KR20150046417A - Liquid crystal display device - Google Patents

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KR20150046417A
KR20150046417A KR20130125203A KR20130125203A KR20150046417A KR 20150046417 A KR20150046417 A KR 20150046417A KR 20130125203 A KR20130125203 A KR 20130125203A KR 20130125203 A KR20130125203 A KR 20130125203A KR 20150046417 A KR20150046417 A KR 20150046417A
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Abstract

Disclosed in the present invention is a liquid crystal display device. The liquid crystal display device of the present invention is characterized by comprising a substrate with a display area and a non-display area defined; a sub-color filter laminate part formed on the non-display area, and having two sub-color filters selected among red, green, and blue sub-color filters be laminated; and a wire connection part formed on the sub-color filter laminate part, and including a first hole exposing a gate pad, a second hole exposing a data pad, and a connection electrode connecting the first hole and the second hole.

Description

액정표시장치 {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}[0001] LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE [0002]

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 구체적으로는 COT(Color Filter On Thin Film Transistor)구조의 액정표시장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device having a color filter on thin film transistor (COT) structure.

일반적으로, 평판 디스플레이 기기는 얇고 가벼우며 낮은 전력소비력 때문에 휴대용 표시장치에 많이 이용되고 있다. 이 같은 평판 디스플레이 기기들 가운데, 액정표시장치는 높은 해상도와 칼라표시가 가능해서 노트북 컴퓨터 및 일반 데스크탑 컴퓨터의 화면표시장치로 널리 사용되고 있는 추세이다.Flat panel display devices are generally used in portable displays because of their thinness, light weight and low power consumption. Among such flat panel display devices, liquid crystal display devices are widely used as display devices of notebook computers and general desktop computers because of their high resolution and color display capability.

이러한 액정표시장치는 사무기기 및 많은 비디오 기기 등에 응용되고 있는데, 특히 화소전극 및 박막트랜지스터가 매트릭스(matrix)형태로 배열되는 액티브 매트릭스형(active matrix type) 액정표시장치가 가장 널리 이용되고 있다. 특히,액티브 매트릭스형 액정표시장치는 높은 해상도를 나타내며 컬러 동화상 구현능력이 뛰어나다. 이러한 액정표시장치는 전계를 이용하여 유전 이방성을 갖는 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다.
Such a liquid crystal display device is applied to office equipment and many video devices. In particular, active matrix type liquid crystal display devices in which pixel electrodes and thin film transistors are arranged in a matrix form are most widely used. Particularly, the active matrix type liquid crystal display device exhibits high resolution and is excellent in the ability to implement a color moving image. Such a liquid crystal display device displays an image by adjusting the light transmittance of a liquid crystal having dielectric anisotropy using an electric field.

도 1은 일반적인 액정표시장치를 설명하기 위한 사시도이다. 구체적으로는 일반적인 액티브 매트릭스형 액정표시장치를 설명하기 위한 사시도이다.1 is a perspective view for explaining a general liquid crystal display device. Specifically, a perspective view for explaining a general active matrix type liquid crystal display device.

도 1을 참조하면, 일반적인 액정표시장치는 서로 대향하여 합착되는 칼라 필터 어레이 패널(10) 및 박막 트랜지스터 어레이 패널(20)과, 이러한 두 패널(10, 20) 사이의 공간에 채워지는 액정(24)을 포함한다.1, a typical liquid crystal display device includes a color filter array panel 10 and a thin film transistor array panel 20 which are attached to each other in a confronting manner and a liquid crystal 24 ).

상기 칼라 필터 어레이 패널(10)은 상부 기판(2) 상에 순차적으로 형성된 블랙 매트릭스(4)와, 적색(R),녹색(G) 및 청색(B)의 서브 칼라 필터(6) 및 공통 전극(8)을 포함한다. The color filter array panel 10 includes a black matrix 4 sequentially formed on an upper substrate 2 and a sub color filter 6 of red (R), green (G), and blue (B) (8).

상기 블랙 매트릭스(4)는 상부 기판(2)에 그물(mesh) 형태로 형성된다. 이러한 블랙 매트릭스(4)는 후술할 박막 트랜지스터 어레이 패널(20)의 게이트 라인(14), 데이터 라인(16) 및 박막트랜지스터(18)에 대응하여 형성된다. 그리고 블랙 매트릭스(4)는 상부 기판(2)의 영역을 서브 칼라 필터(6)가 형성되어질 다수의 서브화소 영역들로 나누고, 인접한 서브 화소 영역간의 광 간섭 및 외부광 반사를 방지한다. The black matrix 4 is formed on the upper substrate 2 in the form of a mesh. The black matrix 4 is formed corresponding to the gate line 14, the data line 16, and the thin film transistor 18 of the thin film transistor array panel 20 to be described later. The black matrix 4 divides the region of the upper substrate 2 into a plurality of sub pixel regions in which the sub color filter 6 is to be formed and prevents light interference and external light reflection between adjacent sub pixel regions.

상기 서브 칼라 필터(6)는 블랙 매트릭스(4)에 의해 구분된 서브 화소 영역에 적색(R),녹색(G) 및 청색(B)으로 구분되게 형성되어 각각 적색, 녹색 및 청색 광을 투과시킨다. The sub-color filter 6 is divided into red (R), green (G) and blue (B) sub-pixel regions divided by the black matrix 4 to transmit red, green and blue light .

상기 공통 전극(8)은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 서브 칼라 필터(6) 위에 전면 도포된 투명 도전층으로 액정(24) 구동시 기준이 되는 공통 전압(Vcom)을 공급한다. 그리고, 서브 칼라 필터(6)의 평탄화를 위하여 서브 칼라 필터(6)와 공통 전극(8) 사이에는 오버코트층(Overcoat Layer)(미도시)이 추가로 형성되기도 한다.
The common electrode 8 is a transparent conductive layer entirely coated on a sub-color filter 6 of red (R), green (G), and blue (B), and a common voltage (Vcom) . An overcoat layer (not shown) may be additionally formed between the sub-color filter 6 and the common electrode 8 for planarization of the sub-color filter 6.

