KR20150089919A - Thermosetting compositions and cured products using the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a thermosetting composition and a cured film obtained by using the same, the composition comprising: a low molecular epoxy compound (A) comprising at least three epoxy groups, with the weight average molecular weight of less than 5000; a high molecular epoxy compound (B) comprising at least three epoxy groups, with the weight average molecular weight of more than or equal to 30000; and a carboxylic compound (C) comprising at least three carboxylic groups. A cured film with excellent both properties of flatness and compliance of foreign substances can be obtained by using the thermosetting composition of the present invention.

Description

열경화 조성물 및 이것을 사용한 경화물{THERMOSETTING COMPOSITIONS AND CURED PRODUCTS USING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a thermosetting composition and a cured product using the thermosetting composition.

본 발명은 열경화성 조성물, 및 그것을 가열함으로써 얻어지는 경화막에 관한 것이다.The present invention relates to a thermosetting composition and a cured film obtained by heating the same.

액정 표시 소자 등의 소자의 제조 공정 중에는, 유기용매, 산, 알칼리 용액 등의 각종 약품 처리가 행해지고, 스퍼터링에 의해 배선 전극을 성막할 때, 표면이 국부적으로 고온으로 가열되는 경우가 있다. 그러므로, 각종 소자의 표면의 열화, 손상, 변질을 방지할 목적으로 표면 보호막이 설치되는 경우가 있다. 이들 보호막에는, 상기와 같은 제조 공정 중의 각종 처리에 견딜 수 있는 여러가지 특성이 요구된다. 구체적으로는, 내용제성, 내산성, 내알칼리성 등의 내약품성, 내수성, 내열성, 유리 등의 베이스 기판에 대한 밀착성, 투명성, 내상성(耐傷性), 도포성, 장기간에 걸쳐 착색 등의 변질이 일어나지 않도록 내광성(耐光性) 등이 요구된다. 특히 최근, 컬러 필터 보호막으로서 사용되는 경우의 특성으로서, 평탄성 및 이물질 추종성이 중요시되고 있다.In the manufacturing process of an element such as a liquid crystal display element, various chemical treatments such as an organic solvent, an acid, and an alkali solution are performed, and when the wiring electrode is formed by sputtering, the surface is sometimes locally heated to a high temperature. Therefore, a surface protective film may be provided for the purpose of preventing deterioration, damage, and deterioration of the surface of various devices. These protective films are required to have various characteristics that can withstand various treatments in the above-described manufacturing process. Concretely, deterioration such as chemical resistance such as solvent resistance, acid resistance and alkali resistance, water resistance, heat resistance, adhesion to a base substrate such as glass, transparency, resistance to scratches, coating property, Light resistance and the like are required. Particularly, in recent years, as a characteristic when used as a protective film for a color filter, flatness and foreign matter followability have become important.

액정 표시 소자로 대표되는 표시 소자에 사용되는 컬러 필터는, 복수 색의 화소로 구성되며, 컬러 필터 표면에는 단차가 존재한다. 특히 컬러 필터를 액정 표시 소자에 사용한 경우, 컬러 필터의 단차에 의해 장소마다 셀 갭의 차이가 생기고, 장소마다 액정 화합물의 기판에 대한 경사가 고르지 않는 등, 표시 품위 저하의 하나의 요인이 된다. 컬러 필터의 단차는 보호막을 형성함으로써 작게 할 수 있다. 본 명세서에 있어서는, 보호막 형성 후의 단차가 작을 수록, 보호막 또는 그 보호막을 형성하기 위한 재료의 「평탄성이 우수하다」고 할 수 있다. 「평탄성」은 컬러 필터를 사용하는 표시 소자의 표시 품위에 크게 영향을 미친다.A color filter used for a display element typified by a liquid crystal display element is composed of pixels of a plurality of colors, and a step is present on the surface of the color filter. Particularly, when a color filter is used for a liquid crystal display element, there is a difference in cell gap at each place due to the step difference of the color filter, and the inclination of the liquid crystal compound to the substrate is not uniform at every place. The step of the color filter can be made small by forming a protective film. In this specification, the smaller the step after formation of the protective film, the better the "flatness" of the protective film or the material for forming the protective film. The " flatness " greatly affects the display quality of a display element using a color filter.

컬러 필터의 제조 공정 중, 기판 표면에 본의가 아니게 이물질이 부착되는 경우가 있다. 그 때, 이물질이 존재하는 기판 상에 열경화성 조성물을 도포, 건조했을 때, 이물질의 주변의 막 두께로 혼란이 생기고, 그 결과, 이물질 주변의 반사광이 흐트러져 실제의 이물질의 크기 보다 확대된 형상으로 육안으로 되어 이물질이 눈에 띄기 쉬워지는 현상이 있다. 이 이물질이 눈에 띄기 쉬워지는 현상을 경감하는 특성을 「이물질 추종성」이라고 말한다. 본 명세서에 있어서는, 보호막 또는 그 보호막을 형성하기 위한 재료의 「이물질 추종성이 우수한」이란, 이와 같은 현상이 쉽게 일어나지 않아 이물질이 눈에 띄지 않는 것을 말한다. 이물질 추종성은 컬러 필터 제조 시의 수율에 크게 영향을 주는 것이다.In the manufacturing process of the color filter, foreign matter may adhere to the surface of the substrate unintentionally. At this time, when the thermosetting composition is coated on the substrate on which the foreign substance exists and dried, the film thickness around the foreign substance is confused. As a result, the reflected light around the foreign substance is disturbed, So that foreign substances tend to become conspicuous. The characteristic of alleviating the phenomenon that the foreign substance becomes conspicuous is called " foreign matter followability ". In the present specification, the "excellent foreign matter followability" of the protective film or the material for forming the protective film means that the phenomenon does not easily occur and the foreign matter is not conspicuous. Foreign matter followability greatly affects the yield of the color filter.

종래, 평탄성을 향상시키기 위하여, 분자량이 비교적 작은 에폭시 화합물을 포함한 열경화성 조성물을 사용하는 방법(예를 들면, 특허 문헌 1 참조)이 제안되어 있다. 또한, 이물질 추종성을 향상시키기 위해 분자량이 비교적 큰 에폭시 화합물을 포함한 열경화성 조성물을 사용하는 방법(예를 들면, 특허 문헌 2 참조)이 제안되어 있다. 에폭시 화합물의 분자량을 변경함으로써, 평탄성 및 이물질 추종성을 조절할 수는 있었지만, 한쪽 특성을 향상시키면 다른 쪽 특성이 저하된다다. 평탄성 및 이물질 추종성은 상반되는 특성이며, 평탄성 및 이물질 추종성을 양립시키는 것은 매우 어려운 문제였다.Conventionally, a method of using a thermosetting composition containing an epoxy compound having a relatively small molecular weight (see, for example, Patent Document 1) has been proposed in order to improve flatness. Further, a method of using a thermosetting composition containing an epoxy compound having a relatively large molecular weight (for example, see Patent Document 2) has been proposed in order to improve foreign matter followability. By changing the molecular weight of the epoxy compound, it was possible to control the flatness and follow-up property of the foreign substance, but if one property is improved, the other property is deteriorated. Flatness and foreign matter followability are contradictory characteristics, and it has been a very difficult problem to achieve compatibility between flatness and foreign matter followability.

일본공개특허 제2008-156546호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-156546 일본공개특허 제2005-105264호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-105264

전술한 상황을 고려하여, 평탄성 및 이물질 추종성을 양립시킬 수 있는 열경화성 조성물의 개발이 요구되고 있다.In consideration of the above-mentioned situation, development of a thermosetting composition capable of achieving both flatness and foreign matter followability is required.

본 발명자는, 전술한 문제점을 해결하기 위해 다양하게 검토한 결과, 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 5,000 미만인 저분자량 에폭시 화합물, 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 30,000 이상인 고분자량 에폭시 화합물, 및 카르복실기를 3개 이상 포함하는 카르복실 화합물을 함유하는 열경화성 조성물에 의해 상기 목적에 도할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The inventors of the present invention have made various studies to solve the above-mentioned problems. As a result, they have found that a low molecular weight epoxy compound containing three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of less than 5,000 and an epoxy group containing three or more epoxy groups, A high molecular weight epoxy compound, and a carboxyl compound containing at least three carboxyl groups, and has completed the present invention.

본 발명은 하기의 구성을 가진다.The present invention has the following configuration.

[1] 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 5,000 미만인 저분자량 에폭시 화합물(A), 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 30,000 이상인 고분자량 에폭시 화합물(B), 및 카르복실기를 3개 이상 포함하는 카르복실 화합물(C)을 함유하는 열경화성 조성물.(A) a low molecular weight epoxy compound (A) containing three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of less than 5,000, a high molecular weight epoxy compound (B) containing three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of 30,000 or more, A thermosetting composition comprising a carboxyl compound (C) containing three or more.

[2] 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 총중량중, 저분자량 에폭시 화합물(A)의 중량이 50∼99 중량%이며, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 합계 100 중량부에 대하여, 카르복실 화합물(C)의 중량이 30∼200 중량부인, [1]항에 기재된 열경화성 조성물.[2] The epoxy resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the weight of the low molecular weight epoxy compound (A) is 50 to 99% by weight and the molecular weight of the low molecular weight epoxy compound (A) The thermosetting composition according to [1], wherein the weight of the carboxyl compound (C) is 30 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the compound (B).

[3] 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 총중량중, 저분자량 에폭시 화합물(A)의 중량이 70∼95 중량%이며, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 합계 100 중량부에 대하여, 카르복실 화합물(C)의 중량이 40∼120 중량부인, [1]항에 기재된 열경화성 조성물.[3] The epoxy resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the weight of the low molecular weight epoxy compound (A) is 70 to 95% by weight and the weight of the low molecular weight epoxy compound (A) The thermosetting composition according to item [1], wherein the weight of the carboxyl compound (C) is 40 to 120 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the compound (B).

[4] 카르복실 화합물(C)이, 폴리에스테르아미드산(Ca) 및 카르복실기 함유 중합체(Cb)로부터 선택되는 1개 이상이며;[4] the carboxyl compound (C) is at least one selected from a polyester amide acid (Ca) and a carboxyl group-containing polymer (Cb);

폴리에스테르아미드산(Ca)이, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 필수 성분으로서 반응시킴으로써 얻어지는 반응 생성물이며, 이들의 몰비가, X몰의 테트라카르본산 이무수물(ca1), Y몰의 디아민(ca2), 및 Z몰의 다가 하이드록시 화합물(ca3)에 대하여, 하기 식(C-11) 및 식(C-12)의 관계가 성립하도록 한 비율이며;Wherein the polyester amide acid (Ca) is a reaction product obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride (ca1), diamine (ca2), and polyhydric hydroxy compound (ca3) as essential components, (C-11) and (C-12) are satisfied with respect to tetracarboxylic dianhydride (ca1), Y mol diamine (ca2), and Z mol polyhydric hydroxy compound (ca3) A ratio;

0.2≤Z/Y≤8.0···(C-11)0.2? Z / Y? 8.0 (C-11)

0.2≤(Y+Z)/X≤1.5···(C-12)0.2? (Y + Z) /X? 1.5 (C-12)

카르복실기 함유 중합체(Cb)가, 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1) 및 그 외의 라디칼 중합성 모노머(cb2)를 함유하는 라디칼 중합성 모노머의 혼합물을 중합시켜 얻어지는, [1]∼[3] 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 조성물.1] to [3], wherein the carboxyl group-containing polymer (Cb) is obtained by polymerizing a mixture of a radically polymerizable monomer having a carboxyl group and a radically polymerizable monomer containing another radically polymerizable monomer (cb2) A thermosetting composition according to any one of the preceding claims.

[5] 폴리에스테르아미드산(Ca)이, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)에 더하여, 또한 1가 알코올(ca4)을 반응시킴으로써 얻어지는 반응 생성물인, [4]항에 기재된 열경화성 조성물.[5] The process according to [1], wherein the polyester amide acid (Ca) is reacted with a monohydric alcohol (ca4) in addition to a tetracarboxylic dianhydride (ca1), a diamine (ca2), and a polyhydric hydroxy compound (ca3) Wherein the thermosetting composition is the thermosetting composition according to item [4].

[6] 폴리에스테르아미드산(Ca)이, 또한 스티렌-무수말레산 공중합체(cb5)를 반응시킴으로써 얻어지는 반응 생성물인, [4] 또는 [5] 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 조성물.[6] The thermosetting composition according to any one of [4] or [5], wherein the polyester amide acid (Ca) is a reaction product obtained by reacting a styrene / maleic anhydride copolymer (cb5).

[7] 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)가, (메타)아크릴산, 및 카르복실기를 가지는 (메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(cb2)가, 에폭시기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 및 N-치환 말레이미드로부터 선택되는 1개 이상인, [4]항에 기재된 열경화성 조성물.[7] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group is at least one selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylate having a carboxyl group, and the other radically polymerizable monomer (cb2) The thermosetting composition according to (4), wherein the thermosetting composition is at least one selected from the group consisting of (meth) acrylate having a hydroxyl group, (meth) acrylate having an aliphatic group, (meth) acrylate having an aromatic group, and N-substituted maleimide.

[8] 에폭시기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 글리시딜(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 및 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 벤질(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, N-치환 말레이미드가, N-시클로헥실말레이미드, 및 N-페닐말레이미드로부터 선택되는 1개 이상인, [7]항에 기재된 열경화성 조성물.[8] The positive photosensitive resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the (meth) acrylate having an epoxy group is at least one selected from glycidyl (meth) acrylate and the (meth) acrylate having an aliphatic group is methyl (meth) (Meth) acrylate having at least one aromatic group selected from dicyclohexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate and dicyclopentenyloxyethyl Is at least one selected from benzyl (meth) acrylate, and the N-substituted maleimide is at least one selected from N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide. Composition.

[9] 저분자량 에폭시 화합물(A)이, 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 5,000 미만이며, 또한 방향족기를 가지는 에폭시 화합물인, [1]∼[8] 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 조성물.[9] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [8], wherein the low molecular weight epoxy compound (A) is an epoxy compound having three or more epoxy groups and a weight average molecular weight of less than 5,000, Composition.

[10] 저분자량 에폭시 화합물(A)이, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 화합물, 1,3-비스[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-메틸에틸]페닐]에틸]페녹시]-2-프로판올, 및 2-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-2-[4-[1,1-비스[4-([2,3-에폭시프로폭시]페닐)]에틸]페닐]프로판으로부터 선택되는 1개 이상인, [9]항에 기재된 열경화성 조성물.[10] The epoxy resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the low molecular weight epoxy compound (A) is a bisphenol A novolak type epoxy compound, 1,3-bis [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) - [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -1-methylethyl] phenyl] ethyl] phenoxy] -2- propanol, ) Phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4 - ([2,3-epoxypropoxy] phenyl)] ethyl] phenyl] propane. Composition.

[11] 고분자량 에폭시 화합물(B)이, 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1), 및 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)를 함유하는 라디칼 중합성 모노머의 혼합물을 중합시켜 얻어지는 에폭시기 함유 중합체(Ba)인, [1]∼[10] 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 조성물.[11] An epoxy group-containing polymer obtained by polymerizing a mixture of a high molecular weight epoxy compound (B), a radically polymerizable monomer having an epoxy group (b1), and another radically polymerizable monomer (b2) Ba). [10] The thermosetting composition according to any one of [1] to [10].

[12] 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)가, 글리시딜(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)가, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 하기 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트, 및 N-치환 말레이미드로부터 선택되는 1개 이상을, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)의 전체 중량 중 50 중량% 이상 포함하는, [11]항에 기재된 열경화성 조성물.
[12] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [12], wherein the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group is at least one selected from glycidyl (meth) acrylate and the other radically polymerizable monomer (b2) (Meth) acrylate having a structure represented by the following formula (B-11), and N-substituted maleimide in an amount of 50% by weight or more based on the total weight of the other radically polymerizable monomer (b2) Or more of the thermosetting composition.

Figure pat00001
Figure pat00001

[13] 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)가, 글리시딜(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)가, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 하기 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트, 및 N-치환 말레이미드로부터 선택되는 1개 이상으로 이루어지는, [11]항에 기재된 열경화성 조성물.[13] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [10], wherein the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group is at least one selected from glycidyl (meth) acrylate and the other radically polymerizable monomer (b2) , (Meth) acrylate having a structure represented by the following formula (B-11), and N-substituted maleimide.

Figure pat00002
Figure pat00002

[14] 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 및 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 3-[트리스(트리메틸실릴옥시)실릴]프로필(메타)아크릴레이트, 및 모노(메타)아크릴록시프로필 변성 폴리디메틸실록산으로부터 선택되는 1개 이상이며, N-치환 말레이미드가, N-시클로헥실말레이미드인, [12]항 또는 [13]항에 기재된 열경화성 조성물.[14] The positive resist composition as described in any one of [1] to [10], wherein the (meth) acrylate having an aliphatic group is at least one compound selected from the group consisting of methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (Meth) acrylate having a structure represented by the formula (B-11) is at least one selected from the group consisting of 3- [tris (trimethylsilyloxy) silyl] propyl (meth) Acrylate, and mono (meth) acryloxypropyl modified polydimethylsiloxane, wherein the N-substituted maleimide is N-cyclohexylmaleimide. The thermosetting resin composition according to any one of [12] Composition.

[15] [1]∼[14] 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 조성물을 가열함으로써 얻어지는 경화막.[15] A cured film obtained by heating the thermosetting composition according to any one of [1] to [14].

