KR20160001584A - Flexible organic light emitting display panel and method of driving the same - Google Patents

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KR20160001584A
KR20160001584A KR1020140172567A KR20140172567A KR20160001584A KR 20160001584 A KR20160001584 A KR 20160001584A KR 1020140172567 A KR1020140172567 A KR 1020140172567A KR 20140172567 A KR20140172567 A KR 20140172567A KR 20160001584 A KR20160001584 A KR 20160001584A
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박재수
유준석
강창헌
이정민
고호영
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Abstract

The present invention is to provide a flexible organic light emitting display panel including a buffer formed with bottom shield metal (BSM), and a manufacturing method thereof. To achieve the purpose, the flexible organic light emitting display panel according to the present invention comprises: a lower substrate; a buffer formed on the lower substrate; a switching transistor which includes a first active insulated from first lower protection metal constituting the buffer and overlapped with the first lower protection metal, is formed on the buffer, and is driven according to a first scan signal supplied along a gate line formed on the lower substrate; a driving transistor which includes a second active insulated from second lower protection metal constituting the buffer and overlapped with the second lower protection metal, is formed on the buffer, and is driven according to a data voltage supplied by the transistor from a data line formed on the lower substrate; a flat film formed on the switching transistor and the driving transistor; and an organic light emitting diode which is formed on the flat film and is connected with a first electrode of the driving transistor.

Description

플렉서블 유기발광 표시패널 및 그 제조방법{FLEXIBLE ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY PANEL AND METHOD OF DRIVING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a flexible organic light emitting display panel and a method of manufacturing the same. [0002] FLEXIBLE ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY PANEL AND METHOD OF DRIVING THE SAME [

본 발명은 유기발광 표시패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 플라스틱 기판에 형성된 박막 트랜지스터를 포함하는 플렉서블 유기발광 표시패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a flexible organic light emitting display panel including a thin film transistor formed on a plastic substrate and a method of manufacturing the same.

최근, 정보화 사회로 시대가 발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판 표시장치(FPD : Flat Panel Display Device)의 중요성이 증대되고 있다. 평판 표시장치에는, 액정 표시장치(LCD : Liquid Crystal Display Device), 플라즈마 표시장치(PDP : Plasma Display Panel Device), 유기발광 표시장치(OLED : Organic Light Emitting Display Device) 등이 있으며, 최근에는 전기영동 표시장치(EPD : Electrophoretic Display Device)도 널리 이용되고 있다.Recently, with the development of the information society, the importance of flat panel display devices (FPDs) having excellent characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption is increasing. Examples of the flat panel display include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting display (OLED). Recently, Electrophoretic display devices (EPD) are also widely used.

이 중, 박막 트랜지스터를 포함하는 액정 표시장치 및 유기발광 표시장치는 해상도, 컬러 표시, 화질 등에서 우수하여 텔레비전, 노트북, 테블릿 컴퓨터, 또는 데스크 탑 컴퓨터의 표시장치로 널리 상용화되고 있다.Among them, liquid crystal display devices and organic light emitting display devices including thin film transistors are excellent in resolution, color display, image quality, and are widely commercialized as display devices for televisions, notebooks, tablet computers, or desktop computers.

특히, 유기발광 표시장치(OLED)는 자발광 소자를 이용하고 있으며, 소비전력이 낮고, 고속의 응답속도, 높은 발광표율, 높은 휘도 및 광시야각을 가지고 있기 때문에, 차세대 평판 표시장치로 주목 받고 있다.Particularly, the organic light emitting diode (OLED) uses a self-luminous element, has low power consumption, has a high response speed, a high luminous display rate, a high luminance and a wide viewing angle and is attracting attention as a next generation flat panel display .

현재, 평판 표시장치에서는 유리 기판, 석영 기판 등이 많이 사용되고 있다. 그러나, 상기한 바와 같은 기판은 균열되기 쉽고 또한 무겁다는 결점을 가지고 있다. 따라서, 유리 기판, 석영 기판 등은 플렉서블 평판표시장치의 제조에는 적합하지 않다. 따라서, 플렉서블 평판표시장치를 제조하기 위해, 가요성을 갖는 기판, 대표적으로는 유연한 플라스틱 필름 위에 박막 트랜지스터를 형성하는 방법이 시도되고 있다.Currently, glass substrates, quartz substrates, and the like are widely used in flat panel display devices. However, the above-described substrate has the disadvantage that it is liable to be cracked and heavy. Therefore, glass substrates, quartz substrates, and the like are not suitable for the manufacture of flexible flat panel display devices. Therefore, in order to manufacture a flexible flat panel display device, a method of forming a thin film transistor on a flexible substrate, typically a flexible plastic film, has been attempted.

도 1은 종래의 플렉서블 유기발광 표시패널의 픽셀 구조를 설명하기 위한 회로도이다.1 is a circuit diagram illustrating a pixel structure of a conventional flexible organic light emitting display panel.

종래의 유기발광 표시패널의 픽셀(P)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 유기발광다이오드(OLED), 스위칭 트랜지스터(Tsw), 구동 트랜지스터(Tdr) 및 커패시터(Cst)를 구비한다. 도 1에서, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 구동 트랜지스터(Tdr)는 N-타입 MOS-FET으로 구현되었으나, 이에 한정된 것은 아니며, 따라서, P-타입 MOS-FET로 구현되는 것도 가능하다. A pixel P of a conventional organic light emitting display panel includes an organic light emitting diode (OLED), a switching transistor Tsw, a driving transistor Tdr, and a capacitor Cst, as shown in FIG. 1, the switching transistor Tsw and the driving transistor Tdr are implemented as an N-type MOS-FET. However, the switching transistor Tsw and the driving transistor Tdr are not limited thereto and may be implemented as a P-type MOS-FET.

상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)는 스캔라인(SL)에 공급되는 스캔펄스(SP)에 따라 턴-온되어, 데이터라인(DL)으로부터 전송되는 데이터전압(Vdata)을 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 게이트와 스토리지 커패시터(Cst)에 인가한다. The switching transistor Tsw is turned on according to a scan pulse SP supplied to the scan line SL so that the data voltage Vdata transmitted from the data line DL is supplied to the gate of the drive transistor Tdr To the storage capacitor Cst.

상기 구동 트랜지스터(Tdr)는 스위칭 트랜지스터(Tsw)로부터 공급되는 데이터전압(Vdata)에 따라 스위칭되어, 제1전압(EVdd)에 의해 유기발광다이오드(OLED)로 흐르는 전류(Ioled)를 제어한다.The driving transistor Tdr is switched according to the data voltage Vdata supplied from the switching transistor Tsw to control the current Ioled flowing to the organic light emitting diode OLED by the first voltage EVdd.

상기 커패시터(Cst)는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 게이트와 제1전극(예를 들어, 소스) 사이에 접속되어, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 게이트에 공급되는 데이터전압(Vdata)에 대응되는 전압을 저장하고, 저장된 전압에 의해 구동 트랜지스터(Tdr)가 턴-온된다.The capacitor Cst is connected between a gate of the driving transistor Tdr and a first electrode (for example, a source) and supplies a voltage Vdata corresponding to a data voltage Vdata supplied to the gate of the driving transistor Tdr And the driving transistor Tdr is turned on by the stored voltage.

상기 유기발광다이오드(OLED)는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 제1전극(예를 들어, 소스)과 제2전압(EVss) 공급단자 사이에 전기적으로 접속되어, 제1전압(EVdd) 공급단자부터 공급되는 전류(Ioled)에 의해 발광한다.The organic light emitting diode OLED is electrically connected between a first electrode (e.g., a source) of the driving transistor Tdr and a second voltage (EVss) supply terminal, And emits light by the supplied current Ioled.

도 2는 종래의 플렉서블 유기발광 표시패널에 적용되는 하나의 픽셀의 단면도이다. 2 is a cross-sectional view of one pixel applied to a conventional flexible organic light emitting display panel.

종래의 플렉서블 유기발광 표시패널에서는, 도 2에 도시한 바와 같이, 보조기판(A)상에 플라스틱으로 이루어진 하부기판(10)이 부착되어 있다. 상기 하부기판(10)에는 구동 트랜지스터(Tdr)와 연결되어 있는 유기발광 다이오드(E)가 형성된다. 상기 보조기판(A)은 유리기판(80)과 희생층(85)으로 구성된다. 상기 보조기판(A)은 레이저 릴리즈 공정을 통하여 유기발광 다이오드(E)가 형성된 상기 하부기판(10)으로부터 분리된다. In a conventional flexible organic light emitting display panel, as shown in Fig. 2, a lower substrate 10 made of plastic is attached on an auxiliary substrate A An organic light emitting diode E connected to the driving transistor Tdr is formed on the lower substrate 10. The auxiliary substrate (A) is composed of a glass substrate (80) and a sacrifice layer (85). The auxiliary substrate A is separated from the lower substrate 10 on which the organic light emitting diode E is formed through a laser-releasing process.

그러나, 종래의 플렉서블 유기발광 표시패널에서는, 보조기판(A)과 하부기판(10)을 분리하는 과정에서 조사되는 레이저에 의해 하부기판(10) 상에 형성된 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 액티브(23)가 손상될 수 있다. However, in the conventional flexible organic light emitting display panel, the active layer 23 of the driving transistor Tdr formed on the lower substrate 10 by the laser irradiated in the process of separating the auxiliary substrate A and the lower substrate 10 May be damaged.

또한, 종래의 플렉서블 유기발광 표시패널에서는, 제1기판(10)과 희생층(85)에 의해 발생되는 백채널(back channel) 현상으로 인하여, 구동 트랜지스터(Tdr)의 문턱전압(Vth)이 변동될 수 있다. In addition, in the conventional flexible organic light emitting display panel, the threshold voltage Vth of the driving transistor Tdr is fluctuated due to a back channel phenomenon generated by the first substrate 10 and the sacrifice layer 85 .

부연하여 설명하면, 종래의 플렉서블 유기발광 표시패널에서는, 레이저에 의해 구동 트랜지스터(Tdr)를 포함한 각종 트랜지스터들의 액티브가 손상될 수 있다. 또한, 레이저 및 외부로부터 유입되는 빛에 의해 희생층에 네가티브 차지 트랩(negative charge trap)이 발생되고, 이에 따라, 상기 하부기판(10)을 형성하는 폴리이미드(PI)에서 +전하(charge)들이 상기 희생층(85) 쪽으로 이동하며, 이에 따라, 상기 폴리이미드(PI)(10) 표면의 포텐셜(potential)이 올라간다. 이에 따라, 상기 트랜지스터들의 문턱전압(Vth)이 파지티브(positive) 방향으로 쉬프트(shift)된다.In other words, in the conventional flexible organic light emitting display panel, the active of various transistors including the driving transistor Tdr may be damaged by the laser. In addition, a negative charge trap is generated in the sacrificial layer due to the laser and light incident from the outside, so that charges in the polyimide (PI) forming the lower substrate 10 And moves toward the sacrifice layer 85, thereby increasing the potential of the surface of the polyimide (PI) 10. Accordingly, the threshold voltage Vth of the transistors is shifted in a positive direction.

또한, 종래의 플렉서블 유기발광 표시장치는, 도면에 도시되어 있지는 않지만, 모듈 공정 및 제품 제작 후 관리과정에서 빛에 노출될 수 있다. 이때, 상기 구동 트랜지스터의 소자 특성이 변동될 수 있다.In addition, the conventional flexible organic light emitting display device is not shown in the drawings, but may be exposed to light in a module process and a post-production management process. At this time, the device characteristics of the driving transistor may be varied.

상기한 바와 같은 문턱전압의 변동(shift)은 박막 트랜지스터 및 유기발광 표시패널의 신뢰성을 저하시킨다. The shift of the threshold voltage as described above lowers the reliability of the thin film transistor and the organic light emitting display panel.

이러한, 박막 트랜지스터 및 유기발광 표시패널의 신뢰성 저하는, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)에서도 발생 될 수 있다. Such reliability degradation of the thin film transistor and the organic light emitting display panel can also be generated in the switching transistor Tsw.

본 발명은 하부보호금속(BSM: Bottom Shield Metal)이 형성되어있는 버퍼를 포함하는, 플렉서블 유기발광 표시패널 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention provides a flexible organic light emitting display panel including a buffer having a bottom shield metal (BSM) formed thereon and a method of manufacturing the same.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널은, 하부기판; 상기 하부기판 상에 형성되는 버퍼; 상기 버퍼를 구성하는 제1하부보호금속과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브를 포함하고, 상기 버퍼에 형성되며, 상기 하부기판 상에 형성되는 게이트 라인을 통해 공급되는 제1스캔신호에 따라 구동되는 스위칭 트랜지스터; 상기 버퍼를 구성하는 제2하부보호금속과 절연되며 상기 제2하부보호금속과 중첩되는 제2액티브를 포함하고, 상기 버퍼에 형성되며, 상기 하부기판 상에 형성되는 데이터 라인으로부터, 상기 스위칭 트랜지스터를 통해 공급되는 데이터 전압에 따라 구동되는 구동 트랜지스터; 상기 스위칭 트랜지스터와 상기 구동 트랜지스터 상에 형성되는 평탄막; 및 상기 평탄막 상에 형성되며, 상기 구동 트랜지스터의 제1구동전극과 연결되는 제1전극이 구비된 유기발광다이오드를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a flexible OLED display panel including: a lower substrate; A buffer formed on the lower substrate; And a second active protective film formed on the buffer, the first active protective film being insulated from a first lower protective metal constituting the buffer and overlapping with the first lower protective metal, A switching transistor driven according to a scan signal; And a second active layer which is insulated from a second lower protective metal constituting the buffer and overlaps with the second lower protective metal, and is formed in the buffer, and from the data line formed on the lower substrate, A driving transistor driven according to a data voltage supplied through the driving transistor; A flat film formed on the switching transistor and the driving transistor; And an organic light emitting diode formed on the flat film and having a first electrode connected to a first driving electrode of the driving transistor.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명에 따른 또 다른 플렉서블 유기발광 표시패널은, 하부기판; 상기 하부기판 상에 형성되는 버퍼; 상기 버퍼를 구성하는 하부보호금속과 절연되고 상기 하부보호금속과 중첩되는 액티브를 포함하며, 상기 버퍼에 형성되는 트랜지스터; 상기 트랜지스터 상에 형성되는 평탄막; 및 상기 평탄막 상에 형성되며, 상기 트랜지스터에 의해 구동되어 광을 출력하는 유기발광다이오드를 포함하고, 상기 트랜지스터는, 하나의 게이트 연결 라인으로부터 분리된 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 포함하고, 상기 액티브는, 상기 제1게이트 단자에 중첩되는 제1액티브 단자 및 상기 제2게이트 단자에 중첩되는 제2액티브 단자를 포함하고, 상기 제1액티브 단자와 상기 제2액티브 단자는 서로 연결되어 있으며, 상기 하부보호금속은 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나에만 중첩된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a flexible organic light emitting display panel including: a lower substrate; A buffer formed on the lower substrate; A transistor formed in the buffer, the buffer being insulated from a lower protective metal constituting the buffer and being superimposed on the lower protective metal; A flat film formed on the transistor; And an organic light emitting diode formed on the flat film and driven by the transistor to output light, the transistor including a first gate terminal and a second gate terminal separated from the one gate connection line, , The active includes a first active terminal overlapping the first gate terminal and a second active terminal overlapping the second gate terminal, the first active terminal and the second active terminal being connected to each other , The lower protective metal is superposed only on either the first active terminal or the second active terminal.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법은, 하부기판상에 제1하부보호금속과 제2하부보호금속을 포함하는 버퍼를 형성하는 단계; 상기 버퍼 상에, 상기 제1하부보호금속과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브를 포함하는 스위칭 트랜지스터 및 상기 제2하부보호금속과 절연되며 상기 제2하부보호금속과 중첩되는 제2액티브를 포함하는 구동 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 스위칭 트랜지스터와 구동 트랜지스터의 상단에 평탄막을 형성하는 단계; 상기 평탄막 상에, 상기 스위칭 트랜지스터를 통해 공급되는 데이터 전압에 따라 구동되는 상기 구동 트랜지스터의 제1구동전극과 전기적으로 연결되는 제1전극을 갖는 유기발광다이오드를 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a flexible OLED display panel, including: forming a buffer on a lower substrate including a first lower protective metal and a second lower protective metal; A switching transistor including a first lower protective metal and a first active on the buffer, the switching transistor being insulated from the first lower protective metal and overlapping the first lower protective metal, Forming a driving transistor including a second active; Forming a flat film on top of the switching transistor and the driving transistor; And forming an organic light emitting diode having a first electrode electrically connected to a first driving electrode of the driving transistor driven according to a data voltage supplied through the switching transistor on the flat film.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명에 따른 또 다른 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법은, 하부기판상에 하부보호금속을 포함하는 버퍼를 형성하는 단계; 상기 버퍼 상에, 상기 하부보호금속과 절연되며 상기 하부보호금속과 중첩되는 액티브를 포함하는 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 트랜지스터의 상단에 평탄막을 형성하는 단계; 및 상기 평탄막 상에, 상기 트랜지스터에 의해 구동되어 광을 출력하는 유기발광다이오드를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 트랜지스터를 형성하는 단계는, 상기 버퍼에, 상기 액티브를 구성하는 제1액티브 단자 및 제2액티브 단자를 적층하는 단계; 상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자를 게이트 절연막으로 덮는 단계; 및 상기 게이트 절연막에, 상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자와 중첩되는 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 갖는 게이트를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 하부보호금속은, 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나와만 중첩된다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a flexible organic light emitting display panel, including: forming a buffer including a lower protective metal on a lower substrate; Forming a transistor on the buffer, the transistor being insulated from the lower protection metal and being active with the lower protection metal; Forming a planar film on top of the transistor; And forming an organic light emitting diode on the flat film, the organic light emitting diode being driven by the transistor and outputting light, wherein the step of forming the transistor comprises the steps of: Stacking a second active terminal; Covering the first active terminal and the second active terminal with a gate insulating film; And forming a gate in the gate insulating film, the gate having a first gate terminal and a second gate terminal overlapping the first active terminal and the second active terminal, wherein the lower protective metal comprises: Terminal or the second active terminal.

