KR20150111278A - Anisotropic conductive film, connection method, and joined structure - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an anisotropic conductive film, which contains: polyester urethane (A) having transition temperature less than 60°C and the average molecular weight less than or equal to 20,000; polyester urethane (B) having transition temperature greater than or equal to 60°C and less than or equal to 100°C and the average molecular weight more than or equal to 20,000 and less than or equal to 30,000; radically polymerized compounds; and organic peroxide compounds.

Description

이방성 도전 필름, 접속 방법 및 접합체{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, CONNECTION METHOD, AND JOINED STRUCTURE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film, a connection method,

본 발명은 이방성 도전 필름, 그리고 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법, 및 상기 접속 방법을 사용하여 제조된 접합체에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection method using the anisotropic conductive film, and a junction body manufactured using the connection method.

이방성 도전 필름은, 예를 들어, 플렉시블 프린트 기판 (FPC) 이나 IC (Integrated Circuit) 칩의 단자와, LCD (Liquid Crystal Display) 패널의 유리 기판 상에 형성된 전극을 서로 전기적으로 접속하는 경우를 비롯하여, 여러 가지 단자끼리를 접착함과 함께 서로 전기적으로 접속하는 경우에 사용되고 있다.The anisotropic conductive film is used for a case in which terminals of a flexible printed circuit board (FPC) or an IC (Integrated Circuit) chip are electrically connected to electrodes formed on a glass substrate of an LCD (Liquid Crystal Display) And is used in a case where various terminals are bonded together and electrically connected to each other.

종래, 이방성 도전 필름에 의한 접속에 있어서는, 160 ℃ 이상에서 실시하면, 부재에 따라서는 열 대미지가 일어나는 경우가 있고, 4 ㎫ 이상으로 실시하면, 부재에 따라서는 물리적 대미지가 일어나는 경우가 있고, 10 초 이상으로 실시하면, 생산 효율이 그다지 좋지 않다는 문제가 있다.Conventionally, in connection with the anisotropic conductive film, if the operation is carried out at 160 캜 or more, thermal damage may occur depending on the member. If the operation is carried out at 4 MPa or more, physical damage may occur depending on the member. Sec, there is a problem that the production efficiency is not so good.

그래서, 최근, 이방성 도전 필름을 사용한 접속에서는, 부재에 대한 열 및 물리적 대미지의 억제, 그리고 생산 효율 향상의 요구가 높아지고 있다. 그 때문에, 140 ℃ 정도의 저온, 3 ㎫ 정도의 저압, 및 5 초 정도의 단시간에, 접속 신뢰성이 우수하고, 접착 강도가 높고, 도전성 입자의 찌부러짐 정도가 양호하고, 또한 기판으로부터의 이방성 도전 필름의 들뜸이 없는 이방성 도전 필름에 의한 접속이 요구되고 있다.Thus, in connection with the connection using an anisotropic conductive film in recent years, there has been an increasing demand for suppressing heat and physical damage to the member and improving the production efficiency. Therefore, it is possible to provide a semiconductor device which has excellent connection reliability, high bonding strength, good degree of crushing of the conductive particles and low anisotropic conductivity from the substrate at a low temperature of about 140 ° C, a low pressure of about 3 MPa, A connection by an anisotropic conductive film without lifting of the film is required.

회로 접속용 접착물로서, 산당량이 5 KOHmg/g ∼ 500 KOHmg/g 인 접착제를 사용함으로써 접착력을 향상시키는 기술이 제안되어 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-169632호 참조). 그러나, 이 제안된 기술에서는, 회로 접속을 4 ㎫ (고압), 20 초 (장시간) 로 실시하고 있기 때문에, 부재에 물리적 대미지를 부여하여, 더욱 생산 효율이 좋지 않다는 문제가 있다.A technique has been proposed in which an adhesive having an acid amount of 5 KOHmg / g to 500 KOHmg / g is used as an adhesive for circuit connection (for example, see JP-A 2007-169632). However, in the proposed technique, since the circuit connection is performed at 4 MPa (high pressure) for 20 seconds (for a long time), there is a problem that physical damage is given to the member and the production efficiency is further lowered.

대향되는 전극 간의 스페이스를 도전성 입자의 직경보다 좁게 함으로써, 상기 도전성 입자가 대향되는 전극에 눌러 찌부러뜨려지고, 전극 간의 도통을 확보함으로써, 저압으로 회로 접속을 실시하는 기술이 제안되어 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-169632호 참조). 그러나, 이 제안된 기술에서는, 회로 접속을 170 ℃ (고온) 에서 실시하고 있기 때문에, 부재에 열 대미지를 부여한다는 문제가 있다.A technique has been proposed in which circuit connection is carried out at a low pressure by making the space between opposing electrodes narrower than the diameter of the conductive particles so that the conductive particles are pushed against the opposing electrodes and ensuring conduction between the electrodes Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2007-169632). However, in this proposed technique, there is a problem that heat dissipation is given to the member because the circuit connection is performed at 170 DEG C (high temperature).

접착제 조성물로서, 열가소성 수지, 라디칼 중합성 화합물 및 라디칼 중합 개시제를 함유하는 라디칼 경화형 접착제 조성물을 사용함으로써, 이방성 도전 필름을 단시간에 접속하는 것을 가능하게 하는 기술이 제안되어 있다 (예를 들어, 국제 공개 제07/046189호 팸플릿 참조). 그러나, 이 제안된 기술에서는, 이방성 도전 필름에 의한 접속을 160 ℃ (고온) 에서 실시하고 있기 때문에, 부재에 열 대미지를 부여한다는 문제가 있다.There has been proposed a technique which makes it possible to connect an anisotropic conductive film in a short time by using a radical-curing adhesive composition containing a thermoplastic resin, a radical polymerizing compound and a radical polymerization initiator as an adhesive composition (see, for example, 07/046189). However, in this proposed technique, since the connection by the anisotropic conductive film is carried out at 160 DEG C (high temperature), there is a problem that thermal damage is given to the member.

