JP3193033U - Liquid crystal display panel and liquid crystal display device including the liquid crystal display panel - Google Patents

Liquid crystal display panel and liquid crystal display device including the liquid crystal display panel Download PDF

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長儒 邱
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夏青 朱
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俐君 陳
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傅丞 陳
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Abstract

【課題】表示効果を向上させることのできる液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示パネルは、画素電極領域Px及び非画素電極領域Px’が配置される第1基板11と、第1基板に対向して配置された第2基板と、画素電極領域及び非画素電極領域上に設けられた第1配向層16と、第1基板と第2基板との間に設けられた液晶層とを含む。画素電極領域上の第1配向層が第1厚さT1を有し、非画素電極領域上の第1配向層が第2厚さT2を有し、且つ第1厚さは第2厚さよりも大きい。【選択図】図3APROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display panel capable of improving a display effect and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel. A liquid crystal display panel includes a first substrate 11 in which a pixel electrode region Px and a non-pixel electrode region Px'are arranged, a second substrate arranged to face the first substrate, a pixel electrode region, and a non-pixel electrode region. It includes a first alignment layer 16 provided on the pixel electrode region and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate. The first oriented layer on the pixel electrode region has a first thickness T1, the first oriented layer on the non-pixel electrode region has a second thickness T2, and the first thickness is larger than the second thickness. big. [Selection diagram] FIG. 3A

Description

本考案は、液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置に関し、特に、新たな構成の配向層を有する液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel, and more particularly to a liquid crystal display panel having an alignment layer having a new structure and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel.

ディスプレイ技術が進むに伴い、全ての装置は小型化・薄型化・軽量化が進展しているため、現在主流となっているディスプレイ装置は、従来の陰極線管から液晶表示装置が発展してきた。特に、液晶表示装置は、例えば日常生活で使用されている携帯電話、ノートパソコン、ビデオカメラ、カメラ、音楽プレーヤ、モバイルナビゲーション装置、及びテレビ等の表示装置が挙げられ、幅広い分野に適用することができる。上記装置の表示パネルとして、液晶表示パネルが多く使用されている。   As display technology advances, all devices are becoming smaller, thinner, and lighter, and the current mainstream display devices have been developed from conventional cathode ray tubes to liquid crystal display devices. In particular, liquid crystal display devices include display devices such as mobile phones, notebook computers, video cameras, cameras, music players, mobile navigation devices, and televisions used in daily life, and can be applied to a wide range of fields. it can. A liquid crystal display panel is often used as the display panel of the above apparatus.

液晶表示パネルの輝度、コントラスト、色、視野角は、液晶表示装置の表示効果を決める大きいな要素である。液晶表示装置の発展に伴い、現在主流又は開発中のパネルは、ねじれネマティック型(TN)、垂直配向型(VA)、平面配向型(IPS)がある。   The luminance, contrast, color, and viewing angle of the liquid crystal display panel are the major factors that determine the display effect of the liquid crystal display device. With the development of liquid crystal display devices, currently mainstream or under development panels are twisted nematic type (TN), vertical alignment type (VA), and planar alignment type (IPS).

垂直配向型液晶表示パネルは、明るさを調整する効果を達成するために、注入された液晶分子を配列させるための配向層が必要である。しかし、薄膜トランジスタ(TFT)及びカラーフィルタ(CF)基板上にパターンがあるとともに、一般の配向層が均一な厚さで塗布されたため、配向層の表面に段差が発生することで、ラビング異常又は単量体が集まる問題が生じ、液晶の配向に影響を与える。   The vertical alignment type liquid crystal display panel needs an alignment layer for aligning the injected liquid crystal molecules in order to achieve the effect of adjusting the brightness. However, there is a pattern on the thin film transistor (TFT) and color filter (CF) substrates, and a general alignment layer is applied with a uniform thickness. There arises a problem that the polymer collects, which affects the alignment of the liquid crystal.

このため、現在、ラビング異常又は単量体が集まる問題を改善できる液晶表示パネルが要求される。液晶の配向異常を改善でき、液晶表示パネルの表示効果を向上させることが期待される。   Therefore, there is a demand for a liquid crystal display panel that can improve the rubbing abnormality or the problem of monomer collection. It is expected that the liquid crystal alignment abnormality can be improved and the display effect of the liquid crystal display panel is improved.

本考案の主な目的は、液晶配向異常の問題を改善することができ、さらに液晶表示パネル及び装置の表示効果を向上させることのできる液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置を提供することである。   The main object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel capable of improving the problem of liquid crystal alignment anomaly and further improving the display effect of the liquid crystal display panel and device, and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel It is to be.

上記目的を達成するために、本考案の一実施態様に係る液晶表示パネルは、画素電極領域及び非画素電極領域が配置される第1基板と、第1基板に対向して配置された第2基板と、画素電極領域及び非画素電極領域の上に配置された第1配向層と、第1基板と第2基板との間に設けられた液晶層と、を含み、画素電極領域上の第1配向層が第1厚さを有し、非画素電極領域上の第1配向層が第2厚さを有し、且つ、第1厚さは第2厚さよりも大きい。   In order to achieve the above object, a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention includes a first substrate on which a pixel electrode region and a non-pixel electrode region are disposed, and a second substrate disposed to face the first substrate. A substrate, a first alignment layer disposed on the pixel electrode region and the non-pixel electrode region, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate; The first alignment layer has a first thickness, the first alignment layer on the non-pixel electrode region has a second thickness, and the first thickness is greater than the second thickness.

本考案の一実施態様において、画素電極領域は、画素電極を含み、非画素電極領域は、データ線及び走査線を含み、画素電極上の第1配向層が第1厚さを有し、且つ、データ線又は走査線の上の第1配向層が第2厚さを有する。   In one embodiment of the present invention, the pixel electrode region includes a pixel electrode, the non-pixel electrode region includes a data line and a scan line, the first alignment layer on the pixel electrode has a first thickness, and The first alignment layer on the data line or the scan line has a second thickness.

本考案の一実施態様において、第1配向層は、複数の粒子を含む。   In one embodiment of the present invention, the first alignment layer includes a plurality of particles.

本考案の一実施態様において、第1基板は、表示領域及び非表示領域を含み、非表示領域に設けられた少なくとも1つの粒子の大きさは、表示領域に設けられた少なくとも1つの粒子の大きさよりも大きい。   In one embodiment of the present invention, the first substrate includes a display region and a non-display region, and the size of at least one particle provided in the non-display region is the size of at least one particle provided in the display region. Bigger than that.

本考案の一実施態様において、第1基板は、表示領域及び非表示領域を含み、第1基板に対応する非表示領域上の第1配向層上には、少なくとも1つの突起構造、少なくとも1つの隆起部又はその組み合わせがさらに設けられる。   In one embodiment of the present invention, the first substrate includes a display region and a non-display region, and the first alignment layer on the non-display region corresponding to the first substrate has at least one protrusion structure, at least one protrusion structure. A ridge or a combination thereof is further provided.

本考案の一実施態様において、第1配向層の材料が突起構造又は隆起部の材料と同一である。   In one embodiment of the present invention, the material of the first alignment layer is the same as the material of the protruding structure or the raised portion.

本考案の一実施態様において、突起構造又は隆起部と第1配向層とが一体成形されている。   In one embodiment of the present invention, the protruding structure or raised portion and the first alignment layer are integrally formed.

本考案の一実施態様において、突起構造の高さと突起構造に隣接する第1配向層の厚さとの比が2〜10である。   In one embodiment of the present invention, the ratio between the height of the protrusion structure and the thickness of the first alignment layer adjacent to the protrusion structure is 2-10.

本考案の一実施態様において、第1配向層のエッジは、少なくとも1つの湾曲構造を有する。   In one embodiment of the present invention, the edge of the first alignment layer has at least one curved structure.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第1基板と第2基板との間に位置し、第1配向層を部分的に覆うシール剤をさらに含む。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a sealant that is located between the first substrate and the second substrate and partially covers the first alignment layer.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第1基板と第2基板との間に位置し、少なくとも1つの突起構造、少なくとも1つの隆起部又はその組み合わせを部分的に覆うシール剤をさらに含む。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a sealant that is located between the first substrate and the second substrate and partially covers at least one protruding structure, at least one raised portion, or a combination thereof. Including.

本考案の一実施態様において、第1厚さと第2厚さとの比が1〜10である。   In one embodiment of the present invention, the ratio of the first thickness to the second thickness is 1-10.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第1基板上に設けられ、第1基板と第1配向層との間に位置するカラーフィルタユニットをさらに含む。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a color filter unit provided on the first substrate and positioned between the first substrate and the first alignment layer.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、少なくとも1つのスペーサと、ブラックマトリックスと、第2配向層とをさらに含み、ブラックマトリックスは、第2基板上に設けられ、スペーサは、ブラックマトリックスに対応して第1基板と第2基板との間に設けられ、第2配向層は、第2基板、ブラックマトリックス及びスペーサの上に設けられ、スペーサ上の第2配向層が第3厚さを有し、ブラックマトリックス上の第2配向層が第4厚さを有し、且つ、第3厚さは第4厚さよりも小さい。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes at least one spacer, a black matrix, and a second alignment layer, wherein the black matrix is provided on the second substrate, and the spacer is formed on the black matrix. Correspondingly, the second alignment layer is provided between the first substrate and the second substrate, the second alignment layer is provided on the second substrate, the black matrix, and the spacer, and the second alignment layer on the spacer has a third thickness. And the second alignment layer on the black matrix has a fourth thickness, and the third thickness is smaller than the fourth thickness.

