KR20140087760A - Dryice injection cleaning device - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a dry ice injection cleaning device and, more particularly, to an injection cleaning device which can regulate the injection size of dry ice particles. The dry ice injection cleaning device comprises: a liquid carbon dioxide supply source; a carrier gas supply source; a heating unit which is connected with the carrier gas supply source in order to heat and discharge supplied carrier gas; and an injection nozzle including a first inlet which is connected with the liquid carbon dioxide supply source, a second inlet which is connected with a carrier gas outlet of the heating unit, and an outlet. The injection nozzle makes liquid carbon dioxide supplied through the first inlet be depressed and be adiabatically expanded in order to be changed into dry ice, be mixed with the carrier gas supplied through the second inlet, and then be discharged through the outlet. Nitrogen or air can be used as the carrier gas. Any means to supply thermal energy to the carrier gas, such as an insulating heater and a burner which uses fuel, can be used as the heating unit.

Description

드라이아이스 분사 세정 장치{DRYICE INJECTION CLEANING DEVICE}[0001] DRYICE INJECTION CLEANING DEVICE [0002]

본 발명은 드라이아이스 분사 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 드라이아이스 분사 입자의 크기를 조절할 수 있는 분사 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dry ice spray cleaning apparatus, and more particularly, to a spray cleaning apparatus capable of controlling the size of dry ice spray particles.

반도체 기판, 광학 부품, 수지 성형품 등 피처리 대상물의 표면에 붙어 있는 미물질을 제거하기 위한 드라이아이스 분사 세정 장치가 사용되고 있다. There is used a dry ice spray cleaning device for removing micro-materials adhering to the surface of an object to be treated such as a semiconductor substrate, an optical component, and a resin molded product.

종래의 드라이아이스 분사 세정 장치는 펠렛(pellet) 형태의 드라이아이스를 압축 공기와 함께 분사 노즐로부터 분사시키거나, CO2 가스로 스노우 드라이아이스를 형성해서 분사 노즐로부터 분사시키는 장치가 사용되고 있다. 펠렛 형태의 드라이아이스를 분사하여 세정하기 위한 장치는 드라이아이스를 펠렛 형태로 분쇄하여 투입하는 작업이 필요하여 공정이 복잡하고, 비교적 크기가 큰 펠렛 형태의 드라이아이스를 분사시키기 때문에 세정 대상물 표면이 얼어버리거나, 결로가 생기거나, 세정 대상물의 표면이 충격으로 손상되는 문제점이 있다. 또한, 스노우 드라이아이스를 분사하여 세정하는 장치도 공정이 복장하고 입자가 부드럽기 때문에 충분한 세정효과를 얻지 못한다는 결점이 있다.In the conventional dry ice spray cleaning apparatus, a device for spraying pellet-shaped dry ice from a spray nozzle together with compressed air, or forming a snow-dry ice with CO 2 gas and spraying it from an injection nozzle is used. The apparatus for spraying pellets of dry ice by spraying dry ice requires pulverizing and injecting dry ice into a pellet form, which is complicated in process. Since pellet-shaped dry ice having a relatively large size is sprayed, the surface of the object to be cleaned is frozen There is a problem that the surface of the object to be cleaned may be discolored, condensation may occur, or the surface of the object to be cleaned may be damaged by an impact. In addition, the apparatus for spraying snow dry ice by spraying has a drawback in that it does not achieve sufficient cleaning effect because the process is dressed and the particles are softer.

세정 대상물이나 세정 대상물의 표면에 부착된 이물질의 상태에 따라서, 세정에 적당한 입자 크기를 갖는 드라이아이스를 간편하게 생성하여 분사할 수 있는 세정 장치의 개발이 요구되고 있다.There has been a demand for development of a cleaning device capable of easily generating and spraying dry ice having a particle size suitable for cleaning in accordance with the state of the object to be cleaned or the foreign matter adhering to the surface of the object to be cleaned.

본 발명은 액체 상태의 이산화탄소와 캐리어 가스를 분사노즐에 공급하여, 분사 노즐에서 원하는 크기를 갖는 드라이아이스를 생성하고, 캐리어 가스와 함께 분사하여 대상물 표면을 세정할 수 있는 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The object of the present invention is to provide a device capable of supplying carbon dioxide and carrier gas in a liquid state to an injection nozzle, generating dry ice having a desired size at the injection nozzle, and spraying the dry ice with the carrier gas to clean the object surface do.