또, 열가소성 수지와, 라디칼 중합성 화합물과, 라디칼 발생제와, 용해도 파라미터가 9.0 이상인 실란 커플링제를 함유하는 접착제 조성물을 사용함으로써, 무기 기재에 대하여 강한 접착 강도를 얻는 기술이 제안되어 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-177204호 참조). 그러나, 이 제안된 기술에서는, 회로 접속을 175 ℃ (고온), 15 초 (장시간) 로 실시하고 있기 때문에, 부재에 열 대미지를 부여하여, 더욱 생산 효율이 좋지 않다는 문제가 있다.Further, there has been proposed a technique of obtaining a strong adhesive strength to an inorganic substrate by using an adhesive composition containing a thermoplastic resin, a radically polymerizable compound, a radical generator, and a silane coupling agent having a solubility parameter of 9.0 or more See, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2007-177204). However, in the proposed technique, since the circuit connection is carried out at 175 ° C (high temperature) for 15 seconds (for a long time), there is a problem that thermal damage is given to the member and the production efficiency is further lowered.

그 때문에, 이들 제안된 기술에서는, 최근 요구되고 있는 140 ℃ 정도의 저온, 3 ㎫ 정도의 저압, 및 5 초 정도의 단시간에, 접속 신뢰성이 우수하고, 접착 강도가 높고, 도전성 입자의 찌부러짐 정도가 양호하고, 또한 기판으로부터의 들뜸이 없는 이방성 도전 필름을 사용한 접속을 실현할 수 없다는 문제가 있다.Therefore, in these proposed techniques, the connection reliability is excellent, the bonding strength is high, and the degree of crushing of the conductive particles is low, that is, the bonding reliability is high, the low temperature of about 140 캜, the low pressure of about 3 MPa, There is a problem in that connection using an anisotropic conductive film free from lifting from the substrate can not be realized.

따라서, 저온, 저압 및 단시간에, 접속 신뢰성이 우수하고, 접착 강도가 높고, 도전성 입자의 찌부러짐 정도가 양호하고, 또한 기판으로부터 들뜨지 않는 접속이 가능한 이방성 도전 필름, 그리고 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 접합체가 요구되고 있는 것이 현상황이다.Therefore, it is an object of the present invention to provide an anisotropic conductive film which is excellent in connection reliability, high in bonding strength, good in crushing degree of conductive particles, Methods and assemblies are required.

본 발명은, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. 즉, 본 발명은, 저온, 저압 및 단시간에, 접속 신뢰성이 우수하고, 접착 강도가 높고, 도전성 입자의 찌부러짐 정도가 양호하고, 또한 기판으로부터 들뜨지 않는 접속이 가능한 이방성 도전 필름, 그리고 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 접합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to solve the above-mentioned conventional problems and to achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film which is excellent in connection reliability, high in bonding strength, good in crushing degree of conductive particles, And to provide a connection method using a film and a bonded body.

상기 과제를 해결하기 위한 수단으로는, 이하와 같다. 즉,Means for solving the above problems are as follows. In other words,

<1> 수평균 분자량이 20,000 이하, 또한 유리 전이 온도가 60 ℃ 미만인 폴리에스테르우레탄 (A) 와,(1) A polyester urethane (A) having a number average molecular weight of 20,000 or less and a glass transition temperature of less than 60 占 폚,

수평균 분자량이 20,000 이상 30,000 이하, 또한 유리 전이 온도가 60 ℃ 이상 100 ℃ 이하인 폴리에스테르우레탄 (B) 와,A polyester urethane (B) having a number average molecular weight of 20,000 or more and 30,000 or less and a glass transition temperature of 60 占 폚 or more and 100 占 폚 or less,

라디칼 중합성 물질과,A radical polymerizable material,

유기 과산화물을 함유하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름이다.And is an anisotropic conductive film characterized by containing an organic peroxide.

<2> 폴리에스테르우레탄 (A) 와 폴리에스테르우레탄 (B) 의 질량 비율 (A : B) 가 30 : 70 ∼ 80 : 20 인 상기 <1> 에 기재된 이방성 도전 필름이다.<2> The anisotropic conductive film according to <1>, wherein the mass ratio (A: B) of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) is 30:70 to 80:20.

<3> 폴리에스테르우레탄 (A) 의 수평균 분자량 [Mn(A)] 와 폴리에스테르우레탄 (B) 의 수평균 분자량 [Mn(B)] 의 비율 [Mn(B)/Mn(A)] 가 2.0 이상 3.0 이하이고,<3> The ratio [Mn (B) / Mn (A)] of the number average molecular weight [Mn (A)] of the polyester urethane (A) to the number average molecular weight [Mn (B)] of the polyester urethane 2.0 or more and 3.0 or less,

상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 합계 함유량이 18 질량% ∼ 75 질량% 인 상기 <1> 내지 <2> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름이다.The anisotropic conductive film according to any one of <1> to <2>, wherein the total content of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) is 18% by mass to 75% by mass.

<4> 라디칼 중합성 물질이 2 관능 (메트)아크릴레이트 및 3 관능 (메트)아크릴레이트를 함유하고,&Lt; 4 >, wherein the radical polymerizable substance contains a bifunctional (meth) acrylate and a trifunctional (meth) acrylate,

상기 2 관능 (메트)아크릴레이트와 상기 3 관능 (메트)아크릴레이트의 질량 비율 [2 관능 (메트)아크릴레이트 : 3 관능 (메트)아크릴레이트] 가 30 : 70 ∼ 80 : 20 이고,(Meth) acrylate: trifunctional (meth) acrylate] in a weight ratio of the bifunctional (meth) acrylate to the trifunctional (meth) acrylate is from 30:70 to 80:20,

상기 2 관능 (메트)아크릴레이트 및 상기 3 관능 (메트)아크릴레이트의 합계 함유량이 18 질량% ∼ 75 질량% 인 상기 <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름이다.The anisotropic conductive film according to any one of <1> to <3>, wherein the total content of the bifunctional (meth) acrylate and the trifunctional (meth) acrylate is 18% by mass to 75% by mass.

<5> 이미다졸실란을 함유하는 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름이다.<5> An anisotropic conductive film according to any one of <1> to <4>, which contains imidazole silane.

<6> 기판의 단자와 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법으로서,&Lt; 6 > A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,

상기 기판의 단자 상에 상기 <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름을 첩부하는 첩부 공정과,An attaching step of attaching the anisotropic conductive film described in any one of < 1 > to < 5 > onto a terminal of the substrate;

상기 이방성 도전 필름 상에 상기 전자 부품을 재치 (載置) 하는 재치 공정과,A mounting step of placing the electronic component on the anisotropic conductive film,

상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하고,And a heating and pressing step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member,

상기 가열 가압 공정에 있어서의 상기 가압이 1 ㎫ ∼ 3 ㎫ 인 것을 특징으로 하는 접속 방법이다.And the pressing in the heating and pressing step is 1 MPa to 3 MPa.