상기 과제의 해결 수단에 의하면 본 발명은, 하부보호금속(BSM: Bottom Shield Metal)이 형성되어있는 버퍼를 포함하는 플렉서블 유기발광 표시패널을 제공함으로써, 보조기판과 하부기판을 분리하는 과정에서 조사되는 레이저에 의해 하부기판 상에 형성된 박막 트랜지스터의 액티브의 손상이 방지될 수 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided a flexible organic light emitting display panel including a buffer having a bottom shield metal (BSM) formed thereon, The active damage of the thin film transistor formed on the lower substrate by the laser can be prevented.

또한, 본 발명에 의하면, 하부기판과 희생층에 의해 발생되는 백채널(back channel)현상으로 인하여, 구동 트랜지스터의 문턱전압이 변동(shift)되는 것이 방지될 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to prevent the threshold voltage of the driving transistor from shifting due to a back channel phenomenon caused by the lower substrate and the sacrificial layer.

또한, 본 발명에서는 모듈 공정 및 제품 제작 후, 관리과정에서 유입되는, 빛에 의해 박막 트랜지스터의 소자 특성이 변동되는 것이 방지될 수 있다. In addition, in the present invention, it is possible to prevent the device characteristics of the thin film transistor from fluctuating due to light, which is introduced in the management process after the module process and the product manufacture.

또한, 본 발명은 문턱전압의 변동(shift)을 방지하여, 박막 트랜지스터 및 표시패널의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. Further, the present invention can prevent the shift of the threshold voltage and improve the reliability of the thin film transistor and the display panel.

도 1은 종래의 플렉서블 유기발광 표시패널의 픽셀 구조를 설명하기 위한 회로도.
도 2는 종래의 플렉서블 유기발광 표시패널에 적용되는 하나의 픽셀의 단면도.
도 3은 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널을 설명하기 위한 예시도.
도 4는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 픽셀 구조를 설명하기 위한 회로도.
도 5a는 본 발명의 제1실시예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동 트랜지스터를 나타낸 단면도.
도 5b는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 스위칭 트랜지스터를 나타낸 단면도.
도 6은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동 트랜지스터를 나타낸 단면도.
도 7은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동 트랜지스터를 나타낸 단면도.
도 8a 내지 도 8e는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법을 설명하기 위한 다양한 단면도들.
도 9a 내지 도 9c는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널에 적용되는 트랜지스터를 나타낸 구성도들.
1 is a circuit diagram for explaining a pixel structure of a conventional flexible organic light emitting display panel.
2 is a cross-sectional view of one pixel applied to a conventional flexible organic light emitting display panel.
FIG. 3 is an exemplary view for explaining a flexible organic light emitting display panel according to the present invention. FIG.
4 is a circuit diagram illustrating a pixel structure of a flexible organic light emitting display panel according to the present invention.
5A is a cross-sectional view illustrating a driving transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to the first embodiment of the present invention.
5B is a cross-sectional view illustrating a switching transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a driving transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to a second embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view illustrating a driving transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to a third embodiment of the present invention.
8A to 8E are various cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a flexible organic light emitting display panel according to the present invention.
FIGS. 9A to 9C are views showing a transistor applied to a flexible organic light emitting display panel according to the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광 표시패널 및 그 제조 방법에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, an organic light emitting display panel and a method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널을 설명하기 위한 예시도이다. 3 is an exemplary view for explaining a flexible organic light emitting display panel according to the present invention.

본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시장치는, 도 3에 도시된 바와 같이, 게이트 라인들(GL1 ~ GLg)과 데이터 라인들(DL1 ~ DLd)의 교차영역마다 픽셀(P)(110)이 형성되어 있는 패널(100), 상기 패널(100)에 형성되어 있는 상기 게이트라인들(GL1 ~ GLg)에 순차적으로 스캔펄스를 공급하기 위한 게이트 드라이버(200), 상기 패널(100)에 형성되어 있는 상기 데이터라인들(DL1 ~ DLd)로 데이터 전압을 공급하기 위한 데이터 드라이버(300) 및 상기 게이트 드라이버(200)와 상기 데이터 드라이버(300)의 기능을 제어하기 위한 타이밍 컨트롤러(400)를 포함한다. 3, the flexible organic light emitting display according to the present invention includes pixels 110 formed at intersections of gate lines GL1 to GLg and data lines DL1 to DLd A gate driver 200 for sequentially supplying scan pulses to the gate lines GL1 to GLg formed on the panel 100, A data driver 300 for supplying a data voltage to the lines DL1 to DLd and a timing controller 400 for controlling the functions of the gate driver 200 and the data driver 300. [

우선, 상기 패널(100)에는, 복수의 게이트 라인(GL)과 데이터 라인(DL)이 교차하는 영역마다 픽셀(P)(110)이 형성되어 있다. In the panel 100, a pixel P 110 is formed in an area where a plurality of gate lines GL and a plurality of data lines DL intersect each other.

각 픽셀(110)은, 광을 출력하는 유기발광다이오드 및 상기 유기발광다이오드를 구동하기 위한 픽셀 구동부를 포함한다.Each pixel 110 includes an organic light emitting diode for outputting light and a pixel driver for driving the organic light emitting diode.

첫째, 상기 유기발광다이오드는, 상기 유기발광다이오드에서 발생된 빛이 상부기판을 통해 외부로 방출되는 탑 에미션(Top Emission) 방식으로 구성될 수 있으나, 상기 유기발광다이오드에서 발생된 빛이 하부기판으로 방출되는 보텀 에미션(Bottom Emission) 방식으로 구성될 수도 있다. First, the organic light emitting diode may be configured as a top emission type in which light generated from the organic light emitting diode is emitted to the outside through an upper substrate. However, (Bottom Emission) mode.

둘째, 상기 픽셀 구동부는, 상기 데이터 라인(DL)과 상기 게이트 라인(GL)에 접속되어 상기 유기발광다이오드(OLED)의 구동을 제어하기 위한 적어도 두 개 이상의 트랜지스터들 및 스토리지 커패시터를 포함하여 구성될 수 있다. Secondly, the pixel driver includes at least two transistors and a storage capacitor connected to the data line DL and the gate line GL to control driving of the organic light emitting diode OLED .

상기 유기발광다이오드(OLED)의 애노드는 제1전원에 접속되고, 캐소드는 제2전원에 접속된다. 상기 유기발광다이오드(OLED)는, 구동 트랜지스터로부터 공급되는 전류에 대응되는 소정 휘도의 광을 출력한다.The anode of the organic light emitting diode (OLED) is connected to the first power source, and the cathode is connected to the second power source. The organic light emitting diode OLED outputs light having a predetermined luminance corresponding to the current supplied from the driving transistor.

상기 구동부는, 상기 게이트 라인(GL)에 스캔펄스가 공급될 때, 상기 데이터 라인(DL)으로 공급되는 데이터전압에 따라, 상기 유기발광다이오드(OLED)로 공급되는 전류량을 제어한다. The driving unit controls the amount of current supplied to the organic light emitting diode OLED according to a data voltage supplied to the data line DL when a scan pulse is supplied to the gate line GL.

이를 위해, 상기 구동 트랜지스터는, 상기 제1전원과 상기 유기발광다이오드 사이에 접속되며, 스위칭 트랜지스터는, 상기 구동 트랜지스터와 상기 데이터 라인(DL)과 상기 게이트 라인(GL) 사이에 접속된다.
To this end, the driving transistor is connected between the first power source and the organic light emitting diode, and the switching transistor is connected between the driving transistor and the data line DL and the gate line GL.

다음, 상기 타이밍 컨트롤러(400)는 외부 시스템(미도시)으로부터 공급되는 수직 동기신호, 수평 동기신호 및 클럭을 이용하여, 상기 게이트 드라이버(200)를 제어하기 위한 게이트 제어신호(GCS)와, 상기 데이터 드라이버(300)를 제어하기 위한 데이터 제어신호(DCS)를 출력한다. Next, the timing controller 400 generates a gate control signal GCS for controlling the gate driver 200 by using a vertical synchronizing signal, a horizontal synchronizing signal and a clock supplied from an external system (not shown) And outputs a data control signal DCS for controlling the data driver 300.

상기 타이밍 컨트롤러(400)는 상기 외부 시스템으로부터 입력되는 입력영상데이터를 샘플링한 후에 이를 재정렬하여, 재정렬된 디지털 영상데이터를 상기 데이터 드라이버(300)에 공급한다.The timing controller 400 samples the input image data input from the external system, rearranges the input image data, and supplies the rearranged digital image data to the data driver 300.

즉, 상기 타이밍 컨트롤러(400)는, 상기 외부 시스템으로부터 공급된 입력영상데이터를 재정렬하여, 재정렬된 디지털 영상데이터를 상기 데이터 드라이버(300)로 전송하고, 상기 외부 시스템으로부터 공급된 클럭과, 수평 동기신호와, 수직 동기신호(상기 클럭과 상기 신호들은 간단히 타이밍 신호라 함) 및 데이터 인에이블 신호를 이용해서, 상기 게이트 드라이버(200)를 제어하기 위한 게이트 제어신호(GCS)와 상기 데이터 드라이버(300)를 제어하기 위한 데이터 제어신호(DCS)를 생성하여, 상기 게이트 드라이버(200) 및 상기 데이터 드라이버(300)로 전송한다.That is, the timing controller 400 rearranges the input image data supplied from the external system to transmit the rearranged digital image data to the data driver 300, and supplies the clock supplied from the external system, A gate control signal GCS for controlling the gate driver 200 and a data enable signal for controlling the data driver 300 and the data driver 300, respectively, using a clock signal, a vertical synchronization signal (the clock and the signals are simply referred to as a timing signal) And transmits the data control signal DCS to the gate driver 200 and the data driver 300.

특히, 상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 상기 타이밍 컨트롤러(400)는, 상기 외부 시스템으로부터 상기 입력영상데이터와 상기한 바와 같은 각종 신호들을 수신하는 수신부, 상기 수신부로부터 수신된 신호들 중 상기 입력영상데이터들을 상기 패널에 맞게 재정렬하여, 재정렬된 상기 디지털 영상데이터들을 생성하기 위한 영상데이터 처리부, 상기 수신부로부터 수신된 신호들을 이용하여 상기 게이트 드라이버(200)와 상기 데이터 드라이버(300)를 제어하기 위한 상기 게이트 제어신호(GCS)와 상기 데이터 제어신호(DCS)들을 생성하기 위한 제어신호 생성부 및 상기 영상데이터 처리부에서 생성된 상기 영상데이터와 상기 제어신호들을 상기 데이터 구동부(300) 또는 상기 게이트 구동부(200)로 출력하기 위한 송신부를 포함하여 구성될 수 있다.
In particular, in order to achieve the above-mentioned object, the timing controller 400 includes a receiver for receiving the input image data and various signals as described above from the external system, An image data processor for rearranging the image data according to the panel to generate the rearranged digital image data, a controller for controlling the gate driver 200 and the data driver 300 using signals received from the receiver A control signal generation unit for generating the gate control signal GCS and the data control signals DCS and a control signal generation unit for generating the control signal based on the image data and the control signals generated by the data driving unit 300 or the gate driving unit And a transmitting unit for outputting the data to the mobile station 200.

다음, 상기 데이터 드라이버(300)는 상기 타이밍 컨트롤러(400)로부터 입력된 상기 영상데이터를 아날로그 데이터 전압으로 변환하여, 상기 게이트 라인에 상기 스캔펄스가 공급되는 1수평기간마다 1수평라인분의 데이터 전압을 상기 데이터 라인들에 공급한다. 즉, 상기 데이터 드라이버(300)는 감마전압 발생부(미도시)로부터 공급되는 감마전압들을 이용하여, 상기 영상데이터를 데이터 전압으로 변환시킨 후 상기 데이터라 인들로 출력시킨다.Next, the data driver 300 converts the image data inputted from the timing controller 400 into an analog data voltage, and supplies a data voltage of one horizontal line in each horizontal period in which the scan pulse is supplied to the gate line To the data lines. That is, the data driver 300 converts the image data into a data voltage using the gamma voltages supplied from the gamma voltage generator (not shown), and outputs the data voltage to the data lines.

즉, 상기 데이터 드라이버(300)는 상기 타이밍 컨트롤러(400)로부터의 소스 스타트 펄스(Source Start Pulse; SSP)를 소스 쉬프트 클럭(Source Shift Clock; SSC)에 따라 쉬프트시켜 샘플링 신호를 발생한다. 그리고, 상기 데이터 드라이버(300)는 상기 소스 쉬프트 클럭(SSC)에 따라 입력되는 상기 영상데이터를 샘플링 신호에 따라 래치하여, 데이터 전압으로 변경한 후, 상기 소스 출력 인에이블(Source Output Enable; SOE) 신호에 응답하여 수평 라인 단위로 상기 데이터 전압을 상기 데이터라인들에 공급한다.
That is, the data driver 300 generates a sampling signal by shifting a source start pulse (SSP) from the timing controller 400 according to a source shift clock (SSC). The data driver 300 latches the image data input according to the source shift clock SSC according to a sampling signal, changes the data to a data voltage, and then outputs the source output enable (SOE) And supplies the data voltage to the data lines in units of horizontal lines in response to a signal.

마지막으로, 상기 게이트 드라이버(200)는 상기 타이밍 컨트롤러(400)로부터 입력되는 상기 게이트 제어신호에 응답하여 상기 패널(100)의 상기 게이트 라인들(GL1~GLg)에 스캔펄스를 순차적으로 공급한다. 이에 따라, 상기 스캔펄스가 입력되는 해당 수평라인의 각각의 픽셀에 형성되어 있는 스위칭 트랜지스터들이 턴온되어, 각 픽셀(110)로 영상이 출력될 수 있다.The gate driver 200 sequentially supplies scan pulses to the gate lines GL1 to GLg of the panel 100 in response to the gate control signal input from the timing controller 400. [ Accordingly, the switching transistors formed in the respective pixels of the corresponding horizontal line to which the scan pulse is input are turned on, so that an image can be output to each pixel 110.

즉, 상기 게이트 드라이버(200)는 상기 타이밍 컨트롤러(400)로부터 전송되어온 게이트 스타트 펄스(Gate Start Pulse; GSP)를 게이트 쉬프트 클럭(Gate Shift Clock; GSC)에 따라 쉬프트시켜, 순차적으로 상기 게이트라인들(GL1 내지 GLg)에 게이트 온 전압을 갖는 스캔펄스를 공급한다. 그리고, 상기 게이트 드라이버(200)는 상기 스캔펄스가 공급되지 않는 나머지 기간 동안에는, 상기 게이트 라인(GL1 내지 GLn)에 게이트 오프 전압을 공급한다. That is, the gate driver 200 shifts a gate start pulse (GSP) transmitted from the timing controller 400 according to a gate shift clock (GSC) On voltage to scan lines GL1 to GLg. The gate driver 200 supplies a gate-off voltage to the gate lines GL1 to GLn during the remaining period during which the scan pulse is not supplied.

상기 게이트 드라이버(200)는, 상기 패널(100)과 독립되게 형성되어, 다양한 방식으로 상기 패널(100)과 전기적으로 연결될 수 있는 형태로 구성될 수 있으나, 상기 패널(100) 내에 실장되는 게이트 인 패널(Gate In Panel : GIP) 방식으로 구성될 수도 있다. 이 경우, 상기 게이트 드라이버(200)를 제어하기 위한 게이트 제어신호로는 스타트신호(VST) 및 게이트클럭(GCLK)이 될 수 있다.The gate driver 200 may be formed to be independent from the panel 100 and may be electrically connected to the panel 100 in various ways, Panel (Gate In Panel: GIP) method. In this case, the gate control signal for controlling the gate driver 200 may be a start signal VST and a gate clock GCLK.

또한, 상기 설명에서는, 상기 데이터 드라이버(300), 상기 게이트 드라이버(200) 및 상기 타이밍 컨트롤러(400)가 독립적으로 구성된 것으로 설명되었으나, 상기 데이터 드라이버(300) 또는 상기 게이트 드라이버(200)들 중 적어도 어느 하나는 상기 타이밍 컨트롤러(400)에 일체로 구성될 수도 있다. 또한, 이하에서는, 상기 게이트 드라이버(200), 상기 데이터 드라이버(300) 및 상기 타이밍 컨트롤러(400)를 총칭하여, 패널 구동부라 한다.
Although the data driver 300, the gate driver 200 and the timing controller 400 are independently configured in the above description, the data driver 300 or the gate driver 200 Either one of them may be integrally formed in the timing controller 400. Hereinafter, the gate driver 200, the data driver 300, and the timing controller 400 are collectively referred to as a panel driver.

도 4는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 픽셀 구조를 설명하기 위한 회로도이다.4 is a circuit diagram for explaining a pixel structure of a flexible organic light emitting display panel according to the present invention.

도 4를 참조하면, 상기 픽셀(P)은 유기발광다이오드(OLED), 구동 트랜지스터(Tdr), 스위칭 트랜지스터(Tsw), 센싱 트랜지스터(Tss), 에미션 트랜지스터(Tem), 커패시터(C1, C2)를 포함하여 구성된다. 상기 트랜지스터(Tdr, Tsw, Tss, Tem,) 각각은 N형 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)로서, a-Si TFT, poly-Si TFT, Oxide TFT, 또는 Organic TFT 등이 될 수 있으며, LTPS가 될 수도 있다. 4, the pixel P includes an organic light emitting diode (OLED), a driving transistor Tdr, a switching transistor Tsw, a sensing transistor Tss, an emission transistor Tem, capacitors C1 and C2, . Each of the transistors Tdr, Tsw, Tss and Tem is an N-type thin film transistor (TFT), and may be an a-Si TFT, a poly-Si TFT, an oxide TFT, .

상기 유기발광 다이오드(OLED)는 제1전압(Vdd)이 공급되는 제1구동전원 라인(PL1)과 제2전압(Vss)이 공급되는 제2구동전원라인(PL2) 사이에 접속된다. 상기 유기발광다이오드(OLED)는, 애노드와 케소드 및 그 사이에 형성되는 유기층을 포함한다. 상기 애노드는 상기 구동 트랜지스터의 상기 제1전극(예를 들어, 소스 전극)과 연결된다. 상기 유기층은 정공 수송층, 유기발광층, 전자 수송층, 정공 주입층, 전자 주입층 등을 포함할 수 있다. The organic light emitting diode OLED is connected between a first driving power supply line PL1 to which a first voltage Vdd is supplied and a second driving power supply line PL2 to which a second voltage Vss is supplied. The organic light emitting diode (OLED) includes an anode, a cathode, and an organic layer formed therebetween. The anode is connected to the first electrode (e.g., the source electrode) of the driving transistor. The organic layer may include a hole transport layer, an organic emission layer, an electron transport layer, a hole injection layer, and an electron injection layer.

