KR20150105538A - Touch panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20150105538A
KR20150105538A KR1020140026889A KR20140026889A KR20150105538A KR 20150105538 A KR20150105538 A KR 20150105538A KR 1020140026889 A KR1020140026889 A KR 1020140026889A KR 20140026889 A KR20140026889 A KR 20140026889A KR 20150105538 A KR20150105538 A KR 20150105538A
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Abstract

The present invention relates to a touch panel and a manufacturing method thereof. According to an embodiment of the present invention, the touch panel includes: a transparent substrate; a supporting layer formed on one side of the transparent substrate; a plurality of concave grooves formed on one side of the supporting layer; and a sensing electrode formed as filling the concave groove with a conductive material.

Description

터치 패널 및 그 제조방법{TOUCH PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a touch panel,

본 발명은 터치 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 투명 기판의 일면에 복수 개의 요홈을 가진 지지층을 형성하고, 상기 요홈에 충진되는 도전성 재료에 의해 감지 전극이 형성되는 터치 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a touch panel in which a support layer having a plurality of recesses is formed on a surface of a transparent substrate, a sensing electrode is formed by a conductive material filled in the recess, And a manufacturing method thereof.

최근, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점차 확대되는 추세에 있는바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐만 아니라, 누구라도 쉽게 정보 입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, the use of computers has been gradually expanded in accordance with the rapid progress of the information society. As a result, it is difficult to efficiently operate a product using only a keyboard and a mouse. Therefore, there is an increasing need for a device that is simple and less error-prone, and that allows anyone to easily input information.

또한, 입력 장치에 관한 기술은 일반적인 기능을 충족시키는 수준을 넘어, 고 신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해 텍스트, 그래픽 등의 정보 입력이 가능한 입력 장치로서 터치 패널(touch panel)이 개발되었다.In addition, the technology related to the input device is shifting beyond the level that meets general functions, and attention is shifting to high reliability, durability, innovation, design and processing related technology, etc. In order to achieve this purpose, As a possible input device, a touch panel has been developed.

터치 패널은 전자 수첩과 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), EL(Electroluminescence) 등의 평면 디스플레이 장치와 CRT(Cathode Ray Tube) 등과 같은 화상 표시 장치의 표시면에 설치되어, 사용자가 화상 표시 장치를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되고 있다.The touch panel is provided on the display surface of a flat display device such as an electronic notebook, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), and an electroluminescence (EL) device and an image display device such as a CRT (Cathode Ray Tube) And is used to allow the user to select desired information while viewing the image display device.

이와 같은 터치 패널은 저항막 방식(Resistive type), 정전용량 방식(Capacitive type), 전기자기장 방식(Electro-Magnetic type), 소오 방식(SAW type; Surface Acoustic type), 및 적외선 방식(Infrared type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치 패널은 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막 방식 터치 패널과 정전용량 방식 터치 패널이다.Such a touch panel may be a resistive type, a capacitive type, an electro-magnetic type, a SAW type (Surface Acoustic type), and an infrared type Respectively. These various types of touch panels are employed in electronic products in consideration of problems of signal amplification, differences in resolution, difficulty in design and processing technology, optical characteristics, electrical characteristics, mechanical characteristics, environmental characteristics, input characteristics, durability and economical efficiency Currently, the most widely used methods are resistive touch panels and capacitive touch panels.

도 1은 한국공개특허공보 제10-2011-0111222호(2011.10.10 공개)에 개시된 터치 패널의 구조를 도시한 도면이다.1 is a view showing a structure of a touch panel disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2011-0111222 (published on October 10, 2011).

도 1에 도시된 종래의 터치 패널(1)은, 적어도 일면에 OCA층(3)이 형성된 필름층(4)을 마련하고, 투명 기판(2)에 상기 OCA층(3)을 이용하여 필름층(4)을 부착한 후, 감지 전극(5)이 상기 필름층(4)을 기준으로 상기 투명 기판(2)과 대향하는 면에 형성되도록, 상기 필름층(4)의 상부에 ITO 등의 투명 전도성 물질을 이용하여 감지 전극(5)을 형성하고 있다.The conventional touch panel 1 shown in Fig. 1 has a film layer 4 on which an OCA layer 3 is formed on at least one side and a film layer 4 is formed on the transparent substrate 2 by using the OCA layer 3. [ A transparent electrode 4 such as ITO or the like is formed on the upper surface of the film layer 4 so that the sensing electrode 5 is formed on the surface facing the transparent substrate 2 with respect to the film layer 4, The sensing electrode 5 is formed using a conductive material.

그런데, 위와 같은 구성을 갖는 종래의 터치 패널(1)은, 투명 기판(2)의 상부에 OCA층(3)과 필름층(4)이 차례로 형성됨에 따라 터치 패널(1)의 두께가 증가하고, 터치 패널(1)의 감도가 저하되는 문제점이 있다.In the conventional touch panel 1 having the above configuration, the thickness of the touch panel 1 increases as the OCA layer 3 and the film layer 4 are sequentially formed on the transparent substrate 2 , The sensitivity of the touch panel 1 is deteriorated.

또한, 종래의 터치 패널(1)을 제조함에 있어서, 투명 기판(2)의 상면에 접착제층인 OCA층(3)을 이용하여 필름층(4)을 부착하는 공정이 추가되므로, 터치 패널(1)의 전체적인 제조 공정이 복잡해짐은 물론이고, 필름층(4) 부착 공정시 발생하는 기포와 이물질 등의 유입으로 인해 품질 관리가 어려운 문제점이 있다. 이러한 문제점은 특히 대면적 터치 패널의 제조를 어렵게 하는 한 요인이 되고 있다.
Further, in manufacturing the conventional touch panel 1, a step of attaching the film layer 4 using the OCA layer 3 as an adhesive layer is added to the upper surface of the transparent substrate 2, And the quality control is difficult due to the inflow of bubbles and foreign substances generated in the process of attaching the film layer 4. In addition, Such a problem is a factor that makes it difficult to manufacture a large area touch panel in particular.

KRKR 10-2011-011122210-2011-0111222 AA (2011.10.10(October 10, 2011 공개)open)

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 일 실시예는, 두께가 얇고 전도성이 우수하며, 공정 단순화에 의해 제조비용의 절감 효과가 있는 터치 패널 및 그 제조방법의 제공을 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and one embodiment of the present invention is a touch panel having a thin thickness, excellent conductivity, .

본 발명의 일 실시예에 의하면, 투명 기판; 상기 투명 기판의 일면에 형성되는 지지층; 상기 지지층의 일면에 형성되는 복수 개의 요홈; 및 상기 요홈에 도전성 재료가 충진되어 형성되는 감지 전극을 포함하는 터치 패널이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising: a transparent substrate; A supporting layer formed on one surface of the transparent substrate; A plurality of grooves formed on one surface of the support layer; And a sensing electrode formed by filling the groove with a conductive material.

여기서, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널은 상기 요홈의 바닥면에 코팅되는 코팅층을 더 포함할 수 있다.Here, the touch panel according to an embodiment of the present invention may further include a coating layer coated on the bottom surface of the groove.

이때, 상기 코팅층은 탄소 나노 구조체로 이루어질 수 있다.At this time, the coating layer may be formed of a carbon nanostructure.

이때, 상기 탄소 나노 구조체는 탄소 나노 튜브(CNT) 또는 그래핀(graphene)인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the carbon nanostructure is carbon nanotube (CNT) or graphene.

또한, 상기 투명 기판의 일면 테두리를 따라 형성되는 인쇄층을 더 포함할 수 있다.The display device may further include a print layer formed along one edge of the transparent substrate.

