KR20160034593A - Liquid crystal display panel and liquid crystal display device containing the same - Google Patents

Liquid crystal display panel and liquid crystal display device containing the same Download PDF

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KR20160034593A
KR20160034593A KR1020140125713A KR20140125713A KR20160034593A KR 20160034593 A KR20160034593 A KR 20160034593A KR 1020140125713 A KR1020140125713 A KR 1020140125713A KR 20140125713 A KR20140125713 A KR 20140125713A KR 20160034593 A KR20160034593 A KR 20160034593A
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KR1020140125713A
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치우 창-루
추 시아-칭
린 펭-린
첸 리-춘
첸 푸-쳉
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이노럭스 코포레이션
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Abstract

Disclosed are a liquid crystal display panel and a liquid crystal display apparatus including the same. According to the present invention, the liquid crystal display panel includes: a first substrate having a pixel electrode, a data line, and a scan line formed thereon; a second substrate facing the first substrate; a first alignment layer disposed on the first substrate, the pixel electrode, the data line, and the scan line; and a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate. The first alignment layer disposed on the pixel electrode has a first thickness, and the first alignment layer disposed on at least one from the scan line and the data line has a second thickness, wherein the first thickness is greater than the second thickness. The present invention can solve a problem of the disclination of liquid crystal molecules, thereby improving display quality of the liquid crystal display panel.

Description

액정 디스플레이 패널 및 그를 포함하는 액정 디스플레이 장치{Liquid crystal display panel and liquid crystal display device containing the same}[0001] The present invention relates to a liquid crystal display panel and a liquid crystal display (LCD)

본 발명은 액정 디스플레이 패널 및 그를 포함하는 액정 디스플레이 장치에 관한 것이고, 보다 상세하게는, 신규 구조의 배향층을 갖는 액정 디스플레이 패널 및 그를 포함하는 액정 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device including the same, and more particularly, to a liquid crystal display panel having an orientation layer of a new structure and a liquid crystal display device including the same.

최근에, 디스플레이 수법이 발달함에 따라서 모든 디스플레이 장치는 부피가 적고, 두께가 얇으며 경량을 갖는 것으로 개발되고 있다. 액정 디스플레이(LCD) 장치는 두께가 얇은 평면 디스플레이 장치이므로, 통상의 음극선관(CRT) 디스플레이는 점점 LCD로 교체되고 있다. 특히, LCD는 다양한 분야에 적용될 수 있다. 예를 들어, 휴대폰, 노트북, 비데오 카메라, 카메라, 음악 플레이어, 내비게이션 장치, 및 텔레비젼과 같은 매일 사용되는 장치는 액정 디스플레이(LCD) 패널을 포함하고있다. In recent years, as display techniques have developed, all display devices have been developed to be bulky, thin and lightweight. Since liquid crystal display (LCD) devices are thinner flat display devices, conventional cathode ray tube (CRT) displays are increasingly being replaced by LCDs. In particular, LCDs can be applied to various fields. For example, everyday devices such as cell phones, laptops, video cameras, cameras, music players, navigation devices, and televisions include liquid crystal display (LCD) panels.

휘도, 콘트라스트, 색상 및 시야각은 LCD 패널의 시야 효과에 관련된 주요 변수이다. LCD 장치의 발달에 따라서, LCD 패널을 개발하는 주류는 트위스티드 네마틱(TN) 방식, 수직 배향 (VA) 방식, 및 횡전계(IPS: in-plane switching) 방식으로 대별된다. Brightness, contrast, hue, and viewing angle are key variables related to the field effect of LCD panels. Along with the development of LCD devices, mainstreams for developing LCD panels are divided into twisted nematic (TN), vertical alignment (VA), and in-plane switching (IPS).

VA 방식 LCD 패널의 경우, 배향층은 암도(darkness) 및 휘도(brightness)를 나타내는 목적을 달성하기 위하여 주입된 액정 분자의 배향을 용이하게 할 수 있다. 그러나, 박막 트랜지스터(TFT) 기판 및 컬러 필터(CF) 기판은 패턴을 갖고, 또 균일하게 코팅된 배향층으로 인하여 상기 배향층의 표면 상에는 고도(또는 높이) 차가 생긴다. 이 고도차는 배향층의 불균일 러빙(rubbing) 또는 단량체 응집 문제를 유발할 수 있어, 액정 분자의 배향을 충분히 이상적인 것으로 할 수 없다. In the case of a VA type LCD panel, the orientation layer can facilitate the orientation of the injected liquid crystal molecules in order to attain the purpose of exhibiting darkness and brightness. However, the thin film transistor (TFT) substrate and the color filter (CF) substrate have a pattern, and a uniformly coated orientation layer causes a height (or height) difference on the surface of the orientation layer. This elevation difference may cause nonuniform rubbing of the alignment layer or monomer coagulation, and the alignment of the liquid crystal molecules can not be made sufficiently ideal.

따라서, 액정 분자의 틀어짐(disclination) 문제를 해결하고 또 액정 디스플레이 패널의 디스플레이 품질을 개선시키기 위하여 배향층의 불균일 러빙 또는 단량체 응집 문제 없이 액정 디스플레이 패널을 제공하는 것이 바람직하다, Therefore, it is desirable to provide a liquid crystal display panel without problems of non-uniform rubbing of the alignment layer or monomer aggregation in order to solve the disclination problem of the liquid crystal molecules and to improve the display quality of the liquid crystal display panel.

본 발명의 목적은 액정 디스플레이 패널 및 그를 포함하는 액정 디스플레이 장치를 제공하는 것으로, 액정 분자의 틀어짐 문제를 해결하여 액정 디스플레이 패널 및 그를 포함하는 장치의 디스플레이 품질을 개선시킬 수 있다. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel, and solve the problem of the liquid crystal molecules being distorted, thereby improving the display quality of the liquid crystal display panel and the device including the same.

본 발명의 다른 목적은 상술한 액정 디스플레이 패널의 제조 방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing the above-described liquid crystal display panel.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일개 요지는 화소 전극, 데이터 라인, 및 스캔 라인이 형성되어 있는 제1 기판; 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판; 상기 제1 기판, 화소 전극, 데이터 라인 및 스캔 라인 상에 배치된 제1 배향층; 및 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치된 액정층을 포함하는 액정 디스플레이 패널을 제공하는 것이다. 여기서, 상기 화소 전극 상에 배치된 제1 배향층은 제1 두께를 갖고, 상기 스캔 라인 및 데이터 라인 중의 적어도 하나에 배치된 제1 배향층은 제2 두께를 가지며, 또 상기 제1 두께는 상기 제2 두께보다 크다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising: a first substrate on which a pixel electrode, a data line, and a scan line are formed; A second substrate facing the first substrate; A first alignment layer disposed on the first substrate, the pixel electrode, the data line, and the scan line; And a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate. Wherein the first alignment layer disposed on the pixel electrode has a first thickness and the first alignment layer disposed on at least one of the scan line and the data line has a second thickness, Is greater than the second thickness.

일반적으로, 상기 액정 디스플레이 패널의 데이터 라인 및/또는 스캔 라인의 두께는 상기 화소 전극의 두께보다 더 크다. 본 발명의 액정 디스플레이 패널에서, 상기 화소 전극 상의 제1 배향층의 제1 두께는 상기 데이터 라인 및/또는 스캔 라인 상의 제1 배향층의 두께보다 더 크게 설정된다. 따라서, 상기 화소 전극 및 데이터 라인 및/또는 스캔 라인 상에서의 제1 배향층의 표면의 고도(높이)차가 최소화될 수 있으므로, 제1 배향층의 불균일 러빙(rubbing) 또는 단량체 응집 문제가 방지될 수 있어 상기 액정 디스플레이 패널의 디스플레이 품질을 개선할 수 있다.In general, the thickness of the data line and / or the scan line of the liquid crystal display panel is larger than the thickness of the pixel electrode. In the liquid crystal display panel of the present invention, the first thickness of the first alignment layer on the pixel electrode is set larger than the thickness of the first alignment layer on the data line and / or the scan line. Therefore, the height (height) difference of the surface of the first alignment layer on the pixel electrode and the data line and / or the scan line can be minimized, so that irregular rubbing or monomer flocculation problems of the first alignment layer can be prevented The display quality of the liquid crystal display panel can be improved.

또한, 본 발명은, Further, according to the present invention,

제1 기판 및 제2 기판을 제공하는 단계, 이때 화소 전극, 데이터 라인 및 스캔 라인이 제1 기판 상에 배치되고, 또 상기 제2 기판은 제1 기판에 대향함; Providing a first substrate and a second substrate, wherein a pixel electrode, a data line, and a scan line are disposed on the first substrate and the second substrate is opposite the first substrate;

상기 제1 기판, 데이터 라인, 스캔 라인 및 화소 전극 상에 배치된 제1 배향층을 형성하는 단계, 이때 상기 화소 전극 상에 배치된 제1 배향층은 제1 두께를 갖고, 상기 스캔 라인 및 데이터 라인 중의 적어도 하나에 배치된 제1 배향층은 제2 두께를 가지며, 또 상기 제1 두께는 상기 제2 두께보다 큼; 및 Forming a first alignment layer disposed on the first substrate, the data line, the scan line, and the pixel electrode, wherein the first alignment layer disposed on the pixel electrode has a first thickness, The first orientation layer disposed on at least one of the lines has a second thickness, and wherein the first thickness is greater than the second thickness; And

상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 액정층을 주입하는 단계를 포함하는, 상술한 액정 디스플레이 패널을 제조하는 방법을 또한 제공한다. .And a step of injecting a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate. .

본 발명의 방법에서, 상기 배향층은 당해 분야에서 통상적인 패터닝 방식을 통하여 상이한 두께를 갖도록 패터닝될 수 있다. 예를 들어, 특정 미세구조를 갖는 전사판(APR plate)과 같은 인쇄판을 사용하여 직접적인 인쇄를 통하여 패턴화된(patterned) 배향층을 제조할 수 있다; 균일한 두께를 갖는 배향층이 먼저 형성된 다음 그 위에 포토리소그래피가 실시되어 패턴화된 배향층을 형성하거나; 또는 균일한 두께를 갖는 배향층이 먼저 형성되고, 경화 전에 인쇄된 다음, 경화되어 패턴화된 배향층을 형성한다. 그러나, 본 발명의 패턴화된 배향층을 제조하기 위하여 이용된 방식은 상술한 방식에 한정되지 않는다.In the method of the present invention, the alignment layer may be patterned to have a different thickness through a patterning method as is conventional in the art. For example, a patterned orientation layer can be produced through direct printing using a printing plate such as an APR plate having a specific microstructure; An alignment layer having a uniform thickness is first formed, and then photolithography is performed thereon to form a patterned alignment layer; Or an alignment layer having a uniform thickness is first formed, printed before curing, and then cured to form a patterned alignment layer. However, the method used for producing the patterned alignment layer of the present invention is not limited to the above-described method.

