KR20150035293A - Control method for vacuum processing apparatus having slit valve - Google Patents

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Abstract

The present invention comprises: a step of maintaining vacuum pressure of a transfer chamber that is connected to a process chamber by a cassette chamber, closing a first control valve that is installed between the process chamber and the cassette chamber and opening a second control valve that is installed between the transfer chamber and the cassette chamber to process the substrate that is stored in the process chamber; a step of determining if a vent initiation signal is entered from the process chamber; a step of determining if the first control valve is open and the second control valve is closed upon the input of the vent initiation signal from the process chamber; a step of injecting vent gas into the process chamber if it is determined that the first control valve is open and the second control valve is closed, a step of closing the first control valve and opening the second control valve if vacuum pressure is provided to the process chamber, cassette chamber, and transfer chamber; a step of determining, upon the opening of the second control valve, if the number of processes of the process chamber has exceeded a predefined value; a step of cleaning the process chamber by providing cleaning gas to the process chamber in the event that the number of processes has exceeded the predefined value; a step of closing the first control valve and opening the second control valve during the cleaning of the process chamber; a step of emitting the cleaning gas by opening the first control valve and closing the second control valve upon the completion of the cleaning.

Description

슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법 {CONTROL METHOD FOR VACUUM PROCESSING APPARATUS HAVING SLIT VALVE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a control method for a vacuum processing apparatus having a slit valve,

본 발명은 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 프로세스 챔버 내부에 클리닝공정이 진행될 때에 사용되는 클리닝가스가 다른 프로세스 챔버로 리크(Leak)되는 것을 방지할 수 있는 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve, and more particularly, to a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve capable of preventing a cleaning gas used when a cleaning process is performed inside a process chamber from being leaked to another process chamber And a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve.

통상적으로 반도체, LCD, OLED, SOLAR 등의 기판을 처리하는 상당수의 공정은 고진공 분위기에서 공정이 이루어지는 소정의 공정, 예를 들면 박막증착 , 식각 등의 공정 등이 진행될 수 있도록 밀폐된 챔버가 구비된다.BACKGROUND ART A considerable number of processes for processing substrates such as semiconductors, LCDs, OLEDs, and SOLARs are equipped with a sealed chamber so that a predetermined process such as thin film deposition, etching, etc. can be performed in a high vacuum atmosphere .

또한 이러한 챔버를 통하여 기판 수율을 높이기 위해서는 챔버 내부가 오염되지 않도록 유지하는 것이 매우 중요하다.In order to increase the substrate yield through such a chamber, it is very important to keep the inside of the chamber from being contaminated.

챔버는 고진공 상태에서 소정의 기판 공정이 수행되는 프로세스 챔버(Process chamber, PM)와, 기판 가공을 위한 웨이퍼를 로드 또는 언로드 하는 로드락 챔버(Load lock chamber, LM)와, 그리고 프로세스 챔버와 로드 락 챔버 사이에 설치되어 기판을 이송하는 트랜스퍼 챔버(Transfer chamber, TM) 등으로 되어 있다.The chamber includes a process chamber (PM) in which a predetermined substrate process is performed in a high vacuum state, a load lock chamber (LM) for loading or unloading a wafer for substrate processing, and a process chamber and a load lock And a transfer chamber (TM) for transferring the substrate between the chambers.

한편, 상술한 각 챔버들 사이에는 기판을 통과시키기 위한 통로 역할을 하는 카세트 챔버가 설치되어 있고, 이 카세트 챔버에는 카세트 챔버를 개폐하는 슬릿밸브가 설치되어 있어서 카세트 챔버의 개폐가 이루어지도록 되어 있다.Meanwhile, a cassette chamber serving as a passage for passing the substrate is provided between the chambers, and a slit valve for opening and closing the cassette chamber is provided in the cassette chamber, so that the cassette chamber is opened and closed.

이러한 슬릿밸브는 실질적으로 챔버 간의 통로를 이루는 카세트 챔버를 개폐하는 것으로 카세트 챔버와 동일한 형상 및 개구부 보다 큰 크기의 플레이트로 이루어진 밸브 플레이트와, 공압에 의해 작동되며 밸브 플레이트 측에 연결되는 샤프트를 동작시켜서 밸브플레이트를 승강시키는 액추에이터 등을 포함하는 형태로 이루어져 있다.The slit valve includes a valve plate having a shape substantially identical to that of the cassette chamber and larger than the opening by opening and closing the cassette chamber which forms the passage between the chambers, and a shaft which is operated by pneumatic pressure and connected to the valve plate side An actuator for raising and lowering the valve plate, and the like.

또한, 밸브 플레이트에는 카세트 챔버를 실링하기 위해서 카세트 챔버와의 접촉 부위에 오링이 구비되고, 이 밸브 플레이트를 이용하여 카세트 챔버를 폐쇄할 경우 밸브 플레이트가 챔버 측으로 가압되면서 오링이 압축되어 카세트 챔버가 밀폐되는 것이다.
When the cassette chamber is closed by using the valve plate, the O-ring is compressed while the valve plate is pressed toward the chamber, so that the cassette chamber is closed .

본 발명의 배경기술은 대한민국 등록특허공보 제10-1171990호(2012년 8월 7일 공고, 발명의 명칭 : 챔버간 역압 방지수단을 구비하는 진공 처리장치)에 개시되어 있다.
BACKGROUND ART [0002] The background art of the present invention is disclosed in Korean Patent Registration No. 10-1171990 (published on Aug. 7, 2012, entitled "Vacuum Processor Having Chamber Back Pressure Prevention Device").

일반적인 진공 처리장치는, 프로세스 챔버 내부에 클리닝공정이 진행되는 동안에 슬릿밸브를 통해 클리닝가스가 리크되어 트랜스퍼 챔버로 유입되고, 다른 프로세스 챔버로 클리닝가스가 유입될 수 있는 문제점이 있다.A conventional vacuum processing apparatus has a problem that a cleaning gas leaks through a slit valve while a cleaning process is performed inside the process chamber and flows into a transfer chamber and a cleaning gas can flow into another process chamber.

따라서 이를 개선할 필요성이 요청된다.Therefore, there is a need for improvement.

본 발명은 프로세스 챔버 내부에 클리닝공정이 진행될 때에 사용되는 클리닝가스가 다른 프로세스 챔버로 리크(Leak)되는 것을 방지할 수 있는 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
An object of the present invention is to provide a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve that can prevent a cleaning gas used when a cleaning process is performed inside a process chamber from being leaked to another process chamber.

본 발명은, (a) 카세트 챔버에 의해 프로세스 챔버와 연결되는 트랜스퍼 챔버에 진공압을 유지하고, 상기 프로세스 챔버와 상기 카세트 챔버 사이에 설치되는 제1단속밸브를 폐쇄하고, 상기 트랜스퍼 챔버와 상기 카세트 챔버 사이의 설치되는 제2단속밸브를 개방하여 상기 프로세스 챔버에 수납되는 기판의 처리공정을 진행하는 단계; (b) 상기 프로세스 챔버에서 벤트공정 개시신호가 입력되는지 판단하는 단계; (c) 상기 프로세스 챔버의 벤트공정 개시신호가 입력되면 상기 제1단속밸브가 개방되고, 상기 제2단속밸브가 폐쇄상태인지 판단하는 단계; (d) 상기 제1단속밸브가 개방되고, 상기 제2단속밸브가 폐쇄상태로 판단되면 상기 프로세스 챔버에 벤트가스를 주입하는 단계; (e) 상기 프로세스 챔버, 상기 카세트 챔버 및 상기 트랜스퍼 챔버에 진공압이 제공되면 상기 제1단속밸브를 폐쇄하고, 상기 제2단속밸브를 개방하는 단계; (f) 상기 제1단속밸브가 폐쇄되고, 상기 제2단속밸브가 개방되면 상기 프로세스 챔버의 처리공정 진행 횟수가 설정치 이상인지 판단하는 단계; (g) 상기 프로세스 챔버의 처리공정 횟수가 설정치 이상이면 상기 프로세스 챔버에 클리닝가스를 공급하여 클리닝공정을 진행하는 단계; (h) 상기 프로세스 챔버에 클리닝공정이 진행되면 상기 제1단속밸브를 폐쇄하고, 상기 제2단속밸브를 폐쇄하는 단계; (i) 클리닝공정이 종료되면 상기 제1단속밸브를 개방하고, 상기 제2단속밸브를 폐쇄하여 클리닝가스를 배출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.(A) maintaining vacuum pressure in a transfer chamber connected to the process chamber by a cassette chamber, closing a first intermittent valve installed between the process chamber and the cassette chamber, and closing the transfer chamber and the cassette Opening a second intermittent valve installed between the chambers to advance the processing process of the substrate accommodated in the process chamber; (b) determining whether a vent process start signal is input in the process chamber; (c) determining whether the first intermittent valve is opened and the second intermittent valve is in a closed state when a vent process start signal of the process chamber is input; (d) injecting a vent gas into the process chamber when the first intermittent valve is opened and the second intermittent valve is determined to be in a closed state; (e) closing the first intermittent valve and opening the second intermittent valve when vacuum pressure is applied to the process chamber, the cassette chamber and the transfer chamber; (f) determining whether the number of processing steps of the process chamber is more than a set value when the first intermittent valve is closed and the second intermittent valve is opened; (g) supplying a cleaning gas to the process chamber to perform a cleaning process when the number of process steps of the process chamber is not less than a set value; (h) closing the first intermittent valve and closing the second intermittent valve when a cleaning process is performed on the process chamber; (i) closing the first intermittent valve and closing the second intermittent valve to discharge the cleaning gas when the cleaning process is completed.

