JP2014031286A - Method for manufacturing glass substrate of cover glass for electronic apparatus - Google Patents

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誠司 坂口
Isao Amamiya
勲 雨宮
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a glass substrate of cover glass for an electronic apparatus capable of simply fixing a blank laminate formed by laminating glass blanks for performing cutting processing, and easily cancelling fixation.SOLUTION: A method for manufacturing a glass substrate of cover glass for an electronic apparatus includes: a lamination step of forming a blank laminate 120 by laminating and adhering three or more glass blanks; and a cutting step of forming laminate blocks whose main surface has a small area by cutting the blank laminate 120. Surface roughness (Ra) of a processing table 150 is 0.1-25 μm. In the cutting step, while the blank laminate 120 is located on the processing table 150 for vacuum suction and is suction-fixed, cutting is performed.

Description

本発明は、携帯機器(携帯型電子機器)の表示画面のカバー部材として用いられる携帯機器用カバーガラスと、例えばポインティングデバイス等のタッチセンサのカバー部材として用いられるタッチセンサ用カバーガラスとを含む電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic device including a cover glass for a portable device used as a cover member for a display screen of a portable device (portable electronic device) and a cover glass for a touch sensor used as a cover member for a touch sensor such as a pointing device. The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate of a cover glass for equipment.

スマートフォンを含む携帯電話や、タブレット端末やスレートPC(Personal Computer)、PDA(Personal Digital Assistant)などの携帯機器では、液晶などの表示装置を保護するために、表示装置の外側にカバーガラスが配置される。また、ATMや券売機のような据置式の装置のタッチセンサ(ポインティングデバイス)においても、センサ基板やタッチパネル用の透明導電膜(ITO:Indium-tin-oxide)を保護するためにカバーガラスが配置される。   In mobile devices including smartphones, and mobile devices such as tablet terminals, slate PCs (Personal Computers), and PDAs (Personal Digital Assistants), a cover glass is arranged outside the display device to protect the display device such as a liquid crystal display. The In addition, in touch sensors (pointing devices) of stationary devices such as ATMs and ticket vending machines, a cover glass is arranged to protect the transparent conductive film (ITO: Indium-tin-oxide) for sensor substrates and touch panels. Is done.

一般に、カバーガラスは、大きい一枚板のガラス素板から任意の形状のガラス基板を抜き出し、この抜き出されたガラス基板を加工することにより製造される。ガラス素板からガラス基板を抜き出す方法としては、機械的加工手段により加工する方法が知られている(例えば、特許文献1)。引用文献1においては、積み重ねた素材板ガラス(ガラス素板)を剥離可能な固着材によって固着して素材ガラスブロック(素板積層体)を形成し、これを円板カッターで切り分けることによって小面積の分割ガラスブロック(積層ブロック)を形成すると説明されている。   In general, a cover glass is manufactured by extracting a glass substrate having an arbitrary shape from a large single glass plate and processing the extracted glass substrate. As a method of extracting a glass substrate from a glass base plate, a method of processing by mechanical processing means is known (for example, Patent Document 1). In Cited Document 1, the stacked material plate glass (glass base plate) is fixed by a peelable fixing material to form a material glass block (base plate laminate), and this is cut by a disk cutter to reduce the area. It is described that a divided glass block (laminated block) is formed.

円板カッターで素板積層体を切断する際には、加工テーブルに固定する必要がある。加工テーブルに固定する方法として従来は、光硬化性や熱硬化性の樹脂、熱可塑性のワックスで接着するか、または真空吸着法によって固定していた。   When the base plate laminate is cut with a disk cutter, it is necessary to fix it to the processing table. As a method of fixing to a processing table, conventionally, it is bonded with a photocurable or thermosetting resin, a thermoplastic wax, or fixed by a vacuum adsorption method.

特許文献2には、ガラスの切断加工に際し、加工テーブルに接着剤を用いて保護ガラス板をおよびガラスブロック(ガラス板)を積み重ねて固定することが記載されている。引用文献2において接着剤は低融点ワックスであって、ガラス板と薄板状のワックスを交互に積み重ねて、オーブンで加熱後徐冷することによって固定すると記載されている。   Patent Document 2 describes that when a glass is cut, a protective glass plate and a glass block (glass plate) are stacked and fixed on the processing table using an adhesive. In the cited document 2, the adhesive is a low melting point wax, and is described as being fixed by alternately stacking glass plates and thin plate-like waxes, heating them in an oven and then slowly cooling them.

特許文献3には、ガラス板からガラス製ディスクを切り出すコアリング切断作業において、真空吸着法によって固定することが記載されている(段落0011−0013)。具体的には、ガラス板の裏面に紫外線硬化テープを貼着し、ガラス板は紫外線硬化テープを介して吸引エアーにより吸着台に固定される。なお、切断加工においては紫外線硬化テープが切断されないように寸止め加工を行い、切断後にテープに紫外線を照射して硬化させることにより、切り出したガラス製ディスクを取り外すと説明されている。ここで真空吸着とは負圧を利用してワーク(積層体)を加工テーブルに吸着固定することをいう。   Patent Document 3 describes fixing by a vacuum adsorption method in a coring cutting operation of cutting a glass disk from a glass plate (paragraphs 0011-0013). Specifically, an ultraviolet curable tape is attached to the back surface of the glass plate, and the glass plate is fixed to the adsorption table by suction air through the ultraviolet curable tape. In the cutting process, it is described that the cut-out glass disk is removed by sizing the ultraviolet-curing tape so that the tape is not cut, and irradiating the tape with ultraviolet light after the cutting to cure. Here, vacuum suction means that a workpiece (laminate) is suction-fixed to a processing table using negative pressure.

特開2009−256125号公報JP 2009-256125 A 特開2001−002436号公報JP 2001-002436 A 特開2003−094301号公報JP 2003-094301 A

上記のように切断加工を行う際には加工テーブルに固定する必要があるが、切断加工後は取り外す必要がある。しかしながら電子機器用のカバーガラスにおいては、大きな素板積層体から小さな積層ブロックに切り分けた後に、さらに積層ブロックの状態で外形形状加工を行う必要がある。   When performing the cutting process as described above, it is necessary to fix it to the processing table, but it is necessary to remove it after the cutting process. However, in a cover glass for an electronic device, it is necessary to further process an outer shape in a state of a laminated block after the large base plate laminate is cut into small laminated blocks.

しかしながら引用文献2のように加工テーブルに接着剤によって素板積層体を固定した場合、これに溶剤や熱を加えたり、光照射処理などを行ったりして接着力を弱めることはできない。なぜなら、切り分けられた積層ブロックにおいても接着力が低下してしまい、外形形状加工を行う際にはがれてしまうためである。ヘラなどを用いて積層ブロックを加工テーブルから機械的に剥がすことも考えられるが、ガラス基板に傷が発生したり、積層ブロックにひずみが発生したりしてしまうため、これも採用することができない。   However, when the base plate laminate is fixed to the processing table with an adhesive as in the cited document 2, it is not possible to weaken the adhesive force by applying a solvent or heat to the processing table or performing a light irradiation treatment. This is because the adhesive force also decreases in the cut laminated blocks, and is peeled off when the outer shape is processed. It is conceivable that the laminated block is mechanically peeled off from the processing table using a spatula or the like, but this may not be adopted because the glass substrate is scratched or the laminated block is distorted. .

