KR20140141112A - Anisotropic conductive film, the composition thereof and the display device using thereof - Google Patents

Anisotropic conductive film, the composition thereof and the display device using thereof Download PDF

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Abstract

The present invention relates to an anisotropic conductive film, a composition thereof, and a display device using the same, and more specifically, to an anisotropic conductive film including conductive particles where surfaces of metal core particles are coated with silver (Ag), wherein a viscosity range of the anisotropic conductive film at 30 °C is 100,000 to 1,000,000 Pa·s according to ARES measurement and the lowest melting viscosity range is 1,000 to 9,000 Pa·s. The present invention can prevent signal interference even in a micro pitch electrode as connection resistance is low, and can be used in low temperature and high temperature connection processes.

Description

이방성 도전 필름, 이의 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, THE COMPOSITION THEREOF AND THE DISPLAY DEVICE USING THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an anisotropic conductive film, a composition thereof, and a display device using the same. ≪ Desc / Clms Page number 1 >

본 발명은 이방성 도전 필름, 이의 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film, a composition thereof and a display device using the same.

이방성 도전 필름 (Anisotropic conductive film, ACF)이란 일반적으로 도전 입자를 에폭시 등의 수지에 분산시킨 필름 형상의 접착제를 말하는 것으로, 필름의 막 두께 방향으로는 도전성을 띠고 면 방향으로는 절연성을 띠는 전기 이방성 및 접착성을 갖는 고분자 막을 의미한다.Anisotropic conductive film (ACF) generally refers to a film-shaped adhesive in which conductive particles are dispersed in a resin such as an epoxy resin, and is an electrically conductive film having electrical conductivity in the thickness direction of the film, Means a polymer membrane having anisotropy and adhesion.

상기 이방성 도전 필름을 접속시키고자 하는 회로 사이에 위치시킨 후 일정 조건 하에서 가열 및 가압 공정을 거치게 되면, 회로 단자들 사이는 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되고 인접하는 전극 사이에는 절연성 접착 수지가 충진되어 도전성 입자가 서로 독립하여 존재하게 됨으로써 높은 절연성을 부여하게 된다.When the anisotropic conductive film is placed between the circuit to be connected and subjected to a heating and pressing process under a certain condition, the circuit terminals are electrically connected by the conductive particles, and the insulating adhesive resin is filled between the adjacent electrodes The conductive particles are allowed to exist independently of each other, thereby giving high insulating properties.

그런데 최근 대형화 및 박형화 추세에 있는 디스플레이 산업의 경향에 따라 전극 및 회로들 간의 피치 또한 점차 미세화되고 있으며, PCB 패턴별 방열효과에 의해 온도편차가 심하게 발생하고 있어, 종래의 이방성 도전 필름으로는 이러한 미세 회로 단자들을 접속하는데 한계를 보이고 있다.However, pitches between electrodes and circuits are gradually becoming finer in accordance with trends of the display industry, which is in the trend of becoming larger and thinner in recent years, and a temperature deviation is seriously generated due to the heat radiation effect of each PCB pattern. Circuit terminals.

또한, 배선의 미세화로 인해 이방성 도전 필름에 사용되는 도전입자의 미세화 및 입경 정밀도를 향상이 필요하며, 우수한 접속 신뢰성 및 절연 신뢰성을 확보할 수 있는 이방성 도전 필름에 대한 요구가 커지고 있고, 고 전력화로 인한 미세 피치 전극의 신호 간섭을 막기 위해 저항을 낮추는 접속 재료가 개발이 필요한 실정이다.Further, there is a growing demand for anisotropic conductive films which are required to improve the fineness of the conductive particles used in the anisotropic conductive film and to improve the particle diameter accuracy due to miniaturization of the wiring, and to secure excellent connection reliability and insulation reliability. It is necessary to develop a connecting material that lowers resistance in order to prevent signal interference of the fine pitch electrode due to such a phenomenon.

대한민국 공개특허 제10-2011-0074321호(2011.06.30 공개)Korean Patent Publication No. 10-2011-0074321 (published on June 30, 2011)

따라서 본 발명은 초기 접속저항, 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후 접속저항이 우수한 이방성 도전 필름, 이의 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치를 제공하고자 한다. Accordingly, the present invention is to provide an anisotropic conductive film having excellent initial connection resistance, high temperature and high humidity evaluation, and excellent connection resistance after thermal shock evaluation, a composition thereof, and a display device using the same.

구체적으로 ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위 및 최저 용융 점도 범위를 한정함과 동시에 금속 코어 입자 표면에 은을 코팅한 도전입자를 포함하여, 저온공정과 고온공정(100 ℃ 내지 250 ℃) 등 넓은 온도 마진에서의 접속저항이 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름, 이의 조성물 및 이를 이용한 디스플레이 장치를 제공하고자 한다.Specifically, the anisotropic conductive film according to the ARES measurement includes conductive particles having a viscosity range of 30 占 폚 and a minimum melt viscosity range and coated with silver on the surface of the metal core particles, and the low temperature process and the high temperature process ) And a connection resistance at a wide temperature margin of 0.04? Or less, a composition thereof, and a display device using the same.

본 발명의 일 예에 따르면, ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s이며, 금속 코어 입자 표면에 은(Ag)을 코팅한 도전 입자를 포함하는 이방성 도전 필름을 제공한다.According to one embodiment of the present invention, the anisotropic conductive film according to the ARES measurement has a viscosity range of 30 to 100,000 Pa · s at 30 ° C., a minimum melt viscosity range of 1,000 to 9,000 Pa · s, (Ag) is coated on the surface of the anisotropic conductive film.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및 100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후에 측정된 초기 접속저항이 상기 100 내지 250℃의 본압착 온도 조건 모두에서 0.04 Ω 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름을 제공한다.According to another example of the present invention, an anisotropic conductive film is placed between a first member to be connected and a second member to be connected and pressure-bonded under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And an initial connection resistance measured after final compression under the pressure conditions of 100 to 250 DEG C for 1 to 5 seconds and 2.0 to 5.0 MPa is 0.04 or less in both of the main compression temperature conditions of 100 to 250 DEG C to provide.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및 100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후, 상기 이방성 도전 필름을 85 ℃ 및 상대습도 85 %의 조건 하에서 250시간 및 500시간 동안 방치한 고온 고습 평가 후의 접속저항이 각각 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름을 제공한다.According to another example of the present invention, an anisotropic conductive film is placed between a first member to be connected and a second member to be connected and pressure-bonded under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And after the main compression under the pressure conditions of 100 to 250 DEG C for 1 to 5 seconds and 2.0 to 5.0 MPa, the anisotropic conductive film was allowed to stand for 250 hours and 500 hours under the conditions of 85 DEG C and 85% And the resistance is 0.04? Or less, respectively.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및 100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후, 상기 이방성 도전 필름을 -40 내지 100 ℃ 및 1 사이클/hr 조건 하에서 250 사이클 및 500 사이클 조건의 열충격 평가 후 접속저항이 각각 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름을 제공한다.According to another example of the present invention, an anisotropic conductive film is placed between a first member to be connected and a second member to be connected and pressure-bonded under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And after the main compression under the pressure conditions of 100 to 250 ° C for 1 to 5 seconds and 2.0 to 5.0 MPa, the anisotropic conductive film is subjected to thermal shock evaluation at 250 cycles and 500 cycles under the conditions of -40 to 100 ° C and 1 cycle / And the resistance is 0.04? Or less, respectively.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 열가소성 수지 1 내지 25 중량%; 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 20 내지 70 중량%; 아크릴 공중합체 10 내지 30 중량%; 라디칼 중합성 물질 1 내지 40 중량%; 유기과산화물 0.5 내지 10 중량%; 무기 입자 0.1 내지 20 중량%; 및 금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자 0.1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름 및 이의 조성물을 제공한다.According to another embodiment of the present invention, an anisotropic conductive adhesive layer comprises 1 to 25% by weight of a thermoplastic resin based on the total weight of the solid or adhesive layer composition; 20 to 70% by weight of an acrylate modified urethane resin; 10 to 30% by weight of an acrylic copolymer; 1 to 40% by weight of a radically polymerizable substance; 0.5 to 10% by weight of an organic peroxide; 0.1 to 20% by weight of inorganic particles; And 0.1 to 20% by weight of conductive particles silver-coated on the surface of the metal core particles, and a composition thereof.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 드라이버 회로; 패널; 및 본 발명의 일 실시예에 따른 이방성 도전 필름;을 포함하는, 디스플레이 장치를 제공한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a driver circuit comprising: a driver circuit; panel; And an anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이며, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s이고, 금속 코어 입자 표면에 은(Ag)을 코팅한 도전 입자를 포함하여, 저온공정과 고온공정(100 ℃ 내지 250 ℃) 등 넓은 온도 마진에서 초기 접속저항, 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후의 접속저항이 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름을 제조하여, 미세 피치 전극의 신호 간섭을 막을 수 있을 뿐만 아니라, 저온에서의 압착이 용이하며, 상기 이방성 도전 필름의 제품 안정성을 개선하는 효과를 나타낸다.According to the present invention, the anisotropic conductive film according to the ARES measurement has a viscosity range of 30 to 100,000 Pa · s at 30 ° C., a minimum melt viscosity range of 1,000 to 9,000 Pa · s, and silver (Ag) An anisotropic conductive film having a connection resistance of not more than 0.04? After an initial connection resistance, a high-temperature high-humidity evaluation, and a thermal shock evaluation after a low-temperature process and a high-temperature process (100 ° C to 250 ° C) Signal interference of the pitch electrode can be prevented, compression at a low temperature is easy, and the product stability of the anisotropic conductive film is improved.

도 1은 본 발명의 최저 용융 점도 및 이의 측정 방법을 설명하기 위한 개념도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이방성 도전 필름의 ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위 및 온도 70 내지 85 ℃에서의 최저 용융 점도 범위를 나타낸 것이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 이방성 도전 필름 제품 안정성을 판단하기 위한 참고 이미지 자료이다.
1 is a conceptual diagram for explaining a minimum melt viscosity and a measuring method thereof according to the present invention.
Fig. 2 shows the viscosity range of the anisotropic conductive film according to the ARES measurement of the anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention, and the range of the lowest melt viscosity at a temperature of 70 to 85 캜.
3A and 3B are reference image data for determining the stability of an anisotropic conductive film product according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명한다. 본 명세서에 기재되지 않은 내용은 본 발명의 기술 분야 또는 유사 분야에서 숙련된 자이면 충분히 인식하고 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail. Those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions, and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims.

본 발명의 일 예에 따르면, ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s이며, 금속 코어 입자 표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전 입자를 포함하는 이방성 도전 필름일 수 있다.According to one example of the present invention, the anisotropic conductive film according to the ARES measurement has a viscosity range of 30 to 100,000 Pa · s at 30 ° C., a minimum melt viscosity range of 1,000 to 9,000 Pa · s, Or an anisotropic conductive film containing conductive particles coated with silver (Ag).

일반적으로 접착제의 온도를 올리면 초기(A1 구간)에서는 온도 상승에 의해 점도가 점차 감소하게 되며, 어느 순간(T0)에 이르면 접착제는 용융되어 최저의 점도(η0)를 나타내게 된다. 이후 온도를 더 올리게 되면 경화가 진행되어(A2 구간) 점도가 점차 상승하게 되며, 경화가 완료되면(A3 구간) 점도는 대체로 일정하게 유지되게 된다. 상기 온도 T0에서의 점도 η0는 "최저 용융 점도"를 의미한다(도 1 참조).In general, raising the temperature of the adhesive and the viscosity is the temperature rise by the initial (A 1 section) gradually decreases, reaches a certain moment (T 0) is melted adhesive is exhibits a viscosity (η 0) of the lowest. When the temperature is further increased, the curing progresses (A 2 section) and the viscosity gradually increases. When the curing is completed (A 3 section), the viscosity is kept substantially constant. The viscosity at the temperature T 0 η 0 means "lowest melt viscosity" (see Fig. 1).

