KR20150137204A - Organic Electro-Luminescence Device - Google Patents

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KR20150137204A
KR20150137204A KR1020140064531A KR20140064531A KR20150137204A KR 20150137204 A KR20150137204 A KR 20150137204A KR 1020140064531 A KR1020140064531 A KR 1020140064531A KR 20140064531 A KR20140064531 A KR 20140064531A KR 20150137204 A KR20150137204 A KR 20150137204A
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Abstract

Disclosed is an organic electroluminescence device. The disclosed organic electroluminescence device of the present invention comprises: a substrate on which a plurality of pixel areas of red (R), green (G), blue (B), and white (W) are divided; a driving thin film transistor formed on the pixel areas of the substrate, and color filters of red (R), green (G), blue (B), and white (W); an organic light emitting diode connected to the driving thin film transistor formed on each pixel area, and arranged on the color filters of red (R), green (G), blue (B), and white (W); and a low reflective film arranged between the substrate and the organic emitting diode in at least any one pixel area from the pixel areas of red (R), green (G), blue (B), and white (W).

Description

유기전계발광소자{Organic Electro-Luminescence Device}[0002] Organic Electro-Luminescence Device [0003]

본 발명은 유기전계발광소자에 관한 것이다.
The present invention relates to an organic electroluminescent device.

최근까지, CRT(cathode ray tube)가 표시장치로서 주로 사용되었다. 그러나, 최근에 CRT를 대신할 수 있는, 플라즈마표시장치(plasma display panel: PDP), 액정표시장치(liquid crystal display device: LCD), 유기전계발광소자(organic electro-luminescence device: OLED)와 같은 평판표시장치가 널리 연구되며 사용되고 있다.Until recently, CRT (cathode ray tube) was mainly used as a display device. However, in recent years, flat panel displays such as a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display device (LCD), and an organic electro-luminescence device (OLED) Display devices have been widely studied and used.

위와 같은 평판표시장치 중에서, 유기전계발광소자(이하, OLED라 함)는 자발광소자로서, 비발광소자인 액정표시장치에 사용되는 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량 박형이 가능하다.Of the above flat panel display devices, an organic electroluminescent element (hereinafter referred to as OLED) is a self-luminous element and can be lightweight and thin because it does not require a backlight used in a liquid crystal display device which is a non-light emitting element.

그리고 액정표시장치에 비해 시야각 및 대비비가 우수하며, 소비전력 측면에서도 유리하며, 직류 저전압 구동이 가능하고, 응답속도가 빠르며, 내부 구성요소가 고체이기 때문에 외부충격에 강하고, 사용 온도범위도 넓은 장점을 가지고 있다.Compared with liquid crystal display, it has superior viewing angle and contrast ratio, is advantageous in terms of power consumption, can be driven by DC low voltage, has a fast response speed, is strong against external impacts and has a wide temperature range Lt; / RTI >

특히, 제조공정이 단순하기 때문에 생산원가를 기존의 액정표시장치 보다 많이 절감할 수 있는 장점이 있다. 이러한 특성을 갖는 OLED는 크게 패시브 매트릭스 타입(passive matrix type)과 액티브 매트릭스 타입(active matrix type)으로 나뉘어 지는데, 패시브 매트릭스 타입은 신호선을 교차하면서 매트릭스 형태로 소자를 구성되는 반면, 액티브 매트릭스 타입은 화소를 온/오프(on/off)하는 스위칭 소자인 박막트랜지스터와 전류를 흘려보내주는 구동 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터에 한 프레임 동안 전압을 유지해 주는 캐패시터가 화소 별로 위치하도록 한다.Particularly, since the manufacturing process is simple, it is advantageous in that the production cost can be saved more than the conventional liquid crystal display device. OLEDs having such characteristics are largely divided into a passive matrix type and an active matrix type. In the passive matrix type, an element is formed in a matrix form while crossing signal lines, whereas the active matrix type is a pixel A thin film transistor which is a switching element for on / off switching, a driving thin film transistor for flowing a current, and a capacitor for holding a voltage for one frame in a driving thin film transistor are provided for each pixel.

또한, 상기 OLED는 각각의 화소 별 유기발광 다이오드가 형성되는데, 상기 유기발광 다이오드는 애노드(anode)와 캐소드(cathode) 및 유기발광층으로 구성된다.In addition, the organic light emitting diode of each pixel is formed in the OLED. The organic light emitting diode includes an anode, a cathode, and an organic light emitting layer.

상기 유기발광 다이오드는 애노드와 상기 캐소드 간에 전압을 인가하면 정공은 상기 애노드로부터 상기 유기발광층 내로 주입되고, 전자는 상기 캐소드로부터 상기 유기발광층내로 주입된다. 상기 유기발광층내로 주입된 정공과 전자는 상기 유기발광층에서 결합하여 엑시톤(exiton)을 생성하고, 이러한 엑시톤이 여기상태에서 기저상태로 전이하면서 빛을 방출하게 된다.When the organic light emitting diode is applied with a voltage between the anode and the cathode, holes are injected from the anode into the organic light emitting layer, and electrons are injected from the cathode into the organic light emitting layer. The holes and electrons injected into the organic light emitting layer are combined in the organic light emitting layer to generate an exciton, and the exciton emits light while transitioning from the excited state to the ground state.

최근, 패시브 매트릭스 타입은 해상도나 소비전력, 수명 등에 많은 제한적인 요소를 가지고 있어, 고해상도나 대화면을 구현할 수 있는 액티브 매트릭스 타입 OLED의 연구가 활발히 진행되고 있다.In recent years, passive matrix type has many limitations such as resolution, power consumption and lifetime, and active matrix type OLED capable of realizing high resolution and large screen is actively being studied.

특히, OLED의 화면 품위를 개선하기 위해 기판 상에 편광판을 부착하여, 외부광이 기판 영역에서 반사되거나 기판 내부에서 전반사되는 것을 방지하는 기술이 개발되었다.In particular, a technique has been developed to attach a polarizing plate on a substrate to improve the screen quality of the OLED, thereby preventing external light from being reflected in the substrate area or being totally reflected within the substrate.

하지만, OLED의 기판 전면에 편광판을 부착하는 기술은 외부광을 흡수하여 반사율을 줄여주는 효과가 있지만, 유기발광 다이오드의 유기발광층에서 발생되는 광이 기판 외부로 나오는 광까지 흡수되어 발광효율을 저하시키는 문제가 있다.
However, the technique of attaching the polarizer to the entire surface of the OLED has the effect of reducing the reflectance by absorbing the external light, but the light emitted from the organic light emitting layer of the organic light emitting diode absorbs the light emitted to the outside of the substrate, there is a problem.

본 발명은, 유기전계발광소자의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 별 또는 백색(W) 화소에만 저반사막을 형성하여, 외부광에 의한 콘트라스트비 저하를 방지한 유기전계발광소자를 제공하는데 그 목적이 있다.A low reflection film is formed only on red (R), green (G), blue (B) and white (W) pixels or white (W) pixels of an organic electroluminescent device, And an organic electroluminescent device.

또한, 본 발명은, 유기전계발광소자의 백색(W) 화소에 저반사막을 형성하여, 블랙 모드 구현시 백색(W) 화소 영역에서의 휘도 불량을 방지한 유기전계발광소자를 제공하는데 목적이 있다.
Another object of the present invention is to provide an organic electroluminescent device in which a low reflection film is formed on a white (W) pixel of an organic electroluminescent device to prevent a luminance defect in a white (W) pixel region in a black mode implementation .

상기와 같은 종래 기술의 과제를 해결하기 위한 본 발명의 유기전계발광소자는, 복수개의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들이 구획된 기판; 상기 기판 상의 화소 영역들에 형성된 구동 박막트랜지스터와 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들; 상기 각 화소 영역에 형성된 구동 박막트랜지스터와 연결되고, 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들 상에 배치된 유기발광 다이오드; 및 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들 중 적어도 어느 하나의 화소 영역에서 상기 기판과 상기 유기발광다이오드 사이에 배치된 저반사막을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an organic electroluminescent device including a substrate having a plurality of red (R), green (G), blue (B), and white (W) pixel regions defined therein; (R), green (G), blue (B), and white (W) color filters formed in pixel regions on the substrate; An organic light emitting diode connected to the driving thin film transistor formed in each pixel region and disposed on the red (R), green (G), blue (B), and white (W) color filters; And a low reflection film disposed between the substrate and the organic light emitting diode in at least one pixel region of the red (R), green (G), blue (B), and white (W) pixel regions.

