KR20160035443A - 3d nonvolatile semiconductor memory device, data storage device and user device using variable incremental step pulse programming - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device. The three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device variably generates an intensity of a program voltage according to a position of a selection word line in a nonvolatile memory device having a three-dimensional vertical channel layer structure to perform a program operation to increase program performance.

Description

가변적 ISPP 방식을 이용하여 프로그램을 수행하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치, 데이터 저장 장치 및 사용자 장치{3D NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE, DATA STORAGE DEVICE AND USER DEVICE USING VARIABLE INCREMENTAL STEP PULSE PROGRAMMING}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device, a data storage device, and a user device for performing a program using a variable ISPP method,

본 발명은 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 선택 워드 라인의 위치에 따라 프로그램 전압의 크기를 가변적으로 생성하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치, 데이터 저장 장치 및 사용자 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device that variably generates a magnitude of a program voltage according to a position of a selected word line, a data storage device, will be.

반도체 메모리 장치는 데이터를 저장해 두고 필요할 때 읽어볼 수 있는 기억장치이다. 이러한 반도체 메모리 장치는 크게 램(Random Access Memory; RAM)과 롬(Read Only Memory; ROM)으로 나누어진다.Semiconductor memory devices are storage devices that store data and can be read when needed. Such a semiconductor memory device is roughly classified into a random access memory (RAM) and a read only memory (ROM).

램에 저장된 데이터는 전원 공급이 중단되면 소멸 되는데, 이러한 타입의 메모리를 휘발성(Volatile) 메모리라고 한다. 이러한 휘발성 반도체 메모리 장치는 읽고 쓰는 속도가 빠르지만 외부 전원 공급이 끊기면 저장된 내용이 사라져 버리는 단점이 있다. 반면에, 롬에 저장된 데이터는 전원 공급이 중단되더라도 소멸 되지 않는데, 이러한 타입의 메모리를 비휘발성(Nonvolatile) 메모리라고 한다. 그러므로, 비휘발성 메모리 장치는 전원이 공급되었는지의 여부에 상관없이 보존되어야 할 내용을 기억시키는데 쓰인다.Data stored in the RAM is lost when the power supply is interrupted. This type of memory is called volatile memory. Such a volatile semiconductor memory device has a drawback in that the stored contents disappear if the external power supply is cut off although the reading and writing speed is fast. On the other hand, the data stored in the ROM is not destroyed even if the power supply is interrupted. This type of memory is called nonvolatile memory. Therefore, a nonvolatile memory device is used to store contents that should be stored regardless of whether power is supplied or not.

비휘발성 메모리 장치로는 마스크 롬(Mask read-only memory, MROM), 프로그램 가능한 롬(Programmable readonly memory, PROM), 소거 및 프로그램 가능한 롬(Erasable programmable read-only memory, EPROM), 전기적으로 소거 및 프로그램 가능한 롬(Electrically erasable programmable read-only memory, EEPROM) 등이 있다. 이 중에서 MROM, PROM 및 EPROM은 시스템 자체적으로 소거 및 쓰기가 자유롭지 못해 일반 사용자들이 기억 내용을 갱신하기가 용이하지 않다. 이에 반하여, 위의 EEPROM은 전기적으로 소거 및 쓰기가 가능하기 때문에, 계속적인 갱신이 필요한 시스템 프로그래밍(System programming)이나 보조 기억 장치로의 응용이 확대되고 있다. 특히, 플래시(Flash) 메모리는 기존의 EEPROM에 비해 집적도가 높아, 대용량 보조 기억 장치로의 응용에 매우 유리하다. 플래시 메모리 중에서도 낸드형(NAND-type) 플래시 메모리는 집적도가 매우 높은 장점을 가진다.Non-volatile memory devices include, but are not limited to, mask read-only memory (MROM), programmable read only memory (PROM), erasable programmable read-only memory (EPROM) And electrically erasable programmable read-only memory (EEPROM). Among them, MROM, PROM and EPROM are not free to erase and write on the system itself, and it is not easy for general users to update the memory contents. On the other hand, since the above EEPROM can be electrically erased and written, application to system programming or an auxiliary memory device which is continuously updated is expanding. In particular, flash memory has a higher integration density than conventional EEPROMs, which is very advantageous for application as a large capacity auxiliary memory device. Among NAND-type flash memories, NAND-type flash memories have a high degree of integration.

비휘발성 메모리 장치인 플래시 메모리 장치는 데이터의 기록 및 소거가 전기적으로 수행되는 특징을 갖는다. 플래시 메모리 장치의 메모리 셀 들은 복수의 블록들로 구성되고, 각각의 블록은 다수개의 페이지로 구성된다. 특히 블록은 메모리 셀에 저장된 데이터를 소거하는 최소 단위가 된다.A flash memory device which is a nonvolatile memory device has a feature in which writing and erasing of data are electrically performed. The memory cells of the flash memory device are composed of a plurality of blocks, and each block is composed of a plurality of pages. In particular, a block is a minimum unit for erasing data stored in a memory cell.

플래시 메모리 장치는, 프로그램 동작 또는 소거 동작시에, 고에너지 장벽을 통과하는 터널링 효과와 높은 운동 에너지를 가진 핫 캐리어가 절연물을 통과하는 핫 캐리어 효과를 이용한다.The flash memory device utilizes a hot carrier effect in which a hot carrier having a tunneling effect and a high kinetic energy pass through a high energy barrier during a program operation or an erase operation.

이러한 플래시 메모리 장치를 프로그램할 때에는 프로그램 금지 워드라인에 패스 전압(Vpass)을 인가하는 한편 프로그램할 워드라인에 프로그램 전압(Vpgm)을 인가한다. 보다 구체적으로, 전압 제공부에서 생성한 프로그램 전압(Vpgm) 및 패스 전압(Vpass)이 글로벌 워드라인으로 인가되고, 블럭 선택 신호에 의해 구동되는 블럭 스위치를 통해 글로벌 워드라인에 인가된 전압이 로컬 워드라인으로 전달되는 것이다.When programming such a flash memory device, a pass voltage (Vpass) is applied to the program inhibit word line while a program voltage (Vpgm) is applied to the word line to be programmed. More specifically, the program voltage Vpgm and the pass voltage Vpass generated in the voltage supply unit are applied to the global word line, and the voltage applied to the global word line through the block switch driven by the block selection signal becomes the local word Line.

한편, 최근 반도체 기판 상에 단층으로 메모리 셀을 형성하는 2차원 구조의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 집적도 향상이 한계에 도달함에 따라, 반도체 기판으로부터 수직 방향으로 돌출된 채널층을 따라 복수의 메모리 셀을 형성하는 3차원 구조의 비휘발성 메모리 장치가 제안되었다.On the other hand, recently, as the degree of integration of a non-volatile semiconductor memory device having a two-dimensional structure for forming memory cells in a single layer on a semiconductor substrate has reached a limit, a plurality of memory cells are formed along a channel layer projecting vertically from the semiconductor substrate A nonvolatile memory device having a three-dimensional structure has been proposed.

이러한 3차원 구조의 비휘발성 반도체 메모리 장치로는 크게 일자형 채널층을 갖는 구조와 U형 채널층을 갖는 구조로 구분된다. 일자형 채널층을 갖는 구조는 적층된 메모리 셀의 상부 및 하부에 각각 비트라인 및 소스라인이 배치된다. U형 채널층을 갖는 구조는 적층된 메모리 셀의 상부에 비트 라인과 소스라인이 모두 배치되는 구조이다. 이러한 U형 채널층을 갖는 구조는 한 층의 선택 게이트만이 요구되므로 집적도 측면에서 유리하다.Such a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device is classified into a structure having a straight channel layer and a structure having a U-type channel layer. A structure having a straight channel layer has bit lines and source lines disposed at the top and bottom of the stacked memory cells, respectively. The structure having the U-type channel layer is a structure in which both the bit line and the source line are disposed on the stacked memory cell. Such a structure having a U-type channel layer is advantageous in terms of integration because only one select gate is required.

그런데 이러한 3차원 구조의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 경우, 상부의 워드라인과 하부의 워드라인 사이에 프로그램 속도차가 존재하며, 이러한 속도차에 의해 전체적인 프로그램 속도가 느려지는 문제가 발생하고 있다.However, in the case of a nonvolatile semiconductor memory device having such a three-dimensional structure, there is a difference in program speed between the upper word line and the lower word line, and the overall program speed is slowed by the difference in speed.

