KR20140058850A - Substrate processing apparatus - Google Patents

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KR20140058850A
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Abstract

Disclosed is a substrate processing apparatus capable of easily replacing and maintaining a sensor for measuring thickness of a thin film being deposited during a deposition process. The substrate processing apparatus disclosed comprises: a transport unit which moves a sensor for measuring thickness of a thin film being deposited by a deposition apparatus to the outside through a side wall of a deposition chamber; and a door installed to be able to open/close on one side wall of the deposition chamber. Thus, a sensor for measuring a quantity of evaporation can be replaced and maintained easily without any safety accident since the sensor can be moved to the outside through one side of the deposition chamber.

Description

기판 처리 장치{Substrate Processing Apparatus}[0001] Substrate Processing Apparatus [0002]

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 증발장치에서 증발되는 소스의 증발량을 측정하는 크리스탈 센서가 설치되는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus provided with a crystal sensor for measuring the evaporation amount of a source evaporated in an evaporation apparatus.

일반적으로 평판표시소자(Flat Panel Display)는 액정표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자(Organic Light Emitting Diodes) 등이 대표적이다.In general, a flat panel display includes a liquid crystal display, a plasma display panel, and an organic light emitting diode.

이 중에서 유기발광소자는 빠른 응답속도, 기존의 액정표시소자 보다 낮은 소비전력, 고휘도, 경량성 등의 특성이 있으며, 별도의 백라이트 장치가 필요 없어 초박형으로 만들 수 있는 점 등의 장점을 지니고 있는바, 차세대 디스플레이 소자로서 각광받고 있다.Among these organic electroluminescent devices, organic electroluminescent devices have advantages such as fast response speed, lower power consumption than conventional liquid crystal display devices, high brightness and light weight, and they can be made ultra thin because no separate backlight device is required , And has been widely regarded as a next-generation display device.

상기의 유기발광소자와 같은 평판표시소자를 구성하는 유기막 또는 무기막과 같은 박막들은, 증착 챔버와, 이 증착 챔버의 내부에 설치되는 증발장치와, 증발장치를 통해 증발되는 소스의 증발량을 측정하는 크리스탈 센서를 포함하는 기판 처리 장치에서 증착되고 있다.Thin films such as an organic film or an inorganic film constituting a flat panel display device such as the above organic light emitting device include a deposition chamber, an evaporation device installed inside the deposition chamber, and an evaporation amount of a source evaporated through the evaporation device ≪ / RTI > is deposited on a substrate processing apparatus that includes a crystal sensor.

한편, 상기의 크리스탈 센서는 이 크리스탈 센서의 표면에 증발되는 소스가 증착되면 수명이 단축되고, 증착 챔버의 내부환경이 소스의 증발 시 가해지는 열에 의해 손상되어 감도가 저감될 수 있으므로, 주기적으로 교체 및 유지보수를 수행해야 한다. Meanwhile, in the above-mentioned crystal sensor, since the lifetime of a source evaporated on the surface of the crystal sensor is shortened and the internal environment of the deposition chamber is damaged by the heat applied when evaporating the source, And maintenance should be performed.

그러나 종래에는 상기와 같이 크리스탈 센서의 교체 및 유지보수를 위하여 증착 챔버의 상면 즉, 리드(Lid)를 개방해야 하는 번거로움이 있다, 이와 더불어 리드의 개방 시 증착 챔버 내부의 고온의 환경으로 인해 안전사고가 발생될 수 있는 위험성이 있다.However, in the related art, it is troublesome to open the upper surface of the deposition chamber, that is, the lid, for replacement and maintenance of the crystal sensor. In addition, when the lid is opened, There is a risk that an accident may occur.

