KR20150123355A - 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전반적인 산업시설에서 발생되는 가스 및 분진을 제거하기 위한 것으로서 구체적으로는 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 등의 처리시설에서 발생되는 질소산화물(NOx), 황산화물(SO2), 먼지(Dust), 염산(HCl) 등을 효율적으로 제거하기 위한 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치에 관한 것으로서,
상기 본 발명의 구체적 해결적 수단은,
"금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 처리시설에서 발생되는 유해가스 및 분진이 유입되는 유입구가 일측에 구비되어 있고 내측에는 상기 유입구와 수평되게 구획판이 형성되되 상기 구획판의 중앙에는 관통공이 천공되어 있으며 상기 구획판의 상부에는 호퍼형상인 상광하협의 유도체가 형성되어 있고 상측에는 제1 분사노즐이 구비되어 있고 상기 유도체 하단에는 상기 관통공을 관통한 유도관이 상기 유도체 하단에 결합되어 있는 제1 제거부와, 상기 제1 제거부의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제1 펌프에 의해 제1 이송관을 통해 상기 제1 분사노즐에 약품을 분사토록 하는 제1 약품저장탱크와, 상기 유도관이 유입 관통가능하도록 일측이 천공된 상태에서 상측에는 스크러버가 구비되어 있고 상기 스크러버 상측에는 제2 분사노즐이 구비되어 있으며 상기 제2 분사노즐 상측에는 충돌 점참식 필터인 데미스터가 구비되어 있고 그 상측에는 배출구가 구비된 제2 제거부와, 상기 제2 제거부의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제2 펌프에 의해 제2 이송관을 통해 상기 제2 분사노즐에 약품을 분사토록 하는 제2 약품저장탱크로 이루어진 것"을 구성적 특징으로 함으로서,
금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 등의 처리시설에서 발생되는 질소산화물(NOx), 황산화물(SO2), 먼지(Dust), 염산(HCl) 등 유해가스와 분진을 효과적으로 처리함에 있어 전체적으로 작은 크기로 일체 결합된 장치를 제공하여 경제적 및 기술적으로 효율성을 발휘할 수 있는 것이다.

Description

금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치{Metal surface treatment of hazardous gas and dust generated during removal device}
본 발명은 전반적인 산업시설에서 발생되는 가스 및 분진을 제거하기 위한 것으로서 구체적으로는 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 등의 처리시설에서 발생되는 질소산화물(NOx), 황산화물(SO2), 먼지(Dust), 염산(HCl) 등을 효율적으로 제거하기 위한 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치에 관한 것이다.
일반적으로 각종 산업현장에서 특히 실내 작업장에서의 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 등의 처리시설에서는 유기용제의 사용이 증가함에 따라 질소산화물(NOx), 황산화물(SO2), 먼지(Dust), 염산(HCl) 등 유해가스 및 먼지 즉, 분진이 불가피하게 발생되게 된다.
이와 같은 유해가스가 대기 중에 방출되면 쉽게 분해되지 않아 잔류하는 특성이 있고, 독성 및 발암성을 가지고 있어 인체에 미치는 해독성이 클 뿐만 아니라, 성층권의 오존층을 파괴하는 물질로 작용한다.
또한, 상기 유해가스등은 지표면에서 자외선을 받으면 오존의 생성을 촉진한다. 대류권에 존재하는 오존은 호흡성 질병을 유발하고 폐기능을 약화시키는 등 인체에 직접적으로 악영향을 미칠 뿐만 아니라, 생태계에 미치는 해악은 동물과 식물들에게 직.간접적으로 광범위하게 나타난다.
그래서, 이러한 유해가스인 휘발성 유기화합물의 대기중으로 배출되는 것을 억제하기 위한 많은 연구가 있어왔다.
현재, 상용화가 이루어지고 있는 기술로는 연소공정, 촉매산화, 탄소흡착, 바이오필터, 응축, 막기술, 흡수, 플라즈마 공정 등이 있다.