<7> 상기 <6> 에 기재된 접속 방법을 사용하여 제조된 것을 특징으로 하는 접합체이다.&Lt; 7 > A bonded body produced by using the connection method according to the above-mentioned < 6 >.

본 발명에 의하면, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 상기 목적을 달성할 수 있고, 저온, 저압 및 단시간에, 접속 신뢰성이 우수하고, 접착 강도가 높고, 도전성 입자의 찌부러짐 정도가 양호하고, 또한 기판으로부터 들뜨지 않는 접속이 가능한 이방성 도전 필름, 그리고 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 접합체를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to solve the above-mentioned conventional problems and to achieve the above object, and to provide a conductive paste which has excellent reliability of connection at a low temperature, a low pressure and a short time, And an anisotropic conductive film which can be connected without hesitation from the substrate, and a connection method and a junction body using the anisotropic conductive film.

(이방성 도전 필름)(Anisotropic conductive film)

본 발명의 이방성 도전 필름은, 폴리에스테르우레탄 (A) 와, 폴리에스테르우레탄 (B) 와, 라디칼 중합성 물질과, 유기 과산화물을 적어도 함유하고, 추가로 필요에 따라 그 밖의 성분을 함유한다.The anisotropic conductive film of the present invention contains at least a polyester urethane (A), a polyester urethane (B), a radically polymerizable substance and an organic peroxide, and further contains other components as required.

<폴리에스테르우레탄 (A)>&Lt; Polyester urethane (A) >

상기 폴리에스테르우레탄 (A) 의 수평균 분자량으로는 20,000 이하이고, 8,000 이상 20,000 이하가 바람직하고, 10,000 이상 20,000 이하가 보다 바람직하고, 10,000 이상 15,000 이하가 특히 바람직하다. 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 의 수평균 분자량이 20,000 을 초과하면, 도전성 입자를 충분히 찌부러뜨릴 수 없어 접속이 불안정해진다.The number average molecular weight of the polyester urethane (A) is 20,000 or less, preferably 8,000 or more and 20,000 or less, more preferably 10,000 or more and 20,000 or less, and particularly preferably 10,000 or more and 15,000 or less. When the number average molecular weight of the polyester urethane (A) exceeds 20,000, the conductive particles can not be sufficiently crushed and the connection becomes unstable.

상기 폴리에스테르우레탄 (A) 의 유리 전이 온도로는 60 ℃ 미만이고, 40 ℃ 이상 60 ℃ 미만이 바람직하다. 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 의 유리 전이 온도가 60 ℃ 이상이면, 도전성 입자를 충분히 찌부러뜨릴 수 없어 접속이 불안정해진다.The glass transition temperature of the polyester urethane (A) is preferably less than 60 占 폚, and more preferably 40 占 폚 or more and less than 60 占 폚. If the glass transition temperature of the polyester urethane (A) is 60 占 폚 or higher, the conductive particles can not be sufficiently crushed and the connection becomes unstable.

본 발명에 있어서 폴리에스테르우레탄이란, 에스테르 결합과 우레탄 결합을 갖는 폴리머이다.In the present invention, the polyester urethane is a polymer having an ester bond and a urethane bond.

<폴리에스테르우레탄 (B)> &Lt; Polyester urethane (B)

상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 수평균 분자량으로는 20,000 이상 30,000 이하이고, 22,000 이상 28,000 이하가 바람직하다. 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 수평균 분자량이 20,000 미만이면 접속 신뢰성이 우수하지 않은 경우가 있고, 30,000 을 초과하면, 도전성 입자를 충분히 찌부러뜨릴 수 없어 접속이 불안정해진다.The number average molecular weight of the polyester urethane (B) is 20,000 or more and 30,000 or less, preferably 22,000 or more and 28,000 or less. When the number average molecular weight of the polyester urethane (B) is less than 20,000, the connection reliability may not be excellent. When the number average molecular weight is more than 30,000, the conductive particles can not be sufficiently crushed and the connection becomes unstable.

상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 유리 전이 온도로는 60 ℃ 이상 100 ℃ 이하이고, 65 ℃ 이상 85 ℃ 이하가 바람직하다. 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 유리 전이 온도가 60 ℃ 미만이면 접속 신뢰성이 우수하지 않고, 100 ℃ 를 초과하면 접착성이 우수하지 않다.The glass transition temperature of the polyester urethane (B) is preferably 60 占 폚 to 100 占 폚, and preferably 65 占 폚 to 85 占 폚. If the glass transition temperature of the polyester urethane (B) is less than 60 캜, the connection reliability is not excellent, and if it exceeds 100 캜, the adhesion is not excellent.

상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 수평균 분자량은, 예를 들어, 겔 침투 크로마토그래피 (GPC) 에 의해 구할 수 있다. 상기 GPC 에 있어서, 검량선은 표준 폴리스티렌을 사용한다.The number average molecular weight of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) can be determined, for example, by gel permeation chromatography (GPC). In the GPC, standard polystyrene is used as the calibration curve.

상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 유리 전이 온도는, 예를 들어, 시차 주사 열량 측정 (DSC) 에 의해 구할 수 있다. 상기 DSC 에 있어서는, 예를 들어, 알루미늄팬에 수용된 5 ㎎ 의 시료를 사용하고, 20 ℃ 에서 150 ℃ 까지를 승온 속도 10 ℃/분간으로 승온하여 측정을 실시한다.The glass transition temperature of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) can be determined, for example, by differential scanning calorimetry (DSC). In the above DSC, for example, 5 mg sample contained in an aluminum pan is used and the temperature is raised from 20 캜 to 150 캜 at a temperature raising rate of 10 캜 / minute to carry out the measurement.

상기 이방성 도전 필름에 있어서, 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 가 병용되고 있는 것의 확인 방법으로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 이하의 방법 등을 들 수 있다.In the anisotropic conductive film, a method for confirming whether the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) are used in combination is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, And the like.

상기 이방성 도전 필름으로부터, 수지 성분 (상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 혼합물) 을 THF (테트라하이드로푸란) 를 사용하여 추출한다. 추출된 수지 성분을, 고속 액체 크로마토그래피 (HPLC) 에 의해 측정한다.A resin component (a mixture of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B)) is extracted from the anisotropic conductive film using THF (tetrahydrofuran). The extracted resin component is measured by high performance liquid chromatography (HPLC).

