KR20140050630A - Copper strand for bonding wire and method for producing copper strand for bonding wire - Google Patents

Copper strand for bonding wire and method for producing copper strand for bonding wire Download PDF

Info

Publication number
KR20140050630A
KR20140050630A KR1020147001156A KR20147001156A KR20140050630A KR 20140050630 A KR20140050630 A KR 20140050630A KR 1020147001156 A KR1020147001156 A KR 1020147001156A KR 20147001156 A KR20147001156 A KR 20147001156A KR 20140050630 A KR20140050630 A KR 20140050630A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
copper
wire
mass
less
bonding
Prior art date
Application number
KR1020147001156A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101926215B1 (en
Inventor
사토시 구마가이
히토시 나카모토
Original Assignee
미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 filed Critical 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
Publication of KR20140050630A publication Critical patent/KR20140050630A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101926215B1 publication Critical patent/KR101926215B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/43Manufacturing methods
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/08Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/745Apparatus for manufacturing wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05617Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/05624Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/43Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/43Manufacturing methods
    • H01L2224/438Post-treatment of the connector
    • H01L2224/43848Thermal treatments, e.g. annealing, controlled cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45015Cross-sectional shape being circular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45147Copper (Cu) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00011Not relevant to the scope of the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01014Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01015Phosphorus [P]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Continuous Casting (AREA)

Abstract

이 본딩 와이어용 구리 소선은, 선 직경 180 ㎛ 이하의 본딩 와이어를 형성하기 위한 구리 소선이다. 구리 소선의 소선 직경이 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하이다. 구리 소선은, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 합계로 0.0001 질량% 이상 0.01 질량% 이하의 범위로 함유하고, 잔부가 구리 및 불가피 불순물인 조성을 갖는다. 구리 소선에 있어서, EBSD 법으로 측정된 모든 결정립계의 길이 (L) 에 대한 특수 입계의 길이 (Lσ) 의 비율인 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상이다.This copper wire for bonding wire is copper wire for forming the bonding wire of 180 micrometers or less of wire diameters. The wire diameter of copper wire is 0.15 mm or more and 3.0 mm or less. The copper element wire contains at least one additive element selected from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and rare earth elements in a range of 0.0001% by mass or more and 0.01% by mass or less, with the balance being copper and inevitable. It has a composition which is an impurity. In the copper element wire, the special grain boundary ratio (Lσ / L) which is the ratio of the length Lσ of the special grain boundary to the length L of all the grain boundaries measured by the EBSD method is 50% or more.

Figure P1020147001156
Figure P1020147001156

Description

본딩 와이어용 구리 소선 및 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법{COPPER STRAND FOR BONDING WIRE AND METHOD FOR PRODUCING COPPER STRAND FOR BONDING WIRE}Copper wire for bonding wire and manufacturing method of copper wire for bonding wire {COPPER STRAND FOR BONDING WIRE AND METHOD FOR PRODUCING COPPER STRAND FOR BONDING WIRE}

본 발명은, 선 직경 180 ㎛ 이하의 본딩 와이어를 제출 (製出) 할 때에 사용되는 본딩 와이어용 구리 소선 및 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the copper wire for bonding wires used when submitting the bonding wire of 180 micrometers or less of wire diameters, and the manufacturing method of the copper wire for bonding wires.

본원은, 2011년 7월 22일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2011-161036호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2011-161036 for which it applied to Japan on July 22, 2011, and uses the content here.

일반적으로, 반도체 소자를 탑재한 반도체 장치에 있어서는, 반도체 소자와 리드를, 상기 서술한 본딩 와이어에 의해 접속하고 있다. 종래, 본딩 와이어로는, 신선성 (伸線性) 및 도전성 등의 관점에서 주로 Au 선이 사용되고 있다. 그러나, Au 는 고가이기 때문에, 이 Au 선을 대용하는 본딩 와이어로서, Cu 제의 본딩 와이어가 제공되고 있다.Generally, in the semiconductor device in which the semiconductor element is mounted, the semiconductor element and the lead are connected by the above-mentioned bonding wires. Conventionally, Au wire is mainly used as a bonding wire from a viewpoint of freshness, electroconductivity, etc. However, since Au is expensive, a bonding wire made of Cu is provided as a bonding wire to replace the Au line.

여기서 Cu 는, Au 에 비해 단단하기 때문에, 본딩시에 와이어 선단에 형성된 볼이, 예를 들어 Si 반도체 소자의 표면에 형성된 Al 배선 피막을 파괴할 우려가 있었다. 또 Cu 는, Au 에 비해 연신율이 낮기 때문에, 적정한 와이어 루프 형상을 유지할 수 없는 등의 문제가 있었다.Since Cu is harder than Au, the ball formed at the tip of the wire at the time of bonding, for example, might destroy the Al wiring film formed on the surface of the Si semiconductor element. Moreover, since Cu has low elongation compared with Au, there existed a problem of being unable to maintain an appropriate wire loop shape.

그래서, 예를 들어, 특허문헌 1, 2 에는, 순도가 99.9999 질량% 이상인 초고순도 구리 (6NCu) 를 사용한 Cu 제의 본딩 와이어가 제안되어 있다. 또, 특허문헌 3 에는, Ti, Zr, Hf, V, Cr 및 B 를 미량 첨가한 Cu 제의 본딩 와이어가 제안되어 있다.Therefore, for example, in Patent Documents 1 and 2, a bonding wire made of Cu using ultra high purity copper (6NCu) having a purity of 99.9999% by mass or more is proposed. In addition, Patent Document 3 proposes a bonding wire made of Cu in which trace amounts of Ti, Zr, Hf, V, Cr, and B are added.

그런데, 특허문헌 1, 2 에 기재되어 있는 바와 같이, 순도가 99.9999 질량% 이상인 초고순도 구리 (6NCu) 를 사용하는 경우에 있어서는, 초고순도 구리 (6NCu) 를 얻기 위해서 정련 처리 공정이 필요해진다. 이 때문에, 제조 비용이 대폭적으로 증가하는 것 등의 문제가 있었다.By the way, as described in patent documents 1 and 2, when using ultra high purity copper 6NCu whose purity is 99.9999 mass% or more, the refinement | purification process process is needed in order to obtain ultra high purity copper 6NCu. For this reason, there existed a problem that manufacturing cost drastically increased.

또, 특허문헌 3 에 기재된 본딩 와이어에 있어서는, Au 에 비하면 여전히 단단하고, 또한 연신율도 낮다. 이 때문에, Au 선의 대용으로는 특성이 불충분하였다.Moreover, in the bonding wire of patent document 3, compared with Au, it is still hard and elongation is low. For this reason, the characteristic was inadequate for the substitution of Au wire.

또한 최근에는, Cu 선으로 이루어지는 본딩 와이어의 세선화가 요구되고 있고, 본딩 와이어용 구리 소선에는, 단선되지 않는 가공성도 요구되고 있다.Moreover, in recent years, thinning of the bonding wire which consists of Cu wires is calculated | required, and the workability which is not disconnected is also required for the copper wire for bonding wires.

일본 공개특허공보 소62-111455호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 62-111455 일본 공개특허공보 평04-247630호Japanese Patent Application Laid-Open No. 04-247630 일본 특허공보 평04-012623호Japanese Patent Publication No. 04-012623

본 발명은, 전술한 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 경도가 낮고, 또한 연신율이 높고, 나아가 가공성이 우수한 본딩 와이어용 구리 소선 및 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the above-mentioned situation, and an object of this invention is to provide the manufacturing method of the copper wire for bonding wires and the copper wire for bonding wires which are low in hardness, high in elongation, and also excellent in workability.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 일 양태에 관련된 본딩 와이어용 구리 소선은, 선 직경 180 ㎛ 이하의 본딩 와이어를 형성하기 위한 구리 소선으로서, 소선 직경이 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하이고, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 합계로 0.0001 질량% 이상 0.01 질량% 이하의 범위에서 함유하고, 잔부가 구리 및 불가피 불순물인 조성을 갖고, EBSD 법으로 측정된 모든 결정립계의 길이 (L) 에 대한 특수 입계의 길이 (Lσ) 의 비율인 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상이다.In order to solve the said subject, the copper wire for bonding wire which concerns on one aspect of this invention is a copper wire for forming the bonding wire of 180 micrometers or less of wire diameters, and an element diameter is 0.15 mm or more and 3.0 mm or less, Mg, At least one additive element selected from Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti and rare earth elements is contained in the range of 0.0001 mass% or more and 0.01 mass% or less in total, and remainder has the composition which is copper and an unavoidable impurity, EBSD The special grain boundary ratio (Lσ / L), which is the ratio of the length Lσ of the special grain boundary to the length L of all the grain boundaries measured by the method, is 50% or more.

이 본딩 와이어용 구리 소선에 있어서는, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 합계로 0.0001 질량% 이상 0.01 질량% 이하의 범위에서 함유하고, 잔부가 구리 및 불가피 불순물인 조성을 갖는다. 이 때문에, 구리 중에 함유되는 S 가 상기 서술한 원소와 반응하여 화합물을 형성하게 된다. 이로써, S 의 영향이 작아져 재결정 온도를 낮게 할 수 있고, 또한 경도를 낮게 할 수 있다.In the copper element wire for this bonding wire, 1 or more types of additional elements selected from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and rare earth elements are contained in 0.0001 mass% or more and 0.01 mass% or less in total, The balance has a composition that is copper and unavoidable impurities. For this reason, S contained in copper reacts with the element mentioned above, and forms a compound. Thereby, the influence of S becomes small, recrystallization temperature can be made low, and hardness can be made low.

또, EBSD 법으로 측정된 모든 결정립계의 길이 (L) 에 대한 특수 입계의 길이 (Lσ) 의 비율인 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상이다. 이 때문에, 경도를 낮게 유지한 상태로, 연신율 및 가공성을 향상시키는 것이 가능해진다.Moreover, the special grain boundary ratio (Lσ / L) which is the ratio of the length Lσ of the special grain boundary with respect to the length L of all the grain boundaries measured by the EBSD method is 50% or more. For this reason, it becomes possible to improve elongation and workability in the state which kept hardness low.

