KR20140145678A - Method for electrophoretic deposition of nano-ceramics for the photo-generated non-sacrificial cathodic corrosion protection of metal substrates and the metal substrate thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a coating method to prevent corrosion of a metal substrate using electrophoretic deposition, and the coating method includes applying a voltage to apply nanoparticles on a metal substrate using electrophoretic deposition after a photo-generated corrosion prevention coating solution containing the nanoparticles to the metal substrate. According to the present invention, the nanoparticles are uniformly applied on a surface of the metal substrate using the electrophoretic deposition to effectively protect the metal substrate against corrosion through the photo-generated non-sacrificial cathodic corrosion prevention coating; thereby coating be quickly and easily be performed and mass production realized.

Description

전기 영동법에 의한 금속 기판의 광 활성 비 희생 양극 부식 방지 코팅방법 및 이에 의해 제조된 금속 기판{Method for electrophoretic deposition of nano-ceramics for the photo-generated non-sacrificial cathodic corrosion protection of metal substrates and the metal substrate thereof}[0001] The present invention relates to a photoactive non-sacrificial anode anticorrosion coating method for a metal substrate by electrophoresis, and a metal substrate produced by the method and an electrophoretic deposition of nano-ceramics for the photo- thereof}

본 발명은 전기 영동법에 의해 나노 입자를 금속 기판 상에 코팅하는 것으로, 보다 상세하게는 금속 기판의 광 활성 비 희생 양극 부식 방지 코팅방법 및 이에 의해 제조된 금속 기판에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for coating nanoparticles on a metal substrate by electrophoresis, and more particularly to a photoactive non-sacrificial anodic corrosion-resistant coating method for a metal substrate and a metal substrate produced thereby.

금속 부식은 금속 또는 합금이 환경에 존재하는 물질과 화학반응을 하여 일어나는데, 이러한 부식을 막기 위해서 여러 가지 방법들이 응용되고 있다. 구체적으로는, 화학 표면처리, 유기 코팅, 무기 코팅, 금속 코팅 등이 금속 부식을 막기 위해 일반적으로 사용되고 있다.
Metal corrosion is caused by a chemical reaction of a metal or an alloy with a substance present in the environment. Various methods have been applied to prevent such corrosion. Specifically, chemical surface treatment, organic coating, inorganic coating, and metal coating are generally used to prevent metal corrosion.

그러나, 상기와 같은 방법으로 코팅을 한 경우, 여러 가지 요인에 의해 코팅층이 물리적으로 훼손될 수 있으며, 그 경우, 일반 유무기 코팅의 경우는 손상된 부위가 전기화학적으로 활성을 띄기 때문에 금속 부식이 손상 부위 위주로 급속하게 진행되기 시작한다.
However, when the coating is performed by the above-described method, the coating layer may be physically damaged due to various factors. In this case, in the case of general organic-inorganic coating, since the damaged region is electrochemically active, It begins to progress rapidly in the region.

따라서, 이러한 단점을 극복하기 위해 보호하고자 하는 금속에 이종 금속을 코팅하는 방법이 사용되고 있다. 대표적인 예가, 철 금속을 보호하기 위해 전기 화학적 활성이 높은 아연을 도금하는 방법이다. 아연 도금은 현재 상업적으로 널리 이용되고 있는 방법으로, 이 경우 코팅층이 손상되더라도, 전기 화학적 활성이 높은 아연 코팅층이 먼저 부식되면서 철에 전자를 제공하여 철을 보호하게 된다.
Therefore, in order to overcome such a disadvantage, a method of coating a dissimilar metal on a metal to be protected is used. A representative example is a method of plating zinc with a high electrochemical activity to protect the ferrous metal. Zinc plating is a widely used method currently commercially available. In this case, even if the coating layer is damaged, the zinc coating layer having a high electrochemical activity is first corroded to provide electrons to the iron to protect the iron.

하지만, 이러한 희생 양극 방식 방법에도 한계가 있다. 기본적으로 상기 방법은 양극이 먼저 부식되어 이종 금속을 보호하는 방법이기 때문에 수명에 한계가 존재하게 된다. 다시 말해, 아연 코팅층이 어느 정도 소모된 후에는 철의 부식은 더욱 가속화될 수밖에 없다.
However, such a sacrificial anode method is also limited. Basically, this method has a limitation on the lifetime because the anode is first corroded to protect the dissimilar metal. In other words, after the zinc coating layer is consumed to some extent, the corrosion of the iron can not be accelerated.

현재 범용되는 코팅 방법의 단점을 극복하기 위해서, 최근에는 광 활성 방식 코팅 방법이 소개되고 있다.(J. Yuan and S. Tsujikawa, J. Electrochem. Soc., 142, 3444 (1995), T. Imokawa, R. Fujisawa, A. Suda and S. Tsujikawa, Zairyo-to Kankyo, 43, 482 (1994)) 상기 코팅 방법은 금속 표면에 광 촉매 TiO2 와 같은 광 활성 코팅을 적용함으로써, 금속의 방식 성능을 확보하는 방법이다.
Recently, a photoactive coating method has been introduced to overcome the disadvantages of the currently used coating methods (J. Yuan and S. Tsujikawa, J. Electrochem. Soc., 142, 3444 (1995), T. Imokawa The coating method can be carried out by applying a photoactive coating such as photocatalyst TiO 2 on the surface of a metal to improve the performance of the metal. .

보다 구체적으로는, 태양광 존재 하에서 TiO2는 광 전자를 생산할 수 있다는 것은 이미 널리 알려진 사실이다. 태양광 아래에서 TiO2 코팅층에서 생성된 광 전자는 금속으로 전달되어 금속이 부식되는 조건하에서 전기화학적으로 부식되는 것을 막아주는 역할을 하게 된다. 이러한 코팅 방식은 TiO2 코팅층이 희생되면서 부식을 방지하는 원리가 아니기 때문에 이론적으로 영구적인 부식 방지가 가능하다.
More specifically, it is well known that TiO 2 can produce photoelectrons in the presence of sunlight. The photoelectrons generated in the TiO 2 coating layer under sunlight are transferred to the metal to prevent electrochemical corrosion under conditions where the metal is corroded. This coating method is not the principle of preventing corrosion by sacrificing the TiO 2 coating layer, so theoretically permanent corrosion prevention is possible.

그러나, TiO2 등의 광 활성 코팅을 이용한 부식 억제 방법은 태양광이 존재하는 낮 시간에만 가능하기 때문에, 태양광이 없는 밤에도 광 활성 코팅 층에 양극 방식 특성을 부여하기 위하여 여러 가지 노력이 이루어졌다. Tatsuma et al.은 WO3 가 TiO2 와 함께 존재할 때, 태양광 존재 하에서 생성된 전자를 저장할 수 있고, 태양광이 없는 밤에 전자를 내 놓음으로 해서 밤에도 부식을 억제할 수 있다는 사실을 발견하였다.(T. Tatsuma, S. Saitoh, Y. Ohko, A. Fujishima, Chem. Mater., 13, 2830 (2001), T. Tatsuma, S. Saitoh, P. Nhaotrakanwiwat, Y. Ohko, A. Fujishima, Langmuir, 18, 7777 (2002))
However, TiO 2 Et al. Have attempted to provide bipolar characteristics to the photoactive coating layer even at night when there is no sunlight, since the corrosion inhibition method using a photoactive coating is possible only during the daytime when sunlight is present. Tatsuma et al. Found that when WO 3 is present with TiO 2 , it can store electrons generated in the presence of sunlight and can suppress corrosion at night by emitting electrons at night without sunlight 13, 2830 (2001), T. Tatsuma, S. Saitoh, P. Nhaotrakanwiwat, Y. Ohko, A. Fujishima , Langmuir, 18, 7777 (2002))

이후 여러 가지 다른 물질 또한, 전자를 저장하고 내놓을 수 있는 기능을 가지고 있는 사실이 밝혀졌는데, SnO2, Cu2O, MoO3 등이 그 대표적인 예이다.( R. Subasri, T. Shinohara, Electrochem. Commun., 5, 897 (2003), J.P. Yasomanee, J. Bandara, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 92, 348 (2008), Y. Takahashi, P. Ngaotrakanwiwat, T. Tatsuma, Electrochim. Acta, 49, 2025 (2004))
Since then, it has been discovered that SnO 2 , Cu 2 O, MoO 3, etc. have a function to store and emit electrons (R. Subasri, T. Shinohara, Electrochem. Cell, 92, 348 (2008), Y. Takahashi, P. Ngaotrakanwiwat, T. Tatsuma, Electrochim.Acta, 49. Jansomanee, J. Bandara, , 2025 (2004))

다만, 여러 광 전자 물질 중에서 WO3가 가장 효과가 좋다고 알려져 있다. 물론 이러한 광 활성 코팅층을 이용하여 금속의 부식을 방지하는 방법에 대해서 많이 알려지기는 하였지만, 실질적인 상용 코팅 강판을 제조하는 방법에 대해서는 많이 연구되지 않았다.
However, WO 3 is known to be most effective among various photoelectronic materials. Although a method for preventing corrosion of metals using such a photoactive coating layer has been widely known, a method for producing a substantially commercial coated steel sheet has not been studied much.

