KR20150057460A - Insulating resin composition for printed circuit board and products having the same - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an insulaton resin composition for a printed circuit board, a prepreg, a copper clad laminate, and a printed circuit board which are manufactured by using the same composition. More specifically, according to an embodiment of the present invention, a curing agent including a bipyridine structure is included in the insulaton resin composition. Therefore, heat-resistant properties, including the glass transition temperature and a coefficient of thermal expansion, and mechanical properties, including separation strength between a metal layer and an insulation layer, are increased.

Description

인쇄회로기판용 절연 수지 조성물 및 이를 이용한 제품 {INSULATING RESIN COMPOSITION FOR PRINTED CIRCUIT BOARD AND PRODUCTS HAVING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an insulating resin composition for a printed circuit board,

본 발명은 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물 및 이를 이용한 제품에 관한 것이다.
The present invention relates to an insulating resin composition for a printed circuit board and a product using the same.

전자기기의 발전에 따라 인쇄회로기판의 저중량화, 박판화 및 소형화가 날로 진행되고 있다. 이러한 요구를 충족시키기 위해서 인쇄회로의 배선이 더욱 복잡하고 고밀도화되어 가고 있다. 이와 같이 기판에서 요구되는 전기적, 열적 및 기계적 특성은 더욱 중요한 요소로 작용 되고 있다. 인쇄회로기판의 구성은 주로 회로배선 역할을 하는 구리와 층간 절연 역할을 하는 고분자로 이루어져 있다. 구리에 비해, 절연층을 구성하는 고분자는 열팽창계수, 유리전이온도 및 두께 균일성 등 여러 특성이 요구되며 특히, 절연층의 두께를 얇게 제작할 수 있어야 한다Background Art [0002] With the development of electronic devices, the weight, thickness, and miniaturization of printed circuit boards have been progressively increasing. In order to meet such a demand, the wiring of a printed circuit is becoming more complicated and densified. As such, the electrical, thermal and mechanical properties required of substrates are becoming more important. The structure of the printed circuit board consists mainly of copper, which acts as a circuit wiring, and a polymer, which acts as an interlaminar insulation. Compared to copper, the polymer constituting the insulating layer is required to have various characteristics such as a coefficient of thermal expansion, a glass transition temperature and uniformity of thickness, and in particular, it is required to make the thickness of the insulating layer thin

최근에 에폭시 몰딩 컴파운드 (EMC)나 기판재료 등에 사용되는 절연층의 유기재료로 에폭시 수지 이외의 보강재가 많이 사용되면서 전극으로 사용되는 회로층 및 절연층 간의 계면접착력의 저하가 문제로 제기되고 있다.BACKGROUND ART [0002] In recent years, as an organic material for an insulating layer used for an epoxy molding compound (EMC) or a substrate material, a reinforcing material other than an epoxy resin is widely used, and a decrease in interfacial adhesion between a circuit layer and an insulating layer used as an electrode is a problem.

종래의 절연층을 구성하는 유기물 중에 에폭시 수지는 회로층과의 접착제로서의 주된 역할을 수행했었다. 그러나, 절연층 내의 에폭시 수지의 비율이 점차 줄어들면서 회로층 및 절연층 간의 접착강도가 점차 줄어들게 되었다.Among the organic materials constituting the conventional insulating layer, the epoxy resin has played a main role as an adhesive with the circuit layer. However, the proportion of the epoxy resin in the insulating layer gradually decreased, and the bonding strength between the circuit layer and the insulating layer gradually decreased.

에폭시 몰딩 컴파운드나 기판재료로 널리 사용되는 에폭시 수지의 기계적, 열적 안정성을 증가시키기 위하여 비스말레이미드 (bismaleimide), 시아네이트 에스터 (cyanate ester) 등의 유기보강재가 사용되고 있으며, 또한 재료의 유리전이 온도 (Tg)를 높이기 위하여 전방향족 경화제나 다양한 분자량 분포를 지니는 경화제 등이 사용되고 있다. 하지만, 종래의 방식에서는 절연층에 에폭시 수지를 포함함으로써 회로층과의 접착강도를 향상시킬 수 있었으나, 다른 유기보강재를 절연층의 조성물에 포함함으로써 에폭시 수지의 첨가량이 줄어들게 되어 회로층과의 접착강도가 점차 감소하게 되었다.Organic stiffeners such as bismaleimide and cyanate ester have been used to increase the mechanical and thermal stability of epoxy resins widely used as epoxy molding compounds and substrate materials and the glass transition temperature Tg), a curing agent having various molecular weight distributions and the like have been used. However, in the conventional method, the adhesive strength to the circuit layer can be improved by including the epoxy resin in the insulating layer. However, when the other organic stiffener is included in the composition of the insulating layer, the addition amount of the epoxy resin is decreased, .

한편, 특허문헌 1에서는 에폭시기 함유 불포화 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물에 대하여 개시되어 있으나, 이를 통해 유리전이온도, 열팽창계수 (CTE) 및 박리 강도 (peel strength)의 특성을 향상시키는 데에는 한계점이 있었다.On the other hand, Patent Document 1 discloses a photosensitive resin composition containing an epoxy group-containing unsaturated compound, but there is a limit to improve the properties of glass transition temperature, CTE and peel strength.

특허문헌 1: 한국 공개특허 제2012-0089947호
Patent Document 1: Korean Patent Publication No. 2012-0089947

본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 일 측면은 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에 있어서, 에폭시 수지 및 바이피리딘 구조를 포함하는 경화제를 통해 유리전이온도 (Tg), 열팽창계수 (CTE) 및 박리 강도 (peel strength)의 특성을 향상시킨 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물을 제공하는 것이다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide an insulating resin composition for a printed circuit board, which comprises a curing agent comprising an epoxy resin and a bipyridine structure, And to provide an insulating resin composition for a printed circuit board having improved CTE and peel strength characteristics.