본 발명에 따른 드라이 아이스 분사 세정 장치는, 액체 이산화탄소 공급원과, 캐리어 가스 공급원과, 상기 캐리어 가스 공급원에 연결되어 공급되는 캐리어 가스를 가열하여 배출시키기 위한 가열수단과, 상기 액체 이산화탄소 공급원에 연결된 제1 유입구와, 상기 가열수단의 캐리어 가스 배출구에 연결된 제2 유입구와, 유출구를 구비한 분사노즐을 포함한다. 또한, 상기 분사노즐은 제1 유입구로 공급된 액체 이산화탄소를 감압과 동시에 단열 팽창되도록 하여 드라이아이스로 변화되도록 하고, 제2 유입구로 공급된 캐리어 가스와 혼합되어 배출구로 분사하도록 구성되어 있다. 상기 캐리어 가스는 질소 또는 공기를 사용할 수 있다. 상기 가열수단은 전열 히터나 연료를 사용하는 버너 등 열에너지를 캐리어 가스에 공급하기 위한 수단은 어느 것이나 가능하다.The dry ice spray cleaning apparatus according to the present invention comprises a liquid carbon dioxide supply source, a carrier gas supply source, heating means connected to the carrier gas supply source for heating and discharging the carrier gas, And an injection nozzle having an inlet, a second inlet connected to the carrier gas outlet of the heating means, and an outlet. The injection nozzle is configured to change the liquid carbon dioxide supplied to the first inlet to the dry ice so as to be adiabatically expanded at the same time as the pressure is reduced, and mixed with the carrier gas supplied to the second inlet to be sprayed to the outlet. The carrier gas may be nitrogen or air. The heating means can be any means for supplying heat energy to the carrier gas such as a burner using an electric heater or fuel.

상기 분사노즐은, 제1 유입구로 공급된 액체 이산화탄소를 드라이아이스로 변화시키는 드라이아이스 생성공간과, 제2 유입구로 공급된 캐리어 가스와 드라이아이스를 혼합하여 배출구로 배출시키는 혼합공간을 포함한다. 또한, 상기 혼합공간은 배출구를 향하여 체적이 감소하도록 형성되어 있고, 상기 제2 유입구는 상기 드라이아이스 생성공간을 통과하여 상기 혼합공간까지 분사노즐 내부로 연장되도록 하는 것이 바람직하다.The injection nozzle includes a dry ice generating space for changing the liquid carbon dioxide supplied to the first inlet to dry ice and a mixing space for mixing the carrier gas supplied to the second inlet with the dry ice and discharging the mixed gas to the outlet. Preferably, the mixing space is formed so as to decrease in volume toward the discharge port, and the second inlet may extend into the spray nozzle through the dry ice generating space to the mixing space.

제1 유입구를 통하여 드라이아이스 생성공간으로 공급된 액체 상태의 이산화탄소는 압력이 강하되어 기체로 변화하고 동시에 단열 팽창되어 드라이아이스로 변화된다. 드라이아이스 생성공간에서 형성된 드라이아이스는 캐리어 가스와 혼합되어 배출구로 배출된다. 세정에 적당한 드라이아이스는 세정 대상물의 표면을 얼리거나 손상시킬 정도로 지나치게 크지 않고, 세정 효과를 얻을 수 없을 정도로 지나치게 작지 않은 입자의 크기여야 한다. 분사노즐에서 배출되는 혼합 가스에는 드라이아이스와 이산화탄소 가스와 캐리어 가스가 혼합되어 있다. 가열수단은 분사노즐로 배출되는 혼합 가스의 온도가 20 내지 40 ℃ 범위가 되도록 캐리어 가스를 가열하는 것이 바람직하다. 분사노즐로 배출되는 혼합가스의 온도가 상기 범위에 있는 경우에, 세정에 적당한 입자의 드라이아이스가 노즐 내에서 생성되어 분사된다. 또한, 상기 캐리어 가스가 공기인 경우, 캐리어 가스 공급수단에서 분사노즐로 공급되는 공기의 압력은 4 - 8 kgf/㎠ 범위인 것이 바람직하다.The liquid carbon dioxide supplied to the dry ice generating space through the first inlet port is reduced in pressure and changed into a gas, and at the same time, adiabatically expanded and changed into dry ice. The dry ice formed in the dry ice generating space is mixed with the carrier gas and discharged to the discharge port. The dry ice suitable for cleaning should be a particle size not too large to cause the surface of the object to be cleaned or damaged, and not too small so as not to obtain a cleaning effect. The mixed gas discharged from the injection nozzle is mixed with dry ice, carbon dioxide gas, and carrier gas. It is preferable that the heating means heats the carrier gas such that the temperature of the mixed gas discharged to the injection nozzle is in the range of 20 to 40 占 폚. When the temperature of the mixed gas discharged to the injection nozzle is in the above range, dry ice of particles suitable for cleaning is generated and injected in the nozzle. When the carrier gas is air, the pressure of the air supplied from the carrier gas supply means to the injection nozzle is preferably in the range of 4 - 8 kgf / cm 2.