本考案の一実施態様において、第1基板上には、薄膜トランジスタ素子と第1保護層とがさらに設けられ、薄膜トランジスタ素子は、ゲートと、絶縁層と、半導体層と、ソースと、ドレンとを含み、絶縁層は、ゲートを覆い、半導体層は、絶縁層上に設けられ、ソース及びドレンは、半導体層上に設けられ、ソースとドレンとは、チャンネル領域が形成されるように所定距離を置いて配置され、第1保護層は、薄膜トランジスタ素子を覆い、且つ、ドレンが露出されるように開口を有し、画素電極は、第1保護層上に設けられ、ドレンに電気的に接続するように開口に向けて延在し、開口における第1配向層が第5厚さを有し、且つ、第5厚さは第1厚さよりも大きい。   In one embodiment of the present invention, a thin film transistor element and a first protective layer are further provided on the first substrate, and the thin film transistor element includes a gate, an insulating layer, a semiconductor layer, a source, and a drain. The insulating layer covers the gate, the semiconductor layer is provided on the insulating layer, the source and the drain are provided on the semiconductor layer, and the source and the drain are arranged at a predetermined distance so that a channel region is formed. The first protective layer covers the thin film transistor element and has an opening so that the drain is exposed, and the pixel electrode is provided on the first protective layer and is electrically connected to the drain. The first alignment layer in the opening has a fifth thickness, and the fifth thickness is greater than the first thickness.

本考案の他の実施態様に係る液晶表示パネルは、画素電極領域及び非画素電極領域が配置される第1基板と、第1基板に対向して配置された第2基板と、開口領域と非開口領域とを含む画素電極領域及び非画素電極領域の上に配置された第1配向層と、第1基板と第2基板との間に設けられた液晶層と、を含み、画素電極領域の開口領域上の第1配向層が第1厚さを有し、非画素電極領域上の第1配向層が第2厚さを有し、且つ、第1厚さは第2厚さよりも大きい。   A liquid crystal display panel according to another embodiment of the present invention includes a first substrate on which a pixel electrode region and a non-pixel electrode region are disposed, a second substrate disposed to face the first substrate, an opening region, and a non-contact region. A first alignment layer disposed on the pixel electrode region including the opening region and the non-pixel electrode region, and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate. The first alignment layer on the opening region has a first thickness, the first alignment layer on the non-pixel electrode region has a second thickness, and the first thickness is greater than the second thickness.

本考案の他の実施態様において、画素電極領域の開口領域は、画素電極を含み、非画素電極領域は、データ線及び走査線を含み、画素電極上の第1配向層が第1厚さを有し、データ線又は走査線の上の第1配向層が第2厚さを有する。   In another embodiment of the present invention, the opening region of the pixel electrode region includes a pixel electrode, the non-pixel electrode region includes a data line and a scanning line, and the first alignment layer on the pixel electrode has a first thickness. And the first alignment layer on the data line or the scan line has a second thickness.

本考案の別の実施態様に係る液晶表示パネルは、第1表面を有する第1基板と、第1基板に対向して配置された第2基板と、第1基板と第2基板との間に設けられた液晶層と、第1基板上に設けられ、且つ、第1基板に向かい合う第2表面と液晶層に隣接する第3表面とを有する第1配向層と、第1基板と第2基板との間に設けられる少なくとも1つのスペーサと、を含み、第1基板は、第1領域と、第2領域と、第3領域とを含み、スペーサは、第1領域に対応し、第2領域上の第1配向層の第2表面と第1基板の第1表面との間の距離は、第3領域上の第1配向層の第2表面と第1基板の第1表面との間の距離よりも小さく、第2領域及び第3領域上の第1配向層は、それぞれ、第1厚さ及び第2厚さを有し、且つ、第1厚さは第2厚さよりも大きい。   A liquid crystal display panel according to another embodiment of the present invention includes a first substrate having a first surface, a second substrate disposed opposite to the first substrate, and between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal layer provided; a first alignment layer provided on the first substrate and having a second surface facing the first substrate; and a third surface adjacent to the liquid crystal layer; the first substrate and the second substrate; At least one spacer provided between the first substrate, the first substrate includes a first region, a second region, and a third region, and the spacer corresponds to the first region, and the second region The distance between the second surface of the first alignment layer on the first surface and the first surface of the first substrate is between the second surface of the first alignment layer on the third region and the first surface of the first substrate. The first alignment layer on the second region and the third region is smaller than the distance and has a first thickness and a second thickness, respectively, and the first thickness is the second thickness. Ri is also large.

本考案の別の実施態様において、第1基板の第2領域上には、画素電極が配置され、第1基板の第3領域上には、データ線及び走査線が配置され、画素電極上の第1配向層が第1厚さを有し、データ線又は走査線の上の第1配向層が第2厚さを有する。   In another embodiment of the present invention, a pixel electrode is disposed on the second region of the first substrate, and a data line and a scanning line are disposed on the third region of the first substrate. The first alignment layer has a first thickness, and the first alignment layer above the data line or the scan line has a second thickness.

上記液晶表示パネルのほか、本考案は、バックライトモジュールと、バックライトモジュール上に設けられた上記液晶表示パネルとを含む液晶表示装置をさらに提供する。   In addition to the liquid crystal display panel, the present invention further provides a liquid crystal display device including a backlight module and the liquid crystal display panel provided on the backlight module.

本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略図である。1 is a schematic view showing a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1基板の上方構造を示す部分概略図である。FIG. 3 is a partial schematic diagram illustrating an upper structure of a first substrate of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1基板及びその上方構造を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing a first substrate of a liquid crystal display panel and an upper structure thereof according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1基板及びその上方構造を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing a first substrate of a liquid crystal display panel and an upper structure thereof according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1基板及びその上方構造を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing a first substrate of a liquid crystal display panel and an upper structure thereof according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第2基板及びその上方構造を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing a second substrate of a liquid crystal display panel and an upper structure thereof according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が第1基板上に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided on a 1st board | substrate. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が非表示領域に設けられる場合を示す断面概略図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a case where a first alignment layer of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention is provided in a non-display area. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が非表示領域に設けられる場合を示す断面概略図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a case where a first alignment layer of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention is provided in a non-display area. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が非表示領域に設けられる場合を示す断面概略図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a case where a first alignment layer of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention is provided in a non-display area. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が非表示領域に設けられる場合を示す断面概略図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a case where a first alignment layer of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention is provided in a non-display area. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が非表示領域に設けられる場合を示す断面概略図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a case where a first alignment layer of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention is provided in a non-display area. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が非表示領域に設けられる場合を示す断面概略図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a case where a first alignment layer of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention is provided in a non-display area. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が非表示領域に設けられる場合を示す断面概略図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a case where a first alignment layer of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention is provided in a non-display area. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層とシール剤との間を示す概略図である。It is the schematic which shows between the 1st orientation layer and the sealing compound of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention. 本考案の他の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層とシール剤との間を示す概略図である。It is the schematic which shows between the 1st orientation layer and the sealing compound of the liquid crystal display panel which concerns on other preferable embodiment of this invention. 本考案の他の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層を示す概略図である。It is the schematic which shows the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on other preferable embodiment of this invention. 本考案の他の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が第1基板上に設けられる場合を示す部分概略図である。It is the partial schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on other preferable embodiment of this invention is provided on a 1st board | substrate. 本考案に係る液晶表示装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the liquid crystal display device which concerns on this invention.

以下、本考案の利点及び効果を理解しやすくするために、具体的な実施例を例示し、本考案の実施形態について説明する。本考案は、その他の具体的な実施例によって実行や応用することができる。当業者は、本考案に基づいて行ったあらゆる変動および修正は全て、本考案の特許請求の範囲に含まれるものとする。   Hereinafter, in order to make it easier to understand the advantages and effects of the present invention, specific examples will be illustrated and embodiments of the present invention will be described. The present invention can be implemented and applied by other specific embodiments. All variations and modifications made by those skilled in the art based on the present invention shall be included in the claims of the present invention.