일반적으로 널리 사용되고 있는 직접 연소공정은, 유지비나 연료에 대한 부담이 없는 것이 장점이나, 투자비용과 제조공정 이후에 화재의 위험성 및 연소반응를 이용하여 열을 동반한 산화반응을 일으키기 때문에 주변의 생성물과 부수적으로 발생하는 반응에 의한 2차 오염물질 생성이라는 잠재적 문제점을 안고 있다.
그 밖의 다른 기술들은 휘발성 유기화합물 처리 후에 발생되는 문제들과 효율성 문제 등에 의해서 뿐만 아니라 비교적 대용량이므로 비용이나 규모 면에서 작업환경에 적용하기에는 어려운 단점이 있다.
또한, 작업장 내에서의 비교적 소량의 휘발성 유기화합물 처리는 환기 및 후드를 사용한 국소배기와 활성탄을 이용한 흡착 흡수 기술 등이 있는데, 활성탄을 사용하는 흡착법은 활성탄 필터류를 자주 교체해야 하는 불편함과 유지비가 많이 소요된다는 단점이 있다.
따라서, 이러한 비용적인 문제와 2 차 오염부산물 생성 및 실용성 문제를 극복하고 공해물질인 휘발성 유기화합물을 효과적으로 처리할 수 있는 보다 현실적인 처리장치와 처리방법이 요구되고 있다.
한국 특허출원 제10-1990-0006215호 한국 특허출원 제10-2001-7006814호 한국 특허출원 제10-2006-7003963호 한국 특허출원 제10-2007-0073638호
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 등의 처리시설에서 발생되는 질소산화물(NOx), 황산화물(SO2), 먼지(Dust), 염산(HCl) 등 유해가스와 분진을 효과적으로 처리함에 있어 전체적으로 작은 크기로 일체 결합된 장치를 제공하여 경제적 및 기술적으로 효율성을 발휘할 수 있도록 하는 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치를 제공함에 본 발명의 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 구체적인 해결적 수단은,
"금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 처리시설에서 발생되는 유해가스 및 분진이 유입되는 유입구가 일측에 구비되어 있고 내측에는 상기 유입구와 수평되게 구획판이 형성되되 상기 구획판의 중앙에는 관통공이 천공되어 있으며 상기 구획판의 상부에는 호퍼형상인 상광하협의 유도체가 형성되어 있고 상측에는 제1 분사노즐이 구비되어 있고 상기 유도체 하단에는 상기 관통공을 관통한 유도관이 상기 유도체 하단에 결합되어 있는 제1 제거부와, 상기 제1 제거부의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제1 펌프에 의해 제1 이송관을 통해 상기 제1 분사노즐에 약품을 분사토록 하는 제1 약품저장탱크와, 상기 유도관이 유입 관통가능하도록 일측이 천공된 상태에서 상측에는 스크러버가 구비되어 있고 상기 스크러버 상측에는 제2 분사노즐이 구비되어 있으며 상기 제2 분사노즐 상측에는 충돌 점참식 필터인 데미스터가 구비되어 있고 그 상측에는 배출구가 구비된 제2 제거부와, 상기 제2 제거부의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제2 펌프에 의해 제2 이송관을 통해 상기 제2 분사노즐에 약품을 분사토록 하는 제2 약품저장탱크로 이루어진 것과,
상기 호퍼형상인 상광하협의 유도체는 외주부에 다수개의 유입공이 천공되어 있는 것과,
상기 유도관의 끝단은 경사지게 절개된 경사면으로 이루어진 것과,
상기 제1 분사노즐은 공기가 함께 유입 분사토록 되어 있는 이류체 노즐로 한정한 것과,
상기 제1 약품저장탱크와 제2 약품저장탱크에는 물에 희석된 알칼리성 분말 흡수제인 Ca(OH), NaOH, KOH, Na2CO3 중에서 선택된 어느 하나를 시용하는 것과,
상기 제1 이송관 일측은 제1 약품저장탱크와 연결되어 있고 타측 끝단은 공기주입구가 구비되어 있는 것"을 구성적 특징으로 함으로서 상기 목적을 달성할 수 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명은 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 등의 처리시설에서 발생되는 질소산화물(NOx), 황산화물(SO2), 먼지(Dust), 염산(HCl) 등 유해가스와 분진을 효과적으로 처리함에 있어 전체적으로 작은 크기로 일체 결합된 장치를 제공하여 경제적 및 기술적으로 효율성을 발휘할 수 있는 것이다.