측정 결과에 있어서, 2 개의 피크 (이봉성 (二峰性)) 가 얻어진 경우에는, 그 피크에 기초하여 분리 채취하고, 2 개의 수지 성분을 얻는다. 얻어진 2 개의 수지 성분 각각에 대해서, 전술한 방법에 의해 수평균 분자량 및 유리 전이 온도를 측정한다. 또한, 2 개의 피크가 가깝고, 일방이 타방의 어깨로 보이는 경우에도 이봉성으로 판단한다.When two peaks (bimodal) are obtained in the measurement results, they are separated and collected based on the peaks to obtain two resin components. The number average molecular weight and the glass transition temperature are measured for each of the obtained two resin components by the above-mentioned method. Further, even if two peaks are close to each other and one side is seen as the shoulder of the other, it is judged to be bending.

또, 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 분자량이 가깝고, HPLC 의 측정 결과에 있어서, 2 개의 피크가 명확하게 얻어지지 않는 경우에는, 용제 용해성의 차이에 의한 분리를 실시하는 것, 비중차를 이용하여 분리를 실시하는 것, GPC 차트의 산의 전반과 후반의 스커트 부분을 분리 채취하여 분석하는 것 등에 의해, 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 를 구별할 수 있다.In the case where the molecular weights of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) are close to each other and the two peaks can not be clearly obtained in the HPLC measurement results, separation by the difference in solvent solubility is carried out (A) and the polyester urethane (B) by, for example, separating the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) by separating using a specific gravity difference, Can be distinguished.

상기 폴리에스테르우레탄 (A) 와 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 질량 비율 (A : B) 로는 30 : 70 ∼ 80 : 20 이 바람직하고, 40 : 60 ∼ 60 : 40 이 보다 바람직하다. 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 와 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 질량 비율 (A : B) 에 있어서, 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 의 비율이 30 : 70 미만이면, 접착 강도 및 접속 신뢰성이 우수하지 않은 경우가 있고, 80 : 20 을 초과하면, 접착 강도 및 접속 신뢰성이 우수하지 않은 경우가 있다.The mass ratio (A: B) of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) is preferably from 30:70 to 80:20, and more preferably from 40:60 to 60:40. When the ratio of the polyester urethane (A) to the polyester urethane (A) in the mass ratio (A: B) of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) is less than 30: 70, If it exceeds 80: 20, the adhesive strength and the connection reliability may not be excellent.

상기 이방성 도전 필름에 있어서의, 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 와 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 질량 비율 (A : B) 는, 예를 들어, 배합량으로부터 산출하는 방법, 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 가 병용되고 있는 것의 확인 방법에 있어서 분리 채취된 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 질량으로부터 구하는 방법 등을 들 수 있다.The mass ratio (A: B) of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) in the anisotropic conductive film can be calculated, for example, And the polyester urethane (B) are used in combination, the mass of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) taken separately may be used.

상기 폴리에스테르우레탄 (A) 의 수평균 분자량 [Mn(A)] 와 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 수평균 분자량 [Mn(B)] 의 비율 [Mn(B)/Mn(A)] 로는 1.0 이상이 바람직하고, 2.0 이상 3.0 이하가 보다 바람직하다. 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 의 수평균 분자량 [Mn(A)] 와 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 수평균 분자량 [Mn(B)] 의 비율 [Mn(B)/Mn(A)] 가 1.0 미만이면, 접속 신뢰성이 우수하지 않은 경우가 있고, 3.0 을 초과하면, 도전성 입자를 충분히 찌부러뜨릴 수 없어 접속이 불안정해지는 경우가 있다.The ratio [Mn (B) / Mn (A)] of the number average molecular weight [Mn (A)] of the polyester urethane (A) to the number average molecular weight [Mn (B)] of the polyester urethane Or more, more preferably 2.0 or more and 3.0 or less. The ratio [Mn (B) / Mn (A)] of the number average molecular weight [Mn (A)] of the polyester urethane (A) to the number average molecular weight [Mn (B)] of the polyester urethane , The connection reliability may not be excellent. On the other hand, if it is more than 3.0, the conductive particles can not be sufficiently crushed and the connection may become unstable.

상기 이방성 도전 필름에 있어서의, 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 합계 함유량으로는 18 질량% ∼ 75 질량% 가 바람직하고, 30 질량% ∼ 65 질량% 가 보다 바람직하다. 상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 합계 함유량이 18 질량% 미만이면, 접착 부족이 되는 경우가 있고, 75 질량% 를 초과하면, 경화물 부족이 발생하여, 접속 신뢰성이 우수하지 않은 경우가 있다.The total content of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) in the anisotropic conductive film is preferably 18 mass% to 75 mass%, more preferably 30 mass% to 65 mass% . If the total content of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) is less than 18% by mass, adhesion may be insufficient. If the total content exceeds 75% by mass, It may not be excellent.

<라디칼 중합성 물질> <Radical Polymerizable Substance>

상기 라디칼 중합성 물질로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 단관능 (메트)아크릴레이트, 2 관능 (메트)아크릴레이트, 3 관능 (메트)아크릴레이트, 4 관능 (메트)아크릴레이트, 5 관능 (메트)아크릴레이트, 6 관능 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The radically polymerizable material is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include monofunctional (meth) acrylate, bifunctional (meth) acrylate, trifunctional (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 5-functional (meth) acrylate, and 6-functional (meth) acrylate.

본 발명에 있어서의 (메트)아크릴레이트란,「아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 적어도 어느 것」을 의미한다.The (meth) acrylate in the present invention means "at least one of acrylate and methacrylate".

상기 단관능 (메트)아크릴레이트로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The monofunctional (meth) acrylate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl Methacrylate, and the like.

상기 2 관능 (메트)아크릴레이트로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산에틸렌옥사이드 변성 디(메트)아크릴레이트, 하이드록시피발산네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐디(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 인산디(메트)아크릴레이트, 알릴화시클로헥실디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The bifunctional (meth) acrylate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) (Meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl (meth) acrylate, ethylene oxide modified di (meth) acrylate, allylcyclohexyl (Meth) acrylate, and the like.

상기 3 관능 (메트)아크릴레이트로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리스(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있다.The trifunctional (meth) acrylate is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylol propane tri (meth) acrylate, and tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate. have.

상기 4 관능 (메트)아크릴레이트로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 디글리세린테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The tetrafunctional (meth) acrylate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include diglycerin tetra (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate .

상기 5 관능 (메트)아크릴레이트로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The pentafunctional (meth) acrylate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate And the like.

