer)(130) 및 전자기 코일(electromagnetic coil)(140)을 포함할 수 있다.
먼저, 불투명 자성 유체(110)는 수용성 기반이거나 지용성 기반으로서 가변 유체 조리개(100)에서 조리개의 역할을 담당하며, 소자 레이어(120)에 의해 형성되는 공간(120a)에 수용될 수 있다.
이때, 불투명 자성 유체(110)는 공간(120a)의 안쪽 둘레(內周)면을 따라 링(ring) 형상으로 수용될 수 있다.
참고로 도 2a와 도 2b에 도시된 바와 같이, 불투명 자성 유체(110)가 ‘초기의 링 형상’을 유지하는데 필요한 임계 값 이하의 전류가 전자 코일(140)에 인가될 수 있으며, 임계치를 초과하는 전류가 전자 코일(140)에 인가되면 불투명 자성 유체(110)가 전자기력에 의해 이동함으로써 조리개의 역할을 할 수 있다.
물론, 전자 코일(140)에 전류가 인가되지 않은 상태에서도 도 2a와 도 2b에 도시된 바와 같이, 불투명 자성 유체(110)가 공간(120a) 내에서 ‘초기의 링 형상’을 유지할 수도 있다.
한편, 소자 레이어(120)는 도 2a 및 2b에 도시된 바와 같이, 불투명 자성 유체(110)가 전자기력에 의해 이동함으로써 조리개의 역할을 하는 공간(120a)을 형성할 수 있으며, 해당 공간(120a)에는 불투명 자성 유체(110) 및 공기와 같은 기체가 수용될 수 있다.
한편, 소수성 레이어 또는 친수성 레이어(130)는 소자 레이어(120)의 내측에 형성될 수 있으며, 도 2b에 도시된 바와 같이 불투명 자성 유체(110)와 직접적으로 접촉되는 부분이다.
만일, 불투명 자성 유체(110)가 수용성 기반인 경우 소수성 레이어가 사용되며, 불투명 자성 유체(110)가 지용성 기반인 경우 친수성 레이어가 사용될 수 있다.
즉, 소수성 레이어는 물과 같은 유체와 친화성이 낮기 때문에, 수용성 기반의 불투명 자성 유체(110)가 전자기력에 의해 공간(120a) 내에서 용이하게 이동할 수 있도록 하며, 친수성 레이어는 물과 같은 유체와 친화성이 높기 때문에, 지용성 기반의 불투명 자성 유체(110)가 전자기력에 의해 공간(120a) 내에서 용이하게 이동할 수 있도록 한다.
한편, 전자기 코일(140)은 도 2b에 도시된 바와 같이 소자 레이어(120)의 외측에 위치할 수 있으며, 조리개 중심부에 빛이 통과할 수 있도록 전자기 코일의 중심이 뚫려있는 중공축 형태일 수 있다.
또한, 전자기 코일(140)은 광학 장치의 렌즈를 통과하는 빛의 양을 조절하기 위해 전류가 인가되면, 인가된 전류의 세기에 대응하는 전자기력을 발생시킬 수 있다.
이때, 불투명 자성 유체(110)는 전자기 코일(140)에 의해 발생된 전자기력의 세기에 비례하여, 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이 공간(120a)의 중심부를 향하여 이동할 수 있으며, 이로써 조리개의 개폐 크기가 조절될 수 있다.
참고로, 공간(120a)의 중심부를 향하여 이동하는 불투명 자성 유체(110)의 형상은 공간(120a)의 중심부로부터 주변부로 갈수록 높이가 높아지는 부분을 포함할 수 있다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가변 유체 조리개를 도시한 도면이다.
도 3a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가변 유체 조리개의 개념을 설명하기 위한 도면이고, 도 3b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가변 유체 조리개의 상면도이며, 도 3c는 그의 단면도이다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 가변 유체 조리개(200)는 패턴된 전극을 이용한 방식으로서 불투명 자성 유체(ferrofluid)(210), 소자 레이어(substrate layer)(220), 유전체 레이어(dielectric layer)(230), 소수성 레이어(hydrophobic layer) 또는 친수성 레이어(hydrophilicity layer)(미도시) 및 패턴된 전극 코일(electrode coil)(240)을 포함할 수 있다.