따라서, 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 크리스탈 센서의 교체 및 유지보수를 안전사고 없이 용이하게 수행할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus capable of easily performing replacement and maintenance of a crystal sensor without safety accidents.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판 처리 장치는 처리 챔버와, 상기 처리 챔버에 반입되는 기판 상에 소스를 가열시켜 박막을 증착하는 증발장치와, 상기 증발장치를 통해 증발되는 소스의 증발량을 측정하는 증발량 측정장치와, 상기 증발량 측정장치를 상기 처리 챔버의 외부로 이동시켜 상기 증발량 측정장치를 상기 처리 챔버의 외부에서 교체 및 유지보수를 가능하게 하는 이동장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including a processing chamber, an evaporation device for evaporating a thin film by heating a source on a substrate to be introduced into the processing chamber, And a moving device for moving the evaporation amount measurement device to the outside of the process chamber to allow replacement and maintenance of the evaporation amount measurement device outside the process chamber.

상기 증발량 측정장치는 증발량 측정센서와, 상기 증발량 측정센서를 지지하는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The evaporation amount measuring device includes an evaporation amount measurement sensor and a support for supporting the evaporation amount measurement sensor.

상기 증발량 측정센서는 크리스탈 센서인 것을 특징으로 한다.The evaporation amount measuring sensor is a crystal sensor.

상기 기판 처리 장치는 상기 증발량 측정장치가 상기 이동장치에 의해 상기 처리 챔버의 외부로 이동 가능하도록, 상기 처리 챔버의 일측을 개폐하는 도어를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate processing apparatus further includes a door that opens and closes one side of the processing chamber so that the evaporation amount measurement apparatus can be moved out of the processing chamber by the moving apparatus.

상기 이동장치는, 상기 처리 챔버의 내부에 설치되는 레일부재와, 상기 레일부재와 접촉되어 슬라이딩 가능하게 마련되고 상기 증발량 측정장치의 지지부가 지지된 지지블록을 포함하는 것을 특징으로 한다.The moving device includes a rail member provided inside the process chamber, and a support block slidably contacted with the rail member and supported by the supporting portion of the evaporation amount measurement device.

상기 지지블록은 상기 도어와 연결되고, 상기 도어의 개방 시 상기 처리 챔버의 외부로 이동되고 상기 도어의 폐쇄 시 상기 처리 챔버의 내부로 이동되는 것을 특징으로 한다.The support block is connected to the door and is moved to the outside of the processing chamber when the door is opened, and is moved into the processing chamber when the door is closed.

상기 도어는 상기 처리 챔버의 일측을 개폐할 때 수평 이동되는 것을 특징으로 한다.And the door is horizontally moved when one side of the processing chamber is opened and closed.

상기 기판 처리 장치는 상기 처리 챔버와 연통되어 상기 증발량 측정장치의 교체 및 유지보수를 위해 상기 증발량 측정장치가 상기 처리 챔버로부터 이동되는 교체 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate processing apparatus further includes a replacement chamber which is in communication with the processing chamber and in which the evaporation amount measuring device is moved from the processing chamber for replacement and maintenance of the evaporation amount measurement device.

상기 이동장치는, 상기 처리 챔버와 교체 챔버에 설치되는 레일부재와, 상기 레일부재와 접촉되어 상기 처리 챔버 및 교체 챔버에서 슬라이딩 가능하게 마련되고 상기 증발량 측정장치의 지지부가 지지된 지지블록을 포함하는 것을 특징으로 한다.The moving device includes a rail member provided in the process chamber and the replacement chamber, and a support block provided in the process chamber and the replacement chamber in contact with the rail member and supported by the supporting portion of the evaporation amount measurement device .