또한, 전계 방출형 주사 전자 현미경을 사용한 EBSD 측정 장치에 의해, 결정립계, 특수 입계를 특정하고, 모든 결정립계의 길이 (L) 및 특수 입계의 길이 (Lσ) 를 산출한다. 이들 길이로부터, 본 양태에 있어서의 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 얻어진다.In addition, by using an EBSD measuring apparatus using a field emission scanning electron microscope, grain boundaries and special grain boundaries are specified, and the length L of all grain boundaries and the length Lσ of the special grain boundaries are calculated. From these lengths, the special grain boundary ratio (Lσ / L) in this aspect is obtained.

결정립계는, 2 차원 단면 관찰의 결과, 이웃하는 2 개의 결정 간의 배향 방위차가 15 °이상으로 되어 있는 경우의 당해 결정 간의 경계로서 정의된다.The grain boundary is defined as the boundary between the crystals when the orientation orientation difference between two neighboring crystals is 15 ° or more as a result of two-dimensional cross-sectional observation.

또, 특수 입계란, 결정학적으로 CSL 이론 (Kronberg et al : Trans. Met. Soc. AIME, 185, 501 (1949)) 에 기초하여 정의되는 Σ 값이 3 ≤ Σ ≤ 29 를 만족하는 대응 입계로서, 또한 당해 대응 입계에 있어서의 고유 대응 부위 격자 방위 결함 (Dq) 이, Dq ≤ 15 °/Σ1/2 (D. G. Brandon : Acta. Metallurgica. Vol.14, p.1479, (1966)) 을 만족하는 결정립계인 것으로서 정의된다.In addition, the special grain boundary is a crystallographically corresponding grain boundary satisfying 3 ≦ Σ ≦ 29, which is defined on the basis of the CSL theory (Kronberg et al: Trans. Met. Soc. In addition, the inherent corresponding site lattice orientation defect (Dq) at the corresponding grain boundary satisfies Dq ≤ 15 ° / Σ 1/2 (DG Brandon: Acta. Metallurgica. Vol. 14, p. 1479, (1966)). It is defined as being a grain boundary.

본 발명의 일 양태에 관련된 본딩 와이어용 구리 소선에서는, 상기 첨가 원소의 함유량의 합계가 0.0003 질량% 이상 0.002 질량% 이하인 것이 바람직하다.In the copper element wire for bonding wire which concerns on one aspect of this invention, it is preferable that the sum total of content of the said additional element is 0.0003 mass% or more and 0.002 mass% or less.

이 경우, 재결정 온도를 확실히 낮게 억제할 수 있고, 경도를 낮게 할 수 있다.In this case, recrystallization temperature can be surely suppressed low and hardness can be made low.

또, 상기 불가피 불순물인 Fe, Pb 및 S 의 함유량이, Fe ; 0.0001 질량% 이하, Pb ; 0.0001 질량% 이하 및 S ; 0.005 질량% 이하인 것이 바람직하다.Moreover, content of Fe, Pb, and S which are said inevitable impurities is Fe; 0.0001 mass% or less, Pb; 0.0001 mass% or less and S; It is preferable that it is 0.005 mass% or less.

전술한 바와 같이 불순물의 함유량을 규정함으로써, 재결정 온도를 확실히 낮게 억제할 수 있고, 경도를 낮게 할 수 있다.By defining the content of the impurity as described above, the recrystallization temperature can be surely lowered and the hardness can be lowered.

상기 본딩 와이어용 구리 소선 100 g 을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 입경 30 ㎛ 이상의 산 불용해 잔사물의 개수가 1000 개 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the number of acid-insoluble residues of 30 micrometers or more of particle diameters obtained by heat-dissolving 100 g of said copper wires for bonding wires in a nitric acid solution is 1000 or less.

이 경우, 본딩 와이어용 구리 소선의 내부에 존재하는 산 불용해 잔사물의 입경이 작고, 또한 개수가 적다. 이 때문에, 본딩 와이어를 제조할 때의 신선 가공시에 있어서의 단선의 발생을 억제하는 것이 가능해진다.In this case, the particle size of the acid-insoluble residue which exists in the inside of the copper wire for bonding wires is small, and its number is small. For this reason, it becomes possible to suppress generation | occurrence | production of the disconnection at the time of wire drawing at the time of manufacturing a bonding wire.

상기 본딩 와이어용 구리 소선을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 산 불용해 잔사물의 양이 0.00015 질량% 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the quantity of the acid insoluble residue obtained by heat-dissolving the said copper wire for bonding wires in a nitric acid solution is 0.00015 mass% or less.

이 경우, 본딩 와이어용 구리 소선의 내부에 존재하는 산 불용해 잔사물의 존재 비율이 적다. 이 때문에, 본딩 와이어를 제조할 때의 신선 가공시에 있어서의 단선의 발생을 억제하는 것이 가능해진다.In this case, the ratio of the acid insoluble residue which exists in the inside of the copper wire for bonding wires is small. For this reason, it becomes possible to suppress generation | occurrence | production of the disconnection at the time of wire drawing at the time of manufacturing a bonding wire.

본 발명의 일 양태에 관련된 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법은, 전술한 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법으로서, 순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하의 구리 원료에 Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 첨가하고, 구리 용탕을 생성하는 구리 용탕 생성 공정과, 상기 구리 용탕을 벨트·휠식 연속 주조기에 공급하고, 주괴를 연속적으로 제출하는 연속 주조 공정과, 제출된 주괴를 초기 온도 800 ℃ 이상의 조건으로 연속적으로 압연하는 연속 압연 공정을 구비하고 있다.The manufacturing method of the copper wire for bonding wire which concerns on one aspect of this invention is a manufacturing method of the copper wire for bonding wire mentioned above, Mg, Ca, Sr, Ba, in a copper raw material of purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less; A copper molten metal production process which adds 1 or more types of additional elements chosen from Ra, Zr, Ti, and a rare earth element, produces | generates the copper molten metal, and supplies the said copper molten metal to a belt-wheel continuous casting machine, and continuously submits an ingot. The continuous casting process and the continuous rolling process of rolling the submitted ingot continuously on the conditions of the initial temperature 800 degreeC or more are provided.

이 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법에 의하면, 순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하, 이른바 4NCu 의 구리 원료를 사용하고 있다. 이 때문에, 6NCu 를 사용하는 경우에 비하여, 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 비용을 대폭적으로 저감할 수 있다.According to the manufacturing method of this copper wire for bonding wires, the so-called 4NCu copper raw material is used for purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less. For this reason, compared with the case of using 6NCu, the manufacturing cost of the copper wire for bonding wires can be reduced significantly.

또한, 제출된 주괴를 초기 온도 800 ℃ 이상의 조건으로 연속적으로 압연하는 연속 압연 공정을 구비하고 있다. 이 때문에, 본딩 와이어용 구리 소선에 있어서의 특수 입계 비율 (Lσ/L) 을 50 % 이상으로 할 수 있다.Moreover, it is equipped with the continuous rolling process which continuously rolls the submitted ingot on conditions with an initial temperature of 800 degreeC or more. For this reason, the special grain boundary ratio (Lσ / L) in the copper element wire for bonding wire can be 50% or more.

또, 본 발명의 다른 양태에 관련된 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법은, 전술한 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법으로서, 순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하의 구리 원료에 Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 첨가하고, 구리 용탕을 생성하는 구리 용탕 생성 공정과, 상기 구리 용탕을 주형에 주입하여 주괴를 제출하는 주조 공정과, 얻어진 주괴를 초기 온도 800 ℃ 이상의 조건으로 압출 가공하여 압출 소선을 제출하는 압출 공정과, 얻어진 압출 소선에 대하여, 압연 가공 또는 신선 가공 중 어느 것과 어닐링을 반복 실시하는 가공·어닐링 공정과, 압하율 5 % 이상 25 % 이하로 압연하여 최종 선 직경 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하로 하는 경압하 공정을 구비하고 있다.Moreover, the manufacturing method of the copper wire for bonding wire which concerns on another aspect of this invention is a manufacturing method of the copper wire for bonding wire mentioned above, Mg, Ca, Sr, in a copper raw material of purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less; A copper molten metal forming step of adding at least one additional element selected from Ba, Ra, Zr, Ti, and rare earth elements and producing a copper molten metal, a casting process of injecting the copper molten metal into a mold and submitting an ingot; An extrusion process in which the ingot is extruded under conditions of an initial temperature of 800 ° C. or higher to submit an extrusion wire, a processing / annealing step of repeatedly annealing with any of rolling processing or wire drawing, and a reduction ratio of 5% with respect to the obtained extrusion wire. Rolling is carried out to 25% or more of the above, and the pressure reduction step is performed so that the final wire diameter may be 0.15 mm or more and 3.0 mm or less.

이 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법에 의하면, 순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하, 이른바 4NCu 의 구리 원료를 사용하고 있다. 이 때문에, 6NCu 를 사용하는 경우에 비하여, 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 비용을 대폭적으로 저감할 수 있다.According to the manufacturing method of this copper wire for bonding wires, the so-called 4NCu copper raw material is used for purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less. For this reason, compared with the case of using 6NCu, the manufacturing cost of the copper wire for bonding wires can be reduced significantly.

또한, 압출 소선에 대하여 압연 가공 또는 신선 가공 중 어느 것과 어닐링을 반복 실시하는 가공·어닐링 공정과, 압하율 5 % 이상 25 % 이하로 압연하여 최종 선 직경 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하로 하는 경압하 공정을 구비하고 있다. 이 때문에, 본딩 와이어용 구리 소선에 있어서의 특수 입계 비율 (Lσ/L) 을 50 % 이상으로 할 수 있다.Moreover, the process and annealing process which repeats annealing with any of a rolling process or a wire drawing with respect to an extrusion element wire, and the low pressure process which rolls by 5% or more and 25% or less of a reduction ratio, and makes final wire diameter 0.15mm or more and 3.0mm or less. Equipped with. For this reason, the special grain boundary ratio (Lσ / L) in the copper element wire for bonding wire can be 50% or more.