먼저, 불투명 자성 유체(210)는 가변 유체 조리개(200)에서 조리개의 역할을 담당하며, 소자 레이어(220)에 의해 형성되는 공간(220a)에 수용될 수 있다.
이때, 불투명 자성 유체(210)는 공간(220a)의 안쪽 둘레(內周)면을 따라 링(ring) 형상으로 수용될 수 있다.
참고로, 불투명 자성 유체(210)는 수용성 기반이거나 지용성 기반일 수 있다.
한편, 소자 레이어(220)는 도 3b 및 3c에 도시된 바와 같이, 불투명 자성 유체(210)가 전자기력에 의해 이동함으로써 조리개의 역할을 하는 공간(220a)을 형성할 수 있으며, 해당 공간(220a)에는 불투명 자성 유체(210) 및 공기와 같은 기체가 수용될 수 있다.
한편, 유전체 레이어(230)는 도 3c에 도시된 바와 같이, 소자 레이어(220)에 의해 형성된 공간(220a)의 일측에 형성될 수 있으며, 여기에 전극 코일(electrode coil)(240)이 형성될 수 있다.
유전체 레이어(230)는 불투명 자성 유체(210)의 전기 분해를 방지하고, 전극 코일(electrode coil)과 불투명 자성 유체(110) 계면의 전기 이중층이 고전압을 견딜 수 있도록 한다.
참고로, 유전체 레이어(230)는 페럴린 C, 테프론 및 금속 산화막으로 구성된 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 물질을 포함할 수 있다.
한편, 소수성 레이어 또는 친수성 레이어(미도시)는 도 3c에 도시된 바와 같이, 소자 레이어(220)의 내측과 유전체 레이어(230)가 공간(220a)에 노출되는 면에 형성될 수 있으며, 불투명 자성 유체(210)가 전자기력에 의해 공간(220a) 내에서 용이하게 이동할 수 있도록 한다.
만일, 불투명 자성 유체(210)가 수용성 기반인 경우 소수성 레이어가 사용되며, 불투명 자성 유체(210)가 지용성 기반인 경우 친수성 레이어가 사용될 수 있다.
한편, 전극 코일(240)은 유전체 레이어(230)에 복수가 형성될 수 있으며, 광학 장치의 렌즈를 통과하는 빛의 양을 조절하기 위해 전류가 인가되면, 인가된 전류의 세기에 대응하는 전자기력을 발생시킬 수 있다.
여기서 복수의 전극 코일(240)은 도 3b및 도 3c에 도시된 바와 같이, 각각 나선형의 비아 패턴(via pattern)으로 형성되어 서로 겹치지 않도록 유전체 레이어(230)에 형성될 수 있다.
또한, 전극 코일(240)은 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide;ITO)를 사용한 투명 전극 코일일 수 있으며, 이외에도 AU/CR, AI 및 전도성 폴리머 등과 같은 금속으로 이루어질 수 있다.
또한, 전극 코일(240)은 조리개 중심부에 빛이 통과할 수 있도록 전자기 코일의 중심이 뚫려있는 중공축 형태일 수 있다.
복수의 전극 코일(240)에 전류가 인가되면, 불투명 자성 유체(210)은 전극 코일(240)에 의해 발생된 전자기력의 세기에 비례하여 도 3b및 도 3c에 도시된 바와 같이 공간(220a)의 중심부를 향하여 이동할 수 있다.
이때, 복수의 전극 코일(240)에 순차적으로 전류가 인가 시, 불투명 자성 유체(210)는 전류가 인가되는 전극 코일(240)까지 이동하게 되며, 이로써 조리개의 개폐 크기가 조절될 수 있다.
참고로, 공간(220a)의 중심부를 향하여 이동하는 불투명 자성 유체(110)의 형상은 도 3c에 도시된 바와 같이, 공간(220a)의 중심부로부터 주변부로 갈수록 높이가 높아지는 부분을 포함할 수 있다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100, 200 : 가변 유체 조리개
110, 210 : 불투명 자성 유체
120 : 220 : 소자 레이어
120a, 220a : 소자 레이어에 의해 형성되는 공간
130 : 소수성 레이어
140 : 전자기 코일
240 : 전극 코일