상기 6 관능 (메트)아크릴레이트로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The hexafunctional (meth) acrylate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate And the like.

상기 라디칼 중합성 물질은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 되고, 또 적절히 합성한 것이어도 되고, 시판품이어도 된다.The radically polymerizable substance may be used alone, or two or more kinds may be used in combination, or may be appropriately synthesized or commercially available products.

상기 이방성 도전 필름에 있어서의, 상기 2 관능 (메트)아크릴레이트 및 상기 3 관능 (메트)아크릴레이트의 합계 함유량으로는 18 질량% ∼ 75 질량% 가 바람직하고, 30 질량% ∼ 65 질량% 가 보다 바람직하다. 상기 이방성 도전 필름에 있어서의, 상기 2 관능 (메트)아크릴레이트 및 상기 3 관능 (메트)아크릴레이트의 합계 함유량이 18 질량% 미만이면, 경화 부족이 발생하여 접속 신뢰성이 우수하지 않은 경우가 있고, 75 질량% 를 초과하면, 접착 부족이 되는 경우가 있다.The total content of the bifunctional (meth) acrylate and the trifunctional (meth) acrylate in the anisotropic conductive film is preferably 18 mass% to 75 mass%, more preferably 30 mass% to 65 mass% desirable. When the total content of the bifunctional (meth) acrylate and the trifunctional (meth) acrylate in the anisotropic conductive film is less than 18 mass%, insufficient curing may occur and connection reliability may not be excellent, If it exceeds 75% by mass, adhesion may be insufficient.

<유기 과산화물> <Organic peroxide>

상기 유기 과산화물로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 라우로일퍼옥사이드, 부틸퍼옥사이드, 벤질퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드, 디부틸퍼옥사이드, 퍼옥시디카보네이트, 벤조일퍼옥사이드 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 되고, 또 적절히 합성한 것이어도 되고, 시판품이어도 된다.The organic peroxide is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples of the organic peroxide include lauroyl peroxide, butyl peroxide, benzyl peroxide, dilauryl peroxide, dibutyl peroxide, peroxydicarbonate, Benzoyl peroxide, and the like. These may be used alone, or two or more of them may be used in combination, or may be synthesized appropriately, or may be commercially available products.

상기 이방성 도전 필름에 있어서의, 상기 유기 과산화물의 함유량으로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 0.1 질량% ∼ 5 질량% 인 것이 바람직하다.The content of the organic peroxide in the anisotropic conductive film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and it is preferably 0.1% by mass to 5% by mass.

<그 밖의 성분> &Lt; Other components >

상기 그 밖의 성분으로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 이미다졸계, 에폭시계, 메타크릴옥시계, 아미노계, 비닐계, 메르캅토·술파이드계, 우레이드계 등의 실란 커플링제, 실리카, 탤크, 산화티탄, 탄산칼슘, 산화마그네슘 등의 무기 필러, 열가소성 수지, 고무 성분 등의 유연제 등을 들 수 있는데, 유리에 대한 접착성을 향상시키는 점에서, 이미다졸실란이 바람직하다.The other components are not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include an imidazole-based, epoxy-based, methacryloxime, amino-based, vinyl-based, mercapto- Inorganic fillers such as silica, talc, titanium oxide, calcium carbonate and magnesium oxide, and softeners such as thermoplastic resins and rubber components. From the viewpoint of improving the adhesion to glass, A disazosilane is preferred.

(접속 방법)(Connection method)

본 발명의 접속 방법은, 첩부 공정과, 재치 (載置) 공정과, 가열 가압 공정을 포함하고, 추가로 필요에 따라 그 밖의 공정을 포함한다.The connecting method of the present invention includes an attaching step, a placing step, and a heating and pressing step, and further includes other steps as necessary.

상기 접속 방법은, 기판의 단자와 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법이다.The connection method is a connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic part.

<첩부 공정> <Attachment process>

상기 첩부 공정으로는, 상기 기판의 단자 상에, 이방성 도전 필름을 첩부하는 공정이면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The attaching step is not particularly limited as long as it is a step of attaching the anisotropic conductive film on the terminal of the substrate, and can be appropriately selected according to the purpose.

<<기판>><< Substrate >>

상기 기판으로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 유리 기판, 플라스틱 기판, 세라믹 기판, 플렉시블 프린트 기판 등을 들 수 있다.The substrate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples of the substrate include a glass substrate, a plastic substrate, a ceramic substrate, and a flexible printed substrate.

<재치 공정> <Wit process>

상기 재치 공정으로는, 상기 이방성 도전 필름 상에 상기 전자 부품을 재치하는 공정이면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The placing step is not particularly limited as long as it is a step of placing the electronic part on the anisotropic conductive film, and can be appropriately selected according to the purpose.

<<전자 부품>><< Electronic Components >>

상기 전자 부품으로는, 이방성 도전성 접속의 대상이 되는 단자를 갖는 전자 부품이면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, IC 칩, TAB 테이프, 액정 패널, 플렉시블 기판 등을 들 수 있다.The electronic component is not particularly limited as long as it is an electronic component having a terminal to be subjected to anisotropic conductive connection. The electronic component can be appropriately selected according to the purpose. For example, an IC chip, a TAB tape, a liquid crystal panel, .

상기 IC 칩으로는, 예를 들어, 플랫 패널 디스플레이 (FPD) 에 있어서의 액정 화면 제어용 IC 칩 등을 들 수 있다.Examples of the IC chip include a liquid crystal screen control IC chip in a flat panel display (FPD).

<가열 가압 공정><Heating and pressing step>

상기 가열 가압 공정으로는, 상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 공정이면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The heating and pressing step is not particularly limited as long as it is a step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member, and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 가열 가압 부재로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 가열 기구를 갖는 가압 부재 등을 들 수 있다. 상기 가열 기구를 갖는 가압 부재로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어, 히트 툴 등을 들 수 있다.The heating and pressing member is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. For example, a pressing member having a heating mechanism can be given. The pressing member having the heating mechanism is not particularly limited and can be appropriately selected in accordance with the purpose. For example, a heat tool and the like can be mentioned.

상기 가열의 온도로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 130 ℃ ∼ 150 ℃ 가 바람직하고, 130 ℃ ∼ 140 ℃ 가 보다 바람직하다.The heating temperature is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. The heating temperature is preferably 130 ° C to 150 ° C, more preferably 130 ° C to 140 ° C.