特許文献3のような真空吸着法を用いた場合、吸引力によって紫外線硬化テープと加工テーブルとの間に切断加工に使用するクーラントなどの液体が侵入し、摩擦係数を低下させてしまうという問題がある。その結果として切断中の積層体と加工テーブルの固定が不充分になり、切断中にずれが生じてしまうために、切断加工が困難になってしまう。   When the vacuum suction method as in Patent Document 3 is used, there is a problem in that a liquid such as a coolant used for cutting processing enters between the ultraviolet curable tape and the processing table due to the suction force, thereby reducing the friction coefficient. is there. As a result, the laminated body and the processing table that are being cut are not sufficiently fixed, and a shift occurs during cutting, which makes cutting difficult.

また、近年の携帯機器の需要増加に伴い、電子機器用のカバーガラスの需要も急増している。このような背景の下、電子機器用カバーガラスには、生産コストの低減が求められている。生産コストを低減するためには、工程の簡略化と材料の削減が挙げられる。   In addition, with the recent increase in demand for portable devices, the demand for cover glasses for electronic devices has also increased rapidly. Under such a background, the cover glass for electronic devices is required to reduce the production cost. In order to reduce production costs, simplification of processes and reduction of materials can be mentioned.

本発明は、上記の課題に鑑み、ガラス素板を積層した素板積層体を簡単に固定して切断加工を行い、かつ容易に固定解除が可能な電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。   In view of the above problems, the present invention provides a method for manufacturing a glass substrate of a cover glass for an electronic device that can be easily fixed by cutting a base plate laminate in which glass base plates are stacked and can be easily released. The purpose is to provide.

上記課題を解決するために、本発明の代表的な構成は、複数枚のガラス素板を積層して接着した素板積層体を形成する積層工程と、素板積層体を切断して主表面の面積が小さい積層ブロックを形成する切断工程とを含む電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法において、切断工程では、真空吸着用の加工テーブルの上に素板積層体を載置して吸着固定させた状態で切断を行うことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a typical configuration of the present invention includes a laminating step of laminating a plurality of glass base plates to form a base plate laminate, and cutting the base plate laminate to obtain a main surface. In the method for manufacturing a glass substrate for a cover glass for electronic equipment, including a cutting step for forming a laminated block having a small area, in the cutting step, the base plate laminate is placed on a processing table for vacuum suction and sucked Cutting is performed in a fixed state.

加工テーブルは、切断領域に対応するように複数に区画されており、加工テーブルには、一区画あたり複数の吸引孔が設けられていることが好ましい。これにより、切断後の積層体を安定して吸引することができる。   The processing table is divided into a plurality of sections corresponding to the cutting area, and the processing table is preferably provided with a plurality of suction holes per section. Thereby, the laminated body after cutting can be sucked stably.

加工テーブルは、多孔質材料によって形成されており、加工テーブルの上面全面が吸着可能領域であってもよい。この場合、加工テーブルの上面全面が吸着可能領域となるため、電子機器用カバーガラスの多種多様な大きさ・形状に対応して、素板積層体を吸着固定することができる。   The processing table may be formed of a porous material, and the entire upper surface of the processing table may be an adsorbable region. In this case, since the entire upper surface of the processing table is an adsorbable region, the base plate laminate can be adsorbed and fixed corresponding to various sizes and shapes of the cover glass for electronic devices.

加工テーブルの表面粗さ(Ra)が0.1〜25μmであることが好ましい。加工テーブルの表面粗さを上記の範囲としたことにより、ガラスの素板積層体を加工テーブル上に載置して吸着するだけで、極めて簡単かつ確実に固定し、切断加工を行うことができる。仮に加工テーブルが鏡面であると、クーラントが入り込んで滑りやすくなる。加工テーブルが上記範囲より粗いと真空度が低下して摩擦力が低下する。上記の範囲であれば、真空度を維持しながら接触面積を減らして垂直抗力を高めることができるため、簡単かつ確実に固定することが可能となる。ここで、加工テーブルを製作・維持するコストの点では表面粗さ(Ra)は1μm以上がより好ましく、また高い真空度を得ることによりワークずれの発生をより防止することができる点で表面粗さ(Ra)は10μm以下がより好ましい。   It is preferable that the surface roughness (Ra) of the processing table is 0.1 to 25 μm. By setting the surface roughness of the processing table in the above range, the glass base plate laminate can be fixed and cut very easily and simply by placing it on the processing table and adsorbing it. . If the processing table is a mirror surface, coolant enters and becomes slippery. If the processing table is rougher than the above range, the degree of vacuum decreases and the frictional force decreases. If it is said range, since a contact area can be reduced and a vertical drag can be raised, maintaining a vacuum degree, it becomes possible to fix easily and reliably. Here, the surface roughness (Ra) is more preferably 1 μm or more in terms of the cost of manufacturing and maintaining the processing table, and the surface roughness can be further prevented by obtaining a high degree of vacuum. The thickness (Ra) is more preferably 10 μm or less.

また真空吸着によって固定していることから、接着剤で加工テーブルに固定する場合と異なり、加工テーブルから剥離させる必要がない。したがって、熱や溶剤によって積層体自身の接着を損ねたり、ヘラで剥がして積層体最下層のガラス基板を傷めたりするおそれがない。また紫外線硬化テープと真空吸着法を用いて固定する場合と比較すれば、クーラントが入り込んで摩擦力が低下することがないため、切断加工の際にずれて寸法精度が低下するおそれがない。   Moreover, since it fixes by vacuum suction, unlike the case where it fixes to a process table with an adhesive agent, it is not necessary to peel from a process table. Therefore, there is no possibility that the adhesion of the laminate itself is damaged by heat or a solvent, or the glass substrate in the lowermost layer of the laminate is damaged by peeling off with a spatula. Further, compared with the case of fixing using an ultraviolet curable tape and a vacuum adsorption method, the coolant does not enter and the frictional force does not decrease, so that there is no possibility that the dimensional accuracy is deteriorated due to deviation during cutting.

また素板積層体を加工テーブル上に単に置くだけであるため、接着剤や紫外線硬化テープを取り付ける工程が必要なく、材料費も削減することができる。したがって、大幅な生産コストの低減も図ることができる。   Further, since the base plate laminate is simply placed on the processing table, a process of attaching an adhesive or an ultraviolet curable tape is not necessary, and the material cost can be reduced. Therefore, the production cost can be greatly reduced.

また積層工程において、ガラス素板同士を接着する接着剤は光硬化性樹脂であり、積層工程では、素板積層体の積層方向の両側から同等の強度で素板積層体の厚さ中心領域に到達するように両方の主表面に光を照射することにより、接着剤の硬化を、素板積層体の両面から進行させることが好ましい。   In the laminating process, the adhesive that bonds the glass base plates together is a photocurable resin. In the laminating process, the thickness of the base laminate is equal to the thickness of the base laminate from both sides of the base laminate. It is preferable to cure the adhesive from both sides of the base laminate by irradiating both main surfaces with light so as to reach.

