KR20140063584A - Epoxy compound, epoxy compound mixture, curable composition, and connecting structure - Google Patents
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Abstract
본 발명은 빠르게 경화시킬 수 있고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성이 우수한 에폭시 화합물, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화성 조성물, 및 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체를 제공한다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물은 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기 또는 에폭시기를 갖는다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하이다. 본 발명에 따른 경화성 조성물은 상기 에폭시 화합물과 열 경화제를 포함한다. 본 발명에 따른 접속 구조체(1)는 제1 접속 대상 부재(2)와, 제2 접속 대상 부재(4)와, 제1, 제2 접속 대상 부재(2, 4)를 접속하고 있는 접속부(3)를 구비한다. 접속부(3)는 상기 경화성 조성물에 의해 형성되어 있다. The present invention provides an epoxy compound, a curable composition using the epoxy compound, and a connection structure using the curable composition, which can be rapidly cured and is excellent in adhesiveness and humidity resistance of a cured product. The epoxy compound according to the present invention has an epoxy group at both terminals and a vinyl group or an epoxy group in the side chain. The weight average molecular weight of the epoxy compound according to the present invention is 500 to 150,000. The curable composition according to the present invention comprises the above epoxy compound and a thermosetting agent. The connection structure 1 according to the present invention includes a first connection object member 2, a second connection object member 4 and a connection portion 3 connecting the first and second connection object members 2 and 4 . The connecting portion 3 is formed by the above-mentioned curable composition.
Description
본 발명은 예를 들면, 빠르게 경화시킬 수 있고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성이 우수한 에폭시 화합물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물의 혼합물, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화성 조성물, 및 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체에 관한 것이다.The present invention relates to, for example, an epoxy compound that can be rapidly cured and has excellent adhesion and moisture resistance of a cured product. The present invention also relates to a mixture of the epoxy compound containing the epoxy compound, a curable composition using the epoxy compound, and a connection structure using the curable composition.
에폭시 수지 조성물은 경화 후의 경화물의 접착력이 높고, 경화물의 내수성 및 내열성도 우수하다. 이 때문에, 에폭시 수지 조성물은 전기, 전자, 건축 및 차량 등의 각종 용도에 널리 사용되고 있다. 또한, 여러 가지 접속 대상 부재를 전기적으로 접속하기 위해서, 상기 에폭시 수지 조성물에 도전성 입자가 배합되는 경우가 있다. 도전성 입자를 포함하는 에폭시 수지 조성물은 이방성 도전 재료라 불린다.The epoxy resin composition has high adhesive force of the cured product after curing, and is excellent in water resistance and heat resistance of the cured product. For this reason, epoxy resin compositions are widely used in various applications such as electric, electronic, construction, and automobile. In addition, in order to electrically connect various connection target members, conductive particles may be blended in the epoxy resin composition. The epoxy resin composition containing conductive particles is called an anisotropic conductive material.
상기 이방성 도전 재료는 구체적으로 IC 칩과 플렉시블 인쇄 회로 기판의 접속, 및 IC 칩과 ITO 전극을 갖는 회로 기판의 접속 등에 사용되고 있다. 예를 들면, IC 칩의 전극과 회로 기판의 전극 사이에 이방성 도전 재료를 배치한 후, 가열 및 가압함으로써, 이들 전극끼리를 접속할 수 있다.The anisotropic conductive material is specifically used for connection between an IC chip and a flexible printed circuit board, and for connection between a IC chip and a circuit board having an ITO electrode. For example, after an anisotropic conductive material is disposed between the electrodes of the IC chip and the electrodes of the circuit board, the electrodes can be connected to each other by heating and pressing.
상기 이방성 도전 재료의 일례로서, 하기 특허문헌 1에는 열 경화성 절연 접착제와, 도전성 입자와, 이미다졸계 잠재성 경화제와, 아민계 잠재성 경화제를 포함하는 이방성 도전 접착 필름이 개시되어 있다. 상기 열 경화성 절연 접착제는 바람직하게는 가요성 에폭시 수지를 포함한다. 특허문헌 1에는, 이 이방성 도전 접착 필름을 비교적 저온에서 경화시킨 경우에도 접속 신뢰성이 우수하다는 점이 기재되어 있다.As an example of the anisotropic conductive material,
또한, 하기 특허문헌 2에는 비스페놀 A-알킬렌옥사이드 부가물의 디글리시딜에테르와, 비스페놀 A 디글리시딜에테르와, 에폭시기를 갖지 않는 희석제와, 카르복실기 말단 부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체와, 도데세닐 무수 숙신산과, 무기 충전제를 포함하는 에폭시 수지 조성물이 개시되어 있다.In addition,
최근에, 전자 부품의 전극 사이를 효율적으로 접속하기 위해서는, 에폭시 수지 조성물의 경화에 요하는 가열 시간을 짧게 하는 것이 요구되고 있다. 또한, 가열시간을 짧게 함으로써, 얻어지는 전자 부품의 열(熱) 열화를 억제할 수 있다.In recent years, in order to efficiently connect the electrodes between electronic components, it is required to shorten the heating time required for curing the epoxy resin composition. In addition, by shortening the heating time, heat degradation of the obtained electronic component can be suppressed.
특허문헌 1에 기재된 이방성 도전접착 필름에서는 가열 시간을 짧게 하면, 충분히 경화되지 않는 경우가 있다. 이 때문에, 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 전자 부품의 전극 사이를 접속하기 위해서, 장시간 가열해야만 하는 경우가 있다. 따라서, 전극 사이를 효율적으로 접속할 수 없는 경우가 있다. 또한, 특허문헌 2에 기재된 에폭시 수지 조성물이라도, 충분히 경화시키기 위해서는 장시간의 가열이 필요하다.In the anisotropic conductive adhesive film described in
또한, 특허문헌 1에 기재된 이방성 도전 접착 필름 및 특허문헌 2에 기재된 에폭시 수지 조성물에서는 경화물의 접착성 및 내습성이 낮은 경우가 있다.In addition, the anisotropic conductive adhesive film described in
한편, 가열 시간을 짧게 하는 것이 가능한 신규 경화성 화합물의 개발이 요구된다. 신규 경화성 화합물의 개발은 경화성 조성물을 다양화시킨다.On the other hand, development of a new curable compound capable of shortening the heating time is required. The development of new curable compounds diversifies the curable composition.
본 발명의 목적은 경화성 조성물에 사용할 수 있는 신규 에폭시 화합물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a novel epoxy compound which can be used in a curable composition.
또한, 본 발명의 한정적인 목적은 빠르게 경화시킬 수 있고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성이 우수한 에폭시 화합물, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물의 혼합물, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화성 조성물, 및 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체를 제공하는 것이다.Further, a limited object of the present invention is to provide an epoxy compound which can be rapidly cured and which is excellent in adhesiveness and moisture resistance of a cured product, a mixture of an epoxy compound containing the epoxy compound, a curable composition using the epoxy compound, To provide a connection structure using the composition.
본 발명의 넓은 국면에 따르면, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기 또는 에폭시기를 갖고, 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하인 에폭시 화합물이 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided an epoxy compound having an epoxy group at both terminals, a vinyl group or an epoxy group in the side chain, and a weight average molecular weight of 500 to 150,000.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 특정한 국면에서는, 상기 에폭시 화합물은 측쇄에 비닐기를 합계로 2개 이상 갖거나, 또는 측쇄에 에폭시기를 합계로 2개 이상 갖는다.In a specific aspect of the epoxy compound according to the present invention, the epoxy compound has two or more vinyl groups in total in the side chain or a total of two or more epoxy groups in the side chain.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 다른 특정한 국면에서는, 상기 에폭시 화합물은 비스페놀 F 또는 레조르시놀과, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 또는 레조르시놀디글리시딜에테르의 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어진다.In another specific aspect of the epoxy compound according to the present invention, the epoxy compound is added to the reaction product of bisphenol F or resorcinol with 1,6-hexanediol diglycidyl ether or resorcinol diglycidyl ether, Acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 또다른 특정한 국면에서는, 상기 반응물은 비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물이거나, 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물이거나, 또는 레조르시놀과 레조르시놀디글리시딜에테르의 제3 반응물이다.In another particular aspect of the epoxy compound according to the present invention, the reactant is a first reactant of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, or a mixture of resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl Ether, or a third reactant of resorcinol and resorcinol diglycidyl ether.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 또다른 특정한 국면에서는, 상기 반응물이 상기 제1 반응물인 경우에 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크가 2개 존재하고, 상기 반응물이 상기 제2 반응물인 경우에 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크가 2개 존재한다.In another specific aspect of the epoxy compound according to the present invention, when there are two peaks in the molecular weight distribution of the epoxy compound when the reactant is the first reactant, and when the reactant is the second reactant, There are two peaks in the molecular weight distribution.
상기 반응물은 상기 제1 반응물인 것이 바람직하고, 상기 제2 반응물인 것도 바람직하고, 또한 상기 제3 반응물인 것도 바람직하다. 또한, 상기 반응물과 반응되는 화합물은 (메트)아크릴산 또는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트인것이 바람직하고, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트인 것도 바람직하다.The reactant is preferably the first reactant, preferably the second reactant, and the third reactant. Also, the compound to be reacted with the reactant is preferably (meth) acrylic acid or 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, and is preferably 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물은 상술한 에폭시 화합물을 적어도 2종 포함한다.The mixture of epoxy compounds according to the present invention contains at least two kinds of the above-mentioned epoxy compounds.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물의 특정한 국면에서는, 비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제1 에폭시 화합물과, 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제2 에폭시 화합물이 포함된다.In a particular aspect of the mixture of epoxy compounds according to the present invention, a first reactant of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether is admixed with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acrylic acid, or the like is added to a second reaction product of a first epoxy compound obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether and resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, Acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether. The second epoxy compound is obtained by reacting acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물의 다른 특정한 국면에서는, 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제2 에폭시 화합물과, 레조르시놀과 레조르시놀디글리시딜에테르의 제3 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제3 에폭시 화합물이 포함된다.In another specific aspect of the mixture of epoxy compounds according to the present invention, a second reaction product of resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether is admixed with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl acrylate or the like is added to a third reaction product of a second epoxy compound obtained by reacting isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether with resorcinol and resorcinol diglycidyl ether, A tertiary epoxy compound obtained by reacting an epoxy group-containing epoxy compound, e.g.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물의 다른 특정한 국면에서는, 23℃에서의 점도는 50 Pa·s 이상이다.In another specific aspect of the mixture of epoxy compounds according to the present invention, the viscosity at 23 캜 is not less than 50 Pa · s.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 상술한 에폭시 화합물과 열 경화제를 포함한다.The curable composition according to the present invention comprises the above-mentioned epoxy compound and a thermosetting agent.
본 발명에 따른 경화성 조성물의 특정한 국면에서는, 상기 에폭시 화합물을 적어도 2종 포함한다.In a specific aspect of the curable composition according to the present invention, at least two epoxy compounds are included.
본 발명에 따른 경화성 조성물의 다른 특정한 국면에서는, 광 경화성 화합물과 광중합 개시제가 더 포함된다.In another specific aspect of the curable composition according to the present invention, a photocurable compound and a photopolymerization initiator are further included.
본 발명에 따른 경화성 조성물의 별도의 특정한 국면에서는, 도전성 입자가 더 포함된다.In another specific aspect of the curable composition according to the present invention, conductive particles are further included.
본 발명에 따른 경화성 조성물의 다른 특정한 국면에서는, 상기 에폭시 화합물에 추가로, 상기 에폭시 화합물의 양쪽 말단의 2개의 에폭시기 중 적어도 한쪽에 (메트)아크릴산을 반응시킴으로써 얻어지는 에폭시(메트)아크릴레이트가 더 포함된다.In another specific aspect of the curable composition according to the present invention, an epoxy (meth) acrylate obtained by reacting (meth) acrylic acid with at least one of two epoxy groups at both terminals of the epoxy compound is further included in addition to the epoxy compound do.
본 발명에 따른 접속 구조체는 제1 접속 대상 부재와, 제2 접속 대상 부재와, 상기 제1, 제2 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부를 구비하고, 상기 접속부가 상술한 경화성 조성물에 의해 형성되어 있다.The connecting structure according to the present invention includes a first connecting object member, a second connecting object member, and a connecting portion connecting the first and second connecting object members, and the connecting portion is formed by the above-mentioned curable composition have.
본 발명에 따른 접속 구조체의 특정한 국면에서는, 상기 경화성 조성물이 도전성 입자를 포함하고, 상기 제1, 제2 접속 대상 부재는 상기 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되어 있다.In a specific aspect of the connection structure according to the present invention, the curable composition includes conductive particles, and the first and second connection target members are electrically connected by the conductive particles.
본 발명에 따른 에폭시 화합물은 경화성 조성물을 다양화시킨다. 또한, 본 발명에 따른 에폭시 화합물은 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기 또는 에폭시기를 갖고, 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하이기 때문에, 빠르게 경화시킬 수 있고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 높일 수 있다.The epoxy compound according to the present invention diversifies the curable composition. The epoxy compound according to the present invention has an epoxy group at both ends and a vinyl group or an epoxy group in the side chain and has a weight average molecular weight of 500 or more and 150,000 or less so that the epoxy compound can be rapidly cured and the adhesiveness and moisture resistance .
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 일례를 모식적으로 나타내는 부분 절결 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a partially cutaway cross-sectional view schematically showing an example of a connection structure using a curable composition according to an embodiment of the present invention. Fig.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(에폭시 화합물)(Epoxy compound)
본 발명에 따른 에폭시 화합물은 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기 또는 에폭시기를 갖는다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 500 이상 150,000 이하이다.The epoxy compound according to the present invention has an epoxy group at both terminals and a vinyl group or an epoxy group in the side chain. The weight average molecular weight of the epoxy compound according to the present invention is 500 to 150,000.
상기한 바와 같은 구성을 갖는 에폭시 화합물은 빠르게 경화시킬 수 있다. 예를 들면, 상기 에폭시 화합물과 열 경화제를 배합한 경화성 조성물을 빠르게 경화시킬 수 있다. 예를 들면, 150℃ 이상의 가열 온도에서 5초 이내에 경화시키는 것이 가능하다. 또한, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성 및 내습성을 높일 수 있다. 따라서, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용하여 제1, 제2 접속 대상 부재를 접속한 접속 구조체의 신뢰성을 높일 수 있다.The epoxy compound having the above-described structure can be rapidly cured. For example, the curable composition in which the epoxy compound and the thermosetting agent are blended can be rapidly cured. For example, it is possible to cure at a heating temperature of 150 ° C or higher within 5 seconds. In addition, adhesiveness and moisture resistance of the cured product using the epoxy compound can be enhanced. Therefore, the reliability of the connection structure in which the first and second connection target members are connected can be improved by using the curable composition including the epoxy compound.
본 발명에 따른 에폭시 화합물은, 디올 화합물과 2개의 에폭시기를 갖는 화합물을 사용한 반응물인 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물은 디올 화합물과 2개의 에폭시기를 갖는 화합물의 반응물에, 비닐기를 갖는 화합물 또는 에폭시기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는 에폭시 화합물인 것이 바람직하다.The epoxy compound according to the present invention is more preferably a reaction product using a compound having a diol compound and two epoxy groups. The epoxy compound according to the present invention is preferably an epoxy compound obtained by reacting a compound having a vinyl group or a compound having an epoxy group with a reaction product of a diol compound and a compound having two epoxy groups.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 500 이상 150,000 이하이다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 1,000 이상, 바람직하게는 50,000 이하, 보다 바람직하게는 15,000 이하이다.The weight average molecular weight of the epoxy compound according to the present invention is 500 to 150,000. The weight average molecular weight of the epoxy compound according to the present invention is preferably 1,000 or more, preferably 50,000 or less, and more preferably 15,000 or less.
본 발명에 따른 에폭시 화합물은 측쇄에 비닐기를 1개 이상 갖거나, 또는 측쇄에 에폭시기를 1개 이상 갖는다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물은 측쇄에 비닐기를 1개 이상 가질 수도 있고, 측쇄에 에폭시기를 1개 이상 가질 수도 있다.The epoxy compound according to the present invention has at least one vinyl group in the side chain or at least one epoxy group in the side chain. The epoxy compound according to the present invention may have at least one vinyl group in the side chain or at least one epoxy group in the side chain.
본 발명에 따른 에폭시 화합물은 측쇄에 비닐기를 합계로 2개 이상 갖거나, 또는 측쇄에 에폭시기를 합계로 2개 이상 갖는 것이 바람직하다. 비닐기 또는 에폭시기의 수가 많을수록, 가열 시간을 한층 더 단축할 수 있고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 한층 더 높일 수 있다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물은 측쇄에 비닐기를 합계로 2개 이상 가질 수도 있고, 측쇄에 에폭시기를 합계로 2개 이상 가질 수도 있다.The epoxy compound according to the present invention preferably has two or more vinyl groups in total in the side chain or two or more epoxy groups in total in the side chain. As the number of vinyl groups or epoxy groups increases, the heating time can be further shortened, and the adhesiveness and moisture resistance of the cured product can be further increased. The epoxy compound according to the present invention may have two or more vinyl groups in total in the side chain, or may have two or more epoxy groups in total in the side chain.
본 발명에 따른 에폭시 화합물은 페놀성 수산기를 2개 이상 갖는 화합물과 에폭시기를 2개 이상 갖는 화합물의 반응물인 것이 바람직하다.The epoxy compound according to the present invention is preferably a reaction product of a compound having two or more phenolic hydroxyl groups and a compound having two or more epoxy groups.
상기 페놀성 수산기를 2개 이상 갖는 화합물로는 비스페놀 화합물, 레조르시놀 및 나프탈레놀 등을 들 수 있다. 상기 비스페놀 화합물로는 비스페놀 F, 비스페놀 A, 비스페놀 S, 비스페놀 SA 및 비스페놀 E 등을 들 수 있다.Examples of the compound having two or more phenolic hydroxyl groups include bisphenol compounds, resorcinols, naphthalenols, and the like. Examples of the bisphenol compound include bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, bisphenol SA, and bisphenol E.
상기 에폭시기를 2개 이상 갖는 화합물로는 지방족 에폭시 화합물 및 방향족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 상기 지방족 에폭시 화합물로는 탄소수 3 내지 12의 알킬 쇄의 양쪽 말단에 글리시딜에테르기 또는 옥세타닐기를 갖는 화합물, 및 탄소수 2 내지 4의 폴리에테르 골격을 가지며, 상기 폴리에테르 골격 2 내지 10개가 연속하여 결합한 구조 단위를 갖는 폴리에테르형 에폭시 화합물을 들 수 있다.Examples of the compound having two or more epoxy groups include aliphatic epoxy compounds and aromatic epoxy compounds. The aliphatic epoxy compound includes a compound having a glycidyl ether group or an oxetanyl group at both terminals of an alkyl chain having 3 to 12 carbon atoms, and a polyether skeleton having 2 to 4 carbon atoms, wherein 2 to 10 of the polyether skeletons And a polyether type epoxy compound having a structural unit continuously bonded thereto.
본 발명에 따른 에폭시 화합물은, 비스페놀 F 또는 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 또는 레조르시놀디글리시딜에테르의 반응물(이하에서는 반응물(X)라고도 함)에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 에폭시 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 화합물을 사용하여 합성된 에폭시 화합물은 빠르게 경화시킬 수 있고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 높게 할 수 있다.The epoxy compound according to the present invention can be produced by reacting bisphenol F or a reaction product of resorcinol with 1,6-hexanediol diglycidyl ether or resorcinol diglycidyl ether (hereinafter also referred to as reactant (X)), ) Acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether. The epoxy compound synthesized by using such a compound can be rapidly cured, and the adhesion and humidity resistance of the cured product can be increased.
상기 반응물(X)는 하기 식(1)로 표시되는 비스페놀 F 또는 하기 식(2)로 표시되는 레조르시놀과, 하기 식(11)로 표시되는 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 또는 하기 식(12)로 표시되는 레조르시놀디글리시딜에테르의 반응물이다.The reaction product (X) may be prepared by reacting bisphenol F represented by the following formula (1) or resorcinol represented by the following formula (2) with 1,6-hexanediol diglycidyl ether represented by the following formula (11) Is a reactant of resorcinol diglycidyl ether represented by the following formula (12).
상기 식(1) 중 1개의 벤젠환에 대한 1개의 수산기의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다. 상기 비스페놀 F로는 예를 들면, 하기 식(1-1)로 표시되는 4,4'-메틸렌비스페놀, 하기 식(1-2)로 표시되는 2,4'-메틸렌비스페놀, 및 하기 식(1-3)으로 표시되는 2,2'-메틸렌비스페놀 등을 들 수 있다. 일반적으로, 이들을 총칭하여 비스페놀 F라고 부른다. 상기 비스페놀 F는 1개의 벤젠환에 대한 1개의 수산기의 결합부위가 다른 2종 이상의 화합물을 포함할 수도 있다. 상기 비스페놀 F는 4,4'-메틸렌비스페놀, 2,4'-메틸렌비스페놀 또는 2,2'-메틸렌비스페놀인 것이 바람직하다.The bonding site of one hydroxyl group to one benzene ring in the above formula (1) is not particularly limited. Examples of the bisphenol F include 4,4'-methylene bisphenol represented by the following formula (1-1), 2,4'-methylene bisphenol represented by the following formula (1-2) 2,2'-methylene bisphenol represented by the following formula (3). Generally, these are collectively referred to as bisphenol F. The bisphenol F may contain two or more compounds having different hydroxyl group bonding sites to one benzene ring. The bisphenol F is preferably 4,4'-methylene bisphenol, 2,4'-methylene bisphenol or 2,2'-methylene bisphenol.
상기 반응물(X)로는 비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물, 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물, 레조르시놀과 레조르시놀디글리시딜에테르의 제3 반응물, 및 비스페놀 F와 레조르시놀디글리시딜에테르의 제4 반응물을 들 수 있다.As the reactant (X), a first reaction product of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, a second reaction product of resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether, a second reaction product of resorcinol and resorcinol A third reactant of ricinodiglycidyl ether, and a fourth reactant of bisphenol F and resorcinol diglycidyl ether.
상기 제1 반응물은 비스페놀 F에서 유래하는 골격과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위를 주쇄에 가지며, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는다. 상기 제2 반응물은 레조르시놀에서 유래하는 구조 단위와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 구조 단위를 주쇄에 가지며, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는다. 상기 제3 반응물은 레조르시놀에서 유래하는 골격과 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 골격을 주쇄에 가지며, 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는다. 상기 제4 반응물은 비스페놀 F에서 유래하는 골격과 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 골격을 주쇄에 가지며, 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는다.The first reactant has a structural unit in which a skeleton derived from bisphenol F and a skeleton derived from 1,6-hexanediol diglycidyl ether are bonded to each other in the main chain, and the structural unit derived from 1,6-hexanediol diglycidyl ether And an epoxy group at both ends. The second reactant has a structural unit derived from resorcinol and a structural unit derived from 1,6-hexanediol diglycidyl ether in the main chain, and an epoxy group derived from 1,6-hexanediol diglycidyl ether At both ends. The third reactant has a skeleton derived from resorcinol and a skeleton derived from resorcinol diglycidyl ether in its main chain, and has an epoxy group derived from resorcinol diglycidyl ether at both ends. The fourth reactant has a skeleton derived from bisphenol F and a skeleton derived from resorcinol diglycidyl ether in its main chain, and has an epoxy group derived from resorcinol diglycidyl ether at both ends thereof.
합성이 용이하고, 에폭시 화합물을 한층 더 빠르게 경화시키는 것을 가능하게 하며, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제1, 제2, 제3, 제4 반응물 중, 상기 제1 반응물, 상기 제2 반응물 또는 상기 제3 반응물이 바람직하다. 상기 반응물(X)는 상기 제1 반응물인 것이 바람직하고, 상기 제2 반응물인 것도 바람직하고, 또한 상기 제3 반응물인 것도 바람직하다.From the viewpoint of facilitating the synthesis and enabling the epoxy compound to be cured more rapidly and further enhancing the adhesiveness and moisture resistance of the cured product, it is preferable that among the first, second, third, and fourth reactants, 1 reactant, the second reactant or the third reactant is preferred. The reactant (X) is preferably the first reactant, preferably the second reactant, and the third reactant.
