KR20150052011A - Method for producing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, resin composition containing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, and cured product of same - Google Patents

Method for producing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, resin composition containing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, and cured product of same Download PDF

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Abstract

본 발명은, 시아누르산과 인 화합물을 사용하여 에폭시 수지를 변성한 난연성의 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조에 있어서, 단시간으로의 제조를 가능하게 하고, 또한 시아누르산의 잔존이 매우 적고, 우수한 물성을 갖는 에폭시 수지 경화물을 얻을 수 있는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법을 제공한다. 인 화합물, 시아누르산 및 에폭시 수지를 필수 성분으로서 반응시켜 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법으로서, 특정한 인 화합물을 시아누르산 1몰에 대하여 해당 인 화합물을 2.5 내지 50몰로 한, 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법과, 그로부터 얻어지는 인 함유율이 1.0 내지 5.0질량%, 질소 함유율이 0.1 내지 2.0질량%, 또한 인 함유율과 질소 함유율의 총합이 2.5 내지 5.5질량%인 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지와 경화제를 포함하는 수지 조성물과 그의 경화물이다.The present invention relates to a method for producing a flame-retardant cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by modifying an epoxy resin using cyanuric acid and a phosphorous compound, which enables production in a short time, The present invention also provides a method for producing a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin capable of obtaining an epoxy resin cured product having excellent physical properties. A method for producing a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by reacting a phosphorus compound, cyanuric acid, and an epoxy resin as essential components, which method comprises reacting a specific phosphorus compound with 2.5 to 50 mol of the phosphorus compound per mole of cyanuric acid, A process for producing a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, and a process for producing the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, which comprises obtaining a cyanuric acid having a phosphorus content of 1.0 to 5.0 mass%, a nitrogen content of 0.1 to 2.0 mass%, and a phosphorus content and a nitrogen content of 2.5 to 5.5 mass% A resin composition comprising an acid-modified phosphorus-containing epoxy resin and a curing agent, and a cured product thereof.

Description

시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법, 해당 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지를 포함하는 수지 조성물, 및 그의 경화물{METHOD FOR PRODUCING CYANURIC ACID-MODIFIED PHOSPHORUS-CONTAINING EPOXY RESIN, RESIN COMPOSITION CONTAINING CYANURIC ACID-MODIFIED PHOSPHORUS-CONTAINING EPOXY RESIN, AND CURED PRODUCT OF SAME}METHOD FOR PRODUCING CYANURIC ACID-MODIFIED PHOSPHORUS-CONTAINING EPOXY RESIN, RESIN COMPOSITION CONTAINING CYANURIC ACID, AND RESIN COMPOSITION CONTAINING CYANURIC ACID -MODIFIED PHOSPHORUS-CONTAINING EPOXY RESIN, AND CURED PRODUCT OF SAME}

본 발명은 분자 골격에 인 원자와 질소 원자를 함유하는 할로겐 프리 난연성 에폭시 수지의 제조 방법, 상기 제조 방법으로부터 얻어진 에폭시 수지와 그 밖의 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 수지 조성물, 해당 에폭시 수지 조성물과 경화제를 포함하는 경화성 에폭시 수지 조성물, 및 해당 경화성 에폭시 수지 조성물을 경화한 에폭시 수지 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a halogen-free flame-retardant epoxy resin containing phosphorus atoms and nitrogen atoms in a molecular skeleton, an epoxy resin composition containing an epoxy resin and other epoxy resins obtained from the above-mentioned production method, and an epoxy resin composition and a curing agent And an epoxy resin cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition.

에폭시 수지의 난연화는 종래 테트라브로모비스페놀 A를 원료로 한 브롬화 에폭시 수지로 대표되는 바와 같이 할로겐화에 의해 행해지고 있었다. 그러나, 할로겐화 에폭시 수지를 사용한 경우, 경화물의 연소시에 열분해 반응에 의해 독성이 강한 할로겐화물의 생성이 보인다는 문제가 있었다. 이에 대하여 최근 인 화합물을 이용한 할로겐 프리 난연 기술이 검토되고 있으며, 특허문헌 1 내지 특허문헌 4에 개시된 인 화합물을 응용하는 것이 제안되어 있다. 그러나, 이들 인 화합물은 에폭시 수지나 용제와의 용해성이 낮고, 에폭시 수지에 배합하거나 용제에 용해하여 사용하는 것이 곤란하였기 때문에, 특허문헌 5 내지 특허문헌 10에 개시되어 있는 바와 같이 미리 에폭시 수지류와 반응시킴으로써 인 함유 에폭시 수지, 인 함유 페놀 수지로서 용제 용해성을 부여하여 사용되고 있다.The flame retardancy of the epoxy resin has been conventionally carried out by halogenation as represented by a brominated epoxy resin using tetrabromobisphenol A as a raw material. However, when a halogenated epoxy resin is used, there is a problem that generation of a halide which is highly toxic by pyrolysis reaction is observed when the cured product is burned. On the other hand, halogen-free flame retarding techniques using phosphorus compounds have recently been studied, and it has been proposed to apply phosphorus compounds disclosed in Patent Documents 1 to 4. However, since these phosphorus compounds are low in solubility with epoxy resins or solvents, and are difficult to be mixed with or dissolved in an epoxy resin, as disclosed in Patent Documents 5 to 10, Containing phenol resin is used by imparting solvent solubility to phosphorus-containing epoxy resin and phosphorus-containing phenol resin.

일본 특허 공개 (소) 47-016436호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 47-016436 일본 특허 공개 (소) 60-126293호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-126293 일본 특허 공개 (소) 61-236787호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-236787 일본 특허 공개 (평) 05-331179호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 05-331179 일본 특허 공개 (평) 04-11662호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 04-11662 일본 특허 공개 제2000-309623호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-309623 일본 특허 공개 (평) 11-166035호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 11-166035 일본 특허 공개 (평) 11-279258호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-279258 일본 특허 공개 제2001-123049호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2001-123049 일본 특허 공개 제2003-040969호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-040969 일본 특허 공개 제2012-229364호 공보Japanese Patent Laid-Open Publication No. 229364/1991

니시자와 히토시 저 「중합체의 난연화」 P60 우측란 22줄 내지 27줄, P166 6-8-3항 1992년 대성사 Nishizawa Hitoshi "Polymerization of Polymer" P60 Right column, line 22 to line 27, P166, paragraph 6-8-3 1992,

인 화합물에 의한 난연화는, 난연성을 더욱 향상시키고자 하면 인 함유율을 높일 수밖에 없고, 분자량이 커져 가교 밀도가 저하되거나 고가의 인 함유 화합물을 사용해야 했다. 이에 대하여, 본 발명자들은 비특허문헌 1에 기재되어 있는 인과 질소의 난연성에 대한 상승 효과에 착안하여, 질소 화합물로서 시아누르산을 사용함으로써 난연성의 향상을 제안하였다(특허문헌 11). 그러나, 제조 방법에 따라서는, 에폭시 수지와 시아누르산이 충분히 반응하지 않고, 미반응된 시아누르산이 잔존하기 쉽다는 것을 알 수 있었다. 반응계 중에 잔존한 시아누르산은 매우 느린 속도로밖에 에폭시 수지와 반응하지 않고, 또한 미반응된 시아누르산은 용제에 대한 용해성이 나빠, 경화 물성에 악영향을 미치는 미반응 시아누르산의 감소가 더욱 요구되고 있었다.When the flame retardancy is to be further improved, the phosphorus content has to be increased, and the phosphorus compound-containing compound has to be used in order to increase the molecular weight and decrease the crosslinking density or to use expensive phosphorus-containing compounds. On the other hand, the present inventors have focused on the synergistic effect on the flame retardancy of phosphorus and nitrogen described in Non-Patent Document 1, and proposed to improve flame retardancy by using cyanuric acid as a nitrogen compound (Patent Document 11). However, depending on the production method, it was found that the epoxy resin and cyanuric acid did not sufficiently react with each other and unreacted cyanuric acid was liable to remain. The cyanuric acid remaining in the reaction system reacts only with the epoxy resin at a very low rate and the unreacted cyanuric acid has a poor solubility in the solvent and further the reduction of the unreacted cyanuric acid which adversely affects the curing properties is further required .

상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명자는 에폭시 수지와 시아누르산의 반응시, 시아누르산에 대하여 일정 비율의 특정한 인 화합물을 공존시켜 반응시킴으로써, 시아누르산의 잔존이 매우 적어 장시간의 반응을 요하지 않고 에폭시 수지와의 반응이 용이하게 진행되는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하였다.In order to solve the above problems, the present inventors have found that when a specific phosphorus compound is allowed to coexist with a cyanuric acid in the reaction between an epoxy resin and cyanuric acid, the cyanuric acid remains in a very small amount, And the reaction with the epoxy resin proceeds easily without requiring the use of the epoxy resin. Thus, the present invention has been completed.

