KR20140045221A - Equipment for protecting cold cathode vacuum gauge of sem and fib chamber - Google Patents

Equipment for protecting cold cathode vacuum gauge of sem and fib chamber Download PDF

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KR20140045221A KR1020120111489A KR20120111489A KR20140045221A KR 20140045221 A KR20140045221 A KR 20140045221A KR 1020120111489 A KR1020120111489 A KR 1020120111489A KR 20120111489 A KR20120111489 A KR 20120111489A KR 20140045221 A KR20140045221 A KR 20140045221A
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    • G01L21/00—Vacuum gauges

Abstract

The present invention relates to a device for protecting a cold cathode vacuum gauge for measuring a vacuum level in a secondary electron microscope (SEM) and a focus ion beam (FIB) chamber. More specifically, the device is directly connected to a pump line discharging the gas remaining in or introduced to the SEM and FIB chambers, thereby preventing the cold cathode vacuum gauge from being easily polluted due to impurities contained in the pump line and thus improving the reliability of the vacuum level and extending the lifespan of the gauge, and the gauge is installed on the outside of the cover, thereby allowing easy replacement of the gauge at any time. A coupling pipe connects the cold cathode vacuum gauge to the discharge line when the gas remaining in the chamber or introduced to the chamber is discharged by a pump, and both end portions of the coupling pipe are provided with a flange. The coupling pipe consists of first and second pipes with a stepped portion formed on the inner surface thereof. A clamp connecting member has first and second gripping members with clamp portions which are locked to the flange portions to prevent separation of the flange portions when the flanges of the first and second pipes are attached to and facing each other. The first and second gripping members are connected to each other at one side by a hinge, and at the other side by a bolt and a nut. An aperture having a nozzle orifice and an O-ring are interposed between the flange portions of the first and second pipes.

Description

SEM과 FIB 챔버 내부의 진공도 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치{Equipment for protecting cold cathode vacuum gauge of SEM and FIB chamber}Technical Field [0001] The present invention relates to a cold cathode vacuum gauge protection device for measuring the degree of vacuum in a SEM and FIB chamber,

본 발명은 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치에 관한 것으로서 보다 상세하게는 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도 측정시 배출되는 펌프 라인에 바로 연결되어 잔류 또는 주입가스에 의해 냉음극 진공 게이지가 쉽게 오염되는 것을 방지하여 진공도 측정의 신뢰성을 높이고 게이지의 수명을 연장하여 오랜 기간 사용할 수 있도록 함과 게이지를 커버 외부에 설치하여 언제든 쉽게 교환할 수 있도록 한 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a cold cathode vacuum gauge protection device for measuring the degree of vacuum in an SEM & FIB chamber, and more particularly, to a cold cathode vacuum gauge protection device for measuring the degree of vacuum in an SEM & FIB chamber, This makes it possible to use it for a long period of time. Also, it can be easily replaced at any time by installing the gauge on the outside of the cover. Cold cathode for measuring the degree of vacuum inside the SEM & FIB chamber To a protection device for a vacuum gauge.

일반적으로 FIB(Focus Ion Beam)장치는 집속 빔을 시료 표면에 주사해서 발생하는 2차 이온 등을 검출해서 현미경 상을 관찰 또는 시료 표면을 가공하는 장치이다.In general, the FIB (Focus Ion Beam) device is a device that observes a microscope or processes a specimen surface by detecting a secondary ion generated by scanning a focusing beam on the surface of the specimen.

또한, SEM(Secondary Electron Microscope)장치는 전자현미경의 일종으로, 전자 빔을 시료 표면에 주사해서 발생하는 2차 전자, 반사전자, 투과전자 X선, 음극선, 내부 기전력 등을 검출하여 대상시료를 관찰하기 위한 것이다. 보통 2차 전자 상 관찰에 이용된다. 즉 고 진공 상태에서 전자빔을 주사하여 시료의 이상 유무를 확인하고, 시료 위의 물질들을 분석하는 장비를 일컫는다.In addition, SEM (Secondary Electron Microscope) is a type of electron microscope, which detects secondary electrons, reflection electrons, transmission electron X-rays, cathode rays, internal electromotive force, etc. generated by scanning an electron beam on the surface of a sample, . It is usually used for secondary electron observations. That is, it refers to a device for analyzing the substances on the sample by checking the presence or absence of the sample by scanning electron beams in a high vacuum state.