또한, 본 발명의 상기 (i) 단계는, 상기 프로세스 챔버에 설치되는 진공라인에 구비되는 진공펌프를 구동시켜 상기 프로세스 챔버와 상기 카세트 챔버에 잔존하는 클리닝가스를 제거하는 것을 특징으로 한다.In the step (i) of the present invention, a vacuum pump provided in a vacuum line installed in the process chamber is driven to remove the cleaning gas remaining in the process chamber and the cassette chamber.

또한, 본 발명의 상기 (h) 단계가 진행된 후에 상기 카세트 챔버 내부의 압력이 설정치 이상으로 상승되면 오작동 신호를 출력하는 것을 특징으로 한다.
In addition, when the pressure inside the cassette chamber rises above the set value after the step (h) of the present invention is performed, a malfunction signal is outputted.

본 발명에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법은, 프로세스 챔버에 클리닝공정이 진행된 후에 프로세스 챔버와 카세트 챔버 사이에 구비되는 바이패스라인이 개방되고, 프로세스 챔버에 설치되는 진공라인이 개방되면서 프로세스 챔버 및 카세트 챔버 내부에 잔존하는 클리닝가스를 제거하므로 공정사고를 예방할 수 있는 이점이 있다.
A control method for a vacuum processing apparatus having a slit valve according to the present invention is characterized in that a bypass line provided between a process chamber and a cassette chamber is opened after a cleaning process is performed in the process chamber, And the cleaning gas remaining in the process chamber and the cassette chamber is removed, so that the process accident can be prevented.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치가 설치되는 멀티형 챔버가 도시된 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치가 도시된 구성도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 슬릿밸브가 도시된 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 슬릿밸브가 도시된 단면 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 카세트 챔버와 밸브 플레이트의 연결구조가 도시된 단면 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 슬릿밸브가 도시된 작동 상태도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 밸브 플레이트와 샤프트의 연결구조가 도시된 단면 사시도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 샤프트 장착구조가 도시된 단면 사시도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법이 도시된 순서도이다.1 is a view showing a multi-type chamber in which a vacuum processing apparatus having a slit valve is installed according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a vacuum processing apparatus having a slit valve according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view illustrating a slit valve of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional perspective view of a slit valve of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional perspective view illustrating a connection structure between a cassette chamber and a valve plate of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is an operational state diagram showing a slit valve of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional perspective view illustrating a connection structure of a valve plate and a shaft of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional perspective view illustrating a shaft mounting structure of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
9 is a flowchart showing a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법의 일 실시예를 설명한다.Hereinafter, a method of controlling a vacuum processing apparatus having a slit valve according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

이러한 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.In this process, the thicknesses of the lines and the sizes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로써, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다.In addition, the terms described below are terms defined in consideration of the functions of the present invention, which may vary depending on the intention or custom of the user, the operator.

그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치가 설치되는 멀티형 챔버가 도시된 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치가 도시된 구성도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 슬릿밸브가 도시된 사시도이다.FIG. 1 is a view illustrating a multi-type chamber in which a vacuum processing apparatus having a slit valve is installed according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic view of a vacuum processing apparatus having a slit valve according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a perspective view showing a slit valve of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.

또한, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 슬릿밸브가 도시된 단면 사시도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 카세트 챔버와 밸브 플레이트의 연결구조가 도시된 단면 사시도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 슬릿밸브가 도시된 작동 상태도이다.4 is a cross-sectional perspective view illustrating a slit valve of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a connection structure between a cassette chamber and a valve plate of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. And FIG. 6 is an operational state diagram showing a slit valve of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

또한, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 밸브 플레이트와 샤프트의 연결구조가 도시된 단면 사시도이고, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리장치의 샤프트 장착구조가 도시된 단면 사시도이다.7 is a cross-sectional perspective view illustrating a connection structure between a valve plate and a shaft of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a shaft mounting structure of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention Fig.

도 1 내지 도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치는, 복수 개의 프로세스 챔버(12) 및 로드 락 챔버(16)를 트랜스퍼 챔버(14)에 각각 연결시키도록 개방부(32a, 32b)를 구비하는 카세트 챔버(30)에 이동 가능하게 삽입되고, 개방부(32a, 32b)에 대향되는 프로세스 챔버(12)의 개구부(12a), 로드 락 챔버(16)의 개구부 또는 트랜스퍼 챔버(14)의 개구부(14a)를 개폐하는 밸브 플레이트(50)와, 밸브 플레이트(50)를 개방부(32a, 32b)에 대향되게 이동시키고, 밸브 플레이트(50)를 개방부(32a, 32b) 측으로 전진 또는 후진시키도록 액추에이터(70)에 출몰 가능하게 설치되는 샤프트(60)와, 밸브 플레이트(50)가 개방부(32a, 32b)에 밀착된 상태에서 밸브 플레이트(50)로부터 샤프트(60)를 분리시킬 수 있도록 밸브 플레이트(50)와 샤프트(60)를 연결하는 연결부(80)를 포함한다.1 to 8, a vacuum processing apparatus having a slit valve according to an embodiment of the present invention includes a plurality of process chambers 12 and a load lock chamber 16 connected to a transfer chamber 14 The opening portion 12a of the process chamber 12 opposed to the openings 32a and 32b and the opening portion 12b of the load lock chamber 16 A valve plate 50 for opening and closing an opening of the transfer chamber 14 or the opening 14a of the transfer chamber 14 and a valve plate 50 which is opposed to the openings 32a and 32b, A shaft 60 provided so as to be able to protrude or retract into the actuator 70 so as to move the valve plate 50 forward or backward to the side of the valve plates 50a and 50b in a state in which the valve plate 50 is in close contact with the openings 32a and 32b, To connect the valve plate 50 and the shaft 60 so that the shaft 60 can be separated from the valve plate 50 And a conjunction (80).

트랜스퍼 챔버(14)에는 다수 개의 개구부(14a)가 형성되고, 각각의 개구부(14a)에는 복수 개의 프로세스 챔버(12)와 로드 락 챔버(16)가 연결되도록 각각의 챔버 사이에는 카세트 챔버(30)가 설치된다.A plurality of openings 14a are formed in the transfer chamber 14 and a plurality of process chambers 12 and a load lock chamber 16 are connected to the respective openings 14a. Respectively.

카세트 챔버(30)에는 슬릿밸브(100)가 설치되어 개구부(12a, 14a)를 개폐할 수 있도록 하며, 본 실시예의 슬릿밸브(100)는 트랜스퍼 챔버(14)의 개구부(14a)와 프로세스 챔버(12)의 개구부(12a) 또는 로드 락 챔버(16)의 개구부를 동시에 개폐하므로 챔버들 사이의 압력 차이에 의해 챔버에 공급되는 가스가 유실되거나 진공압이 유실되는 것을 방지하게 된다.The slit valve 100 is installed in the cassette chamber 30 so as to open and close the openings 12a and 14a and the slit valve 100 of the present embodiment is configured to open and close the opening 14a of the transfer chamber 14 and the process chamber 12 or the opening portion of the load lock chamber 16 are simultaneously opened and closed to prevent the gas supplied to the chamber from being lost due to the pressure difference between the chambers or to prevent the vacuum pressure from being lost.

본 실시예에서는 카세트 챔버(30)를 기준으로 이와 이웃하는 챔버들 중에서 어느 한 챔버에는 벤트공정이 이루어지고 다른 챔버에서는 진공공정이 이루어지는 경우에, 카세트 챔버(30)를 벤트공정이 이루어지는 챔버와 동일한 압력 상태, 즉 정압 상태를 유지하도록 하는 카세트 챔버(30) 정압 유도부가 구비된다.In the present embodiment, when a venting process is performed in one of the chambers adjacent to the cassette chamber 30 and a vacuum process is performed in another chamber, the cassette chamber 30 may be the same as the chamber in which the venting process is performed The cassette chamber 30 constant pressure induction portion for maintaining the pressure state, that is, the constant pressure state is provided.

