KR20150078859A - Epoxy Resin and Method for Preparing the Same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an epoxy resin and a manufacturing method thereof and, more specifically, an epoxy resin which meets a condition like resistance to high heat that a copper-clad laminate substrate used in a printed circuit substrate, a sealing material, a molding material, a casting material, an adhesive and a material for an electrical insulating paint used in electronic parts while properly implementing a low dielectric property, and a manufacturing method thereof.

Description

에폭시 수지 및 이들의 제조방법{Epoxy Resin and Method for Preparing the Same}EPOXY RESIN AND METHOD FOR PREPARING THE SAME [0002]

본 발명은 에폭시 수지 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 우수한 유전특성과 고내열성을 갖는 에폭시 수지 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
More particularly, the present invention relates to an epoxy resin having excellent dielectric properties and high heat resistance, and a method for producing the same.

최근 이동통신기기, 위성방송수신기기, 컴퓨터 등의 소형화에 따라 그것들에 사용되는 전자부품에 대해서도, 소형화, 복합화, 고기능화, 고정밀화가 진행되고 있으며, 전자회로 부품 내부 기판 배선 패턴에 대해서도 고밀도화 및 신호전송의 고속화에 대한 대응이 요구되고 있다. In recent years, with the miniaturization of mobile communication devices, satellite broadcast receiving devices, computers, etc., miniaturization, complexity, high performance, and high precision are progressing for electronic components used for them, and also for high density and signal transmission A demand for high-speed response is required.

또한 통신 전자기기에 사용되는 신호의 주파수대는 MHz영역에서 GHz 대역으로 이행해가고 있다. 전기신호는 주파수가 높아지는 만큼, 전송손실이 커지는 특성이 있으므로 뛰어난 고주파 전송특성을 가지는 전기절연재료와 그것을 이용한 기판의 개발은 필수 요소이다.In addition, the frequency band of signals used in telecommunication equipment is shifting from the MHz to the GHz band. Since the electrical signal has a characteristic that the transmission loss increases as the frequency increases, development of an electrically insulating material having excellent high frequency transmission characteristics and a substrate using the same is indispensable.

통상 고분자 절연재료가 인쇄회로기판(PCB) 등의 기판소재로 이용되고 있다. 여기에는 폴리올레핀 수지, 에폭시수지, 불소계 열가소성 수지, 폴리이미드 수지, 비스말레이미드트리아진 수지 등의 다양한 고분자 절연재료가 제안되고 있으며, 이들을 이용한 인쇄회로기판용 적층판은 상기 고분자 재료가 단독 혹은 유리섬유, 부직포, 무기물 필러 등과 배합되어 제작되고 있다. Generally, a polymer insulating material is used as a substrate material for a printed circuit board (PCB) or the like. Various polymer insulating materials such as a polyolefin resin, an epoxy resin, a fluorine-based thermoplastic resin, a polyimide resin, and a bismaleimide triazine resin have been proposed. In the laminate for a printed circuit board using these materials, Non-woven fabric, inorganic filler and so on.

상기와 같은 구성물을 배합하여 적층판을 제작하는 방법은 고분자 절연재료를 유기 용매에 녹여서 유리 직물에 함침, 건조하여 얻은 프리프레그와 금속박을 겹쳐서 가열 가압하는 방법이 있고, 유기용매에 잘 녹지 않는 고분자 절연 재료의 경우 용융 사출법으로 녹여서 가공하여 판형으로 제작 후에 동박, 알루미늄박과 같은 금속박을 겹쳐서 가열 가압하는 방법이 있다.A method of preparing a laminate by mixing the above components includes a method of melting the polymer insulating material in an organic solvent, impregnating the glass cloth with a glass cloth, drying the prepreg, and heating and pressing the metal laminate, In the case of a material, it is melted and processed by a melt injection method, and a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil is rolled up after being formed into a plate form.

그러나, 종래에 제공되고 있는 다양한 고분자 절연재료로써, 에폭시수지의 경우에는 전기적 특성, 특히 고주파영역에서의 유전손실 특성이 나쁜 결점을 가지고 있다. 한편, PTFE로 대표되는 불소계 열가소성 수지는 고주파 특성은 좋으나 열가소성 수지이기 때문에 성형가공시 팽창 및 수축이 크고 가공성이 많이 뒤떨어져 사용 영역이 극히 제한되고 있다. However, in the case of an epoxy resin, various electrical insulating properties, particularly dielectric loss characteristics in a high frequency range, are disadvantageous as a variety of conventionally provided polymeric insulating materials. On the other hand, the fluorine-based thermoplastic resin typified by PTFE has high frequency characteristics, but since it is a thermoplastic resin, it expands and shrinks greatly during molding processing, and its workability is inferior so that its use area is extremely limited.

또한, 폴리올레핀계 열가소성 수지의 경우 적층판으로 형성시 금속박과의 밀착성이 확보되어도 대체로 납 내열성이 뒤떨어지는 특성을 가지고 있다. 폴리올레핀 계 수지의 경우는 극성기를 가지지 않기 때문에 전기 특성, 특히 유전손실 특성이 우수하지만 내열성이 낮은 것이 큰 단점이다. 또한 선팽창계수가 크기 때문에 배선기판용 적층판으로 사용되는 경우 부품을 실장시 접속 신뢰성이나 스루홀의 도금 신뢰성이 부족한 문제점이 있다. 비스말레이미드트리아진 수지와 폴리이미드 수지는 고가격으로 인하여 범용 수지로서 활용성이 낮은 상태이다.Further, in the case of a polyolefin thermoplastic resin, when the laminate is formed into a laminate, even if adhesion with a metal foil is secured, the lead heat resistance is generally poor. In the case of a polyolefin-based resin, since it has no polar group, it has a disadvantage in that it has excellent electrical characteristics, particularly dielectric loss characteristics, but low heat resistance. In addition, since the coefficient of linear expansion is large, when used as a laminated board for a wiring board, there is a problem that reliability of connection and reliability of plated through-hole are insufficient when the component is mounted. The bismaleimide triazine resin and the polyimide resin are inferior in utility as a general-purpose resin due to their high cost.

이에 따라, 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 요구되는 다양한 물성과 저 유전특성을 균형 있게 구현할 수 있는 수지의 개발이 절실하다.
Accordingly, development of a resin capable of realizing a balance of various physical properties and low dielectric properties required for a sealing material, a molding material, a mold material, an adhesive, and an electric insulating paint material used for a copper-clad laminate used for a printed circuit board or an electronic component This is desperate.

본 발명의 주된 목적은 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나, 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 요구되는 고내열성을 만족하면서, 저 유전특성을 균형 있게 구현할 수 있는 에폭시 수지 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
The main object of the present invention is to provide a resin composition which satisfies the high heat resistance required for a copper clad laminate used for a printed circuit board, a sealing material used for an electronic part, a molding material, a mold material, an adhesive, And a method for manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 구현예는, 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하고, 중량평균분자량이 560 내지 5,600g/mol인 에폭시 수지를 제공한다.In order to achieve the above object, an embodiment of the present invention provides an epoxy resin comprising a repeating unit represented by the following formula (1) and having a weight average molecular weight of 560 to 5,600 g / mol.

<화학식 1> &Lt; Formula 1 >

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, n은 1 내지 10의 정수이다.In the above formula (1), R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10.

본 발명의 바람직한 일 구현예에서, 상기 에폭시 수지는 연화점이 50 내지 110℃이고, 에폭시 당량은 240 내지 320g/eq인 것을 특징으로 할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the epoxy resin has a softening point of 50 to 110 ° C and an epoxy equivalent of 240 to 320 g / eq.