즉, 본 발명은That is,

(1) 인 화합물, 시아누르산 및 에폭시 수지를 필수 성분으로서 반응시켜 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법으로서, 상기 인 화합물이(1) A process for producing a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by reacting a phosphorus compound, cyanuric acid and an epoxy resin as essential components,

하기 화학식 (1):(1): < EMI ID =

Figure pct00001
Figure pct00001

[식 중, n은 0 또는 1을 나타내고, 그리고 R1 및 R2는 각각 단독으로 탄소수 1 내지 6의 탄화수소기를 나타내며 동일할 수도 상이할 수도 있고, 또는 인 원자와 함께 환상이 되어 있을 수도 있음] [Wherein n represents 0 or 1, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different, or may be a cyclic structure together with the phosphorus atom]

또는 하기 화학식 (2): (2): < EMI ID =

Figure pct00002
Figure pct00002

[식 중, m은 0 또는 1을 나타내고, 그리고 R3 및 R4는 각각 단독으로 탄소수 1 내지 6의 탄화수소기를 나타내며 동일할 수도 상이할 수도 있고, 또는 인 원자와 함께 환상이 되어 있을 수도 있음] [Wherein m represents 0 or 1, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different, or may be a cyclic structure together with the phosphorus atom]

로 표시되는 인 화합물, 또는 이들 양자를 포함하는 인 화합물이며, 시아누르산 1몰에 대하여 해당 인 화합물을 2.5 내지 50몰 배합한, 인 화합물 및 시아누르산의 공존하에 상기 에폭시 수지를 미리 혼합하고, 그 후에 반응을 행하여, 인 함유율이 1.0 내지 5.0질량%, 질소 함유율이 0.1 내지 2.0질량%, 또한 인 함유율과 질소 함유율의 총합이 2.5 내지 5.5질량%인 것을 특징으로 하는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법,, Or a phosphorus compound containing both of them, and the epoxy resin is preliminarily mixed in the coexistence of phosphorus compound and cyanuric acid in which 2.5 to 50 mol of the phosphorus compound is added per mole of cyanuric acid , And the reaction is carried out thereafter to obtain a phosphorus content of 1.0 to 5.0 mass%, a nitrogen content of 0.1 to 2.0 mass%, and a total content of phosphorus content and nitrogen content of 2.5 to 5.5 mass% A method for producing an epoxy resin,

(2) 상기 (1)에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지에 다른 에폭시 수지를 배합한 에폭시 수지 조성물,(2) An epoxy resin composition obtained by blending another epoxy resin with a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method described in (1) above,

(3) 상기 (1)에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지에, 해당 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 에폭시기 1당량에 대하여 관능기비로 0.4 내지 2.0당량의 경화제를 함유한 경화성 에폭시 수지 조성물,(3) A cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method described in (1) above, which contains 0.4 to 2.0 equivalents of a curing agent based on 1 equivalent of the epoxy group of the cyanuric acid- Curable epoxy resin composition,

(4) 상기 (2)에 기재된 에폭시 수지 조성물에, 해당 에폭시 수지 조성물의 에폭시기 1당량에 대하여 관능기비로 0.4 내지 2.0당량의 경화제를 함유한 경화성 에폭시 수지 조성물,(4) A curable epoxy resin composition containing the curing agent in an amount of 0.4 to 2.0 equivalents based on one equivalent of the epoxy group of the epoxy resin composition,

(5) 상기 (3) 또는 (4)에 기재된 경화성 에폭시 수지 조성물을 경화시킨 에폭시 수지 경화물(5) The epoxy resin cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition according to (3) or (4)

에 관한 것이다..

본 발명은, 시아누르산 1몰에 대하여 특정한 인 화합물을 2.5 내지 50몰의 몰비로 공존시킨 후, 에폭시 수지와 반응함으로써 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지이며, 단시간으로의 제조를 가능하게 하고, 또한 시아누르산의 잔존이 매우 적고, 우수한 물성을 갖는 에폭시 수지 경화물을 얻을 수 있다.The present invention relates to a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by co-existence of a specific phosphorus compound in a molar ratio of 2.5 to 50 mol with respect to 1 mol of cyanuric acid, followed by reaction with an epoxy resin, , A cured epoxy resin having a very small residual amount of cyanuric acid and having excellent physical properties can be obtained.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 본 발명의 화학식 (1) 또는 (2)로 표시되는 인 화합물은, 구체적으로는 디메틸포스핀, 디에틸포스핀, 디페닐포스핀, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드(DOPO), 디메틸포스핀옥시드, 디에틸포스핀옥시드, 디부틸포스핀옥시드, 디페닐포스핀옥시드, 1,4-시클로옥틸렌포스핀옥시드, 1,5-시클로옥틸렌포스핀옥시드(CPHO, 닛본 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제) 등을 들 수 있다. 이들 인 화합물은 단독으로도 2종류 이상 혼합하여 사용할 수도 있고, 이들로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The phosphorus compound represented by the formula (1) or (2) of the present invention specifically includes dimethylphosphine, diethylphosphine, diphenylphosphine, 9,10-dihydro-9-oxa-10- The transition metal complex oxide may be at least one selected from the group consisting of trhene-10-oxide (DOPO), dimethylphosphine oxide, diethylphosphine oxide, dibutylphosphine oxide, diphenylphosphine oxide, 1,4-cyclooctylenephosphine oxide, Octylenphosphine oxide (CPHO, manufactured by Nippon Kayaku Kagaku Co., Ltd.), and the like. These phosphorus compounds may be used singly or in combination of two or more, but the present invention is not limited thereto.

본 발명에 있어서, 시아누르산이란 호변 이성인 s-트리아진-2,4,6-트리올 및 s-트리아진-2,4,6-트리온을 나타내는 것이며, 그의 비율에 대해서는 특별히 규정은 없다.In the present invention, cyanuric acid refers to tautomeric s-triazine-2,4,6-triol and s-triazine-2,4,6-trione, none.

시아누르산은 질소계 난연제로서 첨가되는 기술이 개시되어 있지만, 시아누르산의 용제에 대한 용해성 불량이나 에폭시 수지나 경화제에 대한 상용성 불량 때문에 균일한 수지 조성물이 얻어지기 어렵고, 난연성에 변동이 발생하고 있었다. 본 발명의 제조 방법으로부터 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지는, 시아누르산을 에폭시 수지와 반응시킴으로써 수지 조성물 중에서 균일해지기 때문에, 안정한 난연성이 얻어진다. 또한, 본 발명의 수지 조성물이라고 할 때에는, 특별히 언급이 없는 한, 에폭시 수지 조성물과 경화성 에폭시 수지 조성물 양자를 포함하는 의미로 사용되지만, 문맥상 명확한 경우에는 어느 한쪽을 나타낸다.Although cyanuric acid has been disclosed as a nitrogen-based flame retardant, it is difficult to obtain a uniform resin composition due to poor solubility of a cyanuric acid in a solvent, compatibility with an epoxy resin or a curing agent, there was. The cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained from the production process of the present invention is uniform in the resin composition by reacting the cyanuric acid with the epoxy resin, so that stable flame retardancy is obtained. The resin composition of the present invention is used in the meaning including both epoxy resin composition and curable epoxy resin composition, unless otherwise specified, but it shows either of them in the context clearly.

본 발명의 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지를 제조하기 위해 사용하는 에폭시 수지는, 에포토토 YD-128, 에포토토 YD-8125(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비스페놀 A형 에폭시 수지), 에포토토 YDF-170, 에포토토 YDF-8170(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비스페놀 F형 에폭시 수지), YSLV-80XY(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 테트라메틸비스페놀 F형 에폭시 수지), 에포토토 YDC-1312(히드로퀴논형 에폭시 수지), jER YX-4000H(미쯔비시 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비페닐형 에폭시 수지), 에포토토 YDPN-638, 에포토토 YDPN-63X(신닛떼쯔 가부시끼가이샤제, 페놀노볼락형 에폭시 수지), 에포토토 YDCN-701(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지), 에포토토 GK-5855, 에포토토 TX-1210(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 치환 페놀형 에폭시 수지), 에포토토 ZX-1201(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비스페놀 플루오렌형 에폭시 수지), TX-0710(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비스페놀 S형 에폭시 수지), NC-3000(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤제, 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지), 에포토토 ZX-1355, 에포토토 ZX-1711(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 나프탈렌디올형 에폭시 수지), 에포토토 ESN-155(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, β-나프톨아르알킬형 에폭시 수지), 에포토토 ESN-355, 에포토토 ESN-375(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지), 에포토토 ESN-475V, 에포토토 ESN-485(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, α-나프톨아르알킬형 에폭시 수지), EPPN-501H(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤제, 트리스페닐메탄형 에폭시 수지), YSLV-120TE(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비스티오에테르형 에폭시 수지), 에포토토 ZX-1684(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 레조르시놀형 에폭시 수지), 에피클론 HP-7200H(DIC 가부시끼가이샤제, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지), 에포토토 YDG-414(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 4관능 에폭시 수지) 등의 다가 페놀 수지의 페놀 화합물과 에피할로히드린으로 제조되는 에폭시 수지, TX-0929, TX-0934, ZX-1542, TX-1032(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 알킬렌글리콜형 에폭시 수지) 등의 알코올 화합물과 에피할로히드린으로 제조되는 에폭시 수지, 셀록사이드 2021(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제, 지방족 환상 에폭시 수지), 에포토토 YH-434(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜아민), jER 630(미쯔비시 가가꾸 가부시끼가이샤제, 아미노페놀형 에폭시 수지) 등의 아민 화합물과 에피할로히드린으로 제조되는 에폭시 수지, 에포토토 FX-289B, 에포토토 FX-305, TX-0940(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 인 함유 에폭시 수지), 우레탄 변성 에폭시 수지, 옥사졸리돈환 함유 에폭시 수지 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.The epoxy resin used for producing the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin of the present invention is Epototo YD-128, Epototo YD-8125 (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd., bisphenol A type epoxy (Manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd., Bisphenol F type epoxy resin), YSLV-80XY (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Epotohto YDF- (Biphenyl-type epoxy resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epitoto YDPN-638 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), epoxy resin (Phenol novolak type epoxy resin manufactured by Shin-Nittsu Kabushiki Kaisha), Epoto YDCN-701 (manufactured by Shin-Nittsu Sumitomo Chemical Co., Ltd., cresol novolak type epoxy resin) GK-5855, Ephotoot TX-1210 (manufactured by Shinnitetsu Sumi Kagakuga Co., Epoxy phenol type epoxy resin), Ecototo ZX-1201 (bisphenol fluorene type epoxy resin, manufactured by Shin-Tetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.), TX-0710 (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., (Bisphenol S type epoxy resin), NC-3000 (biphenylaralkylphenol type epoxy resin, manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), Epitoto ZX-1355, and Eptotoz ZX-1711 (Naphthalene diol type epoxy resin made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epitoto ESN-155 (棺 -naphthol aralkyl type epoxy resin made by Shin-Nittsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Epitothets ESN-475V, Eptoto ESN-485 (manufactured by Shin-Tetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd., epoxy resin: Dinaphthol aralkyl type epoxy resin) naphthol aralkyl type epoxy resin), EPPN-501H (manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Co., Ltd. Epoxy resin), YSLV-120TE (manufactured by Shin-Nittsu Sumitomo Chemical Co., Ltd., bis-thioether type epoxy resin), Epitoto ZX-1684 (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Epiclon HP-7200H (manufactured by DIC Corporation, dicyclopentadiene type epoxy resin), Epotohto YDG-414 (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd., tetrafunctional epoxy resin) TX-0929, ZX-1542, TX-1032 (manufactured by Shin-Tetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and epoxy resin made of epihalohydrin and phenol compound of polyhydric phenol resin such as epoxy resin Epoxy resin prepared from epichlorohydrin and alcohol compound such as epoxy resin, alkylene glycol type epoxy resin), Celloxide 2021 (aliphatic cyclic epoxy resin, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Epotoh YH-434 Shinnitetsu Sumi 낑 Kagakugabushi (Diaminodiphenylmethane tetraglycidylamine), jER 630 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, aminophenol type epoxy resin), and epoxy resins prepared from epihalohydrin, Epoxy FX-305, and TX-0940 (phosphorus-containing epoxy resins, available from Shin-Nittsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.), urethane-modified epoxy resins, and oxazolidinone-containing epoxy resins. But are not limited thereto.