[16] [15]항에 기재된 경화막을 가지는 컬러 필터.[16] A color filter having the cured film described in [15].

본 발명의 열경화성 조성물은 평탄성 및 이물질 추종성을 양립한다. 본 발명에 의하여, 표시 품위가 높고, 또한 수율이 높은 경화막을 형성할 수 있는 열경화성 조성물이 제공된다.The thermosetting composition of the present invention is compatible with both flatness and foreign matter followability. According to the present invention, there is provided a thermosetting composition capable of forming a cured film having a high display quality and a high yield.

본 명세서중, 아크릴산 및 메타크릴산의 한쪽 또는 양쪽을 나타내기 위해 「(메타)아크릴산」과 같이 표기되는 경우가 있다. 또한 마찬가지로 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 한쪽 또는 양측을 나타내기 위해 「(메타)아크릴레이트」와 같이 표기하는 경우가 있다.In the present specification, the term "(meth) acrylic acid" may be used to denote one or both of acrylic acid and methacrylic acid. Likewise, "(meth) acrylate" may be used to denote either or both of acrylate and methacrylate.

<1. 본 발명의 열경화성 조성물><1. The thermosetting composition of the present invention>

본 발명의 제1 태양은, 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 5,000 미만인 저분자량 에폭시 화합물(A), 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 30,000 이상인 고분자량 에폭시 화합물(B), 및 카르복실기를 3개 이상 포함하는 카르복실 화합물(C)을 함유하는 열경화성 조성물에 관한 것이다.The first aspect of the present invention relates to a low molecular weight epoxy compound (A) having three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of less than 5,000, a high molecular weight epoxy compound (B) having three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of 30,000 or more ), And a carboxyl compound (C) containing three or more carboxyl groups.

본 발명의 저분자량 에폭시 화합물(A), 고분자량 에폭시 화합물(B), 및 카르복실 화합물(C)을 함유하는 열경화성 조성물에 있어서, 저분자량 에폭시 화합물(A), 고분자량 에폭시 화합물(B), 및 카르복실 화합물(C)의 중량비는, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 총중량중, 저분자량 에폭시 화합물(A)의 중량이 50∼99 중량%인 것이 바람직하고, 70∼95 중량%인 것이 더욱 바람직하다. 이 범위 내에서는, 본 발명의 열경화성 조성물의 평탄성 및 이물질 추종성의 양쪽 특성이 양호하게 된다.(A), a high molecular weight epoxy compound (B), a high molecular weight epoxy compound (B) and a low molecular weight epoxy compound (B) in the thermosetting composition containing the low molecular weight epoxy compound (A), the high molecular weight epoxy compound (A) in the total weight of the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) is preferably from 50 to 99 wt%, and the weight ratio of the low molecular weight epoxy compound More preferably 70 to 95% by weight. Within this range, both the flatness of the thermosetting composition of the present invention and the property of following foreign matter become good.

본 발명의 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 합계 100중량부에 대하여, 카르복실 화합물(C)의 중량이 30∼200 중량부인 것이 바람직하고, 40∼120 중량부인 것이 더욱 바람직하다. 이 범위 내에서는, 본 발명의 열경화성 조성물의 경화성이 양호하게 된다.The weight of the carboxyl compound (C) is preferably 30 to 200 parts by weight, more preferably 40 to 120 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) More preferable. Within this range, the curing property of the thermosetting composition of the present invention becomes favorable.

본 발명의 열경화성 조성물은, 특히 본 설명에 의해 한정되지 않지만, 가열시의 조성물의 열 플로우에 의해 생기는 2개의 현상, 즉 (1) 융점이 낮은 저분자량 에폭시 화합물이 열 플로우함으로써 평탄성을 향상시키는 현상, 및 (2) 융점이 높은 고분자량 에폭시 화합물이 열 플로우를 억지함으로써 이물질 추종성을 향상시키는 현상을 양호하게 밸런스시킴으로써, 평탄성 및 이물질 추종성을 양립시킬 수 있다. 이 미묘한 밸런스를 발현시키기 위해서는, 분자량의 크게 상이한 2개 이상의 에폭시 화합물을 사용하는 것과, 특정 비율로 배합하는 것이 중요하다.The thermosetting composition of the present invention is not particularly limited to the present description but can be applied to two phenomena caused by the heat flow of the composition upon heating, that is, (1) a phenomenon of improving the flatness by heat flow of the low- , And (2) a high molecular weight epoxy compound having a high melting point is balanced with a phenomenon of improving the foreign matter followability by suppressing the heat flow, whereby both flatness and foreign matter followability can be achieved. In order to develop this subtle balance, it is important to use two or more epoxy compounds which differ greatly in molecular weight and to blend them in a specific ratio.

<1-1. 저분자량 에폭시 화합물(A)><1-1. The low molecular weight epoxy compound (A)

본 발명에서 사용하는 저분자량 에폭시 화합물(A)은, 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 5,000 미만인 에폭시 화합물이다. 저분자량 에폭시 화합물(A)은 단량체일 수도 있고, 에폭시기 이외의 중합성기를 가지는 화합물의 중합체일 수도 있다. 에폭시기 이외의 중합성기를 가지는 화합물의 중합체의 다분산도(多分散度)(중량 평균 분자량/수평균 분자량)는, 1.4∼4.0인 것이 바람직하고, 1.6∼3.5인 것이 더욱 바람직하다.The low molecular weight epoxy compound (A) used in the present invention is an epoxy compound containing three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of less than 5,000. The low molecular weight epoxy compound (A) may be a monomer or a polymer of a compound having a polymerizable group other than an epoxy group. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of the polymer of the compound having a polymerizable group other than the epoxy group is preferably 1.4 to 4.0, more preferably 1.6 to 3.5.

저분자량 에폭시 화합물(A)은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.The low molecular weight epoxy compound (A) may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

저분자량 에폭시 화합물(A)의 예는, 페놀 노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 에폭시 화합물, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 화합물, 지방족 폴리글리시딜에테르, 및 지환식 지방족 에폭시 화합물이 있다.Examples of the low molecular weight epoxy compound (A) include phenol novolak type epoxy compounds, cresol novolak type epoxy compounds, glycidyl ether type epoxy compounds, bisphenol A novolac type epoxy compounds, aliphatic polyglycidyl ethers, There are aliphatic epoxy compounds.

이들 중에서도, 글리시딜에테르형 에폭시 화합물, 및 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 화합물이 바람직하고, 글리시딜에테르형 에폭시 화합물이 더욱 바람직하다. 이들 저분자량 에폭시 화합물(A)을 사용한 열경화성 조성물은 단차를 평탄화하는 능력이 높다.Among them, a glycidyl ether type epoxy compound and a bisphenol A novolak type epoxy compound are preferable, and a glycidyl ether type epoxy compound is more preferable. The thermosetting composition using these low molecular weight epoxy compounds (A) has a high ability to planarize the steps.

글리시딜에테르형 에폭시 화합물의 바람직한 구체예는, 1,3-비스[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-메틸에틸]페닐]에틸]페녹시]-2-프로판올, 및 2-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-2-[4-[1,1-비스[4-([2,3-에폭시프로폭시]페닐)]에틸]페닐]프로판이다.Preferred examples of the glycidyl ether type epoxy compound are 1,3-bis [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -1- [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [2- (4-fluorophenyl) 4- [1,1-bis [4 - ([2,3-epoxypropoxy] phenyl)] ethyl] phenyl] propane.

이들 저분자량 에폭시 화합물(A)로서는, 하기와 같은 시판품을 사용할 수 있다. 페놀 노볼락형 에폭시 화합물의 구체예는, EPPN-201(상품명, 일본 화약 가부시키가이샤), jER 152 및 154(모두 상품명, 미쓰비시가가쿠 가부시키가이샤)이다. 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물로서의 구체예는, EOCN-102S, 103S, 104S, 및 1020(모두 상품명, 일본 화약 가부시키가이샤)이 있다. 글리시딜에테르형 에폭시 화합물의 구체예는, 테크모어 VG3101L(상품명, 가부시키가이샤 프린테크), EPPN-501H 및 502H(모두 상품명, 일본 화약 가부시키가이샤) 및 jER 1032H60(상품명, 미쓰비시가가쿠 가부시키가이샤)이 있다. 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 화합물(Ab)의 구체예는, jER 157S65 및 157S70(모두 상품명, 미쓰비시가가쿠 가부시키가이샤)이 있다. 지환식 지방족 에폭시 화합물의 구체예는, EHPE-3150(상품명, 가부시키가이샤 다이셀)이 있다. 그리고, 글리시딜에테르형 에폭시 화합물인, 테크모어 VG3101L은, 2-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-2-[4-[1,1-비스[4-([2,3-에폭시프로폭시]페닐)]에틸]페닐]프로판 및 1,3-비스[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-메틸에틸]페닐]에틸]페녹시]-2-프로판올의 혼합물이다.As the low molecular weight epoxy compound (A), commercially available products such as the following may be used. Specific examples of the phenol novolak type epoxy compound are EPPN-201 (trade name, manufactured by Nippon Yakuza Co., Ltd.), jER 152 and 154 (all trade names, Mitsubishi Kagaku K.K.). Specific examples of the cresol novolak-type epoxy compound include EOCN-102S, 103S, 104S and 1020 (all trade names, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Specific examples of the glycidyl ether type epoxy compound include Teckmor VG3101L (trade name, manufactured by PRINTECH), EPPN-501H and 502H (all trade names, manufactured by Nippon Yakuza Kogyo K.K.) and jER 1032H60 (trade name, Ltd.). Specific examples of the bisphenol A novolac epoxy compound (Ab) include jER 157S65 and 157S70 (all trade names, Mitsubishi Kagaku Co., Ltd.). A specific example of the alicyclic aliphatic epoxy compound is EHPE-3150 (trade name, Daicel K.K.). TECHMORE VG3101L, which is a glycidyl ether type epoxy compound, is a copolymer of 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1- Ethyl] phenyl] propane and 1,3-bis [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -1- [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -1-methylethyl] phenyl] ethyl] phenoxy] -2-propanol.

<1-2. 고분자량 에폭시 화합물(B)><1-2. The high molecular weight epoxy compound (B)

본 발명에서 사용하는 고분자량 에폭시 화합물(B)은, 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 30,000 이상인 에폭시 화합물이다. 고분자량 에폭시 화합물(B)은, 에폭시기 이외의 중합성기를 가지는 화합물의 중합체이다. 중합체의 다분산도(중량 평균 분자량/수평균 분자량)는, 1.5∼5.0인 것이 바람직하고, 1.8∼4.0인 것이 더욱 바람직하다.The high molecular weight epoxy compound (B) used in the present invention is an epoxy compound containing three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of 30,000 or more. The high molecular weight epoxy compound (B) is a polymer of a compound having a polymerizable group other than an epoxy group. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of the polymer is preferably 1.5 to 5.0, more preferably 1.8 to 4.0.

고분자량 에폭시 화합물(B)은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.The high molecular weight epoxy compound (B) may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

고분자량 에폭시 화합물(B)의 예는, 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1), 및 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)를 함유하는 라디칼 중합성 모노머의 혼합물을 중합시켜 얻어지는 에폭시기 함유 중합체(Ba)다.Examples of the high molecular weight epoxy compound (B) include an epoxy group-containing polymer (Ba) obtained by polymerizing a mixture of a radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group and a radically polymerizable monomer containing another radically polymerizable monomer (b2) )All.

<1-2-1. 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)><1-2-1. Radical polymerizable monomer (b1) having an epoxy group>

에폭시기 함유 중합체(Ba)의 원료인, 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)는, 적어도 1개의 에폭시기를 가지고, 또한 적어도 1개의 라디칼 중합성기를 가지는 한 특별히 한정되지 않는다. 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)의 예는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 및 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트이다.The radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group which is a raw material of the epoxy group-containing polymer (Ba) is not particularly limited as long as it has at least one epoxy group and at least one radically polymerizable group. Examples of the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group are glycidyl (meth) acrylate, and methyl glycidyl (meth) acrylate.

이들 중에서도, 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 포함하는 혼합물을 중합하여 얻어지는 에폭시기 함유 중합체(Ba)를 함유하는 열경화성 조성물은 경화성이 양호하다.Of these, glycidyl (meth) acrylate is preferred. A thermosetting composition containing an epoxy group-containing polymer (Ba) obtained by polymerizing a mixture containing at least one selected from these is good in curability.

에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)는 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.The radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

<1-2-2. 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)><1-2-2. Other radical polymerizable monomer (b2)>

에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)와 공중합시키는 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)는, 카르복실기 및 에폭시기를 가지지 않으며, 또한 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)와 공중합 가능한 라디칼 중합성 모노머이면, 특별히 한정되는 것은 아니다. 이와 같은 라디칼 중합성 모노머의 예는, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 하기 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트, 다른(메타)아크릴레이트, N-치환 말레이미드, 마크로모노머, 스티렌, 메틸스티렌, 비닐 톨루엔, 크롤메틸스티렌, 인덴, (메타)아크릴 아미드, 및 N-아크릴로일모르폴린이다.Another radically polymerizable monomer (b2) copolymerized with a radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group is a radically polymerizable monomer which does not have a carboxyl group and an epoxy group and can be copolymerized with a radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group , And is not particularly limited. Examples of such radically polymerizable monomers include (meth) acrylate having an aliphatic group, (meth) acrylate having an aromatic group, (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (B-11) Acrylate, N-substituted maleimide, macromonomer, styrene, methylstyrene, vinyltoluene, chloromethylstyrene, indene, (meth) acrylamide and N-acryloylmorpholine.

Figure pat00003
Figure pat00003

지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트의 구체예는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트이다. 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트의 구체예는, 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트이다. 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트의 구체예는, 3-[트리스(트리메틸실릴옥시)실릴]프로필(메타)아크릴레이트, 및 모노(메타)아크릴록시프로필 변성 폴리디메틸실록산이다. 다른 (메타)아크릴레이트의 구체예는, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 및 글리세롤모노(메타)아크릴레이트이다. N-치환 말레이미드의 구체예는, N-페닐말레이미드 및 N-시클로헥실말레이미드이다. 마크로모노머의 구체예는, 폴리스티렌 마크로모노머 및 폴리메틸메타크릴레이트 마크로모노머이다.Specific examples of the (meth) acrylate having an aliphatic group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclohexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate. Examples of the (meth) acrylate having an aromatic group are phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate. Specific examples of the (meth) acrylate having the structure represented by the formula (B-11) include 3- [tris (trimethylsilyloxy) silyl] propyl (meth) acrylate, and mono (meth) Dimethylsiloxane. Specific examples of other (meth) acrylates include methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and glycerol mono Rate. Examples of N-substituted maleimides are N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide. Specific examples of the macromonomer are polystyrene macromonomer and polymethyl methacrylate macromonomer.

이들 중에서도, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 및 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 3-[트리스(트리메틸실릴옥시)실릴]프로필(메타)아크릴레이트, 모노(메타)아크릴록시프로필 변성 폴리디메틸실록산, 및 N-시클로헥실말레이미드가 바람직하고, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 3-[트리스(트리메틸실릴옥시)실릴]프로필(메타)아크릴레이트, 모노(메타)아크릴록시프로필 변성 폴리디메틸실록산, 및 N-시클로헥실말레이미드가 더욱 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 포함하는 혼합물을 중합하여 얻어지는 에폭시기 함유 중합체(Ba)를 함유하는 열경화성 조성물은, 이물질 추종성이 양호하다.Of these, preferred are methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate and dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, 3- [tris (trimethylsilyloxy) Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 3- (dimethylamino) ethyl More preferred are tris (trimethylsilyloxy) silyl] propyl (meth) acrylate, mono (meth) acryloxypropyl modified polydimethylsiloxane, and N-cyclohexylmaleimide. The thermosetting composition containing an epoxy group-containing polymer (Ba) obtained by polymerizing a mixture containing at least one selected from the foregoing, has good foreign matter followability.

그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)는, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the other radically polymerizable monomer (b2), the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

본 발명의 열경화 조성물에 함유되는 에폭시기 함유 중합체(Ba)의 중합 시에는, 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1) 및 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)의 총중량중, 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)를, 40∼95 중량% 사용하는 것이 바람직하고, 60∼90중량% 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 이 범위 내에서는, 본 발명의 열경화성 조성물은 경화성이 양호하게 된다.In the polymerization of the epoxy group-containing polymer (Ba) contained in the thermosetting composition of the present invention, among the total weight of the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group and the other radically polymerizable monomer (b2) The amount of the monomer (b1) is preferably 40 to 95% by weight, more preferably 60 to 90% by weight. Within this range, the thermosetting composition of the present invention has good curability.

에폭시기 함유 중합체(Ba)를 본 발명의 열경화성 조성물에 부가하는 방법은, 중합 반응 후의 용액을 그대로 부가할 수도 있고, 상기 용액을 농축하여 고형분을 뽑아내어, 고형분만을 부가할 수도 있다.In the method of adding the epoxy group-containing polymer (Ba) to the thermosetting composition of the present invention, the solution after the polymerization reaction may be added as it is, or the solids may be extracted by concentrating the solution to add solids only.

<1-3. 카르복실 화합물(C)><1-3. The carboxyl compound (C)

전술한 바와 같이, 본 발명에서 사용하는 카르복실 화합물(C)은, 카르복실기를 3개 이상 포함하는 카르복실 화합물이다.As described above, the carboxyl compound (C) used in the present invention is a carboxyl compound containing three or more carboxyl groups.

