KR20150032987A - 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기 및 다수의 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치 및 이를 이용한 캘리브레이션 방법 - Google Patents

다수의 셀프 플라즈마 발광분광기 및 다수의 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치 및 이를 이용한 캘리브레이션 방법 Download PDF

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Abstract

다수의 셀프 플라즈마 발광분광기 및 다수의 공정챔버 간의 캘리브레이션 장치 및 이를 이용한 캘리브레이션 방법이 개시된다. 본 발명의 셀프 플라즈마 발광분광기 간의 캘리브레이션 장치는 공정 챔버(Process Chamber)의 일측에 펌프를 통하여 공정 가스를 배출하는 배기관; 상기 배기관의 일측에서 분기된 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 플라즈마 챔버, 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 윈도우, 및 상기 다수의 셀프 플라즈마 윈도우의 챔버에서 나오는 플라즈마 빛을 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 분광기(Spectrometer)를 구비하는 다수의 셀프 플라즈마 분광기; 상기 분광기와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 제어부; 및 상기 제어부에서 분석한 데이터를 취합하여, 상기 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력 파워를 원격 통신으로 조절하여 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기가 동일한 측정값을 갖도록 하는 고주파 제어기를 포함한다. 본 발명에 따르면, 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 제품 간의 센서 측정값이 균일하며, 공정 챔버와 공정 챔버 간 동일한 조건에서 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)는 동일한 시그널을 출력할 수 있다.

Description

다수의 셀프 플라즈마 발광분광기 및 다수의 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치 및 이를 이용한 캘리브레이션 방법{The Calibration Equipment of Multi Self-Plasma Optical Emission Spectroscopys and Multi Processing Chambers And Calibration Method Of Using The Same}
본 발명은 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기 및 다수의 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치 및 이를 이용한 캘리브레이션 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 셀프 플라즈마 발광분광기의 플라즈마 챔버의 플라즈마의 양 조절을 통한 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기 및 다수의 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치 및 이를 이용한 캘리브레이션 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 장치는 웨이퍼 상에 확산, 증착, 사진, 식각, 이온주입 등의 공정을 선택적이고도 반복적으로 수행하게 됨으로써 이루어진다. 이들 제조공정 중에서 식각, 확산, 증착 공정 등은 밀폐된 공정챔버 내에 소정의 분위기에서 공정가스를 투입함으로써 공정챔버 내의 웨이퍼 상에서 반응이 일어나도록 공정을 수행하게 된다. 예컨대 막을 형성하는 증착공정은 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 방법 또는 플라즈마-강화 화학기상증착(Plasma Enhancemenat CVD, PECVD) 방법 등을 이용하여 수행하고 있다.
이러한 반도체 공정에서 수율을 향상시키기 위하여 공정 중에 발생하는 사고를 미리 방지하고 장비의 오동작 등을 사전에 방지하기 위해 공정의 상태를 실시간으로 모니터링하여 이상 상태 발생시 공정을 중단시키는 등의 조치를 취하여 불량률을 낮춤으로써 공정을 최적화하는 것이 필요하다.
이를 위하여, 공정 챔버와는 별도로 공정 챔버의 배기관에 연결되는 셀프 플라즈마 챔버를 마련하고, 이에 센서부를 설치하여 플라즈마 공정을 모니터링하는 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES, Self-Plasma Optical Emission Spectroscopy)가 사용되고 있다.
셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 최대 장점은 공정 장비에 영향을 주지 않으면서 공정을 진단할 수 있고, 장비의 메인 챔버에서 플라즈마 방전이 발생하지 않는 RPS(Remote Plasma System) 등에 적용이 가능하며, 설치, 분해, 이동 및 운용이 용이하고 저렴한 가격 등 많은 장점이 있다.
그런데, 종래의 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 고주파 발전기는 고정된 RF 파워에 의하여, 셀프 플라즈마 발광기들 간에 동일한 조건의 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)를 생산할 수 없었으며, 이는 센서로서의 치명적인 약점이다. 즉, 발광 분광기 간의 장비 차이로 인해 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 공정 진단 값의 차이는 커질 수밖에 없는 실정이었다.
또한, 공정 챔버는 트랜스퍼 챔버를 중심으로 수 개의 공정 챔버가 배열되는 구조이며 플라즈마 발광 분광기(SPOES)는 공정 챔버에 장착한다.
이때 다수의 공정 챔버가 동일한 공정을 진행한다면, 플라즈마 발광 분광기(SPOES)의 출력 시그널은 동일해야 한다.
그런데, 종래의 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)는 동일한 조건의 시그널을 출력하지 못하는 치명적인 단점이 있다. 다수의 공정 챔버에 각각 장착되는 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)가 센서의 역할을 하려면, 동일한 공정 조건에서 동일한 시그널을 출력하도록 하여야 한다.
대한민국 등록특허 10-0905128 대한민국 등록특허 10-0891376 대한민국 등록특허 10-0816736
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 제품 간의 센서 측정값이 균일하며, 공정 챔버와 공정 챔버 간 동일한 조건에서 동일한 시그널을 출력할 수 있는 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기 및 다수의 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치 및 이를 이용한 캘리브레이션 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 셀프 플라즈마 발광분광기 간의 캘리브레이션 장치는 공정 챔버(Process Chamber)의 일측에 펌프를 통하여 공정 가스를 배출하는 배기관; 상기 배기관의 일측에서 분기된 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 플라즈마 챔버, 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 윈도우, 및 상기 다수의 셀프 플라즈마 윈도우의 챔버에서 나오는 플라즈마 빛을 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 분광기(Spectrometer)를 구비하는 다수의 셀프 플라즈마 분광기; 상기 분광기와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 제어부; 및 상기 제어부에서 분석한 데이터를 취합하여, 상기 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력 파워를 원격 통신으로 조절하여 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기가 동일한 측정값을 갖도록 하는 고주파 제어기를 포함한다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 셀프 플라즈마 발광분광기 간의 캘리브레이션 방법은 공정 챔버에서 펌프에 의하여 배기관으로 배기가스를 배기하는 단계; 상기 배기관의 일측에서 분기된 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스성분을 인입하는 단계; 상기 인입관을 통하여 인입된 가스성분을 다수의 셀프 플라즈마 챔버에서 각각의 고주파 발전기로 플라즈마화하며, 이 플라즈마 빛의 데이터를 제어부에서 취합 분석하는 단계; 상기 제어부에서는 취합 분석한 데이터를 고주파 제어기로 전송하는 단계; 및 상기 고주파 제어기는 각각의 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력파워를 원격통신으로 조절하여 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기는 동일한 측정값을 갖도록 하는 단계를 포함한다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치는 다수의 공정 챔버(Process Chamber)의 일측에 각각의 펌프를 통하여 공정 가스를 배출하는 각각의 배기관; 상기 각각의 배기관의 일측에서 분기된 각각의 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 각각의 플라즈마 챔버, 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 다수의 고주파 발전기, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 윈도우, 및 상기 다수의 셀프 플라즈마 윈도우의 챔버에서 나오는 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 다수의 분광기를 구비하는 다수의 셀프 플라즈마 분광기; 상기 분광기와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 다수의 제어부; 및 상기 다수의 제어부에서 분석한 데이터를 취합하여, 상기 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력 파워를 원격 통신으로 조절하는 고주파 제어기를 포함한다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 방법은 다수의 공정챔버에서 각각의 펌프에 의하여 각각의 배기관으로 배기가스를 배기하는 단계; 상기 각각의 배기관의 일측에서 분기된 각각의 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 단계; 상기 다수의 인입관을 통하여 인입된 가스성분을 다수의 셀프 플라즈마 챔버에서 각각의 고주파 발전기로 플라즈마화하며, 이 플라즈마 빛의 데이터를 각각의 제어부에서 취합 분석하는 단계; 상기 다수의 제어부에서 취합 분석한 데이터를 고주파 제어기로 전송하는 단계; 및 상기 고주파 제어기는 각각의 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력파워를 원격통신으로 조절하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면, 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 제품 간의 센서 측정값이 균일하도록 고주파 발전기의 고주파 출력 파워를 조절하여 동일한 조건에서 동일한 성능을 갖는 셀프 플라즈마 발광분광기를 생산할 수 있다.
또한, 공정 챔버와 공정 챔버 간 동일한 조건에서 동일한 시그널을 출력할 수 있도록 공정 챔버와 공정 챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)를 캘리브레이션하여 다수의 공정 챔버가 동일한 공정을 진행한다면 셀프 플라즈마 발광분광기의 출력 신호는 동일하게 할 수 있다.
도 1은 셀프 플라즈마 발광분광기(SPEOS)를 나타내는 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 각각의 제품 간의 캘리브레이션 장치를 설명하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 각각의 제품 간의 캘리브레이션 방법을 설명하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치를 설명하는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 방법를 설명하는 도면이다.
상술한 목적, 특징들 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)를 나타내는 구성도이다.
도 1을 참조하면, 공정 챔버(1, Process Chamber)의 일측은 배기관(2)을 통하여 펌프(3, Pump)와 연결되어 있으며, 펌프(3)에 의하여 공정 챔버(1)의 배기가스는 배기관(2)을 통하여 배기되고 있다.
셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)는 배기관(2)의 일측에서 분기된 인입관(4)을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 플라즈마 챔버(20), 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기(22)와, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 윈도우(23), 및 챔버에서 나오는 빛을 광화이버나 광도파로 등의 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 분광기(30, Spectrometer), 및 분광기(30)와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 제어부(50)를 구비하고 있다.
이와 같은 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)는 CVD, PVD, 식각장비에 대하여 효율적으로 공정챔버(1)의 상태를 모니터링하여, 예상하지 못한 사고를 미연에 방지할 수 있다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 각각의 제품 간의 캘리브레이션 장치를 설명하는 도면이다.
도 2를 참조하면, 공정 챔버(1, Process Chamber)의 일측은 배기관(2)을 통하여 펌프(3, Pump)와 연결되어 있으며, 펌프(3)에 의하여 공정 챔버(1)의 배기가스는 배기관(2)을 통하여 배기되고 있다.
다수의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)는 배기관(2)의 일측에서 분기된 인입관(4)을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 플라즈마 챔버(미도시), 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기(122, 222, 322)와, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 윈도우(미도시)를 구비하며, 각각의 윈도우는 챔버에서 나오는 빛을 광화이버나 광도파로 등의 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 분광기(미도시), 및 분광기와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 제어부(150, 250, 350)와 연결되어 있다.
이에 더하여, 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)의 각각의 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기(122, 222, 322)는 고주파 제어기(70)와 연결되어 있다.
상기 고주파 제어기(70)는 상기 제어부(50)에서 분석된 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)의 데이터를 취합하여, 각각의 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기(122, 222, 322)의 출력 파워를 원격 통신으로 조절할 수 있다.
즉, 동일 공정조건을 갖는 셀프 플라즈마 발광분광기라도 각각의 장비의 특성에 따라서 플라즈마화된 빛을 분석하는 데이터가 다르게 나타날 수가 있다.
본 발명의 캘리브레이션 장치는 동일 공정조건의 다른 데이터에 대하여, 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)의 고주파 발전기(122, 222, 322)의 출력 파워를 서로 간에 미세하게 조정하여, 동일 공정조건일 경우에는 동일한 데이터를 얻을 수 있도록 한다.
예컨대, 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기의 출력 데이터의 평균값을 구하고, 평균값보다 낮은 데이터를 갖는 셀프 플라즈마 발광분광기에 대하여는 고주파 제어기(70)에 의하여 동일 조건에서 고주파 발전기의 출력 파워를 증가시킬 수 있으며, 평균값보다 높은 데이터를 갖는 셀프 플라즈마 발광분광기에 대하여는 고주파 제어기(70)에 의하여 동일 조건에서 고주파 발전기의 출력 파워를 감소시킬 수 있다. 이와 같은 절차를 반복적으로 수행하면, 동일 공정조건에서 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기는 동일한 데이터를 얻을 수 있다. 이와는 달리, 평균값 대신에 기 설정된 기준값에 의하여 캘리브레이션을 수행할 수도 있다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)의 각각의 제품 간의 캘리브레이션 방법을 설명하는 도면이다.
도 3을 참조하면, 먼저 동일 공정 챔버에서 펌프에 의하여 배기관으로 배기가스를 배기(S301)한다.
다음으로, 배기관의 일측에서 분기된 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스성분을 인입(S302)한다.
다음으로, 인입관을 통하여 인입된 가스성분을 다수의 셀프 플라즈마 챔버에서 각각의 고주파 발전기로 플라즈마화하며, 이 플라즈마 빛의 데이터를 제어부에서 취합 분석(S303)한다.
다음으로, 제어부에서는 취합 분석한 데이터를 고주파 제어기로 전송(S304)한다.
다음으로, 고주파 제어기는 각각의 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력파워를 원격통신으로 조절(S305)한다.
이와 같이, 본 발명은 고주파 발전기의 고주파 출력 파워를 조절하여 동일한 조건에서 동일한 성능을 갖는 셀프 플라즈마 발광분광기를 생산할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치를 설명하는 도면이다.
도 4를 참조하면, 다수의 공정챔버(101, 201, 301)의 일측은 각각의 배기관(102, 202, 302)을 통하여 각각의 펌프(103, 203, 303)와 연결되어 있으며, 각각의 펌프(103, 203, 303)에 의하여 각각의 공정 챔버(101, 201, 301)의 배기가스는 각각의 배기관(102, 202, 302)을 통하여 배기되고 있다.
다수의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)는 각각의 배기관(102, 202, 302)의 일측에서 분기된 각각의 인입관(104, 204, 304)을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 각각의 플라즈마 챔버(미도시), 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 각각의 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기(122, 222, 322)와, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 각각의 윈도우(미도시), 및 챔버에서 나오는 빛을 광화이버나 광도파로 등의 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 각각의 분광기(미도시), 및 각각의 분광기와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 제어부(150, 250, 350)를 구비하고 있다.
이에 더하여, 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)의 각각의 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기(122, 222, 322)는 고주파 제어기(80)와 연결되어 있다.
상기 고주파 제어기(80)는 상기 제어부(50)에서 분석된 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)의 데이터를 취합하여, 각각의 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기(122, 222, 322)의 출력 파워를 원격 통신으로 조절할 수 있다.
본 발명의 캘리브레이션 장치는 최초의 공정조건에서 각각의 공정 챔버(101, 201, 301)에 대하여, 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기(111, 211, 311)의 고주파 발전기(122, 222, 322)의 출력 파워를 서로 간에 미세하게 조정하여, 다수의 공정 챔버가 동일한 공정을 진행한다면 셀프 플라즈마 발광분광기의 출력 신호는 동일하게 할 수 있다.
예컨대, 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기의 출력 데이터의 평균값을 구하고, 평균값보다 낮은 데이터를 갖는 셀프 플라즈마 발광분광기에 대하여는 고주파 제어기(80)에 의하여 동일 조건에서 고주파 발전기의 출력 파워를 증가시킬 수 있으며, 평균값보다 높은 데이터를 갖는 셀프 플라즈마 발광분광기에 대하여는 고주파 제어기(80)에 의하여 동일 조건에서 고주파 발전기의 출력 파워를 감소시킬 수 있다. 이와 같은 절차를 반복적으로 수행하면, 다수의 공정 챔버가 동일한 공정을 진행한다면 셀프 플라즈마 발광분광기의 출력 신호는 동일하게 할 수 있다. 이와는달리, 평균값 대신에 기 설정된 기준값에 의하여 캘리브레이션을 수행할 수도 있다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 방법를 설명하는 도면이다.
도 5를 참조하면, 먼저 다수의 공정챔버에서 각각의 펌프에 의하여 각각의 배기관으로 배기가스를 배기(S501)한다.
다음으로, 각각의 배기관의 일측에서 분기된 각각의 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입(S502)한다.
다음으로, 다수의 인입관을 통하여 인입된 가스성분을 다수의 셀프 플라즈마 챔버에서 각각의 고주파 발전기로 플라즈마화하며, 이 플라즈마 빛의 데이터를 각각의 제어부에서 취합 분석(S503)한다.
다음으로, 다수의 제어부에서 취합 분석한 데이터를 고주파 제어기로 전송(S304)한다.
다음으로, 고주파 제어기는 각각의 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력파워를 원격통신으로 조절(S505)한다.