본 발명의 다른 구현예는, (a) 디사이클로펜타디엔 및 비스페놀 화합물을 제1 산 촉매존재하에서 중합시켜 공중합체를 생성하는 단계; (b) 상기 생성된 공중합체와 알데히드 화합물을 제2 산 촉매존재하에서 축합반응시켜 노볼락 수지를 생성하는 단계; 및 (c) 상기 생성된 노볼락 수지와 에피할로히드린을 염기 촉매하에서 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하고, 중량평균분자량이 560 내지 5,600g/mol인 에폭시 수지를 생성하는 단계를 포함하는 에폭시 수지의 제조방법을 제공한다.Another embodiment of the present invention is a process for preparing a copolymer comprising: (a) polymerizing a dicyclopentadiene and a bisphenol compound in the presence of a first acid catalyst to produce a copolymer; (b) condensing the resulting copolymer with an aldehyde compound in the presence of a second acid catalyst to produce a novolak resin; And (c) reacting the resulting novolak resin with epihalohydrin under base catalyst to produce an epoxy resin having a weight average molecular weight of 560 to 5,600 g / mol, Wherein the epoxy resin is a resin.

<화학식 1> &Lt; Formula 1 >

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 1에서, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, n은 1 내지 10의 정수이다.In the above formula (1), R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 (a) 단계에서 중합은 80 ~ 140℃에서 1 ~ 10 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the polymerization in step (a) may be performed at 80 to 140 ° C for 1 to 10 hours.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 (a) 단계에서 비스페놀 화합물은 디사이클로펜타디엔 1몰에 대하여, 1.0 ~ 10.0몰을 사용하는 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the bisphenol compound used in step (a) may be used in an amount of 1.0 to 10.0 moles per mole of dicyclopentadiene.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 (b) 단계에서 축합 반응은 80 ~ 120℃에서 1 ~ 10 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the condensation reaction is performed at 80 to 120 ° C for 1 to 10 hours in the step (b).

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 (b) 단계에서 알데히드 화합물은 공중합체 1몰에 대하여, 0.1 ~ 0.99몰을 사용하는 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the aldehyde compound in the step (b) may be used in an amount of 0.1 to 0.99 mol based on 1 mol of the copolymer.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 제1 산 촉매는 루이스 산 촉매인 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the first acid catalyst is a Lewis acid catalyst.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 제2 산 촉매는 옥살산, 황산, 인산, 염산 및 초산 중 선택되는 무기산; 및 파라톨루엔술폰산, 벤젠술폰산, 페놀술폰산, 락트산, 아세트산 및 포름산 중 선택되는 유기산으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the second acid catalyst is selected from the group consisting of oxalic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid and acetic acid; And at least one organic acid selected from the group consisting of para-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, phenolsulfonic acid, lactic acid, acetic acid, and formic acid.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 (c) 단계에서 에피할로히드린은 노볼락 수지 1몰에 대하여, 1.0 내지 10.0몰로 사용하는 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the epihalohydrin in the step (c) is used in an amount of 1.0 to 10.0 mol based on 1 mol of the novolak resin.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 상기 (c) 단계의 반응은 20 내지 80℃에서 5 ~ 15 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the reaction of step (c) is performed at 20 to 80 ° C for 5 to 15 hours.

본 발명의 또 다른 구현예는 상기 에폭시 수지를 조성물 총 중량에 대하여, 5 내지 95 중량%로 포함하는 에폭시 수지 조성물 및 상기 에폭시 수지 조성물의 경화물을 제공한다.
Another embodiment of the present invention provides an epoxy resin composition comprising the epoxy resin in an amount of 5 to 95% by weight based on the total weight of the composition, and a cured product of the epoxy resin composition.

본 발명에 따르면, 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나, 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 요구되는 저 유전특성과 열적 안정성을 균형있게 구현할 수 있는 에폭시 수지를 제공할 수 있다.
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a resin composition which can achieve a balance of low-dielectric property and thermal stability required for a copper-clad laminate used for a printed circuit board, a sealing material used for electronic parts, a molding material, a mold material, an adhesive, An epoxy resin can be provided.

도 1은 본 발명의 실시예 1에서 제조된 에폭시 수지의 FT-IR 측정 그래프이다.1 is a FT-IR measurement graph of an epoxy resin prepared in Example 1 of the present invention.

다른 식으로 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 숙련된 전문가에 의해서 통상적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로, 본 명세서에서 사용된 명명법 은 본 기술분야에서 잘 알려져 있고 통상적으로 사용되는 것이다.Unless otherwise defined, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. In general, the nomenclature used herein is well known and commonly used in the art.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout this specification, when an element is referred to as "including " an element, it is understood that the element may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.

본 발명은 일 관점에서, 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하고, 중량평균분자량이 560 내지 5,600g/mol인 에폭시 수지에 관한 것이다.In one aspect, the present invention relates to an epoxy resin comprising a repeating unit represented by the following formula (1) and having a weight average molecular weight of 560 to 5,600 g / mol.

<화학식 1> &Lt; Formula 1 >

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 1에서, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, n은 1 내지 10의 정수이다.In the above formula (1), R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10.

특히, 상기 화학식 1에서, n은 중합도의 평균치를 나타내고, 1 내지 10의 정수이며, 용매 용해성 및 바니쉬 제작시 점도 측면에서 2 내지 4의 정수이다. 상기 중합도의 평균치는 겔투과크로마노크래피(GPC) 측정에 의한 중량평균분자량으로부터 산출된 값이다.Particularly, in the above formula (1), n represents an average value of degree of polymerization and is an integer of 1 to 10, and is an integer of 2 to 4 in view of solvent solubility and viscosity in varnish production. The average value of the degree of polymerization is a value calculated from the weight average molecular weight measured by gel permeation chromatograph (GPC).

또한, 상기 화학식 1에서, R은 수소 원자 또는 메틸기인 것이 내열성 측면에서 좋다. In the above formula (1), R is preferably a hydrogen atom or a methyl group in terms of heat resistance.

상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 에폭시 수지는 중량평균분자량이 560~ 5,600g/mol로, 만일, 중량평균분자량이 560g/mol 미만인 경우에는 내열성이 낮아지고, 중량평균분자량이 5,600g/mol를 초과하는 경우에는 점도가 상승되거나 또는 겔화되어 작업성 저하 및 다른 수지와의 상용성이 저하될 수 있다.The epoxy resin containing the repeating unit represented by the formula (1) has a weight average molecular weight of 560 to 5,600 g / mol. If the weight average molecular weight is less than 560 g / mol, the heat resistance of the epoxy resin is low and the weight average molecular weight is 5,600 g / mol, the viscosity is It may be elevated or gelled to lower the workability and lower the compatibility with other resins.

또한, 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 에폭시 수지는 연화점이 50℃ 이상으로 함으로써, 수지가 블로킹(blocking)되는 현상 즉, 여름철 등과 같이, 온도 내지 습도가 높은 환경에서 덩어리가 되는 현상을 막을 수 있고, 고온에서의 높은 열적 안정성을 확보할 수 있으며, 110℃ 이하로 함으로써, 수지의 용융을 용이하게 하여 작업성을 좋게 할 수 있는 것이다.The epoxy resin containing the repeating unit represented by the above formula (1) has a softening point of 50 ° C or higher, which causes a phenomenon that the resin is blocked in the resin, that is, a phenomenon in which the resin becomes lumpy in an environment of high temperature and humidity, Can be prevented and high thermal stability at a high temperature can be ensured. By setting the temperature at 110 DEG C or less, the resin can be easily melted and workability can be improved.

또한, 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 에폭시 수지는 에폭시 당량이 240 내지 320g/eq로, 경화제와 배합시 선택적 용이성을 가진다.The epoxy resin containing the repeating unit represented by the formula (1) has an epoxy equivalent of 240 to 320 g / eq, and has an optional ease when mixed with a curing agent.

본 발명에 따른 화학식 1의 반복단위를 포함하는 에폭시 수지는 중간체의 메틸렌 결합으로 인해 메인 체인(main chain) 길이가 연장되고, 분자량이 증대되어 열적 안정성을 확보할 수 있으며, 디사이클로펜타디엔과 비스페놀 화합물 구조에서 발현되는 저 유전특성을 열적 안정성과 균형 있게 구현할 수 있다.The epoxy resin containing the repeating unit represented by formula (1) according to the present invention has a main chain length extended due to the methylene linkage of the intermediate, and the molecular weight can be increased to secure thermal stability, and the dicyclopentadiene and bisphenol The low dielectric properties expressed in the compound structure can be balanced with the thermal stability.