예컨대, 채널층을 형성하기 위해, 적층된 워드라인용 도전층들을 식각하여 채널홀을 형성시, 채널홀의 직경은 일정하게 형성되지 않고 높이에 따라 다르게 형성된다. 즉, 하부로 내려갈수록 채널홀의 직경이 점점 작아지게 형성된다. 이에 따라, 적층된 워드 라인들의 위치(수직 방향 위치)에 따라 해당 셀들의 문턱 전압(Vth)이 서로 달라 프로그램 속도에 차이가 발생하게 된다.For example, when forming the channel layer by etching the conductive layers for the word lines to form the channel layer, the diameter of the channel hole is not formed uniformly but is formed differently according to the height. That is, the diameter of the channel hole gradually decreases as it goes downward. Accordingly, the threshold voltages Vth of the corresponding cells are different from each other depending on the position (vertical position) of the stacked word lines, resulting in a difference in program speed.

본 발명의 실시예는 수직 채널층 구조를 갖는 비휘발성 메모리 장치의 프로그램 속도를 향상시킴으로써 프로그램 성능(performance)을 증가시킬 수 있는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치를 제공하고자 한다.An embodiment of the present invention seeks to provide a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device capable of increasing program performance by improving the programming speed of a nonvolatile memory device having a vertical channel layer structure.

본 발명의 일 실시예에 따른 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치는 적층된 워드 라인들과 수직 채널층이 교차되는 영역에 형성된 메모리 셀들을 포함하는 셀 어레이; 프로그램 동작시 상기 워드 라인들 중 선택 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 로우 디코더; 시작전압 제어신호 및 스텝제어신호에 따라 상기 프로그램 전압의 크기를 가변되게 생성하고, 생성된 프로그램 전압을 상기 로우 디코더에 제공하는 전압 발생기; 및 상기 선택 워드 라인의 위치에 따라 상기 시작전압 제어신호 및 상기 스텝제어신호를 생성하여 상기 전압 발생기에 출력하는 제어부를 포함할 수 있다.A three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes: a cell array including memory cells formed in a region where a word line and a vertical channel layer are stacked; A row decoder for applying a program voltage to selected word lines of the word lines during a program operation; A voltage generator for variably generating a magnitude of the program voltage according to a start voltage control signal and a step control signal and providing the generated program voltage to the row decoder; And a control unit for generating the start voltage control signal and the step control signal according to the position of the selected word line and outputting the generated start voltage control signal and the step control signal to the voltage generator.

본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 저장 장치는 적층된 워드 라인들과 수직 채널층이 교차되는 영역에 메모리 셀들이 형성된 셀 어레이를 포함하며, 상기 메모리 셀들에 대한 프로그램 동작시 시작전압 제어신호에 따라 선택 워드 라인의 위치별로 서로 다른 크기의 프로그램 전압을 발생시켜 상기 프로그램 동작을 수행하는 메모리 장치; 및 호스트로부터 인가되는 명령어를 디코딩하고 디코딩된 결과에 따라 상기 메모리 장치의 프로그램 동작을 제어하며, 상기 프로그램 동작시 상기 선택 워드 라인의 위치에 따라 상기 시작전압 제어신호를 생성하여 상기 메모리 장치에 전송하는 메모리 컨트롤러를 포함할 수 있다.A data storage device according to an embodiment of the present invention includes a cell array in which memory cells are formed in a region where a word line and a vertical channel layer are stacked, A memory device for generating a program voltage of a different magnitude for each position of a selected word line to perform the program operation; And a controller for decoding the command applied from the host and controlling the program operation of the memory device according to the decoded result, and generating the start voltage control signal in accordance with the position of the selected word line during the program operation and transmitting the start voltage control signal to the memory device Memory controller.

본 발명의 일 실시예에 따른 사용자 장치는 적층된 워드 라인들과 수직 채널층이 교차되는 영역에 메모리 셀들이 형성된 적어도 하나의 메모리 칩을 포함하는 데이터 저장 장치; 및 상기 데이터 저장 장치의 동작을 제어하는 호스트를 포함하며, 상기 데이터 저장 장치는 상기 메모리 칩에 대한 프로그램 동작시 선택 워드 라인에 대한 위치정보를 상기 호스트에 제공하여 상기 호스트로부터 상기 위치정보에 대응되는 시작전압 제어신호를 제공받고, 상기 시작전압 제어신호에 따라 서로 다른 크기의 프로그램 전압을 발생시켜 상기 프로그램 동작을 수행할 수 있다.A user apparatus according to an embodiment of the present invention includes a data storage device including at least one memory chip in which memory cells are formed in a region where a word line and a vertical channel layer are crossed; And a host for controlling operation of the data storage device, wherein the data storage device provides location information for a selected word line to the host during a program operation for the memory chip, A program voltage can be generated by generating a program voltage having a different magnitude according to the start voltage control signal.

본 발명의 실시예는 수직 채널층을 갖는 비휘발성 메모리 장치의 프로그램 속도를 향상시킴으로써 프로그램 성능(performance)을 증가시킬 수 있다.Embodiments of the present invention can increase program performance by improving the program speed of a non-volatile memory device having a vertical channel layer.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 구성도.
도 2A는 본 실시예에 따른 도 1의 메모리 셀 어레이가 U형 채널층을 갖는 구조를 간략하게 나타낸 단면도.
도 2B는 본 실시예에 따른 도 1의 메모리 셀 어레이가 일자형 채널층을 갖는 구조를 간략하게 나타낸 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가변적 ISPP 방식에 따라 가변되는 프로그램 전압들의 모습을 보여주는 도면.
도 4A는 도 2A의 셀 어레이 구조시 워드 라인들의 위치에 따른 메모리 셀들의 문턱 전압 분포를 도식적으로 나타낸 도면.
도 4B는 도 2B의 셀 어레이 구조시 워드 라인들의 위치에 따른 메모리 셀들의 문턱 전압 분포를 도식적으로 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가변적 ISPP 방식에 따라 가변되는 프로그램 전압들의 모습을 보여주는 도면.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가변적 ISPP 방식에 따라 가변되는 프로그램 전압들의 모습을 보여주는 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 저장 장치의 구성을 간략하게 나타낸 구성도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 사용자 장치의 구성을 간략하게 나타낸 구성도.
1 is a configuration diagram showing a configuration of a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2A is a sectional view schematically showing a structure in which the memory cell array of FIG. 1 according to the present embodiment has a U-shaped channel layer; FIG.
FIG. 2B is a cross-sectional view schematically showing a structure in which the memory cell array of FIG. 1 has a straight channel layer according to the present embodiment; FIG.
FIG. 3 is a view showing a program voltage variable according to a variable ISPP method according to an embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 4A is a diagrammatic representation of a threshold voltage distribution of memory cells according to the location of the word lines in the cell array structure of FIG. 2A; FIG.
4B is a diagrammatic representation of a threshold voltage distribution of memory cells according to the location of the word lines in the cell array structure of Fig. 2B. Fig.
FIG. 5 is a view showing a program voltage variable according to a variable ISPP method according to another embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 6 is a view showing a program voltage variable according to a variable ISPP method according to another embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 7 is a block diagram schematically showing a configuration of a data storage device according to an embodiment of the present invention; FIG.
8 is a configuration diagram briefly showing a configuration of a user apparatus according to an embodiment of the present invention;

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 구성도이다.1 is a configuration diagram showing a configuration of a three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 3차원 비휘발성 메모리 장치(100)는 메모리 셀 어레이(110), 로우 디코더(row decoder)(120), 페이지 버퍼(130), 전압 발생기(voltage generator)(140) 및 제어부(controller)(150)를 포함한다.The three dimensional nonvolatile memory device 100 according to the present embodiment includes a memory cell array 110, a row decoder 120, a page buffer 130, a voltage generator 140, controller 150.

