KR20160018960A - An Apparatus for Mixing Gas and Liquid - Google Patents

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KR20160018960A
KR20160018960A KR1020140102162A KR20140102162A KR20160018960A KR 20160018960 A KR20160018960 A KR 20160018960A KR 1020140102162 A KR1020140102162 A KR 1020140102162A KR 20140102162 A KR20140102162 A KR 20140102162A KR 20160018960 A KR20160018960 A KR 20160018960A
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이승호
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주식회사 에너지아이
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    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation

Abstract

An apparatus for mixing a gas and a liquid according to the present invention comprises a chamber part having a gas and liquid mixture formed inside; a gas supply part supplying a gas inside the chamber part; a liquid supply part supplying a liquid inside the chamber part; and a liquid crushing part crushing the supplied liquid into fine particles. The inner part of the chamber part includes a first space filled with the supplied liquid; and a second space where the gas and liquid mixture formed in the lower part of the first space is stored. The liquid crushing part increases contact area between gas and liquid particles forming the gas and liquid mixture by supplying the crushed liquid particles to the first space.

Description

기액 혼합장치{An Apparatus for Mixing Gas and Liquid}An apparatus for mixing gas and liquid,

본 발명은 기체와 액체를 혼합하는 기액 혼합장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기액 혼합장치의 내부에서 기액 혼합물을 형성하기 이전에 미리 액체를 미세한 입자로 분쇄한 후 기체 분위기에 공급하여 액체 입자와 기체 입자 사이의 접촉 면적이 증가된 상태에서 기액 혼합물이 형성되도록 구성함으로써 상기 형성된 기액 혼합물 속에 포함되는 미세한 기포 형태의 기체의 양을 현저히 증가시킬 수 있는 기액 혼합장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a gas-liquid mixing apparatus for mixing a gas and a liquid, and more particularly, to a gas-liquid mixing apparatus for mixing a gas and a liquid by pulverizing a liquid into fine particles in advance before forming a gas- The present invention relates to a gas-liquid mixing apparatus capable of significantly increasing the amount of gas in the form of fine bubbles contained in a gas-liquid mixture formed by forming a gas-liquid mixture in a state in which a contact area between gas particles is increased.

일반적으로, 용존 산소량이 많은 물(즉, 산소가 많이 포함된 물)의 경우 정화작용 및 살균작용이 우수한 특성을 가지는데, 특히 이러한 산소가 물속에 미세한 기포(마이크로 기포 또는 나노 기포) 형태로 존재할 경우 그 작용효과가 더욱 우수하기 때문에 최근에는 물속에 다량의 공기, 산소, 오존 등(이하, '기체'라 한다.)을 미세한 기포(마이크로 기포 또는 나노 기포) 형태로 포함시켜 오폐수 등에 포함된 오염물질을 분해하거나 살균수(또는 세척수)로 활용하는 기술이 널리 이용되고 있다.Generally, water having a high dissolved oxygen content (i.e., water containing a large amount of oxygen) has excellent properties of purifying action and sterilizing action. In particular, such oxygen exists in the form of fine bubbles (microbubbles or nano bubbles) in water (Hereinafter referred to as "gas") in the form of fine bubbles (micro bubbles or nano bubbles) in a large amount of water in recent years, A technique for decomposing a material or utilizing it as a disinfecting water (or washing water) is widely used.

이를 위해서는 액체 상태인 물속에 미세한 기포 상태의 기체를 인위적으로 포함시키는 기술이 필요한데, 종래에는 다기성 산기관을 통해 물에 기체를 혼합시키는 산기방식, 물과 기체를 동시에 가압하여 혼합시키는 가압 인젝터방식, 펌프를 사용하여 기체를 흡입하여 벤튜리관을 통과하는 물에 혼합시키는 벤튜리 인젝터방식 등을 주로 사용하였다.In order to accomplish this, it is necessary to artificially include fine bubble-like gas in a liquid state of water. In the prior art, there have been used an acidification system in which gas is mixed with water through a multiplying acid orifice, , A venturi injector system that sucks gas using a pump and mixes it with water passing through a venturi pipe.

그러나, 이러한 종래 기술에 따른 방식들은 복잡한 구성의 장치들을 별도로 사용하여야 하기 때문에 장치 설치비용이 크게 증가할 뿐만 아니라 장치의 유지보수에 많은 비용과 기술이 필요한 문제점이 있었다. However, the conventional systems have a problem in that the devices have to be used separately, so that the installation cost of the apparatus is greatly increased and the maintenance and repair of the apparatus is expensive.

따라서, 최근에는 별도 장치의 사용없이 단순히 물에 기체가 혼합된 기액 혼합물을 빠른 속도로 유동시키면서 유로에 형성된 주변 구조물에 충돌시켜 상기 기액 혼합물의 기체를 미세한 기포 형태로 분쇄하는 기술을 널리 사용하고 있는데, 이에 대한 상세한 내용이 하기 [문헌 1]과 [문헌 2]에 상세히 개시되어 있다.Therefore, recently, a technique has been widely used in which a gas-liquid mixture in which water is mixed with gas at a high speed is collided with a peripheral structure formed in the channel without using any separate apparatus, and the gas of the gas-liquid mixture is pulverized into fine bubbles , And details thereof are disclosed in detail in [Literature 1] and [Literature 2].

그러나, 하기 [문헌 1]과 [문헌 2]에 따른 기술의 경우 이미 혼합된 기액 혼합물을 미세한 입자로 분쇄하는 방식이기 때문에 종래 기술과 대비할 때 장치의 구성이 간결해지는 장점은 있으나, 물속에 실질적으로 용해되는 기체의 양은 종래 기술과 유사한 수준이기 때문에 물속에 포함된 미세한 기포 형태의 기체에 의한 오염물 분해력이나 살균력이 종래 기술과 거의 유사하게 되는 문제점이 있었다.However, according to the techniques described in [1] and [2] below, since the already mixed gas-liquid mixture is pulverized into fine particles, there is an advantage that the structure of the apparatus is simplified when compared with the prior art, Since the amount of dissolved gas is similar to that of the prior art, there is a problem that the decomposition ability or the sterilizing power of the contaminants due to the gas in the form of fine bubbles contained in the water is substantially similar to that of the prior art.