따라서 카세트 챔버(30) 내부에 대기압이 제공되면 카세트 챔버(30) 내부에 형성되는 대기압에 의해 진공 상태를 유지하고 있는 챔버 측으로 밸브 플레이트(50)를 가압하게 되므로 벤트공정이 이루어지는 챔버와 진공상태를 유지하고 있는 챔버 사이에 압력 차이로 인한 인터리크 발생을 방지하게 된다.Accordingly, when the atmospheric pressure is provided inside the cassette chamber 30, the valve plate 50 is pressed against the chamber side which is maintained in a vacuum state by the atmospheric pressure formed inside the cassette chamber 30, so that the chamber in which the venting process is performed and the vacuum state And interleaving due to the pressure difference between the chambers being held is prevented.

도 2에는 프로세스 챔버(12)와 트랜스퍼 챔버(14) 사이에 설치된 카세트 챔버의 정압 유도부를 도시하였으나, 본 발명에서는 카세트 챔버 정압 유도부가 프로세스 챔버(12)와 트랜스퍼 챔버(14) 사이의 카세트 챔버(30)에 구비된 것에 한정되는 것이 아니라 로드 락 챔버(16)와 트랜스퍼 챔버(14) 사이의 마련된 카세트 챔버(30)에도 동일하게 적용될 수 있다.2, the cassette chamber constant-pressure induction portion is a cassette chamber between the process chamber 12 and the transfer chamber 14 and the cassette chamber between the process chamber 12 and the transfer chamber 14. [ The present invention can be applied to the cassette chamber 30 provided between the load lock chamber 16 and the transfer chamber 14 as well.

본 실시예에 따른 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치는, 서로 이웃하는 챔버, 예를 들어 트랜스퍼 챔버(14)와 프로세스 챔버(12) 사이를 구획하면서 기판의 이송되는 통로를 개폐하는 슬릿밸브(100)의 동작 공간을 제공하는 카세트 챔버(30)와, 트랜스퍼 챔버(14) 또는 프로세스 챔버(12) 중에서 벤트공정이 이루어지는 어느 한 챔버와 카세트 챔버(30)가 동일 압력을 이루도록 하는 카세트 챔버 정압 유도부와, 각 챔버의 벤트공정을 감지하는 벤팅 감지부(160)와, 벤팅 감지부(160)로부터 전기적 신호를 받아 카세트 챔버 정압 유도부의 동작을 제어하는 제어부(180)를 포함한다.The vacuum processing apparatus provided with the inter-chamber back pressure preventing means according to the present embodiment includes a chamber for partitioning between adjacent chambers, for example, the transfer chamber 14 and the process chamber 12, A cassette chamber 30 for providing an operating space for the valve 100 and a cassette chamber 30 for causing the cassette chamber 30 to be in the same pressure as any chambers in the transfer chamber 14 or the process chamber 12, A venting sensing unit 160 for sensing the venting process of each chamber and a control unit 180 for controlling the operation of the cassette chamber static pressure induction unit in response to an electrical signal from the venting sensing unit 160. [

카세트 챔버(30)는 내부가 비어 있는 밀폐된 직육면체 형상으로 이루어지고, 트랜스퍼 챔버(14) 측과 프로세스 챔버(12) 측에 설치되는 방향으로 서로 마주보는 면에 각각 기판이 출입되는 통로 역할을 하는 개방부(32a, 32b)가 형성된다.The cassette chamber 30 has a closed rectangular parallelepiped shape in which the interior of the cassette chamber 30 is empty and functions as a passage through which the substrate is moved in and out of the surface facing the transfer chamber 14 and the process chamber 12 The openings 32a and 32b are formed.

카세트 챔버(30) 내부에는 각 개구부(12a, 14a)를 개폐할 수 있도록 공압에 의해 승강 작동되는 슬릿밸브(100)가 설치된다.In the cassette chamber 30, a slit valve 100 is installed which is operated to be opened and closed by air pressure so as to open and close the respective openings 12a and 14a.

이때, 슬릿밸브(100)는 카세트 챔버(30)의 양측에 마련된 각 개방부(32a, 32b)의 개폐를 나누어서 담당하도록 개방부(32a, 32b) 형상의 판으로 이루어진 두 개의 밸브 플레이트(50), 즉 제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)가 수직 자세로 서로 마주보도록 배치된다.At this time, the slit valve 100 is divided into two valve plates 50, each of which is a plate having openings 32a and 32b so as to divide the opening portions 32a and 32b provided on both sides of the cassette chamber 30, I.e., the first plate 52 and the second plate 54 are arranged to face each other in a vertical posture.

제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)는 액추에이터(70)로부터 출몰되는 샤프트(60)와 연결되어, 샤프트(60)의 승강 동작에 따라 제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)가 동시에 승강하는 듀얼 실링 방식으로 이루어진다.The first plate 52 and the second plate 54 are connected to the shaft 60 which is projected and retracted from the actuator 70 so that the first plate 52 and the second plate 54 ) Are simultaneously elevated and lowered.

그리고 제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)에는 카세트 챔버(30)의 개방부(32a, 32b)를 실링하기 위해서 각 개방부(32a, 32b)와의 접촉 부위에 오링(140)이 각각 설치된다.In order to seal the openings 32a and 32b of the cassette chamber 30, the first plate 52 and the second plate 54 are respectively provided with O-rings 140 at the contact portions with the openings 32a and 32b Respectively.

카세트 챔버 정압 유도부는 프로세스 챔버(12)와 카세트 챔버(30) 사이에 가스의 흐름이 가능하도록 프로세스 챔버(12)와 카세트 챔버(30)를 서로 연결하는 제1바이패스라인(171)과, 트랜스퍼 챔버(14)와 카세트 챔버(30) 사이에 가스의 흐름이 가능하도록 트랜스퍼 챔버(14)와 카세트 챔버(30)를 서로 연결하는 제2바이패스라인(172)과, 제1바이패스라인(171) 및 제2바이패스라인(172) 상에 각각 설치되어 제어부(180)의 제어 신호에 의해 이들이 배속된 제1바이패스라인(171) 및 제2바이패스라인(172)의 가스의 흐름을 단속하는 제1단속밸브(173) 및 제2단속밸브(174)를 포함한다.The cassette chamber constant pressure induction section includes a first bypass line 171 for connecting the process chamber 12 and the cassette chamber 30 to each other so that gas can flow between the process chamber 12 and the cassette chamber 30, A second bypass line 172 connecting the transfer chamber 14 and the cassette chamber 30 to each other so that gas can flow between the chamber 14 and the cassette chamber 30, ) And the second bypass line 172 to control the flow of the gas of the first bypass line 171 and the second bypass line 172 to which they are applied by the control signal of the control unit 180 A first intermittent valve 173 and a second intermittent valve 174, respectively.

한편, 각 챔버에는 공정 중에 진공 상태를 형성하기 위해서 각 챔버의 일측에 연결된 진공라인(193)에는 진공펌프(194)가 각각 설치되며, 진공라인(193)에서 진공펌프(194)의 전단에는 진공라인(193)을 개폐하는 밸브가 설치된다.In each chamber, a vacuum pump 194 is connected to a vacuum line 193 connected to one side of each chamber to form a vacuum state during the process. A vacuum pump 194 is connected to the vacuum line 193, A valve for opening and closing the line 193 is provided.

또한, 각 챔버의 또 다른 일측에는 챔버 내부를 대기압 상태로 전환하기 위해 챔버 내부로 벤트가스를 주입하는 벤트라인(191)이 각각 마련되며, 벤트라인(191)에는 각 챔버로 벤트가스의 유입을 단속하기 위해 개폐 기능을 갖는 벤트밸브(192)가 각각 설치된다.Further, a vent line 191 for injecting vent gas into the chamber is provided at the other side of each chamber to convert the inside of the chamber into an atmospheric pressure state. In the vent line 191, vent gas is introduced into each chamber And a vent valve 192 having an opening / closing function is installed for interrupting.

여기서, 벤트가스는 일반적으로 반응성이 낮은 질소(N2)를 사용한다.Here, the vent gas generally uses low-reactivity nitrogen (N2).

한편, 본 실시예에서는 프로세스 챔버(12)와 트랜스퍼 챔버(14)의 벤트공정 시에 각 챔버의 벤트공정 여부를 감지하는 벤팅 감지부(160)가 설치된다.Meanwhile, in the present embodiment, a venting sensing unit 160 is provided to sense the venting process of each chamber during the venting process of the process chamber 12 and the transfer chamber 14.

벤팅 감지부(160)는 각 챔버의 벤트밸브(192) 측에 설치되어 벤트밸브(192)의 개방상태 및 폐쇄상태로 개폐 동작하기 위한 전기적 신호를 감지하는 벤트밸브 감지센서를 포함한다.The venting sensing unit 160 includes a vent valve sensor installed on the vent valve 192 of each chamber to sense an electrical signal for opening and closing the vent valve 192 in the opened and closed states.

