KR20140107053A - Method for manufacturing liquid crystal display protection film and liquid crystal display protection film manufactured thereby - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal display protection film and liquid crystal display protection film manufactured thereby Download PDF

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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal protective film capable of reducing physical and thermal damage and manufacturing a thinner and more light liquid crystal protective film and the liquid crystal protective film manufactured by the method. The method for manufacturing a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention comprises: a process of preparing a plurality of first mask film parts on the upper side of a thin glass plate; a process of preparing a second mask film part on the lower side of the thin glass plate in the position corresponding to the first mask film parts; and a process of obtaining a cell unit liquid crystal protective film by etching the rest part except the first and second mask film parts.

Description

액정보호필름 제조방법 및 이로 제조되는 액정보호필름{METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PROTECTION FILM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PROTECTION FILM MANUFACTURED THEREBY}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal protective film, and a liquid crystal protective film produced using the same. BACKGROUND OF THE INVENTION < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 액정보호필름 제조방법 및 이로 제조되는 액정보호필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 제조시 물리적, 열적 손상을 줄이고, 더 얇고 가벼운 액정보호필름을 제조할 수 있는 액정보호필름 제조방법 및 이로 제조되는 액정보호필름에 관한 것이다.The present invention relates to a process for producing a liquid crystal protective film and a liquid crystal protective film produced therefrom, and more particularly to a process for producing a liquid crystal protective film which can reduce physical and thermal damage during manufacture and can produce thinner and lighter liquid crystal protective films. To a liquid crystal protective film to be produced.

일반적으로, 휴대폰, 스마트폰, 휴대정보단말기(PDA; Personal Digital Assistant), 휴대용 멀티미디어 플레이어(PMP; Portable Multimedia Player), 노트북과 같은 휴대용 단말기의 액정화면(LCD 패널)을 오염물질이나 스크래치(scratch)로부터 보호하기 위해, 액정화면에 액정보호필름을 부착하여 사용하고 있다.Generally, a liquid crystal display (LCD panel) of a portable terminal such as a mobile phone, a smart phone, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP) A liquid crystal protective film is attached to the liquid crystal screen and used.

액정보호필름의 기재 필름으로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 폴리메틸메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate; PMMA), 폴리에틸렌(Polyethylene; PE), 폴리프로필렌(Polypropylene; PP), 폴리아미드(Polyamide; PA), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylene Naphthalate; PEN), 폴리이미드(Polyimide; PI) 등이 사용되고 있으며, 근래에는 유리(glass) 기판을 이용한 액정보호필름도 사용되고 있다.Examples of the base film of the liquid crystal protective film include polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene (PE), polypropylene PP, polyamide (PA), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide (PI), and the like. Recently, a liquid crystal protective film using a glass substrate has also been used.

한편, 유리 기판을 이용한 액정보호필름 제조공정에서, 유리 기판을 절단하는 방법으로는 스크라이빙(scribing) 방식이 많이 사용되고 있다. 종래의 스크라이빙 방식은 유리 기판의 앞면에 다이아몬드 스크라이버(scriber) 또는 레이저를 이용하여 홈(groove)을 만든 후, 유리 기판의 뒷면에 응력을 가하여 유리 기판을 절단하게 된다.On the other hand, in the process of manufacturing a liquid crystal protective film using a glass substrate, a scribing method is widely used as a method of cutting a glass substrate. In the conventional scribing method, a groove is formed on the front surface of a glass substrate by using a diamond scriber or a laser, and a stress is applied to the back surface of the glass substrate to cut the glass substrate.

그리고, 광의 강도가 높아 고경도의 대상물 또는 취성재료의 절단에 유용한 레이저를 이용한 절단방법에서는 피가공물인 유리 기판에 레이저 빔을 조사하여 피가공물을 절단한다. 즉, 피가공물인 유리 기판에 레이저를 조사하여 유리 표면의 온도를 올린 후, 연속적으로 냉각되는 유리 기판의 표면 온도차에 의하여 열 충격(thermal shock) 현상을 발생시키고, 이로 인해 유발된 크랙(crack)을 이용하여 유리 기판을 절단하게 된다.In a cutting method using a laser which is useful for cutting an object or a brittle material having high hardness with high light intensity, a laser beam is irradiated to a glass substrate as a workpiece to cut the workpiece. That is, a laser is irradiated on a glass substrate, which is a workpiece, to raise the temperature of the glass surface, and then a thermal shock phenomenon is caused by the surface temperature difference of the glass substrate that is continuously cooled, Is used to cut the glass substrate.

그러나, 종래의 스크라이빙 방식이나 레이저 방식을 이용하여 유리 기판을 절단하는 경우, 다음과 같은 문제점이 있었다.However, when the glass substrate is cut using the conventional scribing method or laser method, there are the following problems.

먼저, 종래의 스크라이빙을 방식으로 유리 기판을 절단하는 경우, 유리 기판의 절단면의 상태가 균일하지 않거나 불량해지고, 물리적 손상을 얻을 수 있는 문제점이 있다. 특히, 종래의 200㎛ 이하의 초박판 유리를 절단하는 경우에는 공정 진행 중 유리 기판이 파손되거나 수율이 낮아지는 문제점이 있다.First, when the glass substrate is cut by the conventional scribing method, the state of the cut surface of the glass substrate becomes uneven or bad, and physical damage can be obtained. Particularly, there is a problem in that when the conventional ultra-thin plate glass of 200 탆 or less is cut, the glass substrate is broken or the yield is low during the process.