상기 제1 반응물은 하기 식(51)로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다.The first reactant preferably has a structure represented by the following formula (51).
상기 식(51)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(51)로 표시되는 에폭시 화합물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시켜 에폭시 화합물을 얻었을 때에, 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (51), n represents an integer. When n is an epoxy compound obtained by reacting an epoxy compound represented by the formula (51) with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether , And the weight average molecular weight of the epoxy compound is 500 to 150,000.
상기 제2 반응물은 하기 식(52)로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다.The second reactant preferably has a structure represented by the following formula (52).
상기 식(52)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(52)로 표시되는 에폭시 화합물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시켜 에폭시 화합물을 얻었을 때에, 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above equation (52), n represents an integer. When n is an epoxy compound obtained by reacting an epoxy compound represented by the formula (52) with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether , And the weight average molecular weight of the epoxy compound is 500 to 150,000.
상기 제3 반응물은 하기 식(53)으로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다.The third reactant preferably has a structure represented by the following formula (53).
상기 식(53)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(53)으로 표시되는 에폭시 화합물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시켜 에폭시 화합물을 얻었을 때에, 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (53), n represents an integer. When n is an epoxy compound obtained by reacting an epoxy compound represented by the formula (53) with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether , And the weight average molecular weight of the epoxy compound is 500 to 150,000.
상기 제4 반응물은 하기 식(54)로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다.The fourth reactant preferably has a structure represented by the following formula (54).
상기 식(54)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(54)로 표시되는 에폭시 화합물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시켜 에폭시 화합물을 얻었을 때에, 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above equation (54), n represents an integer. When n is an epoxy compound, the epoxy compound represented by the formula (54) is reacted with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether , And the weight average molecular weight of the epoxy compound is 500 to 150,000.
상기 식(51), 식(52), 식(53) 및 식(54)에서, n은 각각 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 1,000 이상 50,000 이하가 되는 정수인 것이 바람직하고, 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 1,000 이상 15,000 이하가 되는 정수인 것이 보다 바람직하다.In the formula (51), formula (52), formula (53) and formula (54), n is preferably an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound is 1,000 to 50,000, And more preferably an integer of from 1,000 to 15,000.
에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크가 2개 존재하는 경우, 고분자량측의 피크는 저분자량측의 피크보다도 크고, 바람직하게는 10,000 이상, 바람직하게는 150,000 이하, 보다 바람직하게는 50,000 이하, 더욱 바람직하게는 15,000 이하이다. 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크가 2개 존재하는 경우, 저분자량측의 피크는 고분자량측의 피크보다도 작고, 바람직하게는 1,000 이상, 보다 바람직하게는 2,000 이상, 바람직하게는 10,000 이하, 보다 바람직하게는 6,000 이하이다.When there are two peaks in the molecular weight distribution of the epoxy compound, the peak on the high molecular weight side is larger than the peak on the low molecular weight side, preferably 10,000 or more, preferably 150,000 or less, more preferably 50,000 or less Is less than 15,000. When there are two peaks in the molecular weight distribution of the epoxy compound, the peak on the low molecular weight side is smaller than the peak on the high molecular weight side, preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, preferably 10,000 or less Is less than 6,000.
상기 식(51) 및 식(54)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 산소 원자의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다. 이 결합부위는 비스페놀 F의 종류(예를 들면, 상기 식(1-1) 내지 (1-3))에 따라 결정된다.The bonding site of one oxygen atom to one benzene ring in the formulas (51) and (54) is not particularly limited. This bonding site is determined according to the kind of bisphenol F (for example, the above formulas (1-1) to (1-3)).
비스페놀 F 또는 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 또는 레조르시놀디글리시딜에테르를 반응시키기 위한 구체적인 반응으로는 부가 중합 반응을 들 수 있다.Specific reactions for reacting bisphenol F or resorcinol with 1,6-hexanediol diglycidyl ether or resorcinol diglycidyl ether include addition polymerization.
상기 식(1)로 표시되는 비스페놀 F는 2핵체라고 불린다. 또한, 비스페놀 F는 시판되고 있다. 이 시판품에는 2핵체인 비스페놀 F에 추가로, 비스페놀 F 골격을 가지며 또한 3 이상의 핵을 갖는 다핵체가 포함되는 경우가 있다. 상기 다핵체는 3핵체이거나, 4 이상의 핵을 갖는 다핵체이기도 한다. 상기 핵은 벤젠환의 수이기도 하다. 상기 반응물(X)를 얻을 때에, 비스페놀 F와 함께, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체를 사용할 수도 있다.The bisphenol F represented by the above formula (1) is called a 2-core. Further, bisphenol F is commercially available. In addition to bisphenol F having two nucleus chains, this commercial product may contain a polynucleer having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei. The polynucleer is a triple nucleus or a polynuclear core having four or more nuclei. The nucleus is also the number of benzene rings. When reactant (X) is obtained, a polynuclear material having bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei together with bisphenol F may be used.
상기 다핵체는 예를 들면, 하기 식(X)로 표시된다. 상기 반응물(X)를 얻기 위해서, 2핵체인 비스페놀 F와, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체의 혼합물을 사용하는 경우에, 상기 혼합물 100 중량% 중, 2핵체인 비스페놀 F의 함유량은 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 85 중량% 이상, 바람직하게는 99.9 중량% 이하, 보다 바람직하게는 99 중량% 이하이다. 상기 혼합물 100 중량% 중의 2핵체인 비스페놀 F의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 한층 더 높아진다.The polynucleer is, for example, represented by the following formula (X). In order to obtain the reactant (X), when a mixture of a bisphenol F having two nuclei and a polynucleer having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei is used, the content of the bisphenol F Is preferably not less than 70% by weight, more preferably not less than 85% by weight, preferably not more than 99.9% by weight, more preferably not more than 99% by weight. When the content of the
상기 식(X)에서, m은 1 이상의 정수를 나타낸다. m은 바람직하게는 10 이하, 보다 바람직하게는 5 이하, 특히 바람직하게는 3 이하이다. 예를 들면, 상기 식(X)에서 m이 1인 다핵체는 비스페놀 F 골격을 갖는 3핵체이다. 상기 식(X)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 수산기의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다.In the above formula (X), m represents an integer of 1 or more. m is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, particularly preferably 3 or less. For example, in the formula (X), the polynucleer with m = 1 is a triple nucleus having a bisphenol F skeleton. In the formula (X), the bonding site of one hydroxyl group to one benzene ring is not particularly limited.
또한, 2핵체인 비스페놀 F와, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체의 혼합물을 사용하는 경우에, 비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물에는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위에 추가로, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위가 주쇄에 포함될 수도 있다. 2핵체인 비스페놀 F와, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체의 혼합물을 사용하는 경우에, 상기 제4 반응물에는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격과 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위에 추가로, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격과 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위가 주쇄에 포함될 수도 있다.When a mixture of a bisphenol F having two nucleus chains and a polynucleer having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei is used, the first reactant of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether has 2 nuclei In addition to the structural unit to which the skeleton derived from the chain bisphenol F and the skeleton derived from the 1,6-hexanediol diglycidyl ether are bonded, a skeleton derived from a multinuclear body having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei, And a skeleton-derived structural unit derived from 6-hexanediol diglycidyl ether may be included in the main chain. 2 nuclear chain bisphenol F and a multinuclear body having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei is used, the fourth reaction product contains a skeleton derived from a bisphenol F nucleus and a resorcinol diglycidyl ether The backbone may include a structural unit in which a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei and a skeleton derived from resorcinol diglycidyl ether is combined.
즉, 상기 제1 반응물은 하기 식(51X)로 표시되는 구조를 가질 수도 있다.That is, the first reactant may have a structure represented by the following formula (51X).
상기 식(51X)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(51X)로 표시되는 에폭시 화합물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시켜 에폭시 화합물을 얻었을 때에, 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (51X), X represents a skeleton derived from bisphenol F having 2 nucleus or a skeleton derived from a polynucleer having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei, and n represents an integer. When n is an epoxy compound obtained by reacting an epoxy compound represented by the formula (51X) with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether , And the weight average molecular weight of the epoxy compound is 500 to 150,000.
상기 제4 반응물은 하기 식(54X)로 표시되는 구조를 가질 수도 있다.The fourth reactant may have a structure represented by the following formula (54X).
상기 식(54X)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(54X)로 표시되는 에폭시 화합물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시켜 에폭시 화합물을 얻었을 때에, 상기 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (54X), X represents a skeleton derived from a bisphenol F having two nuclei, or a skeleton derived from a polynucleer having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, and n represents an integer. When n is an epoxy compound obtained by reacting an epoxy compound represented by the above formula (54X) with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether , And the weight average molecular weight of the epoxy compound is 500 to 150,000.
상기 식(51X) 및 상기 식(54X)에서, X는 하기 식(Xa)로 표시되는 구조 단위이다.In the formulas (51X) and (54X), X is a structural unit represented by the following formula (Xa).
상기 식(Xa)에서, p는 0 이상의 정수를 나타낸다. p는 바람직하게는 10 이하, 보다 바람직하게는 5 이하, 특히 바람직하게는 3 이하이다. 또한, 상기 식(Xa)에서 p가 0인 경우에는, 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격을 나타내고, 상기 식(Xa)에서 p가 1 이상의 정수인 경우에는, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타낸다. 상기 식(Xa)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 수산기의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다. 상기 식(Xa)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 산소 원자(-O-기)의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다.In the formula (Xa), p represents an integer of 0 or more. p is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, particularly preferably 3 or less. In the formula (Xa), when p is 0, it represents a skeleton derived from a bisphenol F nucleus, and when p is an integer of 1 or more in the formula (Xa), 3 or more nuclei having a bisphenol F skeleton And the like. In the formula (Xa), the bonding site of one hydroxyl group to one benzene ring is not particularly limited. The bonding site of one oxygen atom (-O- group) to one benzene ring in the formula (Xa) is not particularly limited.
상기 제1, 제2, 제3, 제4 반응물 등의 상기 반응물(X)에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 측쇄에 비닐기 또는 에폭시기를 도입할 수 있다. 즉, 상기 반응물(X)와 반응되는 화합물은 하기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 하기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 하기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르인 것이 바람직하다. 상기 반응물(X)와 반응되는 화합물은 (메트)아크릴산일 수도 있고, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트일 수도 있고, 4-히드록시부틸글리시딜에테르일 수도 있다. 또한, 상기 「(메트)아크릴」은 아크릴과 메타크릴을 나타낸다. 상기 「(메트)아크릴로일」은 아크릴로일과 메타크릴로일을 나타낸다.(Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is reacted with the reactant (X) such as the first, second, third, A vinyl group or an epoxy group can be introduced into the side chain. (Meth) acrylic acid represented by the following formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the following formula (B), or a compound represented by the following formula ) Is preferably 4-hydroxybutyl glycidyl ether. The compound to be reacted with the reactant (X) may be (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether. The term "(meth) acryl" refers to acryl and methacryl. The "(meth) acryloyl" represents acryloyl and methacryloyl.
상기 식(A)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula (A), R represents a hydrogen atom or a methyl group.
상기 식(B)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula (B), R represents a hydrogen atom or a methyl group.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 측쇄에 비닐기를 도입하기 위해서, 상기 반응물(X)와 반응되는 화합물은 (메트)아크릴산 또는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트인 것이 바람직하다. 상기 반응물(X)와 반응되는 화합물은 (메트)아크릴산이 바람직하고, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트인 것도 바람직하다. 본 발명에 따른 에폭시 화합물이 측쇄에 비닐기를 갖는 경우에는, 본 발명에 따른 에폭시 화합물을 광 경화시키며, 열 경화시킬 수 있다. 따라서, 예를 들면 에폭시 화합물을 포함하는 경화성 조성물을 광 조사하여 B 스테이지화(반(半)경화)한 후, 가열함으로써 본 경화시킬 수 있다. 에폭시 화합물을 한층 더 빠르게 경화시키는 것을 가능하게 하고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 한층 더 높이는 관점에서, 본 발명에 따른 에폭시 화합물은 우레탄 결합을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트의 사용에 의해, 에폭시 화합물, 에폭시 화합물의 혼합물 및 경화성 조성물의 저장 안정성을 한층 더 높일 수 있다.In order to introduce a vinyl group into the side chain of the epoxy compound according to the present invention, the compound to be reacted with the reactant (X) is preferably (meth) acrylic acid or 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate. The compound to be reacted with the reactant (X) is preferably (meth) acrylic acid, and is preferably 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate. When the epoxy compound according to the present invention has a vinyl group in the side chain, the epoxy compound according to the present invention can be photo-cured and thermally cured. Thus, for example, a curable composition containing an epoxy compound can be cured by irradiating it with B light (semi-cured) and then heating it. It is preferable that the epoxy compound according to the present invention has a urethane bond from the viewpoint of enabling the epoxy compound to be cured more rapidly and further enhancing the adhesiveness and humidity resistance of the cured product. Further, by using 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, the storage stability of the epoxy compound, the mixture of the epoxy compound and the curable composition can be further enhanced.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 측쇄에 에폭시기를 도입하기 위해서는, 상기 반응물(X)와 반응되는 화합물은 4-히드록시부틸글리시딜에테르인 것이 바람직하다. 이와 같이 측쇄에 에폭시기를 도입함으로써 경화물의 가교 밀도를 높이고, 또한 경화물의 내열성을 한층 더 양호하게 할 수 있다.In order to introduce an epoxy group into the side chain of the epoxy compound according to the present invention, the compound to be reacted with the reactant (X) is preferably 4-hydroxybutyl glycidyl ether. By introducing an epoxy group into the side chain in this way, the cross-linking density of the cured product can be increased and the heat resistance of the cured product can be further improved.
상기 식(51)로 표시되는 제1 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(61A), 식(61B) 또는 식(61C)로 표시되는 제1 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B) or the above-mentioned formula (A) (61A), (61B) or (61C) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (C)
상기 식(61A)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(61A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (61A), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (61A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(61B)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(61B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (61B), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (61B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(61C)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(61C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (61C), n represents an integer. Herein, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (61C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(61A), 식(61B) 및 식(61C)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 산소 원자의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다. 이 결합부위는 비스페놀 F의 종류(예를 들면, 상기 식(1-1) 내지 (1-3))에 따라 결정된다.The bonding site of one oxygen atom to one benzene ring in the formulas (61A), (61B) and (61C) is not particularly limited. This bonding site is determined according to the kind of bisphenol F (for example, the above formulas (1-1) to (1-3)).
상기 식(51X)로 표시되는 제1 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(61XA), 식(61XB) 또는 식(61XC)로 표시되는 제1 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (61XA), formula (61XB) or formula (61XC) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (61C)
상기 식(61XA)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(61XA)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.X represents a skeleton derived from bisphenol F having two nucleus chains or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents a Represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (61XA) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(61XB)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(61XB)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.X represents a skeleton derived from bisphenol F having two nuclei or a skeleton derived from a polynuclear nucleus having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents Represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (61XB) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(61XC)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(61XC)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (61XC), X represents a skeleton derived from bisphenol F having two nuclei, or a skeleton derived from a polynucleer having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, and n represents an integer. Here, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (61XC) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(61XA), 상기 식(61XB) 및 상기 식(61XC)에서, X는 상기 식(Xa)로 표시되는 구조 단위이다.In the formulas (61XA), (61XB) and (61XC), X is a structural unit represented by the formula (Xa).
상기 식(52)로 표시되는 제2 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(62A), 식(62B) 또는 식(62C)로 표시되는 제2 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (62A), (62B) or (62C) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (C)
상기 식(62A)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(62A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (62A), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (62A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(62B)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(62B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (62B), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (62B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(62C)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(62C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (62C), n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (62C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(53)으로 표시되는 제3 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(63A), 식(63B) 또는 식(63C)로 표시되는 제3 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (63A), (63B) or (63C) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (C)
상기 식(63A)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(63A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (63A), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (63A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(63B)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(63B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (63B), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (63B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(63C)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(63C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above equation (63C), n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (63C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(54)로 표시되는 제4 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(64A), 식(64B) 또는 식(64C)로 표시되는 제4 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B) or the above-mentioned formula (A) (64A), (64B) or (64C) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (C)
상기 식(64A)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(64A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (64A), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (64A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(64B)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(64B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (64B), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer. N is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (64B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(64C)에서, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(64C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (64C), n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (64C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(64A), 식(64B) 및 식(64C)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 산소 원자의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다. 이 결합부위는 비스페놀 F의 종류(예를 들면, 상기 식(1-1) 내지 (1-3))에 따라 결정된다.The bonding site of one oxygen atom to one benzene ring in the formulas (64A), (64B) and (64C) is not particularly limited. This bonding site is determined according to the kind of bisphenol F (for example, the above formulas (1-1) to (1-3)).
상기 식(54X)로 표시되는 제4 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(64XA), 식(64XB) 또는 식(64XC)로 표시되는 제4 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (64XA), formula (64XB) or formula (64XC) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (64)
상기 식(64XA)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(64XA)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.X represents a skeleton derived from a bisphenol F having two nucleus chains or a skeleton derived from a polynuclear nucleus having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, R represents a hydrogen atom or a methyl group, n is Represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (64XA) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(64XB)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(64XB)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.X represents a skeleton derived from bisphenol F having 2 nucleus chains or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents Represents an integer. N is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (64XB) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(64XC)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(64XC)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (64XC), X represents a skeleton derived from bisphenol F having two nuclei, or a skeleton derived from a polynucleer having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, and n represents an integer. Here, n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (64XC) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(64XA), 상기 식(64XB) 및 상기 식(64XC)에서, X는 상기 식(Xa)로 표시되는 구조 단위이다.In the formulas (64XA), (64XB) and (64XC), X is a structural unit represented by the formula (Xa).
상기 식(61A), 식(61B), 식(61C), 식(61XA), 식(61XB), 식(61XC), 식(62A), 식(62B), 식(62C), 식(63A), 식(63B), 식(63C), 식(64A), 식(64B), 식(64C), 식(64XA), 식(64XB) 및 식(64XC)중, 상기 화학식(61A), 식(61B), 식(61C), 식(61XA), 식(61XB), 식(61XC), 식(62A), 식(62B), 식(62C), 식(63A), 식(63B) 및 식(63C)가 바람직하고, 상기 식(61XA), 식(61XB), 식(61XC), 식(62A), 식(62B), 식(62C), 식(63A), 식(63B) 및 식(63C)가 보다 바람직하다. 상기 식(61A), 식(61B), 식(61C), 식(61XA), 식(61XB), 식(61XC), 식(62A), 식(62B), 식(62C), 식(63A), 식(63B), 식(63C), 식(64A), 식(64B), 식(64C), 식(64XA), 식(64XB) 및 식(64XC)에서, n은 이들 식으로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 1,000 이상 50,000 이하가 되는 정수인 것이 바람직하고, 1,000 이상 15,000 이하가 되는 정수인 것이 보다 바람직하다. 또한, n은 1 이상일 수도 있고, 2 이상일 수도 있다. 상기 식(61A), 식(61B), 식(61C), 식(61XA), 식(61XB), 식(61XC), 식(62A), 식(62B), 식(62C), 식(63A), 식(63B), 식(63C), 식(64A), 식(64B), 식(64C), 식(64XA), 식(64XB) 및 식(64XC)에서 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은, 500 이상이며 n이 1인 경우의 중량 평균 분자량의 값 이상인 것이 바람직하고, 500 이상이며 n이 2인 경우의 중량 평균 분자량의 값 이상인 것이 보다 바람직하다.(61A), (61B), (61C), (61XA), (61XB), (61XC), (62A), (62B), (62C) (61A), (61A), and (61B) among the formulas (63B), (63C), (64A), (64B), (64C) 61A, 61B, 61C, 61XA, 61XC, 62A, 62B, 62C, 63A, 63B, 63C) is preferable, and it is preferable that the above equations (61XA), 61XB, 61XC, 62A, 62B, 62C, 63A, 63B, ) Is more preferable. (61A), (61B), (61C), (61XA), (61XB), (61XC), (62A), (62B), (62C) (64B), (64B), and (64XC), n is the number of epoxy groups represented by the formulas (63B), 63C, 64A, 64B, 64C, The compound is preferably an integer in which the weight average molecular weight of the compound is 1,000 or more and 50,000 or less, more preferably 1,000 or more and 15,000 or less. Further, n may be 1 or more, or may be 2 or more. (61A), (61B), (61C), (61XA), (61XB), (61XC), (62A), (62B), (62C) , The weight average molecular weight of the epoxy compound in the formula (63B), the formula (63C), the formula (64A), the formula (64B), the formula (64C), the formula (64XA) More preferably not less than the value of the weight average molecular weight in the case of n = 1, more preferably not less than 500 and not less than the value of the weight average molecular weight in the case of n = 2.
상기 식(61A), 식(61B), 식(61C), 식(61XA), 식(61XB), 식(61XC), 식(62A), 식(62B), 식(62C), 식(63A), 식(63B), 식(63C), 식(64A), 식(64B), 식(64C), 식(64XA), 식(64XB) 및 식(64XC)에서, 대표적으로, 수산기의 전부(100%)를 반응시킨 경우의 구조식을 나타내지만, 반응하지 않은 수산기가 남아 있을 수도 있다. 반응 전 수산기 전체 개수 100% 중, 반응한 수산기[수산기가 아닌 것으로 된 기(후술하는 식(a), 식(b), 식(c))] 개수의 비율은 0.1% 이상일 수도 있고, 1% 이상일 수도 있고, 3% 이상일 수도 있고, 5% 이상일 수도 있고, 100%일 수도 있고, 바람직하게는 80% 이하, 보다 바람직하게는 60% 이하, 더욱 바람직하게는 40% 이하, 특히 바람직하게는 30% 이하이다. 상기 수산기 개수의 비율은 NMR에서 측정 가능하다.(61A), (61B), (61C), (61XA), (61XB), (61XC), (62A), (62B), (62C) Representatively all of the hydroxyl groups (100) are represented in the formulas (63B), (63C), (64A), (64B), (64C), (64XA), (64XB) %) Is reacted, but the unreacted hydroxyl group may remain. The ratio of the number of the hydroxyl groups (the formula (a), the formula (b), and the formula (c) described below) to the number of the hydroxyl groups which are reacted in the total number of hydroxyl groups before the reaction may be 0.1% Or more, more preferably 3% or more, 5% or more, 100% or less, preferably 80% or less, more preferably 60% or less, still more preferably 40% % Or less. The ratio of the number of hydroxyl groups can be measured by NMR.
상기 식(51)로 표시되는 제1 반응물의 수산기의 일부에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(71A), 식(71B) 또는 식(71C)로 표시되는 제1 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or a combination thereof with a part of the hydroxyl group of the first reactant represented by the above- Or a 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the above formula (C) is reacted to obtain a first epoxy compound represented by the following formula (71A), (71B) or (71C).
상기 식(71A)에서, Z는 수산기 또는 하기 식(a)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 하기 식(a)로 표시되는 기를 포함하고, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(71A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (71A), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the following formula (a), a plurality of Zs include a group represented by the following formula (a), and n represents an integer. Herein, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (71A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(a)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula (a), R represents a hydrogen atom or a methyl group.
상기 식(71B)에서, Z는 수산기 또는 하기 식(b)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 하기 식(b)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(71B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (71B), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the following formula (b), a plurality of Zs include a group represented by the following formula (b), and n represents an integer. Here, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (71B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(b)에서, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula (b), R represents a hydrogen atom or a methyl group.
상기 식(71C)에서, Z는 수산기 또는 하기 식(c)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 하기 식(c)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(71C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (71C), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the following formula (c), a plurality of Zs include a group represented by the following formula (c), and n represents an integer. Here, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (71C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(71A), 식(71B) 및 식(71C)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 산소 원자의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다. 이 결합부위는 비스페놀 F의 종류(예를 들면, 상기 식(1-1) 내지 (1-3))에 따라 결정된다.In the formulas (71A), (71B) and (71C), the bonding site of one oxygen atom to one benzene ring is not particularly limited. This bonding site is determined according to the kind of bisphenol F (for example, the above formulas (1-1) to (1-3)).
