KR20150040734A - Manufacturing method for liquid crystal alignment film, photo-alignment agent, and liquid crystal display device - Google Patents

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KR20150040734A KR20140111274A KR20140111274A KR20150040734A KR 20150040734 A KR20150040734 A KR 20150040734A KR 20140111274 A KR20140111274 A KR 20140111274A KR 20140111274 A KR20140111274 A KR 20140111274A KR 20150040734 A KR20150040734 A KR 20150040734A
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Abstract

The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal alignment film capable of obtaining a liquid crystal display device having a small amount of remaining electric charge accumulated and exhibiting a high voltage maintenance rate. A liquid crystal alignment film is manufactured by a method comprising the steps of: forming a film by applying, to a substrate, a liquid crystal alignment agent that is a polymer wherein (A) polymer and (B) polymer are included as one or more kinds of polymeric components selected from the group consisting of poly(amic acid), poly(amic acid) ester and polyimide, and (A) polymer has, in a main chain, a structure (Y) represented by formula (1) with the proviso that an amide bond formed by polymerization reaction is excluded if X^1 is -NH-; and making the film into a liquid crystal alignment film by irradiating the film with light. In formula1, X^1 is a sulfur atom, an oxygen atom or -NH-, [*] represents an unpaired electron, and at least one among two [*] is bonded to an aromatic ring.

Description

액정 배향막의 제조 방법, 광배향제 및 액정 표시 소자 {MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT FILM, PHOTO-ALIGNMENT AGENT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Technical Field [0001] The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal alignment film, a liquid crystal alignment film,

본 발명은, 액정 배향막의 제조 방법, 광배향제 및 액정 표시 소자에 관한 것이며, 상세하게는, 광배향 기술에 의해 막에 액정 배향성을 부여하는 기술에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal alignment film, a photo-dispersing agent, and a liquid crystal display element, and more particularly, to a technique for imparting liquid crystal alignment property to a film by photo-

종래, 액정 표시 소자로서는, 전극 구조나 사용하는 액정 분자의 물성 등이 상이한 여러 가지의 구동 방식이 개발되어 있으며, 예를 들면 TN형, STN형, VA형 등의 종전계 방식, IPS형, FFS형 등의 횡전계 방식 등의 각종 액정 표시 소자가 알려져 있다. 이들 중, 종전계 방식의 액정 표시 소자에서는, 대향 배치된 한 쌍의 기판의 각각에 전극을 형성하고, 기판과 수직 방향으로 전계를 발생시키는 데에 대하여, 횡전계 방식의 액정 표시 소자에서는, 한 쌍의 기판 중 한쪽에 전극을 형성하고, 기판과 평행 방향으로 전계를 발생시키도록 구성되어 있다. 이에 따라, 횡전계 방식의 액정 표시 소자는, 종래의 횡전계 방식에 비하여, 콘트라스트나 시야각 특성의 향상을 도모하는 것이 가능하다는 것이 알려져 있다. Conventionally, various driving methods have been developed as liquid crystal display devices, which have different electrode structures and physical properties of liquid crystal molecules to be used. For example, conventional liquid crystal display devices such as TN type, STN type and VA type, IPS type, FFS Liquid crystal display devices such as a liquid crystal display device and a liquid crystal display device such as a liquid crystal display device. Among these, in the liquid crystal display device of the old system type, electrodes are formed on each of a pair of substrates arranged opposite to each other, and an electric field is generated in a direction perpendicular to the substrate, while in a liquid crystal display device of a transverse electric system, An electrode is formed on one of the pair of substrates, and an electric field is generated in a direction parallel to the substrate. Thus, it is known that the liquid crystal display element of the transverse electric field system can improve the contrast and the viewing angle characteristic as compared with the conventional transverse electric field system.

액정 표시 소자는, 기판 상에 형성된 액정 배향막에 의해, 액정 분자의 배향 상태를 제어하고 있다. 이 액정 배향막의 재료로서는, 내열성, 기계적 강도, 액정과의 친화성 등의 각종 특성이 양호한 점에서, 폴리암산이나 폴리이미드가 일반적으로 사용되고 있다. 또한, 액정 배향제에 의해 형성된 고분자 박막에 액정 배향능을 부여하는 방법으로서는, 최근, 러빙법을 대신하는 기술로서, 광이성화나 광이량화, 광분해 등을 이용한 광배향법이 제안되고 있다. 이 광배향법은, 기판 상에 형성한 감방사선성의 유기 박막에 대하여, 편광 또는 비편광의 방사선을 조사함으로써 막에 이방성을 부여하고, 이에 따라 액정 분자의 배향을 제어하는 방법이다. 이 방법에 의하면, 종래의 러빙법에 비하여, 공정 내에서의 먼지나 정전기의 발생을 억제할 수 있기 때문에, 먼지 등에 기인하는 표시 불량의 발생이나 수율의 저하를 억제하는 것이 가능하다. 또한, 기판 상에 형성된 유기 박막에 대하여, 액정 배향능을 균일하게 부여할 수 있다는 장점도 있다. The liquid crystal display element controls the alignment state of the liquid crystal molecules by the liquid crystal alignment film formed on the substrate. As the material of the liquid crystal alignment film, polyamic acid and polyimide are generally used in view of good heat resistance, mechanical strength, and various properties such as affinity with liquid crystals. As a technique for imparting liquid crystal aligning ability to a polymer thin film formed by a liquid crystal aligning agent, a photo alignment method using photoisomerization, photo dimerization, photolysis, or the like has recently been proposed as a technique instead of the rubbing method. This photo alignment method is a method of applying anisotropy to a film of a radiation-sensitive organic thin film formed on a substrate by irradiating polarized or unpolarized radiation, thereby controlling the orientation of the liquid crystal molecules. According to this method, generation of dust and static electricity in the process can be suppressed as compared with the conventional rubbing method, so that it is possible to suppress the occurrence of defective display caused by dust or the like and reduction in the yield. In addition, the organic thin film formed on the substrate has an advantage that the liquid crystal aligning ability can be uniformly given.

광배향법에 적용하는 액정 배향제로서는, 종래, 여러 가지의 것이 제안되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1∼4 참조). 특허문헌 1에는, 칼콘 구조를 포함하는 기를 측쇄에 갖는 중합체를 함유하는 액정 배향제에 대해서 개시되고, 특허문헌 2에는, 플라보노이드 구조를 갖는 중합체를 함유하는 액정 배향제에 대해서 개시되어 있다. 또한, 특허문헌 3에는, 아조벤젠 구조 또는 안트라센 구조를 갖는 중합체를 함유하는 액정 배향제에 대해서, 특허문헌 4에는, 저분자량의 아조 화합물을 함유하는 액정 배향제에 대해서 각각 개시되어 있다. As liquid crystal aligning agents to be applied to the photo alignment method, various ones have conventionally been proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 4). Patent Document 1 discloses a liquid crystal aligning agent containing a polymer having a group containing a chalcone structure in its side chain, and Patent Document 2 discloses a liquid crystal aligning agent containing a polymer having a flavonoid structure. Patent Document 3 discloses a liquid crystal aligning agent containing a polymer having an azobenzene structure or an anthracene structure, and Patent Document 4 discloses a liquid crystal aligning agent containing an azo compound having a low molecular weight.

일본공개특허공보 2003-307736호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-307736 일본공개특허공보 2004-163646호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2004-163646 일본공개특허공보 2002-250924호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-250924 일본공개특허공보 2004-83810호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-83810

횡전계 방식의 액정 표시 소자에서는, 넓은 시야각 특성이나 양호한 콘트라스트 특성을 갖는 한편, 잔류 전하의 축적에 의한 잔상(화상의 번인)이 문제가 되는 경우가 있다. In a liquid crystal display element of a transverse electric field system, a residual image (burn-in of an image) due to the accumulation of residual charges may be a problem, while having a wide viewing angle characteristic and a good contrast characteristic.

또한, 광배향법으로 얻어지는 액정 배향막을 횡전계 방식의 액정 표시 소자에 적용함으로써, 광배향법의 상기 특성을 얻는 것을 기대할 수 있다. 그러나, 자외선 등의 조사에 의해 화학 변화를 일으키는 광배향법의 경우, 종래의 러빙 처리에 의한 액정 배향막과 비교하여 일반적으로 전기 특성이 뒤떨어지는 경향이 있다. 특히 중합체의 광분해를 수반하는 경우에는 액정 셀 중에 불순물 이온이 증가하여, 전압 보전율이 저하되기 쉽다는 문제가 있었다. 또한, 광배향법으로 얻어지는 액정 배향막은 액정의 배향 규제력이 충분하지 않아, 횡전계 방식의 액정 표시 소자에 있어서 번인의 일 요인이 되고 있다고 추측된다. 그 한편으로, 액정 패널에 있어서의 최근의 고품질화에 수반하여, 액정 표시 소자로서는, 액정 표시 소자의 전기 특성이나 저잔상성이 우수한 것이 요구되고 있다. Further, by applying the liquid crystal alignment film obtained by the photo alignment method to the liquid crystal display device of the transverse electric field system, it is expected that the above-described characteristics of the photo alignment method can be obtained. However, in the case of the photo-alignment method in which a chemical change is caused by irradiation of ultraviolet rays or the like, the electrical characteristics tend to be generally inferior to the conventional liquid-crystal alignment film by rubbing treatment. Particularly, in the case of involving photolysis of the polymer, there is a problem that impurity ions increase in the liquid crystal cell and the voltage holding ratio tends to decrease. In addition, it is presumed that the liquid crystal alignment film obtained by the photo alignment method has insufficient alignment control force of liquid crystal and becomes a cause of burn-in in the liquid crystal display device of the transverse electric field system. On the other hand, along with the recent high quality of the liquid crystal panel, the liquid crystal display element is required to have excellent electric characteristics and low residual image quality of the liquid crystal display element.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 잔류 전하의 축적량이 적고 또한 높은 전압 보전율을 나타내는 액정 표시 소자를 얻을 수 있는 액정 배향막의 제조 방법을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and its main object is to provide a method of manufacturing a liquid crystal alignment film capable of obtaining a liquid crystal display element having a small accumulation amount of residual charges and a high voltage holding ratio.

본 발명자들은, 상기와 같은 종래 기술의 과제를 달성하기 위해 예의 검토하고, 광조사에 의해 막에 이방성을 발생시키는 기구로서 광프리스 전위반응에 착안했다. 이 광프리스 전위반응은, 페닐에스테르로부터 방향족 하이드록시케톤으로의 전위반응에 의해 분자 구조의 골격 변화를 발생시키는 것이다. 그리고 본 발명자들은, 이 착안점에 기초하여, 방향환에 에스테르기 또는 티오에스테르기가 결합하여 이루어지는 구조를 주쇄에 갖는 폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드 중 적어도 1종의 중합체를, 액정 배향제의 중합체 성분의 일부로서 이용하고, 광배향법에 의해 액정 배향막을 형성한 결과, 상기 과제를 해결 가능한 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 구체적으로는, 본 발명에 의해 이하의 액정 배향막의 제조 방법, 광배향제 및, 액정 표시 소자가 제공된다. Means for Solving the Problems The present inventors have studied extensively in order to achieve the problems of the prior art as described above and have focused on a light-free potential reaction as a mechanism for generating anisotropy in a film by light irradiation. This light-free-potential reaction generates a skeleton change of the molecular structure by a potential reaction from a phenyl ester to an aromatic hydroxy ketone. Based on this point of view, the inventors of the present invention have found that a polymer of at least one of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide having a structure in which an ester group or a thioester group is bonded to an aromatic ring in the main chain, And a liquid crystal alignment film was formed by the photo alignment method. As a result, it was found that the above problems could be solved, and the present invention was completed. Specifically, according to the present invention, there are provided the following production method of a liquid crystal alignment film, a photo-dispersing agent, and a liquid crystal display element.

본 발명은 하나의 측면에 있어서, 폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체 성분으로서 (A) 중합체와 (B) 중합체를 포함하고, 또한 (A) 중합체가, 하기식 (1)로 나타나는 구조 (Y)(단, X1이 -NH-인 경우, 중합 반응에 의해 형성되는 아미드 결합을 제외함)를 주쇄에 갖는 중합체인 액정 배향제를, 기판 상에 도포하여 도막을 형성하는 공정과, 상기 도막에 광조사하여 액정 배향막으로 하는 공정을 포함하는 액정 배향막의 제조 방법을 제공한다: (A) a polymer and (B) a polymer as a polymer component selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide, wherein the polymer (A) , A liquid crystal aligning agent which is a polymer having in its main chain a structure (Y) represented by the following formula (1) (except that, in the case where X 1 is -NH-, an amide bond formed by polymerization reaction is excluded) Forming a coating film on the coating film; and irradiating the coating film with light to form a liquid crystal alignment film.

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (1) 중, X1은, 황 원자, 산소 원자 또는 -NH-이고; 「*」는 각각 결합손을 나타내고; 단, 2개의 「*」 중 적어도 한쪽은 방향환에 결합되어 있음).(In the formula (1), X 1 represents a sulfur atom, an oxygen atom or -NH-; "*" represents a bonding hand, provided that at least one of the two "*" .

본 발명은 다른 하나의 측면에 있어서, 상기 (A) 중합체와 (B) 중합체를 함유하는 광배향제를 제공한다. 또한, 다른 하나의 측면에 있어서, 상기 제조 방법을 이용하여 형성된 액정 배향막을 구비하는 액정 표시 소자를 제공한다. In another aspect, the present invention provides a photo-dispersing agent containing the polymer (A) and the polymer (B). According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display element comprising a liquid crystal alignment film formed by using the above-described manufacturing method.

횡전계 방식의 액정 표시 소자에 있어서, 상기식 (1)로 나타나는 구조를 주쇄에 갖는 중합체와, 이와는 상이한 중합체를 블렌드한 액정 배향제를 이용하여 액정 배향막을 제작함으로써, 전압 보전율이 높고, 또한 잔류 전하의 축적량이 적은 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. In the transverse electric field type liquid crystal display element, a liquid crystal alignment film is produced by using a polymer having a structure represented by the formula (1) in the main chain and a liquid crystal aligning agent blended with a polymer different from the polymer, It is possible to obtain a liquid crystal display element having a small accumulated charge amount.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for carrying out the invention)

이하에, 본 발명의 광배향용의 액정 배향제(이하, 「광배향제」라고도 함) 및 당해 광배향제를 이용한 액정 배향막의 제조 방법에 대해서 설명한다. 우선은, 광배향제의 각 성분 및, 필요에 따라서 임의로 배합되는 그 외의 성분에 대해서 설명한다. Hereinafter, a method for producing a liquid crystal alignment film for photo-alignment of the present invention (hereinafter also referred to as " photo-alignment agent ") and a liquid crystal alignment film using the photo-alignment agent will be described. First, each component of the photo-dispersing agent and other components optionally blended as required will be described.

<중합체 성분><Polymer Component>

본 발명의 광배향제는, 중합체 성분으로서, 폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체를 함유한다. 또한, 당해 중합체로서, (A) 중합체 및 (B) 중합체의 적어도 2종류의 중합체를 함유한다. 이하, (A) 중합체 및 (B) 중합체에 대해서 순서대로 설명한다.The photo-dispersing agent of the present invention contains, as a polymer component, at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide. Further, as the polymer, at least two kinds of polymers of the (A) polymer and the (B) polymer are contained. Hereinafter, the (A) polymer and the (B) polymer will be described in order.

[(A) 중합체] [(A) Polymer]

상기 (A) 중합체는, 폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이며, 하기식 (1)로 나타나는 구조 (Y)(X1이 -NH-인 경우, 중합 반응에 의해 형성되는 아미드 결합을 제외함)를 주쇄에 갖는다:The polymer (A) is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide, and has a structure (Y) represented by the following formula (1) (when X 1 is -NH-, Except for the amide bond formed by &lt; RTI ID = 0.0 &gt;

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 (1) 중, X1은, 황 원자, 산소 원자 또는 -NH-이고; 「*」는 각각 결합손을 나타내고; 단, 2개의 「*」 중 적어도 한쪽은 방향환에 결합되어 있음).(In the formula (1), X 1 represents a sulfur atom, an oxygen atom or -NH-; "*" represents a bonding hand, provided that at least one of the two "*" .

상기식 (1) 중의 「*」과 결합하는 방향환으로서는, 예를 들면 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 액정 배향성 및 투명성의 관점에서 벤젠환인 것이 바람직하다. 상기식 (1) 중의 2개의 「*」 중, 다른 한쪽의 「*」에 결합하는 구조는 특별히 한정하지 않고, 예를 들면 쇄상 탄화수소 구조, 지방족환, 방향환, 복소환 등을 들 수 있다. 이들 중, 빛에 대한 감도가 높은 점에서, 2개의 「*」 중 한쪽이 방향환에 결합되고, 다른 한쪽이 방향환, 지방족환 및 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종에 결합되어 있는 것이 바람직하고, 2개의 「*」가 전부 방향환에 결합되어 있는 것이 특히 바람직하다. 또한, 액정 표시 소자의 번인을 저감하는 관점에서는, 2개의 「*」 중 한쪽이 방향환에 결합되고, 다른 한쪽이 지방족환에 결합되어 있는 것이 바람직하고, 당해 지방족환이 사이클로헥산환인 것이 보다 바람직하다. Examples of the aromatic ring bonded with "*" in the above formula (1) include a benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring. Of these, benzene rings are preferred from the viewpoints of liquid crystal alignability and transparency. There is no particular limitation on the structure of the two "*" in the formula (1) to be bonded to the other "*", and examples thereof include a chain hydrocarbon structure, an aliphatic ring, an aromatic ring and a heterocyclic ring. Among them, in view of high sensitivity to light, one of two "*" is bonded to an aromatic ring and the other is bonded to at least one selected from the group consisting of aromatic rings, aliphatic rings and heterocyclic rings , And it is particularly preferable that the two &quot; * &quot; are all bonded to the aromatic ring. Further, from the viewpoint of reducing the burn-in of the liquid crystal display element, it is preferable that one of the two "*" is bonded to the aromatic ring and the other is bonded to the aliphatic ring, and the aliphatic ring is more preferably a cyclohexane ring .

X1은, 빛에 대한 감도의 점에서 황 원자인 것이 바람직하고, 입수 용이한 점 및 사용 가능한 모노머의 선택지가 넓은 점에서 산소 원자인 것이 바람직하다. X 1 is preferably a sulfur atom in view of sensitivity to light, and is preferably an oxygen atom in terms of availability and selectivity of available monomers.

본 발명에 있어서의 (A) 중합체는, 테트라카본산 2무수물, 테트라카본산 디에스테르 및 테트라카본산 디에스테르디할로겐화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 테트라카본산 유도체와, 디아민을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 이하, (A) 중합체로서의 폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드에 대해서 각각 설명한다. The polymer (A) in the present invention is obtained by reacting a tetracarboxylic acid derivative, which is at least one member selected from the group consisting of tetracarboxylic acid dianhydride, tetracarboxylic acid diester and tetracarboxylic acid diester dihalide, with diamine Can be obtained. Hereinafter, the polyamic acid, the polyamic acid ester and the polyimide as the (A) polymer will be described, respectively.

또한, 본 명세서에 있어서의 중합체의 「주쇄」란, 중합체 중 가장 긴 원자의 연쇄로 이루어지는 「줄기(幹)」의 부분을 말한다. 단, 이 「줄기」의 부분이 환 구조를 포함하는 것은 허용된다. 이 경우는, 당해 환 구조를 구성하는 원자가, 「줄기」의 부분을 구성하는 다른 원자에 각각 결합함으로써, 환 구조의 전체가 주쇄에 존재하게 된다. 따라서, 「구조 (Y)를 주쇄에 갖는다」란, 이 구조가 주쇄의 일부분을 구성하는 것을 말한다. 단, 상기 중합체 (A)에 있어서, 상기 구조 (Y)가 주쇄 이외의 부분, 예를 들면 측쇄(중합체의 「줄기」로부터 분기된 부분)에도 존재하는 것을 배제하는 것은 아니다. The "main chain" of the polymer in the present specification refers to a "stem" portion composed of a chain of the longest atoms among the polymers. However, it is permitted that the portion of this "stalk" includes a ring structure. In this case, the atoms constituting the ring structure are bonded to different atoms constituting part of the &quot; stem &quot;, whereby the entire ring structure is present in the main chain. Therefore, "having structure (Y) in the main chain" means that this structure constitutes a part of the main chain. However, the polymer (A) does not exclude that the structure (Y) is also present in a part other than the main chain, for example, a side chain (a part branched from the "stem" of the polymer).

<폴리암산><Polyamic acid>

본 발명에 있어서의 (A) 중합체로서의 폴리암산(이하, 「(A) 폴리암산」이라고도 함)은, 예를 들면 [i] 상기 구조 (Y)를 갖는 테트라카본산 2무수물(이하, 특정 테트라카본산 2무수물이라고도 함)을 포함하는 1종 또는 2종 이상의 테트라카본산 2무수물과, 상기 구조 (Y)를 갖지 않는 디아민을 반응시키는 방법; [ⅱ] 상기 구조 (Y)를 갖지 않는 테트라카본산 2무수물과, 상기 구조 (Y)를 갖는 디아민(이하, 특정 디아민이라고도 함)을 포함하는 1종 또는 2종 이상의 디아민을 반응시키는 방법; [ⅲ] 특정 테트라카본산 2무수물을 포함하는 1종 또는 2종 이상의 테트라카본산 2무수물과, 특정 디아민을 포함하는 1종 또는 2종 이상의 디아민을 반응시키는 방법; 등을 들 수 있다. The polyamic acid (hereinafter also referred to as "(A) polyamic acid") as the polymer (A) in the present invention can be obtained, for example, by [i] a tetracarboxylic acid dianhydride having the above structure (Y) A method in which one or more kinds of tetracarboxylic acid dianhydrides including a carboxylic acid dianhydride are reacted with a diamine having no structure (Y); [Ii] a method of reacting tetracarboxylic acid dianhydride having no structure (Y) with one or more diamines including a diamine having the structure (Y) (hereinafter also referred to as a specific diamine); [Iii] a method of reacting one or two or more tetracarboxylic acid dianhydrides containing a specific tetracarboxylic dianhydride with one or two or more diamines containing a specific diamine; And the like.

[특정 테트라카본산 2무수물] [Specific tetracarboxylic acid dianhydride]

특정 테트라카본산 2무수물은, 상기식 (1)로 나타나는 기와 2개의 산 무수물기(-CO-O-CO-)를 갖는 화합물이며, 구체적으로는, 예를 들면 하기식 (a)로 나타난다:The specific tetracarboxylic acid dianhydride is a compound having a group represented by the formula (1) and two acid anhydride groups (-CO-O-CO-), specifically, for example, the following formula (a)

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 (a) 중, X1은, 황 원자, 산소 원자 또는 -NH-이고; R3 및 R4는, 각각 독립적으로, 1개의 산 무수물기를 갖는 1가의 유기기이며, R3 및 R4 중 적어도 한쪽은 방향환을 갖고; 「-CO-X1-」 중 적어도 한쪽의 결합손은 방향환에 결합되어 있음).(Wherein (a) one, X 1 is a sulfur atom, an oxygen atom or -NH-; and R 3 and R 4 are, each independently, a monovalent organic group having one acid anhydride, R 3 and R 4 At least one of them has an aromatic ring; at least one of the bonding hands of &quot; -CO-X 1 - &quot; is bonded to the aromatic ring).