上記構成によれば、素板積層体の両面から接着剤の硬化を同等に進行させることができるため、接着剤の収縮の際のひずみによる応力を表裏で均等にできるため、素板積層体の反りやうねりを低減することができ、素板積層体を平坦に形成することができる。この結果、真空吸着における真空度(吸着力)の低下を防止することができ、より確実に素板積層体を吸着固定することができる。また切断工程後の積層ブロック上下での寸法誤差、および各ガラス基板の端面の垂直度の低下を抑えることができる。なお、光を照射する際には、素板積層体を平置きにして上下両方から照射してもよいし、素板積層体を立てて支持した状態で左右両方から照射してもよい。   According to the above configuration, since the curing of the adhesive can proceed equally from both sides of the base plate laminate, the stress due to strain during the shrinkage of the adhesive can be made uniform on both sides, Warpage and undulation can be reduced, and the base plate laminate can be formed flat. As a result, a decrease in the degree of vacuum (adsorption force) in vacuum adsorption can be prevented, and the base plate laminate can be more securely adsorbed and fixed. Moreover, the dimensional error in the upper and lower sides of the laminated block after the cutting step and the decrease in the perpendicularity of the end face of each glass substrate can be suppressed. In addition, when irradiating light, you may irradiate from both upper and lower sides with a base-plate laminated body placed flat, or you may irradiate from both right and left in the state which supported the base-plate laminated body upright.

積層工程では、光を透過させる剛体のプレートの上にガラス素板と接着剤を交互に配置して積層すると共に、積層したガラス素板の上にプレートと光透過率が同じプレートを載せた状態で光を照射してもよい。   In the laminating process, glass plates and adhesives are alternately stacked on a rigid plate that transmits light, and a plate with the same light transmittance as the plate is placed on the laminated glass plate. You may irradiate with light.

上記構成は、ガラス素板を水平に載置して積層する場合である。上記構成によれば、容易に両面の積算光量を一致させることができ、また重さと剛性によって機械的に変形を抑制するため、さらにひずみを低減することが可能となる。   The said structure is a case where a glass base plate is mounted horizontally and laminated | stacked. According to the above-described configuration, the integrated light amounts on both sides can be easily matched, and the deformation can be further suppressed by the weight and rigidity, so that the strain can be further reduced.

積層工程では、光を透過させる2枚の剛体のプレートを素板積層体の両主表面に沿って配置し、素板積層体およびプレートを立てて配置した状態で、2枚のプレートによって素板積層体を挟むように圧力をかけながら光を照射してもよい。   In the laminating process, two rigid plates that transmit light are arranged along both main surfaces of the base plate laminate, and the base plate laminate and the plates are placed upright, and the base plate is formed by the two plates. You may irradiate light, applying a pressure so that a laminated body may be pinched | interposed.

上記構成はガラス素板を垂直に立てた状態で積層する場合である。上記構成によれば、容易に両面の積算光量を一致させることができ、また圧力と剛性によって機械的に変形を抑制するため、さらにひずみを低減することが可能となる。   The said structure is a case where a glass base plate is laminated | stacked in the state stood | rightened vertically. According to the above configuration, the integrated light amounts on both sides can be easily matched, and the deformation is mechanically suppressed by the pressure and rigidity, so that the strain can be further reduced.

本発明によれば、ガラス素板を積層した素板積層体を簡単に固定して切断加工を行い、かつ容易に固定解除が可能な電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a glass substrate of a cover glass for an electronic device that can be easily fixed by cutting a base plate laminate in which glass base plates are stacked and can be easily released. Can do.

電子機器用カバーガラスを説明する図である。It is a figure explaining the cover glass for electronic devices. 電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the manufacturing method of the glass substrate of the cover glass for electronic devices. 積層工程を説明する図である。It is a figure explaining a lamination process. 切断工程を説明する図である。It is a figure explaining a cutting process. 加工テーブルを説明する図である。It is a figure explaining a process table. 他の実施形態を説明する図である。It is a figure explaining other embodiment.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。かかる実施の形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiments are merely examples for facilitating understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.

図1は電子機器用カバーガラスを説明する外観斜視図である。本発明にかかる製造方法によって製造される電子機器用カバーガラスは、スマートフォンを含む携帯電話や、タブレット端末やスレートPC(Personal Computer)、PDA(Personal Digital Assistant)などの携帯機器、もしくはポインティングデバイス、ATMや券売機、電子案内板のような据置式の装置のタッチセンサのカバーガラスとして利用可能である。ガラス基板100は、本実施形態では、携帯電話(携帯機器)用のカバーガラスを図示して説明する。   FIG. 1 is an external perspective view illustrating a cover glass for an electronic device. The cover glass for an electronic device manufactured by the manufacturing method according to the present invention is a mobile phone including a smartphone, a mobile device such as a tablet terminal, a slate PC (Personal Computer), or a PDA (Personal Digital Assistant), or a pointing device, ATM. It can be used as a cover glass for a touch sensor of a stationary apparatus such as a ticket vending machine or an electronic guide board. In the present embodiment, the glass substrate 100 will be described with reference to a cover glass for a mobile phone (mobile device).

図1に示すように、ガラス基板100の外周部102はおおむね矩形状である。また、ガラス基板100には、例えばスピーカーやボタン、マイク用の開口104が設けられている。ガラス基板100の板厚は特に限定されないが、カバーガラスを利用する各種機器の重量増大の抑制や、機器の薄型化の観点から、通常は、1mm以下であることが好ましく、0.7mm以下であることがより好ましい。なお、板厚の下限値は、ガラス基板の機械的強度を確保する観点から、0.1mm以上とすることが好ましい。ガラス基板100の外形形状は、組み込み対象となる携帯機器に応じて適宜設定されうる。   As shown in FIG. 1, the outer peripheral portion 102 of the glass substrate 100 is generally rectangular. Further, the glass substrate 100 is provided with openings 104 for speakers, buttons, and microphones, for example. Although the thickness of the glass substrate 100 is not particularly limited, it is usually preferably 1 mm or less, preferably 0.7 mm or less, from the viewpoint of suppressing weight increase of various devices using cover glass and thinning the device. More preferably. In addition, it is preferable that the lower limit of plate thickness shall be 0.1 mm or more from a viewpoint of ensuring the mechanical strength of a glass substrate. The outer shape of the glass substrate 100 can be appropriately set according to the portable device to be incorporated.

ガラス基板100は、後述するように大判のガラス素板110から切り出される。ガラス素板110は、溶融ガラスから直接シート状に成型したもの、あるいは、ある厚さに成型されたガラス体を所定の厚さに成型し、主表面を研磨して所定の厚さに仕上げたものを使用することができる。特に、ガラス素板110として溶融ガラスから直接シート状に成型したものを用いる場合には、ガラス素板110の主表面がマイクロクラックのない表面状態を有するため好ましい。溶融ガラスから直接シート状に成型する方法としては、ダウンドロー法、フロート法などが挙げられる。   The glass substrate 100 is cut out from a large glass base plate 110 as described later. The glass base plate 110 is formed directly from molten glass into a sheet shape, or a glass body molded to a certain thickness is molded to a predetermined thickness, and the main surface is polished to a predetermined thickness. Things can be used. In particular, when the glass base plate 110 that is molded directly from molten glass into a sheet is used, it is preferable because the main surface of the glass base plate 110 has a surface state without microcracks. Examples of the method for directly forming a sheet from molten glass include a downdraw method and a float method.