본 발명은 다른 관점에서, (a) 디사이클로펜타디엔 및 비스페놀 화합물을 제1 산 촉매존재하에서 중합시켜 공중합체를 생성하는 단계; (b) 상기 생성된 공중합체와 알데히드 화합물을 제2 산 촉매존재하에서 축합반응시켜 노볼락 수지를 생성하는 단계; 및 (c) 상기 생성된 노볼락 수지와 에피할로히드린을 염기 촉매하에서 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하고, 중량평균분자량이 560 내지 5,600g/mol인 에폭시 수지를 생성하는 단계를 포함하는 에폭시 수지의 제조방법에 관한 것이다.In another aspect, the present invention provides a process for producing a copolymer, comprising: (a) polymerizing a dicyclopentadiene and a bisphenol compound in the presence of a first acid catalyst to produce a copolymer; (b) condensing the resulting copolymer with an aldehyde compound in the presence of a second acid catalyst to produce a novolak resin; And (c) reacting the resulting novolak resin with epihalohydrin under base catalyst to produce an epoxy resin having a weight average molecular weight of 560 to 5,600 g / mol, To a process for producing an epoxy resin.

<화학식 1> &Lt; Formula 1 >

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 1에서, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, n은 1 내지 10의 정수이다.In the above formula (1), R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10.

종래에는 저 유전특성을 구현하는 에폭시 수지를 제조하기 위해 디사이클로펜타디엔과 비스페놀 화합물을 중합시킨 공중합체를 에폭시화하여 사용하였으나, 디사이클로펜타디엔과 비스페놀 화합물만을 사용하여 에폭시화할 경우, 반응물의 입체 장애로 인해 반응이 원활히 진행되지 않아 내열특성 및 유전특성의 한계를 지니고 있었다.Conventionally, a copolymer obtained by polymerizing dicyclopentadiene and a bisphenol compound to prepare an epoxy resin that realizes a low dielectric property is epoxidized. However, when epoxidized using only dicyclopentadiene and a bisphenol compound, The reaction was not proceeded smoothly due to the failure, and thus it had limitations on heat resistance and dielectric properties.

이에, 본 발명에서는 디사이클로펜타디엔과 비스페놀 화합물을 공중합시킨 다음, 노볼락화하여 제조함으로써, 종래 제조된 디사이클로펜타디엔과 비스페놀 화합물의 공중합체 에폭시 수지보다 월등히 우수한 내열특성과 유전 특성을 구현할 수 있다.Accordingly, in the present invention, by copolymerizing dicyclopentadiene and a bisphenol compound followed by making it novolac, heat resistance and dielectric properties far superior to those of a copolymer epoxy resin of a conventionally prepared dicyclopentadiene and a bisphenol compound can be realized have.

구체적으로, 하기 반응식 1로 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 에폭시 수지는 디사이클로펜타디엔(A) 및 비스페놀 화합물(B)를 제1 산 촉매존재하에서 중합시켜 공중합체를 생성하고(a 단계), 생성된 공중합체(C)와 알데히드 화합물(D)을 제2 산 촉매존재하에서 축합반응시켜 노볼락 수지를 생성(b 단계)한 다음, 생성된 노볼락 수지(E)와 에피할로히드린(F)을 염기 촉매하에서 반응시켜 상기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 에폭시 수지를 제조한다.Specifically, as shown in the following Reaction Scheme 1, the epoxy resin according to the present invention is obtained by polymerizing dicyclopentadiene (A) and bisphenol compound (B) in the presence of a first acid catalyst to produce a copolymer (step a) The resulting copolymer (C) and an aldehyde compound (D) are subjected to a condensation reaction in the presence of a second acid catalyst to produce a novolac resin (step b), and the resulting novolak resin (E) and epihalohydrin F) is reacted under a base catalyst to prepare an epoxy resin containing the repeating unit of the formula (1).

[반응식 1][Reaction Scheme 1]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 반응식 1에서, R 및 n은 전술된 바와 같다.In the above Reaction Scheme 1, R and n are as described above.

상기 디사이클로펜타디엔(dicyclopentadiene)과 비스페놀 화합물의 중합은 80 내지 140℃로 1 내지 10시간 동안 수행할 수 있다. 만일, 전술된 반응온도 범위 미만으로 반응을 수행할 경우, 반응이 원활히 진행되지 않아 전환율이 낮아지고, 전술된 온도 범위를 초과하여 반응을 수행할 경우에는 디사이클로펜타디엔끼리 자중합되거나 분자량 및 분자량 분포를 용이하게 조절하기 어려울 수 있다. The polymerization of the dicyclopentadiene and the bisphenol compound can be carried out at 80 to 140 ° C for 1 to 10 hours. If the reaction is carried out at a temperature lower than the reaction temperature range described above, the reaction does not proceed smoothly and the conversion is lowered. When the reaction is carried out in a temperature range exceeding the above-mentioned temperature range, dicyclopentadiene- It may be difficult to easily adjust the distribution.

상기 비스페놀 화합물은 탄소 원자 양쪽에 페놀이 결합된 화합물이면 제한 없이 사용 가능하고, 구체적인 예로서, 비스페놀 A, 비스페놀 B, 비스페놀 F, 비스페놀 E 등일 수 있으며, 내열성 확보 측면에서 바람직하게는 비스페놀 A일 수 있다.The bisphenol compound may be bisphenol A, bisphenol B, bisphenol F, bisphenol E or the like as long as it is a compound having phenol bonded to both carbon atoms. Specific examples thereof include bisphenol A, have.

상기 비스페놀 화합물은 디사이클로펜타디엔 1몰에 대하여, 1.0 ~ 10.0몰, 바람직하게는 2.0 ~ 5.0로 사용할 수 있다. 만일, 비스페놀 화합물을 디사이클로펜타디엔 1몰에 대하여, 1.0몰 미만으로 첨가시킬 경우, 반응이 원활히 진행되지 않아 생성물의 분자량이 작아지는 문제가 발생될 수 있고, 10몰을 초과하여 첨가시킬 경우에는 수지내 미반응 비스페놀 화합물이 다량 존재하는 문제가 발생될 수 있다. The bisphenol compound may be used in an amount of 1.0 to 10.0 moles, preferably 2.0 to 5.0 moles, per 1 mole of dicyclopentadiene. If the amount of the bisphenol compound added is less than 1.0 mole based on 1 mole of the dicyclopentadiene, the reaction may not proceed smoothly, resulting in a problem that the molecular weight of the product is reduced. When the addition exceeds 10 moles, There may be a problem that a large amount of unreacted bisphenol compound is present in the resin.

상기 디사이클로펜타디엔과 비스페놀 화합물의 중합에 사용되는 제1 산 촉매로는 사염화 주석, 삼플루오르화 붕소, 삼염화 붕소, 염화아연, 삼염화철, 트리메칠실릴트리플루오로메탄술포네이트, 포스포릴클로라이드, 알루미늄클로라이드 등과 같은 루이스산을 1종 이상 사용할 수 있다.The first acid catalyst used in the polymerization of the dicyclopentadiene and the bisphenol compound includes tin tetrachloride, boron trifluoride, boron trichloride, zinc chloride, trichloride, trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, phosphoryl chloride, Aluminum chloride, and the like.

이때, 상기 제1 산 촉매의 함량은 비스페놀 화합물 100 중량부에 대하여, 0.1 내지 2.0 중량부를 사용하는 것으로, 0.1 중량부 미만으로 사용할 경우에는 반응이 잘 진행되지 않는 문제점이 발생될 수 있고, 2.0 중량부를 초과하는 경우에는 반응 중 발열이 심하여 폭주반응이 일어남에 따라 안전상의 문제가 발생될 수 있다.In this case, the content of the first acid catalyst is 0.1 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the bisphenol compound. When the amount of the first acid catalyst is less than 0.1 parts by weight, the reaction may not proceed well, If the amount exceeds the above range, heat generation during the reaction is severe, so that a runaway reaction may occur and safety problems may occur.