상기식 (a)의 R3 및 R4의 1가의 유기기로서는, 산 무수물기를 갖고 있으면 그 나머지의 구조는 특별히 한정하지 않는다. 산 무수물기 이외의 부분의 구조로서는, 예를 들면 탄소수 1∼40의 탄화수소기, 당해 탄화수소기의 수소 원자가 할로겐 원자 등으로 치환된 기, 또는 당해 탄화수소기의 탄소-탄소 결합 간에 「-O-」, 「-S-」, 「-CO-」, 「-CO-O-」, 「-CO-S-」, 「-SO2-」, 「-N=N-」, 「-NH-」, 「-CO-NH-」 등을 포함하는 기 등을 들 수 있다. As the monovalent organic group of R 3 and R 4 in the formula (a), the remaining structure is not particularly limited if it has an acid anhydride group. Examples of the structure of the moiety other than the acid anhydride group include a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a group in which the hydrogen atom of the hydrocarbon group is substituted with a halogen atom or the like, or a group in which the carbon-carbon bond of the hydrocarbon group is substituted with & -CO-, -CO-O-, -CO-S-, -SO 2 -, -N═N-, -NH-, Quot; -CO-NH- &quot; and the like.

여기에서, 본 명세서에 있어서의 「탄화수소기」는, 포화 탄화수소기라도 불포화 탄화수소기라도 좋으며, 쇄상 탄화수소기, 지환식 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기를 포함하는 의미이다. 또한, 「쇄상 탄화수소기」란, 주쇄에 환상 구조를 포함하지 않고, 쇄상 구조만으로 구성된 직쇄상 탄화수소기 및 분기상 탄화수소기를 의미한다. 「지환식 탄화수소기」란, 환 구조로서는 지환식 탄화수소의 구조만을 포함하고, 방향환 구조를 포함하지 않는 탄화수소기를 의미한다. 단, 지환식 탄화수소의 구조만으로 구성되어 있을 필요는 없고, 그 일부에 쇄상 구조를 갖는 것도 포함한다. 「방향족 탄화수소기」란, 환 구조로서 방향환 구조를 포함하는 탄화수소기를 의미한다. 단, 방향환 구조만으로 구성되어 있을 필요는 없고, 그 일부에 쇄상 구조나 지환식 탄화수소의 구조를 포함하고 있어도 좋다. Herein, the "hydrocarbon group" in the present specification means either a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group, and includes a chain hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group. The term &quot; chain hydrocarbon group &quot; means a straight chain hydrocarbon group and a branched hydrocarbon group which do not contain a cyclic structure in the main chain but consist only of a chain structure. The "alicyclic hydrocarbon group" means a hydrocarbon group containing only the structure of an alicyclic hydrocarbon and not containing an aromatic ring structure as the ring structure. However, it is not always necessary to be constituted by only the structure of alicyclic hydrocarbons, and some of them include those having a chain structure. The "aromatic hydrocarbon group" means a hydrocarbon group having an aromatic ring structure as a ring structure. However, it need not be constituted only of an aromatic ring structure, and a part thereof may contain a chain structure or a structure of an alicyclic hydrocarbon.

상기 R3 및 R4가 갖는 산 무수물기는 방향환에 결합되어 있는 것이 바람직하고, 당해 방향환이 벤젠환 또는 나프탈렌환인 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는, R3 및 R4가, 하기식 (a1-1)∼식 (a1-3)의 각각으로 나타나는 기이거나, 또는 그들 중 어느 것을 갖는 기인 것이 바람직하다:The acid anhydride group of R 3 and R 4 is preferably bonded to an aromatic ring, more preferably a benzene ring or naphthalene ring. Specifically, it is preferable that R 3 and R 4 are groups represented by each of the following formulas (a1-1) to (a1-3), or a group having any of them:

Figure pat00004

Figure pat00004

(식 중, 「*」는, 「-O-C(=O)-」, 「-S-C(=O)-」 또는 「-NH-CO-」에 결합되는 결합손을 나타냄).(Wherein "*" represents a bonding hand bonded to "-O-C (═O) -", "-S-C (═O) -" or "-NH-CO-").

R3 및 R4는, 액정 배향성을 높이는 관점에서, 상기 중 식 (a1-1) 또는 식 (a1-3)으로 나타나는 기를 갖고 있는 것이 보다 바람직하고, 식 (a1-1)로 나타나는 기를 갖고 있는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상기식 (a1-1)∼식 (a1-3)의 각각에 있어서의 결합손은, 「-O-C(=O)-」, 「-S-C(=O)-」 또는 「-NH-CO-」의 카보닐기에 결합되어 있는 것이 바람직하다. It is more preferable that R 3 and R 4 have a group represented by the above formula (a1-1) or (a1-3) from the viewpoint of enhancing liquid crystal alignability, and more preferably a group represented by formula Is more preferable. The bonding hands in each of the above formulas (a1-1) to (a1-3) may be bonded to each other in the form of -OC (= O) -, -SC (= O) - &quot; carbonyl group.

R3 및 R4 중 한쪽의 기가, 상기식 (a1-1)∼식 (a1-3)의 어느 것으로 나타나는 기인 경우, 한쪽의 기로서는 하기식 (a2)로 나타나는 기 등을 들 수 있다:When one of R 3 and R 4 is a group represented by any of the formulas (a1-1) to (a1-3), one group may be a group represented by the following formula (a2)

Figure pat00005
Figure pat00005

(식 (a2) 중, Ar1은, 벤젠환 또는 나프탈렌환이며, X2는, -O-CO-*3, -S-CO-*3, -NH-CO-*3, -O-, -CO-O-*3, -CO-S-*3 또는 -CO-(단, 「*3」은, Ar1에 결합되는 결합손을 나타냄)이고; R5 및 R7은, 각각 독립적으로, 사이클로헥실렌기, 페닐렌기 또는 비페닐렌기이며, 이들은 환 부분에 치환기를 갖고 있어도 좋고; R6은, n1=n3=1의 경우, 탄소수 1∼20의 2가의 쇄상 탄화수소기, 당해 쇄상 탄화수소기의 탄소-탄소 결합 간 또는 탄소 원자에 인접하는 위치에 「-O-」를 포함하는 2가의 기, -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -CO-S-, -SO2-, -N=N-, -NH- 또는 -CO-NH-이며, n1=0 또는 n3=0의 경우, 탄소수 1∼20의 2가의 쇄상 탄화수소기 또는 당해 쇄상 탄화수소기의 탄소-탄소 결합 간에 「-O-」를 포함하는 2가의 기이고; n1, n2, n3 및 m1은, 각각 독립적으로 0 또는 1이고; 「*」는 결합손을 나타냄).(Wherein (a2) of, Ar 1 is a benzene ring or a naphthalene ring, X is 2, -O-CO- * 3, -S -CO- * 3, -NH-CO- * 3, -O-, -CO-O- * 3 , -CO-S- * 3 or -CO- (* 3 represents a bonding hand bonded to Ar 1 ), R 5 and R 7 are each independently , cyclohexylene group, phenylene group, or a non-phenyl group, which may have a substituent on the ring portion; R 6 is, in the case of n1 = n3 = 1, a divalent chain hydrocarbon of 1 to 20 carbon atoms, the hydrocarbon chain art -O-, -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -CO-S-, or -CO- , -SO 2 -, -N═N-, -NH- or -CO-NH-, and when n 1 = 0 or n 3 = 0, the divalent straight chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the carbon of the chain hydrocarbon N1, n2, n3 and m1 are each independently 0 or 1, and &quot; * &quot; denotes a bonding bond.

상기식 (a2)의 Ar1은, 액정 배향성 및 투명성이 양호한 점에서 벤젠환인 것이 바람직하다. X2는, 빛에 대한 감도가 양호한 점에서, -O-CO-*3, -S-CO-*3, -CO-O-*3 또는 -CO-S-*3인 것이 바람직하고, -O-CO-*3 또는 -S-CO-*3인 것이 보다 바람직하다. Ar 1 in the formula (a2) is preferably a benzene ring in view of good liquid crystal alignability and transparency. X 2 is preferably -O-CO- * 3 , -S-CO- * 3 , -CO-O- * 3 or -CO-S- * 3 in view of good sensitivity to light, O-CO- * 3 or -S-CO- * 3 .

R6에 있어서의 탄소수 1∼20의 2가의 쇄상 탄화수소기로서는, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판디일기, 부탄디일기, 펜탄디일기, 헥산디일기, 헵탄디일기, 옥탄디일기, 노난디일기, 데칸디일기, 도데칸디일기 등을 들 수 있고, 이들은 직쇄상인 것이 바람직하다. R6을 유연성이 높은 구조로 함으로써, 포스트베이킹시에 있어서의 배향막의 가열 재배향성을 늘리는 것이 가능해진다. R6의 바람직한 구조로서는, 예를 들면 하기식 (3)으로 나타나는 구조 등을 들 수 있다:Examples of the divalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R 6 include a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butane diyl group, a pentanediyl group, a hexanediyl group, a heptanediyl group, an octanediyl group, A nonanediyl group, a decanediyl group, and a dodecanediyl group, and they are preferably linear. By making R 6 a highly flexible structure, it is possible to increase the heat redistribution property of the orientation film during post-baking. The preferred structure of R 6 is, for example, a structure represented by the following formula (3):

Figure pat00006
Figure pat00006

(식 (3) 중, k 및 i는, 각각 독립적으로 0 또는 1이며, l는 2∼9의 정수이며, j는 1∼4의 정수이고; 「*」는 각각 결합손을 나타냄).(In the formula (3), k and i are each independently 0 or 1, 1 is an integer of 2 to 9, j is an integer of 1 to 4, and &quot; * &quot;

식 (3)에 있어서, j가 2 이상인 경우, l 및 i는, 반복 단위 간에서 동일해도 상이해도 좋다. 상기식 (3)으로 나타나는 기는, 상기식 (a2)의 n1이 0인 경우에는 X2에 대하여 알칸디일기에 결합되어 있는 것이 바람직하고, n3=0인 경우에는, 상기식 (a) 중 -CO-X1-에 대하여 알칸디일기에 결합되어 있는 것이 바람직하다. In the formula (3), when j is 2 or more, l and i may be the same or different between repeating units. In the formula groups represented by (3), in the case when the formula of n1 is 0, the (a2) is preferably bonded to the alkanediyl group with respect to X 2, which n3 = 0, the expression (a) - CO-X &lt; 1 &gt; - is preferably bonded to an alkanediyl group.

R5 및 R7은, 빛에 대한 반응성이 높은 점에서, 페닐렌기 또는 비페닐렌기인 것이 바람직하고, 액정 표시 소자의 번인을 저감할 수 있는 점에서, 사이클로헥실렌기인 것이 바람직하다. R 5 and R 7 are preferably a phenylene group or a biphenylene group in view of high reactivity to light, and are preferably cyclohexylene groups in that the burn-in of a liquid crystal display element can be reduced.

R5, R7의 환 부분이 치환기를 갖는 경우, 당해 치환기로서는, 예를 들면 불소 원자, 탄소수 1∼3의 알킬기, 탄소수 1∼3의 알콕시기, 탄소수 1∼3의 플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 치환기의 위치는, R5에 대해서는 X2에 대하여, R7에 대해서는 「-CO-X1-」에 대하여, 오르토 위치, 메타 위치, 파라 위치 중 어느 것이라도 좋다. 단, 「-CO-O-」 또는 「-CO-S-」가 벤젠환에 결합되는 경우, 빛에 대한 감도가 양호해지는 점에서, 당해 치환기는 오르토 위치인 것이 바람직하다. When the ring part of R 5 and R 7 has a substituent, examples of the substituent include a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, . The position of the substituent may be any of ortho, meta, and para positions relative to X 2 for R 5 and to -CO-X 1 - for R 7 . However, when "-CO-O-" or "-CO-S-" is bonded to the benzene ring, it is preferable that the substituent is in ortho position in that sensitivity to light is improved.

n1 및 n3은, 적어도 어느 하나가 1인 것이 바람직하다. n2는, 액정 배향성을 개선하는 관점에서 1인 것이 바람직하고, 광반응성을 개선하는 관점에서 0인 것이 바람직하다. m1은, 광조사에 의한 이방성의 발현 효과를 높이는 점에서, 1인 것이 바람직하다. It is preferable that at least one of n1 and n3 is 1. n2 is preferably 1 from the viewpoint of improving the liquid crystal alignability, and is preferably 0 from the viewpoint of improving the photoreactivity. m1 is preferably 1 in order to enhance the effect of manifesting anisotropy by light irradiation.

또한, (A) 중합체를 포함하는 도막이 광조사에 의해 액정 배향능을 발현하는 이유는 확실하지 않고, 주로 광프리스 전위반응에 기인하는지, 기 「-CO-X1-」의 광분해에 기인하는지, 혹은 그 양자에 기인하는지는 불명하다. 따라서, 「-CO-O-」, 「-CO-S-」 또는 「-CO-NH-」가 벤젠환에 결합되는 경우에 있어서, 당해 기에 대한 오르토 위치에 치환기가 있음으로써 빛에 대한 감도가 높아지는 이유는 확실하지 않지만, 가령 광분해가 우위에 발생하고 있다고 하면, 벤젠환으로의 치환기의 도입에 의해 전위하기가 어려워지고, 그 결과, 광분해가 촉진된 것은 아닐까 추측된다. Further, (A) The reason for expressing the liquid crystal aligning capability by the coating film irradiated with light containing polymer is not sure, that mainly due to the optical Friis potential response, group "-CO-X 1 -" that caused by the photolysis of, Or both. Therefore, in the case where "-CO-O-", "-CO-S-" or "-CO-NH-" is bonded to the benzene ring, the substituent at the ortho position to the group has sensitivity to light Although the reason for the increase is not clear, if photodegradation occurs dominantly for example, it is presumed that the introduction of a substituent to the benzene ring makes it difficult to dislocate and, as a result, photolysis is promoted.

상기식 (a2)로 나타나는 기의 바람직한 구체예로서는, 예를 들면 하기식 (a2-1)∼식 (a2-46)의 각각으로 나타나는 기 등을 들 수 있다:Specific examples of the group represented by the formula (a2) include groups represented by each of the following formulas (a2-1) to (a2-46), and the like:

Figure pat00007
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Figure pat00008
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Figure pat00009
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Figure pat00010
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Figure pat00011
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(식 중, 「*」는, X1에 결합되는 결합손을 나타냄).(Wherein &quot; * &quot; represents a bonding hand bonded to X &lt; 1 &gt;).

특정 테트라카본산 2무수물의 구체예로서는, 예를 들면 하기식 (a-1)∼식 (a-37)의 각각으로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다. 특정 테트라카본산 2무수물로서는, 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the specific tetracarboxylic acid dianhydride include compounds represented by the following formulas (a-1) to (a-37), respectively. As specific tetracarboxylic acid dianhydrides, one kind or two or more kinds of them may be used in combination.

Figure pat00012
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Figure pat00013
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Figure pat00014
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Figure pat00015
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Figure pat00016
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상기 중, 빛에 대한 감도가 높은 점에서, 상기식 (a-1)∼식 (a-14)의 각각으로 나타나는 화합물이 바람직하고, 상기식 (a-1)∼식 (a-11), 식 (a-13), 식 (a-14)의 각각으로 나타나는 화합물이 보다 바람직하다. 또한, 적당한 강직성과 유연성을 중합체에 부여함으로써 포스트베이킹시의 가열에 의해 배향막의 재배향성을 높게 할 수 있는 점에서, 상기식 (a-15)∼식 (a-24)인 것이 바람직하다. 또한, 광반응성의 관점에서, 상기식 (a-5), 식 (a-25)∼식 (a-29)의 각각으로 나타나는 화합물로 하는 것이 바람직하다. (A-1) to (a-14) from the viewpoint of high sensitivity to light among the above-mentioned compounds, More preferably a compound represented by each of formulas (a-13) and (a-14). (A-15) to (a-24) from the viewpoint that it is possible to impart appropriate rigidity and flexibility to the polymer, thereby increasing the orientation of the orientation film by heating during post-baking. From the viewpoint of photoreactivity, it is preferable to use a compound represented by each of the above-mentioned formula (a-5) and (a-25) to (a-29).

[그 외의 테트라카본산 2무수물] [Other tetracarboxylic acid dianhydrides]

상기 [i] 및 [ⅲ] 방법의 경우, 폴리암산의 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물로서는, 특정 테트라카본산 2무수물만을 이용해도 좋고, 특정 테트라카본산 2무수물 이외의 화합물(이하, 「그 외의 테트라카본산 2무수물」이라고도 함)을 병용해도 좋다. 상기 [i]∼[ⅲ] 방법에 있어서 사용할 수 있는 그 외의 테트라카본산 2무수물로서는, 예를 들면 지방족 테트라카본산 2무수물, 지환식 테트라카본산 2무수물, 방향족 테트라카본산 2무수물 등을 들 수 있다. In the case of the above methods [i] and [iii], as the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polyamic acid, specific tetracarboxylic acid dianhydrides may be used, and compounds other than the specific tetracarboxylic acid dianhydrides Other tetracarboxylic acid dianhydride ") may be used in combination. Examples of other tetracarboxylic acid dianhydrides which can be used in the above methods [i] to [iii] include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, aromatic tetracarboxylic dianhydrides, etc. .

이들의 구체예로서는, 지방족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 1,2,3,4-부탄테트라카본산 2무수물, 하기식 (ar-6)∼식 (ar-9)의 각각으로 나타나는 화합물, 1,2,5,6-헥산테트라카본산 2무수물, 1,1,2,2-에텐테트라카본산 2무수물, 하기식 (ar-Ⅰ)로 나타나는 화합물, 하기식 (ar-Ⅱ)로 나타나는 화합물 등을; Specific examples thereof include aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, compounds represented by the following formulas (ar-6) to (ar-9) , 1,2,5,6-hexanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,1,2,2-ethenetetracarboxylic acid dianhydride, a compound represented by the following formula (ar-I), a compound represented by the following formula (ar- Compounds that appear;

지환식 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-8-메틸-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 3-옥사바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온-6-스피로-3'-(테트라하이드로푸란-2',5'-디온), 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카본산 무수물, 3,5,6-트리카복시-2-카복시메틸노르보르난-2:3,5:6-2무수물, 2,4,6,8-테트라카복시바이사이클로[3.3.0]옥탄-2:4,6:8-2무수물, 4,9-디옥사트리사이클로[5.3.1.02,6]운데칸-3,5,8,10-테트라온, 사이클로헥산테트라카본산 2무수물, 사이클로펜탄테트라카본산 2무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 하기식 (ac-1)∼식 (ac-30)의 각각으로 나타나는 화합물 등을; As the alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, for example, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4, 5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2- c] furan-1,3-dione, , 5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [ (Tetrahydrofuran-2 ', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3 ' 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane-2: 3,5: 6-2 anhydride, 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2: 4,6: 8-2 anhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane- , 5,8,10-tetraone, cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4 -Cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, compounds represented by each of the following formulas (ac-1) to (ac-30), and the like;

방향족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 피로멜리트산 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물, 하기식 (ar-1)∼(ar-5)의 각각으로 나타나는 화합물 등을; Examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include pyromellitic dianhydride, 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride and the following formulas (ar-1) to (ar-5) Compounds that appear;

각각 들 수 있는 것 외에, 일본공개특허공보 2010-97188호에 기재된 테트라카본산 2무수물 등을 이용할 수 있다. 또한, 상기 그 외의 테트라카본산 2무수물은, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Tetracarboxylic acid dianhydride described in JP-A-2010-97188, and the like can be used. The other tetracarboxylic acid dianhydrides may be used singly or in combination of two or more.

Figure pat00017
Figure pat00017

Figure pat00018
Figure pat00018

(식 (ar-Ⅰ) 및 식 (ar-Ⅱ) 중, Z1∼Z4는, 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 알칸디일기, 지방족환, 방향환 또는 복소환이며, m3∼m5는 각각 독립적으로 0 또는 1이고; 단, m3∼m5가 동시에 0이 되는 일은 없음);(In the formulas (ar-I) and (ar-II), Z 1 to Z 4 each independently represent an alkanediyl group, an aliphatic ring, an aromatic ring or a heterocyclic ring having 1 to 20 carbon atoms, Independently 0 or 1, with the proviso that m3 to m5 are not simultaneously 0;

Figure pat00019
Figure pat00019

Figure pat00020
Figure pat00020

Figure pat00021
Figure pat00021

상기식 (ar-Ⅰ)에 있어서의 「-[Z1]m3-[Z2]m4-[Z3]m5-」로 나타나는 2가의 기 및, 상기식 (ar-Ⅱ)에 있어서의 Z4는, 탄소수 1∼10의 알칸디일기, 페닐렌기 또는 사이클로헥실렌기인 것이 바람직하다. In the formula (ar-Ⅰ) "- [Z 1] m3 - [ Z 2] m4 - [Z 3] m5 - " Z 4 of the divalent group and the formula (ar-Ⅱ) represented by Is preferably an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group or a cyclohexylene group.

상기 (ar-Ⅰ)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 상기식 (ar-6), 하기식 (ar-10)∼식 (ar-12)의 각각으로 나타나는 화합물 등을 들 수 있고, 상기 (ar-Ⅱ)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 하기식 (ar-13) 및 식 (ar-14)의 각각으로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by the formula (ar-I) include compounds represented by the formula (ar-6) and the compounds represented by the following formulas (ar-10) to (ar-12) Specific examples of the compound represented by the formula (ar-II) include compounds represented by the following formulas (ar-13) and (ar-14), respectively.

Figure pat00022
Figure pat00022

상기 그 외의 테트라카본산 2무수물로서는, 액정 표시 소자의 전기 특성을 양호하게 하는 관점에서, 방향족 테트라카본산 2무수물 및 질소 원자를 갖는 테트라카본산 2무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 그 외의 테트라카본산 2무수물로서 방향족 테트라카본산 2무수물을 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물의 전체 100중량부에 대하여, 3∼90중량부로 하는 것이 바람직하고, 5∼80중량부로 하는 것이 보다 바람직하다. The other tetracarboxylic acid dianhydrides include at least one selected from the group consisting of aromatic tetracarboxylic dianhydrides and tetracarboxylic dianhydrides having nitrogen atoms from the viewpoint of improving the electric characteristics of the liquid crystal display element . When other aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides are used as tetracarboxylic dianhydrides, the content thereof is preferably 3 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the tetracarboxylic dianhydrides used for the synthesis , More preferably 5 to 80 parts by weight.

그 외의 테트라카본산 2무수물로서 질소 원자를 갖는 테트라카본산 2무수물을 사용하는 경우의 바람직한 구체예로서는, 예를 들면 상기식 (ar-Ⅰ)로 나타나는 화합물, 식 (ar-Ⅱ)로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중, 상기식 (ar-6), 식 (ar-10)∼식 (ar-14)의 각각으로 나타나는 화합물이 보다 바람직하고, 상기식 (ar-6), 식 (ar-13) 및 식 (ar-14)의 각각으로 나타나는 화합물이 더욱 바람직하고, 상기식 (ar-14)로 나타나는 화합물이 특히 바람직하다. Specific examples of the tetracarboxylic dianhydride having a nitrogen atom as the other tetracarboxylic dianhydride include compounds represented by the formula (ar-I) and compounds represented by the formula (ar-II) . Of these, compounds represented by each of the above-mentioned formulas (ar-6) and (ar-10) to (ar-14) are more preferable, and the compounds represented by formulas (ar- (ar-14) are more preferable, and compounds represented by the formula (ar-14) are particularly preferable.

그 외의 테트라카본산 2무수물로서 질소 원자를 갖는 테트라카본산 2무수물을 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물의 전체 100몰부에 대하여, 3∼80몰부로 하는 것이 바람직하고, 5∼70몰부로 하는 것이 보다 바람직하다. When tetracarboxylic acid dianhydride having a nitrogen atom as the other tetracarboxylic dianhydride is used, the content thereof is preferably 3 to 80 parts by mol per 100 parts by mol of the total amount of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis And more preferably 5 to 70 moles.