[문헌 1] 한국등록특허 제10-0887293호(2008. 10. 28. 공개)[Patent Document 1] Korean Patent No. 10-0887293 (published on October 28, 2008)

[문헌 2] 한국공개특허 제2011-0033989호(2011. 4. 4. 공개)
[Patent Document 2] Published Korean Patent Application No. 2011-0033989 (Published on April 4, 2011)

본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 기액 혼합장치 내부에서 기액 혼합물을 형성하기 이전에 미리 액체를 미세한 입자로 분쇄한 후 기체 분위기에 공급하여 액체 입자와 기체 입자 사이의 접촉 면적이 증가된 상태에서 기액 혼합물이 형성되도록 구성함으로써 상기 형성된 기액 혼합물 속에 포함되는 미세한 기포 형태의 기체의 양을 현저히 증가시킬 수 있는 기액 혼합장치를 제공하기 위한 것이다.
The object of the present invention is to solve the problems of the prior art as described above, and it is an object of the present invention to provide a gas-liquid mixing device in which a liquid is previously pulverized into fine particles before forming a gas- And a gas-liquid mixture is formed in such a manner that the contact area between the gas-liquid mixture and the gas-liquid mixture is increased, thereby significantly increasing the amount of gas in the form of fine bubbles contained in the formed gas-liquid mixture.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 기액 혼합장치는 내부에 기액 혼합물이 형성되는 챔버부, 상기 챔버부 내부에 기체를 공급하는 기체 공급부, 상기 챔버부 내부에 액체를 공급하는 액체 공급부, 및 상기 공급되는 액체를 미세한 입자로 분쇄하는 액체 분쇄부를 포함하되, 상기 챔버부의 내부는 공급된 기체가 채워지는 제1공간과, 상기 제1공간의 하부에서 상기 형성된 기액 혼합물이 저장되는 제2공간으로 이루어지고, 상기 액체 분쇄부는 기액 혼합물에 포함되는 기체의 양을 증가시키기 위하여, 상기 분쇄된 액체 입자를 상기 제1공간으로 공급함으로써 상기 기액 혼합물을 형성하는 기체와 액체 입자 사이의 접촉 면적을 증가시키는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a gas-liquid mixing apparatus according to the present invention includes a chamber portion in which a gas-liquid mixture is formed, a gas supply portion for supplying gas into the chamber portion, a liquid supply portion for supplying a liquid into the chamber portion, And a liquid crushing section for crushing the supplied liquid into fine particles, wherein the inside of the chamber section has a first space filled with the supplied gas, and a second space in which the formed gas-liquid mixture is stored in the lower part of the first space Wherein the liquid pulverizing section increases the contact area between the gas and the liquid particles forming the vapor-liquid mixture by supplying the pulverized liquid particles to the first space in order to increase the amount of gas contained in the vapor-liquid mixture .

또한, 상기 액체 분쇄부는 액체 공급부의 말단에 연결된 상부 충돌판, 상기 상부 충돌판의 하부에 연결된 나선형 충돌판, 및 상기 나선형 충돌판의 하부에 연결된 하부 충돌판으로 구성되되, 상기 상부 충돌판과 나선형 충돌판에는 상기 액체 공급부의 단면적 보다 작게 형성되어 상기 공급되는 액체의 유속을 증가시키는 관통공이 동축으로 형성되어 있고, 상기 공급된 액체는 관통공을 통과하면서 증가된 속도로 상기 충돌판에 충돌함으로써 미세한 입자로 분쇄되는 것을 특징으로 한다.The liquid crushing unit may include an upper collision plate connected to an end of the liquid supply unit, a helical collision plate connected to a lower portion of the upper collision plate, and a lower collision plate connected to a lower portion of the helical collision plate, The impingement plate is formed with a through hole that is formed to be smaller than the cross sectional area of the liquid supply portion and increases the flow rate of the supplied liquid, and the supplied liquid collides with the impingement plate at an increased speed while passing through the through hole, And is pulverized into particles.

또한, 상기 액체 분쇄장치는 상부 충돌판에서 하부 충돌판의 방향으로 충돌판의 직경, 충돌판 사이의 간격, 및 상기 관통공의 직경이 감소하도록 구성된 것을 특징으로 한다.Further, the liquid pulverizing apparatus is characterized in that the diameter of the impingement plate, the distance between the impingement plates, and the diameter of the through-hole are reduced in the direction of the lower impingement plate from the upper impingement plate.

또한, 상기 충돌판에 충돌된 액체 입자가 다른 액체 입자와 재결합하는 것을 방지하기 위하여 상기 상부 충돌판은 하부측의 직경이 작은 원추형으로 구성되고, 상기 하부 충돌판은 상부측의 직경이 작은 원추형으로 구성된 것을 특징으로 한다.Further, in order to prevent the liquid particles impinging on the impact plate from recombining with other liquid particles, the upper impact plate is formed in a conical shape having a lower diameter at the lower side, and the lower impact plate is formed in a conical shape .

또한, 상기 충돌판에 충돌된 액체 입자가 충돌판의 외면에서 다른 액체 입자와 재결합하는 것을 방지하기 위하여 상기 액체 분쇄장치는 소수성 재질로 구성되거나 외면에 소수성 재질의 코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 한다.Further, in order to prevent the liquid particles impinging on the impingement plate from recombining with other liquid particles on the outer surface of the impingement plate, the liquid pulverizing apparatus may be formed of a hydrophobic material or a coating layer of a hydrophobic material on the outer surface thereof.

또한, 상기 챔버부 내부의 수위를 감지하는 수위 센서부, 상기 챔버부의 일측에 연결되어 챔버부의 제2공간에 저장된 기액 혼합물을 외부로 배출하는 기액 배출부, 상기 기액 배출부의 하부에서 상기 챔버부의 일측에 연결되어 챔버부의 제2공간에 보충수를 공급하는 보충수 공급부, 및 상기 수위 센서부의 출력을 이용하여 상기 기액 배출부와 보충수 공급부의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함하되, 상기 수위 센서부의 출력을 이용하여 상대적으로 기체의 양이 많이 포함된 상기 제1공간과 제2공간의 경계와 인접한 기액 혼합물의 표층이 상기 기액 배출부로 배출될 수 있도록 상기 기액 배출부와 보충수 공급부의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.A liquid level sensor connected to one side of the chamber for discharging the gas-liquid mixture stored in the second space of the chamber to the outside, and a gas-liquid discharging part connected to one side of the chamber for sensing the liquid level inside the chamber, And a controller for controlling operations of the gas-liquid discharge unit and the replenishing water supply unit using the output of the water level sensor unit, wherein the control unit controls the operation of the water level sensor unit Liquid discharge unit and the replenishment water supply unit so that the surface layer of the gas-liquid mixture adjacent to the boundary between the first space and the second space containing a relatively large amount of gas can be discharged to the gas- And a control unit for controlling the control unit.