ガラス素板110は、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、透明な結晶化ガラスなどで構成されていることが好ましい。中でも、SiO2、Al2O3、Li2O及び/又はNa2Oを含有したアルミノシリケートガラスであることが好ましい。Li2Oは、化学強化においてNa+イオンとLi+イオンを交換させるための成分である。Na2Oは、化学強化においてK+イオンとNa+イオンを交換させるための成分である。ZrO2は、機械的強度を高めるために有用である。ただしアルミノシリケートガラス以外の素材であっても、化学強化可能な材料であればよい(Li+イオン及びNa+イオンの少なくともいずれか一方を含有していればよい)。   The glass base plate 110 is preferably made of aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, transparent crystallized glass, or the like. Among these, an aluminosilicate glass containing SiO2, Al2O3, Li2O and / or Na2O is preferable. Li2O is a component for exchanging Na + ions and Li + ions in chemical strengthening. Na2O is a component for exchanging K + ions and Na + ions in chemical strengthening. ZrO2 is useful for increasing the mechanical strength. However, even materials other than aluminosilicate glass may be used as long as they can be chemically strengthened (they should contain at least one of Li + ions and Na + ions).

図2は電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法を説明するフローチャート、図3は積層工程を説明する図、図4は切断工程を説明する図である。以下、図2のフローチャートに沿って、図3および図4を参照しながら、電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法について説明する。   FIG. 2 is a flowchart for explaining a method for manufacturing a glass substrate of a cover glass for electronic equipment, FIG. 3 is a diagram for explaining a lamination process, and FIG. 4 is a diagram for explaining a cutting process. Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate of the cover glass for electronic devices is demonstrated along the flowchart of FIG. 2, referring FIG. 3 and FIG.

ステップ200からステップ206はガラス素板110の積層工程である。
まず、光を透過させる剛体のプレート112を設置する(ステップ200、図3(a))。プレート112は光の透過率が高いものが好ましく、またガラス素板110と光の屈折率が近いものが好ましい。またプレート112は、接着剤の収縮の際の歪による応力によって反り等が生じない程度の剛性を有しているものが好ましい。例えば、プレート112はガラス素板110と同じ素材を用いて、剛性を得るに十分な厚みを有しているものとすることができる。
Steps 200 to 206 are steps for laminating the glass base plate 110.
First, a rigid plate 112 that transmits light is installed (step 200, FIG. 3A). The plate 112 preferably has a high light transmittance, and preferably has a light refractive index close to that of the glass base plate 110. Further, it is preferable that the plate 112 has such a rigidity that warp or the like does not occur due to a stress caused by strain at the time of shrinkage of the adhesive. For example, the plate 112 can be made of the same material as the glass base plate 110 and has a sufficient thickness to obtain rigidity.

次に、プレート112の上に大判のガラス素板110と接着剤114を交互に積層して素板積層体120を形成する(ステップ202、図3(b))。ガラス素板110の積層枚数は3枚以上であって、例えば10〜100枚程度である。なお、プレート112と1枚目のガラス素板110との間には接着剤114を塗布しない。   Next, a large-sized glass base plate 110 and an adhesive 114 are alternately stacked on the plate 112 to form a base-plate stack 120 (step 202, FIG. 3B). The number of laminated glass base plates 110 is three or more, for example, about 10 to 100. Note that the adhesive 114 is not applied between the plate 112 and the first glass base plate 110.

接着剤114は、所定の波長の紫外線の照射で固化する光硬化性樹脂である。紫外線硬化樹脂として、温水、有機溶媒もしくは熱により接着したガラス素板110を容易に剥離させることができるものが好ましい。接着剤114は滴下式によって塗布しても良いし、スプレー式などで塗布してもよい。   The adhesive 114 is a photocurable resin that is solidified by irradiation with ultraviolet rays having a predetermined wavelength. As the ultraviolet curable resin, a resin that can easily peel off the glass base plate 110 bonded by hot water, an organic solvent, or heat is preferable. The adhesive 114 may be applied by a dropping method or by a spray method.

所定の枚数のガラス素板110を積層した後に、2枚目のプレート116を積層したガラス素板110の上に載置する(ステップ204、図3(c))。一番上のガラス素板110と2枚目のプレート116の間には接着剤114を塗布せず、単に載せるだけである。2枚目のプレート116は、1枚面のプレート112と同じ組成、同じ厚みのものを用いる。   After a predetermined number of glass base plates 110 are stacked, the second plate 116 is placed on the stacked glass base plate 110 (step 204, FIG. 3C). The adhesive 114 is not applied between the uppermost glass base plate 110 and the second plate 116, but simply placed. The second plate 116 has the same composition and the same thickness as the first plate 112.

2枚のプレート112、116によって挟まれた状態で、その上下両側に紫外線の光源118を配置する。そして素板積層体120の積層方向の両側(例えば積層体の両方の主表面に垂直な方向)から光(紫外線)を照射して、接着剤114を硬化させる(ステップ206、図3(d))。   While sandwiched between the two plates 112 and 116, ultraviolet light sources 118 are arranged on both upper and lower sides thereof. Then, the adhesive 114 is cured by irradiating light (ultraviolet rays) from both sides of the base laminate 120 (for example, a direction perpendicular to both main surfaces of the laminate) (step 206, FIG. 3D). ).

上記構成によれば、素板積層体120の両面から同等の強度で光が到達することから、接着剤114の硬化を、素板積層体120の両面から同時に進行させることができる。したがって接着剤114の収縮の際のひずみによる応力が表裏で均等になり、素板積層体120の反りやうねりを低減することができる。したがって切断工程後の積層ブロック上下での寸法誤差、および各ガラス基板の端面の垂直度の低下を防止することができる。   According to the above configuration, since the light reaches the both sides of the base plate laminate 120 with the same intensity, the adhesive 114 can be cured simultaneously from both sides of the base plate laminate 120. Therefore, the stress due to the strain at the time of shrinkage of the adhesive 114 becomes even on the front and back sides, and the warp and undulation of the base plate laminate 120 can be reduced. Therefore, it is possible to prevent a dimensional error above and below the laminated block after the cutting process and a decrease in the perpendicularity of the end face of each glass substrate.

また、単に上下両側から光を照射するのではなく、ベースとなるプレート112と同じ2枚目のプレート116を素板積層体120の上に載せていることにより、さらにひずみの発生を防止することができる。2枚目のプレート116は2つの役割を有している。1つめは、上下共にプレート112、116を介して光を照射することにより、容易かつ確実に両面の積算光量を一致させることができ、両面から同時に硬化を進行させることができる。2つめは、2枚目のプレート116がその重さと剛性によって機械的に変形を抑制するため、硬化時のひずみを防止することができる。   In addition, the second plate 116, which is the same as the base plate 112, is placed on the base plate laminate 120, rather than simply irradiating light from the upper and lower sides, thereby further preventing the occurrence of distortion. Can do. The second plate 116 has two roles. First, by irradiating light through the plates 112 and 116 both in the upper and lower directions, the integrated light amounts on both sides can be matched easily and reliably, and curing can proceed simultaneously from both sides. Second, since the second plate 116 mechanically suppresses deformation due to its weight and rigidity, distortion during curing can be prevented.

