KR20150124274A - Digitizer and fabricating method of the same - Google Patents

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    • G06F3/046Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by electromagnetic means

Abstract

A digitizer according to an embodiment comprises: a first electrode disposed on a first substrate; an insulation layer disposed on the first electrode, and including a hole exposing a part of the first electrode; and a second electrode disposed on the insulation layer, and connected to the first electrode through the hole. The first electrode and second electrode respectively include a lower electrode layer and an upper electrode layer. The upper electrode layer is formed for warping an exposed front surface of the lower electrode layer. Moreover, a method for producing a digitizer according to an embodiment comprises the following steps: producing the first electrode on the first substrate; producing the insulation layer including the hole exposing a part of the first electrode on the first electrode; and producing the second electrode connected to the first electrode through the hole on the insulation layer. The steps of producing the first electrode and producing the second electrode include following the steps: producing the lower electrode layer; and producing the upper electrode layer wrapping a front surface of the lower electrode layer on the lower electrode layer through a printing process or a depositing process.

Description

디지타이저 및 그 제조 방법{DIGITIZER AND FABRICATING METHOD OF THE SAME}[0001] DIGITIZER AND FABRICATING METHOD OF THE SAME [0002]

실시예는 디지타이저 및 그 제조 방법에 관한 것이다.Embodiments relate to a digitizer and a method of manufacturing the same.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 펜 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 특정한 명령을 입력하는 터치 패널이 적용되고 있다.Recently, a touch panel has been applied to input a specific command by touching an input device such as a finger or a stylus pen to an image displayed on a display device in various electronic products.

스타일러스 펜의 입력 방식 중 하나로 EMR(electro magnetic resonance) 방식이 널리 이용되고 있다. EMR 방식은 인쇄회로기판에 루프 코일을 배치하며, 여기에 전압을 인가시켜 전력이 송신되어 송신된 전력으로 인해 전자기파가 발생되게 제어하며, 발생된 전자기파가 EMR 펜에 의하여 흡수될 수 있도록 제어한다. 여기에서, EMR 펜은 콘덴서 및 루프를 포함할 수 있으며, 흡수한 전자기파를 다시 소정의 주파수로 방출할 수 있다.Electro magnetic resonance (EMR) is widely used as an input method of a stylus pen. In the EMR system, a loop coil is disposed on a printed circuit board, a voltage is applied to the printed circuit board to control electromagnetic waves to be generated due to power transmitted, and the generated electromagnetic waves are absorbed by the EMR pen. Here, the EMR pen may include a capacitor and a loop, and the absorbed electromagnetic wave can be emitted again at a predetermined frequency.

EMR 펜에 의하여 방출된 전자기파는, 인쇄회로기판의 루프 코일에 의하여 다시 흡수될 수 있으며, 이에 따라 EMR 펜이 터치스크린의 어느 위치에 근접하여 있는지를 판단할 수 있다.The electromagnetic waves emitted by the EMR pen can be absorbed again by the loop coil of the printed circuit board, and thus it can be determined which position of the EMR pen is close to the touch screen.

이러한, EMR 방식의 경우, 인쇄회로기판에 전극을 형성하여 제조될 수 있다. 이에 따라, 인쇄회로기판의 특성상 전극의 기판을 일면 또는 양면에 모두 형성할 수 있는 장점이 있으나, 양면에 형성되는 전극을 연결하기 위해 기판 상에 홀을 형성하는 공정이 필수적으로 요구되므로, 제조공정이 복잡해지는 문제점이 있었다.In the case of the EMR method, it can be manufactured by forming an electrode on a printed circuit board. Accordingly, there is an advantage that a substrate of an electrode can be formed on one side or both sides of a printed circuit board due to the characteristics of a printed circuit board. However, since a process of forming a hole on a substrate to connect electrodes formed on both sides is essentially required, There is a problem in that it becomes complicated.

이에 따라, 제조 공정이 복잡하고, 공정 비용이 상승함에 따라, 공정 효율이 저하되는 문제점이 있었다. 따라서, 이와 같은 문제점을 해결할 수 있는 새로운 구조의 터치 패널 즉, 디지타이저가 요구된다. 또한, 상기 디지타이저는 저항과 같은 전기적 특성의 개선이 필요하다.As a result, the manufacturing process is complicated and the process cost is increased. Therefore, a touch panel, i.e., a digitizer, of a new structure capable of solving such a problem is required. In addition, the digitizer requires improvement in electrical characteristics such as resistance.

실시예는 전기적 특성을 개선한 디지타이저 및 그 제조 방법을 제공하고자 한다.Embodiments provide a digitizer with improved electrical characteristics and a method of manufacturing the same.

실시예에 따른 디지타이저는, 제 1 기판 상에 배치된 제 1 전극; 상기 제 1 전극 상에 배치되고, 상기 제 1 전극의 일부를 노출하는 홀을 포함하는 절연층; 및 상기 절연층 상에 배치되고, 상기 홀을 통해 상기 제 1 전극과 연결되는 제 2 전극을 포함하고, 상기 제 1 전극 및 제 2 전극은 각각 하부 전극층 및 상부 전극층을 포함하고, 상기 상부 전극층은 상기 하부 전극층의 노출된 전면을 둘러싸도록 형성된다.A digitizer according to an embodiment includes: a first electrode disposed on a first substrate; An insulating layer disposed on the first electrode, the insulating layer including a hole exposing a part of the first electrode; And a second electrode disposed on the insulating layer and connected to the first electrode through the hole, wherein the first electrode and the second electrode each include a lower electrode layer and an upper electrode layer, And is formed to surround the exposed front surface of the lower electrode layer.

또한, 실시예에 따른 디지타이저의 제조 방법은, 제 1 기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 전극 상에 상기 제 1 전극의 일부를 노출하는 홀을 포함하는 절연층을 형성하는 단계; 및 상기 절연층 상에 상기 홀을 통해 상기 제 1 전극과 연결되는 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 제 1 전극을 형성하는 단계 및 제 2 전극을 형성하는 단계는, 하부 전극층을 형성하는 단계; 및 인쇄 공정 또는 증착 공정으로, 상기 하부 전극층 상에 상기 하부 전극층의 전면을 둘러싸는 상부 전극층을 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a digitizer, including: forming a first electrode on a first substrate; Forming an insulating layer on the first electrode, the insulating layer including a hole exposing a portion of the first electrode; And forming a second electrode on the insulating layer, the second electrode being connected to the first electrode through the hole, wherein the forming of the first electrode and the forming of the second electrode include forming a lower electrode layer ; And forming an upper electrode layer surrounding the entire surface of the lower electrode layer on the lower electrode layer by a printing process or a deposition process.

실시예에 따른 디지타이저 및 그 제조 방법은, 용이하게 제조할 수 있어 공정 효율을 향상시킬 수 있다. 즉, 실시예에 따른 디지타이저는, 기재의 일면에 상부 전극층 및 하부 전극층으로 이루어진 제 1 전극을 형성하고, 상기 홀을 통해 상기 제 1 전극 및 제 2 전극을 연결함으로써 제조될 수 있다. The digitizer according to the embodiment and the manufacturing method thereof can be easily manufactured, and the process efficiency can be improved. That is, the digitizer according to the embodiment can be manufactured by forming a first electrode composed of an upper electrode layer and a lower electrode layer on one surface of a substrate, and connecting the first electrode and the second electrode through the hole.

