KR20140113092A - Colored photosensitive resin composition - Google Patents

Colored photosensitive resin composition Download PDF

Info

Publication number
KR20140113092A
KR20140113092A KR1020130028033A KR20130028033A KR20140113092A KR 20140113092 A KR20140113092 A KR 20140113092A KR 1020130028033 A KR1020130028033 A KR 1020130028033A KR 20130028033 A KR20130028033 A KR 20130028033A KR 20140113092 A KR20140113092 A KR 20140113092A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
resin composition
photosensitive resin
colored photosensitive
alkali
Prior art date
Application number
KR1020130028033A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101985769B1 (en
Inventor
전성현
신규철
안대희
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020130028033A priority Critical patent/KR101985769B1/en
Publication of KR20140113092A publication Critical patent/KR20140113092A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101985769B1 publication Critical patent/KR101985769B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/24Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

The present invention relates to a colored photosensitive resin composition. More particularly, the colored photosensitive resin composition comprises: coloring; alkali-soluble resin; a photopolymerizable compound; a photopolymerization initiator; and solvents, wherein the photopolymerization initiator contains a metallocene-based compound. Thus, the colored photosensitive resin composition is optimized for digital exposure, has a fast development rate by the digital exposure, and has excellent sensitivity and adhesion. Therefore, a color filter without detachment of patterns can be prepared in the development process.

Description

착색 감광성 수지 조성물 {COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION [0002]

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
The present invention relates to a colored photosensitive resin composition.

컬러필터는 촬상(撮像)소자, 액정표시장치 등에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 급속히 확대되고 있다. 컬러 액정표시장치나 촬상소자 등에 사용되는 컬러필터는, 통상 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판상에 적색, 녹색 및 청색의 각 색에 상당하는 착색제를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅에 의해 균일하게 도포한 후, 가열 건조(이하, 예비 소성이라고 하는 경우도 있음)하여 형성된 도막을 노광, 현상하고, 필요에 따라 더 가열 경화(이하, 후 소성이라고 하는 경우도 있음)하는 조작을 색마다 반복하여 각 색의 화소를 형성함으로써 제조되고 있다.BACKGROUND ART [0002] Color filters are widely used in imaging devices, liquid crystal display devices, and the like, and their application range is rapidly expanding. A color filter used for a color liquid crystal display device, an image pickup device, or the like is a device for uniformly applying a colored photosensitive resin composition containing a coloring agent corresponding to each color of red, green and blue on a substrate on which a black matrix is pattern- The coating film formed by heating and drying (hereinafter also referred to as preliminary firing) may be exposed and developed, and if necessary, further heat curing (hereinafter also referred to as post-firing) may be repeated for each color, Color pixels are formed.

종래의 포토마스크를 사용한 패턴 형성방법에서는, 미리 형성된 패턴과 얼라인먼트 마크에서 위치맞춤을 실시하지만, 그 방법에서는 완전한 위치맞춤을 하는 것은 불가능하며, 특히 액정용 컬러필터의 경우, 블랙 매트릭스와 레드(R), 그린(G), 및 블루(B)의 각 화소와의 중첩 영역을 크게 하는 것이 필요했다. 이 때문에, 블랙 매트릭스의 폭은 필연적으로 커져서 액정표시 패널의 밝기를 저하시키고 있었다. 특히 최근에는, 액정 텔레비젼이나 휴대 단말 등에서는 밝은 표시가 필요하게 되어 있지만, 백라이트를 강화하거나 해서 대응을 하고 있기 때문에 소비전력이 큰 등의 문제가 있었다.In the conventional pattern forming method using a photomask, alignment is performed using a pattern and an alignment mark that are formed in advance. In this method, however, complete alignment can not be achieved. Particularly in the case of a color filter for liquid crystal, ), The green (G), and the blue (B) pixels. For this reason, the width of the black matrix inevitably increases, thereby lowering the brightness of the liquid crystal display panel. Particularly in recent years, bright displays are required in liquid crystal televisions and portable terminals, but there is a problem such as a large power consumption because the backlight is reinforced.

한편, 컬러필터의 제조방법으로서는, 제조 비용을 저감시키기 위해서 포토마스크를 사용하지 않고 반도체 레이저, 가스 레이저 등의 레이저광을, 화소 패턴 등의 디지털 데이터에 기초하여 감광성 조성물 상에 직접 스캔하고, 패터닝을 행하는 레이저 다이렉트 이메이징 시스템(이하, 「LDI」라고 칭하는 일이 있다)에 의한 노광장치가 제안되어 있다(일본공개특허 제2004-1244호).On the other hand, as a manufacturing method of a color filter, a laser light such as a semiconductor laser or a gas laser is directly scanned on a photosensitive composition based on digital data such as a pixel pattern without using a photomask in order to reduce the manufacturing cost, (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-1244) has been proposed by a laser directing imaging system (hereinafter sometimes referred to as " LDI ").

그러나, 이 방법은 마스크리스에 의한 비용 절감이 목적이며, 컬러필터의 성능 향상에 관해서는 조금도 기재되어 있지 않다.However, this method is aimed at cost reduction by maskless, and there is no description about improvement of the performance of the color filter.

따라서, 마스크리스에 의한 레이저 노광에 의해 감도, 밀착성 등의 성능이 우수한 컬러필터의 개발이 요구되고 있다.
Therefore, development of a color filter having excellent performance such as sensitivity and adhesion by maskless laser exposure has been demanded.

일본공개특허 제2014-1244호Japanese Laid-Open Patent Application No. 2014-1244

본 발명은 레이저 광원의 디지털 노광에 최적화되어, 디지털 노광에 의해 현상속도가 빠르고, 감도 및 밀착성이 우수하여 현상공정 중에 패턴의 박리가 없는 컬러필터를 제조할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
It is an object of the present invention to provide a colored photosensitive resin composition which is optimized for digital exposure of a laser light source and is capable of producing a color filter having a high development speed by digital exposure and excellent sensitivity and adhesion so that no pattern peeling occurs during the development process The purpose.

1. 착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하며; 상기 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하고; 상기 광중합 개시제는 메탈로센계 화합물을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물:1. A colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent; Wherein the alkali-soluble resin comprises a repeating unit represented by the following formula (1); Wherein the photopolymerization initiator comprises a metallocene-based compound:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 메틸기임).(Wherein R 1 and R 2 are independently of each other a hydrogen atom or a methyl group having 1 to 6 carbon atoms).

2. 위 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 반복 단위는 알칼리 가용성 수지에 포함되어 중합되는 모노머 전체 몰수에 대하여 3 내지 80%로 포함되는 착색 감광성 수지 조성물.2. The colored photosensitive resin composition according to 1 above, wherein the repeating unit represented by the general formula (1) is contained in an alkali-soluble resin in an amount of 3 to 80% based on the total number of moles of monomers polymerized.

3. 위 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는 불포화 결합과 글리시딜기를 갖는 모노머의 공중합체를 카르복시기와 불포화 결합을 갖는 화합물과 반응시켜 얻어진 공중합체; 또는 카르복시기와 불포화 결합을 갖는 모노머의 공중합체를 불포화 결합과 글리시딜기를 갖는 화합물과 반응시켜 얻어진 공중합체인 착색 감광성 수지 조성물.3. The alkali-soluble resin as described in 1 above, wherein the alkali-soluble resin is a copolymer obtained by reacting a copolymer of a monomer having an unsaturated bond and a glycidyl group with a compound having a carboxyl group and an unsaturated bond; Or a copolymer of a monomer having a carboxyl group and an unsaturated bond with a compound having an unsaturated bond and a glycidyl group.

4. 위 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지의 분자량은 3,000 내지 100,000인 착색 감광성 수지 조성물.4. The colored photosensitive resin composition according to 1 above, wherein the alkali-soluble resin has a molecular weight of 3,000 to 100,000.

5. 위 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지의 산가는 50 내지 200mgKOH/g인 착색 감광성 수지 조성물.5. The colored photosensitive resin composition according to 1 above, wherein the acid value of the alkali-soluble resin is 50 to 200 mgKOH / g.

6. 위 1에 있어서, 상기 메탈로센계 화합물은 (큐멘)시클로펜타디에닐-철(II)-헥사플루오로포스페이트, 비스(에타 5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐]티타늄 또는 이들의 혼합물인 착색 감광성 수지 조성물.6. The process of claim 1, wherein the metallocene compound is selected from the group consisting of (cumene) cyclopentadienyl-iron (II) -hexafluorophosphate, bis (eta 5-2,4-cyclopentadien- [2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl] titanium or a mixture thereof.

7. 위 1에 있어서, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계화합물, 비이미다졸계(biimidazole) 화합물, 티오크산톤계 화합물 및 포스핀옥사이드계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 광중합 개시제를 더 포함하는 착색 감광성 수지 조성물.7. The positive resist composition according to item 1, wherein at least one selected from the group consisting of an acetophenone compound, a benzophenone compound, a triazine compound, a biimidazole compound, a thioxanthone compound and a phosphine oxide compound And a photopolymerization initiator.