금속 코팅 적용 측면에서 볼 때, 대표적인 광 활성 세라믹 코팅 방법으로 졸-겔 코팅 법 및 진공 증착법 등이 있긴 하지만, 졸-겔 코팅법의 경우 졸-겔 반응이 느리게 일어나고, 용액 관리가 어려워 대량 생산, 특히 금속 코일 코팅 공정 등에 이용되지 못하고 있다. 진공 증착법 역시 증착을 하기 위해서는 소재가 진공인 환경에 놓여있어야 하나, 연속 금속 코일 코팅 공정에서 이러한 진공 공정을 적용하기 어렵다.
In view of the application of the metal coating, sol-gel coating method and vacuum deposition method are a typical photoactive ceramic coating method, but the sol-gel coating method is slow in sol-gel reaction, And is not particularly used for a metal coil coating process or the like. Vacuum deposition also requires that the material be placed in a vacuum environment for deposition, but it is difficult to apply such a vacuum process in a continuous metal coil coating process.

따라서, 최근에는 이러한 문제점을 해결하기 위해, 대량생산이 가능한 광 활성 코팅 방법에 대한 지속적인 연구가 요구되고 있다.
Therefore, recently, in order to solve such a problem, there is a demand for continuous research on a photoactive coating method capable of mass production.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 전기 영동법에 의해 나노 입자를 금속 기판의 표면에 균일하면서도 손쉽고, 빠르게 코팅하여 대량생산이 가능하도록 하며, 이에 의해 형성된 광 활성 비 희생 양극 부식 방지 코팅층에 의해 금속 기판을 보호하고자 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a nanoparticle coating method and a nanoparticle coating method which enable uniform and easy coating of nanoparticles on a surface of a metal substrate by electrophoresis, To protect the metal substrate.

본 발명의 일 구현 예에 따르면, 나노 입자를 포함하는 광 활성 부식 방지 코팅액을 금속 기판에 가한 뒤, 전압을 가하여 전기 영동법으로 금속 기판의 표면에 나노 입자를 코팅하는 단계를 포함하는 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a photoelectric conversion device, comprising the steps of: applying a photoactive anti-corrosion coating liquid containing nanoparticles to a metal substrate and then applying a voltage to the nanoparticle to coat the nanoparticles on the surface of the metal substrate by electrophoresis A method for coating a metal substrate with a corrosion inhibitor.

상기 광 활성 부식 방지 코팅액은, The photoactive anticorrosion coating liquid may contain,

광 촉매 나노 입자를 용매에 분산하여 나노 입자가 분산된 용액을 형성하는 단계; Dispersing the photocatalyst nanoparticles in a solvent to form a solution in which the nanoparticles are dispersed;

상기 나노 입자가 분산된 용액에 대전 첨가제를 첨가하여 상기 나노 입자를 대전하는 단계; 및Adding a charge additive to a solution in which the nanoparticles are dispersed to charge the nanoparticles; And

상기 나노 입자가 대전된 용액에 바인더를 첨가하는 단계를 포함하는 광 활성 부식 방지 코팅액을 형성하는 방법으로 제조된 것일 수 있다.And a step of adding a binder to the charged nanoparticle-charged solution to form a photoactive anticorrosion coating liquid.

상기 나노 입자가 분산된 용액을 형성하는 단계는 광 촉매 나노 입자와 함께 광 전자 저장 나노 입자도 추가로 용매에 분산할 수 있다.In the step of forming the solution in which the nanoparticles are dispersed, the photoelectrode storage nanoparticles may be further dispersed in the solvent together with the photocatalyst nanoparticles.

상기 광 활성 부식 방지 코팅액은 용매 100 중량부에 대하여, 광 촉매 나노입자 1~80 중량부, 바인더 1~20 중량부 및 대전 첨가제 0.000001~1 중량부를 포함할 수 있다.The photoactive anticorrosion coating liquid may contain 1 to 80 parts by weight of the photocatalyst nanoparticles, 1 to 20 parts by weight of the binder, and 0.000001 to 1 part by weight of the charge additive, based on 100 parts by weight of the solvent.

상기 광 활성 부식 방지 코팅액은 용매 100 중량부에 대하여, 광 전자 저장 나노 입자 1~80 중량부를 추가로 포함할 수 있다.The photoactive anticorrosion coating liquid may further comprise 1 to 80 parts by weight of photoelectron-storing nanoparticles per 100 parts by weight of the solvent.

상기 광 촉매 나노입자는 타이타늄 옥사이드(TiO2), 징크 옥사이드 (ZnO2), 지르코니움 옥사이드(ZrO2), 바리움 티타네이트(BaTiO3), 바나디움 옥사이드(V2O5), 아이론 옥사이드(Fe2O3), 스트론티움 타이타네이트(SrTiO3), 크로미움 옥사이드(Cr2O3), 카트뮴 설피드(CdS), 벨리륨 옥사이드 (BeO), 비스무스 옥사이드(Bi2O3), 칼시움 옥사이드(CaO), 카드뮴 옥사이드 (CdO), 코발트 옥사이드(Co3O4), 갈리움 옥사이드(Ga2O3), 겔르마니움 옥사이드 (GeO2), 임디움 옥사이드(In2O3), 망가니즈 옥사이드(Mn3O4), 니켈 옥사이드 (NiO), 안티모니 옥사이드(Sb2O3), 실리콘 옥사이드(SiO2), 스트론티움 옥사이드 (SrO), 탄탈륨 옥사이드(Ta2O3) 및 이트리움 옥사이드(Y2O3)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.The photocatalyst nanoparticles may be selected from the group consisting of titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), barium titanate (BaTiO 3 ), vanadium oxide (V 2 O 5 ), iron oxide 2 O 3 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), cadmium sulfide (CdS), beryllium oxide (BeO), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) calcineurin Titanium oxide (CaO), cadmium oxide (CdO), cobalt oxide (Co 3 O 4), go Solarium oxide (Ga 2 O 3), gelreu Mani Titanium oxide (GeO 2), Im Stadium oxide (In 2 O 3) , manganese oxide (Mn 3 O 4), nickel oxide (NiO), antimony oxide (Sb 2 O 3), silicon oxide (SiO 2), strontium oxide (SrO), tantalum oxide (Ta 2 O 3) And yttrium oxide (Y 2 O 3 ).

상기 광 전자 저장 나노 입자는 텅스텐 옥사이드(WO3), 틴 옥사이드(SnO2), 란타늄 옥사이드(La2O3), 코퍼 옥사이드(Cu2O), 몰리브데늄 옥사이드(MoO3), 세리움 옥사이드 (CeO2), 탄소 나노 튜브 및 그래핀으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.The photoelectronic storage nanoparticles can be selected from the group consisting of tungsten oxide (WO 3 ), tin oxide (SnO 2 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), copper oxide (Cu 2 O), molybdenum oxide (MoO 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), carbon nanotubes, and graphene.

상기 대전 첨가제는 산, 염기, 무기 양이온, 무기 음이온, 유기 인 화합물, 유기 유황 화합물, 카르복실레이트 화합물 및 고분자 전해질로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.The charging additive may be at least one selected from the group consisting of an acid, a base, an inorganic cation, an inorganic anion, an organic phosphorus compound, an organic sulfur compound, a carboxylate compound and a polymer electrolyte.

상기 바인더는 알키드 수지(alkyd resin), 니트로셀룰로오스(nitrocellulose), 탈지된 셸락(dewaxed shellac), 폴리비닐 부티랄(polyvinyl butyral), 폴리비닐 알코올(polyvinyl alcohol), 에틸 셀룰로오스(ethyl cellulose), 폴리아크릴아마이드(polyacrylamide), 폴리실리케이트(polysilicate), 폴리포스페이트(polyphosphate), 폴리보레이트(polyborate), 이온성 에폭시 수지 (ionic epoxy resin), 이온성 아크릴 수지(ionic acrylic ionic resin) 및 이온성 아미노 수지(ionic amino resin)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.The binder may be an alkyd resin, a nitrocellulose, a dewaxed shellac, a polyvinyl butyral, a polyvinyl alcohol, an ethyl cellulose, a polyacrylate, Polyacrylamide, polysilicate, polyphosphate, polyborate, ionic epoxy resin, ionic acrylic ionic resin and ionic amino resin. amino resin).

상기 전기 영동법은 1 내지 400V의 전압을 가하여, 1 내지 300초 동안 수행될 수 있다.
The electrophoresis may be performed for 1 to 300 seconds by applying a voltage of 1 to 400V.

본 발명의 다른 구현 예에 따르면, 상기 코팅방법에 의해 금속 기판의 표면이 나노 입자로 코팅된 전기 영동법에 의해 부식 방지 코팅된 금속 기판을 제공한다. According to another embodiment of the present invention, there is provided a metal substrate which is coated with nanoparticles by electrophoresis on the surface of the metal substrate by the coating method.

