KR20150073230A - Transparent conductive film and touch screen panel including the same - Google Patents
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Abstract
Description
투명 도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널에 관한 것이다.
To a transparent conductive film and a touch screen panel including the transparent conductive film.
투명전극 필름은 터치패널의 제조 시 가장 중요한 부품 중 하나이다. 이러한 투명전극 필름으로 현재까지 가장 널리 사용되는 것은 전광선 투과율이 85% 이상이고, 표면 저항이 400Ω/square 이하인 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide: ITO) 필름이다. 일반적인 투명전극 필름은 투명한 고분자 필름에 표면 평탄성과 내열성을 구비하기 위해 프라이머 코팅(primer coating) 처리를 한 후 하드코팅 처리한 것을 기재 필름(base film)으로 사용한다. 이러한 기재 필름 상에, 언더코팅층을 습식 코팅(wet coating)이나 스퍼터링 방식으로 형성한 후, ITO와 같은 투명 도전층을 스퍼터링 방식으로 형성하고 있다.
The transparent electrode film is one of the most important parts in manufacturing the touch panel. The most widely used transparent electrode film to date is indium tin oxide (ITO) film having a total light transmittance of 85% or more and a surface resistance of 400? / Square or less. In general, a transparent electrode film is used as a base film in which a primer coating treatment and a hard coating treatment are applied to a transparent polymer film so as to have surface flatness and heat resistance. On the base film, an undercoat layer is formed by wet coating or sputtering method, and then a transparent conductive layer such as ITO is formed by a sputtering method.
본 발명의 일 구현예는 광 투과도 및 헤이즈 값이 우수한 투명 도전성 필름을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a transparent conductive film excellent in light transmittance and haze value.
본 발명의 다른 구현예는 상기 투명 도전성 필름을 적용한 터치 스크린 패널을 제공한다.
Another embodiment of the present invention provides a touch screen panel to which the transparent conductive film is applied.
본 발명의 일구현예에서,In one embodiment of the invention,
순차적으로 폴리에틸렌(polyethylene, PE)계 시트로 형성된 보호 필름; 도전층; 및 투명 플라스틱 기재;를 포함하고,A protective film sequentially formed of a polyethylene (PE) based sheet; A conductive layer; And a transparent plastic substrate,
상기 보호 필름은 광 투과도가 약 92.4% 이상이고, ASTM D1003-97에 따라 약 45㎛ 두께의 필름에 대해 측정된 헤이즈 값이 약 7.25% 이하인 투명 도전성 필름을 제공한다.The protective film has a light transmittance of about 92.4% or more, and a haze value of about 7.25% or less measured on a film of about 45 탆 thickness according to ASTM D1003-97.
상기 보호 필름은 두께가 약 40㎛ 내지 약 50㎛일 수 있다.The protective film may have a thickness of about 40 탆 to about 50 탆.
상기 투명 플라스틱 기재는 두께가 약 20㎛ 내지 약 1000㎛일 수 있다.The transparent plastic substrate may have a thickness of about 20 탆 to about 1000 탆.
상기 투명 플라스틱 기재는 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), PES(polyethersulfone), PC(Poly carbonate), PP(poly propylene), 노보르넨계 수지 및 이들의 조합을 포함할 수 있다.The transparent plastic substrate may include PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PES (polyethersulfone), PC (poly carbonate), PP (polypropylene), norbornene resins and combinations thereof.
상기 도전층은 두께가 약 5㎛ 내지 약 200㎛일 수 있다.The conductive layer may have a thickness of about 5 占 퐉 to about 200 占 퐉.
상기 도전층은 ITO(Indium Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), AZO(Aluminium Zinc Oxide, AZO), ATO(Antimony Tin Oxide, ATO) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 산화물을 포함할 수 있다.The conductive layer may include at least one selected from the group consisting of ITO (Indium Tin Oxide), FTO (Fluorine-doped Tin Oxide), IZO (Indium Tin Oxide), ITZO (Indium Tin Zinc Oxide), AZO (Aluminum Zinc Oxide) ATO), and combinations thereof.
상기 투명 플라스틱 기재 및 상기 도전층 사이에 개재된 언더코팅층을 더 포함할 수 있다.And an undercoat layer interposed between the transparent plastic substrate and the conductive layer.