또한, 본 발명의 유기전계발광소자는, 복수개의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들이 구획된 제1 기판; 상기 제1 기판 상의 화소 영역들에 형성된 구동 박막트랜지스터와 유기발광 다이오드; 상기 구동 박막트랜지스터와 유기발광다이오드 상에 형성된 캡핑층; 상기 제1기판과 대향되는 제2 기판; 상기 복수개의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들에 대응되도록 제2 기판 상에 형성된 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들; 및 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들 중 적어도 어느 하나의 화소 영역에서 상기 제1 기판의 캡핑층과 상기 제2 기판 사이에 배치된 저반사막을 포함한다.
The organic electroluminescent device of the present invention may further include a first substrate on which a plurality of red (R), green (G), blue (B), and white (W) pixel regions are partitioned; A driving thin film transistor formed in pixel regions on the first substrate and an organic light emitting diode; A capping layer formed on the driving thin film transistor and the organic light emitting diode; A second substrate facing the first substrate; Green (G), blue (B), and white (B) colors formed on the second substrate to correspond to the plurality of red (R), green (G), blue (B) (W) color filters; And a low reflective film disposed between the capping layer of the first substrate and the second substrate in pixel regions of at least any one of the red (R), green (G), blue (B) and white (W) .

본 발명의 유기전계발광소자는, 유기전계발광소자의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 별 또는 백색(W) 화소에만 저반사막을 형성하여, 외부광에 의한 콘트라스트비 저하를 방지하는 효과가 있다.The organic electroluminescent device of the present invention can be formed by forming a low reflection film only on the red (R), green (G), blue (B) and white (W) pixels or white (W) pixels of an organic electroluminescent device, It is possible to prevent deterioration of the contrast ratio due to the use of the light emitting diode.

또한, 본 발명의 유기전계발광소자는, 유기전계발광소자의 백색(W) 화소에 저반사막을 형성하여, 블랙 모드 구현시 백색(W) 화소 영역에서의 휘도 불량을 방지하는 효과가 있다.
In addition, the organic electroluminescent device of the present invention has the effect of preventing the brightness deficiency in the white (W) pixel region when the black mode is realized by forming a low reflection film on the white (W) pixels of the organic electroluminescent device.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 OLED의 구조를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 OLED의 화소 구조를 도시한 도면이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제1 실시예의 저반사막에 사용된 금속의 굴절률과 소광계수를 나타낸 그래프이다.
도 4a 내지 도 6b는 OLED의 블랙 구동시 비교예와 본 발명의 실시예를 비교한 도면들이다.
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 OLED의 광효율 특성을 도시한 도면이다.
도 8a는 본 발명의 제2실시예에 따른 OLED의 구조를 도시한 단면도이다.
도 8b는 도 8a의 백색(W) 화소 영역의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 9a는 본 발명의 제3실시예에 따른 OLED의 구조를 도시한 단면도이다.
도 9b는 도 9a의 백색(W) 화소 영역의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
1 is a cross-sectional view illustrating the structure of an OLED according to a first embodiment of the present invention.
2 is a diagram illustrating a pixel structure of an OLED according to a first embodiment of the present invention.
3A and 3B are graphs showing refractive indexes and extinction coefficients of metals used in the low reflection film of the first embodiment of the present invention.
FIGS. 4A and 6B are diagrams comparing a comparative example and an embodiment of the present invention when the OLED is driven in black.
FIG. 7 is a graph showing light efficiency characteristics of an OLED according to the first embodiment of the present invention.
8A is a cross-sectional view illustrating the structure of an OLED according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 8B is a view schematically showing the structure of the white (W) pixel region of FIG. 8A.
9A is a cross-sectional view illustrating the structure of an OLED according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 9B is a view schematically showing the structure of the white (W) pixel region of FIG. 9A.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are illustrative, and thus the present invention is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.In the case where the word 'includes', 'having', 'done', etc. are used in this specification, other parts can be added unless '~ only' is used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간 적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if a temporal posterior relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., 'May not be contiguous unless it is used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be combined or combined with each other, partially or wholly, and technically various interlocking and driving are possible, and that the embodiments may be practiced independently of each other, It is possible.

이하, 본 발명의 실시예들은 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 그리고 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the size and thickness of the device may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

한편, OLED(100)는 발광된 빛의 투과방향에 따라 상부 발광방식(top emission type)과 하부 발광방식(bottom emission type)으로 나뉘게 되는데, 이하 본 발명의 제1,2실시예는 하부 발광방식을 일예로 설명하고, 본 발명의 제3실시예는 도 9에서 상부 발광방식을 일예로 설명한다.The OLED 100 is divided into a top emission type and a bottom emission type according to the transmission direction of the emitted light. The third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 OLED의 구조를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating the structure of an OLED according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 OLED(100)는 설명의 편의를 위해 구동 박막트랜지스터(210: DTr)가 형성되는 영역을 구동영역(DA) 그리고 뱅크(221)가 형성되는 영역을 비화소영역(NA), 적(R),녹(G),청(B) 및 백색(W) 컬러필터들(223a, 223b, 223c,223d)이 형성되는 화소 영역을 각각 발광영역(PA)이라 정의한다. 또한, 상기 백색(W) 컬러필터(223d)는 별도 컬러필터 패턴이 형성되지 않지만, 설명의 편의를 위해 백색(W) 화소 영역에 형성된 투명 유기막(120)을 백색(W) 컬러필터(223d)로 정의하였다. Referring to FIG. 1, the OLED 100 according to the first embodiment of the present invention includes a driving region DA and a bank 221 formed with a region where the driving thin film transistor 210 (DTr) The pixel region in which the non-pixel region NA, red R, green G, blue B and white W color filters 223a, 223b, 223c, and 223d are formed, (PA). In addition, the white color filter 223d does not have a separate color filter pattern. However, for convenience of description, the transparent organic film 120 formed in the white (W) pixel region is referred to as a white (W) color filter 223d ).

본 발명의 제1 실시예에서는 상기 백색(W) 컬러필터(223d) 형성 영역과 대응되는 영역에 저반사막(250)을 형성하여, 외부광이 기판(101) 영역에서 반사되어 휘도 불량을 야기하는 것을 방지하였다. 또한, 상기 저반사막(250)은 기판(101)을 통하여 백색(W) 컬러필터(223d) 내측 및 유기발광 다이오드(E) 영역으로 진행하여 반사전극(제2전극(232))에서 반사되어 휘도 불량을 야기하는 문제점을 방지할 수 있다.In the first embodiment of the present invention, a low reflection film 250 is formed in a region corresponding to the white (W) color filter 223d forming region, and the external light is reflected in the substrate 101 region to cause a luminance defect . The low reflectivity film 250 travels through the substrate 101 to the inside of the white color filter 223d and the region of the organic light emitting diode E to be reflected by the reflective electrode (second electrode 232) It is possible to prevent a problem causing defects.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 하부발광 방식 OLED(100)는 구동 박막트랜지스터(210: DTr) 및 스위칭 박막트랜지스터 (미도시)와 유기발광 다이오드(E)가 형성된 기판(101)과, 상기 기판(101)과 마주하며 인캡슐레이션을 위해 형성된 캡핑층(140)을 포함한다. 상기 캡핑층(140)은 플라스틱과 같은 플렉시블 기판 또는 금속 기판일 수 있다.1, a bottom emission OLED 100 according to the present invention includes a substrate 101 on which a driving thin film transistor 210 (DTr), a switching thin film transistor (not shown) and an organic light emitting diode E are formed, And a capping layer 140 formed for encapsulation facing the substrate 101. The capping layer 140 may be a flexible substrate such as plastic or a metal substrate.

또한, 상기 기판(10)은 투명한 플렉시블 기판으로서, 유리 또는 플라스틱일 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. Further, the substrate 10 is a transparent flexible substrate, and may be glass or plastic, but is not limited thereto.

그리고 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 캡핑층(140) 내부면에는 외부로부터 침투된 수분을 제거하기 위한 흡습제가 형성될 수 있다.Although not shown in the drawing, a moisture absorbent may be formed on the inner surface of the capping layer 140 to remove moisture permeated from the outside.

상기 기판(101)의 비화소영역(NA)에는 게이트 전극(201), 게이트 절연막(102), 채널층(204), 소스 및 드레인 전극(207a, 207b) 및 에치스톱퍼(205)로 구성된 구동 박막트랜지스터(210: DTr)가 형성되어 있고, 발광영역(PA)에는 기판(101) 상에 게이트 절연막(102), 보호막(109) 및 적(R),녹(G),청(B) 및 백색(W)컬러필터들(223a, 223b, 223c,223d)이 형성되어 있다.A driving thin film composed of a gate electrode 201, a gate insulating film 102, a channel layer 204, source and drain electrodes 207a and 207b and an etch stopper 205 is formed in the non-pixel area NA of the substrate 101, A transistor 210 (DTr) is formed in the light emitting region PA and a gate insulating film 102, a protective film 109, and red (R), green (G), blue (W) color filters 223a, 223b, 223c, and 223d are formed.

