KR20160036273A - Circulation type apparatus for purifying air pollutant - Google Patents

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Abstract

A circulation type air treatment apparatus is for removing odor-causing materials in air exhausted through a plurality of exhaustion fans installed at a livestock shed. The circulation type air treatment apparatus comprises: exhaustion ducts mounted on each exhaustion fan outside the livestock shed, and providing a wet washing space at the front of the exhaustion fans; a wet spray nozzle disposed above the wet washing space to treat the air, which flows into the wet washing space, with a liquid; a plasma treatment unit disposed above the wet spray nozzle to treat the air, which is treated in the wet washing space, with plasma; a washing water tank for collecting the liquid, which is sprayed from the wet spray nozzle through an exhaustion pipe connected to the exhaustion ducts, below the wet washing space; and a liquid treatment unit for treating the liquid, which is accommodated in the washing water tank.

Description

순환형 대기처리장치{CIRCULATION TYPE APPARATUS FOR PURIFYING AIR POLLUTANT}[0001] CIRCULATION TYPE APPARATUS FOR PURIFYING AIR POLLUTANT [0002]

본 발명은 소나 돼지와 같은 가축을 키우는 축사의 악취원인물질을 제거할 수 있는 순환형 대기처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a circulating-type atmospheric treatment apparatus capable of removing odor-causing substances in a housing for growing livestock such as cattle or pigs.

축사 악취의 주 원인물질인 암모니아, 황화수소, 메르캅탄, 아민류 등은 낮은 농도에서도 불쾌감과 혐오감을 줄 수 있고, 주변 영업에 큰 피해를 줄 수 있다. Ammonia, hydrogen sulfide, mercaptans, amines, etc., which are the main cause of stench odor, can cause discomfort and disgust at low concentration and can cause great damage to the surrounding business.

종래 악취를 제거하기 위한 처리방식으로서는 산화, 흡착, 생물학적 분해, 및 플라즈마 분해법 등이 알려져 있다. 종래 악취처리방식 중 하나인 화학적 산화방법은 화학약품 산화제(이산화염소, 차아염소산소다, 이산화염소산염)를 이용하여 악취물질을 산화 및 분해시키는 방법으로서, 여러 종류의 악취가 효과적으로 제거될 수는 있으나 화학약품이 인간의 건강에 영향을 줄 수 있고 산화제 자체가 환경오염의 원인이 되는 문제점이 있다.Conventional methods for removing odors include oxidation, adsorption, biological decomposition, and plasma decomposition. The chemical oxidation method, which is one of the conventional methods for treating odors, is a method of oxidizing and decomposing odorous substances by using chemical oxidizing agents (chlorine dioxide, sodium hypochlorite, and chlorite dioxide), and various odors can be effectively removed, There is a problem that chemicals can affect human health and oxidizing agent itself causes environmental pollution.

또한, 종래 악취처리방식 중 다른 하나로서 대한민국 등록실용신안공보 20-2005-0033847(출원번호)에서 축사의 암모니아 가스 및 부탄 가스를 활성탄을 이용하여 제거하고 있다. 흡착방법은 활성탄과 같이 비표면적이 큰 흡착제를 이용하여 악취물질을 흡착시켜 제거하는 방법이다. 그러나, 흡착방법에서는 악취원인물질이 흡착제에 반영구적으로 흡착되므로 주기적으로 흡착제를 교체해주어야 하는 불편함이 있고, 이에 따라 유지 및 보수 비용이 증가한다. In addition, ammonia gas and butane gas in the housing are removed by using activated carbon as another one of the conventional odor treatment methods in Korean Registered Utility Model No. 20-2005-0033847 (application number). The adsorption method is a method of adsorbing odorous substances by using an adsorbent having a large specific surface area such as activated carbon. However, in the adsorption method, since the odor-causing substance is semi-permanently adsorbed to the adsorbent, it is inconvenient to periodically replace the adsorbent, thereby increasing maintenance and repair costs.

이와 같이 종래 대부분의 악취처리방식은 인간의 건강에 좋지 않은 영향을 주거나 유지관리비용이 증가하는 등의 여러 가지 문제점이 있다. As described above, most of the conventional malodor processing methods have various problems such as adverse effects on human health and increase in maintenance cost.

또한, 종래 악취처리방식에 의하면 악취의 제거 효율이 낮고, 설치가 되더라도 시설물 운영 및 관리가 어려워 실용성이 떨어지는 문제점이 있다. 특히, 축산 악취는 악취원인물질 농도가 높아 처리가 용이치 않다. In addition, according to the conventional malodor processing method, there is a problem that the removal efficiency of the malodor is low, and it is difficult to operate and manage the facility even if the malodor is installed. Especially, the odor of livestock is not suitable for treatment because the concentration of the substance causing odor is high.

본 발명은 축사의 배기가 원활하지 못하여 축사 내 가축의 집단 질식사를 방지할 수 있는 순환형 대기처리장치를 제공한다. The present invention provides a circulating type atmospheric treatment apparatus capable of preventing collective sucking of domestic animals in a housing due to inadequate ventilation of the housing.

본 발명은 각각의 배기 팬에서 배출되는 악취원인물질을 독립적으로 처리할 수 있는 순환형 대기처리장치를 제공한다. The present invention provides a circulating type atmospheric treatment apparatus capable of independently treating odor-causing substances discharged from each exhaust fan.

본 발명은 악취원인물질의 처리에 필요한 유지 관리 비용을 절감할 수 있는 순환형 대기처리장치를 제공한다.The present invention provides a circulating-type atmospheric treatment apparatus capable of reducing the maintenance cost required for treating odor-causing substances.

상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 축사에 설치된 복수개의 배기 팬을 통해서 배출되는 공기의 악취원인물질을 제거하기 위한 순환형 대기처리장치는, 축사 외측에서 각각의 배기 팬에 장착되며, 배기 팬 전방에 습식세척공간을 제공하고, 습식세척공간 상부로 연장되어 단부에 배출구를 갖는 배기 덕트; 습식세척공간 상부에서 배치되어 습식세척공간으로 유입되는 공기를 액체로 처리하는 습식 분무노즐; 습식 분무노즐 상부에 배치되어 습식세척공간에서 처리된 공기를 플라즈마로 처리하는 플라즈마 처리부; 배기 덕트에 연결되는 배출배관을 통해서 습식 분무노즐로부터 분사되는 액체를 습식세척공간 하부에서 회수하는 세척수 저수조; 및 세척수 저수조에 수용되는 액체를 처리하는 액체 처리부를 포함할 수 있다. According to a preferred embodiment of the present invention to achieve the objects of the present invention, a circulating-type atmospheric treatment apparatus for removing odor-causing substances from air exhausted through a plurality of exhaust fans installed in a housing, An exhaust duct mounted on the exhaust fan of the exhaust fan and providing a wet cleaning space in front of the exhaust fan and extending above the wet cleaning space and having an outlet at an end thereof; A wet atomizing nozzle disposed above the wet cleaning space to treat the air entering the wet cleaning space as a liquid; A plasma processing unit disposed above the wet atomizing nozzle and treating the air treated in the wet cleaning space with plasma; A washing water storage tank for collecting liquid sprayed from the wet spray nozzle through a discharge pipe connected to the exhaust duct in the lower part of the wet washing space; And a liquid treatment section for treating the liquid contained in the wash water reservoir.

일반적인 기존 축사에서는 외부에 악취저감장치를 1개소 설치하고, 축사에 연결되는 배기 덕트를 통해서 기체를 통합 이송시켜 처리하고 있다. 다만, 배기 덕트가 하나로 연결되면 기체 이송에 따른 정압 발생으로 축사의 배기가 원활하지 못할 수 있고, 가축의 집단 질식사를 야기할 수 있다. 따라서, 각각의 배기 팬을 일체로 연결하는 경우에는 반드시 배기 덕트 중간에 별도의 배기 팬을 설치하고, 악취가 취합되는 악취저감장치 전/후에 배기 팬을 설치하여야 한다. 또한, 축산 악취의 부식성 성분이 악취저감장치까지 전송되는 동안 그대로 배기 덕트 내에 노출되기 때문에, 내식성 배기 덕트의 사용에 따른 비용 증가가 상당하다. In a typical conventional housing, a malodor reduction device is installed on the outside and the gas is integrated and transported through an exhaust duct connected to the housing. However, if the exhaust ducts are connected together, the generation of static pressure due to the gas transfer may result in a poor ventilation of the housing, and may cause a group of suffocating animals. Therefore, when each exhaust fan is integrally connected, a separate exhaust fan must be provided in the middle of the exhaust duct, and an exhaust fan should be installed before and after the odor elimination device in which odors are collected. In addition, since the corrosive component of the livestock odor is exposed in the exhaust duct as it is transmitted to the malodor abatement device, the increase in cost due to the use of the corrosion-resistant exhaust duct is significant.

하지만, 본 발명에서는 배기 팬마다 독립적으로 배기 덕트를 설치하고, 배기 덕트 내측에 습식 분무노즐 및 플라즈마 처리부를 배치하여 악취를 바로 처리할 수 있기 때문에 배기 덕트의 부식 문제도 줄일 수 있다. 또한, 각각의 배기 팬에 개별적으로 배기 덕트가 배치되기 때문에 배기 덕트 내부에서 정압이 발생하지 않는다. However, in the present invention, since the exhaust duct is independently provided for each exhaust fan, and the wet spray nozzle and the plasma treatment section are disposed inside the exhaust duct, the odor can be immediately treated, so that the corrosion problem of the exhaust duct can also be reduced. Further, since the exhaust ducts are individually arranged in the respective exhaust fans, no static pressure is generated in the exhaust ducts.