제어부(180)는 각 챔버에 마련된 벤트밸브 감지센서와 제1단속밸브(173) 및 제2단속밸브(174)와 전기적으로 연결된다.The control unit 180 is electrically connected to the vent valve sensor, the first valve 173, and the second valve 174 provided in each chamber.

일반적인 상황에서는 트랜스퍼 챔버(14)와 카세트 챔버(30) 사이의 제2단속밸브(174)는 개방상태를 유지하고, 프로세스 챔버(12)와 카세트 챔버(30) 사이의 제1단속밸브(173)는 폐쇄상태를 유지한다.The second intermittent valve 174 between the transfer chamber 14 and the cassette chamber 30 maintains the open state and the first intermittent valve 173 between the process chamber 12 and the cassette chamber 30, Lt; / RTI > remains closed.

제어부(180)는 각 프로세스 챔버(12) 또는 로드 락 챔버(16)의 벤트밸브 감지센서로부터 벤트밸브(192)가 오픈 상태의 신호를 받는 경우에 벤트밸브(192)가 배속된 프로세스 챔버(12) 또는 로드 락 챔버(16)에서 벤트공정이 진행되는 것으로 판단하여 해당 챔버와 카세트 챔버(30)에 연결된 제1바이패스라인(171) 상에 설치된 제1단속밸브(173)는 개방되고, 제2단속밸브(174)는 폐쇄상태로 동작되도록 제어한다.When the vent valve 192 receives a signal from the vent valve sensor of each of the process chambers 12 or the load lock chambers 16, the control unit 180 controls the vent valve 192 to control the process chamber 12 It is determined that the vent process is proceeding in the load lock chamber 16 and the first intermittent valve 173 provided on the first bypass line 171 connected to the chamber and the cassette chamber 30 is opened, The double-speed valve 174 is controlled to be operated in the closed state.

그리고 슬릿밸브(100)가 개방동작을 행할 때에는 트랜스퍼 챔버(14)와 프로세스 챔버(12)가 동일 압력임이 확인된 상태이기 때문에 해당 프로세스 챔버(12) 또는 로드 락 챔버(16)와 카세트 챔버(30)에 연결된 제1바이패스라인(171) 상에 설치된 제1단속밸브(173)는 폐쇄되고, 제2단속밸브(174)는 개방되도록 제어한다.The transfer chamber 14 and the process chamber 12 are confirmed to be at the same pressure when the slit valve 100 performs the opening operation so that the process chamber 12 or the load lock chamber 16 and the cassette chamber 30 The first intermittent valve 173 provided on the first bypass line 171 connected to the first intermittent valve 171 is closed and the second intermittent valve 174 is controlled to be opened.

따라서 벤트공정이 이루어져 대기압이 제공되는 챔버와, 카세트 챔버(30)는 동일한 압력상태가 유지되므로 진공압이 제공되고 있는 챔버 측으로 밸브 플레이트(50)가 가압되는 상태를 이루게 되어 진공압이 제공되고 있는 챔버와 밸브 플레이트(50) 사이로 가스 또는 진공압이 유실되는 것을 방지할 수 있게 된다.Accordingly, the chamber in which the venting process is performed and the atmospheric pressure is provided, and the cassette chamber 30 are maintained in the same pressure state, so that the valve plate 50 is pressed to the chamber side where the vacuum pressure is being applied, It is possible to prevent the gas or the vacuum pressure from being lost between the chamber and the valve plate 50.

카세트 챔버(30)는, 개방부(32a, 32b)가 양측면에 형성되고, 밸브 플레이트(50)가 삽입되는 안착홈부(34)를 구비하며, 상면이 개방되는 블록본체(32)와, 블록본체(32)의 상면에 착탈 가능하게 설치되는 상면커버(36)를 포함한다.The cassette chamber 30 includes a block main body 32 having upper and lower openings 32a and 32b formed on both sides thereof and having a seating groove 34 into which the valve plate 50 is inserted, And a top cover 36 detachably mounted on the top surface of the top cover 32.

블록본체(32)는 상면이 개방되고, 블록본체(32)의 상면에 상면커버(36)가 착탈 가능하게 결합되므로 액추에이터(70)의 파손 또는 밸브의 벨로우즈 리크 등의 문제가 발생되어 슬릿밸브(100) 교체작업을 행하는 경우에 작업자는 상면커버(36)를 블록본체(32)로부터 분리시킨 후에 연결부(80)를 조작하여 샤프트(60)와 밸브 플레이트(50)를 분리시킬 수 있게 된다.Since the upper surface of the block body 32 is opened and the upper surface cover 36 is detachably coupled to the upper surface of the block body 32, problems such as breakage of the actuator 70 or bellows leak of the valve occur, The operator can separate the shaft 60 and the valve plate 50 by operating the connecting portion 80 after separating the top cover 36 from the block body 32. In this case,

이후에, 작업자는 밸브 플레이트(50)로부터 샤프트(60) 및 액추에이터(70)를 분리시켜 교체작업을 행할 수 있게 되고, 이때, 밸브 플레이트(50)는 프로세스 챔버(12) 내부에 형성되는 진공압에 의해 개방부(32a, 32b)에 밀착된 상태를 유지하게 된다.Thereafter, the operator can perform the replacement work by separating the shaft 60 and the actuator 70 from the valve plate 50. At this time, the valve plate 50 is in a state in which the vacuum pressure formed in the process chamber 12 So as to maintain a state of being in close contact with the openings 32a and 32b.

이때, 양쪽의 밸브 플레이트(50)가 뒤로 밀리는 것을 방지하기 위해 특정 기구물을 밸브 플레이트(50) 사이에 삽입할 수 있다.At this time, a specific mechanism may be inserted between the valve plates 50 to prevent both valve plates 50 from being pushed backward.

따라서 슬릿밸브(100)를 교체하는 프로세스 챔버(12)를 제외한 나머지 프로세스 챔버(12)에서 공정이 진행되는 동안에 샤프트(60) 및 액추에이터(70)를 밸브 플레이트(50)로부터 분리하여 해당 카세트 챔버(30)의 슬릿밸브(100) 교체작업을 행할 수 있게 된다.The shaft 60 and the actuator 70 are separated from the valve plate 50 during the process in the process chamber 12 except for the process chamber 12 in which the slit valve 100 is to be replaced, 30 can be replaced with the slit valve 100. [

이때, 제1단속밸브(173)와 제2단속밸브(174)는 폐쇄되어야 한다.At this time, the first intermittent valve 173 and the second intermittent valve 174 should be closed.

개방부(32a, 32b)는, 블록본체(32)의 일측면에 형성되고, 트랜스퍼 챔버(14)의 개구부(14a)에 대향되게 배치되는 제1개방부(32a)와, 블록본체(32)의 타측면에 형성되고, 프로세스 챔버(12)의 개구부(12a) 또는 로드 락 챔버(16)의 개구부에 대향되게 배치되는 제2개방부(32b)를 포함한다.The openings 32a and 32b are formed on one side of the block body 32 and include a first opening 32a opposed to the opening 14a of the transfer chamber 14, And a second opening portion 32b which is formed on the other side of the load lock chamber 16 and is opposed to the opening portion 12a of the process chamber 12 or the opening portion of the load lock chamber 16. [

따라서 프로세스 챔버(12)와 트랜스퍼 챔버(14) 사이에 설치되는 카세트 챔버(30) 내부에 카세트 챔버(30)가 설치되면 제1개방부(32a)는 트랜스퍼 챔버(14)의 개구부(14a)에 대향되게 배치되고, 제2개방부(32b)는 프로세스 챔버(12)의 개구부(12a)에 대향되게 배치되므로 트랜스퍼 챔버(14)와 프로세스 챔버(12)가 카세트 챔버(30)에 의해 서로 통하도록 연결된다.When the cassette chamber 30 is installed in the cassette chamber 30 provided between the process chamber 12 and the transfer chamber 14, the first opening 32a is formed in the opening 14a of the transfer chamber 14 And the transfer chamber 14 and the process chamber 12 are communicated with each other by the cassette chamber 30 because the second opening 32b is disposed opposite to the opening 12a of the process chamber 12 .

밸브 플레이트(50)는, 제1개방부(32a) 측에 배치되고, 샤프트(60)가 결합되는 제1돌출부(52a)가 형성되는 제1플레이트(52)와, 제2개방부(32b) 측에 배치되고, 샤프트(60)가 결합되는 제2돌출부(54a)가 형성되는 제2플레이트(54)를 포함하고, 제1돌출부(52a)와 제2돌출부(54a)는 교호로 배치된다.The valve plate 50 includes a first plate 52 disposed on the first opening 32a side and formed with a first protrusion 52a to which the shaft 60 is coupled, And a second plate 54 on which a second projection 54a is formed to which the shaft 60 is coupled. The first projection 52a and the second projection 54a are alternately arranged.