8. 위 1에 있어서, 고형분 기준으로 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 상기 착색제는 5 내지 60중량%, 상기 알칼리 가용성 수지는 10 내지 80중량%, 상기 광중합성 화합물은 5 내지 45중량% 포함되고; 상기 광중합개시제는 고형분 기준으로 알칼리 가용성 수지와 광중합성 화합물의 합계 함량에 대하여 0.1 내지 40중량%로 포함되며; 상기 용제는 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 60 내지 90중량%로 포함되는 착색 감광성 수지 조성물.8. The colored photosensitive resin composition according to 1 above, wherein the amount of the coloring agent is 5 to 60% by weight, the amount of the alkali-soluble resin is 10 to 80% by weight, and the amount of the photopolymerizable compound is 5 to 45% by weight based on the solid content. The photopolymerization initiator comprises 0.1 to 40% by weight based on the total amount of the alkali-soluble resin and the photopolymerizable compound based on the solid content; Wherein the solvent comprises 60 to 90% by weight of the total weight of the colored photosensitive resin composition.

9. 위 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 광중합 개시제 총 중량 중 10 내지 100중량%로 포함되는 착색 감광성 수지 조성물.9. The colored photosensitive resin composition according to 1 above, wherein the compound represented by Formula 1 is contained in an amount of 10 to 100% by weight based on the total weight of the photopolymerization initiator.

10. 위 1에 있어서, 아민 화합물, 카르복시산 화합물 및 티올기를 가지는 유기황 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 광중합 개시 보조제를 더 포함하는 착색 감광성 수지 조성물.10. The colored photosensitive resin composition according to 1 above, further comprising at least one photopolymerization initiation auxiliary selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound and an organic sulfur compound having a thiol group.

11. 위 1 내지 10 중 어느 한 항의 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러 필터.
11. A color filter made of a colored photosensitive resin composition according to any one of items 1 to 10 above.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 디지털 노광에 의해 현상속도가 빠르고, 감도 및 밀착성이 우수하여 현상 공정 중에 패턴의 박리를 억제할 수 있는 컬러필터를 제조할 수 있다.
The colored photosensitive resin composition of the present invention can produce a color filter capable of suppressing peeling of the pattern during the development process because of its high development speed and excellent sensitivity and adhesion by digital exposure.

본 발명은 착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하며; 알칼리 가용성 수지는 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하고; 광중합 개시제는 메탈로센계 화합물을 포함함으로써, 디지털 노광에 최적화되어, 디지털 노광에 의해 현상속도가 빠르고, 감도 및 밀착성이 우수하여 현상 공정 중에 패턴의 박리가 없는 컬러필터를 제조할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention includes a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent; The alkali-soluble resin comprises the repeating unit represented by the formula (1); The photopolymerization initiator contains a metallocene compound, thereby being capable of producing a color filter which is optimized for digital exposure, has a high developing speed by digital exposure, is excellent in sensitivity and adhesion, ≪ / RTI >

이하 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention includes a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

<착색제><Colorant>

착색제는 안료, 염료 또는 이들의 혼합물일 수 있다.The colorant may be a pigment, a dye or a mixture thereof.

안료는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료, 무기 안료 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The pigment may be an organic pigment, an inorganic pigment or a mixture thereof, which are commonly used in the art.

유기 안료는 특별히 한정되지 않고, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 등에 사용되는 안료일 수 있으며, 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌 안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The organic pigment is not particularly limited and may be a pigment used for printing ink, inkjet ink, etc. Specific examples thereof include water-soluble azo pigments, insoluble azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, Anthanthrone pigments, indanthrone pigments, pravanthrone pigments, anthraquinone pigments, anthraquinone pigments, anthanthrone pigments, anthanthrone pigments, indanthrone pigments, indanthrone pigments, Pyranthrone pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

무기 안료는 특별히 한정되지 않고 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물일 수 있으며, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 및 카본블랙으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 금속의 산화물일 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The inorganic pigment is not particularly limited and may be a metal compound such as a metal oxide or a metal complex salt and specifically includes a group consisting of iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony and carbon black &Lt; / RTI &gt; These may be used alone or in combination of two or more.

유기 안료 및 무기 안료는 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 C.I. 피그먼트 옐로우 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185; C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71; C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264; C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58; C.I 피그먼트 브라운 28 등을 들 수 있고, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36 및 C.I. 피그먼트 그린 58 등일 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Organic pigments and inorganic pigments are compounds classified as pigments in the color index (The Society of Dyers and Colourists), and specifically C.I. Pigment Yellow 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 And 185; C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71; C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 and 264; C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58; C.I. Pigment Brown 28, and the like, preferably C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 185, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 208, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36 and C.I. Pigment Green 58, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

염료는 유기용제에 대한 용해성을 가지면서 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내열성, 내용제성 등의 신뢰성을 확보할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 설폰산, 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료; 산성 염료와 질소 함유 화합물의 염; 산성 염료의 설폰아미드체 등과 이들의 유도체; 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성염료 및 이들의 유도체 등을 들 수 있다.The dye is not particularly limited as long as it has solubility in an organic solvent and can ensure reliability such as solubility in an alkali developing solution, heat resistance, solvent resistance, etc., for example, an acid dye having an acid group such as a sulfonic acid or a carboxylic acid; Salts of acidic dyes and nitrogen-containing compounds; Sulfonamide forms of acidic dyes and derivatives thereof; Azo dyes, xanthan dyes, phthalocyanine dyes, and derivatives thereof.

바람직하게 상기 염료는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판) 내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다.Preferably, the dye is a compound classified as a dye in a color index (published by The Society of Dyers and Colourists), or a known dye described in a dyeing note (coloring yarn).

상기 염료는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, C.I. 솔벤트 염료로서, C.I. 솔벤트 옐로우 4, 14, 15, 16, 21, 23, 24, 38, 56, 62, 63, 68, 79, 82, 93, 94, 98, 99, 151, 162, 163 등의 황색 염료; C.I. 솔벤트 레드 8, 45, 49, 89, 111, 122, 125, 130, 132, 146, 179 등의 적색 염료; C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 41, 45, 56, 62 등의 오렌지색 염료; C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등의 녹색 염료 등을 들 수 있으며, 유기용제에 대한 우수한 용해성의 측면에서 바람직하게는 C.I. 솔벤트 옐로우 14, 16, 21, 56, 151, 79, 93; C.I. 솔벤트 레드 8, 49, 89, 111, 122, 132, 146, 179; C.I. 솔벤트 오렌지 41, 45, 62이 바람직하고 이중 C.I. 솔벤트 옐로우 21, 79; C.I. 솔벤트 레드 8, 122, 132; C.I. 솔벤트 오렌지 45, 62 등이 보다 바람직하다.The dye is not particularly limited, and for example, C.I. As solvent dyes, C.I. Yellow dyes such as Solvent Yellow 4, 14, 15, 16, 21, 23, 24, 38, 56, 62, 63, 68, 79, 82, 93, 94, 98, 99, 151, 162, 163; C.I. Red dyes such as Solvent Red 8, 45, 49, 89, 111, 122, 125, 130, 132, 146, 179; C.I. Orange dyes such as solvent orange 2, 7, 11, 15, 26, 41, 45, 56, 62; C.I. Green dyes such as Solvent Green 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 and the like. In view of excellent solubility in organic solvents, Solvent Yellow 14, 16, 21, 56, 151, 79, 93; C.I. Solvent Red 8, 49, 89, 111, 122, 132, 146, 179; C.I. Solvent Orange 41, 45, 62 is preferred, and C.I. Solvent Yellow 21, 79; C.I. Solvent Red 8, 122, 132; C.I. Solvent Orange 45, 62 or the like is more preferable.

또한, C.I. 애시드 염료로서 C.I.애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251 등의 황색 염료; C.I.애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 등의 적색 염료; C.I.애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173 등의 오렌지색 염료; C.I.애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등의 녹색 염료 등을 들 수 있으며, 유기용제에 대한 우수한 용해도 측면에서 바람직하게는 C.I.애시드 옐로우 42; C.I.애시드 레드 92; C.I.애시드 그린 27 이 바람직하다.Also, C.I. CI Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, Yellow dye; CI Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88 , 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217 , 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349 Red dyes such as 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426; Orange dyes such as C.I. Acid Orange 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173; Green dyes such as CI Acid Green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106 and 109, Preferably CI Acid Yellow 42; C.I. Acid Red 92; C.I. Acid Green 27 is preferred.