상기 기판 처리 장치는 상기 교체 챔버의 일측을 개폐하는 도어를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate processing apparatus may further include a door for opening and closing one side of the replacement chamber.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 기판 처리 장치는 증발량 측정센서의 교체 및 유리보수를 위해 증착 챔버의 일측벽에 마련된 도어를 통해 증착 챔버의 외부로 이동됨에 따라 용이함과 동시에 안전사고 없이 할 수 있다.As described above, the substrate processing apparatus of the present invention facilitates replacement of the evaporation amount measuring sensor and glass maintenance, and is facilitated as well as safety accident by being moved to the outside of the deposition chamber through a door provided on one side wall of the deposition chamber.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 일부를 확대 도시한 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 증발량 측정장치가 외부로 이동된 상태를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 이 실시예에 따른 기판 처리 장치의 일부를 확대 도시한 도면이다.
도 5는 도 4에 도시된 증발량 측정장치가 교체챔버로 이동된 상태를 도시한도면이다.1 is a schematic view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is an enlarged view of a part shown in Fig.
FIG. 3 is a view showing a state in which the evaporation amount measuring apparatus shown in FIG. 1 is moved to the outside.
4 is an enlarged view of a part of a substrate processing apparatus according to this embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view showing a state where the evaporation amount measuring apparatus shown in FIG. 4 is moved to the replacement chamber.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 또한 설명의 편의를 위하여 도면에서는 구성요소들의 크기가 과장 또는 축소될 수 있고, 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. It is provided to fully inform the owner of the scope of the invention. Also, for convenience of description, the size of components may be exaggerated or reduced in the drawings, and like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

도 1을 참조하면, 본 발명의 기판 처리 장치는 증착 챔버(10)와, 이 증착 챔버(10)에 반입되는 기판(G) 상에 박막을 증착하는 증발장치(20), 증발장치(20)를 통해 증발되는 소스의 증발량을 측정하는 증발량 측정장치(30)를 포함한다.1, the substrate processing apparatus of the present invention includes a deposition chamber 10, an evaporation apparatus 20 for depositing a thin film on a substrate G carried into the deposition chamber 10, an evaporation apparatus 20, And an evaporation amount measuring device 30 for measuring evaporation amount of the source evaporated through the evaporation amount measuring device 30.

구체적으로, 증착 챔버(10)는 반입되는 기판(G) 상에 박막이 증착되는 밀폐된 공간이다. 이를 위해 증착 챔버(10)에는 구체적으로 도시되지는 않았지만 이 증착 챔버(10)의 내부를 밀폐된 처리공간으로 만들기 위해 압력유지 및 배기를 위한 배기관, 챔버 내부로 가스를 공급하는 가스공급부, 기판의 고정을 위한 클램핑장치, 기판을 이동시키는 이동장치 등 다양한 부재, 모듈 등이 설치될 수 있다. 그리고 상기의 증착 챔버(10)의 양 측면에는 기판(G)이 입출되는 게이트가 설치될 수 있다.Specifically, the deposition chamber 10 is a sealed space in which a thin film is deposited on the substrate G to be transferred. To this end, the deposition chamber 10 is provided with an exhaust pipe for maintaining and evacuating pressure, a gas supply unit for supplying gas into the chamber, A clamping device for fixing, a moving device for moving the substrate, and the like may be installed. A gate may be provided on both sides of the deposition chamber 10 to allow the substrate G to enter and exit.

증발장치(20)는 증착 챔버(10)의 내부에서 하단에 설치된다. 이러한 증발장치(20)는 구체적으로 도시되지는 않았지만 다수 개 예를 들어, 3개의 단위유닛이 모여 한 조를 이룬다.The evaporation device 20 is installed at the bottom of the inside of the deposition chamber 10. Although not shown in detail, the evaporator 20 includes a plurality of, for example, three unit units.

상기의 증발장치(20)는 소스가 수용되는 증발용기(21)와, 이 증발용기(21)의 외주에 위치되는 히터(23)와, 증발용기(21)와 히터(23)를 지지하는 하우징부재(25)를 포함한다. 이때, 소스는 증발용기(21) 내에 수용되어 히터(23)의 가열에 의해 증발되고, 증발에 의해 기판(G)에 흡착될 반응물질이 되어 기판(G) 상에 증착된다.The evaporator 20 includes an evaporation vessel 21 in which a source is accommodated, a heater 23 located on the outer periphery of the evaporation vessel 21, a housing 23 for supporting the evaporation vessel 21 and the heater 23, Member (25). At this time, the source is accommodated in the evaporation vessel 21, evaporated by the heating of the heater 23, and deposited on the substrate G as a reaction material to be adsorbed on the substrate G by evaporation.