본 발명의 일 양태에 의하면, 경도가 낮고, 또한 연신율이 높고, 나아가 가공성이 우수한 본딩 와이어용 구리 소선 및 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a method for producing a copper wire for a bonding wire and a copper wire for a bonding wire having low hardness, high elongation, and further excellent workability.

도 1 은 본 발명의 일 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선을 제조할 때에 사용되는 연속 주조 압연 장치의 설명도이다.
도 2 는 본 발명의 일 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법의 플로우도이다.
도 3 은 본 발명의 다른 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법의 플로우도이다.
도 4 는 본 발명예 1 에 있어서의 산 불용해 잔사물의 평가 결과를 나타내는 그래프이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing of the continuous casting rolling apparatus used when manufacturing the copper wire for bonding wire which is one Embodiment of this invention.
It is a flowchart of the manufacturing method of the copper element wire for bonding wires which is one Embodiment of this invention.
It is a flowchart of the manufacturing method of the copper wire for bonding wire which is another embodiment of this invention.
It is a graph which shows the evaluation result of the acid insoluble residue in Example 1 of this invention.

이하에, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 본딩 와이어용 구리 소선 및 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법에 대하여 설명한다.Below, the manufacturing method of the copper wire for bonding wires and the copper wire for bonding wire which concerns on one Embodiment of this invention is demonstrated.

본 실시형태에 관련된 본딩 와이어용 구리 소선은, 선 직경 180 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는, 선 직경 20 ㎛ 이상 180 ㎛ 이하의 본딩 와이어를 제조할 때의 소재로서 사용된다.The copper element wire for bonding wire which concerns on this embodiment is used as a raw material at the time of manufacturing the bonding wire of 180 micrometers or less of wire diameters, More preferably, 20 micrometers or more and 180 micrometers or less of wire diameters.

또, 본 실시형태에 관련된 본딩 와이어용 구리 소선의 소선 직경은, 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하이다.Moreover, the wire diameter of the copper element wire for bonding wires which concerns on this embodiment is 0.15 mm or more and 3.0 mm or less.

이 본딩 와이어용 구리 소선은, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 합계로 0.0001 질량% 이상 0.01 질량% 이하의 범위로 함유하고, 잔부가 구리 및 불가피 불순물인 조성을 갖는다. 바람직하게는, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소의 함유량의 합계는, 0.0003 질량% 이상 0.002 질량% 이하이다.This copper wire for bonding wire contains in total at least 0.0001 mass% or more 0.01 mass% of 1 or more types of addition elements chosen from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and a rare earth element, It has a composition that is added copper and unavoidable impurities. Preferably, the sum total of content of 1 or more types of addition element chosen from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and a rare earth element is 0.0003 mass% or more and 0.002 mass% or less.

또, 상기 불가피 불순물인 Fe, Pb, S 의 함유량은, Fe ; 0.0001 질량% 이하, Pb ; 0.0001 질량% 이하, S ; 0.005 질량% 이하이다.Moreover, content of Fe, Pb, S which is the said unavoidable impurity is Fe; 0.0001 mass% or less, Pb; 0.0001 mass% or less, S; It is 0.005 mass% or less.

여기서, 희토류 원소란, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb 및 Lu 이다.Here, the rare earth elements are Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu.

이 본딩 와이어용 구리 소선의 특수 입계 비율 (Lσ/L) 은 50 % 이상이다. 여기서, 특수 입계 비율은, 모든 결정립계의 길이 (L) 에 대한 특수 입계의 길이 (Lσ) 의 비율이다. 전계 방출형 주사 전자 현미경을 사용한 EBSD 측정 장치에 의해 결정립계, 특수 입계를 특정하고, 모든 결정립계의 길이 (L) 및 특수 입계의 길이 (Lσ) 를 산출한다. 이 산출된 길이로부터, 특수 입계 비율이 얻어진다. 즉, 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선은, 통상적인 결정립계보다 특수 입계가 보다 많이 존재하고 있다.The special grain boundary ratio (Lσ / L) of the copper wire for bonding wires is 50% or more. Here, the special grain boundary ratio is the ratio of the length Lσ of the special grain boundary to the length L of all the grain boundaries. Grain boundaries and special grain boundaries are specified by an EBSD measuring apparatus using a field emission scanning electron microscope, and the length L of all grain boundaries and the length Lσ of the special grain boundaries are calculated. From this calculated length, a special grain boundary ratio is obtained. That is, in the copper element wire for bonding wire which is this embodiment, more special grain boundaries exist than a normal crystal grain boundary.

결정립계는, 2 차원 단면 관찰의 결과, 이웃하는 2 개의 결정 간의 배향 방위차가 15 °이상으로 되어 있는 경우의 당해 결정 간의 경계로서 정의된다.The grain boundary is defined as the boundary between the crystals when the orientation orientation difference between two neighboring crystals is 15 ° or more as a result of two-dimensional cross-sectional observation.

또, 특수 입계란, 결정학적으로 CSL 이론 (Kronberg et al : Trans. Met. Soc. AIME, 185, 501 (1949)) 에 기초하여 정의되는 Σ 값이 3 ≤ Σ ≤ 29 를 만족하는 대응 입계로서, 또한 당해 대응 입계에 있어서의 고유 대응 부위 격자 방위 결함 (Dq) 이, Dq ≤ 15 °/Σ1/2 (D. G. Brandon : Acta. Metallurgica. Vol.14, p.1479, (1966)) 를 만족하는 결정립계인 것으로서 정의된다.In addition, the special grain boundary is a crystallographically corresponding grain boundary satisfying 3 ≦ Σ ≦ 29, which is defined on the basis of the CSL theory (Kronberg et al: Trans. Met. Soc. AIME, 185, 501 (1949)). In addition, the intrinsic corresponding site lattice orientation defect (Dq) at the corresponding grain boundary satisfies Dq ≦ 15 ° / Σ 1/2 (DG Brandon: Acta. Metallurgica. Vol. 14, p. 1479, (1966)). It is defined as being a grain boundary.

또, 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선 100 g 을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 입경 30 ㎛ 이상의 산 불용해 잔사물의 개수가 1000 개 이하이다. 또한 상기 서술한 산 불용해 잔사물의 존재 비율이 0.00015 질량% 이하이다.Moreover, the number of acid-insoluble residues of 30 micrometers or more of particle diameters obtained by heat-dissolving 100 g of copper wires for bonding wires of this embodiment in nitric acid solution is 1000 or less. Moreover, the ratio of the acid insoluble residue mentioned above is 0.00015 mass% or less.

산 불용해 잔사물의 평가는, 다음과 같은 순서로 실시된다.Evaluation of acid insoluble residue is performed in the following procedure.

먼저, 표면을 세정한 본딩 와이어용 구리 소선으로부터 소정량 (100 g) 의 시료를 샘플링하고, 가열한 질산 용액에 가열 용해한다. 용해액을 실온까지 냉각 후, 필터로 여과하고 잔사물을 포집한다.First, a predetermined amount (100 g) of a sample is sampled from the copper element wire for bonding wire which wash | cleaned the surface, and it heat-dissolves in the heated nitric acid solution. The solution is cooled to room temperature, filtered through a filter, and the residue is collected.

잔사물을 포집한 필터를 칭량하고, 잔사물의 잔사 질량을 측정한다. 그리고, 시료 (본딩 와이어용 구리 소선) 의 양에 대한 잔사물의 양 (잔사 질량) 의 비율 (질량%) 을 산출한다. 이상에 의해, 본딩 와이어용 구리 소선을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 산 불용해 잔사물의 양 (존재 비율) 이 측정된다.The filter which collected the residue is weighed, and the residue mass of the residue is measured. And the ratio (mass%) of the quantity (residual mass) of the residue with respect to the quantity of a sample (copper wire for bonding wires) is computed. By the above, the quantity (presence ratio) of the acid insoluble residue obtained by heat-dissolving the copper wire for bonding wires in nitric acid solution is measured.

이어서, 잔사물을 포집한 필터를 주사형 전자 현미경에 의해 관찰하고, SEM 사진을 촬영한다. SEM 사진을 화상 해석하고, 잔사물의 크기 및 개수를 측정한다. 그리고 입경 30 ㎛ 이상의 잔사물의 개수를 구한다. 이상에 의해, 본딩 와이어용 구리 소선 100 g 을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 입경 30 ㎛ 이상의 산 불용해 잔사물의 개수가 측정된다.Next, the filter which collected the residue is observed with the scanning electron microscope, and SEM photograph is taken. The SEM photographs are image analyzed and the size and number of residues are measured. Then, the number of residues having a particle diameter of 30 µm or more is obtained. By the above, the number of the acid insoluble residue of particle size 30 micrometers or more obtained by heat-dissolving 100 g of copper wires for bonding wires in a nitric acid solution is measured.

다음으로, 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법에 대하여 설명한다.Next, the manufacturing method of the copper wire for bonding wire which is this embodiment is demonstrated.

결정립계의 전체 결정립계 길이 (L) 에 대한 특수 입계의 전체 특수 입계 길이 (Lσ) 의 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상인 본딩 와이어용 구리 소선은, 연속 주조 압연 방법 또는 주괴의 압출 가공 방법에 의해 제조된다.The copper wire for bonding wire whose ratio (Lσ / L) of the total special grain boundary length (Lσ) of the special grain boundary to the total grain boundary length (L) of the grain boundary is 50% or more can be obtained by the continuous casting rolling method or the extrusion processing method of the ingot. Are manufactured.

본 실시형태에서는, 도 1 에 나타내는 연속 주조 압연 장치 (10) 를 사용한 예로 설명한다.In this embodiment, it demonstrates as an example using the continuous casting-rolling apparatus 10 shown in FIG.