상기 감지 전극은 상기 지지층의 일면에 메쉬(mesh) 패턴을 형성한다.The sensing electrode forms a mesh pattern on one side of the supporting layer.

상기 지지층은 자외선 경화 수지로 이루어진다.The support layer is made of an ultraviolet curing resin.

상기 도전성 재료는 은, 구리, 아연, 금, 알루미늄, 티타늄, 팔라듐 및 크롬으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나의 금속 또는 그 합금을 포함한다.The conductive material includes any metal or alloy thereof selected from the group consisting of silver, copper, zinc, gold, aluminum, titanium, palladium, and chromium.

바람직하게는, 상기 도전성 재료는 도전성 금속 페이스트이다.Preferably, the conductive material is a conductive metal paste.

한편, (a) 투명 기판을 준비하는 단계; (b) 상기 투명 기판의 일면에 지지층을 형성하는 단계; (c) 상기 지지층의 일면에 복수 개의 요홈을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 요홈에 도전성 재료를 충진하여 감지 전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조방법이 제공된다.(A) preparing a transparent substrate; (b) forming a supporting layer on one surface of the transparent substrate; (c) forming a plurality of grooves on one surface of the support layer; And (d) filling the groove with a conductive material to form a sensing electrode.

여기서, 상기 (a) 단계는, (a-1) 상기 투명 기판의 일면 테두리를 따라 인쇄층을 형성하는 단계를 포함한다.The step (a) includes the steps of: (a-1) forming a print layer along one edge of the transparent substrate.

또한, 상기 (b) 단계는, 상기 투명 기판의 일면에 자외선 경화 수지를 도포하여 상기 지지층을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the step (b), an ultraviolet curable resin is applied to one surface of the transparent substrate to form the support layer.

이때, 상기 (c) 단계는, (c-1) 하단에 복수 개의 돌출부를 가진 몰드를 상기 지지층에 가압하여, 상기 지지층의 일면에 상기 돌출부와 대응되는 요홈을 형성하는 단계; 및 (c-2) 상기 지지층의 경화를 위해 자외선을 조사하는 단계를 포함한다.In the step (c), a mold having a plurality of protrusions at the lower end of the step (c-1) is pressed against the support layer to form recesses corresponding to the protrusions on one surface of the support layer. And (c-2) irradiating ultraviolet light for curing the support layer.

또한, 상기 (c) 단계는, (c-3) 상기 요홈의 바닥면에 탄소 나노 구조체를 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The step (c) may further include the step of (c-3) coating the carbon nanostructure on the bottom surface of the groove to form a coating layer.

이때, 상기 탄소 나노 구조체는 탄소 나노 튜브(CNT) 또는 그래핀(graphene)인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the carbon nanostructure is carbon nanotube (CNT) or graphene.

상기 (d) 단계는, 상기 요홈에 도전성 금속 페이스트를 충진하여 상기 감지 전극을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the step (d), the sensing electrode is formed by filling the groove with a conductive metal paste.

이때, 도터 블레이드(dotor blade)에 의해 상기 도전성 금속 페이스트를 상기 요홈에 충진하고, 상기 요홈 외부로 누설된 상기 도전성 금속 페이스트는 유기용제를 사용하여 제거하게 된다.At this time, the conductive metal paste is filled in the groove by a dot blade, and the conductive metal paste leaked to the outside of the groove is removed using an organic solvent.

아울러, 상기 몰드는, (cc-1) 포토 레지스트에 의해, 투명 재질의 몸체 하단에 상기 돌출부와 대응되는 포토 레지스트부가 형성되는 제1 프리 몰드를 형성하는 단계; (cc-2) 상기 제1 프리 몰드를 이용한 전사 공정에 의해, 상기 포토 레지스트부와 대응되는 복수 개의 홈부가 일면에 형성되는 제2 프리 몰드를 형성하는 단계; 및 (cc-3) 상기 제2 프리 몰드를 이용한 전사 공정에 의해 상기 몰드를 형성하는 단계를 거쳐 제조될 수 있다.
The mold may further include: (cc-1) forming, by a photoresist, a first pre-mold having a photoresist portion corresponding to the protrusion at a bottom of a transparent body; (cc-2) forming a second pre-mold formed on one surface of the plurality of grooves corresponding to the photoresist portion by a transfer process using the first pre-mold; And (cc-3) forming the mold by a transfer process using the second pre-mold.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널 및 그 제조방법에 의하면, 종래의 OCA층과 필름층이 삭제됨으로써 터치 패널의 두께를 감소시킬 수 있고, 전도성이 향상되는 효과가 있다.According to the touch panel and the manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention, the conventional OCA layer and the film layer are eliminated, thereby reducing the thickness of the touch panel and improving the conductivity.

또한, 종래에는 OCA층과 필름층의 합체 공정을 필요로 하여, 대면적 터치 패널의 경우 합체 자체도 어려울 뿐더러, 합체 공정에서 기포 생성에 따른 불량 발생의 문제가 있었으나, 본 발명의 일 실시예에 의하면 상기 OCA층과 필름층이 삭제되므로 별도의 합체 공정을 필요로 하지 않고, 따라서 품질 관리가 용이한 효과가 있다.Also, conventionally, a process of incorporating an OCA layer and a film layer is required. In addition, a large-area touch panel is difficult to be combined with the touch panel, and defects arise due to bubble generation in the coalescing process. However, Since the OCA layer and the film layer are removed, a separate coalescing process is not required, and therefore quality control is easy.

또한, 감지 전극이 지지층의 요홈에 매립 형성되므로, 감지 전극의 이탈 방지와 이에 따른 터치 패널의 내구성 향상 효과를 볼 수 있다.In addition, since the sensing electrode is embedded in the groove of the supporting layer, the sensing electrode can be prevented from being separated and the durability of the touch panel can be improved.

아울러, 미리 제작된 몰드를 지지층의 일면에 가압하여 요홈을 형성하므로, 제조 공정의 단순화에 따른 비용 절감의 효과가 있다.
In addition, since the preformed mold is pressed against one surface of the support layer to form the groove, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.

도 1은 종래의 터치 패널의 구조를 도시한 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 구조를 도시한 단면도.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 구조를 도시한 단면도.
도 4 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 제조 공정을 도시한 공정 순서도.
도 9 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드의 제조 공정을 도시한 공정 순서도.
1 is a cross-sectional view showing a structure of a conventional touch panel.
2 is a cross-sectional view illustrating the structure of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating the structure of a touch panel according to another embodiment of the present invention.
4 to 8 are flow charts showing a manufacturing process of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
9 to 14 are process flow diagrams illustrating a process for manufacturing a mold according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명인 터치 패널 및 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of a touch panel and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thicknesses of the lines and the sizes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 내려져야 할 것이다.In addition, the terms described below are defined in consideration of the functions of the present invention, which may vary depending on the intention or custom of the user, the operator. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.

예를 들어, 본 명세서에서 층이 다른 층 또는 기판 "상"에 있다고 언급되는 경우, 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나, 또는 그들 사이에 제3의 층이 개재될 수도 있다. 또한, 본 명세서에서 위쪽, 상(부), 상측면 등의 방향적인 표현은 아래쪽, 하(부), 하측면 등의 의미로 이해될 수 있다. 즉, 공간적인 방향의 표현은 상대적인 방향으로 이해되어야 하며, 절대적인 방향을 의미하는 것처럼 한정적으로 이해되어서는 안 된다.For example, where a layer is referred to herein as being "on" another layer or substrate, it may be formed directly on another layer or substrate, or a third layer may be interposed therebetween. In the present specification, directional expressions of the upper side, the upper side (upper side), the upper side, and the like can be understood to mean lower, lower (lower), lower side and the like. That is, the expression of the spatial direction should be understood in a relative direction, and it should not be construed as definitively as an absolute direction.

