KR20150040529A - Organic light emitting diode display - Google Patents

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KR20150040529A
KR20150040529A KR20130119154A KR20130119154A KR20150040529A KR 20150040529 A KR20150040529 A KR 20150040529A KR 20130119154 A KR20130119154 A KR 20130119154A KR 20130119154 A KR20130119154 A KR 20130119154A KR 20150040529 A KR20150040529 A KR 20150040529A
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Abstract

The present invention relates to an organic light emitting diode display which improves visibility and improves brightness. Specifically, provided is an organic light emitting diode display using a transparent film having a high refractive layer and a low refractive layer sequentially laminated on the transparent base material with a photochromic hard layer and a reflection preventing layer as an outermost layer.

Description

유기 발광 표시 소자{ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an organic light-

본 발명은 시인성 및 휘도가 우수한 유기 발광 표시 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display device having excellent visibility and brightness.

평판 디스플레이 중에서도 최근에는 유기 발광 표시 소자(이하, OLED)에 대한 관심이 높아지고 있는데, 이는 선명한 색상 구현이 가능하며 초박형 디자인이 가능하고, 초저전력 (2~1-V)에서도 동작할 수 있어 초저전력 설계를 할 수 있는 등, 여러 가지 장점을 두루 갖추었기 때문이다.Recently, organic light emitting display (OLED) has become more popular among flat panel displays because it can realize a clear color, can be made in an ultra-thin design, can operate at an ultra low power (2 ~ 1-V) Design, and so on.

상기 OLED의 구조를 살펴보면 유리 기판과 금속 전극을 포함하고 있으며, 금속 전극은 마치 거울과 같은 반사의 효과를 나타내어 패널 내부로 유입된 외부광의 반사를 억제하고자 사분 파장 필름을 사용하고 있다.The structure of the OLED includes a glass substrate and a metal electrode. The metal electrode exhibits a reflection effect like a mirror, and uses a quarter wavelength film to suppress the reflection of external light introduced into the panel.

그러나, OLED는 금속 전극으로 인하여, 외부광의 반사가 심하고 특히 실외에서 사용할 경우 화면 시인성이 좋지 않다. 또한, 표면 요철을 이용하여 난반사를 일으켜 눈부심 방지를 할 경우, 이미지의 선명성이 저하되는 문제가 있다.However, due to the metal electrode, the OLED has a strong reflection of external light, and particularly when used outdoors, the screen visibility is poor. In addition, when anti-glare is caused by irregular reflection using surface irregularities, there is a problem that the sharpness of the image is deteriorated.

통상적으로 이를 해결하기 위해 사용하는 것은 편광 필름과 λ/4 위상 지연 필름인데, 이를 사용할 경우 외부광의 반사도가 낮아진다. 하지만, 상기 편광필름으로 인해 투과율이 동시에 크게 저하되어 디스플레이의 효율이 낮아지는 문제점이 있다.Typically, polarizing films and λ / 4 phase retardation films are used to solve this problem. When this is used, the reflectivity of external light is lowered. However, due to the polarizing film, the transmissivity is greatly reduced at the same time and the display efficiency is lowered.

본 발명은 기존의 편광필름과 위상차 필름을 포함하지 않고도 시인성을 향상시키고 휘도가 우수한 유기 발광 소자(OLED)를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide an organic light emitting device (OLED) that improves the visibility and has excellent brightness without including a conventional polarizing film and a retardation film.

본 발명은 기판; 제1전극; 유기발광층; 제2전극; 및 투명기재 상에 형성된 광변색 하드층 및 반사방지층을 포함한 외부 보호 필름;을 구비하며,The present invention relates to a substrate; A first electrode; An organic light emitting layer; A second electrode; And an outer protective film including a photochromic hard layer and an antireflective layer formed on the transparent substrate,

상기 반사방지층은 굴절율 1.60 내지 2.50의 고굴절층 및 굴절율 1.25 내지 1.42의 저굴절층이 순차적으로 적층된 구조를 포함하는,Wherein the antireflection layer comprises a structure in which a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 2.50 and a low refractive layer having a refractive index of 1.25 to 1.42 are sequentially laminated.

유기 발광 표시 소자를 제공한다.An organic light emitting display device is provided.

상기 반사방지층은 광변색 하드층 및 굴절율 1.60 내지 2.50의 고굴절층 사이에 굴절율 1.55 내지 1.75의 중굴절층을 더 포함할 수 있다.The antireflection layer may further comprise a medium refractive index layer having a refractive index of 1.55 to 1.75 between a photochromic hard layer and a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 2.50.

상기 저굴절층은 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 중공입자 100 내지 300 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성될 수 있다.The low refraction layer may be formed by curing a composition containing 100 to 300 parts by weight of hollow particles based on 100 parts by weight of the binder of the acrylate crosslinked polymer.

상기 중공 입자는 수 평균 입경이 5 내지 80nm 인 것일 수 있다.The hollow particles may have a number average particle diameter of 5 to 80 nm.

상기 고굴절층은 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 무기 미립자 70 내지 700 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성될 수 있다.The high refractive index layer may be formed by curing a composition containing 70 to 700 parts by weight of inorganic fine particles based on 100 parts by weight of the binder of the acrylate crosslinked polymer.

상기 중굴절층은 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 무기 미립자 70 내지 700 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성될 수 있다.The middle refractive layer may be formed by curing the composition containing 70 to 700 parts by weight of the inorganic fine particles based on 100 parts by weight of the binder of the acrylate crosslinked polymer.

상기 무기 미립자는 1nm 내지 40nm의 평균입경을 가지는 ZrO2, ZnO, CeO2, TiO2, SnO2, Sb2O3, ATO(Antimony doped SnO2), AZO(Antimony doped ZnO), ITO, GZO(Gallium doped ZnO) 및 PTO로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The inorganic fine particles may be ZrO 2 , ZnO, CeO 2 , TiO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , ATO (Antimony doped SnO 2), AZO (Antimony doped ZnO), ITO, GZO doped ZnO) and PTO.

상기 고굴절층 및 저굴절층은 각각 10nm 내지 200nm의 두께로 형성될 수 있다. 또한 상기 중굴절층도 10nm 내지 200nm 의 두께로 형성될 수 있다.The high refractive index layer and the low refractive index layer may each be formed to a thickness of 10 nm to 200 nm. The intermediate refraction layer may be formed to a thickness of 10 nm to 200 nm.

상기 광변색 하드층은 UV 경화에 의해 투과율이 적어도 20% 이상 낮아질 수 있다. 또한 상기 반사방지층은 반사율이 2% 이하일 수 있다.The photochromic hard layer may be at least 20% lower in transmittance by UV curing. The reflectance of the antireflection layer may be 2% or less.