상기 식(51X)로 표시되는 제1 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(71XA), 식(71XB) 또는 식(71XC)로 표시되는 제1 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (71XA), formula (71XB) or formula (71XC) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (71)
상기 식(71XA)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, Z는 수산기 또는 상기 식(a)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(a)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(71XA)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (71XA), X represents a skeleton derived from a bisphenol F having 2 nucleus chains or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei, and Z is a hydroxyl group or a group derived from the formula , A plurality of Zs contain a group represented by the above formula (a), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (71XA) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(71XB)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, Z는 수산기 또는 상기 식(b)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(b)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(71XB)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (71XB), X represents a skeleton derived from bisphenol F having two nucleus chains, or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, and Z is a hydroxyl group or a group derived from the formula , A plurality of Z's include a group represented by the above formula (b), and n represents an integer. Herein, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (71XB) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(71XC)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, Z는 수산기 또는 상기 식(c)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(c)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(71XC)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (71XC), X represents a skeleton derived from a bisphenol F having two nuclei or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, and Z represents a hydroxyl group or a group derived from the formula (c) , Z represents a group represented by the above formula (c), and n represents an integer. Here, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (71XC) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(71XA), 상기 식(71XB) 및 상기 식(71XC)에서, X는 상기 식(Xa)로 표시되는 구조 단위이다.In the formulas (71XA), (71XB) and (71XC), X is a structural unit represented by the formula (Xa).
상기 식(52)로 표시되는 제2 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(72A), 식(72B) 또는 식(72C)로 표시되는 제2 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (72A), (72B) or (72C) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (C)
상기 식(72A)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(a)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(a)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(72A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (72A), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (a), a plurality of Zs include a group represented by the formula (a), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (72A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(72B)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(b)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(b)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(72B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (72B), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (b), a plurality of Zs include a group represented by the formula (b), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (72B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(72C)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(c)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(c)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(72C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (72C), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (c), a plurality of Zs contain a group represented by the formula (c), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (72C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(53)으로 표시되는 제3 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(73A), 식(73B) 또는 식(73C)로 표시되는 제3 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (73A), (73B) or (73C) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (C)
상기 식(73A)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(a)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(a)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(73A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (73A), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (a), a plurality of Zs contain a group represented by the formula (a), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (73A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(73B)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(b)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(b)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(73B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (73B), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (b), a plurality of Zs contain a group represented by the formula (b), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (73B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(73C)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(c)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(c)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(73C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (73C), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (c), a plurality of Zs include a group represented by the formula (c), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (73C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(54)로 표시되는 제4 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(74A), 식(74B) 또는 식(74C)로 표시되는 제4 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B) or the above-mentioned formula (A) (74A), (74B) or (74C) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the following formula (74C)
상기 식(74A)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(a)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(a)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(74A)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (74A), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (a), a plurality of Zs include a group represented by the formula (a), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (74A) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(74B)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(b)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(b)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(74B)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (74B), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the above formula (b), a plurality of Zs contain a group represented by the above formula (b), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (74B) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(74C)에서, Z는 수산기 또는 상기 식(c)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(c)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(74C)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (74C), Z represents a hydroxyl group or a group represented by the formula (c), a plurality of Zs include a group represented by the formula (c), and n represents an integer. Provided that n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (74C) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(74A), 식(74B) 및 식(74C)에서 1개의 벤젠환에 대한 1개의 산소 원자의 결합부위는 특별히 한정되지 않는다. 이 결합부위는 비스페놀 F의 종류(예를 들면, 상기 식(1-1) 내지 (1-3))에 따라 결정된다.The bonding site of one oxygen atom to one benzene ring in the formulas (74A), (74B) and (74C) is not particularly limited. This bonding site is determined according to the kind of bisphenol F (for example, the above formulas (1-1) to (1-3)).
상기 식(54X)로 표시되는 제4 반응물에, 상기 식(A)로 표시되는 (메트)아크릴산, 상기 식(B)로 표시되는 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 또는 상기 식(C)로 표시되는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써, 하기 식(74XA), 식(74XB) 또는 식(74XC)로 표시되는 제4 에폭시 화합물이 얻어진다.(Meth) acrylic acid represented by the above formula (A), 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate represented by the above formula (B), or the above-mentioned formula (74XA), formula (74XB) or formula (74XC) is obtained by reacting 4-hydroxybutyl glycidyl ether represented by the formula (C)
상기 식(74XA)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, Z는 수산기 또는 상기 식(a)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(a)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(74XA)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (74XA), X represents a skeleton derived from bisphenol F having two nucleus chains or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, and Z is a hydroxyl group or a group derived from the formula , A plurality of Zs contain a group represented by the above formula (a), and n represents an integer. Herein, n is an integer such that the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (74XA) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(74XB)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, Z는 수산기 또는 상기 식(b)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(b)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(74XB)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the above formula (74XB), X represents a skeleton derived from a bisphenol F having 2 nucleus chains or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei, and Z is a hydroxyl group or a group represented by the formula (b) , A plurality of Z's include a group represented by the above formula (b), and n represents an integer. Here, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (74XB) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(74XC)에서, X는 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 골격을 나타내고, Z는 수산기 또는 상기 식(c)로 표시되는 기를 나타내고, 복수의 Z는 상기 식(c)로 표시되는 기를 포함하며, n은 정수를 나타낸다. 단, n은 상기 식(74XC)로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하가 되는 정수이다.In the formula (74XC), X represents a skeleton derived from a bisphenol F having two nuclei or a skeleton derived from a polynuclear body having a bisphenol F skeleton and having three or more nuclei, and Z is a hydroxyl group or a group derived from the formula (c) , Z represents a group represented by the above formula (c), and n represents an integer. Here, n is an integer in which the weight average molecular weight of the epoxy compound represented by the formula (74XC) is 500 or more and 150,000 or less.
상기 식(74XA), 상기 식(74XB) 및 상기 식(74XC)에서, X는 상기 식(Xa)로 표시되는 구조 단위이다.In the formulas (74XA), (74XB) and (74XC), X is a structural unit represented by the formula (Xa).
상기 식(71A), 식(71B), 식(71C), 식(71XA), 식(71XB), 식(71XC), 식(72A), 식(72B), 식(72C), 식(73A), 식(73B), 식(73C), 식(74A), 식(74B), 식(74C), 식(74XA), 식(74XB) 및 식(74XC) 중, 상기 식(71A), 식(71B), 식(71C), 식(71XA), 식(71XB), 식(71XC), 식(72A), 식(72B), 식(72C), 식(73A), 식(73B) 및 식(73C)가 바람직하고, 상기 식(71XA), 식(71XB), 식(71XC), 식(72A), 식(72B), 식(72C), 식(73A), 식(73B) 및 식(73C)가 보다 바람직하다. 상기 식(71A), 식(71B), 식(71C), 식(71XA), 식(71XB), 식(71XC), 식(72A), 식(72B), 식(72C), 식(73A), 식(73B), 식(73C), 식(74A), 식(74B), 식(74C), 식(74XA), 식(74XB) 및 식(74XC)에 서, n은 이들 식으로 표시되는 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량이 1,000 이상 50,000 이하가 되는 정수인 것이 바람직하고, 1,000 이상 15,000 이하가 되는 정수인 것이 보다 바람직하다. 또한, n은 1 이상일 수도 있고, 2 이상일 수도 있다. 상기 식(71A), 식(71B), 식(71C), 식(71XA), 식(71XB), 식(71XC), 식(72A), 식(72B), 식(72C), 식(73A), 식(73B), 식(73C), 식(74A), 식(74B), 식(74C), 식(74XA), 식(74XB) 및 식(74XC)에서 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 500 이상이며 n이 1인 경우의 중량 평균 분자량의 값 이상인 것이 바람직하고, 500 이상이며 n이 2인 경우의 중량 평균 분자량의 값 이상인 것이 보다 바람직하다.(71A), (71B), (71C), (71XA), (71XB), (71XC), (72A), (72B), (72C) (71A), the equation (71A), and the equation (71A) in the equation (73B), the equation (73C), the equation (74A), the equation (74B), the equation (74C), the equation 71B, 71C, 71XA, 71XC, 72A, 72B, 72C, 73A, 73B, 73C) are preferable, and it is preferable to use the above equations (71XA), (71XB), (71XC), 72A, 72B, 72C, 73A, ) Is more preferable. (71A), (71B), (71C), (71XA), (71XB), (71XC), (72A), (72B), (72C) N is expressed by these formulas in the formulas (73B), (73C), (74A), (74B), (74C), (74XA), (74XB) The epoxy compound preferably has an average molecular weight of 1,000 or more and 50,000 or less, more preferably 1,000 or more and 15,000 or less. Further, n may be 1 or more, or may be 2 or more. (71A), (71B), (71C), (71XA), (71XB), (71XC), (72A), (72B), (72C) , The weight average molecular weight of the epoxy compound in the formula (73B), the formula (73C), the formula (74A), the formula (74B), the formula (74C), the formula (74XB) And is preferably at least the value of the weight average molecular weight in the case of n = 1, more preferably at least 500 or more and at least the value of the weight average molecular weight in the case of n = 2.
경화물의 접착성을 한층 더 양호하게 하는 관점에서는, 상기 제1 반응물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제1 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 2개 존재하는 것이 바람직하다. 경화물의 접착성을 한층 더 양호하게 하는 관점에서는, 상기 제2 반응물에 (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제2 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 2개 존재하는 것이 바람직하다.(Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is reacted with the first reactant in order to further improve the adhesiveness of the cured product It is preferable that there are two peaks in the molecular weight distribution of the epoxy compound. (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is reacted with the second reactant in order to further improve the adhesiveness of the cured product, It is preferable that there are two peaks in the molecular weight distribution of the epoxy compound.
상기 반응물(X)와 (메트)아크릴산을 반응시키는 구체적인 반응으로는 축합 반응을 들 수 있다.A specific reaction for reacting the reactant (X) with (meth) acrylic acid is a condensation reaction.
상기 반응물(X)와 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 반응시키는 구체적인 반응으로는 부가 반응을 들 수 있다.Specific reactions for reacting the reactant (X) with 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate include addition reaction.
상기 반응물(X)와 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시키는 구체적인 반응으로는 축합 반응을 들 수 있다.Specific reaction for reacting the reactant (X) with 4-hydroxybutyl glycidyl ether includes a condensation reaction.
본 발명에 따른 에폭시 화합물을 얻기 위해서, 2핵체인 비스페놀 F와 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체의 혼합물을 사용한 반응물을 사용하는 경우에, 얻어지는 에폭시 화합물에서, 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 구조 단위와, 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체에서 유래하는 구조 단위의 합계 100 중량% 중, 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 구조 단위의 비율은 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 85 중량% 이상, 바람직하게는 99.9 중량% 이하, 보다 바람직하게는 99 중량% 이하이다. 상기 구조 단위의 합계 100 중량% 중의 2핵체인 비스페놀 F에서 유래하는 구조 단위의 비율이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 보다 한층 높아진다.In order to obtain an epoxy compound according to the present invention, in the case of using a reaction product using a mixture of bisphenol F and bisphenol F skeleton having two nucleus chains and a polynuclear body having three or more nuclei, bisphenol F , The proportion of the structural unit derived from bisphenol F having two nucleus out of the total of 100% by weight of the derived structural unit and the structural unit derived from the multinuclear body having the bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei is preferably 70% by weight or more , More preferably not less than 85 wt%, preferably not more than 99.9 wt%, and more preferably not more than 99 wt%. If the proportion of the structural units derived from bisphenol F having two nuclei in the total of 100% by weight of the structural units is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the adhesiveness of the cured product using the epoxy compound is further increased, The reliability of the connection structure using the above-mentioned curable composition is further enhanced.
(에폭시 화합물의 혼합물)(Mixture of epoxy compounds)
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물은 상술한 에폭시 화합물을 적어도 2종 포함한다. 이와 같이, 상술한 에폭시 화합물은 2종 이상 병용할 수도 있다. 상술한 에폭시 화합물을 2종 이상 병용함으로써, 에폭시 화합물의 혼합물의 점도를 용이하게 조정할 수 있다.The mixture of epoxy compounds according to the present invention contains at least two kinds of the above-mentioned epoxy compounds. As described above, the above-mentioned epoxy compounds may be used in combination of two or more. By using two or more of the above-mentioned epoxy compounds in combination, the viscosity of the mixture of epoxy compounds can be easily adjusted.
에폭시 화합물을 한층 더 빠르게 경화시키는 것을 가능하게 하고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 한층 더 높이거나, 접속 구조체에서의 공극 발생을 억제하는 관점에서, 본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물은 비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제1 에폭시 화합물과, 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제2 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of enabling the epoxy compound to be cured even more rapidly and further increasing the adhesiveness and moisture resistance of the cured product and suppressing the generation of voids in the connection structure, the mixture of epoxy compounds according to the present invention is bisphenol F (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is reacted with a first reactant of 1,6-hexanediol diglycidyl ether and 1,6- (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl (meth) acrylate is added to a second reaction product of an epoxy compound and resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether And a second epoxy compound obtained by reacting an ether.
에폭시 화합물을 한층 더 빠르게 경화시키는 것을 가능하게 하고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 한층 더 높이거나, 접속 구조체에서의 공극 발생을 억제하는 관점에서, 본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물은 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제2 에폭시 화합물과, 레조르시놀과 레조르시놀디글리시딜에테르의 제3 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제3 에폭시 화합물을 포함하는 것도 바람직하다.From the viewpoint of enabling the epoxy compound to be cured more rapidly and further enhancing the adhesiveness and moisture resistance of the cured product and suppressing the generation of voids in the connection structure, the mixture of the epoxy compound according to the present invention is a resorcin (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is reacted with a second reactant of 1,6-hexanediol diglycidyl ether (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is reacted with a third reaction product of a 2-epoxy compound, resorcinol and resorcinol diglycidyl ether And a third epoxy compound obtained by subjecting the first epoxy compound to a polymerization reaction.
본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물은 상기 제1 에폭시 화합물과 상기 제2 에폭시 화합물을 포함하거나, 또는 상기 제2 에폭시 화합물과 상기 제3 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The mixture of epoxy compounds according to the present invention preferably comprises the first epoxy compound and the second epoxy compound or comprises the second epoxy compound and the third epoxy compound.
도공성을 높이고, 접속 구조체에서의 공극 발생을 어렵게 하는 관점에서, 에폭시 화합물의 혼합물은 23℃에서의 점도가 바람직하게는 50 Pa·s 이상, 보다 바람직하게는 100 Pa·s 이상, 바람직하게는 1,200 Pa·s 이하, 보다 바람직하게는 600 Pa·s 이하, 더욱 바람직하게는 400 Pa·s 이하이다.From the viewpoint of enhancing the coatability and making it difficult to generate pores in the connection structure, the mixture of epoxy compounds preferably has a viscosity at 23 ° C of preferably 50 Pa · s or more, more preferably 100 Pa · s or more, It is 1,200 Pa · s or less, more preferably 600 Pa · s or less, and further preferably 400 Pa · s or less.
(경화성 조성물)(Curable composition)
본 발명에 따른 경화성 조성물은 상술한 에폭시 화합물과 열 경화제를 포함한다. 즉, 본 발명에 따른 경화성 조성물은 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기 또는 에폭시기를 갖고, 중량 평균 분자량이 500 이상 150,000 이하인 에폭시 화합물과 열 경화제를 포함한다. 본 발명에 따른 경화성 조성물은 빠르게 경화시킬 수 있고, 또한 경화물의 접착성 및 내습성을 높게 할 수 있다.The curable composition according to the present invention comprises the above-mentioned epoxy compound and a thermosetting agent. That is, the curable composition according to the present invention comprises an epoxy compound having an epoxy group at both terminals, a vinyl group or an epoxy group in the side chain, and a weight average molecular weight of 500 to 150,000, and a thermosetting agent. The curable composition according to the present invention can be rapidly cured, and the adhesive property and moisture resistance of the cured product can be increased.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 적어도 2종의 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상술한 에폭시 화합물을 2종 이상 병용함으로써, 경화성 조성물의 점도를 용이하게 조정할 수 있다.The curable composition according to the present invention preferably contains at least two kinds of epoxy compounds. The viscosity of the curable composition can be easily adjusted by using two or more of the above-mentioned epoxy compounds in combination.
도공성을 높이고, 접속 구조체에서의 공극 발생을 어렵게 하는 관점에서, 경화성 조성물은 23℃에서의 점도는 바람직하게는 50 Pa·s 이상, 보다 바람직하게는 100 Pa·s 이상, 바람직하게는 1,200 Pa·s 이하, 보다 바람직하게는 600 Pa·s 이하, 더욱 바람직하게는 400 Pa·s 이하이다.From the viewpoint of enhancing the coatability and making it difficult to generate pores in the connection structure, the viscosity of the curable composition at 23 캜 is preferably 50 Pa · s or more, more preferably 100 Pa · s or more, preferably 1,200 Pa S or less, more preferably 600 Pa s or less, and even more preferably 400 Pa s or less.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 (1)상기 에폭시 화합물이, 비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제1 에폭시 화합물을 포함하며, 비스페놀 F 디글리시딜에테르 또는 1,6-헥산디올디글리시딜에테르를 포함하거나, (2)상기 에폭시 화합물이, 레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제2 에폭시 화합물을 포함하며, 레조르시놀디글리시딜에테르 또는 1,6-헥산디올디글리시딜에테르를 포함하거나, (3)상기 에폭시 화합물이, 레조르시놀과 레조르시놀디글리시딜에테르의 제3 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제3 에폭시 화합물을 포함하며, 레조르시놀디글리시딜에테르를 포함하거나, 또는 (4)상기 비스페놀 F와 레조르시놀디글리시딜에테르의 제4 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제4 에폭시 화합물을 포함하며, 비스페놀 F 디글리시딜에테르 또는 레조르시놀디글리시딜에테르를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우에는 경화성 조성물의 경화물의 가교 밀도가 높아지고, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 한층 더 높아진다.The curable composition according to the present invention is characterized in that (1) the epoxy compound is added to the first reaction product of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl Isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether, and comprises bisphenol F diglycidyl ether or 1,6-hexanediol diglycidyl ether, or (2) the above-mentioned first epoxy compound obtained by reacting The epoxy compound is reacted with a second reaction product of resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl Ether, and comprises a resorcinol diglycidyl ether or 1,6-hexanediol diglycidyl ether, or (3) the epoxy compound contains a resorcinol and a resorcinol Nodiglycidyl ether (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether to a third reactant of the resorcinol diglycidyl ether, and a third epoxy compound obtained by reacting (Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is added to the fourth reaction product of bisphenol F and resorcinol diglycidyl ether. And a fourth epoxy compound obtained by reacting a cidyl ether, and more preferably a bisphenol F diglycidyl ether or a resorcinol diglycidyl ether. In this case, the crosslinking density of the cured product of the curable composition is increased, the adhesiveness of the cured product using the epoxy compound is further increased, and the reliability of the connecting structure using the curable composition containing the epoxy compound is further increased.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 (1)상기 에폭시 화합물이 상기 제1 에폭시 화합물을 포함하며, 비스페놀 F 디글리시딜에테르 또는 1,6-헥산디올디글리시딜에테르를 포함하거나, (2)상기 에폭시 화합물이 상기 제2 에폭시 화합물을 포함하며, 레조르시놀디글리시딜에테르 또는 1,6-헥산디올디글리시딜에테르를 포함하거나, 또는 (3)상기 에폭시 화합물이 상기 제3 에폭시 화합물을 포함하며, 레조르시놀디글리시딜에테르를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우에는 경화성 조성물의 경화물의 가교 밀도가 높아지고, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 한층 더 높아진다.The curable composition according to the present invention comprises (1) the epoxy compound includes the first epoxy compound, and includes bisphenol F diglycidyl ether or 1,6-hexanediol diglycidyl ether, (2) Wherein the epoxy compound comprises the second epoxy compound and contains resorcinol diglycidyl ether or 1,6-hexanediol diglycidyl ether, or (3) the epoxy compound contains the third epoxy compound And more preferably contains resorcinol diglycidyl ether. In this case, the crosslinking density of the cured product of the curable composition is increased, the adhesiveness of the cured product using the epoxy compound is further increased, and the reliability of the connecting structure using the curable composition containing the epoxy compound is further increased.
본 발명에 따른 경화성 조성물이 상기 제1, 제2, 제3, 제4 에폭시 화합물과 비스페놀 F 디글리시딜에테르, 레조르시놀디글리시딜에테르 또는 1,6-헥산디올디글리시딜에테르를 포함하는 경우에, 상기 제1, 제2, 제3, 제4 에폭시 화합물의 합계 100 중량부에 대하여 비스페놀 F 디글리시딜에테르, 레조르시놀디글리시딜에테르 및 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 합계의 함유량은 바람직하게는 0.1 중량부 이상, 보다 바람직하게는 1 중량부 이상, 바람직하게는 100 중량부 이하, 보다 바람직하게는 20 중량부 이하이다. 비스페놀 F 디글리시딜에테르, 레조르시놀디글리시딜에테르 및 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 합계의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 경화성 조성물의 경화물의 가교 밀도가 한층 더 높아지고, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 한층 더 높아진다.When the curable composition according to the present invention contains the first, second, third and fourth epoxy compounds and bisphenol F diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether or 1,6-hexanediol diglycidyl ether It is preferable that bisphenol F diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether and 1,6-hexanediol diglycidyl ether are added to 100 parts by weight in total of the first, second, third and fourth epoxy compounds, The content of the total amount of the cidyl ether is preferably at least 0.1 part by weight, more preferably at least 1 part by weight, preferably at most 100 parts by weight, more preferably at most 20 parts by weight. If the content of the sum of bisphenol F diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether and 1,6-hexanediol diglycidyl ether is lower than or equal to the lower limit and below the upper limit, the crosslinking density of the cured product of the curable composition is further increased The adhesiveness of the cured product using the epoxy compound is further increased, and the reliability of the connection structure using the curable composition containing the epoxy compound is further increased.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 상술한 에폭시 화합물(본 발명에 따른 에폭시 화합물)에 추가로, 상기 에폭시 화합물의 양쪽 말단의 2개의 에폭시기 중 적어도 한쪽에 (메트)아크릴산을 반응시킴으로써 얻어지는 에폭시(메트)아크릴레이트를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우에는 경화성 조성물의 경화물의 가교 밀도가 높아지고, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 한층 더 높아진다.The curable composition according to the present invention is characterized in that in addition to the above-mentioned epoxy compound (epoxy compound according to the present invention), epoxy (meth) acrylate obtained by reacting (meth) acrylic acid with at least one of two epoxy groups at both ends of the epoxy compound It is preferable to further include a rate. In this case, the crosslinking density of the cured product of the curable composition is increased, the adhesiveness of the cured product using the epoxy compound is further increased, and the reliability of the connecting structure using the curable composition containing the epoxy compound is further increased.
또한, 상술한 에폭시 화합물과, 상기 에폭시 화합물의 양쪽 말단의 2개의 에폭시기 중 적어도 한쪽에 (메트)아크릴산을 반응시킴으로써 얻어지는 에폭시(메트)아크릴레이트는 양쪽 말단 부분(에폭시기 또는 (메트)아크릴로일기)을 제외하고, 동일한 구조를 갖는 것이 바람직하다. 상기 에폭시 화합물과 상기 에폭시(메트)아크릴레이트는 함께, 비스페놀 F에서 유래하는 골격을 갖는 것이 바람직하고, 레조르시놀에서 유래하는 것이 바람직하다. 상기 에폭시 화합물과 상기 에폭시(메트)아크릴레이트는 함께, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 골격을 갖는 것이 바람직하고, 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 골격을 갖는 것이 바람직하다. 이와 같이 에폭시 화합물과 에폭시(메트)아크릴레이트의 사용에 의해, 경화성 조성물의 경화물의 가교 밀도가 한층 더 높아지고, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 한층 더 높아진다.The epoxy (meth) acrylate obtained by reacting the above-mentioned epoxy compound with (meth) acrylic acid in at least one of the two epoxy groups at both terminals of the epoxy compound has both terminal portions (epoxy group or (meth) acryloyl group) It is preferable to have the same structure. The epoxy compound and the epoxy (meth) acrylate together preferably have a skeleton derived from bisphenol F, and are preferably derived from resorcinol. The epoxy compound and the epoxy (meth) acrylate together preferably have a skeleton derived from 1,6-hexanediol diglycidyl ether and preferably have a skeleton derived from resorcinol diglycidyl ether Do. By using the epoxy compound and the epoxy (meth) acrylate as described above, the crosslinking density of the cured product of the curable composition is further increased, the adhesiveness of the cured product using the epoxy compound is further increased, and the curability The reliability of the connection structure using the composition is further enhanced.