상기 금속 기판은 냉연강판, 아연도금강판, 아연계 전기도금강판, 용융아연도금강판, 알루미늄도금강판, 코발트, 몰리브덴, 텅스텐, 니켈, 티탄, 알루미늄, 망간, 철 마그네슘, 주석, 동 또는 이들의 혼합물인 불순물 또는 이종금속을 함유한 도금층을 가지는 도금강판, 실리콘, 동 마그네슘, 철, 망간, 티탄, 아연 또는 이들의 혼합물을 첨가한 알루미늄 합금도금강판, 인산염이 도포된 아연도금강판, 크롬처리강판, 내지문 강판, 희토류 표면처리 강판, 냉연강판 및 열연강판으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
The metal substrate may be at least one selected from the group consisting of a cold rolled steel plate, a galvanized steel plate, a galvanized electroplated steel plate, a hot dip galvanized steel plate, an aluminum coated steel plate, cobalt, molybdenum, tungsten, nickel, titanium, aluminum, manganese, Aluminum alloy plated steel sheet to which iron, manganese, titanium, zinc or a mixture thereof is added, a galvanized steel plate coated with phosphate, a chromium-treated steel plate, An inner fingerprint steel sheet, a rare earth surface treated steel sheet, a cold rolled steel sheet and a hot rolled steel sheet.

본 발명은 전기 영동법에 의해 나노 입자를 금속 기판의 표면에 균일하게 코팅함으로써 형성된 광 활성 비 희생 양극 부식 방지 코팅에 의해 금속 기판을 부식으로부터 효과적으로 보호하고자 하며, 손쉽고 빠르게 상기 코팅을 수행할 수 있어, 대량 생산이 가능하도록 한다.
The present invention aims at effectively protecting a metal substrate from corrosion by a photoactive non-sacrificial anode anticorrosion coating formed by uniformly coating nanoparticles on a surface of a metal substrate by electrophoresis, and can easily and quickly perform the coating, Make mass production possible.

도 1은 본 발명의 전기 영동법에 의한 금속 기판의 광 활성 비 희생 양극 부식 방지 코팅방법을 대량 생산 공정에 적용한 개념도를 도시한 것이다.
도 2는 실시예에 따른 광 활성 부식 방지 코팅액을 전기 영동법에 의해 코팅한 금속 시편의 표면 사진을 도시한 것이다.
도 3은 실시예에 따른 광 활성 부식 방지 코팅액을 전기 영동법에 의해 코팅한 금속 시편의 전자 현미경 표면 사진을 도시한 것이다.
도 4는 실험예에 따라, 전기 영동법에 의한 광 활성 비 희생 양극 부식 코팅으로 인한 부식 방지 효과를 보여 주는 그래프를 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법의 공정 순서도를 개략적으로 도시한 것이다.
FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating the application of the photoactive non-sacrificial anode anticorrosion coating method of a metal substrate by the electrophoresis method of the present invention to a mass production process.
FIG. 2 is a photograph of a surface of a metal specimen coated with a photoactive corrosion inhibiting coating solution according to an embodiment by electrophoresis.
FIG. 3 is a photomicrograph of a surface of a metal specimen coated with a photoactive corrosion inhibiting coating solution according to an embodiment by electrophoresis.
Fig. 4 is a graph showing corrosion inhibition effect due to photoactive non-sacrificial anodic corrosion coating by electrophoresis, according to an experimental example.
FIG. 5 schematically shows a process flow chart of a corrosion prevention coating method of a metal substrate by the electrophoresis method of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시 형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below.

본 발명의 일 구현 예에 따르면, 나노 입자를 포함하는 광 활성 부식 방지 코팅액을 금속 기판에 가한 뒤, 전압을 가하여 전기 영동법으로 금속 기판의 표면에 나노 입자를 코팅하는 단계를 포함하는 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법을 제공한다.
According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a photoelectric conversion device, comprising the steps of: applying a photoactive anti-corrosion coating liquid containing nanoparticles to a metal substrate and then applying a voltage to the nanoparticle to coat the nanoparticles on the surface of the metal substrate by electrophoresis A method for coating a metal substrate with a corrosion inhibitor.

본 발명은 상기 코팅하는 단계에 있어서, 전기 영동법에 의해 광 활성 부식 방지 코팅액을 금속 기판 표면에 코팅함으로써, 상기 코팅액에 포함된 나노 입자가 금속 기판의 표면에 균일하게 코팅될 수 있도록 하여 코팅층의 품질을 향상시키며 금속 기판의 부식을 효과적으로 방지할 수 있도록 한다.
In the coating step, the nanoparticles contained in the coating liquid are uniformly coated on the surface of the metal substrate by coating the surface of the metal substrate with the photoactive corrosion inhibiting coating liquid by electrophoresis, so that the quality of the coating layer Thereby effectively preventing corrosion of the metal substrate.

본 발명에서 부식 방지를 위해 코팅을 하는 금속 기판으로는 그 종류를 특별히 한정하지는 않지만, 보다 바람직한 효과를 거둘 수 있도록 금속으로서, 강(steel)을 사용할 수 있다. 이때, 강은 강판과 같이 판재나 시트의 형태로 제조하여 그 표면에 코팅하는 것이 바람직하나, 구조가 복잡한 형태라고 하더라도 코팅이 가능하다.
In the present invention, the type of the metal substrate to be coated for corrosion prevention is not particularly limited, but steel can be used as a metal so as to obtain a more preferable effect. At this time, it is preferable that the steel is produced in the form of a sheet or sheet like a steel sheet and coated on the surface thereof, but it can be coated even if the structure is complicated.

이러한 강판으로는 냉연강판, 아연도금강판, 아연계 전기도금강판, 용융아연도금강판, 알루미늄도금강판, 코발트, 몰리브덴, 텅스텐, 니켈, 티탄, 알루미늄, 망간, 철 마그네슘, 주석, 동 또는 이들의 혼합물인 불순물 또는 이종금속을 함유한 도금층을 가지는 도금강판, 실리콘, 동 마그네슘, 철, 망간, 티탄, 아연 또는 이들의 혼합물을 첨가한 알루미늄 합금도금강판, 인산염이 도포된 아연도금강판, 크롬처리강판, 내지문 강판, 희토류 표면처리 강판, 냉연강판 및 열연강판 중에서 선택될 수 있다.
Examples of such steel sheets include cold-rolled steel sheets, galvanized steel sheets, galvanized electroplated steel sheets, hot-dip galvanized steel sheets, aluminum-coated steel sheets, cobalt, molybdenum, tungsten, nickel, titanium, aluminum, manganese, iron magnesium, Aluminum alloy plated steel sheet to which iron, manganese, titanium, zinc or a mixture thereof is added, a galvanized steel plate coated with phosphate, a chromium-treated steel plate, An inner fingerprint steel sheet, a rare earth surface treated steel sheet, a cold rolled steel sheet and a hot rolled steel sheet.

본 발명에 있어서, 상기 금속 기판 표면의 부식 방지를 위한 코팅에 사용되는 광 활성 부식 방지 코팅액은, 광 촉매 나노 입자, 선택적으로 광 전자 저장 나노 입자를 첨가할 수 있으며, 그 외에, 대전 첨가제 및 바인더를 포함할 수 있다.
In the present invention, the photoactive anticorrosion coating liquid used for coating on the surface of the metal substrate for corrosion prevention may contain photocatalyst nanoparticles, and optionally photoelectron storage nanoparticles. In addition, a charge additive and a binder . ≪ / RTI >

상기 광 활성 부식 방지 코팅액의 제조 방법으로는 광 촉매 나노 입자를 용매에 분산하여 나노 입자가 분산된 용액을 형성하는 단계, 상기 나노 입자가 분산된 용액에 대전 첨가제를 첨가하여 상기 나노 입자를 대전하는 단계 및 상기 나노 입자가 대전된 용액에 바인더를 첨가하는 단계를 포함하는 광 활성 부식 방지 코팅액을 형성하는 방법으로 제조된 것일 수 있다.
The method of manufacturing the photoactive corrosion inhibiting coating liquid includes the steps of dispersing nanoparticles of a photocatalyst in a solvent to form a solution in which nanoparticles are dispersed, adding a charge additive to the solution in which the nanoparticles are dispersed, And a step of adding a binder to the solution in which the nanoparticles are charged, thereby forming a photoactive anti-corrosion coating solution.

단, 본 발명의 코팅방법에서는 용매에 광 촉매 나노 입자 보다 대전 첨가제를 먼저 첨가한 후, 광 촉매 나노 입자를 첨가하여 나노 입자를 대전한 뒤, 바인더를 첨가하여 광 활성 부식 방지 코팅액을 제조할 수도 있다.
However, in the coating method of the present invention, it is also possible to prepare a photoactive anti-corrosion coating solution by first adding a charge additive to a solvent rather than a photocatalytic nano-particle, adding a photocatalyst nanoparticle to the nanoparticle, and then adding a binder have.