카르복실 화합물(C)은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.The carboxyl compound (C) may be used alone or in admixture of two or more.

카르복실 화합물(C)의 예는, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2) 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 필수 성분으로서 반응시킴으로써 얻어지는 폴리에스테르아미드산(Ca), 및 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1) 및 다른 라디칼 중합성 모노머(cb2)의 혼합물을 중합하여 얻어지는 카르복실기 함유 공중합체(Cb)이다. 이들 카르복실 화합물(C)은 원료의 입수 및 화합물의 제조가 용이하고, 또한 상기 카르복실 화합물(C)을 함유하는 열경화성 조성물의 경화성이 양호하다.Examples of the carboxyl compound (C) include polyester amide acid (Ca) obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride (ca1), diamine (ca2) and polyhydric hydroxy compound (ca3) as essential components, Containing copolymer (Cb) obtained by polymerizing a mixture of a radically polymerizable monomer (cb1) and another radically polymerizable monomer (cb2). These carboxyl compounds (C) are easily obtained from raw materials and compounds, and the curing properties of the thermosetting composition containing the carboxyl compound (C) are good.

<1-3-1. 폴리에스테르아미드산(Ca)><1-3-1. Polyester amide acid (Ca)>

상기 폴리에스테르아미드산(Ca)은 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 필수 성분으로서 반응시킴으로써 얻어진다. 또한, 이들에 부가하여, 1가 알코올(ca4) 및 스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)로부터 선택되는 1개 이상을 반응시킬 수도 있다.The polyester amide acid (Ca) is obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride (ca1), diamine (ca2), and polyhydric hydroxy compound (ca3) as essential components. In addition to these, at least one selected from a monohydric alcohol (ca4) and a styrene-maleic anhydride copolymer (ca5) may be reacted.

폴리에스테르아미드산(Ca)을 본 발명의 열경화성 조성물에 부가하는 방법은, 중합 반응 후의 용액을 그대로 부가할 수도 있고, 상기 용액을 농축하여 고형분을 뽑아내어, 고형분만을 부가할 수도 있다.In the method of adding the polyester amide acid (Ca) to the thermosetting composition of the present invention, the solution after the polymerization reaction may be added as it is, or the solid may be extracted by concentrating the solution to add solids only.

<1-3-1-1. 테트라카르본산 이무수물(ca1)><1-3-1-1. Tetracarboxylic dianhydride (ca1)>

본 발명에서 사용되는 테트라카르본산 이무수물(ca1)의 예는, 방향족 테트라카르본산 이무수물, 지환식 테트라카르본산 이무수물, 및 지방족 테트라카르본산 이무수물이다.Examples of the tetracarboxylic dianhydride (ca1) used in the present invention are aromatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

방향족 테트라카르본산 이무수물의 구체예는, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 이무수물, 2,2',3,3'-디페닐술폰테트라카르본산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐술폰테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르본산 이무수물(이하, 「ODPA」로 약기함), 2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르본산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐에테르테트라카르본산 이무수물, 2,2-[비스(3,4-디카르복시페닐)]헥사플루오로프로판 이무수물, 및 에틸렌글리콜비스(안하이드로트리멜리테이트)(상품명; TMEG-100, 신일본 이화 가부시키가이샤)이다. 지환식 테트라카르본산 이무수물의 구체예는, 시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 메틸시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 시클로펜탄테트라카르본산 이무수물, 및 시클로헥산테트라카르본산 이무수물이다. 지방족 테트라카르본산 이무수물의 구체예는, 에탄테트라카르본산 이무수물, 및 부탄테트라카르본산 이무수물이다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3, 3 ', 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride Water, 2,3,3 ', 4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylether tetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as "ODPA"), 2,2 ', 3,3'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 2,2- [bis (3,4- Carboxyphenyl)] hexafluoropropane dianhydride, and ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate) (TMEG-100, New Japan Ewha Womans). Specific examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride are cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, methylcyclobutane tetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, and cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride are ethanetetracarboxylic dianhydride, and butanetetracarboxylic dianhydride.

이들 중에서도, 3,3',4,4'-디페닐술폰 테트라카르본산 이무수물, ODPA, 2,2-[비스(3,4-디카르복시페닐)]헥사플루오로프로판 이무수물, 에틸렌글리콜비스(안하이드로트리멜리테이트)(상품명; TMEG-100, 신일본 이화 가부시키가이샤), 및 부탄테트라카르본산 이무수물이 바람직하고, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 이무수물, ODPA, 및 부탄테트라카르본산 이무수물이 특히 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 원료로서 포함하는 폴리에스테르아미드산(Ca)을 함유하는 열경화성 조성물을 사용하여 제조된 경화막은, 광투과성이 높다Among these, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, ODPA, 2,2- [bis (3,4-dicarboxyphenyl)] hexafluoropropane dianhydride, ethylene glycol bis (Anhydrotrimellitate) (trade name: TMEG-100, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and butane tetracarboxylic dianhydride are preferable, and 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride Water, ODPA, and butane tetracarboxylic dianhydride are particularly preferred. A cured film produced using a thermosetting composition containing a polyester amide acid (Ca) containing at least one selected from these as a raw material has high light transmittance

테트라카르본산 이무수물(ca1)은, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the tetracarboxylic dianhydride (ca1), the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

<1-3-1-2. 디아민(ca2)><1-3-1-2. Diamine (ca2)>

본 발명에서 사용되는 디아민(ca2)의 구체예는, 4,4'-디아미노 디페닐술폰, 3,3'-디아미노 디페닐술폰(이하, 「DDS」로 약기함), 3,4'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(4-아미노페녹시)페닐][3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(3-아미노페녹시)페닐][3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 및 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판이다.Specific examples of the diamine (ca2) used in the present invention include 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone (hereinafter abbreviated as "DDS"), 3,4 ' (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [ Sulfone, [4- (3-aminophenoxy) phenyl] [3- (4-aminophenoxy) phenyl] Phenyl] sulfone, and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane.

이들 중에서도, DDS, 및 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰이 바람직하고, DDS가 특히 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 원료로서 포함하는 폴리에스테르아미드산(Ca)을 함유하는 열경화성 조성물을 사용하여 제조된 경화막은, 광투과성이 높다Among these, DDS and bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone are preferable, and DDS is particularly preferable. A cured film produced using a thermosetting composition containing a polyester amide acid (Ca) containing at least one selected from these as a raw material has high light transmittance

디아민(ca2)은, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the diamine (ca2), the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

<1-3-1-3. 다가 하이드록시 화합물(ca3)><1-3-1-3. Polyhydric hydroxy compound (ca3)>

본 발명에서 사용되는 다가 하이드록시 화합물(ca3)의 구체예는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 중량 평균 분자량 1,000 이하의 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 테트라프로필렌글리콜, 중량 평균 분자량 1,000 이하의 폴리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,2-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 1,2,5-펜탄트리올, 1,2-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2,5-헥산디올, 1,2,6-헥산트리올, 1,2-헵탄디올, 1,7-헵탄디올, 1,2,7-헵탄트리올, 1,2-옥탄디올, 1,8-옥탄디올, 3,6-옥탄디올, 1,2,8-옥탄트리올, 1,2-노난디올, 1,9-노난디올, 1,2,9-노난트리올, 1,2-데칸디올, 1,10-데칸 디올, 1,2,10-데칸 트리올, 1,2-도데칸디올, 1,12-도데칸디올, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 비스페놀 A, 비스페놀 S, 비스페놀 F, 디에탄올아민, 및 트리에탄올아민이다.Specific examples of the polyhydric hydroxy compound (ca3) used in the present invention include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 1,000 or less, propylene glycol, dipropylene glycol, Glycol, tetrapropylene glycol, polypropylene glycol having a weight average molecular weight of 1,000 or less, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,2-pentanediol, Pentanediol, 1,2-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 1,2,6- Heptanediol, 1,7-heptanediol, 1,2,7-heptanetriol, 1,2-octanediol, 1,8-octanediol, 3,6-octanediol, 1,2,8- , 1,2-nonanediol, 1,9-nonanediol, 1,2,9-nonanthiol, 1,2-decanediol, 1,10-decanediol, 1,2,10- , 2-dodecanediol, 1,12-dodecanediol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, Dipentaerythritol, bisphenol A, bisphenol S, bisphenol F, diethanolamine, and triethanolamine.

이들 중에서도, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올, 및 1,8-옥탄디올이 바람직하고, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 및 1,6-헥산디올이 특히 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 원료로서 포함하는 폴리에스테르아미드산(Ca)은, 용제로의 용해성이 양호하다.Among these, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol and 1,8- -Butanediol, 1,5-pentanediol, and 1,6-hexanediol are particularly preferred. The polyester amide acid (Ca) containing at least one selected from these as a raw material has good solubility in a solvent.

다가 하이드록시 화합물(ca3)은, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the polyhydric hydroxy compound (ca3), the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

<1-3-1-4. 1가 알코올(ca4)><1-3-1-4. Monohydric alcohol (ca4)>

폴리에스테르아미드산(Ca)의 합성에는, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)에 더하여, 1가 알코올(ca4)을 반응시킬 수도 있다.The synthesis of the polyester amide acid (Ca) may be carried out by reacting a monohydric alcohol (ca4) in addition to the tetracarboxylic dianhydride (ca1), the diamine (ca2), and the polyhydric hydroxy compound (ca3).

1가 알코올(ca4)의 구체예는, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로필 알코올, 알릴알코올, 벤질알코올, 하이드록시에틸메타크릴레이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 페놀, 보르네올, 말톨, 리날로올, 테르피네올, 디메틸벤질카르비놀, 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄이다.Specific examples of monohydric alcohols (ca4) include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, allyl alcohol, benzyl alcohol, hydroxyethyl methacrylate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, phenol, borneol, Phenethyl, dimethylbenzylcarbinol, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.

이들 중에서도, 이소프로필알코올, 알릴알코올, 벤질알코올, 하이드록시에틸메타크릴레이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 및 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄이 바람직하고, 벤질알코올이 특히 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 원료로서 포함하는 폴리에스테르아미드산(Ca)은, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)에 대한 상용성(相溶性)이 양호하다.Among these, isopropyl alcohol, allyl alcohol, benzyl alcohol, hydroxyethyl methacrylate, propylene glycol monoethyl ether and 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane are preferable, and benzyl alcohol is particularly preferable. The polyester amide acid (Ca) containing at least one selected from these as a raw material has good compatibility with the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B).

1가 알코올(ca4)은, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the monohydric alcohol (ca4), the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

<1-3-1-5. 스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)><1-3-1-5. Styrene-maleic anhydride copolymer (ca5) >

폴리에스테르아미드산(Ca)의 합성에는, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)에 더하여, 산무수물 기를 3개 이상 가지는 화합물을 반응시킬 수도 있다.In the synthesis of the polyester amide acid (Ca), a compound having three or more acid anhydride groups may be reacted in addition to tetracarboxylic acid dianhydride (ca1), diamine (ca2), and polyhydric hydroxy compound (ca3).

산무수물 기를 3개 이상 가지는 화합물의 구체예는, 스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)이다. 스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)를 부가함으로써, 고분자량 에폭시 화합물(B)과의 상용성을 향상시킬 수 있다. 스티렌/무수말레산의 몰비가 0.5∼4, 바람직하게는 1∼3이며, 구체적으로는, 약 1, 약 2 또는 약 3이 보다 바람직하고, 약 1 또는 약 2가 더욱 바람직하고, 약 1이 특히 바람직하다.A specific example of the compound having three or more acid anhydride groups is styrene-maleic anhydride copolymer (ca5). By adding the styrene-maleic anhydride copolymer (ca5), compatibility with the high molecular weight epoxy compound (B) can be improved. The molar ratio of styrene / maleic anhydride is 0.5 to 4, preferably 1 to 3, more preferably about 1, about 2 or about 3, even more preferably about 1 or about 2, Particularly preferred.

스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)의 시판품의 예는, SMA1000, SMA2000, 및 SMA3000(모두 상품명, 가와하라 유화 가부시키가이샤)이다. 이들 중에서도 용제로의 용해성이 양호한 SMA1000이 특히 바람직하다.Examples of commercially available styrene-maleic anhydride copolymer (ca5) are SMA1000, SMA2000, and SMA3000 (all trade names, manufactured by Kawahara Yuka Co., Ltd.). Of these, SMA1000 having good solubility in a solvent is particularly preferable.

스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)는, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the styrene-maleic anhydride copolymer (ca5), the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

<1-3-2. 카르복실기 함유 공중합체(Cb)><1-3-2. The carboxyl group-containing copolymer (Cb)

상기 카르복실기 함유 공중합체(Cb)는, 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1), 및 다른 라디칼 중합성 모노머(cb2)의 혼합물을 중합하여 얻어지는 중합체이다.The carboxyl group-containing copolymer (Cb) is a polymer obtained by polymerizing a mixture of a radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group and another radically polymerizable monomer (cb2).

본 발명의 열경화 조성물에 함유되는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 시에는, 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1) 및 그 외의 라디칼 중합성 모노머(cb2)의 총중량중, 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)를, 10∼70 중량% 사용하는 것이 바람직하고, 20∼50 중량% 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 이 범위 내에서는, 상기 카르복실기 함유 중합체(Cb)의, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)에 대한 상용성이 높아지고, 상기 카르복실기 함유 중합체를 함유하는 열경화성 조성물의 경화성이 양호하게 된다.In the polymerization of the carboxyl group-containing polymer (Cb) contained in the thermosetting composition of the present invention, among the total weight of the radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group and the other radically polymerizable monomer (cb2) The monomer (cb1) is preferably used in an amount of from 10 to 70% by weight, more preferably from 20 to 50% by weight. Within this range, compatibility of the carboxyl group-containing polymer (Cb) with the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) is enhanced, and the curing property of the thermosetting composition containing the carboxyl group- do.

카르복실기 함유 중합체(Cb)를 본 발명의 열경화성 조성물에 부가하는 방법은, 중합 반응 후의 용액을 그대로 부가할 수도 있고, 상기 용액을 농축하여 고형분을 뽑아내어, 고형분만을 부가할 수도 있다.In the method of adding the carboxyl group-containing polymer (Cb) to the thermosetting composition of the present invention, the solution after the polymerization reaction may be added as it is, or the solid may be extracted by concentrating the solution to add solids only.

<1-3-2-1. 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)><1-3-2-1. Radically polymerizable monomer (cb1) having carboxyl group>

상기 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)는, 1분자 중에, 적어도 1개의 카르복실기를 가지고, 또한 적어도 1개의 라디칼 중합성기를 가지는 화합물이다.The radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group is a compound having at least one carboxyl group in one molecule and at least one radically polymerizable group.

본 발명에서 사용되는 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)의 구체예는, (메타)아크릴산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 및 말레산이다.Specific examples of the radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group used in the present invention include (meth) acrylic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, and maleic acid.

이들 중에서도, (메타)아크릴산, 및 이타콘산이 바람직하고, (메타)아크릴산이 특히 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 포함하는 혼합물을 중합하여 얻어지는 카르복실기 함유 중합체(Cb)를 함유하는 열경화성 조성물은 경화성이 양호하다.Among these, (meth) acrylic acid and itaconic acid are preferable, and (meth) acrylic acid is particularly preferable. A thermosetting composition containing a carboxyl group-containing polymer (Cb) obtained by polymerizing a mixture containing at least one selected from these is good in curability.

카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)는, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group, the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

<1-3-2-2. 다른 라디칼 중합성 모노머(cb2)><1-3-2-2. Other radically polymerizable monomer (cb2)>

다른 라디칼 중합성 모노머(cb2)는, 카르복실기를 가지지 않고, 또한 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)와 공중합 가능한 라디칼 중합성 모노머이면, 특별히 한정되는 것은 아니다.The other radically polymerizable monomer (cb2) is not particularly limited as long as it is a radically polymerizable monomer that does not have a carboxyl group and can be copolymerized with a radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group.

본 발명에서 사용되는 다른 라디칼 중합성 모노머(cb2)는, 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1) 또는 다른 라디칼 중합성 모노머(b2)로서 예시한 것 중에서 선택되는 1개 이상을 사용할 수 있다.As the other radically polymerizable monomer (cb2) used in the present invention, one or more selected from among those exemplified as the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group or the other radically polymerizable monomer (b2) can be used.

이들 중에서도, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 및 N-시클로헥실말레이미드가 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 포함하는 혼합물을 중합하여 얻어지는 카르복실기 함유 중합체(Cb)는, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)과의 상용성이 양호하며, 상기 카르복실기 함유 중합체(Cb)를 포함하는 열경화성 조성물을 사용함으로써, 평탄성이 양호한 경화막을 형성할 수 있다.Among these, glycidyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, Hexylmaleimide is preferred. The carboxyl group-containing polymer (Cb) obtained by polymerizing a mixture containing at least one member selected therefrom has good compatibility with the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B), and the carboxyl group- (Cb), a cured film having a good flatness can be formed.