블록본체(32)의 바닥면에는 하측으로 오목하게 안착홈부(34)가 형성되고, 안착홈부(34)에는 제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)가 출몰 가능하게 삽입된다.A seating groove 34 is formed on the bottom surface of the block body 32 so as to be recessed downward and the first plate 52 and the second plate 54 are inserted into the seating groove 34 in a manner capable of protruding and retracting.

안착홈부(34)의 저면에는 샤프트(60)가 삽입되는 삽입홀부(34a)가 형성되므로 액추에이터(70)로부터 출몰되는 샤프트(60)는 삽입홀부(34a)를 통해 카세트 챔버(30) 내부로 삽입되면서 밸브 플레이트(50)를 상승시키게 된다.The shaft 60 is inserted into the cassette chamber 30 through the insertion hole 34a because the insertion hole 34a into which the shaft 60 is inserted is formed on the bottom surface of the seating groove 34. [ So that the valve plate 50 is raised.

액추에이터(70)는, 복수 개의 샤프트(60)가 출몰 가능하게 삽입되고, 샤프트(60)를 가압하여 출몰시키는 실린더(74)가 설치되는 케이스(72)와, 실린더(74)의 로드(74a)에 연결되고 복수 개의 샤프트(60)가 유동 가능하게 안착되도록 회전홈부(74c)가 형성되어 케이스(72)에 승강 가능하게 설치되는 슬라이딩블록(74b)과, 회전홈부(74c)에 유동 가능하게 안착되고, 샤프트(60)의 하단에 회전 가능하게 설치되는 편심캠부재(76)를 포함한다.The actuator 70 includes a case 72 in which a plurality of shafts 60 are inserted and withdrawn and a cylinder 74 for pushing and projecting the shaft 60 is provided and a rod 74a of the cylinder 74, A sliding block 74b which is connected to the shaft 72c and is rotatably installed on the case 72 with a rotation groove 74c formed to allow the plurality of shafts 60 to be floated, And an eccentric cam member 76 rotatably installed at the lower end of the shaft 60.

실린더(74)로부터 로드(74a)가 돌출되면 로드(74a)의 상승운동에 의해 슬라이딩블록(74b)이 상승하면서 복수 개의 샤프트(60)를 상승시키고, 샤프트(60)의 상승이 완료된 후에도 슬라이딩블록(74b)의 상승이 지속되면 편심캠부재(76)가 회전홈부(74c) 내부에서 유동되면서 샤프트(60)의 상단을 개방부(32a, 32b) 측으로 전진시키게 된다.When the rod 74a is projected from the cylinder 74, the sliding block 74b is raised by the upward movement of the rod 74a to lift up the plurality of shafts 60, and even after the rise of the shaft 60 is completed, The eccentric cam member 76 is moved inside the rotation groove 74c to advance the upper end of the shaft 60 toward the openings 32a and 32b.

따라서 샤프트(60)의 상단에 설치되는 밸브 플레이트(50)는 개방부(32a, 32b) 측으로 전진하면서 프로세스 챔버(12)의 개구부(12a) 또는 트랜스퍼 챔버(14)의 개구부(14a)에 대향되는 개방부(32a, 32b)에 밀착되면서 각각의 개구부(12a, 14a)를 폐쇄하게 된다.The valve plate 50 provided at the upper end of the shaft 60 is opposed to the opening 12a of the process chamber 12 or the opening 14a of the transfer chamber 14 while advancing toward the openings 32a and 32b And the respective openings 12a and 14a are closed while closely contacting the openings 32a and 32b.

연결부(80)는, 제1돌출부(52a) 또는 제2돌출부(54a) 배면에서 내측 방향으로 오목하게 형성되고, 샤프트(60)가 삽입되도록 저면이 개방되는 장착홈부(82)와, 체결부재가 결합될 수 있도록 샤프트(60)의 상면에 형성되는 체결홀부(84)와, 장착홈부(82) 내측으로 삽입되는 체결부재가 체결홀부(84)에 결합될 수 있도록 장착홈부(82)로부터 밸브 플레이트(50)의 상면까지 관통되어 이루어지는 관통홀부(86)를 포함한다.The connecting portion 80 includes a mounting groove portion 82 which is recessed inwardly from the back surface of the first projection 52a or the second projection 54a and whose bottom surface is opened so as to insert the shaft 60, And the valve plate 70 is inserted from the mounting groove portion 82 so that the fastening member inserted into the mounting groove portion 82 can be coupled to the fastening hole portion 84. The fastening hole portion 84 is formed on the upper surface of the shaft 60, And a through-hole portion 86 penetrating to the upper surface of the base portion 50.

제1플레이트(52)의 배면에는 제1플레이트(52)의 중앙부가 제2플레이트(54) 측으로 돌출되어 이루어지는 제1돌출부(52a)가 형성되고, 제2플레이트(54)의 배면에는 제2플레이트(54)의 양측부로부터 제1플레이트(52) 측으로 돌출되는 한 쌍의 제2돌출부(54a)가 형성된다.A first protrusion 52a is formed on the rear surface of the first plate 52. The first protrusion 52a is formed by protruding the center of the first plate 52 toward the second plate 54. On the back surface of the second plate 54, A pair of second projecting portions 54a protruding from both sides of the first plate 52 toward the first plate 52 are formed.

제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)가 안착홈부(34) 내부로 삽입되면 제1돌출부(52a)와 제2돌출부(54a)는 서로 교호로 배치되면서 제1플레이트(52)와 제2플레이트(54)가 서로 밀착되게 배치되므로 샤프트(60) 설치에 요구되는 밸브 플레이트(50)의 두께를 제공함과 동시에 제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)가 서로 밀착된 한 쌍의 밸브 플레이트(50)의 두께를 줄일 수 있게 된다.When the first plate 52 and the second plate 54 are inserted into the seating groove 34, the first projection 52a and the second projection 54a are alternately arranged, Two plates 54 are disposed in close contact with each other so that the thickness of the valve plate 50 required for installing the shaft 60 is provided while a pair of the first plate 52 and the second plate 54 are in close contact with each other The thickness of the valve plate 50 can be reduced.

따라서 제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)의 수납에 요구되는 공간이 축소되고, 카세트 챔버(30)의 폭을 축소시킬 수 있게 된다.Therefore, the space required for accommodating the first plate 52 and the second plate 54 is reduced, and the width of the cassette chamber 30 can be reduced.

상기한 바와 같이 제1플레이트(52)와 제2플레이트(54)의 수납에 요구되는 공간이 축소되므로 하나의 밸브 플레이트(50)를 구비하는 종래의 슬릿밸브(100)가 설치되는 카세트 챔버(30)에 본 실시예에 따른 슬릿밸브(100)를 설치할 수 있게 된다.The space required for accommodating the first plate 52 and the second plate 54 is reduced as described above so that the conventional slit valve 100 having one valve plate 50 is installed in the cassette chamber 30 The slit valve 100 according to the present embodiment can be installed.

액추에이터(70)로부터 돌출되는 샤프트(60)는 제1돌출부(52a)에 연결되는 제1샤프트(62)와 제2돌출부(54a)에 연결되는 제2샤프트(64)를 포함하고, 제1샤프트(62)는 제1돌출부(52a)에 형성되는 장착홈부(82)에 삽입되고, 제2샤프트(64)는 제2돌출부(54a)에 형성되는 장착홈부(82)에 삽입된다.The shaft 60 protruding from the actuator 70 includes a first shaft 62 connected to the first projection 52a and a second shaft 64 connected to the second projection 54a, The first shaft 62 is inserted into the mounting groove portion 82 formed in the first projection 52a and the second shaft 64 is inserted into the mounting groove portion 82 formed in the second projection 54a.

장착홈부(82)의 상면에는 밸브 플레이트(50)의 상면까지 연장되는 관통홀부(86)가 형성되고, 관통홀부(86)에 대향되도록 샤프트(60)의 상면에는 체결홀부(84)가 형성된다.A through hole portion 86 extending to the upper surface of the valve plate 50 is formed on the upper surface of the mounting groove portion 82 and a fastening hole portion 84 is formed on the upper surface of the shaft 60 so as to face the through hole portion 86 .

따라서 장착홈부(82)에 샤프트(60)를 삽입한 상태에서 밸브 플레이트(50)의 상면으로부터 관통홀부(86)를 통해 체결부재를 삽입하면 샤프트(60)의 상면에 형성되는 체결홀부(84)에 체결부재를 결합할 수 있게 된다.When the fastening member is inserted through the through hole portion 86 from the upper surface of the valve plate 50 with the shaft 60 inserted into the mounting groove portion 82, the fastening hole portion 84 formed on the upper surface of the shaft 60, The engaging member can be engaged with the engaging member.