또한, 아래의 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것이 아니라 본 발명의 청구범위에 제시된 구성요소의 예시적인 사항에 불과하며, 본 발명의 명세서 전반에 걸친 기술사상에 포함되고 청구범위의 구성요소에서 균등물로서 치환 가능한 구성요소를 포함하는 실시예는 본 발명의 권리범위에 포함될 수 있다.
It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory only and are not restrictive of the invention, Embodiments that include components replaceable as equivalents in the elements may be included within the scope of the present invention.

실시예Example

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 구조를 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating the structure of a touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(10)은 투명 기판(20)과, 상기 투명 기판(20)의 일면(도면상 상측면)에 형성되는 지지층(30)과, 상기 지지층(30)의 일면(도면상 상측면)에 형성되는 복수 개의 요홈(40)과, 상기 요홈(40)에 도전성 재료가 충진되어 형성되는 감지 전극(50)을 포함한다.2, a touch panel 10 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a transparent substrate 20, a support layer 30 formed on one surface (upper side in the drawing) of the transparent substrate 20, A plurality of recesses 40 formed on one surface (upper side in the drawing) of the support layer 30 and sensing electrodes 50 formed by filling the recesses 40 with a conductive material.

이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(10)은 투명 기판(20)의 일면 테두리를 따라 형성되는 인쇄층(60)을 더 포함할 수 있다.The touch panel 10 according to an exemplary embodiment of the present invention may further include a print layer 60 formed along one edge of the transparent substrate 20.

투명 기판(20)은 이를 통해 LCD 등 화상 표시 장치(미도시)의 화상을 육안으로 인식할 수 있을 정도의 투명성을 가져야 한다. 따라서, 투명 기판(20)은 빛 투과율이 우수한 유리, 아크릴 수지 등의 고강도 재료, 또는 플렉서블 디스플레이 등에 적용 가능한 PET(polyethylene terephthalate), PC(polycarbonate), PES(polyether sulfone), PI(polyimide), PMMA(polymethly metha acrylate), 사파이어 글라스 (sapphire glass), 강화 유리(tempered glass) 등으로 형성되는 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.The transparent substrate 20 should have transparency to such an extent that the image of an image display device (not shown) such as an LCD can be visually recognized. Therefore, the transparent substrate 20 can be made of a material having high light transmittance such as glass, acrylic resin, etc., or a material such as PET (polyethylene terephthalate), PC (polycarbonate), PES (polyether sulfone) but are not limited to, polymethly methacrylate, sapphire glass, tempered glass, and the like.

한편, 투명 기판(20)의 일면은 활성 영역과 비활성 영역으로 구분될 수 있다. 이때, 활성 영역이라 함은 화상 표시 장치의 화상을 시각적으로 확인할 수 있고, 사용자의 신체 또는 스타일러스 펜 등 도전성 물체의 접촉에 의한 터치 동작을 감지할 수 있는 영역을 가리킨다. 또한, 비활성 영역이라 함은 활성 영역을 둘러싸도록 투명 기판(20)의 테두리를 따라 소정의 폭으로 연장 형성되는 영역을 가리키며, 후술하는 인쇄층(60)은 이 비활성 영역에 대응되도록 형성된다.On the other hand, one side of the transparent substrate 20 may be divided into an active region and a non-active region. Here, the active area refers to an area capable of visually confirming an image of the image display device and capable of sensing a touch operation by contact of a conductive object such as a user's body or a stylus pen. The inactive region refers to a region extending to a predetermined width along the rim of the transparent substrate 20 so as to surround the active region, and the printing layer 60 described later is formed to correspond to the inactive region.

이때, 터치 패널(10) 사용중 투명 기판(20)의 손상 또는 파괴를 방지하기 위해, 신체 또는 스타일러스 펜 등이 직접 접촉하게 되는 타면(도면상 하측면)에 필름 형태의 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. 보호층은 외부 충격 또는 스크래치로부터 투명 기판(20)을 보호하게 되며, 접착제 등에 의해 필요에 따라 선택적으로 부착될 수 있다.At this time, in order to prevent damage or breakage of the transparent substrate 20 during use of the touch panel 10, a film-like protective layer (not shown) is formed on the other surface Can be formed. The protective layer protects the transparent substrate 20 from an external impact or a scratch, and can be selectively attached as required by an adhesive or the like.

여기서, 본 명세서에서 전반적으로 사용되는 터치 동작에 의한 '접촉'이라는 용어는, 접촉 수용면에 대한 직접적인 접촉만을 의미하는 것이 아니며, 감지 전극(50)에서 감지 신호가 생성될 수 있을 정도로 도전성 물체가 접촉 수용면에 상당한 거리만큼 근접하는 의미도 포함하고 있음을 미리 밝혀둔다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(10)은, 도전성 물체의 직접적인 접촉을 인식하거나, 또는 상당 거리 이내로의 근접을 인식하는 기능을 구비한 패널로 해석해야 할 것이다.Here, the term " contact " by the touch operation, which is generally used herein, does not only mean a direct contact with the contact receiving surface but also includes a case where a conductive object But also includes a meaning of approaching the contact receiving surface by a considerable distance. That is, the touch panel 10 according to an embodiment of the present invention should be interpreted as a panel having a function of recognizing direct contact of a conductive object or recognizing proximity to a distance within a considerable distance.

인쇄층(60)은 투명 기판(20) 일면의 테두리를 따라, 비활성 영역과 대응되는 영역에 소정의 폭과 두께(일 예로서, 10㎛ ~ 20㎛)로 형성된다. 이때, 인쇄층(60)은 검정색이나 흰색, 또는 컬러 잉크 등을 사용하여 스크린 인쇄법, 스핀 코팅법 등 다양한 인쇄 방식에 의해 형성될 수 있다.The print layer 60 is formed along the rim of one surface of the transparent substrate 20 in a predetermined width and thickness (for example, 10 mu m to 20 mu m) in a region corresponding to the inactive region. At this time, the print layer 60 may be formed by various printing methods such as a screen printing method and a spin coating method using black, white, or color ink.

인쇄층(60)은 터치 패널(10)이 설치되는 화상 표시 장치의 화면 둘레를 에워싸는 프레임 역할을 하며, 감지 전극(50)과 제어부(미도시)를 연결하는 배선(70)이 외부로 노출되지 않도록 가려줌으로써 외관 디자인의 향상에 일조한다. 아울러, 인쇄층(60)은 제조사 또는 판매사의 로고, 브랜드, 모델명 등의 제품 정보를 표시하는 영역으로도 활용될 수 있다.The printed layer 60 functions as a frame surrounding the screen of the image display device on which the touch panel 10 is mounted and the wiring 70 connecting the sensing electrode 50 and a control unit Thereby helping to improve the appearance design. The print layer 60 may also be used as an area for displaying product information such as a logo, a brand name, and a model name of a manufacturer or a sales company.

지지층(30)은 투명 기판(20)의 일면에 형성되는데, 상기 인쇄층(60)은 지지층(30) 내에 수용된다. 즉, 지지층(30)의 두께는 인쇄층(60)의 두께보다 두꺼우며, 투명 기판(20)의 활성 영역과 인쇄층(60)을 동시에 덮도록 형성된다. 이때, 투명 기판(20) 반대쪽의 지지층(30) 일면(도면상 상측면)은 두께 변화가 없는 평탄면으로 형성되는 것이 바람직하다.The support layer 30 is formed on one side of the transparent substrate 20, and the print layer 60 is accommodated in the support layer 30. That is, the thickness of the support layer 30 is thicker than the thickness of the print layer 60 and is formed so as to cover the active region of the transparent substrate 20 and the print layer 60 at the same time. At this time, one side (upper side in the drawing) of the support layer 30 opposite to the transparent substrate 20 is preferably formed as a flat surface without a change in thickness.