또한, 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용할 수도 2종류 이상을 병용할 수도 있고, 비스페놀형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지를 적절하게 사용할 수 있다.These epoxy resins may be used singly or in combination of two or more kinds. Bisphenol-type epoxy resins, phenol novolak-type epoxy resins, and cresol novolak-type epoxy resins may be suitably used.

화학식 (1) 또는 (2)로 표시되는 인 화합물과 시아누르산과 에폭시 수지의 반응은, 인 화합물과 시아누르산의 공존하에서 에폭시 수지와 반응시키지만, 시아누르산 1몰에 대하여 2.5 내지 50몰의 인 화합물이 필요하며, 바람직한 인 화합물의 몰비는 시아누르산 1몰에 대하여 2.7 내지 25몰이고, 바람직하게는 3 내지 10몰이다. 시아누르산 1몰에 대하여 인 화합물이 2.5몰 미만이면 시아누르산과 에폭시 수지의 반응의 진행이 불충분해지고, 시아누르산의 잔존량이 증가한다. 시아누르산 1몰에 대하여 인 화합물이 50몰을 초과하면 시아누르산과 에폭시 수지의 반응이 충분히 진행되지만, 시아누르산에 의한 질소 원자의 도입 효과, 즉 난연성에 대한 인과 질소의 상승 효과가 거의 없어진다. 또한, 인 화합물과 시아누르산의 공존 조건을 만족하면, 에폭시 수지와 시아누르산의 반응 전후의 어느 것에 있어서도 에폭시 수지와 인 화합물을 반응시킬 수 있다.The reaction between the phosphorus compound represented by the formula (1) or (2) and the cyanuric acid and the epoxy resin is carried out by reacting the phosphorus compound with the epoxy resin in the presence of cyanuric acid, And a preferable molar ratio of the phosphorus compound is 2.7 to 25 moles, preferably 3 to 10 moles per 1 mole of cyanuric acid. If the amount of the phosphorus compound is less than 2.5 moles per mole of cyanuric acid, the progress of the reaction between the cyanuric acid and the epoxy resin becomes insufficient and the amount of residual cyanuric acid increases. If the phosphorus compound exceeds 50 moles per mole of cyanuric acid, the reaction between the cyanuric acid and the epoxy resin proceeds sufficiently, but the effect of introducing nitrogen atoms by cyanuric acid, that is, the synergistic effect of phosphorus and nitrogen on flame retardancy, . In addition, when the condition of coexistence of the phosphorus compound and the cyanuric acid is satisfied, the epoxy resin and the phosphorus compound can be reacted both before and after the reaction of the epoxy resin and the cyanuric acid.

본 발명의 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지를 얻기 위한 반응 온도는, 에폭시 수지의 합성에 통상 설정되어 있는 온도일 수도 있고, 100 내지 250℃, 바람직하게는 120 내지 200℃이다.The reaction temperature for obtaining the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin of the present invention may be a temperature usually set for the synthesis of the epoxy resin, and is from 100 to 250 ° C, preferably from 120 to 200 ° C.

반응에는 시간 단축이나 반응 온도 감소를 위해, 촉매를 사용할 수도 있다. 사용할 수 있는 촉매는 특별히 제한은 없으며, 에폭시 수지의 합성에 통상 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, 벤질디메틸아민 등의 제3급 아민류, 테트라메틸암모늄클로라이드 등의 제4급 암모늄염류, 트리페닐포스핀, 트리스(2,6-디메톡시페닐)포스핀 등의 포스핀류, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드 등의 포스포늄염류, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류 등 각종 촉매가 사용 가능하며, 단독으로 사용할 수도 2종류 이상 병용할 수도 있고, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 분할하여 수회로 나누어서 사용할 수도 있다.A catalyst may be used for the reaction for shortening the time or reducing the reaction temperature. The catalyst that can be used is not particularly limited and those generally used for the synthesis of an epoxy resin can be used. For example, tertiary amines such as benzyldimethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, phosphines such as triphenylphosphine and tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine, Phosphonium salts such as phenylphosphonium bromide and the like, imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, and the like, and they may be used alone or in combination of two or more But are not limited to these. It is also possible to divide it into several circuits and use it.

반응에 사용하는 촉매량은 특별히 한정되지 않지만, 사용하는 에폭시 수지에 대하여 5질량% 이하가 바람직하고, 1질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.5질량% 이하가 더욱 바람직하다. 촉매량이 5질량%를 초과하는 경우에는 에폭시기의 자기 중합 반응이 진행되기 쉬워지고, 수지 점도가 높아지는 경향이 있기 때문에 바람직하지 않다.The amount of the catalyst to be used in the reaction is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, and most preferably 0.5% by mass or less, based on the epoxy resin to be used. When the amount of the catalyst exceeds 5 mass%, the autopolymerization reaction of the epoxy group tends to proceed and the resin viscosity tends to increase, which is not preferable.

또한, 반응에는 불활성 용매를 사용할 수도 있다. 구체적으로는 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸, 디메틸부탄, 펜텐, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠 등의 각종 탄화수소, 에틸에테르, 이소프로필에테르, 부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 에틸페닐에테르, 아밀페닐에테르, 에틸벤질에테르, 디옥산, 메틸푸란, 테트라히드로푸란 등의 에테르류, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브, 셀로솔브아세테이트, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 메틸에틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드 등을 사용할 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니며, 단독으로 사용할 수도 2종류 이상 혼합하여 사용할 수도 있다.An inert solvent may also be used for the reaction. Specific examples thereof include various hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, decane, dimethylbutane, pentene, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene and ethylbenzene, ethylether, isopropylether, butylether, diisooamylether , Methylphenyl ether, ethyl phenyl ether, amyl phenyl ether, ethyl benzyl ether, dioxane, methylfuran and tetrahydrofuran, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, cellosolve acetate, But are not limited to, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl ethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dimethyl formamide, and dimethyl sulfoxide. They may be used in combination.

본 발명에서 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은 100 내지 700g/eq가 바람직하고, 200 내지 600g/eq가 보다 바람직하다. 에폭시 당량이 100g/eq 미만이면, 경화물의 접착성이 떨어진 것이 되기 쉽고, 700g/eq보다 큰 경우에는 경화물의 유리 전이 온도(Tg)가 저하되고, 수지 조성물이 고점도가 되어 작업성이 떨어진 것이 되기 쉽다.The epoxy equivalent of the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained in the present invention is preferably 100 to 700 g / eq, more preferably 200 to 600 g / eq. If the epoxy equivalent is less than 100 g / eq, the adhesion of the cured product tends to deteriorate. If the epoxy equivalent is more than 700 g / eq, the glass transition temperature (Tg) of the cured product is lowered, easy.