또한, 상기 분사노즐은, 일단이 제2 유입구와 연결되어 내부에 설치된 캐리어 가스 유도관을 더 포함하고, 상기 캐리어 가스 유도관의 타단은 상기 배출구를 향하도록 배치되어 있고, 상기 제1 유입구는 분사노즐의 측면에 배치되도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 캐리어 가스 유도관의 직경이 상기 배출구의 직경보다 작게 형성하는 것이 바람직하다. 배출구로 배출되는 혼합가스의 중심에 캐리어 가스가 배치되어, 가열된 캐리어 가스가 중심에서 드라이아이스와 이산화탄소 가스를 적당한 온도로 가열하여 드라이아이스의 입자크기를 조절하게 된다.The injection nozzle may further include a carrier gas induction pipe having one end connected to the second inlet and disposed inside the other end, and the other end of the carrier gas induction pipe is disposed to face the discharge port, It is preferable to be disposed on the side surface of the nozzle. It is preferable that the diameter of the carrier gas induction pipe is smaller than the diameter of the discharge port. A carrier gas is disposed at the center of the mixed gas discharged to the discharge port so that the heated carrier gas heats the dry ice and the carbon dioxide gas at an appropriate temperature to control the particle size of the dry ice.

본 발명에 따른 드라이아이스 분사 세정 장치는, 액체 이산화탄소로 드라이아이스를 생성하고 생성된 드라이아이스를 가열된 캐리어 가스와 혼합하여 분사되도록 한다. 또한, 캐리어 가스를 가열하여 분사되는 드라이아이스 입자의 크기를 조절할 수 있어서, 세정 대상물이나 세정 대상물의 표면에 부착된 이물질의 상태에 따라서, 세정에 적당한 입자 크기를 갖는 드라이아이스를 간편하게 생성하여 분사할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 드라이아이스 분사 세정 장치를 사용하여 세정을 하면 세정 대상물의 표면이 얼거나 결로되는 현상을 방지할 수 있다.In the dry ice spray cleaning apparatus according to the present invention, dry ice is produced from liquid carbon dioxide, and the generated dry ice is mixed with a heated carrier gas to be sprayed. In addition, the size of the dry ice particles to be sprayed by heating the carrier gas can be adjusted, so that dry ice having a particle size suitable for cleaning can be easily generated and sprayed depending on the state of the object to be cleaned or the foreign matter adhering to the surface of the object to be cleaned . Therefore, when the cleaning is performed using the dry ice spray cleaning apparatus according to the present invention, the surface of the object to be cleaned can be prevented from being frozen or dewy.

도 1은 이산화탄소의 위상 다이어그램
도 2는 드라이아이스를 이용한 기판의 세정 작용 설명도
도 3은 본 발명에 따른 드라이아이스 분사 세정 장치의 일 실시 예의 개략도
도 4는 분사 노즐의 일 실시예의 개략도Figure 1 shows the phase diagram of carbon dioxide
2 is an explanatory view of a cleaning operation of a substrate using dry ice
3 is a schematic view of one embodiment of a dry ice spray cleaning apparatus according to the present invention
Figure 4 is a schematic view of one embodiment of an injection nozzle

본 발명의 목적과 특징은, 다음의 설명과 첨부된 도면을 참조하면 보다 분명히 이해될 것이다. 도면은 오로지 실시예를 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 보호 범위를 한정하는 것은 아니다. 이하, 도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 실시예에 대하여 상세히 설명한다.The objects and features of the present invention will become more apparent from the following description and the accompanying drawings. The drawings are only for illustrating the embodiments and do not limit the scope of protection of the present invention. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

일반적으로, 물질은 온도와 압력 조건에 따라 고체, 액체, 기체 중의 한가지 상태일 수 있다. 예를 들면, 일정한 온도에서 압력이 증가할 경우, 기체는 일반적으로 액화되고, 액체는 고체로 될 수 있다. 어떤 물질의 온도와 압력 조건에 따른 물질의 고체. 액체. 기체와 같은 상태를 나타낸 것을 위상 다이어그램이라고 한다.Generally, a material may be in one of solid, liquid, or gas states depending on temperature and pressure conditions. For example, when the pressure increases at a constant temperature, the gas is generally liquefied and the liquid can become solid. Solids of matter depending on the temperature and pressure conditions of any material. Liquid. A gas phase is called a phase diagram.