또한, 실시예에 따른 디지타이저 및 그 제조 방법은, PET 등의 플라스틱 기재를 사용하므로, 대형 사이즈를 구현함과 동시에 공정 비용을 절감할 수 있다. 또한, 절연층 인쇄를 선택적으로 하여, 제 1 전극 및 제 2 전극을 연결하는 홀을 형성함으로써, 별도의 홀 형성 공정을 생략할 수 있다. 또한, 종래 양면에 형성되는 전극을 연결하기 위한 기판의 관통홀 형성 공정도 생략할 수 있으며, 공정 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, since the digitizer according to the embodiment and the manufacturing method thereof use a plastic substrate such as PET, it is possible to realize a large size and reduce the process cost. Further, by forming the holes connecting the first electrode and the second electrode by selectively printing the insulating layer, a separate hole forming step can be omitted. Also, the process of forming the through-holes of the substrate for connecting the electrodes formed on both sides of the substrate can be omitted, and the process efficiency can be improved.

또한, 실시예에 따른 디지타이저 및 그 제조 방법은, 제 1 전극 및 제 2 전극이 각각 상부 전극층 및 하부 전극층을 포함하고, 상기 상부 전극층이 상기 하부 전극층의 노출된 전면을 둘러싸도록 형성된다. 이로 인해, 상기 상부 전극층이 상기 하부 전극층을 보호할 수 있으며, 상기 상부 전극층은 하부 전극층의 손상을 방지하고, 디지타이저의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제 1 전극 및 제 2 전극 각각의 상부 전극층은 인쇄 공정 또는 증착 공정으로 형성된다. 즉, 형성 공정이 단순하고 제조 비용을 저감할 수 있다.The digitizer and the method of fabricating the same according to the embodiment of the present invention are configured such that the first electrode and the second electrode each include an upper electrode layer and a lower electrode layer, and the upper electrode layer surrounds the exposed front surface of the lower electrode layer. Thus, the upper electrode layer can protect the lower electrode layer, and the upper electrode layer can prevent damage to the lower electrode layer and improve the electrical characteristics of the digitizer. The upper electrode layer of each of the first electrode and the second electrode is formed by a printing process or a deposition process. That is, the forming process is simple and the manufacturing cost can be reduced.

도 1은 제 1 실시예에 따른 디지타이저의 평면도를 도시한 도면이다.
도 2 내지 도 6은 제 1 실시예에 따른 디지타이저의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도를 도시한 도면이다.
도 7은 제 2 실시예에 따른 디지타이저의 단면도를 도시한 도면이다.
1 is a plan view of a digitizer according to a first embodiment of the present invention.
FIGS. 2 to 6 are sectional views illustrating a method of manufacturing the digitizer according to the first embodiment.
7 is a sectional view of the digitizer according to the second embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), area, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under / under" Quot; includes all that is formed directly or through another layer. The criteria for top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 제 1 실시예에 따른 디지타이저의 평면도를 도시한 도면이고, 도 2 내지 도 6은 제 1 실시예에 따른 디지타이저의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도를 도시한 도면이다.FIG. 1 is a plan view of a digitizer according to a first embodiment, and FIGS. 2 to 6 are sectional views illustrating a method of manufacturing a digitizer according to a first embodiment.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 제 1 실시예에 따른 디지타이저는 기판(100)의 일면에 제 1 전극(210), 절연층(410) 및 제 2 전극(310)을 포함할 수 있다.1 to 6, the digitizer according to the first embodiment may include a first electrode 210, an insulating layer 410, and a second electrode 310 on one side of a substrate 100.

상기 기판(100)은 상기 제 1 전극(210), 절연층(410) 및 제 2 전극(310)을 지지할 수 있다. 상기 기판(100)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 이때, 상기 기판(100)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)를 포함할 수 있다.The substrate 100 may support the first electrode 210, the insulating layer 410, and the second electrode 310. The substrate 100 may comprise glass or plastic. At this time, the substrate 100 may include polyethylene terephthalate (PET).

도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 기판(100) 상에 제 1 전극(210)을 형성한다. 상기 제 1 전극(210)은 하부 전극층(201) 및 상부 전극층(202)으로 구성될 수 있다. 이때, 상기 제 1 전극(210)의 상부 전극층(202)은 하부 전극층(201)의 산화 및 손상을 방지하고, 전기적 특성을 향상시킬 수 있다. Referring to FIGS. 2 and 3, a first electrode 210 is formed on the substrate 100. The first electrode 210 may include a lower electrode layer 201 and an upper electrode layer 202. At this time, the upper electrode layer 202 of the first electrode 210 prevents oxidization and damage of the lower electrode layer 201 and improves the electrical characteristics.

상기 제 1 전극(210)은 상기 기판(100)과 접촉하며 배치될 수 있다. 이때, 상기 제 1 전극(210)은 제 1 방향으로 연장하며 상기 기판(100) 상에 배치될 수 있다.The first electrode 210 may be disposed in contact with the substrate 100. At this time, the first electrode 210 may extend in a first direction and may be disposed on the substrate 100.

상기 제 1 전극(210)의 하부 전극층(201)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 하부 전극층(201)은 금속 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 하부 전극층(201)은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni) 및 크롬(Cr) 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.The lower electrode layer 201 of the first electrode 210 may include a conductive material. The lower electrode layer 201 may include a metal material. For example, the lower electrode layer 201 may include at least one of Au, Ag, Cu, Mo, Ni, and Cr .

상기 하부 전극층(201)은 도전성 페이스트를 상기 기판(100) 상에 인쇄하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 은(Ag) 페이스트를 스크린 프린팅, 잉크젯, 에어로젯, 다이렉트 프린팅 또는 그라비아 옵셋 등의 인쇄 공정에 의하여 인쇄하여 하부 전극층(201)을 형성할 수 있다.The lower electrode layer 201 may be formed by printing a conductive paste on the substrate 100. For example, the lower electrode layer 201 can be formed by printing a silver (Ag) paste by a printing process such as screen printing, inkjet, aeroget, direct printing or gravure offset.

그러나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 기판(100) 상에 금속을 직접 증착하거나, 또는 금속이 증착된 기판(100)을 패터닝하여 하부 전극층(201)을 형성할 수 있다.However, the embodiment is not limited to this, and the lower electrode layer 201 may be formed by directly depositing metal on the substrate 100, or patterning the substrate 100 on which the metal is deposited.

상기 하부 전극층(201)은 일정한 두께로 형성될 수 있다. 일례로, 상기 하부 전극층(201)은 약 9㎛ 내지 약 50㎛의 두께로 형성될 수 있다. 상기 하부 전극층(201)의 두께가 약 9㎛ 미만인 경우, 전기적 특성이 저하될 수 있고, 두께가 약 50㎛를 초과하는 경우, 디지타이저의 두께가 두꺼워질 수 있다.The lower electrode layer 201 may have a predetermined thickness. For example, the lower electrode layer 201 may be formed to a thickness of about 9 μm to about 50 μm. If the thickness of the lower electrode layer 201 is less than about 9 占 퐉, the electrical characteristics may deteriorate, and if the thickness exceeds about 50 占 퐉, the thickness of the digitizer may be thickened.