전술된 바와 같이 제조된 디사이클로펜타디엔 및 비스페놀 화합물의 공중합체는 알데히드 화합물과 제2 산 촉매존재하에서 축합반응시켜 상기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 노볼락 수지를 제조한다.The copolymer of the dicyclopentadiene and the bisphenol compound prepared as described above is subjected to a condensation reaction in the presence of an aldehyde compound and a second acid catalyst to prepare a novolak resin containing the repeating unit of the above formula (1).

전술된 바와 같이 제조된 디사이클로펜타디엔 및 비스페놀 화합물의 공중합체는 알데히드 화합물과 제2 산 촉매존재하에서 축합반응시켜 상기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 노볼락 수지를 제조한다.The copolymer of the dicyclopentadiene and the bisphenol compound prepared as described above is subjected to a condensation reaction in the presence of an aldehyde compound and a second acid catalyst to prepare a novolak resin containing the repeating unit of the above formula (1).

상기 알데히드 화합물은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 구체적인 예로서, 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 살리실릭알데히드, 벤즈알데히드, 글리옥살 및 부틸알데히드로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있고, 상기 포름알데히드로서는 그 중합체인 p-포름알데히드나, 수용액의 형태인 포르말린 등의 형태로 사용할 수 있다.The aldehyde compound may be at least one selected from the group consisting of formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, salicylic aldehyde, benzaldehyde, glyoxal and butylaldehyde, though not particularly limited. As the formaldehyde, Formaldehyde, which is a polymer thereof, and formalin, which is in the form of an aqueous solution.

상기 알데히드 화합물은 공중합체 1몰에 대하여, 0.1 ~ 0.99몰, 바람직하게는 0.7 ~ 0.9몰로 첨가시킬 수 있다. 만일, 상기 알데히드 화합물이 공중합체 1몰에 대하여, 0.1몰 미만으로 첨가시킬 경우에는 중합도가 낮아서 메틸렌 결합이 제대로 형성되지 않고, 0.99몰을 초과하여 첨가시킬 경우에는 반응이 과도하게 진행되어 분자량 제어가 어려울 수 있다. The aldehyde compound may be added in an amount of 0.1 to 0.99 mole, preferably 0.7 to 0.9 mole, per mole of the copolymer. If the aldehyde compound is added in an amount of less than 0.1 moles per mole of the copolymer, the degree of polymerization is low and the methylene bond is not properly formed. When the aldehyde compound is added in excess of 0.99 mole, the reaction proceeds excessively, It can be difficult.

상기 공중합체와 알데히드 화합물의 축합반응에 사용되는 제2 산 촉매로는 옥살산, 황산, 인산, 염산 및 초산 중 선택되는 무기산; 및 파라톨루엔술폰산, 벤젠술폰산, 페놀술폰산, 락트산, 아세트산 및 포름산 중 선택되는 유기산으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있고, 활성 및 촉매제거가 용이한 점에서 옥살산을 사용할 수 있다.The second acid catalyst used in the condensation reaction of the copolymer and the aldehyde compound includes inorganic acids selected from oxalic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid and acetic acid; And at least one organic acid selected from the group consisting of para-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, phenolsulfonic acid, lactic acid, acetic acid and formic acid, and oxalic acid may be used because it is easy to remove the activity and catalyst.

이때, 상기 제2 산 촉매의 함량은 공중합체 100 중량부에 대하여, 0.1 내지 3.0 중량부를 사용하는 것으로, 0.1 중량부 미만으로 사용할 경우에는 활성화 에너지가 낮아 반응이 잘 진행되지 않는 문제점이 발생될 수 있고, 3.0 중량부를 초과하는 경우에는 반응 중 발열이 심하여 폭주반응이 일어남에 따라 안전상의 문제가 발생될 수 있다.In this case, the content of the second acid catalyst is 0.1 to 3.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer. When the amount of the second acid catalyst is less than 0.1 parts by weight, the activation energy is low, If the amount is more than 3.0 parts by weight, heat generation during the reaction is severe, and congestion reaction may occur, which may cause safety problems.

본 발명에 있어서, 제1 및 제2 산 촉매는 반응물들과 함께 투입되거나, 또는 반응물들이 혼합된 후, 반응 단계에서 투입될 수 있다.In the present invention, the first and second acid catalysts can be added together with the reactants, or after the reactants are mixed, they can be introduced in the reaction step.

또한, 본 발명에 있어서는 반응의 다른 형태로서 반응기질 자체를 용매로 하는 것이 바람직하지만, 다른 반응용매를 사용하는 것도 가능하다. 이때, 반응용매로는 반응을 저해하지 않는 것이면 특별히 제한되지 않고, 그 일 예로, 톨루엔, 자일렌, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 1-메톡시-2-프로판올, 2-메톡시에탄올 등을 사용할 수 있으며, 그 함량은 총 반응물 100 중량부에 대하여, 20 내지 80 중량부로 사용할 수 있다.Further, in the present invention, as another form of the reaction, it is preferable to use the reaction substrate itself as a solvent, but it is also possible to use another reaction solvent. The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Examples of the reaction solvent include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, 1-methoxy- -Methoxyethanol and the like, and the content thereof may be 20 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the total reaction product.

축합 반응이 종료된 후에는, 진공흡입, 가열 등을 통하여 반응에 의해 생성된 물, 산촉매, 반응용매, 미반응된 디사이클로펜타디엔, 비스페놀 화합물, 알데히드 화합물 등을 제거한다. 또한, 불순물 제거를 위해 이온교환수를 투입하여 수세공정을 진행할 수 있다. 이때, 상기 이온교환수의 투입량은 전체 반응 생성물 중량의 약 10중량% 내지 100 중량%일 수 있으며, 이온교환수 투입에 의한 수세공정은 1회 또는 수회까지 할 수도 있다.After completion of the condensation reaction, water produced by the reaction, an acid catalyst, a reaction solvent, unreacted dicyclopentadiene, a bisphenol compound, an aldehyde compound and the like are removed through vacuum suction, heating and the like. In addition, the ion exchange water may be added to remove the impurities, and the water washing process may proceed. In this case, the amount of the ion-exchange water may be about 10% to 100% by weight of the total weight of the reaction product, and the washing step by ion-exchange water may be performed once or several times.

또한, 상기 반응 생성물에 대하여 상압 또는 0 내지 160mmHg의 감압하에서 탈수를 진행할 수 있다. 상기 탈수는 150 내지 200℃의 범위에서 이루어질 수 있으며, 추가적으로 스팀 블로우 증류 공정을 진행할 수도 있다.Further, the reaction product may be dehydrated under normal pressure or reduced pressure of 0 to 160 mmHg. The dehydration may be performed at a temperature in the range of 150 to 200 ° C, and the steam blow distillation process may be further performed.

이와 같은 방법으로 생성된 노볼락 수지는 에피할로히드린과 염기 촉매 존재하에서 반응시켜 글리시딜화하는 것에 의해 에폭시 수지를 제조할 수 있다.The novolac resin produced in this manner can be produced by glycidylating the epihalohydrin in the presence of a base catalyst.

본 발명에 있어서, 노볼락 수지의 글리시딜화는 에피할로히드린과 반응시켜 제조할 수 있는 방법이면 특별한 제한 없이 사용 가능하고, 바람직하게는 염기 촉매 존재하에 노볼락 수지와 에피할로히드린 단량체의 중/축합반응으로 수행할 수 있다. 이때, 중/축합반응은 20 내지 80℃에서 5 내지 15시간 동안 수행할 수 있다.In the present invention, the glycidylation of the novolak resin can be carried out without particular limitation as long as it can be produced by reacting with epihalohydrin. Preferably, the novolak resin and the epihalohydrin Condensation reaction of the monomers. At this time, the heavy / condensation reaction can be carried out at 20 to 80 ° C for 5 to 15 hours.