또한, 상기 제2공간에서 기액 혼합물의 표층에 인접한 위치에 설치되어 상기 기액 혼합물에 진동을 제공하는 초음파 진동기를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
The ultrasonic vibrator is further provided at a position adjacent to the surface layer of the gas-liquid mixture in the second space to provide vibration to the gas-liquid mixture.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 기액 혼합장치는 공급되는 액체를 기체와 혼합하기 이전에 미리 액체 분쇄장치에 의하여 미세한 입자로 분쇄한 후 기체 분위기에 공급하여 기액 혼합물을 형성하는 방식으로 구성되기 때문에 기체와 액체 입자 사이의 접촉 면적의 증가로 인하여 기액 혼합물 속에 포함되는 미세한 기포 형태의 기체의 양을 현저히 증가시킬 수 있는 장점이 있다.As described above, the gas-liquid mixing apparatus according to the present invention is configured in such a manner that the supplied liquid is pulverized into fine particles in advance by a liquid pulverizer before mixing with the gas, and then supplied to the gas atmosphere to form the gas-liquid mixture There is an advantage that the amount of gas in the form of fine bubbles contained in the gas-liquid mixture can be remarkably increased due to the increase of the contact area between the gas and the liquid particles.

또한, 본 발명에 따른 기액 혼합장치는 챔버부 내부에서 공급된 기체에 의하여 미리 정해진 압력이 유지되는 기체층의 하부에 상기 형성된 기액 혼합층이 저장되는 구조이기 때문에 기체의 포화 용해도를 대기압보다 증가시킴으로써 기액 혼합물 속에 포함되는 미세한 기포 형태의 기체의 양을 더욱 증가시킬 수 있는 장점이 있다.The gas-liquid mixing apparatus according to the present invention has a structure in which the formed gas-liquid mixed layer is stored in a lower portion of a gas layer maintained at a predetermined pressure by the gas supplied in the chamber portion, so that saturation solubility of the gas is increased beyond atmospheric pressure, There is an advantage that the amount of gas in the form of fine bubbles contained in the mixture can be further increased.

또한, 본 발명에 따른 기액 혼합장치는 수위 센서부를 이용하여 기포 함량이 가장 많은 기액 혼합물의 표층이 기액 배출부를 통해 외부로 배출되도록 기액 배출부와 보충수 공급부의 동작을 제어하는 방식이기 때문에 기액 혼합물에 포함된 기포가 챔버부 내부에서 재기화되는 현상을 최소화할 수 있는 장점이 있다.
In addition, since the gas-liquid mixing apparatus according to the present invention controls the operation of the gas-liquid discharging portion and the replenishing water supplying portion such that the surface layer of the gas-liquid mixture having the largest bubble content is discharged to the outside through the gas- It is possible to minimize the phenomenon that the bubbles included in the chamber are regenerated inside the chamber.

도1은 본 발명의 일실시예에 따른 기액 혼합장치의 전체적인 구성을 나타낸 부분 단면도,
도2a와 도2b는 각각 도1의 '가'부에 적용된 액체 분쇄장치의 구조를 설명하기 위한 정면도 및 단면도,
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 기액 혼합장치의 동작을 설명하기 위한 블록도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing the overall configuration of a vapor-liquid mixing apparatus according to an embodiment of the present invention;
2A and 2B are a front view and a sectional view for explaining the structure of the liquid pulverizing apparatus applied to the '
3 is a block diagram illustrating the operation of the gas-liquid mixing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 이용하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도1은 본 발명의 일실시예에 따른 기액 혼합장치의 전체적인 구성을 나타낸 부분 단면도이고, 도2a와 도2b는 각각 도1의 '가'부에 적용된 액체 분쇄장치의 구조를 설명하기 위한 정면도 및 단면도이며, 도3은 본 발명의 일실시예에 따른 기액 혼합장치의 동작을 설명하기 위한 블록도이다.FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing the overall structure of a vapor-liquid mixing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2A and 2B are front views for explaining the structure of a liquid pulverizing apparatus applied to a " And FIG. 3 is a block diagram for explaining the operation of the gas-liquid mixing apparatus according to an embodiment of the present invention.

먼저, 본 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 '기액 혼합물'이 오염물질의 분해, 살균, 세척 등의 용도로 사용되는 경우를 일예로서 설명하나 이에 한정되지 아니하며, 본 발명에 따른 기액 혼합장치는 다양한 용도에 의하여 기체와 액체를 혼합하는 경우에 모두 적용될 수 있다.First, in the present embodiment, for convenience of explanation, the case where the 'gas-liquid mixture' is used for the purpose of decomposing, sterilizing, and cleaning pollutants will be described as an example, but the present invention is not limited thereto. It can be applied to both gas and liquid mixing by application.

따라서, 본 발명의 상세한 설명 및 특허청구범위 전체에서 "액체"라 함은 오폐수와 같은 피처리수, 세척수, 세정수, 증류수 등과 같이 기액 혼합물을 구성하기 위한 모든 종류의 액상 유체를 포함하는 개념이며, "기체"라 함은 공기, 산소, 오존, 질소, 이산화탄소 등과 같이 기액 혼합물을 구성하기 위한 모든 종류의 기상 유체를 포함하는 개념이다. Thus, throughout the description and claims of the present invention, the term "liquid" is intended to encompass all types of liquid fluids for constituting a gas-liquid mixture, such as wastewater, treated water, wash water, cleansing water, distilled water, Gas "is a concept that includes all kinds of vapor phase fluids for constituting a vapor-liquid mixture such as air, oxygen, ozone, nitrogen, carbon dioxide and the like.