도 3을 참조하면, 상기 하부 전극층(201) 상에 상부 전극층(202)을 형성한다. 상기 상부 전극층(202)은 노출된 하부 전극층(201)의 전면을 둘러싸고 형성된다. 즉, 상기 하부 전극층(201)의 상면 및 측면이 외부에 노출되어 있는 경우, 상기 상부 전극층(202)은 상기 하부 전극층(201)의 상면 및 측면 상에 형성된다. Referring to FIG. 3, an upper electrode layer 202 is formed on the lower electrode layer 201. The upper electrode layer 202 is formed to surround the entire surface of the lower electrode layer 201. That is, when the upper surface and side surfaces of the lower electrode layer 201 are exposed to the outside, the upper electrode layer 202 is formed on the upper surface and side surfaces of the lower electrode layer 201.

상기 상부 전극층(202)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 상부 전극층(202)은 인쇄 공정 또는 증착 공정으로 형성될 수 있다. 이때, 상기 하부 전극층(201)과 상부 전극층(202)은 동일한 물질로 형성될 수 있다. 또한, 상기 하부 전극층(201)과 상부 전극층(202)은 서로 상이한 물질로 형성될 수 있다.The upper electrode layer 202 may include a conductive material. The upper electrode layer 202 may be formed by a printing process or a deposition process. At this time, the lower electrode layer 201 and the upper electrode layer 202 may be formed of the same material. The lower electrode layer 201 and the upper electrode layer 202 may be formed of materials different from each other.

상기 인쇄 공정은 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트를 스크린 프린팅, 잉크젯, 에어로젯, 다이렉트 프린팅 또는 그라비아 옵셋 등으로 인쇄하여 상기 상부 전극층(202)을 형성하는 공정을 의미한다.The printing process refers to a process of forming the upper electrode layer 202 by printing conductive ink or conductive paste with screen printing, inkjet, aeroget, direct printing or gravure offset.

상기 도전성 잉크는 통상적으로 수 나노 ~ 수십 마이크로미터 직경의 도전성 입자를 용매에 분산시킨 소재로, 도전성 잉크를 하부 전극층(201) 상에 인쇄하여 형성하고, 소정의 온도에서 열을 가하면, 분산제 등의 유기 첨가물이 휘발되고, 도전성 입자 사이의 공극이 수축 및 소결(Sintering)되어 전기 및 기계적으로 서로 연결된 도체가 형성된다.The conductive ink is a material in which conductive particles having a diameter of several nanometers to several tens of micrometers are dispersed in a solvent. When a conductive ink is printed on the lower electrode layer 201 and heat is applied at a predetermined temperature, The organic additives are volatilized and the voids between the conductive particles are shrunk and sintered to form conductors electrically and mechanically connected to each other.

상기 도전성 잉크는 극성 또는 비극성 용매에 캡핑 분자 및 첨가제와 함께 나노 사이즈 또는 마이크로 사이즈의 전기 전도성이 있는 물질의 도전성 입자를 재분산시켜 잉크화함으로써 제조될 수 있다. 이때, 상기 도전성 입자는 금속 나노 입자 일 수 있으며, 예를 들면, 상기 도전성 입자는 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. The conductive ink may be prepared by redispersing conductive particles of nano-sized or micro-sized electroconductive materials together with capping molecules and additives in a polar or non-polar solvent to form an ink. The conductive particles may be metal nanoparticles. For example, the conductive particles may be any one selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), and combinations thereof .

상기 금속 나노 입자를 세라믹 입자 또는 유기 분자로서 캡핑(capping)하게 되면 소성시 또는 공기와의 접촉시에도 금속 나노 입자의 산화를 방지하며 입자간의 응집을 방지하고 비저항을 일정하게 유지할 수 있다. 또한, 상기 도전성 잉크는 필요에 따라, 추가적인 유기 용매, 바인더, 분산제, 증점제, 계면활성제 등의 기타 첨가제를 더 포함할 수 있다.The capping of the metal nanoparticles as ceramic particles or organic molecules prevents oxidation of the metal nanoparticles during firing or in contact with air, prevents agglomeration between particles, and maintains the specific resistance constant. The conductive ink may further contain other additives such as an additional organic solvent, a binder, a dispersing agent, a thickener, and a surfactant, if necessary.

또한, 상기 도전성 페이스트는 통상적으로 수 나노 ~ 수십 마이크로미터 직경의 도전성 입자를 접착성이 있는 수지(Resin)에 분산시킨 소재로, 도전성 페이스트를 하부 전극층(201)에 인쇄하고, 소정의 온도에서 열을 가하면, 수지가 경화(Curing)되고, 금속 입자 사이의 전기 및 기계적 접촉이 고정되어 서로 연결된 도체가 형성될 수 있다.The conductive paste is a material in which conductive particles having a diameter of several nanometers to several tens of micrometers are dispersed in an adhesive resin. The conductive paste is printed on the lower electrode layer 201, The resin is cured and electrical and mechanical contact between the metal particles is fixed so that conductors connected to each other can be formed.

상기 도전성 페이스트는 전기 전도성이 있는 물질의 도전성 입자를 포함한다. 예를 들면, 상기 도전성 입자는 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. 상기 도전성 입자의 형태는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 판형, 파이버 형과 나노 크기의 나노입자, 나노튜브 등이 사용될 수 있다. 이러한 도전성 입자는 단독 또는 조합하여 사용될 수 있다.The conductive paste includes conductive particles of an electrically conductive material. For example, the conductive particles may be any one selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), and combinations thereof. The shape of the conductive particles is not particularly limited, and for example, plate-like, fiber-like and nano-sized nanoparticles, nanotubes and the like can be used. These conductive particles may be used alone or in combination.

또한, 상기 도전성 페이스트는 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 바인더를 추가적으로 포함할 수 있다. 또한, 추가적으로 그 밖의 첨가제로서 은(Ag) 파우더와 같은 안료, 솔벤트, 분산제, 커플링제, 점도조절제 등을 포함할 수 있다.In addition, the conductive paste may further include a binder to improve adhesion with the substrate. In addition, other additives may include pigments such as silver (Ag) powder, a solvent, a dispersing agent, a coupling agent, a viscosity adjusting agent, and the like.

상기 증착 공정은 금속 산화막을 증착하여 상기 상부 전극층(202)을 형성하는 공정을 의미한다. 이때, 상기 금속 산화막은 구리 산화막(CuOx) 또는 은 산화막(AgOx)일 수 있다.The deposition process refers to a process of depositing a metal oxide layer to form the upper electrode layer 202. At this time, the metal oxide film may be a copper oxide film (CuOx) or a silver oxide film (AgOx).