ステップ210からステップ216は切断工程である。
上記のようにして硬化させた素板積層体120をプレート112、116の間から取り出し、真空吸着用の加工テーブル150の上に載置する(ステップ210、図4(a))。加工テーブル150には多数の吸引孔152が設けられていて、素板積層体120の下面を負圧にして真空吸着する。吸引孔152はエゼクタ式の真空ポンプ154に接続されている。真空ポンプ154をエゼクタ式としていることにより、切断加工時のクーラントが入り込んだときにも故障が生じることを防止している。
Steps 210 to 216 are cutting processes.
The base plate laminate 120 cured as described above is taken out between the plates 112 and 116 and placed on the processing table 150 for vacuum suction (step 210, FIG. 4A). A large number of suction holes 152 are provided in the processing table 150, and vacuum suction is performed with the lower surface of the base plate laminate 120 being set at a negative pressure. The suction hole 152 is connected to an ejector type vacuum pump 154. Since the vacuum pump 154 is an ejector type, it is possible to prevent a failure from occurring even when coolant enters during cutting.

そして真空ポンプ154によって吸引して素板積層体120を固定して(ステップ212)、クーラント(切削液)を切断部位に供給しながら円板カッター160によって切断を行う(ステップ214、図4(b))。これにより面積の大きな素板積層体120は小分けに分割され、面積の小さな積層ブロック130が形成される。真空ポンプ154による吸引を停止すると(ステップ216)、加工テーブル150から積層ブロック130を容易に取り上げて回収することができる。   Then, suction is performed by the vacuum pump 154 to fix the base plate laminate 120 (step 212), and cutting is performed by the disc cutter 160 while supplying coolant (cutting fluid) to the cutting site (step 214, FIG. 4 (b)). )). Thereby, the base plate laminate 120 having a large area is divided into small portions, and a laminate block 130 having a small area is formed. When the suction by the vacuum pump 154 is stopped (step 216), the laminated block 130 can be easily picked up from the processing table 150 and recovered.

積層ブロック130の大きさは、最終的に得られるガラス基板100(図1参照)よりも少し大きい程度である。切断工程によって得られた小片の積層ブロック130の斜視図を図4(c)に示す。積層ブロック130は、ガラス基板100と接着剤114が交互に積層された構造となっている。   The size of the laminated block 130 is slightly larger than the finally obtained glass substrate 100 (see FIG. 1). FIG. 4C shows a perspective view of the small piece laminated block 130 obtained by the cutting process. The laminated block 130 has a structure in which the glass substrate 100 and the adhesive 114 are alternately laminated.

図5は加工テーブル150を説明する図である。図5において素板積層体120を破線にて示している。加工テーブル150の上面には、素板積層体120の切断線に沿って溝150aが形成されていて、円板カッター160(ダイヤモンドディスク)の刃が加工テーブル150を切削しないように構成されている。   FIG. 5 is a diagram for explaining the processing table 150. In FIG. 5, the base-plate laminated body 120 is shown with the broken line. On the upper surface of the processing table 150, a groove 150a is formed along the cutting line of the base plate laminate 120, and the blade of the disk cutter 160 (diamond disk) is configured not to cut the processing table 150. .

また加工テーブルは切断領域に対応するように溝150aによって複数に区画されており、一区画あたり複数の吸引孔152が設けられている。すなわち吸引孔152は、溝150aで区画された領域の内側に配置されている。これにより、素板積層体120を切断して積層ブロック130に分割された際にも外気を吸引することがなく、切断後の素板積層体120を安定して吸引することができる。   The processing table is divided into a plurality of grooves 150a so as to correspond to the cutting area, and a plurality of suction holes 152 are provided per section. That is, the suction hole 152 is disposed inside the region partitioned by the groove 150a. Thereby, even when the base plate laminate 120 is cut and divided into the laminate blocks 130, the outside air is not sucked, and the cut base plate laminate 120 can be stably sucked.

ここで、加工テーブル150の表面粗さ(Ra)は0.1〜25μmとなっている。加工テーブル150の表面粗さを上記の範囲としたことにより、素板積層体120を加工テーブル150上に載置して吸着するだけで、極めて簡単かつ確実に固定し、切断加工を行うことができる。仮に加工テーブル150が鏡面であると、クーラントが入り込んで滑りやすくなる。加工テーブル150が上記範囲より粗いと真空度(吸引力)が低下して摩擦力が低下する。すなわち上記の範囲であれば、真空度を維持しながら接触面積を減らして垂直抗力を高めることができるため、簡単かつ確実に固定することが可能となる。ここで加工テーブル150の表面粗さ(Ra)は、1〜10μmであることがより好ましい。   Here, the surface roughness (Ra) of the processing table 150 is 0.1 to 25 μm. By setting the surface roughness of the processing table 150 in the above range, it is possible to fix and cut the base plate laminate 120 on the processing table 150 very simply and reliably by simply placing it on the processing table 150 and sucking it. it can. If the processing table 150 is a mirror surface, the coolant enters and becomes slippery. If the processing table 150 is rougher than the above range, the degree of vacuum (suction force) decreases and the frictional force decreases. That is, if it is in said range, since a contact area can be reduced and a normal force can be raised, maintaining a vacuum degree, it becomes possible to fix easily and reliably. Here, the surface roughness (Ra) of the processing table 150 is more preferably 1 to 10 μm.

また真空吸着によって固定していることから、接着剤で加工テーブル150に固定する場合と異なり、加工テーブル150から剥離させる必要がない。したがって、熱や溶剤によって積層体自身の接着を損ねたり、ヘラで剥がして積層体最下層のガラス基板を傷めたりするおそれがない。また紫外線硬化テープと真空吸着法を用いて固定する場合と比較すれば、クーラントが入り込んで摩擦力が低下することがないため、切断加工の際にずれて寸法精度が低下するおそれがない。   Moreover, since it fixes by vacuum suction, unlike the case where it fixes to the process table 150 with an adhesive agent, it is not necessary to peel from the process table 150. FIG. Therefore, there is no possibility that the adhesion of the laminate itself is damaged by heat or a solvent, or the glass substrate in the lowermost layer of the laminate is damaged by peeling off with a spatula. Further, compared with the case of fixing using an ultraviolet curable tape and a vacuum adsorption method, the coolant does not enter and the frictional force does not decrease, so that there is no possibility that the dimensional accuracy is deteriorated due to deviation during cutting.

また素板積層体120を加工テーブル150上に単に置くだけであるため、接着剤や紫外線硬化テープを取り付ける工程が必要なく、材料費も削減することができる。したがって、大幅な生産コストの低減も図ることができる。   Further, since the base plate laminate 120 is simply placed on the processing table 150, a process of attaching an adhesive or an ultraviolet curable tape is not necessary, and the material cost can be reduced. Therefore, the production cost can be greatly reduced.