본 발명에서 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 인 함유율은 1.0 내지 5.0질량%이며, 1.5 내지 4.0질량%가 바람직하고, 2.0 내지 3.5질량%가 보다 바람직하다. 질소 함유율은 0.1 내지 2.0질량%이며, 0.5 내지 1.0질량%가 바람직하다. 또한, 인 함유율과 질소 함유율의 총합은 2.5 내지 5.5질량%이며, 3.0 내지 4.5질량%가 바람직하고, 3.0 내지 4.0질량%가 보다 바람직하다. 본 발명에서 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 난연성은 인과 질소의 상승 효과로 발휘되기 때문에, 어느 한쪽의 범위를 규정하여도 의미가 없고, 인 함유율과 질소 함유율의 총합의 범위를 규정할 필요가 있다. 인 함유율과 질소 함유율의 총합이 2.5질량% 미만이면 수지 조성물에 따라서는 난연성을 충분히 발휘할 수 없게 될 우려가 있다. 또한, 인 함유율과 질소 함유율의 총합이 5.5질량%를 초과하면 난연성은 충분히 발휘될 수 있지만, 수지 조성물이 고점도가 되어, 용제 용해성에 악영향을 미칠 우려가 있다. 그로 인해, 인 함유율과 질소 함유율의 총합의 범위를 2.5 내지 5.5질량%로 하는 것이 바람직하다.The phosphorus content of the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained in the present invention is 1.0 to 5.0 mass%, preferably 1.5 to 4.0 mass%, more preferably 2.0 to 3.5 mass%. The nitrogen content is 0.1 to 2.0% by mass, preferably 0.5 to 1.0% by mass. The total content of phosphorus content and nitrogen content is 2.5 to 5.5 mass%, preferably 3.0 to 4.5 mass%, more preferably 3.0 to 4.0 mass%. Since the flame retardancy of the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained in the present invention is exhibited by the synergistic effect of phosphorus and nitrogen, it is not meaningful to specify either range, and it is necessary to define the total sum of the phosphorus content and the nitrogen content . If the sum of the phosphorus content and the nitrogen content is less than 2.5 mass%, there is a possibility that flame retardancy can not be sufficiently exhibited depending on the resin composition. If the sum of the phosphorus content and the nitrogen content exceeds 5.5 mass%, the flame retardancy can be sufficiently exhibited, but the resin composition may have a high viscosity and adversely affect the solvent solubility. Therefore, it is preferable that the sum of the phosphorus content and the nitrogen content is in the range of 2.5 to 5.5% by mass.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 사용하는 그 밖의 에폭시 수지로서는, 본 발명의 특성을 손상시키지 않는 범위에서 상기 에폭시 수지와 동일한 에폭시 수지를 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지와 병용할 수 있다.As the other epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention, the same epoxy resin as the above epoxy resin can be used in combination with the epoxy resin containing the cyanuric acid modified phosphorus within the range not impairing the characteristics of the present invention.

본 발명의 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 또는 에폭시 수지 조성물은 경화제를 배합함으로써, 경화성 에폭시 수지 조성물로 할 수 있다. 경화제로서는 각종 페놀 화합물, 산 무수물류, 아민류, 히드라지드류, 산성 폴리에스테르류 등의 통상 사용되는 에폭시 수지용 경화제를 사용할 수 있으며, 이들 경화제는 1종류만 사용할 수도 2종류 이상 병용할 수도 있다. 이들 중, 본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물이 함유하는 경화제로서는 디시안디아미드 또는 페놀 화합물이 바람직하다.The cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin or epoxy resin composition of the present invention can be made into a curable epoxy resin composition by blending a curing agent. As the curing agent, conventionally used epoxy resin curing agents such as phenol compounds, acid anhydrides, amines, hydrazides, and acidic polyesters can be used. These curing agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, dicyandiamide or a phenol compound is preferable as a curing agent contained in the curable epoxy resin composition of the present invention.

본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물에 있어서 경화제의 사용량은, 에폭시 수지의 관능기인 에폭시기 1당량에 대하여 경화제의 관능기 0.4 내지 2.0당량이 바람직하고, 0.5 내지 1.5당량이 보다 바람직하고, 0.5 내지 1.0당량이 특히 바람직하다. 에폭시기 1당량에 대하여 경화제가 0.4당량을 만족하지 않는 경우, 또는 2.0당량을 초과하는 경우에는 경화가 불완전해져 양호한 경화 물성이 얻어지지 않게 될 우려가 있다.The amount of the curing agent to be used in the curable epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.4 to 2.0 equivalents, more preferably 0.5 to 1.5 equivalents, and more preferably 0.5 to 1.0 equivalents, relative to 1 equivalent of the epoxy group as the functional group of the epoxy resin desirable. When the amount of the curing agent is less than 0.4 equivalents or more than 2.0 equivalents based on 1 equivalent of the epoxy group, the curing is incomplete and good curing properties may not be obtained.

본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물에 사용할 수 있는 페놀 화합물의 구체예로서는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 C, 비스페놀 K, 비스페놀 Z, 비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 Z, 디히드록시디페닐술피드, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀) 등의 비스페놀류, 카테콜, 레조르신, 메틸레조르신, 히드로퀴논, 모노메틸히드로퀴논, 디메틸히드로퀴논, 트리메틸히드로퀴논, 모노-tert-부틸히드로퀴논, 디-tert-부틸히드로퀴논 등 디히드록시벤젠류, 4,4'-비페놀, 테트라메틸비페놀 등의 비페놀류 등의 2가 페놀류, 디히드록시나프탈렌, 디히드록시메틸나프탈렌, 디히드록시메틸나프탈렌, 트리히드록시나프탈렌 등의 폴리히드록시나프탈렌류, 페놀노볼락 수지, DC-5(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 크레졸 노볼락 수지), 나프톨 노볼락 수지 등의 페놀류 또는 나프톨류와 알데히드류의 축합물, SN-160, SN-395, SN-485(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제) 등의 페놀류 또는 나프톨류와 크실릴렌 글리콜의 축합물, GK-5855P(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 치환 페놀 수지), 페놀류 또는 나프톨류와 이소프로페닐아세토페논의 축합물, 페놀류 또는 나프톨류와 디시클로펜타디엔의 반응물, 페놀류 또는 나프톨류와 비페닐계 축합제의 축합물 등의 1 분자 중에 2개 이상의 페놀성 수산기를 갖는 페놀 화합물 등이 예시된다.Specific examples of the phenol compounds usable in the curable epoxy resin composition of the present invention include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol C, bisphenol K, bisphenol Z, bisphenol S, tetramethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol S, Bisphenols such as tetramethyl bisphenol Z, dihydroxydiphenyl sulfide and 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), catechol, resorcin, methylresorcinol, hydroquinone, mono Dihydric phenols such as dihydroxybenzenes such as methylhydroquinone, dimethylhydroquinone, trimethylhydroquinone, mono-tert-butylhydroquinone, and di-tert-butylhydroquinone, and biphenols such as 4,4'-biphenol and tetramethylbiphenol , Polyhydroxynaphthalenes such as dihydroxynaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene and trihydroxynaphthalene, phenol novolak resins such as phenol novolak resin, DC-5 (available from Shin-Nittsu Sumi-kega Phenols such as naphthol novolak resin or condensates of naphthols and aldehydes, SN-160, SN-395, and SN-485 (manufactured by Shin Nittsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.) ) Or a condensate of naphthol and xylylene glycol, a condensate of GK-5855P (a substituted phenol resin manufactured by Shin-Nittsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.), phenols or naphthols with isopropenyl acetophenone, A phenol compound having two or more phenolic hydroxyl groups in a molecule such as a reaction product of naphthols and dicyclopentadiene, a condensate of phenols or naphthols with a biphenyl-based condensing agent, and the like.

또한, 상기 페놀류로서는 페놀, 크레졸, 크실레놀, 부틸페놀, 아밀페놀, 노닐페놀, 부틸메틸페놀, 트리메틸페놀, 페닐페놀 등을 들 수 있으며, 상기 나프톨류로서는 1-나프톨, 2-나프톨 등을 들 수 있다. 또한, 상기 알데히드류로서는, 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 부틸알데히드, 발레르알데히드, 카프론알데히드, 벤즈알데히드, 클로로알데히드, 브로모알데히드, 글리옥살, 마론알데히드, 숙신알데히드, 글루타르알데히드, 아디핀알데히드, 피멜린알데히드, 세바신알데히드, 아크롤레인, 크로톤알데히드, 살리실알데히드, 프탈알데히드, 히드록시벤즈알데히드 등을 들 수 있으며, 상기 비페닐계 축합제로서 비스(메틸올)비페닐, 비스(메톡시메틸)비페닐, 비스(에톡시메틸)비페닐, 비스(클로로메틸)비페닐 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of the phenols include phenol, cresol, xylenol, butylphenol, amylphenol, nonylphenol, butylmethylphenol, trimethylphenol and phenylphenol. Examples of the naphthol include 1-naphthol, 2- . Examples of the aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propylaldehyde, butylaldehyde, valeraldehyde, capronaldehyde, benzaldehyde, chloroaldehyde, bromoaldehyde, glyoxal, maronaldehyde, succinaldehyde, glutaraldehyde, (Methylol) biphenyl, bis (methoxy) biphenyl, and the like can be given as the above-mentioned biphenyl-based condensing agent, and examples thereof include aldehyde, pimelaldehyde, sebacic aldehyde, acrolein, crotonaldehyde, salicylaldehyde, phthalaldehyde, Methyl) biphenyl, bis (ethoxymethyl) biphenyl, bis (chloromethyl) biphenyl, and the like.