본 발명의 다른 측면은 상기 절연 수지 조성물을 포함한 프리프레그를 제공하는 것이다.Another aspect of the present invention is to provide a prepreg including the insulating resin composition.

본 발명의 또 다른 측면은 상기 프리프레그를 적용하여 제조된 동박적층판 상에 빌드업층을 적층하여 제조된 인쇄회로기판을 제공하는 것이다.
Another aspect of the present invention is to provide a printed circuit board manufactured by laminating a buildup layer on a copper-clad laminate produced by applying the prepreg.

본 발명의 일 측면에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물은:An insulating resin composition for a printed circuit board according to one aspect of the present invention comprises:

에폭시 수지; 및Epoxy resin; And

바이피리딘 구조를 포함하는 경화제;A curing agent comprising a bipyridine structure;

를 포함할 수 있다.. ≪ / RTI >

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 25 내지 75 중량부의 에폭시 수지 및 10 내지 55 중량부의 바이피리딘 구조를 포함하는 경화제를 포함할 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, 25 to 75 parts by weight of an epoxy resin and 10 to 55 parts by weight of a curing agent containing a bipyridine structure may be included relative to 100 parts by weight of the insulating resin composition.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 에폭시 수지는 나프탈렌계 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 고무 변성형 에폭시 수지, 인계 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지로부터 하나 이상 선택될 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the epoxy resin may be at least one selected from the group consisting of naphthalene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, rubber modified epoxy resin, phosphorus epoxy resin and bisphenol F type One or more epoxy resins may be selected.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 바이피린딘 구조는 하기 화학식 1로 표시될 수 있으며,In the insulating resin composition for a printed circuit board, the bipyridine structure may be represented by the following formula (1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서, a는 1 내지 10의 정수, b는 1 내지 13의 정수, c는 1 내지 13의 정수, d는 1 내지 21의 정수, e는 1 내지 21의 정수, f는 1 내지 10의 정수 및 g는 1 내지 10의 정수이다.B is an integer of 1 to 13, c is an integer of 1 to 13, d is an integer of 1 to 21, e is an integer of 1 to 21, f is an integer of 1 to 10, g is an integer of 1 to 10;

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 경화제는 바이피리딘 구조를 30 내지 60 중량%를 포함할 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the curing agent may include 30 to 60% by weight of a bipyridine structure.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 절연 수지 조성물은 무기충전제, 시아네이트 에스터 및 비스말레이미드를 더욱 포함할 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the insulating resin composition may further include an inorganic filler, a cyanate ester, and bismaleimide.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 무기충전제는 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 82 내지 488 중량부를 포함할 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the inorganic filler may include 82 to 488 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 무기충전제는 실리카 (SiO2), 알루미나 (Al2O3), 황산바륨 (BaSO4), 수산화알루미늄 (AlOH3), 수산화마그네슘 (Mg(OH)2), 탄산칼슘 (CaCO3), 탄산마그네슘 (MgCO3), 산화마그네슘 (MgO), 질화붕소 (BN), 탄화규소 (SiC), 붕산알루미늄 (AlBO3), 티탄산바륨 (BaTiO3) 및 지르콘산칼슘 (CaZrO3)으로부터 하나 이상 선택될 수 있다.In the printed circuit insulating resin composition for the substrate, the inorganic filler is silica (SiO 2), alumina (Al 2 O 3), barium sulfate (BaSO 4), aluminum hydroxide (AlOH 3), magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ), calcium carbonate (CaCO 3), magnesium carbonate (MgCO 3), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), silicon carbide (SiC), aluminum borate (AlBO 3), barium titanate (BaTiO 3) and zirconate It may be selected from one or more of calcium (CaZrO 3).

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 시아네이트 에스터는 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 65 중량부로 포함될 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the cyanate ester may be included in an amount of 10 to 65 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 시아네이트 에스터는 비스페놀 A형, 크레졸 노볼락형 및 페놀 노볼락형으로부터 하나 이상 선택될 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the cyanate ester may be selected from one or more of bisphenol A type, cresol novolak type and phenol novolac type.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 비스말레이미드는 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 43 중량부로 포함될 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the bismaleimide may be included in an amount of 10 to 43 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 상기 비스말레이미드는 1,1`-(메틸렌디-4,1-페닐렌)비스말레이미드 (1,1`-(methylenedi-4,1-phenylene)bismaleimide)일 수 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the bismaleimide is 1,1'- (methylenedi-4,1-phenylene) bismaleimide ).

본 발명의 다른 측면에 따른 프리프레그는:A prepreg according to another aspect of the present invention comprises:

본 발명의 일 측면에 따른 절연 수지 조성물을 포함한 바니쉬 (varnish)에 유기섬유 또는 무기섬유를 함침 및 건조시켜 제조될 수 있다.The varnish containing the insulating resin composition according to one aspect of the present invention may be impregnated with organic or inorganic fibers and dried.

상기 프리프레그에서, 상기 무기 섬유 또는 유기 섬유는 유리 섬유, 탄소 섬유, 폴리파라페닐렌 벤조비스옥사졸 섬유, 서모트로픽 (thermotropic) 액정 고분자 섬유, 라이소트로픽 액정 고분자 섬유, 아라미드 섬유, 폴리피리도비스이미다졸 섬유, 폴리벤조티아졸 섬유, 및 폴리아릴레이트 섬유로부터 하나 이상 선택될 수 있다.In the prepreg, the inorganic fibers or the organic fibers may be formed of glass fibers, carbon fibers, polyparaphenylene benzobisoxazole fibers, thermotropic liquid crystal polymer fibers, lyotropic liquid crystal polymer fibers, aramid fibers, Bismigidazole fibers, polybenzothiazole fibers, and polyarylate fibers.