프로세스 챔버(12)에 진공압이 제공되고 있는 상태에서 액추에이터(70) 또는 샤프트(60) 등의 슬릿밸브(100)의 부품에 파손이 발견되면 작업자는 프로세스 챔버(12)의 진공압을 해제하지 않는 상태에서 체결부재를 체결홀부(84) 및 관통홀부(86)로부터 분리시키고, 액추에이터(70) 내부로 샤프트(60)가 삽입되도록 액추에이터(70)를 구동시켜 샤프트(60)와 밸브 플레이트(50)를 분리시킨다.When a breakage is found in a part of the slit valve 100 such as the actuator 70 or the shaft 60 in the state where vacuum is being supplied to the process chamber 12, the operator releases the vacuum pressure of the process chamber 12 The actuator 70 is driven so as to insert the shaft 60 into the actuator 70 to separate the shaft 60 and the valve plate 50 from the engagement hole portion 84 and the through hole portion 86, ).

이때, 액추에이터(70)의 구동에 의해 샤프트(60)가 장착홈부(82) 외측으로 수평이동된 후에 하강하여 액추에이터(70)의 내부로 삽입되는데, 장착홈부(82)는 배면과 저면이 개방된 구조이므로 해당 카세트 챔버(30)와 슬릿밸브(100)를 분리시키기 위해 샤프트(60)의 후진운동을 행한 후에 하강운동을 행할 때에 샤프트(60)가 밸브 플레이트(50)와 간섭되지 않고 분리될 수 있게 된다.At this time, the shaft 60 is horizontally moved to the outside of the mounting groove portion 82 by the driving of the actuator 70, and then is lowered to be inserted into the actuator 70. The mounting groove portion 82 has the back surface and the bottom surface opened The shaft 60 can be separated without interfering with the valve plate 50 when the shaft 60 is moved backward to separate the cassette chamber 30 and the slit valve 100 after performing the downward movement .

이후에, 슬릿밸브(100)의 수리가 완료되면 작업자는 액추에이터(70)를 카세트 챔버(30)에 결합한 후에 액추에이터(70)로부터 샤프트(60)가 돌출되도록 액추에이터(70)를 구동시키면 샤프트(60)가 액추에이터(70) 외측으로 돌출된 후에 개방부(32a, 32b) 측으로 전진하면서 장착홈부(82) 내측으로 삽입된다.Thereafter, when repair of the slit valve 100 is completed, the operator moves the actuator 70 so that the shaft 60 protrudes from the actuator 70 after the actuator 70 is coupled to the cassette chamber 30, Is inserted into the mounting groove portion 82 while advancing toward the opening portions 32a and 32b after protruding to the outside of the actuator 70. [

샤프트(60)가 장착홈부(82) 내측으로 삽입되면 체결부재를 관통홀부(86)에 삽입하여 체결홀부(84)에 체결부재를 결합함으로써, 샤프트(60)와 밸브 플레이트(50)를 결합할 수 있게 된다.When the shaft 60 is inserted into the mounting groove portion 82, the fastening member is inserted into the through hole portion 86 and the fastening member is engaged with the fastening hole portion 84 so that the shaft 60 and the valve plate 50 are engaged .

샤프트(60)는, 제1플레이트(52)의 중앙부에 연결되도록 제1돌출부(52a)에 결합되는 제1샤프트(62)와, 제1샤프트(62)를 중심으로 대칭을 이루도록 제2플레이트(54)의 양단부에 형성되는 제2돌출부(54a)에 결합되는 제2샤프트(64)를 포함한다.The shaft 60 includes a first shaft 62 coupled to the first projection 52a so as to be connected to the center of the first plate 52 and a second shaft 62 coupled to the second shaft 62 to be symmetrical about the first shaft 62. [ And a second shaft (64) coupled to a second projection (54a) formed at both ends of the first shaft (54).

하나의 액추에이터(70)로부터 1개의 제1샤프트(62)와 2개의 제2샤프트(64)가 출몰 가능하게 설치되고, 액추에이터(70)로부터 돌출되는 제1샤프트(62)는 제1개방부(32a) 측으로 수평이동되고, 액추에이터(70)로부터 돌출되는 제2샤프트(64)는 제2개방부(32b) 측으로 수평이동되면서 제1플레이트(52) 및 제2플레이트(54)를 각각 제1개방부(32a) 및 제2개방부(32b)에 밀착시키게 된다.One first shaft 62 and two second shafts 64 are provided so as to be capable of retracting from one actuator 70 and the first shaft 62 protruding from the actuator 70 is connected to the first opening 62 And the second shaft 64 protruding from the actuator 70 is horizontally moved toward the second opening 32b while moving the first plate 52 and the second plate 54 to the first opening The first opening 32a and the second opening 32b.

제1샤프트(62)와 제2샤프트(64)는 교호로 배치되므로 서로 간섭되는 것을 방지할 수 있고, 제1샤프트(62) 및 제2샤프트(64)의 작동에 요구되는 공간이 감소되는 효과가 나타나게 된다.The first shaft 62 and the second shaft 64 are arranged in an alternate manner so that they can be prevented from interfering with each other and the space required for the operation of the first shaft 62 and the second shaft 64 is reduced .

또한, 본 실시예는 샤프트(60)가 장착홈부(82)로부터 분리될 때에 샤프트(60)와 장착홈부(82)가 간섭되는 것을 방지하는 간섭방지부(90)를 더 포함한다.The present embodiment further includes an interference preventing portion 90 that prevents the shaft 60 and the mounting groove portion 82 from interfering with each other when the shaft 60 is separated from the mounting groove portion 82.

장착홈부(82)의 상면 및 샤프트(60)의 상면은 평면 형상으로 형성되어 서로 밀착되므로 장착홈부(82)의 상면 및 샤프트(60)의 상면에는 모서리가 형성된다.Since the upper surface of the mounting groove portion 82 and the upper surface of the shaft 60 are formed in a planar shape and are in close contact with each other, an edge is formed on the upper surface of the mounting groove portion 82 and the upper surface of the shaft 60.

샤프트(60)가 장착홈부(82)로부터 분리될 때에는 편심캠부재(76)의 작동에 의해 샤프트(60)의 상단이 곡선을 그리며 후진하게 되는데, 이때, 간섭방지부(90)의 작용에 의해 샤프트(60)의 모서리와 장착홈부(82)의 모서리가 서로 간섭되는 것을 방지하게 된다.When the shaft 60 is detached from the mounting groove portion 82, the upper end of the shaft 60 is reversed by the operation of the eccentric cam member 76. At this time, due to the action of the interference preventing portion 90 It is possible to prevent the corner of the shaft 60 from interfering with the edge of the mounting groove portion 82.

간섭방지부(90)는, 장착홈부(82)의 상면이 상측으로 경사지게 형성되어 이루어지는 제1경사면(92), 또는 샤프트(60)의 상단이 하측으로 경사지게 형성되어 이루어지는 제2경사면(94)을 포함한다.The interference preventing portion 90 includes a first inclined face 92 in which the upper surface of the mounting groove portion 82 is inclined upwardly or a second inclined face 94 in which the upper end of the shaft 60 is inclined downward .

제1경사면(92)은 장착홈부(82)의 상면 외측 단부가 상측으로 경사지게 모따기된 모양으로 형성되어 이루어지고, 제2경사면(94)은 샤프트(60)의 단부가 하측으로 경사지게 모따기된 모양으로 형성된다.The first inclined surface 92 is formed by chamfering the upper end of the upper surface of the mounting groove portion 82 and the second inclined surface 94 is formed by chamfering the end portion of the shaft 60 in an inclined downward direction .

제1경사면(92)과 제2경사면(94)은 서로 동일하거나 유사한 각도로 경사지게 형성되므로 샤프트(60)가 장착홈부(82) 외측으로 분리될 때에 샤프트(60)의 모서리와 장착홈부(82)의 모서리가 서로 간섭되는 것을 방지할 수 있게 된다.The first inclined surface 92 and the second inclined surface 94 are formed to be inclined at the same or similar angle to each other so that the edge of the shaft 60 and the mounting groove portion 82 when the shaft 60 is separated to the outside of the mounting groove portion 82, It is possible to prevent the corners of the light guide plate from interfering with each other.

또한, 본 실시예의 카세트 챔버(30)에는 프로세스 챔버(12)에 클리닝가스가 공급되는 동안 카세트 챔버(30) 내부의 압력변화를 감지하는 압력감지센서가 설치된다.In addition, in the cassette chamber 30 of this embodiment, a pressure-sensitive sensor for detecting a pressure change inside the cassette chamber 30 while the cleaning gas is supplied to the process chamber 12 is provided.