본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물에 사용할 수 있는 그 밖의 공지된 경화제로서는, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 메틸나드산 등의 산 무수물류, 디시안디아미드, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 메타크실렌디아민, 이소포론디아민 등의 지방족 아민류, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 디아미노디페닐에테르, 디아미노에틸벤젠 등의 방향족 아민류, 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 아민류, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 및 그것들과 트리멜리트산, 이소시아누르산, 붕소 등의 염인 이미다졸염류, 다이머산 등의 산류와 폴리아민류의 축합물인 폴리아미드아민 등의 아민계 화합물, 아디프산디히드라지드, 세박산디히드라지드 등의 히드라지드류, 아미노벤조산에스테르류, 트리페닐포스핀 등의 포스핀 화합물, 테트라페닐포스포늄브로마이드 등의 포스포늄염, 트리메틸암모늄클로라이드 등의 4급 암모늄염류, 디아자비시클로 화합물 및 그것들과 페놀류, 페놀노볼락 수지 등의 염류, 3불화붕소와 아민류, 에테르 화합물 등과의 착화합물, 방향족 포스포늄 또는 요오도늄염 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들을 2종류 이상 병용할 수도 있다.Examples of other known curing agents that can be used in the curable epoxy resin composition of the present invention include acid anhydrides such as methyl tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, anhydrous pyromellitic acid, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, But are not limited to, aliphatic amines such as dicyandiamide, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, metaoxylenediamine and isophoronediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylether , Aromatic amines such as diaminoethylbenzene, amines such as benzyldimethylamine and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2- Imidazoles such as methylimidazole, 2-undecylimidazole and 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, and imidazoles such as trimellitic acid, isocyanuric acid and boron, Salt, die Amine compounds such as polyamide amine which are condensates of polyamines with acids such as acid, hydrazides such as adipic acid dihydrazide and sebacic acid dihydrazide, aminobenzoic acid esters, phosphine compounds such as triphenylphosphine, Tetraphenylphosphonium bromide and the like, quaternary ammonium salts such as trimethylammonium chloride, diazabicyclo compounds and their salts with salts such as phenols, phenol novolak resins, boron trifluoride, amines, ether compounds and the like, Aromatic phosphonium salts, iodonium salts, and the like, but are not limited thereto. Two or more kinds of these may also be used in combination.

본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물에는, 점도 조정용으로서 유기 용제도 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 유기 용제로서는, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤류, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류, 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류 등을 들 수 있다. 이들 용제 중 단독 또는 복수종을 혼합한 것을 수지 조성물 중의 에폭시 수지 성분 100질량부에 대하여 25 내지 250질량부의 범위에서 배합할 수 있다.In the curable epoxy resin composition of the present invention, an organic solvent may also be used for viscosity adjustment. Examples of the organic solvent that can be used include amides such as N, N-dimethylformamide, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, alcohols such as methanol and ethanol, Aromatic hydrocarbons and the like. These solvents alone or in combination of plural kinds may be blended in a range of 25 to 250 parts by mass based on 100 parts by mass of the epoxy resin component in the resin composition.

본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 경화 촉진제의 예로서는, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자-비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 제3급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리페닐포스핀트리페닐보란의 포스핀류, 옥틸산주석 등의 금속 화합물을 들 수 있다. 경화 촉진제를 사용하는 경우의 사용량은, 본 발명의 수지 조성물 중의 에폭시 수지 성분 100질량부에 대하여 0.02 내지 5.0질량부가 바람직하다. 경화 촉진제를 사용함으로써 경화 온도를 낮추고, 경화 시간을 단축할 수 있다.In the curable epoxy resin composition of the present invention, a curing accelerator may be used if necessary. Examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) Tertiary amines such as diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine triphenylborane, tin octylate, etc. Of a metal compound. The curing accelerator is preferably used in an amount of 0.02 to 5.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the epoxy resin component in the resin composition of the present invention. By using a curing accelerator, the curing temperature can be lowered and the curing time can be shortened.

본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 충전재를 사용할 수 있다. 구체적으로는 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탈크, 소성 탈크, 클레이, 카올린, 산화티타늄, 유리 분말, 베마이트(boehmite), 실리카 벌룬 등의 무기 충전재를 들 수 있지만, 안료 등을 배합할 수도 있다. 일반적 무기 충전재를 사용하는 이유로서, 내충격성의 향상을 들 수 있다. 또한, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 등의 금속 수산화물을 사용한 경우, 난연 보조제로서 작용하여, 수지 조성물 중의 인 함유율이 적어도 난연성을 확보할 수 있다. 특히 에폭시 수지 성분 100질량부에 대하여 배합량이 10질량부 이상이 아니면, 내충격성의 효과는 적다. 그러나, 배합량이 150질량부를 초과하면 적층판 용도로서 필요한 항목인 접착성이 저하된다. 또한, 유리 섬유, 펄프 섬유, 합성 섬유, 세라믹 섬유 등의 섬유질 충전재나 미립자 고무, 열가소성 엘라스토머 등의 유기 충전재를 상기 수지 조성물에 함유시킬 수도 있다.In the curable epoxy resin composition of the present invention, a filler may be used if necessary. Specific examples thereof include inorganic fillers such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, talc, calcined talc, clay, kaolin, titanium oxide, glass powder, boehmite and silica balloons. The reason for using a general inorganic filler is to improve the impact resistance. Further, when a metal hydroxide such as aluminum hydroxide or magnesium hydroxide is used, it acts as a flame retarding auxiliary agent, and the phosphorus content in the resin composition can be ensured at least at the flame retardancy. Particularly, when the blending amount is not more than 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the epoxy resin component, the effect of impact resistance is small. However, when the blending amount exceeds 150 parts by mass, adhesiveness, which is a necessary item for laminated board applications, is lowered. Further, fibrous fillers such as glass fibers, pulp fibers, synthetic fibers and ceramic fibers, and organic fillers such as fine particle rubber and thermoplastic elastomer may be contained in the resin composition.

본 발명의 경화성 에폭시 수지 조성물을 경화함으로써 인 및 질소 함유 에폭시 수지 경화물을 얻을 수 있다. 경화시에는 예를 들어 수지 시트, 수지 부착 동박, 프리프레그 등의 형태로 하고, 적층하여 가열 가압 경화함으로써 적층판으로서의 인 함유 에폭시 수지 경화물을 얻을 수 있다.The curable epoxy resin composition of the present invention is cured to obtain a phosphorus- and nitrogen-containing epoxy resin cured product. At the time of curing, for example, a resin sheet, a copper foil with a resin, a prepreg or the like is laminated and heated and cured to obtain a phosphorus-containing epoxy resin cured product as a laminate.

본 발명의 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지를 사용한 경화성 에폭시 수지 조성물을 제작하고, 인 및 질소 함유 에폭시 수지 경화물의 특성을 가열 경화 에 의해 얻어진 적층판으로서 평가한 결과, 본 발명의 몰비의 범위 외의 인 화합물과 시아누르산을 사용하여 에폭시 수지를 반응한 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지, 및 인 화합물과 에폭시 수지로부터 얻어지는 종래 공지된 인 함유 에폭시 수지와 비교하여, 높은 접착력, 난연성을 나타내었다.The curable epoxy resin composition containing the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin of the present invention was prepared and the properties of the phosphorus- and nitrogen-containing epoxy resin cured product were evaluated as a laminate obtained by heat curing. As a result, Containing epoxy resin which is obtained by reacting an epoxy resin with a cyanuric acid compound and cyanuric acid, and a phosphorus-containing epoxy resin obtained from a phosphorus compound and an epoxy resin.

실시예Example

실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다. 실시예 및 비교예에 있어서, 특별히 언급이 없는 한 「부」는 질량부를 나타내고, 「%」는 질량%를 나타낸다.The present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. In Examples and Comparative Examples, " parts " and "% " indicate parts by mass unless otherwise specified.

실시예 및 비교예에서 측정하는 에폭시 수지의 에폭시 당량은 JIS K 7236으로 측정을 행하였다.The epoxy equivalent of the epoxy resin measured in Examples and Comparative Examples was measured according to JIS K 7236.

질소 함유율은 시아누르산의 질소 함유율과 배합량으로부터, 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지에 대한 백분율을 산출하였다.The percentage of nitrogen was calculated from the content and amount of nitrogen in cyanuric acid to the percentage of cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin.

실시예 및 비교예에서 합성된 에폭시 수지의 인 함유율은 이하의 방법으로 측정을 행하였다. 즉, 시료 150mg에 황산 3mL를 가하여 30분 가열한다. 실온으로 되돌려, 질산 3.5mL 및 과염소산 0.5mL를 가하여 내용물이 투명 또는 황색으로 될 때까지 가열 분해한다. 이 액을 100mL 메스 플라스크에서 순수로 희석한다. 이 시료액 10mL를 50mL 메스 플라스크에 넣고, 페놀프탈레인 지시약을 1방울 가하고, 2mol/L 암모니아수를 미적색이 될 때까지 가한다. 50% 황산액 2mL를 가하고, 순수를 가한다. 2.5g/L의 메타바나듐산암모늄 수용액을 5mL 및 50g/L 몰리브덴산암모늄 수용액 5mL를 가한 후, 순수로 정용(定容)으로 한다. 실온에서 40분 방치한 후, 분광 광도계를 사용하여 파장 440nm의 조건으로 순수를 대조로서 측정하여, 흡광도로부터 인 함유율을 구하였다.The phosphorus content of the epoxy resin synthesized in Examples and Comparative Examples was measured by the following method. That is, 3 ml of sulfuric acid is added to 150 mg of the sample, and the mixture is heated for 30 minutes. After returning to room temperature, 3.5 mL of nitric acid and 0.5 mL of perchloric acid are added, and the mixture is heated and decomposed until the content becomes transparent or yellow. Dilute this solution with pure water in a 100 mL volumetric flask. Add 10 mL of this sample solution into a 50 mL volumetric flask, add one drop of the phenolphthalein indicator, and add 2 mol / L ammonia water until it turns red. Add 2 mL of 50% sulfuric acid solution and add pure water. Add 5 mL of an aqueous solution of ammonium metavanadate 2.5 g / L and 5 mL of an aqueous 50 g / L ammonium molybdate solution, and then use pure water to make the solution. After standing at room temperature for 40 minutes, pure water was measured as a control using a spectrophotometer under the condition of a wavelength of 440 nm, and the phosphorus content was determined from the absorbance.

얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지에 대하여, 외관의 육안에 의한 흐림의 유무로 잔존 시아누르산의 유무의 확인을 행하였다. 흐림 없음을 잔존 시아누르산 없음(○)으로 하고, 흐림 있음을 잔존 시아누르산 있음(×)으로 하였다.With respect to the resulting epoxy resin containing cyanuric acid-modified phosphorus, the presence or absence of residual cyanuric acid was confirmed by the presence or absence of visible fog. No cloudiness was defined as no residual cyanuric acid (?), And cloudiness was determined as residual cyanuric acid (?).

경화물의 유리 전이 온도는 세이코 인스트루먼츠 가부시끼가이샤제, 엑스터(Exster) 6000을 사용하여, DSC에서는 최초의 변곡점의 값을 유리 전이 온도로 하고, TMA에서는 변곡점을 유리 전이 온도로 하였다.The glass transition temperature of the cured product was measured using Exster 6000 manufactured by Seiko Instruments Inc. The value of the first inflection point was set to the glass transition temperature in DSC and the inflection point was set to the glass transition temperature in TMA.

동박 박리 강도는 JIS C 6481 5.7에 준하고, 층간 접착력은 JIS C 6481 5.7에 준하여 프리프레그 1매와 나머지 3매의 사이에 박리를 행하여 측정하였다.The copper foil peel strength was measured in accordance with JIS C 6481 5.7, and the interlaminar adhesive strength was measured by peeling between one prepreg and the other three sheets in accordance with JIS C 6481 5.7.

난연성은 UL(언더라이터 라보래토리즈(Underwriter Laboratories)) 규격에 준하여 측정을 행하였다. 또한, 잔염 시간은 시험편 5개의 유염 연소 지속 시간을 합계하여 나타내었다.The flame retardancy was measured according to UL (Underwriter Laboratories) standards. In addition, the time of the flushing is indicated by the total duration of the five test pieces of the flame.

시아누르산의 반응률은, 초기 에폭시 당량, 이론 에폭시 당량 및 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량(최종 에폭시 당량)의 값을 사용하여, 이하의 식에 의해 구하였다.The reaction rates of cyanuric acid were determined by the following equations using the values of initial epoxy equivalent, theoretical epoxy equivalent, and epoxy equivalent (epoxy equivalent) of epoxy resin containing cyanuric acid-modified phosphorus.

[(최종 에폭시 당량-초기 에폭시 당량)/(이론 에폭시 당량-초기 에폭시 당량)]×100 [(Final epoxy equivalent - initial epoxy equivalent) / (theoretical epoxy equivalent - initial epoxy equivalent)] 100

단, 최종 에폭시 당량이 이론 에폭시 당량보다 큰 경우에는, 반응률은 100%로 하였다.However, when the final epoxy equivalent weight is larger than the theoretical epoxy equivalent weight, the reaction rate is set to 100%.

실시예Example 1. One.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 페놀노볼락형 에폭시 수지: 에폭시 당량 177g/eq)을 850부, HCA(산코 가부시끼가이샤제, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드, 인 함유율 14.2%)를 127부, 시아누르산(도꾜 가세이 고교 가부시끼가이샤제)을 23부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 207g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.14부 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-1)의 인 함유율은 1.8%, 이론 에폭시 당량은 270g/eq, 최종 에폭시 당량은 272g/eq, 시아누르산의 반응률은 100%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.To a four-neck glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing apparatus, Epototo YDPN-638 (phenol novolak type epoxy resin, manufactured by Shin-Nittsu Sumitomo Kagaku Kogyo Co., / eq), 127 parts of HCA (9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phosphorus content of 14.2%, manufactured by Sanko Kabushiki Kaisha) (Manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were charged, stirred while introducing nitrogen gas, heated and heated to 130 캜. The initial epoxy equivalent in the mixed state was 207 g / eq. After the initial epoxy equivalent amount was measured, 0.14 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 ° C for 4 hours. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-1) was 1.8%, the theoretical epoxy equivalent was 270 g / eq, the final epoxy equivalent was 272 g / eq, and the reaction rate of cyanuric acid was 100%. The results are shown in Table 1.

실시예Example 2. 2.

에포토토 YDPN-638을 758부로, 시아누르산을 3부로, HCA를 239부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-2)의 인 함유율은 3.4%, 초기 에폭시 당량은 232g/eq, 이론 에폭시 당량은 320g/eq, 최종 에폭시 당량은 332g/eq, 시아누르산의 반응률은 100%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The same operation as in Example 1 was carried out except that 755 parts of epotato YDPN-638, 3 parts of cyanuric acid and 239 parts of HCA were used. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-2) was 3.4%, the initial epoxy equivalent was 232 g / eq, the theoretical epoxy equivalent was 320 g / eq, the final epoxy equivalent was 332 g / Was 100%. The results are shown in Table 1.

실시예Example 3. 3.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-63X(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 협분산 페놀노볼락형 에폭시 수지: 에폭시 당량 176g/eq)를 692부, HCA를 250부, 시아누르산을 58부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 254g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.33부 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-3)의 인 함유율은 3.6%, 이론 에폭시 당량은 701g/eq, 최종 에폭시 당량은 669g/eq, 시아누르산의 반응률은 93%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.To a four-neck glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing device were placed 10 g of Epototo YDPN-63X (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd., narrow dispersion phenol novolak type epoxy resin: epoxy 696 parts of an equivalent weight of 176 g / eq), 250 parts of HCA and 58 parts of cyanuric acid, stirring was conducted while introducing nitrogen gas, and the mixture was heated and heated to 130 캜. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was 254 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.33 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 DEG C for 4 hours. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-3) was 3.6%, the theoretical epoxy equivalent was 701 g / eq, the final epoxy equivalent was 669 g / eq and the reaction rate of cyanuric acid was 93%. The results are shown in Table 1.

실시예Example 4. 4.

에포토토 YDPN-63X를 640부로, 시아누르산을 15부로, HCA를 345부로 변경한 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지의 조작을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-4)의 인 함유율은 4.9%, 초기 에폭시 당량은 275g/eq, 이론 에폭시 당량은 592g/eq, 최종 에폭시 당량은 594g/eq, 시아누르산의 반응률은 100%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The procedure of Example 3 was repeated except that 640 parts of epotato YDPN-63X, 15 parts of cyanuric acid and 345 parts of HCA were used. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-4) was 4.9%, the initial epoxy equivalent was 275 g / eq, the theoretical epoxy equivalent was 592 g / eq, the final epoxy equivalent was 594 g / Was 100%. The results are shown in Table 1.

실시예Example 5. 5.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638을 507부, 에포토토 YD-128(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비스페놀 A형 액상 에폭시 수지: 에폭시 당량 186g/eq)을 300부, HCA를 162부, 시아누르산을 31부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 223g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.25부 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-5)의 인 함유율은 2.3%, 이론 에폭시 당량은 333g/eq, 최종 에폭시 당량은 330g/eq, 시아누르산의 반응률은 97%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.507 parts of Eptoto YDPN-638, 4 parts of Eptoto YD-128 (manufactured by Shin-Tetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and 10 parts of Nippon Kayaku Co., Ltd. were added to four glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, 300 parts of bisphenol A type liquid epoxy resin: epoxy equivalent 186 g / eq), 162 parts of HCA and 31 parts of cyanuric acid, stirring was conducted while nitrogen gas was introduced, and the mixture was heated and heated to 130 占 폚. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was 223 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.25 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 DEG C for 4 hours. The phosphorus content of the obtained cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-5) was 2.3%, the theoretical epoxy equivalent was 333 g / eq, the final epoxy equivalent was 330 g / eq, and the reaction rate of cyanuric acid was 97%. The results are shown in Table 1.

실시예Example 6. 6.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638을 433부, 에포토토 YDCN-704(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지: 에폭시 당량 209g/eq)를 300부, HCA를 250부, 시아누르산을 17부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 258g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.25부 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-6)의 인 함유율은 3.6%, 이론 에폭시 당량은 429g/eq, 최종 에폭시 당량은 428g/eq, 시아누르산의 반응률은 99%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.Into four glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing device, 433 parts of Ephotoot YDPN-638, 5 parts of Eptotol YDCN-704 (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Kagaku Kikai Co., 300 parts of cresol novolac epoxy resin: epoxy equivalent 209 g / eq), 250 parts of HCA and 17 parts of cyanuric acid, stirring was conducted while nitrogen gas was introduced, and the mixture was heated to 130 캜. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was 258 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.25 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 ° C for 4 hours. The phosphorus content of the obtained cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-6) was 3.6%, the theoretical epoxy equivalent was 429 g / eq, the final epoxy equivalent was 428 g / eq and the reaction rate of cyanuric acid was 99%. The results are shown in Table 1.

실시예Example 7. 7.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638을 442부, YSLV-80XY(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 테트라메틸비스페놀 F형 에폭시 수지: 에폭시 당량 190g/eq)를 300부, HCA를 250부, 시아누르산을 6부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 245g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.25부 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-7)의 인 함유율은 3.6%, 이론 에폭시 당량은 360g/eq, 최종 에폭시 당량은 360/eq, 시아누르산의 반응률은 100%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.In a four-neck separable glass flask equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing device, 442 parts of Ephotoot YDPN-638, 30 parts of YSLV-80XY (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Kagaku Kagaku Co., Ltd., F type epoxy resin: epoxy equivalent 190 g / eq), 250 parts of HCA and 6 parts of cyanuric acid, stirring was carried out while nitrogen gas was introduced, and the mixture was heated and heated to 130 占 폚. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was 245 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.25 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 캜 for 4 hours. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-7) was 3.6%, the theoretical epoxy equivalent was 360 g / eq, the final epoxy equivalent was 360 / eq and the reaction rate of cyanuric acid was 100%. The results are shown in Table 1.