지지층(30)은 강도가 우수한 아크릴계 수지로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 후술하는 요홈(40)이 열 또는 외력에 의해 변형되는 것을 방지하기 위해, 소정의 강도를 가져야 할 필요가 있기 때문이다. 또한, 지지층(30)은 자외선 경화 수지로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 후술하는 전사 공정에 의해 요홈(40)을 용이하게 형성하기 위함이다. The support layer 30 is preferably formed of an acrylic resin having excellent strength because it needs to have a predetermined strength in order to prevent the groove 40, which will be described later, from being deformed by heat or external force. The support layer 30 is preferably formed of an ultraviolet curing resin in order to easily form the groove 40 by a transfer process to be described later.

지지층(30)의 일면에 복수 개의 요홈(40)이 형성된다. 이때, 복수 개의 요홈(40)은 지지층(30)의 일면에 격자(grid)형 메쉬(mesh) 패턴(pattern)을 형성한다. 또한, 요홈(40)의 폭(예를 들어 1㎛~3㎛, 바람직하게는 2㎛)과 깊이(예를 들어 2㎛~4㎛, 바람직하게는 3㎛) 또는 요홈(40) 사이 간격(예를 들어 80㎛~120㎛, 바람직하게는 100㎛) 등의 규격은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있다.A plurality of grooves (40) are formed on one side of the support layer (30). At this time, a plurality of grooves 40 form a grid-like mesh pattern on one surface of the support layer 30. The distance (for example, 2 탆 to 4 탆, preferably 3 탆) or the distance between the grooves 40 (for example, 1 탆 to 3 탆, preferably 2 탆) For example, 80 占 퐉 to 120 占 퐉, preferably 100 占 퐉) and the like can be suitably selected as needed.

상기 요홈(40)은 기계 가공 또는 에칭(etching) 등의 방법으로 형성될 수도 있으며, 터치 패널(10)의 대량생산에 적용하기 위해서는, 상기 요홈(40)과 대응되는 복수 개의 돌출부를 가진 몰드를 지지층(30) 일면에 압착하여 요홈(40)을 형성한 후, 몰드를 분리하고 요홈(40)이 형성된 지지층(30)을 경화시킴으로써 요홈(40)의 형태가 유지되도록 하는 것이 바람직하다.The groove 40 may be formed by a method such as machining or etching. In order to apply the touch panel 10 to the mass production of the touch panel 10, a mold having a plurality of protrusions corresponding to the groove 40 It is preferable to press the support layer 30 to form a groove 40 and then to separate the mold and to harden the support layer 30 with the groove 40 so that the shape of the groove 40 is maintained.

격자형 메쉬 패턴을 이루는 복수 개의 요홈(40)에 도전성 재료가 충진됨으로써, 지지층(30)의 일면에 감지 전극(50)이 형성된다. 이때, 도전성 재료는 특히 은, 구리, 아연, 금, 알루미늄, 티타늄, 팔라듐 및 크롬으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나의 금속 또는 그 합금을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 전기 전도도가 높은 금속은 모두 포함된다.The sensing electrode 50 is formed on one surface of the support layer 30 by filling the plurality of grooves 40 forming the grid-like mesh pattern with the conductive material. At this time, the conductive material may include any one metal selected from the group consisting of silver, copper, zinc, gold, aluminum, titanium, palladium, and chromium or an alloy thereof, but is not limited thereto. Are all included.

바람직하게는 상기 도전성 재료를 페이스트(paste) 형태로 제조한 도전성 금속 페이스트를 각각의 요홈(40)에 충진시켜 감지 전극(50)을 형성한다. 이때, 감지 전극(50)이 격자형 메쉬 패턴으로 형성되므로, 금속의 불투명 특성에도 불구하고 터치 패널(10)의 광 투과도를 확보할 수 있다.Preferably, the sensing electrode 50 is formed by filling the conductive grooves 40 with the conductive metal paste prepared by forming the conductive material in the form of a paste. At this time, since the sensing electrode 50 is formed as a grid-like mesh pattern, the light transmittance of the touch panel 10 can be ensured despite the opacity of the metal.

본 발명의 일 실시예에 의한 감지 전극(50)은 지지층(30)의 일면에 매립 형성되므로, 인쇄 등의 방법에 의해 필름 또는 투명 기판(20)의 일면에 돌출 형성되는 예와 비교하여 터치 패널(10)의 두께가 감소되는 효과를 볼 수 있다. 아울러, 감지 전극(50)이 요홈(40) 내에 견고히 지지되므로, 사용중 열 또는 외력에 의한 박리를 방지하여 터치 패널(10)의 내구성이 향상되는 효과도 있다.Since the sensing electrode 50 according to the embodiment of the present invention is embedded on one surface of the supporting layer 30, the sensing electrode 50 is formed on the surface of the film or the transparent substrate 20 by printing or the like, The effect of reducing the thickness of the substrate 10 can be seen. In addition, since the sensing electrode 50 is firmly supported in the groove 40, it is possible to prevent peeling due to heat or an external force during use, thereby improving the durability of the touch panel 10.

본 발명의 일 실시예에 따라 상술한 바와 같은 구조를 가지는 터치 패널(10)은, 종래의 OCA층(3, 도 1 참조)과 필름층(4, 도 1 참조)이 삭제됨에 따라, 터치 패널(10)의 두께가 감소되는 효과가 있다. 또한, 종래의 필름층(4) 부착 공정이 필요없게 되므로, 필름층(4) 부착 공정에서의 불량 발생이 방지되어 생산성을 향상시킬 수 있으며, 대면적 터치 패널(10)의 구현이 용이하다.The touch panel 10 having the above-described structure according to the embodiment of the present invention is configured such that as the conventional OCA layer 3 (see FIG. 1) and the film layer 4 (see FIG. 1) The thickness of the substrate 10 is reduced. In addition, since the conventional process for attaching the film layer 4 is not necessary, it is possible to prevent the occurrence of defects in the process of attaching the film layer 4, thereby improving the productivity and facilitating the realization of the large-area touch panel 10.

한편, 감지 전극(50)은 비활성 영역에 배치되는 배선(70)을 통해 회로기판(미도시)의 제어부(미도시)에 연결되는데, 이때 제어부는 배선(70)을 통해 감지 전극(50)의 감지 신호를 수신하고, 수시된 감지 신호에 기초하여 접촉 판단과 관련된 연산을 수행하게 된다.The sensing electrode 50 is connected to a control unit (not shown) of a circuit board (not shown) through a wiring 70 disposed in an inactive region. Receives the detection signal, and performs an operation related to the contact determination based on the sensed signal.