다음으로, 레이저 방식을 이용하여 유리 기판을 절단하는 경우, 열 손상을 통해 발생된 미세 부스러기(chipping)를 기점으로 크랙이 발생할 수 있기 때문에, 유연성이나 빛의 굴절률이 저하될 수 있다. 또한, 200㎛ 이하의 초박판 유리의 경우에는 열 손상으로 인해 심한 경우 공정시 기판이 쉽게 파손되는 문제점을 갖는다. 또한, 레이저 방식에서는 절단하고자 하는 부분, 즉, 커팅 라인(cutting line)을 따라 가공하기 때문에 절단 시간이 오래 걸려 생산성이 낮고, 레이저원(laser source)이 고가여서 공정비용도 증가하는 문제점이 있다. Next, when a glass substrate is cut using a laser system, cracks may be generated starting from fine chipping generated by thermal damage, so that flexibility and refractive index of light may be lowered. Further, in the case of ultra-thin plate glass of 200 탆 or less, there is a problem that the substrate easily breaks during the process in severe cases due to heat damage. In addition, in the laser system, since a laser beam is processed along a cutting line, that is, a cutting line, it takes a long time to cut, resulting in a low productivity and a high laser source.

이러한 문제점은 생산율을 낮추고, 품질 유지를 어렵게 할 뿐만 아니라, 추후 공정 진행이 지연되게 하는 등을 야기하는 결과를 초래하게 된다. 이로 인해 낮은 표면 경도 및 낮은 내구성에도 불구하고 PET 소재의 액정보호 필름이 사용되거나, 200㎛ 이상의 두께를 가지는 두꺼운 유리 소재가 사용됨으로써 높은 표면 경도와 더욱 얇고 가벼운 것을 선호하는 시장 트랜드를 충족시키지 못하는 문제점이 있다. Such a problem lowers the production rate, makes it difficult to maintain the quality, and causes the process to be delayed in the future. This makes it possible to use a liquid crystal protective film of PET material in spite of low surface hardness and low durability, or to use a thick glass material having a thickness of 200 μm or more, thereby failing to meet the market trend favoring high surface hardness and thinner and lighter .

따라서, 200㎛ 이하의 초박판 유리를 이용하면서도, 물리적, 열적 손상을 줄이고, 더 얇고 가벼운 액정보호필름을 제조할 수 있도록 하기 위한 액정보호필름 제조방법이 요구된다.Therefore, there is a need for a method of manufacturing a liquid crystal protective film for reducing physical and thermal damage while using ultra thin plate glass of 200 탆 or less and for making thinner and lighter liquid crystal protective film.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 제조시 물리적, 열적 손상을 줄이고, 더 얇고 가벼운 액정보호필름을 제조할 수 있는 액정보호필름 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention provides a method of manufacturing a liquid crystal protective film which can reduce physical and thermal damage during manufacture and can produce thinner and lighter liquid crystal protective films.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 유리 박판의 상면에 복수개의 제1마스크 필름부를 마련하는 공정; 상기 유리 박판의 하면에 상기 제1마스크 필름부에 대응되는 위치로 제2마스크 필름부를 마련하는 공정; 그리고 상기 유리 박판에서 상기 제1마스크 필름부와 상기 제2마스크 필름부가 마련되지 않은 부분을 식각하여 셀 단위의 액정보호필름을 얻는 공정을 포함하여 이루어지는 액정보호필름 제조 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, including: providing a plurality of first mask film portions on a top surface of a glass thin plate; Providing a second mask film portion at a position corresponding to the first mask film portion on the lower surface of the glass thin plate; And etching a portion of the glass sheet that is not provided with the first mask film portion and the second mask film portion to obtain a cell protective liquid crystal protective film.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1마스크 필름부는 상기 유리 박판의 상면에 마련되는 비산방지층과, 상기 비산방지층 위에 마련되고, 실리콘(Si)계 점착제로 이루어지는 제1점착층과, 상기 제1점착층 위에 마련되고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름으로 이루어지는 제1보호필름층을 포함하여 이루어질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the first mask film portion may include a scattering prevention layer provided on the upper surface of the glass sheet, a first adhesive layer provided on the shake prevention layer and made of a silicon (Si) And a first protective film layer provided on the first adhesive layer and made of a polyethylene terephthalate (PET) film.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 비산방지층은 상기 유리 박판의 상면에 마련되고, 광학투명점착제(OCA; optically clear adhensive)로 이루어지는 제2점착층과, 상기 제2점착층 위에 마련되고 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름으로 이루어지는 필름층으로 구성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the shatterproof layer comprises a second adhesive layer provided on the upper surface of the thin glass plate and made of optically clear adhesive (OCA), and a second adhesive layer provided on the second adhesive layer, And a film layer made of a polyethylene terephthalate (PET) film.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리 박판의 두께는 20~200㎛이고, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름의 두께는 20~50㎛일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the thickness of the thin glass plate is 20 to 200 μm, and the thickness of the polyethylene terephthalate (PET) film is 20 to 50 μm.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 비산방지층은 자외선(UV) 경화액(solution)의 코팅층으로 이루어질 수 있다.In one embodiment of the present invention, the anti-scattering layer may be formed of a coating layer of an ultraviolet (UV) curing solution.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 자외선(UV) 경화액(solution)의 코팅층의 두께는 5~30㎛일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the thickness of the coating layer of the ultraviolet (UV) curing solution may be 5 to 30 탆.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제2마스크 필름부는 상기 유리 박판의 하면에 마련되고, 실리콘(Si)계 점착제로 이루어지는 제3점착층과, 상기 제3점착층 아래에 마련되고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름으로 이루어지는 제2보호필름층을 포함하여 이루어질 수 있다.In one embodiment of the present invention, the second mask film part is provided on the lower surface of the glass thin plate and includes a third adhesive layer made of a silicon (Si) type adhesive, a second adhesive film provided below the third adhesive layer, And a second protective film layer made of a polyethylene terephthalate (PET) film.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리 박판은 시트(sheet) 형태의 낱장으로 또는 롤(roll)로 권취되어 연속으로 공급될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the glass sheet may be wound into a sheet-like sheet or roll and supplied continuously.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 액정보호필름을 얻는 공정 이후에, 식각된 유리 박판의 측면을 추가로 식각하여 평판화, 균일화하는 면취 공정이 더 이루어질 수 있다.In one embodiment of the present invention, after the step of obtaining the liquid crystal protective film, a chamfering process may be further performed in which a side surface of the etched glass thin plate is further etched to flatten and uniformize the etched glass thin plate.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 액정보호필름을 얻는 공정 이후에 초음파 세척 공정이 더 이루질 수 있다.In one embodiment of the present invention, an ultrasonic cleaning process may be further performed after the step of obtaining the liquid crystal protective film.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 액정보호필름을 얻는 공정에 있어서, 상기 제1마스크 필름부의 상측과 상기 제2마스크 필름부의 하측에 자성체를 구비하고, 상기 자성체 간의 인력으로 식각 후 얻어진 셀 단위의 액정보호필름이 이동하지 않도록 구속할 수 있다.In one embodiment of the present invention, in the step of obtaining the liquid crystal protective film, a magnetic substance is provided on the upper side of the first mask film portion and the lower side of the second mask film portion, The liquid crystal protective film of the liquid crystal display device can be restrained from moving.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1마스크 필름부를 마련하는 공정 또는 상기 제2마스크 필름부를 마련하는 공정에서, 상기 제1마스크 필름부와 상기 제2마스크 필름부의 위치 정합을 위한 정합 공정이 동시에 이루어질 수 있다.In an embodiment of the present invention, in the step of providing the first mask film part or the step of providing the second mask film part, a matching step for positioning the first mask film part and the second mask film part It can be done at the same time.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 유리 박판의 상면에 복수개의 제1마스크 필름부를 마련하는 공정과, 상기 유리 박판의 하면에 상기 제1마스크 필름부에 대응되는 위치로 제2마스크 필름부를 마련하는 공정과, 상기 유리 박판에서 상기 제1마스크 필름부와 상기 제2마스크 필름부가 마련되지 않은 부분을 식각하여 셀 단위의 액정보호필름을 얻는 공정을 포함하여 이루어지는 액정보호필름 제조 방법에 의해 제조되는 액정보호필름을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a glass substrate, comprising the steps of: providing a plurality of first mask film units on a top surface of a thin glass plate; And a step of etching a portion of the glass thin plate where the first mask film portion and the second mask film portion are not provided to obtain a liquid crystal protective film for each cell unit. A liquid crystal protective film produced by a film production method is provided.