메모리 셀 어레이(110)는 워드 라인들 WL0 ∼ WLn 및 비트 라인들 BL0 ∼ BLn에 연결된 메모리 셀들 MC0 ∼ MCn을 포함하는 복수의 페이지들 PG0 ∼ PGn을 포함한다. 이때, 메모리 셀 어레이(110)는 수직하게 적층된 워드 라인들 WL0 ∼ WLn과 수직 채널층이 교차되는 영역에 메모리 셀들이 형성되는 3차원 구조로 형성된다. 예컨대, 메모리 셀 어레이(110)는 도 2A에서와 같이 비트 라인 BL 및 소스 라인 CSL이 메모리 셀의 상부에 위치하는 U형 채널층을 갖는 3차원 구조로 형성될 수 있다. 또는, 메모리 셀 어레이(110)는 도 2B에서와 같이 비트 라인 BL은 메모리 셀의 상부에 위치하고 소스 라인 CSL은 메모리 셀의 하부에 위치하는 일자형 채널층을 갖는 3차원 구조로 형성될 수도 있다. 메모리 셀들 MC0 ∼ MCn이 직렬 연결된 셀 스트링들과 비트라인 BL0 ∼ BLn 사이에는 드레인 선택 트랜지스터들 DST0 ∼ DSTn이 형성되며, 셀 스트링들과 공통 소스 라인 CSL 사이에는 소스 선택 트랜지스터들 SST0 ∼ SSTn이 형성된다.The memory cell array 110 includes a plurality of pages PG0 to PGn including memory cells MC0 to MCn connected to word lines WL0 to WLn and bit lines BL0 to BLn. At this time, the memory cell array 110 is formed in a three-dimensional structure in which memory cells are formed in a region where vertically stacked word lines WL0 to WLn and a vertical channel layer are crossed. For example, the memory cell array 110 may be formed in a three-dimensional structure having a U-shaped channel layer in which the bit line BL and the source line CSL are located on top of the memory cell, as shown in FIG. 2A. Alternatively, the memory cell array 110 may be formed in a three-dimensional structure having a bit line BL located on the upper portion of the memory cell and a source line CSL located on the lower portion of the memory cell, as shown in FIG. 2B. Drain select transistors DST0 to DSTn are formed between the cell strings connected in series with the memory cells MC0 to MCn and the bit lines BL0 to BLn and source select transistors SST0 to SSTn are formed between the cell strings and the common source line CSL .

로우 디코더(row decoder)(120)는 메모리 셀 어레이(110)에 대한 프로그램 동작시, 로우 어드레스(row address) X-ADDR를 디코딩하고 디코딩된 로우 어드레스에 따라 전압 발생기(110)로부터 제공받은 워드 라인 전압들(예컨대, 프로그램 전압 Vpgm, 패스 전압 Vpass)을 메모리 셀 어레이(110)의 워드 라인들 WL0 ∼ WLn에 제공한다.The row decoder 120 decodes a row address X-ADDR during a program operation for the memory cell array 110 and outputs the word line X-ADDR received from the voltage generator 110 according to the decoded row address, (E.g., a program voltage Vpgm, a pass voltage Vpass) to the word lines WL0 to WLn of the memory cell array 110. [

페이지 버퍼(130)는 메모리 셀 어레이(110)의 비트 라인들 BL0 ∼ BLn과 연결되며, 메모리 셀 어레이(110)로부터 독출된 데이터를 저장한다. 또한, 페이지 버퍼(130)는 비트 라인들 BL0 ∼ BLn을 통해 메모리 셀 어레이(110)에 기입될 데이터를 저장한다.The page buffer 130 is connected to the bit lines BL0 to BLn of the memory cell array 110 and stores data read from the memory cell array 110. [ In addition, the page buffer 130 stores data to be written to the memory cell array 110 through the bit lines BL0 to BLn.

전압 발생기(140)는 제어부(150)의 제어에 따라 워드 라인 전압들(프로그램 전압, 패스 전압, 독출 전압)을 발생시켜 로우 디코더(120)에 제공한다. 예컨대, 전압 발생기(140)는 제어부(150)로부터 수신되는 스텝제어신호 STEP 및 시작전압 제어신호 SVC에 따라 프로그램 전압 Vpgm 및 패스 전압 Vpass을 발생시켜 로우 디코더(120)에 제공한다. 이때, 프로그램 전압 Vpgm은 증가형 스텝 펄스 프로그램(Incremental Step Pulse Programming, 이하 'ISPP'라 약칭함) 방식에 따라 생성된다. 예컨대, 전압 발생기(140)는 선택된 워드 라인에 대응되는 시작 전압(start bias)을 먼저 생성하여 로우 디코더(120)에 제공하고 프로그램 루프에 따라 프로그램 전압을 기 설정된 스텝 전압 ΔVispp 만큼씩 단계적으로 상승시켜 로우 디코더(120)에 제공한다. 이때, 본 실시예에 따른 전압 발생기(140)는 제어부(150)로부터 제공받은 시작전압 제어신호 SVC에 따라 프로그램 시작 전압의 크기를 가변적으로 생성하여 로우 디코더(120)에 제공한다. 또는 전압 발생기(140)는 시작전압 제어신호 SVC에 따라 프로그램 시작 전압의 크기 및 스텝 전압 ΔVispp의 크기를 모두 가변적으로 생성한다. 이러한 본 실시예에 따른 가변적 ISSP 방식에 따른 프로그램 전압 생성 방법에 대해서는 상세하게 후술한다.The voltage generator 140 generates word line voltages (a program voltage, a pass voltage, and a read voltage) under the control of the controller 150 and provides them to the row decoder 120. For example, the voltage generator 140 generates the program voltage Vpgm and the pass voltage Vpass according to the step control signal STEP and the start voltage control signal SVC received from the controller 150 and provides the program voltage Vpgm and the pass voltage Vpass to the row decoder 120. At this time, the program voltage Vpgm is generated according to an incremental step pulse programming (ISPP) method. For example, the voltage generator 140 first generates a start bias corresponding to the selected word line and provides it to the row decoder 120, and gradually raises the program voltage by a predetermined step voltage? Vispp in accordance with the program loop To the row decoder (120). At this time, the voltage generator 140 according to the present embodiment variably generates the program start voltage according to the start voltage control signal SVC provided from the controller 150, and provides the variable voltage to the row decoder 120. Alternatively, the voltage generator 140 variably generates both the magnitude of the program start voltage and the magnitude of the step voltage? Vispp according to the start voltage control signal SVC. The program voltage generating method according to the variable ISSP scheme according to this embodiment will be described in detail later.

제어부(150)는 프로그램, 소거 및 읽기 동작과 같은 메모리 장치(100)의 전반적인 동작을 제어한다. 예를 들어, 제어부(140)는 프로그램 동작시에, 프로그램 전압 Vpgm이 선택 워드 라인에 인가되고, 패스 전압 Vpass이 비선택 워드 라인들에 인가되도록 페이지 버퍼(130) 및 전압 발생기(140)를 제어한다. 특히, 제어부(150)는 ISSP 방식에 따른 프로그램 시작 전압의 크기를 제어하기 위한 시작전압 제어신호 SVC와 프로그램 전압의 발생 횟수를 제어하기 위한 스텝제어신호 STEP를 생성하여 전압 발생기(140)에 출력한다. 이때, 시작전압 제어신호 SVC는 선택된 워드 라인의 위치(적층된 높이)에 따라 해당 워드 라인에 인가되어야 할 프로그램 시작 전압의 크기를 나타내는 신호이다. 예컨대, 제어부(150)는 로우 어드레스 X-ADDR를 디코딩하여 선택 워드 라인의 위치(높이)를 파악한 후 그 위치에 대응되는 시작전압 제어신호 SVC를 생성할 수 있다.
The control unit 150 controls the overall operation of the memory device 100, such as program, erase and read operations. For example, the control unit 140 controls the page buffer 130 and the voltage generator 140 so that the program voltage Vpgm is applied to the selected word line and the pass voltage Vpass is applied to the unselected word lines do. In particular, the control unit 150 generates a start voltage control signal SVC for controlling the magnitude of the program start voltage according to the ISSP scheme and a step control signal STEP for controlling the number of times of generation of the program voltage, and outputs the generated step control signal STEP to the voltage generator 140 . At this time, the start voltage control signal SVC is a signal indicating the magnitude of the program start voltage to be applied to the corresponding word line according to the position (stacked height) of the selected word line. For example, the control unit 150 may decode the row address X-ADDR to determine the position (height) of the selected word line, and then generate the start voltage control signal SVC corresponding to the position.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가변적 ISPP 방식에 따라 가변되는 프로그램 전압들의 모습을 보여주는 도면이다.FIG. 3 is a view showing a program voltage variable according to a variable ISPP method according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.

도 3을 이용하여 도 1 및 도 2의 구조를 갖는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치에서의 가변적 ISPP 방식에 따른 프로그램 동작을 설명하면 다음과 같다.The program operation according to the variable ISPP scheme in the three-dimensional nonvolatile semiconductor memory device having the structure of FIG. 1 and FIG. 2 will be described with reference to FIG.

수직 채널층을 갖는 3차원 구조의 반도체 메모리 장치에서는 메모리 셀들의 위치(높이)에 따라 메모리 셀들의 문턱 전압 Vth이 서로 다르게 형성된다.In a three-dimensional semiconductor memory device having a vertical channel layer, threshold voltages Vth of memory cells are formed differently according to the positions (heights) of the memory cells.