또한, 상기 나노 입자가 분산된 용액을 형성하는 단계는 광 촉매 나노 입자와 함께 광 전자 저장 나노 입자도 추가로 용매에 분산할 수 있다. 본 발명은 광 촉매 나노 입자와 광 전자 저장 나노 입자를 함께 분산하여 코팅함으로써, 태양광이 존재하는 낮과 태양광이 존재하지 않는 밤에 언제든지 금속 기판을 부식으로부터 보호할 수 있다. 또한, 본 발명의 전기 영동법에 의함으로써, 두 나노 입자가 균일하게 금속 기판의 표면에 코팅될 수 있도록 한다.
In addition, in the step of forming the solution in which the nanoparticles are dispersed, the photoelectron-storing nanoparticles may be further dispersed in the solvent together with the photocatalyst nanoparticles. The present invention can protect the metal substrate from corrosion at any time during the day when sunlight exists and during the night when there is no sunlight by coating the photocatalyst nanoparticles and photoelectron storage nanoparticles together. Further, according to the electrophoresis method of the present invention, the two nanoparticles can be uniformly coated on the surface of the metal substrate.

또한, 상기 광 활성 부식 방지 코팅액은 용매 100 중량부에 대하여, 광-촉매 나노입자 1~80 중량부, 바인더 1~20 중량부 및 대전 첨가제 0.000001~1 중량부를 포함할 수 있으며, 광 전자 저장 나노 입자 1~80 중량부를 추가로 포함할 수 있다. 이때, 광 전자 저장 나노 입자를 추가함으로써 얻는 효과는 상기 기재한 바와 같다.
The photoactive anticorrosion coating liquid may contain 1 to 80 parts by weight of photo-catalyst nanoparticles, 1 to 20 parts by weight of a binder, and 0.000001 to 1 part by weight of a charge additive, based on 100 parts by weight of the solvent. 1 to 80 parts by weight of particles may be further included. At this time, the effect obtained by adding the photoelectric storage nanoparticles is as described above.

본 발명은 상기 코팅하는 단계에 앞서, 상기 광활성 부식 방지 코팅액에 초음파 분산 또는 밀링 등을 수행하여 상기 코팅액 내 포함된 나노 입자를 균일하게 분산함으로써, 추후 코팅하는 단계에서 전기 영동법에 의한 코팅 시, 보다 높은 품질의 코팅층을 확보할 수 있도록 한다.
In the present invention, prior to the coating step, the nanoparticles contained in the coating liquid are uniformly dispersed by performing ultrasonic dispersion or milling on the photoactive corrosion inhibiting coating liquid, Thereby ensuring a high quality coating layer.

본 발명에서 상기 광 활성 코팅액에 포함된 광 촉매 나노 입자는 타이타늄 옥사이드(TiO2), 징크 옥사이드 (ZnO2), 지르코니움 옥사이드(ZrO2), 바리움 티타네이트(BaTiO3), 바나디움 옥사이드(V2O5), 아이론 옥사이드(Fe2O3), 스트론티움 타이타네이트(SrTiO3), 크로미움 옥사이드(Cr2O3), 카트뮴 설피드(CdS), 벨리륨 옥사이드 (BeO), 비스무스 옥사이드(Bi2O3), 칼시움 옥사이드(CaO), 카드뮴 옥사이드 (CdO), 코발트 옥사이드(Co3O4), 갈리움 옥사이드(Ga2O3), 겔르마니움 옥사이드 (GeO2), 임디움 옥사이드(In2O3), 망가니즈 옥사이드(Mn3O4), 니켈 옥사이드 (NiO), 안티모니 옥사이드(Sb2O3), 실리콘 옥사이드(SiO2), 스트론티움 옥사이드 (SrO), 탄탈륨 옥사이드(Ta2O3) 및 이트리움 옥사이드(Y2O3)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
In the present invention, the photocatalyst nanoparticles included in the photoactive coating liquid include titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), barium titanate (BaTiO 3 ), vanadium oxide 2 O 5 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), cat sulphide (CdS), beryllium oxide (Bi 2 O 3 ), calcium oxide (CaO), cadmium oxide (CdO), cobalt oxide (Co 3 O 4 ), gallium oxide (Ga 2 O 3 ), germanium oxide (GeO 2 ) (Mn 2 O 3 ), manganese oxide (Mn 3 O 4 ), nickel oxide (NiO), antimony oxide (Sb 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ), strontium oxide (SrO) , Tantalum oxide (Ta 2 O 3 ), and tritium oxide (Y 2 O 3 ).

또한, 본 발명의 상기 광 활성 코팅액에 포함된 광 전자 저장 나노 입자는 텅스텐 옥사이드(WO3), 틴 옥사이드(SnO2), 란타늄 옥사이드(La2O3), 코퍼 옥사이드(Cu2O), 몰리브데늄 옥사이드(MoO3), 세리움 옥사이드 (CeO2), 탄소 나노 튜브 및 그래핀으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다. 다만, 텅스텐 옥사이드(WO3)를 사용하는 것이 전자를 가장 효과적으로 저장하므로 가장 바람직하다.
In addition, the optical light electronic storage nanoparticles contained in the active coating of the present invention are tungsten oxide (WO 3), tin oxide (SnO 2), lanthanum oxide (La 2 O 3), copper oxide (Cu 2 O), mol And may be at least one selected from the group consisting of rubidium oxide (MoO 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), carbon nanotubes and graphene. However, it is most preferable to use tungsten oxide (WO 3 ) because it most effectively stores electrons.

또한, 본 발명의 광 활성 코팅액에 포함되는 용매는 종류를 특별히 한정하지는 않으며, 분산하고자 하는 나노 입자의 특성에 맞게 점도 및 유전율을 고려하여 선택하는 것이 바람직하다.
The type of the solvent contained in the photoactive coating liquid of the present invention is not particularly limited, and it is preferable to select the solvent in consideration of the viscosity and the dielectric constant in accordance with the characteristics of the nanoparticles to be dispersed.

대표적으로 사용할 수 있는 용매로는 물, 지방족 또는 방향족 탄화수소계 용매, 할로겐을 함유하는 탄화수소계 용매 및 산소를 함유하는 탄화수소계 용매로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.
Representative examples of the solvent include at least one selected from the group consisting of water, an aliphatic or aromatic hydrocarbon solvent, a halogen-containing hydrocarbon solvent, and an oxygen-containing hydrocarbon solvent.

상기 지방족 또는 방향족 탄화수소계 용매로는 펜탄(Pentane), 사이클로펜탄(Cyclopentane), 헥산(Hexane), 사이클로헥산(Cyclohexane), 벤젠(Benzene), 톨루엔(Toluene) 또는 이들의 혼합물이 있을 수 있고, 할로겐을 함유하는 탄화수소계 용매로는 클로로폼(Chloroform), 다이클로로메탄(Dichloromethane) 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
The aliphatic or aromatic hydrocarbon solvent may be pentane, cyclopentane, hexane, cyclohexane, benzene, toluene, or a mixture thereof. Halogen , Chloroform, dichloromethane, or a mixture thereof may be used as the hydrocarbon-based solvent.

또한, 상기 산소를 함유하는 탄화수소계 용매로는 알코올, 케톤 또는 에스테르계 등을 의미하는 것으로, 구체적으로는 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran), 에틸 아세테이트(Ethyl acetate), 아세톤(Acetone), 다이메틸포름아마이드(Dimethylformamide), 아세토나이트릴(Acetonitrile), 포름산(Formic acid), n-뷰탄올(n-Butanol), 니트로메탄(Nitromethane), 메탄올(Methanol), 에탄올(Ethanol), 이소프로필 알코올(Isopropyl alcohol) 및 펜탄올(Pentanol)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상이 사용될 수 있다.
Examples of the hydrocarbon-based solvent containing oxygen include alcohols, ketones, and esters. Specific examples thereof include tetrahydrofuran, ethyl acetate, acetone, dimethylformamide But are not limited to, dimethylformamide, acetonitrile, formic acid, n-butanol, nitromethane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, And pentanol may be used.

본 발명의 광 활성 코팅액은 대전 첨가제를 포함하며, 상기 대전 첨가제는 추후 금속 기판 표면에 코팅을 위한 전기 영동법을 수행하기 위하여, 나노 입자를 대전시키기 위한 것으로, 각 입자의 특성에 따라 대전 특징에 차이가 존재하므로, 대전 첨가제의 종류 및 함량을 정밀하게 조절하는 것이 바람직하다.
The photoactive coating liquid of the present invention includes a charge additive. The charge additive is used for electrifying nanoparticles in order to perform electrophoresis for coating on the surface of a metal substrate. It is preferable to precisely control the kind and content of the charge additive.

상기 대전 첨가제로는 산, 염기, 무기 양이온, 무기 음이온, 유기 인 화합물, 유기 유황 화합물, 카르복실레이트 화합물 및 고분자 전해질로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있으며, 상기 산으로는 염산, 질산 및 황산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
The charging additive may be at least one selected from the group consisting of an acid, a base, an inorganic cation, an anion, an organic phosphorus compound, an organic sulfur compound, a carboxylate compound, and a polymer electrolyte, and the acid may be at least one selected from the group consisting of hydrochloric acid, nitric acid, ≪ / RTI >

또한, 상기 대전 첨가제로 사용되는 염기는 수산화 나트륨, 수산화칼륨 및 수산화 암모늄으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
Further, the base used as the charge additive may be at least one selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonium hydroxide.