상기 언더코팅층은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiON) 또는 니오븀 산화물(NbOx)을 포함할 수 있다.The undercoat layer may comprise silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiON), or niobium oxide (NbOx).
상기 투명 플라스틱 기재 및 상기 언더코팅층 사이에 개재된 하드코팅층을 더 포함할 수 있다.And a hard coating layer interposed between the transparent plastic substrate and the undercoat layer.
상기 하드코팅층은 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 실록산계 수지, 멜라민계 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The hard coating layer may include at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a siloxane resin, a melamine resin, and a combination thereof.
본 발명의 다른 구현예에서, 상기 투명 도전성 필름을 포함하는 터치 스크린 패널을 제공한다.
In another embodiment of the present invention, there is provided a touch screen panel comprising the transparent conductive film.
상기 투명 도전성 필름은 우수한 광 특성을 구현하면서도 터치 스크린 패널에 적용시 제조 공정의 용이성을 확보할 수 있다.
The transparent conductive film may provide excellent optical characteristics while ensuring ease of manufacture when applied to a touch screen panel.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 투명 도전성 필름의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.
본 발명의 일 구현예에서, 순차적으로 폴리에틸렌(polyethylene, PE)계 시트로 형성된 보호 필름; 도전층; 및 투명 플라스틱 기재;를 포함하고, 상기 보호 필름은 광 투과도가 약 92.4% 이상이고, ASTM D1003-97에 따라 약 45㎛ 두께의 필름에 대해 측정된 헤이즈 값이 약 7.25% 이하인 투명 도전성 필름을 제공한다. In one embodiment of the present invention, a protective film formed sequentially of a polyethylene (PE) based sheet; A conductive layer; And a transparent plastic substrate, wherein the protective film has a light transmittance of about 92.4% or more, and a haze value of about 7.25% or less measured on a film of about 45 탆 thickness according to ASTM D1003-97 do.
상기 보호 필름은 약 92.4% 이상의 투과도 및 약 7.25% 이하의 헤이즈 값을 가짐으로써 광 특성이 향상되어 상기 보호 필름 하부에 적층된 도전층의 불량 여부, 예를 들어 미세한 스크래치, 이물질 부착 등과 같은 문제를 육안으로 즉시 확인할 수 있다. Since the protective film has a transmittance of about 92.4% or more and a haze value of about 7.25% or less, the optical characteristics are improved and problems such as fine scratches and adhesion of foreign matter, It can be confirmed immediately by the naked eye.
그 결과, 보호 필름이 부착된 투명 도전성 필름을 터치 스크린 패널에 적용시 도전층의 불량 여부를 확인하기 위해 보호 필름을 떼어 불량 여부를 확인한 후 다시 부착하는 등의 번거로운 공정의 필요성을 제거할 수 있다.As a result, when a transparent conductive film having a protective film is applied to a touch screen panel, it is possible to remove the need for troublesome processes such as peeling off the protective film to check whether the conductive layer is defective or not, .
이와 같이, 상기 투명 도전성 필름은 약 92.4% 이상의 투과도 및 약 7.25% 이하의 헤이즈 값을 갖는 보호 필름을 포함함으로써 우수한 광 특성을 구현함과 동시에 제조 공정의 용이성을 확보할 수 있다.
As described above, the transparent conductive film includes a protective film having a transmittance of about 92.4% or more and a haze value of about 7.25% or less, thereby realizing excellent optical characteristics and ensuring easiness of the manufacturing process.