CL2 가스 등을 이용해서 프로세스 챔버(12)의 클리닝공정이 진행되는 동안에 카세트 챔버(30) 내부의 압력변화를 감지할 수 있고, 프로세스 챔버(12)의 클리닝공정이 진행되는 동안 카세트 챔버(30) 내부의 압력이 변화되면 밸브 플레이트(50) 또는 단속밸브(173, 174)를 통해 클리닝가스가 카세트 챔버(30) 측으로 유실된 것으로 판단한다.It is possible to detect a pressure change inside the cassette chamber 30 while the cleaning process of the process chamber 12 is progressed using the CL 2 gas or the like and to detect the pressure change inside the cassette chamber 30 during the cleaning process of the process chamber 12 It is judged that the cleaning gas has been lost to the side of the cassette chamber 30 through the valve plate 50 or the intermittent valves 173 and 174. [

프로세스 챔버(12)의 클리닝 공정 중에는 단속밸브(173,174) 모두 폐쇄상태로 전환하여 클리닝가스가 트랜스퍼 챔버(14)로 유입 되는 것을 이중으로 차단시켜 준다.During the cleaning process of the process chamber 12, all of the control valves 173 and 174 are switched to the closed state to double the flow of the cleaning gas into the transfer chamber 14.

프로세스 챔버(12)의 클리닝 공정이 완료되면 프로세스 챔버(12) 측의 단속 밸브(173)를 먼저 개방 하여 카세트 챔버(30)에 잔존할 수 있는 클리닝가스를 프로세스 챔버(12)에 설치되는 진공라인(193)을 통해 배출시켜줌으로써 클리닝가스가 트랜스퍼 챔버(14)로 유입되는 것을 방지할 수 있게 된다.
When the cleaning process of the process chamber 12 is completed, the intermittent valve 173 on the process chamber 12 side is opened first, and the cleaning gas, which may remain in the cassette chamber 30, It is possible to prevent the cleaning gas from being introduced into the transfer chamber 14 by discharging the cleaning gas through the cleaning chamber 193.

상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법을 살펴보면 다음과 같다.A control method of the vacuum processing apparatus having the slit valve according to an embodiment of the present invention will now be described.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브(100)를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법이 도시된 순서도이다.9 is a flowchart showing a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve 100 according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 9를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿밸브(100)를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법은, 카세트 챔버(30)에 의해 프로세스 챔버(12)와 연결되는 트랜스퍼 챔버(14)에 진공압을 유지하고, 프로세스 챔버(12)와 카세트 챔버(30) 사이에 설치되는 제1단속밸브(173)를 폐쇄하고, 트랜스퍼 챔버(14)와 카세트 챔버(30) 사이의 설치되는 제2단속밸브(174)를 개방하여 프로세스 챔버(12)에 수납되는 기판의 처리공정을 진행하는 단계(S10)와, 프로세스 챔버(12)에서 벤트공정 개시신호가 입력되는지 판단하는 단계(S20)와, 프로세스 챔버(12)의 벤트공정 개시신호가 입력되면 제1단속밸브(173)가 개방되고, 제2단속밸브(174)가 폐쇄상태인지 판단하는 단계(S30)와, 제1단속밸브(173)가 개방되고, 제2단속밸브(174)가 폐쇄상태로 판단되면 프로세스 챔버(12)에 벤트가스를 주입하는 단계(S40)와, 프로세스 챔버(12), 트랜스퍼 챔버(14) 및 카세트 챔버(30)에 진공압이 제공되면 제1단속밸브(173)를 폐쇄하고, 제2단속밸브(174)를 개방하는 단계(S50)와, 제1단속밸브(173)가 폐쇄되고, 제2단속밸브(174)가 개방되면 프로세스 챔버(12)의 처리공정 진행 횟수가 설정치 이상인지 판단하는 단계(S60)와, 프로세스 챔버(12)의 처리공정 횟수가 설정치 이상이면 프로세스 챔버(12)에 클리닝가스를 공급하여 클리닝공정을 진행하는 단계(S70)와, 프로세스 챔버(12)에 클리닝공정이 진행되면 제1단속밸브(173)를 폐쇄하고, 제2단속밸브(174)를 폐쇄하는 단계(S80)와, 클리닝공정이 종료되면 제1단속밸브(173)를 개방하고, 제2단속밸브(174)를 폐쇄하여 클리닝가스를 배출하는 단계(S90)를 포함한다.1 to 9, a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve 100 according to an embodiment of the present invention includes a transfer chamber (not shown) connected to a process chamber 12 by a cassette chamber 30, The first intermittent valve 173 provided between the process chamber 12 and the cassette chamber 30 is closed and the first intermittent valve 173 between the transfer chamber 14 and the cassette chamber 30 is closed (S10) of opening the second intermittent valve 174 to the process chamber 12 and proceeding to the process of the substrate accommodated in the process chamber 12; determining whether a vent process start signal is input in the process chamber 12 (S30) of determining whether the first intermittent valve 173 is opened and the second intermittent valve 174 is in a closed state when a vent process start signal of the process chamber 12 is inputted, When the second intermittent valve 174 is determined to be in the closed state, the process chamber 12 is exposed to the vent The first intermittent valve 173 is closed and the second intermittent valve 174 is closed when vacuum pressure is applied to the process chamber 12, the transfer chamber 14 and the cassette chamber 30 (step S40) (S50) of judging whether the number of processing steps of the process chamber 12 is equal to or more than a set value when the first intermittent valve 173 is closed and the second intermittent valve 174 is opened A step S70 of supplying a cleaning gas to the process chamber 12 to perform a cleaning process when the number of process steps of the process chamber 12 is not less than a set value, Closing the first intermittent valve 173 and closing the second intermittent valve 174 and opening the first intermittent valve 173 and closing the second intermittent valve 174 when the cleaning process is completed And discharging the cleaning gas (S90).

프로세스 챔버(12)가 다수 구비된 멀티 챔버에서는 주기적으로 클리닝가스가 주입되는 클리닝공정을 수행하게 된다.In a multi-chamber having a plurality of process chambers 12, a cleaning process is performed in which cleaning gas is periodically injected.

이때, 외부로부터 프로세스 챔버(12)로 클리닝가스 주입이 감지되면 클리닝가스에 의한 트랜스퍼 챔버(14)의 오염을 방지하기 위해 제1단속밸브(173)와 제2단속밸브(174)를 폐쇄하여 클리닝가스가 트랜스퍼 챔버(14)를 오염시키는 것을 이중으로 차단시키게 된다.At this time, in order to prevent contamination of the transfer chamber 14 by the cleaning gas when the injection of the cleaning gas is detected from the outside into the process chamber 12, the first intermittent valve 173 and the second intermittent valve 174 are closed, The gas will double-block the contamination of the transfer chamber 14.

클리닝공정이 완료된 후에는 카세트 챔버(30)에 잔존할 수 있는 클리닝가스에 의한 트랜스퍼 챔버(14)의 오염을 방지하기 위해 제1단속밸브(173)를 먼저 개방하고, 프로세스 챔버의 진공라인(193)에 구비되는 진공펌프(194)를 구동시켜 클리닝가스를 배출시킨다.After the cleaning process is completed, the first intermittent valve 173 is first opened to prevent contamination of the transfer chamber 14 by the cleaning gas that may remain in the cassette chamber 30, and the vacuum line 193 And the cleaning gas is discharged.

이로써, 카세트 챔버(30)로부터 클리닝가스의 배출이 완료되고, 프로세스 챔버(12)에 정상적인 공정이 진행될 수 있는 공정 대기상태가 되며, 해당 프로세스 챔버(12)의 슬릿밸브(100)가 오픈 될 때에 제1단속밸브(173)는 폐쇄되고, 제2단속밸브(174)는 개방상태로 전환된다.This completes the discharge of the cleaning gas from the cassette chamber 30 and brings the process chamber 12 into a process standby state in which a normal process can proceed and when the slit valve 100 of the process chamber 12 is opened The first intermittent valve 173 is closed, and the second intermittent valve 174 is switched to the open state.

여기서, 클리닝가스를 배출하는 단계(S90)는, 프로세스 챔버(12)에 설치되는 진공라인(193)에 구비되는 진공펌프(194)를 통해 프로세스 챔버(12)와 카세트 챔버(30)에 잔존하는 클리닝가스를 제거하게 된다.Here, the step of discharging the cleaning gas (S90) is a step of discharging the cleaning gas remaining in the process chamber 12 and the cassette chamber 30 through the vacuum pump 194 provided in the vacuum line 193 provided in the process chamber 12 The cleaning gas is removed.