본 발명의 일실시예에 따르면, 식각 공정을 통해 마스킹(masking) 처리가 되지 않은 부분을 식각하여, 물리적, 열적 손상이 없이 액정보호필름(10)을 얻을 수 있으며, 이를 통해, 200㎛ 이하의 초박판 유리를 이용한 더 얇고 가벼운 액정보호필름의 제조가 안정적으로 이루어질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a portion that is not subjected to a masking process is etched through an etching process to obtain a liquid crystal protective film 10 without physical and thermal damage, It is possible to stably manufacture thinner and lighter liquid crystal protective films using ultra thin plate glass.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 마스킹 기능을 하는 제1마스크 필름부와 제2마스크 필름부에는 유리 박판을 이용한 액정보호필름에 필수 구성인 비산방지층과 보호필름이 적용되기 때문에, 마스킹을 위한 별도의 추가 공정 및 재료가 불필요한 효과가 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, since the anti-scattering layer and the protective film, which are essential components of the liquid crystal protective film using the glass foil, are applied to the first mask film portion and the second mask film portion, A separate additional process and material are required.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above effects and include all effects that can be deduced from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 구성을 나타낸 단면예시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름이 액정화면에 부착된 상태를 나타낸 예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 제조 공정을 나타낸 예시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 제조 공정 중 유리 박판을 식각하는 공정을 나타낸 정면예시도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 제조 공정 중 식각 공정을 통해 얻어진 액정보호필름의 상태를 나타낸 단면 예시도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention.
2 is an exemplary view showing a state in which a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention is attached to a liquid crystal screen.
3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention.
4 is a view illustrating a process for manufacturing a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a front view illustrating a process of etching a thin glass plate in a manufacturing process of a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a state of a liquid crystal protective film obtained through an etching process in a process of manufacturing a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" to another part, it includes not only "directly connected" but also "indirectly connected" . Also, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 구성을 나타낸 단면예시도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름이 액정화면에 부착된 상태를 나타낸 예시도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an exemplary view illustrating a state in which a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention is attached to a liquid crystal screen.

도 1 및 도 2에서 보는 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름(10)은 유리 박판(20), 제1마스크 필름부(30) 및 제2마스크 필름부(40)를 포함하여 이루어질 수 있다.1 and 2, a liquid crystal protective film 10 according to an embodiment of the present invention includes a glass laminate 20, a first mask film portion 30, and a second mask film portion 40 .

유리 박판(20)은 20~200㎛의 두께를 가지는 초박판 유리일 수 있다.The glass sheet 20 may be an ultra-thin sheet glass having a thickness of 20 to 200 mu m.

그리고, 유리 박판(20)의 상부에는 제1마스크 필름부(30)가 마련될 수 있으며, 제1마스크 필름부(30)는 비산방지층(31), 제1점착층(32) 및 제1보호필름층(33)을 포함하여 이루어질 수 있다.The first mask film portion 30 may be provided on the upper portion of the glass sheet 20 and the first mask film portion 30 may be formed on the upper surface of the glass sheet 20, Film layer 33, as shown in FIG.