특히, 상기 금속 산화막으로 상부 전극층(202)을 형성하는 경우, 상기 상부 전극층(202)은 노출된 하부 전극층(201)의 전면을 둘러싸고 형성되므로, 상기 하부 전극층(201)의 산화 방지가 용이한 이점이 있다. Particularly, when the upper electrode layer 202 is formed by the metal oxide film, the upper electrode layer 202 is formed to surround the entire surface of the lower electrode layer 201, so that the lower electrode layer 201 has advantages .

상기 상부 전극층(202)은 약 1㎛ 내지 약 10㎛의 두께로 형성될 수 있다. 상기 상부 전극층(202)의 두께가 약 1㎛ 미만인 경우, 저항이 상승하여 전기적 특성이 저하될 수 있고, 약 10㎛를 초과하는 경우, 두께가 두꺼워질 수 있고, 공정효율이 저하될 수 있다.The upper electrode layer 202 may be formed to a thickness of about 1 [mu] m to about 10 [mu] m. If the thickness of the upper electrode layer 202 is less than about 1 mu m, the resistance may increase and the electrical characteristics may be deteriorated. If the thickness is more than about 10 mu m, the thickness may be increased, and the process efficiency may be lowered.

도면상에는 상기 상부 전극층(202)을 단일층으로 표현하였지만, 상기 상부 전극층(202)은 2이상의 다중층으로 형성될 수도 있다. 상기 상부 전극층(202)은 상기 하부 전극층(201)을 산화로부터 보호할 수 있으며, 상기 상부 전극층(202)이 손상되더라도, 상기 하부 전극층(201)의 손상을 방지할 수 있다. 또한, 상기 상부 전극층(202)이 형성됨에 따라, 디지타이저의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.Although the upper electrode layer 202 is represented as a single layer in the drawing, the upper electrode layer 202 may be formed of two or more multi-layers. The upper electrode layer 202 may protect the lower electrode layer 201 from oxidation and may prevent damage to the lower electrode layer 201 even if the upper electrode layer 202 is damaged. In addition, as the upper electrode layer 202 is formed, the electrical characteristics of the digitizer can be improved.

도 4를 참조하면, 상기 상부 전극층(202)이 형성된 기판(100) 상에 절연층(410)을 형성한다. 상기 절연층(410)은 인쇄 공정을 통해 형성될 수 있다. 상기 절연층(410)은 아크릴 등의 절연 수지를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, an insulating layer 410 is formed on a substrate 100 on which the upper electrode layer 202 is formed. The insulating layer 410 may be formed through a printing process. The insulating layer 410 may include an insulating resin such as acryl.

상기 절연층(410)은 상기 제 1 전극(210) 및 상부 전극층(202) 상에 배치될 수 있다. 상기 절연층(410)은 상기 상부 전극층(202)을 감싸면서 배치될 수 있다. 상기 상부 전극층(202)이 상기 제 1 전극(210)을 감싸면서 배치되는 바, 상기 절연층(410)은 제 1 전극(210)을 감싸는 형태로 배치될 수 있다. The insulating layer 410 may be disposed on the first electrode 210 and the upper electrode layer 202. The insulating layer 410 may be disposed while surrounding the upper electrode layer 202. The upper electrode layer 202 is disposed to surround the first electrode 210. The insulating layer 410 may be disposed to surround the first electrode 210.

상기 절연층(410)에는 홀(hole, H)이 형성될 수 있다. 즉, 상기 절연층(410)에는 상기 절연층(410)을 관통하며 형성되는 홀(H)이 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 절연층(410)을 인쇄할 때, 홀(H) 부분을 제외하는 선택적 인쇄를 함으로써, 상기 절연층(410) 상에는 복수 개의 홀(H)들이 형성될 수 있다. A hole H may be formed in the insulating layer 410. That is, the insulating layer 410 may be formed with a hole H through the insulating layer 410. For example, when the insulating layer 410 is printed, a plurality of holes H may be formed on the insulating layer 410 by performing selective printing except for the hole H.

상기 홀(H)에 의해 상기 기판(100) 상에 배치되는 상부 전극층(202)이 노출될 수 있다. 즉, 상기 홀(H)은 상기 제 1 전극(210) 및 상부 전극층(202)이 배치되는 부분과 대응되는 영역에 형성될 수 있다.The upper electrode layer 202 disposed on the substrate 100 may be exposed by the holes H. That is, the holes H may be formed in a region corresponding to the portion where the first electrode 210 and the upper electrode layer 202 are disposed.

이에 따라, 상기 기판(100) 상에 배치되고, 상기 제 1 전극(210)과 연결되는 상기 상부 전극층(202)은 부분적으로는 상기 제 1 절연층(410)에 의해 덮이고, 부분적으로는 상기 홀(H)에 의해 노출될 수 있다.The upper electrode layer 202 disposed on the substrate 100 and connected to the first electrode 210 is partially covered with the first insulating layer 410 and partially covered with the hole (H).

도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 절연층(410) 상에 하부 전극층(301) 및 상부 전극층(302)으로 구성된 제 2 전극(310)을 형성한다. 즉, 상기 홀(H)을 포함하는 절연층(410) 상에 제 2 전극(310)의 하부 전극층(301)을 형성한다. 이후, 상기 하부 전극층(301) 상에 상기 제 2 전극(310)의 상부 전극층(302)을 형성한다. 이때, 상기 제 2 전극(310)의 상부 전극층(302)은 하부 전극층(301)의 산화 및 손상을 방지하고, 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.Referring to FIGS. 5 and 6, a second electrode 310 including a lower electrode layer 301 and an upper electrode layer 302 is formed on the insulating layer 410. That is, the lower electrode layer 301 of the second electrode 310 is formed on the insulating layer 410 including the hole H. Then, the upper electrode layer 302 of the second electrode 310 is formed on the lower electrode layer 301. At this time, the upper electrode layer 302 of the second electrode 310 prevents oxidization and damage of the lower electrode layer 301 and improves the electrical characteristics.

상기 제 2 전극(310)의 하부 전극층(301)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 하부 전극층(301)은 금속 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 하부 전극층(201)은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni) 및 크롬(Cr) 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.The lower electrode layer 301 of the second electrode 310 may include a conductive material. The lower electrode layer 301 may include a metal material. For example, the lower electrode layer 201 may include at least one of Au, Ag, Cu, Mo, Ni, and Cr .

상기 하부 전극층(301)은 도전성 페이스트를 상기 절연층(410) 상에 인쇄하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 은(Ag) 페이스트를 스크린 프린팅, 잉크젯, 에어로젯, 다이렉트 프린팅 또는 그라비아 옵셋 등의 인쇄 공정에 의하여 인쇄하여 하부 전극층(301)을 형성할 수 있다. 그러나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 절연층(410) 상에 금속을 직접 증착하여 형성할 수 있다.The lower electrode layer 301 may be formed by printing a conductive paste on the insulating layer 410. For example, the lower electrode layer 301 can be formed by printing a silver (Ag) paste by a printing process such as screen printing, inkjet, aeroget, direct printing or gravure offset. However, the embodiment is not limited to this, and the metal layer may be formed by directly depositing a metal on the insulating layer 410.