본 발명에 따른 기액 혼합장치는 챔버부(10), 상기 챔버부(10) 내부에 기체를 공급하는 기체 공급부(20), 상기 챔버부(10) 내부에 액체를 공급하는 액체 공급부(30), 및 상기 공급되는 액체를 미세한 입자로 분쇄하는 액체 분쇄부(40)를 포함하여 구성된다.The gas-liquid mixing apparatus according to the present invention includes a chamber portion 10, a gas supply portion 20 for supplying gas into the chamber portion 10, a liquid supply portion 30 for supplying a liquid into the chamber portion 10, And a liquid pulverizing unit (40) for pulverizing the supplied liquid into fine particles.

또한, 상기 챔버부(10)는 내부에 기액 혼합물이 형성되고, 상기 형성된 기액 혼합물이 저장되는 공간을 제공하기 위한 것으로서, 금속이나 합성수지 등의 재질을 이용하여 통상의 저장탱크와 같은 통 형상으로 구성될 수 있다.The chamber part 10 is provided with a gas-liquid mixture therein and is provided with a space for storing the formed gas-liquid mixture. The chamber part 10 is made of a material such as metal or synthetic resin, .

또한, 상기 기체 공급부(20)는 외부의 기체 공급원(미도시)으로부터 기액 혼합물의 형성에 필요한 기체를 상기 챔버부(10)의 내부에 공급하기 위한 것으로서 상기 챔버부(10)의 내부와 연통되는 통상의 배관 등으로 구성될 수 있는데, 본 실시예에서는 일예로서 상기 기체 공급부(20)가 챔버부(10)의 상부 측면에 설치되는 것으로 구성하였다. The gas supply unit 20 is for supplying a gas necessary for forming a gas-liquid mixture from an external gas supply source (not shown) to the inside of the chamber unit 10, and is connected to the inside of the chamber unit 10 The gas supply unit 20 is installed on the upper side of the chamber 10 as an example.

이때, 상기 기체 공급부(20)의 중도에는 상기 공급되는 기체의 유량을 조절하기 위한 개폐밸브(미도시)와, 챔버부(10) 내부의 기체 압력을 측정하기 위한 압력계(미도시) 등이 더 설치될 수 있다.At this time, an opening / closing valve (not shown) for controlling the flow rate of the supplied gas and a pressure gauge (not shown) for measuring the gas pressure inside the chamber 10 are further provided in the middle of the gas supplying unit 20 Can be installed.

본 실시예에서는 일예로서 상기 압력계(미도시)가 기체 공급부(20)의 중도에 설치되는 경우를 설명하였으나 이에 한정되지 아니하며, 필요에 따라서는 상기 챔버부(10)의 일측에 설치될 수도 있음은 물론이다.In the present embodiment, the pressure gauge (not shown) is installed in the middle of the gas supply unit 20, but the present invention is not limited thereto, and may be installed at one side of the chamber unit 10 Of course.

또한, 상기 액체 공급부(30)는 외부의 액체 공급원(미도시)으로부터 기액 혼합물의 형성에 필요한 액체를 상기 챔버부(10)의 내부에 공급하기 위한 것으로서 상기 챔버부(10)의 내부와 연통되는 통상의 배관 등으로 구성될 수 있는데, 본 실시예에서는 일예로서 상기 액체 공급부(30)가 챔버부(10)의 천정면에 설치되는 것으로 구성하였다. The liquid supply portion 30 is for supplying the liquid necessary for forming a gas-liquid mixture from an external liquid supply source (not shown) to the inside of the chamber portion 10 and is connected to the inside of the chamber portion 10 The liquid supply part 30 is provided on the ceiling surface of the chamber part 10 as an example in this embodiment.

이때, 상기 액체 공급부(30)의 중도에는 상기 공급되는 액체의 유량을 조절하기 위한 개폐밸브(미도시)가 더 설치될 수 있다.At this time, an opening / closing valve (not shown) for adjusting the flow rate of the liquid to be supplied may further be installed in the middle of the liquid supply part 30. [

상기와 같은 구성에 의하여 상기 챔버부(10)의 내부 공간은 기체 공급부(20)에서 공급된 기체가 채워져 미리 설정된 압력을 유지하는 상부의 제1공간(11), 후술하는 방식으로 상기 제1공간(11)에서 기체 입자와 액체 입자가 혼합되어 형성된 기액 혼합물이 자중에 의해 낙하하여 상기 제1공간(11)의 하부에 형성되는 기액 혼합물층인 제2공간(12)으로 이루어지게 된다.The inner space of the chamber part 10 is filled with the gas supplied from the gas supply part 20 to form a first space 11 in the upper part where the predetermined pressure is maintained, And a second space 12, which is a gas-liquid mixture layer in which the gas-liquid mixture formed by mixing gas particles and liquid particles in the first space 11 is dropped by its own weight and is formed in the lower part of the first space 11.

한편, 상기 액체 분쇄부(40)는 액체 공급부(30)로부터 공급되는 유체가 기체 입자와 혼합되기 이전에 미리 미세한 입자로 분쇄한 후 기체 분위기인 상기 제1공간(11)으로 공급하는 기능을 수행한다.The liquid pulverizing unit 40 performs a function of pulverizing the fluid supplied from the liquid supply unit 30 into fine particles in advance before mixing with the gas particles, and then supplying the pulverized liquid to the first space 11 in the gas atmosphere do.

상술한 바와 같이 상기 분쇄된 액체 입자가 기체 분위기로 공급될 경우 기체와 액체 입자 사이의 접촉 면적이 증가하게 되어 더 많은 양의 기체 입자가 기액 혼합물을 형성하게 됨으로써, 결과적으로 기액 혼합물에 포함되는 기체의 양을 증가시킬 수 있게 된다.As described above, when the pulverized liquid particles are supplied to the gas atmosphere, the contact area between the gas and the liquid particles increases, so that a larger amount of gas particles form a gas-liquid mixture. As a result, It is possible to increase the amount of the gas.