또한 C.I.다이렉트 염료로서, C.I.다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141 등의 황색 염료; C.I.다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220,221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 등의 적색 염료; C.I.다이렉트 오렌지 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107 등의 오렌지색 염료; C.I.다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.As CI direct dyes, CI Direct Yellow 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102 , 108, 109, 129, 136, 138, 141 and the like; CI Direct Red 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211 , 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250; Orange dyes such as C.I. Direct Orange 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107; Green dyes such as C.I. Direct Green 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79,

또한, C.I. 모단토 염료로서 C.I.모단토 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 등의 황색 염료; C.I.모단토 레드1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95 등의 적색 염료; C.I.모단토 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 등의 오렌지색 염료; C.I.모단토 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.Also, C.I. Yellow dyes such as C.I. Modatto Yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 as modaneto dyes; CI Modal Red 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, Red dyes such as 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95; CI Modanato Orange 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, dyes; Green dyes such as C.I. Modatto Green 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43,

이들 염료는 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.These dyes may be used alone or in combination of two or more.

염료의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 고형분 기준으로 착색제 총 중량 중 0.5 내지 80중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 1 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 염료의 함량이 상기 범위 내인 경우, 패턴 형성 후 유기용제에 의해 염료가 용출되는 신뢰성의 저하문제를 방지할 수 있으며, 감도가 우수하다.The content of the dye is not particularly limited and may be, for example, 0.5 to 80% by weight, preferably 1 to 50% by weight, based on the solid content of the colorant. When the content of the dye is within the above range, it is possible to prevent the problem of lowering the reliability of dye elution by the organic solvent after pattern formation, and the sensitivity is excellent.

착색제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 고형분 기준으로 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 5 내지 60중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 10 내지 45중량%로 포함될 수 있다. 착색제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사 발생을 줄일 수 있다.The content of the colorant is not particularly limited and may be in the range of 5 to 60% by weight, preferably in the range of 10 to 45% by weight, based on the solid content of the colored photosensitive resin composition. When the content of the colorant is within the above range, the color density of the pixel is sufficient and the non-curing portion of the non-cured portion is not deteriorated during development, so that the occurrence of the residue can be reduced.

착색제는 조성물 내에서 균일한 혼합을 위해 분산액의 형태로 조성물에 첨가된다. 상기 분산액 상기 착색제 외에 분산제 및 조성물에 사용되는 용매를 더 포함하여 제조될 수 있다.The colorant is added to the composition in the form of a dispersion for uniform mixing in the composition. The dispersion may further comprise a dispersant and a solvent used in the composition in addition to the colorant.

분산제는 안료의 탈응집 및 안정성 유지를 위해 첨가되는 것으로서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 BMA(부틸메타아크릴레이트) 또는 DMAEMA(N,N-디메틸아미노에틸메타아크릴레이트)를 포함하는 아크릴레이트계 분산제; 폴리카르복시산 에스테르; 불포화 폴리아미드; 폴리카르복시산; 폴리카르복시산의 (부분적)아민염; 폴리카르복시산의 암모늄염; 폴리카르복시산의 알킬아민염; 폴리실록산; 장쇄 폴리아미노아미드포스페이트염; 히드록실기 함유 폴리카르복시산의 에스테르 및 이들의 개질 생성물; 프리(free) 카르복시기를 갖는 폴리에스테르와 폴리(저급 알킬렌이민)의 반응에 의해 형성된 아미드 또는 이들의 염; (메타)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메타)아크릴산-(메타)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐 알코올 또는 폴리비닐 피롤리돈과 같은 수용성 수지 또는 수용성 폴리머 화합물; 폴리에스테르; 개질 폴리아크릴레이트; 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드의 부가생성물; 포스페이트 에스테르 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The dispersant is added for maintaining deagglomeration and stability of the pigment, and any of those generally used in the art can be used without limitation. Preferably an acrylate-based dispersant comprising BMA (butyl methacrylate) or DMAEMA (N, N-dimethylaminoethyl methacrylate); Polycarboxylic acid esters; Unsaturated polyamides; Polycarboxylic acid; (Partial) amine salts of polycarboxylic acids; Ammonium salts of polycarboxylic acids; Alkylamine salts of polycarboxylic acids; Polysiloxanes; Long chain polyaminoamide phosphate salts; Esters of hydroxyl group-containing polycarboxylic acids and their modification products; An amide formed by the reaction of a polyester having a free carboxyl group with a poly (lower alkyleneimine) or a salt thereof; Soluble resin or water-soluble polymer compound such as (meth) acrylic acid-styrene copolymer, (meth) acrylic acid- (meth) acrylate ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol or polyvinylpyrrolidone; Polyester; Modified polyacrylates; Adducts of ethylene oxide / propylene oxide; Phosphate esters and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서 사용 가능한 시판되고 있는 분산제로는, 예를 들면 DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162,DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182,DISPER BYK-184, DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, DISPER BYK-2150(BYK케미사); EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48,EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800(BASF사); SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204/10(Lubirzol사); 히노액트(HINOACT) T-6000, 히노액트 T-7000, 히노액트 T-8000(카와켄 파인 케미컬사); 아지스퍼(AJISPUR) PB-821, 아지스퍼 PB-822, 아지스퍼 PB-823(아지노모토사); 플로렌 (FLORENE) DOPA-17HF, 플로렌 DOPA-15BHF, 플로렌 DOPA-33, 플로렌 DOPA-44(쿄에이샤 화학사) 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK- DISPER BYK-182, DISPER BYK-184, DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, DISPER BYK-2150 (BYK KEMISA); EFKA-44, EFKA-44, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA- 4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800 (BASF); SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204/10 (Lubirzol); Hinoact T-6000, Hinoact T-7000, Hinoact T-8000 (Kawaken Fine Chemicals); AJISPUR PB-821, Ajisper PB-822, Ajisper PB-823 (Ajinomoto); FLORENE DOPA-17HF, Florene DOPA-15BHF, Florene DOPA-33 and Florene DOPA-44 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). These may be used alone or in combination of two or more.

분산제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 고형분 기준으로 안료 100중량부에 대하여 5 내지 60중량부로 포함될 수 있고, 바람직하게는 15 내지 50중량부로 포함될 수 있다. 분산제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 안료의 미립화가 잘 이루어지고 착색제 분산액이 적정 점도를 가질 수 있다.The content of the dispersing agent is not particularly limited and may be, for example, 5 to 60 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the pigment based on the solid content. When the content of the dispersing agent is within the above range, the pigment can be finely atomized and the coloring agent dispersion can have an appropriate viscosity.

<알칼리 가용성 수지><Alkali-soluble resin>

알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함한다The alkali-soluble resin includes a repeating unit represented by the following formula (1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

(R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 메틸기임).(R 1 and R 2 are independently of each other a hydrogen atom or a methyl group having 1 to 6 carbon atoms).

화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하는 경우, 현상 속도가 빠르고 감도 및 밀착성이 개선되어, 포토마스크를 사용하지 않는 디지털 노광 방식으로 노광되는 경우에 미세한 패턴을 형성할 수 있다.When the recurring unit represented by the formula (1) is contained, the developing speed is fast and the sensitivity and adhesion are improved, and a fine pattern can be formed when exposed by a digital exposure method without using a photomask.

화학식 1로 표시되는 반복 단위를 갖는 알칼리 가용성 수지는 다양한 모노머의 중합에 의해 제조될 수 있고, 예를 들면 불포화 결합과 글리시딜기를 갖는 모노머의 공중합체를 카르복시기와 불포화 결합을 갖는 화합물과 반응시켜 얻어진 공중합체 또는 카르복시기와 불포화 결합을 갖는 모노머의 공중합체를 불포화 결합과 글리시딜기를 갖는 화합물과 반응시켜 얻어진 공중합체일 수 있다.The alkali-soluble resin having a repeating unit represented by the general formula (1) can be produced by polymerization of various monomers, for example, by reacting a copolymer of a monomer having an unsaturated bond and a glycidyl group with a compound having a carboxyl group and an unsaturated bond And a copolymer obtained by reacting the resulting copolymer or a copolymer of a monomer having a carboxyl group and an unsaturated bond with a compound having an unsaturated bond and a glycidyl group.

불포화 결합과 글리시딜기를 갖는 모노머는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 글리시딜메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 아릴글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The monomer having an unsaturated bond and a glycidyl group is not particularly limited, and examples thereof include glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, and aryl glycidyl ether. These may be used alone or in combination of two or more.