상기 하부 전극층(301)은 일정한 두께로 형성될 수 있다. 일례로, 상기 하부 전극층(301)은 약 9㎛ 내지 약 50㎛의 두께로 형성될 수 있다. 상기 하부 전극층(301)의 두께가 약 9㎛ 미만인 경우, 전기적 특성이 저하될 수 있고, 두께가 약 50㎛를 초과하는 경우, 디지타이저의 두께가 두꺼워질 수 있다.The lower electrode layer 301 may have a predetermined thickness. For example, the lower electrode layer 301 may be formed to a thickness of about 9 μm to about 50 μm. If the thickness of the lower electrode layer 301 is less than about 9 占 퐉, the electrical characteristics may deteriorate, and if the thickness exceeds about 50 占 퐉, the thickness of the digitizer may be thickened.

도 6을 참조하면, 상기 하부 전극층(301) 상에 상부 전극층(302)을 형성한다. 상기 상부 전극층(302)은 노출된 하부 전극층(301)의 전면을 둘러싸고 형성된다. 즉, 상기 하부 전극층(301)의 상면 및 측면이 외부에 노출되어 있는 경우, 상기 상부 전극층(302)은 상기 하부 전극층(301)의 상면 및 측면 상에 형성된다. Referring to FIG. 6, an upper electrode layer 302 is formed on the lower electrode layer 301. The upper electrode layer 302 is formed to surround the entire surface of the exposed lower electrode layer 301. That is, when the upper surface and the side surface of the lower electrode layer 301 are exposed to the outside, the upper electrode layer 302 is formed on the upper surface and the side surface of the lower electrode layer 301.

상기 상부 전극층(302)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 상부 전극층(302)은 인쇄 공정 또는 증착 공정으로 형성될 수 있다. 이때, 상기 하부 전극층(301)과 상부 전극층(302)은 동일한 물질로 형성될 수 있다. 또한, 상기 하부 전극층(301)과 상부 전극층(302)은 서로 상이한 물질로 형성될 수 있다.The upper electrode layer 302 may include a conductive material. The upper electrode layer 302 may be formed by a printing process or a deposition process. At this time, the lower electrode layer 301 and the upper electrode layer 302 may be formed of the same material. The lower electrode layer 301 and the upper electrode layer 302 may be formed of materials different from each other.

상기 인쇄 공정은 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트를 스크린 프린팅, 잉크젯, 에어로젯, 다이렉트 프린팅 또는 그라비아 옵셋 등으로 인쇄하여 상기 상부 전극층(302)을 형성하는 공정을 의미한다. 상기 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트는 상기 제 1 전극(210)의 상부 전극층(202)과 동일할 수 있다.The printing process refers to a process of forming the upper electrode layer 302 by printing conductive ink or conductive paste using screen printing, inkjet, aeroget, direct printing or gravure offset. The conductive ink or conductive paste may be the same as the upper electrode layer 202 of the first electrode 210.

상기 증착 공정은 금속 산화막을 증착하여 상기 상부 전극층(202)을 형성하는 공정을 의미한다. 이때, 상기 금속 산화막은 구리 산화막(CuOx) 또는 은 산화막(AgOx)일 수 있다. The deposition process refers to a process of depositing a metal oxide layer to form the upper electrode layer 202. At this time, the metal oxide film may be a copper oxide film (CuOx) or a silver oxide film (AgOx).

상기 상부 전극층(302)은 약 1㎛ 내지 약 10㎛의 두께로 형성될 수 있다. 상기 상부 전극층(302)의 두께가 약 1㎛ 미만인 경우, 저항이 상승하여 전기적 특성이 저하될 수 있고, 약 10㎛를 초과하는 경우, 두께가 두꺼워질 수 있고, 공정효율이 저하될 수 있다.The upper electrode layer 302 may have a thickness of about 1 [mu] m to about 10 [mu] m. If the thickness of the upper electrode layer 302 is less than about 1 占 퐉, the resistance may increase and the electrical characteristics may be deteriorated. If the thickness is more than about 10 占 퐉, the thickness may be increased and the process efficiency may be lowered.

도면상에는 상기 상부 전극층(302)을 단일층으로 표현하였지만, 상기 상부 전극층(302)은 2이상의 다중층으로 형성될 수도 있다. 상기 상부 전극층(302)은 상기 하부 전극층(301)을 산화로부터 보호할 수 있으며, 상기 상부 전극층(302)이 손상되더라도, 상기 하부 전극층(301)의 손상을 방지할 수 있다. 또한, 상기 상부 전극층(302)이 형성됨에 따라, 디지타이저의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.Although the upper electrode layer 302 is represented as a single layer in the drawing, the upper electrode layer 302 may be formed of two or more multi-layers. The upper electrode layer 302 can protect the lower electrode layer 301 from oxidation and can prevent damage to the lower electrode layer 301 even if the upper electrode layer 302 is damaged. In addition, as the upper electrode layer 302 is formed, the electrical characteristics of the digitizer can be improved.

상기 제 2 전극(310)의 하부 전극층(301)은 상기 절연층(410)의 상기 홀(H)을 통해 상기 제 1 전극(210)의 상부 전극층(202)과 접하도록 형성될 수 있다. 이로 인해, 홀(H) 형성 영역에서 상기 제 1 전극(210)과 상기 제 2 전극(310)은 접촉할 수 있다. The lower electrode layer 301 of the second electrode 310 may be formed to contact the upper electrode layer 202 of the first electrode 210 through the hole H of the insulating layer 410. Accordingly, the first electrode 210 and the second electrode 310 can be in contact with each other in the hole forming region.

도면 상에는, 상기 제 1 전극(210)이 세로 방향으로 배치되고, 상기 제 2 전극(310)이 가로 방향으로 배치되는 것을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 제 1 전극(210) 및 상기 제 2 전극(310)은 서로 교차하는 다양한 방향으로 배치될 수 있다. 서로 교차되어 형성되는 상기 제 1 전극(210) 및 상기 제 2 전극(310)은 마그네틱 필드 형성을 위한 구동 코일 및 펜의 위치를 검출하기 위한 감지 코일로 동작할 수 있다.Although the first electrode 210 is arranged in the longitudinal direction and the second electrode 310 is arranged in the horizontal direction on the drawing, the embodiment is not limited to this, The second electrodes 310 may be arranged in various directions intersecting with each other. The first electrode 210 and the second electrode 310 formed to intersect with each other can operate as a sense coil for detecting the position of a driving coil and a pen for forming a magnetic field.

자세하게는, 상기 제 1 전극(210), 상기 제 2 전극(310)은 상기 홀(H)을 통해 서로 연결되면서, 전체적으로 루프 형상의 전극이 구현될 수 있다. 예를 들면, 도 1에 도시된 화살표 방향과 같이, 디지타이저의 전극은, 상기 제 1 전극(210)이 연장하는 제 1 방향으로 연장되어 상기 홀(H) 부분에서 상기 제 2 전극(310)과 접촉하고, 이러한 접촉 부분을 기준으로, 상기 제 2 전극(310)이 연장하는 제 2 방향으로 연장되어 다시 상기 홀(H) 부분에서 상기 제 1 전극(210)과 접촉하고, 이러한 접촉 부분을 기준으로, 상기 제 1 전극(210)이 연장하는 제 1 방향으로 연장될 수 있다. In detail, the first electrode 210 and the second electrode 310 may be connected to each other through the hole H, thereby forming a loop-shaped electrode as a whole. 1, the electrode of the digitizer extends in a first direction in which the first electrode 210 extends, and is electrically connected to the second electrode 310 and the second electrode 310 in the hole H, And extends in the second direction in which the second electrode 310 extends, and contacts the first electrode 210 in the hole H again, May extend in a first direction in which the first electrode 210 extends.

