KR20140008979A - 열화염 플라즈마를 이용한 유해가스 및 악취 처리장치 - Google Patents

열화염 플라즈마를 이용한 유해가스 및 악취 처리장치 Download PDF

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Abstract

본 발명의 목적은 악취 및 유해오염가스를 플라즈마 처리함으로써 보다 효과적으로 악취 및 오염물질을 분해 및 제거하면서도 처리속도가 높은 구조의 유해가스 및 악취 처리장치를 제공하는 것이다. 본 발명은 유해가스 또는 악취를 열화염 플라즈마 처리하여 분해 및 제거하기 위한 유해가스 및 악취 처리장치에 있어서, 일측에서 유해가스 또는 악취가 유입되는 유입구가 형성되고 타측에 유출구가 형성된 관형상의 반응관; 다수개의 제1플라즈마방전극이 상기 반응관에 설치되되 다수개의 상기 제1플라즈마방전극은 상기 반응관 내부의 중심선을 기준으로 양측에서 서로 마주보는 쌍으로 각각 배치되고 다수의 쌍이 상기 반응관의 길이방향을 따라 순차적으로 배치됨으로써 상기 중심선을 포함하는 상기 반응관 내부의 중심영역에 플라즈마 방전을 발생시키는 제1방전부; 및, 상기 반응관의 내면에 도전성 재질인 환형의 레듀샤가 설치되고 상기 반응관의 둘레에 환형으로 배치되는 다수의 제2플라즈마방전극이 상기 레듀샤의 내면을 따라 환형의 영역에서 플라즈마방전을 발생시키는 제2방전부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

열화염 플라즈마를 이용한 유해가스 및 악취 처리장치{A ODOR TREATMENT APPARATUS USING PLASMA}
본 발명은 악취 및 유해오염가스를 플라즈마 처리함으로써 보다 효과적으로 악취 및 오염물질을 분해 및 제거하면서도 처리속도가 높은 구조의 열화염 플라즈마를 이용한 유해가스 및 악취 처리장치를 제공하는 것이다.
열 플라즈마 기술에 대한 관심사는 크게 소재공정과 폐기물처리의 두 갈래로 나뉘어 그 개발이 진행되고 있다. 소재공정기술은 열 플라즈마를 이용한 고기능성 표면개질, 신물질 창출, 신소재 생산 및 가공 등에 활용되는, 플라즈마 용사코팅, 플라즈마 합성, 열 플라즈마 화학증착(TPCVD), 금속야금, 소재 고밀화, 물성분석, 절단용접 및 표면강화 등이 이에 속한다. 폐기물처리 기술도 일종의 소재공정으로 고온고열의 플라즈마 소각로를 사용해서 생활 및 산업 폐기물을 열분해 또는 유리화 시켜 유해물질 파괴와 부피감량을 통해 공해문제를 해결하려는 환경기술로 석탄가스화도 이에 속하는 기술분야로 볼 수 있다.
최근의 열플라즈마 기술은 PFCs, CFCs, VOCs, Dioxins 같은 유해가스를 제거하는 목적으로 개발된 대기오염방지기술과 고형폐기물을 처리하는 열분해/용융기술로 구분할 수 있다.
그 대표적인 2가지 기술을 기본으로 대체에너지 및 재자원화, 재활용 등에도 활용될 수 있도록 하는 기술의 연구개발이 활발히 이루어지고 있으나, 고전압-대전류를 사용하기 때문에 매우 높은 소비전력과 전극의 소손, 마모 등이 발생되어 전극을 자주 교체해주어야 되는 문제점, 열 플라즈마 반응기의 안정성 및 내구성, 처리용량의 제한 등의 한계점 때문에 상용화로의 진입이 어려운 실정이다.
기존 열 플라즈마의 생성과 반응기 형태는 도 1 및 도 2에서 도시하고 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 대부분 직류 아크방전이나 고주파 유도결합(RF inductively coupled) 방전에 의해 이루어지며, 원리적으로는 모두 대상 기체에 강한 전장을 발생시켜 가속된 전자들의 연속된 충돌에 의해 충분한 전하 입자가 생성되어 전기전도성을 갖는 절연파괴에 이르도록 하여, 고전류가 흐르는 아크 방전으로 플라즈마 상태를 유지시킨다.