도 1은 이산화탄소의 위상 다이어 그램이다. 도 1에 도시된 것과 같이, 이산화탄소는 -56.6 ℃, 5.11 atm에서 고체, 액체, 기체가 동시에 존재할 수 있는 상태가 되고(삼중점), 73.8 atm에서 31.1 ℃ 이상에서는 압력의 변화에 상관없이 액화되지 않는 초임계 상태(supercritical state)가 된다(임계온도, critical temperature). 위상 다이어그램에서, 이러한 초임계 상태가 시작되는 최소의 온도와 압력을 임계점(critical point)이라고 한다. 또한, 대기압 상태에서 고체 상태의 이산화탄소(드라이아이스)는 -78.5 ℃ 이상이 되면 바로 기체로 변화하는 승화 현상이 일어 난다.Figure 1 is a phase diagram of carbon dioxide. As shown in Fig. 1, carbon dioxide becomes a state in which solids, liquids, and gases can coexist at -56.6 DEG C and 5.11 atm (triple point), and is not liquefied regardless of the change in pressure at more than 31.1 DEG C at 73.8 atm It becomes a supercritical state (critical temperature). In the phase diagram, the minimum temperature and pressure at which this supercritical state begins is called the critical point. In addition, when carbon dioxide (dry ice) in the solid state under atmospheric pressure reaches -78.5 ° C or higher, a sublimation phenomenon that changes into gas immediately occurs.

본 발명은 상기와 같이, 드라이아이스가 기체로 승화하는 현상을 이용하여 대상물의 표면을 세정하는 장치에 관한 것이다. 도 2는 드라이아이스를 이용한 기판의 세정 작용 설명도이다. 웨이퍼나 유리판과 같은 도 2 (a)에 도시된 것과 같이, 기판(1)의 표면에 부착된 이물질(2)에 부착되어 있는 경우, 기판(1)의 표면에 드라이아이스 입자(3)를 분사한다. 드라이아이스 입자(3)는 이물질(2)과 충돌하여 드라이아이스 입자(3)의 운동량이 이물질(2)로 전이되어, 이물질(2)은 기판(1)에서 분리되고 드라이아이스 입자(3)가 기판(1)에 부착되게 된다. 이러한 작용이 일어나기 위하여는 드라이아이스의 입자의 운동량(드라이아이스 입자의 분사 속도와 드라이아이스 입자의 질량의 곱)이 기판에 부착된 이물질을 분리시킬 정도로 충분히 커야 한다. 효과적인 세정을 위하여 드라이아이스의 입자의 크기가 이물질의 크기와 비슷한 것이 바람직하다. 기판(1)에 부착된 드라이아이스 입자(3)는 승화하여 기체가 되어 날라가기 때문에 기판(1)을 재오염 시키지 않고 세정을 하게 된다.As described above, the present invention relates to an apparatus for cleaning the surface of an object by utilizing a phenomenon that dry ice is sublimated into a gas. 2 is an explanatory diagram of a cleaning operation of a substrate using dry ice. The dry ice particles 3 are sprayed onto the surface of the substrate 1 when attached to the foreign matter 2 attached to the surface of the substrate 1 as shown in Fig. do. The dry ice particles 3 collide with the foreign matter 2 and the momentum of the dry ice particles 3 is transferred to the foreign matter 2 so that the foreign matter 2 is separated from the substrate 1 and the dry ice particles 3 And is attached to the substrate 1. In order for this action to take place, the momentum of the particle of the dry ice (the product of the spraying speed of the dry ice particles and the mass of the dry ice particles) must be large enough to separate the foreign matter adhered to the substrate. For efficient cleaning, it is preferable that the particle size of the dry ice is similar to the size of the foreign matter. The dry ice particles 3 adhered to the substrate 1 are sublimated and become a gas, so that the substrate 1 is cleaned without being re-contaminated.

도 3은 본 발명에 따른 드라이아이스 분사 세정 장치의 일 실시 예의 개략도이고, 도 4는 분사 노즐의 일 실시예의 개략도이다.FIG. 3 is a schematic view of an embodiment of a dry ice spray cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 4 is a schematic view of one embodiment of a spray nozzle.