증발량 측정장치(30)는 소스가 증발되어 기판에 증착되는 경로 상에 위치된다. 이러한 증발량 측정장치(30)는 도 2에 도시된 바와 같이 증발량 측정센서(31)와, 이 증발량 측정센서(31)를 지지하는 지지부(33)와, 증발량 측정센서(31)를 열 및 소스로부터 보호하는 보호부(35)를 포함한다.The evaporation amount measurement device 30 is located on the path where the source is vaporized and deposited on the substrate. 2, the evaporation amount measurement device 30 includes an evaporation amount measurement sensor 31, a support portion 33 for supporting the evaporation amount measurement sensor 31, and an evaporation amount measurement sensor 31, And a protective portion 35 for protecting the surface.

증발량 측정센서(31)는 통상의 크리스탈 센서일 수 있다. 이때의 크리스탈 센서는 이 크리스탈 센서에 증착되는 박막에 의해 진동수가 감소되는 것을 이용하여 소스의 증발량을 측정한다.The evaporation amount measurement sensor 31 may be a conventional crystal sensor. At this time, the crystal sensor measures the evaporation amount of the source by using the reduced frequency by the thin film deposited on the crystal sensor.

지지부(33)는 상술한 바와 같이 증발량 측정센서(31) 즉, 크리스탈 센서를 지지하는 것으로서, 다수의 지지브래킷 및 지지프레임으로 이루어질 수 있다. The supporting portion 33 supports the evaporation amount measuring sensor 31, that is, the crystal sensor, as described above, and may include a plurality of supporting brackets and a supporting frame.

보호부(35)는 지지부(33)의 일측에 체결되는 모터(36)와, 이 모터(36)와 축 연결되는 회전축(37)과, 이 회전축(37)의 일단에 장착되어 증발량 측정센서(31)를 노출시키는 복수의 홀이 형성되고 모터(36)의 구동 시 회전되는 쉴드(38)를 포함한다.
The protection unit 35 includes a motor 36 fixed to one side of the support 33, a rotation shaft 37 connected to the motor 36, and an evaporation amount measurement sensor And a shield 38 that is rotated when the motor 36 is driven.

한편, 본 발명에서는 소스의 증발 시 가해되는 열 및 소스의 증착에 의해 수명이 단축되는 증발량 측정센서(31)의 교체 및 유지보수를 간편하게 실시할 수 있도록, 증발량 측정장치(30)를 증착 챔버(10)의 외부로 이동시키는 이동장치(40)와, 증착 챔버(10)의 일측에 개폐 가능하게 설치되는 도어(50)를 더 포함한다.In the present invention, an evaporation amount measuring device 30 is installed in a deposition chamber (not shown) so that the replacement and maintenance of the evaporation amount measuring sensor 31, which is shortened in life due to deposition of heat and a source, 10, and a door 50 that is openably and closably installed at one side of the deposition chamber 10. The deposition chamber 10 is provided with a door 40,

도 2 및 도 3을 참조하면, 이동장치(40)는 증착 챔버(10)의 일측에 마련된 베이스블록(41)과, 이 베이스블록(41)의 상면에 설치되는 레일부재(43)와, 이 레일부재(43)와 접촉되어 슬라이딩 가능하게 마련되고 증발량 측정장치(30)의 지지부(33)가 지지된 지지블록(45)을 포함한다.2 and 3, the moving device 40 includes a base block 41 provided on one side of the deposition chamber 10, a rail member 43 provided on the upper surface of the base block 41, And a support block 45 which is slidably provided in contact with the rail member 43 and on which the support portion 33 of the evaporation amount measurement device 30 is supported.