도 2의 (a)와 같은 직류아크 토치는 두 전극사이에 직접 전장을 걸어주는 반면에, 도 2의 (b)와 같은 유도결합 플라즈마 토치는 전극없이 고주파 코일에 의한 자기장 변화로 생긴 유도 전기장을 사용하는 것에 차이가 있다. 사용기체로는 Ar, He과 같은 불활성기체나 N2, H2, 공기가 보편적으로 많이 쓰이나 공정 종류에 따라서는 O2, 수증기, 탄화수소기체(CnHm), 또는 화학공정에 따른 반응기체들이 혼합되기도 한다.
그러나, 상기와 같은 플라즈마 반응기를 오염가스 및 악취의 제거목적으로 이용하는 경우, 플라즈마가 발생되는 영역이 협소하여 유해가스 및 악취물질을 대량으로 처리하기 어려운 점이 있고 플라즈마와의 반응도 양호하게 발생하지 못하는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 악취 및 유해오염가스를 플라즈마 처리함으로써 보다 효과적으로 악취 및 오염물질을 분해 및 제거하면서도 처리속도가 높은 구조의 열화염 플라즈마를 이용한 유해가스 및 악취 처리장치를 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 유해가스 또는 악취를 열화염 플라즈마 처리하여 분해 및 제거하기 위한 유해가스 및 악취 처리장치에 있어서, 일측에서 유해가스 또는 악취가 유입되는 유입구가 형성되고 타측에 유출구가 형성된 관형상의 반응관; 다수개의 제1플라즈마방전극이 상기 반응관에 설치되되 다수개의 상기 제1플라즈마방전극은 상기 반응관 내부의 중심선을 기준으로 양측에서 서로 마주보는 쌍으로 각각 배치되고 다수의 쌍이 상기 반응관의 길이방향을 따라 순차적으로 배치됨으로써 상기 중심선을 포함하는 상기 반응관 내부의 중심영역에 플라즈마 방전을 발생시키는 제1방전부; 및, 상기 반응관의 내면에 도전성 재질인 환형의 레듀샤가 설치되고 상기 반응관의 둘레에 환형으로 배치되는 다수의 제2플라즈마방전극이 상기 레듀샤의 내면을 따라 환형의 영역에서 플라즈마방전을 발생시키는 제2방전부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 제1방전부에서 상기 제1플라즈마방전극은 나선의 궤적을 따라 상기 반응관에 배치되고, 상기 유입구로 유입되는 유해가스 또는 악취가 상기 제1방전부와 상기 제2방전부를 순차적으로 통과할 수 있도록 상기 제2방전부는 상기 제1방전부의 후측에 배치되는 것을 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 레듀샤가 상기 유해가스 또는 악취가 유입되는 측의 직경보다 유출되는 측의 직경이 더 감소하는 직경감소영역을 포함하고, 상기 제2플라즈마방전극은 상기 직경감소영역에서 플라즈마를 발생시키는 것을 또 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 반응관의 상기 유입구에 유해가스 또는 악취와 함께 오존을 공급하기 위한 오존발생기가 더 설치되는 것을 또 다른 특징으로 한다.
상기와 같은 본 발명에 따른 유해가스 및 악취 처리장치는, 대용량의 악취 및 유해가스 처리장치를 구현할 수 있고, 플라즈마 발생을 안정적으로 유지할 수 있는 열-화염 플라즈마 장치를 구현할 수 있다.
또한, 유입되는 악취 및 유해가스가 플라즈마영역을 통과하지 않는 비반응영역을 최소화함으로써 악취 및 유해가스의 처리효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 유해가스 또는 악취와 함께 오존을 함께 공급하는 오존발생기를 설치함으로써 열플라즈마 발생영역에서 화염의 발생을 더욱 증폭시켜 유해가스 또는 악취물질의 연소, 산화반응을 더욱 증폭시킬 수 있다.