박막 트랜지스터 어레이 패널(20)은 하부 기판(12) 상에 형성된 박막 트랜지스터(18)와 화소 전극(22)을 구비한다. The thin film transistor array panel 20 includes a thin film transistor 18 and a pixel electrode 22 formed on a lower substrate 12.

박막트랜지스터(18)는 게이트 라인(14)과 데이터 라인(16)의 교차로 정의된 서브화소영역마다 형성된다. 이러한 박막트랜지스터(18)는 게이트 전극(미도시)과 액티브층(미도시)과 소스 전극(미도시)과 드레인 전극(미도시)을 포함한다. 그리고 박막 트랜지스터(18)는 게이트 라인(14)으로부터의 게이트 신호에 응답하여 데이터 라인(16)으로부터의 데이터 신호를 화소 전극(22)으로 공급한다.The thin film transistor 18 is formed for each sub pixel region defined by the intersection of the gate line 14 and the data line 16. The thin film transistor 18 includes a gate electrode (not shown), an active layer (not shown), a source electrode (not shown) and a drain electrode (not shown). The thin film transistor 18 supplies a data signal from the data line 16 to the pixel electrode 22 in response to a gate signal from the gate line 14. [

화소전극(22)은 ITO(indium-tin-oxide)와 같이 빛의 투과율이 비교적 뛰어난 투명 도전성금속으로 형성된다. 이러한 화소 전극(22)은 박막 트랜지스터(18)의 드레인 전극(미도시)과 연결된다. 그리고 화소 전극(22)은 박막 트랜지스터(18)로부터의 데이터 신호를 공급하여 액정(24)이 구동되게 한다. 구체적으로 액정(24)은 화소 전극(22)의 데이터 신호와 공통 전극(8)의 공통 전압(Vcom)에 의해 형성된 전계에 따라 회전하여 광 투과율을 조절함으로써 계조가 구현되게 한다.
The pixel electrode 22 is formed of a transparent conductive metal having a relatively high light transmittance such as indium-tin-oxide (ITO). The pixel electrode 22 is connected to a drain electrode (not shown) of the thin film transistor 18. The pixel electrode 22 supplies a data signal from the thin film transistor 18 to cause the liquid crystal 24 to be driven. Specifically, the liquid crystal 24 rotates in accordance with an electric field formed by the data signal of the pixel electrode 22 and the common voltage Vcom of the common electrode 8, thereby controlling the light transmittance, thereby realizing the gradation.

이때, 일반적인 박막 트랜지스터 어레이 패널(20)의 구성은 수직 크로스토크(cross talk)를 방지하기 위해 데이터 라인(16)과 화소 전극(22)을 일정 간격 이격 하여 구성하게 되고, 게이트 라인(14)과 화소 전극(22) 또한 일정간격 이격하여 구성하게 된다.The common thin film transistor array panel 20 has a structure in which the data lines 16 and the pixel electrodes 22 are spaced apart from each other by a predetermined distance in order to prevent vertical crosstalk. The pixel electrodes 22 are also spaced apart by a predetermined distance.

데이터 라인(16) 및 게이트 라인(14)과 화소 전극(22) 사이의 이격된 공간은 빛샘 현상이 발생하는 영역이기 때문에, 상기 칼라 필터 어레이 패널(10)의 블랙 매트릭스(4)가 이 부분을 가려주는 역할을 하게 된다. 또한, 블랙 매트릭스(4)는 외부에서 조사된 빛이 보호막(미도시)을 지나 박막트랜지스터(18)의 액티브층(미도시에 영향을 주는 것을 방지하는 역할도 하게 된다.Since the black matrix 4 of the color filter array panel 10 is a region where the space between the data lines 16 and the gate lines 14 and the pixel electrodes 22 is a region where light leakage occurs, It plays a role of covering. In addition, the black matrix 4 also serves to prevent light emitted from the outside from affecting the active layer (not shown) of the thin film transistor 18 through a protective film (not shown).

그리고 이러한 액정표시장치는 전계가 인가되면 액정(24)의 배열이 달라지고 달라진 액정(24)의 배열 방향에 따라 빛이 투과되는 특성 또한 달라진다.
In such a liquid crystal display device, when the electric field is applied, the arrangement of the liquid crystals 24 is changed, and the characteristic of transmitting light according to the arrangement direction of the changed liquid crystal 24 is also changed.

그런데, 상기 칼라 필터 어레이 패널(10) 및 박막 트랜지스터 어레이 패널(20)을 합착하는 공정 중 합착 오차(misalign)가 발생하는 경우가 있다. 이를 감안하여 상기 블랙매트릭스(4)를 설계할 때 일정한 값의 마진(margin)을 두고 설계하기 때문에 그 만큼 개구율이 저하된다.However, misalignment may occur in the process of attaching the color filter array panel 10 and the thin film transistor array panel 20. In consideration of this, since the black matrix 4 is designed with a margin of a certain value when designing the black matrix 4, the aperture ratio is reduced accordingly.

또한, 마진을 넘어선 합착오차가 발생할 경우, 빛샘 영역이 블랙매트릭스(4)에 모두 가려지지 않는 빛샘 불량이 발생한다. 이러한 경우에는 상기 빛샘이 외부로 나타나기 때문에 화질이 저하되는 문제가 있다.
Further, when a cementing error exceeding the margin occurs, a light-shield failure occurs in which the light-shielding region is not covered by the black matrix 4 at all. In this case, there is a problem that the image quality deteriorates because the light leakage appears outside.