Claims (15)

  1. 가변 조리개(variable aperture)에 있어서,
    불투명 자성 유체(ferrofluid);
    상기 불투명 자성 유체가 이동하는 공간을 형성하는 소자 레이어(substrate layer); 및
    상기 소자 레이어의 외측에 위치하며, 전류가 인가되면 상기 인가된 전류의 세기에 대응하는 전자기력을 발생시키는 전자기 코일(electromagnetic coil)
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 불투명 자성 유체는,
    상기 소자 레이어에 의해 형성되는 공간의 안쪽 둘레(內周)면을 따라 링(ring) 형상으로 수용되는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 불투명 자성 유체는,
    상기 전자기 코일에 의해 발생된 전자기력의 세기에 비례하여 상기 소자 레이어에 의해 형성되는 공간의 중심부를 향하여 이동하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 중심부를 향하여 이동하는 불투명 자성 유체의 형상은 상기 소자 레이어에 의해 형성되는 공간의 중심부로부터 주변부로 갈수록 높이가 높아지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 소자 레이어의 내측으로 형성된 소수성 레이어(hydrophobic layer) 또는 친수성 레이어(hydrophilicity layer)
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 불투명 자성 유체는 수용성 기반 또는 지용성 기반이며,
    상기 불투명 자성 유체가 수용성 기반인 경우 상기 소수성 레이어가 사용되고, 상기 불투명 자성 유체가 지용성 기반인 경우 상기 친수성 레이어가 사용되는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  7. 가변 조리개(variable aperture)에 있어서,
    불투명 자성 유체(ferrofluid);
    상기 불투명 자성 유체가 이동하는 공간을 형성하는 소자 레이어(substrate layer);
    상기 공간의 일측에 형성된 유전체 레이어(dielectric layer); 및
    상기 유전체 레이어에 형성되며, 전류가 인가되면 상기 인가된 전류의 세기에 대응하는 전자기력을 발생시키는 전극 코일(electrode coil)
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 불투명 자성 유체는,
    상기 소자 레이어에 의해 형성되는 공간의 안쪽 둘레(內周)면을 따라 링(ring) 형상으로 수용되는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 불투명 자성 유체는,
    상기 전극 코일에 의해 발생된 전자기력의 세기에 비례하여 상기 소자 레이어에 의해 형성되는 공간의 중심부를 향하여 이동하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 전극 코일의 수는 복수이며, 상기 복수의 전극 코일에 순차적으로 전류가 인가 시, 상기 불투명 자성 유체는 상기 전류가 인가되는 전극 코일까지 이동하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 복수의 전극 코일은 각각 나선형의 비아 패턴(via pattern)으로 형성되어 서로 겹치지 않는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  12. 제 7 항에 있어서,
    상기 전극 코일은,
    ITO(Indium Tin Oxide)를 사용한 투명 전극 코일인 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  13. 제 7 항에 있어서,
    상기 소자 레이어의 내측과 상기 유전체 레이어(dielectric layer)가 상기 공간에 노출되는 면에 형성된 소수성 레이어(hydrophobic layer) 또는 친수성 레이어(hydrophilicity layer)
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 불투명 자성 유체는 수용성 기반 또는 지용성 기반이며,
    상기 불투명 자성 유체가 수용성 기반인 경우 상기 소수성 레이어가 사용되고, 상기 불투명 자성 유체가 지용성 기반인 경우 상기 친수성 레이어가 사용되는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
  15. 제 9 항에 있어서,
    상기 중심부를 향하여 이동하는 불투명 자성 유체의 형상은 상기 공간의 중심부로부터 주변부로 갈수록 높이가 높아지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 조리개.
KR1020140152361A 2014-11-04 2014-11-04 가변 조리개 KR20160052262A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140152361A KR20160052262A (ko) 2014-11-04 2014-11-04 가변 조리개

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140152361A KR20160052262A (ko) 2014-11-04 2014-11-04 가변 조리개

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160052262A true KR20160052262A (ko) 2016-05-12

Family

ID=56024777

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140152361A KR20160052262A (ko) 2014-11-04 2014-11-04 가변 조리개

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20160052262A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110998430A (zh) * 2017-08-10 2020-04-10 索尼公司 相机抖动校正装置
CN112368609A (zh) * 2018-08-03 2021-02-12 宁波舜宇光电信息有限公司 可变光圈装置、摄像模组及其应用

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110998430A (zh) * 2017-08-10 2020-04-10 索尼公司 相机抖动校正装置
CN110998430B (zh) * 2017-08-10 2022-02-22 索尼公司 相机抖动校正装置
CN112368609A (zh) * 2018-08-03 2021-02-12 宁波舜宇光电信息有限公司 可变光圈装置、摄像模组及其应用
CN112368609B (zh) * 2018-08-03 2022-06-21 宁波舜宇光电信息有限公司 可变光圈装置、摄像模组及其应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080252960A1 (en) Optical Element
JP4719736B2 (ja) エレクトロウェッティング現象に基づくマクロスイッチを有する集束レンズ
EP1756630B1 (en) Optical element using a magnetic fluid
US8797653B2 (en) Device and method for controlling curvature of lens surface
JP2009519480A (ja) 調節可能な液体光学絞り
CN102879899A (zh) 孔径调节器件、孔径调节方法及成像装置和图像显示装置
Park et al. Multifunctional liquid lens for variable focus and zoom
JP2010079097A (ja) 光学素子、撮像装置及び駆動方法
EP1769272A1 (en) Variable focus microlens
JP2007518129A (ja) ズーム光学系
WO2015052233A1 (en) Tunable lens
KR20160075085A (ko) 렌즈 조립체 및 이를 포함하는 카메라 모듈
KR102019098B1 (ko) 멤스 소자
US8861092B2 (en) Device and method for controlling curvature
KR20160052262A (ko) 가변 조리개
US20140192218A1 (en) Apparatus for adjusting aperture using microelectrofluidic method
KR20150098188A (ko) 가변 초점 반사 렌즈 및 이를 포함하는 영상 시스템
KR101637784B1 (ko) 유체 렌즈
US20210255370A1 (en) Liquid lenses and methods of manufacturing liquid lenses
US20070013990A1 (en) Miniature motor for optical device based on electrowetting
US10996432B2 (en) Reflective active variable lens and method of fabricating the same
Huang et al. Smartphone based focus-free macroscopy using an adaptive droplet lens
WO2005119306A1 (en) Optical element
KR102198578B1 (ko) 반사형 능동 가변 렌즈 및 그 제조 방법
TWI524133B (zh) 光圈裝置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
E801 Decision on dismissal of amendment
E601 Decision to refuse application