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 액정 분자의 틀어짐 문제는, 화소 전극 상의 제1 배향층의 제1 두께(T1)가 데이터 라인 및/또는 스캔 라인 상의 제1 배향층의 제2 두께(T2)보다 크다면 해결될 수 있다. 바람직하게는, 제2 두께에 대한 제1 두께의 비율(T1/T2)은 1 내지 10 범위(1≤T1/T2≤10)이다. 더욱 바람직하게는, 상기 비율은 1 내지 5 범위(1≤T1/T2≤5)이다. 가장 바람직하게는, 상기 비율은 2 내지 4 범위(2≤T1/T2≤4)이다. 그러나, 상기 비율은 제1 기판의 표면과 상기 화소 전극, 데이터 라인뿐만 아니라 스캔 라인 사이의 거리에 따라 조절될 수 있고, 또 상술한 범위에 한정되지 않는다. In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof according to the present invention, the problem of the liquid crystal molecules being distorted is that the first thickness (T1) of the first alignment layer on the pixel electrode is smaller than the second thickness of the first alignment layer on the data line and / (T2). ≪ / RTI > Preferably, the ratio of the first thickness to the second thickness (T1 / T2) is in the range of 1 to 10 (1? T1 / T2? 10). More preferably, the ratio is in the range of 1 to 5 (1? T1 / T2? 5). Most preferably, the ratio is in the range of 2 to 4 (2? T1 / T2? 4). However, the ratio can be adjusted according to the distance between the surface of the first substrate and the scan line as well as the pixel electrode and the data line, and is not limited to the above-described range.

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 컬러 필터 유닛 및 블랙 매트릭스가 제2 기판 상에 또한 배치될 수 있다. 부가적으로, 제2 배향층이 상기 컬러 필터 유닛과 블랙 매트릭스 상에 또한 배치될 수 있다. 여기서, 상기 컬러 필터 유닛 상의 제2 배향층은 제4 두께를 갖고, 상기 블랙 매트릭스 상의 제2 배향층은 제5 두께를 가지며, 또 상기 제4 두께는 상기 제5 두께보다 더 얇다. 일부 요지에서, 상기 블랙 매트릭스와 중첩되는 상기 컬러 필터 유닛의 부분 상에 있는 제2 배향층의 두께는 블랙 매트릭스와 중첩되지 않는 상기 컬러 필터 유닛의 부분 상에 있는 제2 배향층의 두께보다 더 얇다.In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof of the present invention, the color filter unit and the black matrix may also be disposed on the second substrate. Additionally, a second alignment layer may also be disposed on the black matrix with the color filter unit. Here, the second alignment layer on the color filter unit has a fourth thickness, the second alignment layer on the black matrix has a fifth thickness, and the fourth thickness is thinner than the fifth thickness. In some aspects, the thickness of the second alignment layer on the portion of the color filter unit that overlaps the black matrix is less than the thickness of the second alignment layer on the portion of the color filter unit that does not overlap the black matrix .

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 적어도 하나의 스페이서가 제1 기판 또는 제2 기판 상에 배치될 수 있고, 또 바람직하게는 제2 기판 상에 배치된다. 상기 제1 기판과 제2 기판이 서로 조립되면, 그 사이에 있는 상기 스페이서는 액정 분자 주입을 위한 소정 공간을 제공할 수 있다. 상기 스페이서가 제1 기판 상에 배치되면, 제1 배향층이 스페이서를 덮고 또 상기 제1 두께 및 제2 두께보다 더 얇은 제3 두께를 갖는다. 더욱 바람직한 경우는 상기 스페이서가 제2 기판 상에 배치되고, 또 상기 제2 배향층이 스페이서를 덮고 또 제2 배향층의 제4 두께 및 제5 두께보다 더 작은 제3 두께를 갖는 것이다. 한편, 상기 제3 두께는 상기 제1 두께 및 제2 두께보다 작다. 일부 경우에서, 상기 스페이서 상의 배향층의 제3 두께는 0 nm에 가깝다; 즉, 상기 스페이서 상의 배향층의 제3 두께는 검출되기 어렵다. In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof according to the present invention, at least one spacer may be disposed on the first substrate or the second substrate, and is preferably disposed on the second substrate. When the first substrate and the second substrate are assembled with each other, the spacer therebetween may provide a predetermined space for injecting liquid crystal molecules. When the spacer is disposed on the first substrate, the first orientation layer covers the spacer and has a third thickness that is thinner than the first thickness and the second thickness. More preferably, the spacer is disposed on the second substrate, and the second alignment layer has a third thickness that covers the spacer and is smaller than the fourth thickness and the fifth thickness of the second alignment layer. On the other hand, the third thickness is smaller than the first thickness and the second thickness. In some cases, the third thickness of the orientation layer on the spacer is close to 0 nm; That is, the third thickness of the orientation layer on the spacer is difficult to detect.

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 박막 트랜지스터 유닛이 제1 기판 상에 또한 배치될 수 있다. 여기서, 상기 박막 트랜지스터 유닛은 게이트 전극, 절연층, 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하고, 상기 절연층은 상기 게이트 전극을 덮고, 상기 반도체층은 상기 절연층 상에 배치되며, 상기 소스 전극 및 드레인 전극은 상기 반도체층 상에 배치되어 소정 거리로 분리되어 채널 영역을 형성한다. 또한, 상기 제1 배향층은 상기 박막 트랜지스터 유닛 상에 배치되고, 또 상기 소스 전극과 드레인 전극 상에서 제6 두께를 갖고 상기 채널 영역에서 제7 두께를 가지며, 또 상기 제6 두께는 상기 제7 두께보다 더 얇다.In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof of the present invention, the thin film transistor unit may also be disposed on the first substrate. Here, the thin film transistor unit includes a gate electrode, an insulating layer, a semiconductor layer, a source electrode and a drain electrode, the insulating layer covers the gate electrode, the semiconductor layer is disposed on the insulating layer, And the drain electrode are disposed on the semiconductor layer and separated by a predetermined distance to form a channel region. The first orientation layer is disposed on the thin film transistor unit, and has a sixth thickness on the source electrode and the drain electrode, a seventh thickness in the channel region, and the sixth thickness is the seventh thickness Thinner than.

또한, 본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 보호층이 제1 기판 상에 더 배치되어 상기 데이터 라인, 스캔 라인 및 박막 트랜지스터 유닛을 덮는다. 상기 보호층은 박막 트랜지스터 유닛의 드레인 전극을 노출시키는 구멍(opening)을 갖고 또 화소 전극이 상기 보호층 상에 배치되어 상기 구멍까지 연장되어 상기 드레인 전극과 전기적으로 접속한다. 상기 구멍 중의 제1 배향층은 제8 두께를 갖고, 또 상기 드레인 전극(더욱 자세하게는, 드레인 전극 상부의 화소 전극 상) 상에 있는 제1 배향층의 제6 두께는 그의 제8 두께보다 더 얇다.In addition, in the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof of the present invention, a protective layer is further disposed on the first substrate to cover the data line, the scan line, and the thin film transistor unit. The protective layer has an opening exposing a drain electrode of the thin film transistor unit, and a pixel electrode is disposed on the protection layer and extends to the hole to electrically connect to the drain electrode. The first alignment layer in the hole has an eighth thickness and the sixth thickness of the first alignment layer on the drain electrode (more specifically, on the pixel electrode above the drain electrode) is thinner than the eighth thickness thereof .

또한, 본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 상기 제1 배향층은 박막 트랜지스터 유닛이 배치된 영역(더욱 자세하게는, 위에 박막 트랜지스터 유닛이 형성되지 않고 화소 전극이 배치되어 있는 영역) 밖에 제1 두께를 가지며, 이는 제6 두께보다 더 크다. In the liquid crystal display panel and the method of manufacturing the same according to the present invention, the first alignment layer may be formed only in the region where the thin film transistor unit is disposed (more specifically, the region where the thin film transistor unit is not formed and the pixel electrode is disposed) 1 thickness, which is greater than the sixth thickness.

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 상기 배향층(제1 배향층 및 제2 배향층 포함)용 재료는 특별히 한정되지 않고, 또 폴리이미드(PI), 폴리비닐신나메이트(PVCN), 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)와 같은 당해 분야에 일반적으로 사용되는 재료일 수 있다; 그러나, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다. 바람직하게는, 본 발명의 배향층용 재료는 PI이다.In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof according to the present invention, the material for the alignment layer (including the first alignment layer and the second alignment layer) is not particularly limited, and polyimide (PI), polyvinyl cinnamate (PVCN) And polymethylmethacrylate (PMMA), which are commonly used in the art; However, the present invention is not limited to these. Preferably, the material for the orientation layer of the present invention is PI.