나아가, 본 발명에 따른 기액 혼합장치는 기체의 공급에 의하여 상기 제1공간(11)이 미리 정해진 압력(일예로서, 대기압 이상의 압력)을 유지하기 때문에 기체의 포화 용해도를 증가시킴으로써 종래 기술과 대비할 때 더 많은 양의 기체가 기액 혼합물에 포함될 수 있다는 장점이 있다.Furthermore, since the gas-liquid mixing apparatus according to the present invention maintains the predetermined pressure (for example, a pressure equal to or higher than the atmospheric pressure) in the first space 11 by supplying the gas, the saturation solubility of the gas is increased, The advantage is that a larger amount of gas can be incorporated into the gas-liquid mixture.

또한, 상기 제1공간(11)에서 형성되어 제2공간(12)에 저장되는 기액 혼합물의 미세 기포의 크기는 분쇄된 액체 입자의 크기와 비례하기 때문에 상기 액체 분쇄부(40)에서 분쇄되는 액체의 입자 크기를 작게 할수록 상기 기액 혼합물에 포함된 기포의 크기도 작아지게 된다.Since the size of the minute bubbles of the gas-liquid mixture formed in the first space 11 and stored in the second space 12 is proportional to the size of the pulverized liquid particles, the liquid to be pulverized in the liquid pulverizing section 40 The smaller the particle size of the gas-liquid mixture, the smaller the size of the bubbles contained in the gas-liquid mixture.

이를 위하여, 본 실시예에서는 상기 액체 분쇄부(40)가 액체 공급부(30)의 말단에 연결된 상부 충돌판(41), 상기 상부 충돌판(41)의 하부에 연결된 나선형 충돌판(42), 및 상기 나선형 충돌판(42)의 하부에 연결된 하부 충돌판(43)으로 포함하도록 구성하였다. For this, in this embodiment, the liquid crushing unit 40 includes an upper collision plate 41 connected to the end of the liquid supply unit 30, a helical collision plate 42 connected to the lower part of the upper collision plate 41, And a lower impact plate 43 connected to the lower portion of the helical impact plate 42.

또한, 상기 상부 충돌판(41)과 나선형 충돌판(42)의 중앙부에는 액체 공급부(30)에서 공급된 액체가 통과하기 위한 관통공(45)이 동축으로 형성되어 있는데, 상기 관통공(45)은 단면적(또는 직경)이 상기 액체 공급부(30)의 단면적 보다 작게 형성되어 통상의 노즐 또는 오리피스 등과 마찬가지로 통과하는 액체의 유속을 크게 증가시키는 기능을 수행하게 된다.A through hole 45 through which the liquid supplied from the liquid supply unit 30 passes is coaxially formed in the central portion of the upper collision plate 41 and the helical collision plate 42. The through hole 45, Sectional area (or diameter) is smaller than the cross-sectional area of the liquid supply part 30 to perform a function of greatly increasing the flow velocity of liquid passing therethrough like a normal nozzle or orifice.

상기와 같이 구성되는 액체 분쇄부(40)는 도2b에 도시한 바와 같이 액체 공급부(30)의 말단에 공급되는 액체가 상부 충돌판(41)의 관통공(45)을 통과하면서 매우 큰 속도에너지를 가지게 되고, 이와 같이 속도에너지가 증가한 액체의 일부는 나선형 충돌판(42)의 최상부면과 상부 충돌판(41)의 하부면을 순차적으로 충돌하면서 미세한 입자로 분쇄된다.2B, the liquid supplied to the end of the liquid supply portion 30 passes through the through hole 45 of the upper collision plate 41, and a very large velocity energy And a part of the liquid in which the velocity energy is increased in this manner is crushed into fine particles while sequentially colliding with the uppermost surface of the helical impingement plate 42 and the lower surface of the upper impingement plate 41.

또한, 상기 상부 충돌판(41)의 관통공(45)을 통과한 나머지 액체는 나선형 충돌판(42)의 관통공(45)을 통과하면서 순차적으로 나선형 충돌판(42)의 상하부면 내지 하부 충돌판(43)의 상부면과 충돌하면서 미세한 입자로 분쇄된다.The remaining liquid that has passed through the through hole 45 of the upper impact plate 41 passes through the through hole 45 of the helical impact plate 42 and sequentially passes through the upper and lower surfaces of the helical impact plate 42 And crushed into fine particles while colliding with the upper surface of the plate (43).

이때, 충돌에 의해 분쇄된 액체 입자가 다른 액체 입자와 재결합하는 것을 최대한 방지하기 위하여 상기 액체 분쇄부(40)는 상부 충돌판(41)에서 하부 충돌판(43)의 방향으로 충돌판의 직경이 점차적으로 감소하도록 구성하는 것이 바람직하며, 나아가 상기 상부 충돌판(41)은 하부측의 직경이 작은 원추형으로 구성되고 상기 하부 충돌판(43)은 상부측의 직경이 작은 원추형으로 이루어지는 것이 더욱 바람직하다.At this time, in order to prevent the liquid particles pulverized by the collision from being recombined with other liquid particles as much as possible, the liquid pulverizing section 40 is arranged in such a manner that the diameter of the impingement plate in the direction of the lower impingement plate 43 from the upper impingement plate 41 It is preferable that the upper impact plate 41 is formed in a conical shape having a lower diameter at the lower side and the lower impact plate 43 is formed in a conical shape having a smaller diameter at the upper side .

또한, 상기 상부 충돌판(41)의 관통공(45)을 통과한 액체가 얻은 속도에너지는 나선형 충돌판(42)을 경유하면서 점차적 감소하게 되고, 이로 인하여 충돌력이 감소되어 충돌에 의한 분쇄력도 감소하게 된다.The velocity energy obtained by the liquid passing through the through hole 45 of the upper impact plate 41 gradually decreases while passing through the helical impingement plate 42. As a result, the impact force is reduced, .

따라서, 본 실시예에서는 이러한 충돌력의 감소 현상을 보상하기 위하여 상부 충돌판(41)에서 하부 충돌판(43)의 방향으로 충돌판 사이의 간격과 상기 관통공(45)의 직경이 점차적으로 감소하도록 구성한 것을 특징으로 한다.Accordingly, in this embodiment, in order to compensate for the reduction in the collision force, the distance between the impingement plates in the direction of the lower impact plate 43 in the upper impact plate 41 and the diameter of the through hole 45 gradually decrease And FIG.