또한, 상기 구동 박막 트랜지스터(210)의 채널층(204)은 고속 응답 특성을 구현하기 위해 인듐(In), 아연(Zn), 갈륨(Ga) 또는 하프늄(Hf) 중 적어도 하나를 포함하는 산화물반도체로 형성될 수 있다.The channel layer 204 of the driving thin film transistor 210 may be formed of an oxide semiconductor including at least one of indium (In), zinc (Zn), gallium (Ga), or hafnium (Hf) As shown in FIG.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 구동 박막트랜지스터(210: DTr)의 게이트 전극(201)과 기판(101) 사이에는 실리콘 산화막, 실리콘 질화막, 실리콘 산질화막 또는 이들의 다중층으로 구성된 버퍼층이 기판(101) 전면에 더 형성될 수 있다.Although not shown, a buffer layer made of a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, or a multilayer thereof is formed between the gate electrode 201 and the substrate 101 of the driving thin film transistor 210 (DTr) As shown in FIG.

상기와 같이, 비화소영역(NA)과 발광영역(PA)의 기판(101) 상에 구동 박막 트랜지스터(210)와 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 컬러필터들(223a, 223b, 223c)과 저반사막(250)이 형성되면, 기판(101)의 전면에 유기막(120)을 형성한다. 백색(W) 화소 영역은 별도의 컬러필터 없이 투명한 유기막(120)이 백색(W) 컬러필터(223d) 역할을 한다.As described above, the driving thin film transistor 210 and the red (R), green (G), and blue (B) color filters 223a and 223b are formed on the substrate 101 of the non-pixel region NA and the light- 223b and 223c and the low reflection film 250 are formed on the substrate 101, the organic film 120 is formed on the entire surface of the substrate 101. [ In the white (W) pixel region, the transparent organic film 120 serves as a white (W) color filter 223d without a separate color filter.

상기 유기막(120)은 하부 단차를 완화할 수 있는 오버코트층 역할을 하고, BCB(benzocyclobutene)막, 폴리이미드막 또는 폴리아크릴막일 수 있다.The organic layer 120 serves as an overcoat layer that can alleviate the lower step, and may be a benzocyclobutene (BCB) layer, a polyimide layer, or a polyacrylate layer.

또한, 상기 유기막(120) 상에는 각각의 화소영역을 구획하기 위해 비화소영역(NA)에 뱅크층(221)을 패터닝하고, 발광영역(PA)과 대응되는 유기막(120) 상에는 제1 전극(230: anode), 유기발광층(231) 및 제2 전극(232: Cathode) 들로 구성된 유기발광 다이오드(E)가 형성된다.The bank layer 221 is patterned in the non-pixel area NA to partition the respective pixel regions on the organic film 120 and the organic film 120 corresponding to the light- An organic light emitting diode E composed of an anode 230, an organic light emitting layer 231 and a second electrode 232 is formed.

상기 제1 전극(230)은 애노드(Anode) 전극일 수 있고, 투명성 도전물질인 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 및 ITZO(Indium Tin Zinc Oxide) 중 적어도 하나 이상으로 적층하여 형성할 수 있다. 또한, 상기 제1 전극(230)은 유기막(120)에 형성된 콘택홀에 의해 구동 박막트랜지스터(210)의 드레인 전극(207b)과 전기적으로 연결된다.The first electrode 230 may be an anode electrode and may be formed by laminating at least one of ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Tin Oxide), and ITZO (Indium Tin Zinc Oxide) can do. The first electrode 230 is electrically connected to the drain electrode 207b of the driving TFT 210 by a contact hole formed in the organic layer 120. [

상기 유기발광층(231)은 정공주입층(HIL: Hole Injection Layer), 정공수송층(HTL: Hole Transporting Layer), 발광층(EML: Emitting Material Layer), 전자수송층(ETL: Electron Transporting Layer) 및 전자주입층(EIL: Electron Injection Layer)을 포함할 수 있다. 상기 정공수송층에는 전자차단층(EBL: Electron Blocking Layer)을 더 포함할 수 있고, 상기 전자수송층(ETL)은 PBD, TAZ, Alq3, BAlq, TPBI, Bepp2와 같은 저분자재료를 사용하여 형성할 수 있다.The organic light emitting layer 231 includes a hole injecting layer (HIL), a hole transporting layer (HTL), an emitter material layer (EML), an electron transporting layer (ETL) (EIL: Electron Injection Layer). The hole transport layer may further include an electron blocking layer (EBL), and the electron transport layer (ETL) may be formed using a low molecular material such as PBD, TAZ, Alq3, BAlq, TPBI or Bepp2 .

상기 유기 발광층(231)은 유기물에 따라 발광하는 색이 달라지므로, 각각의 화소 영역별로 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 발광층을 형성하여, 풀컬러(Full color)를 구현하거나, 백색 발광층으로 구현할 수 있다. 본 발명의 실시예에서는 백색광을 생성하는 백색 유기 발광층(231)인 경우를 중심으로 설명한다.Since the emission color of the organic emission layer 231 varies according to the organic material, red (R), green (G), and blue (B) emission layers are formed for each pixel region to realize full color , And a white light emitting layer. In the embodiment of the present invention, the white organic light emitting layer 231 for generating white light will be mainly described.

상기 제2 전극(232)은 캐소드(Cathode) 전극일 수 있고, 반사율이 높은 알루미늄(Al), 은(Ag)과 같은 금속막으로 형성될 수 있다.The second electrode 232 may be a cathode electrode and may be formed of a metal film such as aluminum (Al) or silver (Ag) having high reflectance.

상기와 같이, 상기 기판(101) 상에 유기발광 다이오드(E)가 형성되면, 인캡슐레이션(encapsulation)을 위한 캡핑층(capping layer)(140)을 기판(101) 전면에 형성한다.As described above, when the organic light emitting diode E is formed on the substrate 101, a capping layer 140 for encapsulation is formed on the entire surface of the substrate 101.

본 발명에서는 외부광이 기판(101) 영역에 형성된 저반사막(250)에 의해 흡수되어, 기판(101) 영역에서 반사되는 반사광의 양을 줄임으로써, 블랙 구동시 백색(W) 영역에서의 휘도 불량을 방지한다.In the present invention, the external light is absorbed by the low reflection film 250 formed on the substrate 101 region, thereby reducing the amount of reflected light reflected on the substrate 101 region, .

도면에서는 상기 저반사막을 오버코트층으로 사용되는 유기막(120)과 보호막(109) 사이에 형성하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 경우에 따라서는 기판(101)과 게이트 절연막(102) 사이, 게이트 절연막(102)과 보호막(109) 사이에 저반사막(250)을 형성할 수 있다.Although the low reflection film is formed between the organic film 120 and the protective film 109 used as the overcoat layer, the present invention is not limited thereto. Therefore, a low reflection film 250 may be formed between the substrate 101 and the gate insulating film 102, and between the gate insulating film 102 and the protective film 109, depending on circumstances.

상기 저반사막(250)은 굴절률(n)과 소광계수(k)가 서로 유사한 값을 갖는 금속을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)을 사용할 수 있다. 하지만, 이에 한정되는 것이 아니기 때문에 알루미늄(Al), 은(Ag), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 구리(Cu) 등의 금속 물질을 사용할 수 있다.It is preferable that the low reflection film 250 use a metal having a refractive index n and a extinction coefficient k that are similar to each other. For example, chromium (Cr) or molybdenum (Mo) can be used. However, it is not limited to this, and metal materials such as aluminum (Al), silver (Ag), titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), and copper (Cu)

또한, 본 발명의 제1실시예에서는 백색(W) 화소 영역에만 저반사막(250)을 형성하는 것을 중심으로 설명하였지만, 이에 한정되는 것이 아니다. 따라서, 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 화소 영역 모두에 저반사막을 형성할 수 있다. 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 화소 영역에 저반사막을 형성할 경우에는 적색(R),녹색(G),청색(B) 컬러필터들(223a, 223b, 223c)을 중심으로 하측 또는 상측에 형성할 수 있다.In the first embodiment of the present invention, the low reflection film 250 is formed only in the white (W) pixel region. However, the present invention is not limited to this. Therefore, a low reflection film can be formed in both the red (R), green (G), and blue (B) pixel regions. The red (R), green (G), and blue (B) color filters 223a, 223b, and 223c are formed in the center of the red (R), green (G), and blue (B) As shown in Fig.

즉, 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 컬러필터들(223a, 223b, 223c)을 중심으로 제1전극(230)과 적색(R),녹색(G),청색(B) 컬러필터들(223a, 223b, 223c) 사이 또는 적색(R),녹색(G),청색(B) 컬러필터들(223a, 223b, 223c)과 기판(101) 사이에 저반사막을 형성할 수 있다.That is, the first electrode 230 and the red (R), green (G), and blue (B) color filters 223a, 223b, and 223c are formed around the red (R), green Reflective film between the color filters 223a, 223b and 223c or between the red (R), green (G) and blue (B) color filters 223a, 223b and 223c and the substrate 101 have.