도 1 에 나타내는 연속 주조 압연 장치 (10) 는, 용해로 (11) 와, 유지로 (12) 와, 주조통 (13) 과, 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 와, 연속 압연 장치 (15) 와, 코일러 (18) 를 갖고 있다.The continuous casting rolling apparatus 10 shown in FIG. 1 includes the melting furnace 11, the holding furnace 12, the casting cylinder 13, the belt-wheel continuous casting machine 30, the continuous rolling apparatus 15, And a coiler 18.

본 실시형태에서는, 용해로 (11) 로서, 원통형의 노 본체를 갖는 샤프트로를 사용하고 있다. 노 본체의 하부에는 복수의 버너 (도시 생략) 가 원주 방향으로 배치되고, 또한 상하 방향으로 다단상으로 배치되어 있다. 그리고, 노 본체의 상부로부터 원료인 전기 구리가 장입된다. 상기 버너의 연소에 의해 전기 구리가 용해되고, 구리 용탕이 연속적으로 만들어진다.In this embodiment, the shaft furnace which has a cylindrical furnace main body is used as the melting furnace 11. In the lower part of the furnace main body, a plurality of burners (not shown) are arranged in the circumferential direction, and are arranged in multiple stages in the vertical direction. And electric copper which is a raw material is charged from the upper part of a furnace main body. By burning the burner, the electric copper is dissolved, and the molten copper is continuously made.

유지로 (12) 는, 용해로 (11) 에서 만들어진 순동 용탕을, 소정 온도에서 유지한 상태로 일단 저류시키고, 일정량의 구리 용탕을 주조통 (13) 에 보낸다.The fat and oil furnace 12 stores the pure copper molten metal produced by the melting furnace 11 in the state hold | maintained at predetermined temperature once, and sends a fixed amount of molten copper to the casting cylinder 13.

주조통 (13) 은, 유지로 (12) 로부터 보내진 구리 용탕을, 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 의 상방에 배치된 턴디시 (20) 까지 이송한다. 이 주조통 (13) 은, 예를 들어 Ar 등의 불활성 가스 또는 환원성 가스로 시일되어 있다. 또한, 이 주조통 (13) 에는, 불활성 가스에 의해 구리 용탕을 교반하는 교반 수단 (도시 없음) 이 형성되어 있다.The casting cylinder 13 transfers the molten copper sent from the holding furnace 12 to the tundish 20 arranged above the belt-wheel continuous casting machine 30. This casting cylinder 13 is sealed with inert gas or reducing gas, such as Ar, for example. Moreover, stirring means (not shown) which stirs a molten copper with an inert gas is provided in this casting cylinder 13.

턴디시 (20) 에는, 이송된 구리 용탕에 대하여 원소를 첨가하는 원소 첨가 수단 (21) 이 형성되어 있다. 또, 턴디시 (20) 의 구리 용탕의 흐름 방향 종단 측에는, 주탕 (注湯) 노즐 (22) 이 배치되어 있다. 이 주탕 노즐 (22) 을 통하여 턴디시 (20) 내의 구리 용탕이 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 에 공급된다.In the tundish 20, an element adding means 21 for adding an element to the transferred molten copper is formed. Moreover, the pouring nozzle 22 is arrange | positioned at the flow direction terminal side of the molten copper of the tundish 20. As shown in FIG. The molten copper in the tundish 20 is supplied to the belt-wheel continuous casting machine 30 through this pouring nozzle 22.

벨트·휠식 연속 주조기 (30) 는, 외주면에 홈이 형성된 주조륜 (31) 과, 이 주조륜 (31) 의 외주면의 일부에 접촉하도록 주회 이동되는 무단 벨트 (32) 를 갖는다. 상기 홈과 무단 벨트 (32) 사이에 형성된 공간에, 주탕 노즐 (22) 을 통하여 공급된 구리 용탕을 주입하여 냉각시키고, 봉상 주괴 (40) 를 연속적으로 주조한다.The belt-wheel continuous casting machine 30 has a casting wheel 31 with a groove formed on its outer circumferential surface, and an endless belt 32 that is circumferentially moved so as to contact a part of the outer circumferential surface of the casting wheel 31. In the space formed between the groove and the endless belt 32, the molten copper supplied through the pouring nozzle 22 is injected and cooled, and the rod-shaped ingot 40 is continuously cast.

그리고, 이 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 는, 연속 압연 장치 (15) 에 연결되어 있다. 이 연속 압연 장치 (15) 는, 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 로부터 제출된 봉상 주괴 (40) 를 연속적으로 압연하고, 소정 외경의 동황 (銅荒) 인선 (50) 을 제출한다. 연속 압연 장치 (15) 로부터 제출된 동황 인선 (50) 은, 세정 냉각 장치 (16) 및 탐상기 (17) 를 개재하여 코일러 (18) 에 권취된다.And this belt-wheel continuous casting machine 30 is connected to the continuous rolling apparatus 15. This continuous rolling apparatus 15 continuously rolls the rod-shaped ingot 40 submitted from the belt-wheel continuous casting machine 30, and submits the copper-sulfur cutting edge 50 of a predetermined outer diameter. The copper-sulfur cutting wire 50 submitted from the continuous rolling apparatus 15 is wound up by the coiler 18 via the washing | cleaning cooling apparatus 16 and the flaw detector 17. FIG.

다음으로, 이 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 를 사용한 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법에 대하여, 도 1, 도 2 를 사용하여 설명한다.Next, the manufacturing method of the copper wire for bonding wires using this belt-wheel continuous casting machine 30 is demonstrated using FIG. 1, FIG.

먼저, 용해로 (11) 에, 순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하의 구리 원료 (이른바 4NCu) 를 투입하고 용해하여 구리 용탕을 얻는다 (용해 공정 (S01)). 이 용해 공정 (S01) 에서는, 샤프트로의 복수의 버너의 공연비를 조정하여 용해로 (11) 의 내부를 환원 분위기로 한다.First, the copper raw material (so-called 4NCu) of purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less is thrown into the melting furnace 11, and it melt | dissolves and obtains a molten copper (melting process (S01)). In this melting process (S01), the air-fuel ratio of the some burner to a shaft is adjusted and the inside of the melting furnace 11 is made into a reducing atmosphere.

용해로 (11) 에 의해 얻어진 구리 용탕은, 유지로 (12) 및 주조통 (13) 을 개재하여 턴디시 (20) 까지 이송된다.The molten copper obtained by the melting furnace 11 is transferred to the tundish 20 via the holding furnace 12 and the casting cylinder 13.

여기서, 불활성 가스 또는 환원성 가스로 시일된 주조통 (13) 을 통과하는 구리 용탕은, 전술한 교반 수단에 의해 교반된다. 이로써, 구리 용탕과 불활성 가스 또는 환원성 가스의 반응이 촉진된다.Here, the molten copper passing through the casting cylinder 13 sealed with an inert gas or a reducing gas is stirred by the above-described stirring means. As a result, the reaction between the molten copper and the inert gas or the reducing gas is promoted.

다음으로, 원소 첨가 수단 (장치) (21) 에 의해, 턴디시 (20) 내의 구리 용탕에, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 원소가 연속적으로 첨가된다 (원소 첨가 공정 (S02)). 이로써, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 원소의 함유량이 합계로 0.0001 질량% 이상 0.01 질량% 이하, 보다 바람직하게는, 0.0003 질량% 이상 0.002 질량% 이하로 조정된 구리 용탕이 생성된다.Next, one or more elements selected from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and rare earth elements are continuously connected to the molten copper in the tundish 20 by the element addition means (apparatus) 21. (Element addition step (S02)). Thereby, content of 1 or more types of elements chosen from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and a rare earth element totals 0.0001 mass% or more and 0.01 mass% or less, More preferably, it is 0.0003 mass% or more and 0.002 mass The molten copper adjusted to% or less is produced.

이와 같이 성분 조정된 구리 용탕은, 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 에 주탕 노즐 (22) 을 통하여 공급되고, 봉상 주괴 (40) 가 연속적으로 제출된다 (연속 주조 공정 (S03)). 여기서, 연속 주조 공정 (S03) 에서는, 주조륜 (31) 의 홈과 무단 벨트 (32) 사이에 형성된 공간이 사다리꼴상을 이루고 있다. 이 때문에, 단면이 대략 사다리꼴상을 이루는 봉상 주괴 (40) 가 제출된다.The molten copper thus adjusted is supplied to the belt-wheel continuous casting machine 30 through the pouring nozzle 22, and the rod-shaped ingot 40 is continuously submitted (continuous casting step S03). Here, in the continuous casting step (S03), the space formed between the groove of the cast ring 31 and the endless belt 32 is trapezoidal. For this reason, the rod-shaped ingot 40 whose cross section becomes substantially trapezoidal is submitted.

이 봉상 주괴 (40) 는, 연속 압연 장치 (15) 에 공급되어 롤 압연 가공이 실시되고, 소정 외경 (본 실시형태에서는 직경 8 ㎜) 의 동황 인선 (50) 이 제출된다 (연속 압연 공정 (S04)). 이 연속 압연 공정 (S04) 에 있어서는, 400 ∼ 900 ℃ 의 범위에서 압연이 실시된다. 본 실시형태에서는, 압연의 초기 온도를 800 ℃ 이상으로 하고 있다. 압연의 초기 온도는, 바람직하게는 800 ℃ 이상, 1050 ℃ 이하이다.This rod-shaped ingot 40 is supplied to the continuous rolling apparatus 15, and a roll rolling process is performed, and the copper-sulfur cutting wire 50 of a predetermined outer diameter (8 mm in diameter in this embodiment) is submitted (continuous rolling process (S04) )). In this continuous rolling process (S04), rolling is performed in 400-900 degreeC. In this embodiment, the initial temperature of rolling is made 800 degreeC or more. The initial temperature of rolling becomes like this. Preferably it is 800 degreeC or more and 1050 degrees C or less.