본 발명은 유기발광소자에서 광변색 성분을 갖는 하드층 및 저굴절층이 순차 적층된 투명 필름을 최외각 필름을 사용하여 시감을 조절하고, 반사율을 크게 낮출 수 있다. 특히, 본 발명은 기존의 편광필름과 위상차 필름을 포함하지 않고도 반사도를 낮추어 사용자의 피로도를 감소시킬 수 있다.The present invention can adjust the visual sensation by using an outermost film of a transparent film in which a hard layer and a low refractive layer having a photochromic component are sequentially laminated in an organic light emitting device, and the reflectance can be greatly lowered. In particular, the present invention can reduce the degree of fatigue of a user by reducing the reflectivity without including the conventional polarizing film and the retardation film.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광소자용 패널에서의 반사방지층의 단면도를 간략히 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광소자용 패널에서의 반사방지층의 단면도를 간략히 나타낸 것이다.
1 schematically shows a cross-sectional view of an anti-reflection layer in a panel for an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
2 schematically shows a cross-sectional view of an anti-reflection layer in a panel for an organic light emitting device according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 구체적인 구현예에 따른 유기발광소자에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, an organic light emitting device according to a specific embodiment of the present invention will be described in detail.

발명의 일 구현예에 따라, 기판; 제1전극; 유기발광층; 제2전극; 및 투명기재 상에 형성된 광변색 하드층 및 반사방지층을 포함한 외부 보호 필름;을 구비하며, 상기 반사방지층은 굴절율 1.60 내지 2.50의 고굴절층 및 굴절율 1.25 내지 1.42의 저굴절층이 순차적으로 적층된 구조를 포함하는, 유기발광소자가 제공된다.According to an embodiment of the invention, there is provided a lithographic apparatus comprising: a substrate; A first electrode; An organic light emitting layer; A second electrode; And an outer protective film including a photochromic hard layer and an antireflective layer formed on a transparent substrate, wherein the antireflective layer has a structure in which a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 2.50 and a low refractive layer having a refractive index of 1.25 to 1.42 are sequentially laminated An organic electroluminescent device is provided.

표면 처리 필름 중에서 반사 방지 코팅 필름(anti-reflective coating film)은 고투과율과 저반사 특성을 가지는 필름으로서, 광학용 디스플레이 분야에서 디스플레이 표면의 보호기능과 함께 눈부심 방지 기능을 가짐으로써, 시인성을 향상시키는 기능성 필름이다. 따라서 본 발명은 저굴절층을 포함하는 1종 이상의 반사방지층을 유기발광소자의 최외각 투명 보호 필름으로 포함시킴으로써, 시감을 조절할 뿐 아니라, 반사율을 더 낮추어 디스플레이 시인성을 향상시킬 수 있다.Among the surface treated films, anti-reflective coating film is a film having high transmittance and low reflection property. In the field of optical display, it has anti-glare function together with protection of display surface, thereby improving visibility Functional film. Therefore, the present invention can improve the visibility of display by lowering the reflectance as well as controlling the visual sensation by including at least one anti-reflection layer including the low refraction layer as the outermost transparent protective film of the organic light emitting device.

구체적으로, 본 발명에서는 화면의 시인성을 향상시키면서 휘도를 높이기 위하여 기존의 편광 필름, λ/4 위상 지연 필름을 제거하고, 투명 필름으로서 광변색(photochromic) 하드 코팅층 및 반사방지(anti-reflection) 코팅층이 차례로 적층된 구조를 OLED의 최외각 보호 필름으로 도입한다. 따라서, 상기 외부 보호 필름은 최외각 투명 보호 필름을 포함한다.Specifically, in the present invention, the conventional polarizing film and the? / 4 retardation film are removed to improve the visibility of the screen and the brightness, and a photochromic hard coating layer and an anti-reflection coating layer The stacked structure in this order is introduced into the outermost protective film of the OLED. Therefore, the outer protective film includes an outermost transparent protective film.

이때, 본 발명은 광변색 하드층 위에 굴절율이 다른 반사 방지층을 1종 이상 사용하여 기존보다 반사도를 현저히 줄여 눈부심을 방지할 수 있다.At this time, the present invention can prevent the glare by using one or more antireflection layers having different refractive indexes on the photochromic hard layer, thereby remarkably reducing the reflectivity.

즉, 상기 반사 방지층은 굴절율이 다른 코팅층을 여러 층 코팅하여 외부광의 소멸 간섭을 유도하여 반사도를 줄이는 역할을 한다. 이러한 반사 방지층은 2종 이상으로 이루어진 다층 구조로써, 빛의 소멸 간섭이 일어나 반사율 2% 이하의 물성을 가진다. 또한, 상기 반사방지층은 중굴절, 고굴절, 저굴절 또는 고굴절, 저굴절 등의 다양한 적층 구조가 가능하다. 상기 반사 방지층이 3층인 경우와 2층인 경우를 각각 도 1과 2에 나타내었다. 다만, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다.That is, the antireflection layer may coat several layers of coating layers having different refractive indexes to induce extinction interference of external light to reduce the reflectivity. Such an antireflection layer is a multi-layered structure composed of two or more kinds of materials, which causes optical extinction interference and has a reflectance of 2% or less. The antireflection layer may have various laminated structures such as a medium refractive index, a high refractive index, a low refractive index, a high refractive index, and a low refractive index. The case where the antireflection layer has three layers and the case where the antireflection layer has two layers are shown in Figs. 1 and 2, respectively. However, the present invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광소자용 패널에서의 반사방지층의 단면도를 간략히 나타낸 것이다. 도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광소자용 패널에서의 반사방지층의 단면도를 간략히 나타낸 것이다.1 schematically shows a cross-sectional view of an anti-reflection layer in a panel for an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention. 2 schematically shows a cross-sectional view of an anti-reflection layer in a panel for an organic light emitting device according to another embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 반사방지층은 투명 기재(1) 위에 광변색 하드층(2)을 형성한 후, 고굴절층(4) 및 저굴절층(5)을 순차적으로 적층한 구조를 갖는다.Referring to FIG. 1, the antireflection layer of the present invention has a structure in which a photo-discoloration hard layer 2 is formed on a transparent substrate 1, and then a high refractive index layer 4 and a low refractive index layer 5 are sequentially laminated .

또한, 도 2에서 보는 바와 같이, 본 발명의 반사방지층은 투명 기재(1) 위에 광변색 하드층(2)을 형성한 후, 중굴절층(3) 고굴절층(4) 및 저굴절층(5)을 순차적으로 적층한 구조를 갖는다.2, the antireflection layer of the present invention is formed by forming a photochromic hard layer 2 on a transparent substrate 1 and then forming a high refraction layer 4 and a low refraction layer 5 ) Are stacked in this order.

이러한 구조를 갖는 본 발명의 외부 보호 필름에서, 바람직한 일 구현예에 따른 반사방지층의 구성에 대해 보다 구체적으로 설명한다.In the outer protective film of the present invention having such a structure, the structure of the antireflection layer according to one preferred embodiment will be described in more detail.

상기 고굴절층은 굴절율이 1.60 내지 2.50이며, 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 무기 미립자 70 내지 700 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성될 수 있다.The high refractive index layer may have a refractive index of 1.60 to 2.50 and may be formed by curing a composition containing 70 to 700 parts by weight of inorganic fine particles based on 100 parts by weight of the binder of the acrylate crosslinked polymer.