또한, 상기 대전 첨가제로 사용되는 무기 양이온으로는 마그네슘 양이온(Mg2 +), 칼슘 양이온(Ca2 +), 알루미늄 양이온(Al3 +), 바륨 양이온(Ba2 +), 스트론튬 양이온(Sr2 +), 칼륨 양이온(K+), 나트륨 양이온(Na+) 및 리튬 양이온(Li+)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
In addition, the organic cations used in the antistatic additive is a magnesium cation (Mg 2 +), calcium cations (Ca 2 +), the aluminum cation (Al 3 +), barium cations (Ba 2 +), strontium cations (Sr 2 + ), A potassium cation (K + ), a sodium cation (Na + ), and a lithium cation (Li + ).

또한, 상기 대전 첨가제로 사용되는 무기 음이온으로는 요오드화 이온(I-), 시아나이드 이온(CN-), 하이포클로라이드 이온(ClO-), 퍼망가네이트 이온(MnO4 2 -), 카보네이트 이온(CO3 2 -) 및 크로메이트 이온(CrO4 2 -)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
Examples of the inorganic anion used as the charge additive include iodide ion (I - ), cyanide ion (CN - ), hypochloride ion (ClO - ), permanganate ion (MnO 4 2 - ), carbonate ion 3 2 - ) and a chromate ion (CrO 4 2 - ).

또한, 상기 유기 인 화합물로는 인산 에스테르(Phosphate ester), 인산 아마이드(Phosphate amides), 포스폰산(Phosphonic acid), 포스핀산(Phosphinic acid), 포스폰산 에스테르(Phosphonic ester), 포스핀산 에스테르(Phosphinic ester), 포스포늄 염(Phosphonium salts) 및 포스포란(Phosphorane)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
Examples of the organic phosphorus compound include phosphorus ester, phosphoric acid amide, phosphonic acid, phosphinic acid, phosphonic ester, phosphinic ester, ), Phosphonium salts, and phosphorane.

상기 유기 유황 화합물은 티올(Thiol), 설파이드(Sulfide), 설폭사이드(Sulfoxide), 할로겐화 황(Sulfur halide), 티오카복실산(Thiocarboxylic acid), 티오아마이드(Thioamide), 설폰산(Sulfonic acid), 설핀산(Sulfinic acid), 설폰산 에스테르(Sulfonic ester), 설핀산 에스테르(Sulfinic ester), 설포늄 염(Sulfonium salt) 및 설포늄 일리드(Sulfonium ylide)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
The organic sulfur compound may be selected from the group consisting of thiol, sulfide, sulfoxide, sulfur halide, thiocarboxylic acid, thioamide, sulfonic acid, sulfinic acid, And may be at least one selected from the group consisting of sulfinic acid, sulfonic ester, sulfinic ester, sulfonium salt and sulfonium ylide.

또한, 상기 카르복실레이트 화합물은 소듐 스티어레이트(Sodium stearate), 소듐 올레이트(Sodium oleate), 소듐 리노리트 (Sodium linoleate), 소듐 리노레네이트 (Sodium linolenate) 및 소듐 리시노리트(Sodium ricinoleate)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.
Also, the carboxylate compound may be selected from the group consisting of sodium stearate, sodium oleate, sodium linoleate, sodium linolenate, and sodium ricinoleate. ≪ / RTI >

또한, 상기 고분자 전해질은 폴리에틸렌이민(poly(ethyleneimine)), 폴리다이알릴디메틸암모늄 클로라이드(poly(ethyleneimine)) 또는 이들의 혼합물이 바람직하다.
Also, the polymer electrolyte is preferably polyethyleneimine (poly (ethyleneimine)), poly (diallyldimethylammonium chloride), or a mixture thereof.

본 발명의 광 활성 코팅액에 포함되는 바인더는 전하를 띄고 있는 유, 무기 고분자 물질로, 그 종류를 특별히 한정하지는 않으나, 사용하고자 하는 용매의 특성을 고려하여 종류를 적절히 선택하는 것이 바람직하다.
The binder contained in the optically active coating liquid of the present invention is an oil or an inorganic polymer material having charge, and the kind thereof is not particularly limited, but it is preferable to suitably select the kind in consideration of the characteristics of the solvent to be used.

다만, 사용할 수 있는 종류로는 비이온성 수지, 이온성 수지, 경화 수지, 또는 이들의 혼합물일 수 있고, 구체적으로는 알키드 수지(alkyd resin), 니트로셀룰로오스(nitrocellulose), 탈지된 셸락(dewaxed shellac), 폴리비닐 부티랄(polyvinyl butyral), 폴리비닐 알코올(polyvinyl alcohol), 에틸 셀룰로오스(ethyl cellulose), 폴리아크릴아마이드(polyacrylamide), 폴리실리케이트(polysilicate), 폴리포스페이트(polyphosphate), 폴리보레이트(polyborate), 이온성 에폭시 수지 (ionic epoxy resin), 이온성 아크릴 수지(ionic acrylic ionic resin) 및 이온성 아미노 수지(ionic amino resin)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상이 바람직하다.
Examples of the usable type include a nonionic resin, an ionic resin, a cured resin, or a mixture thereof. Specific examples thereof include an alkyd resin, a nitrocellulose, a dewaxed shellac, Polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, ethyl cellulose, polyacrylamide, polysilicate, polyphosphate, polyborate, polyacrylate, An ionic epoxy resin, an ionic acrylic ionic resin, and an ionic amino resin. The ionic epoxy resin is preferably selected from the group consisting of an ionic epoxy resin, an ionic acrylic ionic resin and an ionic amino resin.

또한, 상기 바인더는 금속 기판의 표면에 코팅된 나노 입자의 광 활성 및 광 전자 저장 능력이 저해되는 것을 방지하기 위하여 나노 입자 대비 50 중량% 이하로 유지하는 것이 바람직하다.
In order to prevent the nanoparticles coated on the surface of the metal substrate from being deteriorated in optical activity and photoelectron storage ability, the binder is preferably kept at 50 wt% or less relative to the nanoparticles.

본 발명은 상기한 바와 같이 금속 기판의 표면에 부식방지를 위한 코팅을 전기 영동법을 이용하여 수행하는 데, 이때, 전기 영동 시, 상대 전극으로 스테인리스 스틸, 탄소 전극, 백금 전극 등과 같이 전기화학적으로 안정한 물질을 사용하는 것이 바람직하다.
As described above, the coating for preventing corrosion on the surface of the metal substrate is performed by electrophoresis. In the electrophoresis, electrochemically stable electrodes such as stainless steel, carbon electrode, It is preferable to use a substance.

또한, 본 발명에서 상기 전기 영동법은 1 내지 400V의 전압을 가하여 수행하는 것이 바람직하며, 1 내지 300초 동안 수행되는 것이 바람직하다. 작업 시간이 1초 미만인 경우, 금속 기판의 표면에 코팅층이 제대로 형성되지 않아 부식 방지의 효과가 떨어질 수 있으며, 300초를 초과하는 경우, 코팅층을 이루는 입자의 물성에 악영향이 미칠 수 있어, 적합하지 않을 수 있다.
In the present invention, the electrophoresis method is preferably performed by applying a voltage of 1 to 400 V, and is preferably performed for 1 to 300 seconds. If the working time is less than 1 second, the coating layer may not be properly formed on the surface of the metal substrate, and the effect of preventing corrosion may be deteriorated. If the working time exceeds 300 seconds, the physical properties of the particles constituting the coating layer may be adversely affected. .

본 발명은 상기 코팅하는 단계에 후속적으로 상기 나노 입자로 코팅된 금속 기판을 건조하는 단계를 수행할 수 있으며, 건조 시 건조 온도는 20 내지 200℃, 상대 습도는 0 초과 30% 이하의 조건이 바람직하다.
In the present invention, it is possible to carry out the step of drying the metal substrate coated with the nanoparticles subsequently to the coating step, and the drying temperature is 20 to 200 ° C and the relative humidity is more than 0 to 30% desirable.

본 발명에서 사용되는 광 활성 코팅액은 광 촉매 나노 입자와 함께 광 전자 저장 나노 입자 또한 포함함으로써, 태양광이 없는 밤에도 광 활성 코팅 층에 양극 방식 특성을 부여할 수 있도록 하였다. 또한, 광 활성 코팅액을 사용하여 금속 기판 표면에 형성된 코팅층에서 광 전자가 형성되어 금속으로 전달되고, 광 전자로 하여금 금속이 부식 조건하에서 전기화학적으로 부식되는 것을 막아주는 역할을 하게 되므로, 희생되면서 부식을 방지하는 원리가 아니기 때문에 비 희생 양극 방식에 해당한다. 즉, 본 발명의 코팅 방식은 광 활성, 비 희생 양극 방식으로 볼 수 있다.
The photoactive coating liquid used in the present invention includes photocatalyst nanoparticles as well as photoelectron storage nanoparticles so that the photocatalytic coating layer can be imparted with a bipolar characteristic even at night without sunlight. In addition, photoelectrons are formed in the coating layer formed on the surface of the metal substrate using the photoactive coating liquid, and the photoelectrons are transferred to the metal to prevent the photoelectrons from being electrochemically corroded under the corrosive conditions. Therefore, This is a non-sacrificial bipolar approach because it is not a principle to prevent. That is, the coating method of the present invention can be viewed as a photoactive, a non-sacrificial bipolar method.