본 발명에 따른 경화성 조성물이 상기 에폭시 화합물과 상기 에폭시(메트)아크릴레이트를 포함하는 경우에, 상기 에폭시 화합물 100 중량부에 대하여 상기 에폭시(메트)아크릴레이트의 함유량은 바람직하게는 0.1 중량부 이상, 보다 바람직하게는 1 중량부 이상, 바람직하게는 100 중량부 이하, 보다 바람직하게는 20 중량부 이하이다. 상기 에폭시(메트)아크릴레이트의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 경화성 조성물의 경화물의 가교 밀도가 한층 더 높아지고, 상기 에폭시 화합물을 사용한 경화물의 접착성이 한층 더 높아지며, 상기 에폭시 화합물을 포함하는 상기 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 신뢰성이 한층 더 높아진다.When the curable composition according to the present invention contains the epoxy compound and the epoxy (meth) acrylate, the content of the epoxy (meth) acrylate is preferably 0.1 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the epoxy compound, More preferably 1 part by weight or more, preferably 100 parts by weight or less, and more preferably 20 parts by weight or less. If the content of the epoxy (meth) acrylate is lower than or equal to the lower limit and lower than or equal to the upper limit, the crosslinking density of the cured product of the curable composition becomes even higher, the adhesiveness of the cured product using the epoxy compound becomes further higher, The reliability of the connection structure using the above-mentioned curable composition is further enhanced.
본 발명에 따른 경화성 조성물에 포함되는 열 경화제는 특별히 한정되지 않는다. 상기 열 경화제는 본 발명에 따른 에폭시 화합물, 또는 본 발명에 따른 에폭시 화합물의 혼합물을 경화시킨다. 상기 열 경화제로서, 종래 공지된 열 경화제를 사용할 수 있다. 상기 열 경화제에는 열 라디칼 개시제가 포함된다. 상기 열 경화제는 1종만이 사용될 수도 있고, 2종 이상이 병용될 수도 있다.The heat curing agent contained in the curable composition according to the present invention is not particularly limited. The thermosetting agent cures the epoxy compound according to the invention, or a mixture of the epoxy compounds according to the invention. As the thermosetting agent, conventionally known thermosetting agents may be used. The thermosetting agent includes a thermal radical initiator. The thermosetting agent may be used alone or in combination of two or more.
상기 열 경화제로는 양이온 경화제, 이미다졸 경화제, 아민 경화제, 페놀 경화제, 폴리티올 경화제, 산 무수물 및 열 라디칼 개시제 등을 들 수 있다. 그중에서도, 경화성 조성물을 한층 더 빠르게 경화시킬 수 있기 때문에, 양이온 경화제, 이미다졸 경화제, 폴리티올 경화제 또는 아민 경화제가 바람직하다. 또한, 경화성 조성물의 보존 안정성을 높일 수 있기 때문에, 잠재성 경화제가 바람직하다. 잠재성 경화제는 잠재성 이미다졸 경화제, 잠재성 폴리티올 경화제 또는 잠재성 아민 경화제인 것이 바람직하다. 또한, 상기 열 경화제는 폴리우레탄 수지 또는 폴리에스테르 수지 등의 고분자 물질로 피복될 수도 있다.Examples of the heat curing agent include a cation curing agent, an imidazole curing agent, an amine curing agent, a phenol curing agent, a polythiol curing agent, an acid anhydride, and a thermal radical initiator. Among them, a cationic curing agent, an imidazole curing agent, a polythiol curing agent or an amine curing agent is preferable because the curable composition can be cured much more quickly. Further, since the storage stability of the curable composition can be enhanced, a latent curing agent is preferable. The latent curing agent is preferably a latent imidazole curing agent, a latent polythiol curing agent or a latent amine curing agent. Further, the thermosetting agent may be coated with a high molecular substance such as a polyurethane resin or a polyester resin.
상기 이미다졸 경화제로서는 특별히 한정되지 않지만, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진 및 2, 4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진이소시아누르산 부가물 등을 들 수 있다.Examples of the imidazole curing agent include, but are not limited to, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl- Imidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')] - ethyl -s- triazine and 2,4- -Methylimidazolyl- (1 ')] - ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct.
상기 폴리티올 경화제로는 특별히 한정되지 않지만, 트리메틸올프로판트리스-3-머캅토프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 및 디펜타에리트리톨헥사-3-머캅토프로피오네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polythiol curing agent include, but are not limited to, trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate and dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate Nate and so on.
상기 아민 경화제로는 특별히 한정되지 않지만, 헥사메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 데카메틸렌디아민, 3,9-비스(3-아미노프로필)-2,4,8,10-테트라스피로[5.5]운데칸, 비스(4-아미노시클로헥실)메탄, 메타페닐렌디아민 및 디아미노디페닐술폰 등을 들 수 있다.Examples of the amine curing agent include, but are not limited to, hexamethylenediamine, octamethylenediamine, decamethylenediamine, 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetaspiro [5.5] undecane, Bis (4-aminocyclohexyl) methane, metaphenylenediamine and diaminodiphenylsulfone.
상기 열 경화제 중에서도 폴리티올 화합물 또는 산 무수물 등이 바람직하다. 경화성 조성물의 경화 속도를 한층 더 빠르게 할 수 있기 때문에, 폴리티올 화합물이 바람직하다.Among these thermosetting agents, polythiol compounds or acid anhydrides are preferred. Since the curing speed of the curable composition can be further increased, a polythiol compound is preferable.
상기 폴리티올 화합물 중에서도 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트가 보다 바람직하다. 이 폴리티올 화합물의 사용에 의해, 경화성 조성물의 경화 속도를 한층 더 빠르게 할 수 있다.Among the polythiol compounds, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate is more preferable. By using the polythiol compound, the curing speed of the curable composition can be further increased.
상기 열 라디칼 개시제로는 특별히 한정되지 않으며, 아조 화합물 및 과산화물 등을 들 수 있다. 상기 과산화물로는 디아실퍼옥사이드 화합물, 퍼옥시에스테르 화합물, 히드로퍼옥사이드 화합물, 퍼옥시디카보네이트 화합물, 퍼옥시케탈 화합물, 디알킬퍼옥사이드 화합물, 및 케톤퍼옥사이드 화합물 등을 들 수 있다.The thermal radical initiator is not particularly limited, and examples thereof include azo compounds and peroxides. Examples of the peroxide include a diacyl peroxide compound, a peroxy ester compound, a hydroperoxide compound, a peroxydicarbonate compound, a peroxyketal compound, a dialkyl peroxide compound, and a ketone peroxide compound.
상기 아조 화합물로는 예를 들면, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 1,1'-아조비스-1-시클로헥산카르보니트릴, 디메틸-2,2'-아조비스이소부티레이트, 디메틸-2, 2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 디메틸-1,1'-아조비스(1-시클로헥산카르복실레이트), 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)이염산염, 2-tert-부틸아조-2-시아노프로판, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미드)이수화물, 및 2,2'-아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄) 등을 들 수 있다.Examples of the azo compound include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethyl Azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpropionate) Azo compounds such as dimethyl-1,1'-azobis (1-cyclohexanecarboxylate), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2'-azobis Azo compounds such as 2,2'-azobis (2-methylpropionamide) dihydrate, and 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane) And the like.
상기 디아실퍼옥사이드 화합물로는 과산화벤조일, 디이소부티릴퍼옥사이드, 디(3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드, 및 디숙신산퍼옥사이드 등을 들 수 있다. 상기 퍼옥시에스테르 화합물로는 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, tert-헥실퍼옥시네오데카노에이트, tert-부틸퍼옥시네오데카노에이트, tert-부틸퍼옥시네오헵타노에이트, tert-헥실퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, tert-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트, tert-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, tert-부틸퍼옥시이소부티레이트, tert-부틸퍼옥시라우레이트, tert-부틸퍼옥시이소프탈레이트, tert-부틸퍼옥시아세테이트, tert-부틸퍼옥시옥토에이트 및 tert-부틸퍼옥시벤조에이트 등을 들 수 있다. 상기 히드로퍼옥사이드 화합물로는 쿠멘히드로퍼옥사이드, p-멘탄히드로퍼옥사이드 등을 들 수 있다. 상기 퍼옥시디카보네이트 화합물로는 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-n-프로필퍼옥시디카보네이트, 디이소프로필퍼옥시카보네이트, 및 디(2-에틸헥실)퍼옥시카보네이트 등을 들 수 있다. 또한, 상기 과산화물의 다른 예로는 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 칼륨퍼술페이트, 및 1,1-비스(tert-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 등을 들 수 있다.Examples of the diacyl peroxide compound include benzoyl peroxide, diisobutyryl peroxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dilauryl peroxide, and dicosyl peroxide. Examples of the peroxy ester compounds include cumyl peroxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethyl butyl peroxyneodecanoate, tert-hexyl peroxyneodecanoate, tert-butyl peroxyneodecane Tert-butyl peroxyneoheptanoate, tert-hexyl peroxy pivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl- Tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-butylperoxy- Butyl peroxy isobutyrate, tert-butyl peroxylaurate, tert-butyl peroxyisophthalate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxy octoate and tert-butyl peroxybenzoate. Examples of the hydroperoxide compound include cumene hydroperoxide, p-menthol hydroperoxide, and the like. Examples of the peroxydicarbonate compound include di-sec-butyl peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di- -Ethylhexyl) peroxycarbonate, and the like. Other examples of the peroxide include methyl ethyl ketone peroxide, potassium persulfate, and 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane.
상기 열 라디칼 개시제의 10시간 반감기를 얻기 위한 분해 온도는 바람직하게는 30℃ 이상, 보다 바람직하게는 40℃ 이상, 바람직하게는 90℃ 이하, 보다 바람직하게는 80℃ 이하, 더욱 바람직하게는 70℃ 이하이다. 상기 열 라디칼 개시제의 10시간 반감기를 얻기 위한 분해 온도가 30℃ 미만이면 경화성 조성물의 저장 안정성이 저하되는 경향이 있고, 90℃ 초과이면 경화성 조성물을 충분히 열 경화시키기 곤란해지는 경향이 있다.The decomposition temperature for obtaining the 10-hour half-life of the thermal radical initiator is preferably 30 占 폚 or higher, more preferably 40 占 폚 or higher, preferably 90 占 폚 or lower, more preferably 80 占 폚 or lower, still more preferably 70 占 폚 Or less. When the decomposition temperature for obtaining the 10-hour half-life of the thermal radical initiator is less than 30 ° C, the storage stability of the curable composition tends to be lowered, and if it exceeds 90 ° C, the curable composition tends to be insufficiently thermally cured.
상기 열 경화제의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 본 발명에 따른 경화성 조성물에서는, 상기 에폭시 화합물의 전량 100 중량부에 대하여 열 경화제의 함유량은 바람직하게는 0.01 중량부 이상, 보다 바람직하게는 1 중량부 이상, 바람직하게는 200 중량부 이하, 보다 바람직하게는 100 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 75 중량부 이하이다. 열 경화제의 함유량이 상기 하한 이상이면, 경화성 조성물을 충분히 경화시키는 것이 용이하다. 열 경화제의 함유량이 상기 상한 이하이면, 경화 후에 경화에 관여하지 않은 잉여의 열 경화제가 잔존하기 어려워지며, 경화물의 내열성이 한층 더 높아진다.The content of the thermosetting agent is not particularly limited. In the curable composition according to the present invention, the content of the thermosetting agent is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, preferably 200 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight or less, Is not more than 100 parts by weight, more preferably not more than 75 parts by weight. When the content of the thermosetting agent is lower than the lower limit described above, it is easy to sufficiently cure the curable composition. If the content of the thermosetting agent is less than the upper limit, an excess of the thermosetting agent that is not involved in curing after curing is hardly left, and the heat resistance of the cured product is further increased.
또한, 상기 열 경화제가 이미다졸 경화제 또는 페놀 경화제인 경우, 상기 에폭시 화합물의 전량 100 중량부에 대하여 이미다졸 경화제 또는 페놀 경화제의 함유량은 바람직하게는 1 중량부 이상, 바람직하게는 15 중량부 이하이다. 또한, 상기 열 경화제가 아민 경화제, 폴리티올 경화제 또는 산 무수물인 경우, 상기 에폭시 화합물의 전량 100 중량부에 대하여 아민 경화제, 폴리티올 경화제 또는 산 무수물의 함유량은 바람직하게는 15 중량부 이상, 바람직하게는 40 중량부 이하이다.When the heat curing agent is an imidazole curing agent or a phenolic curing agent, the content of the imidazole curing agent or the phenolic curing agent is preferably 1 part by weight or more, and preferably 15 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy compound . When the heat curing agent is an amine curing agent, a polythiol curing agent or an acid anhydride, the content of the amine curing agent, the polythiol curing agent or the acid anhydride is preferably 15 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy compound, Is not more than 40 parts by weight.
상기 열 경화제가 열 라디칼 개시제인 경우에, 상기 열 라디칼 개시제의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 상기 에폭시 화합물의 전량 100 중량부에 대하여 상기 열 라디칼 개시제의 함유량은 바람직하게는 0.01 중량부 이상, 보다 바람직하게는 0.05 중량부 이상, 바람직하게는 10 중량부 이하, 보다 바람직하게는 5 중량부 이하이다. 상기 열 라디칼 경화제의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 경화성 조성물을 충분히 열 경화시킬 수 있다.When the heat curing agent is a thermal radical initiator, the content of the heat radical initiator is not particularly limited. The content of the thermal radical initiator is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.05 parts by weight or more, preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy compound to be. If the content of the thermal radical curing agent is lower than or equal to the lower limit and lower than or equal to the upper limit, the thermosetting composition can be sufficiently thermally cured.
〔다른 성분〕[Other components]
본 발명에 따른 경화성 조성물은 경화 촉진제를 더 포함하는 것이 바람직하다. 경화 촉진제의 사용에 의해, 경화성 조성물의 경화 속도를 한층 더 빠르게 할 수 있다. 경화 촉진제는 1종만이 사용될 수도 있고, 2종 이상이 병용될 수도 있다.The curable composition according to the present invention preferably further comprises a curing accelerator. By using the curing accelerator, the curing speed of the curable composition can be further increased. The curing accelerator may be used alone or in combination of two or more.
상기 경화 촉진제의 구체예로는 이미다졸 경화 촉진제 및 아민 경화 촉진제 등을 들 수 있다. 그중에서도, 이미다졸 경화 촉진제가 바람직하다. 또한, 이미다졸 경화 촉진제 또는 아민 경화 촉진제는 이미다졸 경화제 또는 아민 경화제로서도 사용할 수 있다.Specific examples of the curing accelerator include imidazole curing accelerators and amine curing accelerators. Among them, an imidazole curing accelerator is preferable. The imidazole curing accelerator or amine curing accelerator can also be used as an imidazole curing agent or an amine curing agent.
상기 이미다졸 경화 촉진제로는 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트, 2,4- 디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진 및 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진이소시아누르산 부가물 등을 들 수 있다.Examples of the imidazole curing accelerator include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl- Methyl-imidazolyl- (1 ')] - ethyl-s-triazine and 2,4-diamino-6- [2'-methyl (1 ')] - ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct.
상기 에폭시 화합물의 전량 100 중량부에 대하여 상기 경화 촉진제의 함유량은, 바람직하게는 0.5 중량부 이상, 보다 바람직하게는 1 중량부 이상, 바람직하게는 6 중량부 이하, 보다 바람직하게는 4 중량부 이하이다. 경화 촉진제의 함유량이 상기 하한 이상이면, 경화성 조성물을 충분히 경화시키는 것이 용이하다. 경화 촉진제의 함유량이 상기 상한 이하이면, 경화 후에 경화에 관여하지 않은 잉여의 경화 촉진제가 잔존하기 어려워진다.The content of the curing accelerator is preferably at least 0.5 part by weight, more preferably at least 1 part by weight, preferably at most 6 parts by weight, more preferably at most 4 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy compound to be. If the content of the curing accelerator is the above lower limit, it is easy to sufficiently cure the curable composition. If the content of the curing accelerator is less than the upper limit, excess curing accelerator which is not involved in curing after curing is hard to remain.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 광 조사에 의해서도 경화되도록 광 경화성 화합물과 광 중합 개시제를 더 포함할 수도 있다. 상기 광 경화성 화합물과 상기 광 중합 개시제의 사용에 의해, 광 조사에 의해 경화성 조성물을 경화시킬 수 있다. 또한, 경화성 조성물을 반경화시키고, 경화성 조성물의 유동성을 저하시킬 수 있다.The curable composition according to the present invention may further comprise a photocurable compound and a photopolymerization initiator so as to be cured by light irradiation. By using the photocurable compound and the photopolymerization initiator, the curable composition can be cured by light irradiation. In addition, the curable composition can be semi-cured and the flowability of the curable composition can be lowered.
상기 광 경화성 화합물은 특별히 한정되지 않는다. 이 광 경화성 화합물로서, (메트)아크릴 수지 또는 환상 에테르기 함유 수지 등이 바람직하게 사용되고, (메트)아크릴 수지가 보다 바람직하게 사용된다. 상기 (메트)아크릴 수지는 메타크릴 수지와 아크릴 수지를 나타낸다. 상기 (메트)아크릴 수지는 (메트)아크릴로일기를 갖는다. 상기 (메트)아크릴로일기는 메타크릴로일기와 아크릴로일기를 나타낸다.The photocurable compound is not particularly limited. As the photocurable compound, a (meth) acrylic resin or a cyclic ether group-containing resin is preferably used, and a (meth) acrylic resin is more preferably used. The (meth) acrylic resin is a methacrylic resin and an acrylic resin. The (meth) acrylic resin has a (meth) acryloyl group. The (meth) acryloyl group represents a methacryloyl group and an acryloyl group.
상기 (메트)아크릴 수지로서, (메트)아크릴산과 수산기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 에스테르 화합물, (메트)아크릴산과 에폭시 화합물을 반응시켜 얻어지는 에폭시(메트)아크릴레이트, 또는 이소시아네이트에 수산기를 갖는 (메트)아크릴산 유도체를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트 등이 바람직하게 사용된다.An ester compound obtained by reacting (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group, an epoxy (meth) acrylate obtained by reacting (meth) acrylic acid with an epoxy compound, or an epoxy (meth) acrylate having a hydroxyl group in the isocyanate (Meth) acrylate obtained by reacting an acrylic acid derivative with an acrylate or the like is preferably used.
상기 (메트)아크릴산과 수산기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 에스테르 화합물은 특별히 한정되지 않는다. 상기 에스테르 화합물로서, 단관능의 에스테르 화합물, 2관능의 에스테르 화합물 및 3관능 이상의 에스테르 화합물을 모두 사용할 수 있다.The ester compound obtained by reacting the above (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group is not particularly limited. As the ester compound, a monofunctional ester compound, a bifunctional ester compound and an ester compound having three or more functional groups can be used.
상기 광 경화성 화합물은 에폭시기 또는 티이란기와 (메트)아크릴로일기를 갖는 광 경화성 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The photocurable compound preferably contains a photocurable compound having an epoxy group or a thiadiene group and a (meth) acryloyl group.
상기 에폭시기 또는 티이란기와 (메트)아크릴로일기를 갖는 광 경화성 화합물은, 에폭시기를 2개 이상 또는 티이란기를 2개 이상 갖는 화합물의 일부의 에폭시기 또는 일부의 티이란기를 (메트)아크릴로일기로 변환함으로써 얻어진 광 경화성 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 광 경화성 화합물은 부분 (메트)아크릴레이트화 에폭시 화합물 또는 부분 (메트)아크릴레이트화 에피설파이드 화합물이다.The photo-curing compound having an epoxy group or a thiiranyl group and a (meth) acryloyl group may be a compound having two or more epoxy groups or a part of the epoxy group of a compound having two or more epoxy groups, Is preferably a photo-curable compound obtained by conversion. Such photocurable compounds are partial (meth) acrylated epoxy compounds or partial (meth) acrylated episulfide compounds.
상기 광 경화성 화합물은 에폭시기를 2개 이상 또는 티이란기를 2개 이상 갖는 화합물과 (메트)아크릴산의 반응물인 것이 바람직하다. 이 반응물은 에폭시기를 2개 이상 또는 티이란기를 2개 이상 갖는 화합물과 (메트)아크릴산을, 통상의 방법에 따라 염기성 촉매 등과 같은 촉매의 존재하에 반응시킴으로써 얻어진다. 에폭시기 또는 티이란기의 20% 이상이 (메트)아크릴로일기로 변환(전화율)되어 있는 것이 바람직하다. 상기 전화율은 보다 바람직하게는 30% 이상, 바람직하게는 80% 이하, 보다 바람직하게는 70% 이하이다. 에폭시기 또는 티이란기의 40% 이상 60% 이하가 (메트)아크릴로일기로 변환되어 있는 것이 가장 바람직하다.The photocurable compound is preferably a reaction product of (meth) acrylic acid with a compound having two or more epoxy groups or two or more epoxy groups. This reaction product is obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups or two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid in the presence of a catalyst such as a basic catalyst according to a conventional method. It is preferable that at least 20% of the epoxy group or the (meth) acryloyl group is converted into (meth) acryloyl group (conversion ratio). The conversion rate is more preferably 30% or more, preferably 80% or less, more preferably 70% or less. It is most preferable that not less than 40% and not more than 60% of the epoxy group or the (meth) acryloyl group is converted into a (meth) acryloyl group.
상기 에폭시기 또는 티이란기와 (메트)아크릴로일기를 갖는 광 경화성 화합물로는 비스페놀형 에폭시(메트)아크릴레이트, 크레졸노볼락형 에폭시(메트)아크릴레이트, 카르복실산무수물 변성 에폭시(메트)아크릴레이트, 및 페놀노볼락형 에폭시(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the photocurable compound having an epoxy group or a thiiranyl group and a (meth) acryloyl group include bisphenol epoxy (meth) acrylate, cresol novolak epoxy (meth) acrylate, carboxylic anhydride modified epoxy , And phenol novolak type epoxy (meth) acrylate.
상기 광 경화성 화합물로서, 에폭시기를 2개 이상 또는 티이란기를 2개 이상갖는 페녹시 수지의 일부의 에폭시기 또는 일부의 티이란기를 (메트)아크릴로일기로 변환한 변성 페녹시 수지를 사용할 수도 있다. 즉, 에폭시기 또는 티이란기와(메트)아크릴로일기를 갖는 변성 페녹시 수지를 사용할 수도 있다.As the photocurable compound, a modified phenoxy resin obtained by converting part of an epoxy group or a part of thienyl groups of a phenoxy resin having two or more epoxy groups or two or more epoxy groups into a (meth) acryloyl group may be used. That is, a modified phenoxy resin having an epoxy group or a (meth) acryloyl group can be used.
상술한 광 경화성 화합물 이외의 광 경화성 화합물이 포함되는 경우에는, 이 광 경화성 화합물은 가교성 화합물일 수도 있고, 비가교성 화합물일 수도 있다.When the photocurable compound other than the above-mentioned photocurable compound is contained, the photocurable compound may be a crosslinkable compound or a non-crosslinkable compound.
상기 가교성 화합물의 구체예로는 예를 들면, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 글리세린메타크릴레이트아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, (메트)아크릴산알릴, (메트)아크릴산비닐, 디비닐벤젠, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 및 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the crosslinkable compound include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (Meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (Meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, And the like.
상기 비가교성 화합물의 구체예로는 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 노닐(메트)아크릴레이트, 데실(메트)아크릴레이트, 운데실(메트)아크릴레이트, 도데실(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 및 테트라데실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the non-crosslinkable compound include ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, ) Acrylate, and the like.
상기 경화성 조성물을 효율적으로 광 경화시키는 관점에서는, 상기 에폭시 화합물의 전량 100 중량부에 대하여 상기 광 경화성 화합물의 함유량은 바람직하게는 0.1 중량부 이상, 보다 바람직하게는 1 중량부 이상, 더욱 바람직하게는 10 중량부 이상, 특히 바람직하게는 50 중량부 이상, 바람직하게는 10,000 중량부 이하, 보다 바람직하게는 1,000 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 500 중량부 이하이다.From the viewpoint of efficiently curing the curable composition, the content of the photocurable compound is preferably 0.1 parts by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, and even more preferably 1 part by weight or more, based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy compound 10 parts by weight or more, particularly preferably 50 parts by weight or more, preferably 10,000 parts by weight or less, more preferably 1,000 parts by weight or less, further preferably 500 parts by weight or less.