실시예Example 8. 8.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638을 860부, CPHO(닛본 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제, 1,5-시클로옥틸렌포스핀옥시드, 인 함유율 19.6%)를 110부, 시아누르산을 30부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 206g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.14부 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-8)의 인 함유율은 2.2%, 이론 에폭시 당량은 289g/eq, 최종 에폭시 당량은 290/eq, 시아누르산의 반응률은 100%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.To a four-glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing apparatus, 860 parts of Epitoto YDPN-638, 5 parts of CPHO (1,5-cyclooctylene (trade name, manufactured by Nippon Oil Chemical Co., Phosphorus content: 19.6%), and 30 parts of cyanuric acid were charged. While nitrogen gas was introduced, the mixture was stirred and heated to 130 ° C. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was 206 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.14 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 ° C for 4 hours. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-8) was 2.2%, the theoretical epoxy equivalent was 289 g / eq, the final epoxy equivalent was 290 / eq and the reaction rate of cyanuric acid was 100%. The results are shown in Table 1.

비교예Comparative Example 1. One.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638을 954부, 시아누르산을 46부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 승온하였다. 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 185g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.05부를 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 에폭시 수지 (A-9)의 최종 에폭시 당량은 194g/eq, 인 함유율은 0%였다. 이론 에폭시 당량은 230g/eq, 시아누르산의 반응률은 20%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.Into four glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing device, 954 parts of Epitoto YDPN-638 and 46 parts of cyanuric acid were charged, stirring was conducted while introducing nitrogen gas, Heating was performed to raise the temperature. And the temperature was raised to 130 deg. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was 185 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.05 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 DEG C for 4 hours. The final epoxy equivalent weight of the resulting cyanuric acid-modified epoxy resin (A-9) was 194 g / eq, and the phosphorus content was 0%. Theoretical epoxy equivalent was 230 g / eq, and the reaction rate of cyanuric acid was 20%. The results are shown in Table 1.

비교예Comparative Example 2. 2.

에포토토 YDPN-638을 843부로, 시아누르산을 31부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-10)의 인 함유율은 1.8%, 초기 에폭시 당량은 209g/eq, 이론 에폭시 당량은 287g/eq, 최종 에폭시 당량은 263g/eq, 시아누르산의 반응률은 69%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The same operation as in Example 1 was carried out except that 843 parts of epotato YDPN-638 and 31 parts of cyanuric acid were used. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-10) was 1.8%, the initial epoxy equivalent was 209 g / eq, the theoretical epoxy equivalent was 287 g / eq, the final epoxy equivalent was 263 g / Was 69%. The results are shown in Table 1.

비교예Comparative Example 3. 3.

에포토토 YDPN-638을 882부로, 시아누르산을 23부로, HCA를 95부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-11)의 인 함유율은 1.35%, 초기 에폭시 당량은 200g/eq, 이론 에폭시 당량은 248g/eq, 최종 에폭시 당량은 231g/eq, 시아누르산의 반응률은 65%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The procedure of Example 1 was repeated except that 885 parts of epotato YDPN-638, 23 parts of cyanuric acid and 95 parts of HCA were used. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-11) was 1.35%, the initial epoxy equivalent was 200 g / eq, the theoretical epoxy equivalent was 248 g / eq, the final epoxy equivalent was 231 g / Was 65%. The results are shown in Table 1.

비교예Comparative Example 4. 4.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638을 788부, 시아누르산을 23부, HCA-HQ(산코 가부시끼가이샤제, 10-(2,5-디히드록시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드, 인 함유율 9.6%)를 189부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 승온하였다. 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량을 측정한 바 223g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.2부 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행한 바, 겔화되어 에폭시 수지는 얻어지지 않았다. 또한, 겔화물 중에는 시아누르산이 고형으로 잔존하고 있었다.Into four glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing device, 788 parts of Epotato YDPN-638, 23 parts of cyanuric acid, and 10 parts of HCA-HQ (manufactured by Sanko Kabushiki Kaisha, - (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phosphorus content: 9.6%) was added, stirring was conducted while introducing nitrogen gas, Heating was performed to raise the temperature. And the temperature was raised to 130 deg. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was measured and found to be 223 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.2 part of triphenylphosphine was added as a catalyst and the reaction was carried out at 160 캜 for 4 hours to obtain a gelled epoxy resin I did. In addition, cyanuric acid remained in a solid form in the gel.

비교예Comparative Example 5. 5.

에포토토 YDPN-638을 855부로, 시아누르산을 15부로, HCA-HQ를 130부로 변경한 것 이외에는 비교예 4와 마찬가지의 조작을 행하였다. 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지 (A-12)의 인 함유율은 1.2%, 초기 에폭시 당량은 206g/eq, 이론 에폭시 당량은 271g/eq, 최종 에폭시 당량은 224g/eq, 시아누르산의 반응률은 28%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The same operation as in Comparative Example 4 was carried out except that 855 parts of epotato YDPN-638, 15 parts of cyanuric acid and 130 parts of HCA-HQ were used. The phosphorus content of the resulting cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin (A-12) was 1.2%, the initial epoxy equivalent was 206 g / eq, the theoretical epoxy equivalent was 271 g / eq, the final epoxy equivalent was 224 g / Was 28%. The results are shown in Table 1.

비교예Comparative Example 6. 6.

교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에 에포토토 YDPN-638을 683부, 에포토토 YDF-2001(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 비스페놀 F형 고형 에폭시 수지: 에폭시 당량 469g/eq)을 190부, HCA를 127부 투입하고, 질소 가스를 도입하면서 교반을 행하고, 가열을 행하여 승온하였다. 130℃까지 승온하였다. 혼합 상태에서의 초기 에폭시 당량은 235g/eq였고, 초기 에폭시 당량 측정 후, 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.13부를 첨가하여 160℃에서 4시간 반응을 행하였다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지 (A-13)의 최종 에폭시 당량은 272g/eq, 인 함유율은 1.8%였다. 이론 에폭시 당량은 272g/eq였다. 결과를 표 1에 나타내었다.683 parts of Epitoto YDPN-638, 4 parts of Eptoto YDF-2001 (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were added to four glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, 190 parts of bisphenol F type solid epoxy resin: epoxy equivalent 469 g / eq) and 127 parts of HCA were charged, stirred while introducing nitrogen gas, heated and heated. And the temperature was raised to 130 deg. The initial epoxy equivalent weight in the mixed state was 235 g / eq. After the initial epoxy equivalent weight was measured, 0.13 part of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the reaction was carried out at 160 DEG C for 4 hours. The resulting epoxy-containing epoxy resin (A-13) had a final epoxy equivalent of 272 g / eq and a phosphorus content of 1.8%. The theoretical epoxy equivalent weight was 272 g / eq. The results are shown in Table 1.

Figure pct00003
Figure pct00003

실시예Example 9 내지 12 및 14 내지 16, 및  9 to 12 and 14 to 16, and 비교예Comparative Example 7 내지 11. 7-11.

실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 3 및 비교예 5의 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지, 및 비교예 6의 인 함유 에폭시 수지와, 경화제로서 DICY(일본 카바이트 가부시끼가이샤제, 디시안디아미드)를 사용하여 경화성 에폭시 수지 조성물을 제작하였다. 고형분에서의 배합 처방을 표 2에 나타내었다. 배합시에 에폭시 수지는 메틸에틸케톤에 용해하여 사용하였다. DICY는 메톡시프로판올, N,N-디메틸포름아미드에 용해하여 사용하였다. 2E4MZ(시꼬꾸 가세이 고교 가부시끼가이샤제, 2-에틸-4-메틸이미다졸)는 메톡시프로판올에 용해하여 사용하였다. 배합 후, 메틸에틸케톤, 메톡시프로판올로 불휘발분 50%가 되도록 조정하여, 균일 용액인 수지 바니시를 얻었다.The epoxy resin containing cyanuric acid modified phosphorus of Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 3, and Comparative Example 5, and the phosphorus-containing epoxy resin of Comparative Example 6, and DICY (dicyandiamide manufactured by Nippon Kayabite Co., Ltd., ) Was used to prepare a curable epoxy resin composition. Table 2 shows the formulation for the solid content. The epoxy resin was dissolved in methyl ethyl ketone at the time of blending. DICY was dissolved in methoxypropanol and N, N-dimethylformamide. 2E4MZ (2-ethyl-4-methylimidazole, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in methoxypropanol and used. After mixing, the mixture was adjusted to a non-volatile content of 50% with methyl ethyl ketone and methoxypropanol to obtain a resin varnish as a homogeneous solution.

얻어진 수지 바니시를 유리 섬유 WEA 7628 XS13(니토 보세끼 가부시끼가이샤제, 0.18mm 두께)에 함침하였다. 함침한 유리 섬유를 150℃의 열풍 순환로에서 8분간 건조를 행하여, 프리프레그를 얻었다. 얻어진 프리프레그 4매를 겹치고, 상하에 동박(미쓰이 긴조꾸 고교 가부시끼가이샤제, 3EC)을 겹치고, 130℃×15분 및 170℃×20kg/cm2×70분간 가열, 가압을 행하여 적층판을 얻었다. 얻어진 적층판의 물성을 표 2에 나타내었다.The obtained resin varnish was impregnated with glass fiber WEA 7628 XS13 (0.18 mm thick, made by Nitto Boseki Co., Ltd.). The impregnated glass fiber was dried in a hot air circulation furnace at 150 캜 for 8 minutes to obtain a prepreg. Overlapping the prepreg 4 sheets of the obtained superposed copper foils (manufactured by MITSUI long jokku Kogyo whether or sikki manufactured claim, 3EC) above and below, 130 ℃ × 15 minutes and 170 ℃ × 20kg / cm 2 × 70 bungan heated, subjected to pressing to obtain a laminated board . The physical properties of the obtained laminate are shown in Table 2.