図1は、本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略図である。本実施形態の液晶表示パネルはカラーフィルタ・オン・アレイ基板(color filter on array,COA)であって、第1基板11と、第2基板21と、複数のスペーサ3と、液晶層4と、シール剤5とを含む。第1基板11と第2基板21とは対向して配置され、第1基板11と第2基板21との間にスペーサ3及び液晶層4が設けられ、且つ、シール剤5によって、第1基板11と第2基板21とを対向して組み合わせる。第1基板11と第2基板21とを対向して組み合わせる際、第1基板11と第2基板21との間に設けられたスペーサ3によって、第1基板11と第2基板21との間に所定の空間が形成され、次の液晶分子が注入しやすくなる。ここで、図1には、第1基板11及び第2基板21上の各素子構成を省略する。以下、本考案の第1基板11と第2基板21及びその上方の素子構成及びその製造方法について詳しく説明する。   FIG. 1 is a schematic view showing a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. The liquid crystal display panel of the present embodiment is a color filter on array (COA), and includes a first substrate 11, a second substrate 21, a plurality of spacers 3, a liquid crystal layer 4, And a sealant 5. The first substrate 11 and the second substrate 21 are arranged to face each other, the spacer 3 and the liquid crystal layer 4 are provided between the first substrate 11 and the second substrate 21, and the first substrate is formed by the sealant 5. 11 and the second substrate 21 are combined to face each other. When the first substrate 11 and the second substrate 21 are combined to face each other, the spacer 3 provided between the first substrate 11 and the second substrate 21 is interposed between the first substrate 11 and the second substrate 21. A predetermined space is formed, and the next liquid crystal molecule is easily injected. Here, in FIG. 1, each element configuration on the first substrate 11 and the second substrate 21 is omitted. Hereinafter, the first substrate 11 and the second substrate 21 according to the present invention, the device structure thereabove, and the manufacturing method thereof will be described in detail.

図2は、本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板である第1基板の上方構造を示す部分概略図である。本実施形態の薄膜トランジスタ基板は、第1基板(図示せず)と、その上方に配置された走査線12、データ線13と、薄膜トランジスタユニット14と、画素電極15と、蓄積電極17とを含む。ここで、2つの隣接した走査線12と2つの隣接したデータ線13によって、画素ユニットが定義される。画素ユニットにおいて、薄膜トランジスタユニット14と、画素電極15と、蓄積電極17とを含み、且つ、画素電極15は、2つの隣接した走査線12と2つの隣接したデータ線13との間に設けられる。ここで、走査線12、データ線13及び蓄積電極17の材料は、例えば、金属、合金、金属酸化物、金属酸窒化物などの本技術分野で一般的に用いられている導電材料、又はその他の本技術分野で一般的に用いられている電極材料であってもよい。金属材料が好ましい。   FIG. 2 is a partial schematic view showing an upper structure of a first substrate which is a thin film transistor substrate of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. The thin film transistor substrate of the present embodiment includes a first substrate (not shown), a scanning line 12, a data line 13, a thin film transistor unit 14, a pixel electrode 15, and a storage electrode 17 disposed thereabove. Here, a pixel unit is defined by two adjacent scanning lines 12 and two adjacent data lines 13. The pixel unit includes a thin film transistor unit 14, a pixel electrode 15, and a storage electrode 17, and the pixel electrode 15 is provided between two adjacent scanning lines 12 and two adjacent data lines 13. Here, the material of the scanning line 12, the data line 13, and the storage electrode 17 is, for example, a conductive material generally used in this technical field such as metal, alloy, metal oxide, metal oxynitride, or the like. The electrode material generally used in this technical field may be used. Metal materials are preferred.

図3Aは、本実施形態に係る液晶表示パネルの第1基板及びその上方構造を、図2のA−A’線に沿って切断した断面概略図である。本実施形態の薄膜トランジスタ基板は、第1基板11と、データ線13と、走査線(図示せず)と、薄膜トランジスタユニット14とを含み、第1基板11には、データ線13と、走査線(図示せず)と、薄膜トランジスタユニット14とが設けられる。薄膜トランジスタユニット14は、第1基板11上に設けられたゲート141と、ゲート141及び第1基板11を覆う絶縁層142(ゲート絶縁層ともいう)と、絶縁層142上に設けられた半導体層143と、半導体層143上に設けられたソース1441とドレン1442とを含み、ソース1441とドレン1442とは、チャンネル領域1443が形成されるように所定距離を置いて配置される。ここで、絶縁層142も、データ線13及び走査線(図示せず)を同時に覆う。本実施形態において、薄膜トランジスタユニット14は、従来の薄膜トランジスタの製造方法を採用して製作もよいため、ここでの説明を省略する。また、第1基板11は、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、シリコン基板やセラミック基板などの本技術分野で一般的に用いられている基板を使用する。なお、ゲート141の材料は、例えば、金属、合金、金属酸化物、金属酸窒化物などの本技術分野で一般的に用いられている導電材料、又はその他の本技術分野で一般的に用いられている電極材料が使用されてもよい。金属材料が好ましいが、それに限定されない。絶縁層142の材料は、例えば、窒化シリコン等の本技術分野で一般的に用いられているゲート絶縁層材料が採用されてもよい。半導体層143は、本技術分野で一般的に用いられている半導体層の材料が採用されてもよく、例えば、アモルファスシリコン、ポリシリコン、P13、DH4T、ペンタセンの有機材料などが挙げられる。ただし、本考案はそれに限定されない。   FIG. 3A is a schematic cross-sectional view of the first substrate of the liquid crystal display panel according to the present embodiment and the upper structure thereof cut along the line A-A ′ of FIG. 2. The thin film transistor substrate of this embodiment includes a first substrate 11, a data line 13, a scanning line (not shown), and a thin film transistor unit 14. The first substrate 11 includes a data line 13, a scanning line ( And a thin film transistor unit 14 are provided. The thin film transistor unit 14 includes a gate 141 provided on the first substrate 11, an insulating layer 142 (also referred to as a gate insulating layer) covering the gate 141 and the first substrate 11, and a semiconductor layer 143 provided on the insulating layer 142. A source 1441 and a drain 1442 provided over the semiconductor layer 143, and the source 1441 and the drain 1442 are arranged at a predetermined distance so that a channel region 1443 is formed. Here, the insulating layer 142 also covers the data line 13 and the scanning line (not shown) at the same time. In the present embodiment, the thin film transistor unit 14 may be manufactured by adopting a conventional method of manufacturing a thin film transistor, and thus description thereof is omitted here. Moreover, the board | substrate generally used in this technical field, such as a glass substrate, a plastic substrate, a silicon substrate, a ceramic substrate, is used for the 1st board | substrate 11, for example. Note that the material of the gate 141 is, for example, a conductive material generally used in this technical field, such as a metal, an alloy, a metal oxide, or a metal oxynitride, or is generally used in other technical fields. The electrode material may be used. A metal material is preferred, but not limited thereto. As the material of the insulating layer 142, for example, a gate insulating layer material generally used in this technical field such as silicon nitride may be adopted. For the semiconductor layer 143, a material of a semiconductor layer generally used in this technical field may be employed, and examples thereof include amorphous silicon, polysilicon, P13, DH4T, and pentacene organic materials. However, the present invention is not limited to this.

データ線13、走査線(図示せず)及び薄膜トランジスタユニット14を形成した後、図3Aのように、データ線13、走査線(図示せず)及び薄膜トランジスタユニット14を覆う第1保護層145をさらに形成する。さらに、第1保護層145を覆うカラーフィルタユニット221,222を形成する。隣接したカラーフィルタユニット221,222は、異なる色のカラーレジストから形成される。その後、カラーフィルタユニット221,222を覆う第2保護層146をさらに形成する。次に、カラーフィルタユニット221,222、第1保護層145及び第2保護層146にドレン1442を露出させるように接続用開口147を形成する。そして、第2保護層146上に設けられ、ドレン1442に電気的に接続するように接続用開口147に向けて延在する画素電極15を形成する。ここで、第1保護層145及び第2保護層146の材料は、本技術分野で一般的に用いられている、例えば、シリコン酸化物等のパッシベーション層の材料であってもよい。また、画素電極15は、例えば、米字状の電極又は鋸歯状の電極等の本技術分野で一般的に用いられているパターン化電極層であってもよい。画素電極15の材料は、例えば、ITO、IZO等の金属酸化物の透明電極材料等、本考案の技術分野で一般的に用いられている透明導電材料であってもよい。   After forming the data line 13, the scanning line (not shown), and the thin film transistor unit 14, a first protective layer 145 that covers the data line 13, the scanning line (not shown) and the thin film transistor unit 14 is further formed as shown in FIG. 3A. Form. Further, color filter units 221 and 222 covering the first protective layer 145 are formed. Adjacent color filter units 221 and 222 are formed of different color resists. Thereafter, a second protective layer 146 that covers the color filter units 221 and 222 is further formed. Next, connection openings 147 are formed in the color filter units 221 and 222, the first protective layer 145, and the second protective layer 146 so that the drain 1442 is exposed. Then, the pixel electrode 15 provided on the second protective layer 146 and extending toward the connection opening 147 so as to be electrically connected to the drain 1442 is formed. Here, the material of the first protective layer 145 and the second protective layer 146 may be a material of a passivation layer such as a silicon oxide generally used in this technical field. The pixel electrode 15 may be a patterned electrode layer generally used in this technical field, such as a US-shaped electrode or a sawtooth electrode. The material of the pixel electrode 15 may be a transparent conductive material generally used in the technical field of the present invention, such as a transparent electrode material of a metal oxide such as ITO or IZO.