예를 들어, 정전용량 방식의 경우, 투명 기판(20)에 사용자의 신체 또는 스타일러스 펜 등의 도전성 물체가 접촉하면, 접촉 물체와 감지 전극(50)을 전극으로 하고 투명 기판(20)을 유전체로 하여 소정의 커패시턴스 변화가 발생한다. 이러한 커패시턴스 변화는 배선(70)을 통해 회로기판의 제어부에 의해 측정되고, 제어부는 측정된 커패시턴스 변화를 통해 접촉 여부 및 접촉 입력의 수와 접촉 위치 등을 판단하게 되는 것이다.For example, in the case of the electrostatic capacitance type, when a user's body or a conductive object such as a stylus pen touches the transparent substrate 20, the transparent substrate 20 is made to be a dielectric So that a predetermined capacitance change occurs. This capacitance change is measured by the control unit of the circuit board through the wiring 70, and the control unit determines the contact state, the number of contact inputs, the contact position, and the like through the measured capacitance change.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 비활성화 영역의 요홈(40) 중 적어도 하나에 전기 전도도가 우수한 도전성 재료가 충진되어 배선(70)을 형성한다. 배선(70)은 감지 전극(50)과 상이한 재질로 형성되는 것도 가능하며, 바람직하게는 감지 전극(50)과 동일한 재질로 형성된다. 감지 전극(50)과 배선(70)이 동일 재질로 형성되는 경우, 감지 전극(50)을 형성하는 동일 공정에서 동시에 배선(70)까지 형성할 수 있게 되므로, 공정 단축에 의한 제조시간과 비용의 절감 효과가 있다.
According to an embodiment of the present invention, at least one of the recesses 40 in the inactive region is filled with a conductive material having an excellent electrical conductivity to form the wiring 70. The wiring 70 may be formed of a material different from that of the sensing electrode 50, and is preferably formed of the same material as the sensing electrode 50. In the case where the sensing electrode 50 and the wiring 70 are formed of the same material, the wiring 70 can be formed at the same time in the same process of forming the sensing electrode 50, There is a saving effect.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 구조를 도시한 단면도이다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널(10')은 전술한 실시예의 구성과 대동소이하며, 요홈(40)의 바닥면에 코팅층(51)이 형성된다는 점에서 차이가 있다. 따라서, 전술한 실시예와 동일한 구성에 대하여는 동일 도면부호를 부여하고 중복 설명은 생략하기로 한다.3 is a cross-sectional view illustrating the structure of a touch panel according to another embodiment of the present invention. The touch panel 10 'according to another embodiment of the present invention differs from the structure of the above-described embodiment in that the coating layer 51 is formed on the bottom surface of the groove 40. Therefore, the same reference numerals are assigned to the same components as those in the above-described embodiment, and redundant description is omitted.

본 발명의 다른 실시예에 의하면, 요홈(40)의 바닥면에 탄소 나노 구조체가 코팅된 코팅층(51)이 형성되며, 감지 전극(50')은 상기 코팅층(51)과, 코팅층(51) 상의 요홈(40)에 충진되는 충진층(52)을 포함한다.According to another embodiment of the present invention, a coating layer 51 coated with a carbon nanostructure is formed on the bottom surface of the groove 40 and the sensing electrode 50 'is formed on the coating layer 51 and on the coating layer 51 And a filling layer (52) filled in the groove (40).

이때, 코팅층(51)은 탄소 나노 튜브(CNT) 또는 그래핀(graphene) 등의 탄소 나노 구조체로 이루어지며, 도포나 스프레이(spray), 인쇄 또는 증착 등의 다양한 방법에 의해 코팅층(51)이 형성될 수 있다. 또한, 요홈(40)의 바닥면과 함께 요홈(40)의 양쪽 측벽에도 코팅층(51)이 형성될 수 있음은 물론이다.At this time, the coating layer 51 is formed of a carbon nano structure such as carbon nanotube (CNT) or graphene. The coating layer 51 is formed by various methods such as coating, spraying, printing, . It goes without saying that the coating layer 51 may be formed on both side walls of the groove 40 together with the bottom surface of the groove 40.

충진층(52)은 도전성 재료가 요홈(40)에 충진되어 이루어지며, 이때 도전성 재료는, 은, 구리, 아연, 금, 알루미늄, 티타늄, 팔라듐 및 크롬으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나의 금속 또는 그 합금을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 전기 전도도가 높은 금속은 모두 포함될 수 있다.The filling layer 52 is formed by filling a conductive material into the recesses 40. The conductive material may be any metal selected from the group consisting of silver, copper, zinc, gold, aluminum, titanium, palladium, But the present invention is not limited thereto, and any metal having high electrical conductivity may be included.

바람직하게는 상기 도전성 재료를 페이스트(paste) 형태로 제조한 도전성 금속 페이스트, 예를 들어 은(Ag) 페이스트를 각각의 요홈(40)에 충진시켜 감지 전극(50')을 형성한다. Preferably, the sensing electrode 50 'is formed by filling conductive grooves 40 with a conductive metal paste, for example, Ag paste, in the form of a paste.

본 실시예와 같이 요홈(40)의 바닥면, 또는 바닥면과 양쪽 측벽을 포함하는 요홈(40)의 표면에 탄소 나노 튜브(CNT) 또는 그래핀(graphene) 등의 탄소 나노 구조체로 이루어지는 코팅층(51)이 형성되면, 감지 전극(50')의 흑화(blacking)가 이루어져 시인성이 개선되는 효과가 있다.A coating layer made of carbon nanotubes (CNT) or graphene or the like is formed on the bottom surface or the surface of the groove 40 including the bottom surface and both side walls of the groove 40 as in the present embodiment 51 is formed, blackening of the sensing electrode 50 'is performed to improve the visibility.

즉, 감지 전극(50)이 도전성 금속 페이스트로 형성됨에 따라, 금속의 높은 반사율 특성으로 인해 메쉬 패턴이 두드러져 보이거나, 금속 고유의 색상(예를 들어, 은(Ag)의 경우 백색, 구리(Cu)의 경우 황갈색 등)이 스크린의 전체적인 색감에 영향을 미쳐 화상이 왜곡 표현될 수 있다.That is, since the sensing electrode 50 is formed of the conductive metal paste, the mesh pattern may be prominent due to the high reflectance characteristic of the metal, or may be colored white, copper (Cu ), It may affect the overall color of the screen, thus distorting the image.

그러나, 본 실시예의 경우, 요홈(40)에 은(Ag)이나 구리(Cu)와 같은 도전성 금속 페이스트가 충진되지만, 요홈(40)의 바닥면 즉, 사용자가 육안으로 인식하는 요홈(40)의 일면에 탄소 나노 구조체로 이루어지는 코팅층(51)이 형성되어 그 내부의 충진층(52)이 시각상 흑화 처리됨에 따라, 상술한 바와 같은 문제를 방지할 수 있게 되는 것이다.
However, in the present embodiment, the groove 40 is filled with a conductive metal paste such as silver (Ag) or copper (Cu), but the bottom surface of the groove 40, that is, The coating layer 51 made of the carbon nanostructure is formed on one side of the substrate, and the filling layer 52 inside the coating layer 51 is visually subjected to the blackening treatment, thereby making it possible to prevent the above-described problems.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 제조방법을 도 4 내지 도 8을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

도 4 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널의 제조 공정을 도시한 공정 순서도이다.4 to 8 are flow charts showing a manufacturing process of a touch panel according to an embodiment of the present invention.

투명 기판(20)을 준비하는 단계:Preparing a transparent substrate 20;

도 4에 도시된 바와 같이 투명 기판(20)을 준비한다. 투명 기판(20)의 폭과 길이 및 두께 등의 규격은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있다. The transparent substrate 20 is prepared as shown in FIG. The dimensions such as the width, length and thickness of the transparent substrate 20 can be appropriately selected as needed.

이때, 투명 기판(20)의 일면 테두리를 따라, 투명 기판(20)의 비활성 영역과 대응되는 영역에 인쇄층(60)을 형성하는 것이 바람직하다. 인쇄층(60)은 예를 들어 검정색, 흰색 또는 컬러 잉크 등의 감광성 수지를 스크린 인쇄법 또는 스핀 코팅법 등 다양한 인쇄법을 이용하여 도포한 후 노광 및 현상하여 형성하는 등, 다양한 방식에 의해 투명 기판(20)에 형성될 수 있다.At this time, it is preferable that the printing layer 60 is formed along the edge of one side of the transparent substrate 20 in a region corresponding to the inactive region of the transparent substrate 20. The printing layer 60 may be formed by applying a photosensitive resin such as black, white or color ink using various printing methods such as screen printing or spin coating and then forming it by exposure and development, And may be formed on the substrate 20.