베이스블록(41)은 증착 챔버(10)의 일측 내면에 마련되며, 그 상면에는 레일부재(43)가 설치된다. 그리고 베이스블록(41)은 도시된 바와 같이 증착 챔버(10)의 외측에 연장되게 마련될 수도 있다.The base block 41 is provided on the inner surface of one side of the deposition chamber 10, and a rail member 43 is provided on the upper surface of the base block 41. The base block 41 may be extended to the outside of the deposition chamber 10 as shown in FIG.

지지블록(45)은 레일부재(43)와 측면 또는 하면에 접촉되어 레일부재(43) 상에서 슬라이딩 가능하게 마련된다. 그리고 지지블록(45)은 증발량 측정장치(30)의 지지부(33)의 하단과 체결되거나 일체로 마련되어 증발량 측정장치(30)를 지지한다. 즉, 본 발명에서는 지지블록(45)은 레일부재(43) 상에서 이동될 때 증발량 측정장치(30) 역시 연동되는 구조를 갖는다.The support block 45 is slidably provided on the rail member 43 in contact with the side surface or the bottom surface of the rail member 43. The support block 45 is fixed to the lower end of the supporting part 33 of the evaporation amount measuring device 30 or integrally provided to support the evaporation amount measuring device 30. That is, in the present invention, the evaporation amount measurement device 30 is also interlocked when the support block 45 is moved on the rail member 43.

도어(50)는 상술한 바와 같이 증발량 측정장치(30)의 교체 및 유지보수를 위해 증착 챔버(10)의 일측을 개폐하기 위해 설치된다.The door 50 is installed to open and close one side of the deposition chamber 10 for replacement and maintenance of the evaporation amount measurement apparatus 30 as described above.

상기의 도어(50)는 도시된 바와 같이 증착 챔버(10)로부터 서랍식으로 개폐되는데, 지지블록(45)의 후단과 연결부재(47)에 의해 연결되어 도어(50)의 개폐 시 지지블록(45)과 연동된다. 도어(50)의 외측에는 사용자가 용이하게 이 도어(50)를 잡아당겨 개방시킬 수 있도록 손잡이가 장착된다. 도어(50)와 증착 챔버(10)의 사이에는 도시되지는 않았지만 증착 챔버(10) 내부의 진공환경에 영향을 주지 않도록 실링부재(미도시)가 설치될 수 있다.The door 50 is opened and closed from the deposition chamber 10 by a drawer so that the door 50 is connected to the rear end of the support block 45 by the connection member 47, ). On the outside of the door 50, a handle is mounted so that the user can easily pull the door 50 to open it. A sealing member (not shown) may be provided between the door 50 and the deposition chamber 10 so as not to affect the vacuum environment inside the deposition chamber 10, though not shown.

즉, 본 발명에서는 사용자가 도어(50)의 손잡이를 잡아당겨 도어(50)를 개방시키면, 이러한 도어(50)의 움직임에 지지블록(45)이 연동되어 레일부재(43) 상에서 증착 챔버(10)의 외측방향으로 슬라이딩 이동된다. 상기의 과정에 의해 지지블록(45)에 지지된 증발량 측정장치(30)가 증착 챔버(10)의 외측으로 이동되고, 이에 따라 사용자는 용이하게 증발량 측정센서(31)를 교체 및 유지보수할 수 있다.That is, in the present invention, when the user pulls the handle of the door 50 to open the door 50, the support block 45 is interlocked with the movement of the door 50 to move the deposition chamber 10 As shown in Fig. The evaporation amount measurement device 30 supported by the support block 45 is moved to the outside of the deposition chamber 10 by the above process so that the user can easily replace and maintain the evaporation amount measurement sensor 31 have.

마찬가지로 본 발명에서 증발량 측정센서(31)를 교체 및 유지보수한 후에는 도어(50)를 미는 동작을 통해 도어(50)의 움직임과 연동되는 지지블록(45)이 증착 챔버(10)의 내측 방향으로 움직이게 됨에 따라 지지블록(45)에 지지된 증발량 측정장치(30)가 증착 챔버(10)의 내부로 이동된다.
The support block 45 interlocked with the movement of the door 50 through the pushing operation of the door 50 is moved to the inside direction of the deposition chamber 10 The evaporation amount measurement device 30 supported by the support block 45 is moved to the inside of the deposition chamber 10.