또한, 그 외의 테트라카본산 2무수물로서는, 광분해 반응의 병용에 의해 광감도를 높이는 관점에서, 사이클로부탄 골격을 갖는 테트라카본산 2무수물을 바람직하게 사용할 수 있고, 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물 및 1,3-디메틸-1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물을 보다 바람직하게 사용할 수 있다. 그 외의 테트라카본산 2무수물로서 사이클로부탄 골격을 갖는 테트라카본산 2무수물을 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물의 전체 100몰부에 대하여, 5몰부 이상으로 하는 것이 바람직하고, 10몰부 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. As other tetracarboxylic acid dianhydrides, tetracarboxylic acid dianhydrides having a cyclobutane skeleton can be preferably used from the viewpoint of enhancing the photosensitivity by the combined use of the photolytic reaction, and 1,2,3,4-cyclobutane Tetracarboxylic acid dianhydride and 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride are more preferably used. When tetracarboxylic acid dianhydride having a cyclobutane skeleton is used as the other tetracarboxylic acid dianhydride, the content of the tetracarboxylic acid dianhydride is preferably 5 moles or more per 100 moles of the total tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis And more preferably 10 moles or more.

상기 [i] 방법의 경우, 특정 테트라카본산 2무수물의 사용 비율은, 본 발명의 효과를 충분히 얻는 관점에서, 폴리암산의 합성에 이용하는 테트라카본산 2무수물의 전체량에 대하여, 50몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 60몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하고, 70몰% 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다. In the case of the [i] method, the use ratio of the specific tetracarboxylic acid dianhydride is preferably at least 50 mol%, more preferably at least 50 mol%, based on the total amount of the tetracarboxylic acid dianhydride used for the synthesis of the polyamic acid, , More preferably at least 60 mol%, and still more preferably at least 70 mol%.

또한, 상기 [ⅲ] 방법의 경우의 특정 테트라카본산 2무수물의 사용 비율은, 폴리암산의 합성에 이용하는 테트라카본산 2무수물의 전체량에 대하여, 30몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 40몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하고, 50몰% 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다. The proportion of the specific tetracarboxylic acid dianhydride in the case of the [iii] method is preferably 30% by mole or more, more preferably 40% by mole or more based on the total amount of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polyamic acid. Or more, and more preferably 50 mol% or more.

상기식 (3)으로 나타나는 구조를 갖는 테트라카본산 2무수물을 사용하는 경우, 그 사용 비율은, 폴리암산의 합성에 이용하는 테트라카본산 2무수물의 전체량에 대하여, 1몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 5몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하고, 10몰%로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 당해 사용 비율의 상한은 특별히 제한되지 않고, 100몰% 이하의 범위에서 임의로 설정할 수 있다. When the tetracarboxylic acid dianhydride having the structure represented by the formula (3) is used, the use ratio thereof is preferably 1 mol% or more with respect to the total amount of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polyamic acid , More preferably 5 mol% or more, and further preferably 10 mol%. The upper limit of the use ratio is not particularly limited and may be arbitrarily set within a range of 100 mol% or less.

[특정 디아민] [Specific diamine]

특정 디아민은, 상기식 (1)로 나타나는 기와, 2개의 1급 아미노기를 갖는 화합물이며, 예를 들면 하기식 (b)로 나타난다:The specific diamine is a compound having a group represented by the formula (1) and two primary amino groups, for example, represented by the following formula (b):

Figure pat00023
Figure pat00023

(식 (b) 중, X1은, 황 원자, 산소 원자 또는 -NH-이고; R8 및 R9는, 각각 독립적으로 2가의 유기기이며, R8 및 R9 중 적어도 한쪽은 방향환을 갖고; 「-CO-X1-」에 있어서의 적어도 한쪽의 결합손은 방향환에 결합되어 있음).(Formula (b) of, X 1 is a sulfur atom, an oxygen atom or -NH-; R 8 and R 9 are each a divalent organic group, each independently, at least one of R 8 and R 9 is an aromatic ring And at least one of the bonding hands in &quot; -CO-X 1 - &quot; is bonded to the aromatic ring).

상기식 (b)에 있어서의 R8 및 R9의 2가의 유기기로서는, 예를 들면 탄소수 1∼30의 탄화수소기, 당해 탄화수소기의 수소 원자가 할로겐 원자 등으로 치환된 기, 당해 탄화수소기의 탄소-탄소 결합 간에 「-O-」, 「-S-」, 「-CO-」, 「-CO-O-」, 「-CO-S-」, 「-N=N-」등을 포함하는 기, 복소환을 갖는 기 등을 들 수 있다. 기 「-R8-NH2」 및 기 「-R9-NH2」의 바람직한 구체예로서는, 예를 들면 하기식 (b2)로 나타나는 기 등을 들 수 있다. 또한, 기 「-R8-NH2」 및 기 「-R9-NH2」는 서로 동일해도 상이해도 좋다.Examples of the divalent organic groups represented by R 8 and R 9 in the formula (b) include a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, a group in which the hydrogen atom of the hydrocarbon group is substituted with a halogen atom or the like, -Carbon bond includes a group including -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -CO-S-, -N = N- , A group having a heterocyclic ring, and the like. Preferable specific examples of the group -R 8 -NH 2 and the group -R 9 -NH 2 include a group represented by the following formula (b2). The group "-R 8 -NH 2 " and the group "-R 9 -NH 2 " may be the same or different from each other.

Figure pat00024
Figure pat00024

(식 (b2) 중, A1은, 페닐렌기, 비페닐렌기, 사이클로헥실렌기, 바이사이클로헥실렌기, -A3-A4-** 또는 -A4-A3-**(단, A3은 페닐렌기, A4는 사이클로헥실렌기이고; 「**」는 1급 아미노기와의 결합손을 나타냄)이고, X4는, -O-CO-*4, -S-CO-*4, -O-, -CO-O-*4, -CO-S-*4, -CO-, -N=N-, -C=C- 또는 -C≡C-(단, 「*4」는, A1에 결합되는 결합손을 나타냄)이고; R10은, 페닐렌기, 나프틸렌기, 사이클로헥실렌기 또는 질소 함유 복소환기이며, 이들은 환 부분에 치환기를 갖고 있어도 좋고; R11은, 탄소수 1∼20의 2가의 쇄상 탄화수소기, 또는 당해 쇄상 탄화수소기의 탄소-탄소 결합 간 또는 탄소 원자에 인접하는 위치에 「-O-」를 포함하는 2가의 기이고; R12는, 페닐렌기, 나프틸렌기 또는 사이클로헥실렌기이며, 이들은 환 부분에 치환기를 갖고 있어도 좋고; n4, n5 및 n6은, 각각 독립적으로 0 또는 1이며, m2는 0∼2의 정수이고; 단, R11이, 쇄상 탄화수소기의 탄소 원자에 인접하는 위치에 「-O-」를 포함하는 2가의 기인 경우, n4=n6=1이고; 「*」는 결합손을 나타냄).(In the formula (b2), A 1 represents a phenylene group, a biphenylene group, a cyclohexylene group, a bicyclohexylene group, -A 3 -A 4 - ** or -A 4 -A 3 - ** , A 3 represents a phenylene group, A 4 represents a cyclohexylene group, "**" represents a bond to a primary amino group), X 4 represents -O-CO-, -S- * 4, -O-, -CO-O- * 4, -CO-S- * 4, -CO-, -N = N-, -C = C- or -C≡C- (However, the "* 4 "it is represents a bond hand coupled to a 1) and; R 10 is a phenylene group, a naphthylene group, a cyclohexyl and xylene group or a heterocyclic group containing a nitrogen, which may have a substituent on the ring portion; R 11 is , A divalent straight chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a divalent group containing "-O-" at a position adjacent to the carbon-carbon bond of the chain hydrocarbon group or the carbon atom of the chain hydrocarbon group, and R 12 represents a phenylene group , Naphthylene group or cyclohexylene group, and they may have a substituent at the ring part; n4, n5 and n6 may be the same or different, Is 0 or 1, each independently, m2 is an integer of 0 to 2; when only, R 11 is divalent group containing the "-O-" in a position adjacent to the carbon atoms of chain hydrocarbon group, n4 = n6 = 1; &quot; * &quot; represents a combined hand).

상기식 (b2)의 A1은, 빛에 대한 감도 향상의 관점에서, 페닐렌기 또는 비페닐렌기인 것이 바람직하고, 배향 규제력의 관점에서, 바이사이클로헥실렌기, -A3-A4-* 또는 -A4-A3-*인 것이 바람직하다. X4는, -O-CO-*4, -S-CO-*4, -CO-O-*4 또는 -CO-S-*4인 것이 바람직하고, -O-CO-*4 또는 -S-CO-*4인 것이 보다 바람직하다. A 1 in the formula (b2) is preferably a phenylene group or a biphenylene group from the viewpoint of improving the sensitivity to light, and from the viewpoint of the alignment regulating ability, a bicyclohexylene group, -A 3 -A 4 - Or -A 4 -A 3 - *. X 4 is, -O-CO- * 4, -S -CO- * 4, -CO-O- * 4 or a desirable and -CO-S- * 4, -O- CO- * 4 , or -S More preferably -CO- * 4 .

R10 및 R12의 환 부분이 치환기를 갖는 경우, 당해 치환기로서는, 예를 들면 불소 원자, 탄소수 1∼3의 알킬기, 탄소수 1∼3의 알콕시기, 탄소수 1∼3의 플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 치환기의 위치는 특별히 한정하지 않지만, R10 및 R12의 벤젠환에 「-CO-O-」, 「-CO-S-」 또는 「-CO-NH-」가 결합되어 있는 경우, 「-CO-O-」, 「-CO-S-」 또는 「-CO-NH-」에 대하여 오르토 위치인 것이 바람직하다. When the ring part of R 10 and R 12 has a substituent, examples of the substituent include a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, . When the -CO-O-, -CO-S- or -CO-NH- is bonded to the benzene ring of R 10 and R 12 , the position of the substituent is not particularly limited, -O- "," -CO-S- "or" -CO-NH- ".

R11에 대해서는, 상기식 (a2) 중의 R6의 설명을 적용할 수 있다. As to R 11 , the description of R 6 in the above formula (a2) can be applied.

n4 및 n6은, 적어도 어느 하나가 1인 것이 바람직하다. m2는, 광조사에 의한 이방성의 발현을 적합하게 행하게 하는 관점에서 1 또는 2인 것이 바람직하고, 배향 규제력의 관점에서 0인 것이 바람직하다. It is preferable that at least one of n4 and n6 is 1. m2 is preferably 1 or 2 from the viewpoint of appropriately performing the anisotropy manifestation by light irradiation, and preferably 0 from the viewpoint of the alignment regulating force.

상기식 (b2)로 나타나는 기의 바람직한 구체예로서는, 예를 들면 하기식 (b2-1)∼식 (b2-26)의 각각으로 나타나는 기 등을 들 수 있다: Specific examples of the groups represented by the above formula (b2) include, for example, groups represented by the following formulas (b2-1) to (b2-26), and the like:

Figure pat00025
Figure pat00025

Figure pat00026
Figure pat00026

Figure pat00027
Figure pat00027

(식 중, 「*」는 결합손을 나타냄).(Where &quot; * &quot; represents a combined hand).

상기 중, 액정 분자의 배향 규제력의 관점에서는, 상기식 (b2)로 나타나는 기를 상기식 (b2-24)∼식 (b2-26)의 각각으로 나타나는 기로 하는 것이 바람직하다. Among the above, it is preferable that the group represented by the formula (b2) is a group represented by each of the formulas (b2-24) to (b2-26) from the viewpoint of the alignment regulating force of the liquid crystal molecules.

상기 특정 디아민으로서 구체적으로는, 예를 들면 4-아미노페닐-4'-아미노벤조에이트(하기식 (b-1)로 나타나는 화합물), 3,3'-디메틸-4-아미노페닐-4'-아미노벤조에이트, 3,3',5,5'-테트라메틸-4-아미노페닐-4'-아미노벤조에이트, 3-메틸-4-아미노페닐-4'-아미노벤조에이트, 하기식 (b-2)∼식 (b-42)의 각각으로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 특정 디아민으로서는, 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the specific diamine include 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate (a compound represented by the following formula (b-1)), 3,3'- Aminobenzoate, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4-aminophenyl-4'-aminobenzoate, 3-methyl- 2) to (b-42), and the like. As the specific diamine, one kind or two or more kinds of them may be used in combination.

Figure pat00028
Figure pat00028

Figure pat00029
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Figure pat00030
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Figure pat00031
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Figure pat00032
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상기 중, 빛에 대한 감도가 높은 점에서, 「-방향환-CO-X1-방향환-」의 구조를 갖는 디아민이 바람직하고, 구체적으로는, 상기식 (b-1), 식 (b-3)∼식 (b-13), 식 (b-15)∼식 (b-20), 식 (b-25)∼식 (b-27)의 각각으로 나타나는 화합물이 바람직하다. 또한, 액정 분자의 배향 규제력이 높은 점에서, 상기식 (b-28)∼식 (b-38)의 각각으로 나타나는 화합물이 바람직하다. Of these, diamines having a structure of "-oriented ring -CO-X 1 -aromatic ring-" are preferable from the viewpoint of high sensitivity to light. Specifically, the diamines represented by formulas (b-1), (B-3) to (b-13), (b-15) to (b-20) and (b-25) to (b-27). Compounds represented by each of the above formulas (b-28) to (b-38) are preferable from the viewpoint of high alignment control force of liquid crystal molecules.

[그 외의 디아민] [Other diamines]

상기 [ⅱ] 및 [ⅲ]의 방법의 경우, 폴리암산의 합성에 사용하는 디아민으로서는, 상기의 특정 디아민만을 이용해도 좋고, 상기의 특정 디아민 이외의 디아민(이하, 「그 외의 디아민」이라고도 함)을 병용해도 좋다. 상기 [i] ∼[ⅲ] 방법에 있어서 사용할 수 있는 그 외의 디아민으로서는, 지방족 디아민, 지환식 디아민, 방향족 디아민, 디아미노오르가노실록산 등을 들 수 있다. In the case of the methods [ii] and [iii] above, as the diamine to be used for the synthesis of the polyamic acid, only the above-mentioned specific diamine may be used, and diamines other than the above specific diamines (hereinafter also referred to as "other diamines" May be used in combination. Examples of other diamines that can be used in the above methods [i] to [iii] include aliphatic diamines, alicyclic diamines, aromatic diamines, diaminoorganosiloxanes, and the like.

이들의 구체예로서는, 지방족 디아민으로서, 예를 들면 메타자일릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민 등을; 지환식 디아민으로서, 예를 들면 1,4-디아미노사이클로헥산, 4,4'-메틸렌비스(사이클로헥실아민), 1,3-비스(아미노메틸)사이클로헥산 등을; Specific examples thereof include aliphatic diamines such as meta-xylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine and the like; As the alicyclic diamine, for example, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane and the like;

방향족 디아민으로서, 예를 들면 p-페닐렌디아민, 4,4'-에틸렌디아닐린, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 4,4'-(p-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 2,6-디아미노피리딘, 3,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리미딘, 3,6-디아미노아크리딘, 3,6-디아미노카르바졸, N-메틸-3,6-디아미노카르바졸, N,N'-비스(4-아미노페닐)-벤지딘, N,N'-비스(4-아미노페닐)-N,N'-디메틸벤지딘, 1,4-비스-(4-아미노페닐)-피페라진, 도데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 테트라데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠,As the aromatic diamine, for example, p-phenylenediamine, 4,4'-ethylenedianiline, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 1,5- Diaminobiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4'-diamino Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 '- (p-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 4,4' - (m- phenylenediisopropylidene) bisaniline, (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6- diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 2,4- N, N'-bis (4-aminophenyl) -benzidine, 3,6-diamino acridine, 3,6-diaminocarbazole, - bis (4-aminophenyl) -N, N'-dimethylbenzene (4-aminophenyl) -piperazine, dodecaneoxy-2,4-diaminobenzene, tetradecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy- Diaminobenzene,

콜레스타닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 콜레스테닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 콜레스타닐옥시-2,4-디아미노벤젠, 콜레스테닐옥시-2,4-디아미노벤젠, 3,5-디아미노벤조산 콜레스타닐, 3,5-디아미노벤조산 콜레스테닐, 3,5-디아미노벤조산 라노스타닐, 3,6-비스(4-아미노벤조일옥시)콜레스탄, 3,6-비스(4-아미노페녹시)콜레스탄, 4-(4'-트리플루오로메톡시벤조일옥시)사이클로헥실-3,5-디아미노벤조에이트, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, {4-[2-(3,5-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-에탄온, 3,4-디아미노벤조페논, {4-[2-(3,5-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-페닐메탄온, {4-[2-(2,4-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-페닐메탄온, {4-[2-(2,4-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-p-톨루일-메탄온, {4-[2-(2,4-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-o-톨루일-메탄온, 2,7-디아미노플루오레논, 2,7-디아미노플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌,Diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy- Benzene, cholestanyl 3,5-diaminobenzoate, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, lanthanil 3,5-diaminobenzoate, 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholestane, (4-aminophenoxy) cholestane, 4- (4'-trifluoromethoxybenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 4,4'-diaminobenzophenone, Diaminobenzophenone, {4- [2- (3,5-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -ethanone, 3,4-diaminobenzophenone, Phenyl} -phenylmethanone, {4- [2- (2,4-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -phenylmethanone (4- [2- (2,4-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -p-tolyl-methanone, {4- [2- -Ethoxy] -phenyl} -o-tolyl-methanone, 2,7-diaminofluorenone, 2,7-di Aminofluorene, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene,

3,5-디아미노벤조산, 2,4-디아미노벤조산, 2,5-디아미노벤조산, 4,4'-디아미노비페닐-3,3'-디카본산, 4,4'-디아미노비페닐-2,2'-디카본산, 3,3'-디아미노비페닐-4,4'-디카본산, 3,3'-디아미노비페닐-2,4'-디카본산, 4,4'-디아미노디페닐메탄-3,3'-디카본산, 4,4'-디아미노비페닐-3-카본산, 4,4'-디아미노디페닐메탄-3-카본산, 4,4'-디아미노디페닐에탄-3,3'-디카본산, 4,4'-디아미노디페닐에탄-3-카본산, 4,4'-디아미노디페닐에테르-3,3'-디카본산 및, 하기식 (b3-1)∼(b3-14)Diaminobenzoic acid, 2,4-diaminobenzoic acid, 2,5-diaminobenzoic acid, 4,4'-diaminobiphenyl-3,3'-dicarboxylic acid, 4,4'- Phenyl-2,2'-dicarboxylic acid, 3,3'-diaminobiphenyl-4,4'-dicarboxylic acid, 3,3'-diaminobiphenyl- - diaminodiphenylmethane-3,3'-dicarboxylic acid, 4,4'-diaminobiphenyl-3-carboxylic acid, 4,4'-diaminodiphenylmethane- -Diaminodiphenylethane-3,3'-dicarboxylic acid, 4,4'-diaminodiphenylethane-3-carboxylic acid, 4,4'-diaminodiphenyl ether-3,3'-dicarboxylic acid and , The following formulas (b3-1) to (b3-14)

Figure pat00033
Figure pat00033

Figure pat00034
Figure pat00034

의 각각으로 나타나는 화합물 등을; And the like;

디아미노오르가노실록산으로서, 예를 들면, 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산, 3,3'-[1,4-페닐렌비스(디메틸실란디일)]비스(1-프로판아민) 등을; 각각 들 수 있는 것 외에, 일본공개특허공보 2010-97188호에 기재된 디아민을 이용할 수 있다. 그 외의 디아민으로서는, 이들을 1종 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. Examples of the diaminoorganosiloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane, 3,3 '- [1,4-phenylenebis (dimethylsilanediyl)] bis 1-propanamine) and the like; The diamine described in JP-A-2010-97188 can be used. As other diamines, these may be used singly or in combination of two or more kinds.

상기 [ⅱ] 방법의 경우, 특정 디아민의 사용 비율은, 빛에 대한 감도가 양호한 액정 표시 소자를 얻는 관점에서, 폴리암산의 합성에 이용하는 디아민의 전체량에 대하여, 30몰% 이상 포함하는 것이 바람직하고, 40몰% 이상 포함하는 것이 보다 바람직하고, 50몰% 이상 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 (ⅲ) 방법의 경우, 특정 디아민의 사용 비율은, 폴리암산의 합성에 이용하는 디아민의 전체량에 대하여, 20몰% 이상 포함하는 것이 바람직하고, 30몰% 이상 포함하는 것이 보다 바람직하고, 40몰% 이상 포함하는 것이 더욱 바람직하다. In the case of the method [ii], from the viewpoint of obtaining a liquid crystal display element having a good sensitivity to light, the use ratio of the specific diamine is preferably 30 mol% or more based on the total amount of the diamine used for the synthesis of the polyamic acid , More preferably 40 mol% or more, and still more preferably 50 mol% or more. In the case of the above method (iii), the use ratio of the specific diamine is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, relative to the total amount of the diamine used in the synthesis of the polyamic acid , And still more preferably 40 mol% or more.

(A) 중합체에 있어서의 상기 구조 (Y)의 함유량은, 1×10-5∼1×10- 2몰/g으로 하는 것이 바람직하고, 5×10-5∼5×10- 3몰/g으로 하는 것이 보다 바람직하다. 따라서, (A) 중합체에 있어서의 상기 구조 (Y)의 함유량이 상기 범위가 되도록, 사용하는 특정 테트라카본산 2무수물 및 특정 디아민의 종류 및 사용량을 설정하는 것이 바람직하다. (A) The content of the structure (Y) in the polymer is, 1 × 10 -5 ~1 × 10 - and preferably set to 2 mol / g, 5 × 10 -5 ~5 × 10 - 3 mole / g Is more preferable. Therefore, it is preferable to set the kind and amount of the specific tetracarboxylic acid dianhydride and the specific diamine to be used so that the content of the structure (Y) in the polymer (A) is in the above range.

반응에 사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민으로서는, (A) 중합체의 빛에 대한 감도를 양호하게 하는 관점에서, 반응에 사용하는 디아민으로서 「-방향환-CO-X1-방향환-」의 구조를 갖는 디아민을 포함하고, 광반응성(광흡수성)을 높게 하는 관점에서, 반응에 사용하는 테트라카본산 2무수물로서, 상기식 (3)으로 나타나는 구조를 갖는 화합물, 상기식 (a-5)로 나타나는 화합물, 상기식 (a-28)로 나타나는 화합물 및 상기식 (a-29)로 나타나는 화합물으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 조합으로 하는 것이 바람직하다. 이때, 상기식 (3)으로 나타나는 구조를 갖는 화합물로서는, 상기식 (a-15)∼식 (a-27)로 나타나는 화합물, 상기식 (ar-1)∼식 (ar-5)로 나타나는 화합물 등을 사용하는 것이 바람직하다. As the tetracarboxylic acid dianhydrides and diamines to be used in the reaction, from the viewpoint of improving the sensitivity of the polymer to light (A), the diamine to be used in the reaction is preferably a tetracarboxylic acid dianhydride having a structure of "-oriented ring -CO-X 1 -aromatic ring" (A-5) as the tetracarboxylic acid dianhydride to be used in the reaction, from the viewpoint of increasing the photoreactivity (light absorbing property) , A compound represented by the formula (a-28), and a compound represented by the formula (a-29). Examples of the compound having the structure represented by the formula (3) include compounds represented by the formulas (a-15) to (a-27) Or the like is preferably used.

또한, 특정 테트라카본산 2무수물 및 특정 디아민은, 공통되는 구조 (Y)를 주쇄에 갖는 폴리암산을 얻는 것이 가능한 점에서, 전부 동일한 작용을 갖는 것이다. 따라서, 이하의 실시예에 기재되지 않은 것이라도 본 발명에 있어서 사용하는 것이 가능하다. 또한, 특정 테트라카본산 2무수물 또는 특정 디아민과 함께 사용하는 그 외의 테트라카본산 2무수물 및 그 외의 디아민에 대해서도 동일하게, 이하의 실시예에 기재되지 않은 것이라도 본 발명에 있어서 사용할 수 있다. Specific tetracarboxylic acid dianhydrides and specific diamines all have the same function in that a polyamic acid having a common structure (Y) in its main chain can be obtained. Therefore, even those not described in the following examples can be used in the present invention. Also, with respect to other tetracarboxylic acid dianhydrides and other diamines to be used together with a specific tetracarboxylic acid dianhydride or a specific diamine, those not described in the following examples can also be used in the present invention.