본 발명에서의 "ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위"는ARES(Advanced Rheometric Expansion System)를 이용하여 이방성 도전 필름의 온도가 30 ℃일 때 측정한 이방성 도전 필름의 점도 범위를 의미하며, "최저 용융 점도"란, ARES를 이용하여 측정한 해당 필름의 용융 점도값 중 가장 낮은 용융 점도값을 의미한다. 본 발명의 이방성 도전 필름의 상기 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s 인 이방성 도전 필름은, 상기 점도 범위 내에서 저온에서의 압착이 용이하며, 필름의 안정성을 개선할 수 있다. 이 때, 상기 최저 용융 점도를 나타내는 온도 범위는 70 내지 85 ℃일 수 있고, 상기 온도에서 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s일 수 있으나, 바람직하게는 3,000 내지 7,000 Pa·s일 수 있고, 보다 바람직하게는 3,500 내지 5,000 Pa·s일 수 있다.The " viscosity range of 30 占 폚 of the anisotropic conductive film according to ARES measurement "in the present invention means the viscosity range of the anisotropic conductive film measured when the temperature of the anisotropic conductive film is 30 ° C using ARES (Advanced Rheometric Expansion System) , The "lowest melt viscosity" means the lowest melt viscosity value among the melt viscosity values of the film measured using ARES. The anisotropic conductive film having the viscosity range of 30 to 100,000 Pa · s and the lowest melt viscosity of 1,000 to 9,000 Pa · s of the anisotropic conductive film of the present invention can be obtained by compression at a low temperature within the above- And the stability of the film can be improved. In this case, the temperature range indicating the lowest melt viscosity may be 70 to 85 ° C, and the lowest melt viscosity range at this temperature may be 1,000 to 9,000 Pa · s, preferably 3,000 to 7,000 Pa · s , And more preferably from 3,500 to 5,000 Pa · s.

상기 30 ℃ 점도 범위 및 최저 용융 점도 범위를 가지는 이방성 도전 필름은 은이 코팅된 금속 코어 입자를 사용하여 저온공정과 고온공정(100 ℃ 내지 250 ℃) 등 넓은 온도 마진에서 초기 접속저항, 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후의 접속저항이 0.04 Ω 이하를 나타내어, 미세 피치 전극의 신호 간섭을 막을 수 있다. 상기 ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위 및 최저 용융 점도 측정방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법에 따라 측정할 수 있다. 상기 30 ℃ 점도 범위 및 최저 용융 점도를 측정하는 방법의 비제한적인 예는 다음과 같다: ARES G2 레오미터(TA Instruments)를 이용하여, 샘플 두께 150 μm, 승온속도 10 ℃/분, 프리퀀시 10 rad/초로 30 내지 200 ℃ 구간에서 이방성 도전 필름의 점도를 측정한다.The anisotropic conductive film having the viscosity range of 30 占 폚 and the lowest melt viscosity range can be obtained by using silver coated metal core particles at an initial connection resistance at a wide temperature margin such as a low temperature process and a high temperature process (100 占 폚 to 250 占 폚) And the connection resistance after the evaluation of the thermal shock is 0.04? Or less, so that the signal interference of the fine pitch electrode can be prevented. The range of the viscosity at 30 캜 and the minimum melt viscosity of the anisotropic conductive film according to the ARES measurement is not particularly limited and can be measured according to a method commonly used in the art. A non-limiting example of the above 30 ° C viscosity range and the method of measuring the lowest melt viscosity is as follows: Using a ARES G2 rheometer (TA Instruments), a sample thickness of 150 μm, a heating rate of 10 ° C./minute, a frequency of 10 rad / Sec, the viscosity of the anisotropic conductive film is measured at 30 to 200 ° C.

금속 코어 입자Metal core particle

은으로 코팅될 수 있는 금속 코어 입자의 종류는 특별히 제한되지 아니하며, 도전성 있는 금속 입자라면 어느 것이든 사용할 수 있으나, 바람직하게는 금(Au), 니켈(Ni), 구리(Cu), 납(Pb), 백금(Pt), 몰리브데늄(Mo) 또는 텅스텐(W) 입자를 사용할 수 있고, 보다 바람직하게는 구리 입자를 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 금속 코어 입자의 입경은 특별히 제한되지 않으나, 적용되는 회로의 피치(pitch)에 의해 바람직하게는 1 내지 10 ㎛ 일 수 있고, 보다 바람직하게는 1 내지 8 ㎛일 수 있다. 상기 범위에서 접착력과 접속 신뢰성을 유지할 수 있다.The metal core particles that can be coated with silver are not particularly limited and any conductive metal particles can be used. Preferably, the metal core particles include gold (Au), nickel (Ni), copper (Cu) ), Platinum (Pt), molybdenum (Mo), or tungsten (W) particles can be used, and copper particles are more preferably used. The particle diameter of the metal core particles is not particularly limited, but may be preferably 1 to 10 μm, more preferably 1 to 8 μm, depending on the pitch of the applied circuit. Adhesion and connection reliability can be maintained within the above range.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 금속 코어 입자 표면이 은으로 코팅된 도전입자에 있어서, 바람직하게는 상기 은은 금속 코어 입자 표면 면적의 3 내지 100 %로 코팅될 수 있고, 보다 바람직하게는 상기 코팅된 은의 형상은 섬 형상(island)일 수 있다. 저온 압착시, 압착 부분의 플로우 상 간격을 줄이기 위해 상기와 같이 금속 코어 입자에 전도도가 높은 은을 코팅하여, 보다 적은 접촉 면적에서 신뢰성이 높은 이방성 도전 필름을 제조할 수 있다. 상기 은으로 코팅된 표면 면적을 측정하는 방법은 특별히 제한되지 아니하며, 본원발명의 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법을 사용할 수 있다. 은으로 코팅된 표면 면적을 측정하는 방법의 비제한적인 예는 다음과 같다: FE-SEM(Hitach, S-4800(Type-II))장비를 이용하여 10,000배의 비율로 도전입자 사진을 캡쳐한 후, 이미지 어널라이저 프로그램인 i-solution(IMT wchnology)으로 도전입자 한 개의 전체면적과 도전입자의 코팅된 면적을 사진의 명암을 이용하여 측정한다. 하기의 [수학식 1]을 이용하여 코팅된 면적 비율을 구한 후, 상기 코팅 면적 비율을 랜덤하게 측정한 10개의 값의 평균값을 취한다.According to another embodiment of the present invention, in the conductive particles coated with silver on the surface of the metal core particle, preferably, the silver may be coated with 3 to 100% of the surface area of the metal core particle, The shape of the coated silver may be islands. As described above, in order to reduce the flow-spacing of the pressed portion during low-temperature squeezing, highly reliable anisotropic conductive films can be manufactured with less contact area by coating the metal core particles with silver having high conductivity. The method of measuring the surface area coated with silver is not particularly limited and a method commonly used in the technical field of the present invention can be used. A non-limiting example of a method for measuring the surface area of a silver coated substrate is as follows: Photographing a conductive particle at a rate of 10,000 times using an FE-SEM (Hitach, S-4800 (Type-II) Then, the total area of one conductive particle and the coated area of the conductive particle are measured using the contrast of the image with an image analyzer program, i-solution (IMT wchnology). The area ratio of the coated area is calculated using the following formula (1), and then the average value of ten values obtained by randomly measuring the coating area ratio is taken.

[수학식 1][Equation 1]

코팅된 면적 비율(%) = (도전입자 한 개의 전체 면적 - 도전입자의 코팅된 면적)/도전입자 한 개의 전체 면적×100Coated area ratio (%) = (total area of one conductive particle - coated area of conductive particles) / total area of one conductive particle x 100

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s이며, 금속 코어 입자 표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전 입자를 포함하는 이방성 도전 필름은 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 열가소성 수지 1 내지 25 중량%; 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 20 내지 70 중량%; 아크릴 공중합체 10 내지 30 중량%; 라디칼 중합성 물질 1 내지 40 중량%; 유기과산화물 0.5 내지 10 중량%; 및 금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자 0.1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름일 수 있다.
According to another embodiment of the present invention, the anisotropic conductive film according to ARES measurement has a viscosity range of 30 to 100,000 Pa · s at 30 ° C., a minimum melt viscosity range of 1,000 to 9,000 Pa · s, The anisotropic conductive film comprising conductive particles coated with silver (Ag) may contain 1 to 25% by weight of a thermoplastic resin based on the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer solid or adhesive layer composition; 20 to 70% by weight of an acrylate modified urethane resin; 10 to 30% by weight of an acrylic copolymer; 1 to 40% by weight of a radically polymerizable substance; 0.5 to 10% by weight of an organic peroxide; And 0.1 to 20% by weight of silver-coated conductive particles on the surface of the metal core particles.

이하 본 발명의 일 실시예에 따른 이방성 도전 필름을 제조하기 위한 조성물에 대해 설명하도록 한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 이방성 도전 필름은 이방성 도전 접착층 및 상기 이방성 도전 접착층의 배면에 접착된 기재필름을 포함하며, 상기 접착층 및 상기 접착층을 형성하는 접착층 조성물은 열가소성 수지; 아크릴레이트 변성 우레탄 수지; 아크릴 공중합체; 라디칼 중합성 물질; 유기 과산화물; 무기입자 및 금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자를 포함할 수 있다.Hereinafter, a composition for producing an anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention will be described. An anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention includes an anisotropic conductive adhesive layer and a base film adhered to the back surface of the anisotropic conductive adhesive layer, wherein the adhesive layer and the adhesive layer composition for forming the adhesive layer comprise thermoplastic resin; Acrylate modified urethane resins; Acrylic copolymers; Radical polymeric materials; Organic peroxides; Inorganic particles and conductive particles coated with silver on the surfaces of the metal core particles.

바인더 수지Binder resin

본 발명에서 사용되는 바인더 수지는 특별히 제한되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 수지를 사용할 수 있다. The binder resin used in the present invention is not particularly limited, and resins commonly used in the art can be used.

본원에서 사용되는 상기 바인더 수지로는 열가소성 수지, 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 및 아크릴 공중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 상기 열가소성 수지는 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체일 수 있고, 상기 폴리우레탄 수지는 폴리우레탄 아크릴레이트일 수 있다.As the binder resin used in the present invention, one or more selected from the group consisting of a thermoplastic resin, an acrylate modified urethane resin and an acrylic copolymer may be used in combination. Preferably, the thermoplastic resin may be an acrylonitrile butadiene copolymer, and the polyurethane resin may be a polyurethane acrylate.

구체적으로는, 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 열가소성 수지 1 내지 25 중량%; 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 20 내지 70 중량%; 아크릴 공중합체 10 내지 30 중량%를 포함할 수 있다. 상기 함량 범위 내에서 본원발명이 목적하는 용융 점도를 나타낼 수 있으며, 우수한 필름 형성력 및 접착력을 확보할 수 있는 이점이 있다.Specifically, 1 to 25% by weight of a thermoplastic resin is added to the solid content of the anisotropic conductive adhesive layer or the total weight of the adhesive layer composition; 20 to 70% by weight of an acrylate modified urethane resin; And 10 to 30% by weight of an acrylic copolymer. It is possible to exhibit the intended melt viscosity of the present invention within the above-mentioned content range, and there is an advantage that excellent film forming ability and adhesion can be ensured.

이하, 상기 각 수지에 대하여 상술한다.Each resin will be described in detail below.

가. 열가소성 수지end. Thermoplastic resin

열가소성 수지로는 폴리에틸렌계, 폴리프로필렌계 등을 포함하는 올레핀계 수지, 부타디엔계 수지, 에폭시계 수지, 페녹시계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드 수지, 폴리에스테르계 수지, 실리콘계 수지, 아크릴로니트릴계 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체 등을 사용할 수 있으며, 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 보다 바람직하게는 부타디엔계 수지일 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include an olefin resin including polyethylene, polypropylene and the like, a butadiene resin, an epoxy resin, a phenoxy resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyester resin, a silicone resin, Based resin, a polyvinyl butyral resin, and an ethylene-vinyl acetate copolymer, which may be used alone or in combination of two or more. More preferably, it may be a butadiene-based resin.