본 발명의 하나의 과제는 2 색의 서브컬러 필터 적층부에 형성되는 신규 구조의 패드 콘택홀과 배선 연결부를 포함하는 COT(Color Filter On Thin Film Transistor) 액정표시장치를 제공함에 있다.
One aspect of the present invention is to provide a COT (Color Filter On Thin Film Transistor) liquid crystal display device including a pad contact hole and a wiring connection portion of a novel structure formed in a two-color sub color filter laminate portion.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 액정표시장치를 제공한다. 상기 액정표시장치는 표시영역 및 비표시영역이 정의된 기판, 상기 비표시영역에 형성되며, 적색, 녹색 및 청색 서브컬러 필터 중 선택된 2개의 서브컬러필터가 적층된 서브컬러필터 적층부 및 상기 서브컬러필터 적층부에 형성된 게이트 패드 콘택홀 및 데이터 패드 콘택홀을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device. The liquid crystal display device includes a substrate on which a display area and a non-display area are defined, a sub color filter lamination part formed on the non-display area, in which two sub color filters selected from red, green and blue sub color filters are stacked, And a gate pad contact hole and a data pad contact hole formed in the color filter laminated portion.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 다른 일 측면은 액정표시장치를 제공한다. 상기 액정표시장치는 표시영역 및 비표시영역이 정의된 기판, 상기 비표시영역에 형성되며, 적색, 녹색 및 청색 서브컬러 필터 중 선택된 2개의 서브컬러필터가 적층된 서브컬러필터 적층부 및 상기 서브컬러필터 적층부에 형성되며, 게이트 패드를 노출시키는 제1홀, 데이터 패드를 노출시키는 제2홀 및 상기 제1 및 제2홀을 연결하는 연결전극을 포함하는 배선연결부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device. The liquid crystal display device includes a substrate on which a display area and a non-display area are defined, a sub color filter lamination part formed on the non-display area, in which two sub color filters selected from red, green and blue sub color filters are stacked, And a wiring connection portion formed in the color filter laminated portion and including a first hole exposing the gate pad, a second hole exposing the data pad, and a connection electrode connecting the first and second holes .

본 발명은 블랙매트릭스부를 박막 트랜지스터 어레이 패널에 형성함으로써, 합착 오차(misalign)로 인한 액정표시장치의 빛샘 문제를 해결할 수 있다.The present invention can solve the light leakage problem of the liquid crystal display device due to misalignment by forming the black matrix portion on the thin film transistor array panel.

또한 본 발명은 2 색의 서브컬러 필터 적층부에 형성되는 패드 콘택홀과 배선 연결부의 새로운 구조를 제공한다.
The present invention also provides a novel structure of the pad contact hole and the wiring connection portion formed in the two-color sub color filter laminate portion.

도 1은 일반적인 액정표시장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조를 설명하기 위한 단면도들이다. 구
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조를 적용한 배선 연결부 구조를 설명하기 위한 단면도들이다.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하기 위한 단면도들이다.1 is a perspective view for explaining a general liquid crystal display device.
2 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
3A to 3C are cross-sectional views illustrating a pad contact hole structure of a liquid crystal display device according to the first to third embodiments of the present invention. phrase
4A to 4C are cross-sectional views illustrating a structure of a wiring connection portion to which a pad contact hole structure of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention is applied.
5A to 5C are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first to third embodiments of the present invention step by step.

이하, 본 발명의 실시예를 액정표시장치를 도시한 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings showing a liquid crystal display device. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of an apparatus may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 2는 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 액정표시장치를 설명하기 위한 단면도이다. 구체적으로는, 칼라 필터를 박막 트랜지스터 어레이 기판에 형성하고 상부 어레이 기판을 제거한 칼라 필터 온 박막 트랜지스터(Color Filter On Thin Film Transistor; 이하 "COT"라 함) 구조의 액정표시장치를 설명하기 위한 단면도이다. 2 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to the first to third embodiments of the present invention. More specifically, the present invention is a cross-sectional view for explaining a liquid crystal display device having a color filter on thin film transistor (hereinafter referred to as "COT") structure in which a color filter is formed on a thin film transistor array substrate and an upper array substrate is removed .

도 2를 참조하면, 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 액정표시장치는 기판(100), 상기 기판(100) 상에 형성되는 박막 트랜지스터(123), 상기 박막트랜지스터(123)의 상부전면에 형성되는 보호막(120), 상기 보호막(120) 상에, 상기 박막 트랜지스터(123)와 중첩되게 형성되어 서브 화소 영역을 구획하는 블랙 매트릭스부(BM), 각각의 서브 화소 영역에 형성된 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 서브 칼라 필터(130), 상기 블랙 매트릭스부(BM) 및 서브 칼라 필터(130)를 덮도록 형성된 평탄화층(132), 상기 평탄화층(132) 상에 형성되며, 상기 서브 칼라 필터(130)와 중첩되는 화소 전극(142)을 포함한다. Referring to FIG. 2, the liquid crystal display according to the first to third embodiments of the present invention includes a substrate 100, a thin film transistor 123 formed on the substrate 100, A black matrix unit BM formed on the passivation layer 120 and overlapped with the thin film transistor 123 to define a sub pixel region, a red matrix formed in each sub pixel region, A planarization layer 132 formed to cover the sub-color filter 130, the black matrix portion BM and the sub-color filter 130 of the green (G) and blue (B) And a pixel electrode 142 formed on the sub-color filter 130 to overlap with the sub-color filter 130.

도시하지는 않았으나, 상기 화소전극(142) 및 평탄화층(132) 상부 전면에는 배향막, 액정층이 더 형성된다.
Although not shown, an alignment layer and a liquid crystal layer are further formed on the entire upper surface of the pixel electrode 142 and the planarization layer 132.

각 부분을 구체적으로 설명하면, 상기 박막 트랜지스터(123)는 기판(100)상에 서로 교차되게 형성된 데이터 라인(115) 및 게이트 라인(미도시)의 교차영역에 위치한다. 상기 데이터 라인(115) 및 게이트 라인(미도시)은 게이트 절연막(110)을 사이에 두고 교차한다. Specifically, the thin film transistors 123 are located on the substrate 100 at intersections of the data lines 115 and the gate lines (not shown) formed to intersect each other. The data line 115 and the gate line (not shown) cross each other with the gate insulating film 110 therebetween.

이러한 박막 트랜지스터(123)는 기판(100) 상에 형성된 게이트 전극(102), 상기 게이트 전극(102)의 상부 전면에 형성되는 게이트 절연막(110), 상기 게이트 절연막(110)상에 차례대로 형성되는 활성층(112), 오믹 접촉층(114) 그리고 소스 및 드레인 전극(116, 118)을 포함한다. The thin film transistor 123 includes a gate electrode 102 formed on a substrate 100, a gate insulating film 110 formed on the entire upper surface of the gate electrode 102, An active layer 112, an ohmic contact layer 114, and source and drain electrodes 116 and 118.

상기 게이트 전극(102)은 상기 게이트 라인(미도시)으로부터 분기 된다. 상기 소스전극(116)은 상기 데이터라인(115)으로부터 분기되며, 상기 드레인전극(118)은 상기 소스전극(116)과 동일층에 이격되어 형성된다. 그리고 상기 활성층(112)은 상기 게이트 절연막(110)을 사이에 두고 게이트전극(102)과 중첩되며, 상기 소스 및 드레인전극(116,118)사이에 채널을 형성한다. 상기 오믹접촉층(114)은 상기 활성층(112)과 소스 및 드레인 전극(116,118)과의 콘택 저항을 줄이는 역할을 한다.
The gate electrode 102 is branched from the gate line (not shown). The source electrode 116 is branched from the data line 115 and the drain electrode 118 is formed on the same layer as the source electrode 116. The active layer 112 overlaps the gate electrode 102 with the gate insulating layer 110 interposed therebetween and forms a channel between the source and drain electrodes 116 and 118. The ohmic contact layer 114 serves to reduce the contact resistance between the active layer 112 and the source and drain electrodes 116 and 118.

상기 박막트랜지스터(123)의 상부 전면에는 보호막(120)이 형성된다. 그리고 상기 서브 칼라 필터(130)는 서브 화소 영역별로 구분되어 상기 보호막(120) 위에 형성된다.
A protective film 120 is formed on the upper surface of the thin film transistor 123. The sub-color filters 130 are formed on the passivation layer 120 by sub-pixel regions.

상기 블랙매트릭스부(BM)는 상기 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 서브컬러필터(130)의 오버랩에 의해 형성된다. 구체적으로는 상기 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 서브컬러필터(130) 중 적어도 2 이상의 서브컬러필터의 적층에 의해 형성된다. 상기 블랙매트릭스부(BM) 형성영역은 게이트라인(미도시), 데이터라인(115) 및 박막 트랜지스터(123) 등과 중첩되는 영역이다. 이러한 블랙 매트릭스부(BM)는 빛샘 문제 및 박막 트랜지스터(123) 광 누설 전류 등을 방지한다.
The black matrix portion BM is formed by overlapping the sub color filters 130 of red (R), green (G), and blue (B). Specifically, it is formed by stacking at least two sub-color filters among the red (R), green (G) and blue (B) sub-color filters 130. The black matrix portion BM forming region is a region overlapping with the gate line (not shown), the data line 115, the thin film transistor 123, and the like. This black matrix portion BM prevents the light leakage problem and the light leakage current of the thin film transistor 123 and the like.

상기 서브 컬러 필터(130) 및 블랙 매트릭스부(BM) 위에 형성되는 평탄화층(132)은 유기 절연물로 이루어진다. 이러한 평탄화층(132)은 상기 서브 컬러필터(130)와 블랙 매트릭스부(BM)의 단차를 보상하여 평탄한 표면을 제공한다. 아울러 상기 서브 칼라 필터(130) 및 블랙 매트릭스부(BM)로부터의 불순물이 액정으로 유입되는 것을 방지한다.
The planarization layer 132 formed on the sub color filter 130 and the black matrix portion BM is made of an organic insulating material. The planarization layer 132 compensates for the level difference between the sub color filter 130 and the black matrix portion BM to provide a flat surface. And prevents impurities from the sub-color filter 130 and the black matrix portion BM from flowing into the liquid crystal.

상기 평탄화층(132) 상에 형성되는 상기 화소전극(142)은 상기 서브 컬러 필터(130)와 중첩되도록 각 서브 화소 영역별로 형성된다. 그리고, 상기 화소전극(142)은 평탄화층(132), 서브 컬러 필터(130) 및 보호막(120)을 관통하는 콘택홀(140)을 통해 드레인 전극(118)과 접속된다.
The pixel electrode 142 formed on the planarization layer 132 is formed for each sub pixel region so as to overlap with the sub color filter 130. The pixel electrode 142 is connected to the drain electrode 118 through a contact hole 140 passing through the planarization layer 132, the sub color filter 130, and the passivation layer 120.

도시하지는 않았으나, 상기 화소전극(142) 및 평탄화층(132) 상부 전면에 형성되는 배향막은 상기 평탄화층(132) 및 화소전극(142) 상에 전면 형성되어 액정층(미도시)을 소정 방향으로 배향시키는 역할을 한다.
Although not shown, an alignment layer formed on the entire upper surface of the pixel electrode 142 and the planarization layer 132 is formed on the planarization layer 132 and the pixel electrode 142 to form a liquid crystal layer (not shown) .

한편, 상기 기판(100)의 외곽부에는 비표시 영역이 존재한다. 그리고 상기 비표시 영역에는 상기 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 서브컬러필터(130) 중 임의로 선택된 2 색의 서브컬러 필터가 적층된다. 이러한 서브컬러 필터 적층부(210, 도 3a 내지 도 3c 및 도 4a 내지 도 4c 참조)는 블랙매트릭스 역할을 한다.On the other hand, a non-display area exists in the outer frame of the substrate 100. [ In the non-display area, sub-color filters of two colors selected arbitrarily among the red (R), green (G) and blue (B) sub-color filters 130 are laminated. Such a sub color filter laminate portion 210 (see Figs. 3A to 3C and Figs. 4A to 4C) serves as a black matrix.