なお、このように素板積層体120を加工テーブル150に接着せずとも所定の真空度を得られるのは、上記のようにして素板積層体120にひずみ(反り)が発生していないことにもよる。仮に素板積層体120にひずみが生じていると素板積層体120と加工テーブル150の間に隙間が生じるため、加工テーブル150の表面の粗さにかかわらず吸着することが困難になってしまうためである。   The reason why a predetermined degree of vacuum can be obtained without bonding the base plate laminate 120 to the processing table 150 in this way is that the base plate laminate 120 is not distorted (warped) as described above. It depends on. If the base laminate 120 is distorted, a gap is generated between the base laminate 120 and the processing table 150, making it difficult to adsorb regardless of the surface roughness of the processing table 150. Because.

形状加工工程(ステップ220)では、積層ブロック130に対し、外形をカバーガラスの外形形状(設計上の形状)に沿ってグラインダ等を用いた機械加工によって切削、研磨する。またドリルなどを用いた機械加工によって、受話口(スピーカー)やボタン用の開口を形成する。   In the shape processing step (step 220), the outer shape of the laminated block 130 is cut and polished by machining using a grinder or the like along the outer shape (designed shape) of the cover glass. In addition, the opening for the earpiece (speaker) and the button is formed by machining using a drill or the like.

剥離工程(ステップ222)は、積層ブロック130の接着剤114を剥離し、個々のガラス基板100を分離する工程である。剥離工程における剥離方法は保護材の特性に依存するが、例えば、紫外線硬化樹脂からなる保護材の中には、温水(摂氏80〜90度)の環境下で剥離するタイプの保護材が存在する。そのような場合には、積層ブロック130を温水を含む容器内に浸漬させることで、積層ブロック130を1枚ごとのガラス基板100に剥離(分離)することができる。また、溶剤によって剥離する場合には、溶剤の薬液層に積層ブロック130を浸漬して揺動させることによってガラス基板100を剥離することができる。   The peeling step (step 222) is a step of peeling the adhesive 114 of the laminated block 130 and separating the individual glass substrates 100. The peeling method in the peeling process depends on the characteristics of the protective material. For example, in the protective material made of an ultraviolet curable resin, there is a type of protective material that peels in an environment of warm water (80 to 90 degrees Celsius). . In such a case, the laminated block 130 can be peeled (separated) into each glass substrate 100 by immersing the laminated block 130 in a container containing warm water. In the case of peeling with a solvent, the glass substrate 100 can be peeled by immersing the laminated block 130 in a chemical solution layer of the solvent and swinging.

化学強化工程(ステップ224)では、ガラス基板100に含まれる1種以上のアルカリ金属を、溶融塩のアルカリ金属との間でイオン交換処理を行い、ガラス基板100の表層部分に圧縮応力層を形成する。ガラス素板110の組成を上記のようなアルミノシリケートガラスとした場合には、化学強化処理液は、硝酸カリウム、または、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの混塩とする。そして所定の温度(例えば320℃〜470℃)で所定の時間(例えば3分〜600分)浸漬することにより、Li+イオンがNa+イオンで置換され、Na+イオンがK+イオンで置換されて、化学強化が施される。   In the chemical strengthening step (step 224), one or more alkali metals contained in the glass substrate 100 are ion-exchanged with the alkali metal of the molten salt to form a compressive stress layer on the surface layer portion of the glass substrate 100. To do. When the composition of the glass base plate 110 is an aluminosilicate glass as described above, the chemical strengthening treatment liquid is potassium nitrate or a mixed salt of potassium nitrate and sodium nitrate. Then, by immersing at a predetermined temperature (for example, 320 ° C. to 470 ° C.) for a predetermined time (for example, 3 to 600 minutes), Li + ions are replaced with Na + ions, and Na + ions are replaced with K + ions. Is given.

洗浄工程(ステップ226)は、例えば、化学強化後のガラス基板100をパレットに載せた状態で行われる酸洗浄、アルカリ洗浄、純水によるリンス洗浄、IPA(イソプロピルアルコール)による洗浄の少なくともいずれかを含む。   The cleaning step (step 226) includes, for example, at least one of acid cleaning, alkali cleaning, rinse cleaning with pure water, and cleaning with IPA (isopropyl alcohol) performed in a state where the glass substrate 100 after chemical strengthening is placed on a pallet. Including.

[他の実施形態]
図6は本発明にかかる電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法の他の実施形態を説明する図である。上記実施形態においては、積層工程においてプレート112およびガラス素板110を水平に載置して積層するように説明した。しかし本発明は上記例に限定するものではなく、素板積層体120およびプレート112、116を垂直に立てて配置した状態で、2枚のプレート112、116によって素板積層体120を挟むように積層してもよい。
[Other Embodiments]
FIG. 6 is a view for explaining another embodiment of the method for producing the glass substrate of the cover glass for electronic equipment according to the present invention. In the said embodiment, it demonstrated so that the plate 112 and the glass base plate 110 might be mounted horizontally and laminated | stacked in a lamination process. However, the present invention is not limited to the above example, and the base plate stack 120 is sandwiched between the two plates 112 and 116 in a state where the base plate stack 120 and the plates 112 and 116 are vertically arranged. You may laminate.

このようにガラス素板110およびプレート112、116を立てて配置することから、図6(a)に示すようにガラス素板110を接着剤の槽にディップ(浸漬)することによってガラス素板110に接着剤を塗布することができる。ディップによる接着剤の塗布は、滴下式やスプレー式よりも容易に自動化(機械化)することができる。   Since the glass base plate 110 and the plates 112 and 116 are arranged upright as described above, the glass base plate 110 is dipped (immersed) in an adhesive tank as shown in FIG. An adhesive can be applied. The application of the adhesive by dipping can be automated (mechanized) more easily than the dropping type or the spraying type.

積層するガラス素板110同士の間に接着剤114を塗布するためには、ガラス素板110を1枚おきにディップすればよい。またガラス素板110とプレート112、116は接着しないので、両端のガラス素板110はディップしない。そして2枚のプレート112、116によって圧力をかけることにより、接着剤の厚みを均一にすることができる。   In order to apply the adhesive 114 between the glass base plates 110 to be laminated, every other glass base plate 110 may be dipped. Further, since the glass base plate 110 and the plates 112 and 116 are not bonded, the glass base plates 110 at both ends are not dipped. By applying pressure with the two plates 112 and 116, the thickness of the adhesive can be made uniform.

そして図6(b)に示すように、両側の2枚のプレート112、116によって圧力をかけた状態で、その左右両側に紫外線の光源118を配置する。そして素板積層体120の積層方向の両側から光(紫外線)を照射して、接着剤114を硬化させる。   Then, as shown in FIG. 6B, ultraviolet light sources 118 are arranged on the left and right sides of the plate while pressure is applied by the two plates 112 and 116 on both sides. Then, the adhesive 114 is cured by irradiating light (ultraviolet rays) from both sides in the stacking direction of the base plate laminate 120.

本実施形態において2枚のプレート112、116は、両面の積算光量を一致させる役割と、圧力と剛性によって硬化時のひずみを機械的に低減する役割を有している。したがってこのような構成によっても、素板積層体120のひずみを好適に低減することができる。   In the present embodiment, the two plates 112 and 116 have a role of matching the integrated light amounts on both sides and a role of mechanically reducing strain at the time of curing by pressure and rigidity. Therefore, also by such a structure, the distortion of the base-plate laminated body 120 can be reduced suitably.