最後、図3Aに示すように、第2保護層146及び画素電極15上に配向用単量体をさらに塗布して固化した後、第1配向層16を形成した。本実施形態において、第1配向層16の下方の素子構造の高低に応じて第1配向層16の厚さを調整することによって、第1配向層16が均一な厚さを有しないため、第1配向層16の表面の高低差(段差)を極力小さく抑えることができる。ここで、特殊な微細構造を有する凸版(APR版)を使用して、転写方式でパターン化した配向層を直接に製作してもよい。或いは、まず、均一な厚さを有する配向層を形成し、次いで、フォトリソグラフィ技術によりエッチングして、パターン化した配向層を製作してもよい。或いは、まず、均一な厚さを有する配向層を塗布し、配向層が異なる厚さを有するように、固化する前にインプリント法により配向層をパターン化にし、次いで、配向層を固化してから得る。ただし、本考案の配向層をパターン化する方法は、これらに限定されない。上記工程を経て、本実施形態の薄膜トランジスタ基板が完成した。以下、本実施形態の第1配向層16の厚さの設計について詳しく説明する。   Finally, as shown in FIG. 3A, an alignment monomer was further applied and solidified on the second protective layer 146 and the pixel electrode 15, and then the first alignment layer 16 was formed. In the present embodiment, the first alignment layer 16 does not have a uniform thickness by adjusting the thickness of the first alignment layer 16 according to the height of the element structure below the first alignment layer 16. The height difference (step) on the surface of the first alignment layer 16 can be minimized. Here, an alignment layer patterned by a transfer method may be directly manufactured using a relief plate (APR plate) having a special fine structure. Alternatively, a patterned alignment layer may be manufactured by first forming an alignment layer having a uniform thickness and then etching by a photolithography technique. Alternatively, first, an alignment layer having a uniform thickness is applied, and the alignment layer is patterned by an imprint method before solidifying so that the alignment layer has a different thickness, and then the alignment layer is solidified. Get from. However, the method of patterning the alignment layer of the present invention is not limited to these. Through the above steps, the thin film transistor substrate of this embodiment is completed. Hereinafter, the design of the thickness of the first alignment layer 16 of this embodiment will be described in detail.

図3Aに示すように、第1基板11の上方に画素電極領域Px及び非画素電極領域Px’が配置される。画素電極領域Pxは、画素電極15が設けられた領域に対応し、非画素電極領域Px’は、画素電極15が設けられていない領域に対応し、且つデータ線13及び走査線(図示せず)が設けられている。具体的に、図3Aに示す画素電極領域Pxは、開口領域O及び非開口領域O’を含む。開口領域Oは、画素電極15と薄膜トランジスタユニット14とが重ねていない領域に対応し、非開口領域O’は、画素電極15の下方に薄膜トランジスタユニット14が設けられている領域である。画素電極領域Px(特に画素電極領域Pxにおける開口領域O)上の第1配向層16が第1厚さT1を有し、非画素電極領域Px’上の第1配向層16が第2厚さT2を有し、且つ、第1厚さT1は第2厚さT2よりも大きい。第1厚さと第2厚さとの比(T1/T2)は、1〜10(1≦T1/T2≦10)であることが好ましく、1〜5(1≦T1/T2≦5)であることがより好ましく、2〜4(2≦T1/T2≦4)であることが特に好ましい。本実施形態において、第1厚さT1は0.1μm〜0.2μmであってもよく、第2厚さT2は0.01μm〜0.08μmであってもよい。   As shown in FIG. 3A, the pixel electrode region Px and the non-pixel electrode region Px ′ are disposed above the first substrate 11. The pixel electrode region Px corresponds to the region where the pixel electrode 15 is provided, the non-pixel electrode region Px ′ corresponds to the region where the pixel electrode 15 is not provided, and the data line 13 and the scanning line (not shown). ) Is provided. Specifically, the pixel electrode region Px illustrated in FIG. 3A includes an opening region O and a non-opening region O ′. The opening region O corresponds to a region where the pixel electrode 15 and the thin film transistor unit 14 do not overlap, and the non-opening region O ′ is a region where the thin film transistor unit 14 is provided below the pixel electrode 15. The first alignment layer 16 on the pixel electrode region Px (particularly the opening region O in the pixel electrode region Px) has the first thickness T1, and the first alignment layer 16 on the non-pixel electrode region Px ′ has the second thickness. T1 and the first thickness T1 is greater than the second thickness T2. The ratio of the first thickness to the second thickness (T1 / T2) is preferably 1 to 10 (1 ≦ T1 / T2 ≦ 10), and preferably 1 to 5 (1 ≦ T1 / T2 ≦ 5). Is more preferable, and 2 to 4 (2 ≦ T1 / T2 ≦ 4) is particularly preferable. In the present embodiment, the first thickness T1 may be 0.1 μm to 0.2 μm, and the second thickness T2 may be 0.01 μm to 0.08 μm.

しかし、本考案は、上記厚さの範囲に限定されない。第1配向層16の下方素子の構造が高ければ高くほど、第1配向層16の厚さが薄くなれば、第1配向層16の表面の高低差を小さくするという本考案の目的を達成することができる。具体的に、図3Aに示すように、第1基板11は第1表面111を有し、第1配向層16は第2表面165(下表面)及び第3表面166(上表面)を有する。第2表面165は、第1基板11に向い合い、第3表面166は液晶層(図示せず)に隣接する。ここで、第1基板11に画素電極15(特に、開口領域O)が配置された領域を第2領域R2とし、データ線13及び走査線(図示せず)が配置されるとともに、カラーフィルタユニット221,222と重なった部分を第3領域R3とする。仮に、第1基板11の第1表面111を基準とすれば、第2領域R2上の第1基板11の第1配向層16の第2表面165と、第1基板11の第1表面111との間の距離D1は、第3領域R3上の第1配向層16の第2表面165と第1基板11の第1表面111との間の距離D2よりも小さく、第2領域R2及び第3領域R3上の第1配向層16は、それぞれ、第1厚さT1及び第2厚さT2を有し、且つ、第1厚さT1は第2厚さT2よりも大きい。特に、本実施形態の液晶表示パネルにおいて、第2領域R2上の第1配向層16の第3表面166と第1基板11の第1表面111との間の距離と、第3領域R3上の第1配向層16の第3表面166と第1基板11の第1表面111との間の距離との両者の距離差を、大幅に小さくすることができる。   However, the present invention is not limited to the above thickness range. The higher the structure of the lower element of the first alignment layer 16, the lower the thickness of the first alignment layer 16, so that the object of the present invention is achieved. be able to. Specifically, as shown in FIG. 3A, the first substrate 11 has a first surface 111, and the first alignment layer 16 has a second surface 165 (lower surface) and a third surface 166 (upper surface). The second surface 165 faces the first substrate 11 and the third surface 166 is adjacent to a liquid crystal layer (not shown). Here, the region where the pixel electrode 15 (particularly, the opening region O) is disposed on the first substrate 11 is defined as a second region R2, the data line 13 and the scanning line (not shown) are disposed, and the color filter unit. A portion overlapping 221 and 222 is defined as a third region R3. If the first surface 111 of the first substrate 11 is used as a reference, the second surface 165 of the first alignment layer 16 of the first substrate 11 on the second region R2, the first surface 111 of the first substrate 11, and The distance D1 between the second region R2 and the third region R3 is smaller than the distance D2 between the second surface 165 of the first alignment layer 16 on the third region R3 and the first surface 111 of the first substrate 11. The first alignment layer 16 on the region R3 has a first thickness T1 and a second thickness T2, respectively, and the first thickness T1 is larger than the second thickness T2. In particular, in the liquid crystal display panel of the present embodiment, the distance between the third surface 166 of the first alignment layer 16 on the second region R2 and the first surface 111 of the first substrate 11 and the third region R3. The distance difference between the third surface 166 of the first alignment layer 16 and the distance between the first surface 111 of the first substrate 11 can be greatly reduced.