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 배향층(제1 배향층 및 제2 배향층 포함)의 두께가 달라질 수 있을 뿐만 아니라 적어도 하나의 돌기(protrusion), 적어도 하나의 돌출부(hump) 또는 그의 조합이 배향층의 표면 상에 또한 형성될 수 있다. 바람직하게는, 상기 제1 기판은 디스플레이 영역 및 비-디스플레이 영역을 포함하고, 또 상술한 돌기 및 돌출부는 상기 제1 기판의 비-디스플레이 영역에 상응하는 제1 배향층 상에 배치된다. 또한, 상기 제2 기판은 또한 디스플레이 영역 및 비-디스플레이 영역을 포함할 수 있고, 이들 각각은 상기 제1 기판의 디스플레이 영역 및 비-디스플레이 영역에 상응한다; 또 상술한 돌기 및 돌출부는 또한 상기 제2 기판의 비-디스플레이 영역에 상응하는 제2 배향층 상에 배치된다. 바람직하게는, 상술한 돌기 및 돌출부는 상기 제1 배향층 및/또는 제2 배향층의 주변 영역(periphery region) 상에 배치된다. 상기 돌기 및 돌출부의 배치는 배향층이 상기 기판(제1 기판 및 제2 기판 포함)에 인가하는 압력을 증가시켜 상기 배향층과 기판 사이의 접착을 증가시킬 수 있다. 부가적으로, 상기 배치는 배향층 제조용 재료의 흘러넘침 및 경화 공정 중에 배향층의 수축 문제를 해결할 수 있고, 또 따라서 배향층의 변동이 억제될 수 있다.In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof of the present invention, not only the thickness of the orientation layer (including the first orientation layer and the second orientation layer) can be changed but also at least one protrusion, at least one hump or Combinations thereof may also be formed on the surface of the orientation layer. Preferably, the first substrate includes a display area and a non-display area, and the projections and protrusions described above are disposed on a first alignment layer corresponding to a non-display area of the first substrate. The second substrate may also include a display area and a non-display area, each of which corresponds to a display area and a non-display area of the first substrate; The above-mentioned projections and protrusions are also disposed on the second alignment layer corresponding to the non-display area of the second substrate. Preferably, the projections and protrusions described above are disposed on a periphery region of the first alignment layer and / or the second alignment layer. The arrangement of the protrusions and protrusions can increase the pressure applied by the alignment layer to the substrate (including the first substrate and the second substrate) to increase the adhesion between the alignment layer and the substrate. In addition, the above arrangement can solve the problem of shrinkage of the orientation layer during the overflow and curing process of the material for producing an orientation layer, and thus the variation of the orientation layer can be suppressed.

여기서, 제1 배향층 및 제2 배향층에서, 배향층의 재료는 상기 돌기 및/또는 돌출부의 재료와 동일하다. 또한, 상기 돌기 또는 돌출부는 배향층과 통합된다. 본 발명에서 상기 돌기 및/또는 돌출부에 상응하는 특정 구조를 갖는 전사판 또는 포토 마스크를 이용하여 배향층 및 돌기 및/또는 돌출부를 동시에 또는 개별적으로 형성할 수 있다. 여기서, 상기 용어 "돌기"는 배향층의 상부에서부터 표면까지 30 nm를 초과하는 높이를 갖는 돌출 유닛을 의미한다; 또 상기 용어 "돌출부"는 30 nm 미만의 높이를 갖는 것을 의미한다. 또한, 본 발명의 상기 돌기는 비평탄 표면 또는 산등성이와 유사한 구조를 갖는다.Here, in the first orientation layer and the second orientation layer, the material of the orientation layer is the same as the material of the protrusions and / or protrusions. Further, the projections or protrusions are integrated with the alignment layer. In the present invention, the alignment layer and the protrusions and / or protrusions can be formed simultaneously or individually using a transfer plate or a photomask having a specific structure corresponding to the protrusions and / or protrusions. Here, the term "protrusion " means a protruding unit having a height of more than 30 nm from the top of the alignment layer to the surface; The term " protrusion "also means having a height of less than 30 nm. Further, the projections of the present invention have a structure similar to a non-planar surface or ridges.

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 배향층 재료의 점도는 사용된 중합체의 중합도 또는 유형에 관련된다. 예를 들어, 배향층 재료는 사용된 중합체의 중합도가 증가함에 따라서 더 높은 점도를 갖는다. 따라서, 본 발명의 일 실시형태에서, 고 분자량을 갖는 중합체와 같은 고점도 물질을 사용하여 배향층을 형성할 수 있다. 이 경우, 적어도 하나의 돌기, 적어도 하나의 돌출부, 또는 그의 조합이 배향층의 표면 상에 형성될 수 있다; 또 바람직하게는, 상기 돌기 및 돌출부 모두가 배향층의 표면 위에 형성된다. 또한, 돌기가 배향층의 표면 상에 형성되면, 상기 돌기와 인접하는 제1 배향층의 두께에 대한 돌기의 높이(보다 특히, 돌기 상부로부터 배향층의 표면까지의 높이)의 비율은 2 내지 10 범위이다. 본 발명의 다른 요지에서, 분자량이 작은 중합체와 같은 점도가 낮은 물질을 사용하여 배향층을 형성할 수 있다. 이 경우, 돌출부는 배향층의 표면 상에 형성된다; 또 부가적으로 상기 제1 배향층의 엣지(edge)는 또한 파동 구조를 가질 수 있다. 여기서, 상기 용어 "파동 구조"는 원호 형상, 지그재그 형상, 곡선 형상 또는 그의 조합을 포함할 수 있다.In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof of the present invention, the viscosity of the orientation layer material is related to the degree of polymerization or type of the polymer used. For example, the orientation layer material has a higher viscosity as the degree of polymerization of the polymer used increases. Therefore, in one embodiment of the present invention, an orientation layer can be formed using a high-viscosity material such as a polymer having a high molecular weight. In this case, at least one protrusion, at least one protrusion, or a combination thereof may be formed on the surface of the orientation layer; Preferably, both the protrusions and protrusions are formed on the surface of the alignment layer. When the projection is formed on the surface of the alignment layer, the ratio of the height of the projection relative to the thickness of the first alignment layer adjacent to the projection (more particularly, the height from the top of the projection to the surface of the alignment layer) to be. In another aspect of the present invention, an orientation layer can be formed using a material having a low viscosity such as a polymer having a small molecular weight. In this case, protrusions are formed on the surface of the orientation layer; In addition, the edge of the first orientation layer may also have a wave structure. Here, the term " wave structure "may include an arc shape, a zigzag shape, a curved shape, or a combination thereof.

본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 배향층(제1 배향층 및 제2 배향층 포함)은 선택적으로 복수의 입자를 포함할 수 있고, 이때 비-디스플레이 영역에 있는 입자가 디스플레이 영역에 있는 입자보다 더 크다. 여기서, 상기 용어 "입자"는 배향층에 형성된 상당량 입자가 본 발명의 입자의 정의에 속하는 한 핵, 결정, 과립 또는 응집물을 포함한다. 특히, 본 발명의 일부 요지에서, 특정 미세구조를 갖는 전사판 또는 포토 마스크를 사용하여 돌출부를 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 돌출부는 복수의 입자의 응집으로 인하여 형성될 수도 있다.In the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof of the present invention, the orientation layer (including the first orientation layer and the second orientation layer) may optionally include a plurality of particles, wherein the particles in the non- Is larger than the particles present. Here, the term "particles" includes nuclei, crystals, granules or agglomerates as long as a substantial amount of the particles formed in the orientation layer belong to the definition of the particles of the present invention. In particular, in some aspects of the present invention, not only can the protrusion be formed using a transfer plate or photomask having a specific microstructure, but also the protrusion may be formed due to agglomeration of a plurality of particles.

또한, 본 발명의 액정 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법에서, 제1 기판 및 제2 기판을 조립하기 위하여 밀봉제(sealant)가 사용된다. 따라서, 본 발명의 액정 디스플레이 패널은 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치되고, 또 선택적으로 배향층의 일부를 덮는 밀봉제를 또한 포함할 수 있다. 보다 특히, 상기 밀봉제는 배향층의 주변 영역을 선택적으로 덮는다. 상기 돌기 및/또는 돌출부가 배향층 위에 형성되면, 상기 밀봉제는 바람직하게는 상기 돌기 및/또는 돌출부의 일부를 덮는다. 상기 돌기 및/또는 돌출부의 배치는 상기 밀봉제와 배향층 사이의 접촉 면적을 증가시킬 수 있고, 또 따라서 배향층으로부터 밀봉제의 박리 문제가 개선될 수 있다.Further, in the liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof of the present invention, a sealant is used to assemble the first substrate and the second substrate. Accordingly, the liquid crystal display panel of the present invention may also include a sealant disposed between the first substrate and the second substrate, and optionally also covering a part of the alignment layer. More particularly, the sealant selectively covers the peripheral region of the orientation layer. When the protrusions and / or protrusions are formed on the orientation layer, the sealant preferably covers a part of the protrusions and / or protrusions. The arrangement of the protrusions and / or protrusions can increase the contact area between the sealant and the orientation layer, and thus the problem of peeling of the sealant from the orientation layer can be improved.

또한, 본 발명은 백라이트 모듈; 및 상기 백라이트 모듈 상에 배치된 상술한 액정 디스플레이 패널을 포함하는, 액정 디스플레이 장치를 또한 제공한다. The present invention also provides a backlight module comprising: a backlight module; And a liquid crystal display panel described above disposed on the backlight module.

본 발명의 다른 목적, 이점 및 신규한 특징은 첨부한 도면과 함께 하기의 상세한 설명으로부터 더욱 분명해질 것이다. Other objects, advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description when taken in conjunction with the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 액정 패널의 투시도이고;
도 2는 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 박막 트랜지스터 기판을 도시하는 투시도이며;
도 3은 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 박막 트랜지스터 기판을 도시하는 단면도이고;
도 4a-4b는 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 박막 트랜지스터 기판의 일부를 도시하는 확대 단면도이며;
도 5는 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 컬러 필터 기판을 도시하는 단면도이고;
도 6은 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 박막 트랜지스터 기판 상의 제1 배향층을 도시하는 투시도이며;
도 7a-7d는 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 비-디스플레이 영역 중의 제1 배향층을 도시하는 단면도이고;
도 8a-8c는 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 비-디스플레이 영역 중의 제1 배향층을 도시하는 단면도이며;
도 9a는 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 제1 배향층 및 밀봉제를 도시하는 투시도이고;
도 9b는 본 발명의 다른 바람직한 실시양태에 따른 제1 배향층 및 밀봉제를 도시하는 투시도이며;
도 10은 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 제1 배향층을 도시하는 투시도이고;
도 11은 본 발명의 다른 바람직한 실시양태에 따른 박막 트랜지스터 기판 상의 제1 배향층을 도시하는 투시도이고; 또
도 12는 본 발명의 액정 디스플레이 장치를 도시하는 투시도이다.
1 is a perspective view of a liquid crystal panel according to a preferred embodiment of the present invention;
2 is a perspective view illustrating a thin film transistor substrate according to a preferred embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view illustrating a thin film transistor substrate according to a preferred embodiment of the present invention;
4A-4B are enlarged cross-sectional views showing a part of a thin film transistor substrate according to a preferred embodiment of the present invention;
5 is a sectional view showing a color filter substrate according to a preferred embodiment of the present invention;
Figure 6 is a perspective view showing a first orientation layer on a thin film transistor substrate according to a preferred embodiment of the present invention;
Figures 7A-7D are cross-sectional views illustrating a first orientation layer in a non-display area according to a preferred embodiment of the present invention;
8A-8C are cross-sectional views illustrating a first orientation layer in a non-display region according to a preferred embodiment of the present invention;
9A is a perspective view showing a first orientation layer and a sealant in accordance with a preferred embodiment of the present invention;
Figure 9b is a perspective view showing a first orientation layer and a sealant in accordance with another preferred embodiment of the present invention;
10 is a perspective view showing a first orientation layer according to a preferred embodiment of the present invention;
11 is a perspective view showing a first orientation layer on a thin film transistor substrate according to another preferred embodiment of the present invention; In addition
12 is a perspective view showing a liquid crystal display device of the present invention.