도 1은 플라즈마의 종류에 대한 설명도
도 2는 플라즈마생성장치의 종류에 따른 구성설명도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치의 구성을 도시하는 구성설명도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치의 단면구성도
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치의 후면도
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치의 정면도
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치 내부에서 플라즈마가 발생하는 영역을 도시하는 설명도
본 발명의 열-화염 플라즈마 처리장치 기술은 복합악취 및 오염물질을 제거하는 기술로써, 열-화염 방전 형태의 플라즈마 에너지를 직접적으로 오염물질에 가해줌으로서 악취물질의 분해/산화/연소 반응으로 악취 및 오염물질을 처리하는 기술이다.
본 발명의 실시예를 도면을 참고하여 보다 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치의 구성을 도시하는 구성설명도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치의 단면을 간략하게 도시한 구성도이다. 또한, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치를 정면에서 관찰한 구성도이고, 도 6은 후면에서 관찰된 구성도이다.
도 3 내지 도 6을 참조하면, 본 발명은 유해가스 또는 악취를 열화염 플라즈마 처리하여 분해 및 제거하기 위한 유해가스 및 악취 처리장치에 관한 것으로서, 불평등 전계를 형성하는 침대침 전극을 각각의 방전전극으로 사용하여 전극간 거리가 십수 cm 이하일 때 글로우 방전, 코로나 방전으로부터 직접 불꽃방전으로 이행하는 특징과, 교류전압에 대한 방전개시전압이 비접지의 경우 접지한 경우에 비해 더 낮아지는 특성을 이용한다. 보다 효율적인 전기에너지를 사용하기 위해 세라믹절연체(223)로 고정된 전극봉(221)을 구비하고 원통형 스테인리스 반응관(10)에 방사형 형태로 배치된다.
보다 구체적으로 본 발명은, 일측에서 유해가스 또는 악취가 유입되는 유입구가 형성되고 타측에 유출구가 형성된 관형상의 반응관(10)과, 다수개의 제1플라즈마방전극(22)이 상기 반응관(10)에 설치되되 다수개의 상기 제1플라즈마방전극(22)은 상기 반응관(10) 내부의 중심선을 기준으로 양측에서 서로 마주보는 쌍으로 각각 배치되고 다수의 쌍이 상기 반응관(10)의 길이방향을 따라 순차적으로 배치됨으로써 상기 중심선을 포함하는 상기 반응관(10) 내부의 중심영역에 플라즈마 방전을 발생시키는 제1방전부(20)와, 상기 반응관(10)의 내면에 도전성 재질인 환형의 레듀샤(35)가 설치되고 상기 반응관(10)의 둘레에 환형으로 배치되는 다수의 제2플라즈마방전극(32)이 상기 레듀샤(35)의 내면을 따라 환형의 영역에서 플라즈마방전을 발생시키는 제2방전부(30)를 포함한다.
상기 반응관(10)은 유입구(11)와 유출구(12)를 가진 관형태로서, 유입구(11) 측으로 기체상의 악취 및 유해가스을 직접 유입시키고, 유출구(12) 측으로 플라즈마 처리된 청정기체를 배출하고 있다.
반응관(10)의 유입구(11)에 악취 및 유해가스가 유입되면 서로 마주보는 각 쌍의 제1플라즈마방전극(22) 사이에 전압을 인가함으로써 아크방전과 화염방전이 혼합된 열-화염플라즈마가 발생하도록 하며, 플라즈마 영역으로 유입되는 악취 및 오염물질에 직접적으로 플라즈마 에너지를 가해줌으로서, 악취물질을 분해, 산화 및 연소시킨다.
상기 반응관(10)에 삽입된 제1플라즈마방전극(22)은 세라믹절연체(223)와 전극봉(221)으로 이루어지고, 불평등 전계를 이루면서 방사형 형태로 배치되되 나선의 궤적을 따라 반응관(10)의 둘레에 배치되며, 2개씩 1쌍을 이루어 양 전극봉(221) 사이에서 열화염 플라즈마를 발생시킨다. 이 때, 열화염 플라즈마는 반응관(10) 내부의 중심선을 포함하는 중심영역(A)에서 발생하여 그영역을 지나는 악취 및 유해가스와 반응한다.
그러한 제1플라즈마방전극(22)은 각 쌍을 각도가 조금씩 어긋나도록 순차적으로 배치함으로써 전체적으로 나선의 궤적을 따라 배치되도록 한 것은, 플라즈마 방전영역을 다양한 각도에서 발생시키도록 하여 통과하는 유해가스 및 악취가 다양한 발생방향의 플라즈마영역을 중첩하여 통과하도록 하기 위함이다. 이는 유해가스 및 악취가 플라즈마발생영역에서 보다 확실한 플라즈마처리가 되도록 한다.
한편, 제1플라즈마방전극(22)이 배치되는 제1방전부(20)의 후측에는 제2방전부(30)가 설치된다.
상기 제2방전부(30)에는 원통형 레듀사(35)(reducer)를 하나의 도전성 금속전극 형태로 사용하여 제2플라즈마방전극(32)을 1개씩을 개별적으로 원통형 레듀사(35)에 근접하게 배치한다. 이를 위해 제2플라즈마방전극(32)의 전극봉(321)의 선단부(324)는 훅(hook)형상으로 꺾이도록 형성하여 레듀사(35)에 접근시킨다.
제2플라즈마방전극(32)과 원통형 레듀사(35)에서 열화염 플라즈마를 발생시킴으로써 플라즈마 반응영역(B)이 환형으로 나타난다.
상기 레듀사(35)는 원통형 스테인리스 반응관(10) 내부에 삽입되며, 이를 하나의 금속파티클 형태의 전극으로 사용한다. 제1방전부(20)에는 플라즈마가 발생하는 중심영역(A)의 둘레에 플라즈마가 발생하지 않는 빈 공간을 가지고 있다. 따라서, 원통형 스테인리스 반응관(10) 내부에 삽입되는 원통형 레듀샤(35)를 금속파티클 형태의 전극으로 사용하여 반응관(10) 내에서 가장자리 근처를 통과하는 악취 및 유해기체가 플라즈마 반응될 수 있도록 하여, 제1방전부(20)에서 처리되지 않은 악취 및 오염물질이 처리될 수 있도록 한 것이다.
원통형 레듀샤(35)를 사용하는 이유는, 상기 서술된 내용과 같이 금속파티클 형태로 하나의 전극화시켜 플라즈마를 발생시킴으로써 비방전 영역을 최소화 할 수 있기 때문이다. 또한, 열플라즈마 발생을 위한 배경가스로서 유입되는 유해가스 및 악취를 포함한 가스가 사용하고 있으므로, 직경이 감소하는 레듀사(35)가 유입되는 유해가스 및 악취를 포함한 가스를 모아주어 화염의 분출이 잘 이루어지도록 하고, 와류안정화를 통해 안정적인 플라즈마가 발생시킬 수 있도록 하기 때문이다. 다시 말하면, 상기 레듀샤(35)는 상기 유해가스 또는 악취가 유입되는 측의 직경보다 유출되는 측의 직경이 더 감소하는 직경감소영역(352)을 포함하고, 상기 제2플라즈마방전극(32)은 상기 직경감소영역(352)에서 플라즈마를 발생시키도록 하고 있으므로, 유동하는 가스가 모이고 정체되는 부분에서 플라즈마를 발생시켜 플라즈마반응효율을 높일 수 있다
상기 레듀샤(35)가 설치되는 반응관(10)의 내면에는 절연체(16)가 일부 피복되어 있도록 하여 상기 레듀샤(35)와 반응관(10)이 전기적으로 서로 절연되도록 한다.
본 발명의 플라즈마 전원장치는 상용 기계식 네온트랜스(15[kV]~18[kV], 60[Hz]), 일반 특수 목적용 변압기(내압 20[kV] 이상, 60[Hz])를 사용하며, 상용 기계식 네온트랜스를 주장치로 사용한다.
상기 제1플라즈마방전극(22) 및 제2플라즈마방전극(32)은 세라믹과 같은 절연체(323)로 감싸 전기적으로 절연이 가능하도록 하고, 플라즈마를 발생시킬 수 있도록 하는 침 또는 불평등 전계를 구성하도록 하는 금속봉 형태의 전극봉(221)이 중심부에 끼워진 형태로 설치되어 끝단에서 방전이 발생한다.
상기 반응관(10)은 내식, 내열성이 강한 스테인리스 재질로서 방전극(22,32)을 배치시켜 열화염 플라즈마를 발생시킬 수 있도록 하는 원형 또는 기타 형태의 반응관이다.