상기 유기발광다이오드(OLED)는, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 구동에 따라 제1구동전원라인(PL1)으로부터 제2구동전원라인(PL2)으로 흐르는 전류의 양에 대응되는 밝기로 발광한다.The organic light emitting diode OLED emits light with brightness corresponding to the amount of current flowing from the first driving power supply line PL1 to the second driving power supply line PL2 in accordance with driving of the driving transistor Tdr.

상기 구동 트랜지스터(Tdr)는 제1구동전원라인(PL1)과 상기 유기발광다이오드(OLED)의 제1전극(예를들어, 에노드 전극) 사이에 접속되어 게이트-소스 간의 전압에 따라 상기 유기발광다이오드(OLED)로 흐르는 전류 량을 제어한다. The driving transistor Tdr is connected between a first driving power supply line PL1 and a first electrode (for example, a node electrode) of the organic light emitting diode OLED, And controls the amount of current flowing to the diode (OLED).

상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)는 상기 스캔 제어라인(SCL)으로 공급되는 스캔펄스에 의해 턴-온되어 데이터라인(DL)에 공급되는 데이터 전압(Vdata)을 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 게이트에 연결되어 있는 제2노드(n2)에 공급한다. The switching transistor Tsw is connected to the gate of the driving transistor Tdr by a data voltage Vdata which is turned on by a scan pulse supplied to the scan control line SCL and supplied to the data line DL To the second node n2.

상기 센싱 트랜지스터(Tss)는 센싱 제어라인(SSL)에 공급되는 제어신호에 의해 턴-온되어 초기전압(Vini)을 제3노드에 공급한다. The sensing transistor Tss is turned on by a control signal supplied to the sensing control line SSL to supply the initial voltage Vini to the third node.

상기 에미션 트랜지스터(Tem)는 에미션 신호라인에 공급되는 에이션 신호(EM)에 의해 턴-온되어 상기 제1구동전원라인(PL1)에 공급되는 제1구동전압(Vdd)을 제1노드(n1)에 공급한다. The emission transistor Tem is turned on by the emission signal EM supplied to the emission signal line and supplies a first driving voltage Vdd supplied to the first driving power supply line PL1 to the first node n1.

상기 제1커패시터(C1)는, 문턱전압 센싱기간 동안 상기 구동 트랜지스터의 문턱전압을 센싱하며, 영상출력기간 동안, 데이터 전압을 저장하는 기능을 수행한다. The first capacitor C1 senses a threshold voltage of the driving transistor during a threshold voltage sensing period and stores a data voltage during a video output period.

상기 제2커패시터(C2)는 상기 영상출력기간 동안 데이터 전압의 효율을 증가시키며, 에미션기간 동안 홀딩 특성을 향상시킨다. The second capacitor C2 increases the efficiency of the data voltage during the video output period and improves the holding characteristic during the emission period.

여기서, 하부보호금속(BSM)은 상기 픽셀(P)의 상기 구동 트랜지스터(Tdr) 및 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 하부에 형성되어, 레이저 및 외부로부터 유입되는 빛으로부터, 상기 구동 트랜지스터(Tdr), 스위칭 트랜지스터(Tsw), 센싱 트랜지스터(Tss)의 소자특성, 예를 들어, 문턱 전압이 변동되는 것을 방지한다. The lower protective metal BSM is formed below the driving transistor Tdr and the switching transistor Tsw of the pixel P and is formed by a laser and light externally supplied from the driving transistor Tdr, Thereby preventing the element characteristics of the switching transistor Tsw and the sensing transistor Tss, for example, the threshold voltage from fluctuating.

또한, 상기 하부보호금속은, 플렉서블 유기발광 표시패널의 제조 공정 중, 유리기판을 떼어내는 릴리즈 과정에서, 트랜지스터(TFT)가 물리적으로 데미지(damage)를 받는 것을 방지하는 기능을 수행할 수도 있다. In addition, the lower protective metal may function to prevent the transistor TFT from being physically damaged during the process of removing the glass substrate during the manufacturing process of the flexible organic light emitting display panel.

즉, 상기 하부보호금속은, 각 픽셀 별로 트랜지스터의 문턱 전압이 변동되는 현상을 방지함으로써, 픽셀 간 휘도 불균형을 방지할 수 있다. That is, the lower protective metal prevents the threshold voltage of the transistor from fluctuating for each pixel, thereby preventing a luminance unevenness between pixels.

상기 에미션 트랜지스터(Tem)에는, 하부보호금속이 구비 될 수도 있고, 구비되지 않을 수도 있다. 예를 들어, 상기 에미션 트랜지스터(Tem)는 상기 유기발광다이오드의 발광기간을 제어하기 위한 것이다. 이 경우, 레이저 및 빛 등에 의해 상기 에미션 트랜지스터의 특성이 변화되더라도, 실질적으로 상기 에미션 트랜지스터의 성능 변화가 크지 않은 경우, 상기 에미션 트랜지스터의 하부에는 하부보호금속이 구비되지 않을 수도 있다. The emission transistor (Tem) may or may not include a lower protective metal. For example, the emission transistor Tem is for controlling the light emitting period of the organic light emitting diode. In this case, even if the characteristic of the emission transistor is changed by a laser, light, or the like, if the performance change of the emission transistor is substantially not large, a lower protective metal may not be provided under the emission transistor.

부연하여 설명하면, 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널에 적용되는 모든 트랜지스터의 액티브 하부에는 하부보호금속이 형성될 수 있다. In other words, a lower protective metal may be formed in an active lower portion of all transistors applied to the flexible organic light emitting display panel according to the present invention.

예를 들어, 상기 구동 트랜지스터의 액티브 하부에는 하부보호금속이 필수적으로 형성되어 있으며, 나머지 트랜지스터들의 액티브 하부에는 하부보호금속이 형성되어 있을 수도 있으며, 또는 없을 수도 있다. 예를 들어, 상기 에미션 트랜지스터, 상기 스위칭 트랜지스터 또는 상기 센싱 트랜지스터 등의 트랜지스터들은 외부로부터 유입된 광 또는 백채널 현상 등에 의해, 문턱전압과 같은 소자특성이 변경되더라도, 그 결과가 상기 구동 트랜지스터에 비해 둔감하다. 따라서, 상기 트랜지스터들의 하부에는 하부보호금속이 형성되지 않을 수도 있으나, 상기 소자특성이 유기발광 표시패널의 특성에 영향을 미친다고 판단되는 경우에는, 상기 트랜지스터들의 하부에도 하부보호금속이 형성될 수 있다. For example, a lower protective metal is essentially formed in an active lower portion of the driving transistor, and a lower protective metal may be formed in an active lower portion of the remaining transistors. For example, even if device characteristics such as a threshold voltage are changed due to light or back channel phenomenon introduced from the outside, such as the emission transistor, the switching transistor, or the sensing transistor, Insensitive Therefore, if the device characteristics are determined to affect the characteristics of the organic light emitting display panel, a lower protective metal may be formed under the transistors even though the lower protective metal may not be formed under the transistors. .

상기 구동 트랜지스터(Tdr)에 대응되는 하부보호금속은 상기 구동 트랜지스터의 어느 하나의 전극 또는 기타 다른 전극에 연결되어, 캐패시턴스 증가 효과를 발생시킬 수 있다. The lower protective metal corresponding to the driving transistor Tdr may be connected to either one of the electrodes of the driving transistor or to other electrodes to generate a capacitance increasing effect.

상기 구동 트랜지스터(Tdr) 이외의 트랜지스터들, 예를 들어, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw) 또는 에미션 트랜지스터(Tem) 등과 같은 스위칭용 트랜지스터의 액티브에 대응되는 하부보호금속은, 상기한 바와 같이, 하부기판에 형성될 수도 있으며, 또는 형성되지 않을 수도 있다. The lower protective metal corresponding to the active state of the transistors other than the driving transistor Tdr such as the switching transistor Tsw or the emission transistor Tem is formed in the lower substrate Or may not be formed.

또한, 상기 하부보호금속은, 상기 픽셀에 형성되어 있는 트랜지스터들뿐만 아니라, 상기 플렉서블 유기발광 표시패널의 비표시영역에 형성되는 다양한 종류의 트랜지스터들의 액티브 하부에도 형성될 수 있다. The lower protective metal may be formed not only on the transistors formed on the pixel but also on the active lower side of various kinds of transistors formed in the non-display area of the flexible organic light emitting display panel.

예를 들어, 상기 게이트 드라이버(200)가 게이트 인 패널(GIP) 방식을 이용하여, 상기 비표시영역에 형성되는 경우, 상기 게이트 드라이버(200)를 구성하는 각종 트랜지스터들의 액티브 하부에, 상기 하부보호금속이 형성될 수 있다.For example, when the gate driver 200 is formed in the non-display region using a gate-in-panel (GIP) scheme, the gate driver 200 is formed in an active lower portion of various transistors constituting the gate driver 200, A metal may be formed.

또한, 상기 비표시영역 중 패드부에는, 오토 프로브(AP) 검사를 위한 각종 트랜지스터들이 형성될 수 있고, 또는 정전기 방지 회로(ESD 회로)가 형성될 수도 있으며, 먹스(Mux)가 형성될 수도 있다. 이 경우, 상기 구성요소들을 형성하는 트랜지스터들의 액티브 하부에도, 상기 하부보호금속이 형성될 수 있다. In the pad portion of the non-display region, various transistors for inspection of an auto-probe (AP) may be formed, an electrostatic discharge (ESD) circuit may be formed, and a mux may be formed . In this case, the lower protective metal may also be formed in the active lower portion of the transistors forming the components.

또한, 상기 스위칭용 트랜지스터에 대응되는 하부보호금속이 상기 하부기판에 형성된 경우, 상기 하부보호금속은 플로팅될 수도 있으며, 또는 상기 하부기판 상에 형성되는 어느 하나의 전극에 연결될 수도 있다. 후자의 경우, 상기 하부보호금속은, 상기 하부보호금속에 대응되는 스위칭용 트랜지스터를 구성하는 전극들 중 어느 하나에 연결될 수 있다.When the lower protective metal corresponding to the switching transistor is formed on the lower substrate, the lower protective metal may be floated or connected to one of the electrodes formed on the lower substrate. In the latter case, the lower protective metal may be connected to one of the electrodes constituting the switching transistor corresponding to the lower protective metal.

예를 들어, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)에 대응되는 하부보호금속은 플로팅될 수 있다. 그러나, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw) 역시, 상기 하부기판 상에 형성되는 금속들 중 어느 하나와 전기적으로 연결될 수 있으며, 특히, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 게이트와 연결될 수 있다. For example, the lower protection metal corresponding to the switching transistor Tsw may be floating. However, the switching transistor Tsw may also be electrically connected to any one of the metals formed on the lower substrate, in particular, to the gate of the switching transistor Tsw.

또한, 상기 비표시영역에 형성되는 각종 구성요소들을 형성하는 트랜지스터들의 액티브 하부에 상기 하부보호금속이 형성되는 경우, 상기 하부보호금속은 플로팅될 수도 있으며, 또는 상기 하부기판 상에 형성되는 어느 하나의 전극에 연결될 수도 있다. 후자의 경우, 상기 하부보호금속은, 상기 하부보호금속에 대응되는 스위칭용 트랜지스터를 구성하는 전극들 중 어느 하나에 연결될 수 있다.In addition, when the lower protective metal is formed in an active lower portion of the transistors forming the various elements formed in the non-display region, the lower protective metal may be floated, or any one Or may be connected to an electrode. In the latter case, the lower protective metal may be connected to one of the electrodes constituting the switching transistor corresponding to the lower protective metal.

또한, 각 트랜지스터별로 형성되는 하부보호금속들은 동일한 층에 형성될 수도 있으나, 서로 다른 층에 형성될 수도 있다. 또한, 상기 하부보호금속들은 동일한 물질로 형성될 수도 있으나, 서로 다른 물질로 형성될 수도 있다. 예를 들어, 상기 하부보호금속은 상기 트랜지스터들을 구성하는 게이트와 동일한 물질, 예를 들어, 몰리브덴(Mo)으로 형성될 수 있다. Further, the lower protective metals formed for each transistor may be formed in the same layer, but may be formed in different layers. In addition, the lower protective metals may be formed of the same material or different materials. For example, the lower protective metal may be formed of the same material as the gate constituting the transistors, for example, molybdenum (Mo).

상기 하부보호금속들 중, 어느 하나의 전극과 연결되어 있지 않고 플로팅 상태로 형성되어 있는 하부보호금속층은, 외부로부터 유입되는 광을 차단하는 목적으로 특히 사용되고 있기 때문에, 라이트 쉴트(L/S : Light Shield)라고도 한다. Since the lower protective metal layer, which is not connected to any one of the lower protective metals and is formed in a floating state, is used particularly for the purpose of shielding light from the outside, a light shield (L / S: Light Shield) is also called.

도 5a는 본 발명의 제1실시예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동 트랜지스터를 나타낸 단면도이고, 도 5b는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 스위칭 트랜지스터를 나타낸 단면도이다. FIG. 5A is a cross-sectional view showing a driving transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to a first embodiment of the present invention, FIG. 5B is a cross-sectional view of a switching transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to the present invention, Sectional view.

우선, 도 4, 도 5a 및 5b를 참조하면, 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널은, 플라스틱으로 형성된 하부기판(10), 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 버퍼(11)를 포함한다. 또한, 상기 플렉서블 유기발광 표시패널은, 상기 버퍼(11)를 구성하는 제1하부보호금속(11a)과 절연되며 상기 제1하부보호금속(11a)과 중첩되는 제1액티브(13)를 포함하고, 상기 버퍼(11)에 형성되며, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 게이트 라인(GL)을 통해 공급되는 스캔신호에 따라 구동되는 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 포함한다. 또한, 상기 플렉서블 유기발광 표시패널은, 상기 버퍼(11)를 구성하는 제2하부보호금속(11b)과 절연되며 상기 제2하부보호금속(11b)과 중첩되는 제2액티브(23)를 포함하고, 상기 버퍼(11)에 형성되며, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 데이터 라인(DL)으로부터, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 통해 공급되는 데이터 전압(Vdata)에 따라 구동되는 구동 트랜지스터(Tdr)를 포함한다. 또한, 상기 플렉서블 유기발광 표시패널은, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 상기 구동 트랜지스터(Tdr) 상에 형성되는 평탄막(42) 및 상기 평탄막(42) 상에 형성되며, 상기 구동 트랜지스터의 제1전극과 연결되는 유기발광 다이오드(E)를 포함한다. 4, 5A and 5B, a flexible organic light emitting display panel according to the present invention includes a lower substrate 10 formed of plastic, and a buffer 11 formed on the lower substrate 10 . The flexible organic light emitting display panel may include a first active layer 13 which is insulated from the first lower protective metal layer 11a of the buffer layer 11 and overlaps the first lower protective layer 11a And a switching transistor Tsw formed in the buffer 11 and driven according to a scan signal supplied through a gate line GL formed on the lower substrate 10. The flexible organic light emitting display panel further includes a second active layer 23 which is insulated from the second lower protective metal layer 11b constituting the buffer 11 and overlaps with the second lower protective metal layer 11b A driving transistor Tdr which is formed in the buffer 11 and is driven according to a data voltage Vdata supplied through the switching transistor Tsw from a data line DL formed on the lower substrate 10, ). The flexible organic light emitting display panel may further include a planarization layer 42 formed on the switching transistor Tsw and the driving transistor Tdr and a second conductive layer 42 formed on the planarization layer 42, And an organic light emitting diode (E) connected to the electrode.

상기 하부기판(10)은, 베이스기판(미도시) 및 희생층(미도시)으로 이루어진 보조기판(미도시)상에 플라스틱으로 형성된다.The lower substrate 10 is formed of plastic on an auxiliary substrate (not shown) made up of a base substrate (not shown) and a sacrificial layer (not shown).

상기 버퍼(11)는, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 멀티버퍼(11c), 상기 멀티버퍼(11c) 상에 형성되는 상기 제1 및 제2하부보호금속(11a, 11b), 상기 제1 및 제2하부보호금속(11a, 11b) 상에 형성되는 액티브버퍼(11d)을 포함한다. 그러나 이에 한정되어 있지 않으며, 상기 버퍼(11)는 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 상기 제1 및 제2하부보호금속(11a, 11b), 상기 제1 및 제2하부보호금속(11a, 11b) 상에 형성되는 멀티버퍼(11c), 상기 멀티버퍼(11c) 상에 형성되는 액티브버퍼(11d)을 포함할 수도 있다. The buffer 11 includes a multi-buffer 11c formed on the lower substrate 10, first and second lower protective metals 11a and 11b formed on the multi-buffer 11c, 1 and an active buffer 11d formed on the second lower protective metal 11a, 11b. The buffer 11 is formed on the lower substrate 10 such that the first and second lower protective metals 11a and 11b and the first and second lower protective metals 11a and 11b, A multi-buffer 11c formed on the multi-buffer 11b, and an active buffer 11d formed on the multi-buffer 11c.

여기서, 상기 멀티버퍼(11c)는 인캡슐레이션의 기능을 수행한다. 즉, 상기 하부기판(10)으로 플라스틱 기판이 사용되고 있기 때문에, 수분 등의 침투를 방지하기 위해 상기 멀티버퍼(11c)가 이용될 수 있다. 따라서, 상기 멀티버퍼(11c)는 레진과 같은 유기물질 또는 Al2O3나 SiO2와 같은 무기물질로 형성될 수 있다. Here, the multi-buffer 11c performs an encapsulation function. That is, since the plastic substrate is used for the lower substrate 10, the multi-buffer 11c can be used to prevent penetration of moisture or the like. Thus, the multi-buffer (11c) may be formed of an inorganic material such as organic materials or Al 2 O 3 and SiO 2 such as a resin.