본 발명은 예시적 방식으로 기재되었고, 또 사용된 용어는 제한을 의미하기 보다는 설명을 위한 것임을 이해해야 한다. 본 발명의 많은 변형 및 변이는 상기 내용의 측면에서 가능하다. 따라서, 특별히 다르게 기재하지 않는 한 본 발명은 첨부된 특허청구범위 내에서 실시될 수 있음을 알아야 한다. It is to be understood that the invention has been described in an illustrative manner, and that the terminology used is for the purpose of description rather than limitation. Many modifications and variations of the present invention are possible in light of the above teachings. It is therefore to be understood that within the scope of the appended claims, the invention may be practiced otherwise than as specifically described.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 액정 패널의 투시도이다. 본 발명의 실시양태의 액정 디스플레이 패널은 박막 트랜지스터(TFT) 기판(1), 컬러 필터(CF) 기판(2), 복수의 스페이서(3), 액정층(4) 및 밀봉제(5)를 포함한다. 상기 TFT 기판(1) 및 CF 기판(2)은 서로 대향하고, 상기 스페이서(3) 및 액정층(4)은 상기 TFT 기판(1)과 CF 기판(2) 사이에 배치되며, 또 상기 TFT 기판(1) 및 CF 기판(2)은 상기 밀봉제(5)에 의해 서로 조립된다. 상기 TFT 기판(1) 및 CF 기판(2) 상에 배치된 상세한 유닛은 도 1에 도시되어 있지 않다. 이후, 상기 TFT 기판(1) 및 CF 기판(2) 상에 배치된 유닛 및 그의 제조 방법을 아래에 자세하게 기재한다. 1 is a perspective view of a liquid crystal panel according to a preferred embodiment of the present invention. The liquid crystal display panel of the embodiment of the present invention includes a thin film transistor (TFT) substrate 1, a color filter (CF) substrate 2, a plurality of spacers 3, a liquid crystal layer 4 and a sealing agent 5 do. The TFT substrate 1 and the CF substrate 2 are opposed to each other and the spacer 3 and the liquid crystal layer 4 are disposed between the TFT substrate 1 and the CF substrate 2, (1) and the CF substrate (2) are assembled to each other by the sealant (5). Detailed units disposed on the TFT substrate 1 and the CF substrate 2 are not shown in Fig. Hereinafter, the units arranged on the TFT substrate 1 and the CF substrate 2 and the manufacturing method thereof will be described in detail below.

도 2는 본 발명의 실시양태의 액정 디스플레이 패널의 TFT 기판을 도시하는 투시도이고; 또 도 3은 TFT 기판 및 그 위에 형성된 구조를 도시하는, 도 2의 A-A' 단면선에 따른 단면도이다. 본 실시양태의 TFT 기판은 스캔 라인(12), 데이터 라인(13), 박막 트랜지스터(TFT) 유닛(14), 화소 전극(15), 및 커패시터 전극(17)이 위에 형성되어 있는 제1 기판을 포함한다. 여기서, 화소 유닛은 2개의 인접하는 스캔 라인(12) 및 2개의 인접하는 데이터 라인(13)을 갖는 것으로 정의되며, TFT 유닛(14), 화소 전극(15), 및 커패시터 전극(17)을 포함하고, 또 상기 화소 전극(15)은 2개의 인접하는 스캔 라인(12)과 2개의 인접하는 데이터 라인(13) 사이에 배치된다. 여기서, 상기 스캔 라인(12), 데이터 라인(13) 및 커패시터 전극(17)은 금속, 합금, 금속 산화물, 금속 질산화물, 또는 당해 분야에 사용되는 기타 전극 물질과 같은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 도전성 물질에 의해 제조될 수 있으며, 바람직하게는 금속이다. 2 is a perspective view showing a TFT substrate of a liquid crystal display panel of an embodiment of the present invention; 3 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'in Fig. 2, showing a TFT substrate and a structure formed thereon. The TFT substrate of the present embodiment has a structure in which a first substrate on which a scan line 12, a data line 13, a thin film transistor (TFT) unit 14, a pixel electrode 15, and a capacitor electrode 17 are formed . Here, the pixel unit is defined as having two adjacent scan lines 12 and two adjacent data lines 13, and includes a TFT unit 14, a pixel electrode 15, and a capacitor electrode 17 And the pixel electrode 15 is disposed between two adjacent scan lines 12 and two adjacent data lines 13. [ Here, the scan line 12, the data line 13, and the capacitor electrode 17 may be formed of a metal, an alloy, a metal oxide, a metal oxide, or other electrode material used in the art, Material, preferably a metal.

이어, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 실시양태의 TFT 기판은 제1 기판(11), 데이터 라인(13), 스캔 라인(도면에 도시되지 않음) 및 TFT 유닛(14)을 포함하고, 상기 데이터 라인(13), 스캔 라인(도면에 도시되지 않음) 및 TFT 유닛(14)은 상기 제1 기판(11) 상에 배치된다. 상기 TFT 유닛(14)은 제1 기판(11) 상에 배치된 게이트 전극(141); 상기 게이트 전극(141) 및 제1 기판(11)을 덮는 절연층(142)(게이트 절연층이라고도함); 상기 절연층(142) 상에 배치된 반도체층(143); 및 상기 반도체층(143)에 배치되고 소정 거리로 분리되어 채널 영역(1443)을 형성하는 소스 전극(1441) 및 드레인 전극(1442)을 포함한다. 여기서, 상기 절연층(142)은 또한 상기 데이터 라인(13) 및 스캔 라인(도면에 도시되지 않음)을 덮는다. 본 발명의 실시양태에서, 상기 TFT 유닛(14)은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 통상의 공정에 의해 제작될 수 있으므로, 그 공정은 여기에 도시하지 않는다. 또한, 제1 기판(11)은 유리 기판, 플라스틱 기판, 실리콘 기판 및 세라믹 기판과 같은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 기판일 수 있다. 또한, 상기 게이트 전극(141) 재료는 금속, 합금, 금속 산화물, 금속 질산화물, 또는 당해 분야에서 사용되는 기타 전극 물질과 같이 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 도전성 물질일 수 있고, 바람직하게는 금속이다. 그러나, 본 발명은 그에 한정되지 않는다. 상기 절연층(142)의 재료는 SiN과 같은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 절연 물질일 수 있고; 상기 반도체층(143)의 재료는 비정질 실리콘, 폴리실리콘, P13, DH4T 및 펜타센과 같은 유기 물질을 포함한 당해 분야에 일반적으로 사용되는 반도체 물질일 수 있지만, 본 발명은 그에 한정되지 않는다.3, the TFT substrate of the present embodiment includes a first substrate 11, a data line 13, a scan line (not shown in the figure), and a TFT unit 14, A data line 13, a scan line (not shown in the figure), and a TFT unit 14 are disposed on the first substrate 11. The TFT unit 14 includes a gate electrode 141 disposed on the first substrate 11; An insulating layer 142 (also referred to as a gate insulating layer) covering the gate electrode 141 and the first substrate 11; A semiconductor layer (143) disposed on the insulating layer (142); And a source electrode 1441 and a drain electrode 1442 disposed in the semiconductor layer 143 and separated by a predetermined distance to form a channel region 1443. Here, the insulating layer 142 also covers the data line 13 and the scan line (not shown). In the embodiment of the present invention, the TFT unit 14 can be manufactured by a usual process generally used in the art, and therefore the process is not shown here. Also, the first substrate 11 may be a substrate commonly used in the art, such as a glass substrate, a plastic substrate, a silicon substrate, and a ceramic substrate. In addition, the material of the gate electrode 141 may be a conductive material generally used in the art, such as a metal, an alloy, a metal oxide, a metal oxide, or other electrode material used in the art, and is preferably a metal. However, the present invention is not limited thereto. The material of the insulating layer 142 may be an insulating material commonly used in the art such as SiN; The material of the semiconductor layer 143 may be a semiconductor material commonly used in the art including organic materials such as amorphous silicon, polysilicon, P13, DH4T, and pentacene, but the present invention is not limited thereto.

도 3에 도시된 바와 같이, 데이터 라인(13), 상기 스캔 라인 (도면에 도시되지 않음) 및 TFT 유닛(14)이 형성된 후, 제1 보호층(145)을 형성하여 상기 데이터 라인(13), 스캔 라인 (도면에 도시되지 않음) 및 TFT 유닛(14)을 덮는다. 여기서, 구멍(1451)이 보호층(145)에 형성되어 드레인 전극(1442)을 노출시킨다. 이어, 화소 전극(15)이 보호층(145) 상에 배치되어 상기 구멍(1451)까지 연장되어 상기 드레인 전극(1442)과 전기적으로 접속시킨다. 여기서, 상기 제1 보호층(145)의 재료는 SiOx와 같이 당해 분야의 부동태화(passivation) 물질로 일반적으로 사용되는 물질일 수 있다. 또한, 상기 화소 전극(15)은 덴드라이트(dendrite) 유사 전극 또는 지그재그 전극과 같은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 패턴화된 전극일 수 있다. 또 그의 재료는 ITO 또는 IZO를 포함하는 투명 도전성 산화물과 같이 당해 분야에 일반적으로 사용되는 투명 도전성 물질일 수 있다. 3, after the data line 13, the scan line (not shown in the figure), and the TFT unit 14 are formed, a first passivation layer 145 is formed to form the data line 13, , A scan line (not shown in the figure), and the TFT unit 14. [ Here, a hole 1451 is formed in the protective layer 145 to expose the drain electrode 1442. The pixel electrode 15 is disposed on the protective layer 145 and extends to the hole 1451 to electrically connect to the drain electrode 1442. Here, the material of the first passivation layer 145 may be a material commonly used as a passivation material in the art, such as SiOx. In addition, the pixel electrode 15 may be a patterned electrode generally used in the art, such as a dendrite-like electrode or a zigzag electrode. Further, the material thereof may be a transparent conductive material generally used in the art, such as a transparent conductive oxide including ITO or IZO.