본 발명에서 사용되는 다른 라디칼 중합성 모노머(cb2)는, 상기한 화합물을 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.As the other radical polymerizable monomer (cb2) used in the present invention, the above-described compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

<1-4. 용제(D)><1-4. Solvent (D)>

본 발명에서 사용하는 용제(D)는, 비점(沸点)이 100∼200 ℃인 화합물 중 적어도 1개, 또는 이 화합물을 20 중량% 이상 함유하는 혼합 용제인 것이 바람직하다. 비점이 100∼200 ℃인 화합물의 구체예는, 물, 아세트산 부틸, 프로피온산 부틸, 락트산 에틸, 옥시아세트산 메틸, 옥시아세트산 에틸, 옥시아세트산 부틸, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 부틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸, 3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸(이하 「MMP」로 약기함), 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부티르산 메틸, 2-옥소부티르산 에틸, 디옥산, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(이하 「PGME」로 약기함), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하 「PGMEA」로 약기함), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르(이하 「EDM」으로 약기함), 톨루엔, 크실렌, γ-부티로락톤, 및 N,N-디메틸아세트아미드이다.The solvent (D) used in the present invention is preferably at least one compound having a boiling point of 100 to 200 캜, or a mixed solvent containing 20% by weight or more of the compound. Specific examples of the compound having a boiling point of 100 to 200 캜 include water, butyl acetate, butyl propionate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, methoxyacetate, , Methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, methyl 3-methoxypropionate (hereinafter abbreviated as MMP), ethyl 3-methoxypropionate, Propoxy propionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, Ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy- Methyl propionate, ethyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutyrate, ethyl 2-oxobutyrate, dioxane, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, Propylene glycol monomethyl ether (hereinafter abbreviated as "PGME"), propylene glycol monomethyl ether (hereinafter abbreviated as "PGME"), propylene glycol monomethyl ether (Hereinafter abbreviated as &quot; PGMEA &quot;), propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, cyclohexanone, cyclopentanone, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol Monomethyl ether acetate, diethylene glycol moiety Diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether (hereinafter referred to as "EDM" ), Toluene, xylene,? -Butyrolactone, and N, N-dimethylacetamide.

이들 중에서도, 락트산 에틸, MMP, 3-에톡시프로피온산 에틸, PGME, PGMEA, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 및 EDM이 바람직하고, MMP, 3-에톡시프로피온산 에틸, PGME, PGMEA, 및 EDM가 특히 바람직하다. 이들로부터 선택되는 1개 이상을 사용하면, 도포 균일성이 양호하게 된다.Among them, ethyl lactate, MMP, ethyl 3-ethoxypropionate, PGME, PGMEA, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate and EDM are preferable, Ethyl 3-ethoxypropionate, PGME, PGMEA and EDM are particularly preferred. By using at least one selected from these, the uniformity of application becomes good.

용제(D)는 에폭시기 함유 중합체(Ba), 폴리에스테르아미드산(Ca) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 반응에 사용한 용제를, 용액으로서 그대로 열경화성 조성물에 사용할 수도 있고, 이 용액에 포함되는 용제 이외에, 희석용 용제(고형분 농도 조정용 용제)를 부가할 수도 있다. 또한, 에폭시기 함유 중합체(Ba), 폴리에스테르아미드산(Ca) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)에 대하여, 중합 반응 후의 용액을 농축하여 뽑아낸 고형분만을 열경화성 조성물에 사용하는 경우, 용제(D)는 열경화성 조성물의 조제시에, 성분(A)∼(C)와 함께 그 전체량이 부가된다.The solvent (D) may be a solvent used for the polymerization reaction of the epoxy group-containing polymer (Ba), the polyester amide acid (Ca) or the carboxyl group-containing polymer (Cb) as a solution in the thermosetting composition as it is, In addition, a diluting solvent (a solvent for adjusting the solid content concentration) may be added. When only the solid component extracted and concentrated from the solution after the polymerization reaction is used for the thermosetting composition with respect to the epoxy group-containing polymer (Ba), the polyester amide acid (Ca) or the carboxyl group-containing polymer (Cb), the solvent (D) Upon preparation of the composition, the total amount thereof is added together with the components (A) to (C).

<1-5. 첨가제><1-5. Additives>

본 발명의 열경화성 조성물은, 도포 균일성, 밀착성, 안정성 등의, 본 발명에서의 열경화성 조성물의 특성을 향상시키는 관점에서 첨가제를 포함할 수도 있다. 첨가물의 예는, 아크릴계, 스티렌계, 폴리에틸렌이민계 및 우레탄계 등의 고분자 분산제; 음이온계, 양이온계, 비이온계 및 불소계 등의 계면활성제; 실리콘 중합체계 도포성 향상제; 실란계 커플링제 및 알루미늄계 커플링제 등의 밀착성 향상제; 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제; 폴리아크릴산 나트륨 등의 응집 방지제; 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B) 이외의 에폭시 화합물; 옥세타닐 화합물, 멜라민 화합물 및 비스아지드 화합물 등의 열가교제; 카르복실 화합물(C) 이외의 카르복실 화합물, 카르본산 무수물, 페놀 화합물, 이미다졸 화합물 등의 에폭시 경화제; 및 힌더드계 페놀 등의 산화 방지제이다.The thermosetting composition of the present invention may contain an additive in view of improving the properties of the thermosetting composition in the present invention such as coating uniformity, adhesion, stability, and the like. Examples of the additives include polymer dispersing agents such as acrylic type, styrene type, polyethylene imine type and urethane type; Surfactants such as anionic, cationic, nonionic, and fluoric surfactants; Silicone polymerization system application property improving agent; Adhesion-improving agents such as silane-based coupling agents and aluminum-based coupling agents; Ultraviolet absorbers such as alkoxybenzophenones; An anti-aggregation agent such as sodium polyacrylate; An epoxy compound other than the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B); Thermosetting agents such as oxetanyl compounds, melamine compounds and bisazide compounds; Epoxy curing agents such as carboxyl compounds other than the carboxyl compound (C), carboxylic anhydrides, phenol compounds and imidazole compounds; And an antioxidant such as a hindered phenol.

첨가제의 첨가량은, 저분자량 에폭시 화합물(A), 고분자량 에폭시 화합물(B), 및 카르복실 화합물(C)의 합계 100 중량부에 대하여 20 중량부 이하이면, 본 발명의 목적을 해치지 않고, 열경화성 조성물의 특성을 향상시키므로 바람직하다.If the amount of the additive added is 20 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total of the low molecular weight epoxy compound (A), the high molecular weight epoxy compound (B) and the carboxyl compound (C), the object of the present invention is not impaired, It is preferable to improve the properties of the composition.

고분자 분산제, 계면활성제, 및 도포성 향상제의 구체예는, 폴리 플로우 No.45, 폴리 플로우 KL-245, 폴리 플로우 No.75, 폴리 플로우 No.90, 및 폴리 플로우 No.95(모두 상품명, 쿄에이샤 화학 가부시키가이샤), 디스퍼베이크(Disperbyk) 161, 디스퍼베이크 162, 디스퍼베이크 163, 디스퍼베이크 164, 디스퍼베이크 166, 디스퍼베이크 170, 디스퍼베이크 180, 디스퍼베이크 181, 디스퍼베이크 182, BYK-300, BYK-306, BYK-310, BYK-320, BYK-330, BYK-342, 및 BYK-346(모두 상품명, 빅케미·재팬 가부시키가이샤), KP-341, KP-358, KP-368, KF-96-50CS, 및 KF-50-100CS(모두 상품명, 신에쓰 화학공업 가부시키가이샤), 서플론 S-611, 서플론 SC-101, 및 서플론 KH-40(모두 상품명, AGC 세이미 케미컬 가부시키가이샤), 프타젠트 222 F, 프타젠트 251, DFX-18, 및 FTX-218(모두 상품명, 가부시키가이샤 네오스), EFTOP EF-351, EFTOP EF-352, EFTOP EF-601, EFTOP EF-801, 및 EFTOP EF-802(모두 상품명, 미쓰비시 머티리얼 가부시키가이샤), 메가팩 F-444, 메가팩 F-430, 메가팩 F-477, 메가팩 F-552, 메가팩 F-553, 메가팩 F-554, 메가팩 F-555, 메가팩 F-556, 메가팩 F-557, 메가팩 F-558, 메가팩 F-559, 메가팩 F-561, 메가팩 F-562, 메가팩 R-40, 메가팩 R-40, 메가팩 RS-72-K, 메가팩 RS-75, 메가팩 RS-76-E, 메가팩 RS-76-NS, 및 메가팩 RS-77(모두 상품명, DIC 가부시키가이샤), 플루오로알킬벤젠술폰산염, 플루오로알킬카르본산염, 플루오로알킬폴리옥시에틸렌에테르, 플로오로알킬암모늄요디드, 플루오로 알킬 베타인, 플루오로알킬술폰산염, 디글리세린테트라키스(플루오로알킬폴리옥시에틸렌에테르), 플루오로알킬트리메틸암모늄염, 플루오로알킬아미노술폰산염, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르, 폴리옥시에틸렌세틸에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌라우레이트, 폴리옥시에틸렌올레이트, 폴리옥시에틸렌스테아레이트, 폴리옥시에틸렌라우릴아민, 소르비탄라우레이트, 소르비탄팔미테이트, 소르비탄스테아레이트, 소르비탄올레이트, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄라우레이트, 폴리옥시에틸렌소르비탄팔미테이트, 폴리옥시에틸렌소르비탄스테아레이트, 폴리옥시에틸렌소르비탄올레이트, 폴리옥시에틸렌나프틸에테르, 알킬벤젠술폰산염, 및 알킬디페닐에테르디술폰산염이다.Specific examples of the polymer dispersing agent, surfactant, and coating property improving agent are Polyflow No.45, Polyflow KL-245, Polyflow No. 75, Polyflow No. 90, and Polyflow No. 95 Disperbyk 161, Disper Bake 162, Disper Bake 163, Disper Bake 164, Disper Bake 166, Disper Bake 170, Disper Bake 180, Disper Bake 181 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) BYK-346 and BYK-346 (all trade names, manufactured by Big Chemical Japan K.K.), KP-341 (trade name, , KP-358, KP-368, KF-96-50CS and KF-50-100CS (all trade names, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Surplon S-611, Surplon SC- , EFTOP EF-351, EFTOP EF-35 (all trade names, product of AGC Seiyaku Chemical Co., Ltd.), Phtogent 222 F, Ptagent 251, DFX-18 and FTX- 352, EFTOP EF-601, EFTOP EF-801, and EFTOP EF-802 (all trade names, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), Megapack F-444, Megapack F-430, Megapack F- F-551, Megafac F-551, Megapac F-555, Megapac F-556, Megapac F-557, Megapac F- MegaPack RS-76, RS-76, RS-76, RS-76, RS-76, 77 (all trade names, manufactured by DIC K.K.), fluoroalkylbenzenesulfonic acid salts, fluoroalkylcarboxylic acid salts, fluoroalkyl polyoxyethylene ethers, fluoroalkylammonium iodides, fluoroalkyl betaines, (Fluoroalkylpolyoxyethylene ether), a fluoroalkyltrimethylammonium salt, a fluoroalkylaminosulfonate salt, a polyoxyethylene nonylphenyl ether, a polyoxyethylene octylphenyl ether, a polyoxyethyl Alkyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene laurate, polyoxyethylene oleate, poly Polyoxyethylene laurylamine, sorbitan palmitate, sorbitan stearate, sorbitan oleate, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan laurate, polyoxyethylene sorbitan Palmitate, polyoxyethylene sorbitan stearate, polyoxyethylene sorbitan oleate, polyoxyethylene naphthyl ether, alkyl benzene sulfonate, and alkyl diphenyl ether disulfonate.

밀착성 향상제의 구체예는, 실란계 커플링제인, 3-글리시딜옥시프로필디메틸에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디에톡시실란, 및 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란; 및 알루미늄계 커플링제인, 아세토알콕시알루미늄디이소프로필레이트, 티타네이트계 커플링제인, 테트라이소프로필비스(디옥틸포스파이트)티타네이트이다.Specific examples of the adhesion improver include 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, which are silane-based coupling agents; And tetraisopropyl bis (dioctylphosphite) titanate, which is an aluminum-based coupling agent, acetoalkoxyaluminum diisopropylate, and a titanate-based coupling agent.

저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B) 이외의 에폭시 화합물의 구체예는, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 및 2관능 지환식 지방족 에폭시 화합물이다.Specific examples of the epoxy compound other than the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) are a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, and a bifunctional alicyclic aliphatic epoxy compound.

저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B) 이외의 에폭시 화합물로서는, 하기와 같은 시판품을 사용할 수 있다. 비스페놀 A형 에폭시 화합물의 구체예는, jER 828, 1004, 및 1009(모두 상품명, 미쓰비시가가쿠 가부시키가이샤)이다. 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 구체예는, jER 806 및 4005P(모두 상품명, 미쓰비시가가쿠 가부시키가이샤)이다. 2관능 지환식 지방족 에폭시 화합물의 구체예는, 셀록사이드 2021P(상품명, 가부시키가이샤 다이셀)이다.As the epoxy compounds other than the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B), commercially available products such as the following may be used. Specific examples of the bisphenol A type epoxy compound are jER 828, 1004, and 1009 (all trade names, Mitsubishi Kagaku Kogyo Co.). Specific examples of the bisphenol F type epoxy compound are jER 806 and 4005P (both trade names, Mitsubishi Kagaku Kogyo Co.). A specific example of the bifunctional alicyclic aliphatic epoxy compound is Celloxide 2021P (trade name, Daicel K.K.).

에폭시 경화제의 구체예는, 카르복실 화합물(C) 이외의 카르복실 화합물인, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 시트라콘산, 2,3-디메틸말레산, 1,2-시클로헥산디카르본산, 4-메틸-1,2-시클로헥산 디카르본산, 1-시클로헥센-1,2-디카르본산, 4-시클로헥센-1,2-디카르본산, 4-메틸-4-시클로헥센-1,2-디카르본산, 3-메틸-4-시클로헥센-1,2-디카르본산, 5-노르보르넨-2,3-디카르본산, 비시클로[2.2.2]옥토-5-엔2,3-디카르본산, 프탈산, 4-메틸프탈산, 3-메틸프탈산, 2,3-나프탈렌디카르본산, 1,2-나프탈산, 글루타르산, 3-메틸글루타르산, 3,3-디메틸글루타르산, 2,2-디메틸글루타르산, 1,1-시클로펜탄 이아세트산, 및 N-프탈로일-DL-글루타민산; 카르본산 무수물인, 숙신산 무수물, 무수말레산, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물, 2,3-디메틸말레산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-메틸-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 1-시클로헥센-1,2-디카르본산 무수물, 4-시클로헥센-1,2-디카르본산 무수물, 4-메틸-4-시클로헥센-1,2-디카르본산 무수물, 3-메틸-4-시클로헥센-1,2-디카르본산 무수물, 5-노르보르넨-2,3-디카르본산 무수물, 비시클로[2.2.2]옥토-5-엔-2,3-디카르본산 무수물, 프탈산 무수물, 4-메틸프탈산 무수물, 3-메틸프탈산 무수물, 2,3-나프탈렌디카르본산 무수물, 1,2-나프탈산 무수물, 글루타르산 무수물, 3-메틸글루타르산 무수물, 3,3-디메틸글루타르산 무수물, 2,2-디메틸글루타르산 무수물, 1,1-시클로펜탄 이아세트산 무수물, N-프탈로일-DL-글루타민산 무수물, 및 트리멜리트산 무수물; 및 이미다졸 화합물인, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2,3-디하이드로-1H-피롤로[1,2-a]벤즈이미다졸, 및 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸륨트리멜리테이트이다.Specific examples of the epoxy curing agent include a carboxyl compound other than the carboxyl compound (C), such as succinic acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, 2,3-dimethylmaleic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, Cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 4-methylhexane-1,2-dicarboxylic acid, 4-methyl-4-cyclohexene- Dicarboxylic acid, 3-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] 3-methylphthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 1,2-naphthalic acid, glutaric acid, 3-methylglutaric acid, 3,3-dicarboxylic acid, Dimethylglutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, 1,1-cyclopentanediacetic acid, and N-phthaloyl-DL-glutamic acid; Examples of the carboxylic anhydrides include succinic anhydride, maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, 2,3-dimethyl maleic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-methyl- Cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 4-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, Cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, bicyclo [2.2.2] 3-methylphthalic anhydride, 2,3-naphthalene dicarboxylic anhydride, 1,2-naphthalic anhydride, glutaric anhydride, 3-methylglutaric anhydride, 3-dicarboxylic anhydride, phthalic anhydride, Acid anhydride, 3,3-dimethylglutaric anhydride, 2,2-dimethylglutaric anhydride, 1,1-cyclopentanedic acetic anhydride, N-phthaloyl-DL-glutamic acid anhydride, and trimellitic anhydride; And imidazole compounds such as 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,3-dihydro- 2-a] benzimidazole, and 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate.

힌더드계 페놀 등의 산화 방지제로서는, 페놀의 OH의 오르토 위치에 tert-부틸을 가지고, 또한 알킬기 등의 치환기를 가질 수도 있는 화합물, 및 파라 위치의 2가의 유기기를 통하여 파라 위치에서 결합하는 상기 화합물의 2∼4 량체와 같은 공지의 화합물이 사용된다. 시판품의 예는, 아데카스타브 AO-60(상품명, 가부시키가이샤 ADEKA)이다.Examples of the antioxidant such as a hindered phenol include a compound having tert-butyl at the ortho position of the phenol OH and having a substituent such as an alkyl group and a compound capable of having a substituent at the para position via a para- Known compounds such as 2- to 4-mer are used. An example of a commercially available product is adecastab AO-60 (trade name, ADEKA).