또한, 상기 액티브버퍼(11d)는 상기 트랜지스터의 액티브를 보호하기 위한 것으로서, 상기 하부기판(10)으로부터 유입되는 결함을 차단하는 기능을 수행한다. 상기 액티브버퍼(11d)는 a-Si 등으로 형성될 수 있다. The active buffer 11d serves to protect the active of the transistor, and functions to block a defect introduced from the lower substrate 10. [ The active buffer 11d may be formed of a-Si or the like.

이 외에도, 상기 버퍼(11)는, 상기 제1 및 상기 제2하부보호금속(11a, 11b) 및 복수의 버퍼층들을 포함할 수 있으며, 상기 제1 및 상기 제2하부보호금속들과, 상기 복수의 버퍼층들은 다양한 구조로 형성될 수 있다. In addition, the buffer 11 may include the first and second lower protective metals 11a and 11b and a plurality of buffer layers, and the first and second lower protective metals and the plurality May be formed in various structures.

상기 유기발광 표시패널의 상기 버퍼(11) 상에는 제1 및 제2액티브(13,23), 게이트 절연막(16), 게이트(20), 층간절연막(17), 및 제1구동전극(33)과 제2구동전극(미도시)을 각각 포함하는 구동 트랜지스터(Tdr)와 스위칭 트랜지스터(Tsw)가 형성된다.A first and a second active 13 and 23, a gate insulating film 16, a gate 20, an interlayer insulating film 17, and a first driving electrode 33 are formed on the buffer 11 of the OLED display panel. A driving transistor Tdr and a switching transistor Tsw each including a second driving electrode (not shown) are formed.

상기 유기발광 표시패널의 구동 트랜지스터(Tdr) 및 스위칭 트랜지스터(Tsw) 상에는 보호막(40)과 평탄막(42)이 순차적으로 형성된다. A protective film 40 and a planarizing film 42 are sequentially formed on the driving transistor Tdr and the switching transistor Tsw of the OLED display panel.

상기 평탄막(42) 상에는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상기 제1구동전극(33)과 전기적으로 연결되는 유기발광다이오드(E)가 형성된다. An organic light emitting diode E electrically connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr is formed on the planarization layer 42.

상기 제1하부보호금속(11a)은 플로팅되어 있으며, 상기 제2하부보호금속(11b)은, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 금속들 중 어느 하나와 전기적으로 연결되어 있다. The first lower protective metal 11a is floating and the second lower protective metal 11b is electrically connected to any one of the metals formed on the lower substrate 10.

부연하여 설명하면, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)에 대응되는 상기 제1하부보호금속(11a)은 플로팅되어 있다. 그러나, 상기 제1하부보호금속(11a)도, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 금속들 중 어느 하나와 전기적으로 연결될 수 있으며, 특히, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 게이트와 연결될 수 있다. In other words, the first lower protective metal 11a corresponding to the switching transistor Tsw is floating. However, the first lower protective metal layer 11a may be electrically connected to any one of the metals formed on the lower substrate 10, in particular, to the gate of the switching transistor Tsw.

본 발명의 제1실시예에 따른 유기발광 표시패널에서, 상기 제2하부보호금속(11b)은 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상기 제1구동전극(33)을 통하여, 상기 유기발광다이오드의 상기 제1전극(47)과 전기적으로 연결되어 있다.In the organic light emitting display panel according to the first embodiment of the present invention, the second lower protective metal 11b is electrically connected to the organic light emitting diode via the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr, 1 electrode 47, as shown in FIG.

상기 하부기판(10)은 수분침투 및 외부로부터 상기 유기발광 다이오드(E)를 보호하기 위하여, 상부기판(미도시)으로 밀봉된다.The lower substrate 10 is sealed with an upper substrate (not shown) in order to penetrate the moisture and protect the organic light emitting diode E from the outside.

또한, 본 발명에 따른 유기발광 표시패널은, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 문턱전압(Vth)을 센싱하기 위한 센싱 트랜지스터(Tss) 및 상기 유기발광 다이오드(E)의 발광기간을 제어하기 위한 에미션 트랜지스터(Tem)를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 버퍼(11)에는 상기 센싱 트랜지스터(Tss)를 구성하는 제3액티브(미도시)와 절연되며 상기 제3액티브(미도시)와 중첩되는 제3하부보호금속(미도시)이 형성될 수 있다.The organic light emitting display panel according to the present invention may further include a sensing transistor Tss for sensing a threshold voltage Vth of the driving transistor Tdr and a sensing transistor Tss for sensing the emission period of the organic light emitting diode E. And may further include a transistor Tem. In this case, the buffer 11 is formed with a third lower protection metal (not shown) which is insulated from a third active (not shown) constituting the sensing transistor Tss and overlapped with the third active (not shown) .

상기 센싱 트랜지스터(Tss)와 에미션 트랜지스터(Tem)의 단면은 도 5b에 도시되어 있는 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 단면과 동일하다.
The cross section of the sensing transistor Tss and the emission transistor Tem is the same as that of the switching transistor Tsw shown in Fig. 5B.

도 6은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동 트랜지스터를 나타낸 단면도이다. 본 발명의 제 2 실시 예에 적용되는 상기 제2하부보호금속(11b)은 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 게이트(20)가 형성되어 있는 층에 형성된 연결전극(21)을 통해, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상기 제1구동전극(33) 및 상기 유기발광다이오드의 상기 제1전극(47)과 연결된다. 6 is a cross-sectional view illustrating a driving transistor of one pixel of an organic light emitting display panel according to a second embodiment of the present invention. The second lower protective metal 11b applied to the second embodiment of the present invention is connected to the driving transistor Tdr through the connection electrode 21 formed in the layer in which the gate 20 of the driving transistor Tdr is formed, Tdr and the first electrode 47 of the organic light emitting diode.

상기한 바와 같은 특징을 제외한, 본 발명의 제2실시예에 따른 유기발광 표시패널의 구동 트랜지스터의 단면은, 도 5a에 도시된 본 발명의 제1실시예에 따른 유기발광 표시패널의 구동 트랜지스터의 단면과 동일하다. 즉, 본 발명의 제2실시예에 따른 유기발광 표시패널은, 상기 제2하부보호금속(11b)과 금속라인의 연결구조를 제외하고는, 본 발명의 제1실시예에 따른 유기발광 표시패널과 동일하다. A cross section of the driving transistor of the organic light emitting display panel according to the second embodiment of the present invention is the same as that of the driving transistor of the OLED display panel according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. Section. In other words, the organic light emitting display panel according to the second embodiment of the present invention is different from the organic light emitting display panel according to the first embodiment of the present invention except for the connection structure of the second lower protective metal 11b and the metal line. .

따라서, 이하에서는 도 5a을 참조하여 설명된 내용과 동일하거나 유사한 내용은 생략되거나 또는 간단히 설명된다.Therefore, the same or similar contents as those described with reference to FIG. 5A will be omitted or briefly described below.

또한, 본 발명의 제 2 실시에 따른 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 스위칭 트랜지스터를 나타낸 단면도는 도 5b와 동일하다. 따라서 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 유기발광 표시패널에 적용되는 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)에 관한 설명은 생략되거나 또는 간단히 설명된다.5B is a cross-sectional view illustrating a switching transistor of one pixel of the OLED display panel according to the second embodiment of the present invention. Therefore, the description of the switching transistor Tsw applied to the organic light emitting display panel according to the second embodiment of the present invention is omitted or briefly described.

본 발명의 제2실시예에 적용되는 상기 버퍼(11)는, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 멀티버퍼(11c), 상기 멀티버퍼(11c) 상에 형성되는 상기 제2하부보호금속(11b), 상기 제2하부보호금속(11b) 상에 형성되는 액티브버퍼(11d)를 포함한다. 그러나 이에 한정되지 않으며, 상기 버퍼(11)는 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 상기 제2하부보호금속(11b), 제2하부보호금속(11b) 상에 형성되는 멀티버퍼(11c), 상기 멀티버퍼(11c) 상에 형성되는 액티브버퍼(11d)를 포함할 수도 있다. The buffer 11 applied to the second embodiment of the present invention may be configured to include a multi-buffer 11c formed on the lower substrate 10, a second lower protective metal (not shown) formed on the multi- And an active buffer 11d formed on the second lower protective metal 11b. The buffer 11 may include a multi-buffer 11c formed on the second lower protective metal 11b and the second lower protective metal 11b formed on the lower substrate 10, And an active buffer 11d formed on the multi-buffer 11c.

상기 유기발광 표시패널의 상기 버퍼(11) 상에는, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제2액티브(23), 게이트 절연막(16), 게이트(20), 층간절연막(17) 및 제1구동전극(33)과 제2구동전극을 포함하는 구동 트랜지스터(Tdr)가 형성되어 있다.6, the second active 23, the gate insulating film 16, the gate 20, the interlayer insulating film 17, and the first driving electrode 17 are formed on the buffer 11 of the OLED display panel. A driving transistor Tdr including a first driving electrode 33 and a second driving electrode is formed.

상기 제2하부보호금속(11b)은 상기 구동 트랜지스터(Tdr)를 구성하는 게이트(20)가 형성되어 있는 게이트층에 형성된 연결전극(21)을 통해 상기 유기발광다이오드의 상기 제1전극(47)과 연결되어 있다. The second lower protective metal 11b is electrically connected to the first electrode 47 of the organic light emitting diode through the connection electrode 21 formed in the gate layer in which the gate 20 constituting the driving transistor Tdr is formed. Lt; / RTI >

상기 유기발광 표시패널의 상기 구동 트랜지스터(Tdr) 상에는 보호막(40)을 포함하는 평탄막(42)이 형성되어 있다. A planarization layer 42 including a protection layer 40 is formed on the driving transistor Tdr of the OLED display panel.

상기 평탄막(42) 상에는 구동 트랜지스터(Tdr)의 제1구동전극(33)과 전기적으로 연결되는 유기발광다이오드(E)가 형성되어 있다. An organic light emitting diode E is electrically connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr on the planarization layer 42.

상기 유기발광다이오드(E)가 형성되어 있는 상기 하부기판(10)은 인캡슐레이션을 위한 상부기판과 합착되어 있다. The lower substrate 10 on which the organic light emitting diodes E are formed is bonded to an upper substrate for encapsulation.

상기 유기발광 표시패널의 구동 트랜지스터(Tdr) 상에는 보호막(40) 및 평탄막(42)이 순차적으로 형성되어있다. A protective film 40 and a planarizing film 42 are sequentially formed on the driving transistor Tdr of the OLED display panel.

상기 평탄막(42) 상에는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상기 제1구동전극(33)과 전기적으로 연결되는 유기발광다이오드(E)가 형성되어 있다. An organic light emitting diode E is electrically connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr on the planarization layer 42.

상기 하부기판(10)은 수분침투 및 외부로부터 상기 유기발광 다이오드(E)를 보호하기 위하여, 상부기판으로 밀봉되어 있다.The lower substrate 10 is sealed with an upper substrate in order to penetrate moisture and protect the organic light emitting diode E from the outside.

또한, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀(P)은, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 문턱전압(Vth)을 센싱하기 위한 센싱 트랜지스터(Tss) 및 상기 유기발광 다이오드(E)의 발광 기간을 제어하기 위한 에미션 트랜지스터(Tem)를 더 포함한다. 상기 버퍼(11)에는 상기 에미션 트랜지스터(Tem)를 구성하는 제3액티브(미도시)와 절연되며 상기 제3액티브(미도시)와 중첩되는 제3하부보호금속(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 상기 센싱 트랜지스터(Tss)와 상기 에미션 트랜지스터(Tem)의 단면은 도 5b에 도시되어 있는 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 단면과 동일하다.One pixel P of the organic light emitting display panel according to the second embodiment of the present invention includes a sensing transistor Tss for sensing a threshold voltage Vth of the driving transistor Tdr, (Em) for controlling the light emission period of the pixel (E). The buffer 11 is formed with a third lower protection metal (not shown) which is insulated from a third active (not shown) constituting the emission transistor (Tem) and overlapped with the third active (not shown) It is possible. The cross section of the sensing transistor Tss and the emission transistor Tem is the same as that of the switching transistor Tsw shown in Fig. 5B.

상기한 바와 같은 본 발명의 제2실시예는, 게이트가 형성되어 있는 층에 형성되어 있는 연결전극(21)을 통해 상기 제2하부보호금속(11b)이 상기 유기발광다이오드의 제1전극(47)과 연결되어 있기 때문에, 이하에서 설명되는 제3실시예와 동일한 프로세스를 사용하여 제조될 수 있다.
In the second embodiment of the present invention as described above, the second lower protective metal 11b is electrically connected to the first electrode 47 of the organic light emitting diode through the connection electrode 21 formed on the gate- ), It can be manufactured using the same process as the third embodiment described below.

도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동트랜지스터를 나타낸 단면도이다. 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 제2하부보호금속은 상기 구동 트랜지스터를 구성하는 게이트와 전기적으로 연결되어 있다. 상기한 바를 제외한, 본 발명의 제3실시예에 따른 유기발광 표시패널의 구동 트랜지스터의 단면은 도 5a와 동일하다. 따라서, 이하에서는 도 5a을 참조하여 설명된 내용과 동일하거나 유사한 내용은 생략되거나 또는 간단히 설명된다.7 is a cross-sectional view illustrating a driving transistor of one pixel of an organic light emitting display panel according to a third embodiment of the present invention. The second lower protective metal according to the third embodiment of the present invention is electrically connected to a gate constituting the driving transistor. Except for the above, the driving transistor of the OLED display panel according to the third embodiment of the present invention is the same as that of FIG. 5A. Therefore, the same or similar contents as those described with reference to FIG. 5A will be omitted or briefly described below.

또한, 본 발명의 제 3 실시에 따른 유기발광 표시패널의 스위칭 트랜지스터를 나타낸 단면도는 도 5b와 동일하다. 따라서 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 유기발광 표시패널에 적용되는 스위칭 트랜지스터에 관한 설명은 생략되거나 또는 간단히 설명된다.5 is a cross-sectional view illustrating a switching transistor of an OLED display panel according to a third embodiment of the present invention. Therefore, the description of the switching transistor applied to the OLED display panel according to the second embodiment of the present invention is omitted or briefly described.

도 7을 참조하면, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀(P)은, 플라스틱으로 형성된 하부기판(10), 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 버퍼(11), 상기 버퍼(11)를 구성하는 제1하부보호금속(11a)과 절연되며 상기 제1하부보호금속(11a)과 중첩되는 제1액티브(13)를 포함하고, 상기 버퍼(11)에 형성되며, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 게이트 라인(GL)을 통해 공급되는 스캔신호에 따라 구동되는 스위칭 트랜지스터(Tsw), 상기 버퍼(11)를 구성하는 제2하부보호금속(11b)과 절연되며 상기 제2하부보호금속(11b)과 중첩되는 제2액티브(23)를 포함하고, 상기 버퍼(11)에 형성되며, 상기 하부기판 상에 형성되는 데이터 라인(DL)으로부터, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 통해 공급되는 데이터 전압(Vdata)에 따라 구동되는 구동 트랜지스터(Tdr), 상기 구동 트랜지스터(Tdr) 상에 형성되는 평탄막(42) 및 상기 평탄막(42) 상에 형성되며, 상기 구동 트랜지스터의 제1구동전극(33)과 연결되는 유기발광 다이오드(E)를 포함한다.7, one pixel P of the OLED display panel according to the third embodiment of the present invention includes a lower substrate 10 formed of plastic, a buffer 11 formed on the lower substrate 10, And a first active 13 which is insulated from the first lower protective metal 11a constituting the buffer 11 and overlaps with the first lower protective metal 11a, A switching transistor Tsw driven according to a scan signal supplied through a gate line GL formed on the lower substrate 10, a second lower protection metal 11b constituting the buffer 11, And a second active (23) which is insulated and overlapped with the second lower protective metal (11b), and is formed in the buffer (11), from a data line (DL) formed on the lower substrate, A driving transistor Tdr driven according to the data voltage Vdata supplied through the driving transistor Tsw, The flat film to be formed on the transistor (Tdr), (42) and formed on the flat film 42, an organic light emitting diode (E) is connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor.

상기 버퍼(11)는, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 멀티버퍼(11c), 상기 멀티버퍼(11c) 상에 형성되는 상기 제2하부보호금속(11b), 상기 제2하부보호금속(11b) 상에 형성되는 액티브버퍼(11d)를 포함한다. 그러나 이에 한정되지 않으며, 상기 버퍼(11)는, 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 상기 제2하부보호금속(11b), 제2하부보호금속(11b) 상에 형성되는 멀티버퍼(11c), 상기 멀티버퍼(11c) 상에 형성되는 액티브버퍼(11d)를 포함할 수도 있다. The buffer 11 includes a multi-buffer 11c formed on the lower substrate 10, a second lower protective metal 11b formed on the multi-buffer 11c, And an active buffer 11d formed on the first and second electrodes 11a and 11b. However, the buffer 11 is not limited to the multi-buffer 11c formed on the second lower protective metal 11b and the second lower protective metal 11b formed on the lower substrate 10, And an active buffer 11d formed on the multi-buffer 11c.

상기 유기발광 표시패널의 상기 버퍼(11) 상에는 제2액티브(23), 게이트 절연막(16), 게이트(20), 층간절연막(17) 및 제1구동전극(33)과 제2구동전극을 포함하는 구동 트랜지스터(Tdr) 가 형성되어 있다.A gate 20, an interlayer insulating film 17, a first driving electrode 33, and a second driving electrode are formed on the buffer 11 of the OLED display panel The driving transistor Tdr is formed.

상기 제2하부보호금속(11b)은 상기 구동 트랜지스터(Tdr)를 구성하는 게이트(20)에 전기적으로 연결되어 있다.The second lower protective metal 11b is electrically connected to the gate 20 constituting the driving transistor Tdr.

따라서, 상기 제2하부보호금속(11b)의 전위가 일정하게 유지될 수 있으며, 이에 따라, 상기 제2하부보호금속(11b) 주변의 소자들의 특성 변화가 감소될 수 있다. Therefore, the potential of the second lower protective metal 11b can be kept constant, and thus the change in characteristics of the elements around the second lower protective metal 11b can be reduced.