도 1은 본 발명의 전기 영동법에 의한 금속 기판의 광 활성 비 희생 양극 부식 방지 코팅방법을 대량 생산 공정에 적용한 개념도를 도시한 것으로, 구체적으로는 롤(Roll)(101)에 의해 압연된 강판이 전기 영동 장치 내 양극 롤(Cathode Roll)(102)을 통하여 대전된 나노 입자(201)가 유기용매(202)에 용해되어 형성된 코팅액을 통과하며, 애노드 바(Anode bar)(103)와의 상호 작용에 따라 압연 강판 표면에 나노 입자가 균일하게 코팅되고, 그 후 건조 장치(104)에서 건조되어 부식 방지 코팅된 금속 기판이 제조된다.
FIG. 1 is a conceptual diagram of a photoactive non-sacrificial anode anticorrosion coating method of a metal substrate according to the electrophoretic method of the present invention applied to a mass production process, specifically, a steel sheet rolled by a roll 101 The nanoparticles 201 charged through the cathode roll 102 in the electrophoresis apparatus are passed through the coating solution formed by dissolving in the organic solvent 202 and are allowed to interact with the anode bar 103 Accordingly, the nanoparticles are uniformly coated on the surface of the rolled steel sheet, and then dried in the drying device 104 to produce a corrosion-resistant coated metal substrate.

본 발명은 도 1에서 볼 수 있듯이, 간단한 방법으로 빠르게 금속 기판의 표면을 코팅하여 부식을 방지할 수 있으며, 나노 입자가 균일하게 코팅층을 형성함에 따라, 부식 방지의 효과도 뛰어나므로, 대량 생산 공정에 적용하기에 바람직하다.
As shown in FIG. 1, the surface of a metal substrate can be rapidly coated with a simple method to prevent corrosion, and since the nanoparticles uniformly form a coating layer, the effect of preventing corrosion is excellent, .

도 5는 본 발명의 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법의 공정 순서도를 도시한 것으로, 도 5를 참조해 보면, 광 촉매 나노입자를 유기 용매에 분산(S100)하고, 이어서, 광 저장 나노 입자를 용매에 분산 (S110)하여 용액을 형성하고, 바인더 물질을 나노 입자들이 분산된 용액에 투입(S120)한 뒤, 대전 첨가제를 상기 용액에 추가로 첨가하여 나노 입자를 대전(S130)시킨 다음, 금속 기판을 용액에 침지 한 상태에서 전압을 걸어줌으로써 전기 영동법으로 금속 표면을 코팅(S140)하고, 상기 코팅된 금속 기판을 상온 또는 고온 조건에서 건조(S150) 하는 단계를 포함한다. FIG. 5 is a flow chart showing the process of the anti-corrosion coating method of a metal substrate according to the electrophoresis method of the present invention. Referring to FIG. 5, the photocatalyst nanoparticles are dispersed in an organic solvent (S100) The nanoparticles are dispersed in a solvent (S110) to form a solution, and the binder material is added to a solution in which the nanoparticles are dispersed (S120). Then, a charge additive is further added to the solution to charge the nanoparticles (S130) Next, the metal surface is coated by electrophoresis (S140) by applying a voltage in a state where the metal substrate is immersed in a solution (S140), and the coated metal substrate is dried at a room temperature or a high temperature condition (S150).

본 발명의 다른 구현 예에 따르면, 상기 코팅방법에 의해 금속 기판의 표면이 나노 입자로 코팅된 전기 영동법에 의해 부식 방지 코팅된 금속 기판을 제공한다.
According to another embodiment of the present invention, there is provided a metal substrate which is coated with nanoparticles by electrophoresis on the surface of the metal substrate by the coating method.

상기 금속 기판은 냉연강판, 아연도금강판, 아연계 전기도금강판, 용융아연도금강판, 알루미늄도금강판, 코발트, 몰리브덴, 텅스텐, 니켈, 티탄, 알루미늄, 망간, 철 마그네슘, 주석, 동 또는 이들의 혼합물인 불순물 또는 이종금속을 함유한 도금층을 가지는 도금강판, 실리콘, 동 마그네슘, 철, 망간, 티탄, 아연 또는 이들의 혼합물을 첨가한 알루미늄 합금도금강판, 인산염이 도포된 아연도금강판, 크롬처리강판, 내지문 강판, 희토류 표면처리 강판, 냉연강판 및 열연강판으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
The metal substrate may be at least one selected from the group consisting of a cold rolled steel plate, a galvanized steel plate, a galvanized electroplated steel plate, a hot dip galvanized steel plate, an aluminum coated steel plate, cobalt, molybdenum, tungsten, nickel, titanium, aluminum, manganese, Aluminum alloy plated steel sheet to which iron, manganese, titanium, zinc or a mixture thereof is added, a galvanized steel plate coated with phosphate, a chromium-treated steel plate, An inner fingerprint steel sheet, a rare earth surface treated steel sheet, a cold rolled steel sheet and a hot rolled steel sheet.

이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시에 불과하며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of specific examples. The following examples are provided to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예Example

[실시예 1][Example 1]

광 촉매 나노 입자로 TiO2를 사용하였고, 상기 나노 입자 주위에 수분을 제거하기 위하여 약 60℃ 조건에서 1일 이상 건조하였다.
TiO 2 was used as a photocatalyst nanoparticle, and the nanoparticles were dried at a temperature of about 60 ° C. for one day to remove moisture.

용매로 이소프로필 알코올 약 300g에 대전첨가제인 Phosphoric acid dibutyl ester를 약 0.01M 농도로 첨가하여 약 30분 동안 교반하였고, 이렇게 준비된 용액에 상기 건조된 TiO2 나노 입자를 10g 투입하였고, 그 후, 균일한 분산을 위하여 700 Watt 초음파 분산기를 이용하여 1시간 동안 초음파 분산을 시행하였다.
Phosphoric acid dibutyl ester as a charge additive of about 0.01 M was added to about 300 g of isopropyl alcohol as a solvent and stirred for about 30 minutes. 10 g of the dried TiO 2 nanoparticles were added to the prepared solution, For dispersion, ultrasonic dispersion was performed for 1 hour using a 700 Watt ultrasonic disperser.

또 코팅층의 밀착성 개선을 위해 바인더 물질로 polyvinyl butyral를 약 3g 투입하였고, 제조된 코팅 용액을 1일 동안 교반하여 안정화하였다.
To improve the adhesion of the coating layer, about 3 g of polyvinyl butyral was added as a binder material. The coating solution was stabilized by stirring for 1 day.

부식 방지를 위해 코팅하고자 하는 스테인리스 스틸 시편을 음극에 두고, 상대전극을 양극에 둔 뒤, 시편 간격을 약 15 mm로 하여 전압을 약 30V 가하였다. 총 전압이 가해진 시간은 1분이었고, 코팅이 적용된 시편은 60℃ 오븐에서 1시간 동안 건조하였다.
In order to prevent corrosion, a stainless steel specimen to be coated was placed on a negative electrode, a counter electrode was placed on an anode, and a voltage of about 30 V was applied with a specimen interval of about 15 mm. The total voltage was applied for 1 minute, and the coated specimen was dried in a 60 ° C oven for 1 hour.

그 후, 건조된 시편의 표면 코팅층의 균일도를 확인하기 위해 금속 시편의 표면 사진을 도 2의 (a)에 도시하였고, 보다 정밀한 검토를 위하여 전자 현미경으로 코팅층을 관찰한 사진을 도 3의 (a)에 나타내었다.
Thereafter, a photograph of the surface of the metal specimen is shown in Fig. 2 (a) for the sake of confirming the uniformity of the surface coating layer of the dried specimen, and a photograph of the coating layer observed by the electron microscope for more precise examination is shown in Fig. 3 ).

이때, 상기 phosphoric acid dibutyl ester는 도쿄 케미컬 인더스트리(Tokyo Chemical Industry)의 제품을 이용하였고, TiO2 나노 입자는 Degussa P-25 (Evonik Industries) 를 이용하였으며, 입자 크기는 약 25nm 였다.
At this time, the phosphoric acid dibutyl ester was a product of Tokyo Chemical Industry, the TiO 2 nanoparticles were Degussa P-25 (Evonik Industries), and the particle size was about 25 nm.

[실시예 2][Example 2]

광 촉매 나노 입자로 TiO2 및 광 전자 저장 나노 입자로 WO3를 사용하여 실시예 1과 동일한 조건으로 건조한 뒤, TiO2의 함량이 80중량%, WO3의 함량이 20 중량%가 되도록 배합하고 이를 실시예 1과 같이 대전 첨가제가 첨가된 용액에 약 10g을 투입하여 분산하였다.
TiO 2 as the photocatalyst nanoparticles and WO 3 as the photoelectron-stored nanoparticles were dried under the same conditions as in Example 1, and then mixed so that the content of TiO 2 was 80 wt% and the content of WO 3 was 20 wt% This was dispersed by adding about 10 g to the solution containing the charge additive as in Example 1.