또한, 상기 저굴절층은 굴절율이 1.25 내지 1.42이며, 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 중공입자 100 내지 300 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성될 수 있다.The low refraction layer may have a refractive index of 1.25 to 1.42 and may be formed by curing a composition containing 100 to 300 parts by weight of hollow particles based on 100 parts by weight of the binder of the acrylate crosslinked polymer.

또한, 상기 반사방지층은 광변색 하드층 및 굴절율 1.60 내지 2.50의 고굴절층 사이에 굴절율 1.55 내지 1.75의 중굴절층을 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 중굴절층은 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 무기 미립자 70 내지 700 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성될 수 있다. 상기 중굴절층의 경우, 고굴절층 대비 무기 입자의 함량을 작게 하거나, 바인더의 종류 및 함량 등을 조절하여 고굴절층보다 낮은 원하는 굴절율을 갖도록 제어될 수 있다.Further, the antireflection layer may further include a medium refractive index layer having a refractive index of 1.55 to 1.75 between the photochromic hard layer and the high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 2.50. At this time, the middle refractive layer may be formed by curing the composition containing 70 to 700 parts by weight of the inorganic fine particles based on 100 parts by weight of the binder of the acrylate crosslinked polymer. In the case of the medium refractive index layer, the refractive index can be controlled to be lower than that of the high refractive index layer by controlling the content of inorganic particles relative to the high refractive index layer and the type and content of the binder.

본 발명에서, 상기 중굴절층, 고굴절층 및 저굴절층에 포함된 각각의 가교 중합체는 중량평균분자량 600 미만의 아크릴레이트계 화합물의 가교 공중합체일 수 있다.In the present invention, each of the crosslinked polymers contained in the middle refractive layer, the high refractive layer and the low refractive layer may be a crosslinked copolymer of an acrylate compound having a weight average molecular weight of less than 600.

상기 아크릴레이트 가교 중합체는 3 내지 6 관능의 다관능성 아크릴레이트계 모노머일 수 있으며, 예를 들면 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트, 트리메틸렌프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헵타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸렌 프로필 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세롤 트리아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세로 트리아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 및 에틸렌글리콜 디아크릴레이트로 이루어진 다관능성 아크릴레이트 단량체 군에서 선택되는 2종 이상을 사용할 수 있다. 예컨대, 상기 다관능성 아크릴레이트 모노머는 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트와 디펜타에리스리톨헵타아크릴레이트의 혼합물을 사용할 수 있다.The acrylate crosslinked polymer may be a polyfunctional acrylate monomer having 3 to 6 functional groups, and examples thereof include pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylene propane triacrylate, But are not limited to, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol heptaacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylene propyl triacrylate, propoxylated glycerol triacrylate, 1,6-hexanediol At least one selected from the group consisting of diacrylate, propoxylated glycerol triacrylate, tripropylene glycol diacrylate, and polyfunctional acrylate monomers composed of ethylene glycol diacrylate can be used. For example, the polyfunctional acrylate monomer may be a mixture of pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol heptaacrylate.

또한, 상기 중공 입자는 층의 형태로 포함될 수도 있으며, 가교 중합체와 혼합되어 광변색 하드층 위에 분산되어 형성될 수 있다. 상기 중공입자가 층의 형태로 포함되면, 기재와 평행한 방향으로 연속적으로 연결된 다수개의 중공 입자들이 층의 형태로 빽빽하게 분포된 상태일 수 있다. 따라서 본 발명의 저굴절층은 기존 보다 우수한 반사 방지 효과를 나타낼 수 있다.In addition, the hollow particles may be contained in the form of a layer, and may be dispersed on the photochromic hard layer by mixing with the crosslinked polymer. When the hollow particles are contained in the form of a layer, a plurality of hollow particles continuously connected in a direction parallel to the substrate may be densely distributed in the form of layers. Therefore, the low refraction layer of the present invention can exhibit an excellent antireflection effect.

상기 중공 입자는 수 평균 입경이 5 내지 80nm 인 것일 수 있다. 상기 중공 입자의 입경은 필름의 투명성을 유지할 수 있으면서도 반사 방지 효과를 나타낼 수 있는 범위에서 결정될 수 있다. 또 다른 일례에 따르면, 중공 입자는 수평균 입경이 10 내지 75 nm, 혹은 약 20 내지 70 nm로 될 수 있다.The hollow particles may have a number average particle diameter of 5 to 80 nm. The particle size of the hollow particles can be determined within a range capable of maintaining the transparency of the film and exhibiting the antireflection effect. According to another example, the hollow particles may have a number average particle size of from 10 to 75 nm, or from about 20 to 70 nm.

이때, 상기 '중공 입자' (hollow particles)라 함은 유기 또는 무기 입자의 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 입자를 의미하는 것일 수 있다. 일례로, '중공 실리카 입자'라 함은 규소 화합물 또는 유기 규소 화합물로부터 도출되는 실리카 입자로서, 실리카 입자의 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 입자를 의미할 수 있다. 따라서, 본 발명의 반사방지층은 중공입자 사용으로 반사도를 낮추어 눈부심을 방지할 수 있다.Here, the 'hollow particles' may mean particles in the form of voids existing on the surface and / or inside of the organic or inorganic particles. For example, the term 'hollow silica particles' refers to silica particles derived from a silicon compound or an organosilicon compound, and particles having a void space on the surface and / or inside of the silica particles. Therefore, the antireflection layer of the present invention can prevent the glare by reducing the reflectivity by using hollow particles.

이러한 중공입자로는 MgF2, SiO2, ZrO2, SnO2, Ga2O3 등 각종 금속 산화물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 상기 예로 제시된 화합물들은 상술한 바대로 가운데 부분이 비어 있는 형태를 가지며, 이로 인해 굴절율 조절이 가능하다.As such hollow particles, at least one selected from the group consisting of various metal oxides such as MgF 2 , SiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , and Ga 2 O 3 can be used. The compounds shown in the above examples have a shape with an empty center portion as described above, and thereby the refractive index can be controlled.

상기 중공 입자는 상술한 아크릴레이트 가교 중합체 100 중량부에 대하여, 100 내지 300 중량부로 사용될 수 있다. 중공 입자에 의한 최소한도의 효과를 나타낼 수 있으면서도, 상분리에 따른 바람직한 분포가 형성될 수 있도록 하기 위하여, 중공 입자의 함량은 전술한 범위에서 조절될 수 있다.The hollow particles may be used in an amount of 100 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylate crosslinked polymer. The content of the hollow particles can be adjusted within the range described above so that a desirable distribution according to the phase separation can be formed while exhibiting the minimum effect by the hollow particles.