카르복시기와 불포화 결합을 갖는 모노머는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 아크릴산; 메타아크릴산; 이타콘산; 말레인산; 무수말레인산; 푸마르산; 모노메틸말레인산, 에틸말레인산, n-프로필말레인산, 이소프로필말레인산, n-부틸 말레인산, n-헥실말레인산, n-옥틸말레인산, 2-에틸헥실말레인산, n-노닐말레인산, n-도데실말레인산 등의 말레인산 알킬 에스테르 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The monomer having a carboxyl group and an unsaturated bond is not particularly limited and includes, for example, acrylic acid; Methacrylic acid; Itaconic acid; Maleic acid; Maleic anhydride; Fumaric acid; Maleic acid such as monomethyl maleate, ethyl maleate, n-propyl maleate, isopropyl maleate, n-butyl maleate, n-hexyl maleate, n-octyl maleate, 2-ethylhexyl maleate, Alkyl esters and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 따른 알칼리 가용성 수지는 상기 모노머와 공중합 가능한 적어도 1종의 다른 단량체를 더 포함하여 중합된 것일 수 있다. 예를 들면 스티렌, 비닐톨루엔, 메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐 벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물; N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 2-디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족(메타)아크릴레이트류; 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트류; 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The alkali-soluble resin according to the present invention may further comprise at least one other monomer copolymerizable with the monomer. Methylstyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p- Aromatic vinyl compounds such as vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether and p-vinyl benzyl glycidyl ether; N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, No-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, No-methylphenylmaleimide, Nm N-substituted maleimide-based compounds such as methylphenyl maleimide, Np-methylphenyl maleimide, No-methoxyphenyl maleimide, Nm-methoxyphenyl maleimide and Np-methoxyphenyl maleimide; Propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylates such as sec-butyl (meth) acrylate and t-butyl (meth) acrylate; (Meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6] decan- Alicyclic (meth) acrylates such as dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; Aryl (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate; 3- (methacryloyloxymethyl) -2-trifluoromethyl oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) 2- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 2- (methacryloyloxymethyl) -4-trifluoromethyloxetane, and the like Unsaturated oxetane compounds, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

알칼리 가용성 수지의 분자량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 폴리스트렌 환산 중량 평균 분자량이 3,000 내지 100,000일 수 있고, 바람직하게는 5,000 내지 50,000일 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 분자량이 상기 범위 내인 경우, 현상시에 막 감소를 방지할 수 있고, 패턴 부분의 누락성을 억제할 수 있다.The molecular weight of the alkali-soluble resin is not particularly limited. For example, the weight average molecular weight in terms of polystyrene may be 3,000 to 100,000, preferably 5,000 to 50,000. When the molecular weight of the alkali-soluble resin is within the above range, it is possible to prevent film reduction during development and to suppress the missing portion of the pattern portion.

알칼리 가용성 수지의 산가는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 50 내지 200mgKOH/g이며, 바람직하게는 60 내지 180mgKOH/g, 보다 바람직하게는 80 내지 130mgKOH/g일 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 산가가 상기 범위 내인 경우, 현상액에 대한 용해성이 개선되고, 잔막률이 향상될 수 있다.The acid value of the alkali-soluble resin is not particularly limited and may be, for example, 50 to 200 mgKOH / g, preferably 60 to 180 mgKOH / g, and more preferably 80 to 130 mgKOH / g. When the acid value of the alkali-soluble resin is within the above range, the solubility in a developing solution is improved and the residual film ratio can be improved.

알칼리 가용성 수지의 함량은 고형분 기준으로 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 10 내지 80중량%로 포함되고, 바람직하게는 10 내지 70중량%로 포함될 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 함량이 상기 범위 내인 경우, 현상액에의 용해성이 충분하여 패턴형성이 용이하며, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해진다.The content of the alkali-soluble resin is 10 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, based on the solid content of the colored photosensitive resin composition. When the content of the alkali-soluble resin is within the above range, solubility in a developing solution is sufficient and pattern formation is easy, and reduction of the film of the pixel portion of the exposed portion is prevented during development, so that the missing property of the non-pixel portion is improved.

화학식 1로 표시되는 반복 단위의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 알칼리 가용성 수지에 포함되어 중합되는 모노머 전체 몰수에 대하여 3 내지 80%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 5 내지 70%로 포함될 수 있다. 화학식 1로 표시되는 반복 단위의 비율이 상기 범위 내인 경우, 감도, 밀착성 및 내용제성이 우수하고, 현상 공정 중에 패턴의 박리를 억제할 수 있다.The content of the repeating unit represented by the general formula (1) is not particularly limited and may be 3 to 80%, preferably 5 to 70%, based on the total number of moles of the monomers to be polymerized in the alkali-soluble resin. When the proportion of the repeating unit represented by the general formula (1) is within the above range, it is excellent in sensitivity, adhesion, and solvent resistance, and peeling of the pattern during the development process can be suppressed.

알칼리 가용성 수지의 제조 방법의 일 구현예는 하기와 같다.One embodiment of the method for producing an alkali-soluble resin is as follows.

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 상기 예시한 단량체, 단량체 함량의 0.5 내지 20배의 용제, 단량체 몰 수에 대하여 0.1 내지 10%의 중합개시제를 첨가하고 질소 치환한다. 이후에 40 내지 140℃에서 1 내지 10 시간 교반한다.0.1 to 10% of a polymerization initiator is added to a 0.5 to 20-fold amount of the monomer, monomer, and monomers in the flask having the stirrer, the thermometer, the reflux condenser, the dropping funnel and the nitrogen- . Thereafter, the mixture is stirred at 40 to 140 DEG C for 1 to 10 hours.

용제는 통상의 라디칼 중합반응시 사용하는 것을 사용할 수 있으며, 구체적으로, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 초산에틸, 초산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로포름 및 디메틸설폭시드 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.As the solvent, those used in the conventional radical polymerization can be used. Specific examples of the solvent include tetrahydrofuran, dioxane, ethyleneglycol dimethylethyl, diethyleneglycol dimethylethyl, acetone, methylethylketone, methylisobutylketone, cyclohexanone Propanol, n-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, toluene, xylene, ethylbenzene, methylene chloride, ethyl acetate, butyl acetate, propyleneglycol monomethyl ethyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, Chloroform, dimethylsulfoxide, and the like, or a mixture thereof.

중합 개시제는 당업계에 통상적으로 사용되는 중합 개시제를 사용할 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로, 디이소프로필벤젠히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, 벤조일 퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸 헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물; 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸바레로니트릴), 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 질소 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.The polymerization initiator may be a polymerization initiator commonly used in the art and is not particularly limited. Specific examples thereof include diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butyl peroxyisopropyl carbonate, t-amyl peroxy-2-ethylhexanoate, Organic peroxides such as 2-ethylhexanoate; Azo compounds such as 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylbarenonitrile) and dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate) Nitrogen compounds and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 공정에서 분자량을 제어하기 위해 α-메틸스티렌 다이머 또는 머캅토 화합물을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. α-메틸스티렌 다이머 또는 머캅토 화합물은 단량체 함량 100중량부에 대하여 0.005 내지 5중량부로 사용될 수 있다. 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다.In the above process, an alpha -methylstyrene dimer or a mercapto compound may be used as a chain transfer agent to control the molecular weight. The? -methylstyrene dimer or the mercapto compound may be used in an amount of 0.005 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer. The above-mentioned polymerization conditions may be appropriately adjusted depending on the production equipment or the amount of heat generated by polymerization and the like.

<< 광중합성Photopolymerization 화합물> Compound &gt;

광중합성 화합물은 패턴의 강도를 강화시키기 위한 성분으로서, 1 내지 6관능성 단량체를 들 수 있다. 예를 들면 노닐페닐카비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등의 1관능성 단량체; 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 3-(아크릴로일옥시)-2-히드록시 프로필 메타 크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디메타아크릴옥시프로판, 2-히드록시-1-아크릴록시-3-메타아크릴옥시프로판 등의 2관능성 단량체; 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 등의 3관능성 단량체; 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능성 단량체; 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 5관능성 단량체; 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 6관능성 단량체 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The photopolymerizable compound is a component for enhancing the strength of the pattern, and may include 1 to 6 functional monomers. For example, monofunctional compounds such as nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and N- Monomer; (Meth) acrylates such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, 3- (acryloyloxy) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-1,3-dimethacryloxypropane, Bifunctional monomers such as 2-hydroxy-1-acryloxy-3-methacryloxypropane; Trifunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate; Tetrafunctional monomers such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate; Pentafunctional monomers such as dipentaerythritol penta (meth) acrylate; And hexafunctional monomers such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

광중합성 화합물은 패턴 강도 강화 및 평활성 개선의 측면에서 바람직하게는 2관능 이상의 다관능성 단량체일 수 있고, 보다 바람직하게는 5관능 이상의 다관능성 단량체일 수 있다.The photopolymerizable compound may preferably be a bifunctional or higher functional monomer and, more preferably, a pentafunctional or higher functional monomer in view of enhancement of pattern strength and improvement in smoothness.

사용 가능한 시판되고 있는 광중합성 화합물로는 701(NK ESTER), 701A(NK ESTER), ATMM-3L(NK ESTER), KAYARAD DPHA(닛본가야꾸) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available photopolymerizable compounds include 701 (NK ESTER), 701A (NK ESTER), ATMM-3L (NK ESTER) and KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku).

광중합성 화합물의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 고형분 기준으로 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 5 내지 45중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 7 내지 45중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물의 함량이 상기 범위 내인 경우, 화소부의 강도나 평활성이 양호할 수 있다.The content of the photopolymerizable compound is not particularly limited and may be, for example, from 5 to 45% by weight, preferably from 7 to 45% by weight, based on the solid content of the total amount of the colored photosensitive resin composition. When the content of the photopolymerizable compound is within the above range, the strength and smoothness of the pixel portion can be good.