연속 압연 장치 (15) 로부터 제출된 동황 인선 (50) 은, 세정 냉각 장치 (16) 및 탐상기 (17) 를 개재하여 코일러 (18) 에 권취된다. 세정 냉각 장치 (16) 는, 연속 압연 장치 (15) 로부터 제출된 동황 인선 (50) 의 표면을 알코올 등의 세정제로 세정함과 함께 냉각시킨다. 또, 탐상기 (17) 는, 세정 냉각 장치 (16) 로부터 보내진 동황 인선 (50) 의 흠집을 탐지한다.The copper-sulfur cutting wire 50 submitted from the continuous rolling apparatus 15 is wound up by the coiler 18 via the washing | cleaning cooling apparatus 16 and the flaw detector 17. FIG. The cleaning cooling device 16 cools the surface of the copper-sulfur cutting wire 50 submitted from the continuous rolling device 15 with a cleaning agent such as alcohol. Moreover, the flaw detector 17 detects the flaw of the copper-sulfur cutting ship 50 sent from the washing | cleaning cooling apparatus 16. FIG.

다음으로, 얻어진 동황 인선 (50) 에 대하여 신선 가공을 실시하고, 최종 선 직경 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하 (본 실시형태에서는 직경 0.9 ㎜) 로 한다 (신선 가공 공정 (S05)).Next, wire drawing is performed to the obtained copper-sulfur cutting wire 50, and it is set as final wire diameter 0.15 mm or more and 3.0 mm or less (in this embodiment, diameter 0.9mm) (drawing process (S05)).

그리고, 상기 서술한 신선 가공 공정 (S05) 후에, 150 ℃ 이상 250 ℃ 이하에서 재결정화 열처리를 실시한다 (마무리 열처리 공정 (S06)). 본 실시형태에서는, 220 ℃ 에서 2 시간의 분위기 열처리를 실시한다.And after re-crystallization heat processing process (S05) mentioned above, recrystallization heat treatment is performed at 150 degreeC or more and 250 degrees C or less (finishing heat processing process (S06)). In this embodiment, atmospheric heat treatment is performed at 220 degreeC for 2 hours.

이상과 같은 순서에 의해, 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선이 제출된다.By the above procedure, the copper wire for bonding wire which is this embodiment is submitted.

본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선은, 추가로 인발 가공이 실시되어 직경 180 ㎛ 이하의 세선이 되고, 본딩 와이어로서 사용된다.The copper wire for the bonding wire according to the present embodiment is further subjected to drawing processing to become a thin wire having a diameter of 180 μm or less, and used as a bonding wire.

이와 같은 특징을 갖는 본 실시형태의 본딩 와이어용 구리 소선에 의하면, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 합계로 0.0001 질량% 이상 0.01 질량% 이하의 범위로 함유하고, 잔부가 구리 및 불가피 불순물인 조성을 갖는다. 보다 바람직하게는, 상기 첨가 원소의 함유량의 합계는 0.0003 질량% 이상 0.002 질량% 이하이다. 이 때문에, 구리 중에 함유되는 S 가 상기 서술한 첨가 원소와 화합물을 형성한다. 따라서, S 의 영향이 작아지기 때문에, 재결정 온도를 낮게, 또한 경도를 낮게 할 수 있다.According to the copper element wire for bonding wires of this embodiment which has such a characteristic, 0.0001 mass% or more and 0.01 mass in total of 1 or more types of additional elements chosen from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and a rare earth element in total It contains in the range of% or less, and has a composition whose remainder is copper and an unavoidable impurity. More preferably, the sum total of content of the said additional element is 0.0003 mass% or more and 0.002 mass% or less. For this reason, S contained in copper forms the above-mentioned addition element and a compound. Therefore, since the influence of S becomes small, recrystallization temperature can be made low and hardness can be made low.

또, 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선의 특수 입계 비율 (Lσ/L) 은 50 % 이상이다. 또한, 전계 방출형 주사 전자 현미경을 사용한 EBSD 측정 장치에 의해, 결정립계, 특수 입계를 특정하고, 모든 결정립계의 길이 (L) 및 특수 입계의 길이 (Lσ) 를 산출한다. 그리고, 이 산출된 길이로부터, 특수 입계 비율이 얻어진다. 이 특수 입계 비율이 높은 경우에는, 조직 전체의 결정립계의 정합성이 향상되어, 전위가 축적되기 어려워진다. 따라서, 경도를 낮게 유지한 상태로, 연신율 및 가공성을 향상시키는 것이 가능해진다.Moreover, the special grain boundary ratio (Lσ / L) of the copper element wire for bonding wires which is this embodiment is 50% or more. In addition, by using an EBSD measuring apparatus using a field emission scanning electron microscope, grain boundaries and special grain boundaries are specified, and the length L of all grain boundaries and the length Lσ of the special grain boundaries are calculated. And a special grain boundary ratio is obtained from this calculated length. When this special grain boundary ratio is high, the match of the grain boundaries of the whole structure improves, and dislocations become difficult to accumulate. Therefore, it becomes possible to improve elongation and workability in the state which kept hardness low.

또, 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선 100 g 을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 입경 30 ㎛ 이상의 산 불용해 잔사물의 개수가 1000 개 이하이다. 또한, 산 불용해 잔사물의 양 (존재 비율) 은 0.00015 질량% 이하이다.Moreover, the number of acid-insoluble residues of 30 micrometers or more of particle diameters obtained by heat-dissolving 100 g of copper wires for bonding wires of this embodiment in nitric acid solution is 1000 or less. In addition, the amount (existence ratio) of an acid insoluble residue is 0.00015 mass% or less.

이와 같이, 산 불용해 잔사물의 입경이 작고, 또한 개수가 적고, 나아가 그 존재 비율도 억제되어 있다. 이 때문에, 본딩 와이어용 구리 소선을 본딩 와이어로 신선 가공할 때의 단선을 억제하는 것이 가능해진다.Thus, the particle size of an acid insoluble residue is small, the number is small, and also the existence ratio is suppressed. For this reason, it becomes possible to suppress the disconnection at the time of carrying out wire drawing of the copper wire for bonding wires with a bonding wire.

또, 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법에 의하면, 순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하, 이른바 4NCu 의 구리 원료를 사용하고 있다. 이 때문에, 6NCu 를 사용하는 경우와 비교하여, 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 비용을 대폭적으로 저감할 수 있다.Moreover, according to the manufacturing method of the copper element wire for bonding wires of this embodiment, purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less, so-called 4NCu copper raw material is used. For this reason, compared with the case where 6NCu is used, the manufacturing cost of the copper element wire for bonding wires can be reduced significantly.

또한, 벨트·휠식 연속 주조기 (30) 를 사용하여 봉상 주괴 (40) 를 연속적으로 제출하는 연속 주조 공정 (S03) 과, 제출된 봉상 주괴 (40) 를 초기 온도 800 ℃ 이상의 조건으로 연속적으로 압연하는 연속 압연 공정 (S04) 을 구비하고 있다. 이 때문에, 제출되는 본딩 와이어용 구리 소선의 특수 입계 비율 (Lσ/L) 을 50 % 이상으로 할 수 있다.Moreover, the continuous casting process S03 which continuously submits the rod-shaped ingot 40 using the belt-wheel continuous casting machine 30, and continuously rolling the submitted rod-shaped ingot 40 on conditions of the initial temperature 800 degreeC or more are carried out. Continuous rolling process (S04) is provided. For this reason, the special grain boundary ratio (Lσ / L) of the copper wire for bonding wires submitted can be 50% or more.

이상, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니며, 그 발명의 기술적 사상을 일탈하지 않는 범위에서 적절히 변경할 수 있다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, It can change suitably in the range which does not deviate from the technical idea of the invention.

본 실시형태에서는, 벨트·휠식 연속 주조기를 사용하여 본딩 와이어용 구리 소선을 제조하는 것으로서 설명하였지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.In this embodiment, although demonstrated as what manufactures the copper wire for a bonding wire using a belt-wheel continuous casting machine, it is not limited to this.

예를 들어, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 구리 용탕 생성 공정 (S11) 과, 주조 공정 (S12) 과, 열간 압출 공정 (S13) 과, 가공·어닐링 공정 (S14) 과, 경압하 공정 (S15) 을 실시함으로써, 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상인 본딩 와이어용 구리 소선을 제출해도 된다.For example, as shown in FIG. 3, the molten copper production process (S11), the casting process (S12), the hot extrusion process (S13), the processing and annealing process (S14), and the low pressure process (S15) By carrying out, the copper wire for bonding wires having a special grain boundary ratio (Lσ / L) of 50% or more may be submitted.

구리 용탕 생성 공정 (S11) 에서는, 순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하의 구리 원료 (이른바 4NCu) 에, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 첨가하여 구리 용탕을 얻는다.In the molten copper production step (S11), at least one kind selected from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and rare earth elements to a copper raw material (so-called 4NCu) having a purity of 99.99% by mass or more and 99.998% by mass or less. The element is added to obtain a molten copper.

주조 공정 (S12) 에서는, 구리 용탕을 주형에 주탕하여 직경 200 ㎜ ∼ 400 ㎜ 의 주괴를 얻는다.In the casting step (S12), molten copper is poured into a mold to obtain an ingot having a diameter of 200 mm to 400 mm.

열간 압출 공정 (S13) 에서는, 주괴를 초기 온도 800 ℃ 이상의 조건으로 압출 가공하여, 압출 소선을 얻는다. 압출 가공의 초기 온도는, 바람직하게는 800 ℃ 이상, 1050 ℃ 이하이다.In a hot extrusion process (S13), an ingot is extruded on conditions of 800 degreeC or more of initial stages, and an extrusion element wire is obtained. The initial temperature of extrusion processing becomes like this. Preferably it is 800 degreeC or more and 1050 degrees C or less.

가공·어닐링 공정 (S14) 에서는, 압출 소선에 대하여 압연 가공 또는 신선 가공 중 어느 것과, 어닐링을 반복 실시한다. 어닐링은, 단면 감소율이 80 % 이상이 될 때마다 실시한다.In work and annealing process (S14), annealing is repeated with either a rolling process or a wire drawing process with respect to an extrusion element wire. Annealing is performed whenever the cross-sectional reduction rate is 80% or more.