ここで、説明するために、図3Aに示す第2領域R2及び第3領域R3が挙げられるが、第2領域R2及び第3領域R3は、図3Aに示す領域に限定されず、第2領域R2上の距離D1は第3領域R3上の距離D2よりも小さい条件が満たされば、第1基板11のその他の部分であってもよい。なお、ここでデータ線領域の部分のみを説明したが、当業者であれば、走査線領域もデータ線領域と同一な第1配向層の厚さの設計を使用してもよいことが了解される。   Here, for the purpose of description, the second region R2 and the third region R3 illustrated in FIG. 3A are included, but the second region R2 and the third region R3 are not limited to the region illustrated in FIG. The distance D1 on R2 may be another portion of the first substrate 11 as long as the condition smaller than the distance D2 on the third region R3 is satisfied. Although only the data line region portion has been described here, a person skilled in the art understands that the scanning line region may use the same first alignment layer thickness design as the data line region. The

また、図3Aに示すように、接続用開口147における第1配向層16は、第5厚さT5を有する。仮に、第1基板11の第1表面111を基準とすれば、接続用開口147における第1配向層16の第2表面165と第1基板11の第1表面111との間の距離D3は、上記距離D1及び距離D2よりも小さいので、第1配向層16の第3表面166の高低差(段差)を小さくするために、第5厚さT5を第1厚さT1及び第2厚さT2よりも大きくする。   Further, as shown in FIG. 3A, the first alignment layer 16 in the connection opening 147 has a fifth thickness T5. If the first surface 111 of the first substrate 11 is used as a reference, the distance D3 between the second surface 165 of the first alignment layer 16 and the first surface 111 of the first substrate 11 in the connection opening 147 is: Since the distance D1 is smaller than the distance D2, the fifth thickness T5 is set to the first thickness T1 and the second thickness T2 in order to reduce the height difference (step) of the third surface 166 of the first alignment layer 16. Larger than.

なお、他の実施形態において、図3Bに示すように、カラーフィルタユニット221,222を形成した後、まず、カラーフィルタ層開口223を形成し、次に、カラーフィルタ層開口223の側壁を覆うための第2保護層146を形成し、その後、第1保護層145及び第2保護層146にドレン1442を露出させるための接続用開口147を同時に形成する。好ましい実施形態において、図3Cに示すように、カラーフィルタユニット221は、薄膜トランジスタユニット14とデータ線13、走査線(図示せず)との間にのみ形成され、薄膜トランジスタユニット14、データ線13、走査線(図示せず)上に第2保護層146が直接に覆われる。図3B及び図3Cに示すその他の実施形態において、第1配向層16の厚さの設計は上記実施形態と同一であるため、ここで省略する。   In another embodiment, as shown in FIG. 3B, after the color filter units 221 and 222 are formed, the color filter layer opening 223 is formed first, and then the side wall of the color filter layer opening 223 is covered. The second protective layer 146 is formed, and then the connection opening 147 for exposing the drain 1442 is simultaneously formed in the first protective layer 145 and the second protective layer 146. In the preferred embodiment, as shown in FIG. 3C, the color filter unit 221 is formed only between the thin film transistor unit 14, the data line 13, and the scanning line (not shown), and the thin film transistor unit 14, the data line 13, and the scanning line. A second protective layer 146 is directly covered on the line (not shown). In the other embodiments shown in FIGS. 3B and 3C, the design of the thickness of the first alignment layer 16 is the same as that in the above embodiment, and is omitted here.

図4は、本実施形態に係る液晶表示パネルの第2基板及びその上方構造を示す断面概略図。第2基板21上には、ブラックマトリックス23、第3保護層24、共通電極層25、スペーサ3及び第2配向層26が順に配置されている。第3保護層24は、ブラックマトリックス23及び第2基板21を覆い、共通電極層25は、第3保護層24を覆い、スペーサ3は、ブラックマトリックス23に対応して共通電極層25上に配置され、且つ、第2配向層26は、スペーサ3及び共通電極層25上に設けられている。ここで、ブラックマトリックス23及びスペーサ3が配置された位置は、図3A乃至図3Cに示す薄膜トランジスタユニット14に対応している。第3保護層24の材料は、第1基板11の第1保護層145及び第2保護層146(図3A参照)の材料と同一であるため、ここで説明を省略する。なお、本実施形態の共通電極層25は、本技術分野で一般的に用いられているフラット電極層であってもよく、その材料は、本技術分野で一般的に用いられている透明導電材料であり、例えば、ITO、IZO等の金属酸化物の透明導電材料であってもよい。また、本実施形態の第2配向層26は、第1配向層の製造方法と同じ方法を採用するため、ここで説明を省略する。本実施形態において、第2配向層26の下方の素子構造の高低に応じて第2配向層26の厚さを調整することによって、第2配向層26が均一な厚さを有しないため、第2配向層26の表面の高低差(段差)を極力小さく抑えることができる。この点には特に注意されたい。以下、本実施形態の第2配向層26の厚さの設計について詳しく説明する。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the second substrate and the upper structure of the liquid crystal display panel according to this embodiment. On the second substrate 21, a black matrix 23, a third protective layer 24, a common electrode layer 25, a spacer 3, and a second alignment layer 26 are disposed in order. The third protective layer 24 covers the black matrix 23 and the second substrate 21, the common electrode layer 25 covers the third protective layer 24, and the spacer 3 is disposed on the common electrode layer 25 corresponding to the black matrix 23. The second alignment layer 26 is provided on the spacer 3 and the common electrode layer 25. Here, the positions where the black matrix 23 and the spacers 3 are arranged correspond to the thin film transistor unit 14 shown in FIGS. 3A to 3C. Since the material of the third protective layer 24 is the same as the material of the first protective layer 145 and the second protective layer 146 (see FIG. 3A) of the first substrate 11, description thereof is omitted here. The common electrode layer 25 of this embodiment may be a flat electrode layer generally used in this technical field, and the material thereof is a transparent conductive material generally used in this technical field. For example, a transparent conductive material of a metal oxide such as ITO or IZO may be used. In addition, since the second alignment layer 26 of the present embodiment employs the same method as the method for manufacturing the first alignment layer, the description thereof is omitted here. In the present embodiment, the second alignment layer 26 does not have a uniform thickness by adjusting the thickness of the second alignment layer 26 according to the height of the element structure below the second alignment layer 26. The height difference (step) on the surface of the two alignment layer 26 can be minimized. Special attention should be paid to this point. Hereinafter, the design of the thickness of the second alignment layer 26 of the present embodiment will be described in detail.

図4に示すように、スペーサ3上の第2配向層26が第3厚さT3を有し、ブラックマトリックス23上の第2配向層26が第4厚さT4を有し、第2基板21上の第2配向層26が第6厚さT6を有し、且つ、第6厚さT6は第4厚さT4よりも大きく、第4厚さT4は第3厚さT3よりも大きい。スペーサ3と第1基板11上の第1配向層16の厚さとを比較すると(図3A参照)、第3厚さT3は画素電極領域Px及び非画素電極領域Px’上の第1配向層16の厚さよりも小さい。一部の実施形態において、スペーサ3上の第2配向層26の第3厚さT3は極めて薄く、0nmに近い場合がある(即ち、走査型電子顕微鏡(SEM)でも測定不能である)。また、配向層の材料の粘度は、重合体の重合度又は種類に関連している。例えば、同じ種類の重合体を使う場合、重合度が高くなり、配向層の材料が高い粘度を有する。そのため、本考案の一実施態様において、例えば、分子量の大きい重合体等の高粘度の材料からなる配向層を使用する。この場合、配向層の表面に少なくとも1つの突起構造、少なくとも1つの隆起部又はその組み合わせが形成されてもよい。配向層の表面に突起構造及び隆起部が同時に形成されることが好ましい。また、配向層の表面に突起構造が形成されている場合、突起構造の高さ(具体的に、突起構造の頂端と配向層の表面との距離である高さ)と、突起構造に隣接する配向層の厚さの比は2〜10である。本考案の他の実施態様において、例えば、分子量の小さい重合体等の低粘度の材料からなる配向層を使用する。この場合、配向層の表面に隆起部が形成されてもよい。また、配向層のエッジは、少なくとも1つの湾曲構造を有してもよい。ここで、「湾曲構造」とは、円弧、直線、波状、又はその組み合わせから形成された構造を含む。   As shown in FIG. 4, the second alignment layer 26 on the spacer 3 has a third thickness T3, the second alignment layer 26 on the black matrix 23 has a fourth thickness T4, and the second substrate 21 The upper second alignment layer 26 has a sixth thickness T6, and the sixth thickness T6 is greater than the fourth thickness T4, and the fourth thickness T4 is greater than the third thickness T3. Comparing the thickness of the spacer 3 and the first alignment layer 16 on the first substrate 11 (see FIG. 3A), the third thickness T3 is equal to the first alignment layer 16 on the pixel electrode region Px and the non-pixel electrode region Px ′. Is less than the thickness. In some embodiments, the third thickness T3 of the second alignment layer 26 on the spacer 3 may be very thin and close to 0 nm (ie, not measurable with a scanning electron microscope (SEM)). Further, the viscosity of the material of the alignment layer is related to the polymerization degree or type of the polymer. For example, when the same type of polymer is used, the degree of polymerization becomes high and the material of the alignment layer has a high viscosity. Therefore, in one embodiment of the present invention, for example, an alignment layer made of a highly viscous material such as a polymer having a large molecular weight is used. In this case, at least one protruding structure, at least one raised portion, or a combination thereof may be formed on the surface of the alignment layer. It is preferable that the protrusion structure and the raised portion are simultaneously formed on the surface of the alignment layer. Further, when a protrusion structure is formed on the surface of the alignment layer, the height of the protrusion structure (specifically, the height that is the distance between the top end of the protrusion structure and the surface of the alignment layer) and the protrusion structure are adjacent to each other. The ratio of the thicknesses of the alignment layers is 2-10. In another embodiment of the present invention, for example, an alignment layer made of a low viscosity material such as a polymer having a low molecular weight is used. In this case, a raised portion may be formed on the surface of the alignment layer. The edge of the alignment layer may have at least one curved structure. Here, the “curved structure” includes a structure formed from an arc, a straight line, a wave shape, or a combination thereof.