본 실시예의 드라이아이스 분사 세정 장치(100)는, 분사노즐(30)에 액체 상태의 이산화탄소(CO2)를 공급하고 온도와 압력을 적당히 조절하여 고체 상태의 드라이아이스가 생성되도록 하여 분사하는 장치이다. 분사세정장치(100)는, 액체 이산화탄소 공급원(10)과, 캐리어 가스 공급원(40)을 포함한다. 액체 이산화탄소 공급원(10)에는 배출되는 액체 이산화탄소의 압력과 유량을 조절하기 위한 버퍼탱크(20)가 배관(b1)으로 연결되어 있고, 버퍼 탱크(20)는 배관(b2)으로 분사노즐(30)에 연결되어 있다. 캐리어 가스 공급원(40)에는 배출되는 캐리어 가스를 가열하여 분사노즐(30)로 공급되는 캐리어 가스의 온도를 조절하기 위한 가열수단(50)이 연결되어 있다. 배관(a1)을 통하여 가열수단(50)에 공급된 캐리어 가스는 가열되어 배관(a2)을 통하여 분사노즐(30)로 공급된다. The dry ice spray cleaning apparatus 100 according to the present embodiment is a device for spraying liquid carbon dioxide (CO 2) to the spray nozzle 30 and appropriately adjusting the temperature and pressure to generate solid dry ice. The spray cleaning apparatus 100 includes a liquid carbon dioxide supply source 10 and a carrier gas supply source 40. The buffer tank 20 is connected to the liquid carbon dioxide supply source 10 through a pipe b1 for controlling the pressure and the flow rate of the liquid carbon dioxide discharged from the buffer tank 20. The buffer tank 20 is connected to the injection nozzle 30 through a pipe b2, Respectively. The carrier gas supply source 40 is connected with a heating means 50 for heating the discharged carrier gas to regulate the temperature of the carrier gas supplied to the injection nozzle 30. The carrier gas supplied to the heating means 50 through the pipe a1 is heated and supplied to the injection nozzle 30 through the pipe a2.

캐리어 가스는 정화된 공기(clean dry air)를 사용하는 것이 바람직하나, 질소, 아르곤, 헬륨 등의 가스를 사용할 수도 있다. 가열 수단(50)은 전열히터나 연료를 사용하는 버너 등을 사용할 수 있다. 배관들(a1, b1, b2)에는 각각 밸브들(12, 22, 42)이 설치되어 공급되는 액체 이산화탄소나 캐리어 가스의 유량과 압력을 조절하도록 되어 있다. 몇몇 실시예에 있어서, 필요에 따라서 압력 조절 밸브나 유량 조절 밸브를 추가로 설치할 수 있다. 또한, 분사세정장치(100)는 밸브들(12, 22, 42)과 가열수단(50)을 제어하기 위한 제어유닛(60)을 포함한다. The carrier gas is preferably clean dry air, but it is also possible to use a gas such as nitrogen, argon or helium. The heating means 50 may be an electrically heated heater, a burner using fuel, or the like. The pipes 12, 22 and 42 are provided in the pipes a1, b1 and b2, respectively, so as to control the flow rate and pressure of the supplied liquid carbon dioxide or carrier gas. In some embodiments, a pressure regulating valve or a flow regulating valve may be additionally provided as required. The spray cleaning apparatus 100 also includes a control unit 60 for controlling the valves 12, 22, 42 and the heating means 50.

도 4을 참조하면, 분사노즐(30)은 하우징(31)과, 하우징의 내부에 설치된 캐리어 가스 유도관(35)을 포함한다. 하우징(31)에는 제1 유입구(32)와, 제2 유입구(33)와, 배출구(34)가 형성되어 있다. 또한, 제1 유입구(32)는 액체 이산화탄소가 유입되도록 배관(b2)에 연결되어 있고, 제2 유입구(33)는 캐리어 가스가 유입되도록 배관(a2)에 연결되어 있다. 캐리어 가스 유도관(35)의 일단은 제2 유입구와 연결되어 캐리어 가스를 하우징(31)의 배출구(34)에 인접한 하우징 내부로 직접 공급되도록 한다. 또한, 도시된 것과 같이, 배출구(34)와 제2 유입구(33)는 동일한 축 선에 정렬되도록 배치되어 있고, 캐리어 가스 유도관의 타단은 배출구(34)의 근방에서 분출되는 캐리어 가스가 배출구를 향하도록 배치되어 있다. 또한, 상기 제1 유입구(32)는 분사노즐(30) 하우징(31)의 측면에 형성되어 있다. Referring to FIG. 4, the injection nozzle 30 includes a housing 31 and a carrier gas induction pipe 35 installed inside the housing. A first inlet 32, a second inlet 33 and an outlet 34 are formed in the housing 31. The first inlet 32 is connected to the pipe b2 to allow liquid carbon dioxide to flow in and the second inlet 33 is connected to the pipe a2 to allow the carrier gas to flow. One end of the carrier gas induction pipe 35 is connected to the second inlet so that the carrier gas is directly supplied to the inside of the housing adjacent to the outlet 34 of the housing 31. As shown in the figure, the outlet 34 and the second inlet 33 are arranged so as to be aligned with the same axis line, and the other end of the carrier gas induction pipe is provided with a carrier gas ejected from the vicinity of the outlet 34, Respectively. The first inlet 32 is formed on the side surface of the housing 31 of the injection nozzle 30.