여기서, 비산방지층(31)은 유리 박판(20)의 위에 마련되며, 제2점착층(34)과 필름층(35)으로 구성될 수 있다. 제2점착층(34)은 유리 박판(20)의 상면에 마련되며, 광학투명점착제(optically clear adhensive; OCA)로 이루어질 수 있다. 그리고, 필름층(35)은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET) 필름으로 이루어질 수 있으며, PET 필름의 두께는 20~50㎛일 수 있다. 비산방지층(31)은 제2점착층(34)에 의해 유리 박판(20)에 점착될 수 있으며, 비산방지층(31)에 의해 유리 박판(20)의 비산 방지 효과뿐만 아니라, 유리 박판(20)의 유연성도 증가될 수 있다. The anti-scattering layer 31 is provided on the glass sheet 20, and may be composed of the second adhesive layer 34 and the film layer 35. The second adhesive layer 34 is provided on the upper surface of the glass sheet 20 and may be made of optically clear adhesive (OCA). The film layer 35 may be made of a polyethylene terephthalate (PET) film, and the thickness of the PET film may be 20 to 50 탆. The anti-scattering layer 31 can be adhered to the glass laminate 20 by the second adhesive layer 34. The scattering prevention layer 31 can prevent the glass laminate 20 from scattering, The flexibility of the system can also be increased.

한편, 비산방지층(31)은 자외선(UV) 경화액(solution)의 코팅층으로 대체하여 이루어질 수 있으며, 자외선 경화액 코팅층의 두께는 5~30㎛일 수 있다. 이와 같이, 제1마스크 필름부(30)에 있어서, 비산방지층(31)을 자외선 경화액 코팅층으로 구성한 경우, 자외선 경화액 코팅층 자체의 점착 특성을 이용하여 유리 박판(20)에 점착될 수 있기 때문에, 제2점착층(34)은 생략될 수 있다. 비산방지층(31)을 자외선 경화액 코팅층으로 할 경우, 제2점착층(34)이 생략되고, PET 필름보다 자외선 경화액 코팅층의 두께가 얇게 이루어질 수 있기 때문에, 더욱 얇고 유연한 제1마스크 필름부(30)의 제작이 가능할 수 있다.The anti-scattering layer 31 may be replaced with a coating layer of an ultraviolet (UV) curing solution, and the thickness of the ultraviolet curing coating layer may be 5 to 30 μm. As described above, when the anti-scattering layer 31 is formed of the ultraviolet hardening liquid coating layer in the first mask film portion 30, it can be adhered to the glass thin plate 20 by using the adhesive property of the ultraviolet hardening liquid coating layer itself , And the second adhesive layer 34 may be omitted. The second adhesive layer 34 is omitted and the thickness of the ultraviolet hardening liquid coating layer is made thinner than that of the PET film. Therefore, the thinner and more flexible first mask film portion ( 30 can be manufactured.

제1점착층(32)은 비산방지층(31)의 위에 마련될 수 있으며, 실리콘(Si)계 점착제로 이루어질 수 있다.The first adhesive layer 32 may be provided on the anti-scattering layer 31 and may be made of a silicon (Si) -based adhesive.

제1보호필름층(33)은 제1점착층(32)의 위에 마련될 수 있으며, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET) 필름으로 이루어질 수 있다.The first protective film layer 33 may be provided on the first adhesive layer 32 and may be made of a polyethylene terephthalate (PET) film.

제1점착층(32)은 제1보호필름층(33)에 의해 보호되다가 휴대용 단말기의 액정 화면(90)에 부착시에 제1보호필름층(33)이 제거된 후 액정 화면(90)에 부착되게 된다. The first adhesive layer 32 is protected by the first protective film layer 33 and then is attached to the liquid crystal screen 90 of the portable terminal after the first protective film layer 33 is removed, Respectively.

한편, 유리 박판(20)의 하면에는 제2마스크 필름부(40)가 마련될 수 있으며, 제2마스크 필름부(40)는 제3점착층(41)과 제2보호필름층(42)을 포함하여 이루어질 수 있다.The second mask film part 40 may be provided on the lower surface of the glass sheet 20 and the third adhesive layer 41 and the second protective film layer 42 may be provided on the lower surface of the glass sheet 20. [ .

제3점착층(41)은 유리 박판(20)의 하면에 마련될 수 있으며, 실리콘(Si)계 점착제로 이루어질 수 있다. 제2보호필름층(42)은 제3점착층(41)의 아래에 마련될 수 있으며, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET) 필름으로 이루어질 수 있다. 제2보호필름층(42)과 제3점착층(41)은 유리 박판(20)에 부착되어 유리 박판(20)을 보호하게 되는 것으로, 나중에 사용자에 의해 떼어 내지는 부분이 된다.The third adhesive layer 41 may be provided on the lower surface of the glass sheet 20 and may be made of a silicon (Si) adhesive. The second protective film layer 42 may be provided under the third adhesive layer 41 and may be made of a polyethylene terephthalate (PET) film. The second protective film layer 42 and the third adhesive layer 41 are attached to the glass laminate 20 to protect the glass laminate 20 and later become a part to be peeled off by the user.