본 발명의 유기전계발광소자는, 유기전계발광소자의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 별 또는 백색(W) 화소에만 저반사막을 형성하여, 외부광에 의한 콘트라스트비 저하를 방지한 효과가 있다.The organic electroluminescent device of the present invention can be formed by forming a low reflection film only on the red (R), green (G), blue (B) and white (W) pixels or white (W) pixels of an organic electroluminescent device, It is possible to prevent the contrast ratio from being lowered.

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 OLED의 화소 구조를 도시한 도면이고, 도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제1 실시예의 저반사막에 사용된 금속의 굴절률과 소광계수를 나타낸 그래프이다.FIG. 2 is a graph showing the pixel structure of the OLED according to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 3A and 3B are graphs showing the refractive index and the extinction coefficient of the metal used in the low reflection film of the first embodiment of the present invention .

도 1과 함께 도 2를 참조하면, OLED의 기판(101)은 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 영역으로 구획되고, 백색(W) 영역에는 유기막(120)과 기판(101) 사이에 저반사막(250)이 형성되어 있다.Referring to FIG. 2 together with FIG. 1, the substrate 101 of the OLED is divided into red (R), green (G), blue (B) and white (W) regions, Reflective film 250 is formed between the substrate 100 and the substrate 101. [

도 3a 및 도 3b를 참조하면, 본 발명의 실시예에서 형성되는 저반사막(250)은 광흡수율이 우수하고, 유기발광층에서 발생되는 광이 광손실 없이 투과될 수 있는 특성을 갖는 것이 바람직하다.Referring to FIGS. 3A and 3B, it is preferable that the low reflection film 250 formed in the embodiment of the present invention is excellent in light absorptivity and can transmit light generated from the organic light emitting layer without loss of light.

먼저, 큰 광흡수율을 갖는 금속은 굴절율(n)과 소광계수(k) 값이 서로 비슷한 경우이기 때문에 n/k 값이 1 이하인 금속이 저반사막(250)으로 사용되기에 적합하다. 따라서, 굴절율(n)과 소광계수(k) 비(n/k)가 0.3~1.2를 만족하는 금속들을 저반사막으로 사용한다. First, since a metal having a large light absorption coefficient has a similar refractive index (n) and extinction coefficient (k) values, a metal having an n / k value of 1 or less is suitable for use as the low reflection film 250. Therefore, metals having a refractive index (n) and an extinction coefficient (k) ratio (n / k) of 0.3 to 1.2 are used as a low reflection film.

또한, 광흡수율이 큰 금속은 상대적으로 광투과율이 낮기 때문에 광흡수율이 큰 금속을 저반사막으로 사용하기 위해서는 옹스트롱(Å) 단위로 얇게 형성하여 투과율을 확보하는 것이 바람직하다.Since a metal having a high light absorptivity is relatively low in light transmittance, a metal having a high light absorptivity is preferably used as a low-reflectivity film in order to form a thin film in Angstroms (A) to secure a transmittance.

대체적으로 본 발명의 실시예들에서는 저반사막(250)의 두께를 10~200Å 범위에서 선택적으로 형성할 수 있다.In general, in embodiments of the present invention, the thickness of the low reflection film 250 can be selectively formed in the range of 10 to 200 angstroms.

도 3a 및 3b의 굴절률과 소광계수의 그래프를 보면, 크롬(Cr: n/k=1.01) 또는 몰리브덴(Mo: n/k=0.35)의 굴절률과 소광계수가 서로 유사한 것을 볼 수 있다.3A and 3B, it can be seen that the refractive index and extinction coefficient of chromium (Cr: n / k = 1.01) or molybdenum (Mo: n / k = 0.35) are similar to each other.

따라서, 상기 굴절률(n)과 소광계수(k)가 유사한 금속이 광흡수율이 크므로, 크롬(Cr)이나 몰리브덴(Mo)이 가시광선 영역에서 광흡수율이 크다. 이에 따라, 외부광 반사를 낮추고 유기발광층의 발광 효율을 증가시킬 수 있다.Therefore, chromium (Cr) or molybdenum (Mo) has a high light absorptivity in the visible light region because metals having similar refractive indices (n) and extinction coefficients (k) have high light absorptivity. Accordingly, the reflection of external light can be lowered and the emission efficiency of the organic light emitting layer can be increased.

하지만, 금속은 대체적으로 광을 흡수하는 성질을 갖고 있기 때문에 형성되는 두께를 조절할 경우, 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo) 뿐만 아니라 다른 불투명 금속들도 사용될 수 있다. 예를 들어, 스퍼터링(sputtering) 공정과 식각(etching) 공정이 가능한 물질이면 저반사막으로 사용할 수 있다.However, since metals generally absorb light, chromium (Cr) or molybdenum (Mo) as well as other opaque metals may be used when adjusting the thickness to be formed. For example, if the material can be sputtered and etched, it can be used as a low reflection film.

또한, 금속물질의 굴절률(n) 값이 증가하면 투과율이 증가하고, 광의 파장은 짧아지며, 소광계수(k) 값이 증가하면 광흡수율이 증가하기 때문에 굴절률(n)과 소광계수(k) 값이 모두 큰 값을 가져 그 비(n/k)가 1에 가까우면 외부광 흡수율을 높이면서 유기발광층에서 발생되는 내부광의 투과율을 증가시킬 수 있다.As the refractive index (n) of the metal material increases, the transmittance increases and the wavelength of light becomes shorter. As the extinction coefficient (k) increases, the light absorption rate increases. Therefore, the refractive index (n) (N / k) is close to 1, the transmittance of the internal light generated in the organic light emitting layer can be increased while increasing the external light absorption rate.

위에서 언급한 바와 같이, 소광계수(k) 값이 크고, 굴절률(n) 값이 작은 경우의 금속을 저반사막으로 사용하는 경우에는 외부광 흡수율은 우수한 반면, 내부광의 투과율은 낮기 때문에 물리적인 두께를 조절하여 투과율을 확보할 수 있다.As described above, when a metal having a large extinction coefficient (k) value and a small refractive index (n) value is used as a low reflection film, the external light absorption rate is excellent, while the internal light transmittance is low. The transmittance can be secured.

또한, 본 발명의 실시예에서 사용되는 저반사막(250)은 마이크로 캐비티(Micro Cavity) 광학 설계에 이용할 수 있다.Also, the low reflection film 250 used in the embodiment of the present invention can be used for a micro cavity optical design.

Σ{nx*(dx/λb)}+Σ{nE*(dE/λb)}+Σ{ny*(dy/λb)}=1.85~3.15......(수학식 1)Ny * (dy /? B)} = 1.85 to 3.15 (Equation 1)? Nx * (dx /? B) +?

(n은 굴절률, x는 무기물재료, d는 두께, E는 제1전극, y는 유기 발광층, λb는 블루 피크 파장, 1.85~3.15는 파장의 2배되는 지점(보강 간섭))(where n is the refractive index, x is the inorganic material, d is thickness, E is the first electrode, y is the organic luminescent layer, lambda b is the blue peak wavelength and 1.85 to 3.15 is twice the wavelength

즉, 블루 파장의 광을 발생하는 유기발광 다이오드를 기준으로 하여, 저반사막으로 사용되는 무기물재료, 제1전극 및 유기발광층의 두께를 조절하면 광효율을 높일 수 있는 마이크로 캐비티 광학 설계를 할 수 있다.That is, by adjusting the thickness of the inorganic material, the first electrode, and the organic light emitting layer, which are used as a low reflective film, based on the organic light emitting diode emitting blue wavelength light, a micro cavity optical design capable of increasing light efficiency can be achieved.

여기서, 유기발광 다이오드가 형성되기 전까지의 투과율이 80%이상의 요건을 만족하고, 금속과 같은 무기물에 의해 형성되는 층들의 두께가 고정되어 있다면, 유기발광층들과 같은 유기물들의 두께를 조절하면 최적의 마이크로 캐비티 광학 설계를 할 수 있다.Here, if the transmittance until the formation of the organic light emitting diode satisfies the requirement of 80% or more and the thickness of the layers formed by the inorganic material such as metal is fixed, by controlling the thickness of the organic materials such as the organic light emitting layers, Cavity optical design can be done.

도 2에 도시된 바와 같이, 백색(W) 영역에는 별도의 컬러필터 패턴 없이 유기막(120)이 백색(W) 컬러필터 역할을 한다. 따라서, 외부광이 기판(101)을 통하여 입사되면 기판(101) 영역과 기판(101)을 투과한 광이 유기발광 다이오드(E)의 제2 전극(232)에서 반사되어, 광이 출사된다.As shown in FIG. 2, the organic layer 120 serves as a white (W) color filter without a separate color filter pattern in the white W region. Therefore, when external light is incident through the substrate 101, light transmitted through the substrate 101 and the substrate 101 is reflected by the second electrode 232 of the organic light emitting diode E, and light is emitted.

이러한 반사광은 블랙 휘도 구현시 반사광에 의해 회색 형태로 나타나므로 화면 품위를 저하시키는 원인이 된다.Such reflection light appears in a gray form due to reflected light when a black luminance is realized, which causes a degradation of screen quality.