마지막으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제2 보호층(146) 및 화소 전극(15)은 광 배향(photo alignment) 단량체에 의해 코팅된다. 상기 광 배향 단량체가 중합되고 경화된 후, 제1 배향층(16)이 형성된다. 본 발명의 실시양태에서, 상기 제1 배향층(16)은 균일한 두께를 갖지 않고, 또 그의 두께는 상기 제1 배향층(16) 아래의 유닛의 고도(또는 높이)에 따라서 조정된다. 따라서, 상기 제1 배향층(16)의 상부 표면의 고도차가 최소화될 수 있다. 여기서, 특정 미세구조를 갖는 전사판(APR plate)과 같은 인쇄판을 사용하여 직접 인쇄를 통하여 패턴화된 배향층을 제조할 수 있다; 균일한 두께를 갖는 배향층이 먼저 형성된 다음 그 위에 포토리소그래피가 실시되어 패턴화된 배향층을 형성하거나; 또는 균일한 두께를 갖는 배향층이 먼저 형성되고, 경화하기 전에 상이한 두께를 갖도록 인쇄된 다음, 경화되어 패턴화된 배향층을 형성한다. 그러나, 본 발명의 패턴화된 배향층을 제조하기 위하여 이용된 방식은 상술한 방식에 한정되지 않는다. 상술한 공정 이후, 본 발명의 실시양태의 TFT 기판이 완성된다. 이후, 상기 제1 배향층(16)의 디자인을 자세하게 설명한다.Finally, as shown in FIG. 3, the second passivation layer 146 and the pixel electrode 15 are coated with photo alignment monomers. After the photo-alignment monomer is polymerized and cured, a first alignment layer 16 is formed. In an embodiment of the present invention, the first alignment layer 16 does not have a uniform thickness, and its thickness is adjusted according to the height (or height) of the unit under the first alignment layer 16. Therefore, the height difference of the upper surface of the first alignment layer 16 can be minimized. Here, a patterned alignment layer can be produced by direct printing using a printing plate such as an APR plate having a specific microstructure; An alignment layer having a uniform thickness is first formed, and then photolithography is performed thereon to form a patterned alignment layer; Or an alignment layer having a uniform thickness is first formed and printed so as to have a different thickness before curing, and then cured to form a patterned alignment layer. However, the method used for producing the patterned alignment layer of the present invention is not limited to the above-described method. After the above-described process, the TFT substrate of the embodiment of the present invention is completed. Hereinafter, the design of the first alignment layer 16 will be described in detail.

도 4a는 본 실시양태의 TFT 기판의 일부를 도시하는 확대 단면도이다. 여기서, 상기 화소 전극(15) 상의 제1 배향층(16)은 제1 두께(T1)를 가지며, 상기 데이터 라인(13) 상의 제1 배향층(16)은 제2 두께(T2)를 갖고, 또 상기 제1 두께(T1)는 제2 두께(T2)보다 더 크다. 바람직하게는, 제2 두께(T2)에 대한 제1 두께(T1)의 비율(T1/T2)은 1 내지 10 범위(1≤T1/T2≤10)이다. 더욱 바람직하게는, 상기 비율은 1 내지 5 범위 (1≤T1/T2≤5)이다. 가장 바람직하게는, 상기 비율은 2 내지 4 범위(2≤T1/T2≤4)이다. 본 발명의 실시양태에서, 제1 두께(T1)는 0.1 μm 내지 0.2 μm 범위일 수 있고, 또 제2 두께(T2)는 0.01 μm 내지 0.08 μm 범위일 수 있다. 그러나, 상기 제1 배향층(16)의 두께는, 상기 배향층(16) 아래의 유닛의 고도(또는 높이)가 증가함에 따라서 상기 제1 배향층(16)의 두께가 감소되는 한, 상술한 범위에 한정되지 않으므로, 상기 제1 배향층(16)의 상부 표면의 고도차를 감소시키려는 목적이 달성될 수 있다. 여기서, 데이터 라인을 함유하는 영역 만이 예시되어 있지만, 스캔 라인을 함유하는 영역에 상응하는 제1 배향층도 데이터 라인을 함유하는 영역과 유사한 두께 디자인을 가질 수 있다. 4A is an enlarged cross-sectional view showing a part of the TFT substrate of this embodiment. Wherein the first alignment layer 16 on the pixel electrode 15 has a first thickness T1 and the first alignment layer 16 on the data line 13 has a second thickness T2, The first thickness T1 is larger than the second thickness T2. Preferably, the ratio T1 / T2 of the first thickness T1 to the second thickness T2 is in the range of 1 to 10 (1? T1 / T2? 10). More preferably, the ratio is in the range of 1 to 5 (1? T1 / T2? 5). Most preferably, the ratio is in the range of 2 to 4 (2? T1 / T2? 4). In an embodiment of the present invention, the first thickness T1 may range from 0.1 μm to 0.2 μm, and the second thickness T2 may range from 0.01 μm to 0.08 μm. However, the thickness of the first alignment layer 16 may be set so that the thickness of the first alignment layer 16 decreases as the altitude (or height) of the unit under the alignment layer 16 increases The purpose of reducing the altitude difference of the upper surface of the first alignment layer 16 can be achieved. Here, although only the region containing the data lines is illustrated, the first alignment layer corresponding to the region containing the scan lines may also have a thickness design similar to the region containing the data lines.

또한, 도 4b는 본 실시양태의 TFT 기판의 박막 트랜지스터 유닛이 배치된 영역을 도시하는 확대 단면도이다. 여기서, 상기 제1 배향층(16)은 상기 소스 전극(1441) 및 드레인 전극(1442) 상에 제6 두께(T6)를 갖고, 또 채널 영역(1443)에는 제7 두께(T7)를 가지며, 또 상기 제6 두께(T6)는 제7 두께(T7)보다 더 얇다. 또한, 상기 제1 배향층(16)은 구멍(1451)에 제8 두께(T8)를 갖고, 또 상기 드레인 전극(1442) 상의 제1 배향층(16)의 제6 두께(T6)는 그의 제8 두께(T8)보다 더 얇다. 또한, 상기 제1 배향층(16)은 박막 트랜지스터 유닛(14)이 배치된 영역(더욱 자세하게는, 위에 박막 트랜지스터 유닛(14)이 형성되어 있지 않고 화소 전극(15)이 배치된 영역) 밖에 제1 두께(T1)를 가지며, 이는 상기 제6 두께(T6)보다 더 크다.4B is an enlarged cross-sectional view showing a region where the thin film transistor unit of the TFT substrate of this embodiment is disposed. The first alignment layer 16 has a sixth thickness T6 on the source electrode 1441 and the drain electrode 1442 and has a seventh thickness T7 on the channel region 1443, The sixth thickness T6 is thinner than the seventh thickness T7. The first alignment layer 16 has an eighth thickness T8 in the hole 1451 and the sixth thickness T6 of the first alignment layer 16 on the drain electrode 1442 has a thickness 8 Thicker than thickness (T8). The first alignment layer 16 is formed only in the region where the thin film transistor unit 14 is disposed (more specifically, the region where the thin film transistor unit 14 is not formed but the pixel electrode 15 is disposed) 1 thickness (T1), which is greater than the sixth thickness (T6).

도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 상기 제1 배향층(16)의 두께는 제1 배향층(16) 아래의 유닛의 고도가 증가함에 따라서 감소되도록 설계되어 있다. 따라서, 제1 배향층(16)의 상부 표면의 고도차가 최소화될 수 있다. 따라서, 상기 제1 배향층(16)의 불균일 러빙 또는 단량체 응집 문제가 방지되어 상기 액정 디스플레이 패널의 디스플레이 품질을 개선할 수 있다.4A and 4B, the thickness of the first orientation layer 16 is designed to decrease as the altitude of the unit under the first orientation layer 16 increases. Therefore, the height difference of the upper surface of the first alignment layer 16 can be minimized. Therefore, the problem of non-uniform rubbing or monomer aggregation of the first alignment layer 16 can be prevented, and the display quality of the liquid crystal display panel can be improved.

다음, 도 5는 본 발명의 실시양태의 CF 기판을 도시하는 단면도이다. 상기 CF 기판은 제2 기판(21), 컬러 필터 유닛(22) 및 블랙 매트릭스(23)를 포함한다. 여기서, 상기 컬러 필터 유닛(22) 및 블랙 매트릭스(23)는 상기 제2 기판(21) 상에 배치되고, 또 상기 블랙 매트릭스(23)는 2개의 인접하는 컬러 필터 유닛(22) 사이에 배치된다. 다음, 보호층(24), 공통 전극층(25) 및 제2 배향층(26)이 상기 컬러 필터 유닛(22)과 블랙 매트릭스(23) 상에 순차적으로 형성되어 본 발명의 실시양태의 CF 기판을 완성한다. 여기서, 보호층(24)의 재료는 도 3에 도시된 보호층(145)의 재료와 동일할 수 있으므로, 자세하게 기재하지 않는다. 또한, 본 발명의 실시양태의 공통 전극층(25)은 당해 분야에 일반적으로 사용되는 평면 전극층일 수 있고, 그 재료는 ITO 또는 IZO를 포함한 투명 도전성 산화물과 같은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 투명 도전성 물질일 수 있다. 또한, 상기 제2 배향층(26)은 상기 제1 배향층을 제조하는 방법과 동일한 방법에 의해 형성될 수 있으므로, 그 제조 방법은 여기서 설명하지 않는다. 본 발명의 실시양태의 상기 제2 배향층(26)은 제2 배향층(26) 아래의 유닛의 높이에 따라 조정되는 상이한 두께를 가질 수 있음을 알아야 하며; 또 따라서, 제2 배향층(26)의 상부 표면의 고도차가 최소화될 수 있다. 이후, 제2 배향층(26)의 두께의 설계를 자세하게 설명한다.Next, Fig. 5 is a sectional view showing the CF substrate of the embodiment of the present invention. The CF substrate includes a second substrate 21, a color filter unit 22, and a black matrix 23. Here, the color filter unit 22 and the black matrix 23 are disposed on the second substrate 21, and the black matrix 23 is disposed between two adjacent color filter units 22 . Next, the protective layer 24, the common electrode layer 25 and the second alignment layer 26 are sequentially formed on the color filter unit 22 and the black matrix 23 to form the CF substrate of the embodiment of the present invention It completes. Here, the material of the protective layer 24 may be the same as the material of the protective layer 145 shown in Fig. 3, and therefore will not be described in detail. In addition, the common electrode layer 25 of the embodiment of the present invention may be a planar electrode layer commonly used in the art, and the material thereof may be a transparent conductive material commonly used in the art such as a transparent conductive oxide including ITO or IZO Lt; / RTI > Further, the second alignment layer 26 can be formed by the same method as the method of manufacturing the first alignment layer, and the manufacturing method thereof is not described herein. It should be noted that the second orientation layer 26 of the embodiment of the present invention may have a different thickness that is adjusted according to the height of the unit under the second orientation layer 26; Therefore, the height difference of the upper surface of the second alignment layer 26 can be minimized. Hereinafter, the design of the thickness of the second alignment layer 26 will be described in detail.