본 발명의 또 다른 측면에 따른 인쇄회로기판은:A printed circuit board according to another aspect of the present invention includes:

본 발명의 다른 측면에 따른 프리프레그의 일면 또는 양면에 동박을 부착시켜 얻은 동박적층판 (CCL) 상에 빌드업층을 적층하여 제조될 수 있다.
The present invention can be manufactured by laminating a buildup layer on a copper clad laminate (CCL) obtained by attaching a copper foil to one side or both sides of a prepreg according to another aspect of the present invention.

본 발명의 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물 및 이를 이용한 프리프레그, 동박적층판 및 인쇄회로기판은 유리전이온도 및 열팽창계수의 내열성 특성을 향상시킬 수 있다.The insulating resin composition for a printed circuit board according to the present invention and the prepreg, the copper clad laminate, and the printed circuit board using the same can improve the heat resistance characteristics of the glass transition temperature and the thermal expansion coefficient.

또한, 상기 절연 수지 조성물에 바이피리딘 구조를 포함함으로써 금속층과의 배위결합을 통해 금속층 및 절연층 간의 박리 강도의 기계적 물성을 향상시키는 효과가 있다.
Further, by including a bipyridine structure in the insulating resin composition, there is an effect of improving the mechanical properties of the peel strength between the metal layer and the insulating layer through coordination bonding with the metal layer.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 절연 수지 조성물의 구성을 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a schematic view for explaining the constitution of an insulating resin composition according to an embodiment of the present invention.

본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하기 전에, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정되지 않아야 하며, 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시 예의 구성은 본 발명의 하나의 예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. Before describing the invention in more detail, it is to be understood that the words or words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional or dictionary sense, It should be interpreted in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined. Therefore, the constitution of the embodiment described in this specification is merely an example of the present invention, and not all of the technical ideas of the present invention are described. Therefore, various equivalents and modifications It should be understood.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록, 본 발명의 일 실시 예를 상세히 설명한다. 아울러, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지기술에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 절연 수지 조성물의 구성을 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명에서는 절연 수지 조성물에 절연층 및 금속층 간의 배위결합을 할 수 있는 바이피리딘 구조를 포함한 경화제를 포함함으로써, 열팽창계수, 유리전이온도 및 박리 강도의 특성을 향상시킬 수 있다.
FIG. 1 is a schematic view for explaining the constitution of an insulating resin composition according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the present invention can improve the thermal expansion coefficient, glass transition temperature, and peel strength characteristics by including a curing agent including a bipyridine structure capable of coordinate bonding between an insulating layer and a metal layer in an insulating resin composition .

에폭시 수지Epoxy resin

본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물은, 건조한 후의 수지 조성물의 접착필름으로서의 취급성을 높이기 위하여 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 상기 에폭시 수지는 분자 내에 1 개 이상의 에폭시 관능기가 포함되어 있는 것을 의미하며, 4 개 이상의 에폭시 관능기가 포함되어 있는 것이 결합력 향상을 위해 적합할 수 있다.The insulating resin composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may include an epoxy resin in order to improve handleability of the resin composition after drying as an adhesive film. The epoxy resin means that at least one epoxy functional group is contained in the molecule, and it is preferable that the epoxy resin contains at least four epoxy functional groups to improve the bonding strength.

상기 에폭시 수지는 나프탈렌계 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 고무 변성형 에폭시 수지, 인계 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지로부터 하나 이상 선택될 수 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.The epoxy resin may be at least one selected from naphthalene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, rubber modified epoxy resin, phosphorus epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin, But is not limited thereto.

상기 절연 수지 조성물에서 에폭시 수지의 사용량은 상기 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 25 내지 75 중량부를 포함할 수 있다. 상기 에폭시 수지의 사용량이 25 중량부 미만이면 금속층과의 접착력이 떨어져서 기판재료로 사용하기 어려워질 수가 있고, 75 중량부를 초과하면 경화되지 않은 에폭시 수지가 조성물 내에 남아있을 수 있다. 이를 통해 상기 에폭시 수지의 경화밀도가 감소하여 기판재료의 내열성이 감소하여 열팽창계수가 높아지고 유리전이온도가 낮아질 수가 있다.
The amount of the epoxy resin used in the insulating resin composition may be 25 to 75 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition. If the amount of the epoxy resin is less than 25 parts by weight, the adhesive strength with the metal layer may be lowered, which may be difficult to use as a substrate material. If the amount exceeds 75 parts by weight, an uncured epoxy resin may remain in the composition. As a result, the curing density of the epoxy resin is reduced, the heat resistance of the substrate material is reduced, the thermal expansion coefficient is increased, and the glass transition temperature is lowered.