경압하 공정 (S15) 에서는, 압하율 5 % 이상 25 % 이하로 압연하고, 최종 선 직경 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하로 한다.In the pressure reduction step (S15), rolling is performed at a reduction ratio of 5% or more and 25% or less, and the final wire diameter is 0.15 mm or more and 3.0 mm or less.

실시예Example

(실시예 1)(Example 1)

이하에, 전술한 본 실시형태인 본딩 와이어용 구리 소선에 대하여 평가한 평가 시험의 결과에 대하여 설명한다.Below, the result of the evaluation test evaluated about the copper wire for bonding wire which is this embodiment mentioned above is demonstrated.

도 2 의 플로우도에 나타내는 방법에 의해, 본 발명예 1 ∼ 5 및 비교예 1, 2 의 본딩 와이어용 구리 소선을 제출하였다. 상세하게는, 4NCu 에, 표 1 에 기재된 첨가 원소를 첨가하여 구리 용탕을 얻었다. 구리 용탕을 벨트·휠식 연속 주조기에 주탕하여 연속 주조 압연을 실시하였다. 나아가 신선 가공 및 마무리 열처리를 실시하고, 직경 0.9 ㎜ 의 본딩 와이어용 구리 소선을 제출하였다.By the method shown in the flowchart of FIG. 2, the copper wire for bonding wires of Examples 1-5 of this invention and Comparative Examples 1, 2 were submitted. In detail, the addition element of Table 1 was added to 4NCu, and the molten copper was obtained. The molten copper was poured into a belt-wheel continuous casting machine, and continuous casting rolling was performed. Furthermore, wire drawing and finishing heat treatment were performed, and the copper wire for bonding wires of 0.9 mm in diameter was submitted.

도 3 의 플로우도에 나타내는 방법에 의해, 본 발명예 6 ∼ 10 및 비교예 3, 4 의 본딩 와이어용 구리 소선을 제출하였다. 상세하게는, 4NCu 에, 표 1 에 기재된 첨가 원소를 첨가하여 구리 용탕을 얻었다. 구리 용탕을 사용하여 직경 240 ㎜ 의 주괴를 제출하였다. 이 주괴를 800 ℃ 에서 열간 압출 가공하여 직경 8 ㎜ 의 압출 소선을 제출하였다. 이 압출 소선에 대하여 압연과 어닐링을 반복하여 선 직경 1 ㎜ 의 구리 소선을 제출하였다. 그 후, 이 구리 소선에 대하여 압연율 10 % 의 압연을 실시하였다. 이어서 220 ℃ 에서 마무리 열처리를 실시하고, 직경 0.9 ㎜ 의 본딩 와이어용 구리 소선을 제출하였다.By the method shown in the flowchart of FIG. 3, the copper wire for bonding wires of Examples 6-10 of this invention and Comparative Examples 3, 4 were submitted. In detail, the addition element of Table 1 was added to 4NCu, and the molten copper was obtained. Ingot of 240 mm diameter was submitted using the molten copper. This ingot was hot-extruded at 800 degreeC, and the extrusion wire of 8 mm in diameter was submitted. Rolling and annealing were repeated about this extruded element wire, and the copper element wire of 1 mm of wire diameter was submitted. Then, rolling of 10% of the rolling rate was performed with respect to this copper element wire. Subsequently, finish heat treatment was performed at 220 degreeC, and the copper wire for bonding wires of diameter 0.9mm was submitted.

종래예의 본딩 와이어용 구리 소선을 이하의 방법에 의해 제출하였다. 먼저, 4NCu 에 0.0030 질량% 의 Zr 을 첨가하여 구리 용탕을 얻었다. 구리 용탕을 사용하여 직경 240 ㎜ 의 주괴를 제출하였다. 이 주괴를 800 ℃ 에서 열간 압출 가공하여 직경 8 ㎜ 의 압출 소선을 제출하였다. 이 압출 소선에 대하여 신선 가공을 실시하였다. 이어서 220 ℃ 에서 마무리 열처리를 실시하고, 직경 0.9 ㎜ 의 본딩 와이어용 구리 소선을 제출하였다.The copper wire for the bonding wire of the prior art example was submitted by the following method. First, 0.0030 mass% Zr was added to 4NCu, and the molten copper was obtained. Ingot of 240 mm diameter was submitted using the molten copper. This ingot was hot-extruded at 800 degreeC, and the extrusion wire of 8 mm in diameter was submitted. The extrusion process was performed for the extrusion wire. Subsequently, finish heat treatment was performed at 220 degreeC, and the copper wire for bonding wires of diameter 0.9mm was submitted.

또, 얻어진 본 발명예 1 ∼ 10, 비교예 1 ∼ 4 및 종래예의 본딩 와이어용 구리 소선에 대하여, 신선 가공을 실시하여 직경 180 ㎛ 의 본딩 와이어를 제출하였다.Moreover, about the copper wire for bonding wires of obtained invention examples 1-10, comparative examples 1-4, and a prior art example, wire drawing was performed and the bonding wire of 180 micrometers in diameter was submitted.

(특수 입계 비율)(Special grain boundary ratio)

얻어진 본 발명예 1 ∼ 10, 비교예 1 ∼ 4 및 종래예의 본딩 와이어용 구리 소선에 대하여, 특수 입계 비율 (Lσ/L) 을 이하의 방법에 의해 측정하였다.About the obtained copper wire for bonding wires of Examples 1-10, Comparative Examples 1-4, and a prior art example, the special grain boundary ratio (Lσ / L) was measured by the following method.

각 시료에 대하여, 내수 연마지 및 다이아몬드 지립을 사용하여 기계 연마를 실시하였다. 이어서, 콜로이달 실리카 용액을 사용하여 마무리 연마를 실시하였다.Each sample was subjected to mechanical polishing using a domestic abrasive paper and diamond abrasive grains. Subsequently, finish polishing was performed using a colloidal silica solution.

그리고, EBSB 측정 장치 (HITACHI 사 제조 S4300-SEM, EDAX/TSL 사 제조 OIM Data Collection) 와 해석 소프트 (EDAX/TSL 사 제조 OIM Data Analysis ver. 5.2) 에 의해 결정립계, 특수 입계를 특정하고, 모든 결정립계의 길이 (L) 및 특수 입계의 길이 (Lσ) 를 산출하였다. 이로써, 평균 결정 입경 및 특수 입계 길이 비율의 해석을 실시하였다. 측정 방법의 상세를 이하에 나타낸다.The grain boundaries and special grain boundaries are specified by an EBSB measuring device (S4300-SEM manufactured by HITACHI, OIM Data Collection manufactured by EDAX / TSL) and analysis software (OIM Data Analysis ver. 5.2 manufactured by EDAX / TSL). The length L and the length Lσ of the special grain boundary were calculated. Thereby, the average grain size and the special grain boundary length ratio were analyzed. The detail of a measuring method is shown below.

먼저, 주사형 전자 현미경을 사용하여, 시료 표면의 측정 범위 내의 개개의 측정점에 전자선을 조사하고, 전자선을 시료 표면에 2 차원으로 주사시켰다. 후방 산란 전자선 회절에 의한 방위 해석에 의해, 인접하는 측정점 간의 방위차가 15 °이상이 되는 측정점 간을 결정립계로 하였다.First, using a scanning electron microscope, the electron beam was irradiated to the individual measurement points within the measurement range of a sample surface, and the electron beam was scanned in two dimensions on the sample surface. By azimuth analysis by backscattered electron beam diffraction, the grain boundary was set between the measurement points which the orientation difference between adjacent measurement points becomes 15 degrees or more.

측정 범위에 있어서의 결정립계의 전체 입계 길이 (모든 결정립계의 길이) (L) 를 측정하였다. 또 인접하는 결정립의 계면이 특수 입계인 결정립계의 위치를 결정함과 함께, 특수 입계의 전체 입계 길이 (모든 특수 입계의 길이) (Lσ) 를 측정하였다. 그리고, 상기 측정한 결정립계의 전체 입계 길이 (L) 에 대한 특수 입계의 길이 (Lσ) 의 비율 (Lσ/L) 을 구하고, 특수 입계 비율 (Lσ/L) 로 하였다.The total grain boundary length (length of all grain boundaries) L of the grain boundaries in the measurement range was measured. Moreover, while determining the position of the grain boundary whose interface between adjacent grains is a special grain boundary, the total grain boundary length (length of all the special grain boundaries) (Lσ) of the special grain boundary was measured. And the ratio (Lσ / L) of the length Lσ of the special grain boundary with respect to the total grain boundary length L of the said measured grain boundary was calculated | required, and it was set as the special grain boundary ratio (Lσ / L).

(경도 시험)(Hardness test)

다음으로, 본 발명예 1 ∼ 10, 비교예 1 ∼ 4 및 종래예의 본딩 와이어용 구리 소선 및 그들 본딩 와이어용 구리 소선으로부터 제출된 본딩 와이어에 대하여 경도를 측정하였다.Next, the hardness was measured about the copper wire for bonding wires of this invention example 1-10, comparative examples 1-4, and a prior art example, and the bonding wire submitted from the copper wire for these bonding wires.

또한, 경도 시험은, AKASHI 제조의 마이크로 비커스 시험기 MVK-700 을 사용하고, JIS Z 2241 에 준거하여 실시하였다.In addition, the hardness test was performed based on JISZ22241 using the Micro Vickers tester MVK-700 made from AKASHI.

(연신율)(Elongation)

다음으로, 본 발명예 1 ∼ 10, 비교예 1 ∼ 4 및 종래예의 본딩 와이어용 구리 소선 및 그들 본딩 와이어용 구리 소선으로부터 제출된 본딩 와이어에 대하여, AKASHI 제조의 암슬러식 수형 (竪型) 인장 시험기를 사용하여 인장 시험을 실시하고, 연신율을 평가하였다.Next, with respect to the bonding wires submitted from the copper wires for the bonding wires of the invention examples 1 to 10, the comparative examples 1 to 4, and the conventional examples, and the copper wires for the bonding wires thereof, Amsler-type male tensile made by AKASHI. The tensile test was done using the test machine, and the elongation was evaluated.