本実施形態において、配向層(第1配向層16及び第2配向層26を含む)の材料は、特に限定されず、例えば、ポリイミド(polyimide,PI)、ポリビニルシンナメート(polyvinylcinnamate,PVCN)、及びポリメタクリル酸メチル(polymethylmethacrylate,PMMA)などの本技術分野で一般的に用いられている配向層の材料であってもよいが、それに限定されない。本考案の配向層の材料は、高粘度を有するポリイミドであることが好ましい。   In the present embodiment, the material of the alignment layer (including the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26) is not particularly limited. For example, polyimide (polyimide), polyvinyl cinnamate (PVCN), and The material of the alignment layer generally used in this technical field, such as polymethylmethacrylate (PMMA), may be used, but is not limited thereto. The material of the alignment layer of the present invention is preferably a polyimide having a high viscosity.

上記第1基板11、第2基板21及びその上のすべての素子を完成した後、図1に示すように、第1基板11と第2基板21とを対向して組み合わせるとともに、シール剤5により接合し、液晶分子を注入して液晶層4を形成すると、本実施形態の液晶表示パネルが完成した。第1配向層16及び第2配向層26とシール剤5(図1、図3A乃至図3C及び図4を同時に参照)との付着力を向上させるために、本実施形態の第1配向層16及び第2配向層26のエッジ領域に微細構造をさらに設計した。以下、本実施形態の第1配向層16及び第2配向層26のエッジ領域における微細構造について詳しく説明する。なお、第1配向層16及び第2配向層26のエッジ領域は、各々同一又は異なる設計されてもよい。ここで、第1配向層16のみについて説明するが、第2配向層26についての説明を省略する。   After completing the first substrate 11, the second substrate 21 and all the elements thereon, as shown in FIG. 1, the first substrate 11 and the second substrate 21 are combined facing each other, and the sealing agent 5 is used. When the liquid crystal layer 4 was formed by bonding and injecting liquid crystal molecules, the liquid crystal display panel of this embodiment was completed. In order to improve the adhesion between the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 and the sealant 5 (see FIGS. 1, 3A to 3C, and 4 simultaneously), the first alignment layer 16 of the present embodiment. And the microstructure was further designed in the edge region of the second alignment layer 26. Hereinafter, the fine structure in the edge region of the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 of the present embodiment will be described in detail. Note that the edge regions of the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 may be designed to be the same or different. Here, only the first alignment layer 16 will be described, but the description of the second alignment layer 26 will be omitted.

図5は、本実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層が第1基板上に設けられる場合を示す概略図である。図5に示すように、本実施形態の液晶表示パネルにおいて、第1配向層16は第1基板11上に設けられ、且つ、第1配向層16のエッジ領域Pには、突起構造161及び複数の隆起部162が設けられている。第1基板11を表示領域D及び非表示領域Nに定義した場合、第1配向層16上の突起構造161及び隆起部162は第1基板の非表示領域N上に設けられている。本実施形態において、
第1配向層16の材料は、突起構造161及び隆起部162の材料と同一であり、突起構造161及び隆起部162と当該第1配向層16とが一体成形されている。ここで、第1配向層16及びその上方の突起構造161のパターンに対応する凸版又はマスクを使用してもよく、第1配向層16を形成すると同時に突起構造161を形成する。または、第1配向層16及びその上方の突起構造161及び隆起部162のパターンに対応する凸版又はマスクを使用してもよく、第1配向層16を形成すると同時に突起構造161及び隆起部162を形成する。ただし、他の実施形態において、隆起部162は、隆起部162のパターンに対応する凸版又はマスクを使用せず、配向層の材料が重合する際に生成された粒子(結晶核、結晶体、結晶粒又は凝集体)によって形成されてもよい。
FIG. 5 is a schematic view showing a case where the first alignment layer of the liquid crystal display panel according to the present embodiment is provided on the first substrate. As shown in FIG. 5, in the liquid crystal display panel of the present embodiment, the first alignment layer 16 is provided on the first substrate 11, and the protrusion structure 161 and the plurality of protrusion structures 161 are provided in the edge region P of the first alignment layer 16. The raised portion 162 is provided. When the first substrate 11 is defined as the display region D and the non-display region N, the protruding structure 161 and the raised portion 162 on the first alignment layer 16 are provided on the non-display region N of the first substrate. In this embodiment,
The material of the first alignment layer 16 is the same as the material of the protruding structure 161 and the raised portion 162, and the protruding structure 161 and the raised portion 162 and the first alignment layer 16 are integrally formed. Here, a relief plate or a mask corresponding to the pattern of the first alignment layer 16 and the protrusion structure 161 thereabove may be used. Alternatively, a relief plate or a mask corresponding to the pattern of the first alignment layer 16 and the protruding structure 161 and the raised portion 162 above the first alignment layer 16 may be used, and the protruding structure 161 and the raised portion 162 may be formed simultaneously with the formation of the first alignment layer 16. Form. However, in another embodiment, the raised portion 162 does not use a relief plate or a mask corresponding to the pattern of the raised portion 162, and particles (crystal nuclei, crystals, crystals) generated when the material of the alignment layer is polymerized. Grains or aggregates).

図6A乃至図6Dは、本実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層を、図5の非表示領域NにおけるB−B’線に沿って切断した断面概略図である。図6Aに示すように、第1配向層16上の突起構造161と第1配向層16の表面163との距離である高さH1と、突起構造161に隣接する第1配向層16の厚さTとの比は、2〜10である。ここで、高さH1は150nm〜300nmであり、厚さは10nm〜100nmであってもよい。しかし、本考案は上記厚さの範囲内に限定されない。第1配向層16の突起構造161が顕著な高さを有すれば、基板に対する配向層のエッジ領域の圧力及び付着力を強化し、配向層材料のブリードアウト及び固化する際での塗膜収縮の発生を減少することができ、配向層の変位を防ぐことができる。また、第1配向層16上の突起構造161の隣に複数の隆起部162がさらに設けられている。ここで、隆起部162の高さH2は5nm〜30nmであってもよいが、本考案はそれに限定されない。なお、図6Aに示す突起構造161は、第1配向層16の表面163と垂直した側辺を有する。ただし、他の実施形態において、突起構造161の両側辺は傾斜面であってもよい(図6B参照)。または、突起構造161は円弧状であってもよい(図6C参照)。または、突起構造161の1つの側辺は第1配向層16の表面に垂直している(図6C参照)。ただし、本考案はこれらに限定されない。なお、図6A乃至図6Dに示す突起構造161は全て滑らかな表面で表されたが、他の実施形態において、突起構造161は、例えば畝状構造等の不均一な表面を有してもよい。   6A to 6D are schematic cross-sectional views of the first alignment layer of the liquid crystal display panel according to this embodiment, taken along the line B-B ′ in the non-display region N of FIG. 5. As shown in FIG. 6A, a height H1 that is the distance between the protrusion structure 161 on the first alignment layer 16 and the surface 163 of the first alignment layer 16, and the thickness of the first alignment layer 16 adjacent to the protrusion structure 161. The ratio with T is 2-10. Here, the height H1 may be 150 nm to 300 nm, and the thickness may be 10 nm to 100 nm. However, the present invention is not limited to the above thickness range. If the protruding structure 161 of the first alignment layer 16 has a remarkable height, the pressure and adhesion of the edge region of the alignment layer to the substrate are strengthened, and the coating film shrinks when the alignment layer material is bleed out and solidified. Can be reduced, and displacement of the alignment layer can be prevented. A plurality of raised portions 162 are further provided next to the protruding structure 161 on the first alignment layer 16. Here, the height H2 of the raised portion 162 may be 5 nm to 30 nm, but the present invention is not limited thereto. 6A has a side that is perpendicular to the surface 163 of the first alignment layer 16. However, in other embodiments, both sides of the protruding structure 161 may be inclined surfaces (see FIG. 6B). Alternatively, the protruding structure 161 may have an arc shape (see FIG. 6C). Alternatively, one side of the protruding structure 161 is perpendicular to the surface of the first alignment layer 16 (see FIG. 6C). However, the present invention is not limited to these. 6A to 6D are all represented by a smooth surface. However, in other embodiments, the projection structure 161 may have a non-uniform surface such as a hook-shaped structure. .