도 5에 도시된 바와 같이, 상기 컬러 필터 유닛(22) 상의 제2 배향층(26)은 제4 두께(T4)를 갖고, 블랙 매트릭스(23) 상의 제2 배향층(26)은 제5 두께(T5)를 가지며, 또 상기 제4 두께(T4)는 상기 제5 두께(T5)보다 더 얇다. 여기서, 상기 제4 두께(T4)는 0.01 μm 내지 0.08 μm 범위일 수 있고, 또 상기 제5 두께(T5)는 0.1 μm 내지 0.2 μm 범위일 수 있다. 그러나, 본 발명은 상기 제2 배향층(26) 아래의 유닛이 증가함에 따라서 상기 제2 배향층(26)의 두께가 감소하는 한, 상술한 범위에 한정되지 않는다; 따라서 상기 제2 배향층(26)의 상부 표면의 고도차를 최소화하는 목적이 달성될 수 있다. 또한, 상기 컬러 필터 유닛(22)은 블랙 매트릭스(23)의 일부를 덮는다. 여기서, 블랙 매트릭스(23)와 중첩되는 컬러 필터 유닛(22)의 일부 위의 제2 배향층(26)의 두께(T9)는 블랙 매트릭스(23)와 중첩하지 않는 컬러 필터 유닛(22)의 다른 부분 위의 제2 배향층의 두께(즉, 제4 두께(T4))보다 더 얇다. 5, the second alignment layer 26 on the color filter unit 22 has a fourth thickness T4 and the second alignment layer 26 on the black matrix 23 has a fifth thickness (T5), and the fourth thickness (T4) is thinner than the fifth thickness (T5). Here, the fourth thickness T4 may be in the range of 0.01 μm to 0.08 μm, and the fifth thickness T5 may be in the range of 0.1 μm to 0.2 μm. However, the present invention is not limited to the above-described range as long as the thickness of the second alignment layer 26 decreases as the unit under the second alignment layer 26 increases. Therefore, the object of minimizing the altitude difference of the upper surface of the second alignment layer 26 can be achieved. Further, the color filter unit 22 covers a part of the black matrix 23. Here, the thickness T9 of the second alignment layer 26 on the part of the color filter unit 22 overlapping with the black matrix 23 is different from the thickness T9 of the color filter unit 22 which does not overlap with the black matrix 23 Is thinner than the thickness of the second orientation layer on the portion (i.e., the fourth thickness T4).

또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시양태의 액정 디스플레이 패널은 또한 상기 TFT 기판(1) 및 CF 기판(2) 상에 배치된 적어도 하나의 스페이서(3)를 포함한다(도 1에 도시된 바와 같이). 더욱 자세하게는, 상기 스페이서(3)는 제2 기판(21) 상에 배치되며 또 상기 블랙 매트릭스(23)에 상응하며; 또 제2 배향층(26)이 상기 스페이서(3)를 덮는다. 여기서, 상기 스페이서 상의 제2 배향층(26)은 상기 제4 두께(T4) 및 제5 두께(T5)보다 더 얇은 제3 두께(T3)를 갖는다. 상기 제2 배향층(26)의 두께를 상기 제1 기판 상의 제1 배향층(16)의 두께와 비교하면(도 3에 도시된 바와 같이), 상기 제3 두께(T3)는 화소 전극(15) 상의 제1 배향층(16)의 제1 두께(T1) 및 데이터 라인(13) 상의 제1 배향층(16)의 제2 두께(T2) 보다 더 얇다. 일부 실시양태에서, 상기 스페이서(3) 상의 제2 배향층(26)의 제3 두께(T3)는 매우 얇고, 또 거의 0 nm에 가깝다; 즉, 그의 제3 두께는 주사전자현미경(SEM)을 이용하더라도 검출되기 어렵다. 5, the liquid crystal display panel of the embodiment of the present invention also includes at least one spacer 3 disposed on the TFT substrate 1 and the CF substrate 2 (Fig. 1 As shown in FIG. More specifically, the spacer 3 is disposed on the second substrate 21 and corresponds to the black matrix 23; And the second alignment layer 26 covers the spacer 3. Here, the second orientation layer 26 on the spacer has a third thickness T3 that is thinner than the fourth thickness T4 and the fifth thickness T5. 3, the third thickness T3 is smaller than the thickness of the first alignment layer 16 on the pixel electrode 15 (as shown in FIG. 3) The first thickness T1 of the first alignment layer 16 on the data line 13 and the second thickness T2 of the first alignment layer 16 on the data line 13. [ In some embodiments, the third thickness T3 of the second orientation layer 26 on the spacer 3 is very thin and close to 0 nm; That is, the third thickness thereof is hard to be detected even by using a scanning electron microscope (SEM).

본 발명의 실시양태에서, 상기 배향층(제1 배향층(16) 및 제2 배향층(26) 포함)의 재료는 특별히 제한되지 않고, 또 폴리이미드(PI), 폴리비닐신나메이트(PVCN) 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)와 같은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 물질일 수 있다. 그러나, 상기 재료는 여기에 한정되지 않는다. 바람직하게는, 본 발명의 실시양태의 배향층 재료는 고 점도를 갖는 PI이다. In the embodiment of the present invention, the material of the alignment layer (including the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26) is not particularly limited, and polyimide (PI), polyvinyl cinnamate (PVCN) And polymethylmethacrylate (PMMA). ≪ RTI ID = 0.0 > [0040] < / RTI > However, the material is not limited thereto. Preferably, the orientation layer material of embodiments of the present invention is a PI having a high viscosity.

도 1에 도시된 바와 같이, 상기 TFT 기판(1) 및 CF 기판(2)이 제조된 후, 이들 2개 기판은 밀봉제(5)에 의해 조립 밀봉된 다음, 여기에 액정 분자가 주입되어 액정층(4)을 형성하여, 본 발명의 실시양태의 액정 디스플레이 패널을 완성한다. 상기 밀봉제(5)와 제1 배향층(16)뿐만 아니라 제2 배향층(26)(도 1, 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이) 사이의 접착을 개선시키기 위하여, 상기 제1 배향층(16) 및 제2 배향층(26)의 주변은 미세구조를 갖도록 설계된다. 이후, 상기 제1 배향층(16) 및 제2 배향층(26)의 주변의 미세구조를 자세하게 설명하며, 상기 제1 배향층(16) 및 제2 배향층(26)의 주변은 동일하거나 또는 상이한 미세구조를 가질 수 있다. 여기서는 상기 제1 배향층(16)의 구조만이 예시되어 있고, 상기 제2 배향층(26)의 구조는 아래에 설명하지 않는다. As shown in Fig. 1, after the TFT substrate 1 and the CF substrate 2 are manufactured, these two substrates are assembled and sealed by a sealant 5, liquid crystal molecules are injected thereinto, Layer 4 is formed to complete the liquid crystal display panel of the embodiment of the present invention. In order to improve adhesion between the sealant 5 and the first orientation layer 16 as well as the second orientation layer 26 (as shown in Figures 1, 3 and 5), the first orientation The periphery of the layer 16 and the second orientation layer 26 is designed to have a microstructure. Hereinafter, the microstructure of the periphery of the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 will be described in detail, and the periphery of the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 are the same or different. Can have different microstructures. Here, only the structure of the first alignment layer 16 is illustrated, and the structure of the second alignment layer 26 is not described below.

도 6은 본 발명의 실시양태의 액정 디스플레이 패널 중의 TFT 기판 상의 제1 배향층을 도시하는 투시도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시양태의 액정 디스플레이 패널에서, 상기 제1 배향층(16)은 TFT 기판(1) 상에 배치되고, 또 돌기(161) 및 복수의 돌출부(162)는 제1 배향층(16)의 주변(P) 상에 또한 배치된다. 상기 TFT 기판(1)이 디스플레이 영역(D) 및 비-디스플레이 영역(N)을 갖는 것으로 정의되면, 상기 돌기(161) 및 돌출부(162)는 상기 TFT 기판(1)의 비-디스플레이 영역(N) 상에 배치된다. 본 발명의 실시양태에서, 상기 제1 배향층(16)의 재료는 상기 돌기(161) 및 돌출부(162)의 재료와 동일하고, 또 상기 돌기(161) 및 돌출부(162)는 상기 제1 배향층(16)과 통합된다. 여기서, 상기 제1 배향층(16) 및 돌기(161)에 상응하는 패턴을 갖는 전사판 또는 포토 마스크를 이용하여 상기 제1 배향층(16) 및 돌기(161)를 동시에 형성할 수 있거나; 또는 상기 제1 배향층(16), 돌기(161) 및 돌출부(162)에 상응하는 패턴을 갖는 전사판 또는 포토 마스크를 이용하여 상기 제1 배향층(16), 돌기(161) 및 돌출부(162)를 동시에 형성할 수 있다. 그러나, 다른 실시양태에서, 상기 돌출부(162)는 상기 돌출부(162)에 상응하는 패턴을 갖는 전사판 또는 포토 마스크를 이용하여 형성되지 않을 수 있고, 또 상기 배향층 재료를 중합하는 동안 생성된 입자(핵, 결정, 과립 또는 응집물 포함)에 의해 자연스럽게 형성될 수 있다. 6 is a perspective view showing the first alignment layer on the TFT substrate in the liquid crystal display panel of the embodiment of the present invention. 6, in the liquid crystal display panel of the embodiment of the present invention, the first alignment layer 16 is disposed on the TFT substrate 1, and the protrusions 161 and the plurality of protrusions 162 are formed on the TFT substrate 1, Is also disposed on the periphery (P) of the first alignment layer (16). When the TFT substrate 1 is defined as having a display region D and a non-display region N, the protrusions 161 and the protrusions 162 are formed in the non-display region N of the TFT substrate 1 . The material of the first alignment layer 16 is the same as the material of the protrusions 161 and the protrusions 162 and the protrusions 161 and protrusions 162 are the same as the material of the protrusions 161 and the protrusions 162. In the embodiment of the present invention, Layer < / RTI > Here, the first alignment layer 16 and the protrusions 161 may be formed simultaneously using a transfer plate or a photomask having a pattern corresponding to the first alignment layer 16 and the protrusions 161; The protrusions 161 and the protrusions 162 using a transfer plate or a photomask having a pattern corresponding to the first alignment layer 16, the protrusions 161 and the protrusions 162. The first alignment layer 16, ) Can be formed at the same time. However, in other embodiments, the protrusions 162 may not be formed using a transfer plate or photomask having a pattern corresponding to the protrusions 162, and the particles generated during the polymerization of the alignment layer material (Including nuclei, crystals, granules or agglomerates).