이물질을 필터로 처리하면 지속적인 교체가 필요하고, 특히 유지성분이 많은 축산 악취는 처리의 한계가 있고, 잦은 교환으로 인한 유지 비용의 부담이 컸다. 하지만, 본 발명에 따른 순환형 대기처리장치에서는 습식 분무노즐 및 플라즈마를 통해 다각도로 악취원인물질을 제거하여 처리 효과가 클 뿐만 아니라, 습식 분무노즐에서 액체를 분사하거나 플라즈마 처리장치로 전기를 공급하여 악취 처리가 즉각적으로 가능하며, 고장을 제외하고는 습식 분무노즐이나 플라즈마 처리장치의 교체가 필요하지 않기 때문에 유지 비용도 줄어든다. If the foreign matter is treated with a filter, continuous replacement is necessary. Especially, the livestock odor having a large amount of oil component has a limitation in treatment, and the maintenance cost due to frequent exchange has a great burden. However, in the circulating-type atmospheric treatment apparatus according to the present invention, a treatment effect is high by removing the substances causing odor in multiple angles through the wet atomizing nozzle and the plasma, and the liquid is sprayed from the wet atomizing nozzle or electricity is supplied to the plasma processing apparatus Odor treatment is instantaneously possible and maintenance costs are reduced because replacement of wet spray nozzles or plasma treatment devices is not required except for malfunctions.

또한, 세척수 저수조에서는 습식 분무노즐에서 분사된 액체를 회수하여 재 사용할 수 있는데, 습식 분무노즐에서 분사되어 더러워진 액체는 세척수 저수조에 일시 저장되어 있다가 액체 처리부로 이송되어 깨끗하게 처리된 후에 사용될 수 있다. 액체 처리부에서 처리된 액체는 바로 습식 분무노즐로 재 공급될 수도 있지만, 경우에 따라서는 액체 처리부에서 처리된 액체는 세척수 저수조를 순환하면서 액체 처리부에서 반복 처리될 수 있고, 액체 처리부를 거쳐 깨끗하게 처리된 액체는 세척수 저수조에서 습식 분무노즐로 재 공급될 수도 있다. In the washing water reservoir, the liquid sprayed from the wet spray nozzle can be recovered and reused. The liquid sprayed from the wet spray nozzle is temporarily stored in the wash water reservoir and can be used after being transferred to the liquid treatment unit and cleaned. The liquid processed in the liquid processing section may be immediately re-supplied to the wet atomizing nozzle, but in some cases, the liquid processed in the liquid processing section may be repeatedly processed in the liquid processing section while circulating in the wash water reservoir, The liquid may be re-supplied to the wet atomizing nozzle in the wash water reservoir.

또한, 세척수 저수조의 액체는 액체 처리부에서 처리되기는 하지만, 주기적으로 교환해줄 수 있고, 경우에 따라서는 별도의 약 처리를 할 수 있다. Further, although the liquid in the wash water reservoir is treated in the liquid treatment section, it can be replaced periodically and, in some cases, a separate drug treatment can be performed.

또한, 습식 분무노즐 및 플라즈마 처리부 사이에 기액분리필터를 배치할 수 있다. 배기 팬의 송풍에 의해서 습식세척공간에서 플라즈마 처리부를 거쳐 배기 덕트의 배출구로 배출되는 공기는 습식세척공간을 거치면서 다량의 액체를 내포할 수 밖에 없는데, 기액분리필터는 이를 제거할 수 있다. Further, a gas-liquid separation filter can be disposed between the wet atomizing nozzle and the plasma processing section. The air exhausted from the wet cleaning space through the plasma processing unit to the exhaust port of the exhaust duct can only contain a large amount of liquid through the wet cleaning space due to the blowing of the exhaust fan.

기액분리필터에서 걸러진 액체는 습식 분무노즐에서 분사된 액체와 함께 하부에 습식세척공간으로 낙하하고, 배기 덕트 하부에 고인 액체는 배출배관을 통해서 세척수 저수조로 이동한다. 따라서, 세척수 저수조의 액체를 재 사용하여 액체를 추가로 공급할 필요가 없다. 또한, 기액분리필터는 전원이 연결되는 플라즈마 처리부로 다량의 액체가 유입되는 것을 방지하는 역할도 하며, 기액분리필터로는 액체를 효과적으로 제거할 수 있는 데미스터 필터(demister filter)를 사용할 수 있다. The liquid filtered by the gas-liquid separation filter drops down to the wet cleaning space at the bottom together with the liquid sprayed from the wet spray nozzle, and the liquid which is accumulated at the bottom of the exhaust duct moves to the wash water reservoir through the discharge pipe. Therefore, it is not necessary to reuse the liquid in the wash water reservoir to supply additional liquid. Also, the gas-liquid separation filter serves to prevent a large amount of liquid from flowing into the plasma processing unit connected to the power source, and a demister filter that can effectively remove the liquid can be used as the gas-liquid separation filter.

또한, 기액분리필터 상부에서 고압의 공기 또는 액체를 분사하는 고압 분사노즐을 배치할 수 있고, 고압 분사노즐을 이용하여 기액분리필터에 걸러진 이물질을 털어낼 수 있다. Further, a high-pressure spray nozzle for spraying high-pressure air or liquid can be disposed above the gas-liquid separation filter, and the foreign substance filtered by the gas-liquid separation filter can be blown off by using the high-pressure spray nozzle.

플라즈마 처리부는 배기 덕트로 유입되는 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 접지전극 및 접지전극 사이에 배치되는 방전전극을 포함하는 기본적 구성을 구비할 수 있고, 악취원인물질은 접지전극 및 방전전극의 가장자리에서 발생하는 플라즈마 방전에 의해 제거될 수 있다. 다만, 플라즈마 처리부는 플라즈마를 발생하는 이미 공지된 여러 장비를 적용할 수 있고, 예를 들어, 출원번호 10-2013-0037584에 개시되는 플라즈마 처리 방법을 채택할 수 있다. The plasma processing unit may have a basic configuration including a ground electrode extending between the ground electrode and the ground electrode extending along the flow direction of the air flowing into the exhaust duct, and the odor-causing substance may be disposed at the edge of the ground electrode and the discharge electrode And can be removed by the generated plasma discharge. However, the plasma processing unit may employ various well-known equipment for generating plasma, for example, a plasma processing method disclosed in Application No. 10-2013-0037584.

또한, 플라즈마 처리부 상부에 고압의 공기 또는 액체를 분사하는 고압 세척노즐을 배치할 수 있고, 고압 세척노즐을 이용하여 플라즈마 처리부의 접지전극 및 방전전극에 집진된 먼지를 고압의 공기 또는 액체로 제거할 수 있다. In addition, a high-pressure cleaning nozzle for spraying high-pressure air or liquid can be disposed on the upper portion of the plasma processing unit, and the dust collected on the ground electrode and the discharge electrode of the plasma processing unit can be removed as high- .

앞서 언급한 고압 분사노즐이나 고압 세척노즐에서는 고압의 공기를 분사할 수도 있지만, 고압의 액체를 분사하는 것도 가능하며, 고압 분사노즐이나 고압 세척노즐로 공급되는 압축 공기는 외부에 마련된 공기압축기에 의해서 공급될 수 있고, 고압 액체는 압력 펌프에 의해서 공급될 수 있다. Although the high-pressure spray nozzle or the high-pressure nozzle described above can inject high-pressure air, it is also possible to spray a high-pressure liquid. The compressed air supplied to the high-pressure spray nozzle or the high- And the high-pressure liquid can be supplied by the pressure pump.

또한, 배기 덕트의 배출구에는 이물질 유입 방지 그물망을 배치하여, 배기 팬이 정지될 경우 배기 팬을 통해서 곤충이나 이물질이 유입되는 것을 방지할 수 있다. In addition, it is possible to dispose a foreign matter inflow preventing mesh on the exhaust port of the exhaust duct to prevent insects and foreign matter from flowing through the exhaust fan when the exhaust fan stops.

또한, 액체 처리부는 세척수 저수조에 수용되는 액체가 유입되었다가 다시 배출되는 수용 챔버부, 수용 챔버부 내측에 수용되는 액체를 가로질러 배치되며, 액체와 분리되는 기체 유입구 및 기체 배출구를 포함하는 유전체관, 액체로부터 격리되게 유전체관 내측에 배치되는 코어전극, 및 기체 유입구로 기체를 공급하는 기체 공급부를 포함할 수 있다. 다만, 액체 처리부는 플라즈마를 이용한 방법 외에도 약물이나 필터 등을 이용한 시설을 채택할 수도 있으며, 액체를 깨끗하게 정화하는 기능 내에서 다른 시설로 교체될 수 있다.Further, the liquid processing section may include a receiving chamber portion for receiving the liquid accommodated in the washing water reservoir and discharging it again, a dielectric tube disposed across the liquid accommodated inside the accommodating chamber portion and including a gas inlet and a gas outlet, A core electrode disposed inside the dielectric tube so as to be isolated from the liquid, and a gas supply unit for supplying gas to the gas inlet. However, the liquid treatment unit may adopt a facility using a drug or a filter, in addition to a method using plasma, and may be replaced with another facility in the function of purifying the liquid cleanly.

유전체관은 수용 챔버부 내에 수용된 액체에 침지되지만, 유전체관 내부에는 액체가 유입되지 않기 때문에, 고압의 전류가 걸리는 코어전극은 액체에 의해서 산화/부식이 쉽게 일어나지 않는다. Since the dielectric tube is immersed in the liquid contained in the accommodating chamber portion but the liquid does not flow into the dielectric tube, oxidation / corrosion of the core electrode, which receives a high voltage current, is not easily caused by the liquid.

또한, 유전체관은 석영, 유리, 세라믹과 같은 절연성 재질을 이용하여 제공하되, 석영과 같이 자외선이 바로 투과할 수 있는 재질을 선택하는 경우, 방전 시 발생하는 자외선이 유전체관 외부의 액체를 살균이나 악취물질을 분해 처리할 수 있다. When a dielectric material such as quartz, glass, or ceramic is used as a dielectric tube and a material such as quartz that allows ultraviolet light to pass through is selected, the ultraviolet rays generated during discharging sterilize the liquid outside the dielectric tube It is possible to decompose and process odorous substances.

유전체관은 다양한 유전성 재료로 제조될 수 있으며, 예를 들면, 석영, 유리, 유리 적층물과 같은 세라믹 재료를 사용할 수 있고, 유전체관의 재료는 상술한 재료에 제한되지 않으며, 절연성과 내열성이 좋은 임의의 재료로 만들어질 수 있다.The dielectric tube can be made of various dielectric materials, for example, ceramic materials such as quartz, glass, and glass laminate, and the material of the dielectric tube is not limited to the above materials, Can be made of any material.