즉, 액정 화면(90)에 부착을 위해 제1보호필름층(33)은 제1점착층(32)에서 떼어 지게 되며, 제1점착층(32)이 액정 화면(90)에 점착됨으로써 액정보호필름(10)은 액정 화면(90)에 부착될 수 있다. 제1점착층(32)에 대한 제1보호필름층(33)과 비산방지층(31)의 점착력을 다르게 함으로써, 제1점착층(32)에서 제1보호필름층(33)만이 떨어질 수 있게 된다. 그리고, 최종적으로는 제2보호필름층(42)도 유리 박판(20)으로부터 떼어 내지며, 이때 제3점착층(41)은 제2보호필름층(42)과 함께 유리 박판(20)으로부터 떨어지게 된다. 따라서, 액정 화면(90)에 부착된 상태에서는 유리 박판(20)이 액정보호필름(10)의 제일 외측에 구비되어 외부에 노출되게 된다.That is, the first protective film layer 33 is detached from the first adhesive layer 32 to adhere to the liquid crystal screen 90 and the first adhesive layer 32 is adhered to the liquid crystal screen 90, The film 10 may be attached to the liquid crystal screen 90. The adhesive strength between the first protective film layer 33 and the anti-scattering layer 31 with respect to the first adhesive layer 32 is different from that of the first adhesive layer 32 so that only the first protective film layer 33 can be dropped from the first adhesive layer 32 . Finally, the second protective film layer 42 is removed from the glass sheet 20. At this time, the third adhesive layer 41 is separated from the glass sheet 20 together with the second protective film layer 42 do. Therefore, in a state where the thin film 20 is attached to the liquid crystal screen 90, the thin glass plate 20 is provided on the outermost side of the liquid crystal protective film 10 to be exposed to the outside.

한편, 비산방지층(31)이 자외선 경화액 코팅층으로 이루어지고, 제2점착층(34)이 생략된 경우에도, 비산방지층(31)에 대한 유리 박판(20)과 제1보호필름층(33)의 점착력을 다르게 할 수 있다. 이에 따라, 제1보호필름층(33)의 박리 시, 제1보호필름층(33)만이 제거되고, 비산방지층(31)은 유리 박판(20)에 점착된 상태가 된다.On the other hand, even when the scattering-prevention layer 31 is made of an ultraviolet-curable liquid coating layer and the second adhesive layer 34 is omitted, the glass sheet 20 and the first protective film layer 33 with respect to the scattering- Can be differentiated. Accordingly, when the first protective film layer 33 is peeled off, only the first protective film layer 33 is removed, and the anti-scattering layer 31 is adhered to the thin glass plate 20. [

한편, 사용자의 손가락이 터치되는 유리 박판(20)의 제일 외측면은 지문방지 코팅이나 항균 코팅이 이루어질 수 있다.On the other hand, the outermost surface of the glass sheet 20 to which the user's finger is touched may be coated with an anti-fingerprint coating or an antimicrobial coating.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름 제조방법을 나타낸 흐름도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 제조 공정을 나타낸 예시도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 제조 공정 중 유리 박판을 식각하는 공정을 나타낸 정면예시도이고, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정보호필름의 제조 공정 중 식각 공정을 통해 얻어진 액정보호필름의 상태를 나타낸 단면 예시도이다. 이하에서는 전술한 액정보호필름을 제조하기 위한 제조방법과 제조 공정에 대해서 설명한다.FIG. 3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a view illustrating a process of manufacturing a liquid crystal protective film according to an embodiment of the present invention. FIG. 6 is a front view illustrating a process of etching a thin glass plate in a manufacturing process of a liquid crystal protective film according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 6 is a front view illustrating a liquid crystal protection Fig. 8 is a cross-sectional view showing the state of a film. Hereinafter, a manufacturing method and a manufacturing process for manufacturing the aforementioned liquid crystal protective film will be described.

액정보호필름 제조 방법은 유리 박판(20)의 상면에 복수개의 제1마스크 필름부(30)를 마련하는 공정(S110)을 가질 수 있다.The method for manufacturing a liquid crystal protective film may include a step (S110) of providing a plurality of first mask film portions 30 on the upper surface of the glass thin plate 20. [

즉, 도 4의 (a)에서 보는 바와 같이, 유리 박판(20)의 상면에는 제1마스크 필름부(30)가 마련될 수 있다. 유리 박판(20)은 시트(sheet) 형태의 낱장으로 또는 롤(roll)로 권취되어 연속으로 공급될 수 있으며, 유리 박판(20)은 20~200㎛의 두께를 가지는 초박판 유리일 수 있다.That is, as shown in FIG. 4 (a), the first mask film unit 30 may be provided on the upper surface of the glass sheet 20. The glass sheet 20 may be wound in a sheet-like sheet or roll and continuously supplied, and the glass sheet 20 may be an ultra-thin sheet glass having a thickness of 20 to 200 탆.

제1마스크 필름부(30)를 구성하는 비산방지층(31, 도 1 참조), 제1점착층(32, 도 1 참조) 및 제1보호필름층(33, 도 1 참조)은 순차적으로 마련될 수 있다. 이러한 제1마스크 필름부(30)는 유리 박판(20)에 일정 간격으로 배치될 수 있으며, 각 제1마스크 필름부(30) 간의 간격은 공정에 맞게 적절히 조절될 수 있다.The anti-scattering layer 31 (see FIG. 1), the first adhesive layer 32 (see FIG. 1), and the first protective film layer 33 (see FIG. 1) constituting the first mask film portion 30 are sequentially formed . The first mask film portions 30 may be disposed at regular intervals on the glass sheet 20, and the interval between the first mask film portions 30 may be appropriately adjusted according to the process.

그리고, 유리 박판(20)의 하면에는 제1마스크 필름부(30)에 대응되는 위치로 제2마스크 필름부(40)가 마련되는 공정(S120)이 진행될 수 있다. 제2마스크 필름부(40)를 구성하는 제3점착층(41, 도 1 참조)과 제2보호필름층(42, 도 1 참조)은 순차적으로 마련될 수 있다.The process of step S120 in which the second mask film part 40 is provided at a position corresponding to the first mask film part 30 may be performed on the lower surface of the thin glass plate 20. [ The third adhesive layer 41 (see FIG. 1) and the second protective film layer 42 (see FIG. 1) constituting the second mask film portion 40 may be sequentially provided.