이러한 SEM&FIB 장비에는 시료가 로딩 되는 챔버를 고 진공 상태로 유지하기 위한 펌프(건식 펌프, TMP(Turbo-Molecular Pump), 이온 펌프 등)가 연결 설치된다.In this SEM & FIB equipment, a pump (dry pump, TMP (Turbo-Molecular Pump), ion pump, etc.) for maintaining the chamber in which the sample is loaded in a high vacuum state is connected.

이때 첨부도면 도 1에 도시된 바와 같이 상기 챔버(100) 내부의 잔류 또는 주입가스가 펌프(300)에 의해 배출될 때 배출라인(200) 상에는 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)가 설치되어 진공도를 측정하도록 되어 있다.1, a cold cathode vacuum gauge 400 is disposed on the discharge line 200 when residual gas or injection gas in the chamber 100 is discharged by the pump 300, Is installed to measure the degree of vacuum.

상기 배출라인(200)과 냉음극 진공 게이지(400)를 연결하는 연결관(500)은 통상적으로 Ø25mm의 크기를 갖는 직관으로 연결되어 있다. 따라서 챔버(100) 내부의 가스가 펌프(300)에 의해 배출될 때 일부의 잔류 혹은 주입 가스의 일부가 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)로 전달되어 챔버(100) 내부의 가스 주입 정도를 측정하게 된다.The connection pipe 500 connecting the discharge line 200 and the cold cathode vacuum gauge 400 is connected by an intrinsic pipe having a size of Ø25 mm. Accordingly, when the gas inside the chamber 100 is exhausted by the pump 300, a part of the residual or injection gas is transferred to the cold cathode vacuum gauge 400, The degree of injection is measured.

진공도를 측정하는 상기의 냉음극 진공 게이지(400)에 연결관(500)을 통해 전달되는 가스의 양이 많아 일정한 시간이 경과 되면 냉음극 진공 게이지(400)에 오염물질이 쌓여 오염도의 신뢰성에 문제를 야기시키며, 또한 냉음극 진공 게이지(400)의 오염으로 인해 자주 교체하여 주어야 하는 불편함과, 냉음극 진공 게이지의 교체 작업시 냉음극 진공 게이지가 기계장치의 내부에 설치되어 있어 설치된 부분의 공간이 협소하여 교체 작업이 어려워 여성의 경우 교체를 할 수 없는 문제점도 있다.When a certain amount of time passes after the amount of gas delivered through the connection pipe 500 to the cold cathode vacuum gauge 400 for measuring the degree of vacuum is large, contaminants are accumulated in the cold cathode vacuum gauge 400, And the inconvenience of frequent replacement due to contamination of the cold cathode vacuum gauge 400 and the inconvenience of replacing the cold cathode vacuum gauge when the cold cathode vacuum gauge is installed in the interior of the machine, There is also a problem that it is not possible to replace the female in the case where the replacement work is difficult because of the narrowness.

더불어 종래에는 상기 냉음극 진공 게이지를 교체시 SEM&FIB 측정장비 전체를 정지시키고 냉음극 진공 게이지의 교체 작업을 실시하여야 함으로 SEM&FIB 측정장비를 냉음극 진공 게이지의 교체 작업시마다 장시간 사용할 수 없게 되는 문제점도 있었다.
In addition, when the cold cathode vacuum gauge is replaced, the entire SEM & FIB measuring instrument must be stopped and the cold cathode vacuum gauge must be replaced. Thus, there is a problem that the SEM & FIB measuring instrument can not be used for a long time during the replacement operation of the cold cathode vacuum gauge.