상기 부타디엔계 수지로는 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체, 스티렌 부타디엔 공중합체, (메타)아크릴레이트-부타디엔 공중합체, (메타)아크릴레이트-아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체, 카르복실기 변성 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체 등이 사용될 수 있으며, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있고, 바람직하게는 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체일 수 있다. Examples of the butadiene resin include acrylonitrile-butadiene copolymer, styrene butadiene copolymer, (meth) acrylate-butadiene copolymer, (meth) acrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, carboxyl group denatured acrylonitrile -Butadiene copolymer, and the like, but not always limited thereto. These may be used singly or in combination of two or more, preferably acrylonitrile butadiene copolymers.

또한, 상기 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체의 중량평균분자량이 2,000 내지 200,000g/mol일 수 있고, 바람직하게는 3,000 내지 200,000g/mol일 수 있다. The weight average molecular weight of the acrylonitrile butadiene copolymer may be 2,000 to 200,000 g / mol, and preferably 3,000 to 200,000 g / mol.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 상기 열가소성 수지는 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 25 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 상기 접착층 조성물이 상분리되지 않도록 조성물의 안정성을 증가시키고, 접속 신뢰성이 양호하며, 극성 증가에 의해 접착력을 향상시킬 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the thermoplastic resin may be contained in an amount of 1 to 25% by weight, preferably 1 to 20% by weight, based on the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer solids or the adhesive layer composition. The stability of the composition is increased so that the adhesive layer composition is not phase-separated in the above range, the connection reliability is good, and the adhesive strength can be improved by increasing the polarity.

나. I. 아크릴레이트Acrylate 변성 우레탄 수지 Modified urethane resin

본 발명에 사용되는 상기 아크릴레이트 변성 우레탄 수지는 분자 사슬 내의 우레탄기에 의해 높은 접착력이 발현된다. 아크릴레이트 변성 우레탄 수지는 디이소시아네이트, 폴리올, 디올 및 아크릴레이트의 성분을 포함하여 이루어진다. 디이소시아네이트는 방향족, 지방족, 지환족 디이소시아네이트, 이들의 조합 등이 사용될 수 있다. 폴리올은 분자쇄 내에 2개 이상의 수산기를 가지는 폴리에스테르 폴리올, 폴리에테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올 등을 사용할 수 있다. 디올로는 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜 등을 사용할 수 있다. 아크릴레이트로는 하이드록시 아크릴레이트 또는 아민 아크릴레이트 등이 사용될 수 있다. The acrylate-modified urethane resin used in the present invention exhibits high adhesion by the urethane groups in the molecular chain. The acrylate modified urethane resin comprises components of diisocyanate, polyol, diol and acrylate. The diisocyanate may be aromatic, aliphatic, alicyclic diisocyanate, combinations thereof, or the like. The polyol may be a polyester polyol, a polyether polyol, a polycarbonate polyol, or the like having two or more hydroxyl groups in the molecular chain. Diols include 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, Glycol, tetraethylene glycol, and the like. As the acrylate, hydroxy acrylate or amine acrylate can be used.

상기 아크릴레이트 변성 우레탄 수지는 중량평균분자량이 1,000 내지 50,000 g/mol이고, 말단 관능기 중 한 개 이상이 아크릴레이트로 이루어질 수 있다. 상기 범위 내에서 말단 관능기에 존재하는 아크릴레이트기를 통하여 경화부의 아크릴레이트계들과 함께 경화 반응이 진행되어 경화부로서의 역할도 수행하게 되어 우수한 접착력과 높은 접속 신뢰성을 나타내게 된다. The acrylate modified urethane resin may have a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 g / mol, and at least one of the terminal functional groups may be acrylate. The curing reaction proceeds together with the acrylate systems of the cured portion through the acrylate groups present in the terminal functional groups within the above range, and also acts as a curing portion, thereby exhibiting excellent adhesion and high connection reliability.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 상기 아크릴레이트 변성 우레탄 수지는 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 20 내지 70 중량%, 바람직하게는 20 내지 60 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 바람직한 필름 물성을 구현하고 신뢰성을 높일 수 있고, 우수한 접착력과 높은 접속 신뢰성을 나타낼 수 있다. 이방성 도전 필름에 사용될 경우 경화 성능이 향상되어 접속 공정의 온도를 낮출 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the acrylate modified urethane resin may be contained in an anisotropic conductive adhesive layer in an amount of 20 to 70% by weight, preferably 20 to 60% by weight based on the total weight of the composition or the adhesive layer composition. Within the above range, it is possible to realize preferable film properties and increase the reliability, and to exhibit excellent adhesive force and high connection reliability. When used in an anisotropic conductive film, the curing performance is improved and the temperature of the connection process can be lowered.

다. 아크릴 공중합체All. Acrylic copolymer

본 발명에 사용되는 상기 아크릴 공중합체는 에틸, 메틸, 프로필, 부틸, 헥실, 옥실, 도데실, 라우로일 아크릴레이트, 메타 아크릴레이트 등과 이들의 변성으로 이루어진 아크릴레이트, 아크릴릭 애시드, 메타 아크릴릭 애시드, 메틸 메타아크릴레이트, 비닐 아세테이트, 이로부터 변성된 아크릴 모노머 등의 아크릴 모노머를 중합하여 만든 아크릴 공중합체를 사용할 수 있으며, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 아크릴 공중합체는 중량평균분자량이 1,000 내지 250,000 g/mol일 수 있고, 바람직하게는 2,000 내지 150,000 g/mol일 수 있다.The acrylic copolymer to be used in the present invention may be at least one selected from the group consisting of acrylate, acrylic acid, methacrylic acid and methacrylic acid, which are composed of ethyl, methyl, propyl, butyl, hexyl, oxyl, dodecyl, lauroyl acrylate, An acrylic copolymer prepared by polymerizing acrylic monomers such as methyl methacrylate, vinyl acetate, and modified acrylic monomers can be used, but not always limited thereto. The acrylic copolymer may have a weight average molecular weight of 1,000 to 250,000 g / mol, and preferably 2,000 to 150,000 g / mol.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 상기 아크릴 공중합체는 10 내지 30 중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 10 내지 25 중량%일 수 있다. 상기 범위에서는 압착공정에서 가압착하더라도 리웍성이 나빠지지 않을 수 있으며, 필름의 점착성이 향상되어 가압착시 들뜸이 발생하는 것을 방지할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the acrylic copolymer may be contained in an amount of 10 to 30% by weight, and preferably 10 to 25% by weight, based on the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer or the adhesive layer composition. In the above-mentioned range, it is possible that the workability is not deteriorated even if the pressure is applied in the pressing process, and adhesion of the film is improved, thereby preventing occurrence of lifting and depressing under pressure.

라디칼Radical 중합성Polymerizable 물질 matter

라디칼 중합성 물질은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용되는 것을 사용할 수 있다.The radical polymerizable material is not particularly limited and those conventionally used in the technical field can be used.

본 발명에서 사용 가능한 라디칼 중합성 물질의 비제한적인 예로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, n-라우릴(메타)아크릴레이트, C12-C15 알킬(메타)아크릴레이트, n-스테아릴(메타)아크릴레이트, n-부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴(tetrahydrofurfuryl)(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸-2-하이드록시프로필프탈레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸엑시드포스페이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 디메틸올트리사이클로데칸디(메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸(메타)아크릴레이트, 애시드 포스폭시 에틸 (메타)아크릴레이트, 이소아밀 아크릴레이트, 라우로일 아크릴레이트, 이소시아누릭 애시드 에틸렌 옥사이드 변성 디아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌옥사이드 변성 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판-벤조에이트-(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜 디(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트와 톨루엔디이소시아네이트의 반응물, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판의 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트의 반응물, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트와 톨루엔디이소시아네이트의 반응물, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트와 이소포론디이소시아네이트의 반응물, 또는 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트의 반응물 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용되거나 2 종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.Non-limiting examples of the radically polymerizable material usable in the present invention include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n- lauryl (meth) acrylates, C 12 -C 15 alkyl (meth) acrylate, n- stearyl (Meth) acrylate, methoxypolyethyleneglycol (meth) acrylate, n-butoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyleneglycol (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalate, 2- Acrylate, diethyleneglycol di (meth) acrylate, triethyleneglycol di (meth) acrylate, diethyleneglycol di (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethylenesulfonate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol di (meth) acrylate, glycerin di (Meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl Acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate, bisphenol A-ethylene oxide-modified di (meth) acrylate, acid phosphoxyethyl (meth) acrylate, isoamyl acrylate, lauroyl acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide- , Bisphenol A propylene oxide-modified di (meth) acrylate, trimethylolpropane-benzoate- (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl di (meth) acrylate, 2-hydroxy- (Meth) acrylate and toluene diisocyanate, a reaction product of trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylol propane (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and hexamethylene diisocyanate , A reaction product of pentaerythritol tri (meth) acrylate and toluene diisocyanate, a reaction product of pentaerythritol tri (meth) acrylate and isophorone diisocyanate, or a reaction product of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and hexamethylene diisocyanate . These may be used alone or in combination of two or more.

상기 라디칼 중합성 물질은 테트라하이드로퍼퓨릴(tetrahydrofurfuryl) 아크릴레이트, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트 및 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The radical polymerizable material may be at least one selected from the group consisting of tetrahydrofurfuryl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and bisphenol A propylene oxide-modified diacrylate, but is not limited thereto.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 바람직하게는 1 내지 40 중량%로 함유될 수 있으며, 보다 바람직하게는 1 내지 35 중량%로 함유될 수 있고, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량%로 함유될 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the anisotropic conductive adhesive layer may be contained in an amount of preferably 1 to 40% by weight, more preferably 1 to 35% by weight, based on the total weight of the solid or adhesive layer composition By weight, more preferably 1 to 30% by weight.

보다 구체적으로 상기 라디칼 중합성 물질은 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 상기 테트라하이드로퍼퓨릴 아크릴레이트 1 내지 10 중량%, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트 1 내지 10 중량% 및 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디아크릴레이트 1 내지 20 중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위 내에서 전체 경화물이 아크릴레이트 경화 구조를 충분히 형성할 수 있도록 해주며 경화물의 경도가 지나치게 높아지는 것을 방지하여 계면 박리력 및 접착력이 저하되는 것을 방지하는 이점이 있다.More specifically, the radically polymerizable material may include 1 to 10% by weight of the tetrahydroperfuryl acrylate, 1 to 10% by weight of 4-hydroxybutyl acrylate, and 1 to 10% by weight of bisphenol A propylene And 1 to 20% by weight of an oxide-modified diacrylate. Within the above range, the entire cured product can sufficiently form an acrylate cured structure, and the hardness of the cured product can be prevented from becoming too high, thereby preventing deterioration of the interface peeling force and adhesion.

유기과산화물Organic peroxide

본 발명에 사용되는 유기과산화물은 중합 개시제로서, 가열 또는 광에 의해 유리라디칼을 발생시키는 경화제로 작용한다.The organic peroxide used in the present invention functions as a polymerization initiator and as a curing agent that generates free radicals by heating or light.