여기서, 제1마스크 필름부(30)의 마스킹(masking) 기능은 주로 비산방지층(31)과 제1보호필름층(33)에 의해 이루어질 수 있고, 제2마스크 필름부(40)의 마스킹 기능은 주로 제2보호필름층(42)에 의해 이루어질 수 있다. 본 발명에서는 박판 유리를 이용한 액정보호필름에서 필수적인 구성인 비산방지층(31)과 제2보호필름층(42)을 마스킹 필름으로 사용함으로써 마스킹을 위한 별도의 재료나 별도의 추가 공정이 불필요하여 공정이 간소화 될 수 있다.The masking function of the first mask film part 30 may be mainly composed of the scattering prevention layer 31 and the first protective film layer 33 and the masking function of the second mask film part 40 Mainly by the second protective film layer (42). In the present invention, by using the anti-scattering layer 31 and the second protective film layer 42, which are indispensable components in the liquid crystal protective film using the thin plate glass, as a masking film, no additional material for masking or a separate additional process is required, It can be simplified.

한편, 제1마스크 필름부(30)를 마련하는 공정(S110) 또는 제2마스크 필름부(40)를 마련하는 공정(S120)에서, 제1마스크 필름부(30)와 제2마스크 필름부(40)가 서로 대응되는 위치에 올바르게 마련되도록, 즉, 제1마스크 필름부(30)와 제2마스크 필름부(40)의 위치 정합이 이루어지도록 하기 위하여 정합 공정이 동시에 이루어질 수 있다.On the other hand, in the step S110 of providing the first mask film part 30 or the step S120 of providing the second mask film part 40, the first mask film part 30 and the second mask film part 40 can be properly provided at positions corresponding to each other, that is, the matching process of the first mask film portion 30 and the second mask film portion 40 can be performed at the same time.

정합 공정은 정합용 지그(jig)를 사용하거나, 정합을 위한 얼라인(align) 마크(미도시)를 두고, 비전(vision)(미도시)으로 얼라인 마크를 식별하여 제1마스크 필름부(30)와 제2마스크 필름부(40)가 정합되도록 하는 방법으로 이루어질 수 있다. 얼라인 마크는 제1보호필름층(33)이나 유리 박판(20)에 형성될 수 있다.The alignment process identifies the alignment marks by using a matching jig or alignment mark (not shown) for alignment, and the alignment marks are identified by a vision (not shown) 30 and the second mask film portion 40 are matched with each other. The alignment mark may be formed on the first protective film layer 33 or the glass thin plate 20. [

이후, 유리 박판(20)에서 제1마스크 필름부(30)와 제2마스크 필름부(40)가 마련되지 않은 부분을 식각(etching)하여 셀 단위의 액정보호필름(10)을 얻는 공정(S130)이 이루어질 수 있다.Thereafter, a step of etching the portion of the glass sheet 20 where the first mask film portion 30 and the second mask film portion 40 are not provided to obtain the cell protective liquid crystal protective film 10 ) Can be achieved.

즉, 도 4의 (b)에서 보는 바와 같이, 제1마스크 필름부(30)와 제2마스크 필름부(40)가 마련된 상태의 유리 박판(20)에 식각이 이루어질 수 있다. 예를 들면, 유리 박판(20)은 식각액(200)이 수용된 식각액조(210)로 공급될 수 있다. 식각액조(210)는 유리 박판(20)이 시트로 공급되는 경우, 또는 유리 박판(20)이 롤 형태로 제공되어 연속적으로 공급되는 경우에 따라 적절하게 구성될 수 있다.That is, as shown in FIG. 4 (b), the glass thin plate 20 with the first mask film portion 30 and the second mask film portion 40 provided thereon can be etched. For example, the glass foil 20 may be supplied to the etchant tank 210 containing the etchant 200. The etchant tank 210 may be appropriately configured according to the case where the glass sheet 20 is supplied to the sheet or when the glass sheet 20 is supplied continuously in a roll form.

식각액(200)은 제1마스크 필름부(30) 및 제2마스크 필름부(40)와, 유리 박판(20)에 대한 선택비가 큰 것이 사용될 수 있다. 즉, 식각액(200)은 유리 박판(20)을 중점적으로 식각할 수 있는 것이 사용될 수 있다. The etchant 200 may have a large selectivity for the first mask film portion 30, the second mask film portion 40, and the glass thin plate 20. That is, the etchant 200 can be used which can mainly etch the thin glass plate 20. [

따라서, 도 4의 (b)에서 보는 바와 같이, 유리 박판(20)이 식각액(200)에 담긴 초기에는 유리 박판(20)의 형상이 그대로 있다가, 도 4의 (c)에서 보는 바와 같이, 유리 박판(20)이 식각액(200)에 담기고 나서 시간이 지난 후에는 제1마스크 필름부(30) 및 제2마스크 필름부(40)가 마련되지 않은 유리 기판 부분은 식각될 수 있다. 그리고 결과적으로는 상면과 하면에 각각 제1마스크 필름부(30) 및 제2마스크 필름부(40)가 마련된 부분만이 셀 단위로 남게 되며, 이것이 액정보호필름(10)이 되게 된다.4 (b), the shape of the thin glass plate 20 remains unchanged at the initial stage when the thin glass plate 20 is contained in the etching liquid 200, and as shown in FIG. 4 (c) The glass substrate portion on which the first mask film portion 30 and the second mask film portion 40 are not provided may be etched after the laminating of the glass foil 20 into the etchant 200 has elapsed. As a result, only the portions where the first mask film portion 30 and the second mask film portion 40 are provided on the upper and lower surfaces are left on a cell basis, which becomes the liquid crystal protection film 10.

한편, 액정보호필름을 얻는 공정(S130)에 있어서, 제1마스크 필름부의 상측과 제2마스크 필름부의 하측에 자성체를 구비하고, 자성체 간의 인력으로 식각 후 얻어진 셀 단위의 액정보호필름이 이동하지 않도록 구속할 수 있다.On the other hand, in the step of obtaining the liquid crystal protective film (S130), a magnetic substance is provided on the upper side of the first mask film portion and the lower side of the second mask film portion, and the cell protective liquid crystal protective film obtained after etching by the attractive force between the magnetic substances is not moved You can arrest them.