<1-6. 에폭시기 함유 중합체(Ba) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 제조 방법><1-6. Process for producing epoxy group-containing polymer (Ba) or carboxyl group-containing polymer (Cb)

에폭시기 함유 중합체(Ba) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 방법은 특별히 한정되지 않지만, 용제를 사용한 용액 중에서의 라디칼 중합이 바람직하다. 중합 온도는 사용하는 중합 개시제로부터 라디칼이 충분히 발생하는 온도이면 특별히 한정되지 않지만, 통상 50∼150 ℃의 범위이다. 중합 시간도 특별히 한정되지 않지만, 통상 1∼24 시간의 범위이다. 또한, 상기 중합은, 가압, 감압 또는 대기압의 어느 압력 하에서도 행할 수 있다.The polymerization method of the epoxy group-containing polymer (Ba) or the carboxyl group-containing polymer (Cb) is not particularly limited, but radical polymerization in a solution using a solvent is preferred. The polymerization temperature is not particularly limited as long as radicals are sufficiently generated from the polymerization initiator to be used, but is usually in the range of 50 to 150 캜. The polymerization time is not particularly limited, but is usually in the range of 1 to 24 hours. The polymerization can be carried out under any pressure of a pressure, a reduced pressure or an atmospheric pressure.

<1-6-1. 에폭시기 함유 중합체(Ba) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 반응에 사용하는 용제><1-6-1. Solvent used for polymerization reaction of epoxy group-containing polymer (Ba) or carboxyl group-containing polymer (Cb)

에폭시기 함유 중합체(Ba)의 중합 반응에 사용하는 용제는, 사용하는 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1), 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2), 및 생성하는 에폭시기 함유 중합체(Ba)를 용해하는 용제가 바람직하다. 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 반응에 사용하는 용제는, 사용하는 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1), 그 외의 라디칼 중합성 모노머(cb2), 및 생성하는 카르복실기 함유 중합체(Cb)를 용해하는 용제가 바람직하다. 이하에서, 중합 반응에 사용하는 용제를 「중합 용제」로 칭하는 경우가 있다.The solvent used in the polymerization reaction of the epoxy group-containing polymer (Ba) is preferably a solvent which dissolves the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group to be used, the other radically polymerizable monomer (b2), and the epoxy group- Solvents are preferred. The solvent used in the polymerization reaction of the carboxyl group-containing polymer (Cb) is preferably a solvent which dissolves the radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group to be used, the other radically polymerizable monomer (cb2) and the resulting carboxyl group-containing polymer (Cb) Solvents are preferred. Hereinafter, the solvent used in the polymerization reaction may be referred to as a &quot; polymerization solvent &quot;.

에폭시기 함유 중합체(Ba) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 반응에 사용되는 용제의 구체예는, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 아세톤, 2-부타논, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 테트라하이드로퓨란, 아세토니트릴, 디옥산, 톨루엔, 크실렌, 시클로헥사논, MMP, 3-에톡시프로피온산 메틸, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, PGME, PGMEA, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, EDM, 시클로펜타논, 시클로헥사논, N-메틸-2-피롤리돈, 및 N,N-디메틸포름아미드이다. 중합 용제는 단독으로 사용할 수도 있고, 2개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the solvent to be used for the polymerization reaction of the epoxy group-containing polymer (Ba) or the carboxyl group-containing polymer (Cb) include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, acetone, 2-butanone, But are not limited to, tetrahydrofuran, acetonitrile, dioxane, toluene, xylene, cyclohexanone, MMP, methyl 3-ethoxypropionate, ethylene glycol monoethyl ether, PGME, PGMEA, diethylene glycol dimethyl ether, EDM, cyclopentanone, Hexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, and N, N-dimethylformamide. The polymerization solvent may be used alone or in admixture of two or more.

이들 중에서도, MMP, PGME, PGMEA, 및 EDM이 바람직하다.Of these, MMP, PGME, PGMEA and EDM are preferred.

<1-6-2. 에폭시기 함유 중합체(Ba) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 반응에 사용하는 중합 개시제><1-6-2. Polymerization initiator used in the polymerization reaction of the epoxy group-containing polymer (Ba) or the carboxyl group-containing polymer (Cb)

에폭시기 함유 중합체(Ba) 또는 카르복실기 함유 중합체(Ca)의 중합에는, 공지의 중합 개시제를 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용되는 에폭시기 함유 중합체(Ba)의 중합에 사용하는 중합 개시제, 및 카르복실기 함유 중합체(Ca)의 중합에 사용하는 중합 개시제에는, 열에 의해 라디칼을 발생하는 화합물, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조계 개시제, 및 과산화 벤조일 등의 과산화물계 개시제로부터 적절하게 선택된 적어도 1개의 화합물이 사용된다. 상기 라디칼 중합 반응에서는, 생성하는 에폭시기 함유 중합체(Ba), 및 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 분자량을 조절하기 위하여, 티오글리콜산 등의 연쇄 이동제를 적량 첨가할 수도 있다.For polymerization of the epoxy group-containing polymer (Ba) or the carboxyl group-containing polymer (Ca), known polymerization initiators can be used. The polymerization initiator used in the polymerization of the epoxy group-containing polymer (Ba) and the polymerization initiator used in the polymerization of the carboxyl group-containing polymer (Ca) used in the present invention include a compound capable of generating a radical by heat, azobisisobutyronitrile Based initiator, and an peroxide-based initiator such as benzoyl peroxide. In the radical polymerization, a chain transfer agent such as thioglycolic acid may be added in an appropriate amount to control the molecular weight of the resulting epoxy group-containing polymer (Ba) and the carboxyl group-containing polymer (Cb).

<1-6-3. 에폭시기 함유 중합체(Ba) 또는 카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중량 평균 분자량><1-6-3. Weight average molecular weight of epoxy group-containing polymer (Ba) or carboxyl group-containing polymer (Cb)>

얻어진 에폭시기 함유 중합체(Ba)의 중량 평균 분자량은, 30,000∼300,000인 것이 바람직하고, 40,000∼100,000이 더욱 바람직하다. 전술한 범위에 있으면, 이물질 추종성이 보다 양호하게 된다.The weight-average molecular weight of the obtained epoxy group-containing polymer (Ba) is preferably 30,000 to 300,000, and more preferably 40,000 to 100,000. Within the above-mentioned range, foreign matter followability becomes better.

카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중량 평균 분자량은 1,000∼100,000인 것이 바람직하고, 3,000∼20,000이 더욱 바람직하다. 전술한 범위에 있으면, 도포 후의 막 두께 균일성이 보다 양호하게 된다.The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing polymer (Cb) is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 20,000. Within the above-mentioned range, the film thickness uniformity after coating becomes better.

본 명세서 중의 중량 평균 분자량은, GPC법(컬럼 온도: 35℃, 유속(流速): 1 mL/min)에 의해 구한 폴리스티렌 환산에서의 값이다. 표준 폴리스티렌에는 분자량이 645∼132,900인 폴리스티렌(예를 들면, Agilent S-M2-10 폴리스티렌 교정 키트 PL2010-0102(상품명, 아질렌트·테크놀로지 가부시키가이샤)), 컬럼에는 PLgel MIXED-D(상품명, 아질렌트·테크놀로지 가부시키가이샤)를 사용하고, 이동상으로서 THF를 사용하여 측정할 수 있다. 그리고, 본 명세서 중의 시판품의 중량 평균 분자량은 카탈로그 게재값이다.The weight average molecular weight in the present specification is a value in terms of polystyrene determined by GPC method (column temperature: 35 ° C, flow rate: 1 mL / min). Polystyrene having a molecular weight of 645 to 132,900 (for example, Agilent S-M2-10 polystyrene calibration kit PL2010-0102 (trade name, manufactured by Agilent Technologies, Inc.)) as the standard polystyrene, PLgel MIXED-D (trade name, (Manufactured by Rent Technology Co., Ltd.) and THF as a mobile phase. The weight average molecular weight of a commercial product in the present specification is a catalog value.

본 발명의 열경화성 조성물은, 온도 -30∼25 ℃의 범위에서 차광하여 보존하면 조성물의 경시 안정성이 양호하다. 보존 온도가 -20∼10 ℃이면, 경시 안정성이 더욱 양호하다.When the thermosetting composition of the present invention is shaded and stored at a temperature in the range of -30 to 25 占 폚, the stability of the composition over time is satisfactory. When the storage temperature is -20 to 10 占 폚, the stability over time is better.

<1-7. 폴리에스테르아미드산(Ca)의 제조 방법><1-7. Process for producing polyester amide acid (Ca)

상기 폴리에스테르아미드산(Ca)의 제조 방법은, 테트라카르본산 이무수물(ca1) X몰, 디아민(ca2) Y몰, 및 다가 하이드록시 화합물(ca3) Z몰을 용제 중에서 반응시킨다. 이 때 X, Y, 및 Z는 이들 사이에 하기 식(C-11) 및 식(C-12)의 관계가 성립하도록 한 비율로 정하는 것이 바람직하다. 이 범위 내이면, 폴리에스테르아미드산(Ca)의 용제로의 용해성이 보다 양호하게 되고, 따라서 조성물의 도포성이 향상되고, 그 결과, 막 두께 균일성이 더욱 우수한 경화막을 얻을 수 있다.In the production method of the polyester amide acid (Ca), X mole of tetracarboxylic dianhydride (ca1), Y mole of diamine (ca2), and Z mole of polyhydric hydroxy compound (ca3) are reacted in a solvent. In this case, it is preferable that X, Y, and Z are defined as a ratio in which the relationship of the following formulas (C-11) and (C-12) is established between them. Within this range, the solubility of the polyester amide acid (Ca) in the solvent becomes better, and thus the coatability of the composition is improved, and as a result, a cured film having more uniform film thickness can be obtained.

0.2≤Z/Y≤8.0···(C-11)0.2? Z / Y? 8.0 (C-11)

0.2≤(Y+Z)/X≤1.5···(C-12)0.2? (Y + Z) /X? 1.5 (C-12)

식(C-11)의 관계는, 바람직하게는 0.7≤Z/Y≤7.0이며, 더욱 바람직하게는 1.3≤Z/Y≤7.0이다. 또한, 식(C-12)의 관계는, 바람직하게는 0.5≤(Y+Z)/X≤1.2이며, 더욱 바람직하게는 0.7≤(Y+Z)/X≤1.0이다.The relationship of the formula (C-11) is preferably 0.7? Z / Y? 7.0, more preferably 1.3? Z / Y? 7.0. The relationship of the formula (C-12) is preferably 0.5? (Y + Z) / X? 1.2, more preferably 0.7? (Y + Z) / X? 1.0.

이하에서, 폴리에스테르아미드산(Ca)의 원료인 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 다가 하이드록시 화합물(ca3), 1가 알코올(ca4), 및 (ca5)의 일부 또는 전부를 「반응 원료」로 칭하는 경우가 있다.Hereinafter, a part or all of the tetracarboxylic acid dianhydride (ca1), diamine (ca2), polyhydric hydroxy compound (ca3), monohydric alcohols (ca4) and (ca5), which are raw materials of the polyester amide acid May be referred to as &quot; reaction raw materials &quot;.

상기 폴리에스테르아미드산(Ca)이, 분자 말단에 산무수물 기를 가지고 있는 경우에는, 필요에 따라, 전술한 1가 알코올(ca4)을 첨가하여 반응시킬 수 있다. 1가 알코올(ca4)을 첨가하여 반응함으로써 얻어진 폴리에스테르아미드산(Ca)은, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)에 대한 상용성이 개선될 뿐만 아니라, 이들을 포함하는 본 발명의 열경화성 조성물의 도포성이 개선된다.When the polyester amide acid (Ca) has an acid anhydride group at the molecular end, the reaction can be carried out by adding the above-described monohydric alcohol (ca4), if necessary. The polyester amide acid (Ca) obtained by reacting with a monohydric alcohol (ca4) is not only improved in compatibility with the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) The applicability of the thermosetting composition of the present invention is improved.

폴리에스테르아미드산(Ca)의 중합 반응에 사용되는 용제량의 바람직한 범위는, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)의 합계 100 중량부에 대하여 100 중량부 이상이다. 이 범위 내에서는, 반응이 원활하게 진행되므로 바람직하다. 폴리에스테르아미드산(Ca)의 중합 반응의 바람직한 반응 온도 및 반응 시간은, 각각 40∼200 ℃, 및 0.2∼20 시간이다. 1가 알코올(cb4)은 반응의 어떤 시점에서 첨가해도 된다.The preferable range of the solvent used in the polymerization reaction of the polyester amide acid (Ca) is 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of tetracarboxylic dianhydride (ca1), diamine (ca2), and polyhydric hydroxy compound (ca3) Parts by weight or more. Within this range, the reaction proceeds smoothly, which is preferable. The preferred reaction temperature and reaction time for the polymerization reaction of the polyester amide acid (Ca) are 40 to 200 占 폚 and 0.2 to 20 hours, respectively. The monohydric alcohol (cb4) may be added at any point in the reaction.

반응 원료의 반응계로의 첨가 순서는, 특별히 한정되지 않는다. 즉, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 동시에 반응 용제에 부가하는 방법, 디아민(ca2) 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 반응 용제 중에서 용해시킨 후, 테트라카르본산 이무수물(ca1)을 첨가하는 방법, 테트라카르본산 이무수물(ca1) 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 미리 반응시킨 후, 그 반응 생성물에 디아민(ca2)을 첨가하는 방법, 또는 테트라카르본산 이무수물(ca1) 및 디아민(ca2)을 미리 반응시킨 후, 그 반응 생성물에 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 첨가하는 방법 등 어느 방법도 사용할 수 있다.The order of addition of the reaction raw materials to the reaction system is not particularly limited. That is, a method of simultaneously adding a tetracarboxylic dianhydride (ca1), a diamine (ca2), and a polyhydroxy compound (ca3) to a reaction solvent, a method of dissolving a diamine (ca2) and a polyhydric hydroxy compound (ca3) (Ca1), tetracarboxylic dianhydride (ca1) and polyhydric hydroxy compound (ca3) are preliminarily reacted with a tetracarboxylic dianhydride (ca1) and then a diamine (ca2) is added to the reaction product , Or a method in which tetracarboxylic dianhydride (ca1) and diamine (ca2) are preliminarily reacted and then a polyhydric hydroxy compound (ca3) is added to the reaction product.

이와 같이 하여 합성된 폴리에스테르아미드산(Ca)은, 하기 일반식(C-13) 및 일반식(C-14)으로 이루어지는 구성 단위를 포함하고, 그 말단은 원료인 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 또는 다가 하이드록시 화합물(ca3)로부터 유래하는, 산무수물 기, 아미노 기, 또는 하이드록시 기이거나, 또는 이들 화합물 이외의 첨가물이 그 말단을 구성하는 것이 바람직하다. 일반식(C-13) 및 일반식 (C-14)에 있어서, R11은 테트라카르본산 이무수물(ca1) 잔기이며, 바람직하게는 탄소수 2∼30의 유기기이다. R12는 디아민(ca2) 잔기이며, 바람직하게는 탄소수 2∼30의 유기기이다. R13은 다가 하이드록시 화합물(ca3) 잔기이며, 바람직하게는 탄소수 2∼20의 유기기이다.The polyester amide acid (Ca) thus synthesized contains a constitutional unit comprising the following general formula (C-13) and the general formula (C-14), and its terminal is a tetracarboxylic dianhydride (ca1 , An amino group, or a hydroxy group derived from a diamine (c), a diamine (ca2), or a polyhydric hydroxy compound (ca3), or an additive other than these compounds constitute the terminal. In the general formulas (C-13) and (C-14), R 11 is a residue of a tetracarboxylic dianhydride (ca1), preferably an organic group having 2 to 30 carbon atoms. R 12 is a diamine (ca 2) residue, preferably an organic group having 2 to 30 carbon atoms. R 13 is a residue of a polyhydric hydroxy compound (ca 3), preferably an organic group having 2 to 20 carbon atoms.

Figure pat00004
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<1-8-1. 폴리에스테르아미드산(Ca)의 중합 반응에 사용하는 용제><1-8-1. Solvent used for polymerization reaction of polyester amide acid (Ca)

본 발명에서 사용되는 폴리에스테르아미드산(Ca)을 얻기 위한 중합 반응에 사용하는 용제의 구체예는, 락트산 에틸, MMP, 3-에톡시프로피온산 메틸, PGMEA, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, EDM, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, N-메틸-2-피롤리돈, 및 N,N-디메틸아세트아미드이다.Specific examples of the solvent used in the polymerization reaction for obtaining the polyester amide acid (Ca) used in the present invention include ethyl lactate, MMP, methyl 3-ethoxypropionate, PGMEA, diethylene glycol dimethyl ether, EDM, diethylene Glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, and N, N-dimethylacetamide.

이들 중에서도, MMP, PGMEA, 및 EDM가 바람직하다.Of these, MMP, PGMEA and EDM are preferable.

상기 중합 반응에 사용하는 용제는 단독으로, 또는 2개 이상의 혼합 용제로서 사용할 수 있다. 또한, 30 중량% 이하의 비율이면 상기 용제 이외에 다른 용제를 혼합하여 사용할 수도 있다.The solvent used in the polymerization reaction may be used alone or in combination of two or more. If the proportion is 30% by weight or less, a solvent other than the above-mentioned solvent may be mixed and used.

<1-8-2. 폴리에스테르아미드산(Ca)의 중량 평균 분자량><1-8-2. Weight average molecular weight of polyester amide acid (Ca) >

얻어진 폴리에스테르아미드산(Ca)의 중량 평균 분자량은 1,000∼50,000인 것이 바람직하고, 3,000∼25,000이 더욱 바람직하다. 전술한 범위에 있으면, 도포 후의 막 두께 균일성이 양호하게 된다.The weight average molecular weight of the resulting polyester amide acid (Ca) is preferably 1,000 to 50,000, more preferably 3,000 to 25,000. Within the above-mentioned range, the film thickness uniformity after coating becomes good.