따라서, 유기발광 표시패널의 구동 시, 상기 제2하부보호금속(11b)은, 게이트(20)와 동일한 전압으로 유지된다. 이에 따라, 상기 제2하부보호금속(11b)은 외부의 전압에 대한 영향을 받지 않으며, 하부기판(10)과 희생층(미도시)에 의해 발생되는 백채널(back channel) 현상으로 인한, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 문턱전압(Vth)의 변동(shift)이 방지될 수 있다. Therefore, when driving the organic light emitting display panel, the second lower protective metal 11b is kept at the same voltage as the gate 20. [ As a result, the second lower protective metal 11b is not affected by the external voltage and is not affected by the back channel phenomenon caused by the lower substrate 10 and the sacrificial layer (not shown) The shift of the threshold voltage Vth of the driving transistor Tdr can be prevented.

또한, 상기 제2하부보호금속(11b)은 상기 제2액티브층(23) 하부에 위치하기 때문에, 보조 기판(미도시)과 하부기판(10)을 분리하는 과정에서 조사되는 레이저에 의해 상기 하부기판(10) 상에 형성된 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 제2액티브(23)가 손상되는 것이 방지될 수 있다.Since the second lower protective metal layer 11b is located under the second active layer 23, the lower lower protective metal layer 11b can be separated from the lower substrate 10 by the laser beam irradiated in the process of separating the auxiliary substrate (not shown) The second active 23 of the driving transistor Tdr formed on the substrate 10 can be prevented from being damaged.

또한, 본 발명의 제3실시예에 따른 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀(P)은, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 문턱전압(Vth)을 센싱하기 위한 센싱 트랜지스터(Tss) 및 상기 유기발광 다이오드(E)의 발광 기간을 제어하기 위한 에미션 트랜지스터(Tem)를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 버퍼(11)에는 상기 에미션 트랜지스터(Tsw)를 구성하는 제3액티브(미도시)와 절연되며 상기 제3액티브(미도시)와 중첩되는 제3하부보호금속(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 상기 센싱 트랜지스터(Tss)와 에미션 트랜지스터(Tem)의 단면은, 도 5에 도시된 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 단면과 동일하다.One pixel P of the organic light emitting display panel according to the third embodiment of the present invention includes a sensing transistor Tss for sensing a threshold voltage Vth of the driving transistor Tdr, (Em) for controlling the light emitting period of the pixel (E). At this time, the buffer 11 is formed with a third lower protection metal (not shown) which is insulated from a third active (not shown) constituting the emission transistor Tsw and overlaps with the third active (not shown) . The cross section of the sensing transistor Tss and the emission transistor Tem is the same as that of the switching transistor Tsw shown in Fig.

또한, 상기에서 설명된 바와 같이, 상기 스위칭 트랜지스터에 대응되는 하부보호금속 또는 상기 에미션 트랜지스터에 대응되는 하부보호금속은 플로팅될 수 있으나, 상기 스위칭 트랜지스터의 게이트 또는 상기 에미션 트랜지스터의 게이트에 각각 연결될 수도 있다. Also, as described above, the lower protection metal corresponding to the switching transistor or the lower protection metal corresponding to the emission transistor may be floating, but may be connected to the gate of the switching transistor or the gate of the emission transistor, respectively It is possible.

상기한 바와 같은 본 발명의 제3실시예에 의하면, 스토리지 캐패시턴스의 확보가 용이하다.
According to the third embodiment of the present invention as described above, it is easy to secure the storage capacitance.

이하에서는, 도 4 내지 도 8e를 참조하여, 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법이 설명된다.Hereinafter, a method of manufacturing a flexible organic light emitting display panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 8E.

도 8a 내지 도 8e는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법을 설명하기 위한 다양한 단면도들로서, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 단면을 나타내고 있다. 특히, 도 8a 내지 도 8e는 본 발명의 제1실시예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널을 제조하는 방법을 나타내고 있다. 그러나, 이하에서 설명되는 방법들은, 본 발명의 제2실시예 및 본 발명의 제3실시예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 제조에 응용될 수 있다.8A to 8E are cross-sectional views illustrating a method of fabricating a flexible organic light emitting display panel according to the present invention, and show cross sections of the driving transistor Tdr. Particularly, FIGS. 8A to 8E show a method of manufacturing the flexible organic light emitting display panel according to the first embodiment of the present invention. However, the methods described below can be applied to the fabrication of the flexible organic light emitting display panel according to the second embodiment of the present invention and the third embodiment of the present invention.

도 8a 내지 도8e를 참조하면, 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널은, 보조기판(A) 상에 플렉서블한 하부기판(10)을 형성하는 단계, 상기 하부기판(10) 상에 제1하부보호금속(미도시)과 제2하부보호금속(11b)을 포함하는 버퍼(11)를 형성하는 단계, 상기 버퍼(11) 상에, 상기 제1하부보호금속(미도시)과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브(미도시)를 포함하는 스위칭 트랜지스터(Tsw) 및 상기 제2하부보호금속(11b)과 절연되며 상기 제2하부보호금속(11b)과 중첩되는 제2액티브(23)를 포함하는 구동 트랜지스터(Tdr)를 형성하는 단계, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상단에 평탄막(42)을 형성하는 단계, 상기 평탄막(42) 상에, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 통해 공급되는 데이터 전압에 따라 구동되는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 제1구동전극(33)과 전기적으로 연결되는 유기발광다이오드(E)를 형성하는 단계 및 레이저 릴리즈 공정을 수행하여 상기 하부기판(10)에서 상기 보조기판(A)을 분리하는 단계를 포함하여 제조된다.8A to 8E, a flexible organic light emitting display panel according to the present invention includes a step of forming a flexible lower substrate 10 on an auxiliary substrate A, Forming a buffer 11 including a protective metal (not shown) and a second lower protective metal 11b on the buffer 11; A switching transistor Tsw including a first active (not shown) which overlaps with the first lower protective metal 11b and a second active metal (not shown) which is insulated from the second lower protective metal 11b and overlaps with the second lower protective metal 11b. Forming a driving transistor Tdr including the driving transistor Tdr on the top surface of the driving transistor Tdr, forming a flat film 42 on the top of the driving transistor Tdr, The first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr driven according to the data voltage supplied through the first electrode Is prepared by performing the steps and the laser release process of forming the organic light emitting diode (E) is connected to the term includes the step of separating the auxiliary substrate (A) in the lower substrate 10.

먼저, 도 8a에 도시된 바와 같이, 보조기판(A) 상에 플렉서블한 하부기판(10)을 형성하는 단계에서는, 상기 유리기판(80) 상에 희생층(85)이 형성된 후, 상기 희생층(85) 상에 플랙서블한 하부기판(10)이 형성된다. 상기 하부기판(10)은 폴리에테르술폰(Polyethersulphone; PES), 폴리아크릴레이트(Polyacrylate; PAR), 폴리에테르 이미드(Polyetherimide; PEI), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethyelenen Napthalate; PEN), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(Polyethyelene Terepthalate; PET), 폴리페닐렌 설파이드(Polyphenylene Sulfide; PPS), 폴리아릴 레이트(Polyallylate), 폴리이미드(Polyimide), 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC) 및 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(Cellulose Acetate Propionate: CAP) 중 어느 하나로 형성될 수 있다. 8A, in the step of forming the flexible lower substrate 10 on the auxiliary substrate A, after the sacrifice layer 85 is formed on the glass substrate 80, The lower substrate 10 which is flexible on the substrate 85 is formed. The lower substrate 10 may be formed of a material such as polyethersulphone (PES), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), Polyphenylene Sulfide (PPS), Polyallylate, Polyimide, Polycarbonate (PC), Cellulose Triacetate (TAC) and Cellulose Acetate Propionate: CAP).

상기 하부기판은(10)은 예를 들어, 스핀 코팅(spin coating) 방식으로 형성될 수 있다. 더욱 자세하게, 상기 제시된 물질 중 어느 하나를 포함하는 액상 물질을 희생층(85) 상에 위치시킨 후 상기 유리기판(80)을 고속으로 회전시켜 두께 균일도가 우수한 박막의 플렉서블 기판이 형성될 수 있다.The lower substrate 10 may be formed, for example, by a spin coating method. In more detail, after the liquid material containing any one of the above-mentioned materials is placed on the sacrifice layer 85, the glass substrate 80 may be rotated at a high speed to form a thin flexible substrate having excellent thickness uniformity.

또한, 하부기판(10)은 롤 코팅(roll coating) 방식 및 슬릿 코팅(slit coating) 방식으로도 형성될 수 있는데, 상기 두 가지 방식은 스핀 코팅 방식에 비해 두께 균일도가 떨어지는 단점이 있으나, 생산 효율성이 비교적 높은 편이다.In addition, the lower substrate 10 may be formed by a roll coating method or a slit coating method. However, the two methods have a disadvantage in that the thickness uniformity is lower than the spin coating method, Is relatively high.

다음, 도 8b에 도시된 바와 같이, 상기 하부기판(10) 상에는, 제1하부보호금속(미도시)과 제2하부보호금속(11b)을 포함하는 버퍼(11)가 형성된다. 상기 버퍼층(11)은 상기 제1기판 상에 형성되는 멀티 버퍼층(11c), 상기 멀티 버퍼층(11c) 상에 형성되는 상기 제1하부보호금속(미도시)과 제2하부보호금속(11b), 상기 제1하부보호금속과 상기 제2하부보호금속(11b) 상에 형성되는 액티브버퍼층(11d)을 포함한다. 그러나 이에 한정된 것은 아니며, 상기 버퍼(11)는 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 상기 제1하부보호금속(미도시)과 상기 제2하부보호금속(11b), 상기 제1하부보호금속과 상기 제2하부보호금속(11b) 상에 형성되는 멀티 버퍼(11c), 상기 멀티 버퍼(11c) 상에 형성되는 액티브버퍼(11d)를 포함할 수도 있다. 이 외에도, 상기 버퍼(11)는 상기 제1하부보호금속(미도시)과 상기 제2하부보호금속(11b) 및 복수의 버퍼층들을 이용하여 다양한 구조로 형성될 수 있다.
Next, as shown in FIG. 8B, a buffer 11 including a first lower protective metal (not shown) and a second lower protective metal 11b is formed on the lower substrate 10. The buffer layer 11 includes a multi-buffer layer 11c formed on the first substrate, a first lower protection metal (not shown) and a second lower protection metal 11b formed on the multi-buffer layer 11c, And an active buffer layer 11d formed on the first lower protective metal and the second lower protective metal 11b. However, the present invention is not limited thereto, and the buffer 11 may be formed on the lower substrate 10 by using the first lower protective metal (not shown), the second lower protective metal 11b, A multi-buffer 11c formed on the second lower protective metal 11b, and an active buffer 11d formed on the multi-buffer 11c. In addition, the buffer 11 may have a variety of structures using the first lower protective metal (not shown), the second lower protective metal 11b, and a plurality of buffer layers.

다음, 도 8c에 도시된 바와 같이, 상기 제1하부보호금속과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브를 포함하는 스위칭 트랜지스터 및 상기 제2하부보호금속(11b)과 절연되며 상기 제2하부보호금속(11b)과 중첩되는 제2액티브(23)를 포함하는 구동 트랜지스터(Tdr)가 형성된다. Next, as shown in FIG. 8C, a switching transistor including a switching transistor including a first active, which is insulated from the first lower protective metal and overlaps with the first lower protective metal, and a switching transistor which is insulated from the second lower protective metal, A driving transistor Tdr including a second active 23 which overlaps with the second lower protective metal 11b is formed.

상기 구동 트랜지스터(Tdr)를 형성하는 단계는, 상기 버퍼(11) 상에 상기 제2액티브(23)를 형성하는 단계, 상기 제2액티브(23) 상에 게이트 절연막(16)을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막(16) 상에 게이트(20)를 형성하는 단계, 상기 게이트(20) 상에 층간절연막(17)을 형성하는 단계, 상기 층간절연막(17) 상에 상기 제2액티브층(23)와 연결되어 있는 제1구동전극(33)이 노출되도록 하는 제1컨택홀(61) 및 상기 제2하부보호금속(11b)이 노출되도록 하는 제 2 컨택홀(62)을 형성하는 단계 및 상기 층간절연막(17)상에 상기 제1구동전극(33)과 상기 제2구동전극을 형성하는 단계를 포함한다. The step of forming the driving transistor Tdr may include forming the second active 23 on the buffer 11, forming a gate insulating film 16 on the second active 23, Forming a gate 20 on the gate insulating film 16, forming an interlayer insulating film 17 on the gate 20, forming the second active layer 23 on the interlayer insulating film 17, A first contact hole 61 for exposing the first driving electrode 33 connected to the first lower protective metal 11b and a second contact hole 62 for exposing the second lower protective metal 11b, And forming the first driving electrode (33) and the second driving electrode on the insulating film (17).

또한, 상기 제2하부보호금속층(11b)은, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)를 형성하는 금속들 또는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)와 연결되는 금속들 또는 유기발광다이오드(OLED)를 형성하는 금속들 또는 상기 유기발광다이오드(OLED)의 발광에 필요한 전원을 공급하는 금속들 중 어느 하나와 연결된다.The second lower protective metal layer 11b may be formed of a metal forming the driving transistor Tdr or metals forming the driving transistor Tdr or metals forming the organic light emitting diode OLED, And is connected to any one of the metals for supplying power necessary for light emission of the organic light emitting diode (OLED).

상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 형성하는 단계는, 상기 버퍼(11) 상에 상기 제1액티브(13)를 형성하는 단계, 상기 제1액티브(13) 상에 게이트 절연막(16)을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막(16) 상에 게이트(20)를 형성하는 단계, 상기 게이트(20) 상에 층간절연막(17)을 형성하는 단계 및 상기 층간절연막(17)상에 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 형성하는 제1구동전극(33) 및 제2구동전극(미도시)을 형성하는 단계를 포함한다.The step of forming the switching transistor Tsw includes the steps of forming the first active 13 on the buffer 11, forming a gate insulating film 16 on the first active 13, Forming a gate 20 on the gate insulating film 16, forming an interlayer insulating film 17 on the gate 20, forming the switching transistor Tsw on the interlayer insulating film 17, And forming a first driving electrode 33 and a second driving electrode (not shown).

여기서, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 제2하부보호금속(11b)은 상기 제 2 컨택홀(62)을 통해 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상기 제1구동전극(33)과 접속된다. 그러나, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 제1하부보호금속(11a)은 플로팅(floating)된다.The second lower protective metal 11b of the driving transistor Tdr is connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr through the second contact hole 62. [ However, the first lower protective metal 11a of the switching transistor Tsw is floating.

또한, 상기 유기발광 표시패널 제조방법은, 상기 버퍼(11) 상에, 상기 버퍼(11)를 구성하는 제3하부보호금속(미도시)과 절연되고, 상기 제3하부보호금속과 중첩되는 제3액티브(미도시)를 포함하며, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 문턱전압을 센싱하기 위한 센싱 트랜지스터(Tss)를 형성하는 단계 및 상기 버퍼(11) 상에, 상기 유기발광다이오드의 발광 기간을 제어하기 위한 에미션 트랜지스터(Tem)를 형성하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
The method for manufacturing an organic light emitting display panel according to the present invention is characterized in that the buffer 11 is formed on the buffer 11 so as to be insulated from a third lower protective metal (not shown) A step of forming a sensing transistor Tss for sensing the threshold voltage of the driving transistor Tdr including a triple active (not shown), and controlling the light emitting period of the organic light emitting diode And forming an emission transistor (Tem) for forming an emission region.

다음, 도 8d에 도시된 바와 같이, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상부에는 보호막(40)과 평탄막(42)이 순차적으로 형성된다. 또한, 상기 평탄막(42) 상부에는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상기 제1구동전극(33)과 전기적으로 연결되는 유기발광다이오드(E)가 형성된다.Next, as shown in FIG. 8D, a protective film 40 and a flat film 42 are sequentially formed on the driving transistor Tdr. An organic light emitting diode E electrically connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr is formed on the planarization layer 42.

이때, 도면에 도시되지는 않았으나, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 상단에도 상기 보호막(40)과 상기 평탄막(42)이 순차적으로 형성된다.
At this time, although not shown, the protective film 40 and the planarization film 42 are sequentially formed on the upper end of the switching transistor Tsw.

마지막으로, 도 8e에 도시된 바와 같이, 레이저 릴리즈 공정을 수행하여 상기 하부기판(10)에서 상기 보조기판(A)이 분리된다.
Finally, as shown in FIG. 8E, the auxiliary substrate A is separated from the lower substrate 10 by performing a laser-releasing process.

상기에서 설명된 바와 같이, 본 발명의 제 2 및 제 3 실시 예에 따른 유기발광 표시패널 제조방법은, 상기 제2하부보호금속(11b)을 어느 하나의 금속라인과 연결시키는 방법을 제외하고는, 본 발명의 제1실시예에 따른 유기발광 표시패널 제조방법과 동일하다. 따라서, 이하에서는 본 발명의 제 2 및 제3실시예에 따른 유기발광 표시패널 제조방법이 간단히 설명된다. As described above, the method for fabricating an organic light emitting display panel according to the second and third embodiments of the present invention is the same as the method for manufacturing the organic light emitting display panel except for the method of connecting the second lower protective metal 11b to one metal line Is the same as the method of manufacturing the organic light emitting display panel according to the first embodiment of the present invention. Therefore, a method for fabricating an organic light emitting display panel according to the second and third embodiments of the present invention will be briefly described below.

상기 제2실시예에 따른 유기발광 표시패널 제조방법은, 보조기판(A) 상에 플렉서블한 하부기판(10)을 형성하는 단계, 상기 하부기판(10) 상에 제1하부보호금속(11a)과 제2하부보호금속(11b)을 포함하는 버퍼(11)를 형성하는 단계, 상기 버퍼(11) 상에, 상기 제1하부보호금속(미도시)과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브(미도시)를 포함하는 스위칭 트랜지스터(Tsw) 및 상기 제2하부보호금속(11b)과 절연되며 상기 제2하부보호금속(11b)과 중첩되는 제2액티브(23)를 포함하는 구동 트랜지스터(Tdr)를 형성하는 단계, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상단에 평탄막(42)을 형성하는 단계, 상기 평탄막(42) 상에, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 통해 공급되는 데이터 전압에 따라 구동되는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 제1구동전극(33)과 전기적으로 연결되는 유기발광다이오드(E)를 형성하는 단계 및 레이저 릴리즈 공정을 수행하여 상기 하부기판(10)에서 상기 보조기판(A)을 분리하는 단계를 포함하여 제조된다.The method of fabricating an organic light emitting display panel according to the second embodiment includes forming a flexible lower substrate 10 on an auxiliary substrate A and forming a first lower protective metal 11a on the lower substrate 10, Forming a buffer 11 including a first lower protective metal 11b and a second lower protective metal 11b on the buffer 11, And a second active 23 that is insulated from the second lower protective metal 11b and overlaps with the second lower protective metal 11b. The switching transistor Tsw includes a first active (not shown) Forming a driving transistor Tdr on the top surface of the driving transistor Tdr and forming a flat layer 42 on the top of the driving transistor Tdr; Which is electrically connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr, Performing step and the laser release process of forming a light emitting diode (E) is produced by including the step of separating the auxiliary substrate (A) in the lower substrate 10.