즉, 도 5의 (a) 및 (b)에서 보는 바와 같이, 식각액(200)에 담겨진 유리 박판(20)의 상측과 하측, 더욱 자세하게는, 제1마스크 필름부(30)의 상측과 제2마스크 필름부(40)의 하측에는 한 쌍의 자성체(50)가 더 구비될 수 있다. 한 쌍의 자성체(50)는, 자성체간에 인력이 발생하도록 서로 다른 극으로 형성될 수 있다. 5 (a) and 5 (b), the upper and lower sides of the thin glass plate 20 contained in the etching liquid 200, more specifically, the upper side of the first mask film portion 30 and the upper side A pair of magnetic bodies 50 may be further provided on the lower side of the mask film part 40. The pair of magnetic bodies 50 may be formed at different poles so that attractive force is generated between the magnetic bodies.

자성체(50)는 도시된 바와 같이 제1마스크 필름부(30) 및 제2마스크 필름부(40)에 대응되도록 개별적으로 다수개가 형성되거나, 또는 하나의 극성을 가지는 자성체 별로 각각 하나씩으로만 구성될 수도 있다. 또한, 자성체(50)는 제1마스크 필름부(30) 및 제2마스크 필름부(40)에 각각 밀착되도록 구비될 수 있다. A plurality of magnetic bodies 50 may be formed individually to correspond to the first mask film portion 30 and the second mask film portion 40, or may be formed only one for each magnetic substance having one polarity It is possible. The magnetic substance 50 may be provided in close contact with the first mask film portion 30 and the second mask film portion 40, respectively.

이를 통해, 식각 공정으로 만들어진 각 셀 단위의 액정보호필름(10)이 자성체(50) 간의 인력으로 이동하지 않도록 구속될 수 있다. 이는, 식각 공정 후 만들어진 각 셀 단위의 액정보호필름(10)이 움직이면서 서로 부딪히거나 하는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, the liquid crystal protection film 10 of each cell unit formed by the etching process can be restrained from moving to the attraction between the magnetic bodies 50. This can prevent the liquid crystal protection film 10 of each cell unit produced after the etching process from colliding with each other while moving.

그리고, 식각 공정을 통해 마스킹(masking) 처리가 되지 않은 부분을 식각하기 때문에, 물리적, 열적 손상이 없이 액정보호필름(10)을 얻을 수 있다. 따라서, 200㎛ 이하의 초박판 유리를 이용한 더 얇고 가벼운 액정보호필름의 제조가 안정적으로 이루어질 수 있다.Since the portions that are not subjected to the masking treatment are etched through the etching process, the liquid crystal protective film 10 can be obtained without physical and thermal damage. Therefore, it is possible to stably manufacture a thinner and lighter liquid crystal protective film using ultra thin plate glass of 200 탆 or less.

유리 박판(20)을 식각하는 공정을 수행하는 장비는 특정하게 한정되는 것은 아니다. 즉, 본 발명에서는 디핑(dipping) 방식을 이용한 식각을 예로 설명하였으나, 샤워(shower) 방식 등을 이용한 식각이 적용될 수도 있다. Equipment for performing the process of etching the glass foil 20 is not particularly limited. That is, in the present invention, etching using a dipping method is described as an example, but etching using a shower method or the like may be applied.

한편, 셀 단위의 액정보호필름을 얻는 공정(S130) 이후에, 식각된 유리 박판의 측면을 추가로 식각하여 평판화, 균일화하는 면취 공정(S140)이 더 이루어질 수 있다.Meanwhile, after the step S130 of obtaining a cell-based liquid crystal protective film, a chamfering step (S140) may be further performed in which a side surface of the etched glass thin plate is further etched and flattened and homogenized.

즉, 도 6에서 보는 바와 같이, 식각을 통해 만들어진 셀 단위의 액정보호필름(10)의 유리 박판(20)의 측면(21)은 평평하게 형성되지 않을 수 있다. 따라서, 이러한 유리 박판(20)의 측면(21)을 평판하게 하기 위한 면취 공정이 더 이루어질 수 있다. 면취 공정에 사용될 방법은 어느 하나의 특정한 방법으로 한정되는 것은 아니며, 다양한 방법이 사용될 수 있다.That is, as shown in FIG. 6, the side surface 21 of the glass laminate 20 of the cell protective liquid crystal protective film 10 formed by etching may not be formed flat. Therefore, a chamfering process for flattening the side surface 21 of the glass sheet 20 can be further performed. The method used in the chamfering process is not limited to any particular method, and various methods can be used.

또한, 액정보호필름을 얻은 공정(S130) 이후에 초음파 세척 공정이 더 이루어질 수 있다. Further, an ultrasonic cleaning process may be further performed after the step (S130) of obtaining the liquid crystal protective film.