図7A乃至図7Cは、本実施形態に係る液晶表示パネルの第1配向層を、図5の非表示領域NにおけるC−C’線に沿って切断した断面概略図である。一般的に、液晶表示パネルの非表示領域Nに配線が設けられておらず、本実施形態の突起構造161は、非表示領域Nの配線6上にさらに設けられている。   7A to 7C are schematic cross-sectional views of the first alignment layer of the liquid crystal display panel according to the present embodiment taken along the line C-C ′ in the non-display region N of FIG. 5. Generally, no wiring is provided in the non-display area N of the liquid crystal display panel, and the protruding structure 161 of the present embodiment is further provided on the wiring 6 in the non-display area N.

本実施形態の液晶表示パネルはシール剤5によってパッケージされる際、第1配向層16の突起構造161とシール剤5との間の関係は、図8Aのように示される。当該突起構造161が配置されることによって、シール剤5が当該突起構造161を覆うことによって、第1配向層16との接触面積を増大させることができ、さらにシール剤5と第1配向層16との剥離の発生を抑制することができる。同時に、図8Aに示すように、第1基板11の外縁がシール剤5の外に突出している。   When the liquid crystal display panel of the present embodiment is packaged by the sealant 5, the relationship between the protruding structure 161 of the first alignment layer 16 and the sealant 5 is shown as in FIG. 8A. By disposing the protruding structure 161, the sealing agent 5 covers the protruding structure 161, so that the contact area with the first alignment layer 16 can be increased, and the sealing agent 5 and the first alignment layer 16 are further increased. The occurrence of peeling can be suppressed. At the same time, as shown in FIG. 8A, the outer edge of the first substrate 11 protrudes outside the sealing agent 5.

ただし、本考案の他の好ましく実施形態において、図8Bに示すように、第1基板11の外縁はシール剤5に揃えてもよい。また、当該他の好ましく実施形態において、配向層の材料として、低粘度を有するポリイミドを使用する。そのため、図8Aにような突起構造161を形成することはできないが、図10に示すように、第1配向層16のエッジは、例えば、波状構造等の特殊な湾曲構造が形成されている。   However, in another preferred embodiment of the present invention, the outer edge of the first substrate 11 may be aligned with the sealant 5 as shown in FIG. 8B. In another preferred embodiment, polyimide having a low viscosity is used as the material for the alignment layer. Therefore, although the protruding structure 161 as shown in FIG. 8A cannot be formed, as shown in FIG. 10, the edge of the first alignment layer 16 has a special curved structure such as a wave structure.

図5に示す突起構造161及び隆起部162を有する第1配向層16であろうと、図10に示す隆起部162及び波状構造のエッジを有する第1配向層16であろうと、第1配向層16中に複数の粒子164が生成される可能性がある。図9に示すように、これらの粒子は、第1配向層16を固化する際に生成された結晶核、結晶体、結晶粒又は凝集体であってもよい。特に、非表示領域Nに設けられた粒子164の大きさは、表示領域Dに設けられた粒子164の大きさよりも大きい。また、他の実施形態において、第1配向層16は、上記粒子164を含まなくてもよく、または、非表示領域Nにのみ上記粒子164が形成されてもよい。   Whether the first alignment layer 16 has the protrusion structure 161 and the raised portion 162 shown in FIG. 5, or the first alignment layer 16 has the raised portion 162 and the edge of the wavy structure shown in FIG. A plurality of particles 164 may be generated therein. As shown in FIG. 9, these particles may be crystal nuclei, crystals, crystal grains, or aggregates generated when the first alignment layer 16 is solidified. In particular, the size of the particles 164 provided in the non-display area N is larger than the size of the particles 164 provided in the display area D. In other embodiments, the first alignment layer 16 may not include the particles 164, or the particles 164 may be formed only in the non-display region N.

ここで、特に説明したいのは、図5乃至図9は第1基板11上に第1配向層16のみが配置されている場合を示すことである。ただし、当業者であれば、ここで第1基板11と第1配向層16との間の他の素子(例えば、薄膜トランジスタ素子等)を省略することが了解される。   Here, it is particularly desirable to explain that FIGS. 5 to 9 show a case where only the first alignment layer 16 is disposed on the first substrate 11. However, those skilled in the art will understand that other elements (for example, thin film transistor elements) between the first substrate 11 and the first alignment layer 16 are omitted here.

また、図11に示すように、本考案の上記実施形態による製造される液晶表示パネルは、液晶表示装置7に適用してもよい。液晶表示装置は、バックライトモジュール(図示せず)と、バックライトモジュール上に設けられた上記液晶表示パネル(図示せず)とを含む。ここで、液晶表示装置の一例としてディスプレイが挙げられるが、例えば、携帯電話、ノートパソコン、ビデオカメラ、カメラ、音楽プレーヤ、モバイルナビゲーション装置又はテレビ等の表示装置も、本考案の上記実施形態による製造される液晶表示パネルを用いてもよい。   Further, as shown in FIG. 11, the liquid crystal display panel manufactured according to the above embodiment of the present invention may be applied to the liquid crystal display device 7. The liquid crystal display device includes a backlight module (not shown) and the liquid crystal display panel (not shown) provided on the backlight module. Here, a display is an example of a liquid crystal display device. For example, a display device such as a mobile phone, a notebook computer, a video camera, a camera, a music player, a mobile navigation device, or a television is also manufactured according to the above embodiment of the present invention. A liquid crystal display panel may be used.

本考案の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本考案を限定するものではない。本考案の実用新案登録請求の範囲による各種の変動及び修正は、本考案の保護を求める範囲内に属するものである。   While the preferred embodiments of the present invention have been disclosed above, they are in no way intended to limit the invention. Various changes and modifications according to the scope of the utility model registration request of the present invention belong to the scope of seeking protection of the present invention.

11 第1基板
111 第1表面
12 走査線
13 データ線
14 薄膜トランジスタユニット
141 ゲート
142 絶縁層
143 半導体層
1441 ソース
1442 ドレン
1443 チャンネル領域
145 第1保護層
146 第2保護層
147 接続用開口
15 画素電極
16 第1配向層
161 突起構造
162 隆起部
163 表面
164 粒子
165 第2表面
166 第3表面
17 蓄積電極
21 第2基板
221,222 カラーフィルタユニット
223 カラーフィルタ層の開口
23 ブラックマトリックス
24 第3保護層
25 共通電極層
26 第2配向層
3 スペーサ
4 液晶層
5 シール剤
6 配線
7 液晶表示装置
D 表示領域
D1,D2,D3 距離
H1 高さ
N 非表示領域
O 開口領域
O’ 非開口領域
P エッジ領域
Px 画素電極領域
Px’ 非画素電極領域
R2 第2領域
R3 第3領域
T 厚さ
T1 第1厚さ
T2 第2厚さ
T3 第3厚さ
T5 第5厚さ
T6 第6厚さ
11 First substrate 111 First surface 12 Scan line 13 Data line 14 Thin film transistor unit 141 Gate 142 Insulating layer 143 Semiconductor layer 1441 Source 1442 Drain 1443 Channel region 145 First protective layer 146 Second protective layer 147 Connection opening 15 Pixel electrode 16 First alignment layer 161 Protruding structure 162 Raised portion 163 Surface 164 Particle 165 Second surface 166 Third surface 17 Storage electrode 21 Second substrate 221, 222 Color filter unit 223 Color filter layer opening 23 Black matrix 24 Third protective layer 25 Common electrode layer 26 Second alignment layer 3 Spacer 4 Liquid crystal layer 5 Sealing agent 6 Wiring 7 Liquid crystal display device D Display area D1, D2, D3 Distance H1 Height N Non-display area O Open area O 'Non-open area P Edge area Px Pixel electrode region Px ′ Non-pixel electrode region R2 2nd area | region R3 3rd area | region T thickness T1 1st thickness T2 2nd thickness T3 3rd thickness T5 5th thickness T6 6th thickness

Claims (20)