하지만, 본 발명의 실시예에서는 기판(101)과 유기막(120) 사이에 광 흡수율이 높은 저반사막(250)을 형성하기 때문에 기판(101) 영역에서 반사되는 광량을 줄일 수 있다.However, in the embodiment of the present invention, since the low reflection film 250 having a high light absorption rate is formed between the substrate 101 and the organic film 120, the amount of light reflected on the substrate 101 region can be reduced.

뿐만 아니라, 상기 저반사막(250)을 투과한 광이 유기발광 다이오드(E)의 제2 전극(232)에서 반사된 후, 다시 저반사막(250)에서 흡수되기 때문에 2차 반사광에 의한 휘도 발생을 줄일 수 있다.In addition, since the light transmitted through the low reflection film 250 is reflected by the second electrode 232 of the organic light emitting diode E and then absorbed by the low reflection film 250, Can be reduced.

도 4a 내지 도 6b는 OLED의 블랙 구동시 비교예와 본 발명의 실시예를 비교한 도면들이다. FIGS. 4A and 6B are diagrams comparing a comparative example and an embodiment of the present invention when the OLED is driven in black.

도 4a 및 도 4b를 참조하면, 비교예 1과 같이, 외부광에 의해 기판 영역에서의 발생되는 반사광을 줄이기 위해 편광판을 배치하였다.Referring to FIGS. 4A and 4B, as in Comparative Example 1, a polarizer was disposed to reduce reflected light generated in a substrate region by external light.

즉, 기판의 일면 상에는 제1 전극, 유기발광층 및 제2 전극과 캡핑층이 형성되고, 기판의 타면의 전 영역에 외부광 흡수를 위해 편광판을 부착하였다.That is, a first electrode, an organic light emitting layer, a second electrode and a capping layer are formed on one surface of the substrate, and a polarizing plate is attached to the entire area of the other surface of the substrate to absorb external light.

이와 같은 비교예 1은, 외부로부터 입사된 광은 편광판에서 대부분 흡수되기 때문에 기판 영역에서 발생되는 반사광을 줄일 수 있는 장점이 있다.In this Comparative Example 1, since light incident from the outside is mostly absorbed in the polarizing plate, there is an advantage that reflected light generated in the substrate region can be reduced.

하지만, 상기 편광판은 유기발광층에서 발생되는 광도 흡수하기 때문에 유기발광 다이오드의 발광 효율을 저하시킨다.However, since the polarizer absorbs light generated in the organic light emitting layer, the light emitting efficiency of the organic light emitting diode is lowered.

도 4b에 도시된 바와 같이, 비교예 1의 OLED에 대해 블랙 구동을 해 보면 블랙 휘도 구현시 반사광이 작아 양질의 블랙 컬러가 구현됨을 볼 수 있다. 하지만, 유기발광층에서 영상 디스플레이를 위해 발생되는 광도 상기 편광판에 의해 흡수되어 광효율이 저하된다.As shown in FIG. 4B, when black driving is performed on the OLED of Comparative Example 1, reflection light is small when a black luminance is realized, and a high quality black color is realized. However, the light generated for image display in the organic light emitting layer is also absorbed by the polarizing plate, resulting in a decrease in the light efficiency.

도 5a 및 도 5b를 참조하면, 상기 도 4a 및 도 4b에서 언급한 바와 같이, 편광판을 유기전계발광소자의 기판 상에 부착하면, 기판에서 발생되는 반사광을 줄일 수 있으나, 유기발광 다이오드의 발광 효율이 낮기 때문에 편광판을 제거하였다.Referring to FIGS. 5A and 5B, when the polarizing plate is attached to the substrate of the organic electroluminescent device as described in FIGS. 4A and 4B, the reflected light generated from the substrate can be reduced. However, The polarizer was removed.

따라서, 비교예 2에서는 유기발광 다이오드의 발광 효율은 개선되지만, 외부광에 의해 기판 또는 유기발광 다이오드의 제2 전극에서 발생되는 반사광을 제거하지 못한다.Therefore, in Comparative Example 2, although the luminous efficiency of the organic light emitting diode is improved, the reflected light generated from the substrate or the second electrode of the organic light emitting diode can not be removed by external light.

도 5b에서와 같이, 비교예 2의 OLED에 대해 블랙 구동을 하면 블랙 휘도 구현 시 반사광에 의해 회색 컬러가 구현되는 것을 볼 수 있다. 즉, 유기발광 다이오드에서 발생되는 광 손실을 최소화할 수 있으나, 블랙 휘도 구현시에는 반사광에 의해 콘트라스트비의 저하가 발생된다.As shown in FIG. 5B, when the OLED of Comparative Example 2 is driven with black, gray color is realized by reflection light when black luminance is implemented. That is, the loss of light generated in the organic light emitting diode can be minimized, but the contrast ratio is lowered due to the reflected light when implementing the black luminance.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 본 발명의 실시예와 같이, 기판의 일면 상에 저반사막을 형성하면, 외부광이 기판 영역에서 흡수되기 때문에 기판 영역에서의 반사광의 광량을 줄일 수 있다.6A and 6B, when a low reflection film is formed on one surface of a substrate as in the embodiment of the present invention, since the external light is absorbed in the substrate area, the light amount of the reflected light in the substrate area can be reduced.

도 6b에 도시된 바와 같이, 블랙 휘도 구현시 검보라 컬러를 나타내는 것을 볼 수 있다. 즉, 기판 상에 편광판을 부착한 비교예 1과 편광판을 완전히 제거한 비교예 2 사이에 해당하는 블랙 컬러를 구현하는 것을 볼 수 있다. As shown in FIG. 6 (b), black color can be seen when the black luminance is realized. That is, it can be seen that the black color corresponding to that between Comparative Example 1 in which the polarizing plate is attached on the substrate and Comparative Example 2 in which the polarizing plate is completely removed is realized.

도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 OLED의 광효율 특성을 도시한 도면이다.FIG. 7 is a graph showing light efficiency characteristics of an OLED according to the first embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 도 4a 및 도 5a의 비교예 1, 2와 본 발명의 제1 실시예에서 저반사막의 두께를 60Å(실시예 1(a))으로 한 경우와 저반사막의 두께를 100Å(실시예 1(b))으로 한 경우의 광효율 특성을 비교하였다.Referring to FIG. 7, in Comparative Examples 1 and 2 of FIGS. 4A and 5A and in the first embodiment of the present invention, the thickness of the low reflection film is 60 Å (Example 1 (a)), (Example 1 (b)).

또한, 상기 실시예 1(a), 실시예 1(b)는 유기전계발광소자의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역 모두에 저반사막을 형성한 경우이다.The first embodiment (a) and the first embodiment (b) are different from the first embodiment in that a low reflection film is formed in the red (R), green (G), blue (B) and white (W) pixel regions of an organic electroluminescent device .

비교예 1은 유기전계발광소자의 기판 배면에 광흡수를 위한 편광판을 배치한 경우이고, 이때 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역에서의 광효율(Cd/A)을 100으로 하였다.Comparative Example 1 is a case where a polarizing plate for light absorption is arranged on the back surface of the substrate of the organic electroluminescent device and the light efficiency Cd (red) in the red (R), green (G), blue (B) / A).

도 4a 및 도 4b에서 설명한 바와 같이, 비교예 1은 편광판이 외부광의 반사율을 줄이는 효과가 있지만, 유기발광 다이오드의 발광 효율을 저하시키는 문제가 있었다.As described with reference to FIGS. 4A and 4B, the polarizing plate of Comparative Example 1 had a problem of reducing the reflectance of external light, but the luminous efficiency of the organic light emitting diode was lowered.

비교예 2에서는 발광 효율 향상을 위해 유기전계발광소자의 기판 상에 부착하던 편광판을 제거한 구조로서, 비교예 1보다 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역에서 각각 238%, 238%, 231%, 237%로 광효율이 증가하는 것을 볼 수 있다.(R), green (G), blue (B), and white (W) pixel regions in comparison with Comparative Example 1. The polarizing plate of Comparative Example 2 was removed from the substrate of the organic electroluminescent device, , 238%, 238%, 231%, and 237%, respectively.

본 발명의 실시예 1(a)와 같이, 유기전계발광소자에 형성되는 저반사막의 두께를 60Å으로 한경우에는, 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역에서 각각 212%, 212%, 144%, 201%의 광효율을 갖는 것을 볼 수 있다.(R), green (G), blue (B), and white (W) pixels are formed in a thickness of 60 angstroms as the low reflection film formed on the organic electroluminescent device, as in Example 1 (a) And 212%, 212%, 144%, and 201%, respectively.

또한, 본 발명의 실시예 1(b)와 같이, 유기전계발광소자에 형성되는 저반사막의 두께를 100Å으로 한경우에는, 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역에서 각각 183%, 165%, 131%, 158%로 광효율을 갖는 것을 볼 수 있다.When the thickness of the low reflection film formed on the organic electroluminescent device is set to 100 angstroms, the red (R), green (G), blue (B), and white ) Pixel area, the light efficiency is 183%, 165%, 131%, and 158%, respectively.