하우징(31)은 드라이아이스 생성공간(36)과 혼합공간(38)으로 구분된다. 드라이아이스 생성공간(36)은 제1 유입구(32)로 유입된 액체 이산화탄소가 캐리어 가스와 혼합되기 전까지의 공간 즉, 제1 유입구와 연통되고 캐리어 가스 유도관(35)의 타단까지 걸치는 하우징(31) 내부 영역(점선으로 구분)이다. 혼합공간(38)은 캐리어 가스유도관(35)의 단부로부터 배출구(34)까지 걸치는 하우징(31)의 내부 영역이다. 하우징(31)의 혼합공간(38)은 배출구(34)를 향하여 연장되고, 배출구(34)를 향하는 방향으로 체적이 감소하도록 테이퍼가 형성되어 있다.The housing 31 is divided into a dry ice generating space 36 and a mixing space 38. The dry ice generating space 36 is a space in which the liquid carbon dioxide introduced into the first inlet 32 is mixed with the carrier gas, that is, a space 31 that communicates with the first inlet and extends to the other end of the carrier gas induction pipe 35 ) Inner region (dotted line). The mixing space 38 is an inner area of the housing 31 extending from the end of the carrier gas induction pipe 35 to the discharge port 34. The mixing space 38 of the housing 31 extends toward the discharge port 34 and is tapered so that the volume decreases in the direction toward the discharge port 34. [

이하에서는 본 발명에 따른 드라이아이스 분사세정장치(100)의 작용에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the dry ice spray cleaning apparatus 100 according to the present invention will be described.

분사노즐(30)의 제1 유입구(32)로 삼중정 이상의 온도와 압력 상태에서 유입된 액체 이산화탄소는 드라이아이스 생성공간(36)에서 압력이 강하되어 기체로 변화한다. 기체로 변화한 이산화탄소 가스는 드라이아이스 생성공간에서 단열 팽창되면서 드라이아이스로 상변화를 한다. 즉, 드라이아이스 생성공간에는 기체 상태의 이산화탄소와 고체 상태의 드라이아이스가 동시에 존재한다.The liquid carbon dioxide introduced into the first inlet 32 of the injection nozzle 30 at a temperature and a pressure of more than three tanks is reduced in pressure in the dry ice generating space 36 and changes to a gas. The carbon dioxide gas changed into gas is adiabatically expanded in the dry ice generating space, and the phase changes to dry ice. That is, the gaseous carbon dioxide and the solid-state dry ice exist simultaneously in the dry ice generating space.

한편, 가열수단(50)에서 가열되어 제2 유입구로 유입된 캐리어 가스는 혼합공간(38)에서 고체 상태의 드라이아이스와 기체 상태의 이산화탄소 가스와 혼합되어 배출구(34)로 배출된다. 제어유닛(60)은 캐리어 가스의 공급압력을 조절하여 드라이아이스 생성공간(36)의 압력이 삼중점 압력 이하가 되도록 조절한다. 몇몇 실시예에서, 분사노즐(30)에는 드라이아이스 생성공간(36)의 압력을 측정하기 위한 압력 센서를 추가로 설치할 수 있다. 가열된 캐리어 가스는 드라이아이스를 가속하여 분사시키면서 동시에 드라이아이스와 이산화탄소를 가열하여 배출되는 드라이아이스 입자의 크기와 이산화탄소 가스의 온도를 조절하게 된다.On the other hand, the carrier gas heated by the heating means 50 and introduced into the second inlet is mixed with dry ice of solid state and gaseous carbon dioxide gas in the mixing space 38, and is discharged to the discharge port 34. The control unit 60 adjusts the supply pressure of the carrier gas to adjust the pressure of the dry ice generating space 36 to be equal to or less than the triple point pressure. In some embodiments, the injection nozzle 30 may be further provided with a pressure sensor for measuring the pressure of the dry ice generating space 36. The heated carrier gas heats the dry ice and accelerates the dry ice and the carbon dioxide to control the size of the discharged dry ice particles and the temperature of the carbon dioxide gas.

도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 분사 세정장치에 있어서, 분사노즐(30)의 배출구(34)로 젯트 형태로 분사되어 배출되는 혼합가스(드라이아이스와 이산화탄소와 공기의 혼합물)의 중심 코어 부분에는 가열된 고온의 캐리어 가스가 주로 분포하므로 온도가 높고 드라이아이스의 입자의 크기가 작고, 가장자리 부분은 온도가 낮고 입자의 크기가 중심 코어 부분의 입자에 비하여 큰 입자가 분포한다. 따라서, 기판에 표면에 부착된 다양한 크기의 이물질을 세정할 수 있다.Referring to FIG. 4, in the spray cleaning apparatus according to the present invention, a center core portion (a mixture of dry ice and carbon dioxide and air) discharged in a jet form into an outlet 34 of the spray nozzle 30 Temperature carrier gas is mainly distributed. Therefore, the temperature is high, the particle size of the dry ice is small, the temperature of the edge portion is low, and the particle size is larger than that of the core portion. Therefore, it is possible to clean foreign bodies of various sizes attached to the surface of the substrate.