투명 기판(20)의 일면에 지지층(30)을 형성하는 단계:Forming a support layer (30) on one side of the transparent substrate (20)

도 5에 도시된 바와 같이 투명 기판(20)의 일면에 지지층(30)을 형성한다. 지지층(30)은 자외선 경화 수지로 이루어지는 것이 바람직하며, 투명 기판(20)의 활성 영역과 인쇄층(60)을 덮도록 형성된다. 이때 지지층(30)은 인쇄, 도포, 또는 스프레이 등 다양한 방법에 의해 형성될 수 있다.A supporting layer 30 is formed on one surface of the transparent substrate 20 as shown in FIG. The support layer 30 is preferably made of an ultraviolet curable resin and is formed to cover the active region of the transparent substrate 20 and the print layer 60. At this time, the support layer 30 may be formed by various methods such as printing, coating, or spraying.

지지층(30)의 일면에 복수 개의 On one surface of the support layer 30, 요홈(40)을The groove (40) 형성하는 단계: Forming step:

먼저, 하단에 복수 개의 돌출부(110)를 가진 몰드(100)를 준비한다. 이때, 상기 몰드(100)의 돌출부(110)는 지지층(30)의 일면에 형성하고자 하는 요홈(40)과 대응되는 형상으로 형성되며, 몰드(100)의 돌출부(110) 개수는 지지층(30)의 일면에 형성하고자 하는 요홈(40)의 개수와 대응된다. 아울러, 상기 몰드(100)는 투명 기판(20)처럼 유리, 강화 유리, 수지 등의 투명 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.First, a mold 100 having a plurality of protrusions 110 at the lower end thereof is prepared. The protrusion 110 of the mold 100 is formed in a shape corresponding to the groove 40 to be formed on one surface of the support layer 30. The number of the protrusions 110 of the mold 100 is equal to the number of protrusions 110 of the support layer 30. [ The number of the grooves 40 to be formed on one surface of the substrate 40 is equal to the number of the grooves 40 to be formed. In addition, the mold 100 is preferably made of a transparent material such as glass, tempered glass, or resin as the transparent substrate 20.

도 6에 도시된 바와 같이, 몰드(100)의 돌출부(110)가 지지층(30)의 일면을 향하도록 하여 몰드(100)를 지지층(30)에 가압하고, 자외선 경화 수지인 지지층(30)에 자외선을 조사하여 경화시킨다. 이때, 자외선은 몰드(100) 상부에서 몰드(100)를 투과하여 지지층(30)에 조사되는 것도 가능하고, 투명 기판(20) 하부에서 투명 기판(20)을 투과하여 지지층(30)에 조사되는 것도 가능하다.6, the mold 100 is pressed against the supporting layer 30 with the protruding portion 110 of the mold 100 facing one side of the supporting layer 30, and the mold 100 is pressed against the supporting layer 30 as the ultraviolet hardening resin And irradiated with ultraviolet rays to be cured. At this time, ultraviolet rays can be irradiated onto the support layer 30 through the mold 100 at the upper part of the mold 100, and ultraviolet rays can be irradiated onto the support layer 30 through the transparent substrate 20 under the transparent substrate 20 It is also possible.

몰드(100) 가압에 의한 프레스 공정과 자외선 조사에 의한 지지층(30) 경화 공정이 완료되면, 도 7에 도시된 바와 같이 경화된 지지층(30)으로부터 몰드(100)를 분리한다. 이때, 지지층(30)의 일면에는 몰드(100) 하단의 돌출부(110)가 지지층(30)에 가압되면서 형성된 복수 개의 요홈(40)이 남는다.Upon completion of the press process by the pressure of the mold 100 and the curing process of the support layer 30 by ultraviolet irradiation, the mold 100 is separated from the cured support layer 30 as shown in Fig. At this time, a plurality of grooves 40 are formed on one side of the support layer 30 while the protrusions 110 at the lower end of the mold 100 are pressed against the support layer 30.

요홈(40)The groove (40) on 도전성  Conductivity 금속재를Metal material 충진하여By filling 감지 전극(50)을 형성하는 단계: Forming the sensing electrode (50)

도 8에 도시된 바와 같이, 각각의 요홈(40)에 도전성 금속 페이스트를 충진하여 감지 전극(50)을 형성한다. 이때, 비활성화 영역에 해당하는 요홈(40)에 도전성 금속 페이스트가 충진됨으로써, 감지 전극(50)과 제어부를 연결하는 배선(70)이 동시에 형성될 수 있다.As shown in FIG. 8, the sensing electrode 50 is formed by filling conductive grooves 40 with a conductive metal paste. At this time, the grooves 40 corresponding to the inactive area are filled with the conductive metal paste, so that the wiring 70 connecting the sensing electrode 50 and the control unit can be formed at the same time.

일 예로서, 도전성 금속 페이스트의 충진은 도터 블레이드(dotor blade)(200)에 의해 이루어질 수 있다. 즉, 지지층(30)의 일면에 도전성 금속 페이스트를 도포한 후, 도터 블레이드(200)로 긁어서 각각의 요홈(40)에 충진시키는 것이다. 이때, 요홈(40) 외부로 누설되거나 요홈(40)과 요홈(40) 사이에 잔류하는 도전성 금속 페이스트는, 아세톤이나 IPA(iso propyl alcohol), MEK(methylethylketone) 등의 유기 용제를 묻힌 천으로 닦아서 제거한다.
As an example, the filling of the conductive metal paste may be performed by a dot blade 200. That is, a conductive metal paste is coated on one side of the support layer 30 and then scratched with the daughter blade 200 to fill the respective recesses 40. The conductive metal paste that leaks to the outside of the recess 40 or remains between the recess 40 and the recess 40 is wiped with an organic solvent such as acetone, IPA (iso propyl alcohol), or MEK (methylethylketone) Remove.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(10)의 제조시, 지지층(30)에 복수 개의 요홈(40)을 형성함에 있어 기계 가공이나 에칭 등의 방법을 적용하는 것은, 제조시간과 비용을 감안하면 생산성이 낮고 대량생산에 적합하지 않다. 이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(10)의 제조방법은, 전술한 바와 같은 몰드(100)를 사용하여 요홈(40)을 형성한다. 이때, 몰드(100)를 지지층(30)에 압착하는 과정에서 몰드(100)가 변형되거나 파손되는 경우에 대비하여, 미리 여분의 몰드(100)를 다수 제조해 둘 필요가 있다.In the manufacturing of the touch panel 10 according to the embodiment of the present invention, the application of a method such as machining or etching in forming the plurality of grooves 40 in the support layer 30 is effective in reducing manufacturing time and cost The productivity is low and it is not suitable for mass production. Accordingly, in the method of manufacturing the touch panel 10 according to the embodiment of the present invention, the recesses 40 are formed by using the mold 100 as described above. At this time, in order to prevent the mold 100 from being deformed or broken in the process of pressing the mold 100 on the support layer 30, it is necessary to prepare a large number of spare molds 100 in advance.

그런데, 이러한 여분의 몰드(100)를 기계 가공에 의해 하나씩 제조하는 것은 비용 상승을 초래할 뿐만 아니라, 강도를 가진 투명 재질 몰드(100)의 소재 특성상 가공 공정이 난이한 경우도 있으며, 다양한 모델에 대한 즉각적인 대응이 어렵다는 문제가 있다.However, manufacturing the redundant molds 100 by machining one by one may not only increase the cost, but also may result in difficult processing steps due to the material properties of the transparent mold 100 having the strength. There is a problem that immediate response is difficult.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(10)의 제조방법은, 상기 몰드(100)를 제조하는 복수의 전사 공정을 포함하며 이하, 이에 대하여 도 9 내지 도 14를 참조하여 자세히 설명하기로 한다.Therefore, the manufacturing method of the touch panel 10 according to an embodiment of the present invention includes a plurality of transfer processes for manufacturing the mold 100, and will be described in detail with reference to FIGS. 9 to 14 .