즉, 본 발명의 실시예와 같이, 광흡수율이 큰 저반사막을 사용하되, 그 두께를 10~200Å 범위에서 형성하면, 편광판이 부착된 비교예 1보다 반사광을 줄이면서 광효율 특성이 크게 향상되도록 구현할 수 있는 효과가 있다.That is, as in the embodiment of the present invention, when a low reflection film having a high light absorptance is used, if the thickness is in the range of 10 to 200 angstroms, the light efficiency characteristic is greatly improved while reducing reflected light as compared with Comparative Example 1 in which the polarizer is attached There is an effect that can be.

도 8a는 본 발명의 제2실시예에 따른 OLED의 구조를 도시한 단면도이고, 도 8b는 도 8a의 백색(W) 화소 영역의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 8A is a cross-sectional view illustrating the structure of an OLED according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 8B is a view schematically illustrating a structure of a white (W) pixel region of FIG. 8A.

이하, 도 1과 동일한 도면 부호는 동일한 구성부를 지칭하는 것으로서, 여기서는 본 발명의 제1 실시예와 구별되는 부분을 중심으로 설명한다.Hereinafter, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same components, and the description will focus on the portions different from the first embodiment of the present invention.

도 8a 및 도 8b를 참조하면, 본 발명에 따른 제2 실시예의 유기전계발광소자(200)는 기판(101)의 비화소영역(NA)에 게이트 전극(201), 게이트 절연막(102), 채널층(204), 소스 및 드레인 전극(207a, 207b) 및 에치스톱퍼(205)로 구성된 구동 박막트랜지스터(210)가 배치되고, 발광영역(PA)에는 기판(101) 상에 게이트 절연막(102), 보호막(109) 및 적(R),녹(G),청(B) 및 백색(W) 컬러필터들(223a, 223b, 223c,223d)이 각각 형성되어 있다.8A and 8B, the organic electroluminescent device 200 according to the second embodiment of the present invention includes a gate electrode 201, a gate insulating film 102, a channel A driving thin film transistor 210 composed of a layer 204, source and drain electrodes 207a and 207b and an etch stopper 205 is disposed on the substrate 101. A gate insulating layer 102, A protective film 109 and red (R), green (G), blue (B) and white (W) color filters 223a, 223b, 223c and 223d are respectively formed.

또한, 상기 적(R), 녹(G), 청(B) 및 백색(W) 컬러필터들(223a, 223b, 223c,223d) 상부의 유기막(120) 상에는 각각의 화소 영역별로 유기발광 다이오드(E)가 형성되어 있다.On the organic film 120 on the red (R), green (G), blue (B) and white (W) color filters 223a, 223b, 223c and 223d, the organic light emitting diodes (E) is formed.

본 발명의 제2 실시예의 백색(W) 컬러필터(223d) 영역에는 보호막(109)과 유기막(120) 사이에 제1 저반사막(251)이 형성되어 있고, 상기 제1 저반사막(251)과 대응되는 유기막(120)과 제1 전극(230) 사이에는 제2 저반사막(350)이 형성되어 있다.The first low reflection film 251 is formed between the protective film 109 and the organic film 120 in the white color filter 223d region of the second embodiment of the present invention, A second low reflection film 350 is formed between the organic film 120 and the first electrode 230 corresponding to the first electrode 230.

상기 제1 저반사막(251)과 제2 저반사막(350)은 본 발명의 제1 실시예에서 설명한 금속을 사용할 수 있고, 제1 및 제2 저반사막(251, 350) 각각에 형성되는 금속으로 서로 다른 금속을 사용할 수 있다.The first and second low reflection films 251 and 350 may be made of the same materials as those of the first and second low reflection films 251 and 350, Different metals can be used.

또한, 상기 제1 및 제2 저반사막(251, 350)의 두께는 10~200Å에서 선택적으로 형성될 수 있고, 상기 제1 및 제2 저반사막(251, 350)의 두께는 서로 다르게 형성할 수 있다.The thickness of the first and second low reflection films 251 and 350 may be selected to be 10 to 200 angstroms and the thickness of the first and second low reflection films 251 and 350 may be different from each other. have.

또한, 도면에서는 제1 저반사막(251)을 보호막(120) 상에 형성하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 경우에 따라서는 기판(101)과 게이트 절연막(102) 사이, 게이트 절연막(102)과 보호막(109) 사이에 제1 저반사막(251)을 형성할 수 있다.Although the first low reflection film 251 is formed on the protective film 120 in the drawing, the present invention is not limited thereto. Therefore, the first low reflection film 251 may be formed between the substrate 101 and the gate insulation film 102, and between the gate insulation film 102 and the protection film 109, depending on circumstances.

또한, 상기 제2 저반사막(350)은 제1 전극(230)과 유기막(120) 사이에 형성하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 경우에 따라서는 게이트 절연막(102)과 보호막(109) 사이 또는 보호막(109)과 유기막(120) 사이에 제2 저반사막(350)을 형성할 수 있다. 이때, 제1 저반사막(251)의 위치는 제2 저반사막(350)의 하부에 형성된다.Further, the second low reflection film 350 is formed between the first electrode 230 and the organic film 120, but the present invention is not limited thereto. Accordingly, the second low reflection film 350 may be formed between the gate insulating film 102 and the protective film 109 or between the protective film 109 and the organic film 120, as the case may be. At this time, the position of the first low reflection film 251 is formed below the second low reflection film 350.

예를 들어, 상기 제2 저반사막(350)이 게이트 절연막(102)과 보호막(109) 사이에 형성되면, 제1 저반사막(251)은 게이트 절연막(102)과 기판(101) 사이에 형성되고, 상기 제2 저반사막(350)이 보호막(109)과 유기막(120) 사이에 형성되면, 상기 제1 저반사막(251)은 게이트 절연막(102)과 보호막(109) 사이에 형성된다.For example, when the second low reflection film 350 is formed between the gate insulation film 102 and the protection film 109, the first low reflection film 251 is formed between the gate insulation film 102 and the substrate 101 The first low reflection film 251 is formed between the gate insulation film 102 and the protection film 109 when the second low reflection film 350 is formed between the protection film 109 and the organic film 120.

또한, 도 8a의 OLED(200)에서는 백색(W) 화소 영역에 제1 및 제2 저반사막(251, 350)이 형성되는 것을 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 제1 실시예와 같이, 제1 및 제2 저반사막(251, 350)들은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 화소 영역들에도 모두 형성될 수 있다.Although the first and second low reflection films 251 and 350 are formed in the white pixel region in the OLED 200 of FIG. 8A, as in the first embodiment of the present invention, And the second low reflection films 251 and 350 may be formed in the red (R), green (G), and blue (B) pixel regions as well.

도 8b를 참조하면, 기판과 유기막 사이에 제1 저반사막이 형성되고, 유기막과 유기발광 다이오드의 제1 전극 사이에 제2 저반사막이 형성되어 있다.Referring to FIG. 8B, a first low reflection film is formed between the substrate and the organic film, and a second low reflection film is formed between the organic film and the first electrode of the organic light emitting diode.

본 발명의 제2 실시예에서는 외부광이 순차적으로 제1 및 제2 저반사막에 흡수되어, 기판 영역과 유기발광 다이오드 하측 영역에서 발생되는 반사광의 광량을 줄일 수 있다.In the second embodiment of the present invention, the external light is sequentially absorbed by the first and second low reflection films, and the amount of reflected light generated in the substrate region and the region below the organic light emitting diode can be reduced.

또한, 외부광이 유기발광 다이오드 영역까지 진행하여, 유기발광 다이오드의 제2 전극에서 반사되는 광도 제1 및 제2 저반사막에서 흡수되어 블랙 구동 시 양질의 블랙 컬러를 구현할 수 있다.Also, the external light travels to the organic light emitting diode region, and the light reflected from the second electrode of the organic light emitting diode is absorbed by the first and second low reflection films, thereby realizing high quality black color during black driving.

도 9a는 본 발명의 제3 실시예에 따른 OLED의 구조를 도시한 단면도이고, 도 9b는 도 9a의 백색(W) 화소 영역의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 9A is a cross-sectional view showing the structure of an OLED according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 9B is a view schematically showing the structure of a white (W) pixel region in FIG. 9A.

본 발명의 제3 실시예에서는 상부 발광방식 유기전계발광소자를 일예로 설명한다. 또한, 본 발명의 제3 실시예에서는 본 발명의 제1,2실시예와 도면 부호를 다르게 하였지만, 본 발명의 제1, 2 실시예와 동일한 구성은 동일한 재료와 구조로 형성될 수 있다.In the third embodiment of the present invention, the top emission type organic electroluminescent device will be described as an example. The third embodiment of the present invention differs from the first and second embodiments of the present invention in that the same reference numerals as in the first and second embodiments are used.