상기 에피할로히드린은 에피클로로히드린, 에피요오드히드린, 에피브로모히드린, 메틸에피클로로히드린, 메틸에피브로모히드린, 메틸에피요오드히드린 등 일 수 있고, 반응성 및 가격 측면에서 바람직하게 에피클로로히드린일 수 있다.The epihalohydrin may be epichlorohydrin, epi-iodohydrin, epibromohydrin, methyl epichlorohydrin, methyl epibromohydrin, methyl epi-iodohydrin, etc., Lt; RTI ID = 0.0 &gt; epichlorohydrin. &Lt; / RTI &gt;

또한, 상기 에피할로히드린은 노볼락 수지 1몰에 대하여, 1.0 내지 10.0몰을 사용하는 것으로, 에피할로히드린이 1.0 몰 미만으로 사용할 경우에는 에폭시화 반응이 제대로 일어나지 않고, 10.0몰을 초과할 경우에는 에피할로히드린을 회수하는 비용이 많이 발생되고, 생산량이 감소하는 문제가 발생될 수 있다. The epihalohydrin is used in an amount of 1.0 to 10.0 mol based on 1 mol of the novolac resin. When epihalohydrin is used in an amount less than 1.0 mol, the epoxidation reaction does not take place properly, and 10.0 mol There is a problem that the cost of recovering the epihalohydrin is increased and the production amount is decreased.

상기 염기촉매는 글리시딜화 반응에 사용할 수 있는 촉매이면 특별히 제한 없이 사용할 수 있고, 바람직하게는 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 염기촉매일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 20 내지 60% 농도의 수산화나트륨인 것이 제조된 수지의 부산물 생성의 최소화 및 반응속도에 있어서 적합하다. The base catalyst may be any catalyst as long as it can be used in the glycidylation reaction. The base catalyst may be a base catalyst such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, more preferably a sodium hydroxide having a concentration of 20 to 60% Is suitable for minimizing the production of by-products of the resin and for the reaction rate.

상기 염기 촉매의 함량은 노볼락 수지 1몰에 대하여, 0.3 내지 3.0몰로 사용하는 것으로, 상기 함량범위를 벗어나는 경우에는 에폭시링 형성이 원활히 진행되지 않거나, 또는 반응이 과하게 진행되어 분자량 및 분자량 분포도 제어가 어렵고, 발열이 심하여 폭주반응이 일어남에 따라 안전상의 문제가 발생될 수 있다.The content of the base catalyst is in the range of 0.3 to 3.0 mol per mol of the novolac resin. When the content of the base catalyst is out of the range, the epoxy ring does not proceed smoothly or the reaction proceeds excessively, It is difficult to generate heat, so that a runaway reaction occurs, which may cause safety problems.

이와 같은 제조방법으로 얻어진 에폭시 수지는 종래 동박적층판용 에폭시 수지보다 낮은 유전특성과 높은 내열성을 구현할 수 있어 신호의 고속화 및 고주파화에 적합한 동박적층판이나, 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 유용하게 사용될 수 있다.The epoxy resin obtained by such a production method can realize a lower dielectric property and heat resistance than conventional epoxy resin for a copper clad laminate, and is suitable for high speed and high frequency signal, a sealing material used for electronic parts, a molding material, , Adhesives, and materials for electrical insulation paints.

본 발명은 또 다른 관점에서, 상기 에폭시수지를 조성물 총중량에 대하여, 5 ~ 95중량%로 포함하는 에폭시수지 조성물 및 상기 에폭시수지 조성물의 경화물에 관한 것이다.In another aspect, the present invention relates to an epoxy resin composition comprising the epoxy resin in an amount of 5 to 95% by weight based on the total weight of the composition, and a cured product of the epoxy resin composition.

본 발명에 따른 에폭시 수지는 내열성, 유전특성 등을 고려하여 조성물 총 중량에 대하여, 5 내지 95 중량%를 첨가할 수 있다. 만약, 조성물 전체 중량에 대하여, 에폭시수지가 5 중량% 미만으로 첨가될 경우, 그 효과가 미비하고, 95중량%를 초과하여 첨가되는 경우에는 내열성이 저하될 수 있다.The epoxy resin according to the present invention may be added in an amount of 5 to 95% by weight based on the total weight of the composition in consideration of heat resistance, dielectric properties, and the like. If the epoxy resin is added in an amount of less than 5% by weight based on the total weight of the composition, the effect is insufficient. If the epoxy resin is added in an amount exceeding 95% by weight, the heat resistance may be lowered.

상기 에폭시 수지 조성물은 우수한 저유전특성 및 고내열성을 가져 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 적합한 저 유전특성을 균형있게 구현할 수 있는 경화물을 제공할 수 있다.
The above-mentioned epoxy resin composition has excellent low dielectric properties and high heat resistance to balance low dielectric properties suitable for a sealing material, a molding material, a mold material, an adhesive, and an electric insulation paint material used for a copper-clad laminate used for a printed circuit board or an electronic component A cured product can be provided.

이하, 본 발명을 실시예에 의거 상세히 설명하면 다음과 같은바, 본 발명이 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[[ 실시예Example 1] One]

1-1: 공중합체 합성 1-1: Synthesis of Copolymer

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 플라스크에 질소 가스 퍼지를 실시하면서 비스페놀 A(금호P&B社 BPA) 2,800g(12.27mol)와 자일렌 1,600g을 넣고, BF3-phenolate(Stella Chemifa Corp社 26% Boron Trifluoride Phenol) 40g을 투입한 후, 100℃까지 승온시키고, 디사이클로펜타디엔 770g(5.83mol)을 3시간 동안 균일적하하였다. 균일적하 이후, 140℃까지 승온하여 3시간 동안 반응시키고, 반응이 완료되면, 중화제로 KW-1000(Kyowa Chemical社)를 투입하여 95℃에서 2시간 동안 중화시켰다. 중화가 완료되면 규조토 Filtering을 통해 공중합체 2,040g를 수득하였다.
2,800 g (12.27 mol) of bisphenol A (BPA, Kumho P & B) and 1,600 g of xylene were placed in a flask equipped with a thermometer, a cooling tube, and a stirrer and charged with BF 3 -phenolate (Stella Chemifa Corp. 26% Boron Trifluoride Phenol) was charged, the temperature was raised to 100 ° C, and 770 g (5.83 mol) of dicyclopentadiene was uniformly added dropwise over 3 hours. After the homogeneous dropwise addition, the mixture was heated to 140 ° C and reacted for 3 hours. When the reaction was completed, KW-1000 (Kyowa Chemical) was added as a neutralizing agent and neutralized at 95 ° C for 2 hours. When the neutralization was completed, 2,040 g of a copolymer was obtained through diatomaceous earth filtering.

1-2: 1-2: 노볼락Novolac 수지 합성 Resin synthesis

실시예 1-1에서 제조된 공중합체 2,040g(3.83mol)에 40wt%의 포름알데히드 300g(3.73mol)을 투입하고, 제2 산 촉매로 옥살산 16g을 첨가하였다. 환류(reflux) 회로하에서 100℃까지 승온하여 5시간 동안 반응을 진행하고, 온도 175℃와 진공도 0mmHg 이상에서 1시간 동안 진공 탈수를 통해 축합수와 미반응물 및 용매를 제거하여 노볼락 수지 2,600g를 제조하였다.300 g (3.73 mol) of 40% by weight formaldehyde was added to 2,40 g (3.83 mol) of the copolymer prepared in Example 1-1, and 16 g of oxalic acid was added as a second acid catalyst. The reaction was carried out for 5 hours under a reflux circuit. The condensed water, unreacted material and solvent were removed by vacuum dehydration for 1 hour at a temperature of 175 ° C and a vacuum degree of 0 mmHg or higher to obtain 2,600 g of novolak resin .

상기 수득된 노볼락 수지의 연화점은 107.1℃이고, 페놀성 히드록실기 당량은 187g/eq이며, GPC에 의한 중량평균분자량은 1,011g/mol이었다.
The obtained novolak resin had a softening point of 107.1 ° C, a phenolic hydroxyl group equivalent of 187 g / eq, and a weight average molecular weight of 1,011 g / mol by GPC.