또한, 상기 중굴절층 및 고굴절층에 포함되는 무기 미립자는 각각 1nm 내지 40nm의 평균입경을 가지는 ZrO2, ZnO, CeO2, TiO2, SnO2, Sb2O3, ATO(Antimony doped SnO2), AZO(Antimony doped ZnO), ITO, GZO(Gallium doped ZnO) 및 PTO로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.The inorganic fine particles contained in the medium refractive index layer and the high refractive index layer may be ZrO 2 , ZnO, CeO 2 , TiO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , ATO (Antimony doped SnO 2), or TiO 2 having an average particle size of 1 nm to 40 nm, At least one selected from the group consisting of AZO (antimony doped ZnO), ITO, GZO (Gallium doped ZnO), and PTO can be used.

바람직하게, 습식 코팅의 경우, 저굴절층의 재료는 MgF2, SiO2 등이 사용될 수 있고, 중굴절 및 고굴절층의 재료는 ZrO2, ZnO, CeO2, TiO2, SnO2, Sb2O3, ATO(Antimony doped SnO2), AZO(Antimony doped ZnO), ITO, GZO(Gallium doped ZnO), PTO, Cr2O3 등이 사용될 수 있다.Preferably, in the case of wet coating, the material of the low refraction layer may be MgF 2 , SiO 2, etc., and the materials of the high refraction and high refraction layers may be ZrO 2 , ZnO, CeO 2 , TiO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , ATO (Antimony doped SnO 2 ), AZO (Antimony doped ZnO), ITO, GZO (Gallium doped ZnO), PTO, Cr 2 O 3 and the like.

또한, 중공 입자 또는 무기입자는 분산매(물 또는 유기용매)에 분산된 형태로서 고형분 함량이 5 내지 40 중량%인 콜로이드상으로 포함될 수 있다. 따라서, 본 발명의 반사방지층 형성을 위한 각 조성물에는 분산매인 용매를 더 포함할 수 있다. 여기서, 분산매로 사용 가능한 유기용매로는 메탄올(methanol), 이소프로필 알코올(isoproply alcohol, IPA), 에틸렌글리콜(ethylene glycol), 부탄올(butanol) 등의 알콜류; 메틸에틸케톤(methyl ethyl ketone), 메틸이소부틸케톤(methyl iso butyl ketone, MIBK) 등의 케톤류; 톨루엔(toluene), 자일렌(xylene) 등의 방향족 탄소수소류; 디메틸 포름 아미드(dimethyl formamide), 디메틸 아세트아미드(dimethyl acetamide), N-메틸 피롤리돈(methyl pyrrolidone) 등의 아미드류; 초산에틸, 초산부틸, γ-부티로락톤 등의 에스터(ester)류; 테트라하이드로푸란(tetrahydrofuran), 1,4-디옥산, 프로필렌글리콜메틸에테르 등의 에테르(ether)류; 또는 이들의 혼합물을 예로 들 수 있다.The hollow particles or the inorganic particles may be dispersed in a dispersion medium (water or an organic solvent) and may be contained in a colloidal phase having a solid content of 5 to 40% by weight. Therefore, each composition for forming the antireflection layer of the present invention may further include a solvent which is a dispersion medium. Examples of the organic solvent usable as the dispersion medium include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol (IPA), ethylene glycol, and butanol; Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl iso butyl ketone (MIBK); Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Amides such as dimethyl formamide, dimethyl acetamide and N-methyl pyrrolidone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate and? -Butyrolactone; Ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and propylene glycol methyl ether; Or a mixture thereof.

또한 상기 중굴절층, 고굴절층 및 저굴절층을 형성하기 위한 조성물에는 광개시제를 더 포함할 수 있다. 상기 광개시제의 종류는 특별히 한정되지 않고 이 분야에 잘 알려진 물질을 사용 가능하다. 예를 들면, 상기 광 개시제는 1-히드록시 시클로헥실페닐 케톤, 벤질 디메틸 케탈, 히드록심디메틸아세토 페논, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 부틸 에테르 등이 있다. 상기 광개시제는 아크릴레이트 가교 중합체 100 중량부에 대하여 5 내지 60 중량부로 사용한다.The composition for forming the medium refractive index layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer may further comprise a photoinitiator. The type of the photoinitiator is not particularly limited, and materials well known in the art can be used. For example, the photoinitiator may be selected from the group consisting of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyl dimethyl ketal, hydroxymedimethylacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether . The photoinitiator is used in an amount of 5 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylate crosslinked polymer.

상기 고굴절층 및 저굴절층은 경화를 통해 각각 10nm 내지 200nm의 두께로 형성될 수 있다. 또한, 상기 중굴절층은 10nm 내지 200nm 의 두께로 형성될 수 있다.The high refractive index layer and the low refractive index layer may be formed to have a thickness of 10 nm to 200 nm through curing. Further, the middle refractive layer may be formed to a thickness of 10 nm to 200 nm.

이러한 방법으로 제공되는 본 발명의 반사방지층은 평균 반사율이 2% 이하일 수 있다.The antireflection layer of the present invention provided in this way may have an average reflectance of 2% or less.

한편, 상기 반사 방지층의 제조방법은 특별히 한정되지 않으며, 건식법 또는 습식법 등이 사용 가능하다. 바람직하게, 반사 방지층은 습식법으로 제조될 수 있다. 상기 건식법은 증착이나 스퍼터링 등을 이용하여 복수의 박막층을 적층하는 방법이다. 상기 습식법은 바인더, 용매 등을 포함하는 조성물을 기재 상에 도포하고, 이를 건조 및 경화시키는 방법으로서, 건식법에 비하여 제조 비용이 낮아 상업적으로 널리 이용되고 있다.On the other hand, the method for producing the antireflection layer is not particularly limited, and a dry method, a wet method, or the like can be used. Preferably, the antireflection layer can be produced by a wet process. The dry method is a method of laminating a plurality of thin film layers by vapor deposition, sputtering or the like. The wet method is a method of applying a composition including a binder, a solvent, and the like onto a substrate, drying and curing the composition, and its manufacturing cost is lower than that of the dry method, and it is widely used commercially.

한편, 상기 광변색 하드층은 상기 광변색 염료가 포함된 광변색 코팅층을 의미하며, UV에 의하여 변색하는 특성이 있으므로, 실외에서 사용할 때에는 색을 띠게 되어 강한 외부광의 반사를 줄여줄 수 있고, 실내에서 사용할 때에는 투명한 색을 띠게 되어 상황에 따라 적절한 화면 콘트라스트를 유지할 수 있다. On the other hand, the photochromic hard layer refers to a photochromic coating layer containing the photochromic dye, and since it has a characteristic of discoloring due to UV, it is colored when used outdoors so that the reflection of strong external light can be reduced, It is possible to maintain an appropriate screen contrast depending on the situation.

상기 광변색 하드층은 광변색 염료, 아크릴레이트 바인더 및 광개시제를 포함하는 조성물을 이용하여 형성할 수 있다. The photochromic hard layer may be formed using a composition comprising a photochromic dye, an acrylate binder and a photoinitiator.