예를 들어, 본 발명의 제3실시예에서는 저반사막을 캡핑층(540) 상에 형성하였고, 도면부호를 560으로 하였지만, 저반사막의 재료, 두께, 형성위치 변경, 마이크로 캐비티 광학 설계 등 제1, 2 실시예에서 설명한 저반사막과 동일한 방식으로 구현할 수 있다.For example, in the third embodiment of the present invention, a low reflection film is formed on the capping layer 540 and the reference numeral is 560. However, the material of the low reflection film, thickness, , It can be implemented in the same manner as the low reflection film described in the second embodiment.

도 9a 및 도 9b를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 OLED(300)는 설명의 편의를 위해 구동 박막트랜지스터(DTr)가 형성되는 영역을 구동영역(DA) 그리고 뱅크(321)가 형성되는 영역을 비화소영역(NA), 유기발광 다이오드(E)가 배치되어 광을 발생하는 화소 영역을 각각 발광영역(PA)이라 정의한다.9A and 9B, the OLED 300 according to the third embodiment of the present invention includes a driving region DA and a bank 321 in a region where the driving thin film transistor DTr is formed for convenience of description. The non-pixel region NA and the pixel region in which the organic light emitting diode E is disposed to emit light are defined as a light emitting region PA.

도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 상부 발광방식 유기전계발광소자(300)는 구동 박막트랜지스터(DTr) 및 스위칭 박막트랜지스터 (DTr, 미도시)와 유기발광 다이오드(E)가 형성된 제1 기판(401)과, 상기 제1 기판(401)과 대향하면서 합착되는 컬러필터기판을 포함한다.The top emission type organic electroluminescent device 300 according to the present invention includes a first substrate 401 on which a driving thin film transistor DTr and a switching thin film transistor DTr (not shown) and an organic light emitting diode E are formed And a color filter substrate which is adhered to the first substrate 401 while facing the first substrate 401.

상기 제1 기판(401) 상에는 구동 트랜지스터(DTr)와 유기발광 다이오드(E)를 인캡슐레이션을 위한 캡핑층(540)이 형성되어 있다. 또한, 상기 제1 기판(401)은 플라스틱과 같은 플렉시블 기판 또는 금속 기판일 수 있다.A capping layer 540 for encapsulating the driving transistor DTr and the organic light emitting diode E is formed on the first substrate 401. The first substrate 401 may be a flexible substrate such as a plastic substrate or a metal substrate.

상기 컬러필터기판은 제1 기판(401)과 같이 투명한 플렉서블 기판 또는 금속 기판으로된 제2 기판(400)과, 상기 제2 기판(400) 상에 상기 제1 기판(401)의 유기발광 다이오드(E)와 대응되도록 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들(411a, 411b, 411c, 411d) 및 평탄층(450)을 포함한다.The color filter substrate includes a second substrate 400 made of a transparent flexible substrate or a metal substrate such as the first substrate 401 and a second substrate 400 formed on the second substrate 400. The organic light emitting diode Green (G), blue (B), and white (W) color filters 411a, 411b, 411c, and 411d and a planar layer 450 to correspond to the red (R), green

상기 백색(W) 컬러필터(411d)는 별도의 컬러필터 패턴이 형성되지 않고, 투명한 평탄층(450)을 백색(W) 컬러필터(411d)로 사용한다.The white color filter 411d does not have a separate color filter pattern but uses the transparent flat layer 450 as the white color filter 411d.

상기 제1 기판(401)의 비화소영역(NA)에는 게이트 전극(301), 게이트 절연막(402), 채널층(304), 소스 및 드레인 전극(307a, 307b) 및 에치스톱퍼(305)로 구성된 구동 박막트랜지스터(310: DTr)가 형성되어 있고, 발광영역(PA)에는 제1 기판(401) 상에 게이트 절연막(402), 보호막(409) 및 유기막(420)이 형성되어 있다.A gate electrode 301, a gate insulating film 402, a channel layer 304, source and drain electrodes 307a and 307b, and an etch stopper 305 are formed in the non-pixel area NA of the first substrate 401. [ A gate insulating film 402, a protective film 409 and an organic film 420 are formed on the first substrate 401 in the light emitting region PA.

상기 유기막(420)은 비화소영역(NA) 및 발광영역(PA)을 포함하는 제1 기판(401) 전영역에 형성되고, 발광영역(PA)과 대응되는 유기막(420) 상에는 도 1에서 설명한 바와 같이, 제1 전극(330), 유기발광층(331) 및 제2 전극(332)으로 구성된 유기발광 다이오드(E)가 형성되어 있다.The organic layer 420 is formed in the entire region of the first substrate 401 including the non-pixel region NA and the emission region PA and the organic layer 420 corresponding to the light- An organic light emitting diode E composed of a first electrode 330, an organic light emitting layer 331 and a second electrode 332 is formed.

다만, 본 발명의 제3 실시예에서는 상부 발광방식 OLED에 관한 것으로 제1 전극(330)은 도 9b에 도시한 바와 같이, 제1 투명전극(330a), 반사전극(330b) 및 제2 투명전극(330c)으로 구성된다. 또한, 제2 전극(332)도 본 발명의 제1 실시예에서는 불투명 금속이지만, 본 발명의 제3 실시예에서는 제1 실시예의 제1 전극과 같이 투명성 도전물질로 된 금속을 사용한다.In the third embodiment of the present invention, the first electrode 330 includes a first transparent electrode 330a, a reflective electrode 330b, and a second transparent electrode 330b, as shown in FIG. 9b. (330c). The second electrode 332 is also opaque metal in the first embodiment of the present invention. In the third embodiment of the present invention, a metal made of a transparent conductive material such as the first electrode of the first embodiment is used.

또한, 상기 유기발광 다이오드(E)는 비화소영역(NA) 상에 형성된 뱅크층(321)에 의해 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역별로 분리되어 형성된다.The organic light emitting diode E is divided into red (R), green (G), blue (B) and white (W) pixel regions by a bank layer 321 formed on a non- .

또한, 상기 구동 박막트랜지스터(310)의 채널층(304)은 고속 응답 특성을 구현하기 위해 인듐(In), 아연(Zn), 갈륨(Ga) 또는 하프늄(Hf) 중 적어도 하나를 포함하는 산화물반도체로 형성될 수 있다.The channel layer 304 of the driving thin film transistor 310 may be an oxide semiconductor including at least one of indium (In), zinc (Zn), gallium (Ga), or hafnium (Hf) As shown in FIG.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 구동 박막트랜지스터(310: DTr)의 게이트 전극(301)을 제1 기판(401) 상에 형성하기 전, 실리콘 산화막, 실리콘 질화막, 실리콘 산질화막 또는 이들의 다중층으로 구성된 버퍼층을 제1 기판(401) 전면에 더 형성할 수 있다.Although not shown in the drawing, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, or a multilayer thereof may be formed before forming the gate electrode 301 of the driving thin film transistor 310 (DTr) on the first substrate 401 The buffer layer may be further formed on the entire surface of the first substrate 401.

상기와 같이, 비화소영역(NA)과 발광영역(PA)의 제1 기판(401) 상에 구동 박막트랜지스터(310)와 유기발광 다이오드(E)가 형성되면, 제1 기판(401)의 전면에 캡핑층(540)을 형성한다.As described above, when the driving thin film transistor 310 and the organic light emitting diode E are formed on the first substrate 401 of the non-pixel area NA and the light emitting area PA, A capping layer 540 is formed.

또한, 상기 제2 기판에 형성된 백색(W) 컬러필터(411d)와 대응되는 제1 기판(401)의 캡핑층(540) 상에는 저반사막(560)을 형성한다.A low reflection film 560 is formed on the capping layer 540 of the first substrate 401 corresponding to the white (W) color filter 411d formed on the second substrate.

본 발명의 제3 실시예에서는 상부 발광방식 유기전계발광소자이기 때문에 컬러필터기판의 제2 기판(400) 배면을 통해 외부광이 입사되고, 입사된 광은 백색(W) 컬러필터(411d)와 대응되는 저반사막(560)에 의해 흡수되어 반사광의 광량을 줄일 수 있다.In the third embodiment of the present invention, external light is incident through the rear surface of the second substrate 400 of the color filter substrate, and the incident light passes through the white (W) color filter 411d It is absorbed by the corresponding low reflection film 560 and the amount of reflected light can be reduced.

따라서, 본 발명의 제3 실시예에서도 블랙 구동시 백색(W) 영역에서의 휘도 불량을 방지할 수 있다.Therefore, even in the third embodiment of the present invention, it is possible to prevent the brightness deficiency in the white (W) region when driving the black.

상기 저반사막(560)은 본 발명의 제1 실시예에서 설명한 바와 같이, 굴절률(n)과 소광계수(k)가 서로 유사한 값을 갖는 금속을 사용하는 것이 바람직하다.As described in the first embodiment of the present invention, the low reflection film 560 preferably uses a metal having a refractive index (n) and a extinction coefficient (k) that are similar to each other.