<1-9. 에폭시기 함유 공중합체(Ba), 폴리에스테르아미드산(Ca), 카르복실기 함유 공중합체(Cb), 및 열경화성 조성물의 보존><1-9. Storage of epoxy group-containing copolymer (Ba), polyester amide acid (Ca), carboxyl group-containing copolymer (Cb), and thermosetting composition>

에폭시기 함유 공중합체(Ba), 폴리에스테르아미드산(Ca), 카르복실기 함유 공중합체(Cb), 및 열경화성 조성물은, 온도 -30∼25 ℃의 범위에서 차광하여 보존하면 조성물의 경시 안정성이 양호하게 되므로 바람직하다. 보존 온도가 -20∼10 ℃이면, 석출물도 없어 더욱 바람직하다.When the epoxy group-containing copolymer (Ba), the polyester amide acid (Ca), the carboxyl group-containing copolymer (Cb) and the thermosetting composition are stored at a temperature in the range of -30 to 25 占 폚, desirable. If the storage temperature is -20 to 10 占 폚, no precipitate is more preferable.

<1-10. 열경화성 조성물의 효과><1-10. Effect of thermosetting composition >

본 발명의 열경화성 조성물은, 예를 들면, 경화막에 대하여 일반적으로 요구되고 있는 높은 광투과성, 높은 내약품성, 베이스부와의 높은 밀착성 등의 각종 특성을 가진다.The thermosetting composition of the present invention has various properties such as high light transmittance, high chemical resistance, and high adhesion with the base portion which are generally required for a cured film, for example.

본 발명의 열경화성 조성물을 경화함으로써 얻어지는 경화막은 높은 평탄성 및 높은 이물질 추종성을 가진다. 따라서 본 발명의 열경화성 조성물은, 표시 장치의 표시 품위를 유지하면서, 제조 시의 수율을 향상시키는 효과를 얻을 수 있다.The cured film obtained by curing the thermosetting composition of the present invention has high flatness and high foreign matter followability. Therefore, the thermosetting composition of the present invention can obtain the effect of improving the yield at the time of production while maintaining the display quality of the display device.

<2. 본 발명의 경화막><2. The cured film of the present invention>

본 발명의 경화막은, 본 발명의 열경화성 조성물을 가열함으로써 얻어진다. 본 발명의 열경화성 조성물은, 단차를 평탄화하는 능력이 높고, 이물질을 추종하는 능력이 높은 경화막을 형성하기에 적합하며, 컬러 필터에 사용할 수도 있다. 예를 들면, 컬러 필터의 보호막으로서 사용하는 것이 바람직하다.The cured film of the present invention is obtained by heating the thermosetting composition of the present invention. The thermosetting composition of the present invention is suitable for forming a cured film having a high ability of flattening a level difference and capable of following foreign substances, and can be used for a color filter. For example, it is preferably used as a protective film of a color filter.

그리고, 컬러 필터란, 가시광 중 특정한 파장역을 통과시키면서 특정한 파장역을 통과시키지 않는 필터이다. 표시 소자에 사용되는 컬러 필터로서는, 기판 상에 적어도 3원색의 화소(적(R), 녹(G), 청(B)), 및 이들을 구분하는 차광 영역(블랙 매트릭스)이 형성되어 이루어지는 것이며, 또한 보호막 및 투명 전극이 적층되어 있는 것도 있다. 컬러 필터는 공지의 방법에 의해 얻을 수 있다.The color filter is a filter that does not pass a specific wavelength region while passing a specific wavelength region of visible light. The color filter used in the display element is formed by forming pixels (red (R), green (G), and blue (B)) of at least three primary colors and a light shielding region (black matrix) In some cases, a protective film and a transparent electrode are laminated. The color filter can be obtained by a known method.

본 발명의 열경화성 조성물을 가열하여 경화시킴으로써 얻어지는 경화막은, 레지스트 분야에 있어서 중합체 막을 형성하는 통상적인 방법으로 형성할 수 있고, 예를 들면, 하기와 같이 형성된다.The cured film obtained by heating and curing the thermosetting composition of the present invention can be formed by a conventional method for forming a polymer film in a resist field, and is formed, for example, as follows.

<2-1. 도막의 형성><2-1. Formation of Coating Film>

먼저, 본 발명의 열경화성 조성물을 스핀 코팅, 롤 코팅, 슬릿 코팅 등의 공지의 방법에 의해, 유리 등의 기판 상에 도포하고, 도막을 형성한다. 다음으로, 기판 상의 열경화성 조성물의 도막을 핫 플레이트 또는 오븐에서 건조시킨다. 통상, 60∼150 ℃에서 1∼10 분간 건조시킨다. 기판으로서는, 예를 들면, 백판 유리, 청판 유리, CRT 청판 유리 등의 투명 유리 기판, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리에스테르, 아크릴 중합체, 염화 비닐 중합체, 방향족 폴리아미드 중합체, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등의 합성 중합체제 시트, 필름 또는 기판, 알루미늄판, 동판, 니켈판, 스테인레스판 등의 금속 기판, 그 외에 세라믹판, 광전 변환 소자를 가지는 반도체 기판이 있다. 이들 기판에는 원하는 바에 따라, 실란 커플링제 등의 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등의 전처리(前處理)를 행할 수 있다.First, the thermosetting composition of the present invention is coated on a substrate such as glass by a known method such as spin coating, roll coating, or slit coating to form a coating film. Next, the coating film of the thermosetting composition on the substrate is dried in a hot plate or an oven. Normally, it is dried at 60 to 150 DEG C for 1 to 10 minutes. As the substrate, for example, a transparent glass substrate such as a white plate glass, a glass plate glass, a CRT glass plate glass, or the like, a polycarbonate, a polyether sulfone, a polyester, an acrylic polymer, a vinyl chloride polymer, an aromatic polyamide polymer, a polyamideimide, A film or a substrate, a metal plate such as an aluminum plate, a copper plate, a nickel plate, or a stainless plate, or a semiconductor plate having a ceramic plate or a photoelectric conversion element. These substrates can be subjected to pretreatment such as chemical treatment such as silane coupling agent, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction, vacuum deposition, etc., as desired.

<2-2. 소성(燒成)><2-2. Firing>

기판 상의 상기 막은, 마지막으로, 통상 100∼250 ℃에서 10∼120 분간 소성된다. 상기 소성 공정에서 가열함으로써, 경화막을 얻을 수 있다. 소성 조건은, 바람직하게는, 130∼240 ℃에서 15∼40 분간 행한다.The film on the substrate is finally baked at 100 to 250 DEG C for 10 to 120 minutes. By heating in the firing step, a cured film can be obtained. The firing conditions are preferably carried out at 130 to 240 캜 for 15 to 40 minutes.

[실시예][Example]

이하에서, 실시예에 의해 본 발명을 더 설명하지만, 본 발명은 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be further described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

합성예, 비교 합성예, 참고예, 실시예, 및 비교예에서 사용한 화합물을 성분마다 기재한다.Compounds used in Synthesis Examples, Comparative Synthesis Examples, Reference Examples, Examples, and Comparative Examples are listed in each component.

저분자량 에폭시 화합물(A):Low molecular weight epoxy compound (A):

A-1: 테크모어 VG3101L(상품명, 가부시키가이샤 프린테크) A-1: TECHMORE VG3101L (trade name, PRINTECH Co., Ltd.)

A-2: jER 157 S65(상품명, 미쓰비시가가쿠 가부시키가이샤) A-2: jER 157 S65 (trade name, manufactured by Mitsubishi Kagaku K.K.)

에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1):Radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group:

b1-1: 글리시딜메타크릴레이트 b1-1: glycidyl methacrylate

그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2):Other radically polymerizable monomers (b2):

b2-1: n-부틸메타크릴레이트 b2-1: n-butyl methacrylate

b2-2: 모노 메타크리록시프로필 변성 폴리디메틸실록산(상품명 사일라플레인 FM-0721(수평균 분자량 카탈로그 게재값: 5,000, JNC 가부시키가이샤, 이하 「FM-0721」로 약기함) b2-2: monomethacryloxypropyl modified polydimethylsiloxane (trade name: SILLA PLAIN FM-0721 (number average molecular weight catalog: 5,000, abbreviated as "FM-0721"

b2-3: N-시클로헥실말레이미드 b2-3: N-Cyclohexylmaleimide

b2-4: N-페닐말레이미드 b2-4: N-phenylmaleimide

에폭시기 함유 공중합체(Ba)의 중합 반응에 사용하는 중합 개시제:Polymerization initiator used in polymerization reaction of epoxy group-containing copolymer (Ba):

2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산)디메틸(상품명 V-601, 와코 순약공업 가부시키가이샤, 이하 「V-601」로 약기함) Dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionic acid) (V-601, abbreviated as "V-601" manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

에폭시기 함유 중합체(Ba)의 중합 반응에 사용하는 용제:Solvent used in the polymerization reaction of the epoxy group-containing polymer (Ba)

MMP MMP

테트라카르본산 이무수물(ca1):Tetracarboxylic dianhydride (ca1):

ca1-1: ODPA ca1-1: ODPA

ca1-2: 부탄테트라카르본산 이무수물(상품명 리카시드 BT-100, 신일본 이화 가부시키가이샤, 이하 「BT-100」으로 약기함) ca1-2: Butane tetracarboxylic dianhydride (Rikacid BT-100, abbreviated as "BT-100", New Japan Ewha Womans'

디아민(ca2):Diamine (ca2):

ca2-1: DDS ca2-1: DDS

다가 하이드록시 화합물(ca3):Polyhydric hydroxy compound (ca3):

ca3-1: 1,4-부탄디올 ca3-1: 1,4-butanediol

1가 알코올(ca4):Monohydric alcohol (ca4):

ca4-1: 벤질 알코올 ca4-1: benzyl alcohol

스티렌-무수말레산 공중합체(ca5):Styrene-maleic anhydride copolymer (ca5):

ca5-1: SMA-1000 ca5-1: SMA-1000

폴리에스테르아미드산(Ca)의 반응에 사용하는 용제:Solvent used for reaction of polyester amide acid (Ca)

MMP MMP

카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1):Radically polymerizable monomer (cb1) having carboxyl group:

cb1-1: 메타크릴산 cb1-1: methacrylic acid

그 외의 라디칼 중합성 모노머(cb2):Other radically polymerizable monomer (cb2):

cb2-1: 벤질 메타크릴레이트 cb2-1: benzyl methacrylate

cb2-2: N-페닐말레이미드 cb2-2: N-phenylmaleimide

카르복실기 함유 공중합체(Cb)의 중합 반응에 사용하는 중합 개시제:Polymerization initiator used in the polymerization reaction of the carboxyl group-containing copolymer (Cb):

V-601 V-601

카르복실기 함유 중합체(Cb)의 중합 반응에 사용하는 용제:Solvent used in the polymerization reaction of the carboxyl group-containing polymer (Cb)

PGMEA PGMEA

희석용 용제:Dilution solvent:

MMP MMP

PGMEA PGMEA

PGME PGME

EDM EDM

첨가제-1: 카르본산 무수물인, 트리멜리트산 무수물Additive-1: carboxylic acid anhydride, trimellitic anhydride

첨가제-2: 실란계 커플링제인, 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란(상품명 사일라에이스 S-510, JNC 가부시키가이샤, 이하 「S-510」으로 약기함)Additive-2: 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (trade name SILLAACE S-510, JNC Corporation, hereinafter abbreviated as "S-510") which is a silane coupling agent,

첨가제-3: 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B) 이외의 에폭시 화합물인, 셀록사이드 2021P(상품명, 가부시키가이샤 다이셀)Additive-3: Celloxide 2021P (trade name, Daicel Corporation) which is an epoxy compound other than the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B)

첨가제-4: 이미다졸 화합물인, 2-운데실 이미다졸(상품명 큐아졸 C11Z, 시코쿠화성공업 가부시키가이샤, 이하 「C11Z」로 약기함)Additive-4: 2-undecyl imidazole (trade name: Cueazol C11Z, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo K.K., hereinafter abbreviated as "C11Z"), which is an imidazole compound,

첨가제-5: 실리콘계 계면활성제인, BYK-342(상품명, 빅케미·재팬 가부시키가이샤)Additive-5: BYK-342 (trade name, manufactured by Japan Chemical Industry Co., Ltd.), which is a silicone surfactant,

[합성예 1] 에폭시기 함유 중합체(Ba-1)의 합성[Synthesis Example 1] Synthesis of epoxy group-containing polymer (Ba-1)

교반기 부착 4구 플라스크에, 중합 용제로서, MMP, 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)로서, 메타크릴산, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)로서, n-부틸메타크릴레이트, 중합 개시제로서, V-601을 하기의 조성(組成)으로 투입하고, 80℃에서 3시간 가열한 후, 90℃에서 3시간 가열하였다.In a four-necked flask equipped with a stirrer, MMP as a polymerization solvent, n-butyl methacrylate as a radically polymerizable monomer (b2) as a radically polymerizable monomer (b1) having a carboxyl group, And V-601 were charged into the following composition (composition), heated at 80 占 폚 for 3 hours, and then heated at 90 占 폚 for 3 hours.

글리시딜메타크릴레이트 (b1) 24.000 gGlycidyl methacrylate (b1) 24,000 g

n-부틸메타크릴레이트 (b2) 6.000 gn-butyl methacrylate (b2) 6.000 g

V-601 (중합 개시제) 0.120 gV-601 (Polymerization initiator) 0.120 g

MMP (중합 용제) 70.000 gMMP (Polymerization solvent) 70,000 g

반응 종료 후의 용액을 실온까지 냉각시키고, 에폭시기 함유 중합체(Ba-1)의 30 중량% 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해 구한 중량 평균 분자량은 78,000, 다분산도는 2.6이었다.After completion of the reaction, the solution was cooled to room temperature to obtain a 30 wt% solution of the epoxy group-containing polymer (Ba-1). The weight average molecular weight determined by GPC analysis was 78,000 and the polydispersity was 2.6.

그리고, 여기서 「에폭시기 함유 중합체(Ba-1)의 30 중량% 용액」이란, 상기와 같이 투입한 화합물이 모두 반응한 것으로 간주하여 구해진, 고형물의 중량과 용제의 중량으로부터 환산한 농도가 30 중량%인 것을 나타낸다. 이하의 합성예 및 비교 합성예도 마찬가지이다.The term &quot; 30 wt% solution of epoxy group-containing polymer (Ba-1) &quot; as used herein refers to a solution containing 30 wt% of the solids and a concentration calculated from the weight of the solvent, Lt; / RTI &gt; The same applies to the following synthesis examples and comparative synthesis examples.

[합성예 2] 에폭시기 함유 중합체(Ba-2)의 합성[Synthesis Example 2] Synthesis of epoxy group-containing polymer (Ba-2)

합성예 1과 동일한 방법에 의해, 하기의 성분을 하기의 중량으로 투입하고, 중합을 행하였다.The following components were charged in the following amounts by the same method as in Synthesis Example 1, and polymerization was carried out.

글리시딜메타크릴레이트 (b1) 24.000 gGlycidyl methacrylate (b1) 24,000 g

n-부틸메타크릴레이트 (b2) 5.700 gn-butyl methacrylate (b2) 5.700 g

FM-0721 (b2) 0.300 gFM-0721 (b2) 0.300 g

V-601 (중합 개시제) 0.120 gV-601 (Polymerization initiator) 0.120 g

MMP (중합 용제) 70.000 gMMP (Polymerization solvent) 70,000 g

합성예 1과 동일한 처리를 행하여, 에폭시기 함유 중합체(Ba-2)의 30 중량% 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해 구한 중량 평균 분자량은 80,000이었다.The same treatment as in Synthesis Example 1 was carried out to obtain a 30 wt% solution of the epoxy group-containing polymer (Ba-2). The weight average molecular weight determined by GPC analysis was 80,000.

[합성예 3] 에폭시기 함유 중합체(Ba-3)의 합성[Synthesis Example 3] Synthesis of epoxy group-containing polymer (Ba-3)

합성예 1과 동일한 방법에 의해, 하기의 성분을 하기의 중량으로 투입하고, 중합을 행하였다.The following components were charged in the following amounts by the same method as in Synthesis Example 1, and polymerization was carried out.

글리시딜메타크릴레이트 (b1) 21.000 gGlycidyl methacrylate (b1) 21,000 g

n-부틸메타크릴레이트 (b2) 3.000 gn-butyl methacrylate (b2) 3.000 g

N-시클로헥실말레이미드 (b2) 6.000 gN-cyclohexylmaleimide (b2) 6.000 g

V-601 (중합 개시제) 0.240 gV-601 (Polymerization initiator) 0.240 g

MMP (중합 용제) 70.000 gMMP (Polymerization solvent) 70,000 g

합성예 1과 동일한 처리를 행하여, 에폭시기 함유 중합체(Ba-3)의 30 중량% 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해 구한 중량 평균 분자량은 38,000이었다.The same treatment as in Synthesis Example 1 was carried out to obtain a 30 wt% solution of the epoxy group-containing polymer (Ba-3). The weight average molecular weight determined by GPC analysis was 38,000.