상기 가압의 압력으로는 1 ㎫ ∼ 5 ㎫ 이고, 1 ㎫ ∼ 3 ㎫ 가 바람직하다.The pressurizing pressure is 1 MPa to 5 MPa, preferably 1 MPa to 3 MPa.

상기 가열 및 가압의 시간으로는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 2 초간 ∼ 5 초간이 바람직하다.The heating and pressurizing time is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and is preferably 2 seconds to 5 seconds.

(접합체)(Bonded body)

본 발명의 접합체는, 본 발명의 상기 접속 방법에 의해 제조된다.The joined body of the present invention is manufactured by the above connecting method of the present invention.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 조금도 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

(실시예 1)(Example 1)

<이방성 도전 필름의 제조>&Lt; Preparation of anisotropic conductive film &

폴리에스테르우레탄 (A) (상품명 : UR4410, 토요보 주식회사 제조, 수평균 분자량 ; 10,000, 유리 전이 온도 ; 56 ℃) 를 40 질량부, 폴리에스테르우레탄 (B) (상품명 : UR8200, 토요보 주식회사 제조, 수평균 분자량 ; 25,000, 유리 전이 온도 ; 73 ℃) 를 10 질량부, 2 관능 아크릴레이트 (상품명 : M-1600, 토아 합성 주식회사 제조, 우레탄아크릴레이트) 를 25 질량부, 3 관능 아크릴레이트 (상품명 : M-315, 토아 합성 주식회사 제조, 이소시아누르산 EO 변성 디 및 트리아크릴레이트) 를 25 질량부, 개시제 1 (상품명 : 퍼로일 L, 니치유 주식회사 제조, 지방족계 디아실퍼옥사이드) 을 2 질량부, 개시제 2 (상품명 : 나이퍼 BW, 니치유 주식회사 제조, 벤조일퍼옥사이드) 를 2 질량부, 커플링제 (상품명 : IM-1000, JX 닛코 일석 에너지 주식회사 제조, 이미다졸실란) 를 1.5 질량부, 및 도전성 입자 (Au-Ni 도금 수지 입자, 상품명 : 미크로펄 AU, 평균 입경 4 ㎛, 세키스이 화학 공업 주식회사 제조) 를 2 질량부를 배합한 이방성 도전 조성물을 얻었다.40 parts by mass of polyester urethane (A) (trade name: UR4410, manufactured by Toyobo Co., Ltd., number average molecular weight: 10,000; glass transition temperature: 56 캜), 40 parts by mass of polyester urethane (B) (trade name: UR8200, , 25 parts by mass of a bifunctional acrylate (trade name: M-1600, manufactured by Toagosei Co., Ltd., urethane acrylate), 10 parts by mass of a trifunctional acrylate (trade name: 25 parts by mass of an isocyanuric acid (trade name: M-315, manufactured by TOAGOSEI CO., LTD., Isocyanuric acid EO-modified di- and triacrylate) and 2 parts by mass of Initiator 1 (trade name: PEROIL L, manufactured by Nichiyu Corporation, aliphatic diacyl peroxide) , 2 parts by mass of Initiator 2 (trade name: NIPPER BW, manufactured by Nisshin Oil Co., Ltd., benzoyl peroxide), 1.5 parts by mass of a coupling agent (trade name: IM-1000, manufactured by JX Nikko Seiki Energy Co., Ltd., imidazole silane)Here (Au-Ni-plated resin particles, trade name: Micro Pearl AU, average particle size 4 ㎛, Sekisui Chemical Co., Ltd.) 2 parts by mass of the formulation to obtain the anisotropic conductive composition.

얻어진 이방성 도전 조성물을, 이형 PET (폴리에틸렌테레프탈레이트, 크기 250 ㎜, 평균 두께 50 ㎛) 상에 도포한 후, 80 ℃ 에서 건조시켜, 이형 PET 상에 평균 두께 25 ㎛ 의 이방성 도전 필름을 얻었다.The obtained anisotropic conductive composition was coated on a release PET (polyethylene terephthalate, size 250 mm, average thickness 50 탆) and dried at 80 캜 to obtain an anisotropic conductive film having an average thickness of 25 탆 on the releasing PET.

<접합체의 제조>&Lt; Preparation of a conjugate &

이하의 방법에 의해 접합체를 제조하였다.A bonded body was produced by the following method.

전자 부품으로서 ITO 박막을 형성한 유리 기판을 사용하였다.A glass substrate on which an ITO thin film was formed as an electronic component was used.

기판으로서, 플렉시블 프린트 기판 (구리 배선 : 라인/스페이스 = 100 ㎛/100 ㎛) 을 사용하였다.As a substrate, a flexible printed substrate (copper wiring: line / space = 100 占 퐉 / 100 占 퐉) was used.

상기 기판 상에, 상기 이방성 도전 필름 (필름 폭 2.0 ㎜) 을 배치하였다. 계속해서, 상기 이방성 도전 필름 상에 상기 전자 부품을 재치하였다. 계속해서, 140 ℃, 2 ㎫, 5 초간의 조건으로, 상기 전자 부품을 가열 및 가압하여, 접합체를 얻었다.On the substrate, the anisotropic conductive film (film width: 2.0 mm) was disposed. Subsequently, the electronic component was placed on the anisotropic conductive film. Subsequently, the electronic component was heated and pressed under the conditions of 140 占 폚, 2 MPa, and 5 seconds to obtain a bonded body.

<도통 저항의 측정>&Lt; Measurement of continuity resistance &

각 접합체에 대해서, 초기 및 신뢰성 후 (온도 85 ℃, 습도 85%RH, 250 hr 투입 후) 의 도통 저항값은, 디지털 멀티미터 (34401A, 애질런트·테크놀로지 주식회사 제조) 를 사용하여 측정하였다. 측정 방법으로는, 4 단자법을 사용하여 전류 1 ㎃ 를 흘려 실시하였다.The conduction resistance values at initial and after reliability (after the temperature 85 ° C and the humidity 85% RH for 250 hours) were measured for each junction body using a digital multimeter (34401A, manufactured by Agilent Technologies, Inc.). As a measurement method, a current of 1 mA was flowed using a four-terminal method.

이하의 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1-1 에 나타낸다.And evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1-1.