또한, 본 발명의 기판 처리 장치의 이 실시예를 살펴보면 다음과 같다. 이때, 도 1 내지 도 3에 도시된 일 실시예와 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하며 구체적인 설명을 생략한다.Hereinafter, this embodiment of the substrate processing apparatus of the present invention will be described. Here, the same reference numerals are assigned to the same constituent elements as those of the embodiment shown in Figs. 1 to 3, and a detailed description thereof will be omitted.

도 4 및 도 5를 참고하면, 증착 챔버(10)는 기판 상에 박막이 증착되는 공정이 수행되는 처리 챔버(100)와, 증발량 측정센서(31)의 교체 및 유지보수를 위하여 처리 챔버(100)와 연통되는 교체챔버(110)를 더 포함한다.4 and 5, the deposition chamber 10 includes a process chamber 100 in which a process of depositing a thin film on a substrate is performed, a process chamber 100 in which the evaporation amount measurement sensor 31 is replaced, (Not shown).

상기의 교체챔버(110)는 도시된 바와 같이 처리 챔버(100)와 별도의 독립공간을 가지며, 이러한 교체챔버(110)에는 증발량 측정센서(31)의 교체 및 유지보수를 위해 개폐되는 도어(150)가 설치된다.The replacement chamber 110 has an independent space separate from the processing chamber 100. The replacement chamber 110 is provided with a door 150 that is opened and closed for replacement and maintenance of the evaporation amount measurement sensor 31 Is installed.

이동장치(140)는 일 실시예와 마찬가지로 베이스블록(141)과, 레일부재(143)와, 지지블록(145)을 포함하되, 상기의 레일부재(143)는 베이스블록(141)뿐만 아니라 교체챔버(110)의 하면에도 연장된다. The moving device 140 includes a base block 141, a rail member 143 and a support block 145 similar to the embodiment, and the rail member 143 includes a base block 141, And extends to the lower surface of the chamber 110 as well.

즉, 본 발명의 이 실시예에서는 교체챔버(110)의 도어(150)를 오픈한 후 이동장치(140)를 이용하여 증발량 측정장치(30)를 교체챔버(110)로 슬라이딩시킨 후 증발량 측정센서(31)의 교체 및 유지보수를 수행하게 된다. 이때, 사용자는 고온의 환경에서 증착과정이 이루어지는 처리 챔버(100)가 아닌 독립공간인 교체챔버(110)에서 증발량 측정센서(31)를 교체 및 유지보수하기 때문에 안전사고의 발생을 더욱 줄일 수 있다. That is, in this embodiment of the present invention, after the door 150 of the replacement chamber 110 is opened, the evaporation amount measurement device 30 is slid to the replacement chamber 110 using the movement device 140, (31) and maintenance. At this time, since the evaporation amount measurement sensor 31 is replaced and maintained in the replacement chamber 110, which is an independent space, not the processing chamber 100 where the deposition process is performed in a high temperature environment, the occurrence of a safety accident can be further reduced .

한편, 본 발명은 도면에 도시된 실시예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the scope of the present invention .

따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

10 : 증착 챔버 20 : 증발장치
30 : 증발량 측정장치 31 : 증발량 측정센서
33 : 지지부 35 : 보호부
36 : 모터 37 : 회전축
38 : 쉴드 40 : 이동장치
41 : 베이스블록 43 : 레일부재
45 : 지지블록 47 : 연결부재
50 : 도어 100 : 처리 챔버
110 : 교체 챔버10: Deposition chamber 20: Evaporator
30: Evaporation amount measuring device 31: Evaporation amount measuring sensor
33: Support part 35: Protective part
36: motor 37:
38: shield 40: mobile device
41: base block 43: rail member
45: support block 47: connecting member
50: Door 100: Processing chamber
110: Replacement chamber