바이피리딘Bipyridine 구조를 포함하는 경화제 Hardener containing structure

본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 바이피리딘 구조를 포함하는 경화제를 포함할 수 있다.The insulating resin composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may include a curing agent having a bipyridine structure represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

여기서, a는 1 내지 10의 정수, b는 1 내지 13의 정수, c는 1 내지 13의 정수, d는 1 내지 21의 정수, e는 1 내지 21의 정수, f는 1 내지 10의 정수 및 g는 1 내지 10의 정수이다.B is an integer of 1 to 13, c is an integer of 1 to 13, d is an integer of 1 to 21, e is an integer of 1 to 21, f is an integer of 1 to 10, g is an integer of 1 to 10;

상기 경화제는 페놀, 아민, 무수산 등의 작용기를 두 개 이상 포함함으로써 에폭시 수지와의 가교반응을 할 수 있다. 상기 절연 수지 조성물에서 경화제의 사용량은 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 55 중량부를 포함할 수 있다. 상기 경화제의 사용량이 10 중량부 미만이면 에폭시 수지와의 경화도가 떨어지게 되어 내열성이 감소할 수 있고, 55 중량부를 초과하면 조성물 내의 에폭시 수지의 양이 줄어들게 되어 내화학성이 감소하게 될 수 있다. The curing agent may include a crosslinking reaction with an epoxy resin by containing two or more functional groups such as phenol, amine, and anhydrous acid. The amount of the curing agent used in the insulating resin composition may be 10 to 55 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition. If the amount of the curing agent is less than 10 parts by weight, the degree of curing with the epoxy resin may be lowered and the heat resistance may be decreased. If the amount of the curing agent is more than 55 parts by weight, the amount of the epoxy resin in the composition may be decreased and the chemical resistance may be decreased.

또한, 상기 경화제는 분자 내에 금속층과의 배위결합을 할 수 있는 바이피리딘 구조를 포함함으로써 금속층 및 절연층 간의 박리 강도를 향상시킬 수 있다. 상기 바이피리딘구조는 경화제 내의 30 내지 60 중량%를 포함할 수 있다. 상기 바이피리딘 구조가 경화제 내의 30 중량% 미만이면 금속층과의 박리 강도 향상 효과를 얻을 수가 없고, 60 중량%를 초과하면 에폭시 수지와의 가교 밀도가 감소하여 열적 강도가 감소하게 될 수 있다.
In addition, the curing agent may include a bipyridine structure capable of coordinating with the metal layer in the molecule, thereby improving the peeling strength between the metal layer and the insulating layer. The bipyridine structure may comprise 30 to 60 wt% in the curing agent. If the bipyridine structure is less than 30% by weight in the curing agent, the effect of improving the peeling strength with the metal layer can not be obtained. If the bipyridine structure is more than 60% by weight, the crosslinking density with the epoxy resin decreases and the thermal strength may decrease.

무기충전제Inorganic filler

본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물은 열팽창계수의 향상을 위해 무기충전제를 더욱 포함할 수 있다.The insulating resin composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may further include an inorganic filler for improving the thermal expansion coefficient.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 무기충전제의 사용량은 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 82 내지 488 중량부를 포함할 수 있다. 상기 무기충전제의 사용량이 82 중량부 미만이면 상기 수지 조성물의 열팽창계수가 높아지게 되고 내열성이 떨어져서 기판재료로 사용하기 어려울 수 있고, 488 중량부를 초과하면 금속층과의 박리 강도가 떨어지게 되어 기판 공정에 적용하기 어려울 수가 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the amount of the inorganic filler to be used may be 82 to 488 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition. If the amount of the inorganic filler used is less than 82 parts by weight, the thermal expansion coefficient of the resin composition may be high, and the heat resistance may be low to be difficult to use as a substrate material. If the amount is more than 488 parts by weight, It can be difficult.

상기 무기충전제는 실리카 (SiO2), 알루미나 (Al2O3), 황산바륨 (BaSO4), 수산화알루미늄 (AlOH3), 수산화마그네슘 (Mg(OH)2), 탄산칼슘 (CaCO3), 탄산마그네슘 (MgCO3), 산화마그네슘 (MgO), 질화붕소 (BN), 탄화규소 (SiC), 붕산알루미늄 (AlBO3), 티탄산바륨 (BaTiO3) 및 지르콘산칼슘 (CaZrO3)으로부터 하나 이상 선택될 수 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.
The inorganic fillers include silica (SiO 2), alumina (Al 2 O 3), barium sulfate (BaSO 4), aluminum hydroxide (AlOH 3), magnesium hydroxide (Mg (OH) 2), calcium carbonate (CaCO 3), acid magnesium (MgCO 3), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), silicon carbide (SiC), aluminum borate (AlBO 3), is selected at least one from barium titanate (BaTiO 3) and zircon calcium (CaZrO 3) But is not limited thereto.

시아네이트Cyanate 에스터 Ester

본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물은 내열성 향상을 위해 시아네이트 에스터를 더욱 포함할 수 있다.The insulating resin composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may further include a cyanate ester to improve heat resistance.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 시아네이트 에스터의 사용량은 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 65 중량부를 포함할 수 있다. 상기 시아네이트 에스터의 사용량이 10 중량부 미만이면 상기 수지 조성물의 유리전이온도가 높아지게 되고 내열성이 떨어져서 기판재료로 사용하기 어려울 수 있고, 65 중량부를 초과하면 금속층과의 박리 강도가 떨어지게 되어 수지 조성물을 기판 공정에 적용하기 어려울 수가 있다.In the insulating resin composition for a printed circuit board, the cyanate ester may be used in an amount of 10 to 65 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition. If the amount of the cyanate ester is less than 10 parts by weight, the glass transition temperature of the resin composition becomes high and the heat resistance of the resin composition tends to be low, which may be difficult to use as a substrate material. If the amount exceeds 65 parts by weight, It may be difficult to apply it to a substrate process.

상기 시아네이트 에스터는 비스페놀 A형, 크레졸 노볼락형 및 페놀 노볼락형 시아네이트 에스터로부터 하나 이상 선택될 수 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.
The cyanate ester may be selected from one or more of bisphenol A type, cresol novolak type and phenol novolak type cyanate ester, but is not limited thereto.