또한, 표 중의 TX-1210-90은, 에포토토 TX-1210-90(신닛떼쯔 스미낑 가가꾸 가부시끼가이샤제, 치환 페놀형 에폭시 수지: 에폭시 당량 293g/eq)을 나타낸다.In the table, TX-1210-90 represents Eptoto TX-1210-90 (phenol-type epoxy resin substituted by epoxy resin: epoxy equivalent: 293 g / eq, manufactured by Shin-Nittsu Sumitomo Chemical Co., Ltd.).

실시예Example 13 및 17. 13 and 17.

실시예 2와 8에서 얻어진 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지와, 경화제로서 BRG-557(쇼와 덴꼬 가부시끼가이샤제, 페놀노볼락 수지)을 사용하여 에폭시 수지 조성물을 제작하였다. 고형분에서의 배합 처방을 표 2에 나타내었다. 배합시에 에폭시 수지 및 BRG-557은 메틸에틸케톤에 용해하여 사용하였다. 2E4MZ는 메톡시프로판올에 용해하여 사용하였다. 배합 후, 메틸에틸케톤, 메톡시프로판올로 불휘발분 50%가 되도록 조정하여, 균일 용액인 수지 바니시를 얻었다.Epoxy resin compositions were prepared using the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained in Examples 2 and 8 and BRG-557 (phenol novolak resin, manufactured by Showa Denko K.K.) as a curing agent. Table 2 shows the formulation for the solid content. The epoxy resin and BRG-557 were dissolved in methyl ethyl ketone and used in the blending. 2E4MZ was dissolved in methoxypropanol and used. After mixing, the mixture was adjusted to a non-volatile content of 50% with methyl ethyl ketone and methoxypropanol to obtain a resin varnish as a homogeneous solution.

얻어진 수지 바니시를 유리 섬유 WEA 7628 XS13(니토 보세끼 가부시끼가이샤제, 0.18mm 두께)에 함침하였다. 함침한 유리 섬유를 150℃의 열풍 순환로에서 8분간 건조를 행하여, 프리프레그를 얻었다. 얻어진 프리프레그 4매를 겹치고, 상하에 동박(미쓰이 긴조꾸 고교 가부시끼가이샤제, 3EC)을 겹치고, 130℃×15분 및 190℃×20kg/cm2×80분간 가열, 가압을 행하여 적층판을 얻었다. 얻어진 적층판의 물성을 표 2에 나타내었다.The obtained resin varnish was impregnated with glass fiber WEA 7628 XS13 (0.18 mm thick, made by Nitto Boseki Co., Ltd.). The impregnated glass fiber was dried in a hot air circulation furnace at 150 캜 for 8 minutes to obtain a prepreg. Overlapping the prepreg 4 sheets of the obtained superposed copper foils (manufactured by MITSUI long jokku Kogyo whether or sikki manufactured claim, 3EC) above and below, 130 ℃ × 15 minutes and 190 ℃ × 20kg / cm 2 × 80 bungan heated, subjected to pressing to obtain a laminated board . The physical properties of the obtained laminate are shown in Table 2.

Figure pct00004
Figure pct00004

실시예로부터 알 수 있는 바와 같이 시아누르산 1몰에 대하여 소정의 몰비 범위의 인 화합물과 에폭시 수지를 반응시킴으로써, 단시간의 반응에서 시아누르산이 충분히 반응하여, 흐림이 없는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 또한, 시아누르산이 충분히 반응한 흐림이 없는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지를 사용하여 적층판 평가를 행한 바, 미반응이며 흐림이 있는 비교예의 시아누르산 변성 에폭시 수지를 사용한 경우보다도 높은 내열성, 접착성, 난연성을 나타내었다.As can be seen from the Examples, cyanuric acid was sufficiently reacted in a short time reaction by reacting a phosphorus compound having a predetermined molar ratio with respect to 1 mole of cyanuric acid and an epoxy resin, and a fog-free cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy A resin can be obtained. Further, laminate evaluation was carried out using fog-free cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin which was sufficiently reacted with cyanuric acid. As a result, it was found that the laminated board was superior in heat resistance and adhesiveness than the cyanuric acid- And flame retardancy.

본 발명은, 특정한 인 화합물과 시아누르산을 특정한 몰비로 공존시켜 에폭시 수지와 반응시키는 제조 방법이며, 이 제조 방법으로부터 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지는 난연성, 내열성, 접착성이 우수한 전자 회로 기판용의 에폭시 수지로서 이용할 수 있다.A cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained from this process is a process for producing a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin by reacting a specific phosphorus compound and cyanuric acid in a specific molar ratio in the presence of an epoxy resin. It can be used as an epoxy resin for a substrate.

Claims (5)

인 화합물, 시아누르산 및 에폭시 수지를 필수 성분으로서 반응시켜 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법으로서, 상기 인 화합물이
하기 화학식 (1):
Figure pct00005

[식 중, n은 0 또는 1을 나타내고, 그리고 R1 및 R2는 각각 단독으로 탄소수 1 내지 6의 탄화수소기를 나타내며 동일할 수도 상이할 수도 있고, 또는 인 원자와 함께 환상이 되어 있을 수도 있음]
또는 하기 화학식 (2):
Figure pct00006

[식 중, m은 0 또는 1을 나타내고, 그리고 R3 및 R4는 각각 단독으로 탄소수 1 내지 6의 탄화수소기를 나타내며 동일할 수도 상이할 수도 있고, 또는 인 원자와 함께 환상이 되어 있을 수도 있음]
로 표시되는 인 화합물, 또는 이들 양자를 포함하는 인 화합물이며, 시아누르산 1몰에 대하여 해당 인 화합물을 2.5 내지 50몰로 한, 인 화합물 및 시아누르산의 공존하에 상기 에폭시 수지를 미리 혼합하고, 그 후에 반응을 행하여, 인 함유율이 1.0 내지 5.0질량%, 질소 함유율이 0.1 내지 2.0질량%, 또한 인 함유율과 질소 함유율의 총합이 2.5 내지 5.5질량%인 것을 특징으로 하는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
A process for producing a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by reacting a phosphorus compound, cyanuric acid and an epoxy resin as essential components,
(1): < EMI ID =
Figure pct00005

[Wherein n represents 0 or 1, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different, or may be a cyclic structure together with the phosphorus atom]
(2): < EMI ID =
Figure pct00006

[Wherein m represents 0 or 1, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different, or may be a cyclic structure together with the phosphorus atom]
, Or a phosphorus compound containing both of them, wherein the epoxy resin is preliminarily mixed in the presence of a phosphorus compound and cyanuric acid, wherein the amount of the phosphorus compound is 2.5 to 50 moles relative to 1 mole of cyanuric acid, The reaction is carried out to obtain a phosphorus-containing phosphorus-containing epoxy resin having a phosphorus content of 1.0 to 5.0 mass%, a nitrogen content of 0.1 to 2.0 mass%, and a total content of phosphorus content and nitrogen content of 2.5 to 5.5 mass% A method for producing a resin.
제1항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지에 다른 에폭시 수지를 배합한 에폭시 수지 조성물.An epoxy resin composition comprising a cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method according to claim 1 mixed with another epoxy resin. 제1항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지는 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지에, 해당 시아누르산 변성 인 함유 에폭시 수지의 에폭시기 1당량에 대하여 관능기비로 0.4 내지 2.0당량의 경화제를 함유한 경화성 에폭시 수지 조성물.A curable epoxy resin composition containing 0.4 to 2.0 equivalents of a curing agent based on 1 equivalent of an epoxy group of the cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, which is obtained by the production method described in claim 1, . 제2항에 기재된 에폭시 수지 조성물에, 해당 에폭시 수지 조성물의 에폭시기 1당량에 대하여 관능기비로 0.4 내지 2.0당량의 경화제를 함유한 경화성 에폭시 수지 조성물.A curable epoxy resin composition comprising the epoxy resin composition according to claim 2 in an amount of 0.4 to 2.0 equivalents of a curing agent based on one equivalent of the epoxy group of the epoxy resin composition. 제3항 또는 제4항에 기재된 경화성 에폭시 수지 조성물을 경화시킨 에폭시 수지 경화물.A cured epoxy resin cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition according to claim 3 or 4.
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EP0825217A1 (en) * 1996-08-23 1998-02-25 Akzo Nobel N.V. Adduct of bisepoxy compound and P-guanamine
JP2002284850A (en) * 2001-03-26 2002-10-03 Sanko Kk Phosphorus and nitrogen modified flame-retardant epoxy resin composition, prepreg and laminate
JP4036011B2 (en) * 2002-02-26 2008-01-23 日立化成工業株式会社 Flame-retardant thermosetting resin composition, prepreg using the same, and laminate for electric wiring board
JP2006143850A (en) * 2004-11-18 2006-06-08 Hitachi Chem Co Ltd Flame-retardant resin composition, prepreg and metal-clad laminated sheet
KR101571084B1 (en) * 2007-05-18 2015-11-23 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 Novel flame-retardant epoxy resin epoxy resin composition essentially containing the epoxy resin and cured product thereof
JP5153000B2 (en) * 2009-04-01 2013-02-27 新日鉄住金化学株式会社 Epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JP5544184B2 (en) * 2010-02-08 2014-07-09 新日鉄住金化学株式会社 Method for producing phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP5591176B2 (en) * 2011-04-27 2014-09-17 新日鉄住金化学株式会社 Phosphorus and nitrogen containing epoxy resin
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