코어전극은 전기가 잘 통하는 탄소나 전도성이 뛰어나며 내열성과 강도 또한 좋은 텅스텐 혹은 그 외의 다른 금속 재질로 제조될 수 있다.The core electrode can be made of tungsten or other metal material that has good conductivity and good conductivity and good heat resistance and strength.

또한, 기체 유입구로 공급되어 유전체관 내측을 지나면서 플라즈마 방전에 의해 기체 활성종을 갖는 기체는 기체 배출구로 배출되고, 다시 수용 챔버부 내측으로 유입되어 수용 챔버부 내측으로 수용되는 액체를 처리할 수 있다. The gas having the gaseous active species is discharged to the gas discharge port by the plasma discharge while being supplied to the gas inlet, passes through the inside of the dielectric tube, and flows into the accommodating chamber part again to process the liquid accommodated inside the accommodating chamber part have.

또한, 세척수 저수조에서 액체 처리부로 액체를 이송하는 제1 순환배관 및 액체 처리부에서 세척수 저수조로 액체를 이송하는 제2 순환배관을 배치할 수 있으며, 수용 챔버부와 제1 순환배관을 연결하는 바이패스관을 포함할 수 있다. 이때, 기체 배출구로 배출되는 기체는 기체 배출구와 바이패스관을 연결하는 기체 배출배관을 통해서 바이패스관으로 다시 유입될 수 있다. In addition, a first circulation pipe for transferring the liquid from the wash water reservoir to the liquid processing unit and a second circulation pipe for transferring the liquid from the liquid processing unit to the wash water reservoir can be disposed. The bypass pipe connecting the accommodating chamber unit and the first circulation pipe Tube. At this time, the gas discharged to the gas discharge port may flow back to the bypass pipe through the gas discharge pipe connecting the gas discharge port and the bypass pipe.

바이패스관에는 수용 챔버부를 향하여 유속을 증가시키는 이젝터(ejector)가 배치될 수 있고, 기체 배출배관은 이젝터에 연결되어 기체 배출구로부터 배출되는 기체는 기체 배출배관 및 이젝터를 순차적으로 거쳐 바이패스관으로 유입될 수 있다. 이때, 바이패스관으로 유입되는 기체는 이젝터를 지나면서 유속이 증가하면서 수용 챔버부로 이송되는 액체를 따라서 용이하게 수용 챔버부로 유입되게 된다. 기본적으로는 제1 순환배관에서 바이패스관으로 액체가 유입되며 유입되는 액체와 함께 기체가 혼합되어 수용 챔버부로 이송되지만, 경우에 따라서는 이젝터를 사이에 두고 양쪽에 배치되는 밸브를 조절하여 바이패스관에서 제1 순환배관을 향하여 기체를 이송하는 것도 가능하다. The bypass pipe may be provided with an ejector for increasing the flow rate toward the accommodating chamber portion. The gas discharge pipe is connected to the ejector and the gas discharged from the gas discharge port is sequentially passed through the gas discharge pipe and the ejector to the bypass pipe Can be introduced. At this time, the gas flowing into the bypass pipe increases in flow rate as it passes through the ejector, and flows into the accommodating chamber portion along the liquid conveyed to the accommodating chamber portion easily. Basically, the liquid flows into the bypass pipe in the first circulation pipe, the gas is mixed with the liquid to be introduced and is transferred to the accommodating chamber part. However, in some cases, It is also possible to transfer the gas from the pipe toward the first circulation pipe.

또한, 기체 배출배관 및 바이패스관 사이에서 기체 배출배관 및 바이패스관을 연결하는 활성기체 유입관이 배치되며, 기체 배출배관 및 활성기체 유입관이 한쪽 단부에 연결되는 U자형 배수배관이 배치되며, 바이패스관에서 활성기체 유입관으로 역류하는 액체는 배수배관의 다른쪽 단부를 거쳐 배출될 수 있다.Further, an active gas inlet pipe for connecting the gas discharge pipe and the bypass pipe is disposed between the gas discharge pipe and the bypass pipe, and a U-shaped discharge pipe is disposed at one end of the gas discharge pipe and the active gas inflow pipe , The liquid flowing back into the active gas inlet pipe in the bypass pipe can be discharged through the other end of the drain pipe.

기존의 축사에서는 외부에 악취저감장치를 1개소 설치하고, 축사에 연결되는 배기 덕트를 통해서 기체를 통합 이송시켜 처리하여, 배기 덕트 내의 정압 발생으로 배기가 원활하지 못한 경우가 발생할 수 있으나, 본 발명에 따른 순환형 대기처리장치에서는 각각의 배기 팬에 배기 덕트를 설치하고, 각각의 배기 덕트에 악취를 처리하여 정압 발생을 방지한다. In the existing housing, there is a case where the malodor reducing device is installed on the outside and the gas is integratedly conveyed through the exhaust duct connected to the housing, and the exhaust is not smooth due to the generation of the static pressure in the exhaust duct. However, , An exhaust duct is provided in each exhaust fan and odor is treated in each exhaust duct to prevent generation of a static pressure.

또한, 축사로부터 외부 악취저감장치까지 하나의 배기 덕트로 취합하여 배기시키는 경우, 배기 덕트가 악취원인물질에 의한 부식에 취약했으나, 본 발명에 따른 순환형 대기처리장치는, 습식 분무노즐 및 플라즈마 처리부를 갖는 독립형 처리세트가 배기 팬 바로 후방에 배치되어 악취원인물질이 바로 처리될 수 있고, 배기 덕트의 부식 문제가 크게 줄어든다. Further, in the case where the exhaust duct is collected by one exhaust duct from the housing to the external odor reducing device and exhausted, the exhaust duct is susceptible to corrosion caused by odorous substances. However, in the circulating type atmospheric treatment apparatus according to the present invention, Can be disposed directly behind the exhaust fan so that the odor-causing substance can be immediately treated, and the corrosion problem of the exhaust duct is greatly reduced.

필터나 약물을 이용하여 악취를 처리하는 경우, 필터의 교체 및 약물 보충 등의 유지 비용이 증가하고, 특히 유지성분이 많은 축산 악취는 처리의 한계가 있다. 하지만, 본 발명에 따른 순환형 대기처리장치에서는 습식 분무노즐 및 플라즈마를 통해 다각도로 악취원인물질을 제거하여 처리 효과가 클 뿐만 아니라, 습식 분무노즐에서 액체를 분사하거나 플라즈마 처리장치로 전기를 공급하여 악취 처리가 즉각적으로 가능하여 유지 비용도 줄어든다. When a malodor is treated using a filter or a drug, maintenance costs such as replacement of a filter and replenishment of a drug are increased. Especially, animal offensive odor having a large amount of a maintenance ingredient has a limitation in processing. However, in the circulating-type atmospheric treatment apparatus according to the present invention, a treatment effect is high by removing the substances causing odor in multiple angles through the wet atomizing nozzle and the plasma, and the liquid is sprayed from the wet atomizing nozzle or electricity is supplied to the plasma processing apparatus Odor treatment is possible immediately and maintenance cost is reduced.

또한, 본 발명에 따른 순환형 대기처리장치에서는 세척수 저수조로 습식 분무노즐에서 분사되는 액체를 회수하고, 이를 액체 처리부에서 플라즈마로 재 처리하여 사용함으로써, 비용 절감과 환경 보존이라는 효과를 구현할 수 있다.In addition, in the circulating-type atmospheric treatment apparatus according to the present invention, the liquid sprayed from the wet spray nozzle is recovered by the wash water reservoir and the liquid is reprocessed by the plasma treatment unit.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 순환형 대기처리장치가 설치되는 축사의 정면도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 순환형 대기처리장치의 배기 덕트의 측면도 및 정면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 순환형 대기처리장치 중 플라즈마 처리부의 평면도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 순환형 대기처리장치 중 액체 처리부의 도면들이다.
도 7은 도 6의 A부분의 부분 확대도이다.
1 is a front view of a housing where a circulation type atmospheric treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is installed.
2 and 3 are a side view and a front view of an exhaust duct of a circulating type atmospheric treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view of a plasma processing unit of a circulating type atmospheric treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are views of a liquid processing unit in a circulating type atmospheric treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a partially enlarged view of a portion A in Fig.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout. For reference, the same numbers in this description refer to substantially the same elements and can be described with reference to the contents described in the other drawings under these rules, and the contents which are judged to be obvious to the person skilled in the art or repeated can be omitted.

본 발명에 따른 순환형 대기처리장치는 축산 악취나 생활쓰레기, 및 산업 폐기물장치에도 두루 설치될 수 있으며, 여타의 유기질비료 공장, 무균동물 사육실, 동물실험실, 화학제품제조 시설, 스포츠센터, 지하철역사, 항온 항습 창고, 클린룸 시설 등에 설치되어 공기 중에 포함된 악취원인물질을 제거하도록 사용될 수 있으며, 적용분야 및 설치장소에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.The circulating type atmospheric treatment apparatus according to the present invention can be installed in all kinds of organic fertilizer factory, sterile animal breeding room, animal laboratory, chemical manufacturing facility, sports center, subway history , A constant temperature and humidity warehouse, a clean room facility, and the like, and may be used to remove odor-causing substances contained in the air, and the present invention is not limited or limited by the application field and the installation place.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 순환형 대기처리장치가 설치되는 축사의 정면도이며, 도 2 및 도 3은 배기 덕트의 측면도 및 정면도이고, 도 4는 플라즈마 처리부의 도면이다. 도 5는 액체 처리부의 측면도, 도 6은 평면도이다.FIG. 1 is a front view of a housing in which a circulation type atmospheric treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is installed, FIGS. 2 and 3 are a side view and a front view of the exhaust duct, and FIG. Fig. 5 is a side view of the liquid processing section, and Fig. 6 is a plan view.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 순환형 대기처리장치는 배기 덕트(110), 습식 분무노즐(120), 플라즈마 처리부(130), 세척수 저수조(140), 및 액체 처리부(150)를 포함한다. 1 to 6, the circulation type atmospheric treatment apparatus according to the present embodiment includes an exhaust duct 110, a wet spray nozzle 120, a plasma treatment unit 130, a wash water storage tank 140, and a liquid treatment unit 150 ).

축사(10) 측벽을 따라서 배치되는 복수개의 배기 팬(12)을 통해서 축사(10) 내부의 공기가 강제로 배출될 수 있으며, 배기 덕트(110)의 배출구(114)에는 이물질 유입 방지 그물망(116)을 배치하여, 배기 팬이 정지될 경우 배기 팬(12)을 통해서 곤충이나 이물질이 유입되는 것을 방지할 수 있다. The air inside the housing 10 can be forcibly discharged through a plurality of exhaust fans 12 disposed along the sidewall of the housing 10 and the outlet 114 of the exhaust duct 110 is provided with a foreign matter inflow preventing mesh 116 So that it is possible to prevent insects and foreign matter from flowing through the exhaust fan 12 when the exhaust fan stops.

각각의 배기 팬(12)에는 축사의 외부 쪽에서 배기 덕트(110)가 장착된다. 본 실시예에서 배기 덕트(110)는 대략 ㄱ-자의 굴절된 형상으로 제공되며, 배기 팬(12) 바로 전방에 습식세척공간(112)을 제공하며, 상부로 연장되어 그 단부에는 배출구(114)가 형성된다. Each of the exhaust fans 12 is equipped with an exhaust duct 110 on the outer side of the housing. In this embodiment, the exhaust duct 110 is provided in a substantially --folded shape, providing a wet cleaning space 112 immediately in front of the exhaust fan 12, and extending upwardly, .

배기 덕트(110) 내부에는 배기 덕트(110)로 유입되는 공기를 습식으로 처리하기 위한 습식 분무노즐(120) 및 플라즈마로 처리하는 플라즈마 처리부(130)가 순차적으로 배치된다. Inside the exhaust duct 110, a wet spray nozzle 120 for treating the air introduced into the exhaust duct 110 in a wet manner and a plasma processor 130 for treating the exhaust gas in the exhaust duct 110 are sequentially disposed.

먼저, 배기 팬(12)을 통해서 축사의 공기가 배기 덕트(110) 내의 습식세척공간(112)으로 유입되면, 습식 분무노즐(120)에서 분사되는 액체를 이용하여 공기 내의 악취원인물질을 제거할 수 있다. 상기 액체로는 물을 사용할 수도 있고, 악취제거를 위한 약품(염소, 차아염소산나트륨, 가성소다, 과산화수소수, 이산화수소수, 암모니아수 등)을 첨가할 수도 있다. First, when the housing air is introduced into the wet cleaning space 112 through the exhaust fan 12, the liquid sprayed from the wet spray nozzle 120 is used to remove the odor-causing material in the air . Water may be used as the liquid, or chemicals (chlorine, sodium hypochlorite, caustic soda, aqueous hydrogen peroxide, aqueous hydrogen peroxide, aqueous ammonia, etc.) may be added to remove odors.

한편, 습식 분무노즐(120) 및 플라즈마 처리부(130) 사이에는 기액분리필터(123)가 배치되어 있다. 배기 팬(12)의 송풍에 의해서 습식세척공간(112)에서 플라즈마 처리부(130)를 거쳐 배기 덕트(110)의 배출구(114)로 배출되는 공기는 습식세척공간(112)을 거치면서 다량의 액체를 내포하는데, 기액분리필터(123)는 이를 제거할 수 있다. On the other hand, a gas-liquid separation filter 123 is disposed between the wet atomizing nozzle 120 and the plasma processing unit 130. The air exhausted from the wet cleaning space 112 through the plasma processing unit 130 to the exhaust port 114 of the exhaust duct 110 by the blowing of the exhaust fan 12 passes through the wet cleaning space 112, And the gas-liquid separation filter 123 can remove it.

기액분리필터(123)에서 습기가 제거된 공기는 습식세척공간(112) 상부에 배치된 플라즈마 처리부(130)에서 플라즈마에 의해서 처리되어 배기 덕트(110)의 배출구(114)로 배출될 수 있다. The moisture-depleted air in the gas-liquid separation filter 123 may be treated by plasma in the plasma processing unit 130 disposed above the wet cleaning space 112 and discharged to the discharge port 114 of the exhaust duct 110.

종래의 축사에서는 축사에 연결되는 배기 덕트를 통해서 외부의 악취저감장치로 기체를 통합 이송시켜 처리하는 바, 기체 이송에 따른 정압 발생으로 축사의 배기가 멈추는 경우가 종종 발생할 수 있지만, 본 발명에서는 각각의 배기 팬(12)에 개별적으로 배기 덕트(110)가 배치되기 때문에 배기 덕트(110) 내부에 정압 발생을 방지할 수 있고, 배기 팬(12)마다 독립적인 배기 덕트(110)를 설치하고, 배기 덕트(110) 내측에 습식 분무노즐(120) 및 플라즈마 처리부(130)를 배치하여 악취를 바로 처리할 수 있기 때문에 배기 덕트(110)의 부식 문제도 줄일 수 있다. In the conventional housing, the gas is integratedly transferred to the external odor reducing device through the exhaust duct connected to the housing. In this case, however, the exhaust of the housing may be stopped due to the generation of the static pressure due to the gas transfer. It is possible to prevent the generation of a static pressure in the exhaust duct 110 and to provide the exhaust ducts 110 independent of the exhaust fans 12 because the exhaust ducts 110 are individually disposed in the exhaust fans 12 of the exhaust ducts 12, Since the wet spray nozzle 120 and the plasma treatment unit 130 are disposed inside the exhaust duct 110 to treat the odor immediately, the corrosion problem of the exhaust duct 110 can be reduced.

또한, 습식 및 플라즈마를 통해 다각도로 악취원인물질을 제거하여 처리 효과가 클 뿐만 아니라, 습식 분무노즐(120)에서 액체를 분사하거나 플라즈마 처리부(130)로 전기를 공급하여 악취 처리가 즉각적으로 가능하며, 고장을 제외하고는 노즐이나 플라즈마 시설의 교체가 필요하지 않기 때문에 유지 비용도 줄어든다. In addition, it is possible to remove odorous substances in a multifaceted manner through the wet and plasma processes, so that the treatment effect is great. In addition, the liquid is sprayed from the wet spray nozzle 120 or electricity is supplied to the plasma treatment unit 130, Maintenance costs are also reduced because replacement of the nozzle or plasma facility is not required except for faults.

한편, 기액분리필터(123)에서 걸러진 액체는 습식 분무노즐(120)에서 분사된 액체와 함께 하부에 습식세척공간(112)으로 낙하하고, 배기 덕트(110) 하부에 고인 액체는 배출배관(118)을 통해서 세척수 저수조(140)로 이송된다. 따라서, 세척수 저수조(140)의 액체를 재 사용할 경우, 액체의 손실이 없어 추가로 액체를 공급할 필요가 없다. 또한, 기액분리필터(123)는 전원이 연결되는 플라즈마 처리부(130)로 다량의 액체가 유입되는 것을 방지하는 역할도 하며, 기액분리필터(123)로는 액체를 효과적으로 제거할 수 있는 데미스터 필터를 사용할 수 있다. The liquid filtered by the gas-liquid separation filter 123 falls along with the liquid sprayed from the wet spray nozzle 120 to the lower portion of the wet cleaning space 112 and the liquid pumped to the lower portion of the exhaust duct 110 passes through the discharge pipe 118 To the wash water reservoir 140. [0050] Therefore, when the liquid in the wash water reservoir 140 is reused, there is no loss of liquid and there is no need to supply additional liquid. The gas-liquid separation filter 123 serves to prevent a large amount of liquid from flowing into the plasma processing unit 130 connected to the power source. The gas-liquid separation filter 123 is provided with a demister filter Can be used.

또한, 기액분리필터(123) 상부에 고압의 공기 또는 액체를 분사하는 고압 분사노즐(125)을 배치할 수 있고, 고압 분사노즐(125)을 이용하여 기액분리필터(123)에서 걸러진 이물질을 털어낼 수 있으며, 이물질이 섞여 있는 액체 역시 배기 덕트(110)에 연결되는 배출배관(118)을 통해서 세척수 저수조(140)로 이동할 수 있다. A high-pressure injection nozzle 125 for injecting high-pressure air or liquid can be disposed above the gas-liquid separation filter 123. The high-pressure injection nozzle 125 can be used to remove foreign matters filtered by the gas- And the liquid mixed with the foreign matter can also be transferred to the wash water storage tank 140 through the discharge pipe 118 connected to the exhaust duct 110.

세척수 저수조(140)에서는 습식세척공간(112) 내의 공기를 처리하여 발생한 오염된 액체 및 기액분리필터(123)에서 걸러지거나 청소 시 발생하는 더러운 이물질을 일시적으로 회수할 수 있으며, 이는 액체 처리부(150)로 이송되어 깨끗하게 처리된 후에 사용될 수 있다. The washing water storage tank 140 can temporarily recover the contaminated liquid generated by treating the air in the wet washing space 112 and the dirty foreign matter generated when the water is filtered by the gas-liquid separation filter 123, ) And cleaned.

액체 처리부(150)에서 처리된 액체는 바로 습식 분무노즐(120)로 재 공급될 수도 있지만, 본 실시예에서는 액체 처리부(150)에서 처리된 액체는 세척수 저수조(140) 및 액체 처리부(150) 간을 연결하는 제1 및 제2 순환배관(156, 158)을 통해서 세척수 저수조(140)를 순환하면서 액체 처리부(150)에서 반복 처리되며, 액체 처리부(150)를 거쳐 깨끗하게 처리된 액체는 세척수 저수조(140)에서 습식 분무노즐(120)로 재 공급될 수도 있다. The liquid processed in the liquid processing unit 150 may be supplied again to the wet spraying nozzle 120. In this embodiment, however, the liquid processed in the liquid processing unit 150 is supplied to the washing water storage tank 140 and the liquid processing unit 150 The liquid circulated through the liquid treatment unit 150 is circulated through the first and second circulation pipes 156 and 158 connecting the first and second circulation pipes 156 and 158 to the wash water reservoir 140 to the wet atomizing nozzle 120.

또한, 세척수 저수조(140)의 액체는 액체 처리부(150)에서 처리되기는 하지만, 주기적으로 교환해줄 수 있고, 경우에 따라서는 별도의 약 처리를 할 수 있다. In addition, although the liquid in the wash water storage tank 140 is processed in the liquid processing unit 150, it can be replaced periodically and, in some cases, a separate chemical treatment can be performed.

본 실시예에 따른 플라즈마 처리부(130)는 접지 전극(132) 및 방전 전극(134)을 포함하고, 접지 전극(132)은 공기의 이동경로에 나란하게 배치되는 판으로 제공되며, 접지 전극(132) 사이에는 봉 상으로 제공되는 복수개의 방전 전극(134)들이 배치된다. The plasma processing unit 130 according to the present embodiment includes a ground electrode 132 and a discharge electrode 134. The ground electrode 132 is provided as a plate arranged in parallel to the movement path of the air, A plurality of discharge electrodes 134 provided in a rod shape are disposed.

접지 전극(132) 및 방전 전극(134)은 배기 덕트(110) 내부에 직접 고정될 수도 있지만, 내열성이 높은 재료의 고정대에 의해서 고정될 수도 있으며, 전원 공급부에 의해서 접지 전극(132)과 방전 전극(134)에는 고압의 전류가 전달되는 관계로 고정대는 같이 내열성 및 절연성이 좋은 테플론과 같은 에틸렌 수지를 사용할 수 있다.The ground electrode 132 and the discharge electrode 134 may be fixed directly to the inside of the exhaust duct 110 but may be fixed by a fixed stand of a material having high heat resistance. Since a high-voltage current is transmitted to the fixing member 134, an ethylene resin such as Teflon, which has good heat resistance and good insulation, can be used as the fixing table.

전원 공급부는 접지 전극(132)과 방전 전극(134) 어느 한쪽 또는 양쪽에 서로 다른 전압으로 방전을 위한 전원을 인가하도록 제공되며, 전원 공급부를 통해 접지 전극(132)과 방전 전극(134)에 전원이 공급될 시 접지 전극(132)과 방전 전극(134)의 사이에서 코로나 방전이 발생된다.The power supply unit is provided to apply a power for discharging at a different voltage to either or both of the ground electrode 132 and the discharge electrode 134 and supplies power to the ground electrode 132 and the discharge electrode 134 through the power supply unit. A corona discharge is generated between the ground electrode 132 and the discharge electrode 134.

접지 전극(132)과 방전 전극(134) 사이에 코로나 방전이 발생하면 접지 전극(132)과 방전 전극(134) 사이에는 각종 화학적 활성종(chemically active specie)이 생성될 수 있다. 예를 들어, 산화성 활성종이 형성될 수 있으며, 코로나 방전공간을 통과하는 악취원인물질은 산화성 활성종에 의해 제거될 수 있다. When a corona discharge occurs between the ground electrode 132 and the discharge electrode 134, various chemically active species may be generated between the ground electrode 132 and the discharge electrode 134. For example, an oxidizing active species can be formed, and odorous substances passing through the corona discharge space can be removed by the oxidizing active species.

한편, 플라즈마 처리부(130) 바로 상부에 배치되는 고압 세척노즐(135)은 압축 공기나 액체를 분사하여 플라즈마 처리부의 접지 전극 및 방전 전극에 집진된 먼지를 고압의 공기 또는 액체로 제거할 수 있다. 고압 세척노즐(135)에서는 기본적으로 고압의 기체를 분사할 수 있으나, 플라즈마 처리부(130)가 일시적으로 정지되었을 때에는 압축 액체를 분사하여 플라즈마 고압 방전 시 액체에 의한 방전 전극과 접지 전극 간의 전기적 숏트 및 합선과 같은 연결로 인한 피해를 방지할 수 있다. Meanwhile, the high-pressure cleaning nozzle 135 disposed directly above the plasma processing unit 130 can remove the dust collected at the ground electrode and the discharge electrode of the plasma processing unit by high-pressure air or liquid by injecting compressed air or liquid. When the plasma processing unit 130 is temporarily stopped, a compressed liquid is sprayed to generate an electrical short between the discharge electrode and the ground electrode due to the liquid during the plasma high pressure discharge, It is possible to prevent damage due to a connection such as a short circuit.

본 실시예에서 고압 분사노즐(125)이나 고압 세척노즐(135)은 각각 외부에 마련된 공기압축기(126) 및 압력 펌프(136)에 의해서 압축 공기와 고압의 액체를 공급받을 수 있게 설치되어 있으나, 고압 분사노즐이나 고압 세척노즐은 모두 액체 또는 고압의 공기를 공급받아 분사할 수 있다. The high pressure injection nozzle 125 and the high pressure cleaning nozzle 135 are provided so as to be able to receive the compressed air and the high pressure liquid by the air compressor 126 and the pressure pump 136 provided outside, respectively, Both the high-pressure spray nozzle and the high-pressure wash nozzle can be supplied with liquid or high-pressure air.

앞에서 언급했듯이, 축사의 공기를 처리하여 발생한 더러운 액체는 각각의 배기 덕트(110)에 연결되는 배출배관(118)을 통해서 세척수 저수조(140)에서 수집되고, 액체 처리부(150)는 세척수 저수조(140)로부터 상기 액체를 받아 깨끗하게 처리한다. The dirty liquid generated by processing the air in the housing is collected in the wash water storage tank 140 through the discharge piping 118 connected to the respective exhaust ducts 110 and the liquid processing unit 150 is disposed in the wash water storage tank 140 To receive the liquid and clean it.

본 실시예의 액체 처리부(150)는 수용 챔버부(151), 유전체관(152), 및 코어전극(153)을 포함한다.The liquid processing portion 150 of the present embodiment includes an accommodating chamber portion 151, a dielectric tube 152, and a core electrode 153.

수용 챔버부(151)는 제1 순환배관(156)을 통해서 세척수 저수조(140)에 수용된 액체를 공급받아 수용한다. 제2 순환배관(158)을 통해서 수용 챔버부(151)의 액체는 다시 세척수 저수조(140)로 보내진다. The accommodation chamber part 151 receives and receives the liquid contained in the wash water storage tank 140 through the first circulation pipe 156. The liquid in the accommodating chamber part 151 is again sent to the wash water storage tank 140 through the second circulation pipe 158. [

유전체관(152)은 수용 챔버부(151) 내측에서 액체에 침지된 상태로 제공되며, 유리, 석영, 혹은 유리 적층물과 같은 투명한 성질을 갖는 세라믹 재료를 사용할 수 있다. 따라서, 유전체관(152) 내측에서 플라즈마 방전에 의해서 생성되는 자외선이 그대로 유전체관(152)을 투과하여 수용 챔버부(151) 내측에 수용된 액체로 조사되어 액체의 자외선 처리효율을 높일 수 있다. 본 실시예에서 유전체관(152)의 개수는 액체의 처리 효과를 향상시키기 위하여 변경될 수 있다. The dielectric tube 152 is provided so as to be immersed in the liquid inside the accommodating chamber portion 151 and can use a ceramic material having a transparent property such as glass, quartz, or glass laminate. Therefore, ultraviolet rays generated by the plasma discharge inside the dielectric tube 152 can be directly transmitted through the dielectric tube 152 and irradiated with the liquid contained in the accommodating chamber part 151, thereby enhancing ultraviolet treatment efficiency of the liquid. The number of dielectric tubes 152 in this embodiment may be varied to improve the treatment effect of the liquid.

코어전극(153)은 전기가 잘 통하는 탄소나 전도성이 뛰어나며 내열성과 강도 또한 좋은 텅스텐, 티타늄, 스테인리스, 탄소강 혹은 그 외의 다른 금속 재질로 제조될 수 있으며, 유전체관(152) 내측에 배치되어 수용액체로부터 격리된다.The core electrode 153 may be made of tungsten, titanium, stainless steel, carbon steel or other metal material having good conductivity and good heat conductivity and strength, and may be disposed inside the dielectric tube 152, .

고정부재에 의해서 유전체관(152) 내측에 고정된 코어전극(153)으로 전원 공급부로부터 제공되는 교류 고전압 즉, 전원을 공급하고, 동시에 기체를 압축해 제공하는 블로워(blower)와 같은 기체 공급부로부터 유전체관(152) 내부로 공기를 공급하면, 유전체관(152) 내부는 절연이 깨지면서 방전 즉 플라즈마 상태에 놓이게 된다. 이때, 유전체관(152)의 내부로 강제로 공급되는 기체로부터 오존, 라디칼(radical), 이온, 전자, 및 여기된 분자와 같은 기체 활성종 및 플라즈마 상태에서 이온이나 들뜬 상태의 분자들에 의해 여러 파장의 자외선과 같은 플라즈마 생성물이 방출된다. 한편, 공기는 수용 챔버부(151) 상부로 노출되는 유전체관 상부 개구로 유입될 수 있고, 수용 챔버부(151) 하부로 노출되는 유전체관 하부 개구로는 공기가 배출될 수 있다.Such as a blower, which supplies AC high voltage, that is, power, supplied from the power supply unit to the core electrode 153 fixed inside the dielectric tube 152 by the fixing member and compresses and supplies the gas at the same time, When air is supplied into the tube 152, the inside of the dielectric tube 152 is separated from the insulation and placed in a discharge state, i.e., a plasma state. At this time, gas active species such as ozone, radicals, ions, electrons and excited molecules from the gas supplied forcibly to the inside of the dielectric tube 152, and gas active species such as excited molecules, A plasma product such as ultraviolet rays of a wavelength is emitted. The air can be introduced into the upper opening of the dielectric tube exposed above the accommodating chamber part 151 and the air can be discharged into the lower opening of the dielectric tube exposed below the accommodating chamber part 151.

상술한 액체 처리부(150)는 베리어 방전을 이용한 기본적인 플라즈마 처리 설비로 등록특허 10-1210558의 플라즈마 수처리장치를 참고할 수 있으며, 이하에서는 상기 처리설비보다 개선된 부분을 중심으로 설명한다. The liquid treatment unit 150 may be a basic plasma treatment equipment using a barrier discharge, and reference is made to the plasma water treatment equipment of the registered patent 10-1210558.

특히, 유전체관(152)은 수용액체에 침지되지만, 유전체관(152) 내부로 액체가 유입되지 않기 때문에, 고압의 전류가 걸리는 코어전극은 액상의 수용액체에 의해서 산화/부식이 쉽게 일어나지 않으며, 코어전극은 액체와 직접 접촉하지 않아 전력 손실을 최소화할 수 있다.Particularly, since the dielectric tube 152 is immersed in the aqueous liquid but the liquid does not flow into the dielectric tube 152, oxidation / corrosion of the core electrode, which receives a high-voltage current, is not easily caused by the liquid- The core electrode is not in direct contact with the liquid, so power loss can be minimized.

상술한 바와 같이 처리된 액체는 수용 챔버부(151)에서 직접 노즐로 공급되거나 일단 세척수 저수조(140)로 보내진 후에 노즐로 공급될 수도 있다. The treated liquid as described above may be supplied directly to the nozzle in the accommodating chamber portion 151 or may be supplied to the nozzle once it has been sent to the wash water reservoir 140. [

Figure pat00001
Figure pat00001

위 표는 본 발명에 따른 순환형 대기처리장치를 실지로 돈사에 적용한 세척수 살균처리 분석표이며, 화학적산소요구량(COD)외 4가지 항목을 분석하였다. 세척수는 1,000리터(1톤)/PE 물탱크/유효저수량 900리터의 실제 세척수 저수조에서 채취한 것이며, 시료체취시간은 12:40~17:38(30분 간격)으로, 맑은 날 기온은 약 29~30도였다. 부유물질 및 질소나 인의 처리로 인한 화학적산소요구량이 불과 3시간 만에 53.9%로 출어든 것을 확인할 수 있었으며, 대장균은 거의 박멸된 것으로 확인된다. The above table is an analytical table of the sterilization process of the washing water applied to the circulatory type air treatment apparatus according to the present invention, and analyzed four items other than chemical oxygen demand (COD). Washing water was collected from a 1,000 liters / PE water tank / 900 liters of actual wash water reservoir. The sample was collected from 12:40 to 17:38 (every 30 minutes) ~ 30 degrees. It was confirmed that the chemical oxygen demand due to the suspended substances and the treatment of nitrogen or phosphorus was 53.9% in only 3 hours, and E. coli was almost eradicated.

세척수 저수조(140)에 수용된 더러운 액체는 액체 처리부(150)에서 처리되는데, 이하 액체의 처리과정을 설명한다. The dirty liquid contained in the wash water storage tank 140 is processed in the liquid processing unit 150, and the process of processing the liquid will be described below.

먼저, 세척수 저수조(140)의 오염수는 제1 순환배관(156)을 지나 수용 챔버부(151)로 유입되며, 오염수 유입 중에 이젝터(160)를 통과하는 플라즈마활성기체가 벤츄리 흡입작용으로 함께 유입된다. First, the contaminated water in the wash water storage tank 140 flows into the accommodating chamber part 151 through the first circulation pipe 156, and the plasma activated gas passing through the ejector 160 during the inflow of the contaminated water flows into the venturi ≪ / RTI >

유입된 유체와 벤츄리관을 통과한 플라즈마 기체가 용해된 유체는 수용 챔버부(151) 공간에서 교반되여 살균 처리되며, 수용 챔버부(151) 내부에서는 유전체관(152)에서 조사되는 자외선으로 살균이 병행된다. The inflow fluid and the fluid in which the plasma gas passing through the venturi tube is dissolved is sterilized by being stirred in the space of the accommodating chamber part 151. In the accommodating chamber part 151, sterilization with ultraviolet rays irradiated from the dielectric tube 152 .

또한, 수용 챔버부(151) 하부에서 유입된 오염수는 수용 챔버부(151) 내부를 선회하면서 상부로 이동하여 제2 순환배관(158)을 따라서 다시 세척수 저수조(140)로 이송된다. The contaminated water flowing from the lower part of the accommodating chamber part 151 moves upward while rotating inside the accommodating chamber part 151 and is conveyed to the washing water storage tank 140 again along the second circulating pipe 158.

수용 챔버부(151)의 내부 구조는 유체의 흐름을 난류를 형성하기에 충분한 구조로 설계되며, 제1 순환배관(156)의 배출압력과 내부 경계인 수용 챔버부(151)의 압력 차가 크므로 두 유체의 압력차이로 혼합작용이 원활히 발생한다. The internal structure of the accommodating chamber part 151 is designed to have a structure sufficient to form a turbulent flow of the fluid and the pressure difference between the discharge pressure of the first circulating pipe 156 and the accommodating chamber part 151, Mixing action occurs smoothly due to fluid pressure difference.

이하에서는 플라즈마 활성화 기체의 유입 및 유출 반응 절차를 상세하게 설명한다. Hereinafter, the process of introducing and discharging the plasma activating gas will be described in detail.

먼저, 외부에서 공급되는 기체는 이젝터(160)의 벤츄리 작용으로 흡입되며 이때, 기체를 공급하는 장치는 별도로 필요 없다. 다만, 유전체관으로 기체를 공급하기 위한 기체 공급장치는 필요하며, 구체적으로 외부 기체는 블로워와 같은 기체 공급부와 연결된 기체 공급배관(172)으로부터 상부 하우징캡(154)으로 유입되고, 그 후 상부 하우징캡(154) 내의 기체는 유전체관(152)의 기체 유입구를 통해서 그 내부 중공으로 유입된다. 유입되는 기체는 플라즈마 활성기체의 특성을 파악하여 공기, 산소, 질소, 아르곤 등 다양한 기체를 선택하여 공급할 수 있고, 전원 공급부를 통해서 전원을 공급하면 유전체관(152) 및 코어전극(153)에 의해서 방전을 통한 플라즈마가 발생되며, 유전체관(152) 내부의 방전 현상으로 유입된 기체는 플라즈마활성기체로 전환되며, 플라즈마 활성기체는 유전체관(152)의 기체 배출구를 통해서 그 내부에서 빠져 나와 하부 하우징캡(155)으로 유입되고, 그 후 하부 하우징캡(155)에 연결된 기체 배출배관(174)을 통하여 다시 수용 챔버부(151)로 이송되어 수용 챔버부 내측에 수용되는 액체를 활성기체로 처리한다. First, the gas supplied from the outside is sucked by the venturi effect of the ejector 160, and a device for supplying the gas is not necessary. Specifically, the gas is supplied to the upper housing cap 154 from the gas supply pipe 172 connected to the gas supply unit such as the blower, The gas in the cap 154 flows into the hollow interior thereof through the gas inlet of the dielectric tube 152. The introduced gas can select various kinds of gases such as air, oxygen, nitrogen, and argon by grasping the characteristics of the plasma activated gas. When the power is supplied through the power supply unit, the dielectric tube 152 and the core electrode 153 And the plasma activated gas is discharged through the gas discharge port of the dielectric tube 152 to the inside of the dielectric tube 152, The liquid which has been introduced into the cap 155 and then transferred to the accommodating chamber portion 151 through the gas discharge pipe 174 connected to the lower housing cap 155 is treated with the active gas .

한편, 제1 순환배관(156)을 통해서 액체 처리부(150)의 수용 챔버부(151)로 이송되는 액체 일부는 바이패스관(170)으로 이송되도록 수용 챔버부(151)와 제1 순환배관(156)을 연결하는 바이패스관(170)이 배치되는데, 기체 배출배관(174)을 빠져 나온 기체는 상기 바이패스관(170)으로 유입되어 수용 챔버부(151)로 이송될 수 있다. 즉, 제1 순환배관(156)의 일부 액체가 바이패스관(170)을 통해서 수용 챔버부(151)로 이송되는 과정에서 바이패스관(170)에 연결되는 기체 배출배관(174)으로부터 배출되는 기체가 함께 이송되는 것이다. A part of the liquid transferred to the accommodating chamber part 151 of the liquid processing part 150 through the first circulating pipe 156 is supplied to the accommodating chamber part 151 and the first circulating pipe The gas discharged from the gas discharge pipe 174 flows into the bypass pipe 170 and can be transferred to the accommodating chamber part 151. That is, a part of the liquid in the first circulation pipe 156 is discharged from the gas discharge pipe 174 connected to the bypass pipe 170 in the process of being transferred to the accommodating chamber part 151 through the bypass pipe 170 The gas is transported together.

한편, 바이패스관(170)에는 이젝터(160)가 배치되며, 기체 배출배관(174)은 상기 이젝터(160)에 연결된다. 다만, 본 실시예에서는 기체 배출배관(174)이 이젝터(160)에 바로 연결되는 것은 아니고, 기체 배출배관(174)과 연결되는 활성기체 유입관(176)을 통해서 기체 배출배관(174)과 이젝터(160)가 연결된다. An ejector 160 is disposed in the bypass pipe 170 and a gas discharge pipe 174 is connected to the ejector 160. In this embodiment, the gas discharge pipe 174 is not directly connected to the ejector 160 but is connected to the gas discharge pipe 174 through the active gas inlet pipe 176 connected to the gas discharge pipe 174, (Not shown).

즉, 바이패스관(170)에는 도 6을 기준으로 하방 즉, 바이패스관에서 수용 챔버부를 향하여 유속을 증가시키는 이젝터(160)가 배치될 수 있고, 활성기체 유입관(176)은 이젝터(160)에 연결되어 유전체관(152)의 기체 배출구로부터 배출되는 기체는 기체 배출배관(174), 활성기체 유입관(176), 및 이젝터(160)를 순차적으로 거쳐 수용 챔버부(151)로 유입될 수 있다. 이때, 바이패스관(170)으로 유입되는 기체는 이젝터(160)를 지나면서 유속이 증가하는 액체를 따라서 용이하게 제1 순환배관(156)으로 유입되게 된다. 6, an ejector 160 for increasing the flow rate toward the accommodating chamber portion in the bypass pipe may be disposed, and the active gas inlet pipe 176 may be disposed in the ejector 160 The gas exhausted from the gas discharge port of the dielectric tube 152 flows into the accommodating chamber part 151 through the gas discharge pipe 174, the active gas inlet pipe 176, and the ejector 160 in order . At this time, the gas flowing into the bypass pipe 170 flows into the first circulation pipe 156 easily along the liquid whose flow rate increases through the ejector 160.

이젝터(160)는 제1 순환배관(156)에서 수용 챔버부(151) 쪽으로 유속이 빨라지도록 제공된다. 벤츄리관의 흡입작용을 하기 위해서는 벤츄리관 통과 유속 압력차가 0.5kg/cm2 이상이 되어야 하며, 유체 통과 배관인 제1 순환배관(156)과 기체유입 배관인 벤츄리관의 압력차가 클수록 기체 유입이 활발히 유입된다. The ejector 160 is provided so that the flow rate from the first circulation pipe 156 toward the accommodating chamber part 151 is increased. In order to perform the inhalation action of the venturi pipe, the pressure difference between the venturi pipe and the venturi pipe must be 0.5 kg / cm 2 or more. As the pressure difference between the first circulation pipe 156, which is the fluid passing pipe, and the venturi pipe, ≪ / RTI >

한편, 기체 배출배관(174)이 이젝터(160)까지 바로 연결될 수도 있지만, 이미 설명했듯이, 기체 배출배관(174)은 활성기체 유입관(176)을 통해서 이젝터(160)에 연결되며, 기체 배출배관(174)과 활성기체 유입관(176) 사이에는 U자 트랩배관(180)이 더 배치된다. The gas discharge pipe 174 is connected to the ejector 160 through the active gas inlet pipe 176 and the gas discharge pipe 174 is connected directly to the ejector 160. However, A U-shaped trap pipe 180 is further disposed between the active gas inlet pipe 174 and the active gas inlet pipe 176.

U자 트랩배관(180)의 양쪽 상부(또는 단부) 중 어느 한쪽은 상대적으로 다른 한쪽보다 낮게 위치하며, 상대적으로 높은 U자 트랩배관(180)의 한쪽 상부에 기체 배출배관(174)의 배출구(175)와 활성기체 유입관(176)의 유입구(177)가 연결된다. 그리고, U자 트랩배관(180)의 양쪽 상부 중 상대적으로 낮게 위치하는 상부에는 배수배관(182)이 연결된다. 그리고, U자 트랩배관(180)에는 배관수(184)가 배치되며, 배관수(184)의 최초 수위는 배수배관(182)이 연결되는 U자 트랩배관(180)의 위치보다는 낮게 배치된다. Either one of the upper portions (or the end portions) of the U-shaped trap pipe 180 is positioned lower than the other of the upper portions of the U-shaped trap pipe 180 and the outlet (not shown) of the gas discharge pipe 174 175 and the inlet 177 of the active gas inlet pipe 176 are connected. A drain pipe 182 is connected to an upper portion of the upper portion of the U-shaped trap pipe 180, which is relatively low. The first water level of the pipe water 184 is disposed lower than the position of the U-shaped trap pipe 180 to which the water drain pipe 182 is connected.

따라서, 활성기체 유입관(176)을 통해서 역류 유입된 유체는 트랩 작용으로 배수배관(182)을 통해서 외부로 유출된다. 구체적으로, 제1 순환배관(156)과 연결된 이젝터(160)를 통해서 액체가 역류하는 경우, 이를 배출시키고, 역류된 액체가 기체 배출배관(174)을 통해서 하부 하우징캡(155)까지 흘러 들어가는 것을 방지하도록 한다. Therefore, the fluid flowing backward through the active gas inlet pipe 176 flows out through the drain pipe 182 as a trap operation. Specifically, when the liquid flows backward through the ejector 160 connected to the first circulation pipe 156, the liquid is discharged and flows back to the lower housing cap 155 through the gas discharge pipe 174 .

기체를 공급하기 위한 공기압축기(에어펌프)는 급수펌프 운전에 따른 압력불일치 및 장치운전의 불 균일 운전이 발생하는 경우, 플라즈마 장치 내부로 물이 역류하여 문제를 발생시킬 수 있지만, 본 실시예에서는 바이패스관 중간에 베르누이 원리를 응용한 이젝터(160)를 설치하여 배관 내 흐르는 물의 유속으로 연결된 이젝터(160)를 통해서 공기가 유입되어 수용 챔버부(151)에 공급되므로 물 역류 문제를 해결한다.The air compressor (air pump) for supplying the gas may cause problems due to backflow of water into the plasma apparatus when pressure disparity due to the operation of the water supply pump and uneven operation of the apparatus operation occur. However, in this embodiment, The ejector 160 applying the Bernoulli principle is installed in the middle of the bypass pipe and the air is supplied to the accommodating chamber 151 through the ejector 160 connected to the flow rate of the water flowing in the pipe.

U자 트랩배관(180)의 하부에 차 있는 배관수(184)로는 물 및 비 휘발성 유체를 사용할 수 있고, U자 트랩배관(180)의 상부에 기체 공간을 일정하게 유지할 수 있다. Water and nonvolatile fluid may be used as the number of pipes 184 provided at the lower portion of the U-shaped trap pipe 180 and the gas space may be kept constant at the upper portion of the U-shaped trap pipe 180.

또한, 세척수 저수조(140)에서 수용 챔버부(151)로 유입되는 유체 흐름을 조절하는 주 배관밸브(159) 및 이젝터 배관밸브(179)의 열림/닫힘 정도를 조절하여 벤추리관의 흡입압력 및 유체흐름을 조절할 수 있으며, 기체 유량계(178)를 설치하여 밴츄리관을 통해서 유체에 투입되는 플라즈마활성기체의 유량을 측정하고, 이를 통해서 밸브 조절이 가능하다. It is also possible to adjust the opening / closing degree of the main piping valve 159 and the ejector piping valve 179 for controlling the flow of the fluid flowing into the accommodating chamber part 151 from the wash water storage tank 140, And a gas flow meter 178 is installed to measure the flow rate of the plasma active gas introduced into the fluid through the venturi pipe, thereby enabling the valve to be adjusted.

또한, 수용 챔버부(151)로 유체를 공급하는 제1 순환배관(156)은 수용 챔버부(151) 내측까지 일부 연장되는데 이는 도 6의 A부분 및 도 7에서 확인할 수 있다. In addition, the first circulation pipe 156 for supplying the fluid to the accommodating chamber part 151 partially extends to the inside of the accommodating chamber part 151, which can be seen in part A of FIG. 6 and in FIG.

제1 순환배관(156)의 단부에서 수용 챔버부(151)로 유입된 유체의 압력이 높고 유체내의 이물질이 포함된 경우, 전단에 설치된 유전체관(152)에 직접적으로 유체의 충격이 전달되면 유전체관(152)이 파손되므로, 유전체관(152)을 보호하기 위하여 수용 챔버부(151) 내측의 제1 순환배관(156)의 단부는 유체의 흐름이 수용 챔버부(151) 내부의 벽면을 향하도록 굴절되어 있다. When the pressure of the fluid flowing into the accommodating chamber part 151 from the end of the first circulation pipe 156 is high and foreign matter in the fluid is contained, if a shock of fluid is directly transmitted to the dielectric pipe 152 provided at the front end, The end of the first circulation pipe 156 inside the accommodating chamber part 151 for protecting the dielectric tube 152 is prevented from being damaged by the flow of the fluid toward the wall surface inside the accommodating chamber part 151 .

경우에 따라서는 제1 순환배관(156)의 단부에 별도의 안내판(157)을 설치하여 단부를 굴절시키고, 유체의 흐름 방향을 수용 챔버부(151) 내부의 벽면으로 향하여 상기 액체가 상기 유전체관으로 바로 향하여 파손시키는 것을 방지하여 유전체관(152)을 보호하고, 수용 챔버부 내측에서 반응유체의 흐름을 난류로 형성할 수도 있다. A separate guide plate 157 is provided at the end of the first circulation pipe 156 to refract the end of the first circulation pipe 156 and direct the flow direction of the fluid toward the wall surface in the accommodating chamber part 151, The dielectric tube 152 can be protected and the flow of the reaction fluid can be formed as a turbulent flow inside the accommodating chamber portion.

그리고, 바이패스배관(170)의 플라즈마활성화기체 배관 연결 구조는 이젝터에 유입되는 순환액체와 흡입된 기체 혼합작용으로 액체/기체가 혼합반응하며, 수용 챔버부로 이송 유입된 혼합유체(유체+플라즈마활성화 기체)는 제1 순환배관(156)에서 유입된 유체와 혼합반응을 하면서 살균 처리된다. The plasma-activated gas pipe connection structure of the bypass pipe 170 mixes the circulating liquid flowing into the ejector with the gas mixed by the gas mixture and reacts with the liquid / gas. The mixed fluid (fluid + plasma activated Gas) is sterilized while mixing with the fluid introduced from the first circulation pipe 156.

외부에서 유입된 유체는 제1 순환배관(156)과 바이패스배관(170)으로 분배되어 이송되며, 제1 순환배관(156)과 바이패스배관(170)의 배관 내에 흐르는 유체의 양을 각각의 밸브(159, 179)를 조절하여 분배할 수 있으며, 특히 수처리작용의 주요인자인 플라즈마활성화기체 유입량을 변화시키기 위하여 밸브(159, 179)를 조절하여 수용챔버부(151)로 유입되는 플라즈마활성화기체를 조절할 수 있다. 바이패스배관(170)에서 유입된 활성기체를 포함한 유체는 수용 챔버부(151)에서 확산되며 제1 순환배관(156)에서 유입된 유체와 격렬히 반응하여 플라즈마활성화기체와 반응을 한다.The fluid flowing from the outside is distributed and transferred to the first circulation pipe 156 and the bypass pipe 170 and the amount of the fluid flowing in the pipe of the first circulation pipe 156 and the bypass pipe 170 is The valves 159 and 179 can be adjusted and distributed and the valves 159 and 179 can be adjusted to change the amount of the plasma activated gas inflow which is a major factor in the water treatment operation, Can be adjusted. The fluid including the active gas introduced from the bypass pipe 170 diffuses in the accommodating chamber part 151 and reacts violently with the fluid introduced from the first circulation pipe 156 to react with the plasma activating gas.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the following claims. It can be understood that

10:축사 12:배기 팬
110:배기 덕트 112:습식세척공간
120:습식 분무노즐 123:기액분리필터
125:고압 분사노즐 130:플라즈마 처리부
135:고압 세척노즐 140:세척수 저수조
150:액체 처리부 160:이젝터
170:바이패스관 180:트랩배관
182:배수배관
10: housing 12: exhaust fan
110: exhaust duct 112: wet cleaning space
120: wet spray nozzle 123: gas-liquid separation filter
125: high-pressure spray nozzle 130: plasma processing unit
135: High pressure wash nozzle 140: Wash water reservoir
150: liquid processing unit 160: ejector
170: bypass pipe 180: trap pipe
182: Drain pipe

Claims (13)

축사에 설치된 복수개의 배기 팬을 통해서 배출되는 공기의 악취원인물질을 제거하기 위한 순환형 대기처리장치에 있어서,
축사 외측에서 각각의 상기 배기 팬에 장착되며, 상기 배기 팬 전방에 습식세척공간을 제공하고, 상기 습식세척공간 상부로 연장되어 단부에 배출구를 갖는 배기 덕트;
상기 습식세척공간 상부에서 배치되어 상기 습식세척공간으로 유입되는 공기를 액체로 처리하는 습식 분무노즐;
상기 습식 분무노즐 상부에 배치되어 상기 습식세척공간에서 처리된 공기를 플라즈마로 처리하는 플라즈마 처리부;
상기 배기 덕트에 연결되는 배출배관을 통해서 상기 습식 분무노즐로부터 분사되는 액체를 상기 습식세척공간 하부에서 회수하는 세척수 저수조; 및
상기 세척수 저수조에 수용되는 액체를 처리하는 액체 처리부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
1. A circulating type atmospheric treatment apparatus for removing odor-causing substances from air discharged through a plurality of exhaust fans installed in a housing,
An exhaust duct mounted on each of the exhaust fans outside the housing for providing a wet cleaning space in front of the exhaust fan and extending above the wet cleaning space and having an outlet at an end thereof;
A wet spray nozzle disposed above the wet cleaning space and treating the air introduced into the wet cleaning space into a liquid;
A plasma processing unit disposed above the wet atomizing nozzle and treating the air treated in the wet cleaning space with plasma;
A washing water reservoir for recovering liquid sprayed from the wet spray nozzle through an exhaust pipe connected to the exhaust duct in a lower part of the wet cleaning space; And
A liquid processing unit for processing the liquid contained in the wash water reservoir;
Wherein the circulation type air processing apparatus comprises:
제1항에 있어서,
상기 액체 처리부에서 처리된 액체는 상기 세척수 저수조로 순환하면서 상기 액체 처리부에서 반복 처리되는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
The method according to claim 1,
Wherein the liquid treated in the liquid treatment section is repeatedly treated in the liquid treatment section while circulating in the wash water storage tank.
제1항에 있어서,
상기 액체 처리부에서 처리된 액체는 상기 습식 분무노즐로 재 공급되는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
The method according to claim 1,
And the liquid processed in the liquid processing unit is supplied again to the wet atomizing nozzle.
제1항에 있어서,
상기 습식 분무노즐 및 상기 플라즈마 처리부 사이에 배치되는 기액분리필터를 포함하며,
상기 습식세척공간 내의 공기는 상기 기액분리필터에 의해서 상기 공기 중에 내포된 액체가 걸러져 상기 플라즈마 처리부로 유입되는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
The method according to claim 1,
And a gas-liquid separation filter disposed between the wet atomizing nozzle and the plasma processing section,
Wherein the air in the wet cleaning space is filtered by the gas-liquid separation filter so that the liquid contained in the air is introduced into the plasma processing unit.
제4항에 있어서,
상기 기액분리필터 상부에 배치되어 고압의 공기 또는 액체를 분사하는 고압 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
5. The method of claim 4,
And a high-pressure spray nozzle disposed above the gas-liquid separation filter for spraying high-pressure air or liquid.
제1항에 있어서,
상기 플라즈마 처리부는 상기 배기 덕트로 유입되는 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 접지전극 및 상기 접지전극 사이에 배치되는 방전전극을 포함하며,
상기 악취원인물질은 상기 접지전극 및 상기 방전전극의 가장자리에서 발생하는 플라즈마 방전에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
The method according to claim 1,
Wherein the plasma processing unit includes a ground electrode extending along a flow direction of the air flowing into the exhaust duct and a discharge electrode disposed between the ground electrodes,
And the odor-causing substance is removed by a plasma discharge generated at the edges of the ground electrode and the discharge electrode.
제6항에 있어서,
상기 플라즈마 처리부 상부에 배치되어 상기 플라즈마 처리부의 상기 접지전극 및 상기 방전전극에 집진된 먼지를 고압의 공기 또는 액체를 분사하여 제거하는 고압 세척노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
The method according to claim 6,
And a high-pressure cleaning nozzle disposed at an upper portion of the plasma processing unit for spraying and removing high-pressure air or liquid from the dust collected at the ground electrode and the discharge electrode of the plasma processing unit.
제1항에 있어서,
상기 액체 처리부는,
상기 세척수 저수조에 수용되는 액체가 유입 및 배출되는 수용 챔버부;
상기 수용 챔버부 내측에 수용되는 액체를 가로질러 배치되며, 상기 액체와 분리되는 기체 유입구 및 기체 배출구를 포함하는 유전체관;
상기 액체로부터 격리되게 상기 유전체관 내측에 배치되는 코어전극; 및
상기 기체 유입구로 기체를 공급하는 기체 공급부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
The method according to claim 1,
The liquid processing unit includes:
An accommodating chamber portion through which the liquid accommodated in the wash water reservoir is introduced and discharged;
A dielectric tube disposed across the liquid contained in the receiving chamber portion and including a gas inlet and a gas outlet separated from the liquid;
A core electrode disposed inside the dielectric tube so as to be isolated from the liquid; And
A gas supply unit for supplying gas to the gas inlet;
Wherein the circulation type air processing apparatus comprises:
제8항에 있어서,
상기 기체 유입구로 공급되어 상기 유전체관 내측을 지나면서 플라즈마 방전에 의해 기체 활성종을 갖는 기체는 상기 기체 배출구로 배출되고,
다시 상기 수용 챔버부 내측으로 유입되어 상기 수용 챔버부 내측으로 수용되는 액체를 처리하는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
9. The method of claim 8,
A gas supplied to the gas inlet and passing through the inside of the dielectric tube and having gas active species by plasma discharge is discharged to the gas outlet,
And the liquid introduced into the accommodating chamber portion again to process liquid contained in the accommodating chamber portion.
제9항에 있어서,
상기 세척수 저수조에서 상기 액체 처리부로 상기 액체를 이송하는 제1 순환배관 및 상기 액체 처리부에서 상기 세척수 저수조로 상기 액체를 이송하는 제2 순환배관을 포함하며,
상기 수용 챔버부와 상기 제1 순환배관을 연결하는 바이패스관을 포함하며, 상기 기체 배출구로 배출되는 상기 기체는 상기 기체 배출구와 상기 바이패스관을 연결하는 기체 배출배관을 통해서 상기 바이패스관으로 다시 유입되는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
10. The method of claim 9,
A first circulation pipe for transferring the liquid from the wash water reservoir to the liquid processing unit and a second circulation pipe for transferring the liquid from the liquid processing unit to the wash water reservoir,
And a bypass pipe connecting the accommodating chamber portion and the first circulation pipe, wherein the gas discharged to the gas discharge port passes through the gas discharge pipe connecting the gas discharge port and the bypass pipe to the bypass pipe And the air is introduced again.
제10항에 있어서,
상기 바이패스관에는 이젝터(ejector)가 배치되며, 상기 기체 배출배관은 상기 이젝터에 연결되어 상기 기체 배출구로부터 배출되는 상기 기체는 상기 기체 배출배관 및 상기 이젝터를 순차적으로 거쳐 상기 바이패스관으로 유입되며, 상기 수용 챔버부에 연결된 상기 제1 순환배관의 액체와 혼합되어 처리하는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
11. The method of claim 10,
An ejector is disposed in the bypass pipe. The gas exhaust pipe is connected to the ejector, and the gas discharged from the gas discharge port is sequentially introduced into the bypass pipe through the gas discharge pipe and the ejector Is mixed with the liquid of the first circulation pipe connected to the accommodating chamber part and processed.
제10항에 있어서,
상기 기체 배출배관 및 상기 바이패스관 사이에서 상기 기체 배출배관 및 상기 바이패스관을 연결하는 활성기체 유입관이 배치되며,
상기 기체 배출배관 및 상기 활성기체 유입관이 한쪽 단부에 연결되는 U자형 배수배관이 배치되며, 상기 바이패스관에서 상기 활성기체 유입관으로 역류하는 액체는 상기 배수배관의 다른쪽 단부를 거쳐 배출되는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
11. The method of claim 10,
An active gas inlet pipe connecting the gas discharge pipe and the bypass pipe is disposed between the gas discharge pipe and the bypass pipe,
Shaped exhaust pipe connected to one end of the gas discharge pipe and the active gas inlet pipe is disposed in the bypass pipe and the liquid flowing backward from the bypass pipe to the active gas inlet pipe is discharged through the other end of the discharge pipe Wherein said atmospheric treatment apparatus is a circulating type atmospheric treatment apparatus.
제8항에 있어서,
상기 세척수 저수조에서 상기 액체 처리부로 상기 액체를 이송하는 제1 순환배관의 단부는 상기 액체 처리부의 상기 수용 챔버부 내측까지 연장되며,
상기 내측까지 연장되는 단부는 상기 제1 순환배관에서 상기 수용 챔버부로 유입되는 액체의 경로를 상기 유전체관에서 상기 수용 챔버부 내측으로 전환하도록 굴절되어 상기 액체가 상기 유전체관으로 바로 향하여 파손시키는 것을 방지하고, 상기 수용 챔버부 내측에서 난류를 유도하는 것을 특징으로 하는 순환형 대기처리장치.
9. The method of claim 8,
The end of the first circulation pipe for transferring the liquid from the wash water reservoir to the liquid processing section extends to the inside of the accommodating chamber section of the liquid processing section,
The end extending to the inner side is refracted so as to switch the path of the liquid flowing into the accommodating chamber portion from the first circulating pipe from the dielectric tube to the inside of the accommodating chamber portion so as to prevent the liquid from directly leading to the dielectric tube And induces turbulence in the inside of the accommodating chamber portion.
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