상기와 같은 구성에 의하여 본 발명에 따른 액체 분쇄부(40)는 유체가 통과하는 동안 거의 동일한 수준의 충돌력을 유지할 수 있기 때문에 충돌에 의해 분쇄되는 액체 입자의 크기가 매우 균일해지는 효과를 얻을 수 있게 된다. According to the above-described structure, since the liquid crushing unit 40 according to the present invention can maintain a substantially same level of impact force during the passage of the fluid, the effect that the size of the liquid particles to be crushed by the collision can be made very uniform .

또한, 상기 액체 분쇄부(40)는 충돌판(41,42,43)에 충돌된 액체 입자가 충돌판(41,42,43)의 외면에서 다른 액체 입자와 재결합하는 것을 방지하기 위하여 공지된 소수성 재질 중 어느 하나로 구성되거나 외면에 상기 소수성 재질의 코팅층이 형성되는 것이 더욱 바람직하다.In order to prevent the liquid particles impinging on the impingement plates 41, 42 and 43 from recombining with other liquid particles on the outer surface of the impingement plates 41, 42 and 43, Or a coating layer of the hydrophobic material is formed on the outer surface.

한편, 본 실시예에 따른 기액 혼합장치는 상기 챔버부(10)의 일측에는 내부 기액 혼합물의 수위(즉, 제1공간과 제2공간의 경계면 위치)를 감지하는 수위 센서부(50), 상기 챔버부(10)의 일측에 연결되어 상기 제2공간에 저장된 기액 혼합물을 외부로 배출하는 기액 배출부(60), 상기 기액 배출부(60)의 하부에서 상기 챔버부(10)의 일측에 연결되어 챔버부(10)의 제2공간에 보충수를 공급하는 보충수 공급부(70), 및 상기 수위 센서부의(50) 출력을 이용하여 상기 기액 배출부(60)와 보충수 급수부(70)의 동작을 제어하는 제어부(100)를 더 포함하여 구성된다.On the other hand, the gas-liquid mixing apparatus according to the present embodiment includes a water level sensor unit 50 for sensing the level of the internal gas-liquid mixture (that is, the interface between the first space and the second space) A gas-liquid discharge unit 60 connected to one side of the chamber unit 10 and discharging the gas-liquid mixture stored in the second space to the outside, a gas-liquid discharge unit 60 connected to one side of the chamber unit 10 at a lower portion of the gas- And a replenishing water supply unit 70 for supplying the replenishing water to the second space of the chamber unit 10. The replenishing water supply unit 70 uses the output of the water level sensor unit 50, And a control unit (100) for controlling the operation of the controller.

이때, 상기 수위 센서부(50)는 전기전도 방식, 정전용량 방식, 플로팅 스위치 방식 등과 같이 공지된 어느 하나의 방식으로 바람직하게 구현될 수 있는데, 본 실시예에서는 일예로서 통상의 레벨 게이지 방식(튜브형 레벨 게이지의 높이를 이용하여 수위를 감지하는 방식)의 수위 센서를 적용하였다.In this case, the level sensor unit 50 may be implemented by any known method such as an electric conduction method, a capacitance method, a floating switch method, and the like. In the present embodiment, a conventional level gauge method Level sensor using the height of the level gauge).

또한, 상기 기액 배출부(60)는 챔버부(10)의 내부와 연통되는 통상의 배관 등으로 구성될 수 있는데, 본 실시예에서는 일예로서 상기 기액 배출부(60)가 챔버부(10)의 중간 높이 근처의 측면에 설치되는 것으로 구성하였다. The gas-liquid discharging portion 60 may be formed of a conventional piping or the like communicating with the inside of the chamber portion 10. In this embodiment, And is installed on the side near the middle height.

이때, 상기 기액 배출부(60)의 중도에는 상기 공급되는 기액 혼합물의 유량을 조절하기 위한 개폐밸브(65)가 더 설치될 수 있으며, 상기 기액 배출부(60)에서 배출된 기액 혼합물은 용도에 따라 살균수, 세척수, 오폐수 정화용수 등으로 사용될 수 있다.At this time, an opening / closing valve 65 for adjusting the flow rate of the gas-liquid mixture to be supplied may be additionally provided in the middle of the gas-liquid discharge portion 60. The gas-liquid mixture discharged from the gas- It can be used as sterilized water, washing water, wastewater water, and the like.

또한, 상기 보충수 공급부(70)는 후술하는 바와 같이 기액 혼합물의 수위를 미리 설정된 높이 범위로 유지하기 위하여 외부의 보충수 공급원(미도시)으로부터 보충수를 상기 챔버부(10)의 내부(즉, 제2공간)에 공급하기 위한 것으로서 상기 챔버부(10)의 내부와 연통되는 통상의 배관 등으로 구성될 수 있는데, 본 실시예에서는 일예로서 상기 보충수 공급부(20)가 챔버부(10)의 바닥부 측면에 설치되는 것으로 구성하였다. In order to maintain the water level of the gas-liquid mixture at a preset height range, the replenishment water supply unit 70 supplies supplemental water from an external replenishing water supply source (not shown) to the inside of the chamber unit 10 The supplemental water supply part 20 may be provided in the chamber part 10 to supply the supplemental water to the chamber part 10 and to supply the supplemental water to the chamber part 10. In this embodiment, As shown in FIG.

이때, 상기 보충수 공급부(20)의 중도에는 상기 공급되는 보충수의 유량을 조절하기 위한 개폐밸브(75)가 더 설치될 수 있다.At this time, an opening / closing valve (75) for adjusting the flow rate of the replenishing water supplied may be further provided in the middle of the replenishing water supplying part (20).

한편, 본 발명에 따른 기액 혼합장치는 상기 제2공간(12)에서 기액 혼합물의 표층(13)에 인접한 위치에 설치되어 상기 기액 혼합물에 진동을 제공하는 초음파 진동기(80)를 더 포함하도록 구성되는데, 상기 초음파 진동기(80)는 기포의 함유량이 많은 기액 혼합물의 표층(13) 부위에 진동을 제공하여 기체와 액체 입자가 균입한 혼합상태를 유지하도록 한다.
The gas-liquid mixing apparatus according to the present invention is further configured to include an ultrasonic vibrator 80 provided at a position adjacent to the surface layer 13 of the gas-liquid mixture in the second space 12 to provide vibration to the gas-liquid mixture , The ultrasonic vibrator (80) provides vibration to the surface layer (13) portion of the gas-liquid mixture having a large amount of bubbles, so that the gas and the liquid particles are mixed and kept in a mixed state.