예를 들어 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)을 사용할 수 있다. 하지만, 이에 한정되는 것은 아니기 때문에 알루미늄(Al), 은(Ag), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 구리(Cu) 등의 금속 물질을 사용할 수 있다.For example, chromium (Cr) or molybdenum (Mo) can be used. However, it is not limited to this, and metal materials such as aluminum (Al), silver (Ag), titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W) and copper (Cu)

또한, 상기 저반사막(560)은 상기 제2 기판(400)과 백색(W) 컬러필터(411d) 사이에 형성되거나 상기 평탄층(450) 상에 형성될 수 있다.The low reflection layer 560 may be formed between the second substrate 400 and the white color filter 411d or may be formed on the planarization layer 450.

또한, 도면에서는 OLED(300)의 백색(W) 화소 영역에 저반사막(560)이 형성되는 것을 중심으로 설명하였으나, 상기 저반사막(560)은 적색(R),녹색(G) 및 청색(B) 화소 영역들에도 모두 형성될 수 있다.Although the low reflectance film 560 is formed on the red (R), green (G) and blue (B) regions of the OLED 300, ) Pixel regions.

즉, 상기 제2 기판(400)에 형성된 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들(411a, 411b, 411c, 411d)과 각각 대응되는 제1 기판(401)의 캡핑층(540) 상에 형성할 수 있다.That is, the second substrate 400 has a first substrate (not shown) corresponding to the red (R), green (G), blue (B) and white (W) color filters 411a, 411b, 411c, 401 may be formed on the capping layer 540.

또한, 상기 저반사막(560)은 상기 제2 기판(400)과 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들(411a, 411b, 411c, 411d) 사이 또는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들(411a, 411b, 411c, 411d)과 대응되는 평탄층(450) 상에 형성할 수 있다.The low reflection film 560 is formed between the second substrate 400 and the red (R), green (G), blue (B) and white (W) color filters 411a, 411b, 411c and 411d Can be formed on the flat layer 450 corresponding to the red (R), green (G), blue (B) and white (W) color filters 411a, 411b, 411c and 411d.

도 9b를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예는, 제1 기판(401) 상에 제1전극(330), 유기발광층(331) 및 제2 전극(332)으로 구성된 유기발광 다이오드(E)가 배치되어 있고, 상기 유기발광 다이오드(E) 상에는 캡핑층(540), 저반사막(560) 및 백색(W) 컬러필터가 형성된 제2 기판(400)이 순차적으로 적층된 구조를 갖는다.9B, a third embodiment of the present invention includes an organic light emitting diode E comprising a first electrode 330, an organic light emitting layer 331, and a second electrode 332 on a first substrate 401, And a second substrate 400 on which a capping layer 540, a low reflection film 560 and a white color filter are formed on the organic light emitting diode E are sequentially stacked.

따라서, 외부광이 제2 기판(400) 배면을 통해 입사되면, 저반사막(560)에 의해 흡수되어, 제2 기판(400) 영역에서의 반사광의 광량을 줄일 수 있다.
Therefore, when the external light is incident through the back surface of the second substrate 400, the light is absorbed by the low reflection film 560, and the amount of light reflected by the second substrate 400 can be reduced.

100: OLED 101: 기판
102: 게이트 절연막 109: 보호막
120: 유기막 221: 뱅크층
140: 캡핑층 201: 게이트 전극
204: 채널층 E: 유기발광 다이오드
100: OLED 101: substrate
102: gate insulating film 109: protective film
120: organic film 221: bank layer
140: capping layer 201: gate electrode
204: channel layer E: organic light emitting diode

Claims (15)

복수개의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들이 구획된 기판;
상기 기판 상의 화소 영역들 형성된 구동 박막트랜지스터와 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들;
상기 각 화소 영역에 형성된 구동 박막트랜지스터와 연결되고, 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들 상에 배치된 유기발광 다이오드; 및
상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들 중 적어도 어느 하나의 화소 영역에서 상기 기판과 상기 유기발광다이오드 사이에 배치된 저반사막을 포함하는 유기전계발광소자.
A substrate on which a plurality of red (R), green (G), blue (B), and white (W) pixel regions are partitioned;
(R), green (G), blue (B), and white (W) color filters formed on pixel regions of the substrate;
An organic light emitting diode connected to the driving thin film transistor formed in each pixel region and disposed on the red (R), green (G), blue (B), and white (W) color filters; And
And a low reflection film disposed between the substrate and the organic light emitting diode in at least one pixel region of the red (R), green (G), blue (B), and white (W) pixel regions, device.
제1항에 있어서, 상기 백색(W) 컬러필터는 상기 백색(W) 화소 영역에 배치된 유기막인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the white (W) color filter is an organic film disposed in the white (W) pixel region.
제2항에 있어서, 상기 백색(W) 화소 영역에 배치된 저반사막은 상기 유기막과 기판 사이에 배치된 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 2, wherein a low reflection film disposed in the white (W) pixel region is disposed between the organic film and the substrate.
제1항에 있어서, 상기 저반사막은 각각의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들에서 서로 다른 층에 형성되는 제1 저반사막과 제2 저반사막으로 구성된 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device of claim 1, wherein the low reflective layer comprises a first low reflective layer and a second low reflective layer formed on different layers in respective red (R), green (G), blue (B) ≪ / RTI >
제1항에 있어서, 상기 저반사막은 굴절율(n)과 소광계수(k)의 비(n/k)가 0.3~1.2인 물질인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the low reflection film is a material having a ratio (n / k) of a refractive index (n) to an extinction coefficient (k) of 0.3 to 1.2.
제1항에 있어서, 상기 저반사막의 두께는 10~200Å인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the low reflective layer has a thickness of 10 to 200 ANGSTROM.
제1항에 있어서, 상기 저반사막은 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the low reflection film is chromium (Cr) or molybdenum (Mo).
제1항에 있어서, 상기 유기발광 다이오드의 유기발광층은 백색 유기발광층인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the organic light emitting layer of the organic light emitting diode is a white organic light emitting layer.
복수개의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들이 구획된 제1 기판;
상기 제1 기판 상의 화소 영역들 형성된 구동 박막트랜지스터와 유기발광 다이오드;
상기 구동 박막트랜지스터와 유기발광다이오드들 상에 형성된 캡핑층;
상기 제1기판과 대향되는 제2 기판;
상기 복수개의 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들에 대응되도록 제2 기판 상에 형성된 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 컬러필터들; 및
상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 화소 영역들 중 적어도 어느 하나의 화소 영역에서 상기 제1 기판의 캡핑층과 상기 제2 기판 사이에 배치된 저반사막을 포함하는 유기전계발광소자.
A first substrate on which a plurality of red (R), green (G), blue (B), and white (W) pixel regions are partitioned;
An organic light emitting diode (OLED) having a pixel region formed on the first substrate;
A capping layer formed on the driving thin film transistor and the organic light emitting diodes;
A second substrate facing the first substrate;
Green (G), blue (B), and white (B) colors formed on the second substrate to correspond to the plurality of red (R), green (G), blue (B) (W) color filters; And
A low reflection film disposed between the capping layer of the first substrate and the second substrate in at least one pixel region of the red (R), green (G), blue (B), and white (W) And an organic electroluminescent device.
제9항에 있어서, 상기 백색(W) 컬러필터는 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 컬러필터들을 덮도록 상기 제2 기판 전면에 형성된 평탄층인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
10. The organic electroluminescent device according to claim 9, wherein the white color filter is a flat layer formed on the entire surface of the second substrate so as to cover the red (R), green (G), and blue (B) Light emitting element.
제10항에 있어서, 상기 백색(W) 화소 영역에 배치된 저반사막은 상기 평탄막과 상기 제2기판 사이에 배치된 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 10, wherein a low reflection film disposed in the white (W) pixel region is disposed between the flat film and the second substrate.
제9항에 있어서, 상기 저반사막은 굴절율(n)과 소광계수(k)의 비(n/k)가 0.3~1.2인 물질인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
The organic electroluminescent device according to claim 9, wherein the low reflection film is a material having a ratio (n / k) of a refractive index (n) to an extinction coefficient (k) of 0.3 to 1.2.
제9항에 있어서, 상기 저반사막의 두께는 10~200Å인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
10. The organic electroluminescent device according to claim 9, wherein the low reflective layer has a thickness of 10 to 200 ANGSTROM.
제9항에 있어서, 상기 저반사막은 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.
10. The organic electroluminescent device according to claim 9, wherein the low reflection film is Cr or molybdenum (Mo).
제9항에 있어서, 상기 유기발광 다이오드의 유기발광층은 백색 유기발광층인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.The organic electroluminescent device according to claim 9, wherein the organic light emitting layer of the organic light emitting diode is a white organic light emitting layer.
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