그리고 상기 비표시 영역 중 일부에 패드부(200)가 형성된다. 상기 패드부(200)는 표시영역의 게이트라인(미도시) 및 데이터라인(115)과 연결된다. 그리고 상기 패드부(200)는 구동 IC(미도시) 및 연성회로기판(미도시)과도 통전된다.
A pad portion 200 is formed in a part of the non-display region. The pad unit 200 is connected to a gate line (not shown) and a data line 115 of a display area. The pad unit 200 is also energized with a driving IC (not shown) and a flexible circuit board (not shown).

본 발명은 상기 패드부(200)의 패드 콘택홀 구조 및 배선 연결부 구조에 따라 제1 내지 제3 실시예로 나뉜다.
The present invention is divided into the first to third embodiments according to the pad contact hole structure and the wiring connection structure of the pad unit 200.

도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조를 설명하기 위한 단면도들이다. 구체적으로는 박막 트랜지스터 어레이 기판의 비표시 영역에 형성된 서브컬러 필터 적층부(210)에 형성되며, 게이트 패드(102') 또는 데이터 패드(미도시)를 노출시키는 콘택홀 구조를 설명하기 위한 단면도들이다. 여기서 서브컬러 필터 적층부(210)는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 서브컬러필터(130, 도 2참조) 중 임의로 선택된 2 색의 서브컬러 필터가 적층되어 형성된다. 3A to 3C are cross-sectional views illustrating a pad contact hole structure of a liquid crystal display device according to the first to third embodiments of the present invention. Sectional views for explaining the contact hole structure formed in the sub color filter layered portion 210 formed in the non-display region of the thin film transistor array substrate and exposing the gate pad 102 'or the data pad (not shown) . The sub color filter laminate portion 210 is formed by stacking sub color filters of two colors arbitrarily selected among red (R), green (G) and blue (B) sub color filters 130 (see FIG.

상기 서브 컬러 필터 적층부(210)에는 하부 서브컬러 필터(210a) 적층시 형성된 제 1 홀과 상부 서브컬러 필터(210b) 적층시 형성된 제 2 홀이 존재한다.
In the sub color filter laminate 210, there is a first hole formed when the lower sub color filter 210a is laminated and a second hole formed when the upper sub color filter 210b is laminated.

도 3a를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조, 구체적으로는 게이트 패드(102') 콘택홀 구조는 상부 서브컬러 필터(210b) 에서의 제 2 홀 직경이 하부 서브컬러 필터(210a)에서의 제 1 홀 직경보다 큰 구조인 것을 특징으로 한다. 따라서 도시된 바와 같이 그 단면은 계단형 구조가 된다.3A, the pad contact hole structure of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, specifically, the contact hole structure of the gate pad 102 ', has a second hole diameter Is larger than the first hole diameter in the lower sub color filter 210a. Thus, as shown, the cross section has a stepped structure.

도 3b를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조, 구체적으로는 게이트 패드(102') 콘택홀 구조는 상부 서브컬러 필터(210b)가 하부 서브컬러 필터(210a)에 형성된 제 1 홀 가장자리를 덮는 구조이다.Referring to FIG. 3B, the pad contact hole structure of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention, specifically, the contact hole structure of the gate pad 102 ', is formed such that the upper sub color filter 210b is connected to the lower sub color filter 210a on the first hole edge.

도 3c를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조, 구체적으로는 게이트 패드(102') 콘택홀 구조는 상부와 하부의 서브컬러 필터(210b, 210a)에서의 제1 및 제2 홀 직경이 서로 같은 구조인 것을 특징으로 한다.
Referring to FIG. 3C, the pad contact hole structure of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention, specifically, the contact hole structure of the gate pad 102 ', is formed in the upper and lower sub color filters 210b and 210a The first and second diameters of the first and second holes are the same.

다시 도 3a 내지 도 3c를 참조하면, 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른액정표시장치의 패드부(200)는 기판(100) 상에 형성된 게이트 라인(미도시)으로부터 연장된 게이트 패드(102'), 상기 게이트 패드(102') 상부에 차례대로 형성되는 게이트 절연막(110), 보호막(120), 제1 및 제2 홀이 형성된 서브컬러 필터 적층부(210), 평탄화층(132), 게이트 패드(102') 콘택홀 및 상기 게이트 패드(102') 콘택홀을 통해 상기 게이트 패드(102')와 접촉되는 게이트 패드 전극(201)을 포함한다.
3A to 3C, the pad portion 200 of the liquid crystal display according to the first to third embodiments of the present invention includes a gate pad (not shown) extending from a gate line (not shown) formed on a substrate 100, A gate insulating layer 110 formed on the gate pad 102 'in order, a passivation layer 120, a sub color filter layered portion 210 formed with first and second holes, a planarization layer 132 ), A gate pad 102 ', a contact hole, and a gate pad electrode 201 contacting the gate pad 102' through a contact hole of the gate pad 102 '.

위 도 3a 내지 도 3c에서 예시한 게이트 패드(102') 콘택홀 구조는 데이터 패드(미도시) 콘택홀에도 마찬가지로 적용된다.
The gate pad 102 'contact hole structure illustrated in FIGS. 3A-3C is similarly applied to a data pad (not shown) contact hole.

도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조를 적용한 배선 연결부 구조를 설명하기 위한 단면도들이다. 구체적으로는 트랜지스터 어레이 기판의 비표시 영역에 형성된 서브컬러 필터 적층부(210)에 형성된 배선 연결부 구조를 설명하기 위한 단면도들이다. 상기 서브컬러 필터 적층부(210)는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 서브컬러필터(130) 중 임의로 선택된 2 색의 서브컬러 필터가 적층되어 형성된다.
4A to 4C are cross-sectional views illustrating a structure of a wiring connection portion to which a pad contact hole structure of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention is applied. Sectional views for explaining the structure of the wiring connection portion formed in the sub color filter layered portion 210 formed in the non-display region of the transistor array substrate. The sub color filter layered portion 210 is formed by laminating sub color filters of two colors arbitrarily selected among red (R), green (G) and blue (B) sub color filters 130.