<< 광중합Light curing 개시제Initiator >>

광중합 개시제는 메탈로센계 화합물을 포함한다.The photopolymerization initiator includes a metallocene compound.

메탈로센계 화합물을 포함하는 경우 감도 및 밀착성이 개선되므로, 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하는 알칼리 가용성 수지와 병용하여 사용할 경우, 이러한 감도 및 밀착성의 개선효과를 극대화한다.When a metallocene compound is included, sensitivity and adhesiveness are improved. Therefore, when used in combination with an alkali-soluble resin containing a repeating unit represented by the formula (1), the effect of improving the sensitivity and adhesion can be maximized.

메탈로센계 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 (큐멘)시클로펜타디에닐-철(II)-헥사플루오로포스페이트, 비스(에타 5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐]티타늄 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The metallocene compound is not particularly limited and includes, for example, (cumene) cyclopentadienyl-iron (II) -hexafluorophosphate, bis (eta 5-2,4-cyclopentadien- [2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl] titanium and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

시판되고 있는 사용 가능한 메탈로센계 화합물로는 BASF사의 Irgacure261, Irgacure784 등을 들 수 있고, 바람직하게는 Irgacure784일 수 있다.Commercially available usable metallocene compounds include Irgacure 261 and Irgacure 784 manufactured by BASF, and preferably Irgacure 784.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 메탈로센계 화합물 외에도 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 당 분야에서 통상적으로 사용되는 적어도 1종의 광중합 개시제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 비이미다졸계(biimidazole), 티오크산톤계, 포스핀옥사이드계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.In addition to the metallocene compound, the colored photosensitive resin composition of the present invention may further include at least one photopolymerization initiator commonly used in the art within the scope of the present invention. For example, acetophenone, benzophenone, triazine, biimidazole, thioxanthone, and phosphine oxide compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

아세토페논계 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다.The acetophenone compound is not particularly limited and includes, for example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2- 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan- ] Propane-1-one, and 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one.

벤조페논계 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.The benzophenone compound is not particularly limited, and examples thereof include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'- methyldiphenylsulfide, 3,3 ' -Tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

트리아진계 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.The triazine compound is not particularly limited, and examples thereof include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4- Methyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2 , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylpiperazin-1-yl) Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- (Trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (Trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

비이미다졸계 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 이들 중 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기로 치환된 이미다졸 화합물 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸 등일 수 있다.The imidazole-based compound is not particularly limited, and examples thereof include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4' Phenyl) imidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2- Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4', 5,5 'position is substituted with a carboalkoxy group , And preferably 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl ) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4,5,5'-tetraphenyl- Imidazole and the like.

티오크산톤계 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.The thioxanthone compound is not particularly limited and includes, for example, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1- Oakstone, and the like.

포스핀옥사이드계 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥사이드 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 사용 가능한 포스핀옥사이드계 화합물로는 BASF사의 DAROCUR TPO, IRGACURE 819 등을 들 수 있다.The phosphine oxide-based compound is not particularly limited, and examples thereof include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide . Examples of commercially available phosphine oxide-based compounds include DAROCUR TPO and IRGACURE 819 available from BASF.

광중합 개시제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 고형분 기준으로 알칼리 가용성 수지와 광중합성 화합물의 합계 함량에 대하여 0.1 내지 40중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 1 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있으며, 형성한 화소부의 강도와 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다.The content of the photopolymerization initiator is not particularly limited and may be, for example, from 0.1 to 40% by weight, preferably from 1 to 30% by weight, based on the total amount of the alkali-soluble resin and the photopolymerizable compound based on the solid content . When the content of the photopolymerization initiator is within the above range, the colored photosensitive resin composition becomes highly sensitive and the exposure time is shortened, so that productivity is improved and high resolution can be maintained, and the strength of the formed pixel portion and the smoothness on the surface of the pixel portion can be improved have.

광중합 개시제 중 메탈로센계 화합물의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 광중합 개시제 총 중량 중 10 내지 100중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 20 내지 100중량%로 포함될 수 있다. 메탈로센계 화합물의 함량이 상기 범위 내인 경우, 감도 향상 효과를 극대화하고 현상 공정 중 패턴의 단락 발생을 억제할 수 있다.The content of the metallocene compound in the photopolymerization initiator is not particularly limited and may be, for example, 10 to 100% by weight, preferably 20 to 100% by weight, of the total weight of the photopolymerization initiator. When the content of the metallocene compound is within the above range, it is possible to maximize the sensitivity improving effect and to suppress the occurrence of a short circuit of the pattern during the development process.

<< 광중합Light curing 개시 보조제> Initiation supplements>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 감도 향상을 위해 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may further include a photopolymerization initiation auxiliary agent for improving the sensitivity.

광중합 개시 보조제는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 아민 화합물, 카르복시산 화합물, 티올기를 가지는 유기황 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiation auxiliary is not particularly limited, and examples thereof include an amine compound, a carboxylic acid compound, and an organic sulfur compound having a thiol group. These may be used alone or in combination of two or more.

아민 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물; 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민화합물 등을 들 수 있다.The amine compound is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine; 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, Aromatic amine compounds such as 4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

카르복시산 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다.The carboxylic acid compound is not particularly limited, and examples thereof include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, And aromatic heteroacetic acids such as acetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine and naphthoxyacetic acid.

티올기를 가지는 유기황 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머갑토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.The organic sulfur compound having a thiol group is not particularly limited and examples thereof include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,3,5-tris (1H, 3H, 5H) -triene, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis Phonate), and the like.

광중합 개시 보조제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 고형분 기준으로 알칼리 가용성 수지와 광중합성 화합물의 합계 함량에 대하여 0.1 내지 40중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 1 내지 30중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시 보조제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 보다 향상되어, 이로부터 형성되는 생산성이 향상될 수 있다.The content of the photopolymerization initiator is not particularly limited and may be, for example, from 0.1 to 40% by weight, preferably from 1 to 30% by weight, based on the total amount of the alkali-soluble resin and the photopolymerizable compound based on the solid content have. When the content of the photopolymerization initiator is within the above range, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition is further improved, and productivity to be formed therefrom can be improved.

<용제><Solvent>

용제는 상기 성분들을 용해할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the above components, and examples thereof include ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols and esters. These may be used alone or in combination of two or more.

예를 들면 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, γ-부티롤락톤 등의 에스테르류 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등일 수 있다.For example, ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether Ethers such as acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, and methoxypentyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; And esters such as ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate and? -Butyrolactone. Of these, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, Ethyl lactate, butalactate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, and the like.

용제는 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제인 것이 바람직하다.The solvent is preferably an organic solvent having a boiling point of 100 占 폚 to 200 占 폚 in view of coatability and dryness.

용제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 착색제 분산액에 포함되는 용제를 포함하며, 그 전체 함량이 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 60 내지 90중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 70 내지 85중량%로 포함될 수 있다. 용제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 도포성이 양호할 수 있다.The content of the solvent is not particularly limited and includes, for example, a solvent contained in the colorant dispersion. The total content of the solvent may be 60 to 90% by weight of the total weight of the colored photosensitive resin composition, preferably 70 to 85% %. &Lt; / RTI &gt; When the content of the solvent is within the above range, the coating property may be good.

<첨가제><Additives>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 및 응집 방지제로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may further include at least one additive selected from the group consisting of other polymer compounds, a curing agent, a surfactant, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber and an anti-

다른 고분자 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.The other polymer compound is not particularly limited, and examples thereof include curable resins such as epoxy resin and maleimide resin, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, Thermoplastic resins and the like.

경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위한 성분으로서, 그 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.The curing agent is a component for increasing deep curing and mechanical strength, and the type thereof is not particularly limited, and examples thereof include epoxy compounds, polyfunctional isocyanate compounds, melamine compounds, and oxetane compounds.

에폭시 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체; 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물; 부타디엔(공)중합체 에폭시화물; 이소프렌(공)중합체 에폭시화물; 글리시딜(메타)아크릴레트(공)중합체; 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다.The epoxy compound is not particularly limited and includes, for example, bisphenol A epoxy resin, hydrogenated bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, hydrogenated bisphenol F epoxy resin, novolak epoxy resin, other aromatic epoxy resin, Epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidyl amine resins, or brominated derivatives of such epoxy resins; Aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and brominated derivatives thereof; Butadiene (co) polymeric epoxide; Isoprene (co) polymeric epoxide; Glycidyl (meth) acrylate (co) polymers; Triglycidyl isocyanurate and the like.

옥세탄 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복시산비스옥세탄 등을 들 수 있다.The oxetane compound is not particularly limited, and examples thereof include carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, and cyclohexanedicarboxylic acid bisoxetane.

경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. The curing agent may be used together with a curing agent in combination with a curing auxiliary compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound.

경화 보조 화합물은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 다가 카르복시산류, 다가 카르복시산 무수물류, 산발생제 등이 있다. 다가 카르복시산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. The curing auxiliary compound is not particularly limited, and examples thereof include polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic acid anhydrides, and acid generators. Commercially available polyvalent carboxylic acid anhydrides can be used as an epoxy resin curing agent.