[분자량 조절제] [Molecular Weight Regulator]

(A) 폴리암산을 합성할 때에 있어서, 상기와 같은 테트라카본산 2무수물 및 디아민과 함께, 적당한 분자량 조절제(말단 봉지제)를 이용하여 말단 수식형의 중합체를 합성하는 것으로 해도 좋다. In the synthesis of the polyamic acid (A), a terminal modifier type polymer may be synthesized by using a suitable molecular weight modifier (terminal endblock) together with the above-mentioned tetracarboxylic dianhydride and diamine.

분자량 조절제로서는, 예를 들면 산 1무수물, 모노아민 화합물, 모노이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 산 1무수물로서, 예를 들면 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 이타콘산, n-데실숙신산 무수물, n-도데실숙신산 무수물, n-테트라데실숙신산 무수물, n-헥사데실숙신산 무수물, 3-(3-트리메톡시실릴)프로필)-3,4-디하이드로푸란-2,5-디온, 4,5,6,7-테트라플루오로이소벤조푸란-1,3-디온 등을; 모노아민 화합물로서, 예를 들면 아닐린, 사이클로헥실아민, n-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, 3-(트리플루오로메톡시)아닐린, 4-(트리플루오로메톡시)아닐린, 트리에톡시실릴아민, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필메톡시디에톡시실란 등을; 모노이소시아네이트 화합물로서, 예를 들면 페닐이소시아네이트, 나프틸이소시아네이트 등을; 각각 들 수 있다. Examples of the molecular weight regulator include acid monoanhydrides, monoamine compounds, and monoisocyanate compounds. Specific examples thereof include acid anhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decylsuccinic anhydride, n-dodecylsuccinic anhydride, n-tetradecylsuccinic anhydride, n-hexadecylsuccinic anhydride , 3- (3-trimethoxysilyl) propyl) -3,4-dihydrofuran-2,5-dione, 4,5,6,7-tetrafluoroisobenzofuran- ; Examples of the monoamine compound include aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, 3- (trifluoromethoxy) - (trifluoromethoxy) aniline, triethoxysilylamine, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethoxydiethoxysilane and the like; As the monoisocyanate compound, for example, phenyl isocyanate, naphthyl isocyanate and the like; Respectively.

분자량 조절제의 사용 비율은, 사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계 100몰부에 대하여, 20몰부 이하로 하는 것이 바람직하고, 10몰부 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. The use ratio of the molecular weight regulator is preferably 20 moles or less, more preferably 10 moles or less, per 100 moles of the total amount of the tetracarboxylic acid dianhydride and diamine to be used.

<폴리암산의 합성><Synthesis of polyamic acid>

본 발명에 있어서의 폴리암산의 합성 반응에 제공되는 테트라카본산 2무수물과 디아민의 사용 비율은, 디아민의 아미노기 1당량에 대하여, 테트라카본산 2무수물의 산 무수물기가 0.2∼2당량이 되는 비율이 바람직하고, 0.3∼1.2당량이 되는 비율이 보다 바람직하다. The ratio of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine to be used in the synthesis reaction of the polyamic acid in the present invention is such that the ratio of the acid anhydride group of the tetracarboxylic acid dianhydride to the equivalent of one equivalent of the amino group of the diamine is 0.2 to 2 equivalents , More preferably from 0.3 to 1.2 equivalents.

폴리암산의 합성 반응은, 바람직하게는 유기 용매 중에 있어서 행해진다. 이때의 반응 온도는, -20℃∼150℃가 바람직하고, 0∼100℃가 보다 바람직하다. 또한, 반응 시간은, 0.1∼24시간이 바람직하고, 0.5∼12시간이 보다 바람직하다. The synthesis reaction of the polyamic acid is preferably carried out in an organic solvent. The reaction temperature at this time is preferably -20 캜 to 150 캜, more preferably 0 to 100 캜. The reaction time is preferably 0.1 to 24 hours, more preferably 0.5 to 12 hours.

여기에서, 유기 용매로서는, 예를 들면 비프로톤성 극성 용매, 페놀계 용매, 알코올, 케톤, 에스테르, 에테르, 할로겐화 탄화수소, 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 유기 용매의 구체예로서는, 비프로톤성 극성 용매로서, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드, γ-부티로락톤, 테트라메틸우레아, 헥사메틸포스포르트리아미드 등을; 페놀계 용매로서, 예를 들면 페놀, m-크레졸, 자일레놀, 할로겐화 페놀 등을; Examples of the organic solvent include aprotic polar solvents, phenol solvents, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, and the like. Specific examples of these organic solvents include non-protonic polar solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, Such as lactone, tetramethylurea, hexamethylphosphoric triamide and the like; As the phenolic solvent, for example, phenol, m-cresol, xylenol, halogenated phenol and the like;

알코올로서, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 사이클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등을; 케톤으로서, 예를 들면 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등을; 에스테르로서, 예를 들면, 락트산 에틸, 락트산 부틸, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 말론산 디에틸, 이소아밀프로피오네이트, 이소아밀이소부티레이트 등을; 에테르로서, 예를 들면 디에틸에테르, 디이소펜틸에테르, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜-n-부틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라하이드로푸란 등을; 할로겐화 탄화수소로서, 예를 들면 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 1,4-디클로로부탄, 트리클로로에탄, 클로로벤젠 등을; 상기 탄화수소로서, 예를 들면, 헥산, 헵탄, 옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등을; 각각 들 수 있다. As the alcohol, for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether and the like; As the ketone, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like; As the ester, for example, ethyl lactate, butyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl malonate, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate and the like; Examples of the ether include diethyl ether, diisopentyl ether, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol n-propyl ether, ethylene glycol n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether Acetate, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran and the like; As halogenated hydrocarbons, for example, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene and the like; Examples of the hydrocarbons include hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene and the like; Respectively.

이들 유기 용매 중, 비프로톤성 극성 용매 및 페놀계 용매으로 이루어지는 군(제1군의 유기 용매)으로부터 선택되는 1종 이상, 또는, 제1군의 유기 용매로부터 선택되는 1종 이상과, 알코올, 케톤, 에스테르, 에테르, 할로겐화 탄화수소 및 탄화수소로 이루어지는 군(제2군의 유기 용매)으로부터 선택되는 1종 이상과의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 후자의 경우, 제2군의 유기 용매의 사용 비율은, 제1군의 유기 용매와 제2군의 유기 용매의 합계량에 대하여, 바람직하게는 50중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 40중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 30중량% 이하이다. 또한, 유기 용매의 사용량 (α)는, 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계량 (β)가, 반응 용액의 전체량 (α+β)에 대하여 0.1∼50중량%가 되는 바와 같은 양으로 하는 것이 바람직하다. Among these organic solvents, at least one selected from the group consisting of an aprotic polar solvent and a phenol-based solvent (first group of organic solvents), or at least one selected from organic solvents of the first group, It is preferable to use a mixture of at least one member selected from the group consisting of ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons and hydrocarbons (organic solvents of the second group). In the latter case, the proportion of the organic solvent of the second group is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, based on the total amount of the organic solvent of the first group and the organic solvent of the second group By weight, more preferably not more than 30% by weight. The amount (?) Of the organic solvent used is preferably such that the total amount (?) Of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine is 0.1 to 50% by weight based on the total amount (? +?) Of the reaction solution .

이상과 같이 하여, 폴리암산을 용해하여 이루어지는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은 그대로 광배향제의 조제에 제공해도 좋고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산을 단리한 후에 광배향제의 조제에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리암산을 정제한 후에 광배향제의 조제에 제공해도 좋다. 폴리암산을 탈수 폐환하여 폴리이미드로 하는 경우에는, 상기 반응 용액을 그대로 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산을 단리한 후에 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리암산을 정제한 후에 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋다. 폴리암산의 단리 및 정제는 공지의 방법에 따라 행할 수 있다. As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained. This reaction solution may be supplied as it is to the preparation of the photo-dispersing agent as it is, or may be provided to the preparation of the photo-dispersing agent after isolation of the polyamic acid contained in the reaction solution, or may be provided to the preparation of the photo- good. When the polyamic acid is subjected to dehydration ring closure to form a polyimide, the reaction solution may be directly supplied to the dehydration ring-closing reaction. Alternatively, the polyamic acid contained in the reaction solution may be isolated and then subjected to dehydration ring- May be purified and then subjected to a dehydration ring-closing reaction. The polyamic acid can be isolated and purified by a known method.

<폴리암산 에스테르><Polyamic acid ester>

본 발명의 (A) 중합체로서의 폴리암산 에스테르(이하, (A) 폴리암산 에스테르라고도 함)는, 예를 들면, [Ⅰ] 상기 합성 반응에 의해 얻어진 (A) 폴리암산과, 수산기 함유 화합물, 아세탈계 에스테르화제, 할로겐화물, 에폭시기 함유 화합물 등을 반응시킴으로써 합성하는 방법, [Ⅱ] 테트라카본산 디에스테르와 디아민을 반응시키는 방법, [Ⅲ] 테트라카본산 디에스테르디할로겐화물과 디아민을 반응시키는 방법 등에 의해 얻을 수 있다. The polyamic acid ester (hereinafter also referred to as (A) a polyamic acid ester) as the polymer (A) of the present invention can be obtained, for example, by reacting a polyamic acid (A) A method of reacting a tetracarboxylic acid diester with a diamine, [III] a method of reacting a tetracarboxylic acid diester dihalide with a diamine, And the like.

여기에서, 방법 [Ⅰ]로 사용하는 수산기 함유 화합물로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류; 페놀, 크레졸 등의 페놀류 등을 들 수 있다. 아세탈계 에스테르화제로서는, 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드디에틸아세탈, N,N-디에틸포름아미드디에틸아세탈 등을 들 수 있다. 또한, 할로겐화물로서는, 예를 들면 브롬화 메틸, 브롬화 에틸, 브롬화 스테아릴, 염화 메틸, 염화 스테아릴, 1,1,1-트리플루오로-2-요오도에탄 등을 들 수 있고, 에폭시기 함유 화합물로서는, 예를 들면 프로필렌옥사이드 등을 들 수 있다. Examples of the hydroxyl group-containing compound used in the method [I] include alcohols such as methanol, ethanol and propanol; Phenols such as phenol and cresol, and the like. Examples of the acetal-based esterifying agent include N, N-dimethylformamide diethyl acetal and N, N-diethylformamide diethylacetal. Examples of the halide include methyl bromide, ethyl bromide, stearyl bromide, methyl chloride, stearyl chloride, 1,1,1-trifluoro-2-iodoethane and the like, and the epoxy group-containing compound For example, propylene oxide.

방법 [Ⅱ]에서 사용하는 테트라카본산 디에스테르는, 예를 들면 상기 (A) 폴리암산의 합성에서 예시한 테트라카본산 2무수물을, 상기의 알코올류를 이용하여 개환함으로써 얻을 수 있다. 테트라카본산 디에스테르와 디아민과의 반응은, 적당한 탈수 촉매의 존재하에서 행하는 것이 바람직하다. 탈수 촉매로서는, 예를 들면 4-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-4-메틸모르폴리늄할라이드, 카보닐이미다졸, 인계 축합제 등을 들 수 있다. The tetracarboxylic acid diester used in the method [II] can be obtained, for example, by ring opening the tetracarboxylic acid dianhydride exemplified in the synthesis of the polyamic acid (A) using the above-mentioned alcohols. The reaction of the tetracarboxylic acid diester and the diamine is preferably carried out in the presence of a suitable dehydration catalyst. As the dehydration catalyst, for example, 4- (4,6-dimethoxy-1,3,5-triazin-2-yl) -4-methylmorpholinium halide, carbonylimidazole, .

방법 [Ⅲ]에서 사용하는 테트라카본산 디에스테르디할로겐화물은, 예를 들면 상기와 같이 하여 얻은 테트라카본산 디에스테르를, 염화 티오닐 등의 적당한 염소화제와 반응시킴으로써 얻을 수 있다. The tetracarboxylic acid diester dihalide used in the method [III] can be obtained, for example, by reacting the tetracarboxylic acid diester obtained as described above with a suitable chlorinating agent such as thionyl chloride.

상기 방법 [Ⅱ] 및 [Ⅲ]에서는, 테트라카본산 2무수물 및 디아민 중 적어도 어느 하나에 있어서 상기 구조 (Y)를 갖는 화합물을 이용함으로써, 당해 구조 (Y)를 갖는 폴리암산 에스테르를 얻을 수 있다. 또한, 폴리암산 에스테르는, 암산 에스테르 구조만을 갖고 있어도 좋고, 암산 구조와 암산 에스테르 구조가 병존하는 부분 에스테르화물이라도 좋다. In the above methods [II] and [III], a polyamic acid ester having the structure (Y) can be obtained by using a compound having the structure (Y) in at least one of tetracarboxylic acid dianhydride and diamine . In addition, the polyamic acid ester may have only an acid ester structure, or may be a partial ester ester in which an acid structure and an acid ester structure coexist.

이상과 같이 하여, 폴리암산 에스테르를 용해하여 이루어지는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은 그대로 광배향제의 조제에 제공해도 좋고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산 에스테르를 단리한 후에 광배향제의 조제에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리암산 에스테르를 정제한 후에 광배향제의 조제에 제공해도 좋다. 폴리암산 에스테르의 단리 및 정제는 공지의 방법에 따라 행할 수 있다. In this way, a reaction solution obtained by dissolving a polyamic acid ester is obtained. The reaction solution may be supplied as it is to the preparation of the photo-dispersing agent. Alternatively, the polyamic ester contained in the reaction solution may be isolated and then added to the preparation of the photo-dispersing agent. Alternatively, after the isolated polyamic acid ester is purified, May be provided. The polyamic acid ester can be isolated and purified by a known method.

<폴리이미드><Polyimide>

본 발명의 광배향제에 함유되는 (A) 중합체로서의 폴리이미드(이하, 「(A) 폴리이미드」라고도 칭함)는, 예를 들면 상기와 같이 하여 합성된 (A) 폴리암산을 탈수 폐환하여 이미드화함으로써 얻을 수 있다. The polyimide (hereinafter also referred to as &quot; polyimide (A) &quot;) as the polymer (A) contained in the photo-dispersing agent of the present invention can be obtained by, for example, dehydrating and ring closure of the polyamic acid (A) .

상기의 (A) 폴리이미드는, 그 전구체인 (A) 폴리암산이 갖고 있던 암산 구조의 전부를 탈수 폐환한 완전 이미드화물이라도 좋고, 암산 구조의 일부만을 탈수 폐환하여, 암산 구조와 이미드환 구조가 병존하는 부분 이미드화물이라도 좋다. (A) 폴리이미드는, 그 이미드화율이 5% 이상인 것이 바람직하고, 10∼60%인 것이 보다 바람직하고, 15∼50%인 것이 더욱 바람직하다. 이 이미드화율은, 폴리이미드의 암산 구조의 수와 이미드환 구조의 수의 합계에 대한 이미드환 구조의 수가 차지하는 비율을 백분율로 나타낸 것이다. 여기에서, 이미드환의 일부가 이소이미드환이라도 좋다. The polyimide (A) may be a completely imidized product obtained by dehydrating and ring-closure of the entire acid structure of the polyamic acid (A), which is the precursor thereof, and dehydrating and cyclizing a part of the acid structure to form an acid structure and an imidazole ring structure The imide cargo may be partially imbedded. The polyimide (A) preferably has an imidization rate of 5% or more, more preferably 10 to 60%, and further preferably 15 to 50%. The imidization rate is expressed as a percentage of the ratio of the number of imide ring structures to the sum of the number of amide structure and the number of imide ring structure of polyimide. Here, a part of the imide ring may be an isoimide ring.

폴리암산의 탈수 폐환은, 바람직하게는 폴리암산을 가열하는 방법에 의해, 또는 폴리암산을 유기 용매에 용해하고, 이 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하고 필요에 따라서 가열하는 방법에 의해 행해진다. 이 중, 후자의 방법에 의한 것이 바람직하다. The dehydration ring closure of the polyamic acid is preferably carried out by a method of heating a polyamic acid, or a method of dissolving a polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to the solution, and optionally heating . Of these, the latter method is preferable.

폴리암산의 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하여 이미드화하는 방법에 있어서, 탈수제로서는, 예를 들면 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 트리플루오로아세트산 등의 산 무수물을 이용할 수 있다. 탈수제의 사용량은, 폴리암산의 암산 구조의 1몰에 대하여 0.01∼20몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민 등의 3급 아민을 이용할 수 있다. 탈수 폐환 촉매의 사용량은, 사용하는 탈수제 1몰에 대하여 0.01∼10몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 반응에 이용되는 유기 용매로서는, 폴리암산의 합성에 이용되는 것으로서 예시한 유기 용매를 들 수 있다. 탈수 폐환 반응의 반응 온도는, 바람직하게는 0∼180℃이고, 보다 바람직하게는 10∼150℃이다. 반응 시간은, 바람직하게는 1.0∼120시간이고, 보다 바람직하게는 2.0∼30시간이다. In the method of imidizing a polyamic acid solution by adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-opening catalyst, an acid anhydride such as acetic anhydride, anhydrous propionic acid or trifluoroacetic anhydride can be used as the dehydrating agent. The amount of the dehydrating agent to be used is preferably 0.01 to 20 mol based on 1 mol of the acid structure of the polyamic acid. As the dehydration ring-closing catalyst, for example, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine and triethylamine can be used. The amount of the dehydration ring-closing catalyst to be used is preferably 0.01 to 10 mol based on 1 mol of the dehydrating agent to be used. Examples of the organic solvent used in the dehydration ring-closure reaction include the organic solvents exemplified for use in the synthesis of polyamic acid. The reaction temperature of the dehydration cyclization reaction is preferably 0 to 180 캜, more preferably 10 to 150 캜. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.

이와 같이 하여 (A) 폴리이미드를 함유하는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은, 그대로 광배향제의 조제에 제공해도 좋고, 반응 용액으로부터 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 제거한 후에 광배향제의 조제에 제공해도 좋고, 폴리이미드를 단리한 후에 광배향제의 조제에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리이미드를 정제한 후에 광배향제의 조제에 제공해도 좋다. 이들 정제 조작은 공지의 방법에 따라 행할 수 있다. 또한, 본 발명의 광배향제에 함유되는 (A) 중합체는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Thus, a reaction solution containing (A) polyimide is obtained. The reaction solution may be supplied as it is to the preparation of the photo-dispersing agent as it is or may be added to the preparation of the photo-dispersing agent after removing the dehydrating agent and the dehydration ring-closing catalyst from the reaction solution. Alternatively, Alternatively, after the isolated polyimide is purified, it may be added to the preparation of the light distribution agent. These purification operations can be carried out according to a known method. The polymer (A) contained in the photo-dispersing agent of the present invention may be used singly or in combination of two or more.

[(B) 중합체] [(B) Polymer]

본 발명의 광배향제에 함유되는 (B) 중합체는, 폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종으로서, 상기 (A) 중합체와는 상이한 중합체이다. 광배향제의 중합체 성분을 (A) 중합체만으로 한 경우에, 액정 표시 소자에 있어서 전압 보전율의 저하나 잔류 전하의 축적이 발생하는 경우에도, 상이한 수지의 블렌드로 함으로써 이를 개선하는 것이 가능해진다. The polymer (B) contained in the photo-dispersing agent of the present invention is at least one member selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide, and is a polymer different from the above-mentioned (A) polymer. In the case where the polymer component of the photopolymerization initiator is used only as the polymer (A), even when the voltage storage ratio of the liquid crystal display element is lowered or the accumulation of the residual charges occurs, it is possible to improve this by using a blend of different resins.

상기 (B) 중합체가 폴리암산(이하, 「(B) 폴리암산」이라고도 함)인 경우, 당해 (B) 폴리암산은, 예를 들면 테트라카본산 2무수물과 디아민을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 여기에서, (B) 중합체의 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물로서는, (A) 중합체의 합성에 사용할 수 있는 테트라카본산 2무수물로서 예시한 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 분자 내 및 분자 간의 전하 이동을 억제하는 관점에서, 지환식 테트라카본산 2무수물을 포함하는 것이 바람직하고, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물, 바이사이클로[3.3.0]옥탄-2,4,6,8-테트라카본산 2:4,6:8-2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-8-메틸-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 사이클로펜탄테트라카본산 2무수물 및, 사이클로헥산테트라카본산 2무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 특정의 지환식 테트라카본산 2무수물을 포함하는 것이 보다 바람직하다. When the (B) polymer is a polyamic acid (hereinafter also referred to as "(B) polyamic acid"), the (B) polyamic acid can be obtained by reacting, for example, tetracarboxylic acid dianhydride with a diamine. Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polymer (B) include the compounds exemplified as tetracarboxylic dianhydrides which can be used for the synthesis of the (A) polymer. Among them, from the viewpoint of suppressing the charge transfer within the molecule and the molecule, it is preferable to contain an alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, and 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, bicyclo [3.3.0 ] Octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2: 4,6: 8-2 anhydrous, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro- 1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro- -2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentanetetra More preferably at least one specific alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of carboxylic acid dianhydride and cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride.

이들 특정의 지환식 테트라카본산 2무수물의 배합 비율(2종 이상을 포함하는 경우는 그 합계량)은, 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물의 전체량에 대하여, 30몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 40몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. The blending ratio (or the total amount when two or more species are included) of these specific alicyclic tetracarboxylic acid dianhydrides is preferably 30 mol% or more based on the total amount of the tetracarboxylic acid dianhydrides used in the synthesis , And more preferably 40 mol% or more.

상기 (B) 폴리암산의 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물은, 상기 구조 (Y)를 갖는 테트라카본산 2무수물(특정 테트라카본산 2무수물)을 포함하고 있어도 좋다. 특정 테트라카본산 2무수물의 사용 비율은, 특정 테트라카본산 2무수물과는 상이한 특성(예를 들면, 전기 특성이나 투명성)을 나타내는 성분을 충분량 도입 가능하게 하기 위해, 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물의 전체량에 대하여, 30몰% 이하로 하는 것이 바람직하고, 20몰% 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. The tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polyamic acid (B) may contain a tetracarboxylic acid dianhydride (specific tetracarboxylic dianhydride) having the above structure (Y). The ratio of the specific tetracarboxylic acid dianhydride to the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis is such that the amount of the tetracarboxylic acid dianhydride to be used in the synthesis can be appropriately selected so that the component exhibiting properties (for example, electrical characteristics or transparency) It is preferably 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, based on the total amount of the anhydride.

(B) 폴리암산의 합성에 사용하는 디아민으로서는, (A) 중합체의 합성에 사용할 수 있는 디아민으로서 예시한 화합물(특정 디아민 및 그 외의 디아민) 등을 들 수 있다. 이때, 특정 디아민의 사용 비율은, 합성에 사용하는 디아민의 전체량에 대하여, 30몰% 이하로 하는 것이 바람직하고, 20몰% 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. Examples of the diamine used for the synthesis of the polyamic acid (B) include (A) a compound exemplified as a diamine (specific diamine and other diamines) which can be used for synthesizing a polymer. At this time, the use ratio of the specific diamine is preferably 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, based on the total amount of the diamine used in the synthesis.

또한, (B) 폴리암산의 합성에 있어서의 각종 반응 조건에 대해서는, 상기 (A) 중합체의 설명을 적용할 수 있다. 또한, (B) 중합체로서의 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드에 대해서도, 상기 (A) 중합체에서 설명한 방법에 따라 얻을 수 있다. 본 발명의 광배향제에 함유되는 (B) 중합체로서는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Further, regarding the various reaction conditions in the synthesis of the polyamic acid (B), the description of the polymer (A) can be applied. The polyamic acid ester and the polyimide as the (B) polymer can also be obtained by the method described in the polymer (A). As the polymer (B) contained in the photo-dispersing agent of the present invention, one species may be used alone, or two or more species may be used in combination.