[実施例]
以下、本発明について実施例を説明する。ガラス素板(およびガラス基板)の組成として、64.5重量%のSiO2と、8.0重量%のAl2O3と、0.4重量%のLiO2と、16.0重量%のNa2Oと、1.0重量%のZrO2とを含むガラス材料を使用した。試験に使用した大判のガラス素板は、長辺450mm、短辺415mm、厚みが0.5mmのものを用いた。
[Example]
Examples of the present invention will be described below. As the composition of the glass base plate (and glass substrate), 64.5 wt% SiO 2, 8.0 wt% Al 2 O 3, 0.4 wt% LiO 2, 16.0 wt% Na 2 O, 1. A glass material containing 0% by weight of ZrO2 was used. The large-sized glass base plate used for the test had a long side of 450 mm, a short side of 415 mm, and a thickness of 0.5 mm.

積層工程において、素板積層体の積層枚数は20枚とした。プレートには厚さ20mmの紫外線を透過するガラス板を用いた。ガラス素板同士を接着する光硬化性樹脂にはUV硬化樹脂を用いて、波長中心360nm(波長領域300−400nm)の紫外線を、強度100mWで照射して硬化させた。切断工程においては、素板積層体を切り分けて、長辺140mm、端辺90mmの積層ブロックを作成した。   In the laminating process, the number of laminated base plate laminates was 20. A glass plate having a thickness of 20 mm and transmitting ultraviolet rays was used as the plate. A UV curable resin was used as a photocurable resin for bonding the glass base plates, and ultraviolet rays having a wavelength center of 360 nm (wavelength region 300 to 400 nm) were irradiated and cured at an intensity of 100 mW. In the cutting step, the base plate laminate was cut into a laminated block having a long side of 140 mm and an end side of 90 mm.

表1は、素板積層体を硬化させる際に両面または片面から照射した場合の様子を調べた結果である。サンプル1、2として、素板積層体の上に2枚目のプレートを載せた状態で、素板積層体の積層方向の両側から紫外線を照射して硬化させた。サンプル1と2とでは、積層枚数をそれぞれ20枚、30枚と異ならせた。サンプル3、4として、素板積層体の上に2枚目のプレートを載せずに、上方からのみ紫外線を照射して硬化させた。サンプル3と4とでは、積層枚数をそれぞれ20枚、30枚と異ならせた。   Table 1 shows the results of examining the state of irradiation from both sides or one side when the base plate laminate is cured. Samples 1 and 2 were cured by irradiating ultraviolet rays from both sides in the stacking direction of the base plate laminate in a state where the second plate was placed on the base plate stack. In Samples 1 and 2, the number of stacked layers was different from 20 and 30, respectively. Samples 3 and 4 were cured by irradiating ultraviolet rays only from above without placing a second plate on the base plate laminate. In samples 3 and 4, the number of stacked layers was different from 20 and 30 respectively.

表1には、硬化後の素板積層体の平面度と、真空吸着の可不可の結果を示している。ここで平面度は、JIS B 0621に従って、三次元測定機(ミツトヨ製、Coordinate measuring machine,型式FJ805)により測定した。また、「真空吸着の可不可」は、円板カッターで切断した際にずれが生じたか否かによって判断した。

Figure 2014031286
Table 1 shows the flatness of the base plate laminate after curing and the result of the possibility of vacuum suction. Here, the flatness was measured with a three-dimensional measuring machine (manufactured by Mitutoyo, Coordinating measuring machine, model FJ805) according to JIS B 0621. In addition, “impossibility of vacuum suction” was determined based on whether or not a deviation occurred when cutting with a disk cutter.
Figure 2014031286

表1を参照するとわかるように、片面照射によって硬化させたサンプル3、4では真空吸着が不可であるのに対し、両面照射によって硬化させたサンプル1、2では支障なく真空吸着できるという結果となった。また、サンプル1、2はサンプル3、4よりも約1/10の平面度を有していることがわかる。なお、積層枚数が多いほど平面度が低下しているが、両面照射で30枚を硬化させた場合であっても、片面照射で20枚を硬化させた場合の約1/7の平面度を有していて、真空吸着の可不可に明確な差が生じた理由が理解できる。   As can be seen from Table 1, the samples 3 and 4 cured by single-sided irradiation cannot be vacuum-sucked, while the samples 1 and 2 cured by double-sided irradiation can be vacuum-sucked without any problem. It was. It can also be seen that Samples 1 and 2 have a flatness of about 1/10 that of Samples 3 and 4. Although the flatness decreases as the number of stacked layers increases, even when 30 sheets are cured by double-sided irradiation, the flatness of about 1/7 when 20 sheets are cured by single-sided irradiation is obtained. It can be understood why there is a clear difference in vacuum adsorption.

表2は、加工テーブルの表面粗さ(Ra)を変化させながら、素板積層体のずれの発生の有無と真空度とを調べた結果である。下記のサンプル11〜16を製作するにあたり、すべて上記サンプル1で作成した素板積層体を用いた。表2を参照すると、表面粗さが小さいほど真空度が高く(値が小さい)、表面粗さが大きいほど真空度が低い(値が大きい)ことがわかる。

Figure 2014031286
Table 2 shows the results of examining the occurrence of deviation of the base plate laminate and the degree of vacuum while changing the surface roughness (Ra) of the processing table. In producing the following Samples 11 to 16, all the base plate laminates prepared in Sample 1 were used. Referring to Table 2, it can be seen that the smaller the surface roughness is, the higher the degree of vacuum is (small value), and the larger the surface roughness is, the lower the degree of vacuum is (large value).
Figure 2014031286

表2においてサンプル15と16を参照すると、サンプル15ではずれが発生していないのに対し、サンプル16ではずれが発生している。このとき真空度も大きく低下しているため、大気による圧力(加工テーブルに対する垂直抗力)が低下し、摩擦力が低下してしまったためである。   Referring to samples 15 and 16 in Table 2, there is no deviation in sample 15, whereas there is a deviation in sample 16. This is because the degree of vacuum is greatly reduced at this time, so that the pressure by the atmosphere (vertical drag against the processing table) is reduced and the frictional force is reduced.

一方、サンプル11と12を参照すると、サンプル11の方が真空度が高いにもかかわらず、ズレが発生していることがわかる。これは、表面粗さが小さく、加工テーブルが鏡面であるために、加工テーブルと素板積層体の間に入り込んだクーラントの逃げ場がなく、素板積層体が浮いた状態となるために、滑りやすくなったためである。   On the other hand, when samples 11 and 12 are referred to, it can be seen that the sample 11 is misaligned although the degree of vacuum is higher. This is because the surface roughness is small and the processing table is a mirror surface, so there is no escape space for the coolant that has entered between the processing table and the base laminate, and the base laminate is in a floating state. This is because it became easier.