이에 따라, 상기 제 1 전극(210) 및 상기 제 2 전극(310)은 상기 홀(H) 부분에서 서로 접촉하며 전체적으로 루프 형상의 전극으로 구현될 수 있다. 즉, 상기 제 1 전극(210) 및 상기 제 2 전극(310)을 포함하는 상기 전극은 루프 형상의 코일(coil)일 수 있다.Accordingly, the first electrode 210 and the second electrode 310 may be formed as a loop-shaped electrode that contacts each other at the hole (H). That is, the electrode including the first electrode 210 and the second electrode 310 may be a loop-shaped coil.

이에 따라, 디지타이저를 포함하는 디스플레이 장치의 일면에서 전자기 방식의 터치 물체, 일례로 디지타이저 펜이 터치되는 경우, 이러한 디지타이저 펜 내부에 포함되는 공진회로에서 발생하는 신호를, 터치 센서에서 인식하여 디지타이저 펜의 위치를 검출할 수 있다. 상기 제 1 전극(210) 및 상기 제 2 전극(310)을 포함하는 루프 코일에 전력이 송신되어 전자기파가 발생되고, 발생된 전가기파는 디지타이저 펜에 의해 흡수되고, 디지타이저 펜에 흡수되는 전자기파를 다시 소정의 주파수로 방출함으로써, 이러한 디지타이저 펜의 접근에 의해 발생하는 전자기적 변화를 상기 터치 센서에서 감지하여 디지타이저 펜의 위치를 파악할 수 있다.Accordingly, when a touch object, e.g., a digitizer pen, of an electromagnetic type is touched on one surface of a display device including a digitizer, a signal generated in a resonance circuit included in the digitizer pen is recognized by the touch sensor, The position can be detected. Electric power is transmitted to the loop coil including the first electrode 210 and the second electrode 310 to generate an electromagnetic wave. The generated electromagnetic wave is absorbed by the digitizer pen, and the electromagnetic wave absorbed by the digitizer pen is re- By emitting at a predetermined frequency, the touch sensor senses the electromagnetic change caused by the approach of the digitizer pen, and the position of the digitizer pen can be grasped.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제 2 전극(310) 상에는 상기 제 2 전극(310)을 보호하는 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. 상기 보호층은 절연층으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 보호층은 인쇄 공정을 통해 형성될 수 있으며, 상기 보호층은 아크릴 등의 절연 수지를 포함할 수 있다. 또한, 상기 기판(100)의 타면에는 차폐층 또는 그라운드 전극 등 하나 이상의 기능층들이 더 배치될 수 있다.Although not shown in the drawing, a protective layer (not shown) may be further formed on the second electrode 310 to protect the second electrode 310. The protective layer may be formed of an insulating layer. In addition, the protective layer may be formed through a printing process, and the protective layer may include an insulating resin such as acryl. In addition, one or more functional layers such as a shielding layer or a ground electrode may be further disposed on the other surface of the substrate 100.

이하, 도 7을 참조하여, 다른 실시예에 따른 디지타이저 및 그 제조 방법을 설명한다. 도 7은 제 2 실시예에 따른 디지타이저의 단면도를 도시한 도면이다. 제 2 실시예에 따른 디지타이저 및 그 제조 방법에 대한 설명에서는 앞서 설명한 실시예에 따른 디지타이저에 대한 설명과 동일 유사한 부분에 대한 설명은 생략하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여한다.Hereinafter, a digitizer according to another embodiment and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIG. 7 is a sectional view of the digitizer according to the second embodiment. In the description of the digitizer according to the second embodiment and the method of manufacturing the same, description of parts similar to those of the digitizer according to the embodiment described above will be omitted, and the same reference numerals are given to the same components.

도 7을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 디지타이저는 제 1 기판(100) 상에 배치되는 제 2 기판(200)을 더 포함할 수 있다. 상기 제 1 기판(100) 또는 제 2 기판(200)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 이때, 상기 제 1 기판(100) 또는 제 2 기판(200)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 7, the digitizer according to the second embodiment of the present invention may further include a second substrate 200 disposed on the first substrate 100. The first substrate 100 or the second substrate 200 may include glass or plastic. At this time, the first substrate 100 or the second substrate 200 may include polyethylene terephthalate (PET).

상기 제 1 기판(100) 상에 제 1 전극(210) 및 상기 제 1 전극(210)의 일부를 노출하는 홀(H)을 포함하는 절연층(410)을 형성한다. 또한, 상기 제 2 기판(200) 상에 제 2 전극(310)을 형성한다. 이후, 상기 제 2 기판(200)을 상기 절연층(410) 상에 배치하고, 상기 제 2 전극(310)과 제 1 전극(210)을 연결하는 연결부(610)를 형성한다. An insulating layer 410 including a first electrode 210 and a hole H exposing a part of the first electrode 210 is formed on the first substrate 100. A second electrode 310 is formed on the second substrate 200. The second substrate 200 is disposed on the insulating layer 410 and a connection portion 610 connecting the second electrode 310 and the first electrode 210 is formed.

상기 연결부(610)는 도전성 페이스트로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 도전성 페이스트는 은 페이스트이다. 상기 도전성 페이스트로 형성된 연결부(610)는 제 2 전극(310)과 접하도록 형성되고, 동시에 상기 절연층(410)에 형성된 홀(H)을 통해 제 1 전극(210)과 접하도록 형성된다. The connection portion 610 may be formed of a conductive paste. For example, the conductive paste is a silver paste. The connection portion 610 formed of the conductive paste is formed to be in contact with the second electrode 310 and to be in contact with the first electrode 210 through the hole H formed in the insulating layer 410.

상기 제 1 전극(210) 및 제 2 전극(310)은 각각 하부 전극층(201,301) 및 상부 전극층(202,302)으로 구성된다. 상기 상부 전극층(202,302)은 노출된 하부 전극층(201,301)의 전면을 둘러싸고 형성된다. 즉, 상기 하부 전극층(201,301)의 상면 및 측면이 외부에 노출되어 있는 경우, 상기 상부 전극층(202,302)은 상기 하부 전극층(201,202)의 상면 및 측면 상에 형성된다. The first electrode 210 and the second electrode 310 are composed of the lower electrode layers 201 and 301 and the upper electrode layers 202 and 302, respectively. The upper electrode layers 202 and 302 are formed to surround the entire surface of the exposed lower electrode layers 201 and 301. That is, when the upper and side surfaces of the lower electrode layers 201 and 301 are exposed to the outside, the upper electrode layers 202 and 302 are formed on the upper and side surfaces of the lower electrode layers 201 and 202, respectively.