상기 유기과산화물로는 t-부틸 퍼옥시라우레이트, 1,1,3,3-t-메틸부틸퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일 퍼옥시) 헥산, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(m-톨루오일 퍼옥시) 헥산, t-부틸 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥실 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5,-디메틸-2,5-디(t-부틸 퍼옥시) 헥산, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시-2-2-에틸헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 이소부틸레이트, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)사이클로헥산, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, 큐밀 퍼옥시 네오데카노에이트, 디-이소프로필 벤젠 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 이소부틸 퍼옥사이드, 2,4-디클로로 벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아로일 퍼옥사이드, 숙신 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥시 톨루엔, 1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸 에틸 퍼옥시 노에데카노에이트, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-이소프로필 퍼옥시 카보네이트, 비스(4-t-부틸 사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에톡시 메톡시 퍼옥시 디카보네이트, 디(2-에틸 헥실 퍼옥시) 디카보네이트, 디메톡시 부틸 퍼옥시 디카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시 부틸 퍼옥시) 디카보네이트, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-(t-부틸 퍼옥시) 사이클로도데칸, 2,2-비스(t-부틸 퍼옥시)데칸, t-부틸 트리메틸 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디메틸 실릴 퍼옥사이드, t-부틸 트리알릴 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디알릴 실릴 퍼옥사이드,트리스(t-부틸) 아릴 실릴 퍼옥사이드로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상 또는 2 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the organic peroxide include t-butyl peroxylaurate, 1,1,3,3-t-methylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl- Ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoylperoxy) hexane, t-butyl T-butyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate, dicumyl peroxide, 2,5, -dimethyl-2,5-dihydroxybutyl peroxydicarbonate, T-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy- Butyl peroxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy- 5-trimethylhexanoate, t-butyl peroxypivalate Diisobutyl benzene peroxide, diisopropyl benzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, Octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succin peroxide, benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, benzoyl peroxytoluene, 1,1,3,3- Di-n-propyl peroxydicarbonate, di-isopropyl peroxycarbonate, bis (4-t-butylphenyl) peroxyneodecanoate, 1-cyclohexyl- Di (2-ethylhexyl peroxy) dicarbonate, dimethoxybutyl peroxydicarbonate, di (3-methyl-3 - < / RTI > methoxybutylperoxy) dicarbo (Tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1- Oxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) decane, t- butyltrimethylsilyl peroxide, At least one selected from the group consisting of bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, Or two or more of them may be used in combination.

바람직하게는 라우로일 퍼옥사이드일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 유기과산화물의 함량은 접착제 중 경화하려는 성질과 접착제의 보존성을 균형있게 구현하는 범위로 결정될 수 있다.But is not limited to, lauroyl peroxide. The content of the organic peroxide may be determined in a range that balances the properties of the adhesive to be cured and the preservability of the adhesive.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 상기 유기과산화물 0.5 내지 10 중량%를 포함할 수 있고, 보다 바람직하게는 1 내지 10 중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위에서 양호한 경화반응 속도에 따른 우수한 본 압착 특성을 보일 수 있고, 재작업시 이방성 도전 필름이 양호하게 제거될 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the anisotropic conductive adhesive layer may comprise 0.5 to 10% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, of the organic peroxide based on the total weight of the solid or adhesive layer composition. It is possible to exhibit excellent compression characteristics in accordance with a good curing reaction rate in the above range, and the anisotropic conductive film can be well removed during reworking.

금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자Conductive particles coated with silver on the surface of metal core particles

상기 이방성 도전 필름 조성물은 금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자를 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 20 중량%를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 0.5 내지 20 중량%를 포함할 수 있고, 보다 바람직하게는 0.5 내지 15 중량%를 포함할 수 있다. 상기 금속 코어 입자는 선술한 바와 같은 특징들을 가질 수 있다. 상기 범위에서 안정적인 접속 신뢰성을 확보할 수 있으며, 낮은 접속 저항을 나타낼 수 있다.The anisotropic conductive film composition may contain 0.1 to 20% by weight, preferably 0.5 to 20% by weight, of conductive particles coated with silver on the surface of the metal core particles, based on the total weight of the anisotropically conductive adhesive layer or the adhesive layer composition By weight, and more preferably 0.5 to 15% by weight. The metal core particles may have the characteristics as described above. Stable connection reliability can be ensured within the above range, and a low connection resistance can be exhibited.

본원 발명의 이방성 도전 접착층 또는 접착층 조성물은 상기 성분 이외에 절연 입자로서 무기입자를 함유할 수 있다.The anisotropic conductive adhesive layer or the adhesive layer composition of the present invention may contain inorganic particles as insulating particles in addition to the above components.

절연 입자Insulating particle

절연 입자는 무기 입자, 유기 입자 또는 유/무기 혼합형 입자일 수 있으며, 상기 무기 입자의 비제한적인 예로, 실리카(silica, SiO2), Al2O3, TiO2, ZnO, MgO, ZrO2, PbO, Bi2O3, MoO3, V2O5, Nb2O5, Ta2O5, WO3 및 In2O3 로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상일 수 있고, 상기 유기 입자의 비제한적인 예로, 아크릴 비드 등을 들 수 있으며, 무기 입자의 표면에 유기성 물질이 코팅된 유/무기 혼합형 입자일 수도 있다.Isolated particles may be inorganic particles, organic particles or organic / inorganic hybrid particle, non-limiting of the inorganic particles, examples, silica (silica, SiO 2), Al 2 O 3, TiO 2, ZnO, MgO, ZrO 2, PbO, Bi 2 O 3, MoO 3, V 2 O 5, Nb 2 O 5, Ta 2 O 5, WO 3 , and may be at least one member selected from the group consisting of in 2 O 3, not limited to the organic particles of For example, acrylic beads and the like may be mentioned, and they may be organic / inorganic hybrid particles in which an organic material is coated on the surface of inorganic particles.

바람직하게 상기 절연 입자는 무기 입자일 수 있고, 보다 바람직하게는 산화 티타늄(TiO2) 또는 실리카일 수 있다. 상기 실리카는 졸겔법, 침전법 등 액상법에 의한 실리카, 화염산화(flame oxidation)법 등 기상법에 의해 생성된 실리카일 수 있으며, 실리카겔을 미분쇄한 비분말 실리카를 사용할 수도 있고, 건식 실리카(fumed silica), 용융 실리카(fused silica)를 사용할 수도 있으며 그 형상은 구형, 파쇄형, 에지리스(edgeless)형 등일 수 있으며, 이에 제한되지 않는다. 용융 실리카는 천연수정 또는 규석을 아크(불꽃)방전이나 산수소불꽃으로 용융시켜 제조하는 천연 실리카 유리와 사염화규소 또는 실란 등의 기체원료를 산수소불꽃이나 산소 플라즈마 중에서 열분해하여 합성하는 합성 실리카 유리가 있으며 양자 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.Preferably, the isolated particles may be inorganic particles, and may be more preferably titanium (TiO 2) and silica oxide. The silica may be a silica produced by a vapor phase method such as a silica or flame oxidation method by a liquid phase method such as a sol-gel method or a precipitation method. Non-powder silica in which silica gel is pulverized may be used, or fumed silica ), Fused silica may be used, and the shape thereof may be spherical, crushed, edgeless, and the like, but is not limited thereto. Fused silica is a synthetic silica glass that is produced by thermal decomposition of natural silica glass and a gas raw material such as silicon tetrachloride or silane in an oxygen flame or an oxygen plasma produced by melting natural quartz or silica into arc (flame) discharge or melting with oxyhydrogen flame, Or the like.

상기 절연 입자는 도전 입자보다 사이즈(평균입경)가 크면 통전에 문제가 생길 수 있으므로 도전 입자보다 그 사이즈가 작은 것이 바람직한데, 평균입경이 0.1 내지 20㎛, 바람직하게는 1 내지 10㎛ 의 범위에서 용도에 따라 선택하여 사용할 수 있다. When the size of the insulating particles is larger than the size of the conductive particles (average particle diameter), it is preferable that the size of the insulating particles is smaller than that of the conductive particles. In the case where the insulating particles have an average particle size of 0.1 to 20 탆, preferably 1 to 10 탆 It can be selected according to the application.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 상기 절연 입자는 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 20 중량 %이상일 수 있으며, 바람직하게는 0.1 내지 10 중량%일 수 있다. 상기 범위에서 상기 절연 입자에 의해 이방성 도전 필름에 인식성을 부여하고 접속 신뢰성이 높은 이방성 도전 필름을 형성할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the insulating particles may be 0.1 to 20 wt% or more, and preferably 0.1 to 10 wt%, based on the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer or the adhesive layer composition. The anisotropic conductive film having high reliability of connection can be formed by giving the anisotropic conductive film recognition properties by the insulating particles in the above range.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및 100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후에 측정된 초기 접속저항이 상기 100 내지 250℃의 본압착 온도 조건 모두에서 0.04 Ω 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름일 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 가압착 조건은 50 내지 60 ℃, 1 내지 3초, 1 내지 3MPa 압력 조건이고, 상기 본압착 조건은 110 내지 240 ℃, 2 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건일 수 있다.According to another example of the present invention, an anisotropic conductive film is placed between a first member to be connected and a second member to be connected and pressure-bonded under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And an initial connection resistance measured after final compression under the pressure condition of 100 to 250 DEG C for 1 to 5 seconds and 2.0 to 5.0 MPa is 0.04 or less in both of the main compression temperature conditions of 100 to 250 DEG C. . More preferably, the pressing condition is a pressure condition of 50 to 60 DEG C, 1 to 3 seconds, 1 to 3 MPa, and the main pressing condition is a pressure condition of 110 to 240 DEG C for 2 to 5 seconds and a pressure of 2.0 to 5.0 MPa have.

따라서, 저온 및 고온에서의 상기 이방성 도전 필름의 접속 저항을 낮추어, 저온 및 고온 접속 공정 모두에서 용이한 이방성 도전 필름을 제조할 수 있는 이점이 있고, 상기 범위 내에서 이방성 도전 필름의 충분한 전도성을 확보할 수 있다. 상기 초기 접속저항이란, 이방성 도전 필름을 50 내지 70℃, 1 내지 3초, 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건으로 가압착한 후, 100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착한 후에 측정한 접속저항을 말한다. Therefore, there is an advantage that anisotropic conductive films can be easily produced in both low-temperature and high-temperature bonding processes by lowering the connection resistance of the anisotropic conductive film at low temperature and high temperature, and satisfactory conductivity of the anisotropic conductive film within the above- can do. The initial connection resistance is obtained by pressing the anisotropic conductive film under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa and then performing final compression bonding at 100 to 250 DEG C for 1 to 5 seconds and at 2.0 to 5.0 MPa The connection resistance measured after the connection.

상기 초기 접속저항을 측정하는 방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법에 따라 측정할 수 있다. 상기 초기 접속저항을 측정하는 방법의 비제한적인 예는 다음과 같다: 제조된 이방성 도전 필름을 PCB(피치 200 ㎛, 단자 100 ㎛, 단자간 거리 100 ㎛, 단자 높이 35 ㎛)와 COF 필름(피치 200 ㎛, 단자 폭 100 ㎛, 단자간 거리 100 ㎛, 단자 높이 8 ㎛)를 이용하여 하기와 같은 조건으로 접속한다.The method of measuring the initial connection resistance is not particularly limited and can be measured according to a method commonly used in the art. The produced anisotropic conductive film is applied to a PCB (pitch: 200 占 퐉, terminal: 100 占 퐉, inter-terminal distance: 100 占 퐉, terminal height: 35 占 퐉) and COF film 200 占 퐉, terminal width 100 占 퐉, inter-terminal distance 100 占 퐉, terminal height 8 占 퐉) under the following conditions.