상기 반응관(10)은 별도의 배관으로 제작될 필요는 없으며, 처리될 유체가 지나는 유체배관을 그대로 활용할 수 있다. 내부에는 원형 레듀샤(35)가 삽입되어 제2방전부(30)를 구성할 수 있다.
본 발명에 따른 열화염 플라즈마의 발생 및 유해가스 처리 장치의 작용을 보다 상세히 설명한다.
상용주파수의 교류인 경우 그 최대값이 직류 불꽃전압과 대략적으로 일치하므로, 상용 기계식 네온트랜스(혹은 용량 및 환경에 따라 일반 특수목적용 변압기를 적용할 수 있다)에 의해 제1플라즈마방전극(22) 및 제2플라즈마방전극(32)에 전극봉간 고전압을 인가한다. 이후, 유해가스 또는 악취를 유입구로 유입시키면, 마주보고 있는 제1플라즈마방전극(22) 사이에 높은 에너지를 가진 아크(Arc)기둥 혹은 아크플라즈마(Arc Plasma;열 플라즈마)가 발생하고, 그 아크기둥은 그 외부에서 상온의 유해가스를 불어 넣으면 열손실이 커지지만 방전개시전압이 전극간 거리와 가스압력의 곱의 함수이고, 상사율(law of similarity) 법칙으로 이 경우 방전전류의 값이 변하지 않는다.
반대로 아크(Arc) 기둥은 그 열손실을 최소한 방지하기 위하여 그 단면이 수축하면서, 침전극의 형태 전계가 집중되어 전극간 열 플라즈마가 고르게 발생된다. 교번전계에 의해 방전전류가 동일한 방향으로 흐를 때 전류 요소(Element)는 그의 전자력으로 서로 끌어당기는 성질이 있으므로 외부에서 압력이 급속도로 증가하거나 전류가 증가하더라도 아크는 그 전극의 연장방향으로 똑바로 나가는 성질이 있다. 이때, 열 플라즈마가 발생되어 그 연장선상으로 방전극간 충전전류에 의한 붉은 화염상의 플라즈마가 동반되어 발생되는데 이를 화염 플라즈마라고 한다. 이러한 화염 플라즈마는 기체의 유동흐름 방향에 따라 화염이 뻗쳐나가게 된다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 유해가스 및 악취 처리장치 내부에서 플라즈마가 발생하는 영역을 도시하는 설명도이다.
제1방전부(20)의 방전 메커니즘은 방사형 형태로 배치된 제1플라즈마방전극(22)들 사이에서 아크-화염 플라즈마가 발생되어 중심영역을 지나는 악취 및 유해가스를 분해, 산화, 연소시키고 있다. 제1방전부(20)에서 발생하는 플라즈마는 유체도체로서 도전성을 띄어 진전되는 것으로서, 각 쌍에서 발생되는 열-화염 플라즈마의 영역이 서로 겹쳐짐으로써 플라즈마의 특성상 열-화염 플라즈마의 발생영역(A)이 확대 및 진전되는 현상이 나타나는 특징이 있다.
또한 제2방전부(30)에서의 방전 메커니즘은, 방사형 형태의 제2플라즈마방전극(32)의 배치로 인해 제1방전부(20)의 비방전 영역으로 유입된 가스가 제1방전부(20)을 통과한 후, 제2플라즈마방전극(32)에 도달함으로써 플라즈마 반응되도록 하고 있다. 이는, 스테인리스 반응관(10) 내부에 환형 레듀샤(35)를 삽입하고, 그 환형 레듀샤(35)를 하나의 금속전극으로 사용함으로써 제2플라즈마방전극(32)과 도전금속재인 레듀샤(35) 사이에서 열-화염 플라즈마를 발생시킨다. 이에 따라, 통과하고 있는 악취 및 유해가스의 관점에서 제1방전부(20)와 제2방전부(30)에 의해 플라즈마방전영역이 서로 보완됨으로써 비방전 영역을 최소화 하는 것이다.
한편, 반응관(10)의 유입구(11)에 오존을 악취 및 유해가스와 함께 주입할 수 있도록 오존발생기(50)를 설치한다. 상기 오존발생기(50)에 의해 주입되는 오존은 플라즈마화염의 발생을 보다 증폭시켜 악취 및 유해가스가 플라즈마와 반응하여 분해, 소각처리되는 반응을 더 촉진시킬 수 있다.
제1방전부(20)와 제2방전부(30)가 설치된 전술한 본 발명에 따라, 오염가스를 처리함으로서 비방전 영역에 의한 처리효율의 저하를 획기적으로 감소시킬 수 있고, 고농도의 오존과 미처리된 가스의 혼합체를 열-화염 플라즈마로 완벽히 처리하여 안정적으로 청정가스를 배출할 수 있도록 하는 기술을 제공한다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 상기의 실시예는 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에 있는 일 실시예에 불과하며, 동업계의 통상의 기술자에 있어서는, 본 발명의 기술적인 사상 내에서 다른 변형된 실시가 가능함은 물론이다.
10; 반응관 11; 유입구
12; 유출구 16; 절연체
20; 제1반응영역 22; 제1플라즈마방전극
221; 전극봉 223; 절연체
30; 제2방응영역 32; 제2플라즈마방전극
321; 전극봉 323; 절연체
324; 선단부 352; 직경감소영역
50; 오존발생기

Claims (4)

  1. 유해가스 또는 악취를 열화염 플라즈마 처리하여 분해 및 제거하기 위한 유해가스 및 악취 처리장치에 있어서,
    일측에서 유해가스 또는 악취가 유입되는 유입구(11)가 형성되고 타측에 유출구(12)가 형성된 관형상의 반응관(10);
    다수개의 제1플라즈마방전극(22)이 상기 반응관(10)에 설치되되 다수개의 상기 제1플라즈마방전극(22)은 상기 반응관(10) 내부의 중심선을 기준으로 양측에서 서로 마주보는 쌍으로 각각 배치되고 다수의 쌍이 상기 반응관(10)의 길이방향을 따라 순차적으로 배치됨으로써 상기 중심선을 포함하는 상기 반응관(10) 내부의 중심영역에 플라즈마 방전을 발생시키는 제1방전부(20); 및,
    상기 반응관(10)의 내면에 도전성 재질인 환형의 레듀샤(35)가 설치되고 상기 반응관(10)의 둘레에 환형으로 배치되는 다수의 제2플라즈마방전극(32)이 상기 레듀샤(35)의 내면을 따라 환형의 영역에서 플라즈마방전을 발생시키는 제2방전부(30)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 및 악취 처리장치
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1방전부(20)에서
    상기 제1플라즈마방전극(22)은 나선의 궤적을 따라 상기 반응관(10)에 배치되고,
    상기 유입구(11)로 유입되는 유해가스 또는 악취가 상기 제1방전부(20)와 상기 제2방전부(30)를 순차적으로 통과할 수 있도록 상기 제2방전부(30)는 상기 제1방전부(20)의 후측에 배치되는 것을 특징으로 하는 유해가스 및 악취 처리장치
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 레듀샤(35)는
    상기 유해가스 또는 악취가 유입되는 측의 직경보다 유출되는 측의 직경이 더 감소하는 직경감소영역(352)을 포함하고,
    상기 제2플라즈마방전극(32)은 상기 직경감소영역(352)에서 플라즈마를 발생시키는 것을 특징으로 하는 유해가스 및 악취 처리장치
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 반응관(10)의 상기 유입구(11)에 유해가스 또는 악취와 함께 오존을 공급하기 위한 오존발생기가 더 설치되는 것을 특징으로 하는 유해가스 및 악취 처리장치
KR1020120098944A 2012-07-12 2012-09-06 열화염 플라즈마를 이용한 유해가스 및 악취 처리장치 KR20140008979A (ko)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210061867A (ko) * 2019-11-20 2021-05-28 한국기계연구원 플라즈마 촉매 스크러버
KR20220038917A (ko) * 2020-09-21 2022-03-29 한국기계연구원 음파 가스 처리장치
KR20220157158A (ko) 2021-05-20 2022-11-29 정우성 플라스마를 이용한 폐가스 복합처리장치
KR20220162901A (ko) * 2021-06-01 2022-12-09 오영래 대면적 공기살균이 가능한 알에프 플라즈마장치

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