본 발명에 따른 드라이아이스 분사세정장치(100)를 사용하여 다음과 같은 조건으로 유리 기판에 대한 세정 실험을 실시하였다. 실험에서, 액체 이산화탄소 공급압력이나 유량 및 공기 공급압력이나 유량은 세정 대상물의 세정 면적에 따라서 분사노즐의 형상과 크기를 선택하고, 분사노즐의 드라이아시스 생성공간의 압력이 삼중점 압력 이하가 되도록 반복적인 실험을 통하여 적당히 선택하였다.A cleaning experiment was conducted on a glass substrate using the dry ice spray cleaning apparatus 100 according to the present invention under the following conditions. In the experiment, the liquid carbon dioxide supply pressure, the flow rate, and the air supply pressure or the flow rate were selected by selecting the shape and size of the injection nozzle according to the area to be cleaned, and repeatedly changing the pressure of the dry- Experiments were carried out to select appropriate.

가. 액체 이산화탄소 공급압력 : 6 atmend. Liquid carbon dioxide Supply pressure: 6 atm

나. 공기 공급압력 : 7 atmI. Air supply pressure: 7 atm

다. 공기 공급 온도에 따른 세정 효과All. Cleaning effect according to air supply temperature

실시예Example 유입구
공기온도(℃)Inlet
Air temperature (℃) 배출구
혼합가스 온도(℃)outlet
Mixed gas temperature (℃) 세정효과Cleaning effect 결로발생Condensation 1One 2020 1010 XX OO 22 5050 1212 △△ OO 33 100100 1717 OO OO 44 150150 2323 ◎◎ △△ 55 200200 3232 ◎◎ XX 66 250250 3838 ◎◎ XX

상기와 같은 세정 실험에서 알 수 있는 바와 같이, 공급되는 액체 이산화탄소의 양에 대하여 배출구로 배출되는 혼합 가스의 온도가 20 - 40 ℃의 범위가 되도록 캐리에 가스인 공기를 가열하면, 세정 대상물인 유리 기판의 표면에 결로가 생기는 것을 방지하면서 동시에 우수한 세정효과를 얻을 수 있었다.As can be seen from the above cleaning experiment, when the carrier gas is heated so that the temperature of the mixed gas discharged to the discharge port is in the range of 20 to 40 ° C relative to the amount of the supplied liquid carbon dioxide, It is possible to prevent condensation from occurring on the surface of the substrate and at the same time to obtain an excellent cleaning effect.

10 액체 이산화탄소 공급원
20 버퍼탱크
30 분사노즐
40 캐리어 가스 공급원
50 가열수단
60 제어유닛10 Liquid Carbon Dioxide Source
20 buffer tank
30 injection nozzles
40 carrier gas source
50 heating means
60 control unit

Claims (7)