以上のことから、加工テーブルの表面粗さ(Ra)を0.1〜25μmとすることにより、ガラスの素板積層体を加工テーブル上に載置して吸着するだけで、極めて簡単かつ確実に固定し、切断加工を行うことができることが確認された。さらには、表面粗さ(Ra)1μmの加工テーブルを製作・維持するコストは、表面粗さ(Ra)0.05μmの加工テーブルと比較して大幅に削減することが可能となるので、コストの点で加工テーブルの表面粗さ(Ra)は1μm以上がより好ましい。また高い真空度を得るには加工テーブルの表面粗さ(Ra)は10um以下であることが、ずれの発生をよりよく防止することができるのでより好ましい。上記の結果、加工テーブルの表面粗さ(Ra)は0.1〜10umがより好ましい。   From the above, by setting the surface roughness (Ra) of the processing table to 0.1 to 25 μm, it is extremely simple and reliable simply by placing and adsorbing the glass base plate laminate on the processing table. It was confirmed that it can be fixed and cut. Furthermore, the cost of manufacturing and maintaining a processing table having a surface roughness (Ra) of 1 μm can be significantly reduced as compared with a processing table having a surface roughness (Ra) of 0.05 μm. In this respect, the surface roughness (Ra) of the processing table is more preferably 1 μm or more. Further, in order to obtain a high degree of vacuum, it is more preferable that the surface roughness (Ra) of the processing table is 10 μm or less because the occurrence of deviation can be better prevented. As a result, the surface roughness (Ra) of the processing table is more preferably 0.1 to 10 um.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

なお、上記の実施の形態では、加工テーブルとして、図5に示すように切断領域に対応するように複数に区画されたものについて説明した。しかしながら、加工テーブルは、この例に限定するものではない。例えば、多孔質材料(多孔質セラミックスや多孔質樹脂等)によって形成された加工テーブルを用いてもよい。この場合、加工テーブルの上面全面が吸着可能領域となるため、電子機器用カバーガラスの多種多様な大きさ・形状に対応して、素板積層体を吸着固定することができる。   In the above embodiment, the processing table is divided into a plurality of sections corresponding to the cutting area as shown in FIG. However, the processing table is not limited to this example. For example, a processing table formed of a porous material (such as porous ceramics or porous resin) may be used. In this case, since the entire upper surface of the processing table is an adsorbable region, the base plate laminate can be adsorbed and fixed corresponding to various sizes and shapes of the cover glass for electronic devices.

本発明は、携帯機器(携帯型電子機器)の表示画面のカバー部材として用いられる携帯機器用カバーガラスと、例えばポインティングデバイス等のタッチセンサのカバー部材として用いられるタッチセンサ用カバーガラスとを含む電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法として利用することができる。   The present invention relates to an electronic device including a cover glass for a portable device used as a cover member for a display screen of a portable device (portable electronic device) and a cover glass for a touch sensor used as a cover member for a touch sensor such as a pointing device. It can utilize as a manufacturing method of the glass substrate of the cover glass for apparatuses.

100…ガラス基板、102…外周部、104…開口、110…ガラス素板、112…プレート、114…接着剤、116…プレート、118…光源、120…素板積層体、130…積層ブロック、150…加工テーブル、150a…溝、152…吸引孔、154…真空ポンプ、160…円板カッター DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Glass substrate, 102 ... Outer peripheral part, 104 ... Opening, 110 ... Glass base plate, 112 ... Plate, 114 ... Adhesive, 116 ... Plate, 118 ... Light source, 120 ... Base plate laminated body, 130 ... Laminated block, 150 ... Processing table, 150a ... Groove, 152 ... Suction hole, 154 ... Vacuum pump, 160 ... Disk cutter

Claims (7)

複数枚のガラス素板を積層して接着した素板積層体を形成する積層工程と、
前記素板積層体を切断して主表面の面積が小さい積層ブロックを形成する切断工程とを含む電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法において、
前記切断工程では、真空吸着用の加工テーブルの上に前記素板積層体を載置して吸着固定させた状態で切断を行うことを特徴とする電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。
A laminating step of forming a base plate laminate in which a plurality of glass base plates are stacked and bonded;
In the manufacturing method of the glass substrate of the cover glass for electronic devices, including a cutting step of cutting the base plate laminate to form a laminated block having a small main surface area.
The method for producing a glass substrate of a cover glass for an electronic device, wherein the cutting step is performed in a state where the base plate laminate is placed on a processing table for vacuum suction and is fixed by suction.
前記加工テーブルは、切断領域に対応するように複数に区画されており、
前記加工テーブルには、一区画あたり複数の吸引孔が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。
The processing table is divided into a plurality so as to correspond to the cutting area,
The method for producing a glass substrate for a cover glass for an electronic device according to claim 1, wherein the processing table is provided with a plurality of suction holes per section.
前記加工テーブルは、多孔質材料によって形成されており、前記加工テーブルの上面全面が吸着可能領域であることを特徴とする請求項1に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。   2. The method of manufacturing a glass substrate for a cover glass for an electronic device according to claim 1, wherein the processing table is made of a porous material, and the entire upper surface of the processing table is an adsorbable region. 前記加工テーブルの表面粗さ(Ra)が0.1〜25μmであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。   The surface roughness (Ra) of the said processing table is 0.1-25 micrometers, The manufacturing method of the glass substrate of the cover glass for electronic devices of any one of Claim 1 to 3 characterized by the above-mentioned. 前記積層工程において前記ガラス素板同士を接着する接着剤は光硬化性樹脂であり、
前記積層工程では、前記素板積層体の積層方向の両側から同等の強度で前記素板積層体の厚さ中心領域に到達するように前記両方の主表面に光を照射することにより、前記接着剤の硬化を、前記素板積層体の両面から進行させることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。
The adhesive that bonds the glass base plates together in the laminating step is a photocurable resin,
In the laminating step, the adhesion is performed by irradiating light on both main surfaces so as to reach the thickness center region of the base plate laminate with equal strength from both sides in the stacking direction of the base plate laminate. The method for producing a glass substrate for a cover glass for an electronic device according to any one of claims 1 to 4, wherein the curing of the agent proceeds from both sides of the base plate laminate.
前記積層工程では、光を透過させる剛体のプレートの上にガラス素板と接着剤を交互に配置して積層すると共に、積層したガラス素板の上に前記プレートと光透過率が同じプレートを載せた状態で光を照射することを特徴とする請求項5に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。   In the laminating step, the glass base plate and the adhesive are alternately arranged and laminated on the rigid plate that transmits light, and the plate having the same light transmittance as the plate is placed on the laminated glass base plate. 6. The method for producing a glass substrate of a cover glass for an electronic device according to claim 5, wherein the light is irradiated in a state where the glass substrate is in a wet state. 前記積層工程では、
光を透過させる2枚の剛体のプレートを前記素板積層体の両主表面に沿って配置し、
前記素板積層体およびプレートを立てて配置した状態で、
前記2枚のプレートによって前記素板積層体を挟むように圧力をかけながら光を照射することを特徴とする請求項5に記載の電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。
In the lamination step,
Two rigid plates that transmit light are arranged along both main surfaces of the base plate laminate,
In a state where the base plate laminate and the plate are arranged upright,
6. The method of manufacturing a glass substrate for a cover glass for an electronic device according to claim 5, wherein light is applied while applying pressure so that the base plate laminate is sandwiched between the two plates.
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