특히, 본 발명의 제2실시예에 따른 유기발광 표시패널 제조방법에서는, 상기 버퍼(11) 상에 상기 제2액티브(23)가 형성되고, 상기 제2액티브(23) 상에 게이트 절연막(16)이 형성되고, 상기 제2하부보호금속(11b)이 노출되도록 컨택홀이 형성되고, 상기 게이트 절연막(16) 상에 상기 제2하부보호금속(11b)과 연결되는 연결전극(21)과 게이트(20) 연결전극(21)이 형성되고, 상기 게이트(20)와 상기 연결전극(21) 상에 층간절연막(17)이 형성되며, 상기 층간절연막(17) 상에 상기 제1구동전극(33) 및 제2 구동전극이 형성된다.In particular, in the method of manufacturing an OLED display panel according to the second embodiment of the present invention, the second active layer 23 is formed on the buffer layer 11, and the gate insulating layer 16 A contact hole 21 is formed to expose the second lower protective metal 11b and a connection electrode 21 connected to the second lower protective metal 11b on the gate insulating film 16, An interlayer insulating film 17 is formed on the gate 20 and the connection electrode 21 and the first driving electrode 33 is formed on the interlayer insulating film 17. [ And a second driving electrode are formed.

상기 제 3 실시 예에 따른 유기발광 표시패널 제조방법은, 보조기판(A)상에 플렉서블한 하부기판(10)을 형성하는 단계, 상기 하부기판(10) 상에 제1하부보호금속(11a)과 제2하부보호금속(11b)을 포함하는 버퍼(11)를 형성하는 단계, 상기 버퍼(11) 상에, 상기 제1하부보호금속(미도시)과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브(미도시)를 포함하는 스위칭 트랜지스터(Tsw) 및 상기 제2하부보호금속(11b)과 절연되며 상기 제2하부보호금속(11b)과 중첩되는 제2액티브(23)를 포함하는 구동 트랜지스터(Tdr)를 형성하는 단계, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 상단에 평탄막(42)을 형성하는 단계, 상기 평탄막(42) 상에, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 통해 공급되는 데이터 전압에 따라 구동되는 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 제1구동전극(33)과 전기적으로 연결되는 유기발광다이오드(E)를 형성하는 단계 및 레이저 릴리즈 공정을 수행하여 상기 하부기판(10)에서 상기 보조기판(A)을 분리하는 단계를 포함하여 제조된다.The method of fabricating an organic light emitting display panel according to the third embodiment includes forming a flexible lower substrate 10 on an auxiliary substrate A and forming a first lower protective metal 11a on the lower substrate 10, Forming a buffer 11 including a first lower protective metal 11b and a second lower protective metal 11b on the buffer 11, And a second active 23 that is insulated from the second lower protective metal 11b and overlaps with the second lower protective metal 11b. The switching transistor Tsw includes a first active (not shown) Forming a driving transistor Tdr on the top surface of the driving transistor Tdr and forming a flat layer 42 on the top of the driving transistor Tdr; Which is electrically connected to the first driving electrode 33 of the driving transistor Tdr, And forming the auxiliary light-emitting diode E and separating the auxiliary substrate A from the lower substrate 10 by performing a laser-releasing process.

특히, 본 발명의 제3실시예에 따른 유기발광 표시패널 제조방법에서는, In particular, in the method of fabricating an organic light emitting display panel according to the third embodiment of the present invention,

상기 버퍼(11) 상에 상기 제2액티브(23)가 형성되고, 상기 제2액티브(23) 상에 게이트 절연막(16)이 형성되고, 상기 제2하부보호금속(11b)이 노출되도록 상기 게이트 절연막(16)에 컨택홀이 형성되고, 상기 게이트 절연막(16) 상에 상기 컨택홀을 통해 상기 제2하부보호금속(11b)과 연결되는 게이트(20)가 형성되고, 상기 게이트(20) 상에 층간절연막(17)이 형성되며, 상기 층간절연막(17) 상에 상기 구동 트랜지스터의 제1구동전극(33) 및 제2구동전극이 형성된다.
The second active 23 is formed on the buffer 11 and the gate insulating film 16 is formed on the second active 23. The second lower protective metal 11b is exposed, A contact hole is formed in the insulating film 16 and a gate 20 connected to the second lower protective metal 11b through the contact hole is formed on the gate insulating film 16, And a first driving electrode 33 and a second driving electrode of the driving transistor are formed on the interlayer insulating film 17. [

도 9a 내지 도 9c는 본 발명에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널에 적용되는 트랜지스터를 나타낸 구성도들로서, 게이트(GATE)와 액티브(ACT)의 크기를 설명하기 위한 구성도들이다. 여기서, 각 도면의 (a)는 상기 트랜지스터의 평면도이며, (b)는 (a)에 도시된 X-X'라인을 따라 절단된 단면도이다. FIGS. 9A to 9C are views illustrating a structure of a transistor applied to a flexible organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment of the present invention, and illustrate the sizes of a gate (gate) and an active (ACT). Here, (a) of each drawing is a plan view of the transistor, and (b) is a cross-sectional view taken along the line X-X 'shown in (a).

예를 들어, 도 9a 내지 도 9c를 참조하면, 상기 하부보호금속(BSM)과 상기 액티브(ACT) 사이에는 액티브 버퍼(A/B)가 형성되어 있고, 상기 액티브(ACT)에는 소스전극(S) 및 드레인전극(D)이 연결되고, 상기 액티브(ACT) 상단에는 게이트 절연막(GI)이 형성되며, 상기 게이트 절연막(GI)에는 상기 게이트(GATE)가 형성된다.For example, referring to FIGS. 9A to 9C, an active buffer A / B is formed between the lower protective metal BSM and the ACT, and the source electrode S And a drain electrode D are connected to the gate electrode G. A gate insulating film GI is formed on the active ACT and a gate GATE is formed on the gate insulating film GI.

우선, 상기 하부보호금속(BSM)의 폭은, 도 9a의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 게이트(GATE)의 폭보다 넓게 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 게이트(GATE)의 폭이 20㎛인 경우, 상기 하부보호금속(BSM)의 폭은 22㎛가 될 수 있으며, 이 경우, 상기 하부보호금속(BSM)의 끝단은 상기 게이트의 끝단으로부터 동일한 길이만큼 돌출될 수 있다.First, the width of the lower protective metal BSM may be greater than the width of the gate GATE, as shown in FIGS. 9A and 9B. For example, if the width of the gate (GATE) is 20 microns, the width of the lower protective metal (BSM) may be 22 microns. In this case, the end of the lower protective metal (BSM) It can be protruded by the same length from the end.

다음, 상기 하부보호금속(BSM)의 폭은, 도 9b의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 게이트의 폭보다 작게 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 게이트의 폭인 20㎛인 경우, 상기 하부보호금속(BSM)의 폭은 18㎛가 될 수 있으며, 이 경우, 상기 게이트의 끝단은 상기 하부보호금속의 끝단으로부터 동일한 길이만큼 돌출될 수 있다.Next, the width of the lower protective metal BSM may be formed to be smaller than the width of the gate, as shown in Figs. 9 (a) and 9 (b). For example, in the case of 20 [micro] m width of the gate, the width of the lower protective metal BSM may be 18 [micro] m, in which case the end of the gate is protruded by the same length from the end of the lower protective metal .

마지막으로, 상기 하부보호금속(BSM)의 폭은, 도 9c의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 게이트와 비대칭적으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 하부보호금속(BSM)은 상기 게이트의 일측 끝단은 커버하지만, 타측 끝단은 커버하지 않은 형태로 형성될 수도 있다. 부연하여 설명하면, 상기 하부보호금속은 상기 게이트의 일측으로 치우친 형태로 형성될 수 있다.
Finally, the width of the lower protective metal (BSM) may be asymmetrically formed with the gate, as shown in Figures 9 (a) and 9 (b). For example, the lower protection metal BSM may cover one end of the gate but may not cover the other end. In other words, the lower protective metal may be formed in a shape biased toward one side of the gate.

상기에서 설명된 본 발명을 간단히 정리하면, 다음과 같다.The present invention described above is briefly summarized as follows.

먼저, 본 발명에서는 플라스틱 유기발광 표시패널의 구동 트랜지스터 하부에 제2하부보호금속(BSM)이 형성됨으로써, 이하와 같은 효과가 발생될 수 있고, 이에 따라, 소자 특성 변동이 방지될 수 있으며, 소자의 안전성이 확보될 수 있다. First, in the present invention, since the second lower protective metal (BSM) is formed under the driving transistor of the plastic organic light emitting display panel, the following effects can be generated, Can be secured.

첫째, 유기발광 표시패널의 액티브 영역이 보호될 수 있다. First, the active area of the organic light emitting display panel can be protected.

둘째, 레이저 릴리즈 시, 박막 트랜지스터에 가해지는 데미지가 방지될 수 있다. Secondly, when the laser is released, the damage to the thin film transistor can be prevented.

셋째, 액티브와 제2하부보호금속 간의 캐패시턴스(Capacitance) 형성을 통하여, 고해상도의 유기발광 표시패널의 설계가 가능해질 수 있다. 넷째, 소자 구동 시, 하부 플라스틱 기판, AB, MB에서의 열 손상으로 인한 소자 변동이 억제될 수 있다. Third, through the formation of a capacitance between the active and the second lower protective metal, the design of the organic light emitting display panel of high resolution can be made. Fourth, when the device is driven, device variations due to thermal damage on the lower plastic substrate, AB, and MB can be suppressed.

다섯째, 플라스틱 기판 및 희생층에서의 백채널 현상으로 인해, 희생층이 negative charge(<0V)되며, 이에 따라 문턱전압 변동(Vth shift)이 발생하여, 소자 특성 변동이 발생하는 종래의 문제점들이 방지될 수 있다. Fifth, since the back channel phenomenon in the plastic substrate and the sacrifice layer causes the sacrifice layer to have a negative charge (< 0 V), the threshold voltage variation (Vth shift) .

여섯째, 본 발명에 따른 소자 구조는 스토리지 캡 확보에 용이하고, 본 발명에 따른 소자 구조에서는, 액티브-제2하부보호금속에 추가 커패시터가 형성될 수 있다. Sixth, the device structure according to the present invention is easy to secure a storage cap, and in the device structure according to the present invention, an additional capacitor can be formed in the active-second lower protective metal.

일곱째, 상기 제2하부보호금속이 박막트랜지스터의 게이트와 동일 전극으로 사용됨으로써, 더블 게이트(Double Gate) 효과가 기대될 수 있다.
Seventh, by using the second lower protective metal as the same electrode as the gate of the thin film transistor, a double gate effect can be expected.

다음, 상기 제2하부보호금속은 액티브버퍼가 2중 또는 3중으로 제작될 경우, 액티브버퍼의 어느 두 층 사이에 배치 될 수도 있다. 또한, 상기 제2 하부보호금속은 멀티 버퍼의 어느 두 층 사이에 배치될 수도 있다. 또한, 상기 제2하부보호금속은 픽셀 내, 스토리지 캡(Storage Capacitance)으로 이용될 수 있으며, 또한 여타 다른 전극의 배선으로 활용 될 수도 있다.
Next, the second lower protective metal may be disposed between any two layers of the active buffer when the active buffer is fabricated as double or triple. In addition, the second lower protective metal may be disposed between any two layers of the multi-buffer. Also, the second lower protective metal may be used as a storage capacitor in a pixel, or may be used as a wiring of other electrodes.

다음, 상기 스위칭 트랜지스터의 전압이 지속적으로 변동하기 때문에, 상기 제1하부보호금속은, 특정한 금속과 전기적으로 연결되지 않고, 플로팅 상태로 형성된다. 이와 같이, 형성된 제1하부보호금속을 통하여, 아래와 같은 효과가 기대될 수 있다. Next, since the voltage of the switching transistor continuously varies, the first lower protective metal is not electrically connected to a specific metal but is formed in a floating state. Thus, the following effects can be expected through the formed first lower protective metal.

첫째, 플라스틱 유기발광 표시장치의 모듈 공정 중 빛에 의해 발생되는, 박막 트랜지스터 특성 변화가 방지될 수 있다. First, changes in the characteristics of the thin film transistor, which are caused by light during the module process of the plastic organic light emitting display, can be prevented.

둘째, 스위칭 트랜지스터의 채널영역에 빛이 인가될 경우 발생되는, 박막 트랜지스터의 특성 변화가 방지될 수 있다. Second, a change in characteristics of the thin film transistor, which is generated when light is applied to the channel region of the switching transistor, can be prevented.

셋째, 외부로부터 유입된 광에 의한 스위칭 트랜지스터의 특성변동에 의해 발생 할 수 있는 무라(Mura)가 억제될 수 있다.Thirdly, the mura that can be caused by the characteristic change of the switching transistor due to the light introduced from the outside can be suppressed.

넷째. 플렉서블 유기발광 표시패널 제품 제작 후, 보관 및 이동 중 노출 되는 빛에 의한 소자 변동이 방지될 수 있다. fourth. After fabricating the flexible organic light emitting display panel product, device variations due to light exposed during storage and movement can be prevented.

다섯째, 플렉서블 유기발광 표시패널 제품 제작 후, 시스템 내부에서 발생되는 빛에 의한 소자 변동이 방지될 수 있다.
Fifth, after fabricating a flexible organic light emitting display panel product, device variations due to light generated in the system can be prevented.

마지막으로, 상기 제1, 제2 및 상기 제3하부보호금속들 이외에도, 유기발광 표시패널의 각 픽셀에 형성되는 다양한 종류의 트랜지스터들, 예를 들어, 보상용 트랜지스터들에도, 상기한 바와 같은 하부보호금속이 형성될 수 있다.
Lastly, in addition to the first, second and third lower protective metals, various kinds of transistors formed in each pixel of the organic light emitting display panel, for example, compensating transistors, A protective metal may be formed.

도 10은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동 트랜지스터를 나타낸 평면도이며, 도 11은 도 10에 도시된 구동 트랜지스터를 Y-Y'라인을 따라 절단한 일실시예 단면도이다. 10 is a plan view showing a driving transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the driving transistor shown in FIG. 10 cut along the line Y-Y ' Fig.

본 발명의 4 실시예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널에는, 저온 폴리 실리콘(LTPS: Low Temperature Poly-Silicon)을 이용한 저온 폴리 실리콘(LTPS) 트랜지스터가 이용된다.A low temperature polysilicon (LTPS) transistor using low temperature polysilicon (LTPS) is used for the flexible organic light emitting display panel according to the fourth embodiment of the present invention.

상기 저온 폴리 실리콘(LTPS) 트랜지스터는, 전하의 이동도가 높기 때문에, 빠른 응답 속도를 필요로 하는 고해상도 표시장치에 적합하다.The low temperature polysilicon (LTPS) transistor is suitable for a high-resolution display device requiring a high response speed because of high charge mobility.

상기 저온 폴리 실리콘 트랜지스터에서는, 일반적으로 액티브의 상단에 게이트가 배치된다. 이 경우, 오프 커런트가 발생될 가능성이 높다. 따라서, 상기 저온 폴리 실리콘 트랜지스터는, 도 10에 도시된 바와 같이, 두 개의 게이트 단자들(20a, 20b) 및 두 개의 액티브 단자들(AT1, AT2)을 이용하여 제조된다. In the low temperature polysilicon transistor, a gate is generally disposed at the top of the active. In this case, there is a high possibility that an off-current occurs. Thus, the low-temperature polysilicon transistor is fabricated using two gate terminals 20a and 20b and two active terminals AT1 and AT2, as shown in Fig.

예를 들어, 본 발명의 제4실시예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널은, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 하부기판(10), 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 버퍼(11), 상기 버퍼(11)를 구성하는 하부보호금속(BSM)과 절연되고 상기 하부보호금속(BSM)과 중첩되는 액티브(ACT)를 포함하며, 상기 버퍼에 형성되는 트랜지스터, 상기 트랜지스터 상에 형성되는 평탄막(미도시) 및 상기 평탄막(미도시) 상에 형성되며, 상기 트랜지스터에 의해 구동되어 광을 출력하는 유기발광다이오드(미도시)를 포함한다. For example, as shown in FIGS. 10 and 11, a flexible organic light emitting display panel according to a fourth embodiment of the present invention includes a lower substrate 10, a buffer 11 formed on the lower substrate 10 ), An active (ACT) insulated from a lower protection metal (BSM) constituting the buffer (11) and superimposed with the lower protection metal (BSM), a transistor formed in the buffer And an organic light emitting diode (not shown) formed on the flat film (not shown) and the flat film (not shown) and driven by the transistor to output light.

상기 평탄막(미도시) 및 상기 유기발광다이오드(미도시)의 구성 및 기능은, 제1실시예 내지 제3실시예에서 설명된 구성 및 기능과 동일함으로, 이에 대한 상세한 설명은 생략된다. The configuration and function of the flat film (not shown) and the organic light emitting diode (not shown) are the same as those of the first embodiment to the third embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 제4실시예는, 제1실시예 내지 제3실시예와 비교할 때, 트랜지스터의 구조가 상이하다.The fourth embodiment of the present invention differs from the first to third embodiments in the structure of the transistors.

본 발명의 제4실시예에 적용되는 트랜지스터는, 제1실시예 내지 제3실시예에서 설명된, 상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)가 될 수도 있고, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)가 될 수도 있으며, 또는 상기 스위칭 트랜지스터 및 상기 구동 트랜지스터 이외의 트랜지스터가 될 수도 있다. The transistor applied to the fourth embodiment of the present invention may be the switching transistor Tsw or the driving transistor Tdr described in the first to third embodiments, A switching transistor and a transistor other than the driving transistor.