도 4a 내지 도 4c를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조를 적용한 배선 연결부는, 게이트 패드(102')와 데이터 패드(115') 사이에 서브컬러 필터가 형성될 수도 있고, 형성되지 않을 수도 있다. 서브컬러 필터가 형성될 경우, 서브컬러 필터 적층부(210)의 하부 서브컬러 필터(210a)만 형성되거나 상하부 서브컬러 필터(210b, 210a) 모두 형성된다.4A to 4C, a wiring connection portion to which the pad contact hole structure of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention is applied includes a sub-color filter (not shown) between the gate pad 102 'and the data pad 115' May be formed or may not be formed. When the sub color filter is formed, only the lower sub color filter 210a of the sub color filter layered portion 210 is formed or both of the upper and lower sub color filters 210b and 210a are formed.

게이트 패드(102')와 데이터 패드(115') 사이에 상하부 서브컬러 필터(210b, 210a)가 모두 형성되는 경우, 그 구조는 제1 실시예에 따른 패드 콘택홀 구조와 같다. 따라서 그 단면은 계단형이 된다.
When the upper and lower sub color filters 210b and 210a are formed between the gate pad 102 'and the data pad 115', the structure is the same as that of the pad contact hole structure according to the first embodiment. Therefore, the cross section becomes a stepped shape.

결과적으로, 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조를 적용한 배선 연결부 구조는 기판(100)상의 게이트라인(미도시)로부터 연장된 게이트 패드(102')와 데이터라인(115, 도 2참조)으로부터 연장된 데이터 패드(115') 및 이들 사이에 형성된 게이트 절연막(110)과 이들 상부에 순차적으로 형성된 보호막(120), 서브컬러 필터 적층부(210), 평탄화층(132) 및 연결전극(202)을 포함한다. As a result, the wiring connection structure in which the pad contact hole structure of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention is applied has a structure in which the gate pad 102 'extending from the gate line (not shown) on the substrate 100 and the data line A protective layer 120, a sub color filter layered portion 210, and a planarization layer 132 (not shown) formed sequentially on the data pad 115 'and the gate insulating layer 110 formed between the data pad 115' And a connection electrode 202.

그리고 여기서 서브컬러 필터 적층부(210)의 단면 형상은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 패드 콘택홀 구조를 따르게 된다. 그 결과 단면 형상은 계단형이 된다.
Here, the cross-sectional shape of the sub color filter layered portion 210 follows the pad contact hole structure of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. As a result, the cross-sectional shape becomes a stepped shape.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하기 위한 단면도들이다. 5A to 5C are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first to third embodiments of the present invention step by step.

먼저, 도 5a를 참조하면, 기판(100) 상에 일 방향으로 연장된 게이트 라인(미도시)을 서로 평행하게 형성한 후, 상기 게이트 라인(미도시)과 수직하게 교차하는 데이터 라인(115)을 형성한다. 상기 게이트라인(미도시)과 데이터 라인(115)의 교차로 다수의 서브 화소 영역이 정의된다. 5A, gate lines (not shown) extending in one direction are formed on a substrate 100 in parallel with each other, and data lines 115 perpendicularly intersecting the gate lines (not shown) . A plurality of sub pixel regions are defined at the intersections of the gate lines (not shown) and the data lines 115.

상기 게이트 라인(미도시) 및 데이터라인(115)의 교차영역에는 박막 트랜지스터(123)가 형성된다. 여기서, 박막 트랜지스터(123)는 상기 게이트 라인(미도시)으로부터 분기된 게이트전극(102), 상기 데이터라인(115)으로부터 분기된 소스전극(116), 상기 소스전극(116)과 마주하는 드레인전극(118), 활성층(112) 및 오믹접촉층(114)을 포함한다. A thin film transistor 123 is formed in a crossing region of the gate line (not shown) and the data line 115. The thin film transistor 123 includes a gate electrode 102 branched from the gate line (not shown), a source electrode 116 branched from the data line 115, a source electrode 116 facing the source electrode 116, An active layer 112, and an ohmic contact layer 114.

상기 활성층(112)은 게이트 절연막(110)을 사이에 두고 게이트전극(102)과 중첩되며, 소스전극(116)과 드레인전극(118) 사이에 채널을 형성한다. 상기 오믹 접촉층(114)은 상기 활성층(112)과 소스 및 드레인 전극(116,118)과의 콘택 저항을 줄이는 역할을 한다. The active layer 112 overlaps the gate electrode 102 with the gate insulating layer 110 interposed therebetween and forms a channel between the source electrode 116 and the drain electrode 118. The ohmic contact layer 114 serves to reduce the contact resistance between the active layer 112 and the source and drain electrodes 116 and 118.

상기 박막 트랜지스터(123) 등이 형성된 기판(100) 상에 보호막(120)을 전면 형성한다. The passivation layer 120 is formed on the entire surface of the substrate 100 on which the thin film transistor 123 is formed.

한편, 패드부(200)에는 게이트 라인(미도시)으로부터 연장된 게이트 패드(미도시) 및 데이터 라인(115)으로부터 연장된 데이터 패드(미도시)가 형성된다.
A pad pad 200 is formed with a gate pad (not shown) extending from a gate line (not shown) and a data pad (not shown) extending from the data line 115.