상기 광 중합 개시제는 특별히 한정되지 않는다. 상기 광 중합 개시제에는 광 라디칼 개시제가 포함된다. 상기 광 중합 개시제는 1종만이 사용될 수도 있고, 2종 이상이 병용될 수도 있다.The photopolymerization initiator is not particularly limited. The photopolymerization initiator includes a photo radical initiator. The above-mentioned photopolymerization initiator may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
상기 광 중합 개시제의 구체예로는 아세토페논 광 중합 개시제(아세토페논 광 라디칼 개시제), 벤조페논 광 중합 개시제(벤조페논 광 라디칼 개시제), 티오크산톤, 케탈 광중합 개시제(케탈 광 라디칼 개시제), 할로겐화케톤, 아실포스핀옥사이드 및 아실포스포네이트 등을 들 수 있다. 이들 이외의 광중합 개시제를 사용할 수도 있다.Specific examples of the photopolymerization initiator include an acetophenone photopolymerization initiator (acetophenone photoradical initiator), a benzophenone photopolymerization initiator (benzophenone photoradical initiator), a thioxanthone, a ketal photopolymerization initiator (a ketal photoradical initiator), a halogenated Ketones, acylphosphine oxides and acylphosphonates. Other photopolymerization initiators may be used.
상기 아세토페논 광중합 개시제의 구체예로는 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 메톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 및 2-히드록시-2-시클로헥실아세토페논 등을 들 수 있다. 상기 케탈 광중합 개시제의 구체예로는 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Specific examples of the acetophenone photopolymerization initiator include 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-hydroxy- , Methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, and 2-hydroxy-2-cyclohexylacetophenone. Specific examples of the ketal photopolymerization initiator include benzyl dimethyl ketal and the like.
상기 광 중합 개시제의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 상기 광경화성 조성물 100 중량부에 대하여 상기 광중합 개시제의 함유량은 바람직하게는 0.1 중량부 이상, 보다 바람직하게는 0.2 중량부 이상, 더욱 바람직하게는 2 중량부 이상, 바람직하게는 10 중량부 이하, 보다 바람직하게는 5 중량부 이하이다. 광중합 개시제의 함유량이 상기 하한 이상이면, 광중합 개시제를 첨가한 효과를 충분히 얻는 것이 용이하다. 광중합 개시제의 함유량이 상기 상한 이하이면, 경화성 조성물의 경화물의 접착력이 충분히 높아진다.The content of the photopolymerization initiator is not particularly limited. The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 parts by weight or more, more preferably 0.2 parts by weight or more, still more preferably 2 parts by weight or more, and preferably 10 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the photocurable composition Preferably 5 parts by weight or less. If the content of the photopolymerization initiator is lower than the above lower limit, it is easy to sufficiently obtain the effect of adding the photopolymerization initiator. If the content of the photopolymerization initiator is not more than the upper limit, the adhesive force of the cured product of the curable composition becomes sufficiently high.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 페놀성 화합물을 더 포함하는 것이 바람직하다. 상기 페놀성 화합물은 벤젠환에 수산기가 결합한 페놀성 수산기를 갖는다. 상기 페놀성 화합물로는 폴리페놀, 트리올, 히드로퀴논 및 토코페롤(비타민 E) 등을 들 수 있다. 상기 페놀성 화합물은 1종만이 사용될 수도 있고, 2종 이상이 병용될 수도 있다.The curable composition according to the present invention preferably further comprises a phenolic compound. The phenolic compound has a phenolic hydroxyl group bonded to a benzene ring with a hydroxyl group. Examples of the phenolic compound include polyphenols, triols, hydroquinone, and tocopherol (vitamin E). The phenolic compound may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 충전재를 더 포함하는 것이 바람직하다. 충전재의 사용에 의해, 경화성 조성물의 경화물의 잠열 팽창을 억제할 수 있다. 상기 충전재의 구체예로는 실리카, 질화알루미늄 또는 알루미나 등을 들 수 있다. 충전재는 1종만이 사용될 수도 있고, 2종 이상이 병용될 수도 있다.The curable composition according to the present invention preferably further comprises a filler. By the use of the filler, latent heat expansion of the cured product of the curable composition can be suppressed. Specific examples of the filler include silica, aluminum nitride, and alumina. Only one type of filler may be used, or two or more types may be used in combination.
상기 충전재의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 경화성 화합물의 합계 100 중량부에 대하여 상기 충전재의 함유량은 바람직하게는 5 중량부 이상, 보다 바람직하게는 15 중량부 이상, 바람직하게는 200 중량부 이하, 보다 바람직하게는 100 중량부 이하이다. 상기 충전재의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 경화물의 잠열 팽창을 충분히 억제할 수 있고, 또한 경화성 조성물 중에 충전재를 충분히 분산시킬 수 있다. 상기 경화성 화합물에는 상기 에폭시 화합물과 상기 광경화성 화합물이 포함된다.The content of the filler is not particularly limited. The content of the filler is preferably 5 parts by weight or more, more preferably 15 parts by weight or more, preferably 200 parts by weight or less, and even more preferably 100 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total amount of the curable compound. When the content of the filler is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the latent heat expansion of the cured product can be sufficiently suppressed, and the filler can be sufficiently dispersed in the curable composition. The curable compound includes the epoxy compound and the photo-curable compound.
본 발명에 따른 경화성 조성물은 용제를 포함할 수도 있다. 상기 용제의 사용에 의해, 경화성 조성물의 점도를 용이하게 조정할 수 있다.The curable composition according to the present invention may contain a solvent. By using the above-mentioned solvent, the viscosity of the curable composition can be easily adjusted.
상기 용제로는 예를 들면, 아세트산에틸, 메틸셀로솔브, 톨루엔, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥산, n-헥산, 테트라하이드로푸란 및 디에틸에테르 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include ethyl acetate, methyl cellosolve, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, n-hexane, tetrahydrofuran and diethyl ether.
본 발명에 따른 경화성 조성물은, 필요에 따라서 저장 안정제, 이온 포착제 또는 실란 커플링제 등을 더 포함할 수도 있다.The curable composition according to the present invention may further contain, if necessary, a storage stabilizer, an ion scavenger or a silane coupling agent.
(도전성 입자를 포함하는 경화성 조성물〕(Curable composition containing conductive particles)
본 발명에 따른 경화성 조성물이 도전성 입자를 더 포함하는 경우에는, 경화성 조성물을 도전 재료로서 사용할 수 있다. 상기 도전 재료는 이방성 도전 재료인 것이 바람직하다. 상기 에폭시 화합물 및 상기 에폭시 화합물의 혼합물은 도전성 입자와 함께 도전 재료로서 사용되는 것이 바람직하고, 도전성 입자와 함께 이방성 도전 재료로서 사용되는 것이 보다 바람직하다.When the curable composition according to the present invention further comprises conductive particles, the curable composition may be used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The mixture of the epoxy compound and the epoxy compound is preferably used as the conductive material together with the conductive particles and more preferably used as the anisotropic conductive material together with the conductive particles.
상기 도전성 입자는 제1, 제2 접속 대상 부재의 전극 사이를 전기적으로 접속한다. 구체적으로는, 상기 도전성 입자는 예를 들면, 회로 기판과 반도체칩의 전극사이를 전기적으로 접속한다. 상기 도전성 입자는 도전성을 갖는 입자이면 특별히 한정되지 않는다. 상기 도전성 입자는 도전부를 도전성 표면에 가질 수도 있다. 도전성 입자의 도전부 표면이 절연층에 의해 피복될 수도 있다. 이 경우에는 접속 대상 부재의 접속시에, 도전부와 전극 사이의 절연층이 배제된다. 상기 도전성 입자로는 예를 들면, 유기 입자, 금속을 제외한 무기 입자, 유기 무기 혼성 입자 또는 금속 입자 등의 표면을 도전층(금속층)으로 피복한 도전성 입자, 또는 실질적으로 금속만으로 구성되는 금속 입자 등을 들 수 있다. 상기 도전부는 특별히 한정되지 않는다. 상기 도전부를 구성하는 금속으로는 금, 은, 구리, 니켈, 팔라듐 및 주석 등을 들 수 있다. 상기 도전층으로는 금층, 은층, 구리층, 니켈층, 팔라듐층 또는 주석을 함유하는 도전층 등을 들 수 있다.The conductive particles electrically connect the electrodes of the first and second connection target members. Specifically, the conductive particles electrically connect, for example, the circuit board and the electrodes of the semiconductor chip. The conductive particles are not particularly limited as long as they are conductive particles. The conductive particles may have a conductive portion on the conductive surface. The surface of the conductive part of the conductive particles may be covered with the insulating layer. In this case, at the time of connection of the member to be connected, the insulating layer between the conductive portion and the electrode is excluded. Examples of the conductive particles include conductive particles obtained by coating the surface of an organic particle, an inorganic particle other than a metal, an organic-inorganic hybrid particle or metal particle with a conductive layer (metal layer), or a metal particle . The conductive portion is not particularly limited. Examples of the metal constituting the conductive portion include gold, silver, copper, nickel, palladium and tin. Examples of the conductive layer include a gold layer, a silver layer, a copper layer, a nickel layer, a palladium layer, or a conductive layer containing tin.
전극과 도전성 입자의 접촉 면적을 크게 하고, 전극 사이의 도통 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서, 상기 도전성 입자는 수지 입자와, 이 수지 입자의 표면상에 배치된 도전층(제1 도전층)을 갖는 것이 바람직하다. 전극 사이의 도통 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서, 상기 도전성 입자는 적어도 도전성의 외측 표면이 저융점 금속층인 도전성 입자인 것이 바람직하다. 상기 도전성 입자는 수지 입자와, 이 수지 입자의 표면상에 배치된 도전층을 갖고, 상기 도전층의 적어도 외측 표면이 저융점 금속층인 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of increasing the contact area between the electrode and the conductive particles and further enhancing the conduction reliability between the electrodes, the conductive particles have the resin particles and the conductive layer (first conductive layer) disposed on the surface of the resin particles . From the viewpoint of further enhancing the conduction reliability between the electrodes, it is preferable that the above-mentioned conductive particles are conductive particles whose at least conductive outer surface is a low-melting-point metal layer. It is more preferable that the conductive particle has resin particles and a conductive layer disposed on the surface of the resin particle, and at least the outer surface of the conductive layer is a low melting point metal layer.
상기 저융점 금속층은 저융점 금속을 포함하는 층이다. 상기 저융점 금속이란, 융점이 450℃ 이하인 금속을 말한다. 저융점 금속의 융점은 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 160℃ 이하이다. 또한, 상기 저융점 금속층은 주석을 포함하는 것이 바람직하다. 저융점 금속층에 포함되는 금속 100 중량% 중, 주석의 함유량은 바람직하게는 30 중량% 이상, 보다 바람직하게는 40 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 70 중량% 이상, 특히 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 상기 저융점 금속층의 함유량이 상기 하한 이상이면, 저융점 금속층과 전극의 접속 신뢰성이 한층 더 높아진다. 또한, 상기 주석의 함유량은 고주파 유도결합 플라즈마 발광 분광 분석 장치(가부시키가이샤 호리바 세이사쿠쇼 제조 「ICP-AES」), 또는 형광 X선 분석 장치(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조 「EDX-800 HS」) 등을 사용하여 측정 가능하다.The low melting point metal layer is a layer containing a low melting point metal. The low melting point metal means a metal having a melting point of 450 캜 or lower. The melting point of the low melting point metal is preferably 300 DEG C or lower, more preferably 160 DEG C or lower. Further, the low-melting-point metal layer preferably contains tin. The content of tin is preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, still more preferably 70% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more, in 100% by weight of the metal contained in the low melting point metal layer to be. When the content of the low melting point metal layer is lower than the lower limit, the connection reliability between the low melting point metal layer and the electrode is further increased. The content of the tin was measured using a high frequency inductively coupled plasma emission spectrochemical analyzer ("ICP-AES" manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd.) or a fluorescent X-ray analyzer ("EDX-800" manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., HS "). ≪ / RTI >
도전부의 외측 표면이 저융점 금속층인 경우에는 저융점 금속층이 용융하여 전극에 접합하고, 저융점 금속층이 전극 사이를 도통시킨다. 예를 들면, 저융점 금속층과 전극이 점 접촉이 아니라 면 접촉하기 쉽기 때문에, 접속 저항이 낮아진다. 또한, 적어도 도전성의 외측 표면이 저융점 금속층인 도전성 입자의 사용에 의해, 저융점 금속층과 전극의 접합 강도가 높아지는 결과, 저융점 금속층과 전극의 박리가 한층 더 어려워지고, 도통 신뢰성이 효과적으로 높아진다.When the outer surface of the conductive portion is a low-melting-point metal layer, the low-melting-point metal layer is melted and bonded to the electrode, and the low-melting-point metal layer conducts between the electrodes. For example, since the low-melting-point metal layer and the electrode are likely to contact each other if they are not in point contact, the connection resistance is lowered. Further, the use of the conductive particles having at least the conductive outer surface as the low-melting-point metal layer increases the bonding strength between the low-melting-point metal layer and the electrode. As a result, peeling of the electrode from the low- melting- point metal layer becomes more difficult and the reliability of conduction is effectively increased.
상기 저융점 금속층을 구성하는 저융점 금속은 특별히 한정되지 않는다. 상기 저융점 금속은 주석, 또는 주석을 포함하는 합금인 것이 바람직하다. 상기 합금은 주석-은 합금, 주석-구리 합금, 주석-은-구리 합금, 주석-비스무스 합금, 주석-아연 합금, 주석-인듐 합금 등을 들 수 있다. 그중에서도, 전극에 대한 습윤성이 우수한 점에서, 상기 저융점 금속은 주석, 주석-은 합금, 주석-은-구리 합금, 주석-비스무스 합금, 주석-인듐 합금인 것이 바람직하다. 주석-비스무스 합금, 주석-인듐 합금인 것이 보다 바람직하다.The low melting point metal constituting the low melting point metal layer is not particularly limited. The low melting point metal is preferably an alloy containing tin or tin. Examples of the alloy include tin-silver alloy, tin-copper alloy, tin-silver-copper alloy, tin-bismuth alloy, tin-zinc alloy and tin-indium alloy. Among them, the low melting point metal is preferably tin, a tin-silver alloy, a tin-silver-copper alloy, a tin-bismuth alloy or a tin-indium alloy from the viewpoint of excellent wettability to electrodes. Tin-bismuth alloy, and tin-indium alloy.
또한, 상기 저융점 금속층은 땜납층인 것이 바람직하다. 상기 땜납층을 구성하는 재료는 특별히 한정되지 않지만, JIS Z3001: 용접 용어에 기초하여, 액상선이 450℃ 이하인 용가재(filler metal)인 것이 바람직하다. 상기 땜납의 조성으로는 예를 들면, 아연, 금, 납, 구리, 주석, 비스무스, 인듐 등을 포함하는 금속 조성을 들 수 있다. 그 중에서도 저융점에서 납 프리인 주석-인듐계(117℃ 공정(eutectic)) 또는 주석-비스무스계(139℃ 공정)가 바람직하다. 즉, 땜납층은 납을 포함하지 않는 것이 바람직하고, 주석과 인듐을 포함하는 땜납층 또는 주석과 비스무스를 포함하는 땜납층인 것이 바람직하다.It is preferable that the low melting point metal layer is a solder layer. The material constituting the solder layer is not particularly limited, but it is preferably a filler metal having a liquidus line of 450 DEG C or less based on JIS Z3001: welding terminology. The composition of the solder includes, for example, a metal composition including zinc, gold, lead, copper, tin, bismuth, indium and the like. Among them, a lead-free tin-indium based (117 占 폚 eutectic) or tin-bismuth (139 占 폚) process is preferable at a low melting point. That is, the solder layer preferably does not contain lead, and is preferably a solder layer containing tin and indium or a solder layer containing tin and bismuth.
상기 저융점 금속층과 전극의 접합 강도를 한층 더 높이기 위해서, 상기 저융점 금속층은 니켈, 구리, 안티몬, 알루미늄, 아연, 철, 금, 티탄, 인, 게르마늄, 텔루륨, 코발트, 비스무스, 망간, 크롬, 몰리브덴, 팔라듐 등의 금속을 포함할 수도 있다. 저융점 금속과 전극의 접합 강도를 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 저융점 금속은 니켈, 구리, 안티몬, 알루미늄 또는 아연을 포함하는 것이 바람직하다. 저융점 금속층과 전극의 접합 강도를 한층 더 높이는 관점에서는, 접합 강도를 높이기 위한 이들 금속의 함유량은 저융점 금속층 100 중량% 중, 바람직하게는 0.0001 중량% 이상, 바람직하게는 1 중량% 이하이다.In order to further increase the bonding strength between the low-melting-point metal layer and the electrode, the low-melting-point metal layer may include at least one of nickel, copper, antimony, aluminum, zinc, iron, gold, titanium, phosphorus, germanium, tellurium, cobalt, bismuth, , Molybdenum, palladium, and the like. From the viewpoint of further increasing the bonding strength between the low melting point metal and the electrode, it is preferable that the low melting point metal includes nickel, copper, antimony, aluminum or zinc. From the viewpoint of further increasing the bonding strength between the low melting point metal layer and the electrode, the content of these metals for increasing the bonding strength is preferably 0.0001 wt% or more, and preferably 1 wt% or less, based on 100 wt% of the low melting point metal layer.
상기 도전성 입자는 수지 입자와, 이 수지 입자의 표면상에 배치된 도전층을 갖고, 상기 도전층의 외측 표면이 저융점 금속층이고, 상기 수지 입자와 상기 저융점 금속층(땜납층 등) 사이에, 상기 저융점 금속층과는 별도로 제2 도전층을 갖는 것이 바람직하다. 이 경우에, 상기 저융점 금속층은 상기 도전층 전체의 일부이고, 상기 제2 도전층은 상기 도전층 전체의 일부이다.Wherein the conductive particle has resin particles and a conductive layer disposed on a surface of the resin particle, wherein an outer surface of the conductive layer is a low melting point metal layer, and between the resin particle and the low melting point metal layer (solder layer or the like) And a second conductive layer may be provided separately from the low melting point metal layer. In this case, the low melting point metal layer is a part of the entire conductive layer, and the second conductive layer is a part of the whole conductive layer.
상기 저융점 금속층과는 별도의 상기 제2 도전층은 금속을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 제2 도전층을 구성하는 금속은 특별히 한정되지 않는다. 상기 금속으로는 예를 들면, 금, 은, 구리, 백금, 팔라듐, 아연, 납, 알루미늄, 코발트, 인듐, 니켈, 크롬, 티탄, 안티몬, 비스무스, 게르마늄 및 카드뮴, 및 이들의 합금 등을 들 수 있다. 또한, 상기 금속으로서, 주석 도핑된 산화인듐(ITO)을 사용할 수도 있다. 상기 금속은 1종만이 사용될 수도 있고, 2종 이상이 병용될 수도 있다.The second conductive layer, which is separate from the low melting point metal layer, may include a metal. The metal constituting the second conductive layer is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, copper, platinum, palladium, zinc, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium and cadmium, have. Also, tin-doped indium oxide (ITO) may be used as the metal. These metals may be used singly or two or more of them may be used in combination.
상기 제2 도전층은 니켈층, 팔라듐층, 구리층 또는 금층인 것이 바람직하고, 니켈층 또는 금층인 것이 보다 바람직하고, 구리층인 것이 더욱 바람직하다. 도전성 입자는 니켈층, 팔라듐층, 구리층 또는 금층을 갖는 것이 바람직하고, 니켈층 또는 금층을 갖는 것이 보다 바람직하고, 구리층을 갖는 것이 더욱 바람직하다. 이들 바람직한 도전층을 갖는 도전성 입자를 전극 간의 접속에 사용함으로써, 전극 간 접속 저항이 한층 더 낮아진다. 또한, 이들 바람직한 도전층의 표면에는 저융점 금속층을 한층 더 용이하게 형성할 수 있다. 또한, 상기 제2 도전층은 땜납층등의 저융점 금속층일 수도 있다. 도전성 입자는 복수층의 저융점 금속층을 가질 수도 있다.The second conductive layer is preferably a nickel layer, a palladium layer, a copper layer or a gold layer, more preferably a nickel layer or a gold layer, and more preferably a copper layer. The conductive particles preferably have a nickel layer, a palladium layer, a copper layer or a gold layer, more preferably a nickel layer or a gold layer, and more preferably a copper layer. By using the conductive particles having these preferable conductive layers for connection between the electrodes, the inter-electrode connection resistance is further lowered. Further, a low melting point metal layer can be formed more easily on the surface of these preferable conductive layers. The second conductive layer may be a low melting point metal layer such as a solder layer. The conductive particles may have a plurality of low melting point metal layers.
상기 저융점 금속층의 두께는 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 50 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 3 ㎛ 이하이다. 상기 저융점 금속층의 두께가 상기 하한 이상이면, 도전성이 충분히 높아진다. 상기 저융점 금속층의 두께가 상기 상한 이하이면, 수지 입자와 저융점 금속층의 열팽창율의 차가 작아지고, 저융점 금속층의 박리가 어려워진다.The thickness of the low melting point metal layer is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, still more preferably 1 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 10 μm or less, still more preferably 5 Mu m or less, particularly preferably 3 mu m or less. When the thickness of the low melting point metal layer is not lower than the lower limit, the conductivity is sufficiently high. When the thickness of the low melting point metal layer is less than the upper limit, the difference in thermal expansion coefficient between the resin particles and the low melting point metal layer becomes small, and the low melting point metal layer becomes difficult to peel off.
도전층이 저융점 금속층 이외의 도전층인 경우, 또는 도전층이 다층 구조를 갖는 경우에, 도전층의 전체 두께는 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 50 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 3 ㎛ 이하이다.When the conductive layer is a conductive layer other than the low melting point metal layer, or when the conductive layer has a multilayer structure, the total thickness of the conductive layer is preferably 0.1 占 퐉 or more, more preferably 0.5 占 퐉 or more, Mu] m or more, preferably 50 m or less, more preferably 10 m or less, further preferably 5 m or less, particularly preferably 3 m or less.
도전성 입자의 평균 입경은 바람직하게는 100 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 한층 더 바람직하게는 20 ㎛ 미만, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 10 ㎛ 이하이다. 도전성 입자의 평균 입경은 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상이다. 열 이력을 받은 경우의 접속 구조체의 접속 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서, 도전성 입자의 평균 입경은 1 ㎛ 이상, 10 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하고, 1 ㎛ 이상 4 ㎛ 이하인 것이 가장 바람직하다.The average particle diameter of the conductive particles is preferably 100 占 퐉 or less, more preferably 20 占 퐉 or less, still more preferably 20 占 퐉 or less, further preferably 15 占 퐉 or less, particularly preferably 10 占 퐉 or less. The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 占 퐉 or more, and more preferably 1 占 퐉 or more. From the viewpoint of further enhancing the connection reliability of the connection structure in the case of receiving a thermal history, the average particle diameter of the conductive particles is particularly preferably 1 m or more and 10 m or less, and most preferably 1 m or more and 4 m or less.
이방성 도전 재료에서의 도전성 입자에 적합한 크기이며, 전극 사이의 간격을 한층 더 작게 할 수 있기 때문에, 도전성 입자의 평균 입경은 1 ㎛ 내지 100 ㎛의 범위 내인 것이 특히 바람직하다.It is particularly preferable that the average particle diameter of the conductive particles is in the range of 1 to 100 mu m since the size of the conductive particles in the anisotropic conductive material is appropriate and the interval between the electrodes can be further reduced.
상기 수지 입자는 실장하는 기판의 전극 크기 또는 랜드 직경에 따라 구별하여 쓸 수 있다.The resin particles can be used in accordance with the electrode size or the land diameter of the substrate to be mounted.
상하 전극 사이를 한층 더 확실하게 접속하며, 가로 방향에 인접하는 전극 간의 단락을 한층 더 억제하는 관점에서, 도전성 입자의 평균 입경(C)의 수지 입자의 평균 입경(A)에 대한 비(C/A)는 1.0 초과이고, 바람직하게는 3.0 이하이다. 또한, 상기 수지 입자와 상기 땜납층 사이에 상기 제2 도전층이 있는 경우에, 땜납층을 제외한 도전성 입자 부분의 평균 입경(B)의 수지 입자의 평균 입경(A)에 대한 비(B/A)는 1.0 초과이고, 바람직하게는 2.0 이하이다. 또한, 상기 수지 입자와 상기 땜납층 사이에 상기 제2 도전층이 있는 경우에, 땜납층을 포함하는 도전성 입자의 평균 입경(C)의 땜납층을 제외한 도전성 입자 부분의 평균 입경(B)에 대한 비(C/B)는 1.0 초과이고, 바람직하게는 2.0 이하이다. 상기 비(B/A)가 상기 범위 내이거나, 상기 비(C/B)가 상기 범위 내이거나 하면, 상하 전극 사이를 한층 더 확실하게 접속하며, 가로 방향에 인접하는 전극 간의 단락을 한층 더 억제할 수 있다.The ratio (C / C) of the average particle diameter (C) of the conductive particles to the average particle diameter (A) of the resin particles is more preferably from the viewpoint of more reliable connection between the upper and lower electrodes and further suppressing short- A) is more than 1.0, preferably not more than 3.0. When the second conductive layer is present between the resin particles and the solder layer, the ratio (B / A) of the average particle diameter (B) of the conductive particle portion excluding the solder layer to the average particle diameter (A) ) Is more than 1.0, preferably not more than 2.0. When the second conductive layer is present between the resin particle and the solder layer, the average particle diameter (B) of the conductive particle portion excluding the solder layer of the average particle diameter (C) of the conductive particles including the solder layer The ratio (C / B) is more than 1.0, preferably not more than 2.0. When the ratio (B / A) is within the above range or the ratio (C / B) is within the above range, the upper and lower electrodes are connected more reliably and the short circuit between the electrodes adjacent in the horizontal direction is further suppressed can do.
FOB 및 FOF 용도의 도전 재료(이방성 도전 재료):Conductive material for FOB and FOF applications (anisotropic conductive material):
상기 도전 재료는 플렉시블 인쇄 기판과 유리 에폭시 기판의 접속(FOB(Film on Board)), 또는 플렉시블 인쇄 기판과 플렉시블 인쇄 기판의 접속(FOF(Film on Film))에 바람직하게 사용된다.The conductive material is preferably used for connection (FOB (Film on Board)) between a flexible printed substrate and a glass epoxy substrate, or connection (FOF (Film on Film) between a flexible printed substrate and a flexible printed substrate.
FOB 및 FOF 용도에서는, 전극이 있는 부분(라인)과 전극이 없는 부분(스페이스)의 치수인 L&S는 일반적으로 100 내지 500 ㎛이다. FOB 및 FOF 용도로 사용하는 수지 입자의 평균 입경은 10 내지 100 ㎛인 것이 바람직하다. 수지 입자의 평균 입경이 10 ㎛ 이상이면, 전극 사이에 배치되는 도전 재료 및 접속부의 두께가 충분히 두꺼워지고, 접착력이 한층 더 높아진다. 수지 입자의 평균 입경이 100 ㎛ 이하이면, 인접하는 전극 간의 단락 발생이 한층 더 어려워진다.In the FOB and FOF applications, L & S, which is a dimension of a portion (line) where an electrode exists and a portion (space) where no electrode exists, is generally 100 to 500 mu m. The average particle diameter of the resin particles used for FOB and FOF applications is preferably 10 to 100 mu m. When the average particle diameter of the resin particles is 10 m or more, the thickness of the conductive material and the connecting portion disposed between the electrodes becomes sufficiently thick, and the adhesive force is further increased. When the average particle diameter of the resin particles is 100 m or less, it is further difficult to cause short-circuiting between adjacent electrodes.
플립 칩 용도의 도전 재료(이방성 도전 재료):Conductive material for flip chip application (anisotropic conductive material):
상기 도전 재료는 플립 칩 용도에 바람직하게 사용된다.The conductive material is preferably used for flip chip applications.
플립 칩 용도에서는, 일반적으로 랜드 직경이 15 내지 80 ㎛이다. 플립 칩 용도로 사용하는 수지 입자의 평균 입경은 1 내지 15 ㎛인 것이 바람직하다. 수지 입자의 평균 입경이 1 ㎛ 이상이면, 이 수지 입자의 표면상에 배치되는 땜납층의 두께를 충분히 두껍게 할 수 있고, 전극 사이를 한층 더 확실하게 전기적으로 접속할 수 있다. 수지 입자의 평균 입경이 10 ㎛ 이하이면, 인접하는 전극 간의 단락 발생이 한층 더 어려워진다.In flip chip applications, the land diameter is generally 15 to 80 占 퐉. The average particle diameter of the resin particles used for the flip chip application is preferably 1 to 15 mu m. When the average particle diameter of the resin particles is 1 占 퐉 or more, the thickness of the solder layer disposed on the surface of the resin particle can be made sufficiently thick, and the electrodes can be electrically connected more reliably. When the average particle diameter of the resin particles is 10 m or less, occurrence of short-circuiting between adjacent electrodes becomes even more difficult.
COF용 도전 재료(이방성 도전 재료):Conductive material for COF (anisotropic conductive material):
상기 도전 재료는 반도체칩과 플렉시블 인쇄 기판의 접속(COF(Chip on Film))에 바람직하게 사용된다.The conductive material is preferably used for connection (COF (Chip on Film)) between a semiconductor chip and a flexible printed board.
COF 용도에서는, 전극이 있는 부분(라인)과 전극이 없는 부분(스페이스)의 치수인 L&S는 일반적으로 10 내지 50 ㎛이다. COF 용도로 사용하는 수지 입자의 평균 입경은 1 내지 10 ㎛인 것이 바람직하다. 수지 입자의 평균 입경이 1 ㎛ 이상이면, 이 수지 입자의 표면상에 배치되는 땜납층의 두께를 충분히 두껍게 할 수 있고, 전극 사이를 한층 더 확실하게 전기적으로 접속할 수 있다. 수지 입자의 평균 입경이 10 ㎛ 이하이면, 인접하는 전극 간의 단락 발생이 한층 더 어려워진다.In the COF application, L & S, which is a dimension of a portion (line) where the electrode is present and a portion (space) where no electrode exists, is generally 10 to 50 mu m. The average particle diameter of the resin particles used for the COF application is preferably 1 to 10 mu m. When the average particle diameter of the resin particles is 1 占 퐉 or more, the thickness of the solder layer disposed on the surface of the resin particle can be made sufficiently thick, and the electrodes can be electrically connected more reliably. When the average particle diameter of the resin particles is 10 m or less, occurrence of short-circuiting between adjacent electrodes becomes even more difficult.
상기 도전성 입자의 「평균 입경」은 수평균 입경을 나타낸다. 도전성 입자의 평균 입경은 임의의 도전성 입자 50개를 전자현미경 또는 광학현미경으로 관찰하여, 평균치를 산출함으로써 구해진다.The " average particle diameter " of the conductive particles indicates the number average particle diameter. The average particle diameter of the conductive particles is obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.
도전성 입자의 표면은 절연성 입자 등의 절연 재료, 플럭스 등에 의해 절연 처리될 수도 있다. 절연성 재료, 플럭스 등은 접속시의 열에 의해 연화, 유동함으로써 접속부에서 배제되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 전극 간의 단락 발생을 억제할 수 있다.The surface of the conductive particles may be insulated by an insulating material such as insulating particles, a flux, or the like. The insulating material, flux and the like are preferably removed from the connecting portion by softening and flowing by heat at the time of connection. Accordingly, it is possible to suppress the occurrence of a short circuit between the electrodes.
상기 도전성 입자의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 경화성 조성물 100 중량% 중, 상기 도전성 입자의 함유량은 바람직하게는 0.1 중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.5 중량% 이상, 바람직하게는 40 중량% 이하, 보다 바람직하게는 20 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 15 중량% 이하이다. 상기 도전성 입자의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 접속되어야하는 상하 전극 사이에 도전성 입자를 용이하게 배치할 수 있다. 또한, 접속되어서는 안 되는 인접하는 전극 사이가 복수의 도전성 입자를 통해 전기적으로 접속되기 어려워진다. 즉, 인접하는 전극 간의 단락을 방지할 수 있다.The content of the conductive particles is not particularly limited. The content of the conductive particles in 100 wt% of the curable composition is preferably 0.1 wt% or more, more preferably 0.5 wt% or more, preferably 40 wt% or less, more preferably 20 wt% or less, Is not more than 15% by weight. When the content of the conductive particles is not less than the lower limit and not more than the upper limit, conductive particles can be easily disposed between the upper and lower electrodes to be connected. Further, it is difficult for the adjacent electrodes, which should not be connected, to be electrically connected through the plurality of conductive particles. That is, it is possible to prevent a short circuit between adjacent electrodes.
(경화성 조성물의 용도)(Uses of Curable Composition)
본 발명에 따른 경화성 조성물은 여러 가지 접속 대상 부재를 접착하기 위해서 사용할 수 있다.The curable composition according to the present invention can be used for bonding various members to be connected.
본 발명에 따른 경화성 조성물이 도전성 입자를 포함하는 도전 재료인 경우, 상기 도전 재료는 도전 페이스트 또는 도전 필름 등으로서 사용될 수 있다. 도전 재료가 도전 필름으로서 사용되는 경우, 도전성 입자를 함유하는 상기 도전 필름에, 도전성 입자를 함유하지 않은 필름이 적층될 수도 있다. 또한, 필름에는 시트가 포함된다. 본 발명에 따른 경화성 조성물은 페이스트상의 도전 페이스트인 것이 바람직하다. 상기 도전 페이스트는 이방성 도전 페이스트인 것이 바람직하다. 상기 도전 필름은 이방성 도전 필름인 것이 바람직하다.When the curable composition according to the present invention is a conductive material containing conductive particles, the conductive material may be used as a conductive paste or a conductive film. When the conductive material is used as the conductive film, a film not containing the conductive particles may be laminated on the conductive film containing the conductive particles. The film also includes a sheet. The curable composition according to the present invention is preferably a paste-like conductive paste. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.
상기 도전 재료는 제1, 제2 접속 대상 부재가 전기적으로 접속되어 있는 접속 구조체를 얻기 위해서 바람직하게 사용된다.The conductive material is preferably used to obtain a connection structure in which the first and second connection target members are electrically connected.
도 1에 본 발명의 일 실시형태에 따른 경화성 조성물을 사용한 접속 구조체의 일례를 모식적으로 단면도로 나타낸다.1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a connection structure using a curable composition according to an embodiment of the present invention.
도 1에 나타내는 접속 구조체(1)는 제1 접속 대상 부재(2)와, 제2 접속 대상 부재(4)와, 제1, 제2 접속 대상 부재(2, 4)를 접속하고 있는 접속부(3)를 구비한다. 접속부(3)는 도전성 입자(5)를 포함하는 경화성 조성물, 즉 도전 재료를 경화시킴으로써 형성된다.The
제1 접속 대상 부재(2)는 상면(2a)(표면)에 복수의 전극(2b)을 갖는다. 제2 접속 대상 부재(4)는 하면(4a)(표면)에 복수의 전극(4b)을 갖는다. 전극(2b)과 전극(4b)이 1개 또는 복수의 도전성 입자(5)에 의해 전기적으로 접속되어 있다. 따라서, 제1, 제2 접속 대상 부재(2, 4)가 도전성 입자(5)에 의해 전기적으로 접속되어 있다.The first
본 발명에 따른 경화성 조성물은 페이스트상의 도전 페이스트이고, 페이스트 상태에서 제1 접속 대상 부재 상에 도포되는 도전 페이스트인 것이 바람직하다.Preferably, the curable composition according to the present invention is a paste-like conductive paste, and is a conductive paste to be applied on the first connection target member in a paste state.
상기 제1, 제2 접속 대상 부재는 특별히 한정되지 않는다. 상기 제1, 제2 접속 대상 부재로는 구체적으로는, 반도체칩, 콘덴서 및 다이오드 등의 전자 부품, 및 인쇄 기판, 플렉시블 인쇄 기판 및 유리 기판 등의 회로 기판 등과 같은 전자 부품 등을 들 수 있다. 제1, 제2 접속 대상 부재는 전자 부품인 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 경화성 조성물은 전자 부품을 접속하기 위한 경화성 조성물이 바람직하다.The first and second connection target members are not particularly limited. Specific examples of the first and second connection target members include electronic parts such as semiconductor chips, capacitors and diodes, and electronic parts such as printed boards, flexible printed boards and circuit boards such as glass boards. The first and second connection target members are preferably electronic parts. The curable composition according to the present invention is preferably a curable composition for connecting electronic components.
상기 접속 구조체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 접속 구조체의 제조 방법의 일례로서, 제1 접속 대상 부재와 제2 접속 대상 부재 사이에 상기 경화성 조성물을 배치하여 적층체를 얻은 후, 이 적층체를 가열 및 가압하는 방법 등을 들 수 있다.The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of a manufacturing method of the connection structure, there is a method of arranging the curable composition between the first connection object member and the second connection object member to obtain a laminate, and then heating and pressing the laminate.
또한, 상기 경화성 조성물은 도전성 입자를 포함하지 않을 수도 있다. 이 경우에는, 제1, 제2 접속 대상 부재를 전기적으로 접속하는 일 없이, 제1, 제2 접속 대상 부재를 접착하여 접속하기 위해서, 상기 경화성 조성물이 사용된다.In addition, the curable composition may not contain conductive particles. In this case, the curable composition is used so that the first and second connection target members are bonded and connected without electrically connecting the first and second connection target members.
본 발명에 따른 경화성 조성물이 도전 재료인 경우에, 상기 도전 재료는 예를 들면, 플렉시블 인쇄 기판과 유리 기판의 접속(FOG(Film on Glass)), 반도체칩과 플렉시블 인쇄 기판의 접속(COF(Chip on Film)), 반도체칩과 유리 기판의 접속(COG(Chip on Glass)), 또는 플렉시블 인쇄 기판과 유리 에폭시 기판의 접속(FOB(Film on Board)) 등에 사용할 수 있다. 그 중에서도, 상기 도전 재료는 FOG 용도 또는 COG 용도에 바람직하고, COG 용도에 더욱 바람직하다. 본 발명에 따른 경화성 조성물은 플렉시블 인쇄 기판과 유리 기판의 접속, 또는 반도체칩과 플렉시블 인쇄 기판의 접속에 사용되는 도전 재료인 것이 바람직하고, 반도체칩과 플렉시블 인쇄 기판의 접속에 사용되는 도전 재료인 것이 보다 바람직하다.In the case where the curable composition according to the present invention is a conductive material, the conductive material may be, for example, a flexible printed board and a glass substrate (FOG), a semiconductor chip and a flexible printed board on Film), connection between a semiconductor chip and a glass substrate (COG (Chip on Glass)), or connection between a flexible printed substrate and a glass epoxy substrate (FOB (Film on Board)). Among these, the conductive material is preferable for FOG application or COG application, and more preferable for COG application. The curable composition according to the present invention is preferably a conductive material used for connection between a flexible printed board and a glass substrate or for connection between a semiconductor chip and a flexible printed board and is preferably a conductive material used for connection between a semiconductor chip and a flexible printed board More preferable.
본 발명에 따른 접속 구조체로는 상기 제2 접속 대상 부재 및 상기 제1 접속 대상 부재로서, 플렉시블 인쇄 기판과 유리 기판을 사용하거나, 또는 반도체칩과 유리 기판을 사용하는 것이 바람직하고, 반도체칩과 유리 기판을 사용하는 것이 보다 바람직하다.As the connection structure according to the present invention, it is preferable that a flexible printed substrate and a glass substrate are used as the second connection target member and the first connection target member, or a semiconductor chip and a glass substrate are used, It is more preferable to use a substrate.
FOG 용도로는 L/S가 비교적 넓기 때문에, 도전성 입자의 입경도 크고 농도도 낮아서 접속시의 압력이 낮고, 충분한 압흔이나 수지 충전성이 얻어지지 않고, 전극 사이의 도통 신뢰성 및 경화물층에서의 공극(보이드) 발생이 문제가 되는 경우가 많다. 이에 대하여, 본 발명에 따른 경화성 조성물의 사용에 의해, FOG 용도에서, 전극 사이의 도통 신뢰성을 효과적으로 높일 수 있고, 경화물층에서의 공극(보이드) 발생을 효과적으로 억제하는 것이 가능하다.In the FOG application, since the L / S is relatively wide, the particle diameter of the conductive particles is large and the concentration is low, so that the pressure at the time of connection is low, sufficient indentation and resin filling property can not be obtained, Voids (voids) are often a problem. On the other hand, by using the curable composition according to the present invention, it is possible to effectively increase the conduction reliability between the electrodes in the FOG application, and to effectively suppress the occurrence of voids (voids) in the cured layer.
COG 용도로는 L/S가 비교적 좁은 피치인 점에서, 도전 재료를 가열했을 때의 유동성이 부족하면 전극 라인 사이에 도전 재료가 충분히 충전되지 않기 때문에, 전극사이의 도통 신뢰성 및 경화물층에서의 공극 발생이 문제가 되는 경우가 많다. 이에 대하여, 본 발명에 따른 경화성 조성물의 사용에 의해, COG 용도에서, 전극 사이의 도통 신뢰성을 효과적으로 높일 수 있고, 경화물층에서의 공극 발생을 효과적으로 억제하는 것이 가능하다.In COG applications, since the L / S is a relatively narrow pitch, the conductive material is not sufficiently filled between the electrode lines when the conductive material is heated to a low degree of fluidity. Therefore, Pore generation is often a problem. On the other hand, by using the curable composition according to the present invention, it is possible to effectively increase conduction reliability between electrodes in the use of COG, and to effectively suppress the generation of voids in the cured layer.
이하, 본 발명에 대해서 실시예 및 비교예를 예로 들어 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이하의 실시예에만 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.
또한, 이하의 합성예에서 얻은 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정된 폴리스티렌 환산으로 나타낸 중량 평균 분자량이다.The weight average molecular weight of the epoxy compound obtained in the following synthesis example is the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
또한, 이하의 실시예에서 얻은 에폭시 화합물의 혼합물 및 경화성 조성물의 점도는 점도 측정 장치(토키 산교 가부시키가이샤 제조)를 사용하여 측정된 23℃ 및 2.5 rpm에서의 점도를 나타낸다.In addition, the viscosity of the mixture of the epoxy compound and the curable composition obtained in the following Examples show the viscosity measured at 23 캜 and 2.5 rpm using a viscosity measuring apparatus (manufactured by Toki Sangyo K.K.).
(합성예 1)(Synthesis Example 1)
(1)비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물의 합성:(1) Synthesis of first reaction product of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether:
비스페놀 F(4,4'-메틸렌비스페놀과, 2,4'-메틸렌비스페놀과, 2,2'-메틸렌비스페놀을 중량비로 31:52:17로 포함) 72 중량부, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 100 중량부 및 트리페닐포스핀 1 중량부를 3구 플라스크에 넣고, 150℃에서 용해시켰다. 그 후, 180℃에서 6시간 부가 중합 반응시킴으로써 제1 반응물을 얻었다.72 parts by weight of bisphenol F (including 4,4'-methylene bisphenol, 2,4'-methylene bisphenol and 2,2'-methylene bisphenol in a weight ratio of 31:52:17), 1,6-hexane diol di 100 parts by weight of glycidyl ether and 1 part by weight of triphenylphosphine were placed in a three-necked flask and dissolved at 150 占 폚. Thereafter, an addition polymerization reaction was carried out at 180 DEG C for 6 hours to obtain a first reaction product.
부가 중합 반응이 진행한 것을 확인하여, 제1 반응물이, 비스페놀 F에서 유래하는 골격과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위를 주쇄에 가지며, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the addition polymerization reaction had proceeded so that the first reactant had a structural unit in which a skeleton derived from bisphenol F and a skeleton derived from 1,6-hexanediol diglycidylether were bonded, It was confirmed that epoxy groups derived from hexanediol diglycidyl ether were present at both terminals.
(2)상기 제1 반응물과 아크릴산을 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:(2) Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the first reactant with acrylic acid:
얻어진 제1 반응물 100 중량부와 아크릴산 4 중량부를 배합하여, 80℃까지 승온하였다. 승온 후, 촉매인 디메시틸암모늄펜타플루오로벤젠술포네이트 1 중량부를 넣어, 4시간 축합 반응시킴으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.100 parts by weight of the obtained first reaction product and 4 parts by weight of acrylic acid were mixed and the temperature was raised to 80 캜. After elevating the temperature, 1 part by weight of dimethyisilylammonium pentafluorobenzenesulfonate as a catalyst was added and condensation reaction was carried out for 4 hours to have an epoxy group at both ends, and a vinyl group in the side chain was added to the total number of hydroxyl groups before the reaction of 20% To obtain an epoxy compound.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 8,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개만으로, 아크릴산 유래의 저분자는 관찰되지 않았다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 아크릴산이 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 8,000. The obtained epoxy compound had only one peak in the molecular weight distribution, and no acrylic acid-derived low molecular weight was observed. Further, it was confirmed by NMR that acrylic acid reacted with the hydroxyl group and 20% of the vinyl group was introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 2)(Synthesis Example 2)
합성예 1에서 얻은 상기 제1 반응물과 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the first reactant obtained in Synthesis Example 1 with 2-methacryloyloxyethyl isocyanate:
합성예 1에서 얻은 상기 제1 반응물 100 중량부와, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 4 중량부와 라우르산디부틸주석 0.3 중량부를 배합한 후, 80℃에서 4시간 부가 반응시킴으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.100 parts by weight of the first reaction product obtained in Synthesis Example 1, 4 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and 0.3 parts by weight of dibutyl tin laurate were combined and then subjected to an addition reaction at 80 DEG C for 4 hours, And an epoxy compound having a vinyl group in the side chain of 20% with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction was obtained.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 12,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개만으로, 메타크릴산 화합물 유래의 저분자에 대한 피크는 관찰되지 않았다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 12,000. The peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound was only one, and no peak for the low molecular weight derived from the methacrylic acid compound was observed. Further, it was confirmed by NMR that 2-methacryloyloxyethyl isocyanate reacted with the hydroxyl group and 20% of the vinyl groups were introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 3)(Synthesis Example 3)
합성예 1에서 얻은 상기 제1 반응물과 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the first reactant obtained in Synthesis Example 1 with 4-hydroxybutyl glycidyl ether:
합성예 1에서 얻은 상기 제1 반응물 100 중량부와, 4-히드록시부틸글리시딜에테르 4 중량부와, 디메시틸암모늄펜타플루오로벤젠술포네이트 0.2 중량부를 배합한 후, 80℃에서 4시간 축합 반응시킴으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 에폭시기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.100 parts by weight of the first reaction product obtained in Synthesis Example 1, 4 parts by weight of 4-hydroxybutyl glycidyl ether and 0.2 parts by weight of dimethyisilylammonium pentafluorobenzenesulfonate were blended, An epoxy compound having an epoxy group at both terminals and having an epoxy group in the side chain of 20% with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction was obtained.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 12,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개만으로, 4-히드록시부틸글리시딜에테르 화합물 유래의 저분자에 대한 피크는 관찰되지 않았다. 또한, 축합 반응이 진행한 것을 확인하여, 수산기에 4-히드록시부틸글리시딜에테르가 반응하여, 측쇄에 에폭시기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 12,000. There was only one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound, and no peak for the low molecular weight derived from the 4-hydroxybutyl glycidyl ether compound was observed. Further, it was confirmed that the condensation reaction proceeded, and it was confirmed that 4-hydroxybutyl glycidyl ether reacted with the hydroxyl group and 20% of the epoxy group was introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 4)(Synthesis Example 4)
(1)레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물의 합성:(1) Synthesis of second reactant of resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether:
레조르시놀 48 중량부, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 100 중량부, 및 트리페닐포스핀 1 중량부를 3구 플라스크에 넣고, 150℃에서 용해시켰다. 그 후, 180℃에서 6시간 부가 중합 반응시킴으로써 제2 반응물을 얻었다.48 parts by weight of resorcinol, 100 parts by weight of 1,6-hexanediol diglycidyl ether and 1 part by weight of triphenylphosphine were placed in a three-necked flask and dissolved at 150 占 폚. Thereafter, an addition polymerization reaction was carried out at 180 DEG C for 6 hours to obtain a second reaction product.
부가 중합 반응이 진행한 것을 확인하여, 제2 반응물이, 레조르시놀에서 유래하는 골격과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위를 주쇄에 가지며, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the addition polymerization reaction proceeded, and the second reactant had a structural unit in which a skeleton derived from resorcinol and a skeleton derived from 1,6-hexanediol diglycidylether were bonded to each other in the main chain, and 1,6 -Hexanediol diglycidyl ether at both ends of the copolymer.
(2)상기 제2 반응물과 아크릴산을 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:(2) Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the second reactant with acrylic acid:
상기 제1 반응물 대신에 얻어진 상기 제2 반응물을 사용하고, 합성예 1과 동일하게 하여 축합 반응함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.A condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 using the obtained second reactant instead of the first reactant to obtain an epoxy resin having an epoxy group at both terminals and a vinyl group in the side chain in an amount of 20% To obtain an epoxy compound.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 15,000이고, 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개 존재하였다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 아크릴산이 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 15,000, and one peak was present in the molecular weight distribution of the epoxy compound. It was also confirmed by NMR that acrylic acid was reacted with the hydroxyl group to introduce the vinyl group into the side chain at 20% with respect to the total number of hydroxyl groups before the reaction of 100%.
(합성예 5)(Synthesis Example 5)
합성예 4에서 얻은 상기 제2 반응물과 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the second reactant obtained in Synthesis Example 4 with 4-hydroxybutyl glycidyl ether:
상기 제1 반응물 대신에 합성예 4에서 얻은 상기 제2 반응물을 사용하여, 합성예 3과 같은 방법으로 축합 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 에폭시기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.Using the second reactant obtained in Synthesis Example 4 instead of the first reactant, a condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 3 to obtain a compound having an epoxy group at both terminals, an epoxy group in the side chain, and a total number of hydroxyl groups To obtain an epoxy compound having 20% based on 100%.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 15,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개 존재하였다. 또한, NMR에 의해, 4-히드록시부틸글리시딜에테르가 축합 반응하여, 측쇄에 에폭시기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 15,000. There was one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound. Further, it was confirmed by NMR that 4-hydroxybutyl glycidyl ether undergoes a condensation reaction to introduce an epoxy group into the side chain in an amount of 20% based on 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 6)(Synthesis Example 6)
합성예 4에서 얻은 상기 제2 반응물과 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the second reactant obtained in Synthesis Example 4 with 2-methacryloyloxyethyl isocyanate:
상기 제1 반응물 대신에 합성예 4에서 얻은 상기 제2 반응물을 사용하여, 합성예 2와 같은 방법으로 부가 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.The second reaction product obtained in Synthesis Example 4 was used in place of the first reaction product to carry out an addition reaction in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound having an epoxy group at both terminals and a vinyl group in the side chain and a total number of hydroxyl groups To obtain an epoxy compound having 20% based on 100%.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 15,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개 존재하였다. 또한, 부가 반응에 의해, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 15,000. There was one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound. Further, it was confirmed by the addition reaction that 2-methacryloyloxyethyl isocyanate reacted, and the vinyl group was introduced into the side chain in an amount of 20% based on 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 7)(Synthesis Example 7)
(1)레조르시놀과 레조르시놀디글리시딜에테르의 제3 반응물의 합성:(1) Synthesis of a third reactant of resorcinol and resorcinol diglycidyl ether:
레조르시놀 33 중량부, 레조르시놀디글리시딜에테르 100 중량부, 및 트리페닐포스핀 1 중량부를 3구 플라스크에 넣고, 150℃에서 용해시켰다. 그 후, 180℃에서 6시간 부가 중합 반응시킴으로써 제3 반응물을 얻었다.33 parts by weight of resorcinol, 100 parts by weight of resorcinol diglycidyl ether and 1 part by weight of triphenylphosphine were placed in a three-necked flask and dissolved at 150 占 폚. Thereafter, an addition polymerization reaction was carried out at 180 DEG C for 6 hours to obtain a third reaction product.
부가 중합 반응이 진행한 것을 확인하여, 제3 반응물이, 레조르시놀에서 유래하는 골격과 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위를 주쇄에 가지며, 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the addition polymerization reaction had proceeded so that the third reactant had a structural unit in which a skeleton derived from resorcinol and a skeleton derived from resorcinol diglycidylether were bonded to each other in the main chain and resorcinol diglycidyl ether Having epoxy groups at both terminals.
(2)상기 제3 반응물과 아크릴산을 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:(2) Synthesis of an epoxy compound reacting the third reactant with acrylic acid:
상기 제1 반응물 대신에 얻어진 상기 제3 반응물을 사용하여, 합성예 1과 같은 방법으로 축합 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.Using the obtained third reactant instead of the first reactant, a condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a compound having an epoxy group at both terminals and a vinyl group in the side chain in a proportion of 100% To obtain an epoxy compound having 20%.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 11,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개 존재하였다. 또한, 축합 반응에 의해, 수산기에 아크릴산이 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 11,000. There was one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound. Further, it was confirmed that acrylic acid reacted with the hydroxyl group by the condensation reaction, and the vinyl group was introduced into the side chain by 20% with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 8)(Synthesis Example 8)
합성예 7에서 얻은 상기 제3 반응물과 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 반응시킨 비닐 화합물의 합성:Synthesis of the vinyl compound obtained by reacting the third reactant obtained in Synthesis Example 7 with 2-methacryloyloxyethyl isocyanate:
상기 제1 반응물 대신에 합성예 7에서 얻은 상기 제3 반응물을 사용하여, 합성예 2와 같은 방법으로 부가 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.The third reaction product obtained in Synthesis Example 7 was used in place of the first reaction product to carry out an addition reaction in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound having an epoxy group at both ends and a vinyl group in the side chain and a total number of hydroxyl groups To obtain an epoxy compound having 20% based on 100%.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 11,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서 피크는 1개 존재하였다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 11,000. There was one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound. Further, it was confirmed by NMR that 2-methacryloyloxyethyl isocyanate reacted with the hydroxyl group and 20% of the vinyl groups were introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 9)(Synthesis Example 9)
합성예 7에서 얻은 상기 제3 반응물과 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the third reactant obtained in Synthesis Example 7 with 4-hydroxybutyl glycidyl ether:
상기 제1 반응물 대신에 합성예 7에서 얻은 상기 제3 반응물을 사용하여, 합성예 3과 같은 방법으로 축합 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 에폭시기를, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.Using the third reactant obtained in Synthesis Example 7 instead of the first reactant, a condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 3 to obtain a compound having an epoxy group at both terminals, an epoxy group in the side chain, and a total number of hydroxyl groups To obtain an epoxy compound having 20% based on 100%.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 11,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개 존재하였다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 4-히드록시부틸글리시딜에테르가 반응하여, 측쇄에 에폭시기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 20% 도입된 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 11,000. There was one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound. Further, by NMR, it was confirmed that 4-hydroxybutyl glycidyl ether reacted with the hydroxyl group and 20% of the epoxy group was introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(실시예 1)(Example 1)
합성예 1에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 2에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(1)을 얻었다. 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(1)의 점도는 320 Pa·s였다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 1 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 2 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (1) of an epoxy compound. The viscosity of the obtained mixture (1) of the epoxy compound was 320 Pa · s.
다음으로, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(1) 33 중량부에, 열 경화제인 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부와, 경화 촉진제인 2-에틸-4-메틸이미다졸 1 중량부와, 광경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」) 5 중량부와, 광 중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」) 0.1 중량부와, 충전재인 평균 입경 0.25 ㎛의 실리카 20 중량부 및 평균 입경 0.5 ㎛의 알루미나 20 중량부와, 평균 입경 3 ㎛의 도전성 입자 2 중량부를 첨가하고, 유성식 교반기를 사용하여 2000 rpm에서 5분간 교반함으로써, 이방성 도전 페이스트인 경화성 조성물(1)을 얻었다. 또한, 사용한 도전성 입자는 디비닐벤젠 수지 입자의 표면에 니켈 도금층이 형성되어 있으며, 상기 니켈 도금층의 표면에 금 도금층이 형성되어 있는 금속층을 갖는 도전성 입자이다. 얻어진 경화성 조성물(1)의 점도는 350 Pa·s였다.Next, to 33 parts by weight of the obtained mixture (1) of the epoxy compound (1), 20 parts by weight of pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate as a heat curing agent and 20 parts by weight of a curing accelerator 2-ethyl- , 5 parts by weight of a photo-curing compound epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec Industries, Inc.), and 5 parts by weight of an acylphosphine oxide-based compound (DAROCUR manufactured by Shiba, Japan K.K. TPO "), 20 parts by weight of silica having an average particle diameter of 0.25 mu m as a filler, 20 parts by weight of alumina having an average particle diameter of 0.5 mu m and 2 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 3 mu m were added, The mixture was stirred at rpm for 5 minutes to obtain an anisotropic conductive paste (1). The conductive particles used are conductive particles having a nickel plating layer formed on the surface of the divinylbenzene resin particle and a metal layer having a gold plating layer formed on the surface of the nickel plating layer. The viscosity of the obtained curable composition (1) was 350 Pa · s.
(실시예 2)(Example 2)
합성예 2에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 3에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(2)을 얻었다. 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(2)의 점도는 300 Pa·s였다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 2 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 3 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (2) of an epoxy compound. The obtained mixture (2) of the epoxy compound had a viscosity of 300 Pa · s.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(2)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(2)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(2)의 점도는 340 Pa·s였다.The curable composition (2) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (2) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (2) was 340 Pa · s.
(실시예 3)(Example 3)
합성예 3에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 4에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(3)을 얻었다. 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(3)의 점도는 280 Pa·s였다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 3 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 4 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (3) of an epoxy compound. The obtained mixture (3) of the epoxy compound had a viscosity of 280 Pa · s.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(3)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(3)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(3)의 점도는 310 Pa·s였다.The curable composition (3) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (3) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (3) was 310 Pa s.
(실시예 4)(Example 4)
합성예 4에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 5에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(4)을 얻었다. 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(4)의 점도는 330 Pa·s였다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 4 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 5 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (4) of an epoxy compound. The obtained mixture (4) of the epoxy compound had a viscosity of 330 Pa · s.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(4)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(4)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(4)의 점도는 360 Pa·s였다.A curable composition (4) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (4) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (4) was 360 Pa · s.
(실시예 5)(Example 5)
합성예 5에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 6에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(5)을 얻었다. 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(5)의 점도는 260 Pa·s였다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 5 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 6 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (5) of an epoxy compound. The obtained mixture (5) of the epoxy compound had a viscosity of 260 Pa · s.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(5)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(5)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(5)의 점도는 290 Pa·s였다.The curable composition (5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (5) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (5) was 290 Pa 占 퐏.
(실시예 6)(Example 6)
펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부와 2-에틸-4-메틸이미다졸 1 중량부를, 양이온 경화제(선에이드 Si-60(산신 카가쿠 가부시키가이샤 제조) 0.6 중량부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(6)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(6)의 점도는 180 Pa·s였다.20 parts by weight of pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate and 1 part by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole were dissolved in a mixture of 0.6 weight of cationic curing agent (Sun Aid Si-60 (manufactured by Sanzuka Chemical Co., Ltd.) , The curable composition (6) was obtained in the same manner as in Example 1. The viscosity of the obtained curable composition (6) was 180 Pa · s.
(실시예 7)(Example 7)
펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부를, 아민 경화제인 에틸렌디아민 20 중량부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(7)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(7)의 점도는 150 Pa·s였다.Curable composition (7) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight of pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate was changed to 20 parts by weight of ethylenediamine as an amine curing agent. The viscosity of the obtained curable composition (7) was 150 Pa · s.
(실시예 8)(Example 8)
광 경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」) 5 중량부를, 광 경화성 화합물인 우레탄아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL8804」) 5 중량부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(8)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(8)의 점도는 280 Pa·s였다., 5 parts by weight of an epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.) as a photo-curing compound, and 5 parts by weight of a photo-curing compound urethane acrylate (EBECRYL8804 manufactured by Daicel- , A curable composition (8) was obtained in the same manner as in Example 1. The viscosity of the obtained curable composition (8) was 280 Pa · s.
(실시예 9)(Example 9)
광 경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」)와 광 중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」)을 배합하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(9)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(9)의 점도는 260 Pa·s였다.Except that an epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec Industries, Inc.) and an acylphosphine oxide-based compound (DAROCUR TPO, manufactured by Shiba Japan K.K.) were not blended A curable composition (9) was obtained in the same manner as in Example 1. The viscosity of the obtained curable composition (9) was 260 Pa · s.
(실시예 10)(Example 10)
광 경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」)와 광 중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」)을 배합하지 않은 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여, 경화성 조성물(10)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(10)의 점도는 310 Pa·s였다.Except that an epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec Industries, Inc.) and an acylphosphine oxide-based compound (DAROCUR TPO, manufactured by Shiba Japan K.K.) were not blended In the same manner as in Example 2, a curable composition (10) was obtained. The viscosity of the obtained curable composition (10) was 310 Pa · s.
(비교예 1)(Comparative Example 1)
비스페놀 A형 에폭시 수지 33 중량부와, 열 경화제인 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부와, 경화 촉진제인 2-에틸-4-메틸이미다졸 1 중량부와, 광 경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」) 5 중량부와, 광 중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」) 0.1 중량부와, 충전재인 평균 입경 0.25 ㎛의 실리카 20 중량부 및 평균 입경 0.5 ㎛의 알루미나 20 중량부와, 평균 입경 3 ㎛의 도전성 입자 2 중량부를 첨가하고, 유성식 교반기를 사용하여 2,000 rpm에서 5분간 교반함으로써, 이방성 도전 페이스트인 경화성 조성물을 얻었다.33 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin, 20 parts by weight of pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate as a heat curing agent, 1 part by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator, , 5 parts by weight of an epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.) as a curing compound and 0.1 part by weight of an acylphosphine oxide-based compound (DAROCUR TPO manufactured by Shiba Japan K.K.) 20 parts by weight of silica having an average particle diameter of 0.25 mu m as a filler, 20 parts by weight of alumina having an average particle diameter of 0.5 mu m and 2 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 3 mu m were added and stirred at 2,000 rpm for 5 minutes using a planetary stirrer To obtain a curable composition which is an anisotropic conductive paste.
(비교예 2)(Comparative Example 2)
광 경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」)와 광 중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」)을 배합하지 않은 것 이외에는 비교예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물을 얻었다.Except that an epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec Industries, Inc.) and an acylphosphine oxide-based compound (DAROCUR TPO, manufactured by Shiba Japan K.K.) were not blended In the same manner as in Comparative Example 1, a curable composition was obtained.
(실시예 1 내지 10, 및 비교예 1 및 2의 평가)(Evaluation of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2)
(1) 경화시간 1(1)
L/S가 10 ㎛/10 ㎛인 ITO 전극 패턴을 상면에 갖는 투명 유리 기판을 준비하였다. 또한, L/S가 10 ㎛/10 ㎛인 금 전극 패턴을 하면에 갖는 반도체칩을 준비하였다.A transparent glass substrate having an ITO electrode pattern having an L / S of 10 mu m / 10 mu m on its upper surface was prepared. In addition, a semiconductor chip having a gold electrode pattern having a L / S of 10 占 퐉 / 10 占 퐉 was prepared.
상기 투명 유리 기판상에, 얻어진 경화성 조성물을 두께 30 ㎛가 되게 도공하고, 더욱 UV광을 조사함으로써 (메트)아크릴 수지를 경화시켜, 경화성 조성물층을 형성하였다. 다음으로, 경화성 조성물층 상에 상기 반도체칩을, 전극끼리 서로 대향하여 접속하도록 적층하였다. 그 후, 경화성 조성물층의 온도가 150℃가 되게 가열 헤드의 온도를 조정하면서, 반도체칩의 상면에 가열 헤드를 올려놓고, 경화성 조성물층을 150℃에서 경화시켜, 접속 구조체 A를 얻었다. 이 접속 구조체를 얻을 때에, 가열에 의해 경화성 조성물층이 경화하기까지의 시간을 측정하였다.The (meth) acrylic resin was cured on the transparent glass substrate by coating the obtained curable composition to a thickness of 30 占 퐉 and further irradiating with UV light to form a curable composition layer. Next, the semiconductor chip was laminated on the curable composition layer so that the electrodes were connected to each other so as to be opposed to each other. Thereafter, the heating head was placed on the upper surface of the semiconductor chip while the temperature of the heating head was adjusted so that the temperature of the curable composition layer became 150 ° C, and the curable composition layer was cured at 150 ° C to obtain a connection structure A. The time required for curing of the curable composition layer by heating when the connection structure was obtained was measured.
(2) 경화시간 2(2)
L/S가 10 ㎛/10 ㎛인 ITO 전극 패턴을 상면에 갖는 투명 유리 기판을 준비하였다. 또한, L/S가 10 ㎛/10 ㎛인 금 전극 패턴을 하면에 갖는 반도체칩을 준비하였다.A transparent glass substrate having an ITO electrode pattern having an L / S of 10 mu m / 10 mu m on its upper surface was prepared. In addition, a semiconductor chip having a gold electrode pattern having a L / S of 10 占 퐉 / 10 占 퐉 was prepared.
상기 투명 유리 기판상에, 얻어진 경화성 조성물을 두께 30 ㎛가 되게 도공하고, 경화성 조성물층을 형성하였다. 다음으로, 경화성 조성물층 상에 상기 반도체칩을, 전극끼리 서로 대향하여 접속하도록 적층하였다. 그 후, 경화성 조성물층의 온도가 150℃가 되게 가열 헤드의 온도를 조정하면서, 반도체칩의 상면에 가열 헤드를 올려놓고, 경화성 조성물층을 150℃에서 경화시켜, 접속 구조체 B를 얻었다. 이 접속 구조체를 얻을 때에, 가열에 의해 경화성 조성물층이 경화하기까지의 시간을 측정하였다.The obtained curable composition was coated on the transparent glass substrate to a thickness of 30 占 퐉 to form a curable composition layer. Next, the semiconductor chip was laminated on the curable composition layer so that the electrodes were connected to each other so as to be opposed to each other. Thereafter, the heating head was placed on the upper surface of the semiconductor chip while adjusting the temperature of the heating head so that the temperature of the curable composition layer was 150 ° C, and the curable composition layer was cured at 150 ° C to obtain a connection structure B. The time required for curing of the curable composition layer by heating when the connection structure was obtained was measured.
(3)접착성(3) Adhesiveness
상기 (1)경화시간 1 및 상기 (2)경화시간 2의 평가로 얻어진 접속 구조체 A, B를 사용하여, 필(peel) 강도를 측정함으로써 접착성을 평가하였다. 접착성을 하기 기준으로 판정하였다.The adhesiveness was evaluated by measuring the peel strength using the connection structures A and B obtained by the evaluation of (1) the
[접착성 판정 기준][Evaluation criteria for adhesiveness]
○: 8 N/cm 이상○: 8 N / cm or more
×: 8 N/cm 미만X: less than 8 N / cm
(4)내습성(4) Moisture resistance
상기 (1)경화시간 1 및 상기 (2)경화시간 2의 평가로 얻어진 접속 구조체 A, B(각각 15개)를 85℃ 및 85% RH의 조건으로 1,000시간 방치한 후, 도통성을 평가하였다. 접속 구조체 A, B에서 20개소의 저항치를 4 단자법으로 평가하였다. 도통 신뢰성을 하기 기준으로 판정하였다.The connection structures A and B (15 pieces each) obtained by the evaluation of the above-mentioned (1)
[내습성 판정 기준][Criteria for moisture resistance evaluation]
○: 모든 개소에서 저항치가 3Ω 이하임○: Resistance value is less than 3Ω at all points
×: 전혀 도통하지 않은 개소가 1개소 이상 있음X: At least one portion not conducting at all
(5)공극의 유무(5) presence or absence of voids
상기 (1)경화시간 1 및 상기 (2)경화시간 2의 평가로 얻어진 접속 구조체 A, B에서, 경화성 조성물층에 의해 형성된 경화물층에 공극이 생겼는지의 여부를, 투명 유리 기판의 하면측에서 육안으로 관찰하였다.Whether or not voids were formed in the cured layer formed by the curable composition layer in the connection structures A and B obtained by the evaluation of (1) the
결과를 하기 표 1에 나타내었다.The results are shown in Table 1 below.
(합성예 10)(Synthesis Example 10)
(1)비스페놀 F와 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제1 반응물의 합성:(1) Synthesis of first reaction product of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether:
비스페놀 F(4,4'-메틸렌비스페놀과, 2,4'-메틸렌비스페놀과, 2,2'-메틸렌비스페놀을 중량비로 31:52:17로 포함) 72 중량부를, 비스페놀 F(4,4'-메틸렌비스페놀과, 2,4'-메틸렌비스페놀과, 2,2'-메틸렌비스페놀을 중량비로 31:52:17로 포함) 64 중량부와 비스페놀 F 골격을 가지며 3 이상의 핵을 갖는 다핵체(3핵체와 4 이상의 핵을 갖는 다핵체를 중량비로 9:2로 포함) 8 중량부의 혼합물 72 중량부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 제1 반응물을 얻었다.72 parts by weight of bisphenol F (including 4,4'-methylene bisphenol, 2,4'-methylene bisphenol and 2,2'-methylene bisphenol in a weight ratio of 31:52:17), bisphenol F (4,4 ' 64 parts by weight of methylene bisphenol, 2,4'-methylene bisphenol and 2,2'-methylene bisphenol in a weight ratio of 31:52:17) and a multinuclear body (3) having a bisphenol F skeleton and having 3 or more nuclei Except that the mixture was changed to 72 parts by weight of a mixture of 8 parts by weight of a core and 9 parts by weight of a multi-nucleating material having four or more nuclei.
(2)상기 제1 반응물과 아크릴산을 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:(2) Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the first reactant with acrylic acid:
얻어진 제1 반응물을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 합성예 1과 같은 방법으로 축합 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.A condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the obtained first reaction product was used, to obtain an epoxy compound having an epoxy group at both terminals and a vinyl group in the side chain.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 7,000이었다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 아크릴산이 반응하여, 측쇄에 비닐기가 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 7,000. It was also confirmed by NMR that acrylic acid reacted with the hydroxyl group and a vinyl group was introduced into the side chain.
(합성예 11)(Synthesis Example 11)
합성예 10에서 얻은 상기 제1 반응물과 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the first reactant obtained in Synthesis Example 10 with 2-methacryloyloxyethyl isocyanate:
합성예 10에서 얻은 상기 제1 반응물 100 중량부와, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 4중량부와, 라우르산디부틸주석 0.3 중량부를 배합한 후, 80℃에서 4시간 부가 반응시킴으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.100 parts by weight of the first reaction product obtained in Synthesis Example 10, 4 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and 0.3 parts by weight of dibutyl tin laurate were mixed and then subjected to an addition reaction at 80 DEG C for 4 hours, An epoxy compound having an epoxy group at the terminal and a vinyl group in the side chain was obtained.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 10,000이었다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 반응하여, 측쇄에 비닐기가 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 10,000. Further, it was confirmed by NMR that 2-methacryloyloxyethyl isocyanate reacted with the hydroxyl group to introduce a vinyl group into the side chain.
(합성예 12)(Synthesis Example 12)
합성예 10에서 얻은 상기 제1 반응물과 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the first reactant obtained in Synthesis Example 10 with 4-hydroxybutyl glycidyl ether:
합성예 10에서 얻은 상기 제1 반응물 100 중량부와, 4-히드록시부틸글리시딜에테르 4 중량부와, 디메시틸암모늄펜타플루오로벤젠술포네이트 0.2 중량부를 배합한 후, 80℃에서 4시간 축합 반응시킴으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.100 parts by weight of the first reaction product obtained in Synthesis Example 10, 4 parts by weight of 4-hydroxybutyl glycidyl ether, and 0.2 parts by weight of dimethyisilylammonium pentafluorobenzenesulfonate were blended, The condensation reaction was carried out to obtain an epoxy compound having an epoxy group at both terminals and an epoxy group in the side chain.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 10,000이었다. 또한, 축합 반응이 진행한 것을 확인하여, 수산기에 4-히드록시부틸글리시딜에테르가 반응하여, 측쇄에 에폭시기가 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 10,000. Further, confirming that the condensation reaction proceeded, it was confirmed that the hydroxyl group was reacted with 4-hydroxybutyl glycidyl ether to introduce an epoxy group into the side chain.