액체 이산화탄소 공급원과,
캐리어 가스 공급원과,
상기 캐리어 가스 공급원에 연결되어 공급되는 캐리어 가스를 가열하여 배출시키기 위한 가열수단과,
상기 액체 이산화탄소 공급원에 연결된 제1 유입구와, 상기 가열수단의 캐리어 가스 배출구에 연결된 제2 유입구와, 유출구를 구비한 분사노즐을 포함하고,
상기 분사노즐은 제1 유입구로 공급된 액체 이산화탄소를 감압과 동시에 단열 팽창되도록 하여 드라이아이스로 변화되도록 하고, 제2 유입구로 공급된 캐리어 가스와 혼합되어 배출구로 분사하도록 구성된 드라이 아이스 분사 세정 장치.A liquid carbon dioxide source,
A carrier gas supply source,
Heating means connected to the carrier gas supply source for heating and discharging the supplied carrier gas,
A first inlet connected to the liquid carbon dioxide source, a second inlet connected to a carrier gas outlet of the heating means, and an injection nozzle having an outlet,
Wherein the injection nozzle is adapted to be changed into dry ice by allowing the liquid carbon dioxide supplied to the first inlet to be adiabatically expanded at the same time as the pressure is reduced and mixed with the carrier gas supplied to the second inlet to be sprayed to the discharge port. 제1항에 있어서,
상기 캐리어 가스는 공기이고,
상기 가열수단은, 분사노즐로 배출되는 이산화탄소 가스와 공기의 혼합 가스의 온도가 20 내지 40 ℃ 범위가 되도록 공기를 가열하도록 구성된 드라이아이스 분사 세정 장치.The method according to claim 1,
Wherein the carrier gas is air,
Wherein the heating means is configured to heat the air so that the temperature of the mixed gas of carbon dioxide gas and air discharged to the spray nozzle is in the range of 20 to 40 占 폚. 제2항에 있어서,
상기 캐리어 가스 공급수단에서 분사노즐로 공급되는 공기의 압력은 4 - 8 kgf/㎠ 범위인 드라이아이스 분사 세정 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the pressure of the air supplied from the carrier gas supply means to the spray nozzle is in the range of 4 - 8 kgf / cm 2. 제1항 내지 제3항에 있어서,
상기 분사노즐은, 일단이 제2 유입구와 연결되어 내부에 설치된 캐리어 가스 유도관을 더 포함하고,
상기 캐리어 가스 유도관의 타단은 상기 배출구를 향하도록 배치되어 있고, 상기 제1 유입구는 분사노즐의 측면에 배치된 드라이아이스 분사 세정 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the injection nozzle further comprises a carrier gas induction pipe having one end connected to the second inlet and disposed therein,
And the other end of the carrier gas induction pipe is disposed to face the discharge port, and the first inlet is disposed on a side surface of the spray nozzle. 제4항에 있어서,
상기 캐리어 가스 유도관의 직경이 상기 배출구의 직경보다 작게 형성된 드라이아이스 분사 세정 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the diameter of the carrier gas induction pipe is smaller than the diameter of the discharge port. 제1항 내지 제3항에 있어서,
상기 분사노즐은, 제1 유입구로 공급된 액체 이산화탄소를 드라이아이스로 변화시키는 드라이아이스 생성공간과, 제2 유입구로 공급된 캐리어 가스와 드라이아이스를 혼합하여 배출구로 배출시키는 혼합공간을 포함하는 드라이아이스 분사 세정 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the injection nozzle comprises a dry ice generating space for changing the liquid carbon dioxide supplied to the first inlet to dry ice and a mixing space for discharging the carrier gas and the dry ice supplied to the second inlet to the outlet, Jet cleaning device. 제6항에 있어서,
상기 혼합공간은 배출구를 향하여 체적이 감소하도록 형성되어 있고,
상기 제2 유입구는 상기 드라이아이스 생성공간을 통과하여 상기 혼합공간까지 분사노즐 내부로 연장된 드라이아이스 분사 세정 장치.The method according to claim 6,
Wherein the mixing space is formed so as to decrease in volume toward the discharge port,
And the second inlet extends into the spray nozzle through the dry ice generating space to the mixing space.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108188112A (en) * 2018-01-08 2018-06-22 迪普干冰制造(大连)有限公司 Liquid CO 2 cleaning system
JP2018149475A (en) * 2017-03-10 2018-09-27 株式会社デンソー岩手 Dry ice cleaning apparatus
KR20180124272A (en) * 2017-05-11 2018-11-21 (주) 엔피홀딩스 Apparatus for steam particle size control and system using the same
KR20190092191A (en) * 2018-01-30 2019-08-07 정동섭 Blasting Device and Blasting Method for Revival painting using dryice
KR102008197B1 (en) * 2019-03-04 2019-10-23 주식회사 다이스 Helmet washers for aviation
JP2020146656A (en) * 2019-03-15 2020-09-17 有限会社エアーリメイクス Nozzle of dry ice cleaning machine

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102029445B1 (en) * 2019-05-09 2019-10-08 (주)도아테크 Apparatus for stripping photoresist

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2557383Y2 (en) * 1991-12-06 1997-12-10 大陽東洋酸素株式会社 Dry ice blast injection gun
JP2002066483A (en) * 2000-08-25 2002-03-05 Nippon Sanso Corp Dry ice jet cleaning method and apparatus therefor
JP5162395B2 (en) * 2008-09-30 2013-03-13 富士フイルム株式会社 Adherent removal nozzle and method, and solution casting method
KR101040565B1 (en) * 2009-04-07 2011-06-16 주식회사 바이오메카트로닉 Spray Type Cleaning Device Using Dry?ice

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018149475A (en) * 2017-03-10 2018-09-27 株式会社デンソー岩手 Dry ice cleaning apparatus
KR20180124272A (en) * 2017-05-11 2018-11-21 (주) 엔피홀딩스 Apparatus for steam particle size control and system using the same
CN108188112A (en) * 2018-01-08 2018-06-22 迪普干冰制造(大连)有限公司 Liquid CO 2 cleaning system
CN108188112B (en) * 2018-01-08 2020-10-30 迪普干冰制造(大连)有限公司 Liquid carbon dioxide cleaning system
KR20190092191A (en) * 2018-01-30 2019-08-07 정동섭 Blasting Device and Blasting Method for Revival painting using dryice
KR102008197B1 (en) * 2019-03-04 2019-10-23 주식회사 다이스 Helmet washers for aviation
JP2020146656A (en) * 2019-03-15 2020-09-17 有限会社エアーリメイクス Nozzle of dry ice cleaning machine

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