비스말레이미드Bismaleimide

본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물은 내열성 향상을 위해 비스말레이미드를 더욱 포함할 수 있다.The insulating resin composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may further include bismaleimide to improve heat resistance.

상기 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물에서, 비스말레이미드의 사용량은 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 43 중량부를 포함할 수 있다. 상기 비스말레이미드의 사용량이 10 중량부 미만이면 상기 수지 조성물의 유리전이온도가 높아지게 되고 내열성이 떨어져서 기판재료로 사용하기 어려울 수 있고, 43 중량부를 초과하면 상기 수지 조성물의 흡습율이 증가하여 재료의 신뢰성이 감소하게 되어 수지 조성물을 기판 공정에 적용하기 어려울 수가 있다.The amount of bismaleimide used in the insulating resin composition for a printed circuit board may be 10 to 43 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition. When the amount of the bismaleimide is less than 10 parts by weight, the glass transition temperature of the resin composition becomes high and the heat resistance of the resin composition decreases. When the amount of the bismaleimide is more than 43 parts by weight, the moisture absorption rate of the resin composition increases, The reliability is reduced and it may be difficult to apply the resin composition to the substrate process.

상기 비스말레이미드는 1,1`-(메틸렌디-4,1-페닐렌)비스말레이미드 (1,1`-(methylenedi-4,1-phenylene)bismaleimide)를 사용할 수 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.
The bismaleimide may be 1,1'- (methylenedi-4,1-phenylene) bismaleimide, but is not limited thereto. It is not.

본 발명의 일 실시 예에 따른 절연 수지 조성물은 이 기술분야에 알려져 있는 어떠한 일반적인 방법으로 반고상 상태의 드라이 필름으로 제조될 수 있다. 예를 들어, 롤 코터 (roll coater), 커튼 코터 (curtain coater) 또는 콤마 코터 (comma coater) 등을 사용하여 필름형태로 제조하여 건조한 다음, 이를 기판상에 적용하여 빌드업 방식에 의한 다층 인쇄회로기판 제조시 절연층 (또는 절연 필름) 또는 프리프레그로 사용될 수 있다. 이러한 절연필름 또는 프리프레그는 열팽창계수 및 유리전이온도의 특성을 향상시킬 수 있다.The insulating resin composition according to one embodiment of the present invention can be manufactured into a semi-solid state dry film by any general method known in the art. For example, it is manufactured in a film form using a roll coater, a curtain coater, or a comma coater, and then dried and applied to a substrate to form a multi-layer printed circuit May be used as an insulating layer (or an insulating film) or a prepreg in manufacturing a substrate. Such an insulating film or prepreg can improve the characteristics of the thermal expansion coefficient and the glass transition temperature.

이와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물을 포함한 바니쉬에 무기섬유 또는 유기섬유를 함침 및 건조시켜 프리프레그를 제조할 수 있다. As described above, the varnish containing the insulating resin composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may be impregnated with inorganic fibers or organic fibers and dried to prepare prepregs.

상기 무기 섬유 또는 유기 섬유는 유리 섬유, 탄소 섬유, 폴리파라페닐렌 벤조비스옥사졸 섬유, 서모트로픽 (thermotropic) 액정 고분자 섬유, 라이소트로픽 액정 고분자 섬유, 아라미드 섬유, 폴리피리도비스이미다졸 섬유, 폴리벤조티아졸 섬유, 및 폴리아릴레이트 섬유로부터 하나 이상 선택될 수 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.The inorganic fiber or the organic fiber may be a fiber such as glass fiber, carbon fiber, polyparaphenylene benzobisoxazole fiber, thermotropic liquid crystal polymer fiber, lysotropic liquid crystal polymer fiber, aramid fiber, polypyridobisimidazole fiber, A polybenzothiazole fiber, and a polyarylate fiber, but is not limited thereto.

상기 프리프레그의 일면 또는 양면에 동박을 부착시켜 동박적층판 (CCL)을 제조할 수 있다. 이를 통해, 에폭시 수지 및 바이피리딘 구조를 포함하는 경화제를 포함한 절연층은 금속층 과의 박리 강도를 향상시킬 수 있다.The copper clad laminate (CCL) can be manufactured by attaching a copper foil to one side or both sides of the prepreg. Through this, an insulating layer containing a curing agent containing an epoxy resin and a bipyridine structure can improve the peeling strength with the metal layer.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 따른 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물로 제조된 절연필름 또는 프리프레그는 인쇄회로기판 제조시 내층으로 사용되는 동박적층판 상에 적층하여 다층 인쇄회로기판 제조에 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 절연 수지 조성물로 제조된 절연 필름 또는 프리프레그를 패턴 가공시킨 내층 회로기판 위에 적층한 다음, 경화시키고, 디스미어 공정을 수행한 다음, 회로층을 전기도금 공정을 통하여 형성시켜 다층 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.
In addition, an insulating film or prepreg made from an insulating resin composition for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may be laminated on a copper-clad laminate used as an inner layer in the production of a printed circuit board to be used for manufacturing a multilayer printed circuit board . For example, an insulating film or a prepreg made of the insulating resin composition is laminated on an inner layer circuit board patterned and then cured, followed by a desmearing process, and then a circuit layer is formed through an electroplating process, A printed circuit board can be manufactured.

이하 실시 예 및 비교 예를 통하여 본 발명을 좀 더 구체적으로 살펴보지만, 하기 예에 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

바이피리딘을Bipyridine 포함한 경화제의 제조 Manufacture of hardener containing

제조 예 1Production Example 1

환류 장치가 달린 100㎖ 둥근 플라스크에 2,2'-바이피리딘-4,4'-디카르복시산 7.3g, 4-아미노페놀 8.7g, 이소프탈산 6.6g, 4-히드록시벤조산 6.4g, 6-히드록시-2-나프토산 3.1g, 아세트산 무수물 22.4g을 첨가했다. 상기 플라스크에 밀폐된 기계적 교반기, 질소 주입 튜브, 온도계 및 환류 콘덴서를 장착했다. 상기 플라스크의 내부를 질소가스로 충분히 치환한 후, 플라스크 내부의 온도를 질소가스 흐름 하에서 약 140℃의 온도로 상승시키고, 그 온도로 플라스크 내부의 온도를 유지시키면서 약 1시간 동안 환류시켰다. 이어서, 6-히드록시-2-나프토산 5.6g를 추가로 첨가한 후 반응 부산물인 아세트산과 미반응 아세트산 무수물을 제거하면서 약 300℃까지 온도를 높인 후, 약 30분 동안 반응시켜 바이피리딘이 포함된 경화제를 합성하였다.
7.3 g of 2,2'-bipyridine-4,4'-dicarboxylic acid, 8.7 g of 4-aminophenol, 6.6 g of isophthalic acid, 6.4 g of 4-hydroxybenzoic acid, 3.1 g of hydroxy-2-naphthoic acid and 22.4 g of acetic anhydride were added. The flask was equipped with a mechanical stirrer, a nitrogen injection tube, a thermometer and a reflux condenser. After sufficiently replacing the inside of the flask with nitrogen gas, the temperature inside the flask was raised to a temperature of about 140 캜 under a nitrogen gas flow, and refluxed for about 1 hour while maintaining the temperature inside the flask at that temperature. Then, 5.6 g of 6-hydroxy-2-naphthoic acid was further added, and then the temperature was raised to about 300 ° C. while removing acetic acid and unreacted acetic anhydride, which are byproducts of the reaction, Were synthesized.

바이피리딘을Bipyridine 포함하지 않은 경화제의 제조 Preparation of non-containing curing agent

제조 예 2Production Example 2

환류 장치가 달린 100㎖ 둥근 플라스크에 4-아미노페놀 8.7g, 이소프탈산 10.0g, 4-히드록시벤조산 6.4g, 6-히드록시-2-나프토산 3.1g, 아세트산 무수물 22.4g을 첨가했다. 그 다음, 상기 제조 예 1과 같은 조건으로 반응시켜 바이피리딘을 포함하지 않은 경화제를 합성하였다.
8.7 g of 4-aminophenol, 10.0 g of isophthalic acid, 6.4 g of 4-hydroxybenzoic acid, 3.1 g of 6-hydroxy-2-naphthoic acid and 22.4 g of acetic anhydride were added to a 100 ml round bottom flask equipped with a reflux condenser. Then, the reaction was carried out under the same conditions as in Preparation Example 1 to synthesize a curing agent containing no bipyridine.

실시 예 1Example 1

바이피리딘 구조를 포함한 제조 예 1의 경화제 33.0g, 에폭시 수지 (Araldite MY-721, Huntsmann 사) 22.0g 및 디시안디아미드 (DICY) 0.22g을 45.0g의 N,N'-디메틸아세트아미드 (DMAc)에 첨가하여 혼합용액을 바니쉬 상태로 제조한 뒤, 유리섬유를 상기 바니쉬에 함침시킨 후 약 200℃에서 5분간 건조시켜 프리프레그를 제조하였다. 그리고, 상기 프리프레그를 약 220℃의 온도, 30 ㎏f/㎠의 압력에서 약 60분간 경화시켜 동박적층판을 제작하였다.
22.0 g of an epoxy resin (Araldite MY-721, Huntsmann) and 0.22 g of dicyandiamide (DICY) were dissolved in 45.0 g of N, N'-dimethylacetamide (DMAc) To prepare a mixed solution in a varnish state. The glass fiber was impregnated in the varnish and then dried at about 200 DEG C for 5 minutes to prepare a prepreg. Then, the prepreg was cured at a temperature of about 220 DEG C and a pressure of 30 kgf / cm < 2 > for about 60 minutes to prepare a copper clad laminate.

실시 예 2Example 2

상기 실시 예 1로 제조된 혼합용액에 입자직경이 500㎛인 구형 실리카 (아드마텍스 사) 312g을 첨가하여 바니쉬를 제작하고, 상기 실시 예 1과 같은 방법으로 동박적층판을 제작하였다.
312 g of spherical silica having a particle diameter of 500 탆 (Admatech Corp.) was added to the mixed solution prepared in Example 1 to prepare a varnish, and a copper-clad laminate was produced in the same manner as in Example 1.

비교 예 1Comparative Example 1

바이피리딘 구조를 포함하지 않은 제조 예 2의 경화제 33.0g, 에폭시 수지 (Araldite MY-721, Huntsmann 사) 22.0g 및 디시안디아미드 (DICY) 0.22g를 45.0g의 N,N'-디메틸아세트아미드 (DMAc)에 첨가하여 혼합용액을 바니쉬 상태로 제조한 뒤, 유리섬유를 상기 바니쉬에 함침시킨 후 약 200℃에서 5분간 건조시켜 프리프레그를 제조하였다. 그리고, 상기 프리프레그를 약 220℃의 온도, 30 ㎏f/㎠의 압력에서 약 60분간 경화시켜 동박적층판을 제작하였다.
22.0 g of an epoxy resin (Araldite MY-721, Huntsmann) and 0.22 g of dicyandiamide (DICY) were dissolved in 45.0 g of N, N'-dimethylacetamide DMAc) to prepare a mixed solution. The glass fiber was impregnated with the varnish and then dried at about 200 DEG C for 5 minutes to prepare a prepreg. Then, the prepreg was cured at a temperature of about 220 DEG C and a pressure of 30 kgf / cm < 2 > for about 60 minutes to prepare a copper clad laminate.