본 발명의 제4실시예에 적용되는 상기 트랜지스터는, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 하나의 게이트 연결 라인(GCL)으로부터 분리된 제1게이트 단자(20a) 및 제2게이트 단자(20b)를 포함한다. 따라서, 상기 제1게이트 단자(20a)와 상기 제2게이트 단자(20b)는 전기적으로 서로 연결되어 있다.The transistor applied to the fourth embodiment of the present invention has a first gate terminal 20a and a second gate terminal 20b separated from one gate connection line GCL as shown in Figs. 10 and 11, ). Therefore, the first gate terminal 20a and the second gate terminal 20b are electrically connected to each other.

상기 액티브(ACT)는, 상기 제1게이트 단자(20a)에 중첩되는 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2게이트 단자(20b)에 중첩되는 제2액티브 단자(AT2)를 포함한다.The active ACT includes a first active terminal AT1 overlapping the first gate terminal 20a and a second active terminal AT2 overlapping the second gate terminal 20b.

상기 제1액티브 단자(AT1)와 상기 제2액티브 단자(AT2)는 서로 연결되어 있다.The first active terminal AT1 and the second active terminal AT2 are connected to each other.

이 경우, 상기 하부보호금속(BSM)은, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)에 모두 중첩되도록 형성될 수 있다. In this case, the lower protective metal BSM may be formed to overlap both the first active terminal AT1 and the second active terminal AT2, as shown in FIGS.

상기 제1액티브 단자(AT1)와 상기 제2액티브 단자(AT2)는 각각 드레인 전극 또는 소스 전극과 연결될 수 있다. 도 10에서, 상기 드레인 전극 및 상기 소스 전극은 도면 부호 SD1 및 SD2로 도시되어 있다.
The first active terminal AT1 and the second active terminal AT2 may be connected to a drain electrode or a source electrode, respectively. In Fig. 10, the drain electrode and the source electrode are shown with reference numerals SD1 and SD2.

도 12는 본 발명의 제5실시예에 따른 플렉서블 유기발광 표시패널의 하나의 픽셀의 구동 트랜지스터를 나타낸 평면도이며, 도 13은 도 12에 도시된 구동 트랜지스터를 Y-Y'라인을 따라 절단한 일실시예 단면도이다. 도 14는 하부보호금속의 유무에 따른 특성변화를 나타낸 일실시예 그래프이다. 도 14에서 (a)는 하부보호금속이 없는 트랜지스터의 특성을 나타내고, (b)는 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 두 개의 액티브 단자들(AT1, AT2) 각각에 하부보호금속단자들(BSM1, BSM2)이 중첩되게 형성되어 있는 트랜지스터의 특성을 나타내며, (c)는 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 두 개의 액티브 단자들(AT1, AT2) 중 어느 하나에만 하부보호금속단자(BSM2)가 중첩되게 형성되어 있는 트랜지스터의 특성을 나타낸다. FIG. 12 is a plan view showing a driving transistor of one pixel of a flexible organic light emitting display panel according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line Y-Y ' Fig. FIG. 14 is a graph showing an example of variation of characteristics with and without a lower protective metal. 14 (a) shows the characteristics of the transistor without the lower protective metal, and FIG. 14 (b) shows the characteristics of the lower protection metal terminals (C) shows the characteristics of the transistors formed such that BSM1 and BSM2 overlap each other. Fig. 12 (c) shows the characteristics of the transistors, in which only one of the two active terminals AT1 and AT2, (BSM2) are overlapped with each other.

상기한 바와 같이, 본 발명의 제4실시예에 적용되는 트랜지스터는, 저온 폴리 실리콘(LTPS)을 이용하는 트랜지스터이며, 이 경우, 상기 트랜지스터는, 두 개의 게이트 단자들(20a, 20b) 및 두 개의 액티브 단자들(AT1, AT2)을 포함한다.As described above, the transistor used in the fourth embodiment of the present invention is a transistor using low-temperature polysilicon (LTPS). In this case, the transistor has two gate terminals 20a and 20b and two active Terminals AT1 and AT2.

상기 버퍼(11)에는, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 두 개의 액티브 단자들(AT1, AT2)과 중첩되는 제1하부보호금속단자(BSM1) 및 제2하부보호금속단자(BSM2)이 형성된다. As shown in FIGS. 10 and 11, the buffer 11 includes a first lower protective metal terminal BSM1 and a second lower protective metal terminal BSM2 overlapping the two active terminals AT1 and AT2. Is formed.

상기 두 개의 게이트 단자들(20a, 20b) 사이의 간격이, 예를 들어, 4㎛인 경우, 상기 제1하부보호금속단자(BSM1) 및 상기 제2하부보호금속단자(BSM2) 사이의 간격은 1㎛ 정도가 된다. If the gap between the two gate terminals 20a and 20b is, for example, 4 占 퐉, the gap between the first lower protective metal terminal BSM1 and the second lower protective metal terminal BSM2 is Lt; / RTI &gt;

이 경우, 상기 제1하부보호금속단자(BSM1) 및 상기 제2하부보호금속단자(BSM2) 사이의 간격이 좁기 때문에, 상기 제1하부보호금속단자(BSM1) 및 상기 제2하부보호금속단자(BSM2)의 설계 및 구현이 어려울 수 있다.In this case, since the interval between the first lower protective metal terminal BSM1 and the second lower protective metal terminal BSM2 is narrow, the first lower protective metal terminal BSM1 and the second lower protective metal terminal BSM2, BSM2) may be difficult to design and implement.

또한, 상기 제1하부보호금속단자(BSM1) 및 상기 제2하부보호금속단자(BSM2)와 상기 게이트 단자들(20a, 20b) 사이의 기생 커패시턴스가 증가함으로써, 상기 트랜지스터의 특성이 변경될 수 있다. In addition, the parasitic capacitance between the first lower protective metal terminal BSM1 and the second lower protective metal terminal BSM2 and the gate terminals 20a and 20b is increased, so that the characteristics of the transistor can be changed .

본 발명의 제5실시예는, 제4실시예에서, 상기 제1하부보호금속단자(BSM1) 및 상기 제2하부보호금속단자(BSM2) 사이의 간격이 적은 점 및 상기 기생 커패시턴스를 고려하여 제안된다.The fifth embodiment of the present invention is different from the fourth embodiment in that the gap between the first lower protective metal terminal BSM1 and the second lower protective metal terminal BSM2 is small and the parasitic capacitance is considered do.

예를 들어, 본 발명의 제5실시예에 따른 유기발광 표시패널은, 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 하부기판(10), 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 버퍼(11), 상기 버퍼(11)를 구성하는 하부보호금속(BSM1)과 절연되고 상기 하부보호금속(BSM1)과 중첩되는 액티브(ACT)를 포함하며, 상기 버퍼에 형성되는 트랜지스터, 상기 트랜지스터 상에 형성되는 평탄막(미도시) 및 상기 평탄막(미도시) 상에 형성되며, 상기 트랜지스터에 의해 구동되어 광을 출력하는 유기발광다이오드(미도시)를 포함한다. For example, as shown in FIGS. 12 and 13, the organic light emitting display panel according to the fifth embodiment of the present invention includes a lower substrate 10, a buffer 11 formed on the lower substrate 10, (ACT) insulated from a lower protection metal (BSM1) constituting the buffer (11) and overlapping the lower protection metal (BSM1), the transistor formed in the buffer, the flatness And an organic light emitting diode (not shown) formed on the flat film (not shown) and driven by the transistor to output light.

본 발명의 제5실시예에 따른 유기발광 표시패널은, 제4실시예와 비교할 때, 상기 하부보호금속이 하나의 하부보호금속단자(BSM2)를 포함하고 있다는 차이점을 가지고 있다. 따라서, 제5실시예에 대한 설명에서는, 하부보호금속과 하부보호금속단자가 동일한 의미로 사용되며, 도 12 및 도 13에 도시된 도면부호 BSM2를 의미한다. The organic light emitting display panel according to the fifth embodiment of the present invention differs from the fourth embodiment in that the lower protection metal includes one lower protection metal terminal BSM2. Therefore, in the description of the fifth embodiment, the lower protective metal and the lower protective metal terminal are used in the same sense and refer to BSM2 shown in Figs. 12 and 13.

예를 들어, 상기 트랜지스터는, 하나의 게이트 연결 라인(GCL)으로부터 분리된 제1게이트 단자(20a) 및 제2게이트 단자(20b)를 포함하고, 상기 액티브(ACT)는, 상기 제1게이트 단자(20a)에 중첩되는 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2게이트 단자(20b)에 중첩되는 제2액티브 단자(AT2)를 포함하고, 상기 제1액티브 단자(AT1)와 상기 제2액티브 단자(AT2)는 서로 연결되어 있으며, 상기 하부보호금속(BSM)은 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나에만 중첩된다. For example, the transistor includes a first gate terminal 20a and a second gate terminal 20b separated from one gate connection line GCL, and the active (ACT) (AT1) overlapping the first gate terminal (20a) and a second active terminal (AT2) overlapping the second gate terminal (20b), wherein the first active terminal (AT1) and the second active terminal (AT2) are connected to each other, and the lower protective metal (BSM) overlaps only either the first active terminal or the second active terminal.

특히, 도 12 및 도 13에는, 상기 제2액티브 단자(AT2)에 중첩되는 영역에 하부보호금속(BSM2)이 형성되어 있는 유기발광 표시패널이 도시되어 있다. Particularly, FIGS. 12 and 13 show an organic light emitting display panel in which a lower protective metal BSM2 is formed in a region overlapping the second active terminal AT2.

이 경우, 상기 하부보호금속(BSM)은 상기 버퍼(11)에 형성되고, 상기 버퍼(11)에는 상기 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)가 적층되고, 상기 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)는 게이트 절연막(16)으로 덮이며, 상기 게이트 절연막(16)에는 상기 제1액티브 단자(AT1)와 중첩되는 상기 제1게이트 단자(20a) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)와 중첩되는 상기 제2게이트 단자(20b)가 도포된다. In this case, the lower protective metal BSM is formed in the buffer 11, the first active terminal AT1 and the second active terminal AT2 are stacked in the buffer 11, The active terminal AT1 and the second active terminal AT2 are covered with a gate insulating film 16 and the first gate terminal 20a overlapped with the first active terminal AT1 is formed in the gate insulating film 16. [ And the second gate terminal 20b overlapping the second active terminal AT2.

본 발명의 제5실시예에 따른 유기발광 표시패널에는, 제4실시예에서 설명된 상기 제1하부보호금속단자(BSM1) 및 상기 제2하부보호금속단자(BSM2) 중 어느 하나만이 형성되기 때문에, 하부보호금속의 설계 및 형성이 용이해 질 수 있다.Since the organic light emitting display panel according to the fifth embodiment of the present invention has only one of the first lower protective metal terminal BSM1 and the second lower protective metal terminal BSM2 described in the fourth embodiment , The design and formation of the lower protective metal can be facilitated.

또한, 두 개의 하부보호금속단자들(BSM1, BSM2)로 구성된 하부보호금속의 면적보다, 하나의 하부보호금속단자(BSM2)로 구성된 하부보호금속의 면적이 적기 때문에, 본 발명의 제5실시예에 적용되는 트랜지스터에서는, 하부보호금속단자와 게이트 단자들 간의 기생 커패시턴스가 줄어든다. 따라서, 트랜지스터의 특성이 크게 변화되지 않는다. Since the area of the lower protective metal constituted by one lower protective metal terminal BSM2 is smaller than the area of the lower protective metal composed of the two lower protective metal terminals BSM1 and BSM2, The parasitic capacitance between the lower protective metal terminal and the gate terminals is reduced. Therefore, the characteristics of the transistor are not greatly changed.

시뮬레이션 및 실제 측정 결과, 제5실시예에 따른 유기발광 표시패널의 특성은, 하부보호금속이 없는 유기발광 표시패널의 특성보다는 우수하며, 제4실시예와 같이 두 개의 하부보호금속단자들(BSM1, BSM2)로 구성된 하부보호금속을 갖는 유기발광 표시패널의 특성과 동등한 수준을 갖는다. 즉, 제5실시예서와 같이, 하나의 하부보호금속단자(BSM2)로 구성된 하부보호금속을 갖는 유기발광 표시패널에 구비된 트랜지스터의 신뢰성은, 제4실시예에서와 같이, 두 개의 하부보호금속단자들(BSM1, BSM2)로 구성된 하부보호금속(BSM)을 갖는 유기발광 표시패널에 구비된 트랜지스터의 신뢰성과 동등한 수준을 가진다.As a result of the simulation and the actual measurement, the characteristics of the organic light emitting display panel according to the fifth embodiment are superior to those of the organic light emitting display panel having no lower protection metal. In the fourth embodiment, , BSM2) having the lower shielding metal. That is, as in the fifth embodiment, the reliability of the transistor provided in the organic light emitting display panel having the lower protective metal constituted by one lower protective metal terminal BSM2 can be improved, as in the fourth embodiment, Has the same level of reliability as that of the transistor provided in the organic light emitting display panel having the lower protective metal (BSM) composed of the terminals BSM1 and BSM2.

부연하여 설명하면, 상기 하부보호금속은, 트랜지스터의 신뢰성 확보를 위해 형성되는 것이며, 도 14는 고온에서, 파지티브(Positive) 전압을 인가한 경우에, 트랜지스터의 큐어(Cure) 변동을 나타내는 그래프이다. 도 14에 도시된 그래프에서, 그래프의 변동량이 클수록 트랜지스터의 특성이 좋지 않은 것을 의미한다.More specifically, the lower protective metal is formed to secure the reliability of the transistor, and FIG. 14 is a graph showing a cure change of the transistor when a positive voltage is applied at a high temperature . In the graph shown in Fig. 14, the larger the variation of the graph, the less the characteristics of the transistor.

이 경우, 본 발명의 제5실시예에 따른 유기발광 표시패널에 적용되는 트랜지스터의 그래프의 변동량((c) 참조)은, 하부보호금속이 전혀 없는 트랜지스터의 그래프의 변동량((a) 참조) 보다 작다는 것을 알 수 있으며, 본 발명의 제4실시예에 따른 유기발광 표시패널에 적용되는 트랜지스터의 그래프의 변동량((b) 참조)과 거의 유사함을 알 수 있다. In this case, the variation (see (c)) of the graph of the transistor applied to the OLED display panel according to the fifth embodiment of the present invention is smaller than the variation (see (a)) of the graph of the transistor having no lower protective metal (B) of the graph of the transistor applied to the organic light emitting display panel according to the fourth embodiment of the present invention.

따라서, 제5실시예에 의하면, 트랜지스터의 신뢰성이 우수하면서도, 제조 및 설계가 용이한 유기발광 표시패널이 제조될 수 있다.
Therefore, according to the fifth embodiment, it is possible to manufacture an organic light emitting display panel which is excellent in reliability of the transistor and easy to manufacture and design.

본 발명의 제4실시예 또는 제5실시예에 따른 유기발광 표시패널을 제조하는 방법은, 본 발명의 제1실시예 내지 제3실시예에 따른 유기발광 표시패널을 제종하는 방법과 유사하다. 본 발명의 제4실시예 또는 제5실시예에 따른 유기발광 표시패널을 제조하는 방법을 간단히 정리하면 다음과 같다. The method of manufacturing the organic light emitting display panel according to the fourth or fifth embodiment of the present invention is similar to the method of deflecting the organic light emitting display panel according to the first to third embodiments of the present invention. A method of manufacturing the organic light emitting display panel according to the fourth embodiment or the fifth embodiment of the present invention will be briefly summarized as follows.

우선, 상기 하부기판(10)상에 하부보호금속을 포함하는 버퍼(11)가 형성된다. First, a buffer 11 including a lower protective metal is formed on the lower substrate 10.

다음, 상기 버퍼(11) 상에, 상기 하부보호금속과 절연되며 상기 하부보호금속과 중첩되는 액티브(ACT)를 포함하는 트랜지스터가 형성된다.Next, on the buffer 11, a transistor including an active (ACT) insulated from the lower protection metal and overlapped with the lower protection metal is formed.

다음, 상기 트랜지스터의 상단에 평탄막(미도시)이 형성된다. Next, a flat film (not shown) is formed on the top of the transistor.

마지막으로, 상기 평탄막(미도시) 상에, 상기 트랜지스터에 의해 구동되어 광을 출력하는 유기발광다이오드(미도시)가 형성된다. Finally, an organic light emitting diode (not shown) is formed on the flat film (not shown), which is driven by the transistor and outputs light.

상기 트랜지스터를 형성하는 과정은 다음과 같다.The process of forming the transistor is as follows.

첫째, 상기 버퍼(11)에, 상기 액티브(ACT)를 구성하는 제1액티브 단자(AT1) 및 제2액티브 단자(AT2)가 적층된다. First, in the buffer 11, a first active terminal AT1 and a second active terminal AT2 constituting the active (ACT) are stacked.

둘째, 상기 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)가 게이트 절연막(16)으로 덮여진다. Second, the first active terminal AT1 and the second active terminal AT2 are covered with the gate insulating film 16.

셋째, 상기 게이트 절연막(6)에, 상기 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)와 중첩되는 제1게이트 단자(20a) 및 제2게이트 단자(20b)를 갖는 게이트(GATE)가 형성된다. A gate (GATE) having a first gate terminal 20a and a second gate terminal 20b overlapping the first active terminal AT1 and the second active terminal AT2 is formed in the gate insulating film 6, Is formed.

이 경우, 상기 하부보호금속(BSM)은, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 제1액티브 단자(AT1) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)와 중첩되도록 상기 버퍼(11)에 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 하부보호금속(BSM)은 상기 제1액티브 단자(AT1)와 중첩되는 제1하부보호금속단자(20a) 및 상기 제2액티브 단자(AT2)와 중첩되는 제2하부보호금속단자(20b)를 포함한다. 또한, 상기 하부보호금속(BSM)은, 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 상기 제1액티브 단자(AT1) 또는 상기 제2액티브 단자(AT2) 중 어느 하나와만 중첩되도록 상기 버퍼(11)에 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 하부보호금속(BSM)은 상기 제1액티브 단자(AT1) 또는 상기 제2액티브 단자(AT2) 중 어느 하나와만 중첩되는 하부보호금속단자(SMB2)를 포함한다.In this case, the lower protective metal BSM is formed in the buffer 11 so as to overlap with the first active terminal AT1 and the second active terminal AT2, as shown in FIGS. 10 and 11 . In this case, the lower protective metal BSM includes a first lower protective metal terminal 20a which overlaps with the first active terminal AT1 and a second lower protective metal terminal 20a which overlaps with the second active terminal AT2. 20b. 12 and 13, the lower protective metal BSM is connected to the buffer 11 (only one of the first active terminal AT1 and the second active terminal AT2) As shown in FIG. In this case, the lower protective metal BSM includes a lower protective metal terminal SMB2 which overlaps only either the first active terminal AT1 or the second active terminal AT2.