[합성예 4] 에폭시기 함유 중합체(Ba-4)의 합성[Synthesis Example 4] Synthesis of epoxy group-containing polymer (Ba-4)

합성예 1과 동일한 방법에 의해, 하기의 성분을 하기의 중량으로 투입하고, 중합을 행하였다.The following components were charged in the following amounts by the same method as in Synthesis Example 1, and polymerization was carried out.

글리시딜메타크릴레이트 (b1) 21.000 gGlycidyl methacrylate (b1) 21,000 g

n-부틸메타크릴레이트 (b2) 3.000 gn-butyl methacrylate (b2) 3.000 g

N-페닐말레이미드 (b2) 6.000 gN-phenylmaleimide (b2) 6.000 g

V-601 (중합 개시제) 0.240 gV-601 (Polymerization initiator) 0.240 g

MMP (중합 용제) 70.000 gMMP (Polymerization solvent) 70,000 g

합성예 1과 동일한 처리를 행하여, 에폭시기 함유 중합체(Ba-4)의 30 중량% 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해 구한 중량 평균 분자량은 39,000이었다.The same treatment as in Synthesis Example 1 was carried out to obtain a 30 wt% solution of the epoxy group-containing polymer (Ba-4). The weight average molecular weight determined by GPC analysis was 39,000.

[비교 합성예 1] 에폭시기 함유 중합체(Ba'-1)의 합성[Comparative Synthesis Example 1] Synthesis of epoxy group-containing polymer (Ba'-1)

합성예 1과 동일한 방법에 의해, 하기의 성분을 하기의 중량으로 투입하고, 중합을 행하였다.The following components were charged in the following amounts by the same method as in Synthesis Example 1, and polymerization was carried out.

글리시딜메타크릴레이트 (b1) 24.000 gGlycidyl methacrylate (b1) 24,000 g

n-부틸메타크릴레이트 (b2) 6.000 gn-butyl methacrylate (b2) 6.000 g

V-601 (중합 개시제) 0.600 gV-601 (Polymerization initiator) 0.600 g

MMP (중합 용제) 70.000 gMMP (Polymerization solvent) 70,000 g

합성예 1과 동일한 처리를 행하여, 에폭시기 함유 중합체(Ba'-1)의 30 중량% 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해 구한 중량 평균 분자량은 23,000, 다분산도는 2.0이었다.The same treatment as in Synthesis Example 1 was carried out to obtain a 30 wt% solution of the epoxy group-containing polymer (Ba'-1). The weight average molecular weight determined by GPC analysis was 23,000 and the polydispersity was 2.0.

[비교 합성예 2] 에폭시기 함유 중합체(Ba'-2)의 합성[Comparative Synthesis Example 2] Synthesis of epoxy group-containing polymer (Ba'-2)

합성예 1과 동일한 방법에 의해, 하기의 성분을 하기의 중량으로 투입하고, 중합을 행하였다.The following components were charged in the following amounts by the same method as in Synthesis Example 1, and polymerization was carried out.

글리시딜메타크릴레이트 (b1) 24.000 gGlycidyl methacrylate (b1) 24,000 g

n-부틸메타크릴레이트 (b2) 6.000 gn-butyl methacrylate (b2) 6.000 g

V-601 (중합 개시제) 3.000 gV-601 (Polymerization initiator) 3.000 g

MMP (중합 용제) 70.000 gMMP (Polymerization solvent) 70,000 g

합성예 1과 동일한 처리를 행하여, 에폭시기 함유 중합체(Ba'-2)의 30 중량% 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해 구한 중량 평균 분자량은 8,100, 다분산도는 1.8이었다.The same treatment as in Synthesis Example 1 was carried out to obtain a 30 wt% solution of the epoxy group-containing polymer (Ba'-2). The weight average molecular weight determined by GPC analysis was 8,100 and the polydispersity was 1.8.

[합성예 5] 폴리에스테르아미드산(Ca-1)의 합성[Synthesis Example 5] Synthesis of polyester amide acid (Ca-1)

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 1,000 mL의 4구 플라스크에, 중합 반응에 사용하는 용제로서 탈수 정제한 MMP를 446.96 g, 다가 하이드록시 화합물(ca3)으로서 1,4-부탄디올을 31.93 g, 1가 알코올(ca4)로서 벤질 알코올을 25.54 g, 테트라카르본산 이무수물(ca1)로서 ODPA를 183.20 g 투입하고, 건조 질소 기류 하 130℃에서 3시간 교반했다. 그 후, 반응 후의 용액을 25℃까지 냉각시키고, 디아민(ca2)으로서 DDS를 29.33 g, MMP를 183.04 g 투입하고, 20∼30 ℃에서 2시간 교반한 후, 115℃에서 1시간 교반하고, 30℃ 이하로 냉각함으로써 담황색이고 투명한 폴리에스테르아미드산(Ca-1) 30 중량% 용액을 얻었다. 또한, GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 4,200이었다.A 1,000-mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet and a nitrogen gas inlet was charged with 446.96 g of MMP dehydrated and purified as a solvent used in the polymerization reaction, 1,4-butanediol (ca3) as a polyhydric hydroxy compound 31.53 g of benzyl alcohol as a monohydric alcohol (ca4) and 183.20 g of tetracarboxylic dianhydride (ca1) as O3 were fed into a flask and stirred at 130 DEG C for 3 hours in a dry nitrogen stream. Thereafter, the solution after the reaction was cooled to 25 DEG C, 29.33 g of DDS and 183.04 g of MMP were added as a diamine (ca2), stirred at 20 to 30 DEG C for 2 hours and then stirred at 115 DEG C for 1 hour, Lt; 0 &gt; C or lower to obtain a 30 wt% solution of pale yellow and transparent polyester amide acid (Ca-1). The weight average molecular weight measured by GPC was 4,200.

Z/Y=3, (Y+Z)/X=0.8Z / Y = 3, (Y + Z) /X=0.8

[합성예 6]폴리에스테르아미드산(Ca-2)의 합성[Synthesis Example 6] Synthesis of polyester amide acid (Ca-2)

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 1,000 mL의 4구 플라스크에, 중합 반응에 사용하는 용제로서 탈수 정제한 PGMEA를 600.32 g, 테트라카르본산 이무수물(ca1)로서 ODPA를 47.68 g, 스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)로서 SMA1000을 144.97 g, 1가 알코올(ca4)로서 벤질 알코올을 55.40g, 다가 하이드록시 화합물(ca3)로서 1,4-부탄디올을 9.23 g 투입하고, 건조 질소 기류 하 130℃에서 3시간 교반했다. 그 후, 반응 후의 용액을 25℃까지 냉각시키고, 디아민(ca2)으로서 DDS를 12.72 g, PGMEA를 29.68 g 투입하고, 20∼30 ℃에서 2시간 교반한 후, 115℃에서 1시간 교반하고, 30℃ 이하로 냉각함으로써 담황색이고 투명한 폴리에스테르아미드산(Ca-2) 30 중량% 용액을 얻었다. GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 21,000이었다.To a 1,000 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet and a nitrogen gas inlet, 600.32 g of PGMEA dehydrated and purified as a solvent for use in the polymerization reaction, 47.68 g of ODPA as tetracarboxylic dianhydride (ca1) , 144.97 g of SMA1000 as a styrene-maleic anhydride copolymer (ca5), 55.40 g of benzyl alcohol as a monohydric alcohol (ca4), 9.23 g of 1,4-butanediol as a polyhydric hydroxy compound (ca3) And the mixture was stirred at 130 캜 for 3 hours under a nitrogen stream. Thereafter, the solution after the reaction was cooled to 25 DEG C, 12.72 g of DDS and 29.68 g of PGMEA were added as a diamine (ca2), and the mixture was stirred at 20 to 30 DEG C for 2 hours and then at 115 DEG C for 1 hour. Lt; 0 &gt; C or lower to obtain a 30 wt% solution of pale yellow and transparent polyester amide acid (Ca-2). The weight average molecular weight measured by GPC was 21,000.

Z/Y=2, (Y+Z)/X=1Z / Y = 2, (Y + Z) / X = 1

[합성예 7] 폴리에스테르아미드산(Ca-3)의 합성[Synthesis Example 7] Synthesis of polyester amide acid (Ca-3)

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 1,000 mL의 4구 플라스크에, 중합 반응에 사용하는 용제로서 탈수 정제한 PGMEA를 604.80 g, 테트라카르본산 이무수물(ca1)로서 BT-100을 34.47 g, 스티렌-무수말레산 공중합체(ca5)로서 SMA1000을 164.11 g, 1가 알코올(ca4)로서 벤질 알코올을 50.17 g, 다가 하이드록시 화합물(ca3)로서 1,4-부탄디올을 10.45 g 투입하고, 건조 질소 기류 하 130℃에서 3시간 교반했다. 그 후, 반응 후의 용액을 25℃까지 냉각시키고, 디아민(ca2)으로서 DDS를 10.80 g, PGMEA를 25.20 g 투입하고, 20∼30 ℃에서 2시간 교반한 후, 115℃에서 1시간 교반하고, 30℃ 이하로 냉각함으로써 담황색이고 투명한 폴리에스테르아미드산(Ca-3) 30 중량% 용액을 얻었다. GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 10,000이었다.604.80 g of dehydrated and purified PGMEA as a solvent for use in the polymerization reaction and BT-100 as a tetracarboxylic dianhydride (ca1) were placed in a 1,000 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet and a nitrogen gas inlet 164.11 g of SMA1000 as a styrene-maleic anhydride copolymer (ca5), 50.17 g of benzyl alcohol as a monohydric alcohol (ca4) and 10.45 g of 1,4-butanediol as a polyhydric hydroxy compound (ca3) , And the mixture was stirred at 130 캜 for 3 hours in a dry nitrogen stream. Thereafter, the solution after the reaction was cooled to 25 DEG C, 10.80 g of DDS and 25.20 g of PGMEA were added as a diamine (ca2), stirred at 20 to 30 DEG C for 2 hours and then stirred at 115 DEG C for 1 hour, Lt; 0 &gt; C or lower to obtain a 30 wt% solution of pale yellow and transparent polyester amide acid (Ca-3). The weight average molecular weight measured by GPC was 10,000.

Z/Y=2.7, (Y+Z)/X=0.9Z / Y = 2.7, (Y + Z) /X=0.9

[합성예 8] 카르복실기 함유 중합체(Cb-1)의 합성[Synthesis Example 8] Synthesis of carboxyl group-containing polymer (Cb-1)

합성예 1과 동일한 방법에 의해, 하기의 성분을 하기의 중량으로 투입하고, 중합을 행하였다.The following components were charged in the following amounts by the same method as in Synthesis Example 1, and polymerization was carried out.

메타크릴산 (cb1) 9.000 gMethacrylic acid (cb1) 9.000 g

벤질메타크릴레이트 (cb2) 18.000 gBenzyl methacrylate (cb2) 18,000 g

N-페닐말레이미드 (cb2) 3.000 gN-phenylmaleimide (cb2) 3.000 g

V-601 (중합 개시제) 1.500 gV-601 (Polymerization initiator) 1.500 g

PGMEA (중합 용제) 70.000 gPGMEA (Polymerization solvent) 70,000 g

합성예 1과 동일한 처리를 행하여, 카르복실기 함유 중합체(Cb-1)의 30 중량% 용액을 얻었다. GPC 분석에 의해 구한 중량 평균 분자량은 4,700이었다.The same treatment as in Synthesis Example 1 was carried out to obtain a 30 wt% solution of the carboxyl group-containing polymer (Cb-1). The weight average molecular weight determined by GPC analysis was 4,700.

[표 1][Table 1]

Figure pat00005
Figure pat00005

[표 1](계속)[Table 1] (Continued)

Figure pat00006
Figure pat00006

[실시예 1][Example 1]

저분자량 에폭시 화합물(A)로서, 테크모어 VG3101L, 고분자량 에폭시 화합물(B)로서, 에폭시기 함유 중합체(Ba-1)의 30 중량% 용액, 카르복실 화합물로서, 폴리에스테르아미드산(Ca-1)의 30 중량% 용액, 첨가제로서, 트리멜리트산 무수물, S-510, 및 BYK-342, 희석용 용제로서, MMP 및 EDM를 하기 조성으로 혼합 용해하여, 열경화성 조성물을 얻었다. 이 열경화성 조성물의 점도는 5.6 mPa·s였다.(Ba-1) as a high molecular weight epoxy compound (B), a polyester amide acid (Ca-1) as a carboxyl compound as a low molecular weight epoxy compound (A), TECHMORE VG3101L as a low molecular weight epoxy compound , Trimellitic anhydride, S-510, and BYK-342 as additives, MMP and EDM as diluting solvents were mixed and dissolved in the following composition to obtain a thermosetting composition. The viscosity of this thermosetting composition was 5.6 mPa..

테크모어VG3101L 5.700 gTechmore VG3101L 5.700 g

에폭시기 함유 중합체(Ba-1)의 30 중량% 용액 0.500 gA 30 wt% solution of the epoxy group-containing polymer (Ba-1) 0.500 g

폴리에스테르아미드산(Ca-1)의 30 중량% 용액 10.000 gA 30 wt% solution of polyester amide acid (Ca-1) 10.000 g

트리멜리트산 무수물 0.600 gTrimellitic anhydride 0.600 g

S-510 0.473 gS-510 0.473 g

BYK-342 0.021 gBYK-342 0.021 g

MMP 17.783 gMMP 17.783 g

EDM 6.284 gEDM 6.284 g

그리고, 이 조성물에 포함되는 용제(D)의 총량은, 에폭시기 함유 중합체(Ba-1)의 30 중량% 용액에 포함되는 MMP, 폴리에스테르아미드산(Ca-1)의 30 중량% 용액에 포함되는 MMP, 및 희석용으로 부가한 MMP 및 EDM의 총량이며, 이 공정에서 고형분 농도가 대략 24 중량%가 되도록 조정하였다. 실시예 2 이하 및 비교예에 있어서도 마찬가지이다.The total amount of the solvent (D) contained in the composition is such that the amount of the solvent (D) contained in the 30 wt% solution of the polyester amide acid (Ca-1) contained in the 30 wt% solution of the epoxy group- MMP, and the amount of MMP and EDM added for dilution, in which the solids concentration was adjusted to be approximately 24% by weight. Example 2 The same applies to the following and comparative examples.

이 열경화 조성물을 유리 기판 상에 600 rpm으로 10초간 스핀코팅한 후, 80℃의 핫 플레이트 상에서 3분간 프리베이킹하여 도막을 형성하였다. 그 후, 오븐에서, 230℃에서 30분간 가열함으로써 도막을 경화시켜, 막 두께 2.0㎛의 경화막 부착 유리 기판을 얻었다.The thermosetting composition was spin-coated on a glass substrate at 600 rpm for 10 seconds and prebaked on a hot plate at 80 DEG C for 3 minutes to form a coating film. Thereafter, the coated film was cured by heating in an oven at 230 DEG C for 30 minutes to obtain a glass substrate with a cured film having a thickness of 2.0 mu m.

그리고, 경화막 부착 유리 기판의 경화막의 두께는, 경화막의 일부를 깍아내어, 단차·표면 거칠기·미세 형상 측정 장치 P-16+(상품명, 케이엘에이·텐콜 가부시키가이샤)를 사용하여 측정하였다.The thickness of the cured film of the glass substrate with a cured film was measured by cutting out a part of the cured film and using a step, surface roughness, fine shape measuring device P-16 + (trade name, manufactured by Tencor Corporation).

경화막 부착 유리 기판의 작성 방법에 준한 방법으로, 상기 열경화성 조성물을 컬러 필터 기판 상에 도포·가열함으로써 경화막 부착 컬러 필터 기판을 얻었다.A color filter substrate with a cured film was obtained by coating and heating the above-mentioned thermosetting composition on a color filter substrate in accordance with a method of forming a glass substrate with a cured film.

그리고, 본 평가에 사용한 컬러 필터 기판은, 유리 기판 상에 블랙 매트릭스, 및 R, G, 및 B의 화소가 형성되어 있고, 블랙 매트릭스를 포함하는 R, G, B 화소 사이에서의 단차의 최대값(이하, 「최대 단차」로 약기함)이, 1.1∼1.2 ㎛인 컬러 필터 기판이다.The color filter substrate used in this evaluation is a color filter substrate in which pixels of R, G, and B are formed on a glass substrate and black matrixes are formed, and the maximum value (Hereinafter abbreviated as &quot; maximum step &quot;) is 1.1 to 1.2 mu m.

이와 같이 하여 얻어진 경화막 부착 컬러 필터 기판에 대하여, 평탄성을 평가했다. 평탄성의 평가 결과를 표 2에 나타내었다.The flatness of the thus obtained color filter substrate with a cured film was evaluated. The evaluation results of the flatness are shown in Table 2.

본 실시예 및 본 비교예에 있어서 행한, 각 물성의 측정 방법 및 각 특성의 평가 방법을 이하에 나타낸다.The measurement methods of the physical properties and evaluation methods of the respective properties performed in this example and this comparative example are shown below.

[최대 단차의 측정 방법, 평탄성의 평가 방법][Measurement method of maximum step difference, evaluation method of flatness]

컬러 필터 기판 표면의 최대 단차를, 단차·표면 거칠기·미세 형상 측정 장치 P-16+(상품명, 케이엘에이·텐콜 가부시키가이샤)를 사용하여 측정하였다. 이 측정값을 「최대 단차(CF)」로 칭하기로 한다.The maximum step of the surface of the color filter substrate was measured using a step, surface roughness, fine shape measuring device P-16 + (trade name, manufactured by Tencor Corporation). This measured value will be referred to as &quot; maximum step difference (CF) &quot;.