1) 가압착 조건 ; 50℃, 1초, 1.0MPa1) pressing condition; 50 DEG C, 1 second, 1.0 MPa

2) 본압착 조건 ; 120℃, 3초, 3.0MPa(조건 1), 230℃, 3초, 4.0MPa(조건 2) 2) This pressing condition; 120 deg. C, 3 sec, 3.0 MPa (Condition 1), 230 deg. C, 3 sec, 4.0 MPa (Condition 2)

상기의 조건으로 접속하여 복수개의 시편을 준비한다. 측정기(Keithley 사 2000 Multimeter)를 이용하여 4-probe 방식으로 시험 전류 1mA를 인가하여 각 시편의 초기 접속저항을 측정하여 그 평균값을 계산한다.A plurality of specimens are prepared by connecting under the above conditions. The initial connection resistance of each specimen is measured by applying a test current of 1 mA using a 4-probe method using a measuring instrument (2000 Multimeter, Keithley), and the average value is calculated.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및 100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후, 상기 이방성 도전 필름을 85 ℃ 및 상대습도 85 %의 조건 하에서 250시간 및 500시간 동안 방치한 고온 고습 평가 후 접속저항이 각각 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름일 수 있다. 상기 이방성 도전 필름은 상기 온도 범위 내에서 낮은 저항값을 보이는 바, 넓은 온도 마진에서 접착력과 신뢰성을 확보할 수 있어, 저온 공정 뿐만 아니라, 고온 공정에서도 특성을 발휘할 수 있는 이방성 도전 필름을 제조할 수 있다. 상기 고온 고습 평가 후 접속저항이란, 상기 가압착 및 본압착 후, 85 ℃ 및 상대습도 85 %의 조건 하에서 250시간 및 500시간 동안 방치한 후의 접속저항을 말한다. 상기 고온 고습 평가 후 접속저항의 측정방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법에 따라 측정할 수 있다. 상기 접속저항을 측정하는 방법의 비제한적인 예는 다음과 같다 : 복수개의 필름 시편을 선술한 가압착 및 본압착 시킨 후, 온도 85 ℃ 및 상대 습도 85 %의 조건하에서 250시간 및 500시간 동안 방치한 후, 시험전류 1mA를 인가하여 각각의 접속저항을 측정(Keithley 사 2000 Multimeter 이용, 4-probe 방식)한 그 평균값을 계산하는 방식으로 측정한다.According to another example of the present invention, an anisotropic conductive film is placed between a first member to be connected and a second member to be connected and pressure-bonded under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And after the main compression under the pressure conditions of 100 to 250 DEG C for 1 to 5 seconds and 2.0 to 5.0 MPa, the anisotropic conductive film was allowed to stand for 250 hours and 500 hours under the conditions of 85 DEG C and 85% The resistance may be an anisotropic conductive film of 0.04? Or less, respectively. Since the anisotropic conductive film exhibits a low resistance value within the above temperature range, adhesion and reliability can be ensured at a wide temperature margin, and an anisotropic conductive film capable of exhibiting not only a low temperature process but also a high temperature process can be manufactured have. The connection resistance after the high-temperature and high-humidity evaluation refers to the connection resistance after being left for 250 hours and 500 hours under the conditions of 85 占 폚 and 85% relative humidity after the pressing and pressing. The method for measuring the connection resistance after the high-temperature and high-humidity evaluation is not particularly limited and can be measured according to a method commonly used in the art. A method for measuring the connection resistance is as follows. After a plurality of film specimens are press-bonded and compression-bonded, they are left for 250 hours and 500 hours under the conditions of a temperature of 85 DEG C and a relative humidity of 85% , And then measuring the average value of each connection resistance (Keithley 2000 Multimeter, 4-probe method) by applying a test current of 1 mA.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및 100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후, 상기 이방성 도전 필름을 가압착 및 본압착 시킨 후, -40 내지 100 ℃ 및 1 사이클/hr 조건 하에서 250 및 500 사이클 조건의 열충격 평가 후 접속저항이 각각 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름일 수 있다. 상기와 같이 낮은 저항값을 나타냄으로써, 미세피치 전극의 신호 간섭을 막을 수 있다. 상기 열충격 평가 후 접속저항이란, 상기 가압착 및 본압착 후, -40 내지 100 ℃ 및 1 사이클/hr 조건 하에서 250 및 500 사이클 후의 접속저항을 말한다. 상기 열충격 평가 후 접속저항의 측정방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법에 따라 측정할 수 있다. 상기 접속저항을 측정하는 방법의 비제한적인 예는 다음과 같다 : 복수개의 필름 시편을 선술한 가압착 및 본압착 시킨 후, -40 내지 100 ℃ 및 1 사이클/hr 조건 하에서 250 및 500 사이클 조건의 열충격 평가 후 시험전류 1mA를 인가하여 각각의 접속저항을 측정(Keithley 사 2000 Multimeter 이용, 4-probe 방식)한 그 평균값을 계산하는 방식으로 측정한다.According to another example of the present invention, an anisotropic conductive film is placed between a first member to be connected and a second member to be connected and pressure-bonded under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And 250 to 500 ° C for 1 to 5 seconds and at a pressure of 2.0 to 5.0 MPa. After the pressure-bonding and final compression of the anisotropic conductive film, And the connection resistance after the thermal shock evaluation of the cyclic condition is 0.04? Or less, respectively. By displaying the low resistance value as described above, signal interference of the fine pitch electrode can be prevented. The connection resistance after the thermal shock evaluation refers to the connection resistance after 250 and 500 cycles under the conditions of -40 to 100 캜 and 1 cycle / hr after the pressing and final pressing. The method of measuring the connection resistance after the thermal shock evaluation is not particularly limited and can be measured according to a method commonly used in the technical field. A method of measuring the connection resistance is as follows: After a plurality of film specimens are press-bonded and finally press-bonded, the specimen is subjected to a pressure of 250 to 500 cycles under the condition of -40 to 100 DEG C and 1 cycle / After the evaluation of the thermal shock resistance, a test current of 1 mA is applied to measure the respective connection resistances (Keithley 2000 Multimeter, 4-probe method).

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 초기 접속저항, 고온 고습 평가 후 접속저항 또는 열충격 평가 후의 접속저항이 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름의 ARES 측정에 따른 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s이며, 금속 코어 입자 표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전 입자를 포함하는 이방성 도전 필름일 수 있다. 상기 점도 범위 내에서, 우수한 접속 신뢰성을 유지함과 동시에 절연 신뢰성을 확보할 수 있는 이방성 도전 필름을 제조할 수 있다. 상기 초기 접속저항, 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후 접속저항의 측정방법은 특별히 제한되지 아니하며 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 방법에 따라 측정할 수 있다. 상기 접속저항을 측정하는 방법의 비제한적인 예는 선술한 바와 같다.According to another embodiment of the present invention, the viscosity of the anisotropic conductive film having the initial connection resistance, the connection resistance after the evaluation of high temperature and high humidity, or the connection resistance after the evaluation of the thermal shock is 0.04 Ω or less, s, a minimum melt viscosity in the range of 1,000 to 9,000 Pa · s, and the metal core particle surface is coated with silver (Ag). It is possible to produce an anisotropic conductive film which can maintain excellent connection reliability and ensure insulation reliability within the above range of viscosity. The initial connection resistance, the method of measuring the connection resistance after the evaluation of high temperature and humidity, and the evaluation of the thermal shock resistance are not particularly limited, and can be measured according to a method commonly used in the art. A non-limiting example of a method of measuring the connection resistance is as described above.

또한, 상기 이방성 도전 접착층 고형분 또는 접착층 조성물 총 중량에 대하여, 열가소성 수지 1 내지 25 중량%; 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 20 내지 70 중량%; 아크릴 공중합체 10 내지 30 중량% ; 라디칼 중합성 물질 1 내지 40 중량%; 유기과산화물 0.5 내지 10 중량%; 무기 입자 0.1 내지 20 중량 %; 및 금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자 0.1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름 또는 이방성 도전 필름 조성물일 수 있고, 상기 조성 및 함량 범위 내에서 높은 접착력과 접속신뢰성을 나타낼 수 있다. 1 to 25% by weight, based on the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer solids or the adhesive layer composition, of a thermoplastic resin; 20 to 70% by weight of an acrylate modified urethane resin; 10 to 30% by weight of an acrylic copolymer; 1 to 40% by weight of a radically polymerizable substance; 0.5 to 10% by weight of an organic peroxide; 0.1 to 20% by weight of inorganic particles; And 0.1 to 20% by weight of silver-coated conductive particles on the surface of the metal core particles, and exhibits high adhesion and connection reliability within the above-mentioned composition and content range.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 상기 이방성 도전 접착층 조성물을 이용하여 이방성 도전 필름을 형성하는 방법은 선술한 특별한 장치나 설비가 필요치 않으며, 바인더 수지를 유기용제에 용해시켜 액상화 한 후 나머지 성분을 첨가하여 일정시간 교반하고, 이를 이형 필름 위에 10 내지 50 ㎛의 두께로 상기 조성물을 도포한 다음 일정 시간 건조하여 유기용제를 휘발시킴으로써 단층 구조를 가지는 이방성 도전 필름을 얻을 수 있다. 이때, 상기 유기용제로는 통상의 유기용제를 제한 없이 사용할 수 있으며, 본 발명에서는 상기의 과정을 2회 이상 반복함으로써 2층 이상의 복층 구조를 갖는 이방성 도전 필름을 얻을 수도 있다.According to another embodiment of the present invention, a method for forming an anisotropic conductive film using the anisotropic conductive adhesive layer composition does not require the special apparatus or equipment described above. The binder resin is dissolved in an organic solvent and liquefied, And the mixture is stirred for a predetermined period of time. The composition is coated on the release film with a thickness of 10 to 50 탆 and dried for a predetermined time to volatilize the organic solvent. Thus, an anisotropic conductive film having a single-layer structure can be obtained. In this case, the organic solvent may be an ordinary organic solvent without limitation. In the present invention, an anisotropic conductive film having a multilayer structure of two or more layers may be obtained by repeating the above-described process two or more times.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 전술한 본 발명의 이방성 도전 필름 중 어느 하나로 접속된 반도체 장치를 제공한다. 상기 반도체 장치는, 배선 기판; 반도체 칩을 포함할 수 있으며, 상기 배선 기판, 반도체 칩은 특별히 한정되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 알려진 것을 사용할 수 있다. 또한, 본원 발명의 반도체 장치를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 알려진 방법으로 수행될 수 있다. According to still another embodiment of the present invention, there is provided a semiconductor device connected with any one of the above-mentioned anisotropic conductive films of the present invention. The semiconductor device includes: a wiring board; A semiconductor chip, and the wiring board and the semiconductor chip are not particularly limited and those known in the art can be used. Further, the method of manufacturing the semiconductor device of the present invention is not particularly limited, and can be performed by a method known in the art.

본 발명의 또 다른 일 예에 따르면, 드라이버 회로; 패널; 및 상기 이방성 도전 필름;을 포함하는, 디스플레이 장치일 수 있다. 구체적으로, 드라이버 회로; 액정표시(LCD) 패널; 및 상기 이방성 도전 필름;을 포함하는, 액정 디스플레이(LCD) 장치일 수 있고, 드라이버회로; 유기 발광 다이오드(OLED)패널; 및 상기 이방성 도전 필름;을 포함하는, 유기발광다이오드 디스플레이(OLED)장치일 수 있다. 또한, 본 발명의 디스플레이 장치를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 알려진 방법으로 수행될 수 있다.
According to another embodiment of the present invention, there is provided a driver circuit comprising: a driver circuit; panel; And the anisotropic conductive film. Specifically, a driver circuit; Liquid crystal display (LCD) panels; And an anisotropic conductive film, wherein the driver circuit can be a liquid crystal display (LCD) device; Organic light emitting diode (OLED) panels; And an anisotropic conductive film. The organic light emitting diode display (OLED) device may be an organic light emitting diode (OLED) device. Further, the method of manufacturing the display device of the present invention is not particularly limited, and can be performed by a method known in the art.

이하, 실시예, 비교예 및 실험예를 기술함으로써 본원 발명을 보다 상세히 설명한다. 다만, 하기의 실시예, 비교예 및 실험예는 본원 발명의 일 예시에 불과하며, 본원 발명의 내용이 이에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by describing Examples, Comparative Examples and Experimental Examples. However, the following examples, comparative examples and experimental examples are merely examples of the present invention, and the present invention should not be construed as being limited thereto.

실시예Example  And 비교예Comparative Example

하기의 표 1과 같은 조성과 함량으로 이방성 도전 필름 조성물을 제조하였다.Anisotropic conductive film compositions were prepared in the compositions and contents shown in Table 1 below.