비교 예 2Comparative Example 2

상기 비교 예 1로 제조된 혼합용액에 입자직경이 500㎛인 구형 실리카 (아드마텍스 사) 312g을 첨가하여 바니쉬를 제작하고, 상기 비교 예 1과 같은 방법으로 동박적층판을 제작하였다.
312 g of spherical silica having a particle diameter of 500 탆 (Admatech Corp.) was added to the mixed solution prepared in Comparative Example 1 to prepare a varnish, and a copper-clad laminate was prepared in the same manner as in Comparative Example 1.

실시 예 1 및 2, 비교 예 1 및 2를 통해 제조된 동박적층판의 동박을 제거한 시편을 통해 열팽창계수 및 유리전이온도를 측정하였다.The thermal expansion coefficient and the glass transition temperature of the copper clad laminate prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were measured through the copper foil-free specimens.

열팽창계수는 TA사의 TMA 장비를 사용하여 인장 모드 (Tensile mode)로 측정하였으며, 1차로 분당 10℃씩 약 300℃ 까지 스캔하였고, 냉각 후 2차로 분당 10℃씩 약 310℃ 까지 스캔하여, 2차로 스캔한 결과값의 열팽창계수를 측정하였다.The thermal expansion coefficient was measured in Tensile mode using TA's TMA equipment. The temperature was scanned up to about 300 ° C. at a rate of 10 ° C. per minute, followed by cooling to about 310 ° C. at a rate of 10 ° C. per second, The thermal expansion coefficients of the scanned results were measured.

또한, 유리전이온도는 TA사의 DSC 장비를 사용하여 측정하였으며, 각각 제조된 시편의 약 5㎎을 상기 장비에 넣고 분당 10℃씩 300℃까지 1차 측정하고 냉각시킨 후 분당 10℃씩 300℃까지 2차 측정하여, 2차 측정한 결과값으로 유리전이온도를 측정하였다. The glass transition temperature was measured using TA DSC equipment. About 5 mg of the prepared sample was placed in the equipment, and the sample was firstly measured at 10 ° C / min up to 300 ° C, cooled, and then cooled to 10 ° C / The glass transition temperature was measured by the second measurement and the second measurement.

마지막으로 실시 예 1 및 2, 비교 예 1 및 2를 통해 제조된 동박적층판의 표면에서 약 1㎝의 동박을 벗겨내어 인장 강도 측정기 (universal testing machine, UTM)를 사용하여 동박과 절연층 간의 박리 강도를 측정하였다.Finally, about 1 cm of copper foil was peeled from the surface of the copper clad laminate prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, and the peel strength between the copper foil and the insulating layer was measured using a universal testing machine (UTM) Were measured.

구 분division 유리전이온도 (℃)Glass transition temperature (캜) 열팽창계수 (ppm/℃)Thermal Expansion Coefficient (ppm / ° C) 박리 강도 (㎏f/㎝)Peel strength (kgf / cm) 실시 예 1Example 1 250250 1010 2.52.5 비교 예 1Comparative Example 1 237237 1818 1.51.5

상기 표 1에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 무기충전제를 포함하지 않은 절연 수지 조성물로 제조된 실시 예 1의 프리프레그는 비교 예 1로 제조된 프리프레그와 비교하여 유리전이온도, 열팽창계수 및 박리 강도의 특성을 향상시키는 효과가 있다.
As can be seen from Table 1, the prepreg of Example 1, which was made from an insulating resin composition containing no inorganic filler according to the present invention, had a glass transition temperature, a thermal expansion coefficient And the effect of improving the peel strength.

구 분division 유리전이온도 (℃)Glass transition temperature (캜) 열팽창계수 (ppm/℃)Thermal Expansion Coefficient (ppm / ° C) 박리 강도 (㎏f/㎝)Peel strength (kgf / cm) 실시 예 2Example 2 235235 55 1.61.6 비교 예 2Comparative Example 2 220220 1111 0.60.6

상기 표 2에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 무기충전제를 포함하는 절연 수지 조성물로 제조된 실시 예 2의 프리프레그는 비교 예 2로 제조된 프리프레그와 비교하여 유리전이온도, 열팽창계수 및 박리 강도의 특성을 향상시키는 효과가 있다.
As can be seen from Table 2, the prepreg of Example 2 made of an insulating resin composition containing an inorganic filler according to the present invention had a glass transition temperature, a coefficient of thermal expansion and a coefficient of thermal expansion The effect of improving the peel strength can be obtained.

이상 본 발명을 구체적인 실시 예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량할 수 있음이 명백하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the present invention. It is obvious that it can be modified or improved.