(B) 중합체는, 불소 원자 및 규소 원자 중 적어도 1종(이하, 「특정 원자」라고도 함)의 함유율이, 상기 (A) 중합체와는 상이한 중합체인 것이 바람직하다. 일반적으로, 특정 원자의 함유율이 상이한 2종의 중합체를 블렌드한 경우, 표면 에너지의 상위에 따라, 특정 원자의 함유율이 높은 쪽의 중합체가 상층에 편재하고, 특정 원자의 함유율이 낮은 쪽의 중합체가 하층에 편재하는 경향이 있는 것이 알려져 있다. 이러한 사상을 이용하여, (A) 중합체와 (B) 중합체로 특정 원자의 함유율을 상이한 것으로 함으로써, (A) 중합체 및 (B) 중합체의 각각에 대해서, 액정 배향막 중에서 분포의 치우침을 발생시킬 수 있는 것으로 추측된다. The polymer (B) is preferably a polymer in which the content of at least one of a fluorine atom and a silicon atom (hereinafter also referred to as &quot; specific atom &quot;) is different from that of the polymer (A). Generally, when two kinds of polymers having different specific atom content are blended, a polymer having a higher specific atom content is localized in the upper layer and a polymer having a lower specific atom content It tends to be localized in the lower layer. By using such a phenomenon, it is possible to make the content of specific atom in the polymer (A) and the polymer (B) be different from each other, .

상기 (A) 중합체 및 (B) 중합체 중 적어도 어느 하나가 특정 원자(F, Si)를 갖는 경우, 그 조합으로서는, 예를 들면 다음의 [1] ∼[4]의 태양(態樣)을 들 수 있다. When at least one of the polymer (A) and the polymer (B) has specific atoms (F, Si), for example, the following [1] to [4] .

[1] (A) 중합체 및 (B) 중합체가 특정 원자를 갖고, 또한 (A) 중합체의 쪽이 (B) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 높은 태양.[1] A solar cell wherein the polymer (A) and the polymer (B) have specific atoms, and the polymer (A) has a higher specific atom content than the polymer (B).

[2] (A) 중합체가 특정 원자를 갖고, (B) 중합체가 특정 원자를 실질적으로 갖지 않는 태양.[2] A method wherein (A) the polymer has specific atoms and (B) the polymer has substantially no specific atoms.

[3] (A) 중합체 및 (B) 중합체가 특정 원자를 갖고, 또한 (B) 중합체의 쪽이 (A) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 높은 태양.[3] A solar cell wherein the polymer (A) and the polymer (B) have specific atoms and the polymer (B) has a higher specific atom content than the polymer (A).

[4] (B) 중합체가 특정 원자를 갖고, (A) 중합체가 특정 원자를 실질적으로 갖지 않는 태양.[4] A method wherein (B) the polymer has specific atoms and (A) the polymer has substantially no specific atoms.

이들 중, 액정 분자의 배향 제어를 적합하게 행하게 하도록 하는 점에서, (A) 중합체가 (B) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 높은 것이 바람직하다. 구체적으로는, [1] 또는 [2]의 태양으로 하는 것이 바람직하고, [2]의 태양으로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 「특정 원자를 실질적으로 갖고 있지 않다」란, 특정 원자를 갖고 있지 않거나, 혹은 당해 중합체의 전체 반복 단위에 대한, 특정 원자를 갖는 반복 단위의 함유 비율이 1몰% 이하, 바람직하게는 0.5몰% 이하이다.Among these, it is preferable that the polymer (A) has a higher content of specific atoms than the polymer (B), from the viewpoint of appropriately controlling the orientation of the liquid crystal molecules. Specifically, it is preferable to use the mode of [1] or [2], and the mode of [2] is more preferable. The term &quot; substantially no specific atom &quot; means that the specific atom is not contained or the content ratio of the repeating unit having a specific atom to all repeating units of the polymer is 1 mol% or less, preferably 0.5 Mol% or less.

특정 원자를 갖는 중합체를 얻으려면, 예를 들면 중합체의 합성시에 있어서, [i] 특정 원자를 갖는 테트라카본산 유도체를 포함하는 모노머를 이용하여 중합하는 방법; [ⅱ] 특정 원자를 갖는 디아민을 포함하는 모노머를 이용하여 중합하는 방법; [ⅲ] 말단 봉지제로서, 특정 원자를 갖는 모노아민을 이용하여 중합하는 방법; [ⅳ] 말단 봉지제로서, 특정 원자를 갖는 산 1무수물을 이용하여 중합하는 방법, 등을 들 수 있다. In order to obtain a polymer having a specific atom, for example, in the synthesis of a polymer, there may be mentioned a method of [i] polymerization using a monomer including a tetracarboxylic acid derivative having a specific atom; [Ii] a method of polymerizing with a monomer containing a diamine having a specific atom; [Iii] a method of polymerization using a monoamine having a specific atom as a terminal endblock; [Iv] a method of polymerization using an acid anhydride having a specific atom as a terminal endblocker, and the like.

여기에서, 특정 원자를 갖는 테트라카본산 유도체로서는, 예를 들면 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물, 산 무수물기 함유 실리콘 오일(예를 들면, 상품명 「X-22-2290AS」(신에츠 실리콘(주) 제조)) 등을; 특정 원자를 갖는 디아민으로서는, 예를 들면 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-디아미노-3,3'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 4-(4'-트리플루오로메톡시벤조일옥시)사이클로헥실-3,5-디아미노벤조에이트, 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산, 3,3'-[1,4-페닐렌비스(디메틸실란디일)]비스(1-프로판아민) 등을; 특정 원자를 갖는 모노아민으로서는, 예를 들면 3-(트리플루오로메톡시)아닐린, 4-(트리플루오로메톡시)아닐린, 트리에톡시실릴아민, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필메톡시디에톡시실란 등을; 특정 원자를 갖는 산 1무수물로서는, 예를 들면 3-(3-트리메톡시실릴)프로필)-3,4-디하이드로푸란-2,5-디온, 4,5,6,7-테트라플루오로이소벤조푸란-1,3-디온 등을, 각각 들 수 있다. 또한, 특정 원자를 갖는 중합체를 얻기 위해서는, 이들 방법 [i]∼[ⅳ] 중 1종을 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다. Examples of the tetracarboxylic acid derivative having a specific atom include 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride, an acid anhydride group-containing silicone oil (for example, trade name "X-22- 2290AS &quot; (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.); Examples of the diamine having a specific atom include 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4'-diamino-3,3'-bis Bis (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4- Bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane, 3,3 '- [1,4-phenylenebis (triphenylphosphine) Dimethylsilanediyl)] bis (1-propanamine) and the like; Examples of the monoamine having a specific atom include 3- (trifluoromethoxy) aniline, 4- (trifluoromethoxy) aniline, triethoxysilylamine, 3-aminopropyltrimethoxysilane, Triethoxysilane, 3-aminopropylmethoxydiethoxysilane and the like; Examples of the acid anhydride having a specific atom include 3- (3-trimethoxysilyl) propyl) -3,4-dihydrofuran-2,5-dione, 4,5,6,7-tetrafluoro Isobenzofuran-1,3-dione, and the like. In order to obtain a polymer having a specific atom, one of these methods [i] to [iv] may be used, or two or more of them may be used in combination.

특정 원자를 갖는 중합체에 있어서, 특정 원자를 갖는 반복 단위의 함유 비율은, 당해 중합체의 전체 반복 단위에 대하여, 70몰% 이하인 것이 바람직하고, 60몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 50몰% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값에 대해서는 특별히 한정하지 않고, 예를 들면 1몰% 이상으로 할 수 있고, 5몰% 이상으로 하는 것이 바람직하다. The content of the repeating unit having a specific atom in the polymer having a specific atom is preferably 70 mol% or less, more preferably 60 mol% or less, and 50 mol% or less, based on the total repeating units of the polymer More preferable. The lower limit value is not particularly limited and may be, for example, 1 mol% or more, and preferably 5 mol% or more.

ㆍ 구조 (Z)ㆍ Structure (Z)

상기 (A) 중합체 및 (B) 중합체 중 적어도 어느 하나는, 하기식 (2-1)로 나타나는 구조, 하기식 (2-2)로 나타나는 구조(단, 모노머의 중합에 의해 형성되는 아미드 결합 중에 포함되는 것을 제외함) 및 질소 함유 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조 (Z)를 갖는 것이 바람직하다. 이러한 구조 (Z)를 중합체에 도입함으로써, 액정 표시 소자의 전압 보전율이나 잔상 특성 등의 전기 특성을 개선하는 것이 가능해진다:At least one of the polymer (A) and the polymer (B) is a polymer having a structure represented by the following formula (2-1) and a structure represented by the following formula (2-2) And a nitrogen-containing heterocyclic ring), and at least one structure (Z) selected from the group consisting of nitrogen-containing heterocyclic rings. By introducing such a structure Z into the polymer, it becomes possible to improve the electric characteristics such as the voltage holding ratio and the afterimage characteristic of the liquid crystal display element:

Figure pat00035
Figure pat00035

(식 (2-1) 중, R1은, 할로겐 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 탄소수 1∼10의 알콕시기이며, r1은 0∼2의 정수이며, r2는 0∼3의 정수이고; 단, r1+r2≤4를 충족하고; 「*1」은 결합손을 나타내고; 식 (2-2) 중, R2는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기이고; 「*2」는 결합손을 나타냄).(In the formula (2-1), R 1 is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, r 1 is an integer of 0 to 2, r 2 is an integer of 0 to 3; (2-2), R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; "* 2" indicates a bonding hand; ).

상기 R1의 탄소수 1∼10의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데칸일기 등을 들 수 있고, 이들은 직쇄상이라도 분기상이라도 좋다. 또한, 탄소수 1∼10의 알콕시기로서는, 탄소수 1∼10의 알킬기와 산소 원자가 결합되어 이루어지는 기를 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 1 include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, It may be in phase or in phase. Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms include groups in which an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is bonded to an oxygen atom, and specific examples thereof include a methoxy group, ethoxy group and propoxy group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

r1, r2는, 각각 0 또는 1이 바람직하다. r1 and r2 are preferably 0 or 1, respectively.

상기 R2로서는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 보다 바람직하고, 수소 원자인 것이 더욱 바람직하다. The R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.

상기 질소 함유 복소환으로서는, 예를 들면 피페리딘, 피롤리딘, 피리딘, 피라진, 피페라진, 피리미딘, 호모피페라진 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 축적된 잔류 전하를 완화시키는 효과가 높은 점에서, 피페리딘환 또는 피페라진환이 바람직하고, 피페리딘환이 보다 바람직하다. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include piperidine, pyrrolidine, pyridine, pyrazine, piperazine, pyrimidine and homopiperazine. Among them, a piperidine ring or a piperazine ring is preferable, and a piperidine ring is more preferable in view of the effect of relaxing the accumulated residual charge.

상기 구조 (Z)로서는, 전기 특성의 개선 효과가 높은 점에서, 상기식 (2-2)로 나타나는 구조 또는 질소 함유 복소환인 것이 바람직하고, 질소 함유 복소환인 것이 보다 바람직하다. The structure (Z) is preferably a structure represented by the formula (2-2) or a nitrogen-containing heterocyclic ring, and more preferably a nitrogen-containing heterocyclic ring because of its high effect of improving electrical characteristics.

상기 구조 (Z)는, 중합체의 주쇄 또는 측쇄 중 어느 것에 도입되어 있어도 좋다. 또한, 상기 구조 (Z)를 갖는 중합체는, 예를 들면, 중합체의 합성시에 있어서 카복실기를 갖는 디아민을 이용함으로써, 상기식 (2-1)로 나타나는 구조를 갖는 중합체를 얻을 수 있다. 또한, 상기식 (b3-4), 식 (b3-10)의 각각으로 나타나는 디아민이나, 상기식 (ar-1)로 나타나는 테트라카본산 2무수물을 이용함으로써, 상기식 (2-2)로 나타나는 구조를 갖는 중합체를 얻을 수 있다. 상기식 (b-21), (b3-1)∼(b3-3), (b3-8), (b3-9), (b3-11)∼(b3-14)의 각각으로 나타나는 디아민을 이용함으로써, 질소 함유 복소환을 갖는 중합체를 얻을 수 있다. The structure (Z) may be introduced into either the main chain or the side chain of the polymer. The polymer having the structure (Z) can be obtained by using, for example, a diamine having a carboxyl group in the synthesis of the polymer, the polymer having the structure represented by the formula (2-1). Further, by using the diamine represented by each of the formulas (b3-4) and (b3-10) or the tetracarboxylic acid dianhydride represented by the formula (ar-1) Structure can be obtained. The diamine represented by each of the above formulas (b-21), (b3-1) to (b3-3), (b3-8), (b3-9), (b3-11) , A polymer having a nitrogen-containing heterocycle can be obtained.

상기 구조 (Z)는, (A) 중합체 및 (B) 중합체를 갖고 있어도 좋고, (A) 중합체만을 갖고 있어도 좋고, (B) 중합체만을 갖고 있어도 좋다. 도막 중에 있어서, 극성의 상위를 이용하여 (A) 중합체 및 (B) 중합체의 편재화를 적합하게 행하게 하는 관점에서 보면, (A) 중합체 및 (B) 중합체 중 한쪽의 중합체가, 다른 한쪽의 중합체보다도 상기 구조 (Z)의 함유 비율이 높은 것이 바람직하고, 다른 한쪽의 중합체가 상기 구조 (Z)를 실질적으로 갖고 있지 않은 것이 보다 바람직하다. 바람직하게는, (B) 중합체가 상기 구조 (Z)를 갖는 태양이다. 또한, 「구조 (Z)를 실질적으로 갖고 있지 않다」란, 구조 (Z)를 갖고 있지 않거나, 혹은 당해 중합체의 전체 반복 단위에 대한, 구조 (Z)를 갖는 반복 단위의 함유 비율이 1몰% 이하, 바람직하게는 0.5몰% 이하이다. The structure (Z) may have the polymer (A) and the polymer (B), or may have only the polymer (A) and only the polymer (B). (A) a polymer and (B) a polymer in the coating film, from the viewpoint of suitably performing the copolymerization of the polymer (A) and the polymer (B) , It is more preferable that the content ratio of the structure (Z) is higher than that of the other structure, and it is more preferable that the other polymer does not substantially contain the structure (Z). Preferably, (B) the polymer has the structure (Z). The term "substantially free of the structure (Z)" means that the structure (Z) is not contained or the content ratio of the repeating unit having the structure (Z) to all the repeating units of the polymer is 1 mol% Or less, preferably 0.5 mol% or less.

구조 (Z)를 갖는 중합체에 있어서, 구조 (Z)를 갖는 반복 단위의 함유 비율은, 당해 중합체의 전체 반복 단위에 대하여, 2∼50몰%인 것이 바람직하고, 5∼40몰%인 것이 보다 바람직하다. In the polymer having the structure (Z), the content of the repeating unit having the structure (Z) is preferably from 2 to 50 mol%, more preferably from 5 to 40 mol%, based on the total repeating units of the polymer desirable.

본 발명의 광배향제의 중합체 성분에 있어서의 바람직한 조합으로서는, 예를 들면 이하의 [1]∼[5]의 태양 등을 들 수 있다. Preferable combinations of the polymer components of the photo-dispersing agent of the present invention include, for example, the following [1] to [5].

[1] (A) 중합체가, 구조 (Y)와 특정 원자를 갖는 중합체이고, (B) 중합체가, 구조 (Z)를 갖고, 또한 (A) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 낮은 중합체인 태양.[1] The sun is a polymer wherein the polymer (A) is a polymer having a structure (Y) and a specific atom, and the polymer (B) has a structure (Z) and has a specific atom content lower than that of the polymer (A).

[2] (A) 중합체가, 구조 (Y)와 구조 (Z)와 특정 원자를 갖는 중합체이고, (B) 중합체가, 구조 (Z)를 갖고, 또한 (A) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 낮은 중합체인 태양.[2] The polymer according to [1], wherein the polymer (A) is a polymer having a structure (Y), a structure (Z) and a specific atom, and the polymer (B) has a structure (Z) The sun, which is a low polymer.

[3] (A) 중합체가, 구조 (Y)와 특정 원자를 갖는 중합체 및, 구조 (Y)와 구조 (Z)와 특정 원자를 갖는 중합체의 혼합물이며, (B) 중합체가, 구조 (Z)를 갖고, 또한 (A) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 낮은 중합체인 태양.(3) A polymer composition according to the above (1), wherein the polymer (A) is a polymer having a structure (Y) and a specific atom and a mixture of a polymer having a structure (Y) (A) a polymer having a lower specific atom content than the polymer.

[4] (A) 중합체가, 구조 (Y) 및 구조 (Z)를 갖는 중합체이고, (B) 중합체가, 구조 (Y)를 갖고, 또한 (A) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 높은 중합체인 태양.[4] The polymer according to [1], wherein the polymer (A) is a polymer having a structure (Y) and a structure (Z), and the polymer (B) is a polymer having a structure (Y) Sun.

[5] (A) 중합체가, 구조 (Y) 및 구조 (Z)를 갖는 중합체이고, (B) 중합체가, 구조 (Y)를 실질적으로 갖고 있지 않고, 또한 (A) 중합체보다도 특정 원자의 함유율이 높은 중합체인 태양.[5] The polymer composition according to any one of [1] to [5], wherein the polymer (A) is a polymer having a structure (Y) and a structure (Z), wherein the polymer (B) has substantially no structure (Y) This high polymer, the sun.

(A) 중합체와 (B) 중합체의 조합은, [1], [2] 또는 [3]의 태양인 것이 바람직하고, 그 중에서도 [1]의 태양이 바람직하다. 반드시 명백하지는 않지만, [1]의 태양의 광배향제를 이용하여 기판 상에 도막을 형성한 경우, 당해 도막에서는, 광반응성이 높은 (A) 중합체가 상층에 편재화되고, 전기 특성의 개선 효과가 높은 (B) 중합체가 하층에 편재화되는 것으로 추측된다. 이에 따라, 우수한 액정 배향성 및 전기 특성을 나타내는 것으로 추측된다. The combination of the polymer (A) and the polymer (B) is preferably an embodiment of [1], [2] or [3]. Although not necessarily clear, when a coating film is formed on a substrate using the photopolymerization initiator of [1], the polymer (A) having high photoreactivity is uniformized in the upper layer in the coating film, It is presumed that the high (B) polymer is localized in the lower layer. Accordingly, it is presumed that it exhibits excellent liquid crystal alignability and electric characteristics.

<중합체의 용액 점도>&Lt; Solution viscosity of polymer &gt;

상기 (A) 중합체 및 상기 (B) 중합체는, 이것을 농도 10중량%의 용액으로 했을 때에, 각각 10∼800mPaㆍs의 용액 점도를 갖는 것이 바람직하고, 15∼500mPaㆍs의 용액 점도를 갖는 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 중합체의 용액 점도(mPaㆍs)는, 당해 중합체의 양(良)용매(예를 들면 γ-부티로락톤, N-메틸-2-피롤리돈 등)를 이용하여 조제한 농도 10중량%의 중합체 용액에 대해, E형 회전 점도계를 이용하여 25℃에서 측정한 값이다. The polymer (A) and the polymer (B) preferably have a solution viscosity of 10 to 800 mPa · s and a solution viscosity of 15 to 500 mPa · s, respectively, when the solution is a 10 wt% More preferable. The solution viscosity (mPa.s) of the polymer is preferably 10 weight% or less by weight, which is prepared by using a good solvent (for example,? -Butyrolactone, N-methyl- % Of the polymer solution at 25 占 폚 using an E-type rotational viscometer.

(A) 중합체 및 (B) 중합체는, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이, 500∼500,000인 것이 바람직하고, 1,000∼300,000인 것이 보다 바람직하다. The weight average molecular weight of the (A) polymer and the (B) polymer in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 500 to 500,000, more preferably 1,000 to 300,000.

광배향제 중에 있어서의 (A) 중합체와 (B) 중합체의 함유 비율은, 본 발명의 효과를 충분히 얻는 관점에서, 중량비 (A/B)로 2/8∼8/2로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 3/7∼7/3이다. The content ratio of the polymer (A) and the polymer (B) in the photopolymerization initiator is preferably 2/8 to 8/2 in terms of weight ratio (A / B) from the viewpoint of sufficiently obtaining the effect of the present invention, Preferably, it is 3/7 to 7/3.

<그 외의 성분><Other components>

본 발명의 광배향제는, 필요에 따라서 그 외의 성분을 함유하고 있어도 좋다. 이러한 그 외의 성분으로서는, 예를 들면 전술한 (A) 중합체 및 (B) 중합체 이외의 그 외의 중합체, 분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 화합물(이하, 「에폭시기 함유 화합물」이라고 함), 관능성 실란 화합물, 비스말레이미드 화합물, 알릴기 함유 화합물 등을 들 수 있다. The photo-dispersing agent of the present invention may contain other components as required. Examples of such other components include a polymer other than the polymer (A) and the polymer (B), a compound having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter referred to as an &quot; epoxy group-containing compound &quot;), Compounds, bismaleimide compounds, allyl group-containing compounds, and the like.

[그 외의 중합체] [Other Polymers]

상기 그 외의 중합체는, 용액 특성이나 전기 특성의 개선을 위해 사용할 수 있다. 이러한 그 외의 중합체로서는, 예를 들면 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리오르가노실록산, 셀룰로오스 유도체, 폴리아세탈, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐말레이미드) 유도체, 폴리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The other polymer may be used for improving solution characteristics and electrical properties. Examples of such other polymers include polyesters, polyamides, polyorganosiloxanes, cellulose derivatives, polyacetals, polystyrene derivatives, poly (styrene-phenylmaleimide) derivatives and poly (meth) acrylates .

그 외의 중합체를 광배향제에 첨가하는 경우, 그 배합 비율은, 당해 조성물 중의 전체 중합체량 100중량부에 대하여, 20중량부 이하로 하는 것이 바람직하고, 10중량부 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. When the other polymer is added to the photo-dispersing agent, the blending ratio thereof is preferably 20 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total polymer in the composition.

[에폭시기 함유 화합물] [Epoxy group-containing compound]

에폭시기 함유 화합물은, 액정 배향막에 있어서의 기판 표면과의 접착성이나 전기 특성을 향상시키기 위해 사용할 수 있다. 여기에서, 에폭시기 함유 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)사이클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N-디글리시딜벤질아민, N,N-디글리시딜아미노메틸사이클로헥산, N,N-디글리시딜사이클로헥실아민, 하기식 (e-1)∼(e-9):The epoxy group-containing compound can be used for improving the adhesion to the substrate surface and electric characteristics in the liquid crystal alignment film. Examples of the epoxy group-containing compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether Diallyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, 2,2-dibromonopentyl glycol di N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidylbenzylamine, N, N-diglycidylaminomethylcyclohexane, N, N- Diglycidylcyclohexylamine, the following formulas (e-1) to (e-9):

Figure pat00036
Figure pat00036

의 각각으로 나타나는 화합물, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 하이드로퀴논디글리시딜에테르, 비스페놀A 디글리시딜에테르, 수소화 비스페놀A 디글리시딜에테르, 디글리시딜테레프탈레이트 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다. 그 외에, 에폭시기 함유 화합물로서는, 국제공개 제2009/096598호에 기재된 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산을 이용할 수 있다. 이들 에폭시 화합물을 광배향제에 첨가하는 경우, 그 배합 비율은, 광배향제 중에 포함되는 중합체의 합계 100중량부에 대하여, 40중량부 이하가 바람직하고, 0.1∼30중량부가 보다 바람직하다. , Sorbitol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A Diglycidyl ether, diglycidyl terephthalate and the like can be preferably used. In addition, as the epoxy group-containing compound, an epoxy group-containing polyorganosiloxane described in International Publication No. 2009/096598 can be used. When these epoxy compounds are added to the photopolymerization initiator, the compounding ratio thereof is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 30 parts by weight, per 100 parts by weight of the total amount of the polymers contained in the photopolymerization initiator.

[관능성 실란 화합물] [Functional silane compound]

상기 관능성 실란 화합물은, 광배향제의 인쇄성의 향상을 목적으로 하여 사용할 수 있다. 이러한 관능성 실란 화합물로서는, 예를 들면 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 글리시독시메틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 이들 관능성 실란 화합물을 광배향제에 첨가하는 경우, 그 배합 비율은, 중합체의 합계 100중량부에 대하여, 2중량부 이하가 바람직하고, 0.02∼0.2중량부가 보다 바람직하다. The functional silane compound can be used for the purpose of improving the printing property of the photo-dispersing agent. Examples of such functional silane compounds include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- Aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl tri Methoxysilane and the like. When these functional silane compounds are added to the photo-dispersing agent, the blending ratio thereof is preferably 2 parts by weight or less, more preferably 0.02 to 0.2 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the polymers.

[비스말레이미드 화합물] [Bismaleimide compound]

상기 비스말레이미드 화합물은, 액정 배향막의 내열성이나 전기 특성, 도막의 내마모성을 향상시키기 위해 사용할 수 있다. 비스말레이미드 화합물로서는, 예를 들면 4,4'-디페닐메탄비스말레이미드, 비스-(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 2,2'-비스-[4-(4-말레이미드페녹시)페닐]프로판, 4-메틸-1,3-페닐렌비스말레이미드 등을 들 수 있다. 이들 비스말레이미드 화합물을 액정 배향제에 첨가하는 경우, 그 배합 비율은, 중합체의 합계 100중량부에 대하여, 40중량부 이하가 바람직하고, 0.1∼30중량부가 보다 바람직하다. The bismaleimide compound can be used to improve the heat resistance and electric characteristics of the liquid crystal alignment film and the abrasion resistance of the coating film. Examples of the bismaleimide compound include 4,4'-diphenylmethane bismaleimide, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl) methane, 2,2'- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide and the like. When these bismaleimide compounds are added to the liquid crystal aligning agent, the blending ratio thereof is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 30 parts by weight, per 100 parts by weight of the total amount of the polymers.

[알릴기 함유 화합물] [Allyl group-containing compound]

상기 알릴기 함유 화합물은, 액정 배향막의 전기 특성 향상 및 전압 보전율의 저하를 억제시키기 위해 사용할 수 있다. 알릴기 함유 화합물로서는, 예를 들면 하기식 (al-1)∼(al-3)의 각각으로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 알릴기 함유 화합물을 첨가하는 경우, 그 배합 비율은, 중합체의 합계 100중량부에 대하여, 40중량부 이하가 바람직하고, 0.1∼30중량부가 보다 바람직하다. The allyl group-containing compound can be used to suppress the improvement of the electric characteristics of the liquid crystal alignment layer and the decrease of the voltage holding ratio. Examples of the allyl group-containing compound include compounds represented by each of the following formulas (al-1) to (al-3). When these allyl group-containing compounds are added, the blending ratio thereof is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the polymers.

Figure pat00037
Figure pat00037

또한, 그 외의 성분으로서는, 상기 외에, 광배향제에 통상 첨가되는 첨가제, 예를 들면 분자 내에 적어도 하나의 옥세타닐기를 갖는 화합물, 산화 방지제, 광증감제 등을 사용할 수 있다. 또한, 도막의 강도를 향상시키기 위해, 일본특허공보 제3245849호에 기재되어 있는 바와 같은 락탐류, 글루타르산 이미드 화합물, 하이드록시피페리돈 화합물 및 피페리딘 화합물; 일본특허공보 제5045241호에 기재되어 있는 바와 같은, 옥세탄, 티이란(thiirane) 및 옥사졸린으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 헤테로환 구조를 갖는 헤테로환 화합물; 입경 1,000Å 이하의 무기 입자(예를 들면 실리카 입자 등) 등을 첨가할 수도 있다. In addition to the above, additives other than the above described additives commonly added to the photo-dispersing agent, for example, a compound having at least one oxetanyl group in the molecule, an antioxidant, a photosensitizer and the like may be used. Further, in order to improve the strength of the coating film, lactams, glutaric acid imide compounds, hydroxypiperidone compounds and piperidine compounds as described in Japanese Patent Publication No. 3245849; A heterocyclic compound having at least one heterocyclic structure selected from the group consisting of oxetane, thiirane and oxazoline as described in Japanese Patent Publication No. 5045241; And inorganic particles having a particle size of 1,000 ANGSTROM or less (for example, silica particles and the like).

<용매><Solvent>

본 발명의 액정 배향제는, 상기의 중합체 성분 및 필요에 따라서 첨가되는 그 외의 성분이, 바람직하게는 적당한 용매 중에 분산 또는 용해되어 이루어지는 액상의 조성물로서 조제된다. The liquid crystal aligning agent of the present invention is prepared as a liquid composition in which the above polymer component and other components added as required are dispersed or dissolved in an appropriate solvent.

사용하는 유기 용매로서는, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, γ-부티로락톤, γ-부티로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 락트산 부틸, 아세트산 부틸, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜-i-프로필에테르, 에틸렌글리콜-n-부틸에테르(부틸셀로솔브), 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디이소부틸케톤, 이소아밀프로피오네이트, 이소아밀이소부티레이트, 디이소펜틸에테르, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the organic solvent to be used include organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone,? -Butyrolactone,? -Butyrolactam, N, N-dimethylformamide, Methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol- propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether , Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamylphosphate Propionate, isoamyl isobutyrate, di-isopentyl ether, ethylene carbonate, propylene carbonate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 광배향제에 있어서의 고형분 농도(광배향제의 용매 이외의 성분의 합계 중량이 광배향제의 전체 중량에 차지하는 비율)는, 점성, 휘발성 등을 고려하여 적절하게 선택되지만, 바람직하게는 1∼10중량%의 범위이다. 즉, 본 발명의 광배향제는, 후술하는 바와 같이 기판 표면에 도포되고, 바람직하게는 가열됨으로써, 액정 배향막이 되는 도막이 형성되지만, 이때, 고형분 농도가 1중량% 미만인 경우에는, 이 도막의 막두께가 과소하게 되어 양호한 액정 배향막을 얻기 어렵다. 한편, 고형분 농도가 10중량%를 초과하는 경우에는, 도막의 막두께가 과대하게 되어 양호한 액정 배향막을 얻기 어렵고, 또한, 광배향제의 점성이 증대하여 도포 특성이 뒤떨어지는 것이 된다. The solid concentration (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the photo-dispersing agent to the total weight of the photo-dispersing agent) in the photo-dispersing agent of the present invention is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, etc., 10% by weight. That is, the coating composition to be the liquid crystal alignment film is formed by coating the surface of the substrate, preferably by heating, as will be described later. When the concentration of the solid content is less than 1% by weight, And it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid concentration exceeds 10% by weight, the film thickness of the coating film becomes excessively large, and it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film, and the viscosity of the photo-dispersing agent is increased and the coating property is poor.

특히 바람직한 고형분 농도의 범위는, 기판에 광배향제를 도포할 때에 이용하는 방법에 따라 상이하다. 예를 들면 스피너법에 의한 경우에는, 고형분 농도를 1.5∼4.5중량%의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 인쇄법에 의한 경우에는, 고형분 농도를 3∼9중량%의 범위로 하고, 그에 따라 용액 점도를 12∼50mPaㆍs의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 잉크젯법에 의한 경우에는, 고형분 농도를 1∼5중량%의 범위로 하고, 그에 따라, 용액 점도를 3∼15mPaㆍs의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 본 발명의 광배향제를 조제할 때의 온도는, 바람직하게는 10∼50℃이고, 보다 바람직하게는 20∼30℃이다. Particularly preferable range of the solid content concentration differs depending on the method used when applying the light distribution agent to the substrate. For example, in the case of the spinner method, it is particularly preferable that the solid concentration is in the range of 1.5 to 4.5% by weight. In the case of the printing method, it is particularly preferable that the solid concentration is in the range of 3 to 9 wt%, and the solution viscosity is in the range of 12 to 50 mPa · s accordingly. In the case of the ink-jet method, it is particularly preferable that the solid concentration is in the range of 1 to 5 wt%, and accordingly the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s. The temperature for preparing the photo-dispersing agent of the present invention is preferably 10 to 50 占 폚, more preferably 20 to 30 占 폚.

<액정 배향막>&Lt; Liquid crystal alignment film &

본 발명에 있어서의 액정 배향막은, 상기와 같이 조제된 광배향제를 이용하여 형성된다. 당해 액정 배향막은, TN형, STN형 또는 횡전계 방식의 액정 표시 소자에 적용하는 것이 바람직하다. 그 중에서도 특히, IPS형이나 FFS형 등의 횡전계 방식의 액정 표시 소자에 적용함으로써, 액정 표시 소자의 번인을 저감한다는 효과를 최대한으로 발휘할 수 있어 바람직하다. The liquid crystal alignment film in the present invention is formed using the photo-dispersing agent prepared as described above. The liquid crystal alignment film is preferably applied to a TN type, STN type, or transverse electric field type liquid crystal display device. In particular, it is preferable to apply the present invention to a liquid crystal display element of a transverse electric field system such as an IPS or FFS type, because the effect of reducing the burn-in of the liquid crystal display element can be maximized.

본 발명에 있어서의 액정 배향막은, 본 발명의 광배향제를 기판 상에 도포하여 도막을 형성하는 막 형성 공정과, 그 형성한 도막에 광조사하여 액정 배향막을 형성하는 광조사 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다. The liquid crystal alignment film in the present invention can be produced by a method including a film forming step of applying a photo-dispersing agent of the present invention on a substrate to form a coating film and a light irradiation step of forming a liquid crystal alignment film by irradiating the formed coating film with light . &Lt; / RTI &gt;

[막 형성 공정] [Film forming process]

본 공정에서는, 기판 상에 본 발명의 광배향제를 도포하고, 이어서 도포면을 가열함으로써 기판 상에 도막을 형성한다. In this step, the photo-dispersing agent of the present invention is applied onto the substrate, and then the coated surface is heated to form a coating film on the substrate.

TN형 또는 STN형의 액정 표시 소자에 적용하는 경우, 패터닝된 투명 도전막이 형성되어 있는 기판 2매를 한 쌍으로 하고, 그 각각의 투명 도전막의 형성면 상에, 본 발명의 광배향제를 도포하여 도막을 형성한다. 한편, 횡전계 방식의 액정 표시 소자에 적용하는 경우, 패터닝된 투명 도전막 또는 금속막으로 이루어지는 전극을 편면에 갖는 기판과, 전극이 형성되어 있지 않은 대향 기판을 한 쌍으로 하고, 전극의 형성면과 대향 기판의 편면에, 각각 본 발명의 광배향제를 도포하여 도막을 형성한다. In the case of applying to a TN type or STN type liquid crystal display device, two pairs of substrates on which a patterned transparent conductive film is formed are paired, and the photo-dispersing agent of the present invention is coated on the respective transparent conductive film- Thereby forming a coating film. On the other hand, when applied to a liquid crystal display device of a transverse electric field system, a pair of a substrate having an electrode composed of a patterned transparent conductive film or a metal film on one side and an opposing substrate on which electrodes are not formed, And the opposite surface of the counter substrate, respectively, to form a coating film.

어느 경우도, 기판으로서는, 예를 들면 플로트 유리, 소다 유리와 같은 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트와 같은 플라스틱으로 이루어지는 투명 기판 등을 이용할 수 있다. 상기 투명 도전막으로서는, 예를 들면 In2O3-SnO2로 이루어지는 ITO막, SnO2로 이루어지는 NESA(등록상표)막 등을 이용할 수 있다. 상기 금속막으로서는, 예를 들면 크롬 등의 금속으로 이루어지는 막을 사용할 수 있다. 투명 도전막 및 금속막의 패터닝은, 예를 들면 패턴이 없는 투명 도전막을 형성한 후에 포토ㆍ에칭법, 스퍼터법 등에 의해 패턴을 형성하는 방법; 투명 도전막을 형성할 때에 소망하는 패턴을 갖는 마스크를 이용하는 방법; 등에 의할 수 있다. 또한, 광배향제의 도포시에 있어서는, 기판, 도전막 또는 전극과 도막과의 접착성을 더욱 양호하게 하기 위해, 기판 표면 중 도막을 형성하는 면에, 관능성 실란 화합물, 관능성 티탄 화합물 등을 미리 도포하는 전(前)처리를 행해 두어도 좋다. In either case, as the substrate, for example, a transparent substrate made of plastic such as glass such as float glass, soda glass, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, or the like can be used. As the transparent conductive film, for example, an ITO film made of In 2 O 3 -SnO 2 , a NESA (registered trademark) film made of SnO 2 , or the like can be used. As the metal film, for example, a film made of a metal such as chromium can be used. The patterning of the transparent conductive film and the metal film can be performed by, for example, a method of forming a pattern by a photo-etching method, a sputtering method, or the like after forming a transparent conductive film without a pattern; A method using a mask having a desired pattern when forming a transparent conductive film; And so on. Further, at the time of applying the photo-dispersing agent, a functional silane compound, a functional titanium compound or the like is added to the surface of the substrate surface on which the coating film is formed in order to improve the adhesion between the substrate, the conductive film or the electrode and the coating film It is also possible to carry out a pre-treatment for pre-coating.

기판으로의 광배향제의 도포는, 바람직하게는 오프셋 인쇄법, 스핀 코팅법, 롤코터법, 잉크젯 인쇄법 등의 도포 방법에 의해 행할 수 있다. 광배향제를 도포한 후에는, 도포한 광배향제의 액흐름 방지 등의 목적으로, 바람직하게는 예비 가열(프리베이킹)이 실시된다(프리베이킹 공정). 프리베이킹 온도는, 바람직하게는 30∼200℃이고, 보다 바람직하게는 40∼150℃이고, 특히 바람직하게는 40∼100℃이다. 프리베이킹 시간은, 바람직하게는 0.25∼10분이고, 보다 바람직하게는 0.5∼5분이다. 그 후, 용매를 완전하게 제거하고, 필요에 따라서 중합체에 존재하는 암산 구조를 열이미드화하는 것을 목적으로 하여, 프리베이킹 후의 도막을 소성하는 포스트베이킹 공정이 실시된다. 이때의 포스트베이킹 온도는, 바람직하게는 80∼300℃이고, 보다 바람직하게는 120∼250℃이다. 포스트베이킹 시간은, 바람직하게는 5∼200분이고, 보다 바람직하게는 10∼100분이다. 포스트베이킹 후의 도막의 막두께는, 바람직하게는 0.001∼1㎛이고, 보다 바람직하게는 0.005∼0.5㎛이다. The application of the photo-dispersing agent to the substrate can be preferably performed by a coating method such as an offset printing method, a spin coating method, a roll coater method, or an inkjet printing method. After the application of the photo-brightening agent, preheating (pre-baking) is preferably performed for the purpose of preventing the flow of the applied photo-brightening agent or the like (pre-baking step). The prebaking temperature is preferably 30 to 200 캜, more preferably 40 to 150 캜, particularly preferably 40 to 100 캜. The prebaking time is preferably 0.25 to 10 minutes, more preferably 0.5 to 5 minutes. Thereafter, a post-baking step is carried out in which the solvent is completely removed and the post-baked coating film is baked for the purpose of thermally modifying the arid acid structure present in the polymer as required. The post-baking temperature at this time is preferably 80 to 300 占 폚, more preferably 120 to 250 占 폚. The post baking time is preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes. The film thickness of the coated film after post baking is preferably 0.001 to 1 mu m, more preferably 0.005 to 0.5 mu m.

[광조사 공정] [Light irradiation step]

본 공정에서는, 기판 상에 형성된 도막에 대하여, 편광 또는 비편광의 방사선을 조사함으로써 액정 배향능을 부여한다. 방사선으로서는, 예를 들면 150∼800㎚의 파장의 빛을 포함하는 자외선 및 가시광선을 이용할 수 있다. 방사선이 편광인 경우, 직선 편광이라도 부분 편광이라도 좋다. 또한, 이용하는 방사선이 직선 편광 또는 부분 편광인 경우에는, 조사는 기판면에 수직인 방향으로부터 행해도 좋고, 경사 방향으로부터 행해도 좋고, 또는 이들을 조합하여 행해도 좋다. 비편광의 방사선을 조사하는 경우에는, 조사의 방향은 경사 방향으로 한다. In this step, a coating film formed on a substrate is irradiated with a polarized light or a non-polarized radiation to impart liquid crystal aligning ability. As the radiation, for example, ultraviolet rays and visible rays including light having a wavelength of 150 to 800 nm can be used. When the radiation is polarized light, it may be linearly polarized light or partially polarized light. When the radiation to be used is linearly polarized light or partial polarized light, the irradiation may be performed in a direction perpendicular to the substrate surface, in an oblique direction, or in combination thereof. In the case of irradiating non-polarized radiation, the irradiation direction is set to the oblique direction.

사용하는 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 중수소 램프, 메탈 할라이드 램프, 아르곤 공명 램프, 제논 램프, 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있다. 바람직한 파장 영역의 자외선은, 광원을, 예를 들면 필터, 회절격자 등과 병용하는 수단 등에 의해 얻을 수 있다. As the light source to be used, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp and an excimer laser can be used. The ultraviolet ray in the preferable wavelength range can be obtained by a means for using the light source together with, for example, a filter, a diffraction grating, or the like.

광조사는, [1] 포스트베이킹 공정 후의 도막에 대하여 조사하는 방법, [2] 프리베이킹 공정 후, 포스트베이킹 공정 전의 도막에 대하여 조사하는 방법, [3] 프리베이킹 공정 및 포스트베이킹 공정 중 적어도 어느 하나에 있어서 도막의 가열 중에 도막에 대하여 조사하는 방법 등에 의해 행할 수 있다. 액정 표시 소자에 있어서의 번인 저감의 효과가 높은 점에서, 바람직하게는 [2]의 방법이다. 빛의 조사량은, 바람직하게는 100∼50,000J/㎡이고, 보다 바람직하게는 300∼20,000J/㎡이다. 또한, 도막에 대한 광조사는, 반응성을 높이기 위해 도막을 가온하면서 행해도 좋다. 가온시의 온도는, 통상 30∼250℃이고, 바람직하게는 40∼200℃이고, 보다 바람직하게는 50∼150℃이다. 이렇게 하여, 기판 상에 액정 배향막이 형성된다. The light irradiation is carried out in the following manner: [1] a method of irradiating a coating film after the post-baking step, [2] a method of irradiating the coating film before the post-baking step after the pre-baking step, [3] And a method in which the coating film is irradiated to the coating film while heating the coating film. Is preferably the method of [2] in that the effect of reducing the burn-in in the liquid crystal display element is high. The dose of light is preferably 100 to 50,000 J / m 2, and more preferably 300 to 20,000 J / m 2. The light irradiation to the coating film may be performed while heating the coating film to enhance the reactivity. The temperature at the time of heating is usually 30 to 250 占 폚, preferably 40 to 200 占 폚, and more preferably 50 to 150 占 폚. Thus, a liquid crystal alignment film is formed on the substrate.

<액정 표시 소자><Liquid crystal display element>

본 발명의 액정 표시 소자는, 상기에서 얻어진 액정 배향막을 구비한다. 본 발명의 액정 표시 소자는, 예를 들면 이하와 같이 하여 제조할 수 있다. 우선, 상기와 같이 하여 액정 배향막이 형성된 한 쌍의 기판을 준비하고, 이 한 쌍의 기판 간에 액정이 협지된 구성의 액정 셀을 제조한다. 액정 셀을 제조하려면, 예를 들면 이하의 2가지의 방법을 들 수 있다. 제1 방법은, 종래부터 알려져 있는 방법이다. 우선, 각각의 액정 배향막이 대향하도록 간극(셀 갭)을 개재하여 2매의 기판을 대향 배치하고, 2매의 기판의 주변부를, 시일제를 이용하여 접합하고, 기판 표면 및 시일제에 의해 구획된 셀 갭 내에 액정을 주입 충전한 후, 주입구를 봉지함으로써 액정 셀을 제조하는 방법이다. The liquid crystal display element of the present invention comprises the liquid crystal alignment film obtained as described above. The liquid crystal display element of the present invention can be produced, for example, as follows. First, a pair of substrates on which a liquid crystal alignment film is formed as described above is prepared, and a liquid crystal cell having a configuration in which liquid crystal is sandwiched between the pair of substrates is manufactured. To produce a liquid crystal cell, for example, the following two methods can be mentioned. The first method is a conventionally known method. First, two substrates are opposed to each other with a gap (cell gap) interposed therebetween so that the respective liquid crystal alignment films face each other. The peripheral portions of the two substrates are bonded together using a sealant, A liquid crystal is injected and filled in the cell gap, and then the injection port is sealed to manufacture a liquid crystal cell.

제2 방법은, ODF(One Drop Fill) 방식으로 불리는 수법이다. 우선, 한쪽의 기판 상의 소정의 장소에, 예를 들면 자외광 경화성의 시일제를 도포하고, 또한 액정 배향막면 상에 액정을 적하한 후, 액정 배향막이 대향하도록 다른 한쪽의 기판을 접합하고, 이어서 기판의 전체면에 자외광을 조사하여 시일제를 경화함으로써 액정 셀을 제조한다. 어느 방법에 의한 경우에서도, 이어서, 액정 셀을, 이용한 액정이 등방상(等方相)을 취하는 온도까지 가열한 후, 실온까지 서서히 냉각함으로써, 액정 충전시의 유동 배향을 제거하는 것이 바람직하다. 그리고, 액정 셀의 외측 표면에 편광판을 접합함으로써, 본 발명의 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 또한, 방사선이 직선 편광인 경우, 액정 배향막이 형성된 2매의 기판에 대해서, 조사한 방사선의 편광 방향이 이루는 각도 및 각각의 기판과 편광판과의 각도를 적당히 조정함으로써, 소망하는 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. The second method is a method called ODF (One Drop Fill) method. First, for example, an ultraviolet curable sealing agent is applied to a predetermined position on one substrate, liquid crystal is dropped on the liquid crystal alignment film surface, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment film is opposed, The liquid crystal cell is manufactured by irradiating ultraviolet light to the entire surface of the substrate to cure the sealant. In either case, it is preferable to heat the liquid crystal cell to a temperature at which the liquid crystal using the liquid crystal has an isotropic phase, and then gradually cool to room temperature to remove the flow alignment at the time of filling the liquid crystal. The liquid crystal display element of the present invention can be obtained by bonding a polarizing plate to the outer surface of the liquid crystal cell. When the radiation is linearly polarized, a desired liquid crystal display element can be obtained by appropriately adjusting the angle formed by the polarization direction of the irradiated radiation and the angle between each substrate and the polarizing plate with respect to the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed have.

시일제로서는, 예를 들면 스페이서로서의 산화 알류미늄구 및 경화제를 함유하는 에폭시 수지 등을 이용할 수 있다. As the sealing agent, for example, an epoxy resin containing an aluminum oxide spheres as a spacer and a curing agent can be used.