도 1에서, 본 발명의 일 구현예에 따른 투명 도전성 필름(100)을 제공한다. 1, a transparent
상기 투명 도전성 필름(100)은 순차적으로 폴리에틸렌(polyethylene, PE)계 시트로 형성된 보호 필름(130); 도전층(120); 및 투명 플라스틱 기재(110);를 포함할 수 있다. 상기 보호 필름은 광 투과도가 약 92.4% 이상이고, ASTM D1003-97에 따라 약 45㎛ 두께의 필름에 대해 측정된 헤이즈 값이 약 7.25% 이하이다.The transparent
상기 투명 플라스틱 기재(110)는 두께가 예를 들어, 약 20㎛ 내지 약 1000㎛일 수 있다. 상기 두께 범위로 형성함으로써 상기 투명 도전성 필름(100)의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않으면서 필요한 기계적 강도를 확보할 수 있다.The transparent
상기 투명 플라스틱 기재(110)는 투명성과 강도가 우수한 필름이 이용될 수 있고, 예를 들어, PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylenenaphthalate), PES(polyethersulfone), PC(Poly carbonate), PP(poly propylene), 노보르넨계 수지 및 이들의 조합을 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.The transparent
또한, 상기 투명 플라스틱 기재(110)는 예를 들어, 아크릴 계열의 수지, 유기 입자 또는 무기입자를 더 포함하여, 정전 방지 효과 또는 무반사 코팅 효과 등를 구현할 수 있다.The transparent
상기 투명 플라스틱 기재(110)는 예를 들어, 하나의 필름으로 형성된 단일 필름일 수 있고, 복수 개의 필름이 적층된 적층 필름일 수 있다.The transparent
상기 도전층(120)은 두께가 예를 들어, 약 5㎛ 내지 약 200㎛일 수 있고, 또한, 예를 들어 약 15㎛ 내지 약 100㎛일 수 있다. 상기 두께 범위로 형성됨으로써 상기 투명 도전성 필름(100)의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않으면서 필요한 내구성을 확보할 수 있고, 전극으로서의 역할 등을 적절히 수행할 수 있다.The
상기 도전층(120)은 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), AZO(Aluminium Zinc Oxide, AZO), ATO(Antimony Tin Oxide, ATO) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 산화물을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The
상기 도전층(120)은 예를 들어, 단일층으로 형성될 수 있고, 복수의 층이 적층된 다층으로 형성될 수 있다.The
상기 보호 필름(130)은 폴리에틸렌계 시트로 형성될 수 있고, 이와 같이 폴리에틸렌계 시트로 형성됨으로써 상기 보호 필름(130)의 광 투과도는 약 92.4% 이상임과 동시에 ASTM D1003-97에 따라 약 45㎛ 두께의 필름에 대해 측정된 헤이즈 값은 약 7.25% 이하가 됨으로써 상기 보호 필름(130) 하부에 적층된 상기 도전층(120)의 불량 여부를 육안으로 즉시 확인할 수 있다.The
그 결과, 상기 보호 필름(130)이 부착된 상기 투명 도전성 필름(100)은 터치 스크린 패널에 적용시 전술한 바와 같이, 제조 공정이 단순화되어 제조 공정의 용이성을 확보하면서도 우수한 광 특성을 구현할 수 있는 장점이 있다.As a result, when the transparent
상기 보호 필름(130)은 두께가 예를 들어, 약 40㎛ 내지 약 50㎛일 수 있다. 상기 두께 범위로 형성함으로써 높은 광 투과도를 유지하면서도 헤이즈 값을 감소시켜 더욱 우수한 광 특성을 구현할 수 있다.The
상기 보호 필름(130)은 상기 도전층(120)에 적층시 예를 들어, 점착제없이 점착 특성을 발휘할 수 있는 자기 점착 필름일 수 있고, 이와 같이 상기 보호 필름(130)은 자기 점착되어, 점착제로 인한 광 특성 저하를 제거할 수 있다.The
일 구현예에서, 상기 투명 플라스틱 기재(110) 및 상기 도전층(120) 간의 절연 특성을 향상시키기 위해 상기 투명 플라스틱 기재(110) 및 상기 도전층(120) 사이에 개재된 언더코팅층을 더 포함할 수 있다. 또한, 이와 같이 언더코팅층을 더 포함하여 투명 플라스틱 기재 내부에 존재할 수 있는 미반응 단량체나 올리고머의 용출 등을 방지할 수 있다.The transparent
상기 언더코팅층의 두께는 예를 들어, 약 10nm 내지 약 100nm일 수 있고, 상기 두께 범위로 형성됨으로써 코팅층의 크랙을 방지하고 우수한 시인성을 구현할 수 있다.The thickness of the undercoat layer may be, for example, about 10 nm to about 100 nm. By forming the undercoat layer within the thickness range, cracking of the coating layer can be prevented and excellent visibility can be realized.
상기 언더코팅층은 예를 들어, 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiON) 또는 니오븀 산화물(NbOx)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The undercoat layer may include, but is not limited to, for example, silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiON), or niobium oxide (NbOx).
상기 언더코팅층은 예를 들어, 단일층으로 형성될 수 있고, 복수의 층이 적층된 다층으로 형성될 수 있다.The undercoat layer may be formed, for example, as a single layer, and may be formed as a multilayer in which a plurality of layers are stacked.