(가공성)(Processability)

얻어진 본 발명예 1 ∼ 10, 비교예 1 ∼ 4 및 종래예의 본딩 와이어용 구리 소선에 대하여, 추가로 신선 가공을 실시하여, 직경이 87 ㎛, 50 ㎛, 또는 20 ㎛ 인 와이어를 제작하였다. 신선 가공시의 단선 횟수를 평가하였다.Further, wire drawing was performed on the obtained copper wires for bonding wires of the inventive examples 1 to 10, the comparative examples 1 to 4, and the conventional example to produce wires having a diameter of 87 µm, 50 µm, or 20 µm. The number of disconnections at the time of drawing was evaluated.

본딩 와이어용 소선의 특수 입계 비율 (Lσ/L), 경도 및 연신율, 본딩 와이어의 경도 및 연신율, 그리고 신선 가공시의 단선 횟수에 대하여, 평가한 결과를 표 1 에 나타낸다.Table 1 shows the results of the evaluation of the special grain boundary ratio (Lσ / L), hardness and elongation of the bonding wire for bonding wire, hardness and elongation of the bonding wire, and the number of disconnections at the time of drawing.

Figure pct00001
Figure pct00001

본 발명예 1 ∼ 10 에 있어서는, 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상이 되어 있는 것이 확인된다. 한편, 비교예 1 ∼ 4 및 종래예에서는, 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 미만이었다. 본 발명예 6 ∼ 10 과 종래예를 대비하면, 최종 선 직경을 갖는 소선에 대하여 마무리 열처리를 실시하기 전에, 압연율 10 % 의 가공을 실시함으로써, 특수 입계 비율 (Lσ/L) 을 증가시키는 것이 가능하다는 것이 확인된다.In Examples 1 to 10 of the present invention, it is confirmed that the special grain boundary ratio (Lσ / L) is 50% or more. On the other hand, in Comparative Examples 1-4 and the prior art example, the special grain boundary ratio (Lσ / L) was less than 50%. In contrast to Examples 6 to 10 of the present invention and the prior art, it is possible to increase the special grain boundary ratio (Lσ / L) by processing the rolling rate of 10% before performing the final heat treatment on the element wire having the final wire diameter. It is confirmed that it is possible.

특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상인 본 발명예 1 ∼ 10 에 있어서는, 선 직경 180 ㎛ 의 본딩 와이어 상태에서 경도가 40 Hv 이하로 낮아져 있는 것이 확인된다.In Examples 1 to 10 of the present invention, in which the special grain boundary ratio (Lσ / L) is 50% or more, it is confirmed that the hardness is lowered to 40 Hv or less in the state of a bonding wire having a wire diameter of 180 µm.

또, 본 발명예 1 ∼ 10 에 있어서는, 비교예에 비하여, 신선시의 단선이 억제되어 있고, 세경까지 신선 가능하다는 것이 확인된다.Moreover, in Examples 1-10 of this invention, compared with the comparative example, the disconnection at the time of drawing is suppressed and it can be confirmed that it can be drawn to narrow diameter.

(실시예 2)(Example 2)

다음으로, 본 발명예 1 ∼ 10 의 본딩 와이어용 구리 소선을 사용하여 산 불용해 잔사물의 잔사량과 입도 분포를 평가하였다.Next, the residue amount and particle size distribution of the acid insoluble residue were evaluated using the copper wire for bonding wires of Examples 1-10 of this invention.

시료를 질산에 의해 에칭 처리를 실시하고, 표면에 부착된 불순물을 제거하였다. 이어서, 100 g 의 시료를 칭량하였다. 이 시료를 질산 용액에 가열 용해하였다. 가열 온도는 60 ℃ 로 하였다. 이 작업을 반복하였다.The sample was etched with nitric acid to remove impurities adhering to the surface. Next, 100 g of sample was weighed. This sample was dissolved in a nitric acid solution by heating. Heating temperature was 60 degreeC. This work was repeated.

다음으로, 실온까지 냉각시키고, 그리고 필터로 여과하여 잔사물을 포집하였다.Next, it cooled to room temperature, and filtered with a filter to collect the residue.

여기서는, 폴리카보네이트 필터 (공경 0.4 ㎛) 를 사용하여 여과를 실시하였다. 잔사물을 포집한 폴리카보네이트 필터를 클린룸 내에서 정밀하게 칭량하고, 잔사물의 잔사 질량을 측정하였다.Here, filtration was performed using the polycarbonate filter (pore size 0.4 micrometer). The polycarbonate filter which collected the residue was precisely weighed in a clean room, and the residue mass of the residue was measured.

또, 산 불용해 잔사물의 입도 분포를 측정하였다. 전술한 잔사물을 포집한 필터를 주사형 전자 현미경에 의해 관찰하고, SEM 화상을 촬영하였다. 화상을 컴퓨터에 입력하고, 화상 해석용 소프트 (WinRoof 소프트) 에 의해 화상을 2 치화 처리의 해석을 실시하였다. 그리고, 잔사물의 투영 면적을 측정하고, 이 투영 면적과 동일한 면적을 갖는 원의 직경 (원 상당 직경) 을 산출하였다. 이 원 상당 직경을 잔사물의 입경으로서 사용하였다. 잔사물의 크기 (원 상당 직경) 및 개수를 측정하였다. 또한, 본 발명예 1 의 데이터로부터 입도 분포의 그래프를 작성하였다. 그 결과를 도 4 에 나타낸다.In addition, the particle size distribution of the acid insoluble residue was measured. The filter which collected the above-mentioned residue was observed with the scanning electron microscope, and the SEM image was taken. The image was input to a computer, and the image was binarized by the software for image analysis (WinRoof software). And the projection area of the residue was measured, and the diameter (circle equivalent diameter) of the circle which has the area same as this projection area was computed. This circle equivalent diameter was used as a particle size of a residue. The size (circle equivalent diameter) and the number of residues were measured. Moreover, the graph of particle size distribution was created from the data of Example 1 of this invention. The results are shown in Fig.

WinRoof 소프트의 화상 해석의 결과, 본 발명예 1 ∼ 10 의 시료 (본딩 와이어용 구리 소선) 100 g 을 질산 용액에 가열 용해했을 때, 입경 30 ㎛ 이상의 산 불용해 잔사물의 개수가 모두 1000 개 이하인 것이 확인되었다. 또, 상기 서술한 방법으로 잔사물의 잔사 질량을 측정한 결과, 본 발명예 1 ∼ 10 의 시료에 있어서의 산 불용해 잔사물의 질량비는, 0.00015 질량% 이하인 것이 확인되었다.As a result of image analysis of WinRoof software, when 100 g of samples (copper wire for bonding wire) of Examples 1 to 10 of the present invention were dissolved in a nitric acid solution, all of the acid-insoluble residues having a particle diameter of 30 µm or more were 1000 or less. It was confirmed. Moreover, as a result of measuring the residue mass of the residue by the method mentioned above, it was confirmed that the mass ratio of the acid insoluble residue in the sample of this invention Examples 1-10 is 0.00015 mass% or less.

산업상 이용가능성Industrial availability

본 실시형태의 본딩 와이어용 구리 소선은, 경도가 낮고, 또한 연신율이 높고, 나아가 가공성이 우수하다. 이 때문에, 본 실시형태의 구리 소선은, Au 선 대신에 사용되는 Cu 본딩 와이어의 제조 공정에 바람직하게 적용할 수 있다.The copper element wire for bonding wires of this embodiment is low in hardness, high in elongation, and also excellent in workability. For this reason, the copper element wire of this embodiment can be preferably applied to the manufacturing process of Cu bonding wire used instead of Au wire.

30 : 벨트·휠식 연속 주조기30: belt-wheel continuous casting machine

Claims (7)