금속 시편 코팅을 위해 이루어지는 과정 및 나노 입자의 종류 외에 나머지 구성은 실시예 1과 동일하며, 금속 시편 표면 코팅층의 균일도를 확인하기 위하여, 그 표면 사진을 도 2의 (b)에 도시하였고, 보다 정밀한 검토를 위하여 전자 현미경으로 코팅층을 관찰한 사진을 도 3 의 (b)에 나타내었다.
The rest of the configuration except for the process for forming the metal specimen coating and the kind of the nanoparticles is the same as in Example 1. In order to confirm the uniformity of the surface coating layer of the metal specimen, the surface photograph thereof is shown in FIG. 2 (b) FIG. 3 (b) shows a photograph of the coating layer observed with an electron microscope for the purpose of review.

또한, WO3 나노 입자는 디토 테크롤로지 (Ditto technology Co., Ltd.)를 사용하였으며, 입자크기는 약 90 nm 였다.
The WO 3 nanoparticles were Ditto technology Co., Ltd., and the particle size was about 90 nm.

[실시예 3][Example 3]

실시예 2와 동일한 조건 하에 금속 시편의 표면 코팅을 수행하되, 전기영동 코팅용액에 포함된 나노 입자는 TiO2의 함량이 60중량%, WO3의 함량이 40 중량%가 되도록 배합된 것을 사용하였다.
The surface of the metal specimen was coated under the same conditions as in Example 2 except that the nanoparticles contained in the electrophoresis coating solution were compounded such that the content of TiO 2 was 60 wt% and the content of WO 3 was 40 wt% .

금속 시편의 표면 사진을 도 2의 (c)에 도시하였고, 전자 현미경으로 코팅층을 관찰한 사진은 도 3의 (c)에 나타내었다.
A photograph of the surface of the metal specimen is shown in FIG. 2 (c), and a photograph of the coating layer observed by the electron microscope is shown in FIG. 3 (c).

[실시예 4][Example 4]

실시예 2와 동일한 조건 하에 금속 시편의 표면 코팅을 수행하되, 전기영동 코팅용액에 포함된 나노 입자는 TiO2의 함량이 40중량%, WO3의 함량이 60중량%가 되도록 배합된 것을 사용하였다.
The surface of the metal specimen was coated under the same conditions as in Example 2 except that the nanoparticles contained in the electrophoresis coating solution were blended so that the content of TiO 2 was 40 wt% and the content of WO 3 was 60 wt% .

금속 시편의 표면 사진을 도 2의 (d)에 도시하였고, 전자 현미경으로 코팅층을 관찰한 사진은 도 3의 (d)에 나타내었다.
A photograph of the surface of the metal specimen is shown in FIG. 2 (d), and a photograph of the coating layer observed by the electron microscope is shown in FIG. 3 (d).

도 2는 본 발명의 광 활성 부식 방지 코팅액을 전기 영동법에 의해 코팅한 금속 시편의 표면 사진을 도시한 것으로, 실시예 1 내지 4에 따른 (a) 내지 (d)를 보면, 모두 표면 결함 없이 나노 입자가 금속 시편 표면에 균일하게 코팅된 것을 알 수 있었다.
FIG. 2 is a photograph of a surface of a metal specimen coated with the photoactive corrosion inhibiting coating solution of the present invention by electrophoresis. From (a) to (d) according to Examples 1 to 4, The particles were uniformly coated on the surface of the metal specimen.

도 3은 본 발명의 광 활성 부식 방지 코팅액을 전기 영동법에 의해 코팅한 금속 시편의 표면을 전자 현미경으로 관찰 한 사진을 나타낸 것이다.도 3을 보면 실시예 1 내지 4에 따른 (a) 내지 (d)를 보면, 모두 입자가 균일하게 시편의 표면에 코팅되었음을 확인할 수 있었고, (b) 내지 (d)의 경우, TiO2 와 WO3 나노 입자가 복합 코팅되었으나, 동종 입자끼리 뭉침이 많이 없이 균일한 분포로 입자가 강판에 코팅되었음을 확인할 수 있었다.
3 is a photograph of a surface of a metal specimen coated with the photoactive corrosion inhibiting coating solution of the present invention by an electrophoretic observation with an electron microscope. Fig. 3 shows (a) to (d In the case of (b) to (d), TiO 2 and WO 3 nanoparticles were coated as a composite, but homogeneous particles were not uniformly clumped together As a result, it was confirmed that the particles were coated on the steel sheet.

[실험예 1 내지 4][Experimental Examples 1 to 4]

실시예 1 내지 4에서 코팅된 금속 시편을 3.5 wt.% NaCl수용액에 침지하여, 태양 광원의 일종인 UV 영역의 빛을 조사하다가 멈췄을 때, 금속 시편의 전기화학 포텐셜 변화를 측정하여 도 4에 그래프로 도시하였다.
When the coated metal specimens of Examples 1 to 4 were immersed in an aqueous solution of 3.5 wt.% NaCl and irradiated with light in the UV region, which is a kind of solar light source, the electrochemical potential changes of the metal specimens were measured, Respectively.

단, 상기 도 4에 있어서, (a)는 실시예 1에서의 TiO2 함량이 100%인 코팅용액으로 코팅된 금속 시편을 사용하여 실험한 그래프를 도시한 것이고, (b)는 실시예 2에서 TiO2 함량이 80%, WO3 함량이 20%, (c)는 실시예 3에서 TiO2 함량이 60%, WO3 함량이 40%, (d)는 실시예 4에서 TiO2 함량이 40%, WO3 함량이 60%로 이루어진 코팅용액으로 코팅된 금속 시편을 사용하여 실험한 결과를 나타낸 그래프이다.
4 (a) is a graph showing a graph of an experiment using a metal specimen coated with a coating solution having a TiO 2 content of 100% in Example 1, and (b) TiO 2 content of 80% and WO 3 content of 20%, (c) TiO 2 content of 60% and WO 3 content of 40% in Example 3, (d) TiO 2 content of 40% And a WO 3 content of 60%. The graph of FIG.

도 4를 보면, 금속 시편에 UV를 조사하였을 때, 전기화학 포텐셜이 기준 전극대비 약 -0.7 V까지 내려간 것을 볼 수 있다. 이는 기판으로 사용한 스테인레스 스틸의 부식 전압보다 낮은 값으로 코팅 층으로부터 광전자가 이동되어 금속이 보호 되고 있음을 나타낸다.
Referring to FIG. 4, when the metal specimen is irradiated with UV, the electrochemical potential is lowered to about -0.7 V compared to the reference electrode. This indicates that the photoelectrons are transferred from the coating layer to the metal at a lower value than the corrosion voltage of the stainless steel used as the substrate.

그 후, UV 빛 조사를 멈췄을 때, 즉, (a)의 그래프를 보면, 코팅 금속 시편의 전기화학 포텐셜은 -0.7 V에서 기판은 부식 전압인 -0.2V로 다시 되돌아가는 것을 볼 수 있다. 코팅된 금속 시편의 전기 화학 포텐셜이 -0.2V에 이르렀을 때는, 코팅층으로부터 금속이 전자를 공급받지 못하고 있기 때문에 부식으로부터 보호받을 수 없다.
Thereafter, when the UV light irradiation is stopped, that is, in the graph of FIG. 3A, it can be seen that the electrochemical potential of the coated metal specimen returns to -0.2 V, which is the corrosion voltage at -0.7 V. When the electrochemical potential of the coated metal specimen reaches -0.2 V, the metal can not be protected from corrosion because the metal does not receive electrons from the coating layer.

하지만, 실시예 2 내지 4에서와 같이 WO3 입자를 복합화하였을 때, 즉 (b) 내지 (d)의 그래프는, 포텐셜을 회복속도가 늦어져서 더 오랫동안 부식으로부터 보호받을 수 있음을 알 수 있다. 이는 생성된 광전자가 WO3에 저장 되었다가 UV 빛 조사가 멈추었을 때, 서서히 광전자를 금속쪽으로 전달하여 금속을 부식으로부터 보호하기 때문이다.
However, when the WO 3 particles are complexed as in Examples 2 to 4, that is, the graphs (b) to (d) show that the potential is restored at a slower speed and can be protected from corrosion for a longer period of time. This is because when the generated photoelectron is stored in WO 3 and the UV light is stopped, the photoelectron is slowly transferred to the metal to protect the metal from corrosion.

이러한 원리를 적용하면 금속이 태양광이 존재하는 낮과 태양광이 존재 하지 않는 밤에 언제든지 부식으로부터 보호될 수 있음을 알 수 있다.
Applying this principle, it can be seen that metals can be protected from corrosion at any time during the day when there is sunlight and when there is no sunlight.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be obvious to those of ordinary skill in the art.

