KR20150121790A - embedded PCB and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

In a method of manufacturing an embedded PCB according to an embodiment of the present invention, a first circuit pattern layer is formed on a carrier substrate which has a plating seed layer. A first stack structure which has a first interfacial insulating layer equipped with a cavity to selectively expose the first circuit pattern layer is formed on the carrier substrate. A device chip is disposed in the inside of the cavity while the first circuit pattern layer is electrically insulated from the device chip using a nonconductive bonding layer. A second stack structure which has a second interfacial insulating layer to cover the device chip is formed on the first stack structure. The first circuit pattern layer is exposed by separating the carrier substrate from the first and the second stack structures. The device chip is exposed by selectively removing the nonconductive bonding layer between the first circuit pattern layer, and a connecting structure, which is electrically connected with the device chip, is formed.

Description

임베디드 인쇄회로기판 및 그 제조 방법{embedded PCB and method of manufacturing the same}[0001] Embedded printed circuit board and method of manufacturing same [0001]

본 발명은 인쇄회로기판(PCB)에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 임베디드 인쇄회로기판 및 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a printed circuit board (PCB), and more particularly, to an embedded printed circuit board and a manufacturing method thereof.

전자 기기의 소형화에 따라, 전자 부품이 보다 고기능화되고 보다 더 소형화되고 있다. 디지털 네트워크의 고도화에 의해, 휴대폰이나 휴대 컴퓨터 등과 같은 휴대 정보 단말 기기가 고성능 및 고기능화되고 있으며, 다양한 기능이 하나의 기기에 융합되어 복합화되고 있다. With the miniaturization of electronic devices, electronic components are becoming more sophisticated and smaller. Due to the advancement of digital networks, portable information terminal devices such as mobile phones and portable computers are becoming more sophisticated and sophisticated, and various functions are being combined and integrated into one device.

이와 같이, 전자 기기가 소형화되고 고기능화됨에 따라 인쇄회로기판에 실장되어야 하는 부품 소자 수가 크게 증가하고 있으나, 이에 반해 기판의 면적은 감소되지 않는 추세이다. 오히려, 상술한 소형화의 추세에 따라, 기존의 인쇄회로기판의 두께 및 상기 부품 소자의 두께를 감소할 것을 요청하고 있다.As electronic devices are miniaturized and highly functionalized, the number of component elements to be mounted on a printed circuit board is greatly increased. On the other hand, the area of the substrate is not reduced. Rather, it is demanded to reduce the thickness of the existing printed circuit board and the thickness of the component element in accordance with the trend of downsizing described above.

최근에는, 상술한 요구를 만족시키기 위한 인쇄회로기판의 제조 방법으로서, 소자칩 또는 회로 패턴을 인쇄회로기판에 내장하는 임베디드 인쇄회로기판 기술이 등장하게 되었다. 임베디드 인쇄회로기판 기술은 소자칩 또는 회로 패턴을 인쇄회로기판에 내장함으로써, 전체 부품의 두께를 감소시키는 데 유리할 수 있다. Recently, as a method of manufacturing a printed circuit board to satisfy the above-mentioned requirements, an embedded printed circuit board technology in which a device chip or a circuit pattern is embedded in a printed circuit board has appeared. Embedded printed circuit board technology can be advantageous in reducing the thickness of the entire component by embedding the component chip or circuit pattern in the printed circuit board.

이러한 임베디드 인쇄회로기판의 제조 기술의 일 예로서, 한국 공개특허 2012-0070075에 개시된 기술이 있다. As an example of a manufacturing technique of such an embedded printed circuit board, there is a technique disclosed in Korean Patent Publication No. 2012-0070075.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 소자칩 또는 회로패턴을 내장시켜 인쇄회로기판의 두께를 보다 감소시키는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an embedded printed circuit board in which a device chip or a circuit pattern is embedded to further reduce the thickness of a printed circuit board.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 소자칩 또는 회로 패턴을 내장시켜, 보다 얇은 두께를 가지는 임베디드 인쇄회로기판을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an embedded printed circuit board having a thinner thickness by embedding a device chip or a circuit pattern.

일 측면에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법이 제공된다. 상기 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서, 도금 시드층을 포함하는 캐리어 기판 상에 제1 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제1 회로 패턴층을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 구비하는 제1 층간 절연층을 포함하는 제1 적층 구조물을 상기 캐리어 기판 상에 형성한다. 상기 캐비티의 내부에 소자칩을 배치시키되, 절연성 접착층을 이용하여 상기 제1 회로 패턴층과 상기 소자칩을 전기적으로 절연시킨다. 상기 소자칩을 덮는 제2 층간 절연층을 포함하는 제2 적층 구조물을 상기 제1 적층 구조물 상에 형성한다. 상기 캐리어 기판을 상기 제1 및 제2 적층 구조물로부터 분리함으로써, 상기 제1 회로 패턴층을 노출시킨다. 상기 제1 회로 패턴층 사이의 상기 절연성 접착층을 선택적으로 제거하여 상기 소자칩을 노출시키고, 상기 소자칩과 전기적으로 연결되는 접속 구조물을 형성한다. A method of manufacturing an embedded printed circuit board according to one aspect is provided. In the method for manufacturing an embedded printed circuit board, a first circuit pattern layer is formed on a carrier substrate including a plating seed layer. A first laminated structure including a first interlayer insulating layer having a cavity for selectively exposing the first circuit pattern layer is formed on the carrier substrate. The device chip is disposed inside the cavity, and the first circuit pattern layer and the device chip are electrically insulated by using an insulating adhesive layer. And a second layered structure including a second interlayer insulating layer covering the device chip is formed on the first layered structure. The carrier substrate is separated from the first and second laminated structures to expose the first circuit pattern layer. The insulating adhesive layer between the first circuit pattern layers is selectively removed to expose the device chip, and a connection structure electrically connected to the device chip is formed.

다른 측면에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법이 제공된다. 상기 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서, 캐리어 기판 상에 제1 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제1 회로 패턴층을 덮는 제1 층간 절연층을 상기 캐리어 기판 상에 형성한다. 상기 제1 회로 패턴층을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 상기 제1 층간 절연층 내에 형성한다. 상기 캐비티 내에서 상기 제1 회로 패턴층을 덮는 절연성 접착층을 형성하고, 소자칩을 상기 제1 회로 패턴층과 전기적으로 절연된 상태로 상기 캐비티 내에 배치시킨다. 상기 제2 층간 절연층으로 상기 캐비티를 메운다. 상기 캐리어 기판과 상기 제1 회로 패턴층을 서로 분리시켜, 상기 제1 회로 패턴층, 상기 제1 층간 절연층 및 상기 절연성 접착층을 노출시킨다. 상기 소자칩의 하부의 상기 절연성 접착층을 선택적으로 제거하여, 상기 소자칩의 전극부를 노출시킨다. A method of manufacturing an embedded printed circuit board according to another aspect is provided. In the method of manufacturing the embedded printed circuit board, a first circuit pattern layer is formed on the carrier substrate. A first interlayer insulating layer covering the first circuit pattern layer is formed on the carrier substrate. A cavity for selectively exposing the first circuit pattern layer is formed in the first interlayer insulating layer. An insulating adhesive layer covering the first circuit pattern layer in the cavity is formed and the device chip is placed in the cavity in a state electrically insulated from the first circuit pattern layer. And the cavity is filled with the second interlayer insulating layer. The carrier substrate and the first circuit pattern layer are separated from each other to expose the first circuit pattern layer, the first interlayer insulating layer, and the insulating adhesive layer. The insulating adhesive layer under the device chip is selectively removed to expose the electrode portion of the device chip.

또다른 측면에 따르는 임베디드 인쇄회로기판이 제공된다. 상기 임베디드 인쇄회로기판은, 제1 회로 패턴층을 내부에 구비하며, 상기 제1 회로 패턴층의 적어도 일부분을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 포함하는 제1 층간 절연층; 상기 캐비티 내에 배치되며 절연성 접착층에 의해 상기 제1 회로 패턴층과 전기적으로 절연되는 소자칩; 상기 소자칩을 덮도록 상기 제1 층간 절연층 상에 배치되는 제2 층간 절연층; 및 상기 소자칩 하부에서 상기 제1 회로 패턴층 사이를 관통하여 상기 소자칩과 전기적으로 연결되는 접속 구조물을 포함한다.An embedded printed circuit board according to another aspect is provided. The embedded printed circuit board includes: a first interlayer insulating layer having a first circuit pattern layer therein and including a cavity selectively exposing at least a portion of the first circuit pattern layer; A device chip disposed in the cavity and electrically insulated from the first circuit pattern layer by an insulating adhesive layer; A second interlayer insulating layer disposed on the first interlayer insulating layer to cover the device chip; And a connection structure that is electrically connected to the device chip through the first circuit pattern layer under the device chip.

일 실시 예에 따르면, 캐리어 기판을 적용하여 임베디드 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. 동박적층판(Copper Clad Laminate, CCL)을 주회로기판으로 직접 적용하지 않고, 캐리어 기판 상에 적층 회로패턴 구조물을 형성하고 상기 캐리어 기판을 제거하는 방식을 채택함으로써, 내장형 소자칩 또는 내장형 회로 패턴층을 구비하는 임베디드 인쇄회로기판을 용이하게 제조할 수 있다. According to one embodiment, an embedded printed circuit board can be manufactured by applying a carrier substrate. By adopting a method of forming a laminated circuit pattern structure on a carrier substrate and removing the carrier substrate without directly applying a copper clad laminate (CCL) to the main circuit substrate, a built-in device chip or a built- It is possible to easily manufacture the embedded printed circuit board.

일 실시 예에 따르면, 소자칩을 회로 패턴층과 함께 층간 절연층에 의해 내장되도록 구성할 수 있다. 이때, 상기 소자칩은 상기 내장형 회로 패턴과 절연성 접착층에 의해 서로 절연된 상태로 인접하여 배치될 수 있다. According to one embodiment, the device chip can be configured to be embedded by an interlayer insulating layer together with a circuit pattern layer. At this time, the device chips may be disposed adjacent to each other with the embedded circuit pattern and the insulating adhesive layer insulated from each other.

일 실시 예에 따르면, 내장된 회로 패턴층 상에 소자칩을 배치하고, 상기 내장된 회로 패턴층 사이를 관통하도록 외부 접속 구조물을 형성할 수 있다. 상술한 구조를 적용함으로써, 집적도가 향상되고 구조적 안정성이 향상된 박형 인쇄회로기판을 제공할 수 있다.According to one embodiment, an element chip may be disposed on an embedded circuit pattern layer, and an external connection structure may be formed to penetrate between the embedded circuit pattern layers. By applying the above-described structure, it is possible to provide a thin printed circuit board having an improved degree of integration and improved structural stability.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다.
도 2 내지 도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 15는 임베디드 인쇄회로기판과 외부의 다른 인쇄회로기판의 접속 형태를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 16은 본 발명의 일 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
1 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing an embedded printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
2 to 14 are sectional views schematically showing a method of manufacturing an embedded printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
15 is a cross-sectional view schematically showing a connection form of an embedded printed circuit board and another external printed circuit board.
16 is a cross-sectional view schematically showing an embedded printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 발명에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 개시의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the techniques disclosed in the present invention are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. It should be understood, however, that the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of this disclosure to those skilled in the art. In the drawings, the width, thickness, and the like of the components are enlarged in order to clearly illustrate the components of each device. It is to be understood that when an element is described as being located on another element, it is meant that the element is directly on top of the other element or that additional elements can be interposed between the elements .

복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다. 또, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, '포함하다' 또는 '가지다' 등의 용어는 기술되는 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. Like numbers refer to like elements throughout the several views. It is to be understood that the singular forms "a", "an", and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise, and the terms "comprise" Or combinations thereof, and does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

또한, 방법 또는 제조 방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.Further, in carrying out the method or the manufacturing method, the respective steps of the method may occur differently from the stated order unless clearly specified in the context. That is, each process may occur in the same order as described, may be performed substantially concurrently, or may be performed in the opposite order.

본 명세서에서 사용되는, 기판 또는 소자칩의 '상면' 또는 '하면'이라는 용어는 관찰자의 시점에서 관측되는 상대적인 개념이다. 따라서, 기판 또는 소자칩의 측면을 제외한 두 면 중 어느 한 면을 '상면' 또는 '하면'으로 지칭할 수 있으며, 이에 대응하여 나머지 한 면을 '하면' 또는 '상면'으로 지칭할 수 있다. 마찬가지로, 본 명세서에서, '상', '위' 또는 '하', '아래' 라는 개념도 마찬가지로 상대적인 개념으로 사용되어 질 수 있다.
As used herein, the term " top surface " or " bottom " of a substrate or device chip is a relative concept observed at an observer's viewpoint. Therefore, one of the two surfaces except the side of the substrate or the element chip may be referred to as an 'upper surface' or 'lower surface', and the other surface may be referred to as 'lower surface' or 'upper surface' correspondingly. Likewise, in the present specification, the concept of 'upper', 'upper' or 'lower' and 'lower' can be used as a relative concept as well.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다. 도 1의 110 단계를 참조하면, 도금 시드층을 포함하는 캐리어 기판 상에 제1 회로 패턴층을 형성한다. 일 실시 예에서, 상기 캐리어 기판은 절연코어층을 포함하며, 또한, 상기 캐리어 기판은 상기 절연코어층 상에 순차적으로 적층되는 캐리어 구리층 및 상기 도금 시드층을 포함할 수 있다. 일 실시 예에서, 상기 제1 회로 패턴층은 상기 도금 시드층 상에서 레지스트 패턴층을 이용하는 구리 도금법에 의해 형성될 수 있다.1 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing an embedded printed circuit board according to an embodiment of the present invention. Referring to step 110 of FIG. 1, a first circuit pattern layer is formed on a carrier substrate including a plating seed layer. In one embodiment, the carrier substrate includes an insulating core layer, and the carrier substrate may further include a carrier copper layer sequentially stacked on the insulating core layer and the plating seed layer. In one embodiment, the first circuit pattern layer may be formed by a copper plating method using a resist pattern layer on the plating seed layer.

도 1의 120 단계를 참조하면, 제1 층간 절연층을 포함하는 제1 적층 구조물을 상기 캐리어 기판 상에 형성한다. 이때, 상기 제1 층간 절연층은 상기 제1 회로 패턴층을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 구비할 수 있다.Referring to step 120 of FIG. 1, a first laminated structure including a first interlayer insulating layer is formed on the carrier substrate. At this time, the first interlayer insulating layer may include a cavity for selectively exposing the first circuit pattern layer.

상술한 방법의 구체적인 실시 예로서, 먼저, 상기 제1 회로 패턴층 상에 제1 층간 절연층을 적층한다. 이어서, 상기 제1 층간 절연층 내부에 제1 비아층을 형성한다. 또한, 상기 제1 층간 절연층 상에 제2 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제1 비아층은 상기 제1 층간 절연층을 선택적으로 가공해서, 상기 제1 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성한 후에, 상기 비아홀을 구리 도금층으로 채움으로써, 형성할 수 있다. 상기 제2 회로 패턴층은 일 예로서, 레지스트 패턴층과 구리도금법을 이용하는 SAP(Semi-Additive Process) 또는 MSAP(Modified Semi-Additive Process)를 적용함으로써, 형성할 수 있다. 이어서, 상기 제1 층간 절연층을 가공하여 상기 제1 회로 패턴층을 선택적으로 노출시키는 상기 캐비티를 형성할 수 있다.As a specific example of the above-described method, first, a first interlayer insulating layer is laminated on the first circuit pattern layer. Then, a first via layer is formed in the first interlayer insulating layer. Further, a second circuit pattern layer is formed on the first interlayer insulating layer. The first via layer may be formed by selectively etching the first interlayer insulating layer to form a via hole exposing the first circuit pattern layer and then filling the via hole with a copper plating layer. The second circuit pattern layer can be formed, for example, by applying a resist pattern layer and a semi-additive process (SAP) or a modified semi-additive process (MSAP) using a copper plating method. Then, the first interlayer insulating layer is processed to form the cavity that selectively exposes the first circuit pattern layer.

도 1의 130 단계를 참조하면, 상기 캐비티의 내부에 소자칩을 배치시킨다. 이때, 절연성 접착층을 이용하여 상기 제1 회로 패턴층과 상기 소자칩을 전기적으로 절연시킨다. Referring to step 130 of FIG. 1, a device chip is disposed in the cavity. At this time, the first circuit pattern layer and the element chip are electrically insulated by using an insulating adhesive layer.

상술한 방법의 구체적인 실시 예로서, 상기 제1 회로 패턴층을 덮도록 절연성 접착 물질을 상기 캐비티 내부에 도포함으로써, 상기 절연성 잡착층을 먼저 형성한다. 이후에, 상기 절연성 접착층 상에 상기 소자칩을 부착시킨다. 이로써, 상기 소자칩을 상기 캐비티 내부에 배치시킬 수 있다. As a specific example of the above-described method, an insulating adhesive material is applied to the inside of the cavity so as to cover the first circuit pattern layer, thereby forming the insulating adhesive layer first. Thereafter, the device chip is attached onto the insulating adhesive layer. Thereby, the device chip can be disposed inside the cavity.

또는 다른 실시 예로서, 상기 소자칩의 적어도 일면에 절연성 접착 물질을 제공한다. 일 예로서, 소자칩의 바닥면을 커버할 수 있도록 절연성 접착 물질을 제공할 수 있다. 이어서, 상기 절연성 접착 물질을 구비하는 상기 소자칩을 상기 제1 회로 패턴층 상에 부착시킨다. 이로써, 상기 소자칩을 상기 캐비티 내부에 배치시킬 수 있다. Or as another embodiment, an insulating adhesive material is provided on at least one side of the device chip. As an example, an insulating adhesive material may be provided to cover the bottom surface of the device chip. Next, the device chip including the insulating adhesive material is attached on the first circuit pattern layer. Thereby, the device chip can be disposed inside the cavity.

도 1의 140 단계를 참조하면, 상기 소자칩을 덮는 제2 층간 절연층을 포함하는 제2 적층 구조물을 상기 제1 적층 구조물 상에 형성한다. Referring to step 140 of FIG. 1, a second stacked structure including a second interlayer insulating layer covering the device chip is formed on the first stacked structure.

상술한 방법의 구체적인 실시 예로서, 먼저, 상기 캐비티를 메우는 상기 제2 층간 절연층을 상기 제1 적층 구조물 상에 적층시킨다. 이어서, 상기 제2 층간 절연층 내부에 제2 비아층을 형성하고 상기 제2 층간 절연층 상에 제3 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제2 비아층은 상기 제2 층간 절연층을 선택적으로 가공해서, 상기 제2 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성한 후에, 상기 비아홀을 구리 도금층으로 채움으로써, 형성할 수 있다. 상기 제3 회로 패턴층은 일 예로서, 레지스트 패턴층과 구리도금법을 이용하는 SAP(Semi-Additive Process) 또는 MSAP(Modified Semi-Additive Process)를 적용함으로써, 형성할 수 있다. As a specific example of the above-described method, first, the second interlayer insulating layer filling the cavity is laminated on the first laminated structure. Then, a second via layer is formed in the second interlayer insulating layer, and a third circuit pattern layer is formed on the second interlayer insulating layer. The second via layer may be formed by selectively etching the second interlayer insulating layer to form a via hole exposing the second circuit pattern layer and then filling the via hole with the copper plating layer. The third circuit pattern layer may be formed by applying a resist pattern layer and a Semi-Additive Process (SAP) or a Modified Semi-Additive Process (MSAP) using a copper plating method.

도 1의 150 단계를 참조하면, 상기 캐리어 기판을 상기 제1 및 제2 적층 구조물로부터 분리한다. 이를 통해, 상기 제1 회로 패턴층을 노출시킬 수 있다.Referring to step 150 of FIG. 1, the carrier substrate is separated from the first and second stacked structures. Thus, the first circuit pattern layer can be exposed.

상술한 방법의 구체적인 실시 예로서, 상기 캐리어 기판에서 상기 캐리어 구리층과 상기 시드 구리층의 계면을 분리한다. 그 결과, 분리된 상기 시드 구리층 상에 상기 제1 적층 구조물 및 상기 제2 적층 구조물이 순차적으로 위치할 수 있다. 이어서, 상기 시드 구리층을 식각 방법에 의해 제거하여, 상기 제1 회로 패턴층, 상기 제1 층간 절연층 및 상기 절연성 접착층을 노출시킬 수 있다.As a specific example of the above-described method, the interface between the carrier copper layer and the seed copper layer is separated from the carrier substrate. As a result, the first laminated structure and the second laminated structure may be sequentially positioned on the separated seed copper layer. Subsequently, the seed copper layer may be removed by an etching method to expose the first circuit pattern layer, the first interlayer insulating layer, and the insulating adhesive layer.

도 1의 160 단계를 참조하면, 상기 제1 회로 패턴층 사이의 상기 절연성 접착층을 선택적으로 제거하여 상기 소자칩을 노출시키고, 상기 소자칩과 전기적으로 연결되는 접속 구조물을 형성한다.Referring to step 160 of FIG. 1, the insulating adhesive layer between the first circuit pattern layers is selectively removed to expose the device chip, thereby forming a connection structure electrically connected to the device chip.

상술한 방법의 구체적인 실시 예로서, 상기 제1 회로 패턴층 상에 솔더 레지스트 패턴층을 형성한다. 이어서, 상기 솔더 레지스트 패턴층에 의해 노출되며 상기 소자칩의 하부에 위치하는 상기 절연성 접착층을 선택적으로 제거한다. 그 결과, 상기 소자칩의 전극부가 노출되도록 한다. 이어서, 노출된 상기 소자칩의 전극부 상에 전도성 범프 구조물을 형성한다.As a specific example of the above-described method, a solder resist pattern layer is formed on the first circuit pattern layer. Then, the insulating adhesive layer exposed by the solder resist pattern layer and located under the device chip is selectively removed. As a result, the electrode portion of the device chip is exposed. Next, a conductive bump structure is formed on the exposed portion of the device chip.

상술한 방법에 의해, 임베디드 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. 본 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법은, 동박적층판(Copper Clad Laminate, CCL)을 주회로기판으로 직접 적용하지 않고, 캐리어 기판 상에 적층 회로패턴 구조물을 형성하고 상기 캐리어 기판을 제거하는 방식을 채택한다.By the above-described method, an embedded printed circuit board can be manufactured. The method for manufacturing an embedded printed circuit board according to the present embodiment is a method for manufacturing a printed circuit board by forming a laminated circuit pattern structure on a carrier substrate and removing the carrier substrate without directly applying a copper clad laminate (CCL) .

또한, 본 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법은, 소자칩을 회로 패턴층과 함께 층간 절연층 내의 캐비티에 내장되도록 구성할 수 있다. 이때, 상기 소자칩은 상기 내장형 회로 패턴 상에서 절연성 접착층에 의해 서로 절연된 상태로 배치될 수 있다. Further, in the method of manufacturing an embedded printed circuit board according to the present embodiment, the device chip can be configured to be embedded in the cavity in the interlayer insulating layer together with the circuit pattern layer. At this time, the device chips may be disposed on the embedded circuit pattern insulated from each other by an insulating adhesive layer.

또한, 본 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법은, 내장된 회로 패턴층 상에 소자칩을 배치하고, 상기 내장된 회로 패턴층 사이를 관통하도록 외부 접속 구조물을 형성할 수 있다. Further, in the method of manufacturing an embedded printed circuit board according to this embodiment, the device chip may be disposed on the built-in circuit pattern layer, and the external connection structure may be formed so as to penetrate between the embedded circuit pattern layers.

상술한 구조를 적용함으로써, 내장형 소자칩 또는 내장형 회로 패턴층을 구비하되, 집적도가 향상되고 구조적 안정성이 향상된 박형의 임베디드 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
By applying the above-described structure, it is possible to manufacture a thin embedded printed circuit board having embedded device chips or built-in circuit pattern layers, with improved integration and improved structural stability.

도 2 내지 도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 캐리어 기판(200)을 준비한다. 캐리어 기판(200)은 절연코어층(210)을 포함할 수 있다. 또한, 캐리어 기판(200)은 절연코어층(210) 상에 순차적으로 적층되는 캐리어 구리층(212) 및 도금 시드층(214)을 포함할 수 있다. 일 예로서, 도금 시드층(214)은 구리 재질로 이루어질 수 있으며, 후술하는 구리 도금 공정을 위한 시드층으로 기능할 수 있다. 일 예로서, 절연코어층(210)은 프리프레그를 포함할 수 있으며, 약 0.1 mm 또는 0.2 mm의 두께를 가질 수 있다. 캐리어 구리층(212)은 절연코어층(210) 상에서 후술하는 적층 구조물을 지지하는 역할을 수행할 수 있으며, 일 예로서, 약 18 ㎛의 두께를 구비할 수 있다. 도금 시드층(214)은 약 2 ㎛ 또는 5 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 다만, 이러한 두께는 일 예로서 제시되는 것일 뿐, 두께 범위의 다양한 변형도 가능하다. 2 to 14 are sectional views schematically showing a method of manufacturing an embedded printed circuit board according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, a carrier substrate 200 is prepared. The carrier substrate 200 may include an insulating core layer 210. In addition, the carrier substrate 200 may include a carrier copper layer 212 and a plating seed layer 214 that are sequentially stacked on the insulating core layer 210. As an example, the plating seed layer 214 may be made of a copper material and function as a seed layer for the copper plating process described below. As an example, the insulating core layer 210 may comprise a prepreg and may have a thickness of about 0.1 mm or 0.2 mm. The carrier copper layer 212 may serve to support a later-described layered structure on the insulating core layer 210, and may, for example, have a thickness of about 18 [mu] m. The plating seed layer 214 may have a thickness of about 2 占 퐉 or 5 占 퐉. However, this thickness is only provided as an example, and various variations of the thickness range are possible.

도 3을 참조하면, 도금 시드층(214) 상에 제1 회로 패턴층(220)을 형성한다. 구체적인 실시 예에 따르면, 제1 회로 패턴층(220)을 형성하는 공정은 다음과 같이 진행될 수 있다. 먼저, 도금 시드층(214) 상에, 상기 도금 시드층(214)을 선택적으로 노출시키는 컨택 영역을 가지는 제1 레지스트 패턴층을 형성한다. 상기 제1 레지스트 패턴층에 의해 노출되는 상기 컨택 영역 내부의 도금 시드층(214)을 이용하여 구리 도금 공정을 수행한다. 이로써, 구리 도금 공정에 의해 구리 패턴층을 형성한다. 이후에. 상기 제1 레지스트 패턴층을 제거함으로써, 제1 회로 패턴층(220)을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 3, a first circuit pattern layer 220 is formed on the plating seed layer 214. According to a specific embodiment, the process of forming the first circuit pattern layer 220 may proceed as follows. First, on the plating seed layer 214, a first resist pattern layer having a contact region for selectively exposing the plating seed layer 214 is formed. A copper plating process is performed using the plating seed layer 214 inside the contact region exposed by the first resist pattern layer. Thus, a copper pattern layer is formed by a copper plating process. Since the. By removing the first resist pattern layer, the first circuit pattern layer 220 can be formed.

도 4를 참조하면, 제1 회로 패턴층(220)이 형성된 캐리어 기판(200) 상에, 제1 층간 절연층(232) 및 제1 층간 구리층(234)을 구비하는 제1 중간 기판을 접합시킨다. 제1 층간 절연층(232)은 에폭시 또는 폴리이미드와 같은 폴리머 소재를 포함할 수 있다. 구체적인 실시 예에 따르면, 상기 제1 중간 기판을 캐리어 기판(200) 상에 정렬하고, 가열, 가압 또는 이들의 결합에 의해 상기 제1 중간 기판을 캐리어 기판(200)과 접합할 수 있다.4, a first intermediate substrate having a first interlayer insulating layer 232 and a first interlayer copper layer 234 is bonded to a carrier substrate 200 on which a first circuit pattern layer 220 is formed, . The first interlayer insulating layer 232 may include a polymer material such as epoxy or polyimide. According to a specific embodiment, the first intermediate substrate may be aligned on the carrier substrate 200, and the first intermediate substrate may be bonded to the carrier substrate 200 by heating, pressing, or a combination thereof.

도 5를 참조하면, 제1 층간 구리층(234) 및 제1 층간 절연층(232)을 순차적으로 가공하여, 제1 회로 패턴층(220)을 선택적으로 노출시키는 비아홀(236)을 형성한다. 먼저, 상기 제1 층간 구리층(234)을 가공하는 방법은 일 예로서, 건식 식각법, 습식 식각법, 또는 이들의 결합을 적용할 수 있다. 이어서, 제1 층간 절연층(232)을 가공하는 방법은 일 예로서, 레이저 가공법 또는 기계적 드릴법 등을 적용할 수 있다. 상기 레이저 가공법은 일 예로서, YAG 레이저, 루비 레이저, 아르곤 레이저, CO2 레이저, 엑시머 레이저 등을 적용하여 수행할 수 있다.Referring to FIG. 5, a first interlayer copper layer 234 and a first interlayer insulating layer 232 are sequentially formed to form a via hole 236 for selectively exposing the first circuit pattern layer 220. As a method of forming the first interlayer copper layer 234, a dry etching method, a wet etching method, or a combination thereof may be used. Next, as a method of processing the first interlayer insulating layer 232, a laser processing method, a mechanical drilling method, or the like can be applied. As the laser processing method, for example, a YAG laser, a ruby laser, an argon laser, a CO2 laser, an excimer laser, or the like can be applied.

도 6을 참조하면, 구리 도금법을 진행하여, 비아홀(236)의 내부를 채우는 비아층(244), 및 제1 층간 구리층(234) 상에 배치되는 구리 패턴층(242)를 형성한다. 비아층(244) 및 구리 패턴층(242)를 형성하는 방법은 일 예로서, 레지스트 패턴층과 구리도금법을 이용하는 SAP(Semi-Additive Process) 또는 MSAP(Modified Semi-Additive Process)를 적용할 수 있다.6, a copper plating process is carried out to form a via layer 244 filling the inside of the via hole 236 and a copper pattern layer 242 disposed on the first interlayer copper layer 234. As shown in FIG. As a method of forming the via layer 244 and the copper pattern layer 242, an AP (Semi-Additive Process) or MSAP (Modified Semi-Additive Process) using a resist pattern layer and a copper plating method can be applied .

구체적인 실시 예를 따르면, 먼저, 도 5의 비아홀(236)의 내부에 화학도금층을 형성한다. 또는 비아홀(236)의 내부와 제1 층간 구리층(234)의 상부면에 화학도금층을 함께 형성할 수 있다. 이어서, 구리 패턴층(242)이 형성될 위치에 대응되는 컨택 영역을 구비하는 제2 레지스트 패턴층을 제1 층간 구리층(242)의 상부에 형성한다. 이어서, 상기 제2 레지스트 패턴층에 의해 선택적으로 노출되는 하부의 구리층(일 예로서, 상기 화학도금층 또는 제1 층간 구리층(242))을 이용하는 구리도금법을 수행하여, 구리 패턴층(242)을 형성한다. 이어서, 상기 제2 레지스트 패턴층을 제거한다. According to a specific embodiment, first, a chemical plating layer is formed inside the via hole 236 of FIG. Or a chemical plating layer may be formed on the inner surface of the via hole 236 and on the upper surface of the first interlayer copper layer 234. Next, a second resist pattern layer having a contact region corresponding to a position at which the copper pattern layer 242 is to be formed is formed on the first interlayer copper layer 242. The copper pattern layer 242 is then subjected to a copper plating process using a lower copper layer (for example, the chemical plating layer or the first interlayer copper layer 242) selectively exposed by the second resist pattern layer. . Subsequently, the second resist pattern layer is removed.

도 7을 참조하면, 구리 패턴층(242)을 식각 마스크로 이용하여, 하부의 제1 층간 구리층(242)을 식각한다. 그 결과, 제1 층간 절연층(232) 상에 제2 회로 패턴층(246)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 7, the underlying first interlayer copper layer 242 is etched using the copper pattern layer 242 as an etch mask. As a result, the second circuit pattern layer 246 can be formed on the first interlayer insulating layer 232.

이어서, 제1 층간 절연층(232)을 가공하여 제1 회로 패턴층(220) 및 도금 시드층(214)을 선택적으로 노출시키는 캐비티(250)을 형성한다. 제1 층간 절연층(232)을 가공하는 방법은 일 예로서, 레이저 가공법 또는 기계적 드릴법 등을 적용할 수 있다. 상기 레이저 가공법은 일 예로서, YAG 레이저, 루비 레이저, 아르곤 레이저, CO2 레이저, 엑시머 레이저 등을 적용하여 수행할 수 있다.The first interlayer insulating layer 232 is then processed to form a cavity 250 selectively exposing the first circuit pattern layer 220 and the plating seed layer 214. As a method of processing the first interlayer insulating layer 232, a laser processing method, a mechanical drilling method, or the like can be applied. As the laser processing method, for example, a YAG laser, a ruby laser, an argon laser, a CO2 laser, an excimer laser, or the like can be applied.

이로써, 제1 회로 패턴층(220)을 선택적으로 노출시키는 캐비티(250)를 구비하는 제1 층간 절연층(232), 제1 비아층(244) 및 제2 회로 패턴층(246)을 포함하는 제1 적층 구조물을 캐리어 기판(200) 상에 형성할 수 있다.A first via layer 244 and a second circuit pattern layer 246 with a cavity 250 selectively exposing the first circuit pattern layer 220. The first interlayer dielectric layer 232, The first stacked structure can be formed on the carrier substrate 200. [

도 8을 참조하면, 제1 회로 패턴층(220) 및 도금 시드층(214)을 덮도록 절연성 접착 물질을 캐비티(250) 내부에 도포함으로써, 절연성 접착층(260)을 형성한다. 도면에서는, 절연성 접착층(260)이 캐비티(250)의 바닥면에 위치하는 제1 회로 패턴층(220) 및 도금 시드층(214)을 덮도록 형성되고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 도면에 도시되지는 않았지만, 캐비티(250)의 측벽부인 제1 층간 절연층(232)의 적어도 일부분을 커버하도록 절연성 접착층(260)이 형성될 수도 있다. 또는, 캐비티(250)을 채우도록 절연성 접착층(260)이 형성될 수도 있다. Referring to FIG. 8, an insulating adhesive layer 260 is formed by coating an insulating adhesive material on the inside of the cavity 250 so as to cover the first circuit pattern layer 220 and the plating seed layer 214. Although the insulating adhesive layer 260 is formed to cover the first circuit pattern layer 220 and the plating seed layer 214 located on the bottom surface of the cavity 250, the insulating adhesive layer 260 is not limited thereto. Although not shown in the drawings, the insulating adhesive layer 260 may be formed to cover at least a portion of the first interlayer insulating layer 232, which is the side wall portion of the cavity 250. Alternatively, an insulating adhesive layer 260 may be formed to fill the cavity 250.

도 9를 참조하면, 절연성 접착층(260) 상에 소자칩(300)을 배치시킨다. 소자칩(300)은 절연성 접착층(260)에 의해 제1 회로 패턴층(220)과 전기적으로 절연된 상태를 유지한 상태로, 캐비티(250) 내부에 배치될 수 있다. 소자칩(300)은 일 예로서, 능동 소자(active device) 또는 수동 소자(passive device)를 포함할 수 있다. 상기 수동 소자는 일 예로서, 캐패시터, 저항, 또는 인턱터일 수 있다. 도면에서는, 설명의 편의상 소자칩(300)으로서, 제1 전극부(310), 유전체부(330) 및 제2 전극부(320)를 포함하는 캐피시터를 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 9, the device chip 300 is disposed on the insulating adhesive layer 260. The device chip 300 may be disposed inside the cavity 250 while being electrically insulated from the first circuit pattern layer 220 by the insulating adhesive layer 260. [ The device chip 300, as an example, may include an active device or a passive device. The passive element may be, for example, a capacitor, a resistor, or an inductor. Although a capacitor including the first electrode unit 310, the dielectric unit 330, and the second electrode unit 320 is illustrated as a device chip 300 for convenience of explanation, the present invention is not limited thereto.

도면에 도시되지는 않았지만, 절연성 접착층(260)이 캐비티(250)의 측벽부인 제1 층간 절연층(232)의 적어도 일부분을 커버하도록 형성되거나, 캐비티(250)를 채우도록 형성되는 경우, 소자칩(300)의 측벽부 또는 소자칩(300)의 전부가 절연성 접착층(260)에 의해 둘러싸일 수 있다. 이와 같이, 소자칩(300)의 측벽부 또는 소자칩(300)의 전부가 절연성 접착층에 의해 둘러싸일 경우, 소자칩(300)과 캐비티(250)를 포함하는 구조물과의 접합성이 향상되어, 인쇄회로기판의 구조적 안정성이 향상될 수 있다. 또한, 소자칩(300)과 주변 회로 패턴과의 전기적 절연성이 향상될 수 있다.Although not shown in the drawings, when the insulating adhesive layer 260 is formed to cover at least a portion of the first interlayer insulating layer 232, which is the side wall portion of the cavity 250, or is formed to fill the cavity 250, The side wall of the semiconductor chip 300 or the whole of the device chip 300 may be surrounded by the insulating adhesive layer 260. In this manner, when the side wall of the device chip 300 or the entirety of the device chip 300 is surrounded by the insulating adhesive layer, the bonding property between the device chip 300 and the structure including the cavity 250 is improved, The structural stability of the circuit board can be improved. In addition, the electrical insulation between the device chip 300 and the peripheral circuit pattern can be improved.

몇몇 다른 실시 예에 있어서는, 도 8 및 도 9에 도시된 공정과는 달리, 소자칩(300)의 적어도 일면에 절연성 접착 물질을 먼저 제공할 수도 있다. 이어서, 상기 절연성 접착 물질을 구비하는 소자칩(300)을 캐비티(250) 내에 배치할 수도 있다. 이 경우, 소자칩(300)에 절연성 접착 물질을 제공하는 방법은, 소자칩(300)을 절연성 접착 물질을 포함하는 용기 내에 담구거나, 소자칩(300)의 적어도 일면에 절연성 접착 물질을 도포하는 방법을 적용할 수 있다.In some other embodiments, an insulating adhesive material may be provided first on at least one side of the device chip 300, unlike the process shown in Figs. Subsequently, the device chip 300 having the insulating adhesive material may be disposed in the cavity 250. In this case, the method of providing the insulating adhesive material to the element chip 300 may be a method of immersing the element chip 300 in a container containing an insulating adhesive material, or applying an insulating adhesive material to at least one surface of the element chip 300 Method can be applied.

도 10을 참조하면, 캐비티(250)를 메우는 제2 층간 절연층(272)을 상기 제1 적층 구조물 상에 적층시킬 수 있다. 제2 층간 절연층(272)은 소자칩(300)을 내부에 매몰시킬 수 있다. 제2 층간 절연층(272)은 에폭시 또는 폴리이미드와 같은 폴리머 소재를 포함할 수 있다. 구체적인 실시 예에 있어서, 제2 층간 절연층(272) 및 제2 층간 구리층(274)을 포함하는 제2 중간 기판을 가열, 가압 또는 이들의 결합에 의해 소자칩(300)을 둘러싸도록 상기 제1 적층 구조물과 접합시킬 수 있다.Referring to FIG. 10, a second interlayer insulating layer 272 filling the cavity 250 may be laminated on the first laminated structure. The second interlayer insulating layer 272 can bury the device chip 300 therein. The second interlayer insulating layer 272 may include a polymer material such as epoxy or polyimide. In a specific embodiment, the second intermediate substrate including the second interlayer insulating layer 272 and the second interlayer copper layer 274 may be formed by heating, pressing, 1 laminated structure.

도 11을 참조하면, 제2 층간 절연층(272) 내부에 제2 비아층(284)를 형성하고, 제2 층간 구리층(274) 상에 구리 패턴층(282)을 형성한다. 제2 비아층(284)은 제2 회로 패턴층(246) 및 소자칩(300)의 제1 전극부(310) 및 제2 전극부(320)와 전기적으로 연결될 수 있다. Referring to FIG. 11, a second via layer 284 is formed in the second interlayer insulating layer 272, and a copper pattern layer 282 is formed on the second interlayer copper layer 274. The second via layer 284 may be electrically connected to the second circuit pattern layer 246 and the first and second electrode units 310 and 320 of the device chip 300.

제2 비아층(284) 및 구리 패턴층(282)을 형성하는 방법은 도 5 및 도 6과 관련하여 상술한 공정과 실질적으로 동일하다. 따라서, 중복을 배제하기 위해 상세한 설명은 생략한다. The method of forming the second via layer 284 and the copper pattern layer 282 is substantially the same as the process described above with reference to Figures 5 and 6. Therefore, a detailed description is omitted in order to exclude duplication.

도 12를 참조하면, 구리 패턴층(282)을 식각 마스크로 이용하여, 하부의 제2 층간 구리층(274)을 식각한다. 그 결과, 제2 층간 절연층(272) 상에 제3 회로 패턴층(286)을 형성할 수 있다. 제3 회로 패턴층(286)은 제2 비아층(284)과 연결될 수 있다. 이로써, 소자칩(300)을 덮는 제2 층간 절연층(272), 제2 비아층(284) 및 제3 회로 패턴층(286)을 포함하는 제2 적층 구조물을 상기 제1 적층 구조물 상에 형성할 수 있다.Referring to FIG. 12, the lower second interlayer copper layer 274 is etched using the copper pattern layer 282 as an etching mask. As a result, the third circuit pattern layer 286 can be formed on the second interlayer insulating layer 272. The third circuit pattern layer 286 may be connected to the second via layer 284. Thus, a second stacked structure including a second interlayer insulating layer 272, a second via layer 284, and a third circuit pattern layer 286 covering the device chip 300 is formed on the first stacked structure can do.

이어서, 캐리어 기판(200)의 캐리어 구리층(212)과 시드 구리층(214)의 계면을 분리한다. 이때, 분리된 시드 구리층(214) 상에 상기 제1 적층 구조물 및 상기 제2 적층 구조물이 배치될 수 있다.Then, the interface between the carrier copper layer 212 of the carrier substrate 200 and the seed copper layer 214 is separated. At this time, the first stacked structure and the second stacked structure may be disposed on the separated seed copper layer 214.

이어서, 시드 구리층(214)을 식각 방법에 의해 제거하여, 제1 회로 패턴층(220), 제1 층간 절연층(232) 및 절연성 접착층(260)을 선택적으로 노출시킬 수 있다. 상기 식각 방법은 일 예로서, 건식 식각, 습식 식각 또는 이들의 결합을 적용할 수 있다. 상기 식각 방법은 일 예로서, 공지의 플래시 식각 방법을 적용할 수 있다.The seed copper layer 214 may then be removed by etching to selectively expose the first circuit pattern layer 220, the first interlayer insulating layer 232 and the insulating adhesive layer 260. The etching method may be, for example, dry etching, wet etching, or a combination thereof. As an example of the etching method, a known flash etching method can be applied.

도 13을 참조하면, 제1 회로 패턴층(220) 상에 솔더 레지스트 패턴층(290)을 형성한다. 또한, 제3 회로 패턴층(286) 상에 솔더 레지스트 패턴층(290)을 형성할 수 있다. 솔더 레지스트 패턴층(290)은 제1 회로 패턴층(220) 또는 제3 회로 패턴층(286)을 선택적으로 노출시키는 홀 패턴(262)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 13, a solder resist pattern layer 290 is formed on the first circuit pattern layer 220. In addition, a solder resist pattern layer 290 can be formed on the third circuit pattern layer 286. The solder resist pattern layer 290 can form a hole pattern 262 for selectively exposing the first circuit pattern layer 220 or the third circuit pattern layer 286.

이어서, 소자칩(300)의 하부에 위치하며, 솔더 레지스트 패턴층(290)에 의해 노출되는 절연성 접착층(260)을 선택적으로 제거한다. 절연성 접착층(260)을 제거하는 방법으로는 일 예로서, 레이저 가공법(laser drilling)이 적용될 수 있다. 또는 다른 예로서, 화학적 식각법이 적용될 수도 있다. 이에 의해, 소자칩(300)의 제1 및 제2 전극부(310, 320)를 노출시킬 수 있다.Then, the insulating adhesive layer 260 located under the device chip 300 and exposed by the solder resist pattern layer 290 is selectively removed. As a method for removing the insulating adhesive layer 260, for example, laser drilling can be applied. As another example, a chemical etching method may be applied. As a result, the first and second electrode units 310 and 320 of the device chip 300 can be exposed.

도 14를 참조하면, 노출된 소자칩(300)의 제1 및 제2 전극부(310, 320) 상에 제1 전도성 범프 구조물(295)을 형성한다. 또한, 노출된 제1 회로 패턴층(220) 상에 제2 전도성 범프 구조물(297)을 형성할 수 있다. 제1 전도성 범프 구조물(295) 및 제2 전도성 범프 구조물(297)은 외부 접속용 구조물로 기능할 수 있다. 상기 외부 접속 구조물은 외부의 기판 또는 장치와 제1 회로 패턴층(220)을 전기적으로 연결하거나, 또는, 외부의 기판 또는 장치와 소자칩(300)을 전기적으로 연결할 수 있다.Referring to FIG. 14, a first conductive bump structure 295 is formed on the first and second electrode portions 310 and 320 of the exposed device chip 300. Also, a second conductive bump structure 297 may be formed on the exposed first circuit pattern layer 220. The first conductive bump structure 295 and the second conductive bump structure 297 can function as an external connection structure. The external connection structure may electrically connect an external substrate or device to the first circuit pattern layer 220 or electrically connect an external substrate or device to the device chip 300.

일 실시 예에 있어서, 제1 전도성 범프 구조물(295) 및 제2 전도성 범프 구조물(297)을 형성하는 방법은, 전도성 페이스트를 제1 및 제2 전극부(310, 320) 상에 인쇄하는 방법을 적용할 수 있다. 일 예로서, 상기 전도성 페이스트는 솔더 물질로 이루어질 수 있다. 다른 실시 예로서, 제1 전도성 범프 구조물(295) 및 제2 전도성 범프 구조물(297)을 형성하는 방법은, SAP(semi additive process) 또는 MSAP(modified SAP) 법과 같은 구리 도금 공법을 적용하여 제1 및 제2 전극부(310, 320) 상에 구리 포스트를 형성하는 방법을 적용할 수 있다. 이를 위해, 제1 및 제2 전극부(310, 320), 또는 접속패드층(224) 상에 별도의 도금 시드층을 형성할 수도 있다. 형성된 상기 구리 포스트 상에는 접속용 솔더층이 더 추가될 수도 있다. 또다른 실시 예로서, 마이크로볼 형태의 솔더구조물을 미리 준비하여 도 13의 홀 패턴(262) 주위에 배치하고 상기 솔더구조물을 리플로우시킴으로써, 홀 패턴(262) 내부를 채우는 제1 전도성 범프 구조물(295) 및 제2 전도성 범프 구조물(297)을 형성할 수도 있다.In one embodiment, the method of forming the first conductive bump structure 295 and the second conductive bump structure 297 includes a method of printing a conductive paste on the first and second electrode portions 310, 320 Can be applied. As an example, the conductive paste may be made of a solder material. As another example, the method of forming the first conductive bump structure 295 and the second conductive bump structure 297 may be performed by applying a copper plating technique such as SAP (semi additive process) or MSAP (modified SAP) And the second electrode portions 310 and 320 may be formed. For this purpose, a separate plating seed layer may be formed on the first and second electrode portions 310 and 320, or the connection pad layer 224. A solder layer for connection may be further added on the formed copper posts. As another embodiment, a first conductive bump structure (not shown) filling the interior of the hole pattern 262 may be formed by previously preparing a solder structure in the form of a micro ball, placing it around the hole pattern 262 of FIG. 13 and reflowing the solder structure 295 and a second conductive bump structure 297 may be formed.

이로써, 제1 회로 패턴층(220), 제2 회로 패턴층(246), 및 소자칩(300)을 내장하는 임베디드 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.As a result, an embedded printed circuit board including the first circuit pattern layer 220, the second circuit pattern layer 246, and the device chip 300 can be manufactured.

한편, 도 2 내지 도 14와 관련하여 상술한 임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법에서는 편의상, 캐리어 기판(200)의 일면에 대하여 상기 제1 적층 구조물 및 상기 제2 적층 구조물을 형성하는 제조 방법을 도시하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 도시된 바와 다르게, 캐리어 기판(200)의 양쪽 면 모두에 대해, 상기 제1 적층 구조물 및 상기 제2 적층 구조물을 형성한 후에, 캐리어 기판(200)을 제거하는 방법을 적용할 수도 있다. 본 방법에 의하여, 한 쌍의 임베디드 인쇄회로기판을 제조할 수도 있다.2 to 14, a manufacturing method for forming the first laminated structure and the second laminated structure on one side of the carrier substrate 200 is shown for the sake of simplicity in the manufacturing method of the embedded printed circuit board described above with reference to FIGS. 2 to 14 However, the present invention is not limited thereto. A method of removing the carrier substrate 200 after forming the first laminated structure and the second laminated structure on both sides of the carrier substrate 200 may be applied. By this method, a pair of embedded printed circuit boards can be manufactured.

도 15는 임베디드 인쇄회로기판과 외부의 다른 인쇄회로기판의 접속 형태를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 15를 참조하면, 제1 전도성 범프 구조물(295) 및 제2 전도성 범프 구조물(297)을 이용하여, 상기 임베디드 인쇄회로기판을 외부의 다른 인쇄회로기판과 전기적으로 접속시킬 수 있다. 상기 접속 방법은 제1 및 제2 제1 전도성 범프 구조물(295, 297)을 상기 외부의 인쇄회로기판 상의 패드부와 인접하여 배치시킨 후에, 제1 및 제2 제1 전도성 범프 구조물(295, 297)을 리플로우시켜 서로 접합시키는 방법을 적용할 수 있다.15 is a cross-sectional view schematically showing a connection form of an embedded printed circuit board and another external printed circuit board. Referring to FIG. 15, the first conductive bump structure 295 and the second conductive bump structure 297 can be used to electrically connect the embedded printed circuit board to another printed circuit board outside. The connection method may include disposing the first and second first conductive bump structures 295 and 297 adjacent the pad portions on the external printed circuit board and then placing the first and second first conductive bump structures 295 and 297 ) May be reflowed and bonded to each other.

도 15를 참조하여, 본 실시 예에 의해 제조되는 임베디드 인쇄회로기판을 다시 살펴보면, 상기 임베디드 인쇄회로기판은 제1 회로 패턴층(220)을 내부에 구비하며, 제1 회로 패턴층(220)의 적어도 일부분을 선택적으로 노출시키는 캐비티(250)를 포함하는 제1 층간 절연층(232)을 포함할 수 있다. 이때, 상기 임베디드 인쇄회로기판은 제1 층간 절연층(232) 상에 배치되는 제2 회로 패턴층(246) 및 제1 회로 패턴층(220)과 전기적으로 연결되는 제1 비아층(244)을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 15, the embedded printed circuit board manufactured according to the present embodiment includes a first circuit pattern layer 220 inside the first printed circuit board 220, And a first interlayer insulating layer 232 including a cavity 250 selectively exposing at least a portion thereof. At this time, the embedded printed circuit board includes a second circuit pattern layer 246 disposed on the first interlayer insulating layer 232 and a first via layer 244 electrically connected to the first circuit pattern layer 220 .

또한, 상기 임베디드 인쇄회로기판은 캐비티(250) 내에 배치되며 절연성 접착층(260)에 의해 제1 회로 패턴층(220)과 전기적으로 절연되는 소자칩(300)을 포함할 수 있다. 절연성 접착층(260)은 캐비티(300)의 바닥면인 제1 회로 패턴층(220)을 덮을 수 있다. 다른 실시 예에서, 캐비티(300)의 측벽부인 제1 층간 절연층(232)의 적어도 일부분을 덮도록 배치될 수도 있다. The embedded printed circuit board may include a device chip 300 disposed in the cavity 250 and electrically insulated from the first circuit pattern layer 220 by an insulating adhesive layer 260. The insulating adhesive layer 260 may cover the first circuit pattern layer 220 which is the bottom surface of the cavity 300. In another embodiment, it may be arranged to cover at least a part of the first interlayer insulating layer 232 which is the side wall portion of the cavity 300. [

또한, 상기 임베디드 인쇄회로기판은 소자칩(300)을 덮도록 제1 층간 절연층(232) 상에 배치되는 제2 층간 절연층(272)를 포함한다. 이때, 상기 임베디드 인쇄회로기판은 제2 층간 절연층(272) 상에 배치되는 제3 회로 패턴층(286) 및 제2 회로 패턴층(246)과 전기적으로 연결되는 제2 비아층(284)을 더 포함할 수 있다.In addition, the embedded printed circuit board includes a second interlayer insulating layer 272 disposed on the first interlayer insulating layer 232 to cover the device chip 300. At this time, the embedded printed circuit board includes a third circuit pattern layer 286 disposed on the second interlayer insulating layer 272 and a second via layer 284 electrically connected to the second circuit pattern layer 246 .

또한, 상기 임베디드 인쇄회로기판은 소자칩(300)의 하부에서 제1 회로 패턴층(220) 사이를 관통하여 소자칩(300)과 전기적으로 연결되는 제1 전도성 범프 구조물(295)와 같은 접속 구조물을 포함한다. The embedded printed circuit board may include a connection structure such as a first conductive bump structure 295 that penetrates between the first circuit pattern layers 220 at the bottom of the device chip 300 and is electrically connected to the device chip 300, .

도 16은 본 발명의 일 실시 예에 따르는 임베디드 인쇄회로기판을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 구체적으로, 도 16의 임베디드 인쇄회로기판은 도 15의 인쇄회로기판의 접속 구조물(295) 부근을 확대하여 나타낸 도면이다.16 is a cross-sectional view schematically showing an embedded printed circuit board according to an embodiment of the present invention. Specifically, the embedded printed circuit board of FIG. 16 is an enlarged view of the vicinity of the connection structure 295 of the printed circuit board of FIG.

도 16을 참조하면, 제1 회로 패턴층(220)은 회로층(222) 및 접속 패드층(224)을 포함할 수 있다. 회로층(222)은 임베디드 인쇄회로기판 내에서의 전기 회로의 일부분을 구성하고 있으며, 제1 비아층(244), 제2 비아층(284), 제2 회로 패턴층(246) 또는 제3 회로 패턴층(286)과 전기적으로 연결될 수 있다. 접속 패드층(224)은 외부 접속을 위한 패드로서 기능할 수 있으며, 제1 전도성 범프 구조물(295)을 경유하여, 제1 및 제2 전극부(310, 320)와 전기적으로 연결될 수 있다. 접속 패드층(224)은 제1 층간 절연층(232)의 내부에 내장될 수 있다. 접속 패드층(224)의 폭(W1)은 회로층(222)의 폭(W2)보다 클 수 있다.Referring to FIG. 16, the first circuit pattern layer 220 may include a circuit layer 222 and a connection pad layer 224. The circuit layer 222 constitutes a portion of the electrical circuit in the embedded printed circuit board and the first via layer 244, the second via layer 284, the second circuit pattern layer 246, And may be electrically connected to the pattern layer 286. The connection pad layer 224 may function as a pad for external connection and may be electrically connected to the first and second electrode portions 310 and 320 via the first conductive bump structure 295. The connection pad layer 224 may be embedded in the first interlayer insulating layer 232. The width W1 of the connection pad layer 224 may be greater than the width W2 of the circuit layer 222. [

도면을 다시 참조하면, 접속 구조물로서의 제1 전도성 범프 구조물(295)은 소자칩(300)의 제1 및 제2 전극부(310, 320), 및 절연성 접착층(260)의 적어도 일부분과 접촉할 수 있다. 다르게는, 접속 구조물(295)은 소자칩(300)의 제1 및 제2 전극부(310, 320) 및 제1 회로 패턴층(220) 중 접속 패드층(224)과 접촉할 수 있다.Referring again to the drawings, the first conductive bump structure 295 as a connection structure can contact the first and second electrode portions 310, 320 of the device chip 300 and at least a portion of the insulating adhesive layer 260 have. Alternatively, the connection structure 295 may contact the first and second electrode portions 310 and 320 of the device chip 300 and the connection pad layer 224 of the first circuit pattern layer 220.

상술한 구조를 살펴보면, 소자칩(300)을 제1 층간 절연층(232) 내에 내장하는 구조에서, 소자칩(300)의 하부에 내장된 제1 회로 패턴층(220)을 배치시킬 수 있다. 이때, 제1 회로 패턴층(232) 중 일부분은 배선용 회로층(222)으로 기능하게 함으로써 인쇄회로기판의 집적도를 증가시킬 수 있으며, 제1 회로 패턴층(232) 중 일부분은 외부 접속을 위한 접속 패드층(224)으로 기능하게 함으로써, 인쇄회로기판의 두께를 감소시킬 수 있다. 접속 패드층(224) 사이의 공간에 제1 전도성 범프 구조물(295)이 채워지도록 배치됨으로써, 구조적 안정성이 증가될 수 있다.
The first circuit pattern layer 220 embedded in the lower part of the device chip 300 can be disposed in the structure in which the device chip 300 is embedded in the first interlayer insulating layer 232. [ At this time, a part of the first circuit pattern layer 232 functions as the wiring circuit layer 222, and the degree of integration of the printed circuit board can be increased. A part of the first circuit pattern layer 232 is connected By functioning as the pad layer 224, the thickness of the printed circuit board can be reduced. By arranging the first conductive bump structure 295 to be filled in the space between the connection pad layers 224, the structural stability can be increased.

이상에서는 도면 및 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 출원의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원에 개시된 실시예들을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It can be understood that

200: 캐리어 기판, 210: 절연코어층,
212: 캐리어 구리층, 214: 도금 시드층,
220: 제1 회로 패턴층, 222: 회로층,
224: 접속 패드층, 232: 제1 층간 절연층,
234: 제1 층간 구리층, 236: 제1 비아홀,
242: 구리 패턴층, 244: 제1 비아층,
246: 제2 회로 패턴층, 250: 캐비티,
260: 절연성 접착층, 300: 소자칩,
310: 제1 전극부, 320: 제2 전극부,
330: 유전체부, 272: 제2 층간 절연층,
274: 제2 층간 구리층, 282: 구리 패턴층,
284: 제2 비아층, 286: 제3 회로 패턴층,
290: 솔더 레지스트 패턴층, 295: 제1 전도성 범프 구조물,
297: 제2 전도성 범프 구조물.
200: carrier substrate, 210: insulating core layer,
212: a carrier copper layer, 214: a plating seed layer,
220: first circuit pattern layer, 222: circuit layer,
224: connection pad layer, 232: first interlayer insulating layer,
234: first interlayer copper layer, 236: first via hole,
242: copper pattern layer, 244: first via layer,
246: second circuit pattern layer, 250: cavity,
260: insulating adhesive layer, 300: element chip,
310: first electrode unit, 320: second electrode unit,
330: dielectric portion, 272: second interlayer insulating layer,
274: second interlayer copper layer, 282: copper pattern layer,
284: second via layer, 286: third circuit pattern layer,
290: solder resist pattern layer, 295: first conductive bump structure,
297: Second conductive bump structure.

Claims (22)

(a) 도금 시드층을 포함하는 캐리어 기판 상에 제1 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(b) 상기 제1 회로 패턴층을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 구비하는 제1 층간 절연층을 포함하는 제1 적층 구조물을 상기 캐리어 기판 상에 형성하는 단계;
(c) 상기 캐비티의 내부에 소자칩을 배치시키되, 절연성 접착층을 이용하여 상기 제1 회로 패턴층과 상기 소자칩을 전기적으로 절연시키는 단계;
(d) 상기 소자칩을 덮는 제2 층간 절연층을 포함하는 제2 적층 구조물을 상기 제1 적층 구조물 상에 형성하는 단계;
(e) 상기 캐리어 기판을 상기 제1 및 제2 적층 구조물로부터 분리함으로써, 상기 제1 회로 패턴층을 노출시키는 단계;
(f) 상기 제1 회로 패턴층 사이의 상기 절연성 접착층을 선택적으로 제거하여 상기 소자칩을 노출시키고, 상기 소자칩과 전기적으로 연결되는 접속 구조물을 형성하는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) forming a first circuit pattern layer on a carrier substrate including a plating seed layer;
(b) forming a first laminate structure on the carrier substrate, the first laminate structure including a first interlayer dielectric layer having a cavity selectively exposing the first circuit pattern layer;
(c) disposing a device chip in the cavity, and electrically insulating the first circuit pattern layer and the device chip using an insulating adhesive layer;
(d) forming a second laminate structure on the first laminate structure, the second laminate structure including a second interlayer insulating layer covering the device chip;
(e) exposing the first circuit pattern layer by separating the carrier substrate from the first and second laminate structures;
(f) selectively removing the insulating adhesive layer between the first circuit pattern layers to expose the device chip, and forming a connection structure electrically connected to the device chip
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(a) 단계의 상기 캐리어 기판은
절연코어층; 및
상기 절연코어층 상에 순차적으로 적층되는 캐리어 구리층 및 상기 도금 시드층을 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
wherein the carrier substrate in step (a)
An insulating core layer; And
A carrier copper layer sequentially deposited on the insulating core layer, and a plating seed layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(a) 단계의 상기 제1 회로 패턴층을 형성하는 단계는
상기 도금 시드층 상에 상기 도금 시드층을 선택적으로 노출시키는 제1 레지스트 패턴층을 형성하는 단계; 및
상기 제1 레지스트 패턴층 사이로 노출되는 상기 도금 시드층을 이용하는 도금법을 실시하여 도금 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
wherein forming the first circuit pattern layer in step (a) comprises:
Forming a first resist pattern layer selectively exposing the plating seed layer on the plating seed layer; And
And forming a plating pattern layer by performing a plating method using the plating seed layer exposed between the first resist pattern layers
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(b) 단계는
(b1) 상기 제1 회로 패턴층 상에 제1 층간 절연층을 적층하는 단계;
(b2) 상기 제1 층간 절연층 내부에 제1 비아층을 형성하고 상기 제1 층간 절연층 상에 제2 회로 패턴층을 형성하는 단계; 및
(b3) 상기 제1 층간 절연층을 가공하여 상기 제1 회로 패턴층을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 형성하는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(b)
(b1) laminating a first interlayer insulating layer on the first circuit pattern layer;
(b2) forming a first via layer in the first interlayer insulating layer and forming a second circuit pattern layer on the first interlayer insulating layer; And
(b3) forming the cavity for selectively exposing the first circuit pattern layer by processing the first interlayer insulating layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(c) 단계는
(c1) 상기 제1 회로 패턴층을 덮도록 절연성 접착 물질을 상기 캐비티 내부에 도포하여 상기 절연성 접착층을 형성하는 단계; 및
(c2) 상기 절연성 접착층 상에 상기 소자칩을 부착시키는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(c)
(c1) forming an insulating adhesive layer by coating an insulating adhesive material on the inside of the cavity so as to cover the first circuit pattern layer; And
(c2) attaching the device chip on the insulating adhesive layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(c) 단계는
(c1) 상기 소자칩의 적어도 일면에 절연성 접착 물질을 제공하는 단계; 및
(c2) 상기 절연성 접착 물질을 구비하는 상기 소자칩을 상기 제1 회로 패턴층 상에 부착시키는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(c)
(c1) providing an insulating adhesive material on at least one side of the device chip; And
(c2) attaching the device chip including the insulating adhesive material on the first circuit pattern layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제5 항 또는 제6 항에 있어서,
상기 절연성 접착 물질은 상기 캐비티의 바닥면의 상기 제1 회로 패턴층을 커버하도록 도포되고, 상기 캐비티의 측벽부인 상기 제1 층간 절연층의 적어도 일부분을 커버하도록 도포되는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 5 or 6,
The insulating adhesive material is applied to cover the first circuit pattern layer on the bottom surface of the cavity and is applied to cover at least a part of the first interlayer insulating layer which is the side wall portion of the cavity
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(d) 단계는
(d1) 상기 캐비티를 메우는 상기 제2 층간 절연층을 상기 제1 적층 구조물 상에 적층시키는 단계; 및
(d2) 상기 제2 층간 절연층 내부에 제2 비아층을 형성하고 상기 제2 층간 절연층 상에 제3 회로 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(d)
(d1) depositing the second interlayer insulating layer filling the cavity on the first laminated structure; And
(d2) forming a second via layer in the second interlayer insulating layer and forming a third circuit pattern layer on the second interlayer insulating layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제2 항에 있어서,
(e) 단계는
(e1) 상기 캐리어 기판의 상기 캐리어 구리층과 상기 시드 구리층의 계면을 분리하여, 외부로 노출된 상기 시드 구리층 상에 상기 제1 적층 구조물 및 상기 제2 적층 구조물을 배치시키는 단계; 및
(e2) 상기 시드 구리층을 식각 방법에 의해 제거하여, 상기 제1 회로 패턴층, 상기 제1 층간 절연층 및 상기 절연성 접착층을 노출시키는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
(e)
(e1) separating the interface between the carrier copper layer and the seed copper layer of the carrier substrate to dispose the first stack structure and the second stack structure on the exposed seed copper layer; And
(e2) removing the seed copper layer by an etching method to expose the first circuit pattern layer, the first interlayer insulating layer and the insulating adhesive layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 항에 있어서,
(f) 단계는
(f1) 상기 제1 회로 패턴층 상에 솔더 레지스트 패턴층을 형성하는 단계;
(f2) 상기 솔더 레지스트 패턴층에 의해 노출되며 상기 소자칩의 하부에 위치하는 상기 절연성 접착층을 선택적으로 제거하여, 상기 소자칩의 전극부를 노출시키는 단계; 및
(f3) 노출된 상기 소자칩의 전극부 상에 전도성 범프 구조물을 형성하는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
(f)
(f1) forming a solder resist pattern layer on the first circuit pattern layer;
(f2) exposing the electrode portion of the device chip by selectively removing the insulating adhesive layer exposed by the solder resist pattern layer and located under the device chip; And
(f3) forming a conductive bump structure on the exposed portion of the device chip
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
(a) 캐리어 기판 상에 제1 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(b) 상기 제1 회로 패턴층을 덮는 제1 층간 절연층을 상기 캐리어 기판 상에 형성하는 단계;
(c) 상기 제1 회로 패턴층을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 상기 제1 층간 절연층 내에 형성하는 단계;
(d) 상기 캐비티 내에서 상기 제1 회로 패턴층을 덮는 절연성 접착층을 형성하고, 소자칩을 상기 제1 회로 패턴층과 전기적으로 절연된 상태로 상기 캐비티 내에 배치시키는 단계;
(e) 상기 제2 층간 절연층으로 상기 캐비티를 메우는 단계;
(f) 상기 캐리어 기판과 상기 제1 회로 패턴층을 서로 분리시켜, 상기 제1 회로 패턴층, 상기 제1 층간 절연층 및 상기 절연성 접착층을 노출시키는 단계; 및
(g) 상기 소자칩의 하부의 상기 절연성 접착층을 선택적으로 제거하여, 상기 소자칩의 전극부를 노출시키는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) forming a first circuit pattern layer on a carrier substrate;
(b) forming a first interlayer insulating layer on the carrier substrate to cover the first circuit pattern layer;
(c) forming a cavity in the first interlayer insulating layer to selectively expose the first circuit pattern layer;
(d) forming an insulating adhesive layer covering the first circuit pattern layer in the cavity, and placing the device chip in the cavity in a state electrically insulated from the first circuit pattern layer;
(e) filling the cavity with the second interlayer insulating layer;
(f) exposing the first circuit pattern layer, the first interlayer insulating layer, and the insulating adhesive layer by separating the carrier substrate and the first circuit pattern layer from each other; And
(g) selectively removing the insulating adhesive layer under the device chip to expose the electrode portion of the device chip
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제11 항에 있어서,
(a) 단계에 있어서,
상기 캐리어 기판은
절연코어층; 및
상기 절연코어층 상에 순차적으로 적층되는 캐리어 구리층 및 상기 도금 시드층을 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
In the step (a)
The carrier substrate
An insulating core layer; And
A carrier copper layer sequentially deposited on the insulating core layer, and a plating seed layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제12 항에 있어서,
(a) 단계는
상기 도금 시드층 상에 레지스트 패턴층을 형성하는 단계; 및
상기 도금 시드층을 이용하는 도금법으로 도금 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
(a)
Forming a resist pattern layer on the plating seed layer; And
And forming a plating pattern layer by a plating method using the plating seed layer
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제12 항에 있어서,
(c) 단계의 상기 캐비티는 상기 제1 회로 패턴층 및 상기 도금 시드층의 적어도 일부분을 함께 노출시키는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
wherein the cavity of step (c) exposes at least a portion of the first circuit pattern layer and the plating seed layer together
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제12 항에 있어서,
(f) 단계의 상기 캐리어 기판과 상기 제1 회로 패턴층을 서로 분리시키는 과정은
(f1) 상기 캐리어 구리층과 상기 도금 시드층을 서로 분리시키는 단계; 및
(f2) 노출되는 상기 도금 시드층을 식각 방법에 의해 제거하는 단계를 포함하는
임베디드 인쇄회로기판의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
and separating the carrier substrate and the first circuit pattern layer from each other in step (f)
(f1) separating the carrier copper layer and the plating seed layer from each other; And
(f2) removing the exposed plating seed layer by an etching method
A method of manufacturing an embedded printed circuit board.
제1 회로 패턴층을 내부에 구비하며, 상기 제1 회로 패턴층의 적어도 일부분을 선택적으로 노출시키는 캐비티를 포함하는 제1 층간 절연층;
상기 캐비티 내에 배치되며 절연성 접착층에 의해 상기 제1 회로 패턴층과 전기적으로 절연되는 소자칩;
상기 소자칩을 덮도록 상기 제1 층간 절연층 상에 배치되는 제2 층간 절연층; 및
상기 소자칩 하부에서 상기 제1 회로 패턴층 사이를 관통하여 상기 소자칩과 전기적으로 연결되는 접속 구조물을 포함하는
임베디드 인쇄회로기판.
A first interlayer insulating layer having a first circuit pattern layer therein and including a cavity for selectively exposing at least a portion of the first circuit pattern layer;
A device chip disposed in the cavity and electrically insulated from the first circuit pattern layer by an insulating adhesive layer;
A second interlayer insulating layer disposed on the first interlayer insulating layer to cover the device chip; And
And a connection structure that is electrically connected to the device chip through the first circuit pattern layer under the device chip
Embedded printed circuit board.
제16 항에 있어서,
상기 제1 층간 절연층 상에 배치되는 제2 회로 패턴층; 및
상기 제1 회로 패턴층과 전기적으로 연결되는 제1 비아층을 더 포함하는
임베디드 인쇄회로기판.
17. The method of claim 16,
A second circuit pattern layer disposed on the first interlayer insulating layer; And
And a first via layer electrically connected to the first circuit pattern layer
Embedded printed circuit board.
제16 항에 있어서,
상기 제2 층간 절연층 상에 배치되는 제3 회로 패턴층; 및
상기 제2 회로 패턴층과 전기적으로 연결되는 제2 비아층을 더 포함하는
임베디드 인쇄회로기판.
17. The method of claim 16,
A third circuit pattern layer disposed on the second interlayer insulating layer; And
And a second via layer electrically connected to the second circuit pattern layer
Embedded printed circuit board.
제16 항에 있어서,
상기 절연성 접착층은 상기 캐비티의 바닥면인 상기 제1 회로 패턴층을 덮고,
상기 캐비티의 측벽부인 상기 제1 층간 절연층의 적어도 일부분을 덮도록 배치되는
임베디드 인쇄회로기판.
17. The method of claim 16,
Wherein the insulating adhesive layer covers the first circuit pattern layer which is the bottom surface of the cavity,
And at least a portion of the first interlayer insulating layer which is the side wall portion of the cavity
Embedded printed circuit board.
제16 항에 있어서,
상기 접속 구조물은 상기 소자칩의 전극부 및 상기 절연성 접착층의 적어도 일부분과 접촉하는
임베디드 인쇄회로기판.
17. The method of claim 16,
Wherein the connection structure is in contact with an electrode portion of the device chip and at least a part of the insulating adhesive layer
Embedded printed circuit board.
제16 항에 있어서,
상기 접속 구조물은 상기 소자칩의 전극부 및 상기 제1 회로 패턴층 중 접속 패드층과 접촉하는
임베디드 인쇄회로기판.
17. The method of claim 16,
Wherein the connection structure contacts the electrode part of the device chip and the connection pad layer of the first circuit pattern layer
Embedded printed circuit board.
제16 항에 있어서,
상기 접속 구조물은 솔더 물질층, 구리 포스트 및 구리 포스트과 솔더층의 적층 구조 중 어느 하나를 포함하는 전도성 범프 구조물인
임베디드 인쇄회로기판.
17. The method of claim 16,
The connection structure may be a conductive bump structure including any one of a solder material layer, a copper post, and a stacked structure of a copper post and a solder layer
Embedded printed circuit board.
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