상기 버퍼(11)에는 상기 하부보호금속(BSM) 이외에도, 상기 멀티버퍼(11c) 및 상기 액티브버퍼(11d)가 포함될 수 있다. 상기 멀티버퍼(11c), 상기 액티브 버퍼(11d) 및 상기 하부보호금속(BSM2)의 적층 순서는 상기에서 설명된 바와 같이 다양하게 설정될 수 있다. The buffer 11 may include the multi-buffer 11c and the active buffer 11d in addition to the lower protective metal BSM. The stacking order of the multi-buffer 11c, the active buffer 11d, and the lower protective metal BSM2 may be variously set as described above.

또한, 본 발명의 제4실시예에서 설명된, 상기 두 개의 게이트 단자들(20a, 20b)과 중첩되게 형성되어 있는 상기 하부보호금속(BSM) 또는, 본 발명의 제5실시예에서 설명된, 상기 두 개의 게이트 단자들(20a, 20b) 중 어느 하나와만 중첩되게 형성되어 있는 상기 하부보호금속(BSM2)은, 상기에서 설명된 바와 같이, 다른 전극들과 플로팅될 수도 있으며, 또는 상기 하부기판(10) 상에 형성되는 어느 하나의 전극에 연결될 수도 있다. 후자의 경우, 상기 하부보호금속(BSM)은, 상기 하부보호금속(BSM)에 대응되는 트랜지스터를 구성하는 전극들 중 어느 하나에 연결될 수 있다.Further, the lower protection metal (BSM) formed in the overlapping manner with the two gate terminals 20a and 20b described in the fourth embodiment of the present invention, or the lower protection metal (BSM) described in the fifth embodiment of the present invention, The lower protective metal BSM2 formed to overlap with only one of the two gate terminals 20a and 20b may be floated with other electrodes as described above, Or may be connected to any one electrode formed on the substrate 10. In the latter case, the lower protection metal (BSM) may be connected to one of the electrodes constituting the transistor corresponding to the lower protection metal (BSM).

100 : 패널 110 : 픽셀
200 : 게이트 드라이버 300 : 데이터 드라이버
400 : 타이밍 컨트롤러 10 : 하부기판
11 : 버퍼 11a : 제1하부보호금속
11b : 제2하부보호금속 BSM : 하부보호금속
BSM1 : 제1하부보호금속단자 BSM2 : 제2하부보호금속단자
ACT : 액티브 AT1 : 제1액티브 단자
AT2 : 제2액티브 단자 20 : 게이트
20a : 제1게이트 단자 20b : 제2게이트 단자
100: Panel 110: Pixel
200: gate driver 300: data driver
400: timing controller 10: lower substrate
11: buffer 11a: first lower protective metal
11b: second lower protection metal BSM: lower protection metal
BSM1: first lower protection metal terminal BSM2: second lower protection metal terminal
ACT: active AT1: first active terminal
AT2: second active terminal 20: gate
20a: first gate terminal 20b: second gate terminal

Claims (17)

하부기판;
상기 하부기판 상에 형성되는 버퍼;
상기 버퍼를 구성하는 제1하부보호금속과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브를 포함하고, 상기 버퍼에 형성되며, 상기 하부기판 상에 형성되는 게이트 라인을 통해 공급되는 제1스캔신호에 따라 구동되는 스위칭 트랜지스터;
상기 버퍼를 구성하는 제2하부보호금속과 절연되며 상기 제2하부보호금속과 중첩되는 제2액티브를 포함하고, 상기 버퍼에 형성되며, 상기 하부기판 상에 형성되는 데이터 라인으로부터, 상기 스위칭 트랜지스터를 통해 공급되는 데이터 전압에 따라 구동되는 구동 트랜지스터;
상기 스위칭 트랜지스터와 상기 구동 트랜지스터 상에 형성되는 평탄막; 및
상기 평탄막 상에 형성되며, 상기 구동 트랜지스터의 제1구동전극과 연결되는 제1전극이 구비된 유기발광다이오드를 포함하는 플렉서블 유기발광 표시패널.
A lower substrate;
A buffer formed on the lower substrate;
And a second active protective film formed on the buffer, the first active protective film being insulated from a first lower protective metal constituting the buffer and overlapping with the first lower protective metal, A switching transistor driven according to a scan signal;
And a second active layer which is insulated from a second lower protective metal constituting the buffer and overlaps with the second lower protective metal, and is formed in the buffer, and from the data line formed on the lower substrate, A driving transistor driven according to a data voltage supplied through the driving transistor;
A flat film formed on the switching transistor and the driving transistor; And
And an organic light emitting diode (OLED) formed on the planarization layer and having a first electrode connected to a first driving electrode of the driving transistor.
제 1 항에 있어서,
상기 제1하부보호금속은 플로팅되어 있으며,
상기 제2하부보호금속은 상기 하부기판 상에 형성되는 금속들 중 어느 하나와 전기적으로 연결되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein the first lower protective metal is floated,
And the second lower protective metal is electrically connected to one of the metals formed on the lower substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 제2하부보호금속은 상기 제1전극과 전기적으로 연결되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
And the second lower protective metal is electrically connected to the first electrode.
제 3 항에 있어서,
상기 제2하부보호금속은 상기 구동 트랜지스터를 구성하는 게이트가 형성되어 있는 게이트층에 형성된 연결전극을 통해 상기 제1전극과 연결되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method of claim 3,
Wherein the second lower protective metal is connected to the first electrode through a connection electrode formed in a gate layer in which a gate constituting the driving transistor is formed.
제 1 항에 있어서,
상기 제2하부보호금속은 상기 구동 트랜지스터를 구성하는 게이트와 전기적으로 연결되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
And the second lower protective metal is electrically connected to a gate constituting the driving transistor.
제 1 항에 있어서,
상기 버퍼는,
상기 하부기판 상에 형성되는 멀티 버퍼, 상기 멀티 버퍼 상에 형성되는 상기 제1하부보호금속과 상기 제2하부보호금속, 및 상기 제1하부보호금속과 상기 제2하부보호금속 상에 형성되는 액티브버퍼를 포함하거나, 또는
상기 하부기판 상에 형성되는 상기 제1하부보호금속과 상기 제2하부보호금속, 상기 제1하부보호금속과 상기 제2하부보호금속 상에 형성되는 멀티 버퍼, 및 상기 멀티 버퍼 상에 형성되는 액티브버퍼를 포함하는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
The buffer includes:
A multi-buffer formed on the lower substrate, a first lower protection metal and a second lower protection metal formed on the multi-buffer, and an active portion formed on the first lower protection metal and the second lower protection metal, Buffer, or
A multi-buffer formed on the first lower protective metal and the second lower protective metal, the first lower protective metal and the second lower protective metal formed on the lower substrate, and an active buffer layer formed on the multi- A flexible organic light emitting display panel comprising a buffer.
제 1 항에 있어서,
상기 구동 트랜지스터의 문턱전압을 센싱하기 위한 센싱 트랜지스터; 및
상기 유기발광다이오드의 발광 기간을 제어하기 위한 에미션 트랜지스터를 더 포함하며,
상기 버퍼에는 상기 센싱 트랜지스터를 구성하는 제3액티브와 절연되며 상기 제3액티브와 중첩되는 제3하부보호금속이 형성되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
A sensing transistor for sensing a threshold voltage of the driving transistor; And
Further comprising an emission transistor for controlling an emission period of the organic light emitting diode,
Wherein the buffer is formed with a third lower protective metal which is insulated from a third active constituting the sensing transistor and overlaps with the third active.
제 1 항에 있어서,
상기 스위칭 트랜지스터는, 하나의 게이트 연결 라인으로부터 분리된 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 포함하고,
상기 제1액티브는, 상기 제1게이트 단자에 중첩되는 제1액티브 단자 및 상기 제2게이트 단자에 중첩되는 제2액티브 단자를 포함하고,
상기 제1액티브 단자와 상기 제2액티브 단자는 서로 연결되어 있으며,
상기 제1하부보호금속은 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나에만 중첩되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein the switching transistor includes a first gate terminal and a second gate terminal separated from one gate connection line,
Wherein the first active includes a first active terminal overlaid on the first gate terminal and a second active terminal overlying the second gate terminal,
Wherein the first active terminal and the second active terminal are connected to each other,
Wherein the first lower protective metal overlaps only either the first active terminal or the second active terminal.
제 1 항에 있어서,
상기 구동 트랜지스터는, 하나의 게이트 연결 라인으로부터 분리된 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 포함하고,
상기 제2액티브는, 상기 제1게이트 단자에 중첩되는 제1액티브 단자 및 상기 제2게이트 단자에 중첩되는 제2액티브 단자를 포함하고,
상기 제1액티브 단자와 상기 제2액티브 단자는 서로 연결되어 있으며,
상기 제2하부보호금속은 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나에만 중첩되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein the driving transistor includes a first gate terminal and a second gate terminal separated from one gate connection line,
The second active includes a first active terminal overlaid on the first gate terminal and a second active terminal overlying the second gate terminal,
Wherein the first active terminal and the second active terminal are connected to each other,
Wherein the second lower protective metal overlaps only either the first active terminal or the second active terminal.
제 1 항에 있어서,
상기 제1액티브 및 상기 제2액티브 각각은, 저온 다결정 실리콘으로 제조된 플렉서블 유기발광 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein each of the first active and the second active is made of low-temperature polycrystalline silicon.
하부기판;
상기 하부기판 상에 형성되는 버퍼;
상기 버퍼를 구성하는 하부보호금속과 절연되고 상기 하부보호금속과 중첩되는 액티브를 포함하며, 상기 버퍼에 형성되는 트랜지스터;
상기 트랜지스터 상에 형성되는 평탄막; 및
상기 평탄막 상에 형성되며, 상기 트랜지스터에 의해 구동되어 광을 출력하는 유기발광다이오드를 포함하고,
상기 트랜지스터는, 하나의 게이트 연결 라인으로부터 분리된 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 포함하고,
상기 액티브는, 상기 제1게이트 단자에 중첩되는 제1액티브 단자 및 상기 제2게이트 단자에 중첩되는 제2액티브 단자를 포함하고,
상기 제1액티브 단자와 상기 제2액티브 단자는 서로 연결되어 있으며,
상기 하부보호금속은 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나에만 중첩되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
A lower substrate;
A buffer formed on the lower substrate;
A transistor formed in the buffer, the buffer being insulated from a lower protective metal constituting the buffer and being superimposed on the lower protective metal;
A flat film formed on the transistor; And
And an organic light emitting diode formed on the flat film and driven by the transistor to output light,
The transistor comprising a first gate terminal and a second gate terminal separated from one gate connection line,
The active includes a first active terminal overlaid on the first gate terminal and a second active terminal overlying the second gate terminal,
Wherein the first active terminal and the second active terminal are connected to each other,
Wherein the lower protective metal overlaps only one of the first active terminal and the second active terminal.
제 11 항에 있어서,
상기 버퍼에는 상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자가 적층되고,
상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자는 게이트 절연막으로 덮이며,
상기 게이트 절연막에는 상기 제1액티브 단자와 중첩되는 상기 제1게이트 단자 및 상기 제2액티브 단자와 중첩되는 상기 제2게이트 단자가 적층되는 플렉서블 유기발광 표시패널.
12. The method of claim 11,
The first active terminal and the second active terminal are stacked in the buffer,
The first active terminal and the second active terminal are covered with a gate insulating film,
The first gate terminal overlapping the first active terminal and the second gate terminal overlapping the second active terminal are stacked in the gate insulating film.
하부기판상에 제1하부보호금속과 제2하부보호금속을 포함하는 버퍼를 형성하는 단계;
상기 버퍼 상에, 상기 제1하부보호금속과 절연되며 상기 제1하부보호금속과 중첩되는 제1액티브를 포함하는 스위칭 트랜지스터 및 상기 제2하부보호금속과 절연되며 상기 제2하부보호금속과 중첩되는 제2액티브를 포함하는 구동 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 스위칭 트랜지스터와 구동 트랜지스터의 상단에 평탄막을 형성하는 단계;
상기 평탄막 상에, 상기 스위칭 트랜지스터를 통해 공급되는 데이터 전압에 따라 구동되는 상기 구동 트랜지스터의 제1구동전극과 전기적으로 연결되는 제1전극을 갖는 유기발광다이오드를 형성하는 단계를 포함하는 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법.
Forming a buffer on the lower substrate comprising a first lower protective metal and a second lower protective metal;
A switching transistor including a first lower protective metal and a first active on the buffer, the switching transistor being insulated from the first lower protective metal and overlapping the first lower protective metal, Forming a driving transistor including a second active;
Forming a flat film on top of the switching transistor and the driving transistor;
And forming an organic light emitting diode having a first electrode electrically connected to a first driving electrode of the driving transistor driven according to a data voltage supplied through the switching transistor on the flat film, A method of manufacturing a display panel.
제 13 항에 있어서,
상기 제2하부보호금속층을, 상기 구동 트랜지스터를 형성하는 금속들 또는 상기 구동 트랜지스터와 연결되는 금속들 또는 유기발광다이오드를 형성하는 금속들 또는 상기 유기발광다이오드의 발광에 필요한 전원을 공급하는 금속들 중 어느 하나와 연결시키는 단계를 더 포함하는 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법.
14. The method of claim 13,
The second lower protective metal layer may be formed of one of metals forming the driving transistor or metals forming the driving transistor, or metals forming the organic light emitting diode, or metals supplying power for emitting light of the organic light emitting diode And connecting the organic light emitting display panel to the organic light emitting display panel.
제 13 항에 있어서,
상기 버퍼 상에, 상기 버퍼를 구성하는 제3하부보호금속과 절연되고, 상기 제3하부보호금속과 중첩되는 제3액티브를 포함하며, 상기 구동 트랜지스터의 문턱전압을 센싱하기 위한 센싱 트랜지스터를 형성하는 단계; 및
상기 버퍼 상에, 상기 유기발광다이오드의 발광 기간을 제어하기 위한 에미션 트랜지스터를 형성하는 단계를 더 포함하는 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법.
14. The method of claim 13,
And a third active layer on the buffer, the third active layer being insulated from a third lower protective metal constituting the buffer and overlapping the third lower protective metal layer, and forming a sensing transistor for sensing a threshold voltage of the driving transistor step; And
And forming an emission transistor for controlling the emission period of the organic light emitting diode on the buffer.
제 13 항에 있어서,
상기 스위칭 트랜지스터와 상기 구동 트랜지스터를 형성하는 단계는,
상기 버퍼에, 상기 제1액티브를 구성하는 제1액티브 단자 및 제2액티브 단자와, 상기 제2액티브를 구성하는 제1액티브 단자 및 제2액티브 단자를 적층하는 단계;
상기 제1액티브 단자들 및 상기 제2액티브 단자들을 게이트 절연막으로 덮는 단계; 및
상기 게이트 절연막에, 상기 제1액티브를 구성하는 상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자와 중첩되는 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 갖는 게이트 및, 상기 제2액티브를 구성하는 상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자와 중첩되는 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 갖는 게이트를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 제1하부보호금속은, 상기 제1액티브를 구성하는 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나와만 중첩되며,
상기 제2하부보호금속은, 상기 제2액티브를 구성하는 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나와만 중첩되는 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법.
14. The method of claim 13,
Wherein forming the switching transistor and the driving transistor comprises:
Depositing in the buffer a first active terminal and a second active terminal constituting the first active and a first active terminal and a second active terminal constituting the second active;
Covering the first active terminals and the second active terminals with a gate insulating film; And
A gate having a first gate terminal and a second gate terminal overlapping the first active terminal and the second active terminal constituting the first active, and a gate having a first gate terminal and a second gate terminal overlapping the first active terminal and the second active terminal, Forming a gate having a first gate terminal and a second gate terminal overlapping the active terminal and the second active terminal,
Wherein the first lower protective metal overlaps only one of the first active terminal and the second active terminal constituting the first active,
Wherein the second lower protective metal is overlapped only with either the first active terminal or the second active terminal constituting the second active.
하부기판상에 하부보호금속을 포함하는 버퍼를 형성하는 단계;
상기 버퍼 상에, 상기 하부보호금속과 절연되며 상기 하부보호금속과 중첩되는 액티브를 포함하는 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 트랜지스터의 상단에 평탄막을 형성하는 단계; 및
상기 평탄막 상에, 상기 트랜지스터에 의해 구동되어 광을 출력하는 유기발광다이오드를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 트랜지스터를 형성하는 단계는,
상기 버퍼에, 상기 액티브를 구성하는 제1액티브 단자 및 제2액티브 단자를 적층하는 단계;
상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자를 게이트 절연막으로 덮는 단계; 및
상기 게이트 절연막에, 상기 제1액티브 단자 및 상기 제2액티브 단자와 중첩되는 제1게이트 단자 및 제2게이트 단자를 갖는 게이트를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 하부보호금속은, 상기 제1액티브 단자 또는 상기 제2액티브 단자 중 어느 하나와만 중첩되는 플렉서블 유기발광 표시패널 제조방법.
Forming a buffer on the lower substrate comprising a lower protective metal;
Forming a transistor on the buffer, the transistor being insulated from the lower protection metal and being active with the lower protection metal;
Forming a planar film on top of the transistor; And
Forming an organic light emitting diode driven by the transistor and outputting light on the flat film,
Wherein forming the transistor comprises:
Stacking a first active terminal and a second active terminal constituting the active in the buffer;
Covering the first active terminal and the second active terminal with a gate insulating film; And
Forming a gate in the gate insulating film having a first gate terminal and a second gate terminal overlapping the first active terminal and the second active terminal,
Wherein the lower protective metal overlaps only one of the first active terminal and the second active terminal.
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