본 발명에서 사용 가능한 시판되는 에폭시 수지 경화제로는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. The commercially available epoxy resin curing agent that can be used in the present invention is not particularly limited and includes, for example, a trade name (Adeka Hadona EH-700) (manufactured by Adeka Kogyo Co., Ltd.), a trade name (Rikashido HH) Ltd.) and a trade name (MH-700) (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

계면활성제는 감광성 수지 조성물의 피막 형성성을 향상시키는 성분으로, 그 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.The surfactant is a component for improving the film-forming property of the photosensitive resin composition, and the kind thereof is not particularly limited, and examples thereof include a fluorine surfactant, a silicone surfactant, or a mixture thereof.

실리콘계 계면활성제는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 등; GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등을 들 수 있다.The silicone surfactant is not particularly limited, and examples thereof include DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, and SH8400 of Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.; TS F-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460 and TSF-4452 of GE Toshiba Silicones.

불소계 계면활성제는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 시판품으로서 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등을 들 수 있다.Examples of the fluorochemical surfactant include, but are not limited to, Megapis F-470, F-471, F-475, F-482 and F-489 commercially available from Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated.

밀착 촉진제의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the adhesion promoter include, but are not limited to, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl (meth) acrylate, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

밀착 촉진제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 고형분 기준으로 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 0.01 내지 10중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 0.05 내지 2중량%로 포함될 수 있다.The content of the adhesion promoter is not particularly limited and may be, for example, 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 2% by weight based on the total weight of the colored photosensitive resin composition based on the solid content.

산화 방지제의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다.The kind of the antioxidant is not particularly limited and includes, for example, 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6- .

자외선 흡수제의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.The type of ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole and alkoxybenzophenone.

응집 방지제는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 폴리아크릴산 나트륨일 수 있다.The anti-aggregation agent is not particularly limited and may be, for example, sodium polyacrylate.

<착색 감광성 수지 조성물의 제조방법>&Lt; Method for producing colored photosensitive resin composition >

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 조제하는 방법으로서는, 예를 들면, 용매에 착색제 및 분산제를 첨가하여 분산시켜 균일한 입자 직경의 착색제 분산액을 조제한 다음, 용매에 용해시킨 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 필요에 따라 기타 첨가제 등을 용해시켜 착색제 분산액과 혼합하며 필요에 따라 다시 용매를 첨가하는 방법으로 제조할 수 있다.Examples of the method for preparing the colored photosensitive resin composition of the present invention include a method in which a colorant and a dispersant are added to and dispersed in a solvent to prepare a colorant dispersion having a uniform particle diameter and then an alkali soluble resin dissolved in a solvent, A photopolymerization initiator and, if necessary, other additives, etc. are mixed and mixed with the dispersion of the colorant and, if necessary, the solvent is added again.

<컬러필터><Color filter>

또한, 본 발명은 상기 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 제공한다.The present invention also provides a color filter made of the colored photosensitive resin composition.

컬러필터는 기판 및 상기 기판의 상부에 형성된 컬러층을 포함한다.The color filter includes a substrate and a color layer formed on the substrate.

기판은 컬러필터 자체 기판일 수 있으며, 또는 디스플레이 장치 등에 컬러필터가 위치되는 부위일 수도 있는 것으로, 특별히 제한되지 않는다. 상기 기판은 유리, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiOx) 또는 고분자 기판일 수 있으며, 상기 고분자 기판은 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES) 또는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등일 수 있다. The substrate may be a substrate of the color filter itself, or may be a portion where the color filter is placed on a display device or the like, and is not particularly limited. The substrate may be glass, silicon (Si), silicon oxide (SiO x ), or a polymer substrate. The polymer substrate may be polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC).

컬러층은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 층으로, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상 및 열경화하여 형성된 층일 수 있다.The color layer may be a layer containing the colored photosensitive resin composition of the present invention, and may be a layer formed by applying the colored photosensitive resin composition and exposing, developing, and thermosetting the colored photosensitive resin composition in a predetermined pattern.

노광 방법으로는 아날로그 방식에 의한 노광, 디지털 방식에 의한 노광을 제한 없이 실시할 수 있으나, 비용 절감 및 미세 패턴 형성을 위해 포토마스크를 사용하지 않는 디지털 노광 방식이 더 바람직하다.As the exposure method, it is possible to carry out the exposure by the analog method and the exposure by the digital method without limitation, but a digital exposure method which does not use a photomask is more preferable for cost reduction and fine pattern formation.

디지털 노광으로서는 상기 포토마스크를 사용하지 않고 행하는 것이어라면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적당하게 선택할 수 있지만, 예를 들면, 광조사 수단 및 광변조 수단을 적어도 구비한 노광 헤드와, 상기 감광층의 적어도 어느 하나를 이동시키면서, 상기 감광층에 대하여 상기 광조사 수단으로부터 출사된 광을 상기 광변조 수단에 의해 패턴 정보에 따라 변조하면서 상기 노광 헤드로부터 조사해서 행하는 것이 바람직하다.The digital exposure is not particularly limited as long as it can be performed without using the photomask. The exposure can be appropriately selected in accordance with the purpose. For example, an exposure head having at least light irradiation means and light modulation means, It is preferable that light emitted from the light irradiation means is irradiated to the photosensitive layer from the exposure head while modulating the light according to the pattern information by the light modulation means.

디지털 노광에서 사용하는 광원으로서는, 자외로부터 근적외선을 발하는 광원이면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적당하게 선택할 수 있으며, 예를 들면 (초)고압 수은등, 크세논등, 카본 아크등, 할로겐 램프, 및 복사기용 등의 형광관, 또는 레이저광 등의 공지 광원이 사용된다. 이들 중에서도 (초)고압 수은등, 레이저광이 바람직하고, 레이저광이 보다 바람직하다.The light source used in the digital exposure is not particularly limited as long as it is a light source emitting near infrared rays from ultraviolet rays and can be appropriately selected in accordance with the purpose. Examples of the light source include high-pressure mercury lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, Or a known light source such as a laser beam is used. Among these, (sec) high-pressure mercury lamp and laser light are preferable, and laser light is more preferable.

상기와 같은 기판 및 컬러층을 포함하는 컬러필터는, 각 착색패턴 사이에 형성된 격벽을 더 포함할 수 있으며, 블랙 매트릭스를 더 포함할 수도 있다. 또한, 컬러필터의 컬러층 상부에 형성된 보호막을 더 포함할 수도 있다. The color filter including the substrate and the color layer as described above may further include a partition wall formed between each color pattern, and may further include a black matrix. Further, it may further comprise a protective film formed on the color layer of the color filter.

<액정표시장치><Liquid Crystal Display Device>

또한 본 발명은 상기 컬러필터를 구비한 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention also relates to a liquid crystal display device provided with the color filter.

본 발명의 액정표시장치는 상기 컬러필터를 구비한 것을 제외하고는 본 발명의 기술분야에서 당업자에게 알려진 구성을 포함할 수 있고, 본 발명에서 특별히 제한하지 않는다.The liquid crystal display device of the present invention may include a configuration known to those skilled in the art without the color filter, and is not particularly limited in the present invention.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are intended to be illustrative of the invention and are not intended to limit the scope of the claims. It will be apparent to those skilled in the art that such variations and modifications are within the scope of the appended claims.

제조예Manufacturing example . .

(1) 착색제 분산액의 제조(1) Preparation of colorant dispersion

C.I. 피그먼트 레드 254 12중량부, 안료 분산제로 DISPERBYK-2001 (BYK사 제조) 4.0중량부, 용제로 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 84중량부를 비드밀로 12시간 동안 혼합 및 분산하여 착색제 분산액을 제조하였다.C.I. 12 parts by weight of Pigment Red 254, 4.0 parts by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) as a pigment dispersant, and 84 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed and dispersed for 12 hours with a bead mill to prepare a colorant dispersion.

(2) 착색제 분산액의 제조(2) Preparation of colorant dispersion

C.I. 피그먼트 그린 36 12중량부, 안료 분산제로 DISPERBYK-2001 (BYK사 제조) 4.0중량부, 용매로 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 84중량부를 비드밀로 12시간 동안 혼합 및 분산하여 착색제 분산액을 제조하였다.
, 12 parts by weight of CI Pigment Green 36, 4.0 parts by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) as a pigment dispersant, and 84 parts by weight of propylene glycol methyl ether acetate as a solvent were mixed and dispersed with a bead mill for 12 hours to prepare a colorant dispersion.