도 7a-7d는 비-디스플레이 영역(N) 중의 제1 배향층을 도시하는, 도 6의 B-B'단면선에 따른 단면도이다. 도 7a에 도시된 바와 같이, 돌기(161)에 인접하는 제1 배향층(16)의 두께(T)에 대한 돌기(161)의 높이(H1)의 비율(즉, 제1 배향층(16)의 표면(163)에 대한 돌기(161)의 상부 사이의 거리)은 2 내지 10 범위이다. 여기서, 상기 높이(H1)는 150 nm 내지 300 nm 범위일 수 있고, 또 상기 두께(T)는 10 nm 내지 100 nm 범위일 수 있다. 그러나, 본 발명은 상기 돌기(161)가 제1 배향층(16)에 대하여 특정 고도를 가져 배향층의 주변이 상기 기판에 인가하는 압력 및 상기 배향층과 기판 사이의 접착을 증가시키는 한, 상술한 범위에 한정되지 않는다. 부가적으로, 상기 배치는 또한 배향층 제조용 재료의 흘러넘침 및 경화 공정 중에 배향층의 수축 문제를 해결할 수 있고, 또 따라서 배향층의 변동이 억제될 수 있다. 또한, 상기 제1 배향층(16)의 돌기(161) 옆에는 복수의 돌출부(162)가 더 배치되며, 또 그의 높이(H2)는 5 nm 내지 30 nm 범위일 수 있다. 그러나, 본 발명은 그에 한정되지 않는다. 또한, 도 7a에 도시된 상기 돌기(161)는 제1 배향층(16)의 표면(163)에 대하여 수직인 측면을 갖는다. 다른 실시양태에서, 상기 돌기(161)의 양쪽 측면은 경사면(도 7b에 도시한 바와 같이)일 수 있고; 상기 돌기(16)는 원호 형상(도 7c에 도시한 바와 같이)일 수 있거나; 또는 상기 돌기(161)의 한면은 상기 제1 배향층(16)의 표면(163)에 대하여 수직이며, 또 그의 나머지 한면은 경사면(도 7d에 도시한 바와 같이)이다. 그러나, 본 발명은 그에 한정되지 않는다. 또한, 도 7a-7d에 도시한 모든 돌기는 평탄한 표면을 갖지만, 상기 돌기(161)는 일부 실시양태에서 비평탄 표면 또는 산등성이와 유사한 구조를 가질 수 있다. Figs. 7A-7D are cross-sectional views along the line B-B 'in Fig. 6, showing the first alignment layer in the non-display area N. Fig. 7A, the ratio of the height H1 of the protrusion 161 to the thickness T of the first alignment layer 16 adjacent to the protrusion 161 (i.e., the ratio of the height H1 of the first alignment layer 16 to the thickness of the first alignment layer 16) The distance between the upper surface of the protrusion 161 and the surface 163 of the substrate 163 is in the range of 2 to 10. Here, the height H1 may range from 150 nm to 300 nm, and the thickness T may range from 10 nm to 100 nm. However, the present invention is not limited thereto, as long as the protrusions 161 have a certain height with respect to the first alignment layer 16 so that the pressure applied by the periphery of the alignment layer to the substrate and the adhesion between the alignment layer and the substrate are increased. But is not limited to one range. Additionally, the arrangement can also solve the problem of shrinkage of the orientation layer during overflow and curing processes of the material for producing orientation layer, and thus the variation of the orientation layer can be suppressed. A plurality of protrusions 162 may be further disposed beside the protrusions 161 of the first alignment layer 16 and the height H2 may be in a range of 5 nm to 30 nm. However, the present invention is not limited thereto. In addition, the projection 161 shown in Fig. 7A has a side surface perpendicular to the surface 163 of the first alignment layer 16. In another embodiment, both sides of the projection 161 can be inclined (as shown in Figure 7B); The projection 16 may have an arc shape (as shown in Fig. 7C); Or one side of the protrusion 161 is perpendicular to the surface 163 of the first alignment layer 16 and the other side thereof is a slope (as shown in FIG. 7D). However, the present invention is not limited thereto. In addition, while all the protrusions shown in Figs. 7A-7D have a flat surface, the protrusions 161 may have a structure similar to a non-planar surface or a ridge in some embodiments.

도 8a-8c는 비-디스플레이 영역(N) 중의 제1 배향층을 도시하는, 도 6의 C-C' 단면선에 따른 단면도이다. 일반적으로, 회로는 상기 액정 디스플레이 패널의 비-디스플레이 영역(N)에 형성되고, 또 상기 제1 배향층(16)은 회로(6) 상에 또한 배치될 수 있다. 8A-8C are cross-sectional views along the line C-C 'in Fig. 6, showing the first alignment layer in the non-display area N. Fig. In general, a circuit is formed in the non-display area N of the liquid crystal display panel, and the first alignment layer 16 can also be arranged on the circuit 6. [

본 발명의 실시양태의 액정 디스플레이 패널이 밀봉제(5)에 의해 밀봉된 후, 상기 제1 배향층(16)의 돌기(161)와 상기 밀봉제(5) 사이의 상대적 위치는 도 9a에 도시될 수 있다. 상기 밀봉제(5)는 상기 돌기(161)를 덮어서 상기 밀봉제(5)와 제1 배향층(16) 사이의 접촉 면적을 증가시키므로, 상기 밀봉제(5)와 제1 배향층(16) 사이의 박리가 방지될 수 있다. 또한, 도 9a에 도시된 바와 같이, 상기 제1 기판(11)의 엣지는 상기 밀봉제(5)로부터 돌출되어 있다.The relative position between the projection 161 of the first alignment layer 16 and the sealant 5 after the liquid crystal display panel of the embodiment of the present invention is sealed by the sealant 5 is shown in Fig. . The encapsulant 5 covers the protrusions 161 and increases the contact area between the encapsulant 5 and the first alignment layer 16 so that the encapsulant 5 and the first alignment layer 16, Can be prevented. Further, as shown in Fig. 9A, the edge of the first substrate 11 protrudes from the sealant 5. Fig.

그러나, 본 발명의 다른 실시양태에서, 상기 기판(11)의 엣지는 도 9b에 도시한 바와 같이 상기 밀봉제(5)의 엣지와 실질적으로 정렬된다. 또한, 본 발명의 또 다른 실시양태에서, 배향층을 제조하기 위한 물질은 저점도 PI이다. 따라서, 도 9a에 도시된 돌기(161)는 형성될 수 없지만, 상기 제1 배향층(16)의 주변은 도 11에 도시된 바와 같은 파동 구조와 같이 곡선 구조로 구성된다. However, in another embodiment of the present invention, the edge of the substrate 11 is substantially aligned with the edge of the sealant 5 as shown in Fig. 9B. Further, in another embodiment of the present invention, the material for preparing the orientation layer is a low viscosity PI. Therefore, although the protrusion 161 shown in FIG. 9A can not be formed, the periphery of the first orientation layer 16 is formed in a curved structure like the wave structure shown in FIG.

도 6에 도시된 바와 같이 위에 형성된 돌기(161) 및 돌출부(162)를 갖는 제1 배향층 및 위에 형성되며 도 11에 도시된 바와 같은 파동 구조를 갖는 돌출부(162)를 갖는 제1 배향층 모두에서, 복수의 입자(164)가 제1 배향층(16) 내에 형성될 수 있다. 이들 입자(164)는 도 10에 도시된 바와 같이 경화 공정 동안 생성된 핵, 결정, 과립 또는 응집물일 수 있다. 특히, 상기 비-디스플레이 영역(N) 중의 입자(164)의 크기는 상기 디스플레이 영역(D) 중의 입자(164)의 크기보다 더 크다. 또한, 다른 실시양태에서, 상기 입자(164)는 비-디스플레이 영역(N)에만 존재하고, 디스플레이 영역(D)에는 존재하지 않는다; 또는 상기 제1 배향층(16) 상에는 입자가 형성되지 않는다.A first orientation layer having protrusions 161 and protrusions 162 formed thereon and a first orientation layer 162 having protrusions 162 formed thereon and having a wave structure as shown in Figure 11, A plurality of particles 164 may be formed in the first alignment layer 16. These particles 164 may be nuclei, crystals, granules or aggregates produced during the curing process as shown in FIG. In particular, the size of the particles 164 in the non-display area N is greater than the size of the particles 164 in the display area D. Further, in another embodiment, the particles 164 are present only in the non-display area N and not in the display area D; Or no particles are formed on the first alignment layer 16.

상기 제1 기판(11) 상에는 제1 배향층(16) 만이 도 6 내지 도 10에 예시되어 있음을 알아야 한다. 그러나, 상기 제1 기판(11)과 제1 배향층(16) 사이의 다른 유닛(TFT 유닛과 같은)이 여기에 도시되어 있지 않음을 당업자라면 잘 이해할 수 있을 것이다. It should be noted that only the first alignment layer 16 is illustrated on FIG. 6 to FIG. 10 on the first substrate 11. However, it will be understood by those skilled in the art that other units (such as TFT units) between the first substrate 11 and the first alignment layer 16 are not shown here.