액정으로서는, 예를 들면 네마틱 액정, 스멕틱 액정 등을 이용할 수 있고, 그 중에서도, 네마틱 액정을 형성하는 정(正)의 유전 이방성을 갖는 것이 바람직하고, 예를 들면 비페닐계 액정, 페닐사이클로헥산계 액정, 에스테르계 액정, 테르페닐계 액정, 비페닐사이클로헥산계 액정, 피리미딘계 액정, 디옥산계 액정, 바이사이클로옥탄계 액정, 쿠반계 액정 등이 이용된다. 또한 액정에, 예를 들면 콜레스테릴클로라이드, 콜레스테릴노나에이트, 콜레스테릴카보네이트 등의 콜레스테릭 액정; 상품명 「C-15」, 「CB-15」(이상, 메르크사 제조)로서 판매되고 있는 키랄제; p-데실옥시벤질리덴-p-아미노-2-메틸부틸신나메이트 등의 강(强)유전성 액정 등을, 추가로 첨가하여 사용해도 좋다. As the liquid crystal, for example, a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, or the like can be used. Among them, those having a positive dielectric anisotropy for forming a nematic liquid crystal are preferable. For example, Based liquid crystal, terphenyl-based liquid crystal, biphenylcyclohexane-based liquid crystal, pyrimidine-based liquid crystal, dioxane-based liquid crystal, bicyclooctane-based liquid crystal, quaternary liquid crystal and the like are used. In addition, a cholesteric liquid crystal such as cholesteryl chloride, cholesteryl nonanoate, and cholesteryl carbonate in a liquid crystal; Chiral agent sold under the trade names "C-15" and "CB-15" (manufactured by Merck Ltd.); p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methylbutyl cinnamate, and the like may further be added and used.

편광판으로서는, 폴리비닐알코올을 연신 배향시키면서 요오드를 흡수시킨 「H막」이라고 칭해지는 편광막을 아세트산 셀룰로오스 보호막으로 사이에 끼운 편광판, H막 그 자체로 이루어지는 편광판 등을 들 수 있다. Examples of the polarizing plate include a polarizing plate sandwiching a polarizing film called &quot; H film &quot; in which iodine is absorbed while polyvinyl alcohol is oriented in a stretched state with a cellulose acetate protective film, and a polarizing plate made of H film itself.

본 발명의 액정 표시 소자는, 본 발명의 광배향제를 이용하여 광배향법에 의해 형성한 액정 배향막을 가짐으로써, 특히 횡전계 방식의 액정 표시 소자에 적용한 경우에, 번인이 적고, 또한 높은 전압 보전율을 나타낸다. 따라서, 본 발명의 액정 표시 소자는 여러 가지의 장치에 유효하게 적용할 수 있고, 예를 들면, 시계, 휴대형 게임, 워드 프로세서, 노트형 퍼스널 컴퓨터, 카 내비게이션 시스템, 캠코더, PDA, 디지털 카메라, 휴대 전화, 스마트폰, 각종 모니터, 액정 텔레비전, 인포메이션 디스플레이 등의 표시 장치에 이용되는 액정 표시 소자로서 적합하게 적용할 수 있다. Since the liquid crystal display element of the present invention has a liquid crystal alignment layer formed by the photo alignment method using the photo-dispersing agent of the present invention, particularly when applied to a transverse electric field type liquid crystal display element, . Therefore, the liquid crystal display device of the present invention can be effectively applied to various devices, and can be applied to various devices such as a clock, a portable game, a word processor, a notebook type personal computer, a car navigation system, a camcorder, a PDA, It can be suitably applied as a liquid crystal display element used in a display device such as a telephone, a smart phone, various monitors, a liquid crystal television, and an information display.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 제한되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

합성예에 있어서의 각 중합체의 중량 평균 분자량, 각 중합체 용액의 용액 점도 및 이미드화율은 이하의 방법에 의해 측정했다. The weight average molecular weight of each polymer, the solution viscosity of each polymer solution and the imidation rate in the synthesis examples were measured by the following methods.

[중합체의 중량 평균 분자량] [Weight average molecular weight of polymer]

중합체의 중량 평균 분자량 Mw는, 이하의 조건에 있어서의 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정한 폴리스티렌 환산값이다. The weight average molecular weight Mw of the polymer is a polystyrene reduced value measured by gel permeation chromatography under the following conditions.

칼럼: 토소(주) 제조, TSKgelGRCXLⅡColumn: TSKgelGRCXLII, manufactured by Tosoh Corporation

용매: 테트라하이드로푸란Solvent: tetrahydrofuran

온도: 40℃Temperature: 40 ° C

압력: 68kgf/㎠Pressure: 68kgf / ㎠

[중합체 용액의 용액 점도] [Solution viscosity of polymer solution]

중합체 용액의 용액 점도[mPaㆍs]는, N-메틸-2-피롤리돈(NMP)을 이용하고, 중합체 농도 10중량%로 조제한 용액에 대해서, E형 회전 점도계를 이용하여 25℃에서 측정했다. The solution viscosity [mPa.s] of the polymer solution was measured at 25.degree. C. using an E-type rotational viscometer with respect to a solution prepared by using N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) did.

[이미드화율의 측정] [Measurement of imidization rate]

폴리이미드의 용액을 순수에 투입하고, 얻어진 침전을 실온에서 충분히 감압 건조한 후, 중수소화 디메틸술폭사이드에 용해하고, 테트라메틸실란을 기준 물질로 하여 실온에서 1H-NMR을 측정했다. 얻어진 1H-NMR 스펙트럼으로부터, 하기 수식 (1)로 나타나는 식에 의해 이미드화율[%]을 구했다. The polyimide solution was poured into pure water, and the obtained precipitate was sufficiently dried under reduced pressure at room temperature, then dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide, and 1 H-NMR was measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference material. From the obtained 1 H-NMR spectrum, the imidization rate [%] was determined by the equation shown in the following equation (1).

이미드화율[%]={(1-A1)/(A2×α)}×100  …(1)Imidization rate [%] = {(1-A 1 ) / (A 2 x?)} 100 ... (One)

(수식 (1) 중, A1은 화학 시프트 10ppm 부근에 나타나는 NH기의 프로톤 유래의 피크 면적이고, A2는 그 외의 프로톤 유래의 피크 면적이고, α는 중합체의 전구체(폴리암산)에 있어서의 NH기의 프로톤 1개에 대한 그 외의 프로톤의 개수 비율임).(In the formula (1), A 1 is the peak area derived from the proton of the NH group near the chemical shift of 10 ppm, A 2 is the peak area derived from the other proton, and α is the peak area derived from the proton The ratio of the number of other protons to one proton in the NH group).

《중합체의 합성》&Quot; Synthesis of polymer &quot;

중합체 (A-1)∼(A-14) 및 중합체 (B-1)∼(B-7)은, 각 합성예에 있어서 하기의 화합물을 이용하여 합성했다. The polymers (A-1) to (A-14) and the polymers (B-1) to (B-7) were synthesized using the following compounds in each synthesis example.

<테트라카본산 유도체><Tetracarboxylic acid derivatives>

ㆍ 특정 테트라카본산 2무수물Specific tetracarboxylic acid dianhydride

Figure pat00038
Figure pat00038

ㆍ 그 외의 테트라카본산 2무수물 및 테트라카본산 디에스테르Other tetracarboxylic acid dianhydrides and tetracarboxylic acid diesters

Figure pat00039
Figure pat00039

Figure pat00040
Figure pat00040

Figure pat00041
Figure pat00041

(식 (t-6) 중, R은 에틸기이고; 식 (t-12) 중, m은 1∼15의 정수임).(In the formula (t-6), R is an ethyl group; and in the formula (t-12), m is an integer of 1 to 15).

<디아민><Diamine>

ㆍ 특정 디아민ㆍ Specific diamine

Figure pat00042
Figure pat00042

ㆍ 그 외의 디아민ㆍ Other diamines

Figure pat00043
Figure pat00043

<모노아민><Monoamine>

Figure pat00044
Figure pat00044

<(A) 중합체의 합성>&Lt; Synthesis of (A) Polymer &

ㆍ 폴리이미드의 합성ㆍ Synthesis of polyimide

[합성예 a1: 중합체 (A-1)의 합성] [Synthesis Example a1: Synthesis of Polymer (A-1)] [

테트라카본산 2무수물로서 화합물 (a-2)를 100몰부, 디아민으로서 화합물 (b-1)을 70몰부 및, 화합물 (d-7)을 30몰부를 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)에 용해시키고, 실온에서 6시간 반응시켰다. 이에 따라, 고형분 농도 15중량%의 폴리암산 용액을 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리암산 용액에, N-메틸피페리딘 및 무수 아세트산을 각각 테트라카본산 2무수물의 사용량에 대하여 0.5배몰 첨가하고, 75℃에서 3시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 탈수 폐환 후, 계 내의 용매를 새로운 NMP로 용매 치환하여, 이미드화율 30%의 폴리이미드를 15중량% 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드를 중합체 (A-1)로 했다. 중합체 (A-1)의 중량 평균 분자량 Mw는 50,000이었다. 100 molar parts of the compound (a-2) as the tetracarboxylic acid dianhydride, 70 mol parts of the compound (b-1) as diamine and 30 mol of the compound (d-7) ) And reacted at room temperature for 6 hours. Thus, a polyamic acid solution having a solid concentration of 15% by weight was obtained. Next, N-methylpiperidine and acetic anhydride were added to the resulting polyamic acid solution in an amount of 0.5 times the amount of the tetracarboxylic acid dianhydride, respectively, and the dehydration ring-closure reaction was carried out at 75 占 폚 for 3 hours. After dehydration ring closure, the solvent in the system was replaced with a fresh NMP solvent to obtain a solution containing 15% by weight of polyimide having an imidization rate of 30%. This polyimide was used as the polymer (A-1). The polymer (A-1) had a weight average molecular weight Mw of 50,000.

[합성예 a7: 중합체 (A-7)의 합성]  [Synthesis Example a7: Synthesis of Polymer (A-7)] [

사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 종류 및 양을 하기표 1과 같이 변경한 것 이외는, 합성예 a1과 동일한 조작을 행하여, 이미드화율 35%의 폴리이미드를 합성했다. 얻어진 폴리이미드를 중합체 (A-7)로 했다. 중합체 (A-7)의 중량 평균 분자량 Mw는 80,000이었다. A polyimide having an imidization rate of 35% was synthesized by carrying out the same operation as in Synthesis Example a1 except that the kind and amount of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine used were changed as shown in Table 1 below. The obtained polyimide was designated as polymer (A-7). The polymer (A-7) had a weight average molecular weight Mw of 80,000.

[합성예 a10: 중합체 (A-10)의 합성] [Synthesis Example a10: synthesis of polymer (A-10)] [

사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 종류 및 양을 하기표 1과 같이 변경한 점 및, 모노아민으로서 화합물 (m-1)을 20몰부 첨가한 점 이외는, 합성예 a1과 동일한 조작을 행하여, 이미드화율 20%의 폴리이미드를 합성했다. 얻어진 폴리이미드를 중합체 (A-10)으로 했다. 중합체 (A-10)의 중량 평균 분자량 Mw는 95,000이었다. The same operations as those of Synthetic Example a1 were performed except that the kind and amount of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine used were changed as shown in Table 1 and 20 moles of the compound (m-1) was added as the monoamine, , And a polyimide having an imidization rate of 20% were synthesized. The obtained polyimide was used as the polymer (A-10). The polymer (A-10) had a weight average molecular weight Mw of 95,000.

ㆍ 폴리암산의 합성ㆍ Synthesis of polyamic acid

[합성예 a2: 중합체 (A-2)의 합성] [Synthesis Example a2: Synthesis of Polymer (A-2)] [

테트라카본산 2무수물로서 화합물 (a-2)를 50몰부, 화합물 (a-15)를 40몰부 및, 화합물 (a-12)를 10몰부, 디아민으로서 화합물 (b-5)를 80몰부 및, 화합물 (d-8)을 20몰부를 NMP에 용해시키고, 실온에서 8시간 반응시켰다. 이에 따라, 고형분 농도 15중량%의 폴리암산 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산을 중합체 (A-2)로 했다. 중합체 (A-2)의 중량 평균 분자량 Mw는 40,000이었다. (A-2) as a diamine, 80 parts by mole of the compound (a-2) as a tetracarboxylic acid dianhydride, 40 moles of the compound (a-15), 10 moles of the compound 20 mols of the compound (d-8) was dissolved in NMP and reacted at room temperature for 8 hours. Thus, a polyamic acid solution having a solid concentration of 15% by weight was obtained. The obtained polyamic acid was used as the polymer (A-2). The polymer (A-2) had a weight average molecular weight Mw of 40,000.

[합성예 a4∼a6, a8, a14: 중합체 (A-4)∼(A-6), (A-8), (A-14)의 합성] Synthesis Examples a4 to a6, a8 and a14: synthesis of polymers (A-4) to (A-6), (A-8) and (A-

사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 종류 및 양을 하기표 1과 같이 변경한 것 이외는, 합성예 a2와 동일한 조작을 행하여, 고형분 농도 10중량%의 폴리암산 용액을 얻었다. 각 중합체의 중량 평균 분자량 Mw를 하기표 1에 아울러 나타냈다. A polyamic acid solution having a solid content concentration of 10% by weight was obtained by carrying out the same operation as in Synthesis Example a2 except that the kind and amount of tetracarboxylic acid dianhydride and diamine used were changed as shown in Table 1 below. The weight average molecular weight Mw of each polymer is shown in Table 1 below.

[합성예 a9, a11: 중합체 (A-9), (A-11)의 합성] Synthesis Examples a9 and a11: Synthesis of Polymers (A-9) and (A-11)

사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 종류 및 양을 하기표 1과 같이 변경한 점 및, 모노아민으로서 화합물 (m-1) 또는 화합물 (m-2)를 첨가한 점 이외는, 합성예 a2와 동일한 조작을 행하여, 고형분 농도 10중량%의 폴리암산 용액을 얻었다. 각 중합체의 중량 평균 분자량 Mw를 하기표 1에 아울러 나타냈다.Except that the kind and amount of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine to be used were changed as shown in Table 1 and that the compound (m-1) or the compound (m-2) was added as the monoamine, Was carried out to obtain a polyamic acid solution having a solid concentration of 10% by weight. The weight average molecular weight Mw of each polymer is shown in Table 1 below.

ㆍ 폴리암산 에스테르의 합성ㆍ Synthesis of polyamic acid ester

[합성예 a3: 중합체 (A-3)의 합성] [Synthesis Example a3: Synthesis of Polymer (A-3)] [

테트라카본산 2무수물로서 화합물 (t-3)을 70몰부 및, 화합물 (t-8)을 30몰부, 디아민으로서 화합물 (b-10)을 90몰부, (d-8)을 10몰부를, NMP에 용해시키고, 실온에서 6시간 반응시켰다. 추가로, 이 반응액에 N,N-디메틸포름아미드디에틸아세탈을 80몰부 적하하고, 그 후 50℃에서 2시간 반응시켜, 폴리암산 에스테르 용액을 얻었다. 중합체 (A-3)의 중량 평균 분자량은 120,000이었다. (B-10) as a diamine and 10 mols of the compound (d-8) as a diamine were dissolved in a mixed solvent of 70 molar parts of tetracarboxylic acid dianhydride, 30 molar parts of the compound (t-8) And reacted at room temperature for 6 hours. Further, 80 molar portions of N, N-dimethylformamide diethyl acetal were added dropwise to this reaction solution, and the mixture was reacted at 50 DEG C for 2 hours to obtain a polyamic acid ester solution. The polymer (A-3) had a weight average molecular weight of 120,000.

[합성예 a12: 중합체 (A-12)의 합성] [Synthesis Example a12: synthesis of polymer (A-12)] [

테트라카본산 2무수물로서 화합물 (t-5) 30g을 에탄올 500mL 중에 첨가하여, 테트라카본산 디에스테르로 했다. 얻어진 침전물을 여과분별하고, 에탄올로 세정한 후에 감압 건조하여, 테트라카본산 디에스테르 분말을 얻었다. 얻어진 테트라카본산 디에스테르(화합물 (t-6))를 15몰부, 화합물 (a-2)를 70몰부 및, 화합물 (t-11)을 15몰부를 NMP에 용해시킨 후, 여기에 디아민으로서 화합물 (b-10)을 100몰부 더하여 용해시켰다. 이 용액에, 4-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-4-메틸모르폴리늄클로라이드(DMT-MM, 15±2중량% 수화물) 300몰부를 첨가하고, 실온에서 4시간 반응을 행하여, 폴리암산 에스테르 용액을 얻었다. 중합체 (A-12)의 중량 평균 분자량 Mw는 40,000이었다. 30 g of the compound (t-5) as a tetracarboxylic acid dianhydride was added to 500 mL of ethanol to obtain a tetracarboxylic acid diester. The obtained precipitate was separated by filtration, washed with ethanol, and then dried under reduced pressure to obtain a tetracarboxylic acid diester powder. 15 mol parts of the obtained tetracarboxylic acid diester (compound (t-6)), 70 mol of compound (a-2) and 15 mol of compound (t-11) were dissolved in NMP, (b-10) were dissolved in 100 parts by mol of water. 300 moles of 4- (4,6-dimethoxy-1,3,5-triazin-2-yl) -4-methylmorpholinium chloride (DMT-MM, 15 +/- 2 wt% hydrate) And the reaction was carried out at room temperature for 4 hours to obtain a polyamic acid ester solution. The polymer (A-12) had a weight average molecular weight Mw of 40,000.

[합성예 a13: 중합체 (A-13)의 합성] [Synthesis Example a13: synthesis of polymer (A-13)] [

사용하는 테트라카본산 디에스테르, 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 종류 및 양을 하기표 1과 같이 변경한 것 이외는, 합성예 a12와 동일한 조작을 행하여, 고형분 농도 10중량%의 폴리암산 에스테르 용액을 얻었다. 중합체 (A-13)의 중량 평균 분자량 Mw는 65,000이었다. The procedure of Synthesis Example 12 was repeated except that the kind and amount of the tetracarboxylic acid diester, tetracarboxylic acid dianhydride and diamine to be used were changed as shown in Table 1 below to obtain a polyamic acid ester solution having a solid concentration of 10% by weight &Lt; / RTI &gt; The polymer (A-13) had a weight average molecular weight Mw of 65,000.

<(B) 중합체의 합성><Synthesis of (B) Polymer>

[합성예 b1∼b7: 중합체 (B-1)∼(B-7)의 합성] Synthesis Examples b1 to b7: Synthesis of Polymers (B-1) to (B-7)

사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 종류 및 양을 하기표 2와 같이 변경한 것 이외는, 합성예 a2와 동일한 조작을 행하여, 고형분 농도 10중량%의 폴리암산 용액을 얻었다. 각 중합체의 중량 평균 분자량 Mw를 하기표 2에 아울러 나타냈다. A polyamic acid solution having a solid content concentration of 10% by weight was obtained by carrying out the same operation as in Synthesis Example a2 except that the type and amount of tetracarboxylic acid dianhydride and diamine used were changed as shown in Table 2 below. The weight average molecular weight Mw of each polymer is shown in Table 2 below.

Figure pat00045
Figure pat00045

Figure pat00046
Figure pat00046

표 1 및 표 2 중, 화합물의 각 칸의 괄호 내의 수치는, 사용한 테트라카본산 유도체의 합계 100몰부에 대한 배합 비율(몰부)을 나타낸다. In Table 1 and Table 2, the numerical values in parentheses of each column of the compound show the compounding ratio (molar ratio) relative to the total 100 moles of tetracarboxylic acid derivatives used.

[실시예 1] [Example 1]

<광배향제의 조제><Preparation of light aroma>

중합체 성분으로서, 상기 합성예 a1에서 얻은 중합체 (A-1)을 50중량부 및, 상기 합성예 b1에서 얻은 중합체 (B-1)을 50중량부를 함유하는 용액에, NMP 및 부틸셀로솔브(BC)를 더하여 충분히 교반하여, 용매 조성이 NMP:BC=70:30(중량비), 고형분 농도 3.0중량%의 용액으로 했다. 이 용액을 공경(孔徑) 0.45㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써 광배향제를 조제했다. 50 parts by weight of the polymer (A-1) obtained in the above Synthesis Example a1 and 50 parts by weight of the polymer (B-1) obtained in the above Synthesis Example b1 were added to NMP and butyl cellosolve BC) were added and sufficiently stirred to obtain a solution having a solvent composition of NMP: BC = 70: 30 (weight ratio) and a solid content concentration of 3.0% by weight. This solution was filtered using a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a photo-dispersing agent.

<액정 표시 소자의 제조>&Lt; Production of liquid crystal display element &

빗살 형상으로 패터닝된 크롬으로 이루어지는 2계통의 금속 전극(전극 A 및 전극 B)을 갖고, 그들 전극 A 및 전극 B에 대하여 독립적으로 전압의 인가가 가능한 유리 기판을 준비했다. 이 유리 기판과, 전극이 형성되어 있지 않은 대향 유리 기판을 한 쌍으로 하고, 유리 기판의 전극을 갖는 면과 대향 유리 기판의 일면에, 상기에서 조제한 광배향제를, 스피너를 이용하여 각각 도포했다. 이어서, 80℃의 핫 플레이트에서 1분간 프리베이킹을 행하고, 그 후, 광배향제를 도포한 측의 기판 표면에 대하여, Hg-Xe 램프 및 글랜테일러 프리즘을 이용하여 편광 자외선 10,000J/㎡를 기판면의 수직 방향으로부터 조사했다. 광조사한 후, 관 내를 질소 치환한 오븐 중에서, 200℃로 1시간 가열(포스트베이킹)했다. 이에 따라, 막두께 0.1㎛의 액정 배향막을 갖는 한 쌍의 기판을 얻었다. A glass substrate having two metal electrodes (electrode A and electrode B) made of chrome patterned in a comb shape and capable of independently applying voltage to the electrodes A and B was prepared. The glass substrate and the opposing glass substrate on which the electrodes were not formed were paired with each other using a spinner to coat the surface of the glass substrate with the electrode and the surface of the opposing glass substrate with the prepared photo-dispersing agent. Subsequently, pre-baking was performed for 1 minute on a hot plate at 80 DEG C, and then 10,000J / m &lt; 2 &gt; of polarized ultraviolet rays was irradiated onto the surface of the substrate on the side coated with the photo-diffusing agent by using an Hg-Xe lamp and a gantry prism, In the vertical direction. After irradiation with light, the tube was heated (post-baking) in an oven in which the inside of the tube was replaced with nitrogen at 200 DEG C for one hour. Thus, a pair of substrates having a liquid crystal alignment film with a thickness of 0.1 mu m was obtained.

이어서, 한 쌍의 기판 중 1매의 액정 배향막을 갖는 면의 외주에 직경 3.5㎛의 산화 알류미늄구 함유 에폭시 수지 접착제를 스크린 인쇄에 의해 도포한 후, 한 쌍의 기판의 액정 배향막면을 대향시켜, 편광 자외선을 조사했을 때의 각 기판의 방향이 반대가 되도록 서로 겹쳐 압착하고, 150℃에서 1시간에 걸쳐 접착제를 열경화했다. 이어서, 액정 주입구로부터 기판 사이의 간극에, 메르크사 제조 액정 「MLC-7028」을 충전한 후, 에폭시계 접착제로 액정 주입구를 봉지했다. 또한, 액정 주입시의 유동 배향을 제거하기 위해, 이것을 150℃로 가열하고 나서 실온까지 서서히 냉각했다. 다음으로, 기판의 외측 양면에, 편광판을, 그 편광 방향이 서로 직교하고, 또한, 액정 배향막의 편광 자외선의 광축의 기판면으로의 사영(射影) 방향과 직교하도록 접합함으로써 액정 표시 소자를 제조했다. 또한, 상기의 일련의 조작을, 프리베이킹 전의 자외선 조사량을 변경하여 실시함으로써, 자외선 조사량이 상이한 3개 이상의 액정 표시 소자를 제조했다. Subsequently, an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 3.5 占 퐉 was applied to the periphery of the surface having one liquid crystal alignment film among the pair of substrates by screen printing, and then the liquid crystal alignment film faces of the pair of substrates were opposed to each other, The polarizing ultraviolet rays were irradiated to each other in such a manner that the directions of the substrates were opposite to each other, and they were pressed and bonded together, and the adhesive was thermally cured at 150 占 폚 for 1 hour. Subsequently, a liquid crystal "MLC-7028" manufactured by Merck Ltd. was filled in the gap between the substrates from the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an epoxy adhesive. Further, in order to remove the flow orientation at the time of injecting the liquid crystal, it was heated to 150 캜 and then gradually cooled to room temperature. Next, a polarizing plate was bonded to both outer sides of the substrate so that the polarizing directions thereof were orthogonal to each other and perpendicular to the projection direction of the optical axis of the polarized ultraviolet ray of the liquid crystal alignment film to the substrate surface, thereby producing a liquid crystal display element . Further, by carrying out the series of operations described above by changing the amount of ultraviolet radiation before prebaking, three or more liquid crystal display elements having different ultraviolet radiation doses were produced.