본 발명의 단순한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.It is intended that the present invention cover the modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

Claims (15)

에폭시 수지; 및
바이피리딘 구조를 포함하는 경화제;
를 포함하는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
Epoxy resin; And
A curing agent comprising a bipyridine structure;
And an insulating resin composition for a printed circuit board.
청구항 1에 있어서,
상기 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 25 내지 75 중량부의 에폭시 수지 및 10 내지 55 중량부의 바이피리딘 구조를 포함하는 경화제를 포함하는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method according to claim 1,
And a curing agent comprising 25 to 75 parts by weight of an epoxy resin and 10 to 55 parts by weight of a bipyridine structure based on 100 parts by weight of the insulating resin composition.
청구항 1에 있어서,
상기 에폭시 수지는 나프탈렌계 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 고무 변성형 에폭시 수지, 인계 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지로부터 하나 이상 선택된 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The epoxy resin may be at least one selected from the group consisting of naphthalene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, rubber modified epoxy resin, phosphorus epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin Insulated resin composition.
청구항 1에 있어서,
상기 바이피린딘 구조는 하기 화학식 1로 표시되는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00003

여기서, a는 1 내지 10의 정수, b는 1 내지 13의 정수, c는 1 내지 13의 정수, d는 1 내지 21의 정수, e는 1 내지 21의 정수, f는 1 내지 10의 정수 및 g는 1 내지 10의 정수이다.
The method according to claim 1,
Wherein the bipyridine structure is represented by the following Formula 1:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00003

B is an integer of 1 to 13, c is an integer of 1 to 13, d is an integer of 1 to 21, e is an integer of 1 to 21, f is an integer of 1 to 10, g is an integer of 1 to 10;
청구항 1에 있어서,
상기 경화제는 바이피리딘 구조를 30 내지 60 중량%를 포함하는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the curing agent comprises 30 to 60% by weight of a bipyridine structure.
청구항 1에 있어서,
상기 절연 수지 조성물은 무기충전제, 시아네이트 에스터 및 비스말레이미드를 더욱 포함하는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the insulating resin composition further comprises an inorganic filler, a cyanate ester, and bismaleimide.
청구항 6에 있어서,
상기 무기충전제는 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 82 내지 488 중량부를 포함하는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method of claim 6,
Wherein the inorganic filler comprises 82 to 488 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition.
청구항 7에 있어서,
상기 무기충전제는 실리카 (SiO2), 알루미나 (Al2O3), 황산바륨 (BaSO4), 수산화알루미늄 (AlOH3), 수산화마그네슘 (Mg(OH)2), 탄산칼슘 (CaCO3), 탄산마그네슘 (MgCO3), 산화마그네슘 (MgO), 질화붕소 (BN), 탄화규소 (SiC), 붕산알루미늄 (AlBO3), 티탄산바륨 (BaTiO3) 및 지르콘산칼슘 (CaZrO3)으로부터 하나 이상 선택된 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method of claim 7,
The inorganic fillers include silica (SiO 2), alumina (Al 2 O 3), barium sulfate (BaSO 4), aluminum hydroxide (AlOH 3), magnesium hydroxide (Mg (OH) 2), calcium carbonate (CaCO 3), acid magnesium (MgCO 3), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), silicon carbide (SiC), aluminum borate (AlBO 3), barium titanate (BaTiO 3) and zircon calcium print the selected one or more from the (CaZrO 3) Insulating resin composition for circuit board.
청구항 6에 있어서,
상기 시아네이트 에스터는 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 65 중량부로 포함되는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method of claim 6,
Wherein the cyanate ester is contained in an amount of 10 to 65 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition.
청구항 9에 있어서,
상기 시아네이트 에스터는 비스페놀 A형, 크레졸 노볼락형 및 페놀 노볼락형으로부터 하나 이상 선택된 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method of claim 9,
Wherein the cyanate ester is at least one selected from the group consisting of bisphenol A type, cresol novolak type and phenol novolac type.
청구항 6에 있어서,
상기 비스말레이미드는 절연 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 43 중량부로 포함되는 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method of claim 6,
Wherein the bismaleimide is contained in an amount of 10 to 43 parts by weight based on 100 parts by weight of the insulating resin composition.
청구항 11에 있어서,
상기 비스말레이미드는 1,1`-(메틸렌디-4,1-페닐렌)비스말레이미드 (1,1`-(methylenedi-4,1-phenylene)bismaleimide)인 인쇄회로기판용 절연 수지 조성물.
The method of claim 11,
Wherein the bismaleimide is 1,1'- (methylenedi-4,1-phenylene) bismaleimide. 2. The insulating resin composition for a printed circuit board according to claim 1, wherein the bismaleimide is 1,1'- (methylenedi-4,1-phenylene) bismaleimide.
청구항 1에 따른 절연 수지 조성물을 포함한 바니쉬 (varnish)에 유기섬유 또는 무기섬유를 함침 및 건조시켜 제조된 프리프레그.
A prepreg produced by impregnating organic fibers or inorganic fibers with a varnish containing the insulating resin composition according to claim 1 and drying the varnish.
청구항 13에 있어서,
상기 무기 섬유 또는 유기 섬유는 유리 섬유, 탄소 섬유, 폴리파라페닐렌 벤조비스옥사졸 섬유, 서모트로픽 (thermotropic) 액정 고분자 섬유, 라이소트로픽 액정 고분자 섬유, 아라미드 섬유, 폴리피리도비스이미다졸 섬유, 폴리벤조티아졸 섬유, 및 폴리아릴레이트 섬유로부터 하나 이상 선택된 프리프레그.
14. The method of claim 13,
The inorganic fiber or the organic fiber may be a fiber such as glass fiber, carbon fiber, polyparaphenylene benzobisoxazole fiber, thermotropic liquid crystal polymer fiber, lysotropic liquid crystal polymer fiber, aramid fiber, polypyridobisimidazole fiber, Polybenzothiazole fibers, and polyarylate fibers.
청구항 13의 프리프레그의 일면 또는 양면에 동박을 부착시켜 얻은 동박적층판 (CCL) 상에 빌드업층을 적층하여 제조된 인쇄회로기판.A printed circuit board manufactured by laminating a buildup layer on a copper clad laminate (CCL) obtained by attaching a copper foil to one side or both sides of a prepreg of claim 13.
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