○ : 2 Ω 미만○: Less than 2 Ω

△ : 2 Ω 이상 10 Ω 미만△: 2 Ω or more and less than 10 Ω

× : 10 Ω 이상×: 10 Ω or more

<접착 강도의 측정><Measurement of Adhesive Strength>

유리 기판과 COF (Chip On Film) 의 접합체의 초기 및 신뢰성 후 (온도 85 ℃, 습도 85%RH, 250 hr 투입 후) 의 접착 강도에 대해서, 인장 시험기 (품번 : RTC1201, AND 사 제조) 를 사용하여 측정하였다. 측정 속도를 50 ㎜/min 으로 하고, COF 를 90 도 방향으로 끌어올렸을 때의 접착 강도를 측정하였다.A tensile tester (product number: RTC1201, manufactured by AND Co.) was used to measure the adhesive strength of the bonded body of the glass substrate and the COF (Chip On Film) after initial and reliability (after the temperature was 85 ° C and humidity 85% Respectively. The measurement was carried out at a measuring speed of 50 mm / min, and the bonding strength was measured when the COF was pulled up in the direction of 90 degrees.

이하의 기준으로 평가하였다. 초기와 신뢰성 후의 결과를 표 1-1 에 나타낸다.And evaluated according to the following criteria. The results after initial and reliability are shown in Table 1-1.

◎ : 10 N/㎝ 이상?: 10 N / cm or more

○ : 5 N/㎝ 이상 10 N/㎝ 미만?: 5 N / cm or more and less than 10 N / cm

△ : 3 N/㎝ 이상 5 N/㎝ 미만?: 3 N / cm or more and less than 5 N / cm

× : 3 N/㎝ 미만X: less than 3 N / cm

<도전성 입자의 찌부러짐 정도>&Lt; Degree of crushing of conductive particles &

이방성 도전 필름에 포함되는 도전성 입자에 대해서, 금속 현미경 (상품명 : MX50, 올림푸스사 제조) 을 사용하여, 접합체 제조 후의 상기 도전성 입자의 찌부러짐 정도를 관찰하였다. 도전성 입자의 분명한 변형이 관찰되었을 때, 도전성 입자가 찌부러진 것으로 판단하였다.With respect to the conductive particles contained in the anisotropic conductive film, the degree of crushing of the conductive particles after the production of the bonded body was observed using a metal microscope (trade name: MX50, manufactured by Olympus Corporation). When a clear deformation of the conductive particles was observed, it was judged that the conductive particles were crushed.

이하의 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1-1 에 나타낸다.And evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1-1.

○ : 도전성 입자가 찌부러짐○: The conductive particle is crushed

× : 도전성 입자가 찌부러지지 않음X: Conductive particles are not crushed

<내들뜸성><My Delight>

금속 현미경 (상품명 : MX50, 올림푸스사 제조) 을 사용하여, 초기 및 신뢰성 후 (온도 85 ℃, 습도 85%RH, 250 hr 투입 후) 의 이방성 도전 필름의 기판에 대한 내들뜸성을 관찰하였다.An exothermic property of the anisotropic conductive film on the substrate after the initial and reliability (after the addition of the temperature of 85 캜 and the humidity of 85% RH for 250 hours) was observed using a metal microscope (trade name: MX50, manufactured by Olympus Corporation).

이하의 기준으로 평가하였다. 초기와 신뢰성 후의 결과를 표 1-1 에 나타낸다.And evaluated according to the following criteria. The results after initial and reliability are shown in Table 1-1.

○ : 현미경으로 들뜸이 0/10 (10 샘플 중 0 개) 관찰된다.○: 0/10 (0 out of 10 samples) is observed with a microscope.

△ : 현미경으로 들뜸이 1/10 (10 샘플 중 1 개) 관찰된다.?: One-tenth of the sample was observed with a microscope (1 out of 10 samples).

× : 현미경으로 들뜸이 2 이상/10 (10 샘플 중 2 개 이상) 관찰된다.×: More than 2/10 (more than 2 out of 10 samples) are observed with a microscope.

(실시예 2 ∼ 15, 비교예 1 ∼ 10)(Examples 2 to 15 and Comparative Examples 1 to 10)

실시예 1 에 있어서, 재료의 종류 및 배합량을 표 1-1 ∼ 표 1-5 와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전 필름의 제조 및 접합체의 제조를 실시하였다.Production of an anisotropic conductive film and production of a bonded body were carried out in the same manner as in Example 1, except that the kind and blending amount of the materials were changed as shown in Tables 1-1 to 1-5.

또, 실시예 1 과 동일한 평가를 실시하였다. 결과를 표 1-1 ∼ 표 1-5 에 나타낸다.The same evaluation as in Example 1 was carried out. The results are shown in Tables 1-1 to 1-5.

[표 1-1][Table 1-1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[표 1-2][Table 1-2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[표 1-3][Table 1-3]

Figure pat00003
Figure pat00003

[표 1-4][Table 1-4]

Figure pat00004
Figure pat00004

[표 1-5][Table 1-5]

Figure pat00005
Figure pat00005

폴리에스테르우레탄 A : UR4410, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 10,000, 유리 전이 온도 ; 56 ℃)Polyester urethane A: UR4410, manufactured by TOYOBO CO., LTD. (Number average molecular weight: 10,000, glass transition temperature: 56 캜)

폴리에스테르우레탄 A' : UR5537, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 20,000, 유리 전이 온도 ; 34 ℃)Polyester urethane A ': UR5537, manufactured by TOYOBO CO., LTD. (Number average molecular weight: 20,000, glass transition temperature: 34 캜)

폴리에스테르우레탄 B : UR8200, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 25,000, 유리 전이 온도 ; 73 ℃)Polyester urethane B: UR8200, manufactured by Toyobo Co. (number average molecular weight: 25,000, glass transition temperature: 73 캜)

폴리에스테르우레탄 B' : UR4125, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 20,000, 유리 전이 온도 ; 67 ℃)Polyester urethane B ': UR4125, manufactured by Toyobo Co., Ltd. (number average molecular weight: 20,000, glass transition temperature: 67 캜)

폴리에스테르우레탄 C : UR1350, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 30,000, 유리 전이 온도 ; 46 ℃)Polyester urethane C: UR1350, manufactured by TOYOBO CO., LTD. (Number average molecular weight: 30,000, glass transition temperature: 46 DEG C)

폴리에스테르우레탄 D : UR8400, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 25,000, 유리 전이 온도 ; 106 ℃)Polyester urethane D: UR8400, manufactured by Toyobo Co. (number average molecular weight: 25,000, glass transition temperature: 106 占 폚)

폴리에스테르우레탄 E : UR1700, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 16,000, 유리 전이 온도 ; 92 ℃)Polyester urethane E: UR1700, manufactured by TOYOBO CO., LTD. (Number average molecular weight: 16,000, glass transition temperature: 92 DEG C)

폴리에스테르우레탄 F : UR1400, 토요보 주식회사 제조 (수평균 분자량 ; 40,000, 유리 전이 온도 ; 83 ℃)Polyester urethane F: UR1400, manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd. (number average molecular weight: 40,000, glass transition temperature: 83 占 폚)

2 관능 아크릴레이트 : M-1600, 토아 합성 주식회사 제조Bifunctional acrylate: M-1600, manufactured by Toagosei Co., Ltd.