1-3: 에폭시 수지 제조1-3: Epoxy resin manufacturing

실시예 1-2에서 수득된 노볼락 수지 600g(3.21mol)과 에피클로로하이드린 1800g(19.46mol)을 5L 4구 플라스크에 투입하여 충분히 혼합한 다음, KOH(45wt%) 60g을 투입하고, 60℃에서 5시간 동안 반응시켰다. 이어서, NaOH(50wt%) 350g을 투입하고 5 시간 동안 반응시켰다. 반응이 완료된 후, 물 650g을 투입하여 반응 중 생성된 염을 제거하고, 미반응된 에피클로로하이드린을 진공 탈기하여 완전히 제거하였다. 미반응된 에피클로로하이드린이 완전히 제거된 혼합물에 메틸아이소뷰틸케톤(methyl isobutyl ketone; MIBK)을 투입하여 희석한 다음, 350g의 물로 2회 수세과정과 정제반응을 통해 염과 가수분해성 염소분을 제거하고, 인산 0.5g을 투입하여 중화를 진행하고 탈기시켜 중량평균분자량이 1,210g/mol이고, 연화점이 76.6℃이며, 에폭시 당량이 282g/eq인 에폭시 수지(화학식 1에서, R은 메틸기이고, n은 3 임) 700g를 제조하였다.600 g (3.21 mol) of the novolac resin obtained in Example 1-2 and 1800 g (19.46 mol) of epichlorohydrin were put into a 5 L four-necked flask and sufficiently mixed. Then, 60 g of KOH (45 wt% Lt; 0 &gt; C for 5 hours. Subsequently, 350 g of NaOH (50 wt%) was added and reacted for 5 hours. After the reaction was completed, 650 g of water was added to remove the salt formed during the reaction, and the unreacted epichlorohydrin was completely removed by vacuum degassing. The mixture was diluted by adding methyl isobutyl ketone (MIBK) to the mixture which had been completely removed from the unreacted epichlorohydrin, and then washed twice with 350 g of water and purified to obtain a salt and hydrolyzable chlorine And neutralized and degassed by adding 0.5 g of phosphoric acid to prepare an epoxy resin having a weight average molecular weight of 1,210 g / mol, a softening point of 76.6 DEG C and an epoxy equivalent of 282 g / eq (wherein R is a methyl group, n is 3).

이와 같이 수득된 노볼락 수지는 FT-IR(도 1)를 이용하여 구조를 확인한 결과, 913cm-1 영역에서 에폭시 링 피크가 생성된 것을 확인할 수 있었다. 이때, FT-IR 측정에 사용된 기기는 PerkinElmer社 Spectrum 100 제품이다.
The novolak resin thus obtained was confirmed to have an epoxy ring peak in the region of 913 cm -1 by confirming the structure using FT-IR (FIG. 1). At this time, the instrument used for FT-IR measurement is PerkinElmer Spectrum 100 product.

[[ 비교예Comparative Example 1] One]

1-1: 공중합체 합성 1-1: Synthesis of Copolymer

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 플라스크에 질소 가스 퍼지를 실시하면서 페놀(금호P&B社) 2,800g(12.27mol)을 넣고, BF3-phenolate(Stella Chemifa Corp社 26% Boron Trifluoride Phenol) 30g을 투입한 후, 100℃까지 승온시키고, 디사이클로펜타디엔 1000g(7.58mol)을 3시간 동안 균일적하하였다. 균일적하 이후, 140℃까지 승온하여 3시간 동안 반응시키고, 반응이 완료되면, 중화제로 KW-1000(Kyowa Chemical社) 투입하여 95℃에서 2시간 동안 중화시켰다. 중화가 완료되면 규조토 Filtering을 통해 디사이클로펜타디엔-페놀 공중합체 2,070g를 수득하였다.
Add 2,800 g (12.27 mol) of phenol (Kumho P & B) to a flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, and add 30 g of BF 3 -phenolate (Stella Chemifa Corp. 26% Boron Trifluoride Phenol) Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C, and 1,000 g (7.58 mol) of dicyclopentadiene was uniformly added dropwise over 3 hours. After the homogeneous dropwise addition, the temperature was raised to 140 ° C and reacted for 3 hours. When the reaction was completed, KW-1000 (Kyowa Chemical) was added as a neutralizing agent and neutralized at 95 ° C for 2 hours. When the neutralization was completed, 2,070 g of dicyclopentadiene-phenol copolymer was obtained through diatomaceous earth filtering.

1-2: 에폭시 수지 제조1-2: Epoxy resin production

비교예 1-1에서 수득된 디사이클로펜타디엔-페놀 공중합체 600g(3.59mol)과 에피클로로하이드린 2498g(27mol)을 5L 4구 플라스크에 투입하여 충분히 혼합한 다음, KOH(45wt%) 85g을 투입하고, 60℃에서 5시간 동안 반응시켰다. 이어서, NaOH(50wt%) 500g을 투입하고 5 시간 동안 반응시켰다. 반응이 완료된 후, 물 700g을 투입하여 반응 중, 생성된 염을 제거하고, 미반응된 에피클로로하이드린을 진공 탈기하여 완전히 제거하였다. 미반응된 에피클로로하이드린이 완전히 제거된 혼합물에 메틸아이소뷰틸케톤(methyl isobutyl ketone; MIBK)을 투입하여 희석한 다음, 350g의 물로 2회 수세과정과 정제반응을 통해 염과 가수분해성 염소분을 제거하고, 인산 0.5g을 투입하여 중화를 진행하고 탈기시켜 중량평균분자량이 628g/mol이고, 연화점이 65℃이며, 에폭시 당량이 279.6g/eq인 에폭시 수지 800g를 제조하였다.
600 g (3.59 mol) of the dicyclopentadiene-phenol copolymer obtained in Comparative Example 1-1 and 2498 g (27 mol) of epichlorohydrin were put into a 5 L four-necked flask, and sufficiently mixed. Then, 85 g of KOH (45 wt% And the mixture was reacted at 60 DEG C for 5 hours. Subsequently, 500 g of NaOH (50 wt%) was added and reacted for 5 hours. After the completion of the reaction, 700 g of water was added to remove the salt formed during the reaction, and the unreacted epichlorohydrin was completely removed by vacuum degassing. The mixture was diluted by adding methyl isobutyl ketone (MIBK) to the mixture which had been completely removed from the unreacted epichlorohydrin, and then washed twice with 350 g of water and purified to obtain a salt and hydrolyzable chlorine 0.5 g of phosphoric acid was added to neutralize and degassed to prepare 800 g of an epoxy resin having a weight average molecular weight of 628 g / mol, a softening point of 65 캜, and an epoxy equivalent of 279.6 g / eq.

[[ 비교예Comparative Example 2] 2]

2-1: 공중합체 합성 2-1: Synthesis of copolymer

온도계, 냉각관, 교반기를 장착한 플라스크에 질소 가스 퍼지를 실시하면서 비스페놀 A(금호P&B社 BPA) 2,800g(12.27mol)와 자일렌 1,600g을 넣고, BF3-phenolate(Stella Chemifa Corp社 26% Boron Trifluoride Phenol) 40g을 투입한 후, 100℃까지 승온시키고, 디사이클로펜타디엔 770g(5.83mol)을 3시간 동안 균일적하하였다. 균일적하 이후, 140℃까지 승온하여 3시간 동안 반응시키고, 반응이 완료되면, 중화제로 KW-1000(Kyowa Chemical社) 투입하여 95℃에서 2시간 동안 중화시켰다. 중화가 완료되면 규조토 Filtering을 통해 디사이클로펜타디엔-비스페놀 A 공중합체 2,040g를 수득하였다.
2,800 g (12.27 mol) of bisphenol A (BPA, Kumho P & B) and 1,600 g of xylene were placed in a flask equipped with a thermometer, a cooling tube, and a stirrer and charged with BF 3 -phenolate (Stella Chemifa Corp. 26% Boron Trifluoride Phenol) was charged, the temperature was raised to 100 ° C, and 770 g (5.83 mol) of dicyclopentadiene was uniformly added dropwise over 3 hours. After the homogeneous dropwise addition, the temperature was raised to 140 ° C and reacted for 3 hours. When the reaction was completed, KW-1000 (Kyowa Chemical) was added as a neutralizing agent and neutralized at 95 ° C for 2 hours. When the neutralization was completed, 2,040 g of dicyclopentadiene-bisphenol A copolymer was obtained through diatomaceous earth filtering.