이상에서 본 발명을 특정의 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치의 내부를 볼 수 있는 정면도,
도 2는 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치에 있어서 제1 제거부만을 확대 표현한 정면도,
도 3은 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치에 있어서 유도체 사시도,
도 4는 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치의 작동상태를 나타낸 도면이다.
이하, 본 발명에 대한 구체적인 구성 및 작용을 도면과 함께 상세히 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치의 내부를 볼 수 있는 정면도이며, 도 2는 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치에 있어서 제1 제거부만을 확대 표현한 정면도이고, 도 3은 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치에 있어서 유도체 사시도이며, 도 4는 본 발명인 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치의 작동상태를 나타낸 도면이다.
이하, 본 발명의 구성에 대하여 설명하면,
지시부호 10은 제1 제거부를 지시하는 것으로서 상기 제1 제거부(10)는 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 처리시설에서 발생되는 유해가스 및 분진등을 일차적으로 제거하는 장치를 의미하는 것으로서 구체적으로는, 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 처리시설에서 발생되는 유해가스 및 분진이 유입되는 유입구(100)가 일측에 구비되어 있고 내측에는 상기 유입구(100)와 수평되게 구획판(110)이 형성되되 상기 구획판(110)의 중앙에는 관통공(111)이 천공되어 있으며 상기 구획판(110)의 상부에는 호퍼형상인 상광하협의 유도체(120)가 형성되어 있고 상측에는 제1 분사노즐(130)이 구비되어 있고 상기 유도체(120) 하단에는 상기 관통공(111)을 관통한 유도관(140)이 상기 유도체(120) 하단에 결합되어 있는 구조이다.
한편 바람직하게는 도 3에 도시된 바와 같이 상기 호퍼형상인 상광하협의 유도체(120)는 외주부에 다수개의 유입공(121)이 천공되어 있어 상기 유입구(100)를 통해 유입된 유해가스 및 분진이 구획판(110)에 의해 하측으로 쏠리지 아니하고 상측으로 상승하면서 상기 유입공(121)으로 유입되고 이와 같이 유입된 유해가스 및 분진은 제1 분사노즐(130)로 부터 분사되는 하기에서 설명하는 약품에 의해 유해가스 및 분진이 제거되며 특히 분진의 경우는 약품에 의해 구획판(110)으로 낙하되어 존재 제거되는 것이다.
또한, 상기 유도관(140)의 끝단은 경사지게 절개된 경사면(141)으로 이루어지도록 하되 구체적으로 하측방향으로 유도관(140)의 끝단이 천공토록 경사면(141)을 형성하는 것이 바람직하다.
지시부호 20은 제1 약품저장탱크를 지시하는 것으로서, 상기 제1 약품저장탱크(20)는 도 1에 도시된 바와 같이 상기 제1 제거부(10)의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제1 펌프(200)에 의해 제1 이송관(210)을 통해 상기 제1 분사노즐(130)에 약품을 분사토록 하는 구조로서, 상기 제1 약품저장탱크(20)에는 물에 희석된 알칼리성 분말 흡수제인 Ca(OH), NaOH, KOH, Na2CO3 중에서 선택된 어느 하나를 사용하는 것이며,
상기 제1 분사노즐(130)은 상기 약품과 함께 공기가 유입 분사토록 되어 있는 이류체 노즐로 구성하는 것이 가장 바람직한 것이며 이를 위해 상기 제1 이송관(210) 일측은 제1 약품저장탱크(20)와 연결되어 있고 타측 끝단은 공기주입구(131)가 구비되어 있는 것이 바람직한 것이다.