<액정 표시 소자의 평가>&Lt; Evaluation of liquid crystal display element &

상기에서 제조한 액정 표시 소자를 이용하여 이하의 (1)∼(5)의 평가를 행했다. 또한, 이하의 (2)∼(4)에 대해서는, (1)과 동일하게 감도의 평가를 행한 결과에 기초하여, 자외선 조사량이 상이한 3개 이상의 액정 표시 소자 중으로부터 최적 감도의 것을 선별하고, 그 최적 감도의 액정 표시 소자의 평가 결과를 나타냈다. Evaluation of the following items (1) to (5) was carried out using the liquid crystal display device manufactured as described above. With respect to the following (2) to (4), based on the result of the sensitivity evaluation in the same manner as in (1), an optimum sensitivity is selected from three or more liquid crystal display elements having different ultraviolet radiation dose amounts, The evaluation results of the liquid crystal display element with the optimum sensitivity are shown.

(1) 자외선에 대한 감도의 평가 (1) Evaluation of sensitivity to ultraviolet rays

상기에서 제조한 액정 표시 소자를 이용하여, 5V의 전압을 인가/해제했을 때의 명암의 변화에 있어서의 이상(異常) 도메인의 유무를 광학 현미경에 의해 관찰했다. 액정 배향성이 보였을 때(이상 도메인이 관찰되지 않았을 때)의 자외선 조사량이 적을수록, 도막의 자외선에 대한 감도가 양호하다고 할 수 있다. 평가는, 어느 자외선 조사량에서도 이상 도메인이 관찰되지 않은 경우를 감도 「양호」, 5,000J/㎡의 자외선 조사량에서는 이상 도메인이 관찰되었지만, 7,000J/㎡ 및 10,000J/㎡의 자외선 조사량에서는 이상 도메인이 관찰되지 않은 경우를 감도 「가능」, 5,000J/㎡ 및 7,000J/㎡의 자외선 조사량에서 이상 도메인이 관찰된 경우를 감도 「불가」라고 했다. Using the liquid crystal display device manufactured as described above, the presence or absence of an abnormal (abnormal) domain in the change of light and dark when a voltage of 5 V was applied / released was observed by an optical microscope. The lower the dose of ultraviolet radiation when the liquid crystal alignability was observed (when no abnormal domains were observed), the better the sensitivity of the coating film to ultraviolet rays. In the evaluation, an abnormal domain was observed at an ultraviolet irradiation dose of 5,000 J / m &lt; 2 &gt; while an abnormal domain was observed at an ultraviolet irradiation dose of 7,000 J / m2 and 10,000 J / The sensitivity was "impossible" when no observations were made, and when the abnormal domains were observed at 5,000 J / m2 and 7,000 J / m2 ultraviolet irradiation amount, the sensitivity was "impossible".

(2) 전압 보전율의 평가(2) Evaluation of Voltage Conservation Rate

상기에서 제조한 액정 표시 소자를 이용하고, 60℃에서 5V의 전압을 60마이크로초의 인가 시간, 167밀리초의 스팬으로 인가한 후, 인가 해제로부터 167밀리초 후의 전압 보전율을 측정했다. 측정 장치는 (주)토요 테크니카 제조 「VHR-1」을 사용했다. 이 액정 표시 소자의 전압 보전율은 99%였다. Using the liquid crystal display device manufactured as described above, a voltage of 5 V was applied at 60 캜 for an application time of 60 microseconds and a span of 167 milliseconds, and the voltage maintenance ratio after 167 milliseconds after the application was released was measured. VHR-1 &quot; manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. was used as the measuring device. The voltage holding ratio of this liquid crystal display element was 99%.

(3) 전하 축적량(RDC)의 측정(3) Measurement of charge accumulation amount (RDC)

상기에서 제조한 액정 표시 소자를 이용하여, 71℃에서 2V의 직류 전압을 10분간 인가한 후, 0.2초 동안 쇼트하고, 그 후에 10분간, 개방 상태로 유지했을 때의 액정 표시 소자 내에 축적된 전압을 유전 흡수법에 의해 측정했다. 평가는, 전하 축적량이 0.1V 이하였던 경우를 「양호(◎)」, 전하 축적량이 0.1V보다도 크고 0.2V 이하인 경우를 「가능(○)」, 전하 축적량이 0.2V보다도 큰 경우를 「불량(△)」이라고 했다. 그 결과, 이 액정 표시 소자의 전하 축적량의 평가는 가능이었다. Using a liquid crystal display device manufactured as described above, a direct current voltage of 2 V was applied at 71 캜 for 10 minutes, followed by a short circuit for 0.2 seconds, and then a voltage accumulated in the liquid crystal display element Was measured by a dielectric absorption method. The evaluation was performed when the charge accumulation amount was 0.1 V or less and the case where the charge accumulation amount was larger than 0.1 V and 0.2 V or less was allowed (?) And the case where the charge accumulation amount was larger than 0.2 V was evaluated as &quot; △) ". As a result, it was possible to evaluate the charge accumulation amount of the liquid crystal display element.

(4) AC 잔상 특성의 평가(4) Evaluation of AC afterimage characteristic

상기에서 제조한 액정 표시 소자를 이용하여 AC 잔상 특성(번인 특성)을 평가했다. 우선, 액정 표시 소자를 25℃, 1기압의 환경하에 두고, 전극 B에는 전압을 가하지 않고, 전극 A에 교류 전압 4V를 2시간 인가했다. 그 직후, 전극 A 및 전극 B의 쌍방에 교류 4V의 전압을 인가했다. 양 전극에 교류 4V의 전압을 인가하기 시작한 시점부터, 전극 A 및 전극 B의 광투과성의 차이가 육안으로 확인할 수 없게 될 때까지의 시간을 측정했다. 이 시간이 60초 미만이었던 경우에 번인 특성 「양호(◎)」, 60초 이상 100초 미만이었던 경우에 번인 특성 「가능(○)」, 100초 이상이었던 경우에 번인 특성 「불가(×)」라고 했다. 그 결과, 이 액정 표시 소자는 번인 특성이 「가능」이었다. The AC afterimage characteristic (burn-in characteristic) was evaluated using the liquid crystal display device manufactured as described above. First, the liquid crystal display element was placed under an environment of 25 占 폚 and 1 atm, no voltage was applied to the electrode B, and an AC voltage of 4 V was applied to the electrode A for 2 hours. Immediately thereafter, a voltage of 4 V of AC was applied to both the electrode A and the electrode B. The time from when the application of the voltage of 4 V of alternating current to both the electrodes until the difference in the light transmittance between the electrodes A and B became visually confirmed was measured. The burn-in characteristic is "possible (O)" when the burn-in characteristic is "good" (⊚) when the burn-in characteristic is less than 60 seconds, 60 seconds or more and less than 100 seconds when burn- He said. As a result, the liquid crystal display element exhibited a burn-in property of &quot; possible &quot;.

(5) 구동 스트레스 후의 콘트라스트의 평가(5) Evaluation of contrast after driving stress

상기에서 제조한 액정 표시 소자를, 교류 전압 10V로 30시간 구동한 후에 광원과 광량 검출기의 사이에 편광자와 검광자를 배치한 장치를 사용하여, 하기 수식 (2)로 나타나는 최소 상대 투과율(%)을 측정했다.The minimum relative transmittance (%) shown by the following formula (2) was calculated using the apparatus in which the polarizer and the analyzer were arranged between the light source and the light amount detector after driving the liquid crystal display device manufactured as described above for 30 hours under an alternating voltage of 10 V Respectively.

최소 상대 투과율(%)={(β-B0)/(B100-B0)}×100  …(2)Minimum relative transmittance (%) = {(? - B 0 ) / (B 100 - B 0 )} × 100 (2)

(수식 (2) 중, B0은, 블랭크에서 크로스 니콜하의 빛의 투과량이고; B100은, 블랭크에서 파라니콜하의 빛의 투과량이고; β는, 크로스 니콜하에서 편광자와 검광자의 사이에 액정 표시 소자를 사이에 끼우고 최소가 되는 광투과량임).B 0 is a transmittance of light under cross nicol in a blank, B 100 is a transmittance of light under para-nicol in a blank, B is a transmittance of light under a cross nicolol between a polarizer and an analyzer, Which is the minimum amount of light passing through the optical fiber.

암(暗) 상태의 흑레벨은 액정 표시 소자의 최소 상대 투과율로 나타나며, 암 상태에서의 흑레벨이 작을수록 콘트라스트가 우수하다. 최소 상대 투과율이 0.5% 미만인 것을 「양호」라고 하고, 0.5% 이상 1.0% 미만인 것을 「가능」이라고 하고, 1.0% 이상인 것을 「불량」이라고 했다. 그 결과, 이 액정 표시 소자의 콘트라스트 평가는 「양호」라고 판단되었다. The black level in the dark state is represented by the minimum relative transmittance of the liquid crystal display element, and the lower the black level in the dark state, the better the contrast. Good "means that the minimum relative transmittance is less than 0.5%," Possible "means that it is 0.5% or more and less than 1.0%, and" Bad "means that it is 1.0% or more. As a result, the contrast evaluation of this liquid crystal display element was judged to be &quot; good &quot;.

[실시예 2, 6∼10, 12, 13, 14, 비교예 1∼3] [Examples 2, 6 to 10, 12, 13 and 14, Comparative Examples 1 to 3]

사용하는 중합체의 종류를 각각 하기표 3 및 표 4와 같이 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여 광배향제를 조제하고, 액정 표시 소자를 제조했다. 또한, 제조한 액정 표시 소자의 각종 평가를 행했다. 그 평가 결과를 하기표 3 및 표 4에 각각 나타낸다. A liquid crystal display device was prepared by preparing a photo-dispersing agent in the same manner as in Example 1 except that the types of polymers used were changed as shown in Tables 3 and 4, respectively. Various evaluations of the manufactured liquid crystal display device were also performed. The evaluation results are shown in Tables 3 and 4, respectively.

[실시예 3∼5, 11, 15] [Examples 3 to 5, 11, 15]

사용하는 중합체의 종류를 각각 하기표 3 및 표 4과 같이 변경한 점 및, 첨가제를 배합한 점 이외는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여 광배향제를 조제하고, 액정 표시 소자를 제조했다. 또한, 제조한 액정 표시 소자의 각종 평가를 행했다. 그 평가 결과를 하기표 3 및 표 4에 각각 나타낸다. A liquid crystal display device was prepared by preparing a photo-dispersing agent in the same manner as in Example 1 except that the types of polymers used were changed as shown in Tables 3 and 4, respectively, and additives were mixed. Various evaluations of the manufactured liquid crystal display device were also performed. The evaluation results are shown in Tables 3 and 4, respectively.

Figure pat00047
Figure pat00047

Figure pat00048
Figure pat00048

표 3 및 표 4 중, 중합체의 배합량칸의 수치는, 광배향제의 조제에 사용한 중합체의 합계 100중량부에 대한 각 중합체의 배합 비율(중량부)을 나타낸다. 첨가제의 명칭은 하기와 같다. In Table 3 and Table 4, the numerical value of the blending amount of the polymer indicates the compounding ratio (parts by weight) of each polymer to the total 100 parts by weight of the polymer used for preparing the photo-dispersing agent. The name of the additive is as follows.

[첨가제] [additive]

Q-1: N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄(하기의 화합물 (Q-1))Q-1: N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane (Compound (Q-1)

Q-2: 하기의 화합물 (Q-2)Q-2: The following compound (Q-2)

Figure pat00049
Figure pat00049

표 3 및 표 4에 나타내는 바와 같이, 실시예 1∼13에서는, 전압 보전율이 전부 99% 이상이며, 전하 축적량도 적었다. 또한, AC 잔상 특성, 콘트라스트 특성 및 자외선에 대한 감도는 「양호」 또는 「가능」으로, 각종 특성의 균형이 잡혀 있었다. 또한, 실시예 14, 15에서도 동일한 결과가 얻어진다. 이에 대하여, 비교예 1∼3에서는, 전압 보전율이 99% 미만으로 낮고, 전하 축적량도 많았다. As shown in Tables 3 and 4, in Examples 1 to 13, the voltage holding ratio was all 99% or more and the charge accumulation amount was small. In addition, the AC afterimage characteristic, the contrast characteristic, and the sensitivity to ultraviolet ray were &quot; good &quot; or &quot; possible &quot; In Examples 14 and 15, the same results are obtained. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, the voltage holding ratio was as low as less than 99% and the charge accumulation amount was large.

<(A) 중합체의 합성 [2]>&Lt; Synthesis of polymer (A) [2] &gt;

사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 종류 및 양을 하기표 5와 같이 변경한 것 이외는 합성예 a2와 동일한 조작을 행하여, 고형분 농도 10중량%의 폴리암산 용액을 얻었다. 각 중합체의 중량 평균 분자량 Mw를 하기표 5에 아울러 나타냈다. The procedure of Synthesis Example a2 was repeated except that the kind and amount of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine used were changed as shown in Table 5 to obtain a polyamic acid solution having a solid concentration of 10% by weight. The weight average molecular weight Mw of each polymer is shown in Table 5 below.

Figure pat00050
Figure pat00050

표 5 중, 화합물의 각 칸의 괄호 내의 수치는, 사용한 테트라카본산 유도체의 합계 100몰부에 대한 배합 비율(몰부)을 나타낸다. In Table 5, the numerical values in parentheses of each column of the compound show the compounding ratio (molar ratio) relative to the total 100 moles of tetracarboxylic acid derivatives used.

<광배향제의 조제, 그리고 액정 표시 소자의 제조 및 평가 [2]>&Lt; Preparation of optically brightener, preparation and evaluation of liquid crystal display element [2] &gt;

[실시예 16∼21] [Examples 16 to 21]

사용하는 중합체의 종류를 각각 하기표 6과 같이 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여 광배향제를 조제함과 동시에 액정 표시 소자를 제조했다. 또한, 제조한 액정 표시 소자의 각종 평가를 행했다. 그 평가 결과를 하기표 6에 나타냈다. A liquid crystal display device was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types of polymers used were changed as shown in Table 6 below. Various evaluations of the manufactured liquid crystal display device were also performed. The evaluation results are shown in Table 6 below.

Figure pat00051
Figure pat00051

표 6 중, 중합체의 배합량칸의 수치는, 광배향제의 조제에 사용한 중합체의 합계 100중량부에 대한 각 중합체의 배합 비율(중량부)을 나타낸다. In Table 6, the numerical value of the blending amount of the polymer indicates the mixing ratio (parts by weight) of each polymer to the total 100 parts by weight of the polymer used for preparing the photo-dispersing agent.

표 6에 나타내는 바와 같이, 실시예 16∼21에서도 전압 보전율, 전하 축적량, AC 잔상 특성, 콘트라스트 특성 및 자외선에 대한 감도는 전부 「양호」 또는 「가능」의 평가로, 각종 특성의 균형이 잡혀 있었다. As shown in Table 6, in Examples 16 to 21, various characteristics were balanced by evaluating the voltage holding ratio, the charge accumulation amount, the AC afterimage characteristic, the contrast characteristic, and the sensitivity to ultraviolet rays as "good" or "possible" .

Claims (14)

폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체 성분으로서 (A) 중합체와 (B) 중합체를 포함하고, 또한 상기 (A) 중합체가, 하기식 (1)로 나타나는 구조 (Y)(단, X1이 -NH-인 경우, 중합 반응에 의해 형성되는 아미드 결합을 제외함)를 주쇄에 갖는 중합체인 액정 배향제를, 기판 상에 도포하여 도막을 형성하는 공정과,
상기 도막에 광조사하여 액정 배향막으로 하는 공정
을 포함하는 액정 배향막의 제조 방법:
Figure pat00052

(식 (1) 중, X1은, 황 원자, 산소 원자 또는 -NH-이고; 「*」는 각각 결합손을 나타내고; 단, 2개의 「*」 중 적어도 한쪽은 방향환에 결합되어 있음).
(A) a polymer and (B) a polymer, wherein the polymer (A) is at least one polymer component selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide, A step of applying a liquid crystal aligning agent, which is a polymer having a main chain of the structure (Y) (except for the amide bond formed by polymerization reaction when X 1 is -NH-), onto a substrate to form a coating film; ,
A step of irradiating the coating film with light to form a liquid crystal alignment film
A method for producing a liquid crystal alignment film comprising:
Figure pat00052

(In the formula (1), X 1 represents a sulfur atom, an oxygen atom or -NH-; "*" represents a bonding hand, provided that at least one of the two "*" .
제1항에 있어서,
불소 원자 및 규소 원자 중 적어도 1종의 특정 원자의 함유율이 상기 (A) 중합체와 상기 (B) 중합체에서 상이한 액정 배향막의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the content of at least one specific atom of the fluorine atom and the silicon atom is different in the polymer (A) and the polymer (B).
제2항에 있어서,
상기 (A) 중합체의 쪽이, 상기 (B) 중합체보다도 상기 특정 원자의 함유율이 높은 액정 배향막의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
Wherein the polymer (A) is higher in content of the specific atom than the polymer (B).
제2항에 있어서,
상기 특정 원자를 갖는 중합체에 있어서, 당해 중합체의 전체 반복 단위에 대한, 상기 특정 원자를 갖는 반복 단위의 함유 비율이 1∼70몰%인 액정 배향막의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
Wherein the proportion of the repeating unit having the specific atom to the total repeating units of the polymer in the polymer having the specific atom is 1 to 70 mol%.
제1항에 있어서,
상기 (A) 중합체와 상기 (B) 중합체와의 함유 비율이, 중량비 (A/B)로 2/8∼8/2인 액정 배향막의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the content ratio of the polymer (A) to the polymer (B) is 2/8 to 8/2 in weight ratio (A / B).
제1항에 있어서,
상기 (A) 중합체 및 상기 (B) 중합체 중 적어도 어느 하나는, 하기식 (2-1)로 나타나는 구조, 하기식 (2-2)로 나타나는 구조(단, 모노머의 중합에 의해 형성되는 아미드 결합 중에 포함되는 것을 제외함) 및 질소 함유 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조 (Z)를 갖는 액정 배향막의 제조 방법:
Figure pat00053

(식 (2-1) 중, R1은, 할로겐 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 탄소수 1∼10의 알콕시기이며, r1은 0∼2의 정수이며, r2는 0∼3의 정수이고; 단, r1+r2≤4를 충족하고; 「*1」은 결합손을 나타내고; 식 (2-2) 중, R2는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기이고; 「*2」는 결합손을 나타냄).
The method according to claim 1,
At least one of the polymer (A) and the polymer (B) is a polymer having a structure represented by the following formula (2-1) and a structure represented by the following formula (2-2) And a nitrogen-containing heterocycle. The method for producing a liquid crystal alignment film according to claim 1,
Figure pat00053

(In the formula (2-1), R 1 is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, r 1 is an integer of 0 to 2, r 2 is an integer of 0 to 3; (2-2), R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; "* 2" indicates a bonding hand; ).
제6항에 있어서,
상기 구조 (Z)를 갖는 중합체에 있어서, 당해 중합체의 전체 반복 단위에 대한, 상기 구조 (Z)를 갖는 반복 단위의 함유 비율이 2∼40몰%인 액정 배향막의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the content of the repeating unit having the structure (Z) in the polymer having the structure (Z) is 2 to 40 mol% with respect to the total repeating units of the polymer.
제6항에 있어서,
상기 (A) 중합체 및 상기 (B) 중합체 중 적어도 어느 하나는, 불소 원자 및 규소 원자 중 적어도 1종의 특정 원자를 갖고,
상기 (A) 중합체 및 상기 (B) 중합체 중, 상기 특정 원자의 함유율이 낮은 쪽의 중합체가 상기 구조 (Z)를 갖는 액정 배향막의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein at least one of the polymer (A) and the polymer (B) has at least one specific atom selected from the group consisting of a fluorine atom and a silicon atom,
Wherein the polymer having a lower content of the specific atom in the polymer (A) and the polymer (B) has the structure (Z).
제6항에 있어서,
상기 (B) 중합체는 상기 구조 (Z)를 갖는 액정 배향막의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the polymer (B) has the structure (Z).
제6항에 있어서,
상기 (A) 중합체는, 상기 구조 (Y)와, 불소 원자 및 규소 원자의 적어도 1종의 특정 원자를 갖고,
상기 (B) 중합체는, 상기 구조 (Z)를 갖고, 또한 상기 (A) 중합체보다도 상기 특정 원자의 함유율이 낮은 액정 배향막의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The polymer (A) has the structure (Y) and at least one specific atom of a fluorine atom and a silicon atom,
Wherein the polymer (B) has the structure (Z) and the content of the specific atom is lower than that of the polymer (A).
제1항에 있어서,
상기 (B) 중합체는, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물, 바이사이클로[3.3.0]옥탄-2,4,6,8-테트라카본산 2:4,6:8-2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-8-메틸-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 사이클로펜탄테트라카본산 2무수물 및, 사이클로헥산테트라카본산 2무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 테트라카본산 2무수물과, 디아민을 반응시켜 얻어지는 중합체인 액정 배향막의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The polymer (B) is preferably selected from the group consisting of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, bicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2: 4, Methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan Dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [ At least one member selected from the group consisting of furan-1,3-dione, 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, and cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, Wherein the tetracarboxylic acid dianhydride is a polymer obtained by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride and a diamine.
제1항에 있어서,
상기 (A) 중합체는, 하기식 (3)으로 나타나는 구조를 주쇄에 갖는 액정 배향막의 제조 방법:
Figure pat00054

(식 (3) 중, k 및 i는, 각각 독립적으로 0 또는 1이며, l은 2∼9의 정수이며, j는 1∼4의 정수이고; 「*」는 각각 결합손을 나타냄).
The method according to claim 1,
The polymer (A) is a process for producing a liquid crystal alignment film having a structure represented by the following formula (3) in the main chain:
Figure pat00054

(In the formula (3), k and i are each independently 0 or 1, 1 is an integer of 2 to 9, j is an integer of 1 to 4, and &quot; * &quot;
폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체 성분으로서 (A) 중합체와 (B) 중합체를 포함하고, 또한 상기 (A) 중합체가, 하기식 (1)로 나타나는 구조 (Y)(단, X1이 -NH-인 경우, 중합 반응에 의해 형성되는 아미드 결합을 제외함)를 주쇄에 갖는 중합체인 것을 특징으로 하는 광배향제:
Figure pat00055

(식 (1) 중, X1은, 황 원자, 산소 원자 또는 -NH-이고; 「*」는 각각 결합손을 나타내고; 단, 2개의 「*」 중 적어도 한쪽은 방향환에 결합되어 있음).
(A) a polymer and (B) a polymer, wherein the polymer (A) is at least one polymer component selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide, A photopolymerization initiator which is a polymer having, in a main chain thereof, a structure (Y) (excluding an amide bond formed by a polymerization reaction when X 1 is -NH-)
Figure pat00055

(In the formula (1), X 1 represents a sulfur atom, an oxygen atom or -NH-; "*" represents a bonding hand, provided that at least one of the two "*" .
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조한 액정 배향막을 구비하는 액정 표시 소자.A liquid crystal display element comprising a liquid crystal alignment film produced by the method according to any one of claims 1 to 12.
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