Claims (10)

처리 챔버와,
상기 처리 챔버에 반입되는 기판 상에 소스를 가열시켜 박막을 증착하는 증발장치와,
상기 증발장치를 통해 증발되는 소스의 증발량을 측정하는 증발량 측정장치와,
상기 증발량 측정장치를 상기 처리 챔버의 외부로 이동시켜 상기 증발량 측정장치를 상기 처리 챔버의 외부에서 교체 및 유지보수를 가능하게 하는 이동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.A processing chamber,
An evaporation device for evaporating a thin film by heating a source on a substrate to be introduced into the processing chamber;
An evaporation amount measuring device for measuring evaporation amount of a source evaporated through the evaporation device;
And a moving device for moving the evaporation amount measurement device out of the process chamber to allow replacement and maintenance of the evaporation amount measurement device outside the process chamber. 제1항에 있어서,
상기 증발량 측정장치는 증발량 측정센서와, 상기 증발량 측정센서를 지지하는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the evaporation amount measurement device includes an evaporation amount measurement sensor and a support for supporting the evaporation amount measurement sensor. 제2항에 있어서,
상기 증발량 측정센서는 크리스탈 센서인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the evaporation amount measuring sensor is a crystal sensor. 제2항에 있어서,
상기 기판 처리 장치는 상기 증발량 측정장치가 상기 이동장치에 의해 상기 처리 챔버의 외부로 이동 가능하도록, 상기 처리 챔버의 일측을 개폐하는 도어를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the substrate processing apparatus further includes a door that opens and closes one side of the processing chamber so that the evaporation amount measurement device can be moved out of the processing chamber by the moving device. 제4항에 있어서,
상기 이동장치는, 상기 처리 챔버의 내부에 설치되는 레일부재와, 상기 레일부재와 접촉되어 슬라이딩 가능하게 마련되고 상기 증발량 측정장치의 지지부가 지지된 지지블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the moving device comprises a rail member provided inside the processing chamber and a support block provided slidably in contact with the rail member and supported by the supporting portion of the evaporation amount measurement device. 제5항에 있어서,
상기 지지블록은 상기 도어와 연결되고, 상기 도어의 개방 시 상기 처리 챔버의 외부로 이동되고 상기 도어의 폐쇄 시 상기 처리 챔버의 내부로 이동되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the support block is connected to the door and is moved out of the processing chamber when the door is opened, and is moved into the processing chamber when the door is closed. 제6항에 있어서,
상기 도어는 상기 처리 챔버의 일측을 개폐할 때 수평 이동되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method according to claim 6,
Wherein the door is horizontally moved when opening and closing one side of the processing chamber. 제2항에 있어서,
상기 기판 처리 장치는 상기 처리 챔버와 연통되어 상기 증발량 측정장치의 교체 및 유지보수를 위해 상기 증발량 측정장치가 상기 처리 챔버로부터 이동되는 교체 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the substrate processing apparatus further comprises a replacement chamber which is in communication with the processing chamber and in which the evaporation amount measurement apparatus is moved from the processing chamber for replacement and maintenance of the evaporation amount measurement apparatus. 제8항에 있어서,
상기 이동장치는,
상기 처리 챔버와 교체 챔버에 설치되는 레일부재와,
상기 레일부재와 접촉되어 상기 처리 챔버 및 교체 챔버에서 슬라이딩 가능하게 마련되고 상기 증발량 측정장치의 지지부가 지지된 지지블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.9. The method of claim 8,
The mobile device comprising:
A rail member installed in the process chamber and the replacement chamber,
And a support block which is brought into contact with the rail member and slidably provided in the process chamber and the replacement chamber, the support block being supported by the support portion of the evaporation amount measurement device. 제8항에 있어서,
상기 기판 처리 장치는 상기 교체 챔버의 일측을 개폐하는 도어를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.9. The method of claim 8,
Wherein the substrate processing apparatus further comprises a door for opening and closing one side of the replacement chamber.
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