Claims (12)

나노 입자를 포함하는 광 활성 부식 방지 코팅액을 금속 기판에 가한 뒤, 전압을 가하여 전기 영동법으로 금속 기판의 표면에 나노 입자를 코팅하는 단계를 포함하는 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
Applying a photoactive corrosion inhibiting coating liquid containing nanoparticles to a metal substrate, and applying a voltage to the nanoparticles to coat the nanoparticles on the surface of the metal substrate by electrophoresis.
제1항에 있어서, 상기 광 활성 부식 방지 코팅액은,
광 촉매 나노 입자를 용매에 분산하여 나노 입자가 분산된 용액을 형성하는 단계;
상기 나노 입자가 분산된 용액에 대전 첨가제를 첨가하여 상기 나노 입자를 대전하는 단계; 및
상기 나노 입자가 대전된 용액에 바인더를 첨가하는 단계를 포함하는 광 활성 부식 방지 코팅액을 형성하는 방법으로 제조된 것인 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
The photoactive anticorrosion coating liquid according to claim 1,
Dispersing the photocatalyst nanoparticles in a solvent to form a solution in which the nanoparticles are dispersed;
Adding a charge additive to a solution in which the nanoparticles are dispersed to charge the nanoparticles; And
And a step of adding a binder to the nanoparticle-charged solution to form a photoactive anti-corrosion coating liquid.
제2항에 있어서, 상기 나노 입자가 분산된 용액을 형성하는 단계는 광 촉매 나노 입자와 함께 광 전자 저장 나노 입자도 추가로 용매에 분산하는 것을 특징으로 하는 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
[3] The method of claim 2, wherein the forming of the nanoparticle-dispersed solution comprises dispersing photo-electron-storing nanoparticles together with the photocatalyst nanoparticles in a solvent. Way.
제2항에 있어서, 상기 광 활성 부식 방지 코팅액은 용매 100 중량부에 대하여, 광 촉매 나노입자 1~80 중량부, 바인더 1~20 중량부 및 대전 첨가제 0.000001~1 중량부를 포함하는 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
The photoactive anti-corrosion coating liquid according to claim 2, wherein the photoactive corrosion inhibiting coating liquid is prepared by an electrophoresis method comprising 1 to 80 parts by weight of photocatalyst nanoparticles, 1 to 20 parts by weight of a binder, and 0.000001 to 1 part by weight of a charge additive, A method of coating corrosion resistant metal substrates.
제4항에 있어서, 상기 광 활성 부식 방지 코팅액은 용매 100 중량부에 대하여, 광 전자 저장 나노 입자 1~80 중량부를 추가로 포함하는 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
5. The method of claim 4, wherein the photoactive corrosion inhibiting coating liquid further comprises 1 to 80 parts by weight of photoelectron storage nanoparticles per 100 parts by weight of the solvent.
제2항에 있어서, 상기 광 촉매 나노 입자는 타이타늄 옥사이드(TiO2), 징크 옥사이드 (ZnO2), 지르코니움 옥사이드(ZrO2), 바리움 티타네이트(BaTiO3), 바나디움 옥사이드(V2O5), 아이론 옥사이드(Fe2O3), 스트론티움 타이타네이트(SrTiO3), 크로미움 옥사이드(Cr2O3), 카트뮴 설피드(CdS), 벨리륨 옥사이드 (BeO), 비스무스 옥사이드(Bi2O3), 칼시움 옥사이드(CaO), 카드뮴 옥사이드 (CdO), 코발트 옥사이드(Co3O4), 갈리움 옥사이드(Ga2O3), 겔르마니움 옥사이드 (GeO2), 임디움 옥사이드(In2O3), 망가니즈 옥사이드(Mn3O4), 니켈 옥사이드 (NiO), 안티모니 옥사이드(Sb2O3), 실리콘 옥사이드(SiO2), 스트론티움 옥사이드 (SrO), 탄탈륨 옥사이드(Ta2O3) 및 이트리움 옥사이드(Y2O3)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
The photocatalyst nanoparticle of claim 2, wherein the photocatalyst nanoparticles are selected from the group consisting of TiO 2 , ZnO 2 , ZrO 2 , BaTiO 3 , V 2 O 5, ), Iron oxide (Fe 2 O 3 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), cadmium sulfide (CdS), beryllium oxide (BeO), bismuth oxide Bi 2 O 3), calcineurin Titanium oxide (CaO), cadmium oxide (CdO), cobalt oxide (Co 3 O 4), go Solarium oxide (Ga 2 O 3), gelreu Mani Titanium oxide (GeO 2), Im Stadium oxide (In 2 O 3), manganese oxide (Mn 3 O 4), nickel oxide (NiO), antimony oxide (Sb 2 O 3), silicon oxide (SiO 2), strontium oxide (SrO), tantalum oxide (Ta 2 O 3 ) and yttrium oxide (Y 2 O 3 ). / RTI >
제3항에 있어서, 상기 광 전자 저장 나노 입자는 텅스텐 옥사이드(WO3), 틴 옥사이드(SnO2), 란타늄 옥사이드(La2O3), 코퍼 옥사이드(Cu2O), 몰리브데늄 옥사이드(MoO3), 세리움 옥사이드 (CeO2), 탄소 나노 튜브 및 그래핀으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
The method of claim 3, wherein the photoelectron storage nanoparticles are selected from the group consisting of tungsten oxide (WO 3 ), tin oxide (SnO 2 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), copper oxide (Cu 2 O), molybdenum oxide 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), carbon nanotubes, and graphene.
제2항에 있어서, 상기 대전 첨가제는 산, 염기, 무기 양이온, 무기 음이온, 유기 인 화합물, 유기 유황 화합물, 카르복실레이트 화합물 및 고분자 전해질로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
The electrophotographic method according to claim 2, wherein the charge additive is at least one selected from the group consisting of an acid, a base, an inorganic cation, an inorganic anion, an organic phosphorus compound, an organic sulfur compound, a carboxylate compound, / RTI >
제2항에 있어서, 상기 바인더는 알키드 수지(alkyd resin), 니트로셀룰로오스(nitrocellulose), 탈지된 셸락(dewaxed shellac), 폴리비닐 부티랄(polyvinyl butyral), 폴리비닐 알코올(polyvinyl alcohol), 에틸 셀룰로오스(ethyl cellulose), 폴리아크릴아마이드(polyacrylamide), 폴리실리케이트(polysilicate), 폴리포스페이트(polyphosphate), 폴리보레이트(polyborate), 이온성 에폭시 수지 (ionic epoxy resin), 이온성 아크릴 수지(ionic acrylic ionic resin) 및 이온성 아미노 수지(ionic amino resin)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상인 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
The method of claim 2, wherein the binder is selected from the group consisting of alkyd resin, nitrocellulose, dewaxed shellac, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, ethylcellulose but are not limited to, ethyl cellulose, polyacrylamide, polysilicate, polyphosphate, polyborate, ionic epoxy resin, ionic acrylic ionic resin, Ionic amino resin. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI >
제1항에 있어서, 상기 전기 영동법은 1 내지 400V의 전압을 가하여, 1 내지 300초 동안 수행되는 전기 영동법에 의한 금속 기판의 부식 방지 코팅방법.
The method of claim 1, wherein the electrophoresis method is performed by applying a voltage of 1 to 400 V for 1 to 300 seconds.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 코팅방법에 의해 금속 기판의 표면이 나노 입자로 코팅된 전기 영동법에 의해 부식 방지 코팅된 금속 기판.
A metal substrate which is coated with nanoparticles by electrophoresis on the surface of the metal substrate by the coating method according to any one of claims 1 to 10.
제11항에 있어서, 상기 금속 기판은 냉연강판, 아연도금강판, 아연계 전기도금강판, 용융아연도금강판, 알루미늄도금강판, 코발트, 몰리브덴, 텅스텐, 니켈, 티탄, 알루미늄, 망간, 철 마그네슘, 주석, 동 또는 이들의 혼합물인 불순물 또는 이종금속을 함유한 도금층을 가지는 도금강판, 실리콘, 동 마그네슘, 철, 망간, 티탄, 아연 또는 이들의 혼합물을 첨가한 알루미늄 합금도금강판, 인산염이 도포된 아연도금강판, 크롬처리강판, 내지문 강판, 희토류 표면처리 강판, 냉연강판 및 열연강판으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상인 전기 영동법에 의해 부식 방지 코팅된 금속 기판.
The metal substrate according to claim 11, wherein the metal substrate is at least one selected from the group consisting of a cold-rolled steel sheet, a galvanized steel sheet, a galvanized electroplated steel sheet, a hot-dip galvanized steel sheet, an aluminum-coated steel sheet, cobalt, molybdenum, tungsten, nickel, Coated steel sheet having a plating layer containing an impurity or a dissimilar metal, which is a copper or a mixture thereof, silicon, copper magnesium, iron, manganese, titanium, zinc or an aluminum alloy plated steel sheet to which a mixture thereof is added, A metal substrate coated with an anti-corrosive coating by electrophoresis, the at least one member selected from the group consisting of a steel sheet, a chromium-treated steel sheet, an inner fingerprint steel sheet, a rare earth surface-treated steel sheet, a cold rolled steel sheet and a hot rolled steel sheet.
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