일 구현예에서, 상기 투명 플라스틱 기재(110)의 표면 경도를 향샹시키기 위해 상기 투명 플라스틱 기재(110) 및 상기 언더코팅층 사이에 개재된 하드코팅층을 더 포함할 수 있다. In one embodiment, the transparent
상기 하드코팅층은 예를 들어, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 실록산계 수지, 멜라민계 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The hard coating layer may contain at least one selected from the group consisting of acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, siloxane resin, melamine resin, and combinations thereof, but is not limited thereto.
본 발명의 다른 구현예에서, 상기 투명 도전성 필름을 포함하는 터치 스크린 패널을 제공한다. 상기 투명 도전성 필름은 일 구현예에서 전술한 바와 같다.In another embodiment of the present invention, there is provided a touch screen panel comprising the transparent conductive film. The transparent conductive film is as described above in one embodiment.
상기 터치 스크린 패널은 상기 투명 전도성 필름, 점착 필름 및, 유리 기판이나 투명 수지시트 등의 투명 플라스틱 기재가 순차적으로 적층된 적층체일 수 있다. The touch screen panel may be a laminate in which the transparent conductive film, the adhesive film, and the transparent plastic substrate such as a glass substrate or a transparent resin sheet are sequentially laminated.
상기 점착 필름은 광학적으로 투명한 점착제층(OCA, optically clear adhesive layer)으로 형성되도록 공지된 조성을 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 점착 필름은 2-에틸헥실아크릴레이트(2-EHA, ethyl hexyl acylate), 이소보닐아크릴레이트(IBOA, isobonyl acrylate), 히드록시에틸아크릴레이트(HEA, hydroxy ethyl acrylate), 히드록시부틸아크릴레이트(HBA, hydroxyl butyl acrylate), 히드록시프로필아크릴레이트(HPA, hydroxyl propyl acryalte), 헥실메타크릴레이트(HMA, Hexyl methacrylate) 등 또는 이들의 조합에서 선택된 모노머, 광개시제, 경화제, 기타 첨가제 등을 포함하는 점착제 조성물을, 예를 들어 UV와 같은 광 조사에 의한 광경화 또는 열경화시켜 형성할 수 있다.
A known composition may be used to form the adhesive film as an optically clear adhesive layer (OCA). Specifically, the pressure-sensitive adhesive film may be made of a material selected from the group consisting of 2-ethylhexyl acrylate (2-EHA), isobonyl acrylate (IBOA), hydroxyethyl acrylate (HEA) A photoinitiator, a hardener and other additives selected from the group consisting of HBA, hydroxyl butyl acrylate (HBA), hydroxyl propyl acryalte (HPA), hexyl methacrylate (HMA) May be formed, for example, by photocuring or thermosetting by light irradiation such as UV.
이하, 본 발명의 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러한 하기한 실시예는 본 발명의 일 실시예일뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, examples and comparative examples of the present invention will be described. The following embodiments are only examples of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiments.
((
실시예Example
) )
실시예Example 1 One
100㎛ 두께의 PET 필름의 일면에 아크릴계 하드 코팅액을 1.2㎛ 두께로 도포하고, 자외선 경화하여 하드코팅층을 형성한 후 상기 하드 코팅층의 일면에 반응성 스퍼터링 방식으로 실리콘 산화물 박막을 25nm 두께로 형성하여 언더코팅층을 형성하고, 이어서 상기 언더코팅층의 일면에 ITO를 반응성 스퍼터링 방식으로 20nm 두께로 형성하여 도전층을 형성한 다음, 상기 도전층의 일면에 폴리에틸렌계 시트를 사용하여 제조한 두께 41㎛의 보호 필름을 자기 점착에 의해 적층시킴으로써 투명 도전성 필름을 제작하였다.
An acrylic hard coating liquid was applied to a surface of a PET film having a thickness of 100 탆 to a thickness of 1.2 탆 and ultraviolet cured to form a hard coating layer, and then a silicon oxide thin film was formed to a thickness of 25 nm on the surface of the hard coating layer by a reactive sputtering method, ITO was formed on one surface of the undercoat layer to a thickness of 20 nm by reactive sputtering to form a conductive layer and then a protective film having a thickness of 41 탆 was formed on one surface of the conductive layer using a polyethylene sheet. And laminated by self-adhesive bonding, thereby producing a transparent conductive film.