이때, 상기 하부 전극층(201,301)과 상부 전극층(202,302)은 동일한 물질로 형성될 수 있다. 또한, 상기 하부 전극층(201,301)과 상부 전극층(202,302)은 서로 상이한 물질로 형성될 수 있다.At this time, the lower electrode layers 201 and 301 and the upper electrode layers 202 and 302 may be formed of the same material. In addition, the lower electrode layers 201 and 301 and the upper electrode layers 202 and 302 may be formed of materials different from each other.

하부 전극층(201,301)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 하부 전극층(201,301)은 금속 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 하부 전극층(201,301)은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni) 및 크롬(Cr) 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.The lower electrode layers 201 and 301 may include a conductive material. The lower electrode layers 201 and 301 may include a metal material. For example, the lower electrode layers 201 and 301 may include at least one of Au, Ag, Cu, Mo, Ni, and Cr .

상기 하부 전극층(201,301)은 도전성 페이스트를 상기 제 1 기판(100) 또는 제 2 기판(200) 상에 인쇄하여 형성할 수 있다. 그러나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 제 1 기판(100) 또는 제 2 기판(200) 상에 금속을 직접 증착하거나, 또는 금속이 증착된 제 1 기판(100) 또는 제 2 기판(200)을 패터닝하여 하부 전극층(201,301)을 형성할 수 있다.The lower electrode layers 201 and 301 may be formed by printing a conductive paste on the first substrate 100 or the second substrate 200. However, the embodiment is not limited to this, and a metal may be directly deposited on the first substrate 100 or the second substrate 200, a first substrate 100 or a second substrate 200 on which a metal is deposited, The lower electrode layers 201 and 301 can be formed.

상기 상부 전극층(202,302)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 상부 전극층(202,302)은 인쇄 공정 또는 증착 공정으로 형성될 수 있다.The upper electrode layers 202 and 302 may include a conductive material. The upper electrode layers 202 and 302 may be formed by a printing process or a deposition process.

상기 인쇄 공정은 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트를 스크린 프린팅, 잉크젯, 에어로젯, 다이렉트 프린팅 또는 그라비아 옵셋 등으로 인쇄하여 상기 상부 전극층(202,302)을 형성하는 공정을 의미한다. 예를 들면, 상기 인쇄 공정은 상기 하부 전극층(201,301) 상에 도전성 입자를 포함하는 도전성 잉크를 인쇄하고, 열을 가하여 도전성 입자 사이의 공극을 수축하고 소결하여 상부 전극층(202,302)을 형성할 수 있다. 또는, 상기 인쇄 공정은 상기 하부 전극층(201,301) 상에 도전성 입자 및 수지를 포함하는 도전성 페이스트를 인쇄하고, 열을 가하여 수지를 경화시켜 상부 전극층(202,302)을 형성할 수 있다.The printing process refers to a process of forming the upper electrode layers 202 and 302 by printing conductive ink or conductive paste with screen printing, inkjet, aeroget, direct printing or gravure offset. For example, in the printing process, the conductive ink containing conductive particles is printed on the lower electrode layers 201 and 301, and the upper electrode layers 202 and 302 are formed by shrinking and sintering the pores between the conductive particles by applying heat . Alternatively, in the printing process, the conductive paste containing conductive particles and resin may be printed on the lower electrode layers 201 and 301, and the resin may be cured by applying heat to form the upper electrode layers 202 and 302.

상기 증착 공정은 금속 산화막을 증착하여 상기 상부 전극층(202,302)을 형성하는 공정을 의미한다. 이때, 상기 금속 산화막은 구리 산화막(CuOx) 또는 은 산화막(AgOx)일 수 있다. The deposition process refers to a process of depositing a metal oxide layer to form the upper electrode layers 202 and 302. At this time, the metal oxide film may be a copper oxide film (CuOx) or a silver oxide film (AgOx).

도면상에는 상기 상부 전극층(202,302)을 단일층으로 표현하였지만, 상기 상부 전극층(202,302)은 2이상의 다중층으로 형성될 수도 있다. 상기 상부 전극층(202,302)은 상기 하부 전극층(201,301)을 산화로부터 보호할 수 있으며, 상기 상부 전극층(202,302)이 손상되더라도, 상기 하부 전극층(201,301)의 손상을 방지할 수 있다. 또한, 상기 상부 전극층(202,302)이 형성됨에 따라, 디지타이저의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.Although the upper electrode layers 202 and 302 are represented as a single layer in the drawing, the upper electrode layers 202 and 302 may be formed of two or more multi layers. The upper electrode layers 202 and 302 can protect the lower electrode layers 201 and 301 from oxidation and can prevent damage to the lower electrode layers 201 and 301 even if the upper electrode layers 202 and 302 are damaged. In addition, since the upper electrode layers 202 and 302 are formed, the electrical characteristics of the digitizer can be improved.

종래에는, 양면에 구리 도금이 형성된 폴리이미드 기판 상에서, 양면의 구리 도금을 패터닝하여 폴리이미드 기판의 양면에 제 1 전극 및 제 2 전극을 형성한 후, 상기 제 1 전극 및 제 2 전극을 연결하기 위해 폴리이미드 기판 상에 관통홀을 형성하는 공정 등이 요구되었다.Conventionally, after a first electrode and a second electrode are formed on both sides of a polyimide substrate by patterning copper plating on both sides on a polyimide substrate having copper plating on both sides, A process for forming a through hole on a polyimide substrate is required.

이에 따라, 종래에는, FPCB 공법을 이용하여 디지타이저를 제조함으로써, 대형 사이즈의 디지타이저를 구현하기 어려웠다. 상기 제 1 전극 및 제 2 전극을 연결하기 위해 기판을 관통하는 관통홀 형성 공정 등이 요구되어 공정 효율이 저하되었다. 또한, 폴리이미드 기판 등의 기판을 사용하므로, 공정 비용이 증가하는 문제점이 있었다.Thus, conventionally, it has been difficult to implement a digitizer of a large size by manufacturing the digitizer using the FPCB method. A process of forming a through hole to penetrate the substrate to connect the first electrode and the second electrode is required and the process efficiency is lowered. Further, since a substrate such as a polyimide substrate is used, there is a problem that the process cost increases.

따라서, 본 발명에 따른 디지타이저는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 기판을 이용하여 기판의 일면 상에 제 1 전극 및 제 2 전극을 배치된다. 또한, 상기 제 1 전극 및 제 2 전극 사이에는 상기 제 1 전극의 일부를 노출하는 홀을 포함하는 절연층이 배치되어, 상기 홀을 통해 상기 제 1 전극과 제 2 전극이 연결되도록 형성함으로써 제조될 수 있다.Accordingly, in the digitizer according to the present invention, a first electrode and a second electrode are disposed on one surface of a substrate using a substrate such as polyethylene terephthalate (PET). An insulating layer including a hole exposing a part of the first electrode may be disposed between the first electrode and the second electrode so that the first electrode and the second electrode are connected to each other through the hole .