이어서, 상기 컬러 필터 기판에 상기한 바와 같이 경화막을 작성하고, 얻어진 경화막 부착 컬러 필터 기판의 경화막 표면의 최대 단차를 동일한 조건 하에서 측정하였다. 이 측정값을 「최대 단차(CF+OC)」로 칭하기로 한다.Subsequently, a cured film was formed on the color filter substrate as described above, and the maximum step of the surface of the cured film of the obtained color filter substrate with the cured film was measured under the same conditions. This measured value will be referred to as &quot; maximum step (CF + OC) &quot;.

평탄화율(DOP)은, 하기 식(DOP-1)으로부터 산출하였다. 평탄성의 평가는, DOP가 80% 이상인 경우를 "○"로, DOP가 80% 미만인 경우를 "×"로 표시하였다.The planarization ratio (DOP) was calculated from the following formula (DOP-1). The evaluation of the flatness was expressed as "? &Quot; when the DOP was 80% or more, and "x" when the DOP was less than 80%.

DOP=100%×[최대 단차(CF)-최대 단차(CF+OC)]÷최대 단차(CF)···(DOP-1)DOP = 100% × [maximum step difference (CF) - maximum step difference (CF + OC)] / maximum step difference (CF)

[이물질 사이즈 측정 방법, 이물질 추종성 평가 방법][Method of measuring foreign matter size, method of evaluating foreign matter followability]

표면에 크롬을 증착시킨 유리 기판(이하 「크롬 기판」이라고 함)을, 비즈 스페이서의 살포기에 세팅하고, 직경 7㎛의 비즈 스페이서를 3∼5 개/cm2의 비율로 되도록 살포하였다. 경화막 부착 유리 기판을 작성 방법과 동일한 방법으로, 이 비즈 스페이서가 부착된 크롬 기판에, 상기 열경화성 조성물을 도포·가열함으로써, 비즈 스페이서를 포함하는 경화막 부착 크롬 기판을 얻었다. 이 비즈 스페이서를 포함하는 경화막 부착 크롬 기판을, 미분 간섭형 현미경 AFX-IIA(상품명, 가부시키가이샤 니콘)를 사용하여, 50배로 표면을 관찰하고, 비즈 스페이서의 주위의 경화막의 솟아오른 부분의 직경(이하, 「이물질 사이즈」라고 함)을 측정하였다.A glass substrate (hereinafter referred to as "chromium substrate") on which chromium was deposited on the surface was set on a spreader of a bead spacer, and a bead spacer having a diameter of 7 μm was sprayed at a rate of 3 to 5 pieces / cm 2 . A chromium substrate with a cured film containing a bead spacer was obtained by coating and heating the above-mentioned thermosetting composition on a chromium substrate to which this bead spacer was attached in the same manner as in the method for producing a glass substrate with a cured film. The surface of the chromium substrate with the cured film containing the bead spacer was observed at 50 times using a differential interference microscope AFX-IIA (trade name, Nikon Corporation), and the surface of the raised portion of the cured film around the bead spacer Diameter (hereinafter referred to as &quot; foreign matter size &quot;) was measured.

이물질 추종성의 평가는, 이물질 사이즈가 80㎛ 이하인 경우를 "○"로, 이물질 사이즈가 81㎛ 이상인 경우를 "×"로 표시하였다.The foreign matter followability was evaluated as "? &Quot; when the foreign matter size was 80 占 퐉 or less, and" 占 "when the foreign matter size was 81 占 퐉 or more.

[실시예 2∼11, 비교예 1∼4][Examples 2 to 11, Comparative Examples 1 to 4]

실시예 1과 마찬가지로, 하기 표의 조성에 의해 열경화성 조성물을 조제하였다. 고형분 농도가 대략 24 중량%로 되도록 용제의 양을 조정하였다. 이들 열경화성 조성물을, 포스트베이킹 후의 막 두께가 2.0∼2.1 ㎛가 되는 회전수로 스핀코팅하고, 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 실시예 2∼11의 결과를, 실시예 1의 결과와 함께 표 2에, 비교예 1∼4의 결과를 표 3에 각각 나타내었다.Similar to Example 1, a thermosetting composition was prepared according to the composition shown in the following table. The amount of the solvent was adjusted so that the solid concentration became approximately 24% by weight. These thermosetting compositions were spin-coated at a rotational speed of 2.0 to 2.1 占 퐉 after post-baking, and the same evaluations as in Example 1 were carried out. The results of Examples 2 to 11 are shown in Table 2 together with the results of Example 1, and the results of Comparative Examples 1 to 4 are shown in Table 3, respectively.

[표 2][Table 2]

Figure pat00007
Figure pat00007

[표 2](계속)[Table 2] (Continued)

Figure pat00008
Figure pat00008

[표 3][Table 3]

Figure pat00009
Figure pat00009

실시예 1∼12의 열경화성 조성물은, 저분자량 에폭시 화합물(A), 고분자량 에폭시 화합물(B), 및 카르복실 화합물(C)을 함유한다. 이들에 비해, 비교예 1의 열경화성 조성물은, 고분자량 에폭시 화합물(B)을 함유하지 않았다. 비교예 2의 열경화성 조성물은, 저분자량 에폭시 화합물(A)을 함유하지 않았다. 비교예3∼4의 열경화성 조성물은, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)을 함유하지 않고, 저분자량 에폭시 화합물(A)의 분자량 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 분자량의 중간 분자량의 에폭시 화합물(Ba')을 함유한다.The thermosetting compositions of Examples 1 to 12 contain a low molecular weight epoxy compound (A), a high molecular weight epoxy compound (B), and a carboxyl compound (C). In contrast, the thermosetting composition of Comparative Example 1 did not contain the high molecular weight epoxy compound (B). The thermosetting composition of Comparative Example 2 did not contain the low molecular weight epoxy compound (A). The thermosetting compositions of Comparative Examples 3 and 4 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) were not contained and the molecular weight of the low molecular weight epoxy compound (A) and the molecular weight of the high molecular weight epoxy compound (Ba ') having an intermediate molecular weight.

이상으로부터 밝혀진 바와 같이, 실시예 1∼12는 모두 평탄성 및 이물질 추종성의 양쪽이 양호하다. 이들에 비해, 고분자량 에폭시 화합물(B)을 함유하지 않은 비교예 1은, 이물질 추종성이 불량하다. 저분자량 에폭시 화합물(A)을 함유하지 않은 비교예 2는, 평탄성이 불량하다. 저분자량 에폭시 화합물(A)의 분자량 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 분자량의 중간 분자량의 에폭시 화합물(Ba')을 함유하는 비교예 3∼4는, 평탄성 및 이물질 추종성 중 적어도 1개가 불량이다.As is clear from the above, in all of Examples 1 to 12, both flatness and foreign matter followability are good. Compared with these, Comparative Example 1, which does not contain the high molecular weight epoxy compound (B), is inferior in foreign matter followability. Comparative Example 2 containing no low molecular weight epoxy compound (A) had poor flatness. Molecular Weight of Low Molecular Weight Epoxy Compound (A) and High Molecular Weight Comparative Examples 3 to 4 containing an epoxy compound (Ba ') having an intermediate molecular weight of the molecular weight of the epoxy compound (B) are poor in flatness and foreign matter followability.

본 발명의 열경화성 조성물을 사용하여 작성되는 경화막은, 컬러 필터의 보호막에 사용됨으로써, 표시 품위가 우수하고, 수율이 높은 컬러 필터를 제조할 수 있다. 상기 컬러 필터를 사용함으로써, 특히 횡전계 모드의 액정 표시 소자에 있어서, 수율을 저하시키지 않고, 표시 품위를 향상시킬 수 있다.The cured film formed by using the thermosetting composition of the present invention can be used as a protective film for a color filter, so that a color filter having excellent display quality and a high yield can be produced. By using the color filter, the display quality can be improved without lowering the yield particularly in the liquid crystal display element of the transverse electric field mode.

Claims (16)

에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 5,000 미만인 저분자량 에폭시 화합물(A);
에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 30,000 이상인 고분자량 에폭시 화합물(B); 및
카르복실기를 3개 이상 포함하는 카르복실 화합물(C)
을 함유하는 열경화성 조성물.
A low molecular weight epoxy compound (A) having three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of less than 5,000;
A high molecular weight epoxy compound (B) containing three or more epoxy groups and having a weight average molecular weight of 30,000 or more; And
The carboxyl compound (C) containing three or more carboxyl groups
&Lt; / RTI &gt;
제1항에 있어서,
저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 총중량중, 저분자량 에폭시 화합물(A)의 중량이 50∼99 중량%이며, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 합계 100 중량부에 대하여, 카르복실 화합물(C)의 중량이 30∼200 중량부인, 열경화성 조성물.
The method according to claim 1,
(A) and the high molecular weight epoxy compound (B) are contained in the total amount of the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) ), Wherein the weight of the carboxyl compound (C) is 30 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the thermosetting composition.
제1항에 있어서,
저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 총중량중, 저분자량 에폭시 화합물(A)의 중량이 70∼95 중량%이며, 저분자량 에폭시 화합물(A) 및 고분자량 에폭시 화합물(B)의 합계 100 중량부에 대하여, 카르복실 화합물(C)의 중량이 40∼120 중량부인, 열경화성 조성물.
The method according to claim 1,
(A) and the high molecular weight epoxy compound (B) are contained in the total amount of the low molecular weight epoxy compound (A) and the high molecular weight epoxy compound (B) ), Wherein the weight of the carboxyl compound (C) is 40 to 120 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the thermosetting composition.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
카르복실 화합물(C)이, 폴리에스테르아미드산(Ca) 및 카르복실기 함유 중합체(Cb)로부터 선택되는 1개 이상이며;
폴리에스테르아미드산(Ca)이, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)을 필수 성분으로서 반응시킴으로써 얻어지는 반응 생성물이며, 이들의 몰비가, X몰의 테트라카르본산 이무수물(ca1), Y몰의 디아민(ca2), 및 Z몰의 다가 하이드록시 화합물(ca3)에 대하여, 하기 식(C-11) 및 하기 식(C-12)의 관계가 성립하도록 한 비율이며;
0.2≤Z/Y≤8.0···(C-11)
0.2≤(Y+Z)/X≤1.5···(C-12)
카르복실기 함유 중합체(Cb)가, 카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1) 및 그 외의 라디칼 중합성 모노머(cb2)를 함유하는 라디칼 중합성 모노머의 혼합물을 중합시켜 얻어지는, 열경화성 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The carboxyl compound (C) is at least one selected from a polyester amide acid (Ca) and a carboxyl group-containing polymer (Cb);
Wherein the polyester amide acid (Ca) is a reaction product obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride (ca1), diamine (ca2), and polyhydric hydroxy compound (ca3) as essential components, (C-11) and the following formula (C-12) are satisfied for tetracarboxylic dianhydride (ca1), Y mol diamine (ca2) and Z mol polyhydric hydroxy compound ;
0.2? Z / Y? 8.0 (C-11)
0.2? (Y + Z) /X? 1.5 (C-12)
Wherein the carboxyl group-containing polymer (Cb) is obtained by polymerizing a mixture of a radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group and a radically polymerizable monomer containing another radically polymerizable monomer (cb2).
제4항에 있어서,
폴리에스테르아미드산(Ca)이, 테트라카르본산 이무수물(ca1), 디아민(ca2), 및 다가 하이드록시 화합물(ca3)에 더하여, 1가 알코올(ca4)을 반응시킴으로써 얻어지는 반응 생성물인, 열경화성 조성물.
5. The method of claim 4,
Wherein the polyester amide acid (Ca) is a reaction product obtained by reacting a monohydric alcohol (ca4) in addition to a tetracarboxylic dianhydride (ca1), a diamine (ca2), and a polyhydric hydroxy compound (ca3) .
제4항 또는 제5항에 있어서,
폴리에스테르아미드산(Ca)이, 또한 스티렌-무수말레산 공중합체(cb5)를 반응시킴으로써 얻어지는 반응 생성물인, 열경화성 조성물.
The method according to claim 4 or 5,
Is a reaction product obtained by reacting a polyester amide acid (Ca) with a styrene / maleic anhydride copolymer (cb5).
제4항에 있어서,
카르복실기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(cb1)가, (메타)아크릴산, 및 카르복실기를 가지는 (메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(cb2)가, 에폭시기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 및 N-치환 말레이미드로부터 선택되는 1개 이상인, 열경화성 조성물.
5. The method of claim 4,
Wherein the radically polymerizable monomer (cb1) having a carboxyl group is at least one selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylate having a carboxyl group, and the other radically polymerizable monomer (cb2) ) Acrylate, (meth) acrylate having an aliphatic group, (meth) acrylate having an aromatic group, and N-substituted maleimide.
제7항에 있어서,
에폭시기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 글리시딜(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 및 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 벤질(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, N-치환 말레이미드가, N-시클로헥실말레이미드, 및 N-페닐말레이미드로부터 선택되는 1개 이상인, 열경화성 조성물.
8. The method of claim 7,
(Meth) acrylate having an epoxy group is at least one selected from glycidyl (meth) acrylate and the (meth) acrylate having an aliphatic group is at least one selected from the group consisting of methyl (meth) acrylate, n-butyl (Meth) acrylate having at least one aromatic group selected from cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyloxyethyl (Meth) acrylate, and the N-substituted maleimide is at least one selected from N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
저분자량 에폭시 화합물(A)이, 에폭시기를 3개 이상 포함하고, 중량 평균 분자량이 5,000 미만이며, 또한 방향족기를 가지는 에폭시 화합물인, 열경화성 조성물.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the low molecular weight epoxy compound (A) is an epoxy compound having three or more epoxy groups and a weight average molecular weight of less than 5,000, and having an aromatic group.
제9항에 있어서,
저분자량 에폭시 화합물(A)이, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 화합물, 1,3-비스[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-[4-[1-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-1-메틸에틸]페닐]에틸]페녹시]-2-프로판올, 및 2-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-2-[4-[1,1-비스[4-([2,3-에폭시프로폭시]페닐)]에틸]페닐]프로판으로부터 선택되는 1개 이상인, 열경화성 조성물.
10. The method of claim 9,
Wherein the low molecular weight epoxy compound (A) is at least one compound selected from the group consisting of a bisphenol A novolak type epoxy compound, 1,3-bis [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] Phenyl] ethyl] phenoxy] -2-propanol and 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] 2- [4- [1,1-bis [4 - ([2,3-epoxypropoxy] phenyl]] ethyl] phenyl] propane.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
고분자량 에폭시 화합물(B)이, 에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1), 및 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)를 함유하는 라디칼 중합성 모노머의 혼합물을 중합시켜 얻어지는 에폭시기 함유 중합체(Ba)인, 열경화성 조성물.
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
(Ba) obtained by polymerizing a mixture of a high molecular weight epoxy compound (B), a radically polymerizable monomer having an epoxy group (b1), and another radically polymerizable monomer (b2) , Thermosetting composition.
제11항에 있어서,
에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)가, 글리시딜(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)가, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 하기 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트, 및 N-치환 말레이미드로부터 선택되는 1개 이상을, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)의 전체 중량 중 50 중량% 이상 포함하는, 열경화성 조성물:
Figure pat00010
.
12. The method of claim 11,
Wherein the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group is at least one selected from glycidyl (meth) acrylate, the other radically polymerizable monomer (b2) is at least one selected from the group consisting of (meth) (Meth) acrylate having a structure represented by the following formula (B-11), and N-substituted maleimide in an amount of 50% by weight or more based on the total weight of the other radically polymerizable monomer (b2) , Thermosetting composition:
Figure pat00010
.
제11항에 있어서,
에폭시기를 가지는 라디칼 중합성 모노머(b1)가, 글리시딜(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 그 외의 라디칼 중합성 모노머(b2)가, 지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 하기 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트, 및 N-치환 말레이미드로부터 선택되는 1개 이상으로 이루어지는, 열경화성 조성물:
Figure pat00011
.
12. The method of claim 11,
Wherein the radically polymerizable monomer (b1) having an epoxy group is at least one selected from glycidyl (meth) acrylate, the other radically polymerizable monomer (b2) is at least one selected from the group consisting of (meth) (Meth) acrylate having a structure represented by the following formula (B-11), and N-substituted maleimide:
Figure pat00011
.
제12항 또는 제13항에 있어서,
지방족기를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 및 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1개 이상이며, 상기 식(B-11)으로 표시되는 구조를 가지는 (메타)아크릴레이트가, 3-[트리스(트리메틸실릴옥시)실릴]프로필(메타)아크릴레이트, 및 모노(메타)아크릴록시프로필 변성 폴리디메틸실록산으로부터 선택되는 1개 이상이며, N-치환 말레이미드가, N-시클로헥실말레이미드인, 열경화성 조성물.
The method according to claim 12 or 13,
It is preferable that the (meth) acrylate having an aliphatic group is at least one selected from the group consisting of methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (Meth) acrylate and the (meth) acrylate having a structure represented by the formula (B-11) is at least one selected from the group consisting of 3- [tris (trimethylsilyloxy) , And mono (meth) acryloxypropyl-modified polydimethylsiloxane, wherein the N-substituted maleimide is N-cyclohexylmaleimide.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 조성물을 가열함으로써 얻어지는 경화막.A cured film obtained by heating the thermosetting composition according to any one of claims 1 to 14. 제15항에 기재된 경화막을 가지는 컬러 필터.A color filter having the cured film according to claim 15.
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