바람직하게, 상기 광변색 하드 코팅층은 다관능성 아크릴레이트계 모노머 100 중량부에 대하여, 광변색 염료 0.5 내지 10 중량부 및 광개시제 1 내지 10 중량부를 포함하는 하드코팅액 조성물을 이용하여 형성하여 형성될 수 있다.Preferably, the photochromic hard coating layer may be formed by using a hard coating liquid composition comprising 100 to 10 parts by weight of the multifunctional acrylate monomer, 0.5 to 10 parts by weight of a photochromic dye and 1 to 10 parts by weight of a photoinitiator .

상기 아크릴레이트 바인더는 2 관능 이상의 다관능성 아크릴레이트를 사용할 수 있으며, 예를 들면 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트, 트리메틸렌프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헵타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸렌 프로필 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세롤 트리아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 및 에틸렌글리콜 디아크릴레이트 등의 아크릴레이트 모노머 뿐만 아니라 아크릴레이트 올리고머 중 단독 또는 2종 이상을 선택하여 혼합 사용할 수 있다.The acrylate binder may be a polyfunctional acrylate having two or more functional groups. Examples of the acrylate binder include pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylene propane triacrylate, dipentaerythritol hepta Acrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylene propyl triacrylate, propoxylated glycerol triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and Acrylate monomers such as ethylene glycol diacrylate, and acrylate oligomers may be used alone or in admixture.

또한, 상기 광변색 하드 코팅 조성물에 사용되는 광변색 염료는 통상의 광변색 특성을 나타내는 화합물이면 어느 것이든 사용할 수 있다. 대표적으로, 나프토피란, 벤조피란, 페난트로피란, 인데노나프토피란, 스피로(벤즈인돌린)나프토피란, 스피로(인돌린)벤조피란, 스피로(인돌린)나프토피란, 스피로(인돌린)퀴논피란, 스피로(인돌린)피란, 스피로(인돌린)나프톡사진, 스피로(인돌린)피리도벤즈옥사진, 스피로(벤즈인돌린)피리도벤즈옥사진, 스피로(벤즈인돌린)나프톡사진, 스피로(인돌린)벤즈옥사진, 크로멘, 유기-금속 디티오네이트(디티조에니트는 아닌듯 확인할 것), 펄자이드(fulgide), 펄지미드(fulgimide) 등을 직접 제조하여 사용하거나, 시판된 것을 구입하여 사용할 수 있다.The photochromic dye used in the photochromic hard coating composition may be any compound that exhibits ordinary photochromic properties. Representative examples include naphthopyran, benzopyran, phenanthropyran, indenonaphthopyran, spiro (benzindolin) naphthopyran, spiro (indolin) benzopyran, spiro (indolin) naphthopyran, (Benzindolin) naphthol, spiro (indolin) pyridobenzoxazine, spiro (indoline) pyridobenzoxazine, spiro (indolin) (Dithioguanite), fulgide, fulgimide, and the like may be directly manufactured or used in the manufacture of a dentifrice composition according to the present invention, Commercially available ones can be purchased and used.

상기 광변색 염료의 사용량은 아크릴레이트 바인더 100 중량부에 대해 0.5 내지 10 중량부, 바람직하기로 1.5 내지 6 중량부로 사용한다. 만약 상기 광변색 염료의 함량이 상기 범위 미만이면 제조된 코팅막이 적절한 광변색 특성을 가지기 어렵고, 상기 범위를 벗어나는 경우 염료가 코팅액에 충분히 용해되지 못하여 석출되는 문제가 발생할 우려가 있고 경제적으로 바람직하지 못하다.The photochromic dye is used in an amount of 0.5 to 10 parts by weight, preferably 1.5 to 6 parts by weight, based on 100 parts by weight of the acrylate binder. If the content of the photochromic dye is less than the above range, the resulting coating film may not have adequate photochromic properties, and if the content is out of the above range, the dye may not sufficiently dissolve in the coating liquid and may be precipitated, which is economically undesirable .

상기 광변색 하드 코팅 조성물에 사용되는 광개시제는 특별히 한정되지 않으며, 이 분야에서 통상적으로 사용되는 것이면 모두 사용 가능하다. 예를 들면, 광 개시제는 1-히드록시 시클로헥실페닐 케톤, 벤질 디메틸 케탈, 히드록심디메틸아세토 페논, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 부틸 에테르 등이 있다. 상기 광개시제는 아크릴레이트 바인더 수지 100 중량부에 대하여 1 내지 10 중량부로 사용한다.The photoinitiator used in the photochromic hard coating composition is not particularly limited, and any of those conventionally used in this field can be used. For example, the photoinitiator may be 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyldimethyl ketal, hydroxymedimethylacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, etc. . The photoinitiator is used in an amount of 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylate binder resin.

또한 본 발명에서, 하드층에 사용되는 광개시제는 1-히드록시 시클로헥실페닐 케톤, 벤질 디메틸 케탈, 히드록시디메틸 아세토페논, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 및 벤조인 부틸 에테르로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 중합 개시제는 자외선 등의 에너지선에 의해 활성화되어 바인더 형성용 화합물의 중합 반응을 유도할 수 있는 화합물로서, 본 기술분야에서 통상적인 화합물이 사용될 수 있다.Also, in the present invention, the photoinitiator used in the hard layer may be 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyl dimethyl ketal, hydroxy dimethyl acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, And benzoin butyl ether. The polymerization initiator is a compound capable of being activated by an energy ray such as ultraviolet rays to induce the polymerization reaction of the compound for forming a binder, and a compound common in the art can be used.

한편, 상술한 구현예에 따른 하드 코팅층은 용매를 더 포함할 수 있다. 용매는 조성물의 점도를 적정 범위로 조절함과 동시에, 중공 입자의 원활한 상분리와 분포 경향을 조절하는 역할을 한다.Meanwhile, the hard coating layer according to the above-described embodiment may further include a solvent. The solvent serves to adjust the viscosity of the composition to an appropriate range and to control the smooth phase separation and distribution tendency of the hollow particles.

상기와 같은 효과가 충분히 발현될 수 있도록 하기 위하여, 용매는 알코올류, 케톤류, 방향족 탄화수소류, 아미드류, 에스터류 및 에테르류로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 이외에도 본 발명은 위 물성을 충족하는 임의의 용매를 사용할 수 있다. 이러한 용매의 예로는 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부틸알코올, 이소부틸알코올, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤, 또는 아세톤이 바람직하게 이용될 수 있으나, 상술한 예에 한정되는 것은 아니다.The solvent may be at least one selected from the group consisting of alcohols, ketones, aromatic hydrocarbons, amides, esters and ethers in order to sufficiently exhibit the above effects. In addition, any solvent that satisfies the above properties may be used in the present invention. Examples of such a solvent include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, isobutyl alcohol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, or acetone, but it is not limited to the examples .

조성물의 코팅시 흐름성이 좋지 않을 경우 코팅층에 줄무늬가 생기는 등 불량이 발생할 수 있는데, 이와 같이 조성물에 요구되는 최소한의 흐름성을 부여하기 위해, 용매는 일정 함량 이상으로 포함될 수 있다. 예를 들면, 상기 용매는 다관능 아크릴레이트계 모노머 100 중량부에 대하여, 300 내지 2000 중량부로 포함될 수 있다. 이때 용매를 과량으로 첨가할 경우 고형분 함량이 지나치게 낮아져 건조 및 경화시 불량이 발생할 수 있고, 중공 입자의 분포 경향이 바람직한 범위를 벗어날 수 있는 바, 상기 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다.If the flowability of the composition is poor, defects such as streaks may occur in the coating layer. In order to impart the minimum flowability required for the composition, the solvent may be contained in a certain amount or more. For example, the solvent may be contained in an amount of 300 to 2000 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyfunctional acrylate-based monomer. At this time, when the solvent is added in excess, the solid content may be excessively low, resulting in defects during drying and curing, and the distribution tendency of the hollow particles may deviate from the preferable range.

상기 광변색 하드층 형성용 조성물은 바코팅, 어플리케이터(applicator) 코팅 등의 습식 코팅(wet coating) 방법으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층의 두께는 1~8 ㎛ 일 수 있다. 상기 광변색 하드층은 UV 경화에 의해 투과율이 적어도 20% 이상 낮아지는 효과가 있다.The composition for forming the photochromic hard layer may be formed by a wet coating method such as a bar coating or an applicator coating. Also, the thickness of the hard coating layer may be 1 to 8 탆. The photochromic hard layer has the effect of lowering the transmittance by at least 20% by UV curing.

따라서, 본 발명의 외부 보호 필름의 제조방법은 투명 기재 위에 하드층 및 반사방지층을 각각 코팅방법에 의해 형성할 수 있다. Therefore, in the method for producing an external protective film of the present invention, a hard layer and an antireflection layer can be formed on a transparent substrate by a coating method, respectively.

상기 투명 기재는 광학적으로 많이 사용되는 투명한 기재라면 제한이 없다. 예를 들면, 상기 투명 기재는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리카보네이트(PC) 및 노보넨계 폴리머로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상의 필름을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 이 분야에 잘 알려진 기재가 모두 사용 가능하다. The transparent substrate is not limited as long as it is an optically transparent transparent substrate. For example, the transparent material may be at least one film selected from the group consisting of triacetylcellulose (TAC) polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC) and norbornene polymer However, the present invention is not limited thereto, and any substrate well known in the art can be used.

또한, 상술한 외부 보호 필름을 제조하는 방법에서, 상기 기재의 적어도 일면에 광변색 하드층 및 반사방지층 형성용 조성물을 도포하는 방법은 당업계에 잘 알려진 통상적인 코팅 장치 및 방법을 이용하여 수행될 수 있다. 예를 들어, 본 발명은 롤 코팅법, 바 코팅법, 스프레이 코팅법, 딥 코팅법, 또는 스핀 코팅법과 같은 습식 코팅법을 사용하여 진행할 수 있다.Further, in the above-described method for producing an external protective film, the method of applying the photochromic hard layer and the composition for forming the antireflective layer on at least one side of the substrate is performed using a conventional coating apparatus and method well known in the art . For example, the present invention can be carried out using a wet coating method such as a roll coating method, a bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, or a spin coating method.

또한, 상기 건조 단계는 조성물의 상분리 및 기재 내로의 침식을 촉진하기 위하여, 5 내지 150 ℃의 온도에서 0.1 내지 60 분 동안, 보다 바람직하게 20 내지 120 ℃의 온도에서 0.1 내지 20 분 동안, 가장 바람직하게 30 내지 110 ℃의 온도에서 1 내지 10 분 동안 수행될 수 있다. Further, the drying step is preferably carried out at a temperature of 5 to 150 DEG C for 0.1 to 60 minutes, more preferably at a temperature of 20 to 120 DEG C for 0.1 to 20 minutes, most preferably Lt; RTI ID = 0.0 > 110 C < / RTI > for 1 to 10 minutes.

그리고, 상기 광변색 하드층 밍 반사방지층을 형성하기 위한 경화 방법은 그 조건이 한정되지 않고 이 분야에 알려진 방법으로 사용 가능하다. 예를 들어, 상기 경화방법은 건조된 조성물에 광을 조사하는 방법 등으로 에너지를 부가하여 중합 반응을 개시하고, 이를 통해 침식 및 건조된 조성물을 경화할 수 있다. 이러한 경화 단계는 충분한 경화 반응을 유도하기 위하여 자외선 조사량 0.1 내지 2 J/㎠로 1 내지 600 초 동안, 보다 바람직하게 자외선 조사량 0.1 내지 1.5 J/㎠로 2 내지 200 초 동안, 가장 바람직하게 자외선 조사량 0.2 내지 1 J/㎠로 3 내지 100 초 동안 수행될 수 있다.The curing method for forming the photochromic hard-layering antireflection layer is not limited in its use and can be used in a method known in the art. For example, the curing method may be initiated by adding energy to the dried composition, such as by irradiating light to the composition, thereby curing the eroded and dried composition. This curing step is preferably carried out for 1 to 600 seconds at an ultraviolet radiation dose of 0.1 to 2 J / cm 2, more preferably for 2 to 200 seconds at an ultraviolet radiation dose of 0.1 to 1.5 J / cm 2, To 1 J / cm < 2 > for 3 to 100 seconds.

한편, 본 발명의 일 구현예에 있어서, 유기발광소자의 구성에 대해 도면에 도시하지 않았지만, 상술한 최외각 층의 반사방지층의 구성을 제외하고는, 이 분야에 잘 알려진 방법으로 제공될 수 있다.On the other hand, in the embodiment of the present invention, although not shown in the drawings for the constitution of the organic light emitting element, it can be provided by a method well known in the art, except for the configuration of the antireflection layer of the outermost layer described above .

따라서, 상기 유기발광 소자의 제조방법은 기판 상에 제1전극을 형성하는 단계와, 상기 제1전극 상에 광을 발생하는 유기발광층을 형성하는 단계와, 상기 유기발광층 상에 광의 일부를 반사 및 투과시키기 위한 제2전극을 형성하는 단계와, 상기 제2전극 상에 반사방지층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Accordingly, the method of manufacturing an organic light emitting device includes forming a first electrode on a substrate, forming an organic light emitting layer for emitting light on the first electrode, Forming a second electrode for transmitting the first electrode, and forming an anti-reflection layer on the second electrode.

또한, 상기 기판은 실리콘 기판, 유기기판, 플라스틱과 같은 일반적인 투명기판이 사용될 수 있다. 또한 상기 기판은 플렉서블 기판을 포함할 수 있다.In addition, a general transparent substrate such as a silicon substrate, an organic substrate, and a plastic may be used for the substrate. The substrate may also include a flexible substrate.

상기 제1전극은 ITO, IZO, ITZO 등의 전도성 물질을 진공증착이나 스퍼터링하여 형성된 투명 전극일 수 있다. 상기 제2전극은 유기발광소자에 적용되는 금속전극일 수 있으며, 그 구성이 제한되지 않는다.The first electrode may be a transparent electrode formed by vacuum deposition or sputtering of a conductive material such as ITO, IZO or ITZO. The second electrode may be a metal electrode applied to the organic light emitting device, and the structure thereof is not limited.

또한, 본 발명의 유기발광소자는 정공관련층, 유기발광층 및 전자관련층을 포함하는 발광층을 포함할 수 있다. 상기 정공관련층은 투명 전극 상에 순차적으로 정공주입층(Hole Injection Layer), 정공운송층(Hole Transport Layer)이 형성된다.In addition, the organic light emitting device of the present invention may include a light emitting layer including a hole related layer, an organic light emitting layer, and an electron related layer. In the hole-related layer, a hole injection layer (Hole Injection Layer) and a hole transport layer (Hole Transport Layer) are sequentially formed on the transparent electrode.

상기 유기발광층(Emitting Layer)은 빛을 내는 기능을 하지만 주로 전자 혹은 정공을 운반하는 기능도 함께하는 것이 대부분이다.The organic light emitting layer functions to emit light, but it mainly functions to transport electrons or holes.

상기 전자관련층에는 전자운송층(Electron Transport Layer), 전자주입층(Electron Injection Layer)이 유기발광층 상에 순차적으로 적층될 수 있다. 정공관련층과 유기발광층 및 전자관련층을 포함하는 발광층은 저분자 화합물인 경우에는 진공증착에 의해 형성되며, 고분자 화합물의 경우에는 스핀 코팅(Spin Coating) 또는 잉크젯 프린팅 방식에 의해 형성될 수 있다. 이때, 상기 유기발광층의 재료는 이 분야에 잘 알려진 물질을 사용하여 형성 가능하므로, 구체적인 설명은 생략한다.In the electron-related layer, an electron transport layer and an electron injection layer may be sequentially stacked on the organic emission layer. The light-emitting layer including the hole-related layer, the organic light-emitting layer, and the electron-related layer may be formed by vacuum evaporation in the case of a low molecular compound and may be formed by spin coating or inkjet printing in the case of a polymer compound. At this time, the material of the organic light emitting layer can be formed using a material well known in the art, so a detailed description thereof will be omitted.

이러한 구성을 갖는, 본 발명의 유기발광소자는 기존보다 시인성을 향상시키며 휘도를 크게 높일 수 있다.
The organic light emitting device having such a structure can improve the visibility and greatly increase the luminance as compared with the conventional one.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example 1 One

(1) 광변색 하드층의 형성(1) Formation of a photochromic hard layer

6관능기의 우레탄 아크릴레이트(Kyroeisha의 3061) 60g, 광개시제(Ciba의 Irgacure 184) 2g, 광변색 염료 (Vivimed의 Reversacol Graphite) 4g, 용매로 메틸에틸케톤(MEK) 34g을 혼합하여 코팅액을 제조하였다. 이후, TAC 필름에 코팅한 후, UV 경화하여 광변색 하드 코팅층을 형성하였다 (두께: 7㎛).
A coating solution was prepared by mixing 60 g of 6-functional urethane acrylate (3061 of Kyroeisha), 2 g of photoinitiator (Irgacure 184 of Ciba), 4 g of photochromic dye (Reversacol Graphite of Vivimed) and methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent. Thereafter, the resultant was coated on a TAC film and UV-cured to form a photochromic hard coat layer (thickness: 7 탆).

(2) 반사 방지층의 형성(2) Formation of antireflection layer

아래 표와 같이, 무기입자, 바인더, 개시제 및 용매(PGME)를 이용하여, 각각 중굴절(MR), 고굴절(HR), 저굴절(LR)용 코팅액을 제조한 후, 상기에서 제조한 광변색 하드 코팅층 위에 각각 이들을 차례로 코팅하고, UV 경화하여 반사 방지층을 형성하였다. 이러한 과정을 통해, 중굴절층, 고굴절층 및 저굴절층은 각각 100nm, 30nm, 110nm의 두께로 형성되었다.(MR), high refractive index (HR) and low refractive index (LR) coating liquids were prepared by using inorganic particles, a binder, an initiator and a solvent (PGME) Each of them was sequentially coated on the hard coat layer and UV cured to form an antireflection layer. Through this process, the middle refraction layer, the high refraction layer and the low refraction layer were formed with thicknesses of 100 nm, 30 nm and 110 nm, respectively.

중굴절(MR)층 및 고굴절(HR) 층에 사용된 입자는 각각 ZrO2이고, 저굴절(LR)층은 중공 SiO2이며, 모두 MIBK에 20% 농도로 분산되어 있는 제품을 사용하였다.The particles used for the middle (MR) layer and the high refractive index (HR) layer were ZrO 2 and the low refractive (LR) layer was hollow SiO 2 , all of which were dispersed in MIBK at a concentration of 20%.

또한, 상기 반사방지층을 최외각 투명필름으로 사용하고, 통상적인 방법으로 투명 기판, 제1전극, 유기발광층, 제2전극 및 반사방지층을 형성하여, 유기 발광 소자를 제조하였다. 하기 표 1에서 함량단위는 g이다.Also, the above-mentioned antireflection layer was used as an outermost transparent film, and a transparent substrate, a first electrode, an organic light emitting layer, a second electrode and an antireflection layer were formed by a conventional method to prepare an organic light emitting device. The content unit in Table 1 is g.

MRMR HRHR LRLR 입자 in MIBK(20%)Particles in MIBK (20%) ZrO2 ZrO 2 4
(고형분 함량 0.8)
4
(Solid content 0.8)
7
(고형분 함량 1.4)
7
(Solid content 1.4)
SiO2 SiO 2 6
(고형분 함량 1.2)
6
(Solid content 1.2)
PETAPETA 1.11.1 0.50.5 1One Irgacure 184Irgacure 184 0.10.1 0.10.1 0.20.2 MIBKMIBK 2020 6060 5050 PGMEPGME 14.814.8 32.432.4 22.822.8 총 합계(g)Total gross (g) 4040 100100 8080 s.c.(%)s.c. (%) 55 22 33

주) 상기 표 1에서,Note) In Table 1,

PETA: 펜타에리스리톨트리아크릴레이트PETA: pentaerythritol triacrylate

MIBK: 메틸이소부틸케톤MIBK: methyl isobutyl ketone

Irgacure 184: 개시제Irgacure 184: initiator

PGME: 프로필렌글리콜메틸에테르
PGME: Propylene glycol methyl ether

비교예Comparative Example 1 One

광변색 하드층 대신 하기 방법으로 제조된 일반 하드층을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지층과 유기발광소자를 제조하였다.An antireflective layer and an organic light emitting device were prepared in the same manner as in Example 1 except that a general hard layer prepared by the following method was used in place of the photochromatic hard layer.

하드층의Hard floor 형성 formation

6관능기의 우레탄 아크릴레이트(Kyroeisha의 3061) 60g, 광개시제(Ciba의 Irgacure 184) 2g, 용매로 메틸에틸케톤(MEK) 38g을 혼합하여 코팅액을 제조하였다. 이후, TAC 필름에 코팅한 후, UV 경화하여 광변색 하드 코팅층을 형성하였다 (두께: 7㎛).
60 g of 6-functional urethane acrylate (3061 of Kyroeisha), 2 g of photoinitiator (Irgacure 184 of Ciba) and 38 g of methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent were mixed to prepare a coating solution. Thereafter, the resultant was coated on a TAC film and UV-cured to form a photochromic hard coat layer (thickness: 7 탆).

[실험예][Experimental Example]

상기 실시예 및 비교예에서 제조한 반사 방지 필름에 대해 물성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The properties of the antireflection films prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated and the results are shown in Table 2 below.

1) 반사율 측정: 반사 방지 필름의 뒷면을 흑색 처리한 후, 최소 반사율 값으로 저반사 특성을 평가하였다. 이때, 측정 장비로는 Shimadzu사의 Solid Spec. 3700 spectrophotometer를 이용하였다.1) Reflectance measurement: After the back side of the antireflection film was blackened, the low reflection property was evaluated by the minimum reflectance value. At this time, as the measurement equipment, Shimadzu's Solid Spec. 3700 spectrophotometer was used.

2) 투과율 및 헤이즈(Haze) 측정: 일본 무라카미사의 HR-100을 이용하여 투과율과 Haze를 평가하였다.
2) Measurement of transmittance and haze: The transmittance and haze were evaluated using HR-100 manufactured by Murakami Co., Ltd. of Japan.

반사율 (%)Reflectivity (%) 투과율(%)Transmittance (%) 헤이즈(%)Haze (%) 실시예 1Example 1 UV조사전UV cooking dictionary 0.40.4 9797 0.30.3 UV조사후After UV irradiation 0.40.4 4545 0.30.3 비교예 1Comparative Example 1 UV조사전UV cooking dictionary 0.30.3 9797 0.30.3 UV조사후After UV irradiation 0.30.3 9797 0.30.3

상기 표 1을 통해 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1은 비교예 1 대비 반사율 및 헤이즈 특성이 우수하였다. 또한, 실시예 1의 광변색 하드층의 경우 UV에 의해 투과율이 20% 이상 낮아짐을 확인하였다. 따라서, 이러한 투명 필름을 포함한 유기발광소자는 시인성이 향상되고 휘도를 증가시키며 사용자의 피로도를 감소시킬 수 있다.
As can be seen from Table 1, Example 1 was excellent in reflectance and haze characteristics as compared with Comparative Example 1. [ It was also confirmed that the photochromic hard layer of Example 1 had a transmittance lower by 20% or more by UV. Therefore, the organic light emitting device including such a transparent film can improve the visibility, increase the brightness, and reduce the fatigue of the user.

1: 투명 기재
2: 광변색 하드층
3: 중굴절층
4: 고굴절층
5: 저굴절층
1: transparent substrate
2: Photochromic hard layer
3: medium refraction layer
4: High-refraction layer
5: low refractive layer

Claims (11)

기판;
제1전극;
유기발광층;
제2전극; 및
투명기재 상에 형성된 광변색 하드층 및 반사방지층을 포함한 외부 보호 필름;을 구비하며,
상기 반사방지층은 굴절율 1.60 내지 2.50의 고굴절층 및 굴절율 1.25 내지 1.42의 저굴절층이 순차적으로 적층된 구조를 포함하는,
유기 발광 소자.
Board;
A first electrode;
An organic light emitting layer;
A second electrode; And
An outer protective film including a photochromic hard layer and an antireflection layer formed on a transparent substrate,
Wherein the antireflection layer comprises a structure in which a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 2.50 and a low refractive layer having a refractive index of 1.25 to 1.42 are sequentially laminated.
Organic light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 반사방지층은 광변색 하드층 및 굴절율 1.60 내지 2.50의 고굴절층 사이에 굴절율 1.55 내지 1.75의 중굴절층을 더 포함하는,
유기 발광 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the antireflection layer further comprises a medium refractive layer having a refractive index between 1.55 and 1.75 between a photochromic hard layer and a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 2.50.
Organic light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 저굴절층은 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 중공입자 100 내지 300 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성되는 유기 발광 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the low refraction layer is formed by curing a composition including 100 to 300 parts by weight of hollow particles based on 100 parts by weight of a binder of an acrylate crosslinked polymer.
제3항에 있어서,
상기 중공 입자는 수 평균 입경이 5 내지 80nm인 유기 발광 소자.
The method of claim 3,
Wherein the hollow particles have a number average particle diameter of 5 to 80 nm.
제1항에 있어서,
상기 고굴절층은 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 무기 미립자 70 내지 700 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성되는 유기 발광 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the high refractive index layer is formed by curing a composition containing 70 to 700 parts by weight of inorganic fine particles based on 100 parts by weight of a binder of an acrylate crosslinked polymer.
제2항에 있어서,
상기 중굴절층은 아크릴레이트 가교 중합체의 바인더 100 중량부를 기준으로 무기 미립자 70 내지 700 중량부가 포함된 조성물의 경화를 통해 형성되는 유기 발광 소자.
3. The method of claim 2,
Wherein the medium refractive layer is formed by curing a composition containing 70 to 700 parts by weight of inorganic fine particles based on 100 parts by weight of a binder of an acrylate crosslinked polymer.
제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 무기 미립자는 1nm 내지 40nm의 평균입경을 가지는 ZrO2, ZnO, CeO2, TiO2, SnO2, Sb2O3, ATO(Antimony doped SnO2), AZO(Antimony doped ZnO), ITO, GZO(Gallium doped ZnO) 및 PTO로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 유기 발광 소자.
The method according to claim 5 or 6,
The inorganic fine particles may be ZrO 2 , ZnO, CeO 2 , TiO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , ATO (Antimony doped SnO 2), AZO (Antimony doped ZnO), ITO, GZO doped ZnO), and PTO.
제1항에 있어서,
상기 고굴절층 및 저굴절층은 각각 10nm 내지 200nm의 두께로 형성되는 유기 발광 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the high refractive index layer and the low refractive index layer are each formed to a thickness of 10 nm to 200 nm.
제2항에 있어서,
상기 중굴절층은 10nm 내지 200nm 의 두께로 형성되는 유기 발광 소자.
3. The method of claim 2,
Wherein the intermediate refraction layer is formed to a thickness of 10 nm to 200 nm.
제1항에 있어서,
상기 광변색 하드층은 UV 경화에 의해 투과율이 적어도 20% 이상 낮아지는, 유기발광 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the photochromic hard layer is at least 20% lower in transmittance by UV curing.
제1항에 있어서,
상기 반사방지층은 반사율이 2% 이하인, 유기발광 소자.
The method according to claim 1,
Wherein the antireflection layer has a reflectance of 2% or less.
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