또한, 상술한 실시양태의 액정 디스플레이 패널은 도 12에 도시된 바와 같이 액정 디스플레이 장치(7)에도 또한 적용될 수 있다. 여기서, 상기 액정 디스플레이 장치(7)는 백라이트 모듈; 및 상기 백라이트 모듈 상에 배치된 상술한 액정 디스플레이 패널 (도면에 도시되지 않음)을 포함한다. 여기서, 상기 액정 디스플레이 장치 만이 예시되어 있고, 휴대폰, 노트북, 카메라, 비데오 카메라, 음악 플레이어, 내비게이션 시스템 또는 텔레비젼과 같은 다른 디스플레이 장치도 또한 상술한 실시양태의 액정 디스플레이 패널을 구비할 수 있다. In addition, the liquid crystal display panel of the above-described embodiment can also be applied to the liquid crystal display device 7 as shown in Fig. Here, the liquid crystal display device 7 includes a backlight module; And the above-described liquid crystal display panel (not shown in the figure) disposed on the backlight module. Here, only the liquid crystal display device is exemplified, and other display devices such as a mobile phone, a notebook, a camera, a video camera, a music player, a navigation system, or a television may also have a liquid crystal display panel of the above-described embodiment.

본 발명은 바람직한 실시양태와 관련하여 설명되었지만, 이하에 특허청구된 바와 같은 본 발명의 정신과 범위로부터 벗어나지 않는 한 다수의 다른 가능한 변형 및 변이를 가할 수 있음을 이해해야 한다.While the invention has been described in conjunction with the preferred embodiments, it should be understood that many other variations and modifications are possible without departing from the spirit and scope of the invention as hereinafter claimed.

1: 박막 트랜지스터(TFT) 기판 2: 컬러 필터(CF) 기판
3: 복수의 스페이서 4: 액정층 5: 밀봉제
1: Thin Film Transistor (TFT) Substrate 2: Color Filter (CF) Substrate
3: a plurality of spacers 4: liquid crystal layer 5:

Claims (14)

화소 전극, 데이터 라인, 및 스캔 라인이 형성되어 있는 제1 기판;
상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판;
상기 제1 기판, 화소 전극, 데이터 라인 및 스캔 라인 상에 배치된 제1 배향층; 및
상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치된 액정층을 포함하고,
상기 화소 전극 상에 배치된 제1 배향층은 제1 두께를 갖고, 상기 스캔 라인 및 데이터 라인 중의 적어도 하나에 배치된 제1 배향층은 제2 두께를 가지며, 상기 제1 두께는 상기 제2 두께보다 큰, 액정 디스플레이 패널.
A first substrate on which a pixel electrode, a data line, and a scan line are formed;
A second substrate facing the first substrate;
A first alignment layer disposed on the first substrate, the pixel electrode, the data line, and the scan line; And
And a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate,
Wherein the first alignment layer disposed on the pixel electrode has a first thickness and a first alignment layer disposed on at least one of the scan line and the data line has a second thickness, The liquid crystal display panel.
제1항에 있어서, 상기 제1 기판은 디스플레이 영역 및 비-디스플레이 영역을 포함하고, 적어도 하나의 돌기, 적어도 하나의 돌출부 또는 그의 조합이 상기 비-디스플레이 영역 중의 제1 배향층 상에 배치되는, 액정 디스플레이 패널.The display of claim 1, wherein the first substrate comprises a display area and a non-display area, wherein at least one projection, at least one projection or a combination thereof is disposed on a first orientation layer of the non- Liquid crystal display panel. 제2항에 있어서, 상기 제1 배향층의 재료는 상기 돌기 또는 돌출부의 재료와 동일한, 액정 디스플레이 패널.The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the material of the first alignment layer is the same as the material of the protrusion or protrusion. 제2항에 있어서, 상기 돌기 또는 돌출부는 상기 제1 배향층과 통합되는, 액정 디스플레이 패널.3. The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the protrusions or protrusions are integrated with the first alignment layer. 제2항에 있어서, 상기 돌기에 인접하는 상기 제1 배향층의 두께에 대한 상기 돌기의 높이의 비율이 2 내지 10 범위인, 액정 디스플레이 패널.The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the ratio of the height of the projection to the thickness of the first alignment layer adjacent to the projection is in the range of 2 to 10. 제1항에 있어서, 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치되어 상기 제1 배향층의 일부를 덮는 밀봉제를 더 포함하는, 액정 디스플레이 패널. The liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a sealant disposed between the first substrate and the second substrate and covering a part of the first alignment layer. 제2항에 있어서, 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치되어 상기 돌기, 돌출부, 또는 그의 조합을 덮는 밀봉제를 더 포함하는, 액정 디스플레이 패널. 3. The liquid crystal display panel according to claim 2, further comprising a sealant disposed between the first substrate and the second substrate to cover the protrusions, protrusions, or a combination thereof. 제1항에 있어서, 상기 제2 두께에 대한 상기 제1 두께의 비율이 1 내지 10 범위인, 액정 디스플레이 패널. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a ratio of the first thickness to the second thickness ranges from 1 to 10. < Desc / Clms Page number 19 > 제1항에 있어서, 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치된 적어도 하나의 스페이서를 더 포함하며, 상기 스페이서 상의 상기 제1 배향층은 상기 제1 두께 및 상기 제2 두께보다 더 얇은 제3 두께를 갖는, 액정 디스플레이 패널. 2. The device of claim 1, further comprising at least one spacer disposed between the first substrate and the second substrate, wherein the first orientation layer on the spacer has a first thickness and a third thickness smaller than the second thickness, Wherein the liquid crystal display panel has a thickness. 제1항에 있어서, 컬러 필터 유닛, 블랙 매트릭스 및 제2 배향층을 더 포함하고, 상기 컬러 필터 유닛 및 블랙 매트릭스는 상기 제2 기판 상에 배치되고, 상기 제2 배향층은 상기 컬러 필터 유닛 및 블랙 매트릭스 상에 배치되며, 상기 컬러 필터 유닛 상의 상기 제2 배향층은 제4 두께를 갖고, 상기 블랙 매트릭스 상의 상기 제2 배향층은 제5 두께를 가지며, 상기 제4 두께는 상기 제5 두께보다 더 얇은, 액정 디스플레이 패널. The liquid crystal display according to claim 1, further comprising a color filter unit, a black matrix and a second alignment layer, wherein the color filter unit and the black matrix are disposed on the second substrate, Wherein the second alignment layer on the color filter unit has a fourth thickness, the second alignment layer on the black matrix has a fifth thickness, and the fourth thickness is less than the fifth thickness Thinner, Liquid Crystal Display Panel. 제10항에 있어서, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 배치된 적어도 하나의 스페이서를 더 포함하고, 상기 스페이서 상의 상기 제2 배향층은 제3 두께를 갖고, 상기 제3 두께는 상기 제4 두께 및 제5 두께보다 더 얇은, 액정 디스플레이 패널. 11. The device of claim 10, further comprising: at least one spacer disposed between the first substrate and the second substrate, wherein the second alignment layer on the spacer has a third thickness, 4 < / RTI > thick and the fifth thickness. 제1항에 있어서, 컬러 필터 유닛, 블랙 매트릭스, 제2 배향층, 및 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치된 적어도 하나의 스페이서를 더 포함하고, 상기 스페이서 상의 제2 배향층은 상기 제1 두께 및 제2 두께보다 더 얇은 제3 두께를 갖는, 액정 디스플레이 패널. The liquid crystal display according to claim 1, further comprising a color filter unit, a black matrix, a second alignment layer, and at least one spacer disposed between the first substrate and the second substrate, 1 < / RTI > thickness and a third thickness that is thinner than the second thickness. 제1항에 있어서, 상기 제1 기판 상에는 박막 트랜지스터 유닛이 더 배치되고, 상기 박막 트랜지스터 유닛은
게이트 전극, 절연층, 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하며,
상기 절연층은 상기 게이트 전극을 덮고, 상기 반도체층은 상기 절연층 상에 배치되며, 상기 소스 전극 및 드레인 전극은 상기 반도체층 상에 배치되어 소정 거리로 분리되어 채널 영역을 형성하며,
상기 제1 배향층은 상기 박막 트랜지스터 유닛 상에 배치되고, 상기 소스 전극과 드레인 전극 상에 제6 두께 및 상기 채널 영역 중에 제7 두께를 갖고, 상기 제6 두께는 상기 제7 두께보다 더 얇은, 액정 디스플레이 패널.
The thin film transistor unit according to claim 1, further comprising a thin film transistor unit disposed on the first substrate,
A gate electrode, an insulating layer, a semiconductor layer, a source electrode, and a drain electrode,
Wherein the insulating layer covers the gate electrode, the semiconductor layer is disposed on the insulating layer, the source electrode and the drain electrode are disposed on the semiconductor layer and are separated by a predetermined distance to form a channel region,
Wherein the first alignment layer is disposed on the thin film transistor unit, and has a sixth thickness on the source and drain electrodes and a seventh thickness in the channel region, the sixth thickness being thinner than the seventh thickness, Liquid crystal display panel.
제13항에 있어서, 상기 데이터 라인, 스캔 라인 및 박막 트랜지스터 유닛을 덮는 보호층을 더 포함하고, 상기 보호층은 상기 드레인 전극을 노출하기 위한 구멍을 갖고, 상기 화소 전극은 상기 보호층 상에 배치되어 상기 구멍까지 연장되어 상기 드레인 전극과 전기적으로 접속되며, 상기 구멍 중의 상기 제1 배향층은 제8 두께를 갖고, 상기 드레인 전극 상의 상기 제1 배향층의 제6 두께는 그의 제8 두께보다 더 얇은, 액정 디스플레이 패널. The organic light emitting diode display according to claim 13, further comprising a protective layer covering the data line, the scan line and the thin film transistor unit, wherein the protective layer has an opening for exposing the drain electrode, Wherein the first alignment layer in the hole has an eighth thickness and the sixth thickness of the first alignment layer on the drain electrode is greater than an eighth thickness of the first alignment layer on the drain electrode Thin, liquid crystal display panel.
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