합성예Synthetic example . 알칼리 가용성 수지의 합성. Synthesis of alkali-soluble resin

(1)  (One) 합성예Synthetic example 1 One

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 120부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80부, AIBN 2부, 아크릴산 19.0부, 벤질메타아크릴레이트 10부, 스티렌 51.0부, n-도데실머캅탄 3부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 온도를 110℃로 상승시키고 6시간 반응시켰다. 이어서, 반응액의 온도를 상온으로 내리고 플라스크 공기를 다시 일반 공기로 치환한 후, 트리에틸아민 0.3부, 글리시딜메타크릴레이트 20부를 투입하고 110℃에서 5시간 반응시켰다. 이렇게 합성된 알칼리 가용성 수지의 고형분 산가는 80㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 22,000이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 80 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 19.0 parts of acrylic acid, 10 parts of benzyl methacrylate, 51.0 parts of styrene and 3 parts of n-dodecylmercaptan were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature was elevated to 110 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 6 hours. Subsequently, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature, and the air in the flask was again replaced with ordinary air. Then, 0.3 part of triethylamine and 20 parts of glycidyl methacrylate were added and reacted at 110 DEG C for 5 hours. The alkali-soluble resin thus synthesized had a solid dispersion value of 80 mgKOH / g and a weight average molecular weight Mw of about 22,000 as measured by GPC.

(2)  (2) 합성예Synthetic example 2 2

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 108부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 72부 AIBN 2부, 아크릴산 18부, 벤질메타아크릴레이트 22부, 스티렌 40부, 메틸메타아크릴레이트 10부, n-도데실머캅토 3부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 110℃로 상승시키고 3시간 반응하였다. 이렇게 합성된 알칼리 가용성 수지의 고형분 산가는 147㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 21,200 이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 108 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 72 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 18 parts of acrylic acid, 22 parts of benzyl methacrylate, 40 parts, methyl methacrylate 10 parts, and n-dodecyl mercapto 3 parts were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature of the reaction solution was elevated to 110 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 3 hours. The alkali-soluble resin thus synthesized had a solid dispersion value of 147 mgKOH / g and a weight average molecular weight Mw of about 21,200 as measured by GPC.

실시예Example 1 One

제조예 (1)의 착색제 분산액 43.8부, 합성예 (1)의 수지 9.8부, DPHA(일본화약사) 4.0부, Irgacure 784 (BASF사 제조) 0.7부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 17.0부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 17.0부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.43.8 parts of the colorant dispersion of Production Example (1), 9.8 parts of the resin of Synthesis Example (1), 4.0 parts of DPHA (Japanese Pharmacopoeia), 0.7 part of Irgacure 784 (BASF), 17.0 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, And 17.0 parts of glycol monomethyl ether were mixed to prepare a colored photosensitive resin composition.

실시예Example 2 2

제조예 (2)의 착색제 분산액 43.8부, 합성예 (1)의 수지 9.8부, DPHA(일본화약사) 4.0부, Irgacure 784 (BASF사 제조) 0.7부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 17.0부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 17.0부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.43.8 parts of the colorant dispersion of Production Example (2), 9.8 parts of the resin of Synthesis Example (1), 4.0 parts of DPHA (Japanese Pharmacopoeia), 0.7 part of Irgacure 784 (BASF), 17.0 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, And 17.0 parts of glycol monomethyl ether were mixed to prepare a colored photosensitive resin composition.

비교예Comparative Example 1 One

제조예 (1)의 착색제 분산액 43.8부, 합성예 (2)의 수지 9.8부, DPHA(일본화약사) 4.0부, Irgacure 784 (BASF사 제조) 0.7부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 17.0부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 17.0부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.43.8 parts of the colorant dispersion of Production Example (1), 9.8 parts of the resin of Synthesis Example (2), 4.0 parts of DPHA (Japanese Pharmacopoeia), 0.7 part of Irgacure 784 (BASF), 17.0 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, And 17.0 parts of glycol monomethyl ether were mixed to prepare a colored photosensitive resin composition.

비교예Comparative Example 2 2

상기 제조예 (1)의 착색제 분산액 43.8부, 합성예 (1)의 수지 9.8부, DPHA(일본화약사) 4.0부, Irgacure 819 (BASF사 제조) 0.7부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 17.0부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 17.0부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.43.8 parts of the colorant dispersion of Production Example (1), 9.8 parts of the resin of Synthesis Example (1), 4.0 parts of DPHA (Japanese Pharmacopoeia), 0.7 parts of Irgacure 819 (BASF), 17.0 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, And 17.0 parts of propylene glycol monomethyl ether were mixed to prepare a colored photosensitive resin composition.

비교예Comparative Example 3 3

제조예 (1)의 착색제 분산액 43.8부, 합성예 (1)의 수지 9.8부, DPHA(일본화약사) 4.0부, Irgacure OXE01 (BASF사 제조) 0.7부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 17.0부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 17.0부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.43.8 parts of the colorant dispersion of Production Example (1), 9.8 parts of the resin of Synthesis Example (1), 4.0 parts of DPHA (Japanese Pharmacopoeia), 0.7 part of Irgacure OXE01 (BASF), 17.0 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, And 17.0 parts of glycol monomethyl ether were mixed to prepare a colored photosensitive resin composition.

실험예Experimental Example

실시예 및 비교예에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 각각 스핀 코팅법으로 2인치각의 유리 기판(코닝사 제조, 「EAGLE XG」) 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 이어서 550nm 레이져 광원의 디지털 노광기로 30mJ/㎠의 광량으로 조사하여 노광을 진행하였다. 상기 노광된 기판을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 담궈 현상하였다. 상기 박막이 도포된 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 230℃의 가열 오븐에서 25분간 가열하여 컬러필터를 제조하였다. 제조된 컬러필터의 필름 두께는 2.3 ㎛이었다.Each of the colored photosensitive resin compositions prepared in Examples and Comparative Examples was applied on a glass substrate (EAGLE XG, manufactured by Corning Incorporated) having a 2-inch square by spin coating, then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 캜 for 3 minutes To form a thin film. Subsequently, exposure was performed by irradiating with a digital exposure apparatus of 550 nm laser light source at a light quantity of 30 mJ / cm 2. The exposed substrate was immersed in a KOH aqueous solution of pH 10.5 for 2 minutes to develop. The glass plate coated with the thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 230 ° C for 25 minutes to prepare a color filter. The film thickness of the manufactured color filter was 2.3 탆.

(1) 현상속도 측정(1) Development speed measurement

현상시 비노광부가 현상액에 완전히 용해되는데 걸리는 시간을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.The time taken for the unexposed area to completely dissolve in the developing solution at the time of development was measured and is shown in Table 1 below.

(2) 밀착성 평가(2) Evaluation of adhesion

생성된 패턴을 광학현미경을 통하여 평가하였을 때 아래와 같은 패턴상에 뜯김 현상 정도로 평가하여 하기 표 1에 나타내었다.When the resulting pattern was evaluated by an optical microscope, the following pattern was evaluated on the basis of the degree of peeling, and the results are shown in Table 1 below.

○: 패턴상 뜯김 없음○: No pattern peeling

△: 패턴상 뜯김 1~3개△: 1 to 3 pattern peeling

×: 패턴상 뜯김 4 이상X: Pattern peeling 4 or more

××: 패턴상 뜯김 10 이상××: Pattern peeling 10 or more

(3) 패턴의 (3) pattern of 선폭Line width 측정 Measure

생성된 패턴의 선폭을 주사전자현미경으로 관찰하여 측정하였다. 패턴의 선폭이 포토마스크의 선폭 이상으로 측정된 경우 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 충분하여 선폭이 확대되었다고 할 수 있다. 포토마스크 대비 확대된 선폭을 하기 표 1에 나타내었다.The line width of the generated pattern was observed with a scanning electron microscope and measured. When the line width of the pattern is measured to be not less than the line width of the photomask, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition is sufficient and the line width is enlarged. Table 1 shows the enlarged line widths of the photomask.

구분division 현상 속도(초)Development speed (sec) 패턴 선폭 확대(㎛)Pattern line width expansion (㎛) 밀착성Adhesiveness 실시예 1Example 1 2222 6.56.5 실시예 2Example 2 2020 5.15.1 비교예 1Comparative Example 1 4747 4.44.4 비교예 2Comparative Example 2 4343 -1.2-1.2 XX 비교예 3Comparative Example 3 4444 -3.1-3.1 X XX X

상기 표 1을 참조하면, 실시예 1 및 2의 조성물은 현상 속도가 빠르고, 생성된 패턴의 선폭이 크게 확대된 것으로 보아 감도가 우수하며, 패턴의 밀착성이 우수한 것을 확인할 수 있다.Referring to Table 1, it can be seen that the composition of Examples 1 and 2 has a high development speed and a greatly enlarged line width of the generated pattern, which is excellent in sensitivity and excellent in pattern adhesion.

그러나 비교예 1 내지 3의 조성물은 현상 속도가 느리고, 특히 비교예 2 및 3의 조성물은 감도가 떨어지고, 패턴의 밀착성이 크게 떨어졌다.However, the compositions of Comparative Examples 1 to 3 were slow in development, particularly the compositions of Comparative Examples 2 and 3 were inferior in sensitivity and the pattern adhesion was greatly decreased.