또한, 제1단속밸브(173)를 폐쇄하고, 제2단속밸브(174)를 폐쇄하는 단계(S80)가 진행된 후에 카세트 챔버(30) 내부의 압력이 설정치 이상으로 상승되면 오작동 신호를 출력하여 카세트 챔버(30)와 프로세스 챔버(12) 사이에 설치되는 플레이트(54)에서 클리닝가스가 유실됨을 알리게 되며, 카세트 챔버(30) 내부에 설치되는 압력감지센서에 의해 카세트 챔버(30) 내부의 압력변화를 감지할 수 있다.If the pressure in the cassette chamber 30 rises above the set value after the first intermittent valve 173 is closed and the second intermittent valve 174 is closed in step S80, It is noticed that the cleaning gas is lost in the plate 54 provided between the chamber 30 and the process chamber 12 and the pressure change sensor inside the cassette chamber 30 Can be detected.

참고로, 프로세스 챔버(12)에서 기판의 처리공정이 진행되는 중에 제2단속밸브(174)는 항상 개방상태를 유지하고, 제1단속밸브(173)는 항상 폐쇄상태를 유지하도록 제어된다.For reference, the second intermittent valve 174 is always kept open while the processing process of the substrate is being performed in the process chamber 12, and the first intermittent valve 173 is always controlled to maintain the closed state.

로드 락 챔버(16)의 경우에는 외부로부터 기판이 유입되거나 또는 공정이 완료된 기판을 외부로 반출하는 경우에 벤트공정이 이루어지게 된다.In the case of the load lock chamber 16, a vent process is performed when a substrate is introduced from the outside or a substrate on which the process is completed is taken out.

이때, 로드 락 챔버(16)와 트랜스퍼 챔버(14) 사이의 카세트 챔버(30)의 정압을 유지하기 위한 구성 및 방법은 상술한 트랜스퍼 챔버(14)와 프로세스 챔버(12) 사이의 카세트 챔버(30)의 정압을 유지하기 위한 구성 및 방법과 동일하게 적용된다.The configuration and the method for maintaining the static pressure of the cassette chamber 30 between the load lock chamber 16 and the transfer chamber 14 are the same as those of the above described transfer chamber 14 and the cassette chamber 30 between the transfer chamber 14 and the process chamber 12. [ In the same manner as in the first embodiment.

이로써, 프로세스 챔버 내부에 클리닝공정이 진행될 때에 사용되는 클리닝가스가 다른 프로세스 챔버로 리크(Leak)되는 것을 방지할 수 있는 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법을 제공할 수 있게 된다.
Thus, it is possible to provide a control method of a vacuum processing apparatus having a slit valve that can prevent a cleaning gas used when a cleaning process is performed inside a process chamber from being leaked to another process chamber.

본 발명은 도면에 도시되는 일 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. .

또한, 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법을 예로 들어 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법이 아닌 다른 제품에도 본 발명의 진공 처리장치의 제어방법이 사용될 수 있다.In addition, the control method of the vacuum processing apparatus having the slit valve has been described as an example. However, the control method of the vacuum processing apparatus having the slit valve is merely an example, Method can be used.

따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.
Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the following claims.

12 : 프로세스 챔버 14 : 트랜스퍼 챔버
16 : 로드 락 챔버 30 : 카세트 챔버
32 : 블록본체 32a : 제1개방부
32b : 제2개방부 34 : 안착홈부
34a : 삽입홀부 36 : 상면커버
50 : 밸브 플레이트 52 : 제1플레이트
52a : 제1돌출부 54 : 제2플레이트
54a : 제2돌출부 60 : 샤프트
62 : 제1샤프트 64 : 제2샤프트
70 : 액추에이터 72 : 케이스
72a : 걸림패널 72b : 탄성부재
74 : 실린더 74a : 로드
74b : 슬라이딩블록 74c : 회전홈부
76 : 편심캠부재 80 : 연결부
82 : 장착홈부 86 : 관통홀부
90 : 간섭방지부 92 : 제1경사면
94 : 제2경사면 100 : 슬릿밸브
160 : 벤팅 감지부 171 : 제1바이패스라인
172 : 제2바이패스라인 173 : 제1단속밸브
174 : 제2단속밸브 180 : 제어부
191 : 벤트라인 192 : 벨트밸브
193 : 진공라인 194 : 진공펌프12: process chamber 14: transfer chamber
16: load lock chamber 30: cassette chamber
32: block body 32a: first opening
32b: second opening portion 34:
34a: insertion hole portion 36: upper surface cover
50: valve plate 52: first plate
52a: first protrusion 54: second plate
54a: second projection 60: shaft
62: first shaft 64: second shaft
70: actuator 72: case
72a: Retaining panel 72b: Elastic member
74: cylinder 74a: rod
74b: Sliding block 74c:
76: eccentric cam member 80:
82: mounting groove portion 86: through hole portion
90: interference prevention part 92: first inclined surface
94: second slope surface 100: slit valve
160: Venting detection unit 171: First bypass line
172: second bypass line 173: first intermittent valve
174: second intermittent valve 180:
191: Vent line 192: Belt valve
193: Vacuum line 194: Vacuum pump

Claims (3)

(a) 카세트 챔버에 의해 프로세스 챔버와 연결되는 트랜스퍼 챔버에 진공압을 유지하고, 상기 프로세스 챔버와 상기 카세트 챔버 사이에 설치되는 제1단속밸브를 폐쇄하고, 상기 트랜스퍼 챔버와 상기 카세트 챔버 사이의 설치되는 제2단속밸브를 개방하여 상기 프로세스 챔버에 수납되는 기판의 처리공정을 진행하는 단계;
(b) 상기 프로세스 챔버에서 벤트공정 개시신호가 입력되는지 판단하는 단계;
(c) 상기 프로세스 챔버의 벤트공정 개시신호가 입력되면 상기 제1단속밸브가 개방되고, 상기 제2단속밸브가 폐쇄상태인지 판단하는 단계;
(d) 상기 제1단속밸브가 개방되고, 상기 제2단속밸브가 폐쇄상태로 판단되면 상기 프로세스 챔버에 벤트가스를 주입하는 단계;
(e) 상기 프로세스 챔버, 상기 카세트 챔버 및 상기 트랜스퍼 챔버에 진공압이 제공되면 상기 제1단속밸브를 폐쇄하고, 상기 제2단속밸브를 개방하는 단계;
(f) 상기 제1단속밸브가 폐쇄되고, 상기 제2단속밸브가 개방되면 상기 프로세스 챔버의 처리공정 진행 횟수가 설정치 이상인지 판단하는 단계;
(g) 상기 프로세스 챔버의 처리공정 횟수가 설정치 이상이면 상기 프로세스 챔버에 클리닝가스를 공급하여 클리닝공정을 진행하는 단계;
(h) 상기 프로세스 챔버에 클리닝공정이 진행되면 상기 제1단속밸브를 폐쇄하고, 상기 제2단속밸브를 폐쇄하는 단계;
(i) 클리닝공정이 종료되면 상기 제1단속밸브를 개방하고, 상기 제2단속밸브를 폐쇄하여 클리닝가스를 배출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법.
(a) maintaining vacuum pressure in a transfer chamber connected to the process chamber by a cassette chamber, closing a first intermittent valve installed between the process chamber and the cassette chamber, and closing the transfer chamber between the transfer chamber and the cassette chamber Opening the second intermittent valve to process the substrate accommodated in the process chamber;
(b) determining whether a vent process start signal is input in the process chamber;
(c) determining whether the first intermittent valve is opened and the second intermittent valve is in a closed state when a vent process start signal of the process chamber is input;
(d) injecting a vent gas into the process chamber when the first intermittent valve is opened and the second intermittent valve is determined to be in a closed state;
(e) closing the first intermittent valve and opening the second intermittent valve when vacuum pressure is applied to the process chamber, the cassette chamber and the transfer chamber;
(f) determining whether the number of processing steps of the process chamber is more than a set value when the first intermittent valve is closed and the second intermittent valve is opened;
(g) supplying a cleaning gas to the process chamber to perform a cleaning process when the number of process steps of the process chamber is not less than a set value;
(h) closing the first intermittent valve and closing the second intermittent valve when a cleaning process is performed on the process chamber;
(i) closing the first intermittent valve and closing the second intermittent valve when the cleaning process is completed, and discharging the cleaning gas. .
제1항에 있어서,
상기 (i) 단계는, 상기 프로세스 챔버에 설치되는 진공라인에 구비되는 진공펌프를 구동시켜 상기 프로세스 챔버와 상기 카세트 챔버에 잔존하는 클리닝가스를 제거하는 것을 특징으로 하는 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step (i) removes the cleaning gas remaining in the process chamber and the cassette chamber by driving a vacuum pump provided in a vacuum line installed in the process chamber, / RTI >
제1항에 있어서,
상기 (h) 단계가 진행된 후에 상기 카세트 챔버 내부의 압력이 설정치 이상으로 상승되면 오작동 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 슬릿밸브를 구비하는 진공 처리장치의 제어방법.
The method according to claim 1,
And a malfunction signal is output when the pressure in the cassette chamber rises above the set value after the step (h).
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