예컨대, 최상위에 있는 워드 라인(Top word line) WL0에 대응되는 메모리 셀들의 문턱 전압이 가장 크며, 최하위에 있는 워드 라인(Bottom word line) WLk에 대응되는 메모리 셀들의 문턱 전압이 가장 작다. 이는, 순차적으로 적층된 많은 수의 워드 라인용 도전층과 절연층을 수직 방향으로 식각하여 수직 채널층이 형성될 채널홀을 형성시, 채널홀의 직경을 균일하게 형성할 수 없기 때문이다.For example, the threshold voltages of the memory cells corresponding to the top word line WL0 are the largest, and the threshold voltages of the memory cells corresponding to the bottom word line WLk are the smallest. This is because, when forming a channel hole in which a vertical channel layer is to be formed by etching a large number of conductive layers for word lines and an insulating layer sequentially stacked in a vertical direction, the diameter of the channel hole can not be formed uniformly.

이에 따라, 도 2A에서와 같은 U형 채널층을 갖는 3차원 메모리 셀 어레이 및 도 2B에서와 같은 일자형 채널층을 갖는 3차원 메모리 셀 어레이에서 하나의 스트링(string)을 구성하는 메모리 셀들의 문턱 전압 크기를 메모리 셀의 위치(높이)에 따라 연속적으로 나타내면 각각 도 4A 및 4B와 같은 모습이 될 수 있다. 이때, 기울기(slope) 값은 메모리 셀 어레이(110)의 구조(예컨대, 적층된 워드 라인들의 수)에 따라 달라질 수 있으며, 반도체 메모리 장치(100)에 대한 테스트 과정을 통해 알 수 있다.Accordingly, in the three-dimensional memory cell array having the U-type channel layer as shown in FIG. 2A and the three-dimensional memory cell array having the linear channel layer as shown in FIG. 2B, the threshold voltage of the memory cells constituting one string 4A and 4B, respectively, when the size is continuously represented according to the position (height) of the memory cell. At this time, the slope value may vary according to the structure of the memory cell array 110 (for example, the number of stacked word lines) and can be known through a test process for the semiconductor memory device 100.

따라서, 수직 채널층을 따라 수직하게 적층된 메모리 셀들의 프로그램 속도를 일치시키기 위해서는, 도 4A 또는 4B에서의 기울기 값을 반영하여 워드 라인의 위치(높이)에 따라 해당 워드 라인에 인가되는 프로그램 전압의 크기를 다르게 적용할 필요가 있다. 예컨대, 최상위 워드 라인에 근접할수록 해당 워드 라인들에는 상대적으로 점차 높은 프로그램 전압이 인가되도록 하고 최하위 워드 라인에 근접할수록 해당 워드라인에 상대적으로 점차 낮은 프로그램 전압이 인가되도록 해야 한다.Therefore, in order to match the programming speed of the vertically stacked memory cells along the vertical channel layer, the programming voltage applied to the corresponding word line in accordance with the position (height) of the word line, reflecting the slope value in FIG. 4A or 4B The size needs to be applied differently. For example, as the word line is closer to the uppermost word line, a relatively higher program voltage is applied to the word lines, and a lower program voltage is applied to a lower word line.

이를 위해, 본 실시예에서는 로우 어드레스 X-ADDR가 인가되면, 제어부(150)는 이를 디코딩하여 선택된 워드 라인이 어느 위치(높이)에 있는 워드 라인 인지를 판단한다.For this, in the present embodiment, when the row address X-ADDR is applied, the controller 150 decodes the row address to determine the position (height) of the selected word line.

선택된 워드 라인의 위치가 판단되면, 제어부(150)는 ISPP 방식에 따른 프로그램 전압의 발생 횟수를 제어하기 위한 스텝제어신호 STEP와 함께 해당 워드 라인에 대응되는 프로그램 시작 전압의 크기를 나타내는 시작전압 제어신호 SVC를 전압 발생기(140)에 출력한다. 예컨대, 제어부(150)는 도 4A 또는 도 4B의 기울기를 반영하여 선택 워드 라인에 대응되는 시작전압 제어신호 SVC를 생성한다.When the position of the selected word line is determined, the controller 150 generates a start voltage control signal STEP indicating the magnitude of the program start voltage corresponding to the word line, together with a step control signal STEP for controlling the number of times of generation of the program voltage according to the ISPP scheme, And outputs the SVC to the voltage generator 140. For example, the control unit 150 generates the start voltage control signal SVC corresponding to the selected word line by reflecting the slope of FIG. 4A or FIG. 4B.

스텝제어신호 STEP와 시작전압 제어신호 SVC를 수신한 전압 발생기(140)는 수신된 시작전압 제어신호 SVC에 대응되는 크기의 프로그램 시작 전압을 발생시켜 로우 디코더(120)에 출력한다. 즉, 전압 발생기(140)는 시작전압 제어신호 SVC에 따라 선택 워드 라인의 위치(높이)에 대응되는 서로 다른 크기의 프로그램 시작 전압을 발생시켜 로우 디코더(120)에 제공한다.The voltage generator 140 receiving the step control signal STEP and the start voltage control signal SVC generates a program start voltage having a magnitude corresponding to the received start voltage control signal SVC and outputs it to the row decoder 120. That is, the voltage generator 140 generates a program start voltage having a different magnitude corresponding to the position (height) of the selected word line according to the start voltage control signal SVC and provides it to the row decoder 120.

예컨대, 전압 발생기(140)는 시작전압 제어신호 SVC가 최상위 워드 라인 WL0, WLn에 대응되는 신호이면, 프로그램 시작 전압으로 Vpgm_s0을 발생시킨다. 전압 발생기(140)는 시작전압 제어신호 SVC가 최하위 워드 라인 WLk WLk+1에 대응되는 신호이면, 프로그램 시작 전압으로 Vpgm_sk을 발생시킨다. 그리고, 전압 발생기(140)는 시작전압 제어신호 SVC가 최상위 워드 라인과 최하위 워드 라인 사이에 있는 워드 라인 WLi, WLm에 대응되는 신호이면, 도 4A 또는 도 4B의 기울기를 반영하여 해당 위치에 대응되는 프로그램 시작 전압 Vpgm_si을 발생시킨다. 이때, 프로그램 시작 전압들 Vpgm_s0, Vpgm_si, Vpgm_sk의 크기는 아래와 같은 관계를 갖는다.For example, the voltage generator 140 generates Vpgm_s0 as a program start voltage if the start voltage control signal SVC is a signal corresponding to the most significant word lines WL0, WLn. The voltage generator 140 generates Vpgm_sk as a program start voltage if the start voltage control signal SVC is a signal corresponding to the lowermost word line WLk WLk + 1. If the start voltage control signal SVC is a signal corresponding to the word lines WLi and WLm between the most significant word line and the least significant word line, the voltage generator 140 may reflect the inclination of FIG. 4A or 4B and correspond to the corresponding position And generates a program start voltage Vpgm_si. At this time, the magnitudes of the program start voltages Vpgm_s0, Vpgm_si, and Vpgm_sk have the following relationship.

Vpgm_s0 > Vpgm_si > Vpgm_sk
Vpgm_s0>Vpgm_si> Vpgm_sk

또한 전압 발생기(140)는 선택되지 않은 워드 라인들에 대해서는 패스 전압 Vpass을 발생시켜 로우 디코더(120)에 제공한다.Also, the voltage generator 140 generates a pass voltage Vpass for the unselected word lines and provides it to the row decoder 120.

다음에, 전압 발생기(140)는 제어부(150)로부터 스텝제어신호 STEP가 수신될 때마다 이전 프로그램 전압에 비해 스텝 전압 ΔVispp 만큼 증가된 크기의 프로그램 전압을 순차적으로 발생시켜 로우 디코더(120)에 제공한다.Next, each time the step control signal STEP is received from the control unit 150, the voltage generator 140 sequentially generates a program voltage having a magnitude increased by the step voltage? Vispp as compared with the previous program voltage, and supplies the generated program voltage to the row decoder 120 do.

예컨대, 프로그램 시작 전압 Vpgm_s0 다음에 최상위 워드 라인 WL0, WLn에 인가되는 프로그램 전압들 Vpgm_01, Vpgm_02의 크기는 아래의 식과 같이 표현될 수 있다.For example, the magnitudes of the program voltages Vpgm_01 and Vpgm_02 applied to the most significant word lines WL0 and WLn after the program start voltage Vpgm_s0 can be expressed by the following equations.