지시부호 30은 제2 제거부를 지시하는 것으로서, 상기 제2 제거부(30)은 도 1에 도시된 바와 같이 상기 제1 제거부(10)에서 제거되지 아니한 유해가스 또는 분진을 2차적으로 제거하기 위한 것으로서, 상기 제1 제거부(10)의 상기 유도관(140)이 유입 관통가능하도록 일측이 천공된 상태에서 상측에는 스크러버(300)가 구비되어 있고 상기 스크러버(300) 상측에는 제2 분사노즐(310)이 구비되어 있으며 상기 제2 분사노즐(310) 상측에는 충돌 점참식 필터인 데미스터(320)가 구비되어 있고 그 상측에는 배출구(330)가 구비된 구조이다.
지시부호 40은 제2 약품저장탱크를 지시하는 것으로서, 상기 제2 약품저장탱크(40)은 도 1에 도시된 바와 같이 상기 제2 제거부(30)의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제2 펌프(400)에 의해 제2 이송관(410)을 통해 상기 제2 분사노즐(310)에 약품을 분사토록 하는 구조로서, 상기 제2 약품저장탱크(40)에는 물에 희석된 알칼리성 분말 흡수제인 Ca(OH), NaOH, KOH, Na2CO3 중에서 선택된 어느 하나를 사용하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 작용에 대하여 도면과 함께 설명하고자 한다.
도 4에 도시된 바와 같이 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 처리시설에서 발생되는 유해가스 및 분진이 유입구(100)로 유입되면 상기 제1 제거부(10) 내측에 구비된 구획판(110)에 의해 유입된 유해가스 및 분진은 상측으로 이동되며 이와 같이 이동된 유해가스 및 분진은 호퍼형상인 상광하협의 유도체(120) 외주부에 다수개 형성되어 있는 유입공(121)으로 유입 상승되며 이와 동시에 제1 약품저장탱크(20)에 저장된 물에 희석된 알칼리성 분말 흡수제인 Ca(OH), NaOH, KOH, Na2CO3 중에서 선택된 어느 하나의 약품이 제1 펌프(200)의 펌핑에 의해 제1 이송관(210)을 거쳐 다수개가 형성되어 있는 제1 분사노즐(130)을 통해 분무되되, 상기 제1 이송관(210)의 타측 끝단에는 공기주입구(131)이 구비되어 있어 결국, 상기 제1 분사노즐(130)은 공기와 상기 약품이 혼입되어 상기 제1 분사노즐(130)을 통해 제1 제거부(10) 내측으로 분무되어 유해가스 및 분진을 제거하도록 되어 있는 것이다.
즉, 상기 이류체 노즐인 제1 분사노즐(130)을 통해 약품과 공기가 제1 제거부(10) 내측으로 분무되면 분진은 구획판(110)으로 낙하되며 유해가스는 제거되어 정화된 가스가 유도관(140)을 통해 제2 제거부(30)으로 유입되며 이와 같이 유입된 정화된 가스중 미량이나마 잔존하는 유해가스 및 분진을 제거하기 위해 상기 제2 제거부(30) 내측에는 스크러버(300)가 구비되어 필터링하도록 되어 있으며 사익 스크러버(300) 상측에는 제2 약품저장탱크(40)에 저장된 물에 희석된 알칼리성 분말 흡수제인 Ca(OH), NaOH, KOH, Na2CO3 중에서 선택된 어느 하나의 약품이 제2 펌프(400)의 펌핑에 의해 제2 이송관(410)을 거쳐 다수개가 형성되어 있는 제2 분사노즐(310)을 통해 분무되어 재차 유해가스 및 분진을 제거하고 상기 제2 분사노즐(310)의 상측에는 충돌 점참식 필터인 데미스터(320)를 형성하여 유해가스 및 분진의 원천적인 제거를 통해 결국 배출구(330)로 정화된 신성한 공기만을 외부로 배출토록 하는 것이다.
이때 상기 유도관(140)의 끝단 즉, 제2 제거부(30)에 유입된 유도관(140)의 끝단을 하방향으로 절개하여 경사면(141)을 형성함으로서 유해가스 및 분진이 바로 스크러버(300)에 접촉치 아니하고 제2 제거부(30)의 내측 바닥면에 충돌토록 함으로서 유해가스 및 분진의 자연적인 제거 또는 제2 제거부(30)의 바닥에 잔존토록 하기 위한 기능을 부여한 것이다.
상기와 같이 작용함으로서 본 발명은 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 등의 처리시설에서 발생되는 질소산화물(NOx), 황산화물(SO2), 먼지(Dust), 염산(HCl) 등 유해가스와 분진을 효과적으로 처리함에 있어 전체적으로 작은 크기로 일체 결합된 장치를 제공하여 경제적 및 기술적으로 효율성을 발휘할 수 있는 것이다.
10 : 제1 제거부 20 : 제1 약품저장탱크
30 : 제2 제거부 40 : 제2 약품저장탱크
100 : 유입구 110 : 구획판
111 : 관통공 120 : 유도체
121 : 유입공 130 : 제1 분사노즐
131 : 공기주입구
140 : 유도관 141 : 경사면
200 : 제1 펌프 210 : 제1 이송관
300 : 스크러버 310 : 제2 분사노즐
320 : 데미스터 330 : 배출구
400 : 제2 펌프 410 : 제2 이송관

Claims (6)

  1. 금속표면처리분야인 아노다이징, 연마, 도금, 도장 처리시설에서 발생되는 유해가스 및 분진이 유입되는 유입구가 일측에 구비되어 있고 내측에는 상기 유입구와 수평되게 구획판이 형성되되 상기 구획판의 중앙에는 관통공이 천공되어 있으며 상기 구획판의 상부에는 호퍼형상인 상광하협의 유도체가 형성되어 있고 상측에는 제1 분사노즐이 구비되어 있고 상기 유도체 하단에는 상기 관통공을 관통한 유도관이 상기 유도체 하단에 결합되어 있는 제1 제거부와,
    상기 제1 제거부의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제1 펌프에 의해 제1 이송관을 통해 상기 제1 분사노즐에 약품을 분사토록 하는 제1 약품저장탱크와,
    상기 유도관이 유입 관통가능하도록 일측이 천공된 상태에서 상측에는 스크러버가 구비되어 있고 상기 스크러버 상측에는 제2 분사노즐이 구비되어 있으며 상기 제2 분사노즐 상측에는 충돌 점참식 필터인 데미스터가 구비되어 있고 그 상측에는 배출구가 구비된 제2 제거부와,
    상기 제2 제거부의 하단에 구비된 것으로서 일측 외부에 구비된 제2 펌프에 의해 제2 이송관을 통해 상기 제2 분사노즐에 약품을 분사토록 하는 제2 약품저장탱크로 이루어진 것을 특징으로 하는 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 호퍼형상인 상광하협의 유도체는 외주부에 다수개의 유입공이 천공되어 있는 것을 특징으로 하는 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 유도관의 끝단은 경사지게 절개된 경사면으로 이루어진 것을 특징으로 하는 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 분사노즐은 공기가 함께 유입 분사토록 되어 있는 이류체 노즐로 한정한 것을 특징으로 하는 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 약품저장탱크와 제2 약품저장탱크에는 물에 희석된 알칼리성 분말 흡수제인 Ca(OH), NaOH, KOH, Na2CO3 중에서 선택된 어느 하나를 시용하는 것을 특징으로 하는 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 이송관 일측은 제1 약품저장탱크와 연결되어 있고 타측 끝단은 공기주입구가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 금속표면처리시 발생되는 유해가스 및 분진 제거장치.

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