이와 같이, 본 발명은 공정 챔버와 공정 챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기(SPOES)를 캘리브레이션하여 다수의 공정 챔버가 동일한 공정을 진행한다면 셀프 플라즈마 발광분광기의 출력 신호는 동일하게 할 수 있다.
1, 101, 201, 301: 공정 챔버 2, 102, 202, 302: 배기관
3, 103, 203, 303: 펌프 4, 104, 204, 304: 인입관
22, 122, 222, 322: 고주파 전극 50, 150, 250, 350: 제어부 111, 211, 311: 셀프 플라즈마 발광분광기
70, 80: 고주파 제어기

Claims (4)

  1. 공정 챔버(Process Chamber)의 일측에 펌프를 통하여 공정 가스를 배출하는 배기관;
    상기 배기관의 일측에서 분기된 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 플라즈마 챔버, 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 고주파(RF, Radio Frequency) 발전기, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 윈도우, 및 상기 다수의 셀프 플라즈마 윈도우의 챔버에서 나오는 플라즈마 빛을 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 분광기(Spectrometer)를 구비하는 다수의 셀프 플라즈마 분광기;
    상기 분광기와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 제어부; 및
    상기 제어부에서 분석한 데이터를 취합하여, 상기 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력 파워를 원격 통신으로 조절하여 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기가 동일한 측정값을 갖도록 하는 고주파 제어기를 포함하는 셀프 플라즈마 발광분광기 간의 캘리브레이션 장치.
  2. 공정 챔버에서 펌프에 의하여 배기관으로 배기가스를 배기하는 단계;
    상기 배기관의 일측에서 분기된 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스성분을 인입하는 단계;
    상기 인입관을 통하여 인입된 가스성분을 다수의 셀프 플라즈마 챔버에서 각각의 고주파 발전기로 플라즈마화하며, 이 플라즈마 빛의 데이터를 제어부에서 취합 분석하는 단계;
    상기 제어부에서는 취합 분석한 데이터를 고주파 제어기로 전송하는 단계; 및
    상기 고주파 제어기는 각각의 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력파워를 원격통신으로 조절하여 각각의 셀프 플라즈마 발광분광기는 동일한 측정값을 갖도록 하는 단계를 포함하는 셀프 플라즈마 발광분광기 간의 캘리브레이션 방법.
  3. 다수의 공정 챔버(Process Chamber)의 일측에 각각의 펌프를 통하여 공정 가스를 배출하는 각각의 배기관;
    상기 각각의 배기관의 일측에서 분기된 각각의 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 각각의 플라즈마 챔버, 이 배기가스를 방전시켜 플라즈마화하는 다수의 고주파 발전기, 이 플라즈마화된 배기가스의 빛을 분광기에 전달하는 윈도우, 및 상기 다수의 셀프 플라즈마 윈도우의 챔버에서 나오는 광로를 통해 입력받아 시간과 파장에 따른 분광분포를 측정하는 다수의 분광기를 구비하는 다수의 셀프 플라즈마 분광기;
    상기 분광기와 인터페이스되어 분산된 빛을 분석하는 다수의 제어부; 및
    상기 다수의 제어부에서 분석한 데이터를 취합하여, 상기 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력 파워를 원격 통신으로 조절하는 고주파 제어기를 포함하는 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 장치.
  4. 다수의 공정챔버에서 각각의 펌프에 의하여 각각의 배기관으로 배기가스를 배기하는 단계;
    상기 각각의 배기관의 일측에서 분기된 각각의 인입관을 통하여 배기관을 경유하는 가스 성분을 인입하는 단계;
    상기 다수의 인입관을 통하여 인입된 가스성분을 다수의 셀프 플라즈마 챔버에서 각각의 고주파 발전기로 플라즈마화하며, 이 플라즈마 빛의 데이터를 각각의 제어부에서 취합 분석하는 단계;
    상기 다수의 제어부에서 취합 분석한 데이터를 고주파 제어기로 전송하는 단계; 및
    상기 고주파 제어기는 각각의 다수의 셀프 플라즈마 발광분광기의 각각의 고주파 발전기의 출력파워를 원격통신으로 조절하는 단계를 포함하는 공정챔버와 공정챔버 간의 셀프 플라즈마 발광분광기의 캘리브레이션 방법.
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