본 발명은 상기한 문제점을 해소하고자 안출한 것으로서 이의 목적은 챔버와 펌프를 연결하는 배출라인과 냉음극 진공 게이지를 연결하는 연결관부재에 잔류 혹은 주입가스로부터 오염을 최소화하고자 아파츄(aperture)를 착탈 가능하게 설치함으로써 냉음극 진공 게이지에 연결관을 통해 전달되는 가스의 양을 조절할 수 있도록 하여 냉음극 진공 게이지에 오염물질이 급격히 쌓이는 것을 방지하여 오염도의 신뢰성을 갖도록 하며, 냉음극 진공 게이지를 장치의 외부에 별도로 설치함으로 누구나 간편하고 간단히 교체작업을 할 수 있는 이점이 있는 SEM&FIB 챔버 내부의 오염 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치를 제공하는데 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to overcome the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for controlling an aperture, So that it is possible to adjust the amount of gas delivered through the connection pipe to the cold cathode vacuum gauge, thereby preventing contaminants from being accumulated on the cold cathode vacuum gauge so as to have reliability of the contamination degree, The present invention provides a protection device for a cold cathode vacuum gauge for measuring contamination inside a SEM & FIB chamber, which is advantageous in that a simple and simple replacement operation can be performed by anyone.

상기 본 발명의 목적은 챔버 내부의 잔류 혹은 주입가스가 펌프에 의해 배출될 때 배출라인 상에는 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)를 연결하는 양측 끝단부에 플랜지부를 형성하고 내측으로 단턱부를 형성한 제1파이프와 제2파이프로 나누어져 이루어진 연결관로부재와; 상기 제1파이프와 제2파이프의 플랜지부를 마주보도록 부착하면 부착된 플랜지부가 분리되는 것을 방지하는 플랜지부가 걸려지는 클램프부를 구비한 제1그립부재와 제2그립부재가 힌지에 의해 일측이 연결되고 연결되고 타측은 볼트와 너트의 나합에 의해 결합되는 클램프접속부재와; 상기 마주보도록 부착된 제1파이프와 제2파이프의 플랜지부 사이에는 노즐공이 구비된 아파츄(aperture) 및 O-링을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 SEM&FIB 챔버 내부의 오염 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치에 의하여 달성된다.It is an object of the present invention to provide a vacuum cleaner in which a flange is formed at both end portions connecting a cold cathode vacuum gauge on a discharge line when residual gas or injection gas in a chamber is discharged by a pump, A connection pipe member divided into a first pipe and a second pipe; A first grip member having a flange portion for preventing the attached flange portion from being detached when the flange portion of the first pipe and the flange portion of the second pipe are mounted to face each other, and a second grip member having one side connected by a hinge And the other end of the clamp connecting member is engaged by the engagement of the bolt and the nut; And an O-ring and an aperture having a nozzle hole are provided between the first pipe and the second pipe attached to face each other. The cold cathode vacuum gauge for measuring contamination inside the SEM & FIB chamber Is achieved.

상기 아파츄(aperture)는 제1파이프와 제2파이프의 단턱부에 끼워지는 돌출고정부를 몸체의 양측에 형성하며, 몸체의 중앙에는 노즐공이 구비되고 노즐공과 연통되도록 일측면에서 타측 쪽으로 경사면을 형성하는 확개부를 형성하며 몸체의 측면부에는 O-링이 끼워져 설치되는 끼움홈이 형성되어 이루어진 것을 특징으로 하는 SEM&FIB 챔버 내부의 오염 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치에 의하여 달성된다.The aperture is formed at both sides of the body so as to be fitted in the stepped portions of the first pipe and the second pipe. The nozzle has a nozzle hole at the center of the body and has a sloped surface from one side to the other to communicate with the nozzle hole. And an O-ring is formed on a side surface of the body to form a widening portion for forming a widening portion. The SEM & FIB chamber is provided with a cold cathode vacuum gauge protection device for measuring contamination inside the chamber.

상기 노즐공의 지름은 2mm~5mm인 것을 특징으로 하는 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치에 의하여 달성된다.
And the diameter of the nozzle hole is 2 mm to 5 mm. The cold cathode vacuum gauge protection device for measuring the degree of vacuum inside the SEM & FIB chamber is achieved.

이와 같은 본 발명은 챔버와 펌프를 연결하는 배출라인과 냉음극 진공 게이지를 연결하는 연결관부재에 가스를 공급하는 아파츄(aperture)를 착탈 가능하게 설치함으로써 진공도를 측정하는 상기의 냉음극 진공 게이지에 연결관을 통해 전달되는 가스의 양을 조절할 수 있도록 하여 냉음극 진공 게이지에 오염물질이 급격히 쌓이는 것을 방지하여 진공도의 신뢰성을 갖도록 하며, 냉음극 진공 게이지를 장치의 외부에 별도로 설치함으로 누구나 간편하고 간단히 교체작업을 할 수 있는 이점이 있다.
In the present invention, an aperture for supplying a gas to a connection pipe member connecting a discharge line connecting a chamber and a pump to a cold cathode vacuum gauge is detachably installed to thereby measure the degree of vacuum. The cold cathode vacuum gauge The cold cathode vacuum gauge is installed in the outside of the apparatus so that it is possible to control the amount of the gas delivered through the connection pipe to prevent sudden accumulation of contaminants in the cold cathode vacuum gauge, There is an advantage that it can be easily replaced.

도 1은 일반적인 전자현미경에 냉음극 진공 게이지의 설치 상태를 보여주는 예시도.
도 2는 본 발명의 기술이 적용된 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도를 측정하기 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치의 개략도.
도 3은 본 발명의 요부인 클램프접속부재 및 아파츄의 구조를 보여주는 분해 사시도.
도 4는 본 발명의 기술이 적용된 SEM&FIB 챔버 내부의 오염 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치의 사용상태를 보여주는 단면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an exemplary view showing the installation state of a cold cathode vacuum gauge in a general electron microscope. FIG.
FIG. 2 is a schematic view of a cold cathode vacuum gauge protecting apparatus for measuring the degree of vacuum inside a SEM & FIB chamber to which the technique of the present invention is applied; FIG.
Fig. 3 is an exploded perspective view showing the structure of the clamp connecting member and the apchu which are the essential parts of the present invention. Fig.
FIG. 4 is a sectional view showing the use state of a cold cathode vacuum gauge protection device for measuring contamination inside a SEM & FIB chamber to which the technique of the present invention is applied; FIG.

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부도면 도 2는 본 발명의 기술이 적용된 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도를 측정하기 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치의 개략도이며, 도 3은 본 발명의 요부인 클램프접속부재 및 아파츄의 구조를 보여주는 분해 사시도로써 이에 따른 본 발명의 구조는 챔버(100) 내부의 잔류 혹은 주입가스가 펌프(200)에 의해 배출될 때 배출라인(300) 상에는 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)가 연결관로부재(10)에 의하여 연결 설치된다.FIG. 2 is a schematic view of a cold cathode vacuum gauge protection apparatus for measuring a degree of vacuum inside a SEM & FIB chamber to which the technique of the present invention is applied. FIG. 3 is a schematic view showing a clamp connecting member, The cold cathode vacuum gauge 400 is connected to the discharge line 300 when the residual gas or injection gas in the chamber 100 is discharged by the pump 200. [ Are connected by a pipe member (10).

상기 연결관로부재(10)는 배출라인(300)과 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)를 연결하도록 양측 끝단부에 플랜지부(10a-1)(10b-1)를 형성하고 내측으로 단턱부(10a-2)(10b-2)를 형성한 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)로 나누어져 이루어진 구조이다.The connecting pipe member 10 is formed with flange portions 10a-1 and 10b-1 at both ends so as to connect the discharge line 300 and the cold cathode vacuum gauge 400, And a first pipe 10a and a second pipe 10b having the step portions 10a-2 and 10b-2 formed thereon.

한편 상기 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)의 플랜지부(10a-1)(10b-1)를 마주보도록 밀착하고 밀착된 두 플랜지부(10a-1)(10b-1)가 분리되는 것을 방지하도록 상기 플랜지부(10a-1)(10b-1)가 걸려지는 클램프부(20a-1)(20b-1)를 구비한 제1그립부재(20a)와 제2그립부재(20b)가 힌지(21)에 의해 일측이 연결되고 타측은 볼트(23)와 너트(24)의 나합에 의해 결합되는 클램프접속부재(20)에 의해 결합된다.On the other hand, the two flange portions 10a-1 and 10b-1 which are in close contact with the first pipe 10a to face the flange portions 10a-1 and 10b-1 of the second pipe 10b, The first grip member 20a and the second grip member 20b having the clamp portions 20a-1 and 20b-1 to which the flange portions 10a-1 and 10b-1 are hooked, Is coupled by a hinge (21) and the other side is coupled by a clamp connecting member (20) which is engaged by the engagement of the bolt (23) and the nut (24).

상기 마주보도록 밀착된 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)의 플랜지부(10a-1)(10b-1) 사이에는 노즐공(31)이 구비된 아파츄(aperture)(30) 및 O-링(40)을 포함하여 이루어진 구조이다.An aperture 30 is provided between the flanges 10a-1 and 10b-1 of the first pipe 10a and the second pipe 10b which are in close contact with each other and have a nozzle hole 31, And an O-ring (40).

상기 아파츄(aperture)(30)는 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)의 단턱부(10a-2)(10b-2)에 끼워지는 돌출고정부(33)를 몸체(30a)의 양측에 형성하며, 몸체(30a)의 중앙에는 노즐공(31)이 구비되고 노즐공(31)과 연통되도록 일측면에서 타측 쪽으로 경사면을 형성하는 확개부(34)를 형성하며 몸체(30a)의 측면부에는 O-링(40)이 끼워져 설치되는 끼움홈(35)이 형성되어 이루어진 구조이다.The aperture 30 is formed in the body 30a so that the projecting and retreating part 33 fitted to the step parts 10a-2 and 10b-2 of the first pipe 10a and the second pipe 10b, The body 30a is formed with a nozzle hole 31 at the center thereof and a widening portion 34 forming an inclined surface from one side to the other side so as to communicate with the nozzle hole 31, And a fitting groove 35 is formed in the side surface of the housing 40. The O-

상기 노즐공(31)의 지름은 2mm~5mm이 바람직하다. 그 이유는 지름이 1mm 이하이면 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)에 전달되는 챔버(100) 내부의 가스의 양이 적어 진공도 측정시 에러를 일으키게 되는 문제가 있으며, 노즐공(31)의 지름이 5mm 이상이면 종래와 같이 너무 많은 양의 잔류 또는 주입된 가스가 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)에 전달되어 가스에 포함되어 있는 하이드로카본(hydrocarbon)이 흡착되어 냉음극 진공 게이지의 오염으로 인해 자주 교체해주어야 하는 불편함과, 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)가 오염되어 있음으로 진공도의 측정시 신뢰성을 떨어뜨리게 되는 원인이 된다.The diameter of the nozzle hole 31 is preferably 2 mm to 5 mm. If the diameter is less than 1 mm, there is a problem that the amount of gas in the chamber 100, which is transferred to the cold cathode vacuum gauge 400, is small, causing an error in measuring the degree of vacuum. The residual or injected gas is transferred to the cold cathode vacuum gauge 400 so that hydrocarbons contained in the gas are adsorbed to the cold cathode vacuum gauge 400. As a result, The inconvenience of frequent replacement due to the contamination of the cathode vacuum gauge and the contamination of the cold cathode vacuum gauge 400 cause the reliability of the vacuum measurement to deteriorate.

상기와 같은 본 발명의 사용상태는 시료가 로딩 되는 챔버(100)를 고 진공 상태로 유지하기 위한 펌프(건식 펌프, TMP(Turbo-Molecular Pump), 이온 펌프 등)(200)가 연결 설치되며 상기 챔버(100) 내부에는 여러 가스가 주입되어, 상기 챔버(100) 내부에 시료 위에 아이온 빔을 주사하여 식각이나 증착 작업을 한다.The use state of the present invention is such that a pump (a dry pump, a TMP (Turbo-Molecular Pump), an ion pump, etc.) 200 for maintaining the chamber 100 in which the sample is loaded in a high vacuum state is connected, Various gases are injected into the chamber 100, and an ion beam is injected into the chamber 100 to perform etching or vapor deposition.

이때 첨부도면 도 4에 도시된 바와 같이 상기 챔버(100) 내부의 잔류 혹은 주입가스가 펌프(200)에 의해 배출될 때 배출라인(300) 상에는 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)가 설치되어 가스의 주입량을 측정하도록 되어 있다. 4, a cold cathode vacuum gauge 400 is disposed on the discharge line 300 when the residual gas or injection gas in the chamber 100 is discharged by the pump 200, So that the amount of gas injected is measured.

상기 오염도 측정에 대하여 좀더 구체적으로 설명하면 배출라인(300)과 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)를 연결하는 연결관로부재에 주입된 가스가 인입되면 연결관로부재(10)를 구성하는 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)의 플랜지부(10a-1)(10b-1) 사이에 설치된 아파츄(aperture)(30)의 노즐공(31)을 통과하여 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400) 쪽으로 공급된다.The contamination degree measurement will be described in more detail. When the gas injected into the connection pipe member connecting the discharge line 300 and the cold cathode vacuum gauge 400 is drawn in, the connection pipe member 10 is configured Passes through a nozzle hole 31 of an aperture 30 provided between the first pipe 10a and the flange portion 10b-1 of the second pipe 10b to form a cold cathode vacuum Gauge (Cold Cathode Vacuum Gauge)

좀더 구체적으로는 챔버(100) 내부의 주입 가스가 펌프(200)에 의해 배출될 때 배출라인(300) 상에는 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)를 연결하는 양측 끝단부에 플랜지부(10a-1)(10b-1)를 형성하고 내측으로 단턱부(10a-2)(10b-2)를 형성한 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)로 나누어져 이루어진 연결관로부재(10) 사이의 단턱부(10a-2)(10b-2)에 아파츄(aperture)(30)이 삽입되어 설치된다.More specifically, when the injection gas inside the chamber 100 is exhausted by the pump 200, the exhaust line 300 is provided with a cold cathode vacuum gauge 400 at both ends thereof, A first pipe 10a and a second pipe 10b which are divided into a first pipe 10a and a second pipe 10b which form the stepped portions 10a-1 and 10b-1 and the step portions 10a-2 and 10b- An aperture 30 is inserted and installed in the step portions 10a-2 and 10b-2 between the first and second step portions 10a and 10b.

상기 아파츄(aperture)(30)는 몸체(30a)의 양측에 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)의 단턱부(10a-2)(10b-2)에 끼워지는 돌출고정부(33)가 형성되어 있어 압력변화가 발생하더라도 흔들림 및 유동성이 확보된다. 또한 상기 아파츄(aperture)(30)의 몸체(30a) 측면부에는 O-링(40)이 끼워져 설치되는 끼움홈(35)이 형성되어 상기한 끼움홈(35)에 삽설된 O-링(40)도 유동성이 제안된다. The aperture 30 is formed on both sides of the body 30a by a projecting portion 10a-2 (10b-2) of the first pipe 10a and the second pipe 10b 33 are formed so that shaking and fluidity are ensured even when pressure changes occur. The O-ring 40 is inserted into a side surface of the body 30a of the aperture 30 to form an O-ring 40 inserted in the fitting groove 35, ) Is also proposed.

상기에서와 같이 아파츄(aperture)(30)가 연결관로부재(10)의 일정한 부위에 설치되어 있어 연결관로부재(10)에 인입된 가스는 몸체(30a)의 중앙에 형성된 노즐공(31)을 통과하게 되는데, 이때 상기 노즐공(31)이 연결관로부재(10)를 구성하는 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)의 지름이 크기 때문에 아파츄(aperture)(30)에 의해 막혀 배출라인(300)와 아파츄(30) 사이에 위치하는 제1파이프(10a) 내측에는 압력이 발생되며, 상기 압력이 발생된 가스는 노즐공(31)을 통해 배출 이동된다.As described above, the aperture 30 is provided at a predetermined portion of the connection pipe member 10 so that the gas introduced into the connection pipe member 10 passes through the nozzle hole 31 formed at the center of the body 30a, Since the diameter of the first pipe 10a and the second pipe 10b constituting the connection pipe member 10 is large in the nozzle hole 31, A pressure is generated inside the first pipe 10a positioned between the clogged discharge line 300 and the apatch 30 and the generated gas is discharged through the nozzle hole 31. [

상기 노즐공(31)과 연통되도록 일측면에는 타측 쪽으로 경사면을 형성하는 확개부(35)를 구비하고 있어 노즐공(31)을 통과한 가스는 확개되어 넓게 퍼지기 때문에 적은 양의 가스로도 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(300)에서 진공도의 측정이 가능하게 되는 것이다.The nozzle hole 31 is provided with a narrowed portion 35 formed on one side thereof so as to communicate with the nozzle hole 31. Since the gas passing through the nozzle hole 31 spreads and spreads widely, The vacuum degree can be measured by a gauge (Cold Cathode Vacuum Gauge) 300.

한편 상기 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)를 연결하는 클램프접속부재(20)는 제1파이프(10a)와 제2파이프(10b)의 플랜지부(10a-1)(10b-1)를 마주보도록 한 후 플랜지부(10a-1)(10b-1)가 클램프부(20a-1)(20b-1)에 안착되도록 제1그립부재(20a)와 제2그립부재(20b)를 힌지(21) 회동시킨 후 너트(24)를 조여 고정하며, 아파츄(aperture)(30)를 교환하고자 할 때에는 너트(24)를 풀고 제1그립부재(20a)와 제2그립부재(20b)를 힌지(21) 회동시켜 클램프접속부재(20)를 분리한다.The clamp connecting member 20 connecting the first pipe 10a and the second pipe 10b is connected to the flange portions 10a-1 and 10b-1 of the first pipe 10a and the second pipe 10b, The first grip member 20a and the second grip member 20b are positioned so that the flange portions 10a-1 and 10b-1 are seated on the clamp portions 20a-1 and 20b-1, The nut 24 is rotated and the nut 24 is tightened and the aperture 24 is unscrewed and the first grip member 20a and the second grip member 20b are opened when the aperture 30 is to be exchanged. The hinge 21 is rotated to separate the clamp connecting member 20.

한편 본 발명에서 연결관로부재(10) 길게 연장시켜 미도시된 본체 외부로 끝단을 노출시킨 후 노출된 끝단에 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)를 연결하면 편리하고 간편하게 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)(400)를 교환 및 설치할 수 있는 이점이 있다.
Meanwhile, in the present invention, when the cold cathode vacuum gauge 400 is connected to the exposed end after exposing the end of the connecting pipe member 10 to the outside of the body, which is not shown, (Cold Cathode Vacuum Gauge) 400 can be exchanged and installed.

10 : 연결관로부재 10a : 제1파이프
10b : 제2파이프 10a-1,10b-1 : 플랜지부
10a-2,10b-2 : 단턱부 20 : 클램프접속부재
20a : 제1그립부재 20b : 제2그립부재
20a-1,20b-1 : 클램프부 21 : 힌지
23 : 볼트 24 : 너트
30 : 아파츄(aperture) 30a : 몸체
31 : 노즐공 33 : 돌출고정부
34 : 확개부 35 : 끼움홈
40 : O-링 100 : 챔버
200 : 펌프 300 : 배출라인
400 : 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge) 10: connecting pipe member 10a: first pipe
10b: second pipe 10a-1, 10b-1: flange portion
10a-2, 10b-2: step portion 20: clamp connecting member
20a: first grip member 20b: second grip member
20a-1, 20b-1: clamp part 21: hinge
23: bolt 24: nut
30: aperture 30a: body
31: nozzle hole 33:
34: fastening portion 35: fitting groove
40: O-ring 100: chamber
200: Pump 300: Discharge line
400: Cold Cathode Vacuum Gauge

Claims (3)

챔버 내부의 잔류 혹은 주입가스가 펌프에 의해 배출될 때 배출라인 상에는 냉음극 진공 게이지(Cold Cathode Vacuum Gauge)를 연결하는 양측 끝단부에 플랜지부를 형성하고 내측으로 단턱부를 형성한 제1파이프와 제2파이프로 나누어져 이루어진 연결관로부재와;
상기 제1파이프와 제2파이프의 플랜지부를 마주보도록 부착하면 부착된 플랜지부가 분리되는 것을 방지하는 플랜지부가 걸려지는 클램프부를 구비한 제1그립부재와 제2그립부재가 힌지에 의해 일측이 연결되고 연결되고 타측은 볼트와 너트의 나합에 의해 결합되는 클램프접속부재와;
상기 마주보도록 부착된 제1파이프와 제2파이프의 플랜지부 사이에는 노즐공이 구비된 아파츄(aperture) 및 O-링을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치.
When the residual gas or injection gas in the chamber is discharged by the pump, a first pipe and a second pipe are formed on the discharge line, each of which has a flange at both ends connected to a cold cathode vacuum gauge, A connecting pipe member divided into two pipes;
A first grip member having a flange portion for preventing the attached flange portion from being detached when the flange portion of the first pipe and the flange portion of the second pipe are mounted to face each other, and a second grip member having one side connected by a hinge And the other end of the clamp connecting member is engaged by the engagement of the bolt and the nut;
Cold cathode vacuum gauge for measuring the degree of vacuum in the SEM & FIB chamber, characterized in that it comprises an aperture (Aperture) and an O-ring provided between the nozzle and the flange of the first pipe and the second pipe facing each other Protection device.
제 1 항에 있어서,
상기 아파츄(aperture)는 제1파이프와 제2파이프의 단턱부에 끼워지는 돌출고정부를 몸체의 양측에 형성하며, 몸체의 중앙에는 노즐공이 구비되고 노즐공과 연통되도록 일측면에서 타측 쪽으로 경사면을 형성하는 확개부를 형성하며 몸체의 측면부에는 O-링이 끼워져 설치되는 끼움홈이 형성되어 이루어진 것을 특징으로 하는 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치.
The method according to claim 1,
The aperture is formed on both sides of the protruding fixing portion fitted to the stepped portion of the first pipe and the second pipe on both sides of the body, the center of the body is provided with a nozzle hole and the inclined surface from one side to the other side in communication with the nozzle hole A protective device for a cold cathode vacuum gauge for measuring the degree of vacuum in the SEM & FIB chamber, characterized in that the forming groove is formed and a side groove of the body is formed with a fitting groove into which the O-ring is fitted.
제 1 항에 있어서, 상기 노즐공의 지름은 2mm ~ 5mm인 것을 특징으로 하는 SEM&FIB 챔버 내부의 진공도 측정을 위한 냉음극 진공 게이지의 보호장치.

The cold cathode vacuum gauge protection device of claim 1, wherein the diameter of the nozzle hole is 2 mm to 5 mm.

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