이하에서는 도3을 참조하여 상기와 같이 구성된 본 발명에 따른 기액 혼합장치의 동작을 설명하기로 한다.Hereinafter, the operation of the gas-liquid mixing apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

먼저, 입력부(110)를 통해 장치의 동작신호가 입력되면 제어부(100)는 미리 정해진 방식에 따라 상기 챔버부(10)의 내부에 기체와 액체를 공급하여 기액 혼합물이 형성될 수 있도록 상기 기체 공급부(20)와 액체 공급부(30)의 동작을 제어한다.First, when an operation signal of the apparatus is input through the input unit 110, the controller 100 supplies gas and liquid to the chamber 10 according to a predetermined method to form a vapor-liquid mixture, (20) and the liquid supply part (30).

또한, 이와 같이 형성된 기액 혼합물은 전술한 바와 같이 챔버부(10)의 제2공간(12)에 저장되는데 액체 입자보다 비중이 작은 기체 입자(즉, 기포)의 특성상 기액 혼합물의 표층(13) 부분에서 기포의 양(즉, 액체에 포함된 기체의 양)이 가장 많이 존재하게 된다.The gas-liquid mixture thus formed is stored in the second space 12 of the chamber portion 10 as described above. Due to the characteristics of gas particles (i.e., bubbles) having a specific gravity smaller than that of the liquid particles, The amount of bubbles (that is, the amount of gas contained in the liquid) is the largest.

따라서, 상기 기액 혼합물의 표층(13)을 용도에 따라 살균수, 세척수, 또는 오폐수 정화용으로 사용할 경우 용도에 따른 효과가 가장 크기 때문에, 상기 제어부(100)는 기액 혼합물의 표층(13) 수위가 상기 기액 배출부(60)의 근처로 유지될 수 있도록 상기 기액 배출부(60) 및 보충수 공급부(70)의 동작을 제어하게 된다.Therefore, when the surface layer 13 of the gas-liquid mixture is used for sterilization water, washing water, or wastewater purification depending on the application, the control unit 100 controls the water level of the surface layer 13 of the gas- Liquid discharge unit 60 and the replenishment water supply unit 70 so as to be maintained in the vicinity of the gas-liquid discharge unit 60.

본 발명에 따른 기액 혼합장치는 상술한 바와 같이 기액 혼합물의 표층(13) 수위를 상기 기액 배출부(60)의 근처로 유지함으로써 형성된 기액 혼합물이 즉시 외부로 배출되도록 하는 구성이기 때문에 기액 혼합물의 표층(13)에서 기포가 재기화하여 기액 혼합물에 포함된 기포의 양이 저감되는 것을 최대한 방지할 수 있다는 장점이 있다.Since the gas-liquid mixing apparatus according to the present invention has a structure in which the gas-liquid mixture formed by keeping the water level of the surface layer 13 of the gas-liquid mixture near the gas-liquid discharging portion 60 as described above is immediately discharged to the outside, It is possible to prevent the amount of bubbles contained in the vapor-liquid mixture from being reduced as much as possible.

상기와 같이 구성되는 기액 혼합장치는 필요에 따라 다양한 용도로 활용될 수 있는데, 일예로서 상기 기액 혼합장치를 세정수나 세척수로 사용하는 경우에 상기 기체 공급부에는 공기, 산소 또는 오존이 미리 설정된 압력으로 공급되고, 상기 액체 공급부에는 오염되지 않은 청수(증류수 또는 수돗물)가 공급되며, 상기 기액 배출부에서 배출되는 기액 혼합물을 직접 세정수나 살균수로 사용하도록 구성될 수 있다.For example, when the gas-liquid mixing apparatus is used as washing water or washing water, air, oxygen or ozone is supplied to the gas supply unit at a preset pressure (Distilled water or tap water) is supplied to the liquid supply portion, and the gas-liquid mixture discharged from the gas-liquid discharge portion is directly used as washing water or sterilizing water.

또한, 다른 예로서 상기 기액 혼합장치를 오폐수 처리용으로 사용하는 경우에 상기 기체 공급부에는 공기, 산소 또는 오존이 미리 설정된 압력으로 공급되고, 상기 액체 공급부에는 피처리수인 오폐수가 공급되며, 상기 기액 배출부에서 배출되는 기액 혼합물을 상기 피처리수가 저장된 탱크로 공급하도록 구성될 수도 있다.As another example, when the gas-liquid mixing apparatus is used for wastewater treatment, air, oxygen or ozone is supplied to the gas supply unit at a predetermined pressure, and wastewater, which is water to be treated, is supplied to the liquid supply unit, And to supply the vapor-liquid mixture discharged from the discharge portion to the tank storing the for-treatment water.

이 경우 상기 피처리수인 오폐수는 저장탱크, 액체 공급부, 및 기액 배출부를 통해 순환되도록 구성될 수 있으며, 기액 혼합장치의 손상을 방지하기 위하여 상기 액체 공급부의 중도에 기액 혼합장치에 공급되는 피처리수에 포함된 부유물 등을 제거하기 위한 필터장치가 더 포함되는 것이 바람직하다.
In this case, the wastewater, which is the water to be treated, may be circulated through the storage tank, the liquid supply unit, and the gas-liquid discharge unit. In order to prevent damage to the vapor-liquid mixing apparatus, It is preferable that a filter device for removing suspended matters contained in the water is further included.