2-2: 에폭시 수지 제조 2-2: Production of epoxy resin

비교예 2-1에서 수득된 디사이클로펜타디엔-비스페놀 A 공중합체 600g(3.08mol)과 에피클로로하이드린 1400g(15.14mol)을 5L 4구 플라스크에 투입하여 충분히 혼합한 다음, KOH(45wt%) 50g을 투입하고, 60℃에서 5시간 동안 반응시켰다. 이어서, NaOH(50wt%) 300g을 투입하고 5 시간 동안 반응시켰다. 반응이 완료된 후, 물 600g을 투입하여 반응 중 생성된 염을 제거하고, 미반응된 에피클로로하이드린을 진공 탈기하여 완전히 제거하였다. 미반응된 에피클로로하이드린이 완전히 제거된 혼합물에 메틸아이소뷰틸케톤(methyl isobutyl ketone; MIBK)을 투입하여 희석한 다음, 350g의 물로 2회 수세과정과 정제반응을 통해 염과 가수분해성 염소분을 제거하고, 인산 0.5g을 투입하여 중화를 진행하고 탈기시켜 중량평균분자량이 775g/mol이고, 연화점이 64.2℃이며, 에폭시 당량이 283g/eq인 에폭시 수지 700g를 제조하였다
600 g (3.08 mol) of the dicyclopentadiene-bisphenol A copolymer obtained in Comparative Example 2-1 and 1400 g (15.14 mol) of epichlorohydrin were put into a 5 L four-necked flask and thoroughly mixed. Then, KOH (45 wt% And the mixture was reacted at 60 DEG C for 5 hours. Subsequently, 300 g of NaOH (50 wt%) was added and reacted for 5 hours. After completion of the reaction, 600 g of water was added to remove the salt formed during the reaction, and the unreacted epichlorohydrin was completely removed by vacuum degassing. The mixture was diluted by adding methyl isobutyl ketone (MIBK) to the mixture which had been completely removed from the unreacted epichlorohydrin, and then washed twice with 350 g of water and purified to obtain a salt and hydrolyzable chlorine And 0.5 g of phosphoric acid was added to neutralize and degassed to obtain 700 g of an epoxy resin having a weight average molecular weight of 775 g / mol, a softening point of 64.2 캜, and an epoxy equivalent of 283 g / eq

<특성평가 방법>&Lt; Property evaluation method &

(1) 분자량(g/mol) 측정(1) Measurement of molecular weight (g / mol)

겔 투과 크로마토그래피(GPC)(Waters: Waters707)에 의해 폴리스티렌 환산 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)을 구하였다. 측정 수지는 4000ppm의 농도가 되도록 테트라히드로푸란에 용해시켜 GPC에 100㎕를 주입하였다. GPC의 이동상은 테트라히드로푸란을 사용하고, 1.0mL/분의 유속으로 유입하였으며, 분석은 35℃에서 수행하였다. 컬럼은 Waters HR-05,1,2,4E 4개를 직렬로 연결하였다. 검출기로는 RI and PAD Detecter를 이용하여 35℃에서 측정하였다. 이때, PDI(다분산 지수)는 측정된 중량평균분자량을 수평균분자량으로 나누어 산출하였다.
The polystyrene reduced weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) were determined by gel permeation chromatography (GPC) (Waters: Waters 707). The measurement resin was dissolved in tetrahydrofuran so as to have a concentration of 4000 ppm, and 100 μl was injected into GPC. The mobile phase of GPC was run at a flow rate of 1.0 mL / min using tetrahydrofuran and the assay was performed at 35 &lt; 0 &gt; C. The column was connected in series with four Waters HR-05, 1, 2, and 4E. Detector was measured at 35 ℃ using RI and PAD Detector. At this time, the PDI (polydispersity index) was calculated by dividing the measured weight average molecular weight by the number average molecular weight.

(2) 연화점(℃) 측정(2) Softening point (° C) measurement

Mettler Toledo社제 FP90/FP83HT 기기를 이용하여 2℃/min.의 승온 속도로 측정하였다.
Was measured using a Mettler Toledo FP90 / FP83HT instrument at a heating rate of 2 [deg.] C / min.

(3) 에폭시 당량(g/eq) 측정(3) Measurement of epoxy equivalent (g / eq)

측정 수지 7g에 HCl 용액을 과량 투입 후 70℃ Oil bath에서 30분간 Epoxy Ring을 깨는 반응을 시킨 다음, 그 후 NaOH로 역적정하여 당량을 측정하였다.
The excess amount of HCl solution was added to 7 g of the measurement resin, and the epoxy ring was broken in an oil bath at 70 ° C for 30 minutes. Then, the equivalent amount was determined by reversing with NaOH.

(3) 가수분해성 염소(Hy-Cl) 함량 측정(3) Measurement of hydrolyzable chlorine (Hy-Cl) content

측정 수지 0.5g을 톨루엔에 녹이고, KOH 용액을 과량 투입 후 Oil Bath에서 30분간 반응을 시킨 다음, 그 후 HCl 용액으로 역적정하여 가수분해성 염소분을 측정하였다.
0.5 g of the measuring resin was dissolved in toluene, the KOH solution was added in an excess amount, the reaction was carried out in an oil bath for 30 minutes, and then the hydrolyzable chlorine was measured by reversing with HCl solution.

(5) 동박적층판 제조(5) Manufacture of copper clad laminates

활성 수소 당량(AHEW)이 10.5g/eq인 DICY 경화제(Samchun Pure Chemicla社, dicyandiamide)와 에폭시 수지(각 실시예 및 비교예의 에폭시 수지)를 당량비 1:1로 혼합한 뒤, 경화촉진제로서 2MI(2-methylimidazole)을 추가투입하면서 Gel-Time이 약 260sec 정도 나오도록 조정하여 Varnish를 제작하였다. 상기 Gel-Time은 Hot Plate위에서 Varnish 0.2cc를 떨어뜨린 후 교반하면서 Gelation이 일어나는 지점을 측정하였다. 유리섬유를 30cm × 30cm의 크기로 재단하여 바니쉬에 함침하고, 함침된 유리섬유는 상온에서 1시간 가량 건조한 후 155℃ 오븐에서 건조하여 Prepreg Gel-Time이 약 110sec 정도 나오도록 건조 시간을 설정하였다. 설정된 건조 시간으로 건조된 Prepreg를 동박과 함께 적층하여 고온 가압하에서 프레스 하여 동박적층판을 제조하였다. 이때, 상기 프레스 조건은 190℃에서 0mmHg 진공도로 2시간 유지하였다.
A DICY curing agent (Samchun Pure Chemicla, dicyandiamide) having an active hydrogen equivalent (AHEW) of 10.5 g / eq was mixed with an epoxy resin (epoxy resin of each of Examples and Comparative Examples) in an equivalent ratio of 1: 2-methylimidazole) was added and the gel-time was adjusted to be about 260 sec. The gel-time was measured by dropping 0.2 cc of varnish on a hot plate and stirring the gelation. The glass fibers were cut into a size of 30 cm x 30 cm and impregnated with the varnish. The impregnated glass fibers were dried at room temperature for 1 hour and then dried in an oven at 155 ° C to set the drying time such that the prepreg gel time was about 110 sec. The prepreg dried at the set drying time was laminated together with the copper foil, and pressed under high temperature and pressure to prepare a copper clad laminate. At this time, the press condition was maintained at 190 占 폚 under 0 mmHg vacuum for 2 hours.