실시예Example 비교예Comparative Example 1One 22 33 44 1One 22 33 바인더
수지
bookbinder
Suzy
열가소성수지Thermoplastic resin 1010 1010 1010 55 1010 2525 55
아크릴레이트 변성 우레탄 수지 1Acrylate modified urethane resin 1 1515 1515 1515 2020 1515 1010 2525 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 2Acrylate modified urethane resin 2 2020 2020 2020 2525 2020 -- 3030 아크릴 공중합체Acrylic copolymer 2020 2020 2020 1515 2020 3535 - - 라디칼
중합성
물질
Radical
Polymerizable
matter
1One 55 55 55 55 55 55 1010
22 55 55 55 55 55 -- 1010 33 1010 1010 1010 1010 1010 1010 55 유기과산화물Organic peroxide 55 55 55 55 55 55 55 절연입자Insulating particle 산화티타늄Titanium oxide 22 22 22 22 22 22 22 실리카Silica 33 33 33 33 33 33 33 도전입자Conductive particle 1One 55 55 55 22 55 33 55 44 55 55 합계Sum 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 점도(30℃, Pa?s)Viscosity (30 ° C, Pa s) 600,000600,000 600,000600,000 600,000600,000 300,000300,000 600,000600,000 1,100,0001,100,000 90,00090,000 최저 용융 점도 (Pa?s)The lowest melt viscosity (Pa.s) 5,0005,000 5,0005,000 5,0005,000 3,5003,500 5,0005,000 10,00010,000 500500 최저 용융 점도 온도Lowest melt viscosity temperature 80℃80 80℃80 80℃80 ℃ 78℃78 80℃80 ℃ 90℃90 ° C 75℃75 ℃

상기 표 1에서 도전 입자 1은 평균입경 3 내지 5 um의 구리 입자 표면에 은이 3%로 코팅된 도전 입자이고, 도전 입자 2는 평균입경 3 내지 5 um 의 구리 입자 표면에 은이 30%로 코팅된 도전 입자이고, 도전 입자 3은 평균입경 3 내지 5 um의 구리 입자 표면에 은이 100%로 코팅된 도전 입자이고, 도전입자 4는 평균입경 3 내지 5um의 니켈 입자를 나타낸다.
In Table 1, the conductive particles 1 are conductive particles coated with silver of 3% on the surface of copper particles having an average particle size of 3 to 5 μm, and the conductive particles 2 are coated with 30% of silver on the surface of copper particles having an average particle size of 3 to 5 μm And the conductive particles 3 are conductive particles coated with 100% silver on the surfaces of copper particles having an average particle size of 3 to 5 μm, and the conductive particles 4 represent nickel particles having an average particle size of 3 to 5 μm.

실시예Example 1 One

이방성Anisotropy 도전 접착층 조성물의 제조 Preparation of conductive adhesive layer composition

하기의 조성으로 이방성 도전 접착층 조성물을 제조하였다.An anisotropic conductive adhesive layer composition was prepared in the following composition.

1) 열가소성 수지 (10 중량 %): 25 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤에 용해된 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체 (1072CGX, 제온 화학) 1) Thermoplastic resin (10% by weight): Acrylonitrile butadiene copolymer (1072CGX, Xeon Chemical) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone in an amount of 25 vol%

2) 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 1 (15 중량 %): 50 부피%로 메틸 에틸 케톤을 용제로 사용하여 폴리올 함량 60%, 하이드록시 메타아크릴레이트/이소시아네이트 몰비= 0.5로 하여 온도 90℃, 압력 1기압, 반응시간 5시간, 다이부틸틴다이라우릴레이트를 촉매로 사용하여 중부가 중합 반응시켜 합성한 폴리우레탄 아크릴레이트 (중량평균분자량 25,000) 2) Acrylate-modified urethane resin 1 (15% by weight): 50% by volume of methyl ethyl ketone as a solvent to prepare a polyol having a polyol content of 60% and a hydroxyl methacrylate / isocyanate molar ratio of 0.5, , A reaction time of 5 hours, a polyurethane acrylate (weight average molecular weight 25,000) synthesized by a middle polymerization reaction using dibutyltin dilaurate as a catalyst,

3) 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 2 (20 중량 %): 50 부피%로 메틸 에틸 케톤을 용제로 사용하여 폴리올 함량 60%, 하이드록시 아크릴레이트/이소시아네이트 몰비= 1로 하여 온도 90℃, 압력 1기압, 반응시간 5시간, 다이부틸틴다이라우릴레이트를 촉매로 사용하여 중부가 중합 반응시켜 합성한 폴리우레탄 아크릴레이트 (중량평균분자량 28,000) 3) Acrylate-modified urethane resin 2 (20% by weight): 50% by volume of methyl ethyl ketone as a solvent to prepare a polyol having a polyol content of 60% and a hydroxyl acrylate / isocyanate molar ratio of 1, A reaction time of 5 hours, a polyurethane acrylate (weight average molecular weight: 28,000) synthesized by a middle polymerization reaction using dibutyltin dilaurate as a catalyst,

4) 아크릴 공중합체 (20 중량 %): 45 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤에 용해된 중량평균분자량 90,000 ~ 120,000인 아크릴 수지 (AOF7003, 애경화학) 4) Acrylic copolymer (20% by weight): 45% by volume of an acrylic resin (AOF7003, Aekyung Chemical) having a weight average molecular weight of 90,000 to 120,000 dissolved in toluene / methyl ethyl ketone

5) 라디칼 중합성 물질 1 (5 중량 %): 4-하이드록시부틸 아크릴레이트 5) Radical Polymerizable Substance 1 (5% by weight): 4-Hydroxybutyl acrylate

6) 라디칼 중합성 물질 2 (5 중량 %): 테트라하이드로퍼퓨릴 아크릴레이트 6) Radical Polymerizable Substance 2 (5% by weight): Tetrahydrofurfuryl acrylate

7) 라디칼 중합성 물질 3 (10 중량 %): 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디아크릴레이트 (SP1509, 쇼와 폴리머) 7) Radical Polymerizable Substance 3 (10 wt%): bisphenol A propylene oxide-modified diacrylate (SP1509, Showa Polymer)

8) 유기과산화물 (5 중량 %): 라우로일 퍼옥사이드 8) Organic peroxide (5% by weight): Lauroyl peroxide

9) 산화티타늄 (2 중량 %): TiO2 9) Ti (2% by weight of oxide): TiO 2

10) 실리카 (3 중량 %): 건식(Fumed) 실리카 10) Silica (3% by weight): Fumed silica

11) 도전입자 (5 중량 %): 평균입경 3 내지 5 um의 구리 입자 표면에 은이 3%로 코팅된 도전 입자 (도전 입자 1)
11) Conductive particles (5% by weight) Conductive particles (conductive particles 1) coated with 3% silver on the surface of copper particles having an average particle size of 3 to 5 μm,

이방성Anisotropy 도전 필름의 제조 Production of conductive film

상기 이방성 도전 접착층 조성물을 도전 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 상온(25℃)에서 60 분간 교반하였다. 상기 접착층 조성물을 실리콘 이형 표면 처리된 폴리에틸렌 베이스 필름에 35㎛의 두께의 필름으로 형성시키며, 필름 형성을 위해서 캐스팅 나이프(Casting knife)를 사용하고, 필름의 건조 시간은 60 ℃에서 5 분으로 하였다. The anisotropic conductive adhesive layer composition was agitated at room temperature (25 DEG C) for 60 minutes in a speed range in which conductive particles were not crushed. The adhesive layer composition was formed into a film having a thickness of 35 탆 in a polyethylene base film subjected to a silicone release surface treatment. Casting knives were used for film formation, and the film was dried at 60 캜 for 5 minutes.

상기 이방성 도전 접착층 조성물을 이용하여 30 ℃ 점도가 60만 Pa·s 이고, 최저 용융 점도가 80 ℃에서 5,000 Pa·s인 이방성 도전 필름을 제조하였다.Using the anisotropic conductive adhesive layer composition, an anisotropic conductive film having a viscosity at 30 ° C of 600,000 Pa · s and a minimum melt viscosity at 80 ° C of 5,000 Pa · s was prepared.

실시예Example 2 2

상기 실시예 1에 있어서, 5 중량 %의 도전 입자 1 대신 평균입경 3 내지 5 um 의 구리 입자 표면에 은이 30%로 코팅된 도전 입자 (도전 입자 2)를 5 중량% 포함하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 30 ℃ 점도가 60만 Pa·s이고, 최저 용융 점도가 80 ℃에서 5,000 Pa·s인 이방성 도전 필름을 제조하였다.In Example 1, instead of 5 wt% of the conductive particles 1, conductive particles having an average particle size of 3 to 5 μm and coated with 30% of silver Anisotropic conductive material having a viscosity at 30 ° C of 600,000 Pa · s and a minimum melt viscosity of 5,000 Pa · s at 80 ° C was obtained in the same manner as in Example 1, except that the conductive particles (conductive particles 2) A film was prepared.

실시예Example 3 3

상기 실시예 1에 있어서, 5 중량 %의 도전 입자 1 대신 평균입경 3 내지 5 um의 구리 입자 표면에 은이 100%로 코팅된 도전 입자 (도전 입자 3)을 5 중량% 포함하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 30 ℃ 점도가 60만 Pa·s 이고, 최저 용융 점도가 80 ℃에서 5,000 Pa·s인 이방성 도전 필름을 제조하였다.Except that 5 wt% of conductive particles (conductive particles 3) coated with 100% silver on the surface of copper particles having an average particle size of 3 to 5 μm were used instead of 5 wt% of conductive particles 1 in Example 1, An anisotropic conductive film having a viscosity at 30 ° C of 600,000 Pa · s and a lowest melt viscosity at 80 ° C of 5,000 Pa · s was prepared in the same manner as in Example 1.

실시예Example 4 4

상기 실시예 1에 있어서, 열가소성 수지를 5 중량 %, 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 1을 20 중량%, 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 2를 25 중량 %, 아크릴 공중합체를 15 중량 % 포함하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 30 ℃ 점도가 30만 Pa·s 이고, 최저 용융 점도가 78 ℃에서 3,500 Pa·s인 이방성 도전 필름을 제조하였다.In Example 1, except for containing 5 wt% of a thermoplastic resin, 20 wt% of an acrylate modified urethane resin 1, 25 wt% of an acrylate modified urethane resin 2, and 15 wt% of an acrylic copolymer, An anisotropic conductive film having a viscosity at 30 ° C. of 300,000 Pa · s and a lowest melt viscosity at 78 ° C. of 3,500 Pa · s was prepared in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative Example 1 One

상기 실시예 1에 있어서, 5 중량 %의 도전 입자 1 대신 평균입경 3 내지 5um의 니켈 입자(도전 입자 4)를 5 중량%를 포함하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 30 ℃ 점도가 60만 Pa·s 이고, 최저용융점도가 80 ℃에서 5,000 Pa·s인 이방성 도전 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 1, except that 5 wt% of nickel particles (conductive particles 4) having an average particle size of 3 to 5 μm were contained in place of 5 wt% of the conductive particles 1 in Example 1 Anisotropic conductive film having a viscosity of 600,000 Pa · s and a minimum melt viscosity of 80,000C at 5,000 Pa · s was prepared.

비교예Comparative Example 2 2

상기 실시예 1에 있어서, 열가소성 수지를 25 중량 %, 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 1을 10 중량%, 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 2를 첨가하지 않고, 아크릴 공중합체를 35 중량 % 포함하고, 라디칼 중합성 물질 2를 포함하지 않는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 30 ℃ 점도가 110만 Pa·s 이고, 최저 용융 점도가 90 ℃에서 10,000 Pa·s인 이방성 도전 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 1, except that 25% by weight of the thermoplastic resin, 10% by weight of the acrylate modified urethane resin 1 and 35% by weight of the acrylic copolymer were added without adding the acrylate modified urethane resin 2, 2, an anisotropic conductive film having a viscosity at 30 ° C of 1.1 million Pa · s and a minimum melt viscosity of 10,000 Pa · s at 90 ° C was prepared.

비교예Comparative Example 3 3

상기 실시예 1에 있어서, 열가소성 수지를 5 중량 %, 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 1을 25 중량%, 아크릴레이트 변성 우레탄 수지 2를 30 중량 %, 아크릴 공중합체를 첨가하지 않고, 라디칼 중합성 물질 1을 10 중량 %, 라디칼 중합성 물질 2를 10 중량 %, 라디칼 중합성 물질 3을 5 중량 %, 5 중량 %의 도전 입자 1 대신 평균입경 3 내지 5um의 니켈 입자(도전 입자 4)를 5 중량%를 포함하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 30 ℃ 점도가 9만 Pa·s 이고, 최저 용융 점도가 75 ℃에서 500 Pa·s인 이방성 도전 필름을 제조하였다.
In Example 1, 5 parts by weight of a thermoplastic resin, 25 parts by weight of an acrylate modified urethane resin 1, 30 parts by weight of an acrylate modified urethane resin 2, and 1 part by weight of a radical polymerizable substance 1 5% by weight of nickel particles (conductive particles 4) having an average particle size of 3 to 5 μm instead of 5% by weight of the conductive particles 1, 10% by weight of the radical polymerizable substance 2, 10% , An anisotropic conductive film having a viscosity at 30 ° C of 90,000 Pa · s and a lowest melt viscosity at 75 ° C of 500 Pa · s was prepared.