도 5b를 참조하면, 상기 게이트 라인(미도시) 및 데이터 라인(115)에 의해 정의되는 서브화소영역에 적색(R),녹색(G) 및 청색(B) 서브컬러필터(130)를 형성한다. 여기서, 적색(R),녹색(G) 및 청색(B) 서브컬러필터(130) 각각은 별도의 마스크 공정을 이용한 포토리쏘그래피 공정 등에 의해 형성된다. 동시에 적색(R),녹색(G) 및 청색(B) 서브컬러필터(130) 사이에는 적색(R),녹색(G) 및 청색(B) 서브컬러필터(130)의 적층에 의한 블랙매트릭스부(BM)가 형성된다.5B, red (R), green (G), and blue (B) sub-color filters 130 are formed in a sub pixel region defined by the gate line (not shown) and the data line 115 . Each of the red (R), green (G), and blue (B) sub-color filters 130 is formed by a photolithography process or the like using a separate mask process. Color filter 130 by stacking the red (R), green (G) and blue (B) sub-color filters 130 between the red (R), green (G) and blue (B) sub- (BM) is formed.

이하 구체적으로 설명하면, 먼저, 박막 트랜지스터(123)를 덮는 보호막(120)위에 적,녹,청의 컬러 레지스트 중 임의의 제1색을 띄는 컬러 레지스트를 전면에 도포한다. 이후 선택적 노광 및 현상을 통해 원하는 영역에 제1색의 서브컬러필터를 형성한다. 일반적으로 컬러 레지스트는 네거티브(negative) 포토레지스트의 성격을 가지므로 노광되지 않은 부분이 제거된다. More specifically, first, a color resist having an arbitrary first color of red, green, and blue color resist is coated on the entire surface of the protective film 120 covering the thin film transistor 123. Subsequently, the sub-color filter of the first color is formed in a desired region through selective exposure and development. Generally, a color resist has the nature of a negative photoresist, so that unexposed portions are removed.

다음으로, 임의의 제2색을 띄는 컬러 레지스트를 도포한 후 선택적 노광 및 현상을 통해 원하는 영역에 제2색의 서브컬러 필터를 형성한다. 마찬가지로 제3색의 서브컬러 필터를 형성한다.Next, a color resist having an arbitrary second color is applied, and selective color exposure and development are performed to form a sub color filter of a second color in a desired region. Similarly, a sub color filter of a third color is formed.

상기 적색(R),녹색(G) 및 청색(B) 서브컬러필터(130) 형성시, 비표시 영역에는 상기 적색(R),녹색(G) 및 청색(B)의 서브컬러필터(130) 중 임의로 선택된 2 색의 서브컬러 필터가 적층된 서브컬러필터 적층부(210,도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)를 형성한다. 상기 서브컬러필터 적층부(210,도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)는 상하부 서브컬러 필터(210b, 210a, 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)로 이루어지며, 각 서브컬러 필터 형성시 게이트 패드(102', 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조) 및 데이터 패드(115', 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조) 일부에 대응되는 부분이 제거된다. Color filter 130 of red (R), green (G), and blue (B) is formed in the non-display region when the red (R), green (G) Color filter laminate portion 210 (see Figs. 3 A to 3C and Figs. 4A to 4C) in which two color sub-color filters arbitrarily selected from among the sub-color filter layers are stacked. The sub color filter laminate unit 210 (see FIGS. 3 A to 3C and FIGS. 4A to 4C) is composed of upper and lower sub color filters 210b and 210a (see FIGS. The portion corresponding to the gate pad 102 '(see FIGS. 3A-3C and 4A-4C) and the data pad 115' (see FIGS. 3A-3C and 4A-4C) Removed.

이때, 상부 서브컬러 필터(210b 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)에 홀 형성시, 그 홀의 직경이 하부 서브컬러 필터(210a, 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)에서의 홀 직경보다 크게 할 수 있다. 이 경우, 그 단면은 계단형 구조가 된다. 또한 상,하부 서브컬러 필터(210b, 210a, 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)에서의 홀 직경이 서로 같게 할 수도 있다. 그리고 또한 상부 서브컬러 필터(210b, 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)가 하부 서브 컬러필터(210a, 도 3a-도 3c 및 도 4a-도 4c 참조)에 형성된 홀 가장자리를 덮도록 형성할 수도 있다. At this time, when holes are formed in the upper sub color filter 210b (see Figs. 3-A and 3C and Figs. 4A and 4C), the diameter of the holes is smaller than that of the lower sub color filter 210a Can be made larger than the hole diameter in the case of FIG. In this case, the cross section has a stepped structure. Further, the hole diameters at the upper and lower sub color filters 210b and 210a (see Figs. 3-A and 3C and Figs. 4A and 4C) may be equal to each other. 3C and Figs. 4A-4C) cover the hole edge formed in the lower sub-color filter 210a (see Figs. 3 A to 3C and Figs. 4A to 4C) .

한편, 상기 블랙매트릭스부(BM)는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 서브컬러필터(130) 형성시 적어도 2 이상의 서브컬러필터를 적층시켜 형성한다.The black matrix unit BM is formed by stacking at least two sub-color filters when red (R), green (G) and blue (B) sub-color filters 130 are formed.

또한 상기 블랙매트릭스부(BM)는 데이터 라인(115), 게이트 라인(미도시) 및 박막트랜지스터(123)를 덮는 영역에 형성한다. 그러므로, 도면으로 제시하지는 않았지만, 상기 블랙매트릭스부(BM)는 서브 화소 영역별 경계부를 두르는 위치에 형성된다.
The black matrix portion BM is formed in a region covering the data line 115, the gate line (not shown) and the thin film transistor 123. Therefore, although not shown in the drawing, the black matrix portion BM is formed at a position covering the boundary portion for each sub pixel region.

도 5c를 참조하면, 상기 서브컬러필터(130) 및 블랙매트릭스부(BM)의 상부에 상기 서브 칼라 필터(130)와 블랙 매트릭스부(BM)로 인한 단차를 보상함과 아울러 상기 서브 칼라 필터(130) 및 블랙 매트릭스부(BM)로부터의 불순물이 액정으로 유입되는 것을 방지하기 위한 평탄화층(132)이 형성된다. 또한, 평탄화층(132)에는 박막랜지스터(123)의 드레인 전극(118)을 노출시키는 콘택홀(140)이 더 형성된다.5C, a step due to the sub-color filter 130 and the black matrix unit BM is compensated for on the sub-color filter 130 and the black matrix unit BM, And a planarization layer 132 for preventing impurities from the black matrix portion BM and the black matrix portion BM from flowing into the liquid crystal are formed. The planarization layer 132 further includes a contact hole 140 exposing the drain electrode 118 of the thin film transistor 123.

이후, 평탄화층(132) 상에 투명전극 물질을 전면 증착한다. 이후 포토리쏘그래피 공정 및 식각공정으로 패터닝하여 드레인 전극(118)과 접속되는 화소전극(142)을 형성한다. 이후 액정층(미도시), 배향막(미도시) 등을 더 형성한다.Thereafter, the transparent electrode material is entirely deposited on the planarization layer 132. Then, a pixel electrode 142 connected to the drain electrode 118 is formed by patterning using a photolithography process and an etching process. Thereafter, a liquid crystal layer (not shown), an orientation film (not shown), and the like are further formed.

100 : 기판 102' : 게이트 패드
115' : 데이터 패드
123 : 박막트랜지스터
200 : 패드부 130: 서브컬러필터
201 : 게이트패드 전극 202 : 연결전극100: substrate 102 ': gate pad
115 ': Data Pad
123: Thin film transistor
200: Pad unit 130: Sub color filter
201: gate pad electrode 202: connection electrode

Claims (10)

표시영역 및 비표시영역이 정의된 기판 ;
상기 비표시영역에 형성되며, 적색, 녹색 및 청색 서브컬러 필터 중 선택된 2개의 서브컬러필터가 적층된 서브컬러필터 적층부 ; 및
상기 서브컬러필터 적층부에 형성된 게이트 패드 콘택홀 및 데이터 패드 콘택홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
A substrate on which a display region and a non-display region are defined;
A sub color filter laminate formed on the non-display area and having two sub color filters selected from red, green and blue sub color filters stacked; And
And a gate pad contact hole and a data pad contact hole formed in the sub color filter layered portion.
제1항에 있어서,
상기 서브컬러필터 적층부는 상부 서브컬러필터와 하부 서브컬러필터로 이루어지며,
상기 게이트패드 콘택홀 및 데이터 패드 콘택홀은 상기 상부 서브컬러 필터에 형성된 상부 홀과 상기 하부 서브컬러필터에 형성된 하부 홀로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
The sub-color filter lamination portion comprises an upper sub color filter and a lower sub color filter,
Wherein the gate pad contact hole and the data pad contact hole are formed by an upper hole formed in the upper sub color filter and a lower hole formed in the lower sub color filter.
제2항에 있어서,
상기 상부 홀의 직경은 하부 홀의 직경보다 크고, 상기 홀의 단면은 계단형인것을 특징으로 하는 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein a diameter of the upper hole is larger than a diameter of the lower hole, and a cross section of the hole is a stepped shape.
제2항에 있어서,
상기 상부 홀의 직경은 상기 하부 홀의 직경과 같은 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
And the diameter of the upper hole is equal to the diameter of the lower hole.
제2항에 있어서,
상기 상부 홀의 직경은 상기 하부 홀의 직경 보다 작으며, 상기 상부 서브컬러필터는 상기 하부 홀의 가장자리를 덮는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein a diameter of the upper hole is smaller than a diameter of the lower hole, and the upper sub color filter covers an edge of the lower hole.
표시영역 및 비표시영역이 정의된 기판;
상기 비표시영역에 형성되며, 적색, 녹색 및 청색 서브컬러 필터 중 선택된 2개의 서브컬러필터가 적층된 서브컬러필터 적층부; 및
상기 서브컬러필터 적층부에 형성되며, 게이트 패드를 노출시키는 제1홀, 데이터 패드를 노출시키는 제2홀 및 상기 제1 및 제2홀을 연결하는 연결전극을 포함하는 배선연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
A substrate on which a display region and a non-display region are defined;
A sub color filter laminate formed on the non-display area and having two sub color filters selected from red, green and blue sub color filters stacked; And
And a wiring connection portion formed in the sub color filter layered portion and including a first hole exposing the gate pad, a second hole exposing the data pad, and a connection electrode connecting the first and second holes. .
제6항에 있어서,
상기 서브컬러필터 적층부는 상부 서브컬러필터와 하부 서브컬러필터로 이루어지며,
상기 제1 및 제2홀 사이에는 서브컬러필터가 형성되어 있지 않거나, 또는 상기 하부서브컬러 필터만 형성되어 있거나 또는 상기 하부 및 상부 서브컬러필터가 순차적으로 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
The method according to claim 6,
The sub-color filter lamination portion comprises an upper sub color filter and a lower sub color filter,
Wherein the sub color filter is not formed between the first and second holes, or only the lower sub color filter is formed, or the lower and upper sub color filters are sequentially stacked.
제 7 항에 있어서,
상기 배선연결부에서 상기 하부 및 상부 서브컬러필터가 순차적으로 적층된 부분의 단면은 계단형인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
8. The method of claim 7,
Wherein a cross section of a portion where the lower and upper sub color filters are sequentially stacked in the wiring connection portion is a stepped shape.
제 7 항에 있어서,
상기 배선연결부에서 상기 하부 및 상부 서브컬러필터가 순차적으로 적층된 부분의 단면은 일직선인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
8. The method of claim 7,
And a cross section of a portion where the lower and upper sub color filters are sequentially stacked in the wiring connection portion is straight.
제 7항에 있어서,
상기 배선연결부에서 상기 하부 및 상부 서브컬러필터가 순차적으로 적층된 부분의 단면은 상부 서브컬러필터가 하부 서브컬러필터를 덮는 구조인것을 특징으로 하는 액정표시장치.

8. The method of claim 7,
And a cross section of a portion where the lower and upper sub color filters are sequentially stacked in the wiring connection portion is a structure in which the upper sub color filter covers the lower sub color filter.

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