(6) 유리전이온도(℃) 측정(6) Glass transition temperature (캜) measurement

(5)에서 수득된 동박적층판(300mm×300mm×300mm)의 유리전이온도를 시차주사열량계 (DSC, TA Instrument社제 Q2000)로 측정하였다(측정부위: 중앙부, 20mg. 측정조건: 질소 분위기, 20℃/min.의 승온 속도로 250℃까지 승온).
The glass transition temperature of the copper-clad laminate (300 mm x 300 mm x 300 mm) obtained in (5) was measured with a differential scanning calorimeter (DSC, Q2000 manufactured by TA Instrument Co., Ltd.) Lt; / RTI &gt; at a rate of temperature rise of &lt; RTI ID = 0.0 &gt;

(7) 유전율 측정(7) Measurement of dielectric constant

Agilent사의 임피던스 분석기(Agilent E4991A 1MHz ~ 3GHz)를 이용하여 하기 조건에서 경화물의 유전율(Dk) 및 유전 정접(Df)을 측정하였다.The dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) of the cured product were measured using an impedance analyzer (Agilent E4991A 1 MHz to 3GHz) manufactured by Agilent under the following conditions.

측정 주파수:1GHzMeasuring frequency: 1GHz

측정 온도: 25 ~ 27℃Measuring temperature: 25 ~ 27 ℃

측정 습도:45 ~ 55%Measuring humidity: 45 ~ 55%

측정 시료:두께 1.5mm(1.3-1.7mm)
Measurement sample: thickness 1.5 mm (1.3-1.7 mm)

연화점
(℃)
Softening point
(° C)
EEW
(g/eq)
EEW
(g / eq)
Hy-Cl
(ppm)
Hy-Cl
(ppm)
Mn
(g/mol)
Mn
(g / mol)
Mw
(g/mol)
Mw
(g / mol)
PDIPDI Tg
(℃)
Tg
(° C)
DkDk DfDf
비교예1Comparative Example 1 6565 258258 5050 475475 628628 1.321.32 176.2176.2 3.53.5 0.0180.018 비교예2Comparative Example 2 64.264.2 283283 8080 470470 775775 1.651.65 166.5166.5 3.083.08 0.01150.0115 실시예1Example 1 76.676.6 282282 9292 560560 12101210 2.372.37 180.1180.1 3.033.03 0.01050.0105

표 1에 나타난 바와 같이, 비교예 2는 비교예 1보다 유전특성이 우수하지만 내열특성이 떨어짐을 확인할 수 있고, 실시예 1은 비교예 1 및 2와 동등 이상 수준의 유전 특성을 유지하면서 비교예 1 및 2에 비해 내열성이 우수함을 확인할 수 있었다.As shown in Table 1, it was confirmed that Comparative Example 2 had better dielectric properties than Comparative Example 1, but deteriorated in heat resistance characteristics. Example 1 shows that the dielectric characteristics of Comparative Example 1 and Comparative Example 1 were maintained, 1 and 2, respectively.

따라서, 본 발명에 따른 에폭시 수지는 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나, 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 요구되는 저 유전특성과 열적 안정성을 균형있게 구현할 수 있음을 알 수 있었다.
Therefore, the epoxy resin according to the present invention balances the low dielectric properties and thermal stability required for a copper-clad laminate used in a printed circuit board, a sealing material used for electronic parts, a molding material, a mold material, an adhesive, It can be realized that

본 발명의 단순한 변형 또는 변경은 모두 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims (14)

하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하고, 중량평균분자량이 560 내지 5,600g/mol인 에폭시 수지:
<화학식 1>
Figure pat00006

상기 화학식 1에서, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, n은 1 내지 10의 정수임.
An epoxy resin having a repeating unit represented by the following formula (1) and having a weight average molecular weight of 560 to 5,600 g / mol:
&Lt; Formula 1 >
Figure pat00006

In the above formula (1), R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10.
제1항에 있어서, 상기 에폭시 수지는 연화점이 50 내지 110℃이고, 에폭시 당량은 240 내지 320g/eq인 것을 특징으로 하는 에폭시 수지.
The epoxy resin according to claim 1, wherein the epoxy resin has a softening point of 50 to 110 캜 and an epoxy equivalent of 240 to 320 g / eq.
(a) 디사이클로펜타디엔 및 비스페놀 화합물을 제1 산 촉매존재하에서 중합시켜 공중합체를 생성하는 단계;
(b) 상기 생성된 공중합체와 알데히드 화합물을 제2 산 촉매존재하에서 축합반응시켜 노볼락 수지를 생성하는 단계; 및
(c) 상기 생성된 노볼락 수지와 에피할로히드린을 염기 촉매하에서 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하고, 중량평균분자량이 560 내지 5,600g/mol인 에폭시 수지를 생성하는 단계를 포함하는 에폭시 수지의 제조방법:
<화학식 1>
Figure pat00007

상기 화학식 1에서, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, n은 1 내지 10의 정수임.
(a) polymerizing a dicyclopentadiene and a bisphenol compound in the presence of a first acid catalyst to produce a copolymer;
(b) condensing the resulting copolymer with an aldehyde compound in the presence of a second acid catalyst to produce a novolak resin; And
(c) reacting the resulting novolak resin with epihalohydrin under base catalyst to produce an epoxy resin having a weight average molecular weight of 560 to 5,600 g / mol, : &Lt; / RTI >
&Lt; Formula 1 &gt;
Figure pat00007

In the above formula (1), R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10.
제3항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 중합은 80 ~ 140℃에서 1 ~ 10 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
4. The method according to claim 3, wherein the polymerization is carried out at 80 to 140 ° C for 1 to 10 hours in the step (a).
제3항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 비스페놀 화합물은 디사이클로펜타디엔 1몰에 대하여, 1.0 ~ 10.0몰을 사용하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
4. The method for producing an epoxy resin according to claim 3, wherein the bisphenol compound used in step (a) is used in an amount of 1.0 to 10.0 moles relative to 1 mole of dicyclopentadiene.
제3항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 축합 반응은 80 ~ 120℃에서 1 ~ 10 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
4. The method for producing an epoxy resin according to claim 3, wherein the condensation reaction is carried out at 80 to 120 DEG C for 1 to 10 hours in the step (b).
제3항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 알데히드 화합물은 공중합체 1몰에 대하여, 0.1 ~ 0.99 몰을 사용하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
4. The method for producing an epoxy resin according to claim 3, wherein the aldehyde compound in step (b) is used in an amount of 0.1 to 0.99 mol based on 1 mol of the copolymer.
제3항에 있어서, 상기 제1 산 촉매는 루이스 산 촉매인 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
The method for producing an epoxy resin according to claim 3, wherein the first acid catalyst is a Lewis acid catalyst.
제3항에 있어서, 상기 제2 산 촉매는 옥살산, 황산, 인산, 염산 및 초산 중 선택되는 무기산; 및 파라톨루엔술폰산, 벤젠술폰산, 페놀술폰산, 락트산, 아세트산 및 포름산 중 선택되는 유기산으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
4. The process of claim 3, wherein the second acid catalyst is selected from the group consisting of oxalic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid and acetic acid; And at least one organic acid selected from the group consisting of para-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, phenolsulfonic acid, lactic acid, acetic acid and formic acid.
제3항에 있어서, 상기 (c) 단계에서 에피할로히드린은 노볼락 수지 1몰에 대하여, 1.0 내지 10.0 몰을 사용하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
4. The method for producing an epoxy resin according to claim 3, wherein the epihalohydrin in step (c) is used in an amount of 1.0 to 10.0 mol based on 1 mol of the novolak resin.
제3항에 있어서, 상기 (c) 단계의 반응은 20 ~ 80℃에서 5 ~ 15 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법.
The method of claim 3, wherein the reaction of step (c) is performed at 20 to 80 ° C for 5 to 15 hours.
제1항 또는 제2항의 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 수지 조성물.
An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to claim 1 or 2.
제12항에 있어서, 상기 에폭시 수지 조성물은 에폭시 수지를 조성물 총 중량%에 대하여, 5 내지 95 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.
13. The epoxy resin composition according to claim 12, wherein the epoxy resin composition comprises 5 to 95% by weight based on the total weight% of the composition of the epoxy resin.
제12항의 에폭시 수지 조성물의 경화물.A cured product of the epoxy resin composition of claim 12.
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