실험예Experimental Example 1  One

초기 접속저항 측정Initial connection resistance measurement

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 이방성 도전 필름의 초기 접속저항을 측정하기 위하여 하기의 방법을 수행하였다.In order to measure the initial connection resistance of the anisotropic conductive films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, the following methods were performed.

초기 접속저항 측정에 있어서, PCB(피치 200 ㎛, 단자 100 ㎛, 단자간 거리 100 ㎛, 단자 높이 35 ㎛)와 COF 필름(피치 200 ㎛, 단자 폭 100 ㎛, 단자간 거리 100 ㎛, 단자 높이 8 ㎛)을 사용하였다. 상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제조한 이방성 도전 조성물을 각각 PCB 회로 형성부에 50℃, 1초, 1.0MPa로 가압착한 후, 이형 필름을 제거하고, 이어서 COF의 회로 단자를 대치시킨 후, 120℃, 3초, 3.0MPa(조건 1) 또는 230℃, 3초, 4.0MPa(조건 2)로 본압착 후, 측정기(Keithley 사 2000 Multimeter)를 이용하여 4-probe 방식으로 시험 전류 1mA를 인가하여 초기 접속저항을 측정하여 그 평균값을 계산하였다. 상기 측정 결과는 하기 표 2에 나타내었다.(Pitch: 200 占 퐉, terminal width: 100 占 퐉, distance between terminals: 100 占 퐉, terminal height: 8 占 퐉) Mu m) was used. Each of the anisotropic conductive compositions prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was press-bonded to a PCB circuit forming portion at 50 DEG C for 1 second and 1.0 MPa, then the release film was removed, And then subjected to a 4-probe test using a measuring instrument (Keithley 2000 Multimeter) after 120 seconds, 3 seconds, 3.0 MPa (Condition 1) or 230 seconds, 3 seconds, 4.0 MPa The initial connection resistance was measured by applying a current of 1 mA and the average value thereof was calculated. The measurement results are shown in Table 2 below.

실험예Experimental Example 2  2

고온 고습 평가 후 접속저항 측정Connection resistance measurement after high temperature and high humidity evaluation

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 이방성 도전 필름의 고온 고습 평가 후 접속저항을 측정하기 위하여 하기의 방법을 수행하였다.The following methods were performed to measure the connection resistance after the high temperature and high humidity evaluation of the anisotropic conductive films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3.

상기 실험예 1의 가압착 및 본압착 후, 온도 85℃ 및 상대 습도 85% 의 조건하에서 250시간 및 500시간 동안 방치한 후, 시험전류 1mA를 인가하여 각각의 접속저항을 측정(Keithley 사 2000 Multimeter 이용, 4-probe 방식)한 그 평균값을 계산하는 방식으로 측정하였다. 상기 측정 결과는 하기 표 2에 나타내었다.After the pressurization and final compression of Experimental Example 1, the sample was allowed to stand for 250 hours and 500 hours at a temperature of 85 ° C and a relative humidity of 85%, and then a test current of 1 mA was applied to measure the respective connection resistances (Keithley 2000 Multimeter , And 4-probe method). The measurement results are shown in Table 2 below.

실험예Experimental Example 3  3

열충격Thermal shock 평가 후 접속저항 측정 Measuring connection resistance after evaluation

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 이방성 도전 필름의 열충격 평가 후 접속저항을 측정하기 위하여 하기의 방법을 수행하였다.The following methods were performed to measure the connection resistance after evaluating the thermal shock resistance of the anisotropic conductive films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3.

-40 내지 100 ℃ 및 1 사이클/hr 조건 하에서 250 내지 500 사이클 조건의 열충격 평가 후 시험전류 1mA를 인가하여 각각의 접속저항을 측정(Keithley 사 2000 Multimeter 이용, 4-probe 방식)한 그 평균값을 계산하는 방식으로 측정하였다. 상기 측정 결과는 하기 표 2에 나타내었다.After the thermal shock test at 250 to 500 cycles under the conditions of -40 to 100 ° C and 1 cycle / hr, a test current of 1 mA was applied to measure the respective connection resistances (Keithley 2000 Multimeter, 4-probe method) . The measurement results are shown in Table 2 below.

실험예Experimental Example 4  4

이방성Anisotropy 도전 필름 제품 안정성 평가 Stability evaluation of conductive film product

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 이방성 도전 필름 제품에 50 g의 추를 매달아 30 ℃ 오븐에 12시간 방치 후 이방성 도전 필름의 제품 형태를 비교하여, 방치 전의 릴 형태를 유지한 경우를 '양호'로 평가하고(도 3a 참조), 단차, 허브드랍, 액삐짐의 형태 등이 발생하여 릴이 안정적으로 풀리지 않는 경우를 '불량'으로 평가하였다(도 3b 참조). 상기 평가 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The weights of the anisotropic conductive films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were suspended in an oven at 30 ° C for 12 hours after hanging a weight of 50 g, and the product forms of the anisotropic conductive films were compared. (See FIG. 3A), and a case in which a step, a hub drop, a shape of a surge, or the like occurred and the reel could not be stably released was evaluated as 'bad' (see FIG. 3B). The evaluation results are shown in Table 3 below.

상기 실험예 1 내지 4에 따른 측정결과를 하기 표 2 및 표 3에 정리한다.The measurement results according to Experimental Examples 1 to 4 are summarized in Tables 2 and 3 below.

초기Early 고온고습High temperature and high humidity 열충격Thermal shock 250hr250hr 500hr500 hr 250cycle250cycle 500cycle500cycle 120℃, 3초, 3.0MPa120 DEG C, 3 seconds, 3.0 MPa 실시예 1Example 1 0.0370.037 0.0380.038 0.0390.039 0.0360.036 0.0370.037 실시예 2Example 2 0.0350.035 0.0370.037 0.0380.038 0.0350.035 0.0360.036 실시예 3Example 3 0.0360.036 0.0370.037 0.0380.038 0.0360.036 0.0360.036 실시예 4Example 4 0.0330.033 0.0350.035 0.0390.039 0.0340.034 0.0350.035 비교예 1Comparative Example 1 0.0440.044 0.1850.185 0.7260.726 0.1430.143 0.6810.681 비교예 2Comparative Example 2 0.0420.042 0.8810.881 1.3141.314 0.8850.885 1.1101.110 비교예 3Comparative Example 3 0.0340.034 0.0350.035 0.0380.038 0.0360.036 0.0370.037 230℃, 3초, 4.0MPa230 DEG C, 3 seconds, 4.0 MPa 실시예 1Example 1 0.0350.035 0.0360.036 0.0360.036 0.0370.037 0.0380.038 실시예 2Example 2 0.0360.036 0.0370.037 0.0380.038 0.0370.037 0.0370.037 실시예 3Example 3 0.0360.036 0.0380.038 0.0380.038 0.0360.036 0.0370.037 실시예 4Example 4 0.0330.033 0.0360.036 0.0360.036 0.0350.035 0.0380.038 비교예 1Comparative Example 1 0.0340.034 0.1490.149 0.6770.677 0.1570.157 0.4650.465 비교예 2Comparative Example 2 0.0340.034 0.9830.983 1.0861.086 0.7960.796 1.1231.123 비교예 3Comparative Example 3 0.0340.034 0.0340.034 0.0350.035 0.0350.035 0.0380.038

결과result 실시예 1Example 1 양호Good 실시예 2Example 2 양호Good 실시예 3Example 3 양호Good 실시예 4Example 4 양호Good 비교예 1Comparative Example 1 양호Good 비교예 2Comparative Example 2 양호Good 비교예 3Comparative Example 3 불량Bad

상기 표 2에서는 실험예 1 내지 3의 초기 접속저항, 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후 접속저항을 측정한 값을 각각 나타내었다. 상기 표 2를 참조하면, 상기 초기, 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후 접속저항 값에 있어서, 실시예 1 내지 4은 언제나 0.04 Ω 이하로 측정되었고, 실험예 4에 따른 표 3을 참조하면, 실시예 1 내지 4의 이방성 도전 필름은 제품 안정성 평가에서 모두 양호하게 나타남을 확인하였다.In Table 2, the initial connection resistances, the values measured after the high temperature and high humidity evaluation, and the connection resistances after the evaluation of the thermal shock were respectively shown in Experimental Examples 1 to 3. Referring to Table 2, in Examples 1 to 4, the connection resistance values after the initial, high temperature and high humidity evaluation, and after the thermal shock evaluation were measured to be 0.04? Or less, and with reference to Table 3 according to Experimental Example 4, The anisotropic conductive films of Examples 1 to 4 were all found to be satisfactory in the product stability evaluation.

반면, 비교예 1의 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s로 본원발명 범위 내이나, 금속 코어 입자에 은이 코팅되지 않은 도전입자 4(평균입경 3 내지 5um의 니켈 입자)를 사용하여 상기 초기, 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후 측정한 접속저항이 모두 0.04 Ω이상으로 나타났다. 비록, 비교예 1의 이방성 도전 필름은 제품 안정성 측면에서는 양호하나(표 3 참조), 접속저항의 측면에서 본원발명에 비해 높은 접속저항을 나타내어, 미세피지 전극의 신호 간섭을 감소시키기 어려운 것으로 확인되었다.On the other hand, the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 had a viscosity range of 100,000 to 1,000,000 Pa · s at 30 ° C and a minimum melt viscosity range of 1,000 to 9,000 Pa · s, And the connection resistance measured after the initial evaluation, the high temperature and high humidity evaluation and the thermal shock evaluation were all 0.04? Or more using the non-conductive particles 4 (nickel particles having an average particle size of 3 to 5 um). Although the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 is good in terms of product stability (see Table 3), it exhibits a higher connection resistance than the present invention in terms of connection resistance, and it was confirmed that it is difficult to reduce the signal interference of the fine-grained electrode .

비교예 2의 이방성 도전 필름은 은이 코팅된 도전 입자를 포함하고 있으나, 상기 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도가 100만 Pa·s 이상이고, 최저 용융 점도가 90 ℃에서 10,000 Pa·s이며, 상기 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후 측정한 접속저항이 모두 0.04 Ω이상으로 나타났다. 비록, 비교예 2의 이방성 도전 필름은 제품 안정성 측면에서는 양호하나(표 3 참조), 접속저항의 측면에서 상기 점도를 가지는 이방성 도전 필름은 안정적인 저항 특성을 발휘하기 위한 어려운 것으로 확인되었다.The anisotropic conductive film of Comparative Example 2 contained silver-coated conductive particles, but the anisotropic conductive film had a viscosity at 30 ° C of 1 million Pa · s or more, a minimum melt viscosity of 10,000 Pa · s at 90 ° C, All of the connection resistances measured after the high humidity evaluation and after the thermal shock evaluation were 0.04 Ω or more. Although the anisotropic conductive film of Comparative Example 2 is good in terms of product stability (see Table 3), it was confirmed that the anisotropic conductive film having the viscosity in terms of the connection resistance is difficult to exhibit stable resistance characteristics.

비교예 3의 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도가 10만 Pa·s 이하이고, 70 내지 85℃에서의 최저 용융 점도가 1,000 Pa·s이하이기 때문에 점도가 낮아서 흐름성이 충분하다. 따라서 은이 코팅된 도전입자를 사용하지 않았더라도 상기 고온 고습 평가 후 및 열충격 평가 후 측정한 접속저항이 모두 0.04 Ω이하로 나타났지만, 제품 안정성 측면에서 불량으로 평가되었음을 확인하였다. Since the anisotropic conductive film of Comparative Example 3 had a viscosity at 30 ° C of 100,000 Pa · s or less and a minimum melt viscosity at 70 to 85 ° C of 1,000 Pa · s or less, the viscosity was low and the flowability was sufficient. Therefore, even though the silver coated conductive particles were not used, all of the connection resistances measured after the evaluation of the high temperature and high humidity and after the thermal shock evaluation were 0.04 Ω or less.