(합성예 13)(Synthesis Example 13)
(1)비스페놀 F(4,4'-메틸렌비스페놀과, 2,4'-메틸렌비스페놀과, 2,2'-메틸렌비스페놀을 중량비로 31:52:17로 포함) 54 중량부, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 75 중량부, 및 트리페닐포스핀 0.75 중량부를 3구 플라스크에 넣고, 150℃에서 용해시켰다. 그 후, 180℃에서 4시간 부가 중합 반응시키고, 비스페놀 F 25 중량부, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 9.5 중량부, 및 트리페닐포스핀 0.25 중량부를 추가하여, 180℃에서 2시간 부가 중합 반응시킴으로써 제1 반응물을 얻었다.(1) 54 parts by weight of bisphenol F (including 4,4'-methylene bisphenol, 2,4'-methylene bisphenol and 2,2'-methylene bisphenol in a weight ratio of 31:52:17), 1,6- 75 parts by weight of hexanediol diglycidyl ether and 0.75 part by weight of triphenylphosphine were placed in a three-necked flask and dissolved at 150 占 폚. Thereafter, an addition polymerization reaction was carried out at 180 DEG C for 4 hours, and 25 parts by weight of bisphenol F, 9.5 parts by weight of 1,6-hexanediol diglycidyl ether and 0.25 part by weight of triphenylphosphine were added, An addition polymerization reaction was carried out to obtain a first reaction product.
부가 중합 반응이 진행한 것을 확인하여, 제1 반응물이, 비스페놀 F에서 유래하는 골격과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위를 주쇄에 가지며, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the addition polymerization reaction had proceeded so that the first reactant had a structural unit in which a skeleton derived from bisphenol F and a skeleton derived from 1,6-hexanediol diglycidylether were bonded, It was confirmed that epoxy groups derived from hexanediol diglycidyl ether were present at both terminals.
(2)상기 제1 반응물과 아크릴산을 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:(2) Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the first reactant with acrylic acid:
얻어진 제1 반응물 100 중량부와 아크릴산 4 중량부를 배합하여 80℃까지 승온하였다. 승온 후, 촉매인 디메시틸암모늄펜타플루오로벤젠술포네이트 1 중량부를 넣고, 4시간 축합 반응시킴으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.100 parts by weight of the obtained first reaction product and 4 parts by weight of acrylic acid were combined and heated to 80 캜. After elevating the temperature, 1 part by weight of dimethyisilylammonium pentafluorobenzenesulfonate as a catalyst was added and condensation reaction was carried out for 4 hours to obtain an epoxy compound having an epoxy group at both terminals and a vinyl group in the side chain.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 6,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서 피크는 2개 존재하였다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 아크릴산이 반응하여, 측쇄에 비닐기가 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 6,000. There were two peaks in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound. It was also confirmed by NMR that acrylic acid reacted with the hydroxyl group and a vinyl group was introduced into the side chain.
(합성예 14)(Synthesis Example 14)
합성예 13에서 얻은 상기 제1 반응물 100 중량부와, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 4 중량부와, 라우르산디부틸주석 0.3 중량부를 배합한 후, 80℃에서 4시간 부가 반응시킴으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.100 parts by weight of the first reaction product obtained in Synthesis Example 13, 4 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and 0.3 part by weight of dibutyl tin laurate were combined and then subjected to an addition reaction at 80 DEG C for 4 hours, An epoxy compound having an epoxy group at the terminal and a vinyl group in the side chain was obtained.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 7,500이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 2개 존재하였다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 반응하여, 측쇄에 비닐기가 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 7,500. There were two peaks in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound. Further, it was confirmed by NMR that 2-methacryloyloxyethyl isocyanate reacted with the hydroxyl group to introduce a vinyl group into the side chain.
(실시예 11)(Example 11)
합성예 10에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 11에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(11)을 얻었다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 10 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 11 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (11) of an epoxy compound.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(11)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(11)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(11)의 점도는 390 Pa·s였다.The curable composition (11) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (11) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (11) was 390 Pa 占 퐏.
(실시예 12)(Example 12)
합성예 11에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 12에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(12)을 얻었다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 11 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 12 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (12) of an epoxy compound.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(12)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(12)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(12)의 점도는 380 Pa·s였다.The curable composition (12) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (12) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (12) was 380 Pa · s.
(실시예 13)(Example 13)
실시예 1에서 얻은 에폭시 화합물의 혼합물(1)을 준비하였다. 에폭시 화합물의 혼합물(1)은 합성예 1에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 2에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 포함한다.A mixture (1) of the epoxy compound obtained in Example 1 was prepared. The mixture (1) of the epoxy compound contains the epoxy compound obtained in Synthesis Example 1 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 2 at a weight ratio of 5: 3.
상기 에폭시 화합물의 혼합물(1) 33 중량부에, 비스페놀 F 디글리시딜에테르 3 중량부와, 열 경화제인 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부와, 경화 촉진제인 2-에틸-4-메틸이미다졸 1 중량부와, 광경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」) 5 중량부와, 광중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」) 0.1 중량부와, 충전재인 평균 입경 0.25 ㎛의 실리카 20 중량부 및 평균 입경 0.5 ㎛의 알루미나 20 중량부와, 실시예 1에서 사용한 도전성 입자 2 중량부를 첨가하고, 유성식 교반기를 사용하여 2,000 rpm에서 5분간 교반함으로써, 이방성 도전 페이스트인 경화성 조성물(13)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(13)의 점도는 330 Pa·s였다.To 33 parts by weight of the mixture (1) of the epoxy compound, 3 parts by weight of bisphenol F diglycidyl ether, 20 parts by weight of pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate as a heat curing agent, , Ethyl-4-methylimidazole (1 part by weight), and 5 parts by weight of a photo-curable compound epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec KK), and an acylphosphine oxide-based compound Ltd., "DAROCUR TPO" manufactured by Japan KK), 20 parts by weight of silica having an average particle diameter of 0.25 μm as a filler, 20 parts by weight of alumina having an average particle diameter of 0.5 μm, and 2 parts by weight of the conductive particles used in Example 1 , And the mixture was stirred for 5 minutes at 2,000 rpm using a planetary stirrer to obtain a curable composition (13) as an anisotropic conductive paste. The viscosity of the obtained curable composition (13) was 330 Pa · s.
(실시예 14)(Example 14)
실시예 1에서 얻은 에폭시 화합물의 혼합물(1)을 준비하였다. 에폭시 화합물의 혼합물(1)은 합성예 1에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 2에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 포함한다.A mixture (1) of the epoxy compound obtained in Example 1 was prepared. The mixture (1) of the epoxy compound contains the epoxy compound obtained in Synthesis Example 1 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 2 at a weight ratio of 5: 3.
상기 에폭시 화합물의 혼합물(1) 33 중량부에, 레조르시놀디글리시딜에테르 3 중량부와, 열 경화제인 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부와, 경화 촉진제인 2-에틸-4-메틸이미다졸 1 중량부와, 광경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」) 5 중량부와, 광중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」) 0.1 중량부와, 충전재인 평균 입경 0.25 ㎛의 실리카 20 중량부 및 평균 입경 0.5 ㎛의 알루미나 20 중량부와, 실시예 1에서 사용한 도전성 입자 2 중량부를 첨가하고, 유성식 교반기를 사용하여 2,000 rpm에서 5분간 교반함으로써, 이방성 도전 페이스트인 경화성 조성물(14)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(14)의 점도는 320 Pa·s였다.To 33 parts by weight of the mixture (1) of the epoxy compound, 3 parts by weight of resorcinol diglycidyl ether, 20 parts by weight of pentaerythritoltetrakis-3-mercaptopropionate as a thermosetting agent, 2 parts by weight of curing
(실시예 15)(Example 15)
실시예 1에서 얻은 에폭시 화합물의 혼합물(1)을 준비하였다. 에폭시 화합물의 혼합물(1)은 합성예 1에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 2에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 포함한다.A mixture (1) of the epoxy compound obtained in Example 1 was prepared. The mixture (1) of the epoxy compound contains the epoxy compound obtained in Synthesis Example 1 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 2 at a weight ratio of 5: 3.
상기 에폭시 화합물의 혼합물(1) 33 중량부에, 비스페놀 F 글리시딜에테르에폭시아크릴레이트 3 중량부와, 열 경화제인 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부와, 경화 촉진제인 2-에틸-4-메틸이미다졸 1 중량부와, 광경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」) 5 중량부와, 광중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」) 0.1 중량부와, 충전재인 평균 입경 0.25 ㎛의 실리카 20 중량부 및 평균 입경 0.5 ㎛의 알루미나 20 중량부와, 실시예 1에서 사용한 도전성 입자 2 중량부를 첨가하고, 유성식 교반기를 사용하여 2,000 rpm에서 5분간 교반함으로써, 이방성 도전 페이스트인 경화성 조성물(15)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(15)의 점도는 320 Pa·s였다.To 33 parts by weight of the mixture (1) of the epoxy compound, 3 parts by weight of bisphenol F glycidyl ether epoxy acrylate, 20 parts by weight of pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate as a heat curing agent, 1 part by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole, which is a photopolymerization initiator, 5 parts by weight of an epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec KK) as a photopolymerizable compound, , 20 parts by weight of silica having an average particle size of 0.25 mu m as a filler, 20 parts by weight of alumina having an average particle diameter of 0.5 mu m, 2 parts by weight of the
(실시예 16)(Example 16)
실시예 1에서 얻은 에폭시 화합물의 혼합물(1)을 준비하였다. 에폭시 화합물의 혼합물(1)은 합성예 1에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 2에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 포함한다.A mixture (1) of the epoxy compound obtained in Example 1 was prepared. The mixture (1) of the epoxy compound contains the epoxy compound obtained in Synthesis Example 1 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 2 at a weight ratio of 5: 3.
상기 에폭시 화합물의 혼합물(1) 33 중량부에, 레조르시놀글리시딜에테르에폭시아크릴레이트 3 중량부와, 열 경화제인 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 20 중량부와, 경화 촉진제인 2-에틸-4-메틸이미다졸 1 중량부와, 광경화성 화합물인 에폭시아크릴레이트(다이셀·사이텍 가부시키가이샤 제조 「EBECRYL3702」) 5 중량부와, 광중합 개시제인 아실포스핀옥사이드계 화합물(시바·재팬 가부시키가이샤 제조 「DAROCUR TPO」) 0.1 중량부와, 충전재인 평균 입경 0.25 ㎛의 실리카 20 중량부 및 평균 입경 0.5 ㎛의 알루미나 20 중량부와, 실시예 1에서 사용한 도전성 입자 2 중량부를 첨가하고, 유성식 교반기를 사용하여 2,000 rpm에서 5분간 교반함으로써, 이방성 도전 페이스트인 경화성 조성물(16)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(16)의 점도는 320 Pa·s였다.To 33 parts by weight of the mixture (1) of the epoxy compound, 3 parts by weight of resorcinol glycidyl ether epoxy acrylate, 20 parts by weight of pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate as a thermosetting agent, , 1 part by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole as a promoter, 5 parts by weight of an epoxy acrylate (EBECRYL3702, manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.) as a photopolymerizable compound and 5 parts by weight of an acrylphosphine oxide- , 20 parts by weight of silica having an average particle diameter of 0.25 占 퐉 as a filler, 20 parts by weight of alumina having an average particle diameter of 0.5 占 퐉, and 0.1 part by weight of a
(실시예 17)(Example 17)
합성예 13에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 14에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(17)을 얻었다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 13 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 14 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (17) of an epoxy compound.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(17)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(17)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(17)의 점도는 280 Pa·s였다.The curable composition (17) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (17) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (17) was 280 Pa · s.
(실시예 18)(Example 18)
합성예 4에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 7에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(18)을 얻었다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 4 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 7 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (18) of an epoxy compound.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(18)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(18)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(18)의 점도는 310 Pa·s였다.The curable composition (18) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (18) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (18) was 310 Pa · s.
(실시예 19)(Example 19)
합성예 4에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 8에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(19)을 얻었다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 4 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 8 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (19) of an epoxy compound.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(19)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(19)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(19)의 점도는 320 Pa·s였다.A curable composition (19) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (19) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (19) was 320 Pa · s.
(실시예 20)(Example 20)
합성예 4에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 9에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(20)을 얻었다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 4 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 9 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (20) of an epoxy compound.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(20)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(20)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(20)의 점도는 320 Pa·s였다.The curable composition (20) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (20) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (20) was 320 Pa · s.
(실시예 11 내지 20의 평가)(Evaluation of Examples 11 to 20)
실시예 1 내지 10 및 비교예 1 및 2와 같은 평가항목에 대해서 평가를 실시하였다.Evaluation items such as Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated.
결과를 하기 표 2에 나타내었다.The results are shown in Table 2 below.
또한, 실시예 1 내지 20의 접착성의 평가 결과는 모두 「○」였다. 필 강도의 측정치에 대해서는 실시예 1보다도 실시예 11쪽이 높고, 실시예 2보다도 실시예 12쪽이 높고, 실시예 1보다도 실시예 13쪽이 높고, 실시예 1보다도 실시예 14쪽이 높고, 실시예 1보다도 실시예 15쪽이 높고, 실시예 1보다도 실시예 16쪽이 높았다.In addition, the evaluation results of the adhesiveness of Examples 1 to 20 were all "O". The measured value of the peel strength was higher in Example 11 than in Example 1, higher in Example 12 than Example 2, higher in Example 13 than in Example 1, higher in Example 14 than Example 1, Example 15 was higher than Example 1, and Example 16 was higher than Example 1.
(합성예 15)(Synthesis Example 15)
(1)비스페놀 F와 레조르시놀디글리시딜에테르의 제4 반응물의 합성:(1) Synthesis of the fourth reaction product of bisphenol F and resorcinol diglycidyl ether:
비스페놀 F(4,4'-메틸렌비스페놀과, 2,4'-메틸렌비스페놀과, 2,2'-메틸렌비스페놀을 중량비로 31:52:17로 포함) 72 중량부, 레조르시놀디글리시딜에테르 100 중량부, 및 트리페닐포스핀 1 중량부를 3구 플라스크에 넣고, 150℃에서 용해시켰다. 그 후, 180℃에서 6시간 부가 중합 반응시킴으로써 제4 반응물을 얻었다.72 parts by weight of bisphenol F (including 4,4'-methylene bisphenol, 2,4'-methylene bisphenol and 2,2'-methylene bisphenol in a weight ratio of 31:52:17), 2,2'- And 1 part by weight of triphenylphosphine were placed in a three-necked flask and dissolved at 150 占 폚. Thereafter, an addition polymerization reaction was carried out at 180 DEG C for 6 hours to obtain a fourth reaction product.
부가 중합 반응이 진행한 것을 확인하여, 제4 반응물이, 비스페놀 F에서 유래하는 골격과 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 골격이 결합한 구조 단위를 주쇄에 가지며, 레조르시놀디글리시딜에테르에서 유래하는 에폭시기를 양쪽 말단에 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the addition polymerization reaction proceeded so that the fourth reaction product had a structural unit in which the skeleton derived from bisphenol F and the skeleton derived from resorcinol diglycidyl ether were bonded to each other in the main chain and the resorcinol diglycidyl ether It was confirmed that the resulting epoxy group was present at both terminals.
(2)상기 제4 반응물과 아크릴산을 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:(2) Synthesis of an epoxy compound reacting the above-mentioned fourth reactant and acrylic acid:
상기 제1 반응물 대신에 얻어진 상기 제3 반응물을 사용하여, 합성예 1과 같은 방법으로 축합 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.Using the obtained third reactant instead of the first reactant, a condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain an epoxy compound having an epoxy group at both terminals and a vinyl group in the side chain.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 132,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개만으로, 아크릴산 유래의 저분자에 대한 피크는 관찰되지 않았다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 아크릴산이 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 100% 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 132,000. There was only one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound, and no peak for an acrylic acid-derived low molecule was observed. It was also confirmed by NMR that acrylic acid reacted with the hydroxyl group and 100% of the vinyl group was introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 16)(Synthesis Example 16)
합성예 15에서 얻은 상기 제4 반응물과 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the above-mentioned fourth reactant obtained in Synthesis Example 15 with 2-methacryloyloxyethyl isocyanate:
상기 제1 반응물 대신에 합성예 15에서 얻은 상기 제4 반응물을 사용하여, 합성예 2와 같은 방법으로 부가 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 비닐기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.The fourth reaction product obtained in Synthesis Example 15 was used instead of the first reaction product to carry out an addition reaction in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain an epoxy compound having an epoxy group at both terminals and a vinyl group in the side chain.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 132,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개만으로, 메타크릴산 화합물 유래의 저분자에 대한 피크는 관찰되지 않았다. 또한, NMR에 의해, 수산기에 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 반응하여, 측쇄에 비닐기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 100% 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 132,000. The peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound was only one, and no peak for the low molecular weight derived from the methacrylic acid compound was observed. Further, it was confirmed by NMR that 2-methacryloyloxyethyl isocyanate reacted with the hydroxyl group and 100% of the vinyl group was introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(합성예 17)(Synthesis Example 17)
합성예 15에서 얻은 상기 제4 반응물과 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킨 에폭시 화합물의 합성:Synthesis of an epoxy compound obtained by reacting the above-mentioned fourth reactant obtained in Synthesis Example 15 with 4-hydroxybutyl glycidyl ether:
상기 제1 반응물 대신에 합성예 15에서 얻은 상기 제4 반응물을 사용하여, 합성예 3과 같은 방법으로 축합 반응을 행함으로써, 양쪽 말단에 에폭시기를 가지며, 측쇄에 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물을 얻었다.Using the fourth reactant obtained in Synthesis Example 15 instead of the first reactant, a condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 3 to obtain an epoxy compound having an epoxy group at both terminals and an epoxy group in the side chain.
얻어진 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은 132,000이었다. 얻어진 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크는 1개만으로, 4-히드록시부틸글리시딜에테르 화합물 유래의 저분자에 대한 피크는 관찰되지 않았다. 또한, 축합 반응이 진행한 것을 확인하여, 수산기에 4-히드록시부틸글리시딜에테르가 반응하여, 측쇄에 에폭시기가, 반응 전 수산기의 전체 개수 100%에 대하여 100% 도입되어 있는 것을 확인하였다.The weight average molecular weight of the obtained epoxy compound was 132,000. There was only one peak in the molecular weight distribution of the obtained epoxy compound, and no peak for the low molecular weight derived from the 4-hydroxybutyl glycidyl ether compound was observed. Further, confirming that the condensation reaction proceeded, it was confirmed that 4-hydroxybutyl glycidyl ether reacted with the hydroxyl group and 100% of the epoxy group was introduced into the side chain with respect to 100% of the total number of hydroxyl groups before the reaction.
(실시예 21)(Example 21)
합성예 15에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 16에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(21)을 얻었다. 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(21)의 점도는 1,000 Pa·s였다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 15 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 16 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (21) of an epoxy compound. The resulting mixture (21) of epoxy compound had a viscosity of 1,000 Pa · s.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(21)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 경화성 조성물(21)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(21)의 점도는 1070 Pa·s였다.The curable composition (21) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (21) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (21) was 1070 Pa · s.
(실시예 22)(Example 22)
합성예 16에서 얻은 에폭시 화합물과 합성예 17에서 얻은 에폭시 화합물을 중량비로 5:3으로 혼합하여, 에폭시 화합물의 혼합물(22)을 얻었다. 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(22)의 점도는 1130 Pa·s였다.The epoxy compound obtained in Synthesis Example 16 and the epoxy compound obtained in Synthesis Example 17 were mixed at a weight ratio of 5: 3 to obtain a mixture (22) of an epoxy compound. The viscosity of the resulting mixture (22) of the epoxy compound was 1130 Pa · s.
에폭시 화합물의 혼합물(1)을, 얻어진 에폭시 화합물의 혼합물(22)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 경화성 조성물(22)을 얻었다. 얻어진 경화성 조성물(22)의 점도는 1200 Pa·s였다.The curable composition (22) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture (1) of the epoxy compound was changed to the mixture (22) of the obtained epoxy compound. The viscosity of the obtained curable composition (22) was 1200 Pa · s.
(실시예 21 및 22의 평가)(Evaluation of Examples 21 and 22)
실시예 1 내지 10과 같은 평가항목에 대해서 평가를 실시하였다.Evaluation items similar to those of Examples 1 to 10 were evaluated.
결과를 하기 표 3에 나타내었다.The results are shown in Table 3 below.
또한, 각 합성예에서, 상기 제1, 제2, 제3, 제4 반응물의 수산기에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킬 때에, 반응 전 수산기의 전체 개수 100% 중, 반응한 수산기[수산기가 아닌 것으로 된 기(전술하는 식(a), (b), (c))] 개수의 비율을 3% 내지 100%(전부)로 변화시켰다. 그 결과, 개수의 비율이 3% 내지 100% 범위 내일 때, 상술한 실시예와 같이, 경화 속도가 빠르고, 접착성 및 내습성이 우수하며, 공극 발생이 어려워지는 것을 확인하였다. Further, in each of the synthesis examples, it is preferable that the hydroxyl groups of the first, second, third, and fourth reactants are (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, or 4-hydroxybutyl glycidyl ether (The above-mentioned formula (a), (b), (c))] among the total number of hydroxyl groups before the reaction is from 3% to 100 % (All). As a result, it was confirmed that when the number ratio was in the range of 3% to 100%, the curing rate was fast, the adhesion and the moisture resistance were excellent, and the generation of pores became difficult, as in the above-mentioned examples.
1… 접속 구조체
2… 제1 접속 대상 부재
2a… 상면
2b… 전극
3… 접속부
4… 제2 접속 대상 부재
4a… 하면
4b… 전극
5… 도전성 입자One… Connection structure
2… The first connection object member
2a ... Top surface
2b ... electrode
3 ... Connection
4… The second connection object member
4a ... if
4b ... electrode
5 ... Conductive particle
Claims (21)
중량 평균 분자량이 500 이상 150000 이하인 에폭시 화합물.An epoxy group at both terminals, a vinyl group or an epoxy group in the side chain,
An epoxy compound having a weight average molecular weight of 500 to 150,000.
상기 반응물이 상기 제2 반응물인 경우에 에폭시 화합물의 분자량 분포에서의 피크가 2개 존재하는 에폭시 화합물.5. The method according to claim 4, wherein when the reactant is the first reactant, there are two peaks in the molecular weight distribution of the epoxy compound,
Wherein two peaks are present in the molecular weight distribution of the epoxy compound when the reactant is the second reactant.
레조르시놀과 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 제2 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제2 에폭시 화합물을 포함하는, 에폭시 화합물의 혼합물.12. The process according to claim 11, wherein the first reaction product of bisphenol F and 1,6-hexanediol diglycidyl ether is (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl A first epoxy compound obtained by reacting a diester with a first epoxy compound,
(Meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether is reacted with a second reactant of resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether And a second epoxy compound to be obtained.
레조르시놀과 레조르시놀디글리시딜에테르의 제3 반응물에, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트 또는 4-히드록시부틸글리시딜에테르를 반응시킴으로써 얻어지는 제3 에폭시 화합물을 포함하는, 에폭시 화합물의 혼합물.12. The process according to claim 11 wherein a second reaction product of resorcinol and 1,6-hexanediol diglycidyl ether is reacted with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl A second epoxy compound obtained by reacting a cidyl ether,
A third epoxy obtained by reacting a third reactant of resorcinol and resorcinol diglycidyl ether with (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 4-hydroxybutyl glycidyl ether, A compound of an epoxy compound, comprising a compound.
상기 접속부가 제15항 내지 제19항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물에 의해 형성되어 있는 접속 구조체.A first connecting object member, a second connecting object member, and a connecting portion connecting the first and second connecting object members,
Wherein the connecting portion is formed by the curable composition as set forth in any one of claims 15 to 19.
상기 제1, 제2 접속 대상 부재가 상기 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되어 있는 접속 구조체.21. The method of claim 20, wherein the curable composition comprises conductive particles,
And the first and second connection target members are electrically connected by the conductive particles.
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