초음파 세척 공정은, 식각 공정, 즉, 셀 단위의 액정보호필름을 얻기 위한 식각 공정(S130)뿐만 아니라, 면취 공정(S140) 후에도 더 이루어질 수 있다. 초음파 세척 공정을 통해, 식각 또는 면취시에 발생된 유리 가루 등의 이물질은 세척될 수 있다.The ultrasonic cleaning process may be further performed after the chamfering process (S140) as well as the etching process (S130) to obtain the liquid crystal protection film of the cell unit. Through the ultrasonic cleaning process, foreign matter such as glass powder generated during etching or chamfering can be cleaned.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

10: 액정보호필름
20: 유리 박판
30: 제1마스크 필름부
40: 제2마스크 필름부
50: 자성체
200: 식각액10: liquid crystal protective film
20: glass foil
30: First mask film part
40: second mask film part
50: magnetic substance
200: etching solution

Claims (13)

유리 박판의 상면에 복수개의 제1마스크 필름부를 마련하는 공정;
상기 유리 박판의 하면에 상기 제1마스크 필름부에 대응되는 위치로 제2마스크 필름부를 마련하는 공정; 그리고
상기 유리 박판에서 상기 제1마스크 필름부와 상기 제2마스크 필름부가 마련되지 않은 부분을 식각하여 셀 단위의 액정보호필름을 얻는 공정을 포함하여 이루어지는 액정보호필름 제조 방법.Providing a plurality of first mask film portions on the upper surface of the glass thin plate;
Providing a second mask film portion at a position corresponding to the first mask film portion on the lower surface of the glass thin plate; And
And a step of etching a portion of the glass thin plate where the first mask film portion and the second mask film portion are not provided to obtain a cell protective liquid crystal protective film. 제1항에 있어서,
상기 제1마스크 필름부는
상기 유리 박판의 상면에 마련되는 비산방지층과,
상기 비산방지층 위에 마련되고, 실리콘(Si)계 점착제로 이루어지는 제1점착층과,
상기 제1점착층 위에 마련되고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름으로 이루어지는 제1보호필름층을 포함하여 이루어지는 것인 액정보호필름 제조 방법.The method according to claim 1,
The first mask film portion
An anti-scattering layer provided on an upper surface of the thin glass plate,
A first adhesive layer provided on the anti-scattering layer and made of a silicon (Si)
And a first protective film layer provided on the first adhesive layer and made of a polyethylene terephthalate (PET) film. 제2항에 있어서,
상기 비산방지층은
상기 유리 박판의 상면에 마련되고, 광학투명점착제(OCA; optically clear adhensive)로 이루어지는 제2점착층과,
상기 제2점착층 위에 마련되고 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름으로 이루어지는 필름층으로 구성되는 것인 액정보호필름 제조 방법.3. The method of claim 2,
The anti-
A second adhesive layer provided on the upper surface of the thin glass plate and made of optically clear adhesive (OCA)
And a film layer provided on the second adhesive layer and made of a polyethylene terephthalate (PET) film. 제3항에 있어서,
상기 유리 박판의 두께는 20~200㎛이고, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름의 두께는 20~50㎛인 것인 액정보호필름 제조 방법.The method of claim 3,
Wherein the thickness of the glass thin plate is 20 to 200 占 퐉, and the thickness of the polyethylene terephthalate (PET) film is 20 to 50 占 퐉. 제2항에 있어서,
상기 비산방지층은 자외선(UV) 경화액(solution)의 코팅층으로 이루어지는 것인 액정보호필름 제조 방법.3. The method of claim 2,
Wherein the anti-scattering layer comprises a coating layer of an ultraviolet (UV) curing solution. 제5항에 있어서,
상기 자외선(UV) 경화액(solution)의 코팅층의 두께는 5~30㎛인 것인 액정보호필름 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the thickness of the coating layer of the ultraviolet (UV) curing solution is 5 to 30 占 퐉. 제1항에 있어서,
상기 제2마스크 필름부는
상기 유리 박판의 하면에 마련되고, 실리콘(Si)계 점착제로 이루어지는 제3점착층과,
상기 제3점착층 아래에 마련되고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate) 필름으로 이루어지는 제2보호필름층을 포함하여 이루어지는 것인 액정보호필름 제조 방법.The method according to claim 1,
The second mask film portion
A third adhesive layer provided on the lower surface of the glass thin plate and made of a silicon (Si)
And a second protective film layer provided below the third adhesive layer and made of a polyethylene terephthalate (PET) film. 제1항에 있어서,
상기 유리 박판은 시트(sheet) 형태의 낱장으로 또는 롤(roll)로 권취되어 연속으로 공급 되는 것인 액정보호필름 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the glass laminate is wound into a sheet-like sheet or roll and continuously supplied. 제1항에 있어서,
상기 액정보호필름을 얻는 공정 이후에, 식각된 유리 박판의 측면을 추가로 식각하여 평판화, 균일화하는 면취 공정이 더 이루어지는 것인 액정보호필름 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein after the step of obtaining the liquid crystal protective film, the side surface of the etched glass thin plate is further etched to flatten and equalize the chamfering step. 제1항에 있어서,
상기 액정보호필름을 얻는 공정 이후에 초음파 세척 공정이 더 이루어지는 것인 액정보호필름 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the ultrasonic cleaning step is further performed after the step of obtaining the liquid crystal protective film. 제1항에 있어서,
상기 액정보호필름을 얻는 공정에 있어서, 상기 제1마스크 필름부의 상측과 상기 제2마스크 필름부의 하측에 자성체를 구비하고, 상기 자성체 간의 인력으로 식각 후 얻어진 셀 단위의 액정보호필름이 이동하지 않도록 구속하는 것인 액정보호필름 제조 방법.The method according to claim 1,
The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein in the step of obtaining the liquid crystal protective film, a magnetic substance is provided on the upper side of the first mask film portion and the lower side of the second mask film portion, Wherein the liquid crystal protective film is a transparent film. 제1항에 있어서,
상기 제1마스크 필름부를 마련하는 공정 또는 상기 제2마스크 필름부를 마련하는 공정에서, 상기 제1마스크 필름부와 상기 제2마스크 필름부의 위치 정합을 위한 정합 공정이 동시에 이루어지는 것인 액정보호필름 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein a matching process for aligning the first mask film portion and the second mask film portion is performed simultaneously in the step of providing the first mask film portion or the step of providing the second mask film portion . 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 액정보호필름 제조방법에 의해 제조되는 액정보호필름.A liquid crystal protective film produced by the process for producing a liquid crystal protective film according to any one of claims 1 to 12.
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