Vpgm_01 = Vpgm_s0 + ΔVisppVpgm_01 = Vpgm_s0 +? Vispp

Vpgm_02 = Vpgm_01 + ΔVispp
Vpgm_02 = Vpgm_01 +? Vispp

마찬가지로, 프로그램 시작 전압 Vpgm_si 다음에 워드라인 WLi, WLm에 인가되는 프로그램 전압들 Vpgm_i1, Vpgm_i2 및 프로그램 시작 전압 Vpgm_sk 다음에 워드라인 WLk, WLk+1에 인가되는 프로그램 전압들 Vpgm_k1, Vpgm_k2 도 프로그램 시작 전압 Vpgm_si, Vpgm_sk에 스텝 전압 ΔVispp 이 순차적으로 증가된 값을 갖는다.Similarly, the program voltages Vpgm_i1 and Vpgm_i2 applied to the word lines WLi and WLm after the program start voltage Vpgm_si and the program voltages Vpgm_k1 and Vpgm_k2 applied to the word lines WLk and WLk + 1 after the program start voltage Vpgm_sk are also set to the program start voltage Vpgm_si , Vpgm_sk has a value obtained by sequentially increasing the step voltage? Vispp.

이때, 스텝 전압 ΔVispp은 도 3에서와 같이 선택 워드 라인의 위치와 상관없이 일정한 크기를 갖는다. 그러나, 스텝 전압 ΔVispp의 크기도 선택 워드 라인의 위치에 따라 달라지도록 할 수 있다.
At this time, the step voltage? Vispp has a constant size regardless of the position of the selected word line as shown in FIG. However, the magnitude of the step voltage? Vispp can also be varied depending on the position of the selected word line.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가변적 ISPP 방식에 따라 가변되는 프로그램 전압들의 모습을 보여주는 도면이다.FIG. 5 is a view illustrating a program voltage variable according to a variable ISPP method according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG.

도 5에서의 스텝 전압 ΔVispp0, ΔVisppi, ΔVisppk은 프로그램 시작 전압과 같이, 도 4A 또는 도 4B의 기울기가 반영되어, 최상위 워드 라인에 근접할수록 점점 큰 값을 가지며 최하위 워드 라인에 근접할수록 점점 작은 값을 가질 수 있다(ΔVispp0 > ΔVisppi > ΔVisppk). 즉, 전압 발생부(140)는 시작전압 제어신호 SVC에 따라 스텝 전압 ΔVispp도 가변시킬 수 있다.
The step voltages? Vispp0,? Visppi, and? Visppk in FIG. 5 have a larger value as the program starting voltage is reflected in the slope of FIG. 4A or 4B and closer to the most significant word line. (? Vispp0>? Visppi>? Visppk). That is, the voltage generator 140 can vary the step voltage? Vispp according to the start voltage control signal SVC.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가변적 ISPP 방식에 따라 가변되는 프로그램 전압들의 모습을 보여주는 도면이다.FIG. 6 is a view showing a program voltage variable according to a variable ISPP method according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG.

도 5에서는 스텝 전압 ΔVispp0, ΔVisppi, ΔVisppk이 선택 워드 라인의 위치에 따라서는 가변되지만 동일한 선택 워드 라인에 대해서는 동일하게 적용되는 경우를 나타내고 있다. 그러나, 도 6에서와 같이 동일한 선택 워드 라인에 대해서도 스텝 전압 ΔVispp이 가변되도록 할 수도 있다. 예컨대, 전압 발생부(140)는 스텝제어신호 STEP의 발생 횟수에 따라 스텝 전압 ΔVispp을 점차 증가시키거나 감소시킬 수 있다.In Fig. 5, step voltages? Vispp0,? Visppi, and? Visppk vary depending on the positions of the selected word lines, but the same applies to the same selected word lines. However, the step voltage? Vispp may also be varied for the same selected word line as in FIG. For example, the voltage generating unit 140 may gradually increase or decrease the step voltage? Vispp according to the number of times the step control signal STEP is generated.

상술한 도 1에서는 전압 발생기(140)와 제어부(150)가 별개의 구성으로 도시되어 있으나 이들(140, 150)이 하나의 구성으로 이루어질 수도 있다.
In FIG. 1, the voltage generator 140 and the controller 150 are shown as separate components. However, the voltage generator 140 and the controller 150 may have the same configuration.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 저장 장치의 구성을 간략하게 나타낸 구성도이다.7 is a configuration diagram briefly showing a configuration of a data storage device according to an embodiment of the present invention.

도 7의 데이터 저장 장치는 메모리 장치(1100) 및 메모리 컨트롤러(1200)를 포함할 수 있다.The data storage device of FIG. 7 may include a memory device 1100 and a memory controller 1200.

메모리 장치(1100)는 도 2A 또는 도 2B와 같이 수직하게 적층된 3차원 구조의 메모리 셀들을 포함하는 적어도 하나의 메모리 칩들(100_1 ∼ 100_4)을 포함하며, 메모리 컨트롤러(1200)의 요청에 응답하여 메모리 컨트롤러(1200)로부터의 데이터를 메모리 셀에 기록(프로그램)하거나 기록된 데이터를 읽어 메모리 컨트롤러(1200)에 제공한다. 이때, 메모리 칩들(100_1 ∼ 100_4)은 도 2에서와 같은 U형 채널층을 갖는 3차원 구조로 형성되거나 일자형 채널층을 갖는 3차원 구조로 형성될 수 있다. 특히, 메모리 장치(1100)는 프로그램 동작시 메모리 컨트롤러(1200)의 제어에 따라 상술한 가변적 ISSP 방식에 따라 프로그램 동작을 수행한다. 예컨대, 메모리 장치(1100)는 메모리 컨트롤러(1200)로부터의 시작전압 제어신호 SVC에 따라 선택 워드 라인의 위치에 대응되는 서로 다른 크기의 프로그램 시작 전압들을 발생시켜 해당 워드 라인에 인가한다. 이어서, 메모리 장치(1100)는 선택 워드 라인에 이전 프로그램 전압 보다 스텝 전압 ΔVispp 만큼 증가된 프로그램 전압을 연속적으로 인가한다. 메모리 장치(1100)에서의 프로그램 동작은 상술한 가변적 ISSP 방식과 같은 방법으로 이루어질 수 있다.The memory device 1100 includes at least one memory chips 100_1 to 100_4 including memory cells of a vertically stacked three-dimensional structure as shown in FIG. 2A or 2B, and in response to a request of the memory controller 1200 (Program) data from the memory controller 1200 to the memory cell or reads the recorded data and provides the read data to the memory controller 1200. At this time, the memory chips 100_1 to 100_4 may have a three-dimensional structure having a U-type channel layer as shown in FIG. 2 or a three-dimensional structure having a straight channel layer. In particular, the memory device 1100 performs a program operation according to the above-described variable ISSP scheme under the control of the memory controller 1200 during a program operation. For example, the memory device 1100 generates program start voltages of different sizes corresponding to the position of the selected word line according to the start voltage control signal SVC from the memory controller 1200, and applies the generated program start voltages to the corresponding word line. Then, the memory device 1100 sequentially applies the program voltage increased by the step voltage? Vispp to the selected word line, which is earlier than the previous program voltage. The program operation in the memory device 1100 can be performed in the same manner as the above-described variable ISSP method.

메모리 컨트롤러(1200)는 외부기기(호스트 장치)로부터 인가되는 명령어를 디코딩하고 디코딩된 결과에 따라 메모리 장치(1100)에 대한 프로그램 동작 및 읽기 동작을 제어한다. 특히, 메모리 컨트롤러(1200)는 프로그램 동작시 선택된 워드 라인의 위치에 대응되는 프로그램 시작 전압의 크기를 나타내는 시작전압 제어신호 SVC를 생성하여 메모리 장치(1100)에 전송한다.The memory controller 1200 decodes the command applied from the external device (host device) and controls the program operation and the read operation for the memory device 1100 according to the decoded result. In particular, the memory controller 1200 generates a start voltage control signal SVC indicating the magnitude of the program start voltage corresponding to the position of the selected word line during program operation, and transmits the start voltage control signal SVC to the memory device 1100.

상술한 도 1의 실시예에서는 메모리 장치(메모리 칩)(100)가 자체적으로 시작전압 제어신호 SVC를 생성하였으나, 도 6의 실시예에서는 메모리 컨트롤러(1200)가 시작전압 제어신호 SVC를 생성하여 메모리 장치(1100)에 전송한다. 이때, 프로그램 전압의 발생 횟수를 제어하기 위한 스텝제어신호 STEP는 도 1에서와 같이 메모리 장치(1100) 내에서 생성될 수 있다.In the embodiment of FIG. 1, the memory device (memory chip) 100 itself generates the start voltage control signal SVC. However, in the embodiment of FIG. 6, the memory controller 1200 generates the start voltage control signal SVC, To the device 1100. At this time, a step control signal STEP for controlling the number of times of generation of the program voltage may be generated in the memory device 1100 as shown in FIG.

이러한 데이터 저장 장치는 고상 디스크(Solid State Disk; SSD), USB 메모리(Universal Serial Bus Memory), 씨큐어 디지털 카드(Secure Digital; SD), 미니 씨큐어 디지털 카드(mini Secure Digital card; mSD), 마이크로 씨큐어 디지털 카드(micro SD), 고용량 씨큐어 디지털 카드(Secure Digital High Capacity; SDHC), 메모리 스틱 카드(Memory Stick Card), 스마트 미디어 카드(Smart Media Card; SM), 멀티 미디어 카드(Multi Media Card; MMC), 내장 멀티 미디어 카드(Embedded MMC; eMMC), 컴팩트 플래시 카드(Compact Flash; CF) 등을 포함할 수 있다.
Such a data storage device may be a solid state disk (SSD), a USB memory (Universal Serial Bus Memory), a secure digital (SD) card, a mini Secure Digital card (mSD) Card, micro SD, Secure Digital High Capacity (SDHC), Memory Stick Card, Smart Media Card (SM), Multi Media Card (MMC) An embedded multimedia card (eMMC), a compact flash (CF) card, and the like.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 사용자 장치의 구성을 간략하게 나타낸 구성도이다.8 is a configuration diagram briefly showing a configuration of a user apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 8의 사용자 장치는 데이터 저장 장치(1000) 및 호스트(2000)를 포함한다.The user device of FIG. 8 includes a data storage device 1000 and a host 2000.

데이터 저장 장치(1000)는 호스트(2000)의 요청에 응답하여 호스트(2000)로부터의 데이터를 저장하고 저장된 데이터를 독출하여 호스트(2000)에 제공한다. 이러한 데이터 저장 장치(1000)는 도 2A 또는 도 2B와 같이 수직하게 적층된 3차원 구조의 메모리 셀들이 형성된 적어도 하나의 메모리 칩들(100_1 ∼ 100_4)을 포함하는 메모리 장치(1100) 및 호스트(2000)의 요청에 따라 메모리 장치(1100)에 대한 프로그램 동작 및 읽기 동작을 제어하는 메모리 컨트롤러(1300)를 포함한다. 특히, 데이터 저장 장치(1000)는 호스트(2000)의 제어에 따라 프로그램 동작시 상술한 가변적 ISSP 방식에 따라 프로그램 동작을 수행한다. 예컨대, 데이터 저장 장치(1000)의 메모리 컨트롤러(1300)는 프로그램 동작시 선택 워드 라인의 위치에 대한 위치정보를 호스트(200)에 전송하고, 호스트(2000)로부터 위치정보에 대응되는 시작전압 제어신호 SVC를 제공받아 상술한 가변적 ISSP 방식에 따라 프로그램 동작을 수행한다. 이때, 프로그램 전압의 발생 횟수를 제어하기 위한 스텝제어신호 STEP는 도 1에서와 같이 메모리 장치(1100) 내에서 생성될 수 있다. The data storage device 1000 stores data from the host 2000 in response to a request from the host 2000, reads the stored data, and provides the data to the host 2000. The data storage device 1000 includes a memory device 1100 and a host 2000 including at least one memory chips 100_1 through 100_4 formed with vertically stacked three-dimensional memory cells as shown in FIG. 2A or 2B. And a memory controller 1300 that controls the program operation and the read operation for the memory device 1100 in response to a request from the memory controller 1100. Particularly, the data storage device 1000 performs a program operation according to the variable ISSP method described above under the control of the host 2000 in the program operation. For example, the memory controller 1300 of the data storage apparatus 1000 may transmit positional information on the position of the selected word line to the host 200 during a program operation, and may receive a start voltage control signal SVC, and performs the program operation according to the variable ISSP method described above. At this time, a step control signal STEP for controlling the number of times of generation of the program voltage may be generated in the memory device 1100 as shown in FIG.

호스트(2000)는 데이터 저장 장치(1000)의 동작을 제어한다. 특히, 호스트(2000)는 데이터 저장 장치(1000)로부터 위치정보가 수신되면, 도 4A 또는 도 4B에서의 기울기를 반영하여 위치정보에 대응되는 시작전압 제어신호 SVC를 생성한 후 데이터 저장 장치(1000)에 전송한다.The host 2000 controls the operation of the data storage device 1000. In particular, when the host 2000 receives the positional information from the data storage device 1000, it generates the start voltage control signal SVC corresponding to the positional information by reflecting the inclination in FIG. 4A or 4B, .

이러한 사용자 장치는 이동 전화기, 스마트폰, 태블릿 컴퓨터(tablet computer), PDA(personal digital assistant), EDA(enterprise digital assistant), 디지털 스틸 카메라(digital still camera), 디지털 비디오 카메라(digital video camera), PMP(portable multimedia player), PDN(personal navigation device 또는 portable navigation device), 손으로 들고 다닐 수 있는 게임 콘솔(handheld game console), 또는 e-북(e-book)과 같이 사용자가 손으로 들고 다닐 수 있는 장치(handheld device)로 구현될 수 있다. 또한, 사용자 장치는 자동차나 선박 등에서 특정 기능을 수행하기 위한 임베디드 시스템으로 구현될 수 있다.Such a user device may be a mobile phone, a smart phone, a tablet computer, a personal digital assistant (PDA), an enterprise digital assistant (EDA), a digital still camera, a digital video camera, such as a portable multimedia player (PDN), a personal navigation device or portable navigation device (PDN), a handheld game console, or an e-book, Device (handheld device). Further, the user device may be embodied as an embedded system for performing a specific function in an automobile, a ship, or the like.

상술한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위한 것으로, 당업자라면 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상과 범위를 통해 다양한 수정, 변경, 대체 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It should be regarded as belonging to the claims.

100 : 3차원 비휘발성 메모리 장치 110 : 메모리 셀 어레이
120 : 로우 디코더 130 : 페이지 버퍼
140 : 전압 발생기 150 : 제어부
1000 : 데이터 저장 장치 1100 : 메모리 장치
1200, 1300 : 메모리 컨트롤러 2000 : 호스트
100: 3D nonvolatile memory device 110: Memory cell array
120: row decoder 130: page buffer
140: voltage generator 150:
1000: data storage device 1100: memory device
1200, 1300: memory controller 2000: host

Claims (26)

적층된 워드 라인들과 수직 채널층이 교차되는 영역에 형성된 메모리 셀들을 포함하는 셀 어레이;
프로그램 동작시 상기 워드 라인들 중 선택 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 로우 디코더;
시작전압 제어신호 및 스텝제어신호에 따라 상기 프로그램 전압의 크기를 가변되게 생성하고, 생성된 프로그램 전압을 상기 로우 디코더에 제공하는 전압 발생기; 및
상기 선택 워드 라인의 위치에 따라 상기 시작전압 제어신호 및 상기 스텝제어신호를 생성하여 상기 전압 발생기에 출력하는 제어부를 포함하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
A cell array including memory cells formed in a region where the stacked word lines and the vertical channel layer intersect;
A row decoder for applying a program voltage to selected word lines of the word lines during a program operation;
A voltage generator for variably generating a magnitude of the program voltage according to a start voltage control signal and a step control signal and providing the generated program voltage to the row decoder; And
And a control unit for generating the start voltage control signal and the step control signal according to the position of the selected word line and outputting the generated start voltage control signal and the step control signal to the voltage generator.
제 1항에 있어서, 상기 셀 어레이는
비트 라인과 소스 라인이 상기 메모리 셀들의 상부에 위치하는 U형 채널층을 갖는 3차원 구조 또는 비트 라인과 소스 라인이 각각 상기 메모리 셀들의 상부와 하부에 위치하는 일자형 채널층을 갖는 3차원 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
2. The cell array according to claim 1,
A three-dimensional structure having a bit line and a U-type channel layer in which a source line is located above the memory cells, or a three-dimensional structure in which bit lines and source lines each have a linear channel layer located above and below the memory cells, Dimensional nonvolatile semiconductor memory device.
제 1항에 있어서, 상기 전압 발생기는
상기 시작전압 제어신호에 따라 상기 프로그램 전압 중 프로그램 시작 전압의 크기를 가변되게 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
2. The apparatus of claim 1, wherein the voltage generator
Wherein the programmable voltage generation unit variably generates a program start voltage of the program voltage according to the start voltage control signal.
제 3항에 있어서, 상기 제어부는
상기 선택 워드 라인이 최상위 워드 라인(Top word line)에 가까울수록 상기 프로그램 시작 전압이 점차 커지도록 제어하고 상기 선택 워드 라인이 최하위 워드 라인(Bottom word line)에 가까울수록 상기 프로그램 시작 전압이 점차 작아지도록 제어하는 상기 시작전압 제어신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
4. The apparatus of claim 3, wherein the control unit
And controlling the program start voltage to be gradually increased as the selected word line is closer to the top word line so that the program start voltage gradually decreases as the selected word line approaches the lowest word line Dimensional non-volatile semiconductor memory device according to claim 1,
제 3항에 있어서, 상기 전압 발생기는
상기 스텝제어신호에 따라 상기 프로그램 시작 전압을 스텝 전압 만큼씩 단계적으로 상승시킨 전압을 순차적으로 생성하여 상기 로우 디코더에 제공하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
4. The apparatus of claim 3, wherein the voltage generator
And sequentially generates a voltage in which the program start voltage is stepped up by a step voltage in accordance with the step control signal, and provides the voltage to the row decoder.
제 5항에 있어서, 상기 전압 발생기는
모든 선택 워드 라인들에 대해 동일한 크기의 스텝 전압을 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
6. The apparatus of claim 5, wherein the voltage generator
Dimensional nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein the step voltage generating circuit generates the step voltage of the same size for all selected word lines.
제 5항에 있어서, 상기 전압 발생기는
상기 시작전압 제어신호를 이용하여 상기 선택 워드 라인의 위치에 따라 서로 다른 크기의 스텝 전압을 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
6. The apparatus of claim 5, wherein the voltage generator
Dimensional nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein the step voltage generating circuit generates the step voltage of different magnitudes according to the position of the selected word line by using the start voltage control signal.
제 7항에 있어서, 상기 전압 발생기는
상기 선택 워드 라인이 최상위 워드 라인(Top word line)에 가까울수록 상기 스텝 전압을 점차 크게 생성하고 상기 선택 워드 라인이 최하위 워드 라인(Bottom word line)에 가까울수록 상기 스텝 전압을 점차 작게 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
8. The apparatus of claim 7, wherein the voltage generator
The step voltage is gradually increased as the selected word line is closer to the top word line and the step voltage is gradually made smaller as the selected word line is closer to the lowest word line. Dimensional nonvolatile semiconductor memory device.
제 8항에 있어서, 상기 전압 발생기는
상기 스텝제어신호의 발생 횟수에 따라 상기 스텝 전압이 점차 증가 또는 감소되도록 하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
9. The apparatus of claim 8, wherein the voltage generator
And the step voltage is gradually increased or decreased in accordance with the number of times the step control signal is generated.
제 1항에 있어서, 상기 제어부는
로우 어드레스를 디코딩하여 상기 선택 워드 라인의 위치를 판단하는 것을 특징으로 하는 3차원 비휘발성 반도체 메모리 장치.
The apparatus of claim 1, wherein the control unit
And decodes the row address to determine the position of the selected word line.
적층된 워드 라인들과 수직 채널층이 교차되는 영역에 메모리 셀들이 형성된 셀 어레이를 포함하며, 상기 메모리 셀들에 대한 프로그램 동작시 시작전압 제어신호에 따라 선택 워드 라인의 위치별로 서로 다른 크기의 프로그램 전압을 발생시켜 상기 프로그램 동작을 수행하는 메모리 장치; 및
호스트로부터 인가되는 명령어를 디코딩하고 디코딩된 결과에 따라 상기 메모리 장치의 프로그램 동작을 제어하며, 상기 프로그램 동작시 상기 선택 워드 라인의 위치에 따라 상기 시작전압 제어신호를 생성하여 상기 메모리 장치에 전송하는 메모리 컨트롤러를 포함하는 데이터 저장 장치.
And a memory cell array in which memory cells are formed in a region where the word lines and the vertical channel layers intersect with each other, wherein a program voltage of a different magnitude for each position of the selected word line in accordance with a start voltage control signal during a program operation for the memory cells To perform the program operation; And
A memory for decoding a command applied from a host and controlling a program operation of the memory device according to a decoded result and generating the start voltage control signal according to a position of the selected word line in the program operation, A data storage device comprising a controller.
제 11항에 있어서, 상기 메모리 장치는
상기 시작전압 제어신호에 따라 상기 프로그램 전압 중 프로그램 시작 전압의 크기를 가변되게 생성하는 것을 특징으로 하는 데이터 저장 장치.
12. The memory device of claim 11, wherein the memory device
Wherein the control unit variably generates the program start voltage of the program voltage according to the start voltage control signal.
제 12항에 있어서, 상기 메모리 컨트롤러는
상기 선택 워드 라인이 최상위 워드 라인(Top word line)에 가까울수록 상기 프로그램 시작 전압이 점차 커지도록 제어하고 상기 선택 워드 라인이 최하위 워드 라인(Bottom word line)에 가까울수록 상기 프로그램 시작 전압이 점차 작아지도록 제어하는 상기 시작전압 제어신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 데이터 저장 장치.
13. The apparatus of claim 12, wherein the memory controller
And controlling the program start voltage to be gradually increased as the selected word line is closer to the top word line so that the program start voltage gradually decreases as the selected word line approaches the lowest word line And generates said start voltage control signal for controlling said start voltage control signal.
제 11항에 있어서, 상기 메모리 장치는
스텝제어신호에 따라 상기 프로그램 시작 전압을 스텝 전압 만큼씩 단계적으로 상승시킨 프로그램 전압을 순차적으로 생성하여 상기 프로그램 동작을 수행하는 것을 특징으로 하는 데이터 저장 장치.
12. The apparatus of claim 11, wherein the memory device
And sequentially generates a program voltage in which the program start voltage is stepped up stepwise by a step voltage according to a step control signal to perform the program operation.
제 14항에 있어서, 상기 메모리 장치는
모든 선택 워드 라인들에 대해 동일한 크기의 스텝 전압을 생성하는 것을 특징으로 하는 데이터 저장 장치.
15. The memory device of claim 14, wherein the memory device
And generates a step voltage of the same magnitude for all selected word lines.
제 14항에 있어서, 상기 메모리 장치는
상기 시작전압 제어신호를 이용하여 상기 선택 워드 라인의 위치에 따라 서로 다른 크기의 스텝 전압을 생성하는 것을 특징으로 하는 데이터 저장 장치.
15. The memory device of claim 14, wherein the memory device
And generates a step voltage of a different magnitude according to a position of the selected word line by using the start voltage control signal.
제 16항에 있어서, 상기 메모리 장치는
상기 선택 워드 라인이 최상위 워드 라인(Top word line)에 가까울수록 상기 스텝 전압을 점차 크게 생성하고 상기 선택 워드 라인이 최하위 워드 라인(Bottom word line)에 가까울수록 상기 스텝 전압을 점차 작게 생성하는 것을 특징으로 하는 데이터 저장 장치.
17. The memory device of claim 16, wherein the memory device
The step voltage is gradually increased as the selected word line is closer to the top word line and the step voltage is gradually made smaller as the selected word line is closer to the lowest word line. Lt; / RTI >
제 17항에 있어서, 상기 메모리 장치는
상기 스텝제어신호의 발생 횟수에 따라 상기 스텝 전압이 점차 증가 또는 감소되도록 하는 것을 특징으로 하는 데이터 저장 장치.
18. The memory device of claim 17, wherein the memory device
And the step voltage is gradually increased or decreased in accordance with the number of times the step control signal is generated.
적층된 워드 라인들과 수직 채널층이 교차되는 영역에 메모리 셀들이 형성된 적어도 하나의 메모리 칩을 포함하는 데이터 저장 장치; 및
상기 데이터 저장 장치의 동작을 제어하는 호스트를 포함하며,
상기 데이터 저장 장치는
상기 메모리 칩에 대한 프로그램 동작시 선택 워드 라인에 대한 위치정보를 상기 호스트에 제공하여 상기 호스트로부터 상기 위치정보에 대응되는 시작전압 제어신호를 제공받고, 상기 시작전압 제어신호에 따라 서로 다른 크기의 프로그램 전압을 발생시켜 상기 프로그램 동작을 수행하는 사용자 장치.
A data storage device including at least one memory chip in which memory cells are formed in an area where the stacked word lines and the vertical channel layer intersect; And
And a host for controlling operation of the data storage device,
The data storage device
Wherein the controller is configured to provide the host with positional information about a selected word line during a program operation of the memory chip to receive a start voltage control signal corresponding to the positional information from the host, And generating a voltage to perform the program operation.
제 19항에 있어서, 상기 데이터 저장 장치는
상기 시작전압 제어신호에 따라 상기 프로그램 전압 중 프로그램 시작 전압의 크기를 가변되게 생성하는 것을 특징으로 하는 사용자 장치.
20. The apparatus of claim 19, wherein the data storage device
And generates a program start voltage of the program voltage variable according to the start voltage control signal.
제 20항에 있어서, 상기 호스트는
상기 선택 워드 라인이 최상위 워드 라인(Top word line)에 가까울수록 상기 프로그램 시작 전압이 점차 커지도록 제어하고 상기 선택 워드 라인이 최하위 워드 라인(Bottom word line)에 가까울수록 상기 프로그램 시작 전압이 점차 작아지도록 제어하는 상기 시작전압 제어신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 사용자 장치.
21. The system of claim 20, wherein the host
And controlling the program start voltage to be gradually increased as the selected word line is closer to the top word line so that the program start voltage gradually decreases as the selected word line approaches the lowest word line And generates the start voltage control signal to control the start voltage control signal.
제 20항에 있어서, 상기 데이터 저장 장치는
스텝제어신호에 따라 상기 프로그램 시작 전압을 스텝 전압 만큼씩 단계적으로 상승시킨 프로그램 전압을 순차적으로 생성하여 상기 프로그램 동작을 수행하는 것을 특징으로 하는 사용자 장치.
21. The system of claim 20, wherein the data storage device
And sequentially generates a program voltage in which the program start voltage is stepped up stepwise by a step voltage according to a step control signal to perform the program operation.
제 22항에 있어서, 상기 데이터 저장 장치는
모든 선택 워드 라인들에 대해 동일한 크기의 스텝 전압을 생성하는 것을 특징으로 하는 사용자 장치.
23. The apparatus of claim 22, wherein the data storage device
And generates a step voltage of the same magnitude for all selected word lines.
제 22항에 있어서, 상기 데이터 저장 장치는
상기 시작전압 제어신호를 이용하여 상기 선택 워드 라인의 위치에 따라 서로 다른 크기의 스텝 전압을 생성하는 것을 특징으로 하는 사용자 장치.
23. The apparatus of claim 22, wherein the data storage device
And generates a step voltage of a different magnitude according to a position of the selected word line by using the start voltage control signal.
제 24항에 있어서, 상기 데이터 저장 장치는
상기 선택 워드 라인이 최상위 워드 라인(Top word line)에 가까울수록 상기 스텝 전압을 점차 크게 생성하고 상기 선택 워드 라인이 최하위 워드 라인(Bottom word line)에 가까울수록 상기 스텝 전압을 점차 작게 생성하는 것을 특징으로 하는 사용자 장치.
25. The system of claim 24, wherein the data storage device
The step voltage is gradually increased as the selected word line is closer to the top word line and the step voltage is gradually made smaller as the selected word line is closer to the lowest word line. Lt; / RTI >
제 25항에 있어서, 상기 데이터 저장 장치는
상기 스텝제어신호의 발생 횟수에 따라 상기 스텝 전압이 점차 증가 또는 감소되도록 하는 것을 특징으로 하는 사용자 장치.
26. The system of claim 25, wherein the data storage device
And the step voltage is gradually increased or decreased in accordance with the number of times the step control signal is generated.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180065268A (en) * 2016-12-07 2018-06-18 에스케이하이닉스 주식회사 Semiconductor memory device and operating method thereof
KR20190084408A (en) * 2018-01-08 2019-07-17 삼성전자주식회사 Memory device
US10672476B2 (en) 2017-04-11 2020-06-02 SK Hynix Inc. Storage device using program speed and method of operating the same

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060056687A (en) * 2004-11-22 2006-05-25 삼성전자주식회사 Nonvolatile memory device and word line voltage control method thereof
KR20060101898A (en) * 2005-03-22 2006-09-27 주식회사 하이닉스반도체 Non-volatile memory device and programming method thereof
KR20080079500A (en) * 2007-02-27 2008-09-01 삼성전자주식회사 Nonvolatile memor device and program and erase method thereof
KR20090100077A (en) * 2008-03-19 2009-09-23 주식회사 하이닉스반도체 Method of offering operation voltage for flash memory device
KR20100024918A (en) * 2007-04-25 2010-03-08 샌디스크 코포레이션 Reducing power consumption during read operations in non-volatile storage
KR20100107176A (en) * 2009-03-25 2010-10-05 삼성전자주식회사 Flash memory device, programming method thereof and memory system inclding the same
KR20100137896A (en) * 2009-06-23 2010-12-31 삼성전자주식회사 Nonvolatile memory device
KR20110099570A (en) * 2010-03-02 2011-09-08 삼성전자주식회사 Non-volatile memory device, programming method thereof and memory system including the same
KR20120017970A (en) * 2010-08-20 2012-02-29 삼성전자주식회사 Address scheduring method for non-volatile memory device with 3d memory cell array
KR20120065274A (en) * 2009-06-22 2012-06-20 샌디스크 테크놀로지스, 인코포레이티드 Reduced programming pulse width for enhanced channel boosting in non-volatile storage
KR20120134941A (en) * 2011-06-03 2012-12-12 삼성전자주식회사 Non-volatile memory device of controlling dummy wordline accoding to location of selected wordline, memthod thereof, and apparatuses having the same
KR20140020445A (en) * 2012-08-08 2014-02-19 삼성전자주식회사 Memory system including three dimensional nonvolatile memory device and programming method thereof
KR20140028303A (en) * 2012-08-28 2014-03-10 에스케이하이닉스 주식회사 Nonvolatile memory device, method for controlling the same and data processing system using the same
KR20140119365A (en) * 2013-03-29 2014-10-10 삼성전자주식회사 Memory system and driving method thereof

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060056687A (en) * 2004-11-22 2006-05-25 삼성전자주식회사 Nonvolatile memory device and word line voltage control method thereof
KR20060101898A (en) * 2005-03-22 2006-09-27 주식회사 하이닉스반도체 Non-volatile memory device and programming method thereof
KR20080079500A (en) * 2007-02-27 2008-09-01 삼성전자주식회사 Nonvolatile memor device and program and erase method thereof
KR20100024918A (en) * 2007-04-25 2010-03-08 샌디스크 코포레이션 Reducing power consumption during read operations in non-volatile storage
KR20090100077A (en) * 2008-03-19 2009-09-23 주식회사 하이닉스반도체 Method of offering operation voltage for flash memory device
KR20100107176A (en) * 2009-03-25 2010-10-05 삼성전자주식회사 Flash memory device, programming method thereof and memory system inclding the same
KR20120065274A (en) * 2009-06-22 2012-06-20 샌디스크 테크놀로지스, 인코포레이티드 Reduced programming pulse width for enhanced channel boosting in non-volatile storage
KR20100137896A (en) * 2009-06-23 2010-12-31 삼성전자주식회사 Nonvolatile memory device
KR20110099570A (en) * 2010-03-02 2011-09-08 삼성전자주식회사 Non-volatile memory device, programming method thereof and memory system including the same
KR20120017970A (en) * 2010-08-20 2012-02-29 삼성전자주식회사 Address scheduring method for non-volatile memory device with 3d memory cell array
KR20120134941A (en) * 2011-06-03 2012-12-12 삼성전자주식회사 Non-volatile memory device of controlling dummy wordline accoding to location of selected wordline, memthod thereof, and apparatuses having the same
KR20140020445A (en) * 2012-08-08 2014-02-19 삼성전자주식회사 Memory system including three dimensional nonvolatile memory device and programming method thereof
KR20140028303A (en) * 2012-08-28 2014-03-10 에스케이하이닉스 주식회사 Nonvolatile memory device, method for controlling the same and data processing system using the same
KR20140119365A (en) * 2013-03-29 2014-10-10 삼성전자주식회사 Memory system and driving method thereof

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180065268A (en) * 2016-12-07 2018-06-18 에스케이하이닉스 주식회사 Semiconductor memory device and operating method thereof
US10672476B2 (en) 2017-04-11 2020-06-02 SK Hynix Inc. Storage device using program speed and method of operating the same
KR20190084408A (en) * 2018-01-08 2019-07-17 삼성전자주식회사 Memory device
US10748621B2 (en) 2018-01-08 2020-08-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device
US11074978B2 (en) 2018-01-08 2021-07-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory device

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