표 2 및 표 3의 결과를 종합하면, 본 발명의 30 ℃ 점도 범위 및 최저 용융 점도 범위를 가지고, 금속 코어 입자 표면 면적의 3 내지 100 %로 은을 코팅한 도전입자를 사용하는 경우(실시예 1 내지 4), 저온 공정 및 고온 공정의 넓은 온도 마진에서 접속저항의 절대값을 낮출 수 있고, 안정된 접속저항 신뢰성 값을 유지할 수 있음을 확인하였다.
The results of Table 2 and Table 3 show that when conductive particles having a viscosity range of 30 ° C. and a minimum melt viscosity of the present invention and coated with silver at 3 to 100% 1 to 4), it was confirmed that the absolute value of the connection resistance can be lowered in a wide temperature margin of the low temperature process and the high temperature process, and the stable connection resistance reliability value can be maintained.

이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시예일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that such detail is solved by the person skilled in the art without departing from the scope of the invention. will be. Accordingly, the actual scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.

Claims (22)

ARES 측정에 따른 이방성 도전 필름의 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s이며, 금속 코어 입자 표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전 입자를 포함하는, 이방성 도전 필름.Wherein the anisotropic conductive film according to the ARES measurement has a viscosity range of 30,000 to 100,000 Pa · s and a minimum melt viscosity of 1,000 to 9,000 Pa · s, and the metal core particle surface is coated with silver (Ag) And an anisotropic conductive film. 제1항에 있어서, 상기 최저 용융 점도 범위를 나타내는 온도 범위가 70 내지 85 ℃인, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the temperature range indicating the lowest melt viscosity range is 70 to 85 占 폚. 제1항에 있어서, 상기 금속 코어 입자는 금(Au), 니켈(Ni), 구리(Cu), 납(Pb), 백금(Pt), 몰리브데늄(Mo), 및 텅스텐(W)로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 금속을 포함하는 금속 코어 입자인, 이방성 도전 필름.The method as claimed in claim 1, wherein the metal core particles are made of gold (Au), nickel (Ni), copper (Cu), lead (Pb), platinum (Pt), molybdenum (Mo), and tungsten Wherein the metal core particles contain at least one metal selected from the group consisting of a metal, a metal, and a metal. 제3항에 있어서, 상기 금속 코어 입자의 입경이 1 내지 10 μm인, 이방성 도전 필름. 4. The anisotropic conductive film according to claim 3, wherein the metal core particles have a particle diameter of 1 to 10 mu m. 제1항에 있어서, 상기 은이 상기 금속 코어 입자 표면 면적의 3 내지 100 %로 코팅된, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the silver is coated with 3 to 100% of the surface area of the metal core particles. 제1항에 있어서, 상기 금속 코어 입자 표면에 코팅된 은의 형상이 섬 형상인, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the shape of the silver coated on the surface of the metal core particles is islands. 제1항에 있어서, 상기 이방성 도전 필름은 이방성 도전 접착층 및 상기 이방성 도전 접착층의 배면에 접착된 기재필름을 포함하는, 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film comprises an anisotropic conductive adhesive layer and a base film adhered to a back surface of the anisotropic conductive adhesive layer. 제7항에 있어서, 상기 이방성 도전 접착층 고형분 총 중량에 대하여
열가소성 수지 1 내지 25 중량%;
아크릴레이트 변성 우레탄 수지 20 내지 70 중량%;
아크릴 공중합체 10 내지 30 중량%;
라디칼 중합성 물질 1 내지 40 중량%;
유기과산화물 0.5 내지 10 중량%;
무기입자 0.1 내지 20 중량%; 및
금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자 0.1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름.
8. The method according to claim 7, wherein the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer
1 to 25% by weight of a thermoplastic resin;
20 to 70% by weight of an acrylate modified urethane resin;
10 to 30% by weight of an acrylic copolymer;
1 to 40% by weight of a radically polymerizable substance;
0.5 to 10% by weight of an organic peroxide;
0.1 to 20% by weight of inorganic particles; And
And 0.1 to 20% by weight of conductive particles silver coated on the surface of the metal core particles.
제8항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 테트라하이드로퍼퓨릴(tetrahydrofurfuryl) 아크릴레이트, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트 및 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상인, 이방성 도전 필름.The method of claim 8, wherein the radically polymerizable material is at least one selected from the group consisting of tetrahydrofurfuryl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and bisphenol A propylene oxide-modified diacrylate. . 제8항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 상기 이방성 도전 접착층 고형분 총 중량에 대하여 테트라하이드로퍼퓨릴 아크릴레이트 1 내지 10 중량%, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트 1 내지 10 중량% 및 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디아크릴레이트 1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름.9. The composition of claim 8, wherein the radically polymerizable material comprises 1 to 10% by weight of tetrahydroperfuryl acrylate, 1 to 10% by weight of 4-hydroxybutyl acrylate, and 1 to 10% by weight of bisphenol A propylene oxide And 1 to 20% by weight of a modified diacrylate. 이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및
100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후에 측정된 초기 접속저항이 상기 100 내지 250℃의 본압착 온도 조건 모두에서 0.04 Ω 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.
Placing an anisotropic conductive film between the first to-be-connected members and the second to-be-connected member, pressurizing under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And
Wherein the initial contact resistance measured after final compression at 100 to 250 占 폚 for 1 to 5 seconds and at 2.0 to 5.0 MPa is 0.04? Or less at both of the main compression temperature conditions of 100 to 250 占 폚.
이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및
100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후, 상기 이방성 도전 필름을 85 ℃ 및 상대습도 85 %의 조건 하에서 250시간 및 500시간 동안 방치한 고온 고습 평가 후의 접속저항이 각각 0.04 Ω 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.
Placing an anisotropic conductive film between the first to-be-connected members and the second to-be-connected member, pressurizing under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And
The connection resistance after high-temperature and high-humidity evaluation in which the anisotropic conductive film was allowed to stand for 250 hours and 500 hours under the conditions of 85 ° C and 85% relative humidity after final compression under the pressure conditions of 100 to 250 ° C for 1 to 5 seconds and 2.0 to 5.0 MPa Is 0.04? Or less, respectively.
이방성 도전 필름을 제 1 피접속부재와 제 2 피접속부재 사이에 위치시키고, 50 내지 70℃, 1 내지 3초간 및 1.0 내지 3.0 MPa 압력 조건하의 가압착; 및
100 내지 250℃, 1 내지 5초간 및 2.0 내지 5.0 MPa 압력 조건하의 본압착 후, 상기 이방성 도전 필름을 -40 내지 100 ℃ 및 1 사이클/hr 조건 하에서 250 사이클 및 500 사이클 조건의 열충격 평가 후 접속저항이 각각 0.04 Ω 이하인 이방성 도전 필름.
Placing an anisotropic conductive film between the first to-be-connected members and the second to-be-connected member, pressurizing under pressure conditions of 50 to 70 DEG C for 1 to 3 seconds and 1.0 to 3.0 MPa; And
After the final pressing under the pressure conditions of 100 to 250 DEG C for 1 to 5 seconds and 2.0 to 5.0 MPa, the anisotropic conductive film was subjected to thermal shock test at 250 DEG C and 500 DEG C under the conditions of -40 to 100 DEG C and 1 cycle / Are each 0.04? Or less.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이방성 도전 필름의 ARES 측정에 따른 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s이며, 금속 코어 입자 표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전 입자를 포함하는 이방성 도전 필름.14. The method according to any one of claims 11 to 13, wherein the anisotropic conductive film has a viscosity range of 30,000 to 100,000 Pa · s according to the ARES measurement and a minimum melt viscosity range of 1,000 to 9,000 Pa · s , And the metal core particle surface is coated with silver (Ag). 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이방성 도전 접착층 고형분 총 중량에 대하여
열가소성 수지 1 내지 25 중량%;
아크릴레이트 변성 우레탄 수지 20 내지 70 중량%;
아크릴 공중합체 10 내지 30 중량%;
라디칼 중합성 물질 1 내지 40 중량%;
유기과산화물 0.5 내지 10 중량%;
무기 입자 0.1 내지 20 중량%; 및
금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자 0.1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름.
14. The method according to any one of claims 11 to 13, wherein the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer
1 to 25% by weight of a thermoplastic resin;
20 to 70% by weight of an acrylate modified urethane resin;
10 to 30% by weight of an acrylic copolymer;
1 to 40% by weight of a radically polymerizable substance;
0.5 to 10% by weight of an organic peroxide;
0.1 to 20% by weight of inorganic particles; And
And 0.1 to 20% by weight of conductive particles silver coated on the surface of the metal core particles.
이방성 도전 접착층 조성물 총 중량에 대하여
열가소성 수지 1 내지 25 중량%;
아크릴레이트 변성 우레탄 수지 20 내지 70 중량%;
아크릴 공중합체 10 내지 30 중량%;
라디칼 중합성 물질 1 내지 40 중량%;
유기과산화물 0.5 내지 10 중량%;
무기 입자 0.1 내지 20 중량%; 및
금속 코어 입자 표면에 은이 코팅된 도전입자 0.1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름 조성물.
With respect to the total weight of the anisotropic conductive adhesive layer composition
1 to 25% by weight of a thermoplastic resin;
20 to 70% by weight of an acrylate modified urethane resin;
10 to 30% by weight of an acrylic copolymer;
1 to 40% by weight of a radically polymerizable substance;
0.5 to 10% by weight of an organic peroxide;
0.1 to 20% by weight of inorganic particles; And
And 0.1 to 20% by weight of conductive particles silver coated on the surface of the metal core particles.
제16항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 테트라하이드로퍼퓨릴(tetrahydrofurfuryl) 아크릴레이트, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트 및 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상인, 이방성 도전 필름 조성물.The method of claim 16, wherein the radical polymerizable material is at least one selected from the group consisting of tetrahydrofurfuryl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and bisphenol A propylene oxide modified diacrylate. Composition. 제16항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 물질은 상기 이방성 도전 접착층 조성물 총 중량에 대하여 테트라하이드로퍼퓨릴 아크릴레이트 1 내지 10 중량%, 4-하이드록시부틸 아크릴레이트 1 내지 10 중량% 및 비스페놀 A 프로필렌옥사이드 변성 디아크릴레이트 1 내지 20 중량%를 포함하는, 이방성 도전 필름 조성물.17. The composition of claim 16, wherein the radically polymerizable material comprises 1 to 10% by weight of tetrahydroperfuryl acrylate, 1 to 10% by weight of 4-hydroxybutyl acrylate, and 1 to 10% by weight of bisphenol A propylene oxide And 1 to 20% by weight of a modified diacrylate. 제16항에 있어서, 상기 유기과산화물은 라우로일 퍼옥사이드인, 이방성 도전 필름 조성물.17. The anisotropic conductive film composition of claim 16, wherein the organic peroxide is lauroyl peroxide. 제16항 내지 제19항 중 어느 한 항의 이방성 도전 접착층 조성물에 의해 제조된 이방성 도전 필름에 있어서, ARES 측정에 따른 30 ℃ 점도 범위가 10만 내지 100만 Pa·s이고, 최저 용융 점도 범위가 1,000 내지 9,000 Pa·s인 이방성 도전 필름.An anisotropic conductive film produced by the anisotropic conductive adhesive layer composition according to any one of claims 16 to 19, wherein the viscosity range at 30 [deg.] C according to the ARES measurement is 100,000 to 1,000,000 Pa · s and the lowest melt viscosity range is 1,000 To 9,000 Pa · s. 드라이버 회로; 패널; 및 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 이방성 도전 필름;을 포함하는, 디스플레이 장치.Driver circuit; panel; And an anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 13. 드라이버 회로; 패널; 및 제16항 내지 제19항 중 어느 한 항의 이방성 도전 필름 조성물에 의해 형성된 이방성 도전 필름;을 포함하는, 디스플레이 장치.Driver circuit; panel; And an anisotropic conductive film formed by the anisotropic conductive film composition according to any one of claims 16 to 19.
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