Claims (11)

착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하며;
상기 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하고;
상기 광중합 개시제는 메탈로센계 화합물을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00003

(식 중, R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 메틸기임).
A colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent;
Wherein the alkali-soluble resin comprises a repeating unit represented by the following formula (1);
Wherein the photopolymerization initiator comprises a metallocene-based compound:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00003

(Wherein R 1 and R 2 are independently of each other a hydrogen atom or a methyl group having 1 to 6 carbon atoms).
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 반복 단위는 알칼리 가용성 수지에 포함되어 중합되는 모노머 전체 몰수에 대하여 3 내지 80%로 포함되는 착색 감광성 수지 조성물.
The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the repeating unit represented by the formula (1) is contained in an alkali soluble resin in an amount of 3 to 80% based on the total number of moles of monomers to be polymerized.
청구항 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는 불포화 결합과 글리시딜기를 갖는 모노머의 공중합체를 카르복시기와 불포화 결합을 갖는 화합물과 반응시켜 얻어진 공중합체; 또는 카르복시기와 불포화 결합을 갖는 모노머의 공중합체를 불포화 결합과 글리시딜기를 갖는 화합물과 반응시켜 얻어진 공중합체인 착색 감광성 수지 조성물.
[2] The method of claim 1, wherein the alkali-soluble resin is a copolymer obtained by reacting a copolymer of a monomer having an unsaturated bond and a glycidyl group with a compound having a carboxyl group and an unsaturated bond; Or a copolymer of a monomer having a carboxyl group and an unsaturated bond with a compound having an unsaturated bond and a glycidyl group.
청구항 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지의 분자량은 3,000 내지 100,000인 착색 감광성 수지 조성물.
The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the alkali-soluble resin has a molecular weight of 3,000 to 100,000.
청구항 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지의 산가는 50 내지 200 mgKOH/g인 착색 감광성 수지 조성물.
The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the acid value of the alkali-soluble resin is 50 to 200 mgKOH / g.
청구항 1에 있어서, 상기 메탈로센계 화합물은 (큐멘)시클로펜타디에닐-철(II)-헥사플루오로포스페이트, 비스(에타 5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐]티타늄 또는 이들의 혼합물인 착색 감광성 수지 조성물.
4. The method of claim 1, wherein the metallocene compound is selected from the group consisting of (cumene) cyclopentadienyl-iron (II) -hexafluorophosphate, bis (eta 5-2,4-cyclopentadien- , 6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl] titanium or a mixture thereof.
청구항 1에 있어서, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계화합물, 비이미다졸계(biimidazole) 화합물, 티오크산톤계 화합물 및 포스핀옥사이드계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 광중합 개시제를 더 포함하는 착색 감광성 수지 조성물.
The photoresist composition according to claim 1, wherein at least one photopolymerization initiator selected from the group consisting of an acetophenone compound, a benzophenone compound, a triazine compound, a biimidazole compound, a thioxanthone compound, and a phosphine oxide compound Wherein the coloring photosensitive resin composition further comprises:
청구항 1에 있어서, 고형분 기준으로 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중
상기 착색제는 5 내지 60중량%,
상기 알칼리 가용성 수지는 10 내지 80중량%,
상기 광중합성 화합물은 5 내지 45중량% 포함되고;
상기 광중합개시제는 고형분 기준으로 알칼리 가용성 수지와 광중합성 화합물의 합계 함량에 대하여 0.1 내지 40중량%로 포함되며;
상기 용제는 착색 감광성 수지 조성물 총 중량 중 60 내지 90중량%로 포함되는 착색 감광성 수지 조성물.
2. The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the total weight of the colored photosensitive resin composition
Wherein the colorant comprises 5 to 60% by weight,
The alkali-soluble resin preferably comprises 10 to 80% by weight,
Said photopolymerizable compound comprises from 5 to 45% by weight;
The photopolymerization initiator comprises 0.1 to 40% by weight based on the total amount of the alkali-soluble resin and the photopolymerizable compound based on the solid content;
Wherein the solvent comprises 60 to 90% by weight of the total weight of the colored photosensitive resin composition.
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 광중합 개시제 총 중량 중 10 내지 100중량%로 포함되는 착색 감광성 수지 조성물.
The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the compound represented by Formula 1 is contained in an amount of 10 to 100% by weight based on the total weight of the photopolymerization initiator.
청구항 1에 있어서, 아민 화합물, 카르복시산 화합물 및 티올기를 가지는 유기황 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 광중합 개시 보조제를 더 포함하는 착색 감광성 수지 조성물.
The colored photosensitive resin composition according to claim 1, further comprising at least one photopolymerization initiation auxiliary selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound, and an organic sulfur compound having a thiol group.
청구항 1 내지 10 중 어느 한 항의 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러 필터.A color filter made of the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 10.
KR1020130028033A 2013-03-15 2013-03-15 Method of manufacturing color filter using maskless digital exposure KR101985769B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130028033A KR101985769B1 (en) 2013-03-15 2013-03-15 Method of manufacturing color filter using maskless digital exposure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130028033A KR101985769B1 (en) 2013-03-15 2013-03-15 Method of manufacturing color filter using maskless digital exposure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140113092A true KR20140113092A (en) 2014-09-24
KR101985769B1 KR101985769B1 (en) 2019-06-04

Family

ID=51757750

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130028033A KR101985769B1 (en) 2013-03-15 2013-03-15 Method of manufacturing color filter using maskless digital exposure

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101985769B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150109683A (en) * 2014-03-20 2015-10-02 동우 화인켐 주식회사 Photosensitive resin composition
KR20170064793A (en) * 2015-12-02 2017-06-12 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR20170111912A (en) * 2016-03-30 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device using the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100018572A (en) * 2007-06-01 2010-02-17 후지필름 가부시키가이샤 Curable composition for color filter, method for producing curable composition for color filter, colored curable resin composition, method for forming colored pattern, colored pattern, method for producing color filter, color filter, and liquid crystal display device
KR20100073350A (en) * 2008-12-23 2010-07-01 제일모직주식회사 Photosensitive composition and plasma display electrode fabricated using the same
KR20120035995A (en) * 2010-10-07 2012-04-17 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display using same
KR20130015631A (en) * 2011-08-04 2013-02-14 동우 화인켐 주식회사 A colored photosensitive resin composition, colored pattern, color filter and liquid crystal display device having the same
JP2014001244A (en) 2000-05-12 2014-01-09 Northwest Biotherapeutics Inc Method for increasing class i presentation of exogenous antigen by human dendritic cell

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014001244A (en) 2000-05-12 2014-01-09 Northwest Biotherapeutics Inc Method for increasing class i presentation of exogenous antigen by human dendritic cell
KR20100018572A (en) * 2007-06-01 2010-02-17 후지필름 가부시키가이샤 Curable composition for color filter, method for producing curable composition for color filter, colored curable resin composition, method for forming colored pattern, colored pattern, method for producing color filter, color filter, and liquid crystal display device
KR20100073350A (en) * 2008-12-23 2010-07-01 제일모직주식회사 Photosensitive composition and plasma display electrode fabricated using the same
KR20120035995A (en) * 2010-10-07 2012-04-17 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display using same
KR20130015631A (en) * 2011-08-04 2013-02-14 동우 화인켐 주식회사 A colored photosensitive resin composition, colored pattern, color filter and liquid crystal display device having the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150109683A (en) * 2014-03-20 2015-10-02 동우 화인켐 주식회사 Photosensitive resin composition
KR20170064793A (en) * 2015-12-02 2017-06-12 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR20170111912A (en) * 2016-03-30 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device using the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR101985769B1 (en) 2019-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102001710B1 (en) Colored photosensitive resin composition
JP6315673B2 (en) Colored photosensitive resin composition
JP2015041104A (en) Colored photosensitive resin composition, and color filter and display device including the same
JP6625511B2 (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and display device including the same
KR101992866B1 (en) Colored photosensitive resin composition
KR20150107491A (en) A colored photosensitive resin composition
KR101968510B1 (en) Photosensitive resin composition for forming red pixel pattern
KR101988256B1 (en) Colored photosensitive resin composition
KR20140100261A (en) Colored photosensitive resin composition
KR101962481B1 (en) A colored photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR101992867B1 (en) Colored photosensitive resin composition
KR101985769B1 (en) Method of manufacturing color filter using maskless digital exposure
KR20140008033A (en) Colored photosensitive resin composition and color filter using the same
KR20140100264A (en) Colored photosensitive resin composition
CN108459466B (en) Colored photosensitive resin composition for red pixel, color filter and application thereof
JP2014026278A (en) Colored photosensitive resin composition
KR20180085927A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and display device having the same
KR102386493B1 (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device using the same
KR20170077362A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR20150109099A (en) A colored photosensitive resin composition for color filter, color filter and liquid crystal display device having the same
KR101987657B1 (en) Colored photosensitive resin composition
KR20150022172A (en) A color photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR20140015677A (en) Colored photosensitive resin composition and color filter
KR20190083541A (en) Colored Photosensitive Resin Composition, Color Filter and Display Device
KR101805198B1 (en) A colored photosensitive resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant