KR20140009095A - New imidazole derivatives and organic electronic device using the same - Google Patents

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배재순
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홍성길
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Abstract

The present invention provides a new imidazole derivative and an organic electronic device using the same. The organic electronic device of the present invention has excellent efficiency, driving voltage, and lifetime. The organic electronic device includes a first electrode, a second electrode, and more than one layer of organic matter layers located in between the first and second electrodes.

Description

신규한 이미다졸 유도체 및 이를 이용한 유기전자소자{NEW IMIDAZOLE DERIVATIVES AND ORGANIC ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a novel imidazole derivative, and an organic electronic device using the same. BACKGROUND OF THE INVENTION < RTI ID =

본 발명은 이미다졸 유도체 및 이를 이용한 유기전자소자에 관한 것이다. The present invention relates to an imidazole derivative and an organic electronic device using the same.

본 명세서에서, 유기전자소자란 유기 반도체 물질을 이용한 전자소자로서, 전극과 유기 반도체 물질 사이에서의 정공 및/또는 전자의 교류를 필요로 한다. 유기전자소자는 동작 원리에 따라 하기와 같이 크게 두 가지로 나눌 수 있다. 첫째는 외부의 광원으로부터 소자로 유입된 광자에 의하여 유기물층에서 엑시톤(exiton)이 형성되고, 이 엑시톤이 전자와 정공으로 분리되고, 이 전자와 정공이 각각 다른 전극으로 전달되어 전류원(전압원)으로 사용되는 형태의 전자소자이다. 둘째는 2개 이상의 전극에 전압 또는 전류를 가하여 전극과 계면을 이루는 유기 반도체 물질층에 정공 및/또는 전자를 주입하고, 주입된 전자와 정공에 의하여 작동하는 형태의 전자소자이다. In the present specification, an organic electronic device is an electronic device using an organic semiconductor material, and requires the exchange of holes and / or electrons between the electrode and the organic semiconductor material. The organic electronic device can be divided into two types according to the operation principle. First, an exciton is formed in the organic layer by photons introduced into the device from an external light source, and the exciton is separated into electrons and holes, and these electrons and holes are transferred to different electrodes to be used as current sources (voltage sources). It is an electronic device of the form. The second type is an electronic device that injects holes and / or electrons into an organic semiconductor material layer that interfaces with the electrode by applying a voltage or current to two or more electrodes, and operates by injected electrons and holes.

유기전자소자의 예로는 유기발광소자, 유기태양전지, 유기감광체(OPC) 드럼, 유기 트랜지스터 등이 있으며, 이들은 모두 소자의 구동을 위하여 전자/정공 주입 물질, 전자/정공 추출 물질, 전자/정공 수송 물질 또는 발광 물질을 필요로 한다. 이하에서는 주로 유기발광소자에 대하여 구체적으로 설명하지만, 상기 유기전자소자들에서는 전자/정공 주입 물질, 전자/정공 추출 물질, 전자/정공 수송 물질 또는 발광 물질이 모두 유사한 원리로 작용한다. Examples of the organic electronic device include an organic light emitting device, an organic solar cell, an organic photoconductor (OPC) drum, and an organic transistor. These devices include an electron / hole injecting material, an electron / hole extracting material, Materials or luminescent materials. Hereinafter, the organic light emitting device will be described in detail, but in the organic electronic devices, the electron / hole injecting material, the electron / hole extracting material, the electron / hole transporting material, or the light emitting material all have a similar principle.

일반적으로 유기 발광 현상이란 유기 물질을 이용하여 전기에너지를 빛에너지로 전환시켜주는 현상을 말한다. 유기 발광 현상을 이용하는 유기발광소자는 통상 양극과 음극 및 이들 사이에 유기물층을 포함하는 구조를 가진다. 여기서 유기물층은 유기발광소자의 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어진 경우가 많으며, 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함할 수 있다. 이러한 유기발광소자의 구조에서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이, 음극에서는 전자가 유기물층으로 주입되고, 주입된 정공과 전자가 만났을 때 엑시톤(exciton)이 형성되며, 이 엑시톤이 바닥상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다. 이러한 유기발광소자는 자발광, 고휘도, 고효율, 낮은 구동 전압, 넓은 시야각, 높은 콘트라스트, 고속 응답성 등의 특성을 갖는 것으로 알려져 있다. In general, organic light emission phenomenon refers to a phenomenon in which an organic material is used to convert electric energy into light energy. An organic light emitting device using an organic light emitting phenomenon usually has a structure including an anode and a cathode and an organic layer between them. Here, in order to increase the efficiency and stability of the organic light emitting device, the organic material layer may have a multi-layer structure composed of different materials and may include a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. When a voltage is applied between two electrodes in the structure of the organic light emitting device, holes are injected into the anode, electrons are injected into the organic layer, electrons are injected into the organic layer, excitons are formed when injected holes and electrons meet, When it falls to a state, it becomes a light. Such an organic light emitting device is known to have characteristics such as self-emission, high luminance, high efficiency, low driving voltage, wide viewing angle, high contrast, and high speed response.

유기발광소자에서 유기물층으로 사용되는 재료는 기능에 따라, 발광 재료와 전하 수송 재료, 예컨대 정공주입 재료, 정공수송 재료, 전자수송 재료, 전자주입 재료 등으로 분류될 수 있다. 발광 재료는 발광색에 따라 청색, 녹색, 적색 발광 재료와 보다 나은 천연색을 구현하기 위해 필요한 노란색 및 주황색 발광 재료로 구분될 수 있다. 또한, 색순도의 증가와 에너지 전이를 통한 발광 효율을 증가시키기 위하여, 발광 재료로서 호스트/도판트 계를 사용할 수 있다. 그 원리는 발광층을 주로 구성하는 호스트 보다 에너지 대역 간극이 작고 발광 효율이 우수한 도판트를 발광층에 소량 혼합하면, 호스트에서 발생한 엑시톤이 도판트로 수송되어 효율이 높은 빛을 내는 것이다. 이 때 호스트의 파장이 도판트의 파장대로 이동하므로, 이용하는 도판트의 종류에 따라 원하는 파장의 빛을 얻을 수 있다. A material used as an organic material layer in an organic light emitting device can be classified into a light emitting material and a charge transporting material such as a hole injecting material, a hole transporting material, an electron transporting material, and an electron injecting material depending on functions. The light emitting material can be classified into blue, green and red light emitting materials and yellow and orange light emitting materials necessary for realizing better natural color depending on the luminescent color. Further, in order to increase the color purity and increase the luminous efficiency through energy transfer, a host / dopant system can be used as a light emitting material. The principle is that when a small amount of dopant having a smaller energy band gap and excellent luminous efficiency than the host mainly constituting the light emitting layer is mixed in the light emitting layer, excitons generated in the host are transported to the dopant to produce high efficiency light. At this time, since the wavelength of the host is shifted to the wavelength band of the dopant, the desired wavelength light can be obtained depending on the type of the dopant used.

전술한 유기발광소자가 갖는 우수한 특징들을 충분히 발휘하기 위해서는 소자내 유기물층을 이루는 물질, 예컨대 정공주입 물질, 정공수송 물질, 발광 물질, 전자수송 물질, 전자주입 물질 등이 안정하고 효율적인 재료에 의하여 뒷받침되는 것이 선행되어야 한다.In order to sufficiently exhibit the excellent characteristics of the organic light emitting device, a material constituting the organic material layer in the device such as a hole injecting material, a hole transporting material, a light emitting material, an electron transporting material, and an electron injecting material is supported by a stable and efficient material Should be preceded.

그 중, 전자수송 물질로는 유기 단분자 물질로서 전자에 대한 안정도와 전자 이동속도가 상대적으로 우수한 유기금속착제들이 바람직하다. 그 중에서 안정성이 우수하고 전자 친화도가 큰 Alq3가 가장 우수한 것으로 보고되었으나 청색 발광소자에 사용할 경우 엑시톤 디퓨전(exciton diffusion)에 의한 발광 때문에 색순도가 떨어지는 문제점이 있다. 또한, 산요(sanyo)사의 플라본(Flavon) 유도체 또는 치소(Chisso)사의 게르마늄 및 실리콘클로페타디엔 유도체 등이 알려져 있다.(일본공개특허공보 제1998-017860호, 일본공개특허공보 제 1999-087067호). Among them, organometallic complexes having a relatively high stability to electrons and an electron transfer rate as organic monomolecular materials are preferable as electron transporting materials. Among them, Alq 3 having excellent stability and high electron affinity has been reported to be the most excellent, but when used in a blue light emitting device, there is a problem in that color purity is poor due to light emission due to exciton diffusion. Flavon derivatives of sanyo or germanium and silicon clopetadiene derivatives of Chisso are known (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1998-017860, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 1999-087067 ).

또한, 상기 유기 단분자 물질로는 스피로(Spiro)화합물에 결합된 PBD (2-biphenyl-4-yl-5-(4-t-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole)유도체와 정공차단능력과 우수한 전자 수송능력을 모두 가지고 있는 TPBI (2,2',2”-(benzene-1,3,5-triyl)-tris(1-phenyl-1H-benzimidazole)등이 있다(Adv. Mater. 10, 1998, 1136 & Tao et al, Appl. Phys. Lett. 77, 2000, 1575). 특히, LG화학에서 발표한 벤조 이미다졸 유도체는 우수한 내구성으로 널리 알려져 있다.In addition, the organic monomolecular substance includes PBD (2-biphenyl-4-yl-5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole) derivative coupled to a spiro compound and hole blocking ability. And TPBI (2,2 ', 2 ”-(benzene-1,3,5-triyl) -tris (1-phenyl-1H-benzimidazole), which has good electron transport ability (Adv. Mater. 10). , 1998, 1136 & Tao et al, Appl. Phys. Lett. 77, 2000, 1575. In particular, benzo imidazole derivatives published by LG Chem are widely known for their excellent durability.

상기 유기 단분자 물질을 전자 수송층으로 이용한 유기발광소자는 발광수명이 짧고, 보존내구성 및 신뢰성이 낮은 문제점들을 가지고 있다. 상기 발생되는 문제점들은 유기물질의 물리 또는 화학적인 변화, 유기물질의 광화학적 또는 전기화학적인 변화, 음극의 산화, 박리현상 및 내구성이 결여되어 있기 때문이다.Organic light emitting devices using the organic single molecular material as an electron transporting layer have short lifetime, low storage durability and low reliability. These problems are caused by physical or chemical changes of organic materials, photochemical or electrochemical changes of organic materials, oxidation and peeling of the cathodes, and durability.

따라서 유기발광소자에 이용되는 유기 단분자 물질의 구조를 변화시켜 임의의 발광색을 얻거나, 호스트 도펀트 시스템에 의한 여러 가지의 고효율을 얻는 방법을 이용한 유기발광소자들이 제안되고 있으나, 아직 만족스러운 휘도, 특성, 수명 및 내구성이 결여되어 있다.Therefore, organic light emitting devices using a method of obtaining arbitrary luminescent color by changing the structure of an organic monomolecular material used in an organic luminescent device or obtaining various high efficiencies by a host dopant system have been proposed, Characteristics, life span and durability.

상기 문제점들을 해결하는 것으로서, 예를 들면, 한국공개특허공보 2003-0067773호에는 벤조 이미다졸(benzo imidazole) 바퀴 및 안트라센 (anthracene) 골격을 가지는 화합물이 기재되어 있다. For example, Korean Patent Publication No. 2003-0067773 discloses a compound having a benzoimidazole ring and an anthracene skeleton.

또한, 주입되는 전하 이외에 추가적인 전하발생(Charge generation) 능력을 통해 유기 EL 소자의 더욱 향상된 발광 휘도, 효율, 수명을 유도하는 경우가 있으며, 그 예로는 무기염 등을 전송층(transport layer)(및/또는 주입층(injection layer))에 도핑하거나, 유기 물질 또는 그 착물을 함께 사용하는 예가 알려져 있다. (Junji, Kido et al. Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 41(2002) pp L800-L803, "Organic electroluminescent devices having Metal complexes as cathode Interface layer")Further, there are cases where the organic EL device has a further improved light emission luminance, efficiency, and lifetime through the additional charge generation capability in addition to the charge to be injected. Examples thereof include inorganic salts and the like in a transport layer Or an injection layer), or an organic material or a complex thereof is used together. (2002) pp. L800-L803, "Organic electroluminescent devices having metal complexes as cathode interface layer ", Junji, Kido et al., Jpn. J. Appl. Phys.

그러나, 이러한 화합물을 이용한 유기 EL 소자보다도 더욱 향상된 발광 휘도 및 발광 효율, 수명 등을 갖는 새로운 재료의 개발이 계속 요구되고 있다. However, there is a continuing need for the development of new materials having improved luminescence brightness, luminescence efficiency, and lifetime, as compared with organic EL devices using such compounds.

본 발명자들은 새로운 구조를 갖는 이미다졸 유도체를 밝혀내었다. 또한, 상기 새로운 이미다졸 유도체를 이용하여 유기 전자 소자의 유기물층을 형성하는 경우 소자의 효율 상승, 구동 전압 하강, 수명 연장, 안정성 상승 등의 효과를 나타낼 수 있다는 사실을 밝혀내었다. The present inventors have found imidazole derivatives having a novel structure. In addition, when the organic imide layer of the organic electronic device is formed using the new imidazole derivative, it has been found that the efficiency of the device can be increased, the driving voltage can be lowered, the lifetime can be increased, and the stability can be increased.

이에 본 발명은 새로운 이미다졸 유도체 및 이를 이용한 유기 전자 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a novel imidazole derivative and an organic electronic device using the same.

본 발명은 신규한 이미다졸 유도체를 제공한다.The present invention provides novel imidazole derivatives.

본 발명은 제1 전극, 제2 전극, 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기전자소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 상기 신규한 이미다졸 유도체를 포함하는 것인 유기전자소자를 제공한다.The present invention provides an organic electronic device comprising a first electrode, a second electrode, and at least one organic layer disposed between the first electrode and the second electrode, wherein at least one of the organic layers comprises the novel imidazole derivative Wherein the organic electronic device is an organic electronic device.

본 발명에 따른 신규한 이미다졸 유도체는, 유기발광소자를 비롯한 유기전자소자의 유기물층 재료로서 사용될 수 있다. 상기 본 발명에 따른 새로운 이미다졸 유도체는 유기물층의 재료로서 이용한 유기발광소자를 비롯한 유기전자소자는 효율, 구동전압, 수명 등에서 우수한 특성을 나타낸다. The novel imidazole derivatives according to the present invention can be used as organic material layers of organic electronic devices including organic light emitting devices. The novel imidazole derivatives according to the present invention exhibit excellent properties in terms of efficiency, driving voltage and lifetime, as well as organic electronic devices including organic light emitting devices used as materials for organic materials.

도 1은 본 발명에 따른 유기발광소자의 한 예를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 화학식 2-67의 화합물의 MS 그래프이다.
1 illustrates an example of an organic light emitting device according to the present invention.
2 is an MS graph of a compound of Formula 2-67 of the present invention.

본 발명에 따른 이미다졸 유도체는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함한다:Imidazole derivatives according to the present invention include compounds represented by the following formula (1):

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에 있어서, In Formula 1,

R1 내지 R10 중 적어도 하나는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물이고, 나머지는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, -SiR3, -GeR3, -SnR3 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, -SiR3, -GeR3, -SnR3 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; 및 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, -SiR3, -GeR3, -SnR3 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이며,At least one of R 1 to R 10 is a compound represented by the following general formula (2), and the others are the same or different and each independently represents hydrogen; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, Substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group, -SiR 3 , -GeR 3 , -SnR 3 and C 5 to C 40 heteroaryl groups, A substituted C 6 to C 40 aryl group; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, Substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group, -SiR 3 , -GeR 3 , -SnR 3 and C 5 to C 40 heteroaryl groups, A substituted C 5 -C 40 heteroaryl group; And a deuterium, a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, a C 1 to C 40 alkyl group, a C 2 to C 40 alkenyl group, a C 1 to C 40 alkoxy group, a C 3 to C 40 cycloalkyl group , A C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group, -SiR 3 , -GeR 3 , -SnR 3 and a C 5 to C 40 heteroaryl group, Unsubstituted amino groups, wherein R may be the same or different and are each independently C 6 to C 40 aryl or C 5 to C 40 heteroaryl,

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 2에서, In Formula 2,

L1은 직접결합이거나; C1-C40의 알킬기, C2-C40의 알케닐기, C1-C40의 알콕시기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C2~C40의 알케닐렌기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴렌기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴렌기; C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴아민기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C25~C40의 스피로기; 및 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C25~C40의 열린 스피로기로 이루어진 군에서 선택되며,L 1 is a direct bond; An alkoxy group of C 1 -C 40 alkyl, C 2 -C 40 alkenyl group, C 1 -C 40 of, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl group with one or more groups selected from the group consisting of A C 2 to C 40 alkenylene group substituted or unsubstituted by a group; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group of the aryl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C over one selected from the heteroaryl group consisting of 40 group a substituted or unsubstituted C 6 ~ C 40; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, a heteroaryl group of C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 by at least one group selected from the heteroaryl group consisting of a substituted or unsubstituted C 5 ~ C 40 of; Heterocycloalkyl group of C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 of, C 6 ~ C 40 the aryl group and the arylamine group of C 5 ~ C 40 heteroaryl group unsubstituted or substituted with one or more groups selected from the group consisting of a C 6 ~ C 40 of; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 A C 25 to C 40 spiro group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; And a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 open is selected from the group consisting of a spiro of the heteroaryl group substituted or unsubstituted with one or more groups selected from the group consisting of C 25 ~ C 40 of ,

Ar1은 수소; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C1~C40의 알킬기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C3~C40의 시클로알킬기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C2~C40의 알케닐기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C3~C40의 알콕시기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, C5~C40의 헤테로아릴기, C25~C40의 스피로기 및 C25~C40의 열린 스피로기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 및 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, C5~C40의 헤테로아릴기, C25~C40의 스피로기 및 C25~C40의 열린 스피로기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; -SiR3; -GeR3; 및 -SnR3 로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이다.Ar 1 is hydrogen; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group, and a C 5 ~ C 40 heteroaryl substituted with an aryl group by at least one group selected from the group consisting of or unsubstituted alkyl group of C 1 ~ C 40 of; Deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl substituted with an aryl group by at least one group selected from the group consisting of or unsubstituted C 3 ~ C 40 cycloalkyl group of; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl substituted with an aryl group by at least one group selected from the group consisting of or unsubstituted C 2 ~ C 40 alkenyl group a; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, A C 3 to C 40 alkoxy group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, An amino group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, From the group consisting of C 2 to C 40 heterocycloalkyl groups, C 6 to C 40 aryl groups, C 5 to C 40 heteroaryl groups, C 25 to C 40 spiro groups and C 25 to C 40 open spiro groups. A C 6 to C 40 aryl group substituted or unsubstituted with at least one group selected; And a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group, C 5 ~ C 40 heteroaryl group, C 25 ~ C 40 of a spiro group and a C 25 ~ C 40 open spiro group with one or more groups selected from the group consisting of A substituted or unsubstituted C 5 -C 40 heteroaryl group; -SiR 3; -GeR 3 ; And -SnR 3 , wherein R may be the same or different and are each independently C 6 -C 40 aryl or C 5 -C 40 heteroaryl.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 3 내지 5로 표시되는 화합물을 포함한다:The compounds represented by Formula 1 include compounds represented by the following Formulas 3 to 5:

Figure pat00003
Figure pat00003

Figure pat00004
Figure pat00004

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 3 내지 5에 있어서, In the above formulas (3) to (5)

R1 내지 R10, L1 및 Ar1은 상기 화학식 1에 정의된 바와 같다. R1 to R10, L 1 and Ar 1 are as defined in formula (I).

본 발명에 따른 이미다졸 유도체는 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 C6~C40의 아릴기인 것이 바람직하다. In the imidazole derivative according to the present invention, it is preferable that at least one of R 1 to R 10 in the above formula (1) is a compound represented by the above formula (2), and at least one of them is a C 6 to C 40 aryl group.

본 발명에 따른 이미다졸 유도체는 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 C5~C40의 헤테로아릴기인 것이 바람직하다. In the imidazole derivative according to the present invention, at least one of R 1 to R 10 in the formula (1) is a compound represented by the above formula (2), and at least one of them is a C 5 to C 40 heteroaryl group.

본 발명에 따른 이미다졸 유도체는 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환된 아미노기 중에서 선택되는 것이 바람직하다. In the imidazole derivative according to the present invention, at least one of R1 to R10 of Chemical Formula 1 is a compound represented by Chemical Formula 2, and at least one of the others is selected from an amino group substituted with an aryl group or a heteroaryl group.

본 발명에 따른 이미다졸 유도체는 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 수소인 것이 바람직하다.In the imidazole derivative according to the present invention, it is preferable that at least one of R 1 to R 10 in Formula 1 is the compound represented by Formula 2, and at least one of the others is hydrogen.

본 발명에 따른 이미다졸 유도체는 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 C1~C40의 알킬기인 것이 바람직하다.In the imidazole derivative according to the present invention, it is preferable that at least one of R 1 to R 10 in Formula 1 is a compound represented by Formula 2, and at least one of R 1 to R 10 is a C 1 to C 40 alkyl group.

본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 이미다졸 유도체에서, R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다:In the imidazole derivative represented by Formula 1 according to the present invention, at least one of R 1 to R 10 is a compound represented by Formula 2, and at least one of R 1 to R 10 is preferably selected from the group consisting of:

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 구조식에서 Z1 내지 Z3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기; -SiR3; -GeR3; 및 -SnR3 로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이다.Z1 to Z3 in the structural formula are the same or different from each other, and each independently hydrogen; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, an aryl group of C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group, and a C 5 ~ C 40 heteroaryl group unsubstituted or substituted with one or more groups selected from the group consisting of C 6 ~ C 40 of the; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, a heteroaryl group of C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 by at least one group selected from the heteroaryl group consisting of a substituted or unsubstituted C 5 ~ C 40 of; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 An amino group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; -SiR 3; -GeR 3 ; And -SnR 3 , wherein R may be the same or different and are each independently C 6 -C 40 aryl or C 5 -C 40 heteroaryl.

본 발명에 따른 이미다졸 유도체에서, 상기 화학식 2의 Ar1이 아릴기인 경우, 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다:In the imidazole derivative according to the present invention, when Ar 1 in Formula 2 is an aryl group, it is preferably selected from the group consisting of the following structural formulas:

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 구조식에서 Z4는 각각 독립적으로 수소; 중수소(deuterium); 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기; C25~C40의 스피로기; C25~C40의 열린스피로기; -SiR3; -GeR3; 및 -SnR3 로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이다.In the above formulas, Z4 is each independently hydrogen; Deuterium; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, an aryl group, a C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl group unsubstituted or substituted with one or more groups selected from the group consisting of a C 6 ~ C 40; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, a heteroaryl group of C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 by at least one group selected from the heteroaryl group consisting of a substituted or unsubstituted C 5 ~ C 40 of; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 An amino group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; A spiro group of C 25 to C 40 ; An open spiro group of C 25 to C 40 ; -SiR 3; -GeR 3 ; And -SnR 3 , wherein R may be the same or different and are each independently C 6 -C 40 aryl or C 5 -C 40 heteroaryl.

또한, 상기 화학식 2의 L1은 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다:In addition, L < 1 > in the above formula (2) is preferably selected from the group consisting of the following structural formulas:

Figure pat00008
Figure pat00008

본 발명에 있어서, 알킬기는 탄소수 1 내지 40의 입체적 방해를 주지 않는 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.In the present invention, it is preferable that the alkyl group does not give steric hindrance of 1 to 40 carbon atoms. Specific examples include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, hexyl and heptyl.

시클로알킬기는 탄소수 3 내지 40의 입체적 방해를 주지 않는 것이 바람직하다. 구체적인 예로서 시클로펜틸기 또는 시클로헥실기가 더욱 바람직하다.It is preferable that the cycloalkyl group does not give a steric hinderance of 3 to 40 carbon atoms. As a specific example, a cyclopentyl group or a cyclohexyl group is more preferable.

알케닐기로는 탄소수 2 내지 40의 알케닐기가 바람직하다. The alkenyl group is preferably an alkenyl group having 2 to 40 carbon atoms.

알콕시기는 탄소수 1 내지 40의 알콕시기인 것이 바람직하다.The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 40 carbon atoms.

아릴기의 예로는 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기, 비페닐기, 파이레닐기, 페릴렌기, 이들의 유도체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Examples of the aryl group include, but are not limited to, a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a biphenyl group, a pyrenyl group, a perylene group, derivatives thereof and the like.

아릴 아민기의 예로는 페닐아민, 나프틸아민, 비페닐아민, 안트라세닐아민, 3-메틸-페닐아민, 4-메틸-나프틸아민, 2-메틸-비페닐아민, 9-메틸-안트라세닐아민, 디페닐 아민기, 페닐 나프틸 아민기, 디톨릴 아민기, 페닐 톨릴 아민기, 카바졸 및 트리페닐 아민기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Examples of the arylamine group include phenylamine, naphthylamine, biphenylamine, anthracenylamine, 3-methyl-phenylamine, 4-methyl-naphthylamine, 2-methyl- Amine, a diphenylamine group, a phenylnaphthylamine group, a ditolylamine group, a phenyltolylamine group, a carbazole and a triphenylamine group, but is not limited thereto.

헤테로아릴기의 예로는 피리딘기, 비피리딜기, 트리아진기, 아크리딜기, 싸이오펜(thiophene)기, 퓨란기, 이미다졸기, 옥사졸기, 티아졸기, 트리아졸기, 퀴놀린기 및 이소퀴놀린기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Examples of the heteroaryl group include a pyridyl group, bipyridyl group, triazine group, acridyl group, thiophene group, furan group, imidazole group, oxazole group, thiazole group, triazole group, quinoline group, But are not limited to these.

할로겐기의 예로는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 있다.Examples of the halogen group include fluorine, chlorine, bromine or iodine.

스피로기는 2개의 고리 유기화합물이 1개의 원자와 연결된 구조로서, 예로는Spiro groups are structures in which two ring organic compounds are connected to one atom,

Figure pat00009
등이 있다.
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.

열린 스피로기는 2개의 고리 유기화합물이 1개의 원자와 연결된 구조에서 한쪽 고리 화합물의 연결이 끊어진 상태의 구조로서, 예로는

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,
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등이 있다. An open spiro group is a structure in which two ring compounds are disconnected in a structure in which two ring organic compounds are connected to one atom,
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,
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.

상기 화학식 1에서 R1 내지 R4는 나프틸, 페닐, 바이페닐 및 카바졸릴 중에서 선택된 하나이상으로 치환된 페닐; 페난트릴 또는 피리딜이 치환된 피리딜; 두개의 페닐이 치환된 아미노기; 두개의 페닐이 치환된 피레닐; 두개의 페닐이 치환된 아이소퀴놀릴; 알킬기인 것이 더욱 바람직하다.R 1 to R 4 in the above formula (1) are phenyl substituted with at least one member selected from naphthyl, phenyl, biphenyl and carbazolyl; Pyridyl substituted with phenanthryl or pyridyl; An amino group substituted with two phenyls; Pyranyl substituted with two phenyl; Isoquinolyl substituted with two phenyls; More preferably an alkyl group.

L1은 직접결합, 페닐렌, 나프틸렌, 피리딜렌, 바이페닐렌 또는 싸이엔일렌인 것이 바람직하다.L 1 is preferably a direct bond, phenylene, naphthylene, pyridylene, biphenylene or thienylene.

Ar1은 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 비페닐기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 안트라센기, 치환 또는 비치환된 파이렌기, 크라이센기, 테트라센기, -SiR3; -GeR3; 또는 -SnR3 인 것이 더욱 바람직하고, 여기서 R은 페닐기이다.Ar 1 represents a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted biphenyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl group, a substituted or unsubstituted anthracene group, a substituted or unsubstituted pyrene group, a chrysene group, a tetracene group, a -SiR 3 ; -GeR 3 ; Or -SnR < 3 >, wherein R is a phenyl group.

상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 바람직한 구체적인 예로는 하기 화합물들이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. Preferable specific examples of the compound represented by the formula (3) include, but are not limited to, the following compounds.

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상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 바람직한 구체적인 예로는 하기 화합물들이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Preferable specific examples of the compound represented by the formula (4) include, but are not limited to, the following compounds.

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상기 화학식 5로 표시되는 화합물의 바람직한 구체적인 예로는 하기 화합물들이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the compound represented by the formula (5) include, but are not limited to, the following compounds.

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이하, 상기 화학식 3 내지 5로 표시되는 화합물의 제조방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method for producing the compounds represented by the above Formulas 3 to 5 will be described.

상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 이미다졸 유도체에 Ar1 치환기를 도입함으로써 제조될 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 할라이드 원소와 알데하이드가 치환된 유도체, 암모늄아세테이트(NH4OAc), 아민 유도체, 페난트렌퀴논 유도체를 이용하여 산 촉매하에서 제조될 수 있다. 생성된 이미다졸 할라이드 유도체와 Ar1-보론산 또는 Ar1-보론에스테르 유도체를 Pd촉매 하에서 스즈끼 결합 반응하여 제조될 수 있다.Compounds represented by the formula (3) Ar 1 to imidazole derivatives Lt; / RTI > may be prepared by introducing a substituent. Specifically, the compound represented by Chemical Formula 3 may be prepared under an acid catalyst using a derivative in which a halide element and an aldehyde are substituted, ammonium acetate (NH 4 OAc), an amine derivative, and a phenanthrenequinone derivative. The resulting imidazole halide derivative and an Ar 1 -boranic acid or an Ar 1 -borone ester derivative can be produced by a Suzuki coupling reaction under a Pd catalyst.

화학식 3으로 표시되는 화합물을 제조시 이용되는 방법 중 스즈끼 결합 반응 이외의 반응들은 당 기술 분야에 알려져 있는 일반적인 방법을 이용할 수 있다.Among the methods used in the preparation of the compound represented by the general formula (3), the reactions other than the Suzuki coupling reaction can be performed by a general method known in the art.

구체적으로, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 Specifically, the compound represented by the general formula (3)

1) 할로겐기와 알데하이드기가 치환되어 있는 L1 유도체와 R3 내지 R10 치환기를 갖는 페난트렌퀴논 유도체, 암모늄아세테이트, R2 치환기를 갖는 아민 유도체를 섞어 산 촉매를 통해 이미다졸 고리를 제조하는 단계; 및1) preparing an imidazole ring through an acid catalyst by mixing an L 1 derivative substituted with a halogen group and an aldehyde group, a phenanthrene quinone derivative having an R 3 to R 10 substituent, ammonium acetate, and an amine derivative having an R 2 substituent; And

2) 할로겐기가 치환되어 있는 이미다졸 유도체와 Ar1 치환기를 갖는 보론산 또는 보론에스테르 화합물을 Pd촉매 하에서 스즈키 결합 반응하여 Ar1이 치환된 이미다졸 유도체를 제조하는 단계를 포함하는 제조방법으로 제조될 수 있다.2) preparing an imidazole derivative in which Ar 1 is substituted by subjecting an imidazole derivative substituted with a halogen group and a boronic acid or boron ester compound having an Ar 1 substituent group to Suzuki coupling reaction under a Pd catalyst .

이와 같은 제조 방법은 하기 반응식 1로 표시될 수 있다.Such a preparation method can be represented by the following reaction formula (1).

Figure pat00068
Figure pat00068

상기 반응식 1에서, R2 내지 R10, L1 및 Ar1은 상기 화학식 3에 정의된 바와 같다.In the above Reaction Scheme 1, R 2 to R 10, L 1 and Ar 1 are as defined in Formula 3 above.

이하, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 제조방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the method for producing the compound represented by the above formula (4) will be described.

상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 이미다졸 유도체에 Ar1 치환기를 도입함으로써 제조될 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 할라이드 원소가 치환된 아민 유도체, 암모늄 아세테이트, 알데하이드 유도체, 페난트렌퀴논 유도체를 이용하여 산 촉매하에서 제조될 수 있다. 생성된 이미다졸 할라이드 유도체와 Ar1-보론산 또는 Ar1-보론에스테르 유도체를 Pd촉매 하에서 스즈끼 결합 반응하여 제조할 수 있다.The compound represented by the above formula (4) Ar 1 to imidazole derivatives Lt; / RTI > may be prepared by introducing a substituent. Specifically, the compound represented by Formula 4 may be prepared using an amine derivative substituted with a halide element, ammonium acetate, an aldehyde derivative, and a phenanthrene quinone derivative under an acid catalyst. The resulting imidazole halide derivative and an Ar 1 -boranic acid or an Ar 1 -borone ester derivative can be prepared by a Suzuki coupling reaction under a Pd catalyst.

화학식 4로 표시되는 화합물을 제조시 이용되는 방법 중 스즈끼 결합 반응 이외의 반응들은 당 기술 분야에 알려져 있는 일반적인 방법을 이용할 수 있다.Reactions other than the Suzuki binding reaction among the methods used when preparing the compound represented by Chemical Formula 4 may use a general method known in the art.

구체적으로, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은Specifically, the compound represented by the general formula (4)

1) 할라이드 원소와 L1 치환체를 갖는 아민 유도체, R3 내지 R10 치환기를 갖는 페난트렌퀴논 유도체, 암모늄아세테이트, R1 치환기를 갖는 알데하이드 유도체를 섞어 산 촉매하에서 이미다졸 고리를 제조하는 단계 및1) Halide element and L 1 Preparing an imidazole ring by an acid catalyst by mixing an amine derivative having a substituent, a phenanthrenequinone derivative having an R3 to R10 substituent, an ammonium acetate, and an aldehyde derivative having an R1 substituent, and

2) 할로겐기가 치환되어 있는 이미다졸 유도체와 Ar1 치환기를 갖는 보론산 또는 보론에스테르 화합물을 Pd촉매 하에서 스즈키 결합 반응하여 Ar1이 치환된 이미다졸 유도체를 제조하는 단계를 포함하는 제조방법으로 제조될 수 있다.2) preparing an imidazole derivative in which Ar 1 is substituted by subjecting an imidazole derivative substituted with a halogen group and a boronic acid or boron ester compound having an Ar 1 substituent group to Suzuki coupling reaction under a Pd catalyst .

이와 같은 제조 방법은 하기 반응식 2로 표시될 수 있다.Such a preparation method can be represented by the following reaction formula (2).

Figure pat00069
Figure pat00069

상기 반응식 2에서, R1, R2 내지 R10, L1 및 Ar1은 상기 화학식 4에 정의된 바와 같다.In the above Reaction Scheme 2, R 1, R 2 to R 10, L 1, and Ar 1 are as defined in Formula 4 above.

이하, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물 제조방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the method for producing the compound represented by the above formula 5 will be described.

상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 이미다졸 유도체에 Ar1 치환기를 도입함으로써 제조될 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 5의 화합물은 할라이드 원소가 치환된 페난트렌퀴논 유도체, 아민 유도체, 암모늄 아세테이트, 알데하이드 유도체를 이용하여 산 촉매하에서 제조될 수 있다. 생성된 이미다졸 할라이드 유도체와 Ar1-보론산 또는 Ar1-보론에스테르 유도체를 Pd촉매 하에서 스즈끼 결합 반응하여 제조할 수 있다.The compound represented by Formula 5 may be prepared by introducing an Ar 1 substituent into an imidazole derivative. Specifically, the compound of Formula 5 may be prepared by using an acid catalyst such as a phenanthrene quinone derivative substituted with a halide element, an amine derivative, ammonium acetate, or an aldehyde derivative. The resulting imidazole halide derivative and an Ar 1 -boranic acid or an Ar 1 -borone ester derivative can be prepared by a Suzuki coupling reaction under a Pd catalyst.

화학식 5의 화합물을 제조시 이용되는 방법 중 스즈끼 결합 반응 이외의 반응들은 당 기술 분야에 알려져 있는 일반적인 방법을 이용할 수 있다.The reactions other than the Suzuki coupling reaction among the methods used in the preparation of the compound of formula (5) can be performed by a general method known in the art.

구체적으로, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물은Specifically, the compound represented by the general formula (5)

1) 할라이드 원소와 L1치환체를 갖는 페난트렌퀴논 유도체, R2 치환체를 갖는 아민유도체, 암모늄아세테이트, R1 치환체를 갖는 알데하이드 유도체를 섞어 산 촉매하에서 이미다졸 고리를 제조하는 단계 및1) preparing an imidazole ring under acid catalyst by mixing a halide element and a phenanthrene quinone derivative having an L 1 substituent, an amine derivative having an R 2 substituent, ammonium acetate, and an aldehyde derivative having an R 1 substituent, and

2) 할로겐기가 치환되어 있는 이미다졸 유도체와 Ar1 치환체를 갖는 보론산 또는 보론에스테르 화합물을 Pd촉매 하에서 스즈키 결합 반응하여 Ar1이 치환된 이미다졸 유도체를 제조하는 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조될 수 있다.2) preparing an imidazole derivative in which Ar 1 is substituted by Suzuki coupling reaction of a halogen-substituted imidazole derivative and a boronic acid or boron ester compound having an Ar 1 substituent under a Pd catalyst; .

이와 같은 제조 방법은 하기 반응식 3으로 표시될 수 있다.Such a preparation method can be represented by the following reaction formula (3).

Figure pat00070
Figure pat00070

상기 반응식 3에서, R1 내지 R8, L1 및 Ar1은 상기 화학식 5에 정의된 바와 같다.In the above Reaction Scheme 3, R 1 to R 8, L 1 and Ar 1 are as defined in Formula 5 above.

또한, 본 발명은 제1 전극, 제2 전극, 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기전자소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것인 유기전자소자를 제공한다. The present invention also provides an organic electronic device comprising a first electrode, a second electrode, and at least one organic material layer disposed between the first electrode and the second electrode, wherein at least one of the organic material layers is represented by Formula 1 Wherein the organic compound is a compound represented by formula (I).

본 발명의 유기전자소자는 전술한 화합물들을 이용하여 한층 이상의 유기물층을 형성하는 것을 제외하고는, 통상의 유기전자소자의 제조방법 및 재료에 의하여 제조될 수 있다.The organic electronic device of the present invention can be produced by a conventional method and materials for producing an organic electronic device, except that one or more organic material layers are formed using the above-described compounds.

이하에서는 유기발광소자에 대하여 예시한다.Hereinafter, the organic light emitting device will be described.

본 발명의 하나의 실시 상태에 있어서, 유기발광소자는 제 1 전극과 제 2 전극 및 이 사이에 배치된 유기물층을 포함하는 구조로 이루어질 수 있다. 본 발명의 유기 발광 소자 중 유기물층은 1층으로 이루어진 단층 구조일 수도 있으나, 발광층을 포함하는 2층 이상의 다층 구조일 수도 있다. 본 발명의 유기 발광 소자의 유기물층이 다층 구조인 경우, 이는 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 등이 적층된 구조일 수 있다. 그러나, 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기물층을 포함할 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 도 1에 나타낸 것과 같은 구조를 가질 수 있다. 도 1에 있어서, 도면부호 1은 기판, 2는 양극, 3은 정공주입층, 4는 정공수송층, 5는 유기발광층, 6은 전자수송층, 7은 음극을 각각 나타낸다. 도 1과 같은 구조의 유기발광소자를 통상 정방향 구조의 유기발광소자라고 하는데, 본 발명은 이에 한정되지 않고 역방향 구조의 유기발광소자도 포함한다. 즉, 본 발명의 유기 발광 소자는 기판, 음극, 전자수송층, 유기발광층, 정공수송층, 정공주입층 및 양극이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있다. In one embodiment of the present invention, the organic light emitting device may have a structure including a first electrode, a second electrode, and an organic layer disposed therebetween. The organic layer in the organic light emitting device of the present invention may have a single layer structure of one layer or a multilayer structure of two or more layers including a light emitting layer. When the organic material layer of the organic light emitting diode of the present invention has a multilayer structure, it may have a structure in which, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer are stacked. However, the structure of the organic light emitting device is not limited thereto, and may include a smaller number of organic layers. For example, the organic light emitting device of the present invention may have a structure as shown in FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate, 2 denotes an anode, 3 denotes a hole injecting layer, 4 denotes a hole transporting layer, 5 denotes an organic light emitting layer, 6 denotes an electron transporting layer and 7 denotes a cathode. The organic light emitting device having the structure as shown in FIG. 1 is generally referred to as an organic light emitting device having a normal structure. However, the present invention is not limited to this and includes an organic light emitting device having a reverse structure. That is, the organic light emitting device of the present invention may have a structure in which a substrate, a cathode, an electron transport layer, an organic light emitting layer, a hole transport layer, a hole injection layer, and an anode are sequentially stacked.

본 발명에 따른 유기발광소자가 다층 구조의 유기물층을 갖는 경우, 상기 화학식 1의 화합물은 발광층, 정공수송층, 정공수송과 발광을 동시에 하는 층, 발광과 전자수송을 동시에 하는 층, 전자수송층, 전자수송 및 주입층, 전자주입층 등에 포함될 수 있다. 본 발명에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 특히 전자주입 및 수송층, 전자수송층, 전자주입층 및 발광층으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 한층 이상에 포함되는 것이 바람직하다.In the case where the organic light emitting device according to the present invention has an organic layer having a multilayer structure, the compound of the general formula (1) includes a light emitting layer, a hole transporting layer, a layer simultaneously transporting and emitting light, a layer simultaneously emitting light and electron transporting, And an injection layer, an electron injection layer, and the like. In the present invention, it is preferable that the compound of Chemical Formula 1 is included in at least one layer selected from the group consisting of electron injection and transport layer, electron transport layer, electron injection layer and luminescent layer.

또한, 본 발명에 따른 유기발광소자가 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층으로 이루어진 군으로부터 선택된 1층 이상을 포함하는 유기물층을 포함하는 경우, 상기 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층 중 적어도 한층은 상기 이미다졸 유도체를 포함하고, 나머지 층들은 금속 또는 금속화합물을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, when the organic light emitting device according to the present invention includes an organic material layer including at least one layer selected from the group consisting of an electron transport layer, an electron injection layer, and an electron injection and transport layer, the electron transport layer, electron injection layer, and electron injection. And at least one of the transport layers comprises the imidazole derivative, and the remaining layers preferably comprise a metal or metal compound.

또한, 본 발명에 따른 유기발광소자가 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층으로 이루어진 군으로부터 선택된 1층 이상을 포함하는 유기물층을 포함하는 경우, 상기 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층 중 적어도 한층은 상기 이미다졸 유도체를 포함하고, 나머지 층들은 알칼리금속, 알칼리 토금속, 알칼리금속 화합물 및 알칼리 토금속 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 포함하는 것이 바람직하다.When the organic light emitting device according to the present invention includes an organic material layer including at least one layer selected from the group consisting of an electron transporting layer, an electron injecting layer, and an electron injecting and transporting layer, the electron transporting layer, the electron injecting layer, And the transport layer preferably include the imidazole derivative, and the remaining layers include one selected from the group consisting of an alkali metal, an alkaline earth metal, an alkali metal compound, and an alkaline earth metal compound.

본 발명에 따른 유기발광소자는 전술한 화학식 1의 화합물을 유기발광소자의 유기물층 중 1층 이상에 사용한다는 것을 제외하고는, 통상의 유기발광소자의 제조방법 및 재료를 사용하여 제조될 수 있다. 예컨대, 본 발명에 따른 유기발광소자는 스퍼터링(sputtering) 이나 전자빔 증발(e-beam evaporation)과 같은 PVD(physical vapor deposition) 방법을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 양극을 형성하고, 그 위에 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함하는 유기물층을 형성한 후, 그 위에 음극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시킴으로써 제조될 수 있다. 이와 같은 방법 외에도, 전술한 바와 같이 역방향 구조의 유기발광소자를 제작하기 위하여 기판 상에 음극 물질부터 유기물층, 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기발광소자를 만들 수도 있다.The organic electroluminescent device according to the present invention can be manufactured using conventional organic electroluminescent device manufacturing methods and materials, except that the compound of Formula 1 is used for at least one layer of the organic electroluminescent device. For example, the organic light emitting device according to the present invention may be formed by using a PVD (physical vapor deposition) method such as sputtering or e-beam evaporation to form a metal oxide or a metal oxide having conductivity on the substrate, A hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, an electron injecting layer, and the like, and then depositing a material usable as a cathode thereon . In addition to such a method, an organic light emitting device may be fabricated by sequentially depositing a cathode material, an organic material layer, and a cathode material on a substrate in order to fabricate an organic light emitting device having a reverse structure as described above.

상기 유기물층은 다양한 고분자 소재를 사용하여 증착법이 아닌 용매 공정(solvent process), 예컨대 스핀 코팅, 딥 코팅, 닥터 블레이딩, 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅 또는 열 전사법 등의 방법에 의하여 더 적은 수의 층으로 제조될 수 있다.The organic material layer may be formed by using a variety of polymer materials in a smaller number of layers by a solvent process such as a spin coating process, a dip coating process, a doctor blading process, a screen printing process, an inkjet printing process or a thermal transfer process, .

상기 양극 물질로는 통상 유기물층으로 정공주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 본 발명에서 사용될 수 있는 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연산화물, 인듐산화물, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.As the anode material, a material having a large work function is preferably used so that hole injection can be smoothly conducted into the organic material layer. Specific examples of the cathode material that can be used in the present invention include metals such as vanadium, chromium, copper, zinc, and gold, or alloys thereof; Metal oxides such as zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO); ZnO: Al or SnO 2: a combination of a metal and an oxide such as Sb; Conductive polymers such as poly (3-methylthiophene), poly [3,4- (ethylene-1,2-dioxy) thiophene] (PEDT), polypyrrole and polyaniline.

상기 음극 물질로는 통상 유기물층으로 전자주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.The negative electrode material is preferably a material having a small work function to facilitate electron injection into the organic material layer. Specific examples of the negative electrode material include metals such as magnesium, calcium, sodium, potassium, titanium, indium, yttrium, lithium, gadolinium, aluminum, silver, tin and lead or alloys thereof; Layer structure materials such as LiF / Al or LiO 2 / Al, but are not limited thereto.

상기 정공주입 물질로는 낮은 전압에서 양극으로부터 정공을 잘 주입받을 수 있는 물질로서, 정공주입 물질의 HOMO(highest occupied molecular orbital)가 양극 물질의 일함수와 주변 유기물층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린(porphyrine), 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 헥사니트릴헥사아자트리페닐렌 계열의 유기물, 퀴나크리돈(quinacridone) 계열의 유기물, 페릴렌(perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.As the hole injecting material, it is preferable that the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the hole injecting material is between the work function of the anode material and the HOMO of the surrounding organic layer. Specific examples of the hole injecting material include metal porphyrine, oligothiophene, arylamine-based organic materials, hexanitrile hexaazatriphenylene-based organic materials, quinacridone-based organic materials, perylene , Anthraquinone, polyaniline and polythiophene-based conductive polymers, but the present invention is not limited thereto.

상기 정공수송 물질로는 양극이나 정공주입층으로부터 정공을 수송 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.As the hole transporting material, a material having high mobility to holes is suitable for transporting holes from the anode or the hole injection layer to the light emitting layer. Specific examples include arylamine-based organic materials, conductive polymers, and block copolymers having a conjugated portion and a non-conjugated portion together, but are not limited thereto.

상기 발광 물질로는 정공수송층과 전자수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로는 8-히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물 (Alq3); 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴(dimerized styryl) 화합물; 비스-메틸-8-히드록시퀴놀린 파라페닐페놀 알루미늄 착물(Balq); 10-히드록시벤조 퀴놀린-금속 화합물; 벤족사졸, 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리(p-페닐렌비닐렌)(PPV) 계열의 고분자; 스피로(spiro) 화합물; 폴리플루오렌, 루브렌 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.The light emitting material is preferably a material capable of emitting light in the visible light region by transporting and receiving holes and electrons from the hole transporting layer and the electron transporting layer, respectively, and having good quantum efficiency for fluorescence or phosphorescence. Specific examples include 8-hydroxy-quinoline aluminum complex (Alq 3 ); Carbazole-based compounds; Dimerized styryl compounds; Bis-methyl-8-hydroxyquinoline paraphenyl phenol aluminum complex (Balq); 10-hydroxybenzoquinoline-metal compounds; Compounds of the benzoxazole, benzothiazole and benzimidazole series; Polymers of poly (p-phenylenevinylene) (PPV) series; Spiro compounds; Polyfluorene, rubrene, and the like, but are not limited thereto.

상기 전자수송 물질로는 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al 착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본-금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.As the electron transporting material, a material capable of transferring electrons from the cathode well into the light emitting layer, which is suitable for electrons, is suitable. Specific examples include an Al complex of 8-hydroxyquinoline; Complexes containing Alq 3 ; Organic radical compounds; Hydroxyflavone-metal complexes, and the like, but are not limited thereto.

본 발명에 따른 유기발광소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.The organic light emitting device according to the present invention may be a front emission type, a back emission type, or a both-sided emission type, depending on the material used.

본 발명에 따른 화합물은 유기태양전지, 유기감광체, 유기트랜지스터 등을 비롯한 유기전자소자에서도 유기발광소자에 적용되는 것과 유사한 원리로 작용할 수 있다.The compound according to the present invention may act on a principle similar to that applied to organic light emitting devices in organic electronic devices including organic solar cells, organic photoconductors, organic transistors and the like.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. However, the following examples are intended to illustrate the invention, whereby the scope of the invention is not limited.

1. 화학식 3으로 표시되는 화합물의 제조방법1. Method for producing the compound represented by the general formula (3)

<< 제조예Manufacturing example 1> 하기 화학식 1-A의 화합물의 합성 1> Synthesis of Compound of Formula 1-A

Figure pat00071
Figure pat00071

질소분위기 하에서 150 ㎖의 정제된 THF에 9-브로모-10-[나프탈렌-2-일]-안트라센(9-bromo-10-[naphthalene-2-yl]-anthracene)(6.85 g, 17.9 mmol)을 완전히 녹인 후, -78 ℃에서 터셔리-부틸리튬(31.5 ㎖, 1.7 M 펜탄용액)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리메틸보레이트(8 ㎖, 71.5 mmol)을 가하였다. 냉각 용기를 제거하고 반응 혼합물을 3 시간 동안 상온에서 교반하였다. 반응 혼합물에 2 N 염산수용액(100 ㎖)를 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조후 에틸에테르에 분산시켜 두 시간 동안 교반한 후 여과하고 건조하여 흰색의 화학식 1-A로 표시되는 화합물(4.43 g, 수율 71 %)를 얻었다.To a solution of 9-bromo-10- [naphthalene-2-yl] -anthracene (6.85 g, 17.9 mmol) in 150 ml of purified THF under nitrogen atmosphere, Was completely dissolved and then tert-butyllithium (31.5 mL, 1.7 M pentane solution) was added slowly at -78 ° C. After stirring at the same temperature for one hour, trimethyl borate (8 mL, 71.5 mmol) was added. The cooling vessel was removed and the reaction mixture was stirred at ambient temperature for 3 h. To the reaction mixture was added a 2 N aqueous hydrochloric acid solution (100 ml) and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. The resulting precipitate was filtered, washed sequentially with water and ethyl ether, and vacuum dried. Dried, dispersed in ethyl ether, stirred for 2 hours, filtered and dried to obtain the compound represented by the formula (1-A) (4.43 g, yield 71%) as white.

MS: [M+H]+=349MS: [M + H] &lt; + &gt; = 349

<< 제조예Manufacturing example 2> 하기 화학식 1-B의 화합물의 합성 2> Synthesis of Compound of Formula 1-B

Figure pat00072
Figure pat00072

상기 제조예 1의 화학식 1-A의 화합물의 합성에서 9-브로모-10-[나프탈렌-2-일]-안트라센(9-bromo-10-[naphthalene-2-yl]-anthracene) 대신 9-브로모-10-[나프탈렌-1-일]-안트라센(9-bromo-10-[naphthalene-1-yl]-anthracene) 를 사용한 것을 제외하고는, 상기 화학식 1-A의 화합물의 합성 방법과 동일한 방법으로 합성하여 상기 화학식 1-B의 화합물을 제조하였다.The synthesis of the compound of the formula 1-A of Preparation Example 1 was repeated except that 9-bromo-10- [naphthalene-2-yl] -anthracene was used instead of 9- The same procedure as in the synthesis of the compound of the above formula (I-A) was repeated except for using bromo-10- [naphthalen-1-yl] -anthracene (9-bromo-10- [naphthalene- To prepare the compound of the above formula (1-B).

MS: [M+H]+= 557MS: [M + H] &lt; + &gt; = 557

<< 제조예Manufacturing example 3> 하기 화학식 1-C, 1-D, 1- 3> 1-C, 1-D, 1- E 의E of 화합물의 합성 Synthesis of compounds

Figure pat00073
Figure pat00073

[화학식 1-C][Chemical Formula 1-C]

N2 기류 하에서, 9-브로모안트라센 (8.2 g, 31.9 mmol), 바이페닐 보론산 (7.6 g, 38.6 mmol), Pd(PPh3)4 (0.7 g, 0.6 mmol)을 2M K2CO3 수용액 (300 mL)과 THF (300 mL)에 넣고, 약 24시간 환류 교반시켰다. 반응이 끝난 후 상온으로 냉각시키고 반응 혼합액에서 유기층을 층 분리하고 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고 감압 증류 후 THF/EtOH로 재결정하여 상기 화학식 1-C의 화합물 (8.5 g, 81%)를 얻었다. Under N 2 stream, 9-bromo-anthracene (8.2 g, 31.9 mmol), biphenyl boronic acid (7.6 g, 38.6 mmol), Pd (PPh 3) 4 (0.7 g, 0.6 mmol) K 2 CO 3 aqueous solution to 2M (300 mL) and THF (300 mL), and the mixture was refluxed and stirred for about 24 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to room temperature, and the organic layer was separated from the reaction mixture. The organic layer was dried over magnesium sulfate, distilled under reduced pressure, and recrystallized from THF / EtOH to obtain the compound of the formula 1-C (8.5 g, 81%).

MS: [M]+ = 330MS: [M] &lt; + & gt ; = 330

[화학식 1-D][Chemical Formula 1-D]

N2 기류 하에서, 상기 화학식 1-C의 화합물 (8.0 g, 24.2 mmol)을 클로로포름 (150mL)에 녹이고, 아세트산 (150mL)을 첨가한 후, 0℃ 하에서 Br2 (1.3 mL, 25.4 mmol)을 적가하였다. 실온으로 올려 5시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후 반응 액을 농축시키고 EtOH로 재결정하여 상기 화학식 1-D의 화합물 (7 g, 71%)을 얻었다. The compound of the above formula (1-C) (8.0 g, 24.2 mmol) was dissolved in chloroform (150 mL) under N 2 flow and acetic acid (150 mL) was added. Br 2 (1.3 mL, 25.4 mmol) Respectively. The mixture was warmed to room temperature and stirred for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated and recrystallized with EtOH to obtain the compound of the above formula (1-D) (7 g, 71%).

MS: [M]+ = 408MS: [M] &lt; + & gt ; = 408

[화학식 1-E][Chemical Formula 1-E]

N2 기류 하에서, 상기 화학식 1-D의 화합물 (7 g, 17.1 mmol)에 탈수 처리한 에테르 (80 mL) 와 탈수 처리한 톨루엔 (80 mL)을 가하여 얼음중탕에서 -64℃로 냉각하였다. 여기에 2.5 M 부틸리튬/헥산 용액(9 mL)를 30 분에 걸쳐 적가하고, -64℃에서 2시간 반응시켰다. 여기에 보론산 트리이소에스테르 (12 mL)를 15분간에 걸쳐 적가하였다. 적가 후 실온으로 하여 12 시간 교반하였다. 이를 빙냉하여 10 ℃이하에서 2N 염산 (70 mL)를 첨가하고 톨루엔 (30mL)을 가하였다. 이를 분액하고 황산 마그네슘으로 건조한 후, 감압 농축하고 헥산으로 재결정하여 노란색의 고체를 얻었다. 이 고체에 진한 염산(7 mL)과 테트라부틸암모늄 브로마이드 (0.04 g, 0.1 mmol)를 넣고 THF(100mL)에 녹인 후 실온에서 12시간 반응시켰다. 반응 종료 후 반응 액에 H2O를 넣어 고체화 한 후 여과하여 상기 화학식 1-E의 화합물 (3.2 g, 50%)를 얻었다.Ether (80 mL) dehydrated and dehydrated toluene (80 mL) were added to the compound of the above formula (1-D) (7 g, 17.1 mmol) under N 2 stream and cooled to -64 ° C in an ice bath. A 2.5 M butyllithium / hexane solution (9 mL) was added dropwise thereto over 30 minutes, and the mixture was reacted at -64 캜 for 2 hours. To this was added boric acid triisoste (12 mL) dropwise over 15 minutes. After the addition, the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was ice-cooled and 2N hydrochloric acid (70 mL) was added at 10 DEG C or lower, and toluene (30 mL) was added thereto. This was separated, dried over magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure and recrystallized from hexane to obtain a yellow solid. To the solid was added concentrated hydrochloric acid (7 mL) and tetrabutylammonium bromide (0.04 g, 0.1 mmol), dissolved in THF (100 mL), and reacted at room temperature for 12 hours. After completion of the reaction, H 2 O was added to the reaction solution to solidify it, followed by filtration to obtain the compound of Formula 1-E (3.2 g, 50%).

MS: [M]+ = 374MS: [M] &lt; + & gt ; = 374

<< 제조예Manufacturing example 4> 하기 화학식 1-F의 화합물의 합성 4> Synthesis of Compound of Formula 1-F

Figure pat00074
Figure pat00074

2-나프탈렌 보론산 (10 g 48.3 mmol)과 2-브로모-6-나프톨 (10.8 g, 48.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2M 탄산칼륨수용액(100 mL)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(1.11 g, 2 mol%)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고 테트라하이드로퓨란 : 헥산 = 1 : 6 으로 컬럼하여 상기 화학식 1-F의 화합물(8.5 g, 65 %)를 제조하였다.2-Naphthaleneboronic acid (10 g, 48.3 mmol) and 2-bromo-6-naphthol (10.8 g, 48.3 mmol) were completely dissolved in tetrahydrofuran (100 mL), and a 2M aqueous potassium carbonate solution Tetraquistriphenylphosphinopalladium (1.11 g, 2 mol%) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, and the water layer was removed. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and then subjected to column chromatography with tetrahydrofuran: hexane = 1: 6 to prepare the compound of Formula 1-F (8.5 g, 65%).

MS: [M+H]+=271MS: [M + H] &lt; + &gt; = 271

<< 제조예Manufacturing example 5> 하기 화학식 1-G의 화합물의 합성 5> Synthesis of Compound of Formula 1-G

Figure pat00075
Figure pat00075

상기 화학식 1-F의 화합물(7.2 g, 26.8 mmol)을 디클로로메탄에 녹인 후 트리에틸아민(7.47 mL, 53.6 mmol)을 첨가한 후 10분간 교반하였다. 0℃로 온도를 낮춘 후 트리플루오로메탄술폰산 무수물(4.4 mL, 40.2 mmol)을 천천히 첨가한 후 상온으로 온도를 올리고 1시간 동안 교반하였다. 탄산수소나트륨 수용액을 첨가한 후 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 수분을 제거하였다. 여과한 후 감압 농축하여 헥산으로 재결정하여 상기 화학식 1-G의 화합물(8.74 g, 81 %)을 얻었다. The compound of Formula 1-F (7.2 g, 26.8 mmol) was dissolved in dichloromethane, triethylamine (7.47 mL, 53.6 mmol) was added, and the mixture was stirred for 10 minutes. After the temperature was lowered to 0 ° C, trifluoromethanesulfonic anhydride (4.4 mL, 40.2 mmol) was slowly added thereto, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 1 hour. The aqueous sodium bicarbonate solution was added, the water layer was removed, and water was removed with anhydrous magnesium sulfate. Filtered, concentrated under reduced pressure, and recrystallized with hexane to obtain the compound of the formula 1-G (8.74 g, 81%).

MS: [M+H]+=403MS: [M + H] &lt; + &gt; = 403

<< 제조예Manufacturing example 6> 하기 화학식 1-H의 화합물의 합성 6> Synthesis of Compound of Formula 1-H

Figure pat00076
Figure pat00076

상기 화학식 1-G의 화합물 (3.95 g, 9.82 mmol), 비스(피나콜라토)디보론 (2.75 g, 10.9 mmol) 및 아세트산 칼륨 (2.89 g, 29.4 mmol)을 디옥산(50 mL)에 현탁시켰다. 상기 현탁액에 팔라듐(디페닐포스피노페로센)클로라이드 (0.24 g, 3 mol %)를 가하였다. 얻어진 혼합물을 약 6 시간 동안 80 ℃에서 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 물(50 mL)로 희석하고 디클로로메탄(3 × 50 mL)으로 추출하였다. 유기 추출물을 황산 마그네슘 상에서 건조하고 진공 내 농축하였다. 조 생성물을 에탄올로 세척하고 진공 내 건조하여, 상기 화학식 1-H의 화합물(3.36 g, 90 %)을 제조하였다. (3.95 g, 9.82 mmol), bis (pinacolato) diboron (2.75 g, 10.9 mmol) and potassium acetate (2.89 g, 29.4 mmol) were suspended in dioxane (50 mL) . Palladium (diphenylphosphinoferrocene) chloride (0.24 g, 3 mol%) was added to the suspension. The resulting mixture was stirred at 80 &lt; 0 &gt; C for about 6 hours and cooled to room temperature. The mixture was diluted with water (50 mL) and extracted with dichloromethane (3 x 50 mL). The organic extract was dried over magnesium sulfate and concentrated in vacuo. The crude product was washed with ethanol and dried in vacuo to give the compound of formula 1-H (3.36 g, 90%).

MS: [M+H]+=381MS: [M + H] &lt; + &gt; = 381

<< 제조예Manufacturing example 7> 하기 화학식 1-I의 화합물의 합성 7> Synthesis of Compound of Formula 1-I

Figure pat00077
Figure pat00077

9,10-페난트렌퀴논(9,10-Phenanthrenequinone) (2.08 g, 10 mmol), 암모늄아세테이트 (1.16 g, 15 mmol), 아닐린 (4.67 g, 50 mmol), 4-브로모-벤즈알데하이드 (1.85 g, 10 mmol)을 아세트산 (20 mL)에 현탁시켰다. 얻어진 혼합물을 약 6 시간 동안 100 ℃에서 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 물(50 mL)로 희석한 후, 생성된 고체를 여과하고, 물과 에틸이써(ethyl ether)로 세정하여 상기 화학식 1-I의 화합물(2.7 g, 62 %)을 얻었다.A mixture of 9,10-Phenanthrenequinone (2.08 g, 10 mmol), ammonium acetate (1.16 g, 15 mmol), aniline (4.67 g, 50 mmol), 4-bromo-benzaldehyde g, 10 mmol) was suspended in acetic acid (20 mL). The resulting mixture was stirred at 100 &lt; 0 &gt; C for about 6 hours and cooled to room temperature. The mixture was diluted with water (50 mL), and the resulting solid was filtered, washed with water and ethyl ether to obtain the compound of the formula (I-I) (2.7 g, 62%).

MS: [M+H]+=450MS: [M + H] &lt; + &gt; = 450

<< 제조예Manufacturing example 8> 하기 화학식 1-J의 화합물의 합성 8> Synthesis of Compound of Formula 1-J

Figure pat00078
Figure pat00078

4-브로모-벤즈알데하이드 대신 3-브로모-벤즈알데하이드를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-I를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-J의 화합물을 제조하였다. The compound of the formula (I-J) was prepared in the same manner as the compound of the formula (I-I) except that 3-bromo-benzaldehyde was used instead of 4-bromo-benzaldehyde.

MS: [M+H]+=450MS: [M + H] &lt; + &gt; = 450

<< 제조예Manufacturing example 9> 하기 화학식 1-K의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 1-K

Figure pat00079
Figure pat00079

아닐린대신 1-아미노-나프탈렌을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-I를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-K의 화합물을 제조하였다. The compound of the formula 1-K was prepared in the same manner as the compound of the formula 1-I except that 1-amino-naphthalene was used instead of aniline.

MS: [M+H]+=500MS: [M + H] &lt; + &gt; = 500

<< 제조예Manufacturing example 10> 하기 화학식 1-L의 화합물의 합성 10> Synthesis of Compound of Formula 1-L

Figure pat00080
Figure pat00080

9,10-페난트렌퀴논(9,10-Phenanthrenequinone) (2.08 g, 10 mmol), 암모늄아세테이트 (1.16 g, 15 mmol), 아닐린 (4.67 g, 50 mmol), 6-브로모-2-나프탈렌 알데하이드 (2.56 g, 10 mmol)을 아세트산 (20 mL)에 현탁시켰다. 얻어진 혼합물을 약 6 시간 동안 100 ℃에서 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 물(50 mL)로 희석한 후, 생성된 고체를 여과하고, 물과 에틸이써로 세정하여 상기 화학식 1-L의 화합물(3.0 g, 60 %)을 얻었다.(1.16 g, 15 mmol), aniline (4.67 g, 50 mmol), 6-bromo-2-naphthalenaldehyde (2.56 g, 10 mmol) was suspended in acetic acid (20 mL). The resulting mixture was stirred at 100 &lt; 0 &gt; C for about 6 hours and cooled to room temperature. After diluting the mixture with water (50 mL), the resulting solid was filtered and washed with water and ethyl ether to obtain the compound of formula 1-L (3.0 g, 60%).

MS: [M+H]+=500MS: [M + H] &lt; + &gt; = 500

<< 제조예Manufacturing example 11> 하기 화학식 1-M의 화합물의 합성 11> Synthesis of Compound of Formula 1-M

Figure pat00081
Figure pat00081

9-브로모-10-[나프탈렌-2-일]-안트라센(9-bromo-10-[naphthalene-2-yl]-anthracene)대신 1-브로모-파이렌을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-A를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-M의 화합물을 제조하였다.Except that 1-bromo-phenylene was used in place of 9-bromo-10- [naphthalen-2-yl] -anthracene instead of 9- Compound (1-M) was prepared in the same manner as Compound (A-1).

MS: [M]+=246MS: [M] &lt; + & gt ; = 246

<< 제조예Manufacturing example 12> 하기 화학식 11-A의 화합물의 합성 12 Synthesis of Compound of Formula 11-A

Figure pat00082
Figure pat00082

2-브로모-9,10-디나프틸안트라센 (5.00 g, 9.82 mmol), 비스(피나콜라토)디보론 (2.75 g, 10.9 mmol) 및 아세트산 칼륨 (2.89 g, 29.4 mmol)을 디옥산(50 mL)에 현탁시켰다. 상기 현탁액에 팔라듐(디페닐포스피노페로센)클로라이드 (0.24 g, 3 mol %)를 가하였다. 얻어진 혼합물을 약 6 시간 동안 80 ℃에서 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 물(50 mL)로 희석하고 디클로로메탄(3 × 50 mL)으로 추출하였다. 유기 추출물을 황산 마그네슘 상에서 건조하고 진공 내 농축하였다. 조 생성물을 에탄올로 세척하고 진공 내 건조하여 9,10-디나프틸안트라세닐-2-보레이트인 상기 화학식 11-A의 화합물(5.46 g, 92 %)을 제조하였다. 2-bromo-9,10-dinaphthylanthracene (5.00 g, 9.82 mmol), bis (pinacolato) diboron (2.75 g, 10.9 mmol) and potassium acetate (2.89 g, 29.4 mmol) were added to dioxane ( 50 mL). Palladium (diphenylphosphinoferrocene) chloride (0.24 g, 3 mol%) was added to the suspension. The resulting mixture was stirred at 80 &lt; 0 &gt; C for about 6 hours and cooled to room temperature. The mixture was diluted with water (50 mL) and extracted with dichloromethane (3 x 50 mL). The organic extract was dried over magnesium sulfate and concentrated in vacuo. The crude product was washed with ethanol and dried in vacuo to give the compound of formula 11-A (5.46 g, 92%) as 9,10-dinaphthylanthracenyl-2-borate.

MS: [M+H]+=557MS: [M + H] &lt; + &gt; = 557

<< 제조예Manufacturing example 13> 하기 화학식 11-B의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 11-B

Figure pat00083
Figure pat00083

1-브로모나프탈렌(34.8 g, 168.2 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (170ml)에 녹인 후 -78℃로 온도를 낮추고 n-뷰틸리튬(67.3 ml, 168,2 mmol)을 천천히 첨가한 후 1시간 동안 교반하였다. 2-브로모안트라퀴논 (21 g, 73.1 mmol)을 첨가하고 상온으로 온도를 올리고 3시간 동안 교반하였다. 포화염화암모늄수용액을 넣고 물층을 제거한 후 무수황산마그네슘으로 건조하고 여과한 후 감압 건조하였다. 에틸에테르와 페트롤륨에테르로 재결정하여 상기 화학식 11-B의 화합물(32.3 g, 82 %)을 제조하였다. 1-Bromonaphthalene (34.8 g, 168.2 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran (170 ml), the temperature was lowered to -78 ° C, n-butyllithium (67.3 ml, 168.2 mmol) Lt; / RTI &gt; 2-Bromoanthraquinone (21 g, 73.1 mmol) was added, the temperature was raised to room temperature and stirred for 3 hours. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added to remove water layer, dried with anhydrous magnesium sulfate, filtered and dried under reduced pressure. Recrystallization with ethyl ether and petroleum ether to prepare the compound of formula 11-B (32.3 g, 82%).

MS: [M+H]+=544MS: [M + H] &lt; + &gt; = 544

<< 제조예Manufacturing example 14> 하기 화학식 11-C의 화합물의 합성 14> Synthesis of Compound of Formula 11-C

Figure pat00084
Figure pat00084

상기 화학식 11-B의 화합물(32.3 g, 59.5 mmol), 요오드화 칼륨(29.6 g, 178.4 mmol), 차아인산소다(38 g, 256.8 mmol)를 아세트산(40 mL)에 넣고 3시간 동안 가열교반하고 상온으로 온도를 낮춘 후 침전물을 여과한 후 에탄올로 재결정하여 상기 화학식 11-C의 화합물(25.5 g, 84 %)을 제조하였다.Sodium hypophosphite (38 g, 256.8 mmol) was added to the above compound (32.3 g, 59.5 mmol), potassium iodide (29.6 g, 178.4 mmol) and acetic acid (40 mL) The precipitate was filtered and then recrystallized from ethanol to obtain the compound of the formula 11-C (25.5 g, 84%).

MS: [M+H]+=509MS: [M + H] &lt; + &gt; = 509

<< 제조예Manufacturing example 15> 하기 화학식 11-D의 화합물의 합성 15> Synthesis of the compound of the following formula 11-D

Figure pat00085
Figure pat00085

상기 제조예 12의 화학식 11-A의 화합물의 합성에서 2-브로모-9,10-디나프틸안트라센 대신 상기 화학식 11-C를 사용한 것을 제외하고는, 상기 화학식 11-A의 화합물의 합성 방법과 동일한 방법으로 합성하여 상기 화학식 11-D의 화합물을 제조하였다.Method for synthesizing the compound of Formula 11-A, except that Formula 11-C was used instead of 2-bromo-9,10-dinaphthylanthracene in the synthesis of Compound 11-A of Preparation Example 12 Synthesis was performed in the same manner as to prepare a compound of Formula 11-D.

MS: [M+H]+= 557MS: [M + H] &lt; + &gt; = 557

<< 제조예Manufacturing example 16> 하기 화학식 11-E의 화합물의 합성 16> Synthesis of the compound of the following formula 11-E

Figure pat00086
Figure pat00086

카바졸 (3.3 g, 20 mmol), 1-브로모-4-요오드벤젠(3.0 mL, 24 mmol), 탄산 칼륨 (K2CO3, 5.6 g, 40 mmol), 요오드화구리 (CuI, 1.9g, 1.0 mmol) 및 자일렌 50 mL을 질소 분위기 하에서 환류하였다. 상온으로 냉각한 후 생성물을 에틸아세테이트로 추출하고 무수황산마그네슘으로 수분을 제거한 후 감압 하에서 용매를 제거하였다. 헥산 용매를 사용하여 실리카겔 컬럼을 통과시켜 화합물을 얻은 후 용매를 감압 하에서 제거하고 진공 건조시켜 흰색 고체의 상기 화학식 11-E의 화합물(1.6g, 25 %)을 제조하였다.Iodobenzene (3.0 mL, 24 mmol), potassium carbonate (K 2 CO 3 , 5.6 g, 40 mmol), copper iodide (CuI, 1.9 g, 1.0 mmol) and 50 mL of xylene was refluxed under a nitrogen atmosphere. After cooling to room temperature, the product was extracted with ethyl acetate, the water was removed with anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was removed under reduced pressure. The product was passed through a silica gel column using a hexane solvent to obtain a compound. The solvent was removed under reduced pressure and vacuum drying was conducted to prepare the compound of the above formula (11-E) (1.6 g, 25%) as a white solid.

MS: [M+H]+ = 322MS: [M + H] &lt; + &gt; = 322

<< 제조예Manufacturing example 17> 하기 화학식 11-F의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 11-F

Figure pat00087
Figure pat00087

상기 화학식 11-E의 화합물(4.38 g, 13.2 mmol)을 건조 테트라하이드로퓨란 (80 mL)에 질소 분위기하에서 용해하였다. 상기 용액을 -78 ℃로 냉각하고, 냉각된 용액에 10 분에 걸쳐 n-부틸 리튬(6.6 mL, 2.5 M 헥산 용액)을 서서히 가한 후 -78℃에서 약 40분 동안 교반하였다. 2-브로모안트라퀴논 화합물(3.59 g, 5.5 mmol)을 반응 혼합물에 가하고, -78℃ 에서 약 3 시간 동안 추가로 교반하였다. 혼합물을 실온에서 약 1 시간 동안 교반하였다. 상기 혼합물에 수성 염화 암모늄 용액(50mL)을 가하였다. 유기층을 분리하고 수용액층을 디에틸 에테르(60mL)로 추출하였다. 추출한 유기용액층을 황산 마그네슘으로 건조하고 감압 하에 농축하였다. 수득된 고체를 디에틸 에테르로 현탁시키고, 1 시간 동안 교반 후 여과하였다. 건조 후, 디알코올 화합물인 상기 화학식 11-F의 화합물(3.32 g, 73 %)을 제조하였다.The compound of formula 11-E (4.38 g, 13.2 mmol) was dissolved in dry tetrahydrofuran (80 mL) under nitrogen atmosphere. The solution was cooled to -78 ° C and n-butyllithium (6.6 mL, 2.5 M hexane solution) was added slowly to the cooled solution over 10 minutes and then stirred at -78 ° C for about 40 minutes. The 2-bromoanthraquinone compound (3.59 g, 5.5 mmol) was added to the reaction mixture and further stirred at -78 [deg.] C for about 3 hours. The mixture was stirred at room temperature for about 1 hour. To the mixture was added aqueous ammonium chloride solution (50 mL). The organic layer was separated and the aqueous layer was extracted with diethyl ether (60 mL). The extracted organic solution layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained solid was suspended in diethyl ether, stirred for 1 hour, and then filtered. After drying, the compound of formula 11-F (3.32 g, 73%) as a dialcohol compound was prepared.

MS [M+H]+ = 773MS [M + H] &lt; + &gt; = 773

<< 제조예Manufacturing example 18> 하기 화학식 11-G의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 11-G

Figure pat00088
Figure pat00088

상기 화학식 11-F의 화합물(2.82 g, 3.65 mmol)을 아세트산(60 mL), 요오드산칼륨 (3.32 g, 20 mmol) 및 하이포아인산나트륨 수화물(3.52g, 40 mmol)의 분산액에 가하였다. 상기 혼합물을 계속하여 교반하면서 약 3 시간 동안 환류시킨 다음, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 여과하고 물로 세척한 다음, 진공 건조하여 상기 화학식 11-G의 화합물(2.87 g, 90 %)을 제조하였다.The compound of Formula 11-F (2.82 g, 3.65 mmol) was added to a dispersion of acetic acid (60 mL), potassium iodate (3.32 g, 20 mmol) and sodium hypophosphite hydrate (3.52 g, 40 mmol). The mixture was refluxed for about 3 hours with continued stirring and then cooled to room temperature. The mixture was filtered, washed with water and then vacuum dried to give the compound of formula 11-G (2.87 g, 90%).

MS: [M+H]+=739MS: [M + H] &lt; + &gt; = 739

<< 제조예Manufacturing example 19> 하기 화학식 11-H의 화합물의 합성 19> Synthesis of a compound of the following formula 11-H

Figure pat00089
Figure pat00089

상기 제조예 12의 화학식 11-A의 화합물의 제조방법에서 2-브로모-9,10-디나프틸안트라센 대신 상기 화학식 11-G의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 화학식 11-A의 화합물의 제조 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 11-H의 화합물을 제조하였다.The compound of Chemical Formula 11-A, except that the compound of Chemical Formula 11-G was used instead of 2-bromo-9,10-dinaphthylanthracene in the method for preparing the compound of Chemical Formula 11-A of Preparation Example 12 In the same manner as in the preparation of the compound of Formula 11-H was prepared.

MS [M+H]+ = 787MS [M + H] &lt; + &gt; = 787

<< 제조예Manufacturing example 120> 하기 화학식 11-I의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 11-I

Figure pat00090
Figure pat00090

4-브로모-1-페닐 보론산 (9.66 g 48.3 mmol)과 브로모벤젠-D5 (7.77 g, 48.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2M 탄산칼륨수용액(100 mL)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(1.11 g, 2 mol%)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고, 헥산으로 컬럼하여 상기 화학식 11-I의 화합물(8.1 g, 70 %)를 제조하였다.4-Bromo-1-phenyl boronic acid (9.66 g 48.3 mmol) and bromobenzene -D 5 (7.77 g, 48.3 mmol ) of 2M aqueous solution of potassium carbonate was completely dissolved in tetrahydrofuran (100 mL) (100 mL) And tetrakistriphenylphosphinopalladium (1.11 g, 2 mol%) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, and the aqueous layer was removed. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and then subjected to column chromatography using hexane to prepare 8.1 g (70%) of the compound of formula 11-I.

MS: [M+H]+=239MS: [M + H] &lt; + &gt; = 239

<< 제조예Manufacturing example 121> 하기 화학식 11-J의 화합물의 합성 Synthesis of a compound of the following formula 11-J

Figure pat00091
Figure pat00091

상기 제조예 12의 화학식 11-A의 화합물의 제조방법에서 2-브로모-9,10-디나프틸안트라센 대신 상기 화학식 11-I의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 화학식 11-A의 화합물의 제조 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 11-J의 화합물을 제조하였다.The compound of the above formula 11-A, except that the compound of the above formula 11-I was used instead of 2-bromo-9,10-dinaphthylanthracene in the preparation of the compound of the formula 11- The compound of the above formula 11-J was prepared in the same manner as the compound of the formula 11-J.

MS [M]+ = 285MS [M] &lt; + & gt ; = 285

<< 제조예Manufacturing example 122> 하기 화학식 11-K의 화합물의 합성 Synthesis of a compound of the following formula 11-K

Figure pat00092
Figure pat00092

1,4-다이브로모벤젠 (23.5 g 100 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (300mL)에 녹인 후 -78℃로 온도를 낮추고 2.5M n-뷰틸리튬(40 ml, 100 mmol)을 천천히 첨가한 후 1시간 동안 교반하였다. 트라이페닐실릴클로라이드 (26.5 g, 90.0 mmol)을 첨가하고 상온으로 온도를 올리고 3시간 동안 교반하였다. 포화염화암모늄수용액을 넣고 물층을 제거한 후 무수황산마그네슘으로 건조하고 여과한 후 감압 건조하였다. 에틸에테르와 페트롤륨에테르로 재결정하여 상기 화학식 11-K의 화합물(24.3 g, 65 %)을 제조하였다. Dibromobenzene (23.5 g, 100 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran (300 mL), the temperature was lowered to -78 ° C., 2.5 M n-butyllithium (40 ml, 100 mmol) Lt; / RTI &gt; Triphenylsilyl chloride (26.5 g, 90.0 mmol) was added and the temperature was raised to ambient temperature and stirred for 3 hours. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added to remove water layer, dried with anhydrous magnesium sulfate, filtered and dried under reduced pressure. The residue was recrystallized from ethyl ether and petroleum ether to give the compound of formula 11-K (24.3 g, 65%).

MS: [M+H]+=416MS: [M + H] &lt; + &gt; = 416

<< 제조예Manufacturing example 123> 하기 화학식 11-L의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 11-L

Figure pat00093
Figure pat00093

상기 제조예 12의 화학식 11-A의 화합물의 제조방법에서 2-브로모-9,10-디나프틸안트라센 대신 상기 화학식 11-K의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 화학식 11-A의 화합물의 제조 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 11-L의 화합물을 제조하였다.The compound of the above formula 11-A, except that the compound of the formula 11-A was used instead of the compound of the formula 11-A in place of 2-bromo-9,10-dinaphthylanthracene in the above- The compound of the above formula 11-L was prepared in the same manner as in the preparation of the compound of the formula 11-L.

MS [M]+ = 463MS [M] &lt; + & gt ; = 463

<< 제조예Manufacturing example 124> 하기 화학식 11-M의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 11-M

Figure pat00094
Figure pat00094

상기 제조예 122의 화학식 11-K의 화합물의 제조방법에서 트라이페닐실릴 클로라이드 대신 상기 트라이페닐저밀(Triphenylgermyl)클로라이드의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 화학식 11-K의 화합물의 제조 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 11-M의 화합물을 제조하였다.In the same manner as in the preparation of the compound of the formula 11-K, except for using the compound of the triphenylgermyl chloride instead of triphenylsilyl chloride in the preparation of the compound of the formula 11-K, To give the compound of the above formula (11-M).

MS [M]+ = 460MS [M] &lt; + & gt ; = 460

<< 제조예Manufacturing example 125> 하기 화학식 11-N의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 11-N

Figure pat00095
Figure pat00095

상기 제조예 123의 화학식 11-L의 화합물의 제조방법에서 화학식 11-K의 화합물 대신 상기 화학식 11-M의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 화학식 11-L의 화합물의 제조 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 11-N의 화합물을 제조하였다.In the same manner as in the preparation of the compound of the formula 11-L, except for using the compound of the formula 11-M instead of the compound of the formula 11-K in the process for the preparation of the compound of the formula 11-L of the preparation example 123, The compound of formula 11-N was prepared.

MS [M]+ = 507MS [M] &lt; + & gt ; = 507

<< 실시예Example 1> 하기 화학식 1-5의 화합물의 합성 1> Synthesis of the compound of the following formula 1-5

Figure pat00096
Figure pat00096

상기 화학식 1-A의 화합물(2.79 g, 8.0 mmol)과 상기 화학식 1-I의 화합물(2.83 g, 6.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2M 탄산칼륨수용액(20 mL)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(155 mg, 0.013 mmol)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고 테트라하이드로퓨란 : 헥산 = 1 : 6으로 컬럼하여 상기 화학식 1-5의 화합물(2.55 g, 60 %)를 제조하였다.The compound of Formula 1-A (2.79 g, 8.0 mmol) and the compound of Formula 1-I (2.83 g, 6.3 mmol) were completely dissolved in tetrahydrofuran (100 mL), and 2M aqueous potassium carbonate solution (20 mL) Tetrakistriphenylphosphinopalladium (155 mg, 0.013 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, the water layer was removed, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and subjected to column chromatography with tetrahydrofuran: hexane = 1: 6 to prepare the compound of Formula 1-5 (2.55 g, 60%).

MS: [M+H]+=673MS: [M + H] &lt; + &gt; = 673

<< 실시예Example 2> 하기 화학식 1-6의 화합물의 합성 2> Synthesis of the compound of the following formula 1-6

Figure pat00097
Figure pat00097

상기 화학식 1-I 대신 상기 화학식 1-K를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-5를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-6의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-6 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-5 except that the compound of Formula 1-I was used instead of the compound of Formula 1-I.

MS: [M+H]+=723MS: [M + H] &lt; + &gt; = 723

<< 실시예Example 3> 하기 화학식 1-9의 화합물의 합성 3> Synthesis of the compound of the following formula 1-9

Figure pat00098
Figure pat00098

상기 화학식 1-I 대신 상기 화학식 1-J를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-5를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-9의 화합물을 제조하였다.The compound of the above formula 1-9 was prepared in the same manner as in the preparation of the compound of the formula 1-5 except that the compound of the formula 1-J was used instead of the compound of the formula 1-I.

MS: [M+H]+=673MS: [M + H] &lt; + &gt; = 673

<< 실시예Example 4> 하기 화학식 1-21의 화합물의 합성 4> Synthesis of the compound of the following formula 1-21

Figure pat00099
Figure pat00099

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-B를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-5를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-21의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-21 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-5 except that the compound of Formula 1-B was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=673MS: [M + H] &lt; + &gt; = 673

<< 실시예Example 5> 하기 화학식 1-22의 화합물의 합성 5> Synthesis of Compound of Formula 1-22

Figure pat00100
Figure pat00100

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-E를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-5를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-22의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-22 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-5 except that the compound of Formula 1-E was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=699MS: [M + H] &lt; + &gt; = 699

<< 실시예Example 6> 하기 화학식 1-33의 화합물의 합성 6> Synthesis of the compound of the following formula 1-33

Figure pat00101
Figure pat00101

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-H를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-5를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-33의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-33 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-5 except that the compound of Formula 1-A was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=623MS: [M + H] &lt; + &gt; = 623

<< 실시예Example 7> 하기 화학식 1-35의 화합물의 합성 7> Synthesis of the compound of the following formula 1-35

Figure pat00102
Figure pat00102

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-M을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-5를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-35의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-35 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-5 except that the compound of Formula 1-A was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=571MS: [M + H] &lt; + &gt; = 571

<< 실시예Example 8> 하기 화학식 1-64의 화합물의 합성 8> Synthesis of Compound of Formula 1-64

Figure pat00103
Figure pat00103

상기 화학식 11-A의 화합물(3.5 g, 8.0 mmol)과 상기 화학식 1-I의 화합물(2.83 g, 6.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2 M 탄산칼륨수용액(20 mL)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(155 mg, 0.013 mmol)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고 테트라하이드로퓨란 : 헥산 = 1 : 6으로 컬럼하여 상기 화학식 1-64의 화합물(3.27 g, 65 %)를 제조하였다.The compound of Formula 11-A (3.5 g, 8.0 mmol) and the compound of Formula I-I (2.83 g, 6.3 mmol) were completely dissolved in tetrahydrofuran (100 mL), and then 2 M aqueous potassium carbonate solution (20 mL) Tetrakistriphenylphosphinopalladium (155 mg, 0.013 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, the water layer was removed, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and tetrahydrofuran: hexane = 1: 6 to prepare a compound of Chemical Formula 1-64 (3.27 g, 65%).

MS: [M+H]+=800MS: [M + H] &lt; + &gt; = 800

<< 실시예Example 9> 하기 화학식 1-65의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 1-65

Figure pat00104
Figure pat00104

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-D을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-65의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-65 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-64 except for using the compound of Formula 11-D instead of the compound of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=800MS: [M + H] &lt; + &gt; = 800

<< 실시예Example 10> 하기 화학식 1-67의 화합물의 합성 10> Synthesis of the compound of the following formula 1-67

Figure pat00105
Figure pat00105

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-H을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-67의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-67 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-64 except for using the compound of Formula 11-H instead of the compound of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=1230MS: [M + H] &lt; + &gt; = 1230

<< 실시예Example 11> 하기 화학식 1-74의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 1-74

Figure pat00106
Figure pat00106

상기 화학식 1-I 대신 상기 화학식 1-J을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-74의 화합물을 제조하였다.The compound of Chemical Formula 1-74 was prepared by the same method as the method of preparing Chemical Formula 1-64, except that Chemical Formula 1-J was used instead of Chemical Formula 1-I.

MS: [M+H]+=800MS: [M + H] &lt; + &gt; = 800

<< 실시예Example 12> 하기 화학식 1-94의 화합물의 합성 12> Synthesis of the compound of the following formula 1-94

Figure pat00107
Figure pat00107

상기 화학식 1-I 대신 상기 화학식 1-L을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-94의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-94 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-64 except for using the compound of Formula 1-L instead of the compound of Formula 1-I.

MS: [M+H]+=850MS: [M + H] &lt; + &gt; = 850

<< 실시예Example 13> 하기 화학식 1-128의 화합물의 합성 13> Synthesis of Compound of Formula 1-128

Figure pat00108
Figure pat00108

상기 화학식 1-I 대신 상기 화학식 1-K을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-128의 화합물을 제조하였다.The compound of the formula 1-128 was prepared in the same manner as the compound of the formula 1-64 except for using the compound of the formula 1-K instead of the compound of the formula 1-I.

MS: [M+H]+=850MS: [M + H] &lt; + &gt; = 850

<< 실시예Example 114> 하기 화학식 1-174의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 1-174

Figure pat00109
Figure pat00109

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-J을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-174의 화합물을 제조하였다.Compounds of the formula 1-174 were prepared in the same manner as the compound of the formula 1-64 except that the compound of the formula 11-J was used instead of the compound of the formula 11-A.

MS: [M+H]+=528MS: [M + H] &lt; + &gt; = 528

<< 실시예Example 115> 하기 화학식 1-181의 화합물의 합성 Synthesis of a compound of the following formula 1-181

Figure pat00110
Figure pat00110

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-L을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-181의 화합물을 제조하였다.Compounds of the formula 1-181 were prepared in the same manner as the compound of the formula 1-64 except for using the compound of the formula 11-L instead of the compound of the formula 11-A.

MS: [M+H]+=705MS: [M + H] &lt; + &gt; = 705

<< 실시예Example 116> 하기 화학식 1-182의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 1-182

Figure pat00111
Figure pat00111

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-N을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 1-64를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 1-182의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 1-182 was prepared in the same manner as the compound of Formula 1-64 except that the compound of Formula 11-N was used instead of the compound of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=750MS: [M + H] &lt; + &gt; = 750

2. 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법2. Production method of the compound represented by the formula (4)

<< 제조예Manufacturing example 20> 하기 화학식 2-A의 화합물의 합성 20> Synthesis of Compound of Formula 2-A

Figure pat00112
Figure pat00112

9,10-페난트렌퀴논 (9,10-phenanthrenequinone) (4.95 g, 23.8 mmol), 암모늄아세테이트 (2.75 g, 35.7 mmol), 벤즈알데하이드 (3.71 g, 23.7 mmol), 4-브로모-아닐린 (20.47 g, 119 mmol)을 아세트산 (40 mL)에 현탁시켰다. 얻어진 혼합물을 약 8 시간 동안 100 ℃에서 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 물(100 mL)로 희석한 후, 생성된 고체를 여과하고, 물과 에틸이써로 세정하여 상기 화학식 2-A의 화합물(5.9 g, 55 %)을 얻었다.(2.75 g, 35.7 mmol), benzaldehyde (3.71 g, 23.7 mmol), 4-bromo-aniline (20.47 g, g, 119 mmol) was suspended in acetic acid (40 mL). The resulting mixture was stirred at 100 &lt; 0 &gt; C for about 8 hours and cooled to room temperature. The mixture was diluted with water (100 mL), and the resulting solid was filtered, washed with water and ethyl, to obtain the compound of Formula 2-A (5.9 g, 55%).

MS: [M+H]+=450MS: [M + H] &lt; + &gt; = 450

<< 제조예Manufacturing example 21> 하기 화학식 2-B의 화합물의 합성 21> Synthesis of Compound of Formula 2-B

Figure pat00113
Figure pat00113

4-브로모-아닐린 대신 3-브로모-아닐린을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-A를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-B의 화합물을 제조하였다. The compound of Formula 2-B was prepared by the same method as the method of preparing Formula 2-A, except that 3-bromo-aniline was used instead of 4-bromo-aniline.

MS: [M+H]+=450MS: [M + H] &lt; + &gt; = 450

<< 제조예Manufacturing example 22> 하기 화학식 2-C의 화합물의 합성 22> Synthesis of the compound of the following formula 2-C

Figure pat00114
Figure pat00114

4-브로모-아닐린 대신 6-브로모-2-아미노 나프탈렌을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-A를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-C의 화합물을 제조하였다. The compound of the formula 2-C was prepared in the same manner as the compound of the formula 2-A except that 6-bromo-2-aminonaphthalene was used instead of 4-bromo-aniline.

MS: [M+H]+=500MS: [M + H] &lt; + &gt; = 500

<< 제조예Manufacturing example 23> 하기 화학식 2-D의 화합물의 합성 23> Synthesis of the compound of the following formula 2-D

Figure pat00115

Figure pat00115

벤즈알데하이드 대신 2-나프탈렌알데하이드를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-A를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-D의 화합물을 제조하였다. The compound of the above formula 2-D was prepared in the same manner as the compound of the above formula 2-A except for using 2-naphthalene aldehyde instead of benzaldehyde.

MS: [M+H]+=500MS: [M + H] &lt; + &gt; = 500

<< 제조예Manufacturing example 24> 하기 화학식 2-E의 화합물의 합성 24> Synthesis of the compound of the following formula 2-E

Figure pat00116
Figure pat00116

벤즈알데하이드 대신 2-피리딘알데하이드를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-A를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-E의 화합물을 제조하였다. The compound of the above formula 2-E was prepared in the same manner as the compound of the above formula 2-A except for using 2-pyridine aldehyde instead of benzaldehyde.

MS: [M+H]+=451MS: [M + H] &lt; + &gt; = 451

<< 실시예Example 14> 하기 화학식 2-1의 화합물의 합성 14> Synthesis of Compound of Formula 2-1 below

Figure pat00117
Figure pat00117

상기 화학식 1-A의 화합물(2.79 g, 8.0 mmol)과 상기 화학식 2-A의 화합물(2.83 g, 6.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2 M 탄산칼륨수용액(20 mL)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(155 mg, 0.013 mmol)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고 테트라하이드로퓨란 : 헥산 = 1 : 6으로 컬럼하여 상기 화학식 2-1의 화합물(2.75 g, 65 %)를 제조하였다.
The compound of Formula 1-A (2.79 g, 8.0 mmol) and the compound of Formula 2-A (2.83 g, 6.3 mmol) were completely dissolved in tetrahydrofuran (100 mL), followed by 2 M aqueous potassium carbonate solution (20 mL). Tetrakistriphenylphosphinopalladium (155 mg, 0.013 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, the water layer was removed, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and tetrahydrofuran: hexane = 1: 6 to prepare a compound of Chemical Formula 2-1 (2.75 g, 65%).

MS: [M+H]+=673MS: [M + H] &lt; + &gt; = 673

<< 실시예Example 15> 하기 화학식 2-5의 화합물의 합성 15> Synthesis of Compound of Formula 2-5

Figure pat00118
Figure pat00118

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-B를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-5의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-5 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-1 except that the compound of Formula 2-B was used instead of the compound of Formula 2-A.

MS: [M+H]+=673MS: [M + H] &lt; + &gt; = 673

<< 실시예Example 16> 하기 화학식 2-2의 화합물의 합성 16> Synthesis of Compound of Formula 2-2

Figure pat00119
Figure pat00119

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-D를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-2의 화합물을 제조하였다.The compound of Chemical Formula 2-2 was prepared by the same method as the method of preparing Chemical Formula 2-1, except that Chemical Formula 2-D was used instead of Chemical Formula 2-A.

MS: [M+H]+=723MS: [M + H] &lt; + &gt; = 723

<< 실시예Example 17> 하기 화학식 2-3의 화합물의 합성 17> Synthesis of Compound of Formula 2-3

Figure pat00120
Figure pat00120

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-E를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-3의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-3 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-1 except that the compound of Formula 2-E was used instead of the compound of Formula 2-A.

MS: [M+H]+=674MS: [M + H] &lt; + &gt; = 674

<< 실시예Example 18> 하기 화학식 2-9의 화합물의 합성 18> Synthesis of the compound of the following formula 2-9

Figure pat00121
Figure pat00121

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-C를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-9의 화합물을 제조하였다.The compound of Chemical Formula 2-9 was prepared by the same method as the method of preparing Chemical Formula 2-1, except that Chemical Formula 2-C was used instead of Chemical Formula 2-A.

MS: [M+H]+=723MS: [M + H] &lt; + &gt; = 723

<< 실시예Example 19> 하기 화학식 2-17의 화합물의 합성 19> Synthesis of Compound of Formula 2-17

Figure pat00122
Figure pat00122

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-B를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-17의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-17 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-1 except that the compound of Formula 1-B was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=673MS: [M + H] &lt; + &gt; = 673

<< 실시예Example 20> 하기 화학식 2-18의 화합물의 합성 20> Synthesis of Compound of Formula 2-18

Figure pat00123
Figure pat00123

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-E를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-18의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-18 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-1 except that the compound of Formula 1-A was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=699MS: [M + H] &lt; + &gt; = 699

<< 실시예Example 21> 하기 화학식 2-29의 화합물의 합성 21> Synthesis of Compound of Formula 2-29

Figure pat00124
Figure pat00124

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-H를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-29의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-29 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-1 except that the compound of Formula 1-A was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=623MS: [M + H] &lt; + &gt; = 623

<< 실시예Example 22> 하기 화학식 2-31의 화합물의 합성 22> Synthesis of Compound of Formula 2-31

Figure pat00125
Figure pat00125

상기 화학식 1-A 대신 상기 화학식 1-M을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-1를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-31의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-31 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-1 except that the compound of Formula 1-M was used instead of the compound of Formula 1-A.

MS: [M+H]+=571MS: [M + H] &lt; + &gt; = 571

<< 실시예Example 23> 하기 화학식 22-A, 22-B, 2- 22-A, 22-B, 2- 57 의57 of 화합물의 합성 Synthesis of compounds

Figure pat00126
Figure pat00126

[화학식 22-A][Chemical Formula 22-A]

9,10-페난트렌퀴논(9,10-phenanthrenequinone) (5 g, 23.8 mmol), 암모늄아세테이트 (2.75 g, 35.7 mmol), 벤즈알데하이드 (3.71 g, 23.7 mmol), 2-아미노 안트라퀴논 (26.53 g, 119 mmol)을 아세트산 (40 mL)에 현탁시켰다. 얻어진 혼합물을 약 8 시간 동안 100 ℃에서 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 물(100 mL)로 희석한 후, 생성된 고체를 여과하고, 물과 에틸이써로 세정하여 상기 화학식 22-A의 화합물(5.9 g, 50 %)을 얻었다.(5 g, 23.8 mmol), ammonium acetate (2.75 g, 35.7 mmol), benzaldehyde (3.71 g, 23.7 mmol), 2-aminoanthraquinone (26.53 g , 119 mmol) was suspended in acetic acid (40 mL). The resulting mixture was stirred at 100 &lt; 0 &gt; C for about 8 hours and cooled to room temperature. The mixture was diluted with water (100 mL), and the resulting solid was filtered and washed with water and ethyl to obtain the compound of Formula 22-A (5.9 g, 50%).

MS: [M+H]+=501MS: [M + H] &lt; + &gt; = 501

[화학식 22-B][Chemical Formula 22-B]

2-브로모나프탈렌(34.8 g, 168.2 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (250 ml)에 녹인 후 -78℃로 온도를 낮추고 n-뷰틸리튬(67.3 ml, 168,2 mmol)을 천천히 첨가한 후 1시간 동안 교반하였다. 상기 화학식 22-A (36.6 g, 73.1 mmol)을 첨가하고 상온으로 온도를 올리고 3시간 동안 교반하였다. 포화염화암모늄수용액을 넣고 물층을 제거한 후 무수황산마그네슘으로 건조하고 여과한 후 감압 건조하였다. 에틸에테르와 페트롤륨에테르로 재결정하여 상기 화학식 22-B의 화합물(44.3 g, 80 %)을 제조하였다. After dissolving 2-bromonaphthalene (34.8 g, 168.2 mmol) in tetrahydrofuran (250 ml), the temperature was lowered to -78 ° C and n-butyllithium (67.3 ml, 168.2 mmol) Lt; / RTI &gt; The above-mentioned compound 22-A (36.6 g, 73.1 mmol) was added, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 3 hours. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added to remove water layer, dried with anhydrous magnesium sulfate, filtered and dried under reduced pressure. Recrystallization with ethyl ether and petroleum ether to prepare the compound of formula 22-B (44.3 g, 80%).

MS: [M+H]+=757MS: [M + H] &lt; + &gt; = 757

[화학식 2-57] [Formula 2-57]

상기 화학식 22-B의 화합물(45.0 g, 59.5 mmol), 요오드화 칼륨(29.6 g, 178.4 mmol), 차아인산소다(38 g, 256.8 mmol)를 아세트산(40 mL)에 넣고 3시간 동안 가열교반하고 상온으로 온도를 낮춘 후 침전물을 여과한 후 에탄올로 재결정하여 상기 화학식 2-57의 화합물(34.4 g, 80 %)을 제조하였다.Sodium hypophosphite (38 g, 256.8 mmol) was added to the above compound (45.0 g, 59.5 mmol), potassium iodide (29.6 g, 178.4 mmol) and acetic acid (40 mL) . The precipitate was filtered and recrystallized from ethanol to obtain 34.4 g (80%) of the compound of Formula 2-57.

MS: [M+H]+=723MS: [M + H] &lt; + &gt; = 723

<< 실시예Example 24> 하기 화학식 2- 24> 67 의67 of 화합물의 합성 Synthesis of compounds

Figure pat00127
Figure pat00127

상기 화학식 11-A의 화합물(3.5 g, 8.0 mmol)과 상기 화학식 2-A의 화합물(2.83 g, 6.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2 M 탄산칼륨수용액(20 mL)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(155 mg, 0.013 mmol)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고 테트라하이드로퓨란 : 헥산 = 1 : 6으로 컬럼하여 상기 화학식 2-67의 화합물(3.27 g, 65 %)를 제조하였다.The compound of Formula 11-A (3.5 g, 8.0 mmol) and the compound of Formula 2-A (2.83 g, 6.3 mmol) were completely dissolved in tetrahydrofuran (100 mL), and then 2 M aqueous potassium carbonate solution (20 mL) Tetrakistriphenylphosphinopalladium (155 mg, 0.013 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, the water layer was removed, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and tetrahydrofuran: hexane = 1: 6 to prepare a compound of Chemical Formula 2-67 (3.27 g, 65%).

MS: [M]+=799MS: [M] &lt; + & gt ; = 799

<< 실시예Example 25> 하기 화학식 2-68의 화합물의 합성 Synthesis of the compound of the following formula 2-68

Figure pat00128
Figure pat00128

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-D을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-68의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-68 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-67 except for using the compound of Formula 11-D instead of the compound of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=800MS: [M + H] &lt; + &gt; = 800

<< 실시예Example 26> 하기 화학식 2-70의 화합물의 합성 26> Synthesis of the compound of the following formula 2-70

Figure pat00129
Figure pat00129

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-H를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-70의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-70 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-67 except for using the compound of Formula 11-H instead of the compound of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=1230MS: [M + H] &lt; + &gt; = 1230

<< 실시예Example 27> 하기 화학식 2-77의 화합물의 합성 27> Synthesis of Compound of Formula 2-77

Figure pat00130
Figure pat00130

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-B을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-77의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-77 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-67 except for using the compound of Formula 2-B instead of the compound of Formula 2-A.

MS: [M+H]+=800MS: [M + H] &lt; + &gt; = 800

<< 실시예Example 28> 하기 화학식 2-97의 화합물의 합성 28> Synthesis of Compound of Formula 2-97

Figure pat00131
Figure pat00131

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-C를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-97의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-97 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-67 except for using the compound of Formula 2-C instead of the compound of Formula 2-A.

MS: [M+H]+=850MS: [M + H] &lt; + &gt; = 850

<< 실시예Example 29> 하기 화학식 2-151의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 2-151

Figure pat00132
Figure pat00132

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-D를 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-151의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-151 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-67 except for using the compound of Formula 2-D instead of the compound of Formula 2-A.

MS: [M+H]+=850MS: [M + H] &lt; + &gt; = 850

<< 실시예Example 30> 하기 화학식 2-131의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 2-131

Figure pat00133
Figure pat00133

상기 화학식 2-A 대신 상기 화학식 2-E을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-131의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-131 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-67 except for using the compound of Formula 2-E instead of the compound of Formula 2-A.

MS: [M+H]+=801MS: [M + H] &lt; + &gt; = 801

<< 실시예Example 231> 하기 화학식 2-177의 화합물의 합성 231> Synthesis of Compound of Formula 2-177

Figure pat00134
Figure pat00134

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-J을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-177의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-177 was prepared by the same method as the method of preparing Formula 2-67, except that Formula 11-J was used instead of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=528MS: [M + H] &lt; + &gt; = 528

<< 실시예Example 232> 하기 화학식 2-184의 화합물의 합성 232> Synthesis of Compound of Formula 2-184

Figure pat00135
Figure pat00135

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-L을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-184의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 2-184 was prepared in the same manner as the compound of Formula 2-67 except that the compound of Formula 11-L was used instead of the compound of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=705MS: [M + H] &lt; + &gt; = 705

<< 실시예Example 233> 하기 화학식 2-185의 화합물의 합성 233> Synthesis of Compound of Formula 2-185

Figure pat00136
Figure pat00136

상기 화학식 11-A 대신 상기 화학식 11-N을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 2-67를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 2-185의 화합물을 제조하였다.A compound of Formula 2-185 was prepared by the same method as the method of preparing Formula 2-67, except that Formula 11-N was used instead of Formula 11-A.

MS: [M+H]+=750MS: [M + H] &lt; + &gt; = 750

3. 화학식 5로 표시되는 화합물의 제조방법3. Method for producing the compound represented by the general formula (5)

<< 제조예Manufacturing example 25> 하기 화학식 3-A의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 3-A

Figure pat00137
Figure pat00137

2,7-다이브로모-9,10-페난트렌퀴논 (3.66 g, 10 mmol), 암모늄아세테이트 (1.16 g, 15 mmol), 아닐린 (4.67 g, 50 mmol), 벤즈알데하이드 (1.06 g, 10 mmol)를 아세트산 (20 mL)에 현탁시켰다. 얻어진 혼합물을 약 6 시간 동안 100 ℃에서 교반하고, 실온으로 냉각하였다. 상기 혼합물을 물(50 mL)로 희석한 후, 생성된 고체를 여과하고, 물과 에틸이써로 세정하여 상기 화학식 3-A의 화합물(3.17 g, 60 %)을 얻었다.(3.66 g, 10 mmol), ammonium acetate (1.16 g, 15 mmol), aniline (4.67 g, 50 mmol), benzaldehyde (1.06 g, 10 mmol) Was suspended in acetic acid (20 mL). The resulting mixture was stirred at 100 &lt; 0 &gt; C for about 6 hours and cooled to room temperature. The mixture was diluted with water (50 mL), and the resulting solid was filtered and washed with water and ethyl to obtain the compound of Formula 3-A (3.17 g, 60%).

MS: [M+H]+=529MS: [M + H] &lt; + &gt; = 529

<< 제조예Manufacturing example 26> 하기 화학식 3-B의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 3-B

Figure pat00138
Figure pat00138

2,7-다이브로모-9,10-페난트렌퀴논 대신 3,6-다이브로모-9,10-페난트렌퀴논을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 3-A를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 3-B의 화합물을 제조하였다. Except that 3,6-dibromo-9,10-phenanthrenequinone was used in place of 2,7-dibromo-9,10-phenanthrenequinone, -B. &Lt; / RTI &gt;

MS: [M+H]+=529MS: [M + H] &lt; + &gt; = 529

<< 실시예Example 31> 하기 화학식 3-26의 화합물의 합성 31> Synthesis of Compound of Formula 3-26

Figure pat00139
Figure pat00139

상기 화학식 1-A의 화합물(4.83 g, 13.9 mmol)과 상기 화학식 3-A의 화합물(3.33 g, 6.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2M 탄산칼륨수용액을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(155 mg, 0.013 mmol)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고 테트라하이드로퓨란 : 헥산 = 1 : 4으로 컬럼하여 상기 화학식 3-26의 화합물(3.07 g, 50 %)를 제조하였다.The compound of Formula 1-A (4.83 g, 13.9 mmol) and the compound of Formula 3-A (3.33 g, 6.3 mmol) were completely dissolved in tetrahydrofuran (100 mL), followed by the addition of 2M potassium carbonate aqueous solution, Triphenylphosphinopalladium (155 mg, 0.013 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, the water layer was removed, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and tetrahydrofuran: hexane = 1: 4 to prepare the compound of Chemical Formula 3-26 (3.07 g, 50%).

MS: [M+H]+=976MS: [M + H] &lt; + &gt; = 976

<< 실시예Example 32> 하기 화학식 3-34의 화합물의 합성 32> Synthesis of Compound of Formula 3-34

Figure pat00140
Figure pat00140

상기 화학식 3-A 대신 상기 화학식 3-B을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 3-26를 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 3-34의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 3-34 was prepared in the same manner as the compound of Formula 3-26 except that the compound of Formula 3-B was used instead of the compound of Formula 3-A.

MS: [M+H]+=976MS: [M + H] &lt; + &gt; = 976

<< 실시예Example 33> 하기 화학식 3-53의 화합물의 합성 33> Synthesis of Compound of Formula 3-53

Figure pat00141
Figure pat00141

상기 화학식 1-M의 화합물(3.42 g, 13.9 mmol)과 상기 화학식 3-A의 화합물(3.33 g, 6.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 mL)에 완전히 녹인 후 2M 탄산칼륨수용액을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐(155 mg, 0.013 mmol)을 넣은 후 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물층을 제거하고 무수황산마그네슘으로 건조한 후 감압농축시키고 테트라하이드로퓨란 : 헥산 = 1 : 4으로 컬럼하여 상기 화학식 3-53의 화합물(2.43 g, 50 %)를 제조하였다.After completely dissolving the compound of Formula 1-M (3.42 g, 13.9 mmol) and the compound of Formula 3-A (3.33 g, 6.3 mmol) in tetrahydrofuran (100 mL), an aqueous 2M potassium carbonate solution was added and tetrakis Triphenylphosphinopalladium (155 mg, 0.013 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. The temperature was lowered to room temperature, and the aqueous layer was removed. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and subjected to column chromatography with tetrahydrofuran: hexane = 1: 4 to prepare the compound of Formula 3-53 (2.43 g, 50%).

MS: [M+H]+=771MS: [M + H] &lt; + &gt; = 771

<< 실시예Example 34> 하기 화학식 3-55의 화합물의 합성 Synthesis of Compound of Formula 3-55

Figure pat00142
Figure pat00142

상기 화학식 3-A 대신 상기 화학식 3-B을 사용한 것을 제외하고 상기 화학식 3-53을 제조하는 방법과 동일한 방법으로 상기 화학식 3-55의 화합물을 제조하였다.The compound of Formula 3-55 was prepared in the same manner as the compound of Formula 3-53 except that the compound of Formula 3-B was used instead of the compound of Formula 3-A.

MS: [M+H]+=771MS: [M + H] &lt; + &gt; = 771

<< 실험예Experimental Example 1>  1>

ITO(indium tin oxide)가 1500 Å의 두께로 박막 코팅된 유리 기판을 세제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 이때, 세제로는 피셔사(Fischer Co.) 제품을 사용하였으며, 증류수로는 밀리포어사 (Millipore Co.) 제품의 필터(Filter)로 2 차로 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후, 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 수송시켰다. 또한, 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5 분간 세정한 후 진공 증착기로 기판을 수송시켰다.The glass substrate coated with ITO (indium tin oxide) thin film with a thickness of 1500 Å was immersed in distilled water containing detergent and washed with ultrasonic waves. At this time, a Fischer Co. product was used as a detergent, and distilled water, which was filtered with a filter of Millipore Co., was used as distilled water. The ITO was washed for 30 minutes and then washed twice with distilled water and ultrasonically cleaned for 10 minutes. After the distilled water was washed, it was ultrasonically washed with a solvent of isopropyl alcohol, acetone, and methanol, dried, and then transported to a plasma cleaner. Further, the substrate was cleaned using oxygen plasma for 5 minutes, and then the substrate was transported by a vacuum evaporator.

이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 하기 화학식의 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌 (hexanitrile hexaazatriphenylene; HAT)를 500 Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공주입층을 형성하였다. Hexanitrile hexaazatriphenylene (HAT) of the following chemical formula was thermally vacuum deposited on the ITO transparent electrode thus prepared to a thickness of 500 Å to form a hole injection layer.

Figure pat00143
Figure pat00143

상기 정공주입층 위에 정공을 수송하는 물질인 하기 화학식의 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]비페닐(NPB)(400 Å)를 진공증착하여 정공수송층을 형성하였다. 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPB) (400 Å) of the following formula, which is a hole transporting material, was vacuum- deposited on the hole injection layer to form a hole transport layer .

Figure pat00144
Figure pat00144

이어서, 상기 정공수송층 위에 막 두께 300 Å으로 아래와 같은 GH와 GD를 20:1의 막 두께비로 진공증착하여 발광층을 형성하였다.Subsequently, GH and GD were vacuum deposited on the hole transport layer at a film thickness of 300 Å at a film thickness ratio of 20: 1 to form a light emitting layer.

Figure pat00145
Figure pat00145

상기 발광층 위에 실시예 1에서 제조된 화학식 1-5의 화합물을 200 Å의 두께로 진공 증착하여 전자주입 및 수송층을 형성하였다.The compound of Formula 1-5 prepared in Example 1 was vacuum deposited on the light emitting layer to a thickness of 200 Å to form an electron injection and transport layer.

상기 전자주입 및 수송층 위에 순차적으로 12 Å 두께로 리튬 플루라이드(LiF)와 2000 Å 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하였다. Lithium fluoride (LiF) and aluminum having a thickness of 2000 Å were sequentially deposited on the electron injection and transport layer to a thickness of 12 Å to form a cathode.

상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 0.4~0.7 Å/sec를 유지하였고, 음극의 리튬플루오라이드는 0.3 Å/sec, 알루미늄은 2 Å/sec의 증착 속도를 유지하였으며, 증착시 진공도는 2 × 10-7 ~ 5 × 10-8 torr를 유지하였다.The deposition rate of the organic material was maintained at 0.4 to 0.7 Å / sec, the lithium fluoride at the cathode was maintained at a deposition rate of 0.3 Å / sec and the deposition rate of aluminum was maintained at 2 Å / sec. -7 to 5 x 10 &lt; -8 &gt; torr.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 4.9 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 19 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 4.9 V to the organic light emitting device manufactured above, green light was observed at 19 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 실험예Experimental Example 2> 2>

실험예 1에서 화학식 1-5의 화합물 대신 화학식 1-64의 화합물을 사용한 것 이외에는 실험예 1과 동일한 방법으로 유기 EL 소자를 제작했다. An organic EL device was fabricated in the same manner as in Experimental Example 1, except that the compound of Formula 1-64 was used in place of the compound of Formula 1-5.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 4.7 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 20 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 4.7 V to the organic light emitting device manufactured above, green light was observed at 20 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 실험예Experimental Example 3> 3>

실험예 1에서 화학식 1-5의 화합물 대신 화학식 1-74의 화합물을 사용한 것 이외에는 실험예 1과 동일한 방법으로 유기 EL 소자를 제작했다. An organic EL device was fabricated in the same manner as in Experimental Example 1 except that the compound of Formula 1-74 was used in place of the compound of Formula 1-5.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 4.3 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 20 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 4.3 V to the organic light emitting device manufactured above, green light was observed at 20 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 실험예Experimental Example 4> 4>

실험예 1에서 화학식 1-5의 화합물 대신 화학식 2-31의 화합물을 사용한 것 이외에는 실험예 1과 동일한 방법으로 유기 EL 소자를 제작했다. An organic EL device was fabricated in the same manner as in Experimental Example 1 except that the compound of Formula 2-31 was used in place of the compound of Formula 1-5.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 4.3 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 21 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 4.3 V to the organic light emitting device manufactured above, green light was observed at 21 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 실험예Experimental Example 5> 5>

실험예 1에서 화학식 1-5의 화합물 대신 화학식 2-57의 화합물을 사용한 것 이외에는 실험예 1과 동일한 방법으로 유기 EL 소자를 제작했다. An organic EL device was fabricated in the same manner as in Experimental Example 1 except that the compound of Formula 2-57 was used in place of the compound of Formula 1-5.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 3.8 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 22 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 3.8 V to the organic light emitting device manufactured above, green light was observed at 22 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 실험예Experimental Example 6> 6>

실험예 1에서 화학식 1-5의 화합물 대신 화학식 2-67의 화합물을 사용한 것 이외에는 실험예 1과 동일한 방법으로 유기 EL 소자를 제작했다. An organic EL device was fabricated in the same manner as in Experimental Example 1 except that the compound of Formula 2-67 was used in place of the compound of Formula 1-5.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 3.8 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 21 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 3.8 V to the organic light emitting device, green light was observed at 21 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 실험예Experimental Example 7> 7>

실험예 1에서 화학식 1-5의 화합물 대신 화학식 2-77의 화합물을 사용한 것 이외에는 실험예 1과 동일한 방법으로 유기 EL 소자를 제작했다. An organic EL device was prepared in the same manner as in Experimental Example 1 except that the compound of Formula 2-77 was used in place of the compound of Formula 1-5.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 3.7 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 22 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 3.7 V to the organic light emitting device manufactured above, green light was observed at 22 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 실험예Experimental Example 8> 8>

실험예 1에서 화학식 1-5의 화합물 대신 화학식 3-34의 화합물을 사용한 것 이외에는 실험예 1과 동일한 방법으로 유기 EL 소자를 제작했다. An organic EL device was fabricated in the same manner as in Experimental Example 1 except that the compound of Formula 3-34 was used in place of the compound of Formula 1-5.

상기에서 제조된 유기 발광 소자에 3.9 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 20 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 3.9 V to the organic light emitting device manufactured above, green light was observed at 20 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

<< 비교예Comparative Example 1> 1>

실험예 1과 같은 방법으로 제조된 ITO 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(500 Å), 4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]비페닐(NPB)(400 Å), GH : GD (막 두께비 20 : 1) (300 Å) 및 한국 공개 특허 2003-0067773 기재의 하기 화학식으로 표시되는 전자수송물질(200 Å), 리튬 플루오라이드(LiF) 12 Å을 순차적으로 열 진공 증착하여 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층을 차례로 형성시켰다. 그 위에 2000 Å 두께의 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하고 유기발광소자를 제조하였다.(500 Å), 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPB) on the ITO electrode prepared in the same manner as in Experimental Example 1, (200 ANGSTROM), lithium fluoride (LiF) 12 ANGSTROM, represented by the following chemical formula described in Korean Patent Laid-open Publication No. 2003-0067773, A hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer were sequentially formed by thermal vacuum deposition. 2000 nm thick aluminum was deposited thereon to form a cathode to manufacture an organic light emitting device.

Figure pat00146
Figure pat00146

상기 제조된 유기발광소자에 4.8 V의 순방향 전계를 가한 결과, 5 mA/㎠의 전류밀도에서 녹색 빛이 18 cd/A로 관찰되었다.As a result of applying a forward electric field of 4.8 V to the organic light emitting device, the green light was observed at 18 cd / A at a current density of 5 mA / cm 2.

1 기판 2 양극
3 정공 주입층 4 정공 수송층
5 유기 발광층 6 전자 수송층
7 음극
1 substrate 2 anode
3 hole injection layer 4 hole transport layer
5 organic light emitting layer 6 electron transport layer
7 cathode

Claims (24)

하기 화학식 1로 표시되는 이미다졸 유도체:
Figure pat00147

상기 화학식 1에 있어서,
R1 내지 R10 중 적어도 하나는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물이고, 나머지는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, -SiR3, -GeR3, -SnR3 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, -SiR3, -GeR3, -SnR3 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; 및 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, -SiR3, -GeR3, -SnR3 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이며,
Figure pat00148

상기 화학식 2에서,
L1은 직접결합이거나; C1-C40의 알킬기, C2-C40의 알케닐기, C1-C40의 알콕시기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C2~C40의 알케닐렌기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴렌기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴렌기; C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴아민기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C25~C40의 스피로기; 및 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C25~C40의 열린 스피로기로 이루어진 군에서 선택되며,
Ar1은 수소; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C1~C40의 알킬기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C3~C40의 시클로알킬기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C2~C40의 알케닐기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C3~C40의 알콕시기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, C5~C40의 헤테로아릴기, C25~C40의 스피로기 및 C25~C40의 열린 스피로기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 및 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, C5~C40의 헤테로아릴기, C25~C40의 스피로기 및 C25~C40의 열린 스피로기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; -SiR3; -GeR3; 및 -SnR3 로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이다.
Imidazole derivatives represented by the following formula (1):
Figure pat00147

In Formula 1,
At least one of R 1 to R 10 is a compound represented by the following general formula (2), and the others are the same or different and each independently represents hydrogen; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, Substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group, -SiR 3 , -GeR 3 , -SnR 3 and C 5 to C 40 heteroaryl groups, A substituted C 6 to C 40 aryl group; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, Substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group, -SiR 3 , -GeR 3 , -SnR 3 and C 5 to C 40 heteroaryl groups, A substituted C 5 -C 40 heteroaryl group; And a deuterium, a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, a C 1 to C 40 alkyl group, a C 2 to C 40 alkenyl group, a C 1 to C 40 alkoxy group, a C 3 to C 40 cycloalkyl group , A C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group, -SiR 3 , -GeR 3 , -SnR 3 and a C 5 to C 40 heteroaryl group, Unsubstituted amino groups, wherein R may be the same or different and are each independently C 6 to C 40 aryl or C 5 to C 40 heteroaryl,
Figure pat00148

In Formula 2,
L 1 is a direct bond; An alkoxy group of C 1 -C 40 alkyl, C 2 -C 40 alkenyl group, C 1 -C 40 of, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl group with one or more groups selected from the group consisting of A C 2 to C 40 alkenylene group substituted or unsubstituted by a group; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group of the aryl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C over one selected from the heteroaryl group consisting of 40 group a substituted or unsubstituted C 6 ~ C 40; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, a heteroaryl group of C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 by at least one group selected from the heteroaryl group consisting of a substituted or unsubstituted C 5 ~ C 40 of; Heterocycloalkyl group of C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 of, C 6 ~ C 40 the aryl group and the arylamine group of C 5 ~ C 40 heteroaryl group unsubstituted or substituted with one or more groups selected from the group consisting of a C 6 ~ C 40 of; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 A C 25 to C 40 spiro group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; And a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 open is selected from the group consisting of a spiro of the heteroaryl group substituted or unsubstituted with one or more groups selected from the group consisting of C 25 ~ C 40 of ,
Ar 1 is hydrogen; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group, and a C 5 ~ C 40 heteroaryl substituted with an aryl group by at least one group selected from the group consisting of or unsubstituted alkyl group of C 1 ~ C 40 of; Deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl substituted with an aryl group by at least one group selected from the group consisting of or unsubstituted C 3 ~ C 40 cycloalkyl group of; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl substituted with an aryl group by at least one group selected from the group consisting of or unsubstituted C 2 ~ C 40 alkenyl group a; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, A C 3 to C 40 alkoxy group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, An amino group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a C 2 to C 40 heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, From the group consisting of C 2 to C 40 heterocycloalkyl groups, C 6 to C 40 aryl groups, C 5 to C 40 heteroaryl groups, C 25 to C 40 spiro groups and C 25 to C 40 open spiro groups. A C 6 to C 40 aryl group substituted or unsubstituted with at least one group selected; And a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 cycloalkyl group, C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group, C 5 ~ C 40 heteroaryl group, C 25 ~ C 40 of a spiro group and a C 25 ~ C 40 open spiro group with one or more groups selected from the group consisting of A substituted or unsubstituted C 5 -C 40 heteroaryl group; -SiR 3; -GeR 3 ; And -SnR 3 , wherein R may be the same or different and are each independently C 6 -C 40 aryl or C 5 -C 40 heteroaryl.
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 이미다졸 유도체는 하기 화학식 3 내지 5로 표시되는 이미다졸 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 이미다졸 유도체:
Figure pat00149

Figure pat00150

Figure pat00151

상기 화학식 3 내지 5에 있어서,
R1 내지 R10, L1 및 Ar1은 상기 화학식 1에 정의된 바와 같다.
The imidazole derivative according to claim 1, wherein the imidazole derivative represented by Chemical Formula 1 is selected from the group consisting of imidazole derivatives represented by the following Chemical Formulas 3-5:
Figure pat00149

Figure pat00150

Figure pat00151

In the above formulas (3) to (5)
R1 to R10, L 1 and Ar 1 are as defined in formula (I).
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 아릴기인 것인 이미다졸 유도체.The imidazole derivative according to claim 1, wherein at least one of R1 to R10 of Chemical Formula 1 is a compound represented by Chemical Formula 2, and at least one of the remaining ones is an aryl group. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 헤테로아릴기인 것인 이미다졸 유도체. The imidazole derivative according to claim 1, wherein at least one of R1 to R10 of Chemical Formula 1 is a compound represented by Chemical Formula 2, and at least one of the remaining ones is a heteroaryl group. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환된 C1~C40의 알킬기인 것인 이미다졸 유도체.The imidazole derivative according to claim 1, wherein at least one of R1 to R10 of Chemical Formula 1 is a compound represented by Chemical Formula 2, and at least one of others is a C 1 to C 40 alkyl group substituted with an aryl group or a heteroaryl group. . 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 수소인 것인 이미다졸 유도체.The imidazole derivative according to claim 1, wherein at least one of R 1 to R 10 in the formula (1) is a compound represented by the formula (2), and at least one of the others is hydrogen. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1의 R1 내지 R10 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 나타내는 화합물이고, 나머지 중 적어도 하나는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 이미다졸 유도체:
Figure pat00152

상기 구조식에서 Z1 내지 Z3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소(deuterium), 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기, 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기; -SiR3; -GeR3; 및 -SnR3 로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이다.
The imidazole derivative according to claim 1, wherein at least one of R1 to R10 of Formula 1 is a compound represented by Formula 2, and at least one of the others is selected from the group consisting of the following structural formulas:
Figure pat00152

Z1 to Z3 in the structural formula are the same or different from each other, and each independently hydrogen; Heavy hydrogen (deuterium), a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ C 40 of the cycloalkyl group, an aryl group of C 2 ~ C 40 heterocycloalkyl group, C 6 ~ C 40 aryl group, and a C 5 ~ C 40 heteroaryl group unsubstituted or substituted with one or more groups selected from the group consisting of C 6 ~ C 40 of the; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, a heteroaryl group of C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 by at least one group selected from the heteroaryl group consisting of a substituted or unsubstituted C 5 ~ C 40 of; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 An amino group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; -SiR 3; -GeR 3 ; And -SnR 3 , wherein R may be the same or different and are each independently C 6 -C 40 aryl or C 5 -C 40 heteroaryl.
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 2는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 이미다졸 유도체:
Figure pat00153

상기 구조식에서 Z4는 각각 독립적으로 수소; 중수소(deuterium); 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C6~C40의 아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 C5~C40의 헤테로아릴기; 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1~C40의 알킬기, C2~C40의 알케닐기, C1~C40의 알콕시기, C3~C40의 시클로알킬기, C2~C40의 헤테로시클로알킬기, C6~C40의 아릴기 및 C5~C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 아미노기; -SiR3; -GeR3; 및 -SnR3 로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 R은 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 독립적으로 C6~C40의 아릴 또는 C5~C40의 헤테로아릴이다.
The imidazole derivative according to claim 1, wherein Formula 2 is selected from the group consisting of the following structural formulas:
Figure pat00153

In the above formulas, Z4 is each independently hydrogen; Deuterium; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, an aryl group, a C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 heteroaryl group unsubstituted or substituted with one or more groups selected from the group consisting of a C 6 ~ C 40; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 a heterocycloalkyl group, a heteroaryl group of C 6 ~ C 40 aryl group and a C 5 ~ C 40 by at least one group selected from the heteroaryl group consisting of a substituted or unsubstituted C 5 ~ C 40 of; A halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group, C 1 ~ C 40 alkyl group, C 2 ~ C 40 alkenyl group, C 1 ~ C 40 alkoxy group, C 3 ~ cycloalkyl group of C 40 of, C 2 ~ C 40 An amino group substituted or unsubstituted with at least one group selected from the group consisting of a heterocycloalkyl group, a C 6 to C 40 aryl group and a C 5 to C 40 heteroaryl group; -SiR 3; -GeR 3 ; And -SnR 3 , wherein R may be the same or different and are each independently C 6 -C 40 aryl or C 5 -C 40 heteroaryl.
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 2의 L1은 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 이미다졸 유도체:
Figure pat00154
The imidazole derivative according to claim 1, wherein L 1 in the formula (2) is selected from the group consisting of the following structural formulas:
Figure pat00154
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 이미다졸 유도체는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 이미다졸 유도체:
Figure pat00155

Figure pat00156

Figure pat00157

Figure pat00158

Figure pat00159

Figure pat00160

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Figure pat00163

Figure pat00164

Figure pat00165

Figure pat00166

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Figure pat00170

Figure pat00171

Figure pat00172

Figure pat00173

Figure pat00174

Figure pat00175

Figure pat00176

Figure pat00177
The imidazole derivative according to claim 1, wherein the imidazole derivative represented by Chemical Formula 1 is selected from the group consisting of the following structural formulas:
Figure pat00155

Figure pat00156

Figure pat00157

Figure pat00158

Figure pat00159

Figure pat00160

Figure pat00161

Figure pat00162

Figure pat00163

Figure pat00164

Figure pat00165

Figure pat00166

Figure pat00167

Figure pat00168

Figure pat00169

Figure pat00170

Figure pat00171

Figure pat00172

Figure pat00173

Figure pat00174

Figure pat00175

Figure pat00176

Figure pat00177
청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 이미다졸 유도체는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 이미다졸 유도체:
Figure pat00178

Figure pat00179

Figure pat00180

Figure pat00181

Figure pat00182

Figure pat00183

Figure pat00184

Figure pat00185

Figure pat00186

Figure pat00187

Figure pat00188

Figure pat00189

Figure pat00190

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The imidazole derivative according to claim 1, wherein the imidazole derivative represented by Chemical Formula 1 is selected from the group consisting of the following structural formulas:
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청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 이미다졸 유도체는 하기 구조식으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 이미다졸 유도체:
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The imidazole derivative according to claim 1, wherein the imidazole derivative represented by Chemical Formula 1 is selected from the group consisting of the following structural formulas:
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제1 전극, 제2 전극, 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기전자소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 청구항 1의 이미다졸 유도체를 포함하는 것인 유기전자소자. 1. An organic electronic device comprising a first electrode, a second electrode, and at least one organic compound layer disposed between the first electrode and the second electrode, wherein at least one of the organic compound layers includes the imidazole derivative of claim 1 Organic electronic device. 청구항 13에 있어서, 상기 유기전자소자는 유기발광소자, 유기태양전지, 유기감광체(OPC) 드럼 및 유기 트랜지스터로 이루어진 군에서 선택되는 것인 유기전자소자. 14. The organic electronic device according to claim 13, wherein the organic electronic device is selected from the group consisting of an organic light emitting device, an organic solar cell, an organic photoconductor (OPC) drum, and an organic transistor. 청구항 13에 있어서, 상기 유기전자소자는 유기발광소자인 것인 유기전자소자. 14. The organic electronic device according to claim 13, wherein the organic electronic device is an organic light emitting device. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자는 기판상에 양극, 1층 이상의 유기물층 및 음극이 순차적으로 적층된 정방향 구조의 유기발광소자인 것인 유기전자소자. 16. The organic electronic device according to claim 15, wherein the organic light emitting device is an organic light emitting device having a forward structure in which an anode, at least one organic material layer, and a cathode are sequentially stacked on a substrate. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자는 기판상에 음극, 1층 이상의 유기물층 및 양극이 순차적으로 적층된 역방향 구조의 유기발광소자인 것인 유기전자소자. 16. The organic electronic device according to claim 15, wherein the organic light emitting device is an organic light emitting device having a reverse structure in which a cathode, one or more organic compound layers and an anode are sequentially stacked on a substrate. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자의 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자주입층, 전자수송층 및 전자주입 및 수송층으로 이루어진 군으로부터 선택된 한층 이상을 포함하는 것인 유기전자소자. 16. The organic electronic device according to claim 15, wherein the organic material layer of the organic light emitting device comprises at least one layer selected from the group consisting of a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron injecting layer, an electron transporting layer and an electron injecting and transporting layer. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자의 유기물층은 발광층을 포함하고, 이 발광층이 상기 이미다졸 유도체를 포함하는 것인 유기전자소자.16. The organic electronic device according to claim 15, wherein the organic material layer of the organic light emitting device comprises a light emitting layer, and the light emitting layer comprises the imidazole derivative. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자의 유기물층은 전자수송층, 전자주입층, 및 전자주입 및 수송층으로 이루어진 군으로부터 선택된 1층 이상을 포함하고, 상기 전자수송층, 전자주입층, 및 전자주입 및 수송층으로 이루어진 군으로부터 선택된 1층 이상이 상기 이미다졸 유도체를 포함하는 것인 유기전자소자.16. The organic electroluminescent device according to claim 15, wherein the organic material layer of the organic light emitting device comprises at least one layer selected from the group consisting of an electron transporting layer, an electron injecting layer, and an electron injecting and transporting layer, and the electron transporting layer, Wherein at least one layer selected from the group consisting of said imidazole derivatives is included. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자의 유기물층은 정공수송과 발광을 동시에 하는 층을 포함하는 것인 유기전자소자.16. The organic electronic device according to claim 15, wherein the organic material layer of the organic light emitting device comprises a layer simultaneously transporting and emitting light. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자의 유기물층은 발광과 전자수송을 동시에 하는 층을 포함하는 것인 유기전자소자.16. The organic electronic device according to claim 15, wherein the organic material layer of the organic light emitting device comprises a layer simultaneously emitting light and electron. 청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자의 유기물층은 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층으로 이루어진 군으로부터 선택된 1층 이상을 포함하고,
상기 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층 중 적어도 한층은 상기 이미다졸 유도체를 포함하고, 나머지 층들은 금속 또는 금속화합물을 포함하는 것인 유기전자소자.
The method according to claim 15, wherein the organic material layer of the organic light emitting device comprises at least one layer selected from the group consisting of an electron transport layer, an electron injection layer, and an electron injection and transport layer,
At least one of the electron transport layer, the electron injection layer, and the electron injection and transport layer includes the imidazole derivative, and the remaining layers include a metal or a metal compound.
청구항 15에 있어서, 상기 유기발광소자의 유기물층은 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층으로 이루어진 군으로부터 선택된 1층 이상을 포함하고,
상기 전자수송층, 전자 주입층, 및 전자 주입 및 수송층 중 적어도 한층은 상기 이미다졸 유도체를 포함하고, 나머지 층들은 알칼리금속, 알칼리 토금속, 알칼리금속 화합물 및 알칼리 토금속 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 포함하는 것인 유기전자소자.
The method according to claim 15, wherein the organic material layer of the organic light emitting device comprises at least one layer selected from the group consisting of an electron transport layer, an electron injection layer, and an electron injection and transport layer,
At least one of the electron transport layer, the electron injection layer, and the electron injection and transport layer includes the imidazole derivative, and the remaining layers include one selected from the group consisting of alkali metals, alkaline earth metals, alkali metal compounds and alkaline earth metal compounds. The organic electronic device.
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