10 : 챔버부 20 : 기체 공급부
30 : 액체 공급부 40 : 액체 분쇄부
50 : 수위 센서부 60 : 기액 배출부
70 : 보충수 공급부 80 : 초음파 진동기
100 : 제어부
10: chamber part 20: gas supply part
30: liquid supply part 40: liquid crushing part
50: water level sensor unit 60: gas-liquid discharge unit
70: replenishing water supply part 80: ultrasonic vibrator
100:

Claims (7)

내부에 기액 혼합물이 형성되는 챔버부;
상기 챔버부 내부에 기체를 공급하는 기체 공급부;
상기 챔버부 내부에 액체를 공급하는 액체 공급부; 및
상기 공급되는 액체를 미세한 입자로 분쇄하는 액체 분쇄부를 포함하되,
상기 챔버부의 내부는 공급된 기체가 채워지는 제1공간과, 상기 제1공간의 하부에서 상기 형성된 기액 혼합물이 저장되는 제2공간으로 이루어지고,
상기 액체 분쇄부는 기액 혼합물에 포함되는 기체의 양을 증가시키기 위하여, 상기 분쇄된 액체 입자를 상기 제1공간으로 공급함으로써 상기 기액 혼합물을 형성하는 기체와 액체 입자 사이의 접촉 면적을 증가시키는 것을 특징으로 하는 기액 혼합장치.
A chamber portion in which a gas-liquid mixture is formed;
A gas supply unit for supplying a gas into the chamber part;
A liquid supply part for supplying liquid into the chamber part; And
And a liquid crushing section for crushing the supplied liquid into fine particles,
Wherein the inside of the chamber portion comprises a first space filled with the supplied gas and a second space in which the formed gas-liquid mixture is stored in the lower portion of the first space,
Wherein the liquid pulverizing section increases the contact area between the gas and the liquid particles forming the gas-liquid mixture by supplying the pulverized liquid particles to the first space in order to increase the amount of gas contained in the gas-liquid mixture Liquid mixing device.
제1항에 있어서,
상기 액체 분쇄부는 액체 공급부의 말단에 연결된 상부 충돌판, 상기 상부 충돌판의 하부에 연결된 나선형 충돌판, 및 상기 나선형 충돌판의 하부에 연결된 하부 충돌판으로 구성되되,
상기 상부 충돌판과 나선형 충돌판에는 상기 액체 공급부의 단면적 보다 작게 형성되어 상기 공급되는 액체의 유속을 증가시키는 관통공이 동축으로 형성되어 있고,
상기 공급된 액체는 관통공을 통과하면서 증가된 속도로 상기 충돌판에 충돌함으로써 미세한 입자로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 기액 혼합장치.
The method according to claim 1,
Wherein the liquid crushing part comprises an upper collision plate connected to the end of the liquid supply part, a helical collision plate connected to the lower part of the upper collision plate, and a lower collision plate connected to the lower part of the helical collision plate,
Wherein the upper impingement plate and the helical impingement plate are formed with a through hole which is formed to be smaller than the cross sectional area of the liquid supply portion and increases the flow rate of the supplied liquid,
Wherein the supplied liquid is pulverized into fine particles by colliding with the impingement plate at an increased speed while passing through the through holes.
제2항에 있어서,
상기 액체 분쇄장치는 상부 충돌판에서 하부 충돌판의 방향으로 충돌판의 직경, 충돌판 사이의 간격, 및 상기 관통공의 직경이 감소하도록 구성된 것을 특징으로 하는 기액 혼합장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the liquid pulverizing device is configured to reduce the diameter of the impingement plate, the distance between the impingement plates, and the diameter of the through-hole in the direction of the lower impingement plate from the upper impingement plate.
제3항에 있어서,
상기 충돌판에 충돌된 액체 입자가 다른 액체 입자와 재결합하는 것을 방지하기 위하여 상기 상부 충돌판은 하부측의 직경이 작은 원추형으로 구성되고, 상기 하부 충돌판은 상부측의 직경이 작은 원추형으로 구성된 것을 특징으로 하는 기액 혼합장치.
The method of claim 3,
In order to prevent the liquid particles impinging on the impact plate from recombining with other liquid particles, the upper impact plate is formed in a conical shape having a smaller diameter at the lower side, and the lower impact plate is formed in a conical shape having a smaller diameter at the upper side Liquid mixing device.
제3항에 있어서,
상기 충돌판에 충돌된 액체 입자가 충돌판의 외면에서 다른 액체 입자와 재결합하는 것을 방지하기 위하여 상기 액체 분쇄장치는 소수성 재질로 구성되거나 외면에 소수성 재질의 코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 기액 혼합장치.
The method of claim 3,
Wherein the liquid pulverizing device comprises a hydrophobic material or a coating layer of a hydrophobic material on the outer surface thereof to prevent the liquid particles impinging on the impingement plate from recombining with other liquid particles on the outer surface of the impingement plate.
제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 챔버부 내부의 수위를 감지하는 수위 센서부;
상기 챔버부의 일측에 연결되어 챔버부의 제2공간에 저장된 기액 혼합물을 외부로 배출하는 기액 배출부;
상기 기액 배출부의 하부에서 상기 챔버부의 일측에 연결되어 챔버부의 제2공간에 보충수를 공급하는 보충수 공급부; 및
상기 수위 센서부의 출력을 이용하여 상기 기액 배출부와 보충수 공급부의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함하되,
상기 수위 센서부의 출력을 이용하여 상대적으로 기체의 양이 많이 포함된 상기 제1공간과 제2공간의 경계와 인접한 기액 혼합물의 표층이 상기 기액 배출부로 배출될 수 있도록 상기 기액 배출부와 보충수 공급부의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기액 혼합장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
A water level sensor for sensing a water level inside the chamber;
A gas-liquid discharge portion connected to one side of the chamber portion and discharging the gas-liquid mixture stored in the second space of the chamber portion to the outside;
A replenishing water supply part connected to one side of the chamber part at a lower part of the gas-liquid discharge part to supply the replenishing water to the second space of the chamber part; And
And a control unit for controlling operations of the gas-liquid discharge unit and the make-up water supply unit using the output of the water level sensor unit,
Liquid discharge unit and the replenishment water supply unit so that the surface layer of the gas-liquid mixture adjacent to the boundary between the first space and the second space containing a relatively large amount of gas can be discharged to the gas-liquid discharge unit by using the output of the water level sensor unit. Further comprising a control unit for controlling the operation of the gas-liquid mixing apparatus.
제6항에 있어서,
상기 제2공간에서 기액 혼합물의 표층에 인접한 위치에 설치되어 상기 기액 혼합물에 진동을 제공하는 초음파 진동기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기액 혼합장치.
The method according to claim 6,
Further comprising an ultrasonic vibrator provided at a position adjacent to the surface layer of the gas-liquid mixture in the second space to provide vibration to the gas-liquid mixture.
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CN108031384A (en) * 2018-01-25 2018-05-15 上海在田环境科技有限公司 A kind of micro-nano bubble generator

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