선 직경 180 ㎛ 이하의 본딩 와이어를 형성하기 위한 구리 소선으로서,
소선 직경이 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하이고,
Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 합계로 0.0001 질량% 이상 0.01 질량% 이하의 범위로 함유하고, 잔부가 구리 및 불가피 불순물인 조성을 갖고,
EBSD 법으로 측정된 모든 결정립계의 길이 (L) 에 대한 특수 입계의 길이 (Lσ) 의 비율인 특수 입계 비율 (Lσ/L) 이 50 % 이상인 것을 특징으로 하는 본딩 와이어용 구리 소선.
As a copper element wire for forming the bonding wire of the wire diameter of 180 micrometers or less,
The wire diameter is 0.15 mm or more and 3.0 mm or less,
At least one additive element selected from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti and rare earth elements is contained in a range of 0.0001% by mass to 0.01% by mass in total, and the balance has a composition of copper and unavoidable impurities ,
A special grain boundary ratio (Lσ / L), which is a ratio of the length Lσ of the special grain boundary to the length L of all the grain boundaries measured by the EBSD method, is 50% or more.
제 1 항에 있어서,
상기 첨가 원소의 함유량의 합계가 0.0003 질량% 이상 0.002 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 본딩 와이어용 구리 소선.
The method of claim 1,
The sum total of content of the said additional element is 0.0003 mass% or more and 0.002 mass% or less, The copper wire for bonding wires characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 불가피 불순물인 Fe, Pb 및 S 의 함유량이 Fe ; 0.0001 질량% 이하, Pb ; 0.0001 질량% 이하 및 S ; 0.005 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 본딩 와이어용 구리 소선.
3. The method according to claim 1 or 2,
Fe, Pb, and S which are said unavoidable impurities are Fe; 0.0001 mass% or less, Pb; 0.0001 mass% or less and S; It is 0.005 mass% or less, The copper wire for bonding wires characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 본딩 와이어용 구리 소선 100 g 을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 입경 30 ㎛ 이상의 산 불용해 잔사물의 개수가 1000 개 이하인 것을 특징으로 하는 본딩 와이어용 구리 소선.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The number of acid-insoluble residues of 30 micrometers or more of particle diameters obtained by heat-dissolving 100 g of said copper wires for bonding wires in a nitric acid solution is 1000 or less, The copper wires for bonding wires characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 본딩 와이어용 구리 소선을 질산 용액에 가열 용해하여 얻어지는 산 불용해 잔사물의 양이 0.00015 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 본딩 와이어용 구리 소선.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The amount of the acid insoluble residue obtained by heat-dissolving the said copper wire for bonding wires in a nitric acid solution is 0.00015 mass% or less, The copper wire for bonding wires characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법으로서,
순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하의 구리 원료에 Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 첨가하고, 구리 용탕을 생성하는 구리 용탕 생성 공정과,
상기 구리 용탕을 벨트·휠식 연속 주조기에 공급하고, 주괴를 연속적으로 제출하는 연속 주조 공정과,
제출된 주괴를 초기 온도 800 ℃ 이상의 조건으로 연속적으로 압연하는 연속 압연 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법.
As a manufacturing method of the copper wire for bonding wires in any one of Claims 1-5,
Copper molten metal production process which adds 1 or more types of additional elements chosen from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and rare earth elements to the copper raw material of purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less, and produces copper molten metal. and,
A continuous casting step of supplying the molten copper to a belt-wheel continuous casting machine and continuously submitting an ingot;
A method of producing a copper wire for bonding wire, comprising a continuous rolling step of continuously rolling the submitted ingot under the conditions of an initial temperature of 800 ° C. or more.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법으로서,
순도 99.99 질량% 이상 99.998 질량% 이하의 구리 원료에 Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti 및 희토류 원소에서 선택되는 1 종 이상의 첨가 원소를 첨가하고, 구리 용탕을 생성하는 구리 용탕 생성 공정과,
상기 구리 용탕을 주형에 주입하여 주괴를 제출하는 주조 공정과,
얻어진 주괴를 초기 온도 800 ℃ 이상의 조건으로 압출 가공하여 압출 소선을 제출하는 압출 공정과,
얻어진 압출 소선에 대하여, 압연 가공 또는 신선 가공 중 어느 것과 어닐링을 반복 실시하는 가공·어닐링 공정과,
압하율 5 % 이상 25 % 이하로 압연하여 최종 선 직경 0.15 ㎜ 이상 3.0 ㎜ 이하로 하는 경압하 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 본딩 와이어용 구리 소선의 제조 방법.
As a manufacturing method of the copper wire for bonding wires in any one of Claims 1-5,
Copper molten metal production process which adds 1 or more types of additional elements chosen from Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Zr, Ti, and rare earth elements to the copper raw material of purity 99.99 mass% or more and 99.998 mass% or less, and produces copper molten metal. and,
A casting process of injecting the molten copper into a mold and submitting an ingot;
An extrusion process of extruding the obtained ingot under conditions of an initial temperature of 800 ° C. or more and submitting an extrusion wire;
Process and annealing process which repeats annealing with either a rolling process or a wire process with respect to the obtained extrusion element wire,
A rolling method for producing a copper wire for bonding wire, comprising: a rolling reduction step of rolling at a reduction ratio of 5% or more and 25% or less to a final wire diameter of 0.15 mm or more and 3.0 mm or less.
KR1020147001156A 2011-07-22 2012-07-17 Copper strand for bonding wire and method for producing copper strand for bonding wire KR101926215B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011161036 2011-07-22
JPJP-P-2011-161036 2011-07-22
PCT/JP2012/068090 WO2013015154A1 (en) 2011-07-22 2012-07-17 Copper strand for bonding wire and method for producing copper strand for bonding wire

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140050630A true KR20140050630A (en) 2014-04-29
KR101926215B1 KR101926215B1 (en) 2018-12-06

Family

ID=47601004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147001156A KR101926215B1 (en) 2011-07-22 2012-07-17 Copper strand for bonding wire and method for producing copper strand for bonding wire

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP5344070B2 (en)
KR (1) KR101926215B1 (en)
CN (1) CN103608910B (en)
MY (1) MY171026A (en)
TW (1) TWI586448B (en)
WO (1) WO2013015154A1 (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6175932B2 (en) * 2013-06-24 2017-08-09 三菱マテリアル株式会社 Drawing copper wire, drawing copper wire manufacturing method and cable
KR101519075B1 (en) * 2013-12-03 2015-05-21 (주)신동 Electromagnetic wave shielding Fe-Cu wire, rod and Manufacturing method for the same
JP6056876B2 (en) 2015-01-07 2017-01-11 三菱マテリアル株式会社 Superconducting stabilizer
JP6299803B2 (en) * 2016-04-06 2018-03-28 三菱マテリアル株式会社 Superconducting wire and superconducting coil
JP6299802B2 (en) 2016-04-06 2018-03-28 三菱マテリアル株式会社 Superconducting stabilizer, superconducting wire and superconducting coil
CN106119597A (en) * 2016-08-30 2016-11-16 芜湖楚江合金铜材有限公司 The different in nature copper wires of a kind of environment-friendly and high-performance and processing technique thereof
CN106947881A (en) * 2017-05-05 2017-07-14 三门峡宏鑫有色金属有限公司 Multielement rare earth high conductivity Cu alloy material and preparation method thereof
WO2019088080A1 (en) 2017-10-30 2019-05-09 三菱マテリアル株式会社 Superconductivity stabilizing material, superconducting wire, and superconducting coil
WO2019151130A1 (en) * 2018-01-30 2019-08-08 タツタ電線株式会社 Bonding wire
CN111661953A (en) * 2020-06-16 2020-09-15 包头稀土研究院 Method for separating fluorine and phosphorus in mixed rare earth alkaline wastewater and application
JP2022103567A (en) 2020-12-28 2022-07-08 日立金属株式会社 Rough drawing wire production method and rough drawing wire production device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4676827A (en) * 1985-03-27 1987-06-30 Mitsubishi Kinzoku Kabushiki Kaisha Wire for bonding a semiconductor device and process for producing the same
JPH02207541A (en) * 1989-02-07 1990-08-17 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacture of semiconductor element connection wire
JP2010214400A (en) * 2009-03-16 2010-09-30 Mitsubishi Materials Corp Method and apparatus for manufacturing rough copper wire, and rough copper wire
WO2011086978A1 (en) * 2010-01-12 2011-07-21 三菱マテリアル株式会社 Phosphorous-containing copper anode for electrolytic copper plating, method for manufacturing same, and electrolytic copper plating method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63286212A (en) * 1987-05-16 1988-11-22 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacture of metal wire for wiring of semiconductor
JP4501818B2 (en) * 2005-09-02 2010-07-14 日立電線株式会社 Copper alloy material and method for producing the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4676827A (en) * 1985-03-27 1987-06-30 Mitsubishi Kinzoku Kabushiki Kaisha Wire for bonding a semiconductor device and process for producing the same
JPH02207541A (en) * 1989-02-07 1990-08-17 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacture of semiconductor element connection wire
JP2010214400A (en) * 2009-03-16 2010-09-30 Mitsubishi Materials Corp Method and apparatus for manufacturing rough copper wire, and rough copper wire
WO2011086978A1 (en) * 2010-01-12 2011-07-21 三菱マテリアル株式会社 Phosphorous-containing copper anode for electrolytic copper plating, method for manufacturing same, and electrolytic copper plating method

Also Published As

Publication number Publication date
MY171026A (en) 2019-09-23
JP2013048225A (en) 2013-03-07
CN103608910B (en) 2016-03-02
JP5344070B2 (en) 2013-11-20
CN103608910A (en) 2014-02-26
WO2013015154A1 (en) 2013-01-31
TWI586448B (en) 2017-06-11
TW201323104A (en) 2013-06-16
KR101926215B1 (en) 2018-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20140050630A (en) Copper strand for bonding wire and method for producing copper strand for bonding wire
KR101615830B1 (en) Copper alloy for electronic devices, method of manufacturing copper alloy for electronic devices, copper alloy plastic working material for electronic devices, and component for electronic devices
JP5962707B2 (en) Copper alloy for electronic / electric equipment, copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, manufacturing method of copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, electronic / electric equipment parts and terminals
JP6758746B2 (en) Copper alloys for electronic / electrical equipment, copper alloy strips for electronic / electrical equipment, parts for electronic / electrical equipment, terminals, and bus bars
JP7180101B2 (en) Copper alloys for electronic and electrical equipment, copper alloy sheet materials for electronic and electrical equipment, parts for electronic and electrical equipment, terminals and bus bars
JP6780187B2 (en) Copper alloys for electronic / electrical equipment, copper alloy strips for electronic / electrical equipment, parts for electronic / electrical equipment, terminals, and busbars
EP3348656B1 (en) Copper alloy for electronic/electrical device, copper alloy plastically worked material for electronic/electrical device, component for electronic/electrical device, terminal, and busbar
JP6680042B2 (en) Copper alloys for electronic / electrical devices, plastic alloys for electronic / electrical devices, parts for electronic / electrical devices, terminals, and bus bars
JP7014211B2 (en) Copper alloys for electronic / electrical equipment, copper alloy strips for electronic / electrical equipment, parts for electronic / electrical equipment, terminals, and bus bars
JP6187629B1 (en) Copper alloy for electronic and electric equipment, copper alloy plastic working material for electronic and electric equipment, parts for electronic and electric equipment, terminals, and bus bars
KR20120081974A (en) Copper alloy wire and process for producing same
JP5544316B2 (en) Cu-Co-Si-based alloys, copper products, electronic parts, and connectors
JP2013049893A (en) Conductor for solar cell interconnector, and solar cell interconnector
JP2021055128A (en) Copper alloy for electronic and electric device, copper alloy sheet and bar material for electronic and electric device, component for electronic and electric device, terminal, and bus bar
JP5514762B2 (en) Cu-Co-Si alloy with excellent bending workability

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right