이에 따라, 실시예에 따른 디지타이저는, PET 등의 기판을 사용하므로, 대형 사이즈를 구현함과 동시에 공정 비용을 절감할 수 있으며, 절연층 인쇄를 선택적으로 하여 홀을 형성함으로써, 종래의 기판을 관통하는 관통홀 형성 공정을 생략할 수 있어 공정 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 기판의 일면 상에 제 1 전극 및 제 2 전극을 배치함으로써, 기판의 타면 상에 차폐층 및 그라운드 전극 등의 기능층 등을 더 형성할 수 있다. Accordingly, since the digitizer according to the embodiment uses a substrate such as PET, it can realize a large size and reduce the process cost, and by selectively forming the holes by printing the insulating layer, It is possible to omit the step of forming a through-hole to improve the process efficiency. Further, by disposing the first electrode and the second electrode on one surface of the substrate, a functional layer such as a shielding layer and a ground electrode can be further formed on the other surface of the substrate.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified in other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified and implemented. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

Claims (18)

제 1 기판 상에 배치된 제 1 전극;
상기 제 1 전극 상에 배치되고, 상기 제 1 전극의 일부를 노출하는 홀을 포함하는 절연층; 및
상기 절연층 상에 배치되고, 상기 홀을 통해 상기 제 1 전극과 연결되는 제 2 전극을 포함하고,
상기 제 1 전극 및 제 2 전극은 각각 하부 전극층 및 상부 전극층을 포함하고,
상기 상부 전극층은 상기 하부 전극층의 노출된 전면을 둘러싸도록 형성되는 디지타이저.
A first electrode disposed on the first substrate;
An insulating layer disposed on the first electrode, the insulating layer including a hole exposing a part of the first electrode; And
And a second electrode disposed on the insulating layer and connected to the first electrode through the hole,
Wherein the first electrode and the second electrode each include a lower electrode layer and an upper electrode layer,
Wherein the upper electrode layer is formed to surround the exposed front surface of the lower electrode layer.
제 1 항에 있어서,
상기 상부 전극층은 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트로 형성되는 것을 특징으로 하는 디지타이저.
The method according to claim 1,
Wherein the upper electrode layer is formed of conductive ink or conductive paste.
제 2 항에 있어서,
상기 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트는 도전성 입자를 포함하고,
상기 도전성 입자는 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 디지타이저.
3. The method of claim 2,
The conductive ink or conductive paste includes conductive particles,
Wherein the conductive particles are any one selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), and combinations thereof.
제 1 항에 있어서,
상기 상부 전극층은 금속 산화막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 디지타이저.
The method according to claim 1,
Wherein the upper electrode layer is formed of a metal oxide film.
제 4 항에 있어서,
상기 금속 산화막은 구리 산화막 또는 은 산화막인 것을 특징으로 하는 디지타이저.
5. The method of claim 4,
Wherein the metal oxide film is a copper oxide film or a silver oxide film.
제 1 항에 있어서,
상기 하부 전극층 및 상기 상부 전극층은 동일한 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 디지타이저.
The method according to claim 1,
Wherein the lower electrode layer and the upper electrode layer are formed of the same material.
제 1 항에 있어서,
상기 하부 전극층 및 상기 상부 전극층은 서로 상이한 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 디지타이저.
The method according to claim 1,
Wherein the lower electrode layer and the upper electrode layer are formed of materials different from each other.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 전극은 상기 절연층 상에 배치된 제 2 기판 상에 형성되고,
상기 홀을 통해 상기 제 1 전극과 제 2 전극을 연결하는 연결부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디지타이저.
The method according to claim 1,
The second electrode is formed on a second substrate disposed on the insulating layer,
And a connection unit connecting the first electrode and the second electrode through the hole.
제 8 항에 있어서,
상기 연결부는 은 페이스트인 것을 특징으로 하는 디지타이저.
9. The method of claim 8,
Wherein the connection portion is a silver paste.
제 1 기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계;
상기 제 1 전극 상에 상기 제 1 전극의 일부를 노출하는 홀을 포함하는 절연층을 형성하는 단계; 및
상기 절연층 상에 상기 홀을 통해 상기 제 1 전극과 연결되는 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 제 1 전극을 형성하는 단계 및 제 2 전극을 형성하는 단계는,
하부 전극층을 형성하는 단계; 및
인쇄 공정 또는 증착 공정으로, 상기 하부 전극층 상에 상기 하부 전극층의 전면을 둘러싸는 상부 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 디지타이저의 제조 방법.
Forming a first electrode on a first substrate;
Forming an insulating layer on the first electrode, the insulating layer including a hole exposing a portion of the first electrode; And
And forming a second electrode on the insulating layer, the second electrode being connected to the first electrode through the hole,
The forming of the first electrode and the forming of the second electrode may include:
Forming a lower electrode layer; And
And forming an upper electrode layer surrounding the entire surface of the lower electrode layer on the lower electrode layer by a printing process or a deposition process.
제 10 항에 있어서,
상기 인쇄 공정은 상기 하부 전극층 상에 도전성 입자를 포함하는 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트를 인쇄하여 상부 전극층을 형성하는 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the printing process forms an upper electrode layer by printing conductive ink or conductive paste containing conductive particles on the lower electrode layer.
제 11 항에 있어서,
상기 인쇄 공정은 상기 하부 전극층 상에 도전성 입자를 포함하는 도전성 잉크를 인쇄하고, 열을 가하여 도전성 입자 사이의 공극을 수축하고 소결하는 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the printing process prints a conductive ink containing conductive particles on the lower electrode layer and applies heat to shrink and sinter the voids between the conductive particles.
제 11 항에 있어서,
상기 인쇄 공정은 상기 하부 전극층 상에 도전성 입자 및 수지를 포함하는 도전성 페이스트를 인쇄하고, 열을 가하여 수지를 경화시키는 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the printing step prints a conductive paste containing conductive particles and a resin on the lower electrode layer and applies heat to cure the resin.
제 11 항에 있어서,
상기 도전성 입자는 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the conductive particles are any one selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), and combinations thereof.
제 10 항에 있어서,
상기 증착 공정은 금속산화막을 증착하여 상부 전극층을 형성하는 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the deposition process deposits a metal oxide layer to form an upper electrode layer.
제 15 항에 있어서,
상기 금속 산화막은 구리 산화막 또는 은 산화막인 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
Wherein the metal oxide film is a copper oxide film or a silver oxide film.
제 10 항에 있어서,
상기 절연층 상에 상기 홀을 통해 상기 제 1 전극과 연결되는 제 2 전극을 형성하는 단계는,
제 2 기판 상에 제 2 전극을 형성하는 단계;
상기 절연층 상에 상기 제 2 기판을 배치하는 단계; 및
상기 절연층에 형성된 홀을 통해 상기 제 1 전극과 제 2 전극을 연결하고, 도전성 페이스트로 형성되는 연결부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Forming a second electrode on the insulating layer, the second electrode being connected to the first electrode through the hole,
Forming a second electrode on a second substrate;
Disposing the second substrate on the insulating layer; And
Connecting the first electrode and the second electrode to each other through a hole formed in the insulating layer, and forming a connection portion formed of a conductive paste.
제 17 항에 있어서,
상기 도전성 페이스트는 은 페이스트인 것을 특징으로 하는 디지타이저의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
Wherein the conductive paste is a silver paste.
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