제1 1st 프리free 몰드Mold (300) 형성 단계:(300) forming step:

도 9에 도시된 바와 같이 제1 프리 몰드(300)와 제1 프리폼(400)을 준비한다. 이때, 제1 프리 몰드(300)는 몰드(100)와 동일한 형상으로 제조되는 것이 바람직하며, 제1 프리 몰드(300)의 몸체(310)는 유리나 합성수지 등의 투명 재질로 형성된다. 또한, 제1 프리 몰드(300)의 몸체(310) 하단에는 포토 레지스트(photo resist)에 의해 몰드(100)의 돌출부(110)와 대응되는 포토 레지스트부(320)가 복수 개 형성된다.The first preform 300 and the first preform 400 are prepared as shown in FIG. The first pre-mold 300 may be formed in the same shape as the mold 100 and the body 310 of the first pre-mold 300 may be formed of a transparent material such as glass or synthetic resin. A plurality of photoresist portions 320 corresponding to the protrusions 110 of the mold 100 are formed on the lower end of the body 310 of the first pre-mold 300 by a photoresist.

또한, 제1 프리폼(400)은 유리나 합성수지 등의 투명 재질로 이루어지는 제1 프리폼 몸체(410)와, 상기 제1 프리폼 몸체(410)의 상측면에 자외선 경화 수지로 형성되는 제1 경화 수지층(420)을 포함한다.The first preform 400 includes a first preform body 410 made of a transparent material such as glass or synthetic resin and a first cured resin layer (not shown) formed on the upper side of the first preform body 410 420).

제2 Second 프리free 몰드Mold (500) 형성 단계:(500) Formation step:

상기 제1 프리 몰드(300)를 이용한 전사 공정에 의해, 제1 프리 몰드(300)의 역상인 제2 프리 몰드(500)를 제조한다. The second pre-mold 500, which is a reverse phase of the first pre-mold 300, is manufactured by the transfer process using the first pre-mold 300.

먼저, 도 10에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트부(320)가 제1 프리폼(400)의 일면을 향하도록 하여 제1 프리 몰드(300)를 제1 프리폼(400)에 가압한 후, 제1 프리폼(400)의 제1 경화 수지층(420)에 자외선을 조사한다. 이때, 자외선은 제1 프리 몰드(300)를 투과하여 제1 경화 수지층(420)에 조사되는 것도 가능하고, 제1 프리폼 몸체(410)를 투과하여 제1 경화 수지층(420)에 조사되는 것도 가능하다.10, after the first preform 400 is pressed against the first preform 400 with the photoresist 320 facing one side of the first preform 400, the first preform 400 is pressed against the first preform 400, The first cured resin layer 420 of the preform 400 is irradiated with ultraviolet rays. At this time, ultraviolet rays can be transmitted through the first pre-mold 300 and irradiated onto the first cured resin layer 420, and the ultraviolet rays can be transmitted through the first preform body 410 and irradiated onto the first cured resin layer 420 It is also possible.

제1 경화 수지층(420)의 경화 완료 후, 도 11에 도시된 바와 같이 제1 프리폼(400)으로부터 제1 프리 몰드(300)를 분리한다. 이때, 제1 프리폼(400)은 제1 경화 수지층(420)의 일면에 복수 개의 홈부(510)가 형성된 제2 프리 몰드(500)로 제조된다. After the curing of the first cured resin layer 420 is completed, the first pre-mold 300 is separated from the first preform 400 as shown in FIG. At this time, the first preform 400 is made of a second preform 500 having a plurality of grooves 510 formed on one surface of the first cured resin layer 420.

몰드Mold (100) 형성 단계:(100) forming step:

상기 제2 프리 몰드(500)를 이용한 전사 공정에 의해, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(10) 제조시 사용되는 몰드(100)가 제2 프리 몰드(500)의 역상으로 제조된다.The mold 100 used in manufacturing the touch panel 10 according to the embodiment of the present invention is manufactured in the reverse phase of the second pre-mold 500 by the transfer process using the second pre-mold 500.

먼저, 도 12에 도시된 바와 같이, 상기 제2 프리 몰드(500) 형성 단계에서 제조된 제2 프리 몰드(500)와, 상기 제1 프리폼(400)과 동일한 형태로서 제2 프리폼 몸체(610)와 제2 경화 수지층(620)을 포함하는 제2 프리폼(600)을 준비한다. 이때, 제2 경화 수지층(620)은 자외선 경화 수지로 이루어지는 것이 바람직하며, 복수 개의 홈부(510)가 형성된 제2 프리 몰드(500)의 일면에는 SAM(self assembled monolayer) 등의 이형재(520)가 코팅되는 것이 바람직하다.12, the second pre-mold 500 manufactured in the second pre-mold 500 forming step and the second pre-formed body 610 are formed in the same shape as the first pre- And a second cured resin layer 620 are prepared. The second cured resin layer 620 is preferably made of an ultraviolet curable resin and a releasing member 520 such as a self assembled monolayer (SAM) is formed on one surface of the second pre-mold 500 having the plurality of trenches 510 formed thereon. Is preferably coated.

이후, 도 13에 도시된 바와 같이, 홈부(510)가 제2 프리폼(600)의 일면을 향하도록 하여 제2 프리 몰드(500)를 제2 프리폼(600)에 가압한 후, 제2 프리폼(600)의 제2 경화 수지층(620)에 자외선을 조사한다. 이때, 자외선은 제2 프리 몰드(500)를 투과하여 제2 경화 수지층(620)에 조사되는 것도 가능하고, 제2 프리폼 몸체(610)를 투과하여 제2 경화 수지층(620)에 조사되는 것도 가능하다.13, the second preform 500 is pressed onto the second preform 600 with the groove 510 facing the first surface of the second preform 600, and then the second preform 600 is pressed against the second preform 600 600 to the second cured resin layer 620 with ultraviolet rays. At this time, ultraviolet rays can be transmitted through the second pre-mold 500 to be irradiated onto the second cured resin layer 620, and the ultraviolet rays can be transmitted through the second preform body 610 and irradiated onto the second cured resin layer 620 It is also possible.

제2 경화 수지층(620)의 경화 완료 후, 도 14에 도시된 바와 같이 제2 프리폼(600)으로부터 제2 프리 몰드(500)를 분리한다. 이때, 제2 프리폼(600)은 제2 경화 수지층(620)의 일면에 복수 개의 돌출부(110)가 형성된 몰드(100)로 제조된다.After the curing of the second cured resin layer 620 is completed, the second pre-mold 500 is separated from the second preform 600 as shown in Fig. At this time, the second preform 600 is made of a mold 100 having a plurality of protrusions 110 formed on one surface of the second cured resin layer 620.

이때, 필요에 따라서는, 몰드(100)의 돌출부(110)에 금속 코팅층(미도시)을 형성하여 몰드(100)의 강성을 보강하는 공정이 더 수행될 수 있다.At this time, if necessary, a step of reinforcing the rigidity of the mold 100 by forming a metal coating layer (not shown) on the protrusion 110 of the mold 100 may be further performed.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따라 전사 공정의 반복에 의해 몰드(100)를 제조하는 경우, 모델 교체에 따라 지지층(30)의 요홈(40) 패턴이 변경되더라도, 제1 프리 몰드(300) 형성 단계에서 포토 레지스트 공정에 의해 포토 레지스트부(320)의 배열을 변경시킴으로써, 터치 패널(10) 제조를 위한 새로운 몰드(100)를 용이하게 제조할 수 있으며, 따라서 터치 패널(10)의 다양한 모델 교체에 대하여 즉각적으로 대응할 수 있다.As described above, when the mold 100 is manufactured by repeating the transfer process according to the embodiment of the present invention, even if the pattern of the groove 40 of the support layer 30 is changed in accordance with the model change, A new mold 100 for manufacturing the touch panel 10 can be easily manufactured by changing the arrangement of the photoresist portions 320 by the photoresist process in the step of forming the touch panel 10, The user can immediately respond to various model changes.