画素電極領域及び非画素電極領域が配置される第1基板と、
前記第1基板に対向して配置された第2基板と、
前記画素電極領域及び前記非画素電極領域の上に配置された第1配向層と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を含み、
前記画素電極領域上の前記第1配向層が第1厚さを有し、前記非画素電極領域上の前記第1配向層が第2厚さを有し、且つ、前記第1厚さは前記第2厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示パネル。
A first substrate on which a pixel electrode region and a non-pixel electrode region are disposed;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A first alignment layer disposed on the pixel electrode region and the non-pixel electrode region;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate,
The first alignment layer on the pixel electrode region has a first thickness, the first alignment layer on the non-pixel electrode region has a second thickness, and the first thickness is A liquid crystal display panel having a thickness greater than the second thickness.
前記画素電極領域は、画素電極を含み、前記非画素電極領域は、データ線及び走査線を含み、前記画素電極上の前記第1配向層が前記第1厚さを有し、且つ、前記データ線又は前記走査線の上の前記第1配向層が前記第2厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。   The pixel electrode region includes a pixel electrode, the non-pixel electrode region includes a data line and a scanning line, the first alignment layer on the pixel electrode has the first thickness, and the data The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the first alignment layer on the line or the scanning line has the second thickness. 前記第1配向層は、複数の粒子を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the first alignment layer includes a plurality of particles. 前記第1基板は、表示領域及び非表示領域を含み、前記非表示領域に設けられた少なくとも1つの前記粒子の大きさは、前記表示領域に設けられた少なくとも1つの粒子の大きさよりも大きいことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示パネル。   The first substrate includes a display area and a non-display area, and a size of at least one of the particles provided in the non-display area is greater than a size of at least one particle provided in the display area. The liquid crystal display panel according to claim 3. 前記第1基板は、表示領域及び非表示領域を含み、前記第1基板に対応する前記非表示領域上の前記第1配向層上には、少なくとも1つの突起構造、少なくとも1つの隆起部又はその組み合わせがさらに設けられることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。   The first substrate includes a display region and a non-display region, and the first alignment layer on the non-display region corresponding to the first substrate has at least one protrusion structure, at least one raised portion, or the The liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a combination. 前記第1配向層の材料が前記突起構造又は前記隆起部の材料と同一であることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 5, wherein a material of the first alignment layer is the same as a material of the protruding structure or the raised portion. 前記突起構造又は前記隆起部と前記第1配向層とが一体成形されていることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示パネル。   6. The liquid crystal display panel according to claim 5, wherein the protruding structure or the raised portion and the first alignment layer are integrally formed. 前記突起構造の高さと前記突起構造に隣接する前記第1配向層の厚さとの比が2〜10であることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 5, wherein a ratio of a height of the protruding structure to a thickness of the first alignment layer adjacent to the protruding structure is 2 to 10. 前記第1配向層のエッジは、少なくとも1つの湾曲構造を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein an edge of the first alignment layer has at least one curved structure. 前記第1基板と前記第2基板との間に位置し、前記第1配向層を部分的に覆うシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。   2. The liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a sealant positioned between the first substrate and the second substrate and partially covering the first alignment layer. 前記第1基板と前記第2基板との間に位置し、少なくとも1つの前記突起構造、少なくとも1つの前記隆起部又はその組み合わせを部分的に覆うシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の液晶表示パネル。   6. The method according to claim 5, further comprising a sealant positioned between the first substrate and the second substrate and partially covering at least one of the protruding structures, at least one of the raised portions, or a combination thereof. A liquid crystal display panel as described in 1. 前記第1厚さと前記第2厚さとの比が1〜10であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a ratio of the first thickness to the second thickness is 1 to 10. 前記第1基板上に設けられ、前記第1基板と前記第1配向層との間に位置するカラーフィルタユニットをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a color filter unit provided on the first substrate and positioned between the first substrate and the first alignment layer. 少なくとも1つのスペーサと、ブラックマトリックスと、第2配向層とをさらに含み、
前記ブラックマトリックスは、前記第2基板上に設けられ、
前記スペーサは、前記ブラックマトリックスに対応して前記第1基板と前記第2基板との間に設けられ、
前記第2配向層は、前記第2基板、前記ブラックマトリックス及び前記スペーサの上に設けられ、
前記スペーサ上の前記第2配向層が第3厚さを有し、前記ブラックマトリックス上の前記第2配向層が第4厚さを有し、且つ、前記第3厚さは前記第4厚さよりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。
And further comprising at least one spacer, a black matrix, and a second alignment layer,
The black matrix is provided on the second substrate;
The spacer is provided between the first substrate and the second substrate corresponding to the black matrix,
The second alignment layer is provided on the second substrate, the black matrix, and the spacer,
The second alignment layer on the spacer has a third thickness, the second alignment layer on the black matrix has a fourth thickness, and the third thickness is greater than the fourth thickness. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the liquid crystal display panel is also small.
前記第1基板上には、薄膜トランジスタ素子と第1保護層とがさらに設けられ、
前記薄膜トランジスタ素子は、ゲートと、絶縁層と、半導体層と、ソースと、ドレンとを含み、
前記絶縁層は、前記ゲートを覆い、
前記半導体層は、前記絶縁層上に設けられ、
前記ソース及び前記ドレンは、前記半導体層上に設けられ、
前記ソースと前記ドレンとは、チャンネル領域が形成されるように所定距離を置いて配置され、
前記第1保護層は、前記薄膜トランジスタ素子を覆い、且つ、前記ドレンが露出されるように開口を有し、
前記画素電極は、前記第1保護層上に設けられ、前記ドレンに電気的に接続するように前記開口に向けて延在し、
前記開口における前記第1配向層が第5厚さを有し、且つ、前記第5厚さは前記第1厚さよりも大きいことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示パネル。
A thin film transistor element and a first protective layer are further provided on the first substrate.
The thin film transistor element includes a gate, an insulating layer, a semiconductor layer, a source, and a drain,
The insulating layer covers the gate;
The semiconductor layer is provided on the insulating layer,
The source and the drain are provided on the semiconductor layer;
The source and the drain are arranged at a predetermined distance so that a channel region is formed,
The first protective layer covers the thin film transistor element and has an opening so that the drain is exposed;
The pixel electrode is provided on the first protective layer and extends toward the opening so as to be electrically connected to the drain.
3. The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the first alignment layer in the opening has a fifth thickness, and the fifth thickness is larger than the first thickness.
画素電極領域及び非画素電極領域が配置される第1基板と、
前記第1基板に対向して配置された第2基板と、
開口領域と非開口領域とを含む前記画素電極領域及び前記非画素電極領域の上に配置された第1配向層と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、を含み、
前記画素電極領域の前記開口領域上の前記第1配向層が第1厚さを有し、前記非画素電極領域上の前記第1配向層が第2厚さを有し、且つ、前記第1厚さは前記第2厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示パネル。
A first substrate on which a pixel electrode region and a non-pixel electrode region are disposed;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A first alignment layer disposed on the pixel electrode region and the non-pixel electrode region including an opening region and a non-opening region;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate,
The first alignment layer on the opening region of the pixel electrode region has a first thickness, the first alignment layer on the non-pixel electrode region has a second thickness, and the first A liquid crystal display panel having a thickness greater than the second thickness.
前記画素電極領域の前記開口領域は、画素電極を含み、前記非画素電極領域は、データ線及び走査線を含み、前記画素電極上の前記第1配向層が前記第1厚さを有し、前記データ線又は前記走査線の上の前記第1配向層が前記第2厚さを有することを特徴とする請求項16に記載の液晶表示パネル。   The opening region of the pixel electrode region includes a pixel electrode; the non-pixel electrode region includes a data line and a scanning line; and the first alignment layer on the pixel electrode has the first thickness; The liquid crystal display panel according to claim 16, wherein the first alignment layer on the data line or the scanning line has the second thickness. 第1表面を有する第1基板と、
前記第1基板に対向して配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、
前記第1基板上に設けられ、且つ、前記第1基板に向かい合う第2表面と前記液晶層に隣接する第3表面とを有する第1配向層と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられる少なくとも1つのスペーサと、を含み、
前記第1基板は、第1領域と、第2領域と、第3領域とを含み、
前記スペーサは、前記第1領域に対応し、
前記第2領域上の前記第1配向層の前記第2表面と前記第1基板の前記第1表面との間の距離は、前記第3領域上の前記第1配向層の前記第2表面と前記第1基板の前記第1表面との間の距離よりも小さく、
前記第2領域及び前記第3領域上の前記第1配向層は、それぞれ、第1厚さ及び第2厚さを有し、且つ、前記第1厚さは前記第2厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示パネル。
A first substrate having a first surface;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A first alignment layer provided on the first substrate and having a second surface facing the first substrate and a third surface adjacent to the liquid crystal layer;
And at least one spacer provided between the first substrate and the second substrate,
The first substrate includes a first region, a second region, and a third region,
The spacer corresponds to the first region;
The distance between the second surface of the first alignment layer on the second region and the first surface of the first substrate is different from the second surface of the first alignment layer on the third region. Smaller than the distance between the first surface of the first substrate,
The first alignment layer on the second region and the third region has a first thickness and a second thickness, respectively, and the first thickness is larger than the second thickness. A characteristic LCD panel.
前記第1基板の前記第2領域上には、画素電極が配置され、
前記第1基板の前記第3領域上には、データ線及び走査線が配置され、
前記画素電極上の前記第1配向層が前記第1厚さを有し、前記データ線又は前記走査線の上の前記第1配向層が前記第2厚さを有することを特徴とする請求項18に記載の液晶表示パネル。
A pixel electrode is disposed on the second region of the first substrate.
A data line and a scanning line are disposed on the third region of the first substrate.
The first alignment layer on the pixel electrode has the first thickness, and the first alignment layer on the data line or the scan line has the second thickness. 18. A liquid crystal display panel according to 18.
請求項1〜19のいずれか1項に記載の液晶表示パネルを含む液晶表示装置であって、
携帯電話、ノートパソコン、ビデオカメラ、カメラ、音楽プレーヤ、モバイルナビゲーション装置又はテレビに用いられることを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display device comprising the liquid crystal display panel according to claim 1,
A liquid crystal display device used for a mobile phone, a notebook computer, a video camera, a camera, a music player, a mobile navigation device or a television.
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