실시예Example 2 2
폴리에틸렌계 시트를 사용하여 제조한 두께 45㎛의 보호 필름을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법 하에 투명 도전성 필름을 제작하였다.
A transparent conductive film was produced under the same conditions and under the same conditions as in Example 1, except that a protective film having a thickness of 45 탆 was prepared using a polyethylene sheet.
실시예Example 3 3
폴리에틸렌계 시트를 사용하여 제조한 두께 49㎛의 보호 필름을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법 하에 투명 도전성 필름을 제작하였다.
A transparent conductive film was produced under the same conditions and under the same conditions as in Example 1, except that a protective film having a thickness of 49 탆 was prepared using a polyethylene sheet.
비교예Comparative Example 1 One
폴리에틸렌테레프탈레이트계 시트를 사용하여 제조한 두께 41㎛의 보호 필름을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법 하에 투명 도전성 필름을 제작하였다
A transparent conductive film was produced under the same conditions and under the same conditions as in Example 1, except that a protective film having a thickness of 41 mu m prepared using a polyethylene terephthalate-based sheet was used
비교예Comparative Example 2 2
폴리에틸렌계 시트를 사용하여 제조한 두께 35㎛의 보호 필름을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법 하에 투명 도전성 필름을 제작하였다.
A transparent conductive film was produced under the same conditions and under the same conditions as in Example 1 except that a protective film having a thickness of 35 mu m produced by using a polyethylene sheet was used.
비교예Comparative Example 3 3
폴리에틸렌계 시트를 사용하여 제조한 두께 55㎛의 보호 필름을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법 하에 투명 도전성 필름을 제작하였다.
A transparent conductive film was produced under the same conditions and under the same conditions as in Example 1, except that a protective film having a thickness of 55 m prepared using a polyethylene-based sheet was used.
평가evaluation
하기 평가 방법에 따라 실시예 1-3 및 비교예 1-3에 따라 제작한 투명 도전성 필름 및 상기 투명 도전성 필름에 포함된 각각의 보호 필름에 대한 물성을 평가하였다.
The properties of each of the transparent conductive films prepared in Examples 1-3 and 1-3 and the protective films contained in the transparent conductive films were evaluated according to the following evaluation methods.
(광 투과도)(Light transmittance)
상기 보호 필름 및 상기 투명 도전성 필름의 투과도를 JIS K7361-1에 따라 Spectrophotometer(Konica Minolta社, CM-5)를 사용하여 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 기재하였다.
The transmittance of the protective film and the transparent conductive film was measured according to JIS K7361-1 using a spectrophotometer (Konica Minolta, CM-5). The results are shown in Table 1 below.
(헤이즈) (Hayes)
상기 보호 필름 및 상기 투명 도전성 필름의 헤이즈 값을 ASTM D1003-97에 따라 45㎛ 두께의 필름에 대해 Spectrophotometer(Konica Minolta社, CM-5)를 사용하여 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 기재하였다.
The haze value of the protective film and the transparent conductive film was measured according to ASTM D1003-97 using a spectrophotometer (Konica Minolta, CM-5) for a 45 탆 thick film, and the results are shown in Table 1 below .
[%]Light transmittance
[%]
[%]Haze value
[%]
[%]Light transmittance
[%]
[%]Haze value
[%]
실시예 1 내지 3에 따른 보호 필름은 광 투과도가 92.4% 이상임과 동시에 헤이즈 값이 7.25% 이하이므로 광특성이 현저히 개선되었음을 확인할 수 있고, 그 결과 상기 보호 필름을 적용한 투명 도전성 필름은 광 특성이 우수하면서도 도전층의 불량 여부를 육안으로 즉시 확인할 수 있어 제조 공정의 용이성이 확보될 것을 예상할 수 있다.It can be confirmed that the protective film according to Examples 1 to 3 has a light transmittance of 92.4% or more and a haze value of 7.25% or less, so that the optical characteristics are remarkably improved. As a result, the transparent conductive film to which the protective film is applied has excellent optical properties It is possible to visually confirm whether or not the conductive layer is defective immediately, so that the ease of the manufacturing process can be expected.