또한, 제2 프리 몰드(500)의 일면에 이형재(520)를 코팅하여 제2 프리 몰드(500)의 변형 또는 파손을 방지함으로써, 제2 프리 몰드(500)를 사용하여 대량 생산에 필요한 여분의 몰드(100)를 즉시 용이하게 확보할 수 있다.
The second pre-mold 500 may be coated on one surface of the second pre-mold 500 to prevent the second pre-mold 500 from being deformed or damaged, The mold 100 can be easily secured immediately.

10,10' : 터치 패널 20 : 투명 기판
30 : 지지층 40 : 요홈
50,50' : 감지 전극 60 : 인쇄층
70 : 배선 100 : 몰드
200 : 도터 블레이드 300 : 제1 프리 몰드
400 : 제1 프리폼 500 : 제2 프리 몰드
600 : 제2 프리폼
10, 10 ': touch panel 20: transparent substrate
30: support layer 40: groove
50, 50 ': sensing electrode 60: printing layer
70: wiring 100: mold
200: Daughter blade 300: First pre-mold
400: first preform 500: second preform
600: second preform

Claims (18)

투명 기판;
상기 투명 기판의 일면에 형성되는 지지층;
상기 지지층의 일면에 형성되는 복수 개의 요홈; 및
상기 요홈에 도전성 재료가 충진되어 형성되는 감지 전극을 포함하는 터치 패널.
A transparent substrate;
A supporting layer formed on one surface of the transparent substrate;
A plurality of grooves formed on one surface of the support layer; And
And a sensing electrode formed by filling the groove with a conductive material.
청구항 1에 있어서,
상기 요홈의 바닥면에 코팅되는 코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method according to claim 1,
And a coating layer coated on a bottom surface of the groove.
청구항 2에 있어서,
상기 코팅층은 탄소 나노 구조체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method of claim 2,
Wherein the coating layer is made of a carbon nanostructure.
청구항 3에 있어서,
상기 탄소 나노 구조체는 탄소 나노 튜브(CNT) 또는 그래핀(graphene)인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method of claim 3,
Wherein the carbon nanostructure is a carbon nanotube (CNT) or a graphene.
청구항 1에 있어서,
상기 투명 기판의 일면 테두리를 따라 형성되는 인쇄층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method according to claim 1,
And a printed layer formed along one edge of the transparent substrate.
청구항 1에 있어서,
상기 감지 전극은 상기 지지층의 일면에 메쉬(mesh) 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method according to claim 1,
Wherein the sensing electrode forms a mesh pattern on one side of the supporting layer.
청구항 1에 있어서,
상기 지지층은 자외선 경화 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method according to claim 1,
Wherein the support layer is made of an ultraviolet curing resin.
청구항 1에 있어서,
상기 도전성 재료는 은, 구리, 아연, 금, 알루미늄, 티타늄, 팔라듐 및 크롬으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나의 금속 또는 그 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive material comprises any one metal selected from the group consisting of silver, copper, zinc, gold, aluminum, titanium, palladium and chrome or an alloy thereof.
청구항 1에 있어서,
상기 도전성 재료는 도전성 금속 페이스트인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive material is a conductive metal paste.
(a) 투명 기판을 준비하는 단계;
(b) 상기 투명 기판의 일면에 지지층을 형성하는 단계;
(c) 상기 지지층의 일면에 복수 개의 요홈을 형성하는 단계; 및
(d) 상기 요홈에 도전성 재료를 충진하여 감지 전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조방법.
(a) preparing a transparent substrate;
(b) forming a supporting layer on one surface of the transparent substrate;
(c) forming a plurality of grooves on one surface of the support layer; And
(d) filling the groove with a conductive material to form a sensing electrode.
청구항 10에 있어서, 상기 (a) 단계는,
(a-1) 상기 투명 기판의 일면 테두리를 따라 인쇄층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.
The method of claim 10, wherein the step (a)
(a-1) forming a printed layer along one edge of the transparent substrate.
청구항 10에 있어서, 상기 (b) 단계는,
상기 투명 기판의 일면에 자외선 경화 수지를 도포하여 상기 지지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.
12. The method of claim 10, wherein step (b)
Wherein a supporting layer is formed by applying an ultraviolet curable resin to one surface of the transparent substrate.
청구항 10에 있어서, 상기 (c) 단계는,
(c-1) 하단에 복수 개의 돌출부를 가진 몰드를 상기 지지층에 가압하여, 상기 지지층의 일면에 상기 돌출부와 대응되는 요홈을 형성하는 단계; 및
(c-2) 상기 지지층의 경화를 위해 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.
11. The method of claim 10, wherein step (c)
(c-1) pressing a mold having a plurality of protrusions at a lower end thereof to the support layer, thereby forming recesses corresponding to the protrusions on one surface of the support layer; And
(c-2) irradiating ultraviolet light for curing the support layer.
청구항 13에 있어서, 상기 (c) 단계는,
(c-3) 상기 요홈의 바닥면에 탄소 나노 구조체를 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.
14. The method of claim 13, wherein step (c)
(c-3) coating the carbon nanostructure on the bottom surface of the groove to form a coating layer.
청구항 14에 있어서,
상기 탄소 나노 구조체는 탄소 나노 튜브(CNT) 또는 그래핀(graphene)인 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the carbon nanostructure is carbon nanotube (CNT) or graphene.
청구항 10에 있어서, 상기 (d) 단계는,
상기 요홈에 도전성 금속 페이스트를 충진하여 상기 감지 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.
11. The method of claim 10, wherein step (d)
And filling the groove with a conductive metal paste to form the sensing electrode.
청구항 16에 있어서, 상기 (d) 단계는,
도터 블레이드(dotor blade)에 의해 상기 도전성 금속 페이스트를 상기 요홈에 충진하고, 상기 요홈 외부로 누설된 상기 도전성 금속 페이스트는 유기용제를 사용하여 제거하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.
17. The method of claim 16, wherein step (d)
Wherein the conductive metal paste is filled in the groove by a dotar blade and the conductive metal paste leaked to the outside of the groove is removed by using an organic solvent.
청구항 13에 있어서, 상기 몰드는,
(cc-1) 포토 레지스트에 의해, 투명 재질의 몸체 하단에 상기 돌출부와 대응되는 포토 레지스트부가 형성되는 제1 프리 몰드를 형성하는 단계;
(cc-2) 상기 제1 프리 몰드를 이용한 전사 공정에 의해, 상기 포토 레지스트부와 대응되는 복수 개의 홈부가 일면에 형성되는 제2 프리 몰드를 형성하는 단계; 및
(cc-3) 상기 제2 프리 몰드를 이용한 전사 공정에 의해 상기 몰드를 형성하는 단계를 거쳐 제조되는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조방법.

14. The mold of claim 13,
(cc-1) forming a first pre-mold by photoresist, wherein a photoresist portion corresponding to the protrusions is formed at the bottom of the transparent body;
(cc-2) forming a second pre-mold formed on one surface of the plurality of grooves corresponding to the photoresist portion by a transfer process using the first pre-mold; And
(cc-3) a step of forming the mold by a transfer process using the second pre-mold.

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