3 관능 아크릴레이트 : M-315, 토아 합성 주식회사 제조Trifunctional acrylate: M-315, manufactured by Toagosei Co., Ltd.

개시제 1 : 퍼로일 L, 니치유 주식회사 제조Initiator 1: Peroil L, manufactured by Nichiyu Co., Ltd.

개시제 2 : 나이퍼 BW, 니치유 주식회사 제조Initiator 2: manufactured by Nippon BW, Nichiyu Co., Ltd.

커플링제 : IM-1000, JX 닛코 일석 에너지 주식회사 제조Coupling agent: IM-1000, JX manufactured by Nikko Seiki Energy Co., Ltd.

도전성 입자 : Au-Ni 도금 수지 입자, 상품명 : 미크로펄 AU, 평균 입경 4 ㎛, 세키스이 화학 공업 주식회사 제조Conductive particles: Au-Ni plated resin particles, trade name: Micropearl AU, average particle diameter 4 mu m, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.

2 종류의 특정한 폴리에스테르우레탄을 함유하는 이방성 도전 필름을 사용함으로써, 140 ℃ (저온), 2 ㎫ (저압), 5 초간 (단시간) 에, 접합체를 얻을 수 있었다.Using the anisotropic conductive film containing two kinds of specific polyester urethane, a bonded body could be obtained at 140 캜 (low temperature) and 2 MPa (low pressure) for 5 seconds (short time).

본 발명의 이방성 도전 필름에 의해, 저온, 저압 및 단시간에, 접속 신뢰성이 우수하고, 접착 강도가 높고, 도전성 입자의 찌부러짐 정도가 양호하고, 또한 기판으로부터 들뜨지 않는 접속이 가능해진다.With the anisotropic conductive film of the present invention, connection reliability is high, bonding strength is high, the degree of crushing of the conductive particles is good, and the connection is kept unobtainable from the substrate at a low temperature, a low pressure and a short time.

Claims (7)

수평균 분자량이 20,000 이하, 또한 유리 전이 온도가 60 ℃ 미만인 폴리에스테르우레탄 (A) 와,
수평균 분자량이 20,000 이상 30,000 이하, 또한 유리 전이 온도가 60 ℃ 이상 100 ℃ 이하인 폴리에스테르우레탄 (B) 와,
라디칼 중합성 물질과,
유기 과산화물을 함유하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.
A polyester urethane (A) having a number average molecular weight of 20,000 or less and a glass transition temperature of less than 60 占 폚,
A polyester urethane (B) having a number average molecular weight of 20,000 or more and 30,000 or less and a glass transition temperature of 60 占 폚 or more and 100 占 폚 or less,
A radical polymerizable material,
An anisotropic conductive film characterized by containing an organic peroxide.
제 1 항에 있어서,
폴리에스테르우레탄 (A) 와 폴리에스테르우레탄 (B) 의 질량 비율 (A : B) 가 30 : 70 ∼ 80 : 20 인, 이방성 도전 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the mass ratio (A: B) of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) is 30:70 to 80:20.
제 1 항에 있어서,
폴리에스테르우레탄 (A) 의 수평균 분자량 [Mn(A)] 와 폴리에스테르우레탄 (B) 의 수평균 분자량 [Mn(B)] 의 비율 [Mn(B)/Mn(A)] 가 2.0 이상 3.0 이하이고,
상기 폴리에스테르우레탄 (A) 및 상기 폴리에스테르우레탄 (B) 의 합계 함유량이 18 질량% ∼ 75 질량% 인, 이방성 도전 필름.
The method according to claim 1,
The ratio [Mn (B) / Mn (A)] of the number average molecular weight [Mn (A)] of the polyester urethane (A) to the number average molecular weight [Mn (B)] of the polyester urethane (B) Or less,
The total content of the polyester urethane (A) and the polyester urethane (B) is 18% by mass to 75% by mass.
제 1 항에 있어서,
라디칼 중합성 물질이 2 관능 (메트)아크릴레이트 및 3 관능 (메트)아크릴레이트를 함유하고,
상기 2 관능 (메트)아크릴레이트와 상기 3 관능 (메트)아크릴레이트의 질량 비율 [2 관능 (메트)아크릴레이트 : 3 관능 (메트)아크릴레이트] 가 30 : 70 ∼ 80 : 20 이고,
상기 2 관능 (메트)아크릴레이트 및 상기 3 관능 (메트)아크릴레이트의 합계 함유량이 18 질량% ∼ 75 질량% 인, 이방성 도전 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the radical polymerizable substance contains a bifunctional (meth) acrylate and a trifunctional (meth) acrylate,
(Meth) acrylate: trifunctional (meth) acrylate] in a weight ratio of the bifunctional (meth) acrylate to the trifunctional (meth) acrylate is from 30:70 to 80:20,
Wherein the total content of the bifunctional (meth) acrylate and the trifunctional (meth) acrylate is 18% by mass to 75% by mass.
제 1 항에 있어서,
이미다졸실란을 함유하는, 이방성 도전 필름.
The method according to claim 1,
An anisotropic conductive film containing an imidazole silane.
기판의 단자와 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법으로서,
상기 기판의 단자 상에 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름을 첩부하는 첩부 공정과,
상기 이방성 도전 필름 상에 상기 전자 부품을 재치 (載置) 하는 재치 공정과,
상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하고,
상기 가열 가압 공정에 있어서의 상기 가압이 1 ㎫ ∼ 3 ㎫ 인 것을 특징으로 하는 접속 방법.
A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
An attaching step of attaching the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 5 onto a terminal of the substrate;
A mounting step of placing the electronic component on the anisotropic conductive film,
And a heating and pressing step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member,
Wherein the pressing in the heating and pressing step is 1 MPa to 3 MPa.
제 6 항에 기재된 접속 방법을 사용하여 제조된 것을 특징으로 하는 접합체.A bonded body produced by using the connection method according to claim 6.
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