반면, 비교예 1 및 3에 따른 보호 필름은 광 투과도가 92.4% 미만이면서 헤이즈 값이 7.5% 초과이므로 광 특성이 나쁨을 확인할 수 있고, 비교예 2에 따른 보호 필름의 경우 광 투과도는 우수하나 헤이즈 값이 7.53%로 매우 높음을 확인할 수 있다. 그 결과, 비교예 1 내지 3에 따른 보호 필름을 적용한 투명 도전성 필름은 외관이 뿌옇고 탁하여 도전층의 불량 여부를 육안으로 확인할 수 없었다.
On the other hand, the protective films according to Comparative Examples 1 and 3 had poor light characteristics because the light transmittance was less than 92.4% and the haze value was more than 7.5%. The protective film according to Comparative Example 2 had excellent light transmittance, Value is very high as 7.53%. As a result, the transparent conductive film to which the protective film according to Comparative Examples 1 to 3 was applied had an apparent appearance that it was cloudy, and it was impossible to visually confirm whether or not the conductive layer was defective.
100: 투명 도전성 필름
110: 투명 플라스틱 기재
120: 도전층
130: 보호 필름100: transparent conductive film
110: transparent plastic substrate
120: conductive layer
130: protective film
Claims (11)
상기 보호 필름은 광 투과도가 92.4% 이상이고, ASTM D1003-97에 따라 45㎛ 두께의 필름에 대해 측정된 헤이즈 값이 7.25% 이하인
투명 도전성 필름.
A protective film sequentially formed of a polyethylene (PE) based sheet; A conductive layer; And a transparent plastic substrate,
The protective film has a light transmittance of 92.4% or more and a haze value measured according to ASTM D1003-97 for a 45 탆 thick film of 7.25% or less
Transparent conductive film.
상기 보호 필름은 두께가 40㎛ 내지 50㎛인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The protective film has a thickness of 40 to 50 mu m
Transparent conductive film.
상기 투명 플라스틱 기재는 두께가 20㎛ 내지 1000㎛인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The transparent plastic substrate has a thickness of 20 to 1000 mu m
Transparent conductive film.
상기 투명 플라스틱 기재는 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), PES(polyethersulfone), PC(Poly carbonate), PP(poly propylene), 노보르넨계 수지 및 이들의 조합을 포함하는
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The transparent plastic substrate may include at least one selected from the group consisting of PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PES (polyethersulfone), PC (poly carbonate), PP (polypropylene), norbornene-
Transparent conductive film.
상기 도전층은 두께가 5㎛ 내지 200㎛인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The conductive layer has a thickness of 5 to 200 mu m
Transparent conductive film.
상기 도전층은 ITO(Indium Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), AZO(Aluminium Zinc Oxide, AZO), ATO(Antimony Tin Oxide, ATO) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 산화물을 포함하는
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The conductive layer may include at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), zinc oxide (AZO), antimony tin oxide ATO), and combinations thereof. ≪ RTI ID = 0.0 >
Transparent conductive film.
상기 투명 플라스틱 기재 및 상기 도전층 사이에 개재된 언더코팅층을 더 포함한
투명도전성 필름.
The method according to claim 1,
Further comprising an undercoat layer interposed between the transparent plastic substrate and the conductive layer
Transparent conductive film.
상기 언더코팅층은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiON) 또는 니오븀 산화물(NbOx)을 포함하는
투명 도전성 필름.
8. The method of claim 7,
Wherein the undercoat layer comprises silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiON) or niobium oxide (NbOx)
Transparent conductive film.
상기 투명 플라스틱 기재 및 상기 언더코팅층 사이에 개재된 하드코팅층을 더 포함한
투명 도전성 필름.
8. The method of claim 7,
Further comprising a hard coating layer interposed between the transparent plastic substrate and the undercoat layer
Transparent conductive film.
상기 하드코팅층은 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 실록산계 수지, 멜라민계 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는
투명 도전성 필름.
10. The method of claim 9,
Wherein the hard coat layer comprises at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a siloxane resin, a melamine resin,
Transparent conductive film.
A touch screen panel comprising the transparent conductive film according to any one of claims 1 to 10.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130159798A KR20150073230A (en) | 2013-12-20 | 2013-12-20 | Transparent conductive film and touch screen panel including the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150073230A true KR20150073